KR100264305B1

KR100264305B1 - 거품 발생량이 많은 스타일링 샴푸

Info

Publication number: KR100264305B1
Application number: KR1019980701466A
Authority: KR
Inventors: 로버트 리 웰스; 존 로버트 베렌스
Original assignee: 데이비드 엠 모이어; 더 프록터 앤드 갬블 캄파니
Priority date: 1995-08-29
Filing date: 1996-08-22
Publication date: 2001-02-01
Also published as: MX9801579A; US5883058A; CN1200031A; KR19990044230A; JPH11511461A; AU6956596A; AU702759B2; CA2230868A1; EP0850045A1; CA2230868C; WO1997007782A1; BR9610372A

Abstract

본 발명은 개선된 세정, 거품형성 및 스타일링 잇점을 갖는 모발 샴푸 조성물에 관한 것이다. 이 샴푸 조성물은 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제, 모발 스타일링 중합체, 비극성 휘발성 용매 및 물을 포함한다. 이 조성물은 모발을 세정하고 모발 스타일링 잇점을 제공하기에 유용하다.

Description

거품 발생량이 많은 스타일링 샴푸{HIGH LATHER STYLING SHAMPOOS}

인간의 모발을 세정, 건조 및 스타일링함에 있어서, 다양한 최종결과가 요구된다. 우선, 가장 명확하게는 인간은 모발이 완전히 세정되기를 바라므로, 모발 세정중에 청결한 모발의 외관 및 느낌을 유지하는 모발 관리공정이 가장 요구된다.

또한, 인간은 모발 스타일링 효과, 특히 모발 스타일의 완성 및 유지를 제공하는 모발 관리공정 또는 모발 관리제품을 희망한다. 이러한 스타일 유지는 일반적으로 모발 스타일 및 모양의 영구적인 화학적 변경 또는 일시적인 변경과 같은 두가지 방법중 어느 하나에 의해 달성된다. 화학적 파마와 같은 영구적인 변경은 원하는 효과를 이루기 위해 모발과 반응하는 화학제의 사용을 필요로 한다. 그러나, 이 모발의 영구적인 화학적 변경이 본 발명의 목적은 아니다. 본 발명에 의해 제공되는 스타일링 효과는 일시적인 변경이다. 일시적인 변경은 물 또는 샴푸에 의해 제거될 수 있는 것이다. 즉, 비영구적인 변경인 것이다.

일시적인 스타일 변경은 일반적으로 모발의 스타일 완성 및 유지를 제공하기 위해 샴푸 이후 별도의 조성물 또는 조성물들을 사용함으로써 달성되어 왔다. 이러한 일시적인 스타일링 효과를 제공하는데 사용되는 물질은 주로 무쓰, 젤, 로숀 또는 스프레이의 형태로 사용되는 수지 또는 고무였다. 이러한 접근법은 사용자에게 몇몇의 심각한 결점을 준다. 이것은 샴푸한 후 스타일링 조성물을 사용하는 별도의 단계를 필요로 한다. 또한, 이러한 스타일링제중 다수는 스타일링 조성물을 사용한 후 모발이 끈적거리거나 뻣뻣한 느낌을 주는 등 미적으로 호소력이 없어 세정공정의 목적을 퇴색시킨다. 더욱이, 많은 스타일링제는 장시간 스타일 효과를 제공하지 못하거나 너무 쉽게 흐트러져 버리는 스타일링 효과를 제공한다.

종래 기술에 개시된 샴푸 조성물은 세정 및 콘디셔닝 효과를 제공하는 반면, 효과적인 스타일링 효과를 제공하지 못한다. 스타일링으로부터 유도되는 효과는 매우 중요하다. 그러나, 스타일링 중합체와 같은 스타일링제는 샴푸의 거품성 및 세정성 또는 스타일링 중합체의 궁극적인 침적 및 성능을 억제하지 않고서는 종래의 샴푸안에 용이하게 혼입될 수 없다.

본 발명에서는, 놀랍게도 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트와 같은 소정의 계면활성제 시스템이 스타일링 중합체를 함유하는 시스템에서 우수한 세정성 및 거품성을 제공할 수 있음을 발견하였다. 또한, 스타일링 중합체가 비극성 휘발성 용매에 용해될 때 스타일링 중합체가 샴푸 조성물에 용이하게 분산되고 세정 및 헹굼공정동안 모발상에 침적되는 것을 발견하였다. 이 분야의 종래기술은 샴푸 기재에 현탁된 극성 용매에 스타일링 중합체를 용해시켜 사용하였다(그 전체가 본원에 참고로서 인용되고 1993년 6월 9일자로 웰즈 등(Wells et al.)에게 허여된 미국 특허 제 5,120,532 호 참조). 그러나, 극성 용매는 스타일링 중합체의 침적을 저해할 수 있다. 이 용매는 샴푸 기재에 너무 용해성인 경향이 있어, 스타일링 중합체를 샴푸의 수상으로 이송시키고, 헹굼공정동안 모발로부터 헹굼물로 이송시킬 수 있다. 또한, 통상적으로 사용되는 많은 극성 용매는 강한 역겨운 냄새를 가지거나 수성 환경에서 가수분해적으로 불안정할 수 있다. 비극성 용매는 상기와 같은 경우에 있어서는 바람직할 수 있으나, 샴푸의 계면활성제 기재의 세정성 및 거품성을 저해하는 경향이 있다. 알킬 설페이트와 같은 통상적인 고거품성 계면활성제는 비극성 용매의 존재하에서 거품을 형성할 수 있으나, 침적을 감소시키는 단점이 있어 스타일링 효과가 달성되지 않는다. 또한, 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트는 우수한 거품성 계면활성제로 알려져 있다(그 전체가 본원에 참고로서 인용되고 1961년 4월 11일자로 파란 등(Parran et al.)에게 허여된 미국 특허 제 2,979,465 호 참조). 그러나, 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제가 비극성 휘발성 용매에 용해된 모발 스타일링 중합체의 침적을 방해하지 않고 우수한 세정성 및 거품성을 제공할 수 있음을 놀랍게도 발견하였다.

본 발명은 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제, 모발 스타일링 중합체, 중합체를 용해시키는 비극성 휘발성 용매, 및 물을 포함하는 모발 샴푸 조성물에 관한 것이다. 이러한 제품을 사용한 샴푸는 단일 제품으로부터 모발 세정 및 스타일링 효과를 모두 제공한다. 또한, 이러한 조성물은 우수한 거품성을 갖는다. 또한, 모발 콘디셔닝제가 앞서 언급된 제품에 첨가될 때 모발 콘디셔닝, 세정 및 스타일링 효과가 단일 모발 관리제품으로부터 달성될 수 있음을 발견하였다. 또한, 본 발명의 스타일링 샴푸 조성물은 제품의 상 안정성 및 소비자를 만족시키는 미관을 유지하는 제품 점도를 제공함을 발견하였다.

따라서, 본 발명의 목적은 단일 조성물로부터 효율적인 모발 세정성 및 우수한 스타일링성을 모두 제공하는 모발 샴푸 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 우수한 거품성을 제공하는 모발 샴푸 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 뻣뻣함, 끈적거림 또는 들러붙는 느낌을 모발에 주지 않고 우수한 스타일 유지효과를 제공하는 모발 샴푸 조성물을 제조하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 효율적인 콘디셔닝성을 제공하는 모발 샴푸 조성물을 제조하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 모발을 세정하고 스타일링하는 개선된 방법을 제공하는 것이다.

상기 및 다른 목적들은 하기의 상세한 설명으로부터 용이하게 명확해질 것이다.

발명의 요약

본 발명은 (a) 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제 약 2 내지 약 25 중량%, (b) 모발 스타일링 중합체 약 0.1 내지 약 10 중량%, (c) 약 300℃ 이하의 비점 및 25℃의 물에 약 0.2 중량% 미만의 용해도를 갖는, 상기 모발 스타일링 중합체를 용해시키기 위한 비극성 휘발성 용매 약 0.1 내지 약 10 중량%, 및 (d) 물 약 50 내지 약 97.8%를 포함하는 거품성의 모발 스타일링 샴푸 조성물에 관한 것으로, 여기에서 상기 비극성 휘발성 용매에 대한 상기 모발 스타일링 중합체의 중량비는 약 10:90 내지 약 70:30이다.

본 발명은 또한 본 발명의 조성물을 사용하여 모발을 세정하고 스타일링하는 방법에 관한 것이다. 이러한 방법은 하기의 단계를 포함한다:

(i) 모발을 물로 적시는 단계,

(ii) 유효량의 샴푸 조성물을 모발에 바르는 단계,

(iii) 상기 조성물로 모발을 샴푸하는 단계,

(iv) 모발로부터 상기 조성물을 헹구는 단계, 및

(v) 모발을 건조 및 스타일링하는 단계.

달리 표시되지 않는 한, 본원에 사용되는 모든 퍼센트 및 비율은 총 조성물의 중량에 의하며, 모든 측정은 25℃ 또는 상온에서 행해진다. 달리 언급되지 않는 한, 모든 중량 퍼센트는 활성물질의 중량을 기본으로 한다. 본 발명은 필수 성분외에 본원에 설명된 임의의 성분 및 추가 성분을 필수적으로 포함할 수 있다.

본 발명은 개선된 세정(cleansing), 거품형성(lathering) 및 스타일링 (styling) 효과를 갖는 모발 샴푸 조성물에 관한 것이다. 이 샴푸 조성물은 임의로 하나 이상의 추가 계면활성제와 함께 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제를 포함한다. 이 조성물은 또한 샴푸 조성물에 함께 분산되는 비극성 휘발성 용매에 함유된 모발 스타일링 중합체를 포함한다. 본 발명의 바람직한 양태는 모발 콘디셔닝제(conditioning agent)를 추가로 포함한다. 상기 바람직한 양태는 단일 제품으로부터 모발 세정, 스타일링 및 콘디셔닝 효과를 제공한다.

본 발명의 스타일링 중합체 및 비휘발성 용매는 샴푸, 모발 스프레이, 모발 로숀, 모발 토닉, 모발 무스 및 모발 린스를 포함하는, 다양한 모발 스타일링 제품에 사용될 수 있다.

본 발명의 임의의 성분 및 필수 성분은 하기에 설명된다.

알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제

본 발명의 조성물은 세정 및 거품 성분으로서 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제(또한, 본원에서 "AGS" 계면활성제라 지칭됨)를 포함한다. 이 조성물은 약 2 내지 약 25%, 더욱 바람직하게는 약 3 내지 약 20%, 및 가장 바람직하게는 약 4 내지 약 10%의 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제를 포함한다. 상기 AGS 계면활성제는 설포네이트 또는 설포네이트염 그룹을 함유하는 알킬 글리세릴 에테르로부터 유도된다. 이러한 화합물은 설포네이트 그룹을 또한 함유하는 글리세롤의 알킬 모노에테르로서 일반적으로 설명될 수 있다.

이러한 AGS 계면활성제는 일반적으로 하기 화학식으로 나타낼 수 있다:

상기 식에서,

R은 약 10 내지 약 18개, 바람직하게는 약 11 내지 약 16개, 및 가장 바람직하게는 약 12 내지 약 14개의 탄소 원자를 함유하는 포화 또는 불포화 직쇄, 분지쇄 또는 환상 알킬 그룹이고;

X는 암모늄, 모노알킬 치환된 암모늄, 디알킬 치환된 암모늄, 트리알킬 치환된 암모늄, 테트라알킬 치환된 암모늄, 알칼리 금속, 알칼리성 금속, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 양이온이다. 더욱 바람직하게는, 알킬 라디칼, 즉 상기 화학식의 R은 포화 직쇄이다.

