KR100260244B1 - Wafer alignment indicator - Google Patents

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김충환
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for displaying the alignment of a wafer is provided to align accurately between the wafer and a photo mask by including a display unit for displaying the aligning in processing the wafer without selecting the edge part of the wafer. CONSTITUTION: A photo mask(10) comprises a pattern unit(12) for performing the step and repeat of the main pattern and a blank unit(14) around the pattern unit(12). A display unit(20) comprises a line display unit(22) divided by a plurality of lines and a number display unit(24) displaying the number inscribed in the spaces divided by the lines. The display unit(20) is used for recognizing the state of aligning between the photo mask(10) and a wafer(30) from a boundary line of the pattern unit(12) to the X-direction and the Y-direction.

Description

웨이퍼 정렬 표시 장치Wafer alignment indicator

본 발명은 웨이퍼 정렬 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 엣지 부분을 비선택하여 가공하고자 할 때 웨이퍼와 포토마스크 사이에 X 축(좌, 우), Y 축(전, 후) 방향으로 위치 정렬을 정확하게 수행하기 위한 웨이퍼 정렬 표시 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer alignment display device. More particularly, the present invention relates to a wafer alignment display device, in which the wafer edge portion is positioned in the X-axis (left, right) and Y-axis (front, back) directions when the wafer edge portion is to be processed without selection. A wafer alignment display apparatus for accurately performing alignment.

일반적으로 반도체 제조 공정에서 포토마스킹 공정(Photomasking Process)은 웨이퍼(Wafer)의 최상층을 선택적으로 제거하거나 패턴(Pattern)을 형성하는 것으로서, 이 공정 작업은 감광막 층을 이용하여 패턴을 포토마스크로부터 웨이퍼 표면으로 옮기는 것을 말한다. 우선 마스크 패턴이 감광막 층에 옮겨지고, 그 다음에 감광막 층에서 웨이퍼 표면으로 옮겨진다.In general, in a semiconductor manufacturing process, a photomasking process is to selectively remove a top layer of a wafer or to form a pattern, which uses a photoresist layer to pattern the surface from the photomask. To move to. The mask pattern is first transferred to the photoresist layer and then transferred from the photoresist layer to the wafer surface.

이 때, 포토마스크에 웨이퍼를 정확하게 얼라인(Align)시켜야 함은 물론, 얼라인 후에는 마스크를 통하여 감광막에 적절한 노광을 해야 한다.At this time, the wafer must be accurately aligned with the photomask, and after the alignment, the photosensitive film must be properly exposed through the mask.

첫 번째 마스크는 당연히 웨이퍼에 정렬할 패턴이 없으므로 웨이퍼의 결정 구조에 얼라인한다. 그러나, 이러한 결정 구조는 보이는 것이 아니기 때문에 웨이퍼의 플랫 죤에 맞춘다. 모든 패턴이 플랫 죤에 직각인 이유가 여기에 있다.The first mask naturally aligns to the crystal structure of the wafer since there is no pattern to align on the wafer. However, this crystal structure is not visible and therefore fits into the flat zone of the wafer. This is why all patterns are perpendicular to the flat zone.

첫 번째 마스크 이외의 모든 마스크는 웨이퍼의 패턴에 정렬해야 한다.All masks other than the first mask must be aligned with the pattern of the wafer.

도 1 은 종래의 포토마스크를 개략적으로 나타낸 도면으로서, 여기에는 웨이퍼 엣지(Wafer Edge) 부분을 비선택하여 가공하고자 할 때 사용되는 포토마스크를 나타내고 있다.FIG. 1 is a view schematically showing a conventional photomask, which shows a photomask used when non-selective processing of a wafer edge portion.

도 1 에서, 포토마스크(1)는 주 패턴을 스텝 및 리피트(Step ＆ Repeat)하는 패턴(Pattern)부(2)와 그 주위의 블랭크(Blank)부(3)로 나뉘어진다. 상기 블랭크부(3)는 적용 프로세스 조건 및 포토레지스트(Photorest;감광막)의 종류에 따라 밝거나 어두운 크롬(Cr) 처리를 한다.In Fig. 1, the photomask 1 is divided into a pattern portion 2 for stepping and repeating the main pattern and a blank portion 3 around it. The blank portion 3 is subjected to bright or dark chromium (Cr) treatment depending on the application process conditions and the type of photoresist.

작업자는 이렇게 제작된 포토마스크(1)를 얼라인 머신(Align Machine)에 장착하고, 웨이퍼(미도시)를 로딩한 후 이 웨이퍼와 포토마스크를 정렬 및 노광하게 된다.The operator mounts the photomask 1 thus manufactured in an alignment machine, loads a wafer (not shown), and then aligns and exposes the wafer and the photomask.

