KR100245651B1 - 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치 - Google Patents
반도체 웨이퍼 보트의 이송장치 Download PDFInfo
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Abstract
반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼가 적재되는 보트를 수직형 공정튜브의 하측 외부에서 상측 내부로 이송시키는 이송부가 구비된 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 있어서, 상기 이송부는, 소정의 직경을 갖는 원통형의 하단 및 상기 하단보다 직경이 작으며, 상기 하단에 삽입인출되는 상단으로 구성되는 적어도 이단 이상의 다단형 선형부재, 상기 상단의 최상단의 단부에 상기 보트의 안착이 용이하도록 형성된 판상구조체 및 상기 상단이 상기 하단으로부터 인출되도록 상기 선형부재의 하부로 유압을 가하는 유압부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 이송장치가 설비에서 차지하는 공간을 축소시켜 생산성을 극대화시켰고, 또한 최근의 추세에 맞게 이용할 수 있는 효과가 있다.
Description
본 발명은 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 적어도 이단 이상의 다단형 선형부재로 이루어지는 이송부를 구비하여 전체 설비의 크기를 최소화시킬 수 있도록 개선시킨 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 관한 것이다.
통상, 반도체 제조에서는 불순물을 웨이퍼(Wafer) 내로 침투시키는 확산공정 또는 웨이퍼 상에 소정의 막을 형성하는 화학기상증착공정 등을 수행하기 위하여 소정온도의 공정분위기에서 가스(Gas)를 유입시켜 공정을 수행하는 공정튜브(Process Tube)가 이용된다.
그리고 이러한 공정튜브에서의 공정은 웨이퍼를 적재한 보트(Boat)를 이용하고, 공정수행시 보트를 공정튜브로 이송시키기 위해서 이송장치를 이용하는 것이 일반적이다.
도1 및 도2는 종래의 반도체 웨이퍼 적재용 보트의 이송장치를 나타내는 모식도이다.
먼저, 도1 및 도2는 공정튜브(10)의 외벽에 소정온도의 공정분위기를 형성시키는 하부히터(12) 및 상부히터(14), 그리고 공정튜브(10)의 상단부에 가스가 유입되는 가스유입부(16)가 구비되어 있다.
그리고 웨이퍼가 적재되는 보트(18)를 공정튜브(10)의 내부로 이송시키는 이송부(20)가 구비되어 있다.
또한 종래의 이송부(20)는 고정식 엘리베이터(Elevator)구조로 이루어지고, 그 상단부에 공정수행시 공정튜브(10)를 외부와 밀폐시키는 밀폐부(24)가 구비되어 있다.
이러한 구성으로 이루어진 종래의 이송장치는 공정수행시 이송부(20)의 상단부에 보트(18)를 안착시킨 후 밀폐부(24)가 공정튜브(10)를 밀폐시키는 부분까지 이송부(20)를 수직상승시킨다.
이어서 도2와 같이 이송부(20)는 보트(18)가 공정튜브(10)의 하단에서 상단으로 이송될 수 있도록 수직상승하여 이송이 이루어진다.
여기서 종래의 이송부(20)는 전체 축의 이동으로 이송을 수행하는 고정식 엘리베이트구조로 이루어져 있어 그 축의 길이 만큼의 공간을 설비에서 별도로 차지하고 있었다.
또한 단일축으로 이루져서 보트의 이송시 로드(Load)가 많이 걸리기 때문에 대구경화되어가는 최근의 웨이퍼를 적재하는 보트의 이송에는 부적합하였다.
그리고 설비공간의 확대로 설비에서 발생되는 파티클(Particle)의 개수도 많아져서 오염원의 관리도 문제점으로 지적되었다.
따라서 종래의 이송장치는 설비의 안정적인 관리 및 오염원의 관리가 힘들어 생산성을 저하시켰고, 또한 최근의 대구경화되어가는 웨이퍼의 이송에는 부적합한 문제점들이 있었다.
본 발명의 목적은, 설비에서 이송장치가 차지하는 공간을 축소시켜 상기의 문제점들을 해결하기 위한 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치를 제공하는 데 있다.
도1 및 도2는 종래의 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치를 나타내는 모식도이다.
도3 및 도4는 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치의 실시예를 나타내는 모식도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 30 ; 공정튜브 12, 32 : 하부히터
14, 34 : 상부히터 16, 36 : 가스유입부
18, 38 : 보트 20, 40 : 이송부
24, 44 : 밀폐부 42 : 유압부
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치는, 웨이퍼가 적재되는 보트를 수직형 공정튜브의 하측 외부에서 상측 내부로 이송시키는 이송부가 구비된 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 있어서, 상기 이송부는, 소정의 직경을 갖는 원통형의 하단 및 상기 하단보다 직경이 작으며, 상기 하단에 삽입인출되는 상단으로 구성되는 적어도 이단 이상의 다단형 선형부재, 상기 상단의 최상단의 단부에 상기 보트의 안착이 용이하도록 형성된 판상구조체 및 상기 상단이 상기 하단으로부터 인출되도록 상기 선형부재의 하부로 유압을 가하는 유압부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 선형부재는 봉형구조로 이루어지는 것이 효율적이다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도3 및 도4는 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치의 실시예를 나타내는 모식도이다.
먼저, 도3 및 도4는 공정튜브(30)의 외벽에 소정온도의 공정분위기를 형성시키는 하부히터(32) 및 상부히터(34), 그리고 공정튜브(30)의 상단부에 가스가 유입되는 가스유입부(36)가 구비되어 있다.