AGS 계면활성제에서 알킬 쇄 길이의 분포는 전체 샴푸 제품의 특성에 어느 정도의 영향을 준다. 만족스러운 분포는 코코넛유(coconut oil) 및 탈로우(tallow)로부터 유도된 지방 알콜을 사용함으로써 상업적으로 실행할 수 있는 방법으로 달성될 수 있다. 알킬 쇄 길이의 동등한 분포는 다른 출발 물질을 사용하여 달성될 수 있다. AGS의 알킬 그룹을 제공하는데 사용되는 코코넛 지방 알콜의 제조시, 바람직하게는 코코넛유의 중간 컷을 사용한다. 필요한 경우, 고비등 컷이 중간 컷 코코넛유와 함께 보유될 수 있다. 탈로우 지방 알콜의 제조시, 이 지방 알콜을 실질적으로 확실히 포화시키기 위해 수소화 단계가 포함된다.

바람직한 AGS 화합물은, 알킬 그룹이 약 10 내지 약 18개의 탄소를 갖는 알콜로부터 약 50% 이상 유도되고, 약 30% 미만의 디글리세릴 라디칼과 함께, 모노글리세릴 라디칼을 주로 함유하는 화합물이다. 하기에 설명되는 실시예에서 사용되는 AGS는 약 15%의 디글리세릴 에테르 설포네이트를 함유하며, 이 물질의 제조의 용이함에 기인하여 선호된다. "AGS"라는 용어는 모노글리세릴, 디글리세릴, 및 극미량의 고급 글리세릴 화합물을 포함한다. 소량, 즉 약 3% 미만의 트리글리세릴 에테르 설포네이트 및 테트라글리세릴 에테르 설포네이트가 존재할 수 있다. 또한, 직쇄 길이에 필적하는 분지된 또는 혼합된 분지쇄 및 직쇄 길이를 갖는 글리세릴 에테르로부터 유도된 AGS가 포함된다.

본 발명에서 사용되는 더욱 바람직한 AGS 계면활성제는 C_12-14직쇄 길이를 가지며, 구조상 결정성이다. AGS 계면활성제에서 바람직한 양이온, 즉 "X"는 나트륨이다. 본원에서 유용한 시판되는 AGS 계면활성제의 예로는 나트륨 코코글리세릴 에테르 설포네이트를 들 수 있으며, 이것은 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 문헌[CTFA International Cosmetic Ingredient Dictionary, fifth edition, 1993, page 660]에 기재되어 있다.

본 발명의 AGS 계면활성제는 다양한 표준 합성법을 사용하여 제조할 수 있다. 이 AGS 계면활성제는 지방 알콜을 다소 과량의 에피클로로히드린과 반응시킨 후 생성되는 클로로글리세릴 에테르를 스트렉커화 반응(Streckerization Reaction)에 의해 설폰화함으로써 바람직하게 제조할 수 있다. 알킬 디글리세릴 에테르 디설포네이트와 같은 2급 반응 생성물

은

1급 생성물인 알킬 모노글리세릴 에테르 설포네이트에 추가로 형성된다. 디글리세릴 화합물의 추가의 이성질체가 또한 형성되고, 모노설폰화 또는 디설폰화될 수 있다. 본 발명의 목적상, 나트륨 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트는 약 30% 미만, 및 바람직하게는 약 25% 미만의 디글리세롤 에테르 생성물을 포함한다. 그 차이는 실질적으로 모노글리세릴 에테르 설포네이트이다. 일반적으로, 경제적인 이유로 알킬 디글리세릴 에테르의 함량을 약 5% 미만으로 낮추는 것은 바람직하지 못하다.

본 발명에서 유용한 AGS 계면활성제는 그 전체가 본원에 참고로서 인용된, 1961년 4월 11일자로 파란 등에게 허여된 미국 특허 제 2,979,465 호; 1965년 4월 20일자로 이튼 등(Eaton et al.)에게 허여된 미국 특허 제 3,179,599 호; 1958년 3월 5일자로 공개된 영국 특허 제 791,415 호; 1994년 6월 21일자로 슈바르쯔 등(Schwartz et al.)에게 허여된 미국 특허 제 5,322,643 호; 및 1992년 1월 28일자로 파리스 등(Farris et al.)에게 허여된 미국 특허 제 5,084,212 호에 더욱 상세히 개시되어 있다. 또한, 이러한 문헌들은 본 발명의 AGS 계면활성제가 사용될 수 있는 다양한 세정 제품을 개시하고 있다.

모발 스타일링 중합체

본 발명의 샴푸 조성물은 모발 스타일링 중합체를 포함한다. 사용자에게 모발 스타일링 효과를 제공하는 것은 바로 이 성분이다. 본 발명의 조성물은 약 0.1 내지 약 10%, 더욱 바람직하게는 약 0.3 내지 약 7%, 및 가장 바람직하게는 약 0.5 내지 약 5%의 스타일링 중합체를 포함한다.

다양한 모발 스타일링 중합체가 스타일링제로서 공지되어 있다. 많은 단독중합체, 공중합체, 및 세 개 이상의 상이한 단량체 단위를 결합하는 중합체가 당해 기술분야에 공지되어 있다. 이러한 복합 중합체 시스템의 예는 그 전체가 본원에 참고로서 인용된, 1992년 6월 9일자로 웰즈 등에게 허여된 미국 특허 제 5,120,531 호; 1992년 4월 14일자로 웰즈 등에게 허여된 미국 특허 제 5,104,642 호; 1981년 6월 9일자로 파판토니오우 등(Papantoniou et al.)에게 허여된 미국 특허 제 4,272,511 호; 및 1980년 4월 1일자로 게만 등(Gehman et al.)에게 허여된 미국 특허 제 4,196,190 호에서 발견된다.

본원에서 사용되는 중합체는 소수성, 수불용성 중합체이다. 이 중합체는 중합가능한 소수성 단량체로부터 유도된 단량체 단위를 함유한다. "소수성 단량체"라는 용어는 단량체끼리의 중합반응시 수불용성 단독중합체를 형성하는 단량체를 의미한다. 이 중합체는 소수성이 아닌 다른 단량체를 함유할 수 있으나, 상기 정의한 바와 같이 수불용성을 유지해야 한다.

"수불용성" 중합체 또는 단독중합체라는 용어는 물과 중합체를 합친 중량을 기준으로 계산시 25℃의 물에 약 0.2% 이하의 용해도를 갖는 중합체를 의미한다. 본 발명의 목적상 "용해도"란 당해 분야에 숙련자에게 잘 알려져 있듯이, 물에 용해시 육안으로 실질적으로 투명한 용액을 형성할 수 있는 중합체의 최대 농도를 가리키는 것이다.

본 발명의 모발 스타일링 중합체는 약 -20℃ 이상, 바람직하게는 약 0 내지 약 80℃, 및 가장 바람직하게는 약 20 내지 약 60℃의 유리전이 온도(Tg), 즉 중합체가 깨지기 쉬운 유리상으로부터 플라스틱상으로 변하는 온도를 갖는다. Tg는 당해 분야의 숙련자에게 잘 공지된 방법인 미분 스캐닝 칼로리미터법에 의해 결정될 수 있다.

본 발명의 모발 스타일링 중합체는 약 10,000 이상의 중량 평균 분자량을 갖는다. 고분자량을 제외하고자 하지 않더라도, 분자량은 일반적으로 약 5,000,000 미만일 것이다. 바람직하게는, 중량 평균 분자량은 약 30,000 내지 약 5,000,000, 더욱 바람직하게는 약 50,000 이상, 및 가장 바람직하게는 약 75,000 이상일 것이다. 중량 평균 분자량은 바람직하게는 약 200,000 미만, 더욱 바람직하게는 약 150,000 미만이다. 본원의 목적상, 중량 평균 분자량은 분석되는 시료의 분자량을 결정하기에 적합한 당해 분야에 공지된 방법(예: 10³, 10⁵및 10⁶의 칼럼 공극 크기를 사용하는 크기 배제 크로마토그래피 또는 다른 동등한 방법)에 의해 측정될 수 있다.

적합한 소수성 단량체는 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 2-메틸-1-부탄올, 1-메틸-1-부탄올, 3-메틸-1-부탄올, 1-메틸-1-펜탄올, 2-메틸-1-펜탄올, 3-메틸-1-펜탄올, t-부탄올, 사이클로헥산올, 네오데칸올, 2-에틸-1-부탄올, 3-헵탄올, 벤질 알콜, 2-옥탄올, 6-메틸-1-헵탄올, 2-에틸-1-헥산올, 3,5-디메틸-1-헥산올, 3,5,5-트리메틸-1-헥산올, 1-데칸올 등과 같은 C_1-18알콜(탄소 원자가 평균 약 4 내지 12개인 알콜)의 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르; 아세트산비닐; 염화비닐; 염화비닐리덴; 프로피온산비닐; 부타디엔; 사이클로헥사디엔; 에틸렌; 프로필렌; 비닐 톨루엔; 및 메톡시 에틸 메타크릴레이트를 포함한다. 본원의 중합체는 이러한 소수성 단량체의 단독중합체 또는 소수성 단량체의 공중합체, 삼중합체 및 다른 고급 중합체일 수 있다.

바람직한 단량체로는 n-부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트 및 2-에틸헥실 메타크릴레이트가 특히 바람직하다.

본원의 중합체는 예를 들면, 유리 라디칼 중합법을 포함하는 당해 분야에 잘 공지된 종래의 중합법에 의해 제조될 수 있다.

본 발명에서 유용한 중합체의 바람직한 예는 하기와 같다: 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50의 단량체의 중량/중량비를 갖는 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 아크릴레이트 공중합체; 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50의 단량체의 중량/중량비를 갖는 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 아크릴레이트 공중합체; 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50의 단량체의 중량/중량비를 갖는 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50의 단량체의 중량/중량비를 갖는 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 및 이들의 혼합물.

특히 바람직한 중합체로는 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50의 단량체의 중량/중량비를 갖는 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50의 단량체의 중량/중량비를 갖는 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.

비극성 휘발성 용매

본 발명의 조성물은 또한 스타일링 중합체용 비극성 휘발성 용매 또는 희석제를 포함한다. 상기 용매는 중합체가 샴푸 조성물에 유체 입자로서 분산될 수 있도록 중합체를 희석하고 용해하기에 유용하다. 본 발명의 샴푸 조성물에 사용되는 용매의 양은 샴푸 조성물에서 중합체를 용해시켜 별도의 유체상으로서 분산시키기에 충분한 양이다. 본 발명의 조성물은 약 0.10 내지 약 10%, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 8%, 및 가장 바람직하게는 약 1 내지 약 6%의 중합체 용매를 포함한다. 약 0.1% 미만의 용매에서는 중합체가 일반적으로 충분히 희석될 수 없고, 약 10% 이상의 용매에서는 샴푸의 세정성 및 거품성이 저하될 수 있다. 본 발명의 중합체 대 용매의 중량비는 약 10:90 내지 약 70:30, 바람직하게는 약 30:70 내지 약 60:40이다.

또한, 이론에 의해 제한됨없이, 용매는 모발상에 침적된 중합체를 가소화함으로써 스타일을 완성시키고, 결과적으로 모발 건조 및 스타일링 공정동안 중합체가 더욱 유연하게 접착되도록 한다. 또한, 용매는 물에서 낮은 용해도를 갖는다. 약 0.5% 미만, 바람직하게는 0.3% 미만, 및 가장 바람직하게는 0.2% 미만의 수용해도를 갖는 탄화수소가 가장 바람직하다. 본 발명의 샴푸 조성물에서 선택된 특정 중합체는 사용되는 특정 용매에 용해됨으로써 중합체와 용매의 혼합물은 분산된 유체상으로서 샴푸 조성물에서 분산가능하게 된다.

추가로, 용매는 일반적인 사용환경하에서 모발에 스타일링 효과를 제공하는 중합체의 능력을 실질적으로 감소시키는 방식으로 중합체 스타일링제와 반응해서는 안 된다. 물론, 용매는 인간의 모발에 적용하기에 적합하도록 충분히 고순도이고 충분히 저독성이어야 한다.