그러나, 종래에는 이와 같이 웨이퍼와 포토마스크를 정렬할 때 다음과 같은 문제점이 있다.However, the prior art has the following problems when aligning the wafer and the photomask.

첫째, 상기 마스크의 패턴이 웨이퍼의 엣지 내로 모두 들어가도록 조절하기 힘들다.First, it is difficult to control the pattern of the mask to enter all the edge of the wafer.

둘째, X 축(좌, 우) 방향 또는 Y 축(전, 후) 방향으로 소정의 변동이 생기면, 마스크 패턴이 웨이퍼 엣지의 외부에 형성된다.Second, when a predetermined variation occurs in the X-axis (left, right) direction or the Y-axis (front, back) direction, a mask pattern is formed outside the wafer edge.

셋째, 특히 블랭크부(3)가 어두운 크롬으로 처리되면 웨이퍼의 엣지 부분을 정확하게 확인하기 힘들다.Third, especially when the blank portion 3 is treated with dark chromium, it is difficult to accurately identify the edge portion of the wafer.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 창작된 것으로서, 본 발명의 목적은 웨이퍼 엣지 부분을 비선택하여 가공하고자 할 때 웨이퍼와 포토마스크 사이에 X, Y 축 방향으로 위치 정렬을 정확하게 할 수 있도록 하는 웨이퍼 정렬 표시 장치를 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to accurately position alignment in the X and Y axis directions between the wafer and the photomask when the wafer edge portion is to be processed without selection. The present invention provides a wafer alignment display device.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 표시 장치는, 웨이퍼 엣지를 비선택하여 가공시킬 때 웨이퍼와 포토마스크를 정렬시킬 수 있는 표시 수단을 구비한 웨이퍼 정렬 표시 장치에 있어서, 상기 표시 수단은 포토마스크의 블랭크부 중 웨이퍼 플랫 죤과 대응하는 위치의 패턴부 경계선으로부터 포토마스크의 패턴부와 블랭크부의 경계선 중 웨이퍼 플랫 죤과 대응하는 위치에 X, Y 축 방향으로 구획된 격자형의 라인 표시부와, 각 라인별로 구획된 공간에 표기된 숫자 표시부로 이루어진 것을 특징으로 한다.A wafer alignment display device according to the present invention for achieving the above object is a wafer alignment display device having display means capable of aligning a wafer and a photomask when a wafer edge is processed by non-selection. Is a lattice line display section partitioned in the X and Y axis directions at a position corresponding to the wafer flat zone among the boundary portions of the pattern portion and the blank portion of the photomask, from the pattern portion boundary line at the position corresponding to the wafer flat zone among the blank portions of the photomask. And, it is characterized in that consisting of a number display unit displayed in the space partitioned by each line.

도 1 은 종래의 포토마스크를 개략적으로 나타낸 도면.1 is a view schematically showing a conventional photomask.

도 2 는 본 발명에 따른 포토마스크를 개략적으로 나타낸 도면.2 schematically shows a photomask according to the invention;

도 3 은 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 표시 장치를 나타낸 요부 확대도.3 is an enlarged view illustrating main parts of a wafer alignment display device according to the present invention;

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10 : 포토마스크, 12 : 패턴부,10: photomask, 12: pattern portion,

14 : 블랭크부, 20 : 표시 수단,14: blank part, 20: display means,

22 : 라인 표시부, 24 : 숫자 표시부,22: line display portion, 24: numeric display portion,

30 : 웨이퍼, 32 : 플랫 죤.30: wafer, 32: flat john.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 는 본 발명에 따른 포토마스크를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 3 은 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 표시 장치를 나타낸 요부 확대도이다.2 is a schematic view of a photomask according to the present invention, and FIG. 3 is an enlarged view illustrating main parts of a wafer alignment display device according to the present invention.

상기 도면에서, 포토마스크(10)는 주 패턴을 스텝 및 리피트(Step ＆ Repeat)하는 패턴(Pattern)부(12)와 그 주위의 블랭크(Blank)부(14)로 나뉘어진다.In the figure, the photomask 10 is divided into a pattern portion 12 for stepping and repeating a main pattern and a blank portion 14 around it.