또한 공정튜브(30)의 내부로 웨이퍼가 적재되는 보트(38)를 이송시키는 이송부(40) 및 유압부(42)가 구비되어 있고, 공정수행시 공정튜브(30)를 외부와 밀폐시키는 밀폐부(44)가 구비되어 있다.
본 발명에서 이송부(40)는 안테나형상으로 이루어짐으로서 안테나형상의 이송부(40)의 전체길이는 유압부(42)의 유압에 의해서 그 길이가 변화될 수 있도록 되어 있다. 즉, 상기 이송부(40)는 소정의 직경을 갖는 원통형의 하단 및 상기 하단보다 직경이 작으며, 상기 하단에서 인출되는 상단으로 구성되는 적어도 이단 이상의 다단형 선형부재가 구비되어 상기 상단이 하단으로부터 유압부(42)의 유압에 의해서 인출되도록 되어 있는 것이다.
그리고, 상기 이송부(40)의 상단의 최상단의 단부에 보트(38)의 안착이 용이하도록 판상구조체(넘버링되지 않음)가 형성되어 있다.
전술한 구성에 의해 본 발명의 실시예에 대한 작용 및 효과에 대하여 설명한다.
먼저, 이송부(40)는 웨이퍼의 적재가 이루어진 보트(38)를 그 상단의 판상구조체에 안착시킨 후 밀페부(44)가 공정튜브(30)를 밀폐시키는 부분, 즉 공정튜브(30)의 입구 부분까지만으로 수직상승한다.
그리고 도4와 같이 이송부(40)는 각각으로 고정지지되는 하단에 삽입되어 있는 상단들이 유압부(42)의 유압에 의해 인출되어 보트(38)를 공정튜브(30)의 하단에서 상단으로 이송시킨다.
여기서 실시예는 4단으로 이루어지는 이송부(40)로서 봉으로 형성하여 이용하고, 이송부(40)의 최상단의 단부는 판상구조로 형성하여 보트(38)의 안착을 용이하게 한다.
즉, 고정지지되는 최하단봉으로부터 각각의 하단봉에 각각 삽입되어 있는 상단봉들이 유압에 의해 하나 하나씩 인출되어 보트(38)를 공정튜브(30)의 상단으로 이송시키는 것이다.
이렇게 상단봉이 하단봉에서 삽입인출되어 이송이 이루어지는 본 발명의 이송장치는 설비에서 차지하는 공간을 축소시킬 수 있다.
즉, 실시예와 같이 4단의 봉으로 이루어지는 이송부(40)를 구비한 이송장치는 최하단봉의 길이정도의 공간을 확보하면 되므로 이송장치가 설비에서 차지하는 공간은 동일한 공정이 수행되는 종래의 설비와 비교할 때 약 25% 정도의 공간으로도 설치가 이루어진다.
여기서 설비의 축소로 인해 설비제조단가를 절감할 수 있고, 설비에서 발생되는 파티클의 개수를 감소하여 오염원의 관리가 용이해지는 효과까지도 얻을 수 있다.
또한 보트의 이송시 다단형으로 이루어지는 각각의 봉들에 로드를 분산시킬 수 있어 대구경화되어가는 최근의 웨이퍼를 적재하는 보트의 이송에도 적합하다.
그래서 본 발명은 이송장치가 설비에서 차지하는 공간을 축소할 수 있어 설비의 안정적인 관리를 가능하게 하고, 설비에서 발생되는 파티클의 개수도 감소시키는 한편, 여러 가지 부수적인 효과들도 얻을 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 이송장치가 설비에서 차지하는 공간을 축소시켜 생산성을 극대화시켰고, 또한 최근의 추세에 맞게 이용할 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (4)
- (정정) 웨이퍼가 적재되는 보트를 수직형 공정튜브의 하측 외부에서 상측 내부로 이송시키는 이송부가 구비된 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 있어서,상기 이송부는,소정의 직경을 갖는 원통형의 하단 및 상기 하단보다 직경이 작으며, 상기 하단에 삽입인출되는 상단으로 구성되는 적어도 이단 이상의 다단형 선형부재;상기 상단의 최상단의 단부에 상기 보트의 안착이 용이하도록 형성된 판상구조체; 및상기 상단이 상기 하단으로부터 인출되도록 상기 선형부재의 하부로 유압을 가하는 유압부;를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치.
- (삭제)
- 제 1 항에 있어서,상기 선형부재는 봉형구조로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치.
- (삭제)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019960041510A KR100245651B1 (ko) | 1996-09-21 | 1996-09-21 | 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치 |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019960041510A KR100245651B1 (ko) | 1996-09-21 | 1996-09-21 | 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR19980022382A KR19980022382A (ko) | 1998-07-06 |
KR100245651B1 true KR100245651B1 (ko) | 2000-02-15 |
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Family Applications (1)
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KR1019960041510A KR100245651B1 (ko) | 1996-09-21 | 1996-09-21 | 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치 |
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KR (1) | KR100245651B1 (ko) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR940019721A (ko) * | 1993-02-05 | 1994-09-14 | 쟝-끌로드 비에이으포스 | 6알파, 9알파 - 디플루오르화 스테로이드의 신규 제조 방법 및 중간체 |
-
1996
- 1996-09-21 KR KR1019960041510A patent/KR100245651B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR940019721A (ko) * | 1993-02-05 | 1994-09-14 | 쟝-끌로드 비에이으포스 | 6알파, 9알파 - 디플루오르화 스테로이드의 신규 제조 방법 및 중간체 |
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Publication number | Publication date |
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KR19980022382A (ko) | 1998-07-06 |
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