또한, 중합체 용매는 휘발성이어야 한다. 중합체와 용매의 혼합물이 모발상에 침적시, 용매는 모발상에 스타일링 중합체만을 남기고 휘발됨으로써 최대의 스타일링 효과를 제공한다. 일반적으로, 본 발명의 중합체 용매는 약 300℃ 이하, 더욱 바람직하게는 약 90 내지 약 260℃, 및 가장 바람직하게는 약 100 내지 약 200℃의 비점을 갖는다.

본 발명의 조성물에 유용한 휘발성 용매는 탄화수소, 에테르 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 탄화수소, 특히 C_10-16분지쇄 탄화수소가 가장 바람직하다. 본원에서 가장 바람직한 용매는 이소헥사데칸, 이소도데칸, 2,5-디메틸 데칸, 및 이들의 혼합물이다.

탄화수소는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있으며, 약 8 내지 약 18개, 바람직하게는 약 10 내지 약 16개의 탄소 원자를 함유할 수 있다. 불포화 탄화수소를 제외하고자 하지 않더라도, 포화된 탄화수소가 바람직하다. 적합한 직쇄 탄화수소의 예로는 데칸, 도데칸, 데센, 트리데센, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 적합한 분지쇄 탄화수소로는 상기 쇄 길이의 이소파라핀을 들 수 있다. 이소파라핀은 엑손 케미칼 캄파니(Exxon Chemical Co.)로부터 시판되며, 이소파(Isopar)^TMH 및 K(C_11-12이소파라핀) 및 이소파^TML(C_11-13이소파라핀) 등을 예로 들 수 있다. 다른 적합한 분지쇄 탄화수소는 이소도데칸 및 이소헥사데칸이다. 이들 용매는 각각 퍼메틸(Permethyl)^TM99A 및 101A로서 프레퍼스 인코포레이티드(Preperse, Inc.)(미국 뉴저지주 사우쓰 플렌필드 소재)로부터 시판된다. 유용한 에테르로는 디(C_5-7)알킬 에테르 및 디에테르, 특히 이소아밀 에테르, 디펜틸 에테르 및 디헥실 에테르와 같은 디(C_5-6)알킬 에테르를 들 수 있다.

본원의 가장 바람직한 휘발성 용매는 탄화수소이다.

모발 스타일링제

본 발명의 조성물에서 사용되는 모발 스타일링 중합체 및 비극성 휘발성 용매의 혼합물 또한 본원에서 스타일링제로 지칭된다. 본 발명의 모발 스타일링제는 수불용성이고 소수성인 모발 스타일링 중합체와 수불용성인 비극성 휘발성 희석제의 혼합물을 포함한다.

일반적으로, 모발 스타일링제는 약 10:90 내지 약 70:30, 바람직하게는 약 20:80 내지 약 65:35, 및 더욱 바람직하게는 약 30:70 내지 약 60:40의 모발 스타일링 중합체 대 휘발성 용매 중량비를 갖는다. 모발 스타일링 중합체는 바람직하게는 약 10:90 내지 약 70:30, 더욱 바람직하게는 약 20:80 내지 약 65:35, 및 가장 바람직하게는 약 30:70 내지 약 60:40으로 비극성 휘발성 용매와 혼합된다. 중합체 대 용매의 비가 너무 낮으면, 샴푸 조성물의 거품성이 저하된다. 중합체 대 용매의 비가 너무 높으면, 조성물의 점도가 너무 높아져 스타일링 중합체의 분산이 어렵게 된다. 모발 스타일링제는 최종 샴푸 제품에서 약 0.1 내지 약 100μ, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 25μ의 평균 입경을 갖는다. 입자의 크기는 당해 분야에 공지된 방법, 예를 들면 광학 현미경을 사용하는 방법에 따라 측정될 수 있다.

모발 스타일링제의 바람직한 예로는 하기의 물질들을 들 수 있다. 하기 중합체 뒤의 괄호안의 숫자는 단량체 각각의 중량비를 가리킨다는 것에 주의해야 한다.

혼합물의 종류	중합체	용매	중합체:용매의 중량비
A	t-부틸 아크릴레이트 / 2-에틸헥실 메타크릴레이트(90/10w/w)	이소도데칸	40:60
B	t-부틸 아크릴레이트 / 2-에틸헥실 메타크릴레이트(90/10w/w)	이소도데칸	50:50
C	t-부틸 메타크릴레이트 / 2-에틸헥실 메타크릴레이트(50/50w/w)	이소헥사데칸	40:60
D	t-부틸 메타크릴레이트 / 2-에틸헥실 메타크릴레이트(50/50w/w)	이소파라핀블렌드(C₁₁-C₁₂)¹	30:70
E	t-부틸 아크릴레이트 / 2-에틸헥실 메타크릴레이트(60/40w/w)	이소파라핀블렌드(C₁₁-C₁₃)²	40:60
¹엑손(Exxon)에 의해 이소파(Isopar) H로서 판매됨. C11-C12 이소파라핀의 혼합물.²엑손(Exxon)에 의해 이소파(Isopar) L로서 판매됨. C11-C13 이소파라핀의 혼합물.

물

본 발명의 조성물은 약 50% 내지 약 98.7%, 더욱 바람직하게는 약 55% 내지 약 85%, 그리고 가장 바람직하게는 약 60% 내지 약 75%의 물을 포함한다.

추가의 성분

추가의 계면활성제

본 발명의 조성물은 약 0% 내지 약 30%, 바람직하게는 약 2% 내지 약 15%, 그리고 가장 바람직하게는 약 4% 내지 약 8%의, 비이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양성 계면활성제, 양성이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 제2 계면활성제를 임의로 포함할 수 있다. 상기 계면활성제는 당분야의 숙련자에게 공지되어 있다. 바람직하게는, 상기 계면활성제는 세정성 계면활성제이다. "세정성"이란 상기 계면활성제가 정화 또는 세정의 잇점을 제공함을 의미한다.

본 발명의 조성물에 사용하기에 적당한 제2 계면활성제의 비제한적 예는 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 문헌[McCutcheon's, Detergents and Emulsifiers, North American edition(1986), published by allured Publishing Corporation]; 문헌[McCutcheon's, Functional Materials, North American edition(1992)]; 1992년 9월 29일자로 스테우리(Steuri) 등에게 허여된 미국 특허 제 5,151,210 호; 1992년 9월 29일자로 맥콜(McCall) 등에게 허여된 미국 특허 제 5,151,209 호; 1992년 6월 9일자로 웰스(Wells) 등에게 허여된 미국 특허 제 5,120,532 호; 1991년 4월 30일자로 치오티(Ciotti) 등에게 허여된 미국 특허 제 5,011,681 호; 1988년 11월 29일자로 볼리치 2세(Bolich, Jr.) 등에게 허여된 미국 특허 제 4,788,006 호; 1988년 5월 3일자로 그로테(Grote) 등에게 허여된 미국 특허 제 4,741,855 호; 1987년 11월 3일자로 오(Oh) 등에게 허여된 미국 특허 제 4,704,272 호; 1985년 12월 10일자로 콜린스(Collins) 등에게 허여된 미국 특허 제 4,557,853 호; 1983년 12월 20일자로 딕슨(Dixon) 등에게 허여된 미국 특허 제 4,421,769 호; 및 1973년 8월 28일자로 디커트(Dickert) 등에게 허여된 미국 특허 제 3,755,560 호에 개시되어 있다.

다음은 본 발명에 유용한 계면활성제의 비제한적 예들이다. 스타일링 중합체의 침전 및 실행 특성을 해치지 않도록, 사용된 상기 계면활성제 물질의 농도를 결정하는데 있어서 주의를 기울여야 한다. 또한, 조성물의 순한 특성이 손상되지 않도록 추가의 계면활성제 및 그의 농도를 선택하는데 주의해야 한다.

비이온성 계면활성제중에서 본 발명에 유용한 것들은 장쇄 알콜, 예를 들어 C8-30 알콜과 당 또는 전분 중합체, 즉, 글리코시드의 축합 생성물로서 널리 정의될 수 있는 것들이다. 이 화합물들은 식 (S)_n-O-R로서 표시될 수 있으며, 여기에서 S는 글루코스, 프럭토스, 만노스 및 갈락토스와 같은 당 잔기이고; n은 약 1 내지 약 1000의 정수이고; R은 C8-30 알킬 그룹이다. 알킬 그룹이 유도될 수 있는 장쇄 알콜의 예는 데실 알콜, 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 라우릴 알콜, 미리스틸 알콜, 올레일 알콜 등을 포함한다. 상기 계면활성제의 바람직한 예는 S가 글루코스 잔기이고, R이 C8-20 알킬 그룹이고, n이 약 1 내지 약 9의 정수인 것들을 포함한다. 통상적으로 입수할 수 있는 상기 계면활성제의 예는 데실 폴리글루코사이드(Henkel 사로부터 APG 325 CS로서 입수할 수 있음) 및 라우릴 폴리글루코사이드(Henkel 사로부터 APG 600 CS 및 APG 625 CS로서 입수할 수 있음)를 포함한다.

다른 유용한 비이온성 계면활성제는 알킬렌 옥사이드와 지방산의 축합 생성물(예. 지방산의 알킬렌 옥사이드 에스테르)을 포함한다. 상기 특정 비이온물이 사용될 때는, 이들을 낮은 농도로, 바람직하게는 본 명세서에 개시된 하나 이상의 다른 계면활성제와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. 상기 물질들은 일반식 RCO(X)_nOH를 가지며, 여기에서 R은 C10-30 알킬 그룹이고, X는 -OCH₂CH₂-(즉, 에틸렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨) 또는 -OCH₂CHCH₃-(즉, 프로필렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨)이고, n은 약 1 내지 약 100의 정수이다. 다른 비이온성 계면활성제는 알킬렌 옥사이드와 2몰의 지방산의 축합 생성물(즉, 지방산의 알킬렌 옥사이드 디에스테르)이다. 상기 물질은 일반식 RCO(X)_nOOCR을 가지며, 여기에서 R은 C10-30 알킬 그룹이고, X는 -OCH₂CH₂-(즉, 에틸렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨) 또는 -OCH₂CHCH₃-(즉, 프로필렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨)이고, n은 약 1 내지 약 100의 정수이다. 다른 비이온성 계면활성제는 알킬렌 옥사이드와 지방산 알콜의 축합 생성물(즉, 지방산의 알킬렌 옥사이드 에테르)이다. 상기 물질은 일반식 R(X)_nOR'을 가지며, 여기에서 R은 C10-30 알킬 그룹이고, X는 -OCH₂CH₂-(즉, 에틸렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨) 또는 -OCH₂CHCH₃-(즉, 프로필렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨)이고, n은 약 1 내지 약 100의 정수이며, R'는 H 또는 C10-30 알킬 그룹이다. 또 다른 비이온성 계면활성제는 알킬렌 옥사이드와 지방산 및 지방산 알콜의 축합 생성물[즉, 여기에서 폴리알킬렌 옥사이드 부분은 한 말단에 지방산으로 에스테르화되어 있고, 다른 말단에 지방산 알콜로 에테르화(즉, 에테르 결합으로 연결됨)되어 있음]이다. 상기 물질은 일반식 RCO(X)_nOR'을 가지며, 여기에서 R 및 R'는 C10-30 알킬 그룹이고, X는 -OCH₂CH₂-(즉, 에틸렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨) 또는 -OCH₂CHCH₃-(즉, 프로필렌 글리콜 또는 옥사이드로부터 유도됨)이고, n은 약 1 내지 약 100의 정수이다. 상기 알킬렌 옥사이드 유도된 비이온성 계면활성제의 비제한적 예는 세테쓰(ceteth)-1, 세테쓰-2, 세테쓰-6, 세테쓰-10, 세테쓰-12, 세테아레쓰(ceteareth)-2, 세테아레쓰-6, 세테아레쓰-10, 세테아레쓰-12, 스테아레쓰(steareth)-1, 스테아레쓰-2, 스테아레쓰-6, 스테아레쓰-10, 스테아레쓰-12, PEG-2 스테아레이트(stearate), PEG-4 스테아레이트, PEG-6 스테아레이트, PEG-10 스테아레이트, PEG-12 스테아레이트, PEG-20 글리세롤 스테아레이트, PEG-80 글리세릴 탈로웨이트(tallowate), PPG-10 글리세릴 스테아레이트, PEG-30 글리세릴 코코에이트(cocoate), PEG-200 글리세릴 탈로웨이트, PEG-8 디라우레이트(dilaurate), PEG-10 디스테아레이트 및 이들의 혼합물을 포함한다.