특히, 본 실시예에서는 상기 블랭크부(14) 중 웨이퍼(30)의 플랫 죤(32)과 대응하는 위치에 있는 패턴부(12)의 경계선으로부터 X 축(좌, 우) 방향 및 Y 축(전, 후) 방향으로 포토마스크(10) 및 웨이퍼(30)를 서로 정렬시킬 때의 인식 수단으로써 표시 수단(20)이 더 구비된다.In particular, in the present embodiment, the X-axis (left and right) directions and the Y-axis (front and rear) from the boundary line of the pattern portion 12 at the position corresponding to the flat zone 32 of the wafer 30 among the blank portions 14. The display means 20 is further provided as a recognizing means when the photomask 10 and the wafer 30 are aligned with each other in the (or later) direction.

상기 표시 수단(20)은, 도 3 에서 상세 도시한 바와 같이, 복수의 라인이 그물망 또는 격자 형상과 같이 구획된 라인 표시부(22)와, 각 라인별로 구획된 공간에 표기된 숫자 표시부(24)로 이루어진다.As shown in detail in FIG. 3, the display means 20 includes a line display unit 22 in which a plurality of lines are partitioned in a mesh or grid shape, and a numerical display unit 24 marked in a space partitioned for each line. Is done.

더욱이, 상기 표시 수단(20)은 포토마스크(10)를 제조할 때 인서트 패턴(Insert Pattern) 형으로 삽입되면 매우 바람직하다.In addition, the display means 20 is very preferably inserted into the insert pattern type when manufacturing the photomask 10.

이와 같이 구비된 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 표시 장치는 작업자가 웨이퍼(30)의 엣지(Wafer Edge) 부분을 비선택하여 가공하고자 할 때 포토마스크(10)와 웨이퍼(30)를 서로 쉽고도 용이하게 정렬시킬 때 사용될 수 있는 것이다.In the wafer alignment display device according to the present invention provided as described above, the operator may easily and easily process the photomask 10 and the wafer 30 with each other when the operator wants to process the non-selective edge portion of the wafer 30. It can be used when sorting.

즉, 정렬시 작업자가 웨이퍼(30)의 플랫 죤(32) 부분에 대응 위치하는 표시 수단(20)을 확인하여 이 수단으로써 웨이퍼(30)의 로딩 상태를 확인함은 물론, 웨이퍼(30)가 정확한 위치에 도달하도록 X, Y 축 방향의 이동이나 정렬 각도를 조절 가능하게 한다.That is, during alignment, the operator checks the display means 20 corresponding to the portion of the flat zone 32 of the wafer 30 to confirm the loading state of the wafer 30 by this means, as well as the wafer 30. The angle of movement or alignment in the X and Y axis can be adjusted to reach the correct position.

따라서, 상술한 본 발명의 효과는 다음과 같다.Therefore, the effects of the present invention described above are as follows.

첫째, X 또는 Y 축 방향으로의 마스크 패턴이 움직이는 현상을 방지할 수 있다.First, it is possible to prevent the mask pattern from moving in the X or Y axis direction.

둘째, 웨이퍼에 대향하는 포토마스크 사이의 각도 오차를 최소화시킬 수 있으므로 틸팅(Tilting) 문제를 해소할 수 있다.Second, since the angle error between the photomasks facing the wafer can be minimized, the tilting problem can be solved.

셋째, 블랭크 영역이 밝거나 어둡게 크롬 처리되는 것에 관계없이 정확한 위치의 웨이퍼 정렬이 가능하게 된다.Third, wafer alignment in the correct position is possible regardless of whether the blank area is chromed brightly or darkly.

결국, 웨이퍼의 정렬 작업성을 향상시킴으로서 웨이퍼 엣지의 비선택 가공 효과를 극대화시킬 수 있다.As a result, it is possible to maximize the non-selective effect of the wafer edge by improving the workability of the wafer alignment.

Claims (2)

웨이퍼 엣지를 비선택하여 가공시킬 때 웨이퍼와 포토마스크를 정렬시킬 수 있는 표시 수단을 구비한 웨이퍼 정렬 표시 장치에 있어서,A wafer alignment display device comprising display means capable of aligning a wafer and a photomask when the wafer edge is processed without selection. 상기 표시 수단은 포토마스크의 블랭크부 중 웨이퍼 플랫 죤과 대응하는 위치의 패턴부 경계선으로부터 X, Y 축 방향으로 구획된 격자형의 라인 표시부와,The display means includes a lattice line display portion partitioned in the X and Y axis directions from a pattern portion boundary line at a position corresponding to the wafer flat zone among the blank portions of the photomask; 각 라인별로 구획된 공간에 표기된 숫자 표시부로 이루어진 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 표시 장치.Wafer alignment display device, characterized in that consisting of a number display unit in the space partitioned for each line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 표시 수단은 포토마스크 제조시 인서트 패턴형으로 삽입되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 표시 장치.And the display means is inserted in the shape of an insert pattern when the photomask is manufactured.
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