다른 유용한 비이온성 계면활성제는 하기식에 해당하는 폴리하이드록시 지방산 아미드 계면활성제를 포함한다:

상기 식에서, R¹은 H, C₁-C₄알킬, 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 바람직하게는 C₁-C₄알킬, 더욱 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R²은 C₅-C₃₁알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 C₇-C₁₉알킬 또는 알케닐, 더욱 바람직하게는 C₉-C₁₇알킬 또는 알케닐, 가장 바람직하게는 C₁₁-C₁₅알킬 또는 알케닐이고; Z는 쇄에 직접 연결된 적어도 3 개의 하이드록실을 가진 선형 하이드로카빌쇄를 갖는 폴리하이드록시하이드로카빌 잔기 또는 그의 알콕시화된 유도체(바람직하게는 에톡시화된 또는 프로폭시화된 것)이다. Z는 바람직하게는 글루코스, 프럭토스, 말토스, 락토스, 갈락토스, 만노스, 자일로스 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 당 잔기이다. 상기 구조에 해당하는 특히 바람직한 계면활성제는 코코넛 알킬 N-메틸 글루코시드 아미드(즉, 여기에서 R²CO- 잔기는 코코넛 오일 지방산으로부터 유도됨)이다. 폴리하이드록시 지방산 아미드를 함유하는 조성물의 제조방법은, 예를 들어, 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 1959년 2월 18일자로 공개된 영국 특허 명세서 809.060 호(Thomas Hedley & Co. Ltd.); 1960년 12월 20일자로 이. 알. 윌슨(E. R. Wilson)에게 허여된 미국 특허 제 2,965,576 호; 1955년 3월 8일자로 에이. 엠. 슈와츠(A. M. Schwartz)에게 허여된 미국 특허 제 2,703,798 호; 및 1934년 12월 25일자로 피고트(Piggott)에게 허여된 미국 특허 제 1,985,424 호에 개시되어 있다.

매우 다양한 음이온성 계면활성제가 본 발명에 유용하다. 예를 들어, 그 전체가 본원에 참고로서 인용된, 1975년 12월 30일자로 로흘린(Laughlin) 등에게 허여된 미국 특허 제 3,929,678 호 참조. 음이온성 계면활성제의 비제한적 예는 알코일 이세티오네이트, 및 알킬 및 알킬 에테르 설페이트를 포함한다. 알코일 이세티오네이트는 통상적으로 식 RCO-OCH₂CH₂SO₃M을 가지며, 여기에서, R은 약 10 내지 약 30 탄소 원자의 알킬 또는 알케닐이고, M은 암모늄, 나트륨, 칼륨 및 트리에탄올아민과 같은 수용성 양이온이다. 상기 이세티오네이트의 비제한적 예는 암모늄 코코일 이세티오네이트, 나트륨 코코일 이세티오네이트, 나트륨 라우로일 이세티오네이트, 나트륨 스테아로일 이세티오네이트, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 알코일 이세티오네이트를 포함한다.

알킬 및 알킬 에테르 설페이트는 통상적으로 각각의 식 ROSO₃M 및 RO(C₂H₄O)_xSO₃M을 가지며, 여기에서 R은 약 10 내지 약 30 탄소 원자의 알킬 또는 알케닐이고, x는 약 1 내지 약 10이고, M은 암모늄, 나트륨, 칼륨 및 트리에탄올아민과 같은 수용성 양이온이다. 상기 물질들의 예는 나트륨 라우릴 설페이트 및 암모늄 라우릴 설페이트이다.

다른 적당한 종류의 음이온성 계면활성제는 일반식 R₁--SO₃--M의 유기 황산반응 산물의 수용성 염이고, 여기에서 R₁은 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 10 내지 약 16개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄의 포화 지방족 탄화수소 라디칼로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, M은 양이온이다. 또 다른 음이온성 합성 계면활성제는 석시나메이트, 약 12 내지 약 24개의 탄소 원자를 갖는 올레핀 설포네이트 및 b-알킬옥시 알칸 설포네이트로 명명된 종류를 포함한다.

본 발명에 유용한 다른 음이온성 물질들은 통상적으로 약 8 내지 약 24개의 탄소원자, 바람직하게는 약 10 내지 약 20개의 탄소원자를 갖는, 지방산의 비누(즉, 알칼리 금속염, 예를 들어, 나트륨 또는 칼륨 염)이다. 비누를 만드는데 상용된 지방산은, 예를 들어, 식물 또는 동물로부터 유래된 글리세리드(예를 들어, 야자유, 코코넛유, 대두유, 비버유, 탈로우, 라아드 등)와 같은 천연 원료로부터 얻을 수 있다. 지방산은 합성에 의해 역시 제조할 수 있다. 비누는 상기 인용된 미국 특허 제 4, 557,853 호에 더욱 상세하게 기술되어 있다.

양이온성 계면활성제도 본 발명에 역시 사용될 수 있다. 본 발명에 유용한 양이온성 계면활성제의 비제한적 예는 하기 식을 갖는 것들과 같은 양이온성 암모늄염을 포함한다:

상기 식에서, R₁은 약 12 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹, 또는 약 12 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 방향족, 아릴 또는 알카릴 그룹으로부터 선택되고; R₂,R₃및 R₄는 수소, 약 1 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹, 또는 약 12 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 방향족, 아릴 또는 알카릴 그룹으로부터 선택되고; X는 클로라이드, 브로마이드, 요오다이드, 아세테이트, 포스페이트, 나이트레이트, 설페이트, 메틸 설페이트, 에틸 설페이트, 토실레이트, 락테이트, 사이트레이트, 글리콜레이트 및 이들의 혼합물로부터 선택된 양이온이다. 추가로, 알킬 그룹은 에테르 결합, 또는 하이드록시 또는 아미노 그룹 치환체를 역시 포함할 수 있다(예를 들어, 알킬 그룹은 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜 잔기를 포함할 수 있음).

더욱 바람직하게는, R₁은 약 12 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹이고; R₂는 H 또는 약 1 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹으로부터 선택되고; R₃및 R₄는 H 또는 약 1 내지 약 3 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹으로부터 독립적으로 선택되고; X는 전 단락에서 기술된 바와 같다.

가장 바람직하게는, R₁은 약 12 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹이고; R₂, R₃및 R₄는 H 또는 약 1 내지 약 3 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹으로부터 선택되고; X는 전술한 바와 같다.

다른 암모늄 4급 및 아미노 계면활성제는 라디칼의 공유적 결합에 의해 형성된 고리 구조의 형태인 것들을 포함한다. 상기 양이온성 계면활성제의 예는 이미다졸린, 이미다졸리움 및 피리디늄 등을 포함하고, 여기에서 상기 계면활성제는 적어도 하나의 상기에 개시된 바와 같은 비이온성 친수체-함유 라디칼을 가진다. 특정 예는 2-헵타데실-4,5-디하이드로-1H-이미다졸-1-에탄올, 4,5-디하이드로-1-(2-하이드록시에틸)-2-이소헵타데실-1-페닐메틸이미다졸리움 클로라이드, 및 1-[2-옥소-2-[[2-[(1-옥소옥타데실)옥시]에틸]아미노]에틸]피리디늄 클로라이드를 포함한다.

한편, 다른 유용한 양이온성 계면활성제는 아미노-아미드를 포함하고, 이 경우 상기 구조에서 R₁은 달리 R₅CO-(CH)_n-이고, 여기에서 R₅는 약 12 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 그룹이고, n은 약 2 내지 약 6, 더욱 바람직하게는 약 2 내지 4, 가장 바람직하게는 약 2 내지 약 3의 정수이다. 상기 양이온성 유화제의 비제한적 예는 스테아라미도프로필 PG-디모늄 클로라이드 포스페이트, 스테아라미도프로필 에틸디암모늄 에토설페이트, 스테아라미도프로필 디메틸 (미리스틸 아세테이트) 암모늄 클로라이드, 스테아라미도프로필 디메틸 세테아릴 암모늄 토실레이트, 스테아라미도프로필 디메틸 암모늄 클로라이드, 스테아라미도프로필 디메틸 암모늄 락테이트 및 이들의 혼합물을 포함한다.

4급 암모늄염 양이온성 계면활성제의 비제한적 예는 암모늄 클로라이드, 세틸 암모늄 브로마이드, 라우릴 암모늄 클로라이드, 라우릴 암모늄 브로마이드, 스테아릴 암모늄 클로라이드, 스테아릴 암모늄 브로마이드, 세틸 디메틸 암모늄 클로라이드, 세틸 디메틸 암모늄 브로마이드, 라우릴 디메틸 암모늄 클로라이드, 라우릴 디메틸 암모늄 브로마이드, 스테아릴 디메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴 디메틸 암모늄 브로마이드, 세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드, 세틸 트리메틸 암모늄 브로마이드, 라우릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 라우릴 트리메틸 암모늄 브로마이드, 스테아릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴 트리메틸 암모늄 브로마이드, 라우릴 디메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴 디메틸 세틸 디탈로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 디세틸 암모늄 클로라이드, 디세틸 암모늄 브로마이드, 디라우릴 암모늄 클로라이드, 디라우릴 암모늄 브로마이드, 디스테아릴 암모늄 클로라이드, 디스테아릴 암모늄 브로마이드, 디세틸 메틸 암모늄 클로라이드, 디세틸 메틸 암모늄 브로마이드, 디라우릴 메틸 암모늄 클로라이드, 디라우릴 메틸 암모늄 브로마이드, 디스테아릴 메틸 암모늄 클로라이드, 디스테아릴 디메틸 암모늄 클로라이드, 디스테아릴 메틸 암모늄 브로마이드, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것들을 포함한다. 추가의 4급 암모늄염은 C12 내지 C22 알킬 탄소쇄가 탈로우 지방산 또는 코코넛 지방산으로부터 유도된 것들을 포함한다. "탈로우"라는 용어는 탈로우 지방산(통상적으로 수소화된 탈로우 지방산)으로부터 유도된 알킬 그룹을 말하는데, 이는 통상적으로 C12 내지 C14 범위의 알킬쇄의 혼합물을 가진다. 탈로우 및 코코넛 원료로부터 유도된 4급 암모늄염의 예는 탈로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 디탈로우 디메틸 암모늄 메틸 설페이트, 디(하이드로게네이티드 탈로우) 디메틸 암모늄 클로라이드, 디(하이드로게네이티드 탈로우) 디메틸 암모늄 아세테이트, 디탈로우 디프로필 암모늄 포스페이트, 디탈로우 디메틸 암모늄 나티트레이트, 디(코코넛알킬) 디메틸 암모늄 클로라이드, 디(코코넛알킬) 디메틸 암모늄 브로마이드, 탈로우 암모늄 클로라이드, 코코넛 암모늄 클로라이드, 스테아라미도프로필 PG-디모늄 클로라이드 포스페이트, 스테아라미도프로필 에틸디모늄 에토설페이트, 스테아라미도프로필 디메틸 (미리스틸 아세테이트) 암모늄 클로라이드, 스테아라미도프로필 디메틸 세테아릴 암모늄 토실레이트, 스테아라미도프로필 디메틸 암모늄 클로라이드, 스테아라미도프로필 디메틸 암모늄 락테이트 및 이들의 혼합물을 포함한다.

본 발명에 사용하기 위한 다른 양이온성 계면활성제는 콘디셔닝 잇점, 특히 모발 콘디셔닝 특성을 제공하기에 유용하고, 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 하이드록시알킬, 및 알킬에스테르 잔기, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 비이온성 친수성 잔기를 함유하는 적어도 하나의 N-라디칼을 갖는 4급 암모늄 또는 아미노 화합물인 것들이다. 이 계면활성제는 4급 질소 또는 양이온성 아미노질소의 탄소원자 4개(포함), 바람직하게는 3개(포함)내에 적어도 하나의 친수성 잔기를 포함한다. 본 명세서의 목적을 위해, 이것은 양이온성 질소에 가장 가까운 친수성 잔기중의 비-탄소 원자는 상기 질소에 비해 정해진 숫자의 탄소 원자내에 있어야 한다는 것을 의미한다. 또한, 다른 친수성 잔기들에 인접한 친수성 잔기의 일부인 탄소 원자, 예를 들어, 친수성 폴리옥시알킬렌(예. -CH₂-CH₂-O-)내의 탄소 원자는 양이온성 질소의 4, 또는 바람직하게는 3개의 탄소 원자내의 친수성 잔기의 수를 결정할 때에는 계수되지 않는다. 일반적으로, 임의의 친수성 잔기의 알킬 부분은 바람직하게는 C₁-C₃알킬이다. 적당한 친수체-함유 라디칼은, 비이온성 친수체 잔기로서, 예를 들어, 에톡시, 프로폭시, 폴리옥시에틸렌, 폴리옥시프로필렌, 에틸아미노, 프로필아미노, 하이드록시메틸, 하이드록시에틸, 하이드록시프로필, 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 또는 이들의 혼합물을 포함한다.

바람직한 4급 암모늄염의 특정 예는 폴리옥시에틸렌 (2) 스테아릴 메틸 암모늄 클로라이드, 메틸 비스(하이드로게네이티드 탈로우아미도에틸) 2-하이드록시에틸 암모늄 메틸 설페이트, 폴리옥시프로필렌 (9) 디에틸 메틸 암모늄 클로라이드, 트리폴리옥시에틸렌(총 PEG=10) 스테아릴 암모늄 설페이트, 비스(N-하이드록시에 틸-2-올레일 이미다졸리늄 클로라이드) 폴리에틸렌 글리콜(12), 및 이소도데실벤질 트리에탄올암모늄 클로라이드를 포함한다.

1급, 2급 및 3급 지방산 아민 역시 바람직한 양이온성 계면활성제 물질이다. 상기 아민류의 알킬 그룹은 바람직하게는 약 1 내지 약 30개의 탄소원자를 가지며 적어도 하나, 바람직하게는 2 내지 10개의, 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 하이드록시알킬, 및 알킬에스테르 잔기, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 비이온성 친수성 잔기를 포함해야 한다. 2급 또는 3급 아민이 바람직하고, 4급 아민이 특히 바람직하다. 적당한 아민의 특정 예는 디에틸 아미노에틸 폴리옥시에틸렌 (5) 라우레이트, 코코-폴리글리세릴-4 하이드록시프로필 디하이드록시 에틸아민, 및 디하이드록시에틸 탈로우아민 하이드로클로라이드를 포함한다.

본 발명에서 사용하기 위한 양이온성 콘디셔닝제는 다수의 암모늄 4급 잔기 또는 아미노 잔기, 또는 이들의 혼합물을 역시 포함할 수 있다.

본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 양성 및 양성이온성 계면활성제의 예는 지방족 2급 및 3급 아민의 유도체로서 광범위하게 기술된 것들이며, 여기에서 지방족 라디칼은 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 지방족 치환체중 하나는 약 8 내지 약 22개의 탄소 원자(바람직하게는 C₈-C₁₈)를 포함하고, 하나는 음이온성 수용성 그룹, 예를 들어, 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트를 포함한다. 예는 알킬 이미노 아세테이트, 및 식 RN[(CH₂)mCO₂M]₂및 RNH(CH₂)_mCO₂M의 이미노디알카노에이트 및 아미노알카노에이트이고, 상기 식에서 M은 H, 알칼리 금속, 알칼리토 금속 암모늄, 또는 알카놀암모늄이다. 또한 이미다졸리늄 및 암모늄 유도체가 포함된다. 적당한 양성 계면활성제의 특정 예는 나트륨 3-도데실-아미노프로피오네이트, 나트륨 3-도데실-아미노프로판 설포네이트, 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제 2,658,072 호의 교시에따라 도데실아민을 나트륨 이세티오네이트와 반응시킴으로써 제조된 것과 같은 N-알킬타우린; 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제 2,438,091 호의 교시에따라 생산된 것들과 같은 N-고급 알킬 아스파르트산; 및 상품명 "Miranol"로 판매되고, 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제 2,528,378 호에 기술된 생성물을 포함한다. 유용한 양성체의 다른 예는 코아미도프로필 PG-디모늄 클로라이드 포스페이트(모나사(Mona Corp.)로부터 모나쿼트(Monaquat) PTC로서 상업적으로 입수할 수 있음)과 같은 포스페이트를 포함한다.

본 발명에서 양성 또는 양성이온성 계면활성제로서 유용한 것들은 베타인이다. 베타인의 예는 코코 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸 알파카복시에틸 베타인, 세틸 디메틸 카복시메틸 베타인, 세틸 디메틸 베타인(론자사(Lonza Corp.)로부터 론제인(Lonzaine) 16SP로서 입수할 수 있음), 라우릴 비스-(2-하이드록시에틸) 카복시메틸 베타인, 스테아릴 비스-(2-하이드록시프로필) 카복시메틸 베타인, 올레일 디메틸 감마-카복시프로필 베타인, 라우릴 비스-(2-하이드록시프로필)알파-카복시에틸 베타인, 코코 디메틸 설포프로필 베타인, 스테아릴 디메틸 설포프로필 베타인, 라우릴 디메틸 설포에틸 베타인, 라우릴 비스-(2-하이드록시에틸) 설포프로필 베타인, 및 아미도베타인 및 아미도설포베타인(여기에서 RCONH(CH₂)₃라디칼은 베타인의 질소 원자에 부착되어 있음), 올레일 베타인(헨켈(Henkel)로부터 벨베텍스(Velvetex) OLB-50으로서 입수할 수 있음), 및 고카미도프로필 베타인(헨켈(Henkel)로부터 벨베텍스(Velvetex) BK-35 및 BA-35로서 입수할 수 있음)과 같은 고급 알킬 베타인을 포함한다.

다른 유용한 양성 및 양성이온성 계면활성제는 코카미도프로필 하이드록시설테인(롱-뿔랑(Rhone-Poulene)으로부터 미라테인(Mirataine) CBS로서 입수할 수 있음)과 같은 설테인 및 하이드록시설테인, 및 식 RCON(CH₃)CH₂CH₂CO₂M(여기에서, R은 약 10 내지 약 20 탄소 원자의 알킬 또는 알케닐이고, M은 암모늄, 나트륨, 칼륨 및 트리알카놀아민(예. 트리에탄올아민)과 같은 수용성 양이온임)에 해당하는 알카노일 사르코시네이트를 포함한다.

상술한 계면활성제는 임의로 본 발명의 모발 보호 조성물에서 AGS와 배합하여 사용될 수 있다. 본 샴푸 조성물에 사용하기에 바람직한 계면활성제는 암모늄 라우릴 설페이트, 암모늄 라우레트 설페이트, 트리에틸아민 라우릴 설페이트, 트리에틸아민 라우레트 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우레트 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 라우레트 설페이트, 디에탄올아민 라우릴 설페이트, 디에탄올아민 라우레트 설페이트, 라우릭 모노글리세리드 나트륨 설페이트, 나트륨 라우릴 설페이트, 나트륨 라우레트 설페이트, 포타슘 라우릴 설페이트, 포타슘 라우레트 설페이트, 나트륨 라우릴 사르코시네이트, 나트륨 라우로일 사르코시네이트, 라우릴 사르코신, 코코일 사르코신, 암모늄 라우릴 사르코시네이트, 암모늄 라우로일 설페이트, 나트륨 코코일 설페이트, 나트륨 라우로일 설페이트, 포타슘 코코일 설페이트, 포타슘 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 코코일 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 나트륨 트리데실 벤젠 설포네이트, 나트륨 도데실 벤젠 설포네이트, 코코아미도프로필 베타인, 코코베타인, 라우릴 아미도 프로필 베타인, 올레일 베타인, 및 코코암포카복시글리시네이트를 포함한다.

본 발명에 사용하기 위한 임의의 계면활성제중 가장 바람직한 것은 암모늄 라우레트 설페이트 및 코코아미도프로필 베타인이다.

콘디셔닝제

본 발명의 샴푸 조성물은 또한 바람직하게는 모발 콘디셔닝제를 포함한다. 사용자에게 빗질의 용이성, 부드러운 모발 감촉 및 취급의 용이성과 같은 추가의 모발 콘디셔닝 잇점을 제공하는 것이 바로 이 콘디셔닝제이다. 생성된 샴푸 조성물은 하나의 제품으로 모발 세정, 스타일링 및 콘디셔닝 잇점을 제공한다.

상술한 바와 같은 양이온성 계면활성제는 본 조성물에 약간의 콘디셔닝 잇점을 주기위해 사용될 수 있다. 유사하게, 예를 들어, 크로틴(Crotein) SPA(Croda) 또는 렉세인(Lexeine) X250(Inolex) 또는 폴리펩티드(Polypeptide) LSN(Stephan)와 같은 가수분해된 동물 단백질이 콘디셔닝 잇점을 제공하기 위해 사용될 수 있다.

본 발명의 모발 콘디셔닝제는 비휘발성 실록산 또는 실록산 함유 물질일 수 있고, 샴푸 조성물의 약 0.01% 내지 약 10%, 바람직하게는 약 0.1% 내지 약 5%, 가장 바람직하게는 약 0.2% 내지 약 3%의 농도로 존재한다.

실록산(예를 들어, 1965년 9월 25일자로 허여된 미국 특허 제 3,208,911 호(Oppliger) 참조) 및 실록산-함유 중합체는 모발 콘디셔닝 조성물에 사용하기 위한 것으로 교시된 바 있다. 1986년 7월 22일자로 허여된 미국 특허 제 4,601,902 호(Fridd 등)는 실리콘에 부착된 4급 암모늄 치환된 그룹들을 갖는 폴리디오르가노실록산 및 아미노-치환된 탄화수소 그룹들인 실리콘-결합된 치환체를 갖는 폴리디오르가노실록산을 포함하는 모발 콘디셔닝 또는 샴푸/콘디쇼너 조성물을 기술한다. 1987년 3월 31일자로 허여된 미국 특허 제 4,654,161 호(Kollmeier 등)는 베타인 치환체를 함유하는 일군의 오르가노폴리실록산을 기술한다. 모발 보호 조성물에 사용될 때, 상기 화합물들은 양호한 콘디셔닝, 양이온성 성분과의 혼화성, 모발 실재성 및 피부 저자극성을 제공하는 것으로 언급된다. 1986년 1월 7일자로 허여된 미국 특허 제 4,563,347 호(Starch)는 모발에 대한 부착을 제공하는 치환체들을 함유하는 실록산 화합물들을 포함하는 모발 콘디셔닝 조성물에 관한 것이다. 1981년 10월 9일자로 공개된 일본국 특허출원 공개 제 56-129,300 호(Lion Corporation)는 아크릴 수지와 함께 오르가노폴리실록산-옥시알킬렌 공중합체를 포함하는 샴푸 콘디쇼너 조성물에 관한 것이다. 1984년 10월 30일자로 허여된 미국 특허 제 4,479,893 호(Hirota 등)는 포스페이트 에스테르 계면활성제 및 실리콘 유도체(예. 폴리에테르- 또는 알콜-개질된 실록산)을 함유하는 샴푸 콘디셔너 조성물을 기술한다. 1976년 5월 18일자로 허여된 미국 특허 제 3,957,970 호(Korkis)에는 샴푸에 사용하기 위한 폴리에테르-개질된 폴리실록산이 역시 개시되어 있다. 1980년 1월 22일자로 허여된 미국 특허 제 4,185,087 호(Morlino)는 우수한 모발 콘디셔닝 특성을 갖는 것으로 언급된 트리알킬아미노 하이드록시 오르가노실리콘 화합물의 4급 질소 유도체를 기술하고 있다. 본 단락에서 상기 언급된 문헌들 각각은 그 전체가 본원에 참고로서 인용되어 있다.

실록산-유도된 물질 역시 모발 스타일링 조성물에 사용되어 왔다. 1979년 12월 27일자로 공개된 일본국 특허출원 공개 제 56-092,811 호(Lion Corporation)는 양성 아크릴 수지, 폴리옥시알킬렌-변성된 오르가노폴리실록산, 및 폴리에틸렌 글리콜을 한유하는 모발 세팅 조성물을 기술한다. 1988년 5월 17일자로 허여된 미국 특허 제 4,744,978 호(Homan 등)는 카복시작용성 폴리디메틸실록산 및 아민 또는 암모늄 그룹을 함유하는 양이온성 유기 중합체의 배합물을 포함하는 (헤어 스프레이와 같은) 모발 스타일링 조성물을 기술한다. 폴리디오르가노실록산 및 양이온성 유기 중합체를 포함하는 모발 스타일링 조성물은 1988년 3월 29일자로 허여된 미국 특허 제 4,733,677 호(Gee 등) 및 1988년 2월 16일자로 허여된 미국 특허 제 4,724,851 호(Cornwall 등)에 교시되어 있다. 마지막으로, 1984년 9월 5일에 공개된 유럽 특허출원 제 117,360 호(Cantrell 등)는 적어도 하나의 질소-수소 결합을 갖는 실록산 중합체, 계면활성제, 및 콘디셔너 및 모발 스타일링 보조제로서 작용하는 가용화된 티타네이트, 지르코네이트 또는 게르마네이트를 함유하는 조성물을 개시한다. 본 단락에서 상기 언급된 문헌들 각각은 그 전체가 본원에 참고로서 인용되어 있다.

비휘발성 실리콘 액은 본 발명의 샴푸 조성물에서 콘디셔닝제 성분으로서 유용하다. 상기 물질의 예는 폴리메틸실록산 고무, 아미노실리콘 및 페닐실리콘을 포함한다. 더욱 상세하게는, 하기 구조를 가진 폴리알킬 또는 폴리아릴 실록산과 같은 물질이 사용될 수 있다:

상기 식에서, R은 알킬 또는 아릴이고, x는 약 7 내지 약 8,000의 정수이다. A는 실리콘쇄의 말단을 봉쇄하는 그룹을 나타낸다.

실록산쇄(R)상에 또는 실록산쇄(A)의 말단에 치환된 알킬 또는 아릴 그룹은 생성된 실리콘이 상온에서 액으로 남아있는한 임의의 구조를 가질 수 있고, 소수성이며, 모발에 발랐을 때 자극적이거나, 독성이거나 달리 해롭지 않고, 조성물의 다른 성분과 혼화성이며, 정상적인 사용 및 저장 조건에서 화학적으로 안정하고, 모발에 침착될 수 있다.

적당한 A 그룹은 메틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 및 아릴옥시를 포함한다. 실리콘 원자상의 두 개의 R 그룹은 동일한 그룹 또는 상이한 그룹을 나타낼 수 있다. 바람직하게는 두 개의 R 그룹은 동일한 그룹을 나타낸다. 적당한 R 그룹은 메틸, 에틸, 프로필, 페닐, 메틸페닐 및 페닐메틸을 포함한다. 바람직한 실리콘은 폴리디메틸 실록산, 폴리디에틸실록산 및 폴리메틸페닐실록산이다. 폴리디메틸실록산이 특히 바람직하다.

상기 실리콘 물질을 제조하기에 적당한 방법은 미국 특허 제 2,826,551 호 및 제 3,964,500 호 및 거기에 인용된 참고문헌에 개시되어 있고, 이들 각각은 그 전체가 본원에 참고로서 인용되어 있다. 본 발명에 유용한 실리콘은 또한 상업적으로 입수할 수 있다. 적당한 예는 더 제네랄 일렉트릭 캄파니(The General Electric Company)의 상표명인 비스카실(Viscasil), 및 다우 코닝 코포레이션(Dow Corning Corporation) 및 스토퍼 케미칼 캄파니(Stauffer Chemical Company)의 지사인 SWS 실리콘즈(Silicones)에 의해 제공되는 실리콘을 포함한다.

다른 유용한 실리콘 콘디셔닝 물질은 하기 식의 물질을 포함한다:

상기 식에서, x 및 y는 분자량에 의존하는 정수로서, 평균 분자량은 대략 5,000 내지 10,000이다. 상기 중합체는 "아모디메티콘(amodimethicone)"으로서 역시 알려져 있다.

본원의 조성물에 사용될 수 있는 다른 실리콘 양이온성 중합체 콘디셔닝제는 하기 식에 해당한다:

(R₁)_aG_3-aSi(OSiG₂)_n(OSiG_b(R₁)_2-b)_mOSiG_3-a(R₁)_a

상기 식에서,

G는 수소, 페닐, OH 및 C₁-C₈알킬로 이루어진 그룹에서 선택되고, 바람직하게는 메틸이며;

a는 0 또는 1 내지 3까지의 정수, 바람직하게는 0이고;

b는 0 또는 1, 바람직하게는 1이고;

n + m은 1 내지 2,000, 바람직하게는 50 내지 150의 수로서, n은 0 내지 1,999, 바람직하게는 49 내지 149의 수를 나타낼 수 있고, m은 1 내지 2,000, 바람직하게는 1 내지 10의 정수를 나타낼 수 있으며;

R¹은 식 CqH²qL의 일가 라디칼이고, 여기에서 q는 2 내지 8의 정수이고, L은 하기 식(여기에서, R₂는 수소, 페닐, 벤질, 포화 탄화수소 라디칼로 이루어진 그룹에서 선택되고, 바람직하게는 1 내지 20개의 탄소원자를 함유하는 알킬 라디칼이며, A^-는 할라이드 이온을 나타낸다)에서 선택된다:

상기 화합물들은 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 유럽 특허원 제 EP 95,238 호에 보다 상세하게 기술되어 있다. 상기에 대응되는 특히 바람직한 중합체는 하기 식을 갖는 "트리메틸실릴아모디메티콘"으로서 공지된 중합체이다:

상기 식에서,

R₃는 1 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 일가의 탄화수소 라디칼, 특히 메틸 같은 알킬 또는 알케닐 라디칼이고;

R₄는 바람직하게는 C₁-C₁₈알킬렌 라디칼 또는 C₁-C₁₈, 바람직하게는 C₁-C₈알킬렌옥시 라디칼과 같은 탄화수소 라디칼이고;

Q^-는 할라이드 이온, 바람직하게는 클로라이드이고;

r은 2 내지 20, 바람직하게는 2 내지 8의 평균 통계값을 나타내고;

s는 20 내지 200, 바람직하게는 20 내지 50의 평균 통계값을 나타낸다.

상기 화합물들 그 전체가 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제 4,185,017 호에 상세하게 기술되어 있다. 특히 바람직한 본 분야의 중합체는 유니온 카바이드(UNION CARBIDE)사에서 상품명 "UCAR SILICONE ALE 56"으로 시판되고 있다.

본 발명의 조성물은 또한 수용성, 양이온성 모발 콘디셔닝제를 포함할 수 있다. 상기 양이온성 모발 콘디셔닝제는 스타일링 잇점을 위해 필요치는 않지만, 모발 스타일링 중합체의 침착 및 스타일링 잇점 성취를 보조하는 것으로 나타났다. 샴푸 조성물에서, 양이온성 모발 콘디셔닝제는 일반적으로 약 0.05 내지 약 5 중량%, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 4 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.2 내지 3 중량% 정도로 존재한다. 상기 수용성 양이온성 콘디셔닝제는 유기 양이온성 중합체, 유기 양이온성 계면활성제 및 양이온성 실리콘 유체를 포함한다. "수용성"이란 25℃에서 물(증류수 또는 동급)에 0.1 %의 농도로 용해되는 물질을 의미한다. 바람직하게는 수용성 양이온성 콘디셔닝제는 0.5% 농도, 가장 바람직하게는 1.0% 농도로 용해된다. 일반적으로, 중합체는 육안으로 보아 실질적으로 맑은 용액을 형성할 경우, 용해성이라고 한다.

본원의 모발 콘디셔닝제에 유용한 수용성 양이온성 중합체는 모발에 콘디셔닝 잇점을 제공할 수 있고, 샴푸 조성물에 용해성인 중합체이다. 상기 잇점을 제공할 수 있는 임의의 양이온성 중합체는 모두 사용가능하다. 본원에서 사용하는 "중합체"는 단량체의 한 형태, 또는 두 개(즉, 공중합체) 또는 여러형태의 단량체의 중합에 의해 제조된 물질을 포함한다.

본원의 양이온성 유기성 중합체는 일반적으로 5,000 이상, 전형적으로 10,000 이상, 10,000,000 이하인 평균 분자량을 갖는다. 바람직하게는 분자량이 약 100,000 내지 2,000,000이다. 양이온성 중합체는 4급 암모늄 또는 양이온성 아미노 잔기, 또는 이들의 혼합물 같은 양이온성 질소-함유 잔기를 갖는다.

당분야의 숙련가들은 아미노-함유 중합체의 전위밀도는 아미노 기의 pH와 등전점에 따라 변화될 수 있다는 사실을 인지하고 있다. 중합체는 사용하고자 하는 pH, 일반적으로 pH 3 내지 9, 가장 일반적으로는 pH 4 내지 8에서 상기 용해도의 한계치 범위안에 있어야 한다.

수용성 기준을 만족시키는 한 임의의 음이온성 반대이온도 양이온성 중합체를 위해 사용될 수 있다. 적합한 반대이온은 할라이드(예를 들어, Cl, Br, I, 또는 F, 바람직하게는 Cl, Br 또는 I), 설페이트, 및 메틸설페이트를 포함한다. 상기 목록은 배타적이지 않은 것이므로, 다른 것들도 역시 사용할 수 있다.

양이온성 질소-함유 잔기는 일반적으로 양이온성 모발 콘디셔닝 중합체의 총 단량체 단위의 일부에 치환체로서 존재한다. 따라서, 양이온성 중합체는 4급 암모늄 또는 양이온성 아민-치환된 단량체 단위 및 스페이서(spacer) 단량체 단위로서 본원에서 언급된 다른 비-양이온성 단위의 공중합체, 삼중합체 등을 포함할 수 있다. 상기 중합체는 당분야에 공지된 것이고, 다양한 종류를 문헌[CTFA Cosmetic Ingredient Ditionary, 5th edition, 웨닝거(Wenninger) 및 맥어윈(McEwen) 편집, The Cosmetic, Toiletry, and Fragrance Association, Inc. 워싱톤 D.C. 소재, 1993]에서 찾을 수 있다.

적당한 양이온성 중합체는, 예를 들어, 양이온성 아민 또는 4급 암모늄 작용기를 갖는 비닐 단량체와, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 알킬 및 디알킬 아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 메타크릴아미드, 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트, 비닐 카프로락톤, 및 비닐 피롤리돈 같은 수용성 스페이서 단량체와의 공중합체를 포함한다. 알킬 및 디알킬 치환된 단량체는 바람직하게 C₁-C₇알킬기, 더욱 바람직하게는 C₁-C₃알킬기를 갖는다. 다른 적합한 스페이서 단량체는 비닐 에스테르, (폴리비닐 아세테이트의 가수분해에 의해 제조된)비닐 알콜, 말레산 무수물, 프로필렌 글리콜, 및 에틸렌 글리콜을 포함한다.

양이온성 아민은 샴푸의 특정한 종류 및 pH에 따라 1급, 2급 또는 3급 아민일 수 있다. 일반적으로, 2급 및 3급 아민, 특히 3급 아민이 바람직하다.

아민-치환된 비닐 단량체는 아민 형태로 중합될 수 있고, 이어서 임의적으로 4급화 반응에 의해 암모늄으로 전환될 수 있다. 아민은 또한 중합체의 형성 후에 유사하게 4급화될 수 있다. 예들 들어, 3급 아민의 작용기는 식 R'X(여기에서 R'는 단쇄 알킬, 바람직하게는 C₁-C₇알킬, 더욱 바람직하게는 C₁-C₃알킬이고, X는 4급화된 암모늄을 갖는 수용성 염을 형성하는 음이온이다)의 염과 반응함으로써 4급화될 수 있다.

적합한 양이온성 아미노 및 4급 암모늄 단량체는, 예를 들어, 디알킬아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 모노알킬아미노알킬 아크릴레이트, 모노알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 트리알킬 메타크릴옥시알킬 암모늄 염, 트리알킬 아크릴옥시알킬 암모늄 염, 디알릴 4급 암모늄 염으로 치환된 비닐 화합물, 및 피리디늄, 이미다졸리움, 및 4급화된 피롤리돈 같은 환상 양이온성 질소-함유 고리를 갖는 비닐 4급 암모늄 단량체, 예를 들어, 알킬 비닐 이미다졸리움, 알킬 비닐 피리디늄, 알킬 비닐 피롤리돈 염을 포함한다. 상기 단량체의 알킬 부분은 C₁-C₇알킬, 바람직하게는 C₁-C₃알킬, 더욱 바람직하게는 C₁및 C₂알킬 같은 저급 알킬이다.

본원의 양이온성 중합체는 아민- 및/또는 4급 암모늄-치환된 단량체 및/또는 양립성의 스페이서 단량체로부터 유도된 단량체 단위의 혼합물을 포함할 수 있다.

적합한 양이온성 모발 콘디셔닝 중합체는 예를 들어, BASF 위안도트 코퍼레이션(Wyandotte Corp.)(미국 뉴저지주 파르시파니(Parsippany) 소재)에서 상품명 LUVIQUAT(예를 들어, LUVIQUAT FC 370)으로 시판되고 있는 것들과 같은 1-비닐-2-피롤리돈 및 1-비닐-3-메틸이미다졸리움 염(예를 들어, 클로라이드 염)의 공중합체(코스메틱, 토일레트리, 및 프라그란스 어소시에션(Cosmetic, Toiletry, and Fragrance Association) "CTFA"에 의해 업계에서 폴리쿼터늄(Polyquaternium)-16으로 언급됨); 가프(Gaf) 코퍼레이션(미국 뉴저지주 웨인(Wayne) 소재)에서 상품명 GAFQUAT(예를 들어, GAFQUAT 755N)으로 시판되고 있는 것들과 같은 1-비닐-2-피롤리돈 및 디메틸아미노에틸 메타크릴레트의 공중합체(CTFA에 의해 업계에서 폴리쿼터늄-11로 언급됨); 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독중합체, 및 아크릴아미드 및 디메틸디알릴암모늄 클로라이드의 공중합체(CTFA에 의해 업계에서 폴리쿼터늄-6 및 7로 각각 언급됨)를 포함하는 양이온성 디알릴 4급 암모늄-함유 중합체; 및 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제 4,009,256 호에 기술된, 3 내지 5개의 탄소원자를 갖는 불포화된 카르복실산의 단독- 및 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산 염을 포함한다.

사용될 수 있는 다른 양이온성 중합체로는 양이온성 셀룰로오즈 유도체 및 양이온성 전분 유도체 같은 다당류 중합체가 포함된다.

본원에서 사용하기에 적합한 양이온성 다당류 중합체 물질은 하기 식의 화합물을 포함한다:

상기식에서,

A는 전분 또는 셀룰로오즈 무수글루코스 잔기 같은 무수글루코스 잔기이고,

R은 알킬렌 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌, 또는 하이드록시알킬렌 기 또는 이들의 혼합물이고,

R₁, R₂및 R₃는 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬, 또는 알콕시아릴 기이고, 각 기는 약 18개 이하의 탄소원자를 함유하고, 각 양이온성 잔기의 탄소원자의 총수(즉, R₁, R₂및 R₃중의 탄소원자의 총수)는 바람직하게는 약 20 이하이고,

X는 상기에서 설명한 바와 같이 음이온성 반대이온이다.

양이온성 셀룰로오즈는 아머콜(Amerchol) 코퍼레이션(미국 뉴저지주 에디슨(Edison) 소재)에서 에폭사이드로 치환된 트리메틸 암모늄과 반응된 하이드록시에틸 셀룰로오즈의 염으로서 폴리머(Polymer) JR(등록상표) 및 LR(등록상표)시리즈 업계 CTFA에서 폴리쿼터늄-10으로서 언급됨)로서 구입할 수 있다. 또 다른 형태의 양이온성 셀룰로오즈는 라우릴 디메틸 암모늄-치환된 오폭사이드와 반응된 하이드록시에틸 셀룰로오즈의 중합성 4급 암모늄 염(업계 CTFA에서 폴리쿼터늄-24로 언급됨)을 포함한다. 상기 물질들은 아머콜 코퍼레이션으로부터 상품명 폴리머(Polymer) LM-200으로서 구입할 수 있다.

사용될 수 있는 다른 양이온성 중합체는 구아(guar) 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드(셀라니즈(Celanese) 코포레이션에서 재규어 알(Jaguar R) 시리즈로서 구입할 수 있음) 같은 양이온성 구아 검(guar gum) 유도체를 포함한다. 다른 물질들은 4급 질소-함유 셀룰로오즈 에테르(예를 들어, 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제 3,962,418 호에 개시됨) 및 에테르화된 셀룰로오즈와 전분의 공중합체(예를 들어, 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제 3,958,581 호에 개시됨)를 포함한다.

상기에서 설명한 바와 같이, 본원의 양이온성 중합체는 수용성이다. 그러나, 이는 양이온성 중합체가 샴푸 조성물 중에서 반드시 가용성이어야 한다는 것을 의미하는 것은 아니다. 그러나, 바람직하게는 양이온성 중합체는 샴푸 조성물 중에서 용해성이거나 양이온성 중합체 및 음이온성 물질에 의해 형성된 샴푸 조성물 중의 코아세르베이트(coacervate) 상에서 용해성이다. 양이온성 중합체의 코아세르베이트는 본원의 조성물에 임의로 첨가될 수 있는 음이온성 계면활성제 또는 음이온성 중합체(예를 들어, 나트륨 폴리스티렌 설포네이트)와 함께 형성될 수 있다.

코아세르베이트 형성은 분자량, 농도 및 상호작용하는 이온성 물질의 비, 이온 강도(예를 들어, 염의 첨가에 의한 이온 강도의 변화를 포함함), 양이온성 및 음이온성 류의 전위밀도, pH 및 온도와 같은 다양한 기준에 의해 결정된다. 코아세르베이트 체계 및 상기 매개변수의 영향은, 예를 들어 제이. 카엘스(J. Caelles) 등의 문헌["Anionic and Cationic Compounds in Mixed Systems", Cosmetics & Toiletries, Vol. 106, April 1991, pp 49-54], 씨. 제이. 반 오스(C. J. van Oss)의 문헌["Coacervation, Complex-Coacervation and Flocculation", J. Dispersion Science and Technology, Vol. 9(5,6), 1988-89, pp 561-573] 및 디. 제이 버게스(D. J. Burgess)의 문헌["Practical Analysis of Complex Coacervate Systems", J. of Colloid and Interface Science, Vol. 140, No. 1, November 1990, pp 227-238]에서 미리 연구된 바 있다.

양이온성 중합체는 샴푸의 코아세르베이트 상에 존재하거나, 또는 모발에 샴푸를 바르거나 모발로부터 샴푸를 헹굴 때 코아세르베이트 상을 형성하는 것이 특히 유리한 것으로 생각된다. 코아세르베이트는 더 쉽게 모발에 침착된다. 따라서, 일반적으로, 양이온성 중합체는 코아세르베이트 상으로서 샴푸 중에 존재하거나 또는 희석시에 코아세르베이트 상을 형성하는 것이 바람직하다. 이미 샴푸중의 코아세르베이트가 아니라면, 양이온성 중합체는 바람직하게는 약 20:1, 더욱 바람직하게는 약 10:1, 가장 바람직하게는 8:1의 중량비를 갖는 물: 삼푸 조성물에서 물로 희석될 때 삼푸 중에 코아세르베이트의 형태로 존재할 것이다.

코아세르베이트 형성의 분석 기술은 당분야에 공지되어 있다. 예를 들어, 임의의 선택된 희석단계에서 샴푸 조성물의 현미경 분석은 코아세르베이트 상이 형성되었는지 여부를 구분하는데 사용될 수 있다.

상기 코아세르베이트 상은 조성물 중에서 부가적인 유화상으로서 구분될 것이다. 염료의 사용은 조성물중에 분산된 다른 불용성 상으로부터 코아세르베이트 상을 구분하는 것을 보조할 수 있다.

오일 및 완화제 같은 콘디셔닝 성분들을 본 발명의 스타일링 샴푸 조성물에 역시 첨가할 수 있다.

다른 임의의 성분

본원의 거품 발생량이 많은 스타일링 샴푸 조성물은 화장용으로 또는 미학적으로 더욱 적합한 조성물을 부여하기 위해 또는 부가적인 사용 잇점을 제공하기 위해 다양한 다른 임의의 다양한 성분을 함유할 수 있다. 상기 통상적인 임의의 성분, 예를 들어, 피막된 마이카, 에틸렌 글리콜 디스테아레이트 및 PEG 3 디스테아레이트 같은 진주빛 광택 보조제; TiO₂같은 유백제; 벤질 알콜, 글리던트(Glydant), 케톤(Kathon), 메틸 파라벤, 프로필 파라벤 및 이미다졸리디닐 우레아 같은 보존제; 세테아릴 알콜 같은 지방 알콜; 염화 나트륨, 황산 나트륨, 폴리비닐 알콜, 에틸 알콜, 시트르산, 시트르산 나트륨, 숙신산, 인산, 인산 나트륨, 인산 이나트륨, 수산화 나트륨 및 탄산나트륨 같은 pH 조절제; FD & C 또는 D & C 안료 중의 임의의 것 같은 안료제; 향료; 이나트륨 에틸렌디아민 테트라-아세테이트 같은 금속 이온 봉쇄제; 글리세린 및 프로필렌 글리콜 같은 중합체 가소제 등이 당분야에 공지되어 있다. 본 조성물은 또한 임의적으로 장쇄 지방산의 디에탄올아미드(예를 들어, PEG 3 라우릭 디에탄올아미드), 라우라미드 DEA, 코코모노에탄올 아미드, 구아 검, 크산탄 검, 크로틱스(Crothix)(PEG 150 펜다에리트리틸 테트라스테아레이트), 메틸 셀룰로오즈, 하이드록시에틸 셀룰로오즈, 전분 및 전분 유도체 같은 농후제 및 점도 개질제를 포함한다. 다양한 염 및 전해질, 바람직하게는 염화 나트륨을 본 조성물의 점도를 조절하는데 필요한 대로 사용할 수 있다. 상기 조성물들은 본원에 참고로서 인용된, 1980년 10월 14일자로 허여된 란돌(Landoll)에 의한 미국 특허 제 4,228,277 호에 기술된 물질들 같은 비이온성 장쇄 알킬화된 셀룰로오즈 에테르 농후제를 포함할 수 있다.

상기 임의의 성분들은 일반적으로 샴푸 조성물 중에 약 0.01 내지 10.0%, 바람직하게는 약 0.05 내지 약 5.0% 정도로 독립적으로 사용될 수 있다.

본 발명의 모든 조성물은 본 샴푸 조성물의 세정 및 모발 스타일의 유지 성능을 과도하게 방해하는 임의의 성분은 포함하지 않는다.

제조방법

본 발명의 스타일링 샴푸 조성물은 통상적인 조제 및 혼합 기술을 사용함으로써 제조될 수 있다. 모발 스타일링 중합체는 비극성 휘발성 용매에 먼저 용해되어야 한다. 나머지 성분을 별도의 용기에서 혼합하고 중합체 및 용매 혼합물을 이 나머지 성분들에 첨가한다. 상기 조성물은 1500 내지 12,000 cps의 최종 점도를 가져야 한다. 상기 조성물의 점도는 필요에 따라 염화 나트륨을 사용하여 조절할 수 있다.

사용 방법

본 발명의 거품 발생량이 많은 스타일링 샴푸 조성물은 세정 및 스타일 유지 잇점을 제공하기 위해 통상적인 방법으로 사용된다. 상기 방법은 일반적으로 마사지 후 린스처리한, 젖은 모발에 샴푸 제품을 효과적인 양으로 사용하는 것을 포함한다. "효과적인 양"이란 원하는 모발의 강도 및 조직을 가지면서 모발 세정 및 스타일링 장점을 제공할 수 있는 충분한 양을 의미한다. 본 발명의 조성물로 모발을 샴푸한 후, 사용자의 일상의 방법, 예들 들면, 빗질, 브러싱, 블로 드라이, 컬링(curling), 고온 건조 등의 방법으로 모발이 건조되고 스타일된다.

하기 실시예는 본 발명을 예시한다. 화장용 조성물 제조 분야의 숙련가들은 본 발명의 범위 및 범주를 벗어나지 않고 본 발명의 변형을 수행할 수 있다는 것을 인지할 것이다.

성분들은 화학적 또는 CTFA 명으로 표시한다.

본원에서 사용하는 모든 부, % 및 비율은 특별한 언급이 없는 한 중량에 의한 것이다.

실시예 A-E

하기 표 1은 본 발명의 모발 스타일링 제를 정의한다. 상기 모발 스타일링 제는 실시예 I-IX에서 사용되는 모발 스타일링 중합체 및 비극성 휘발성 용매의 혼합물이다. 본원에서 사용되는 모든 비율은 중량/중량을 기준으로 한 것이다. 하기 중합체의 괄호안의 숫자는 단량체의 상대중량비율을 나타낸다.

상기 모발 스타일링 중합체 및 비극성 휘발성 용매 혼합물은 적합한 용기에 적합한 모발 스타일링 중합체를 놓고 적합한 비극성 휘발성 용매를 용기에 첨가함으로써 제조한다. 이어서 혼합물을 중합체가 완전히 용해될 때까지 약 160 내지 180°F에서 가열하면서 교반한다.

실시예 I-V

본 발명의 대표적인 모발 샴푸 조성물을 하기 표에 나타낸다.

성 분	중량%
	I	II	III	IV	V
암모늄라우레트 설페이트	2.00	2.00	2.00	8.00	2.00
코코아미도프로필 베타민 F	6.00	6.00	6.00	6.00	6.00
암모늄라우릴 설페이트	0.00	2.00	0.00	0.00	0.00
알킬 글리세롤 설포네이트	10.00	8.00	10.00	4.00	10.00
혼합물 A	6.00	-	-	-	-
혼합물 B	-	8.00	-	-	-
혼합물 C	-	-	4.00	-	-
혼합물 D	-	-	-	4.00	-
혼합물 E	-	-	-	-	8.00
인산 나트륨	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1
인산 이나트륨	0.2	0.2	0.2	0.2	0.2
글리콜 디스테아레이트	2.00	2.00	2.00	2.00	2.00
코코모노에탄올 아미드	0.70	0.70	0.70	0.70	0.70
방향제	0.8	0.8	0.8	0.8	0.8
PEG-150 펜타에리트리틸테트라스테아레이트	0.40	0.45	0.15	0.30	0.45
세틸 알콜	0.42	0.42	0.42	0.42	0.42
스테아릴 알콜	0.18	0.18	0.18	0.18	0.18
폴리쿼터늄 10	0.30	0.50	0.40	0.30	0.50
디메티콘¹	0.00	0.00	0.00	1.50	1.50
DMDM 히단토인	0.37	0.37	0.37	0.37	0.37
물	100이 되는 양	100이되는 양	100이되는 양	100이 되는 양	100이 되는 양
¹상기 물질은 폴리디메틸실록산 검(미국 뉴욕주 워터포드(Waterford) 소재의 실리콘 생산 분야 제네랄 일렉트릭 컴파니(General Electric Company)의 실리콘 프로덕츠 디비젼(Silicone Products Division)으로부터 구입할 수 있는 GE SE 76) 및 폴리디메틸실록산 유체(약 350 센티스톡(cst))가 40/60의 중량비로 블렌드된 것이다.

적합한 용기에서, 글리콜 디스테아레이트, 코코모노에탄올 아미드, PEG-150 펜타에리트리틸 테트라스테아레이트, 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 인산 나트륨 및 인산 이나트륨을 AGS 전량과 각 나머지 계면활성제(암모늄 라우레트 설페이트, 코코아미도프로필 베타인 F(및 존재시 암모늄 라우릴 설페이트)의 반량과 혼합한다. 이어서 혼합물을 160 내지 180°F에서 가열한 다음 고체가 용융될 때까지 교반한다. 상기 혼합물을 실온으로 식힌다. 다른 용기에서, 폴리쿼터늄-10을 미리 물에 용해시키고, 이어서 다른 식힌 성분들에 혼합하면서 첨가한다. 적합한 중합체 혼합물 및 나머지 성분들을 교반하면서 첨가한다. 수득된 샴푸 제품은 모발 세정 및 모발 스타일 유지 잇점을 제공하는데 유용하다.

실시예 VI

성 분	중량%
알킬 글리세롤 설포네이트	14.00
혼합물 A	6.00
인산나트륨	0.1
인산이나트륨	0.2
글리콜 디스테아레이트	2.00
코코모노에탄올 아미드	0.70
방향제	0.8
PEG-150 펜타에리트리틸테트라스테아레이트	0.40
세틸 알콜	0.42
스테아릴 알콜	0.18
폴리쿼터늄 10	0.30
DMDM 히단토인	0.37
물	100이 되는 양

상기 산물은 실시예 I-V에 기재된 방법을 사용하여 제조한다.

상기 샴푸 제품은 모발의 세정 및 스타일 유지 잇점을 제공하기에 유용하다.

실시예 VII-IX

성 분	중량%
	VII	VIII	IX
암모늄라우레트 설페이트	2.00	2.00	2.00
코코아미도프로필 베타민 F	6.00	6.00	6.00
암모늄라우릴 설페이트	0.00	0.00	0.00
알킬 글리세롤 설포네이트	10.00	10.00	10.00
혼합물 A	9.00	3.0	1.50
인산 나트륨	0.1	0.1	0.1
인산 이나트륨	0.2	0.2	0.2
글리콜 디스테아레이트	2.00	2.00	2.00
코코모노에탄올 아미드	0.70	0.70	0.70
방향제	0.8	0.8	0.8
PEG-150 펜타에리트리틸테트라스테아레이트	0.50	0.15	-
세틸 알콜	0.42	0.42	0.42
스테아릴 알콜	0.18	0.18	0.18
폴리쿼터늄 10	0.50	0.30	0.30
디메티콘¹	0.00	0.00	0.00
DMDM 히단토인	0.37	0.37	0.37
물	100이 되는 양	100이 되는 양	100이 되는양
¹상기 물질은 폴리디메틸실록산 검(미국 뉴욕주 워터포드(Waterford) 소재의 제네랄 일렉트릭 컴파니(General Electric Company)의 실리콘 프로덕츠 디비젼(Silicone Products Division)으로부터 구입할 수 있는 GE SE 76) 및 폴리디메틸실록산 유체(약 350 cst)가 40/60의 중량비로 블렌드된 것이다.

상기 제품은 실시예 I-V에서 기재된 방법을 사용하여 제조하였다.

상기 샴푸 제품은 모발의 세정 및 모발 스타일 유지 잇점을 제공하는데 유용하다.

Claims

(a) 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제 2 내지 25 중량%,

(b) 모발 스타일링 중합체 0.1 내지 10 중량%,

(c) 300℃ 이하의 비점 및 25℃의 물에 0.2 중량% 미만의 용해도를 갖는, 상기 모발 스타일링 중합체를 용해시키기 위한 비극성 휘발성 용매 0.1 내지 10 중량%; 및

(d) 물 50 내지 97.8 %(여기에서 상기 모발 스타일링 중합체 대 상기 비극성 휘발성 용매의 중량비는 10:90 내지 70:30이다)를 포함하는

거품성의 모발 스타일링 샴푸 조성물.
제 1 항에 있어서,

상기 모발 스타일링 중합체 대 상기 비극성 휘발성 용매의 중량비가 30:70 내지 60:40이고, 상기 비극성 휘발성 용매가 90℃ 내지 260℃의 비점을 갖는 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 2 항에 있어서,

상기 비극성 휘발성 용매 0.5 내지 5%를 포함하고, 바람직하게는 상기 비극성 휘발성 용매가 탄화수소, 에테르 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, 더욱 바람직하게는 탄화수소인 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 2 항에 있어서,

상기 탄화수소가 8 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 탄화수소이고, 바람직하게는 도데칸, 이소도데칸, 이소테트라데칸, 이소헥사데칸, 2,5-디메틸데칸 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, 더욱 바람직하게는 이소도데칸, 이소헥사데칸 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 2 항에 있어서,

상기 비극성 휘발성 용매가 에테르이고, 바람직하게는 상기 에테르가 이소아밀 에테르, 디펜틸 에테르, 디헥실 에테르 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 2 항에 있어서,

상기 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트 계면활성제가 10 내지 18개의 탄소를 갖는 알콜로부터 적어도 50%가 유도된 알킬 쇄를 포함하고, 30% 미만의 디글리세롤 라디칼을 함유하는 샴푸 조성물.
제 1 항에 있어서,

상기 모발 스타일링 중합체가 n-부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, t-부틸 아크릴레이트, t-부틸 메타크릴레이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 소수성 단량체단위를 포함하고, 바람직하게는 상기 모발 스타일링 중합체가 상기 조성물의 0.5% 내지 5%를 차지하고, 더욱 바람직하게는 상기 모발 스타일링 중합체가 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트, t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 2 항에 있어서,

비이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양성 계면활성제, 양성이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 제2 계면활성제 2중량% 내지 15 중량%를 추가로 포함하고, 바람직하게는 상기 제2 계면활성제가 양성 계면활성제이고, 더욱 바람직하게는 상기 제2 계면활성제가 베타인인 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 2 항에 있어서,

콘디셔닝제를 추가로 포함하고, 바람직하게는 상기 콘디셔닝제가 양이온성 중합체이고, 더욱 바람직하게는 상기 양이온성 중합체가 양이온성 셀룰로즈이고 0.05중량% 내지 1.0중량%의 수준으로 존재하는 샴푸 조성물.
(i) 모발을 물로 적시는 단계,

(ii) 유효량의 제 1 항의 조성물을 모발에 바르는 단계,

(iii) 상기 조성물로 모발을 샴푸하는 단계,

(iv) 모발로부터 상기 조성물을 헹구는 단계, 및

(v) 모발을 건조 및 스타일링하는 단계를 포함하는,

모발을 세정 및 스타일링하는 방법.