KR100225724B1 - 음극선관 - Google Patents

Abstract

본 발명은 2개의 대향 배열된 도체 패턴을 갖는 전자총을 포함하는 음극선관에 관한 것이다. 작동시에 전자 비임은 도체 패턴사이에서 이동한다. 종래의 전자총의 전극에 의해 달성되는 전자 - 광학 기능, 즉, 전자 비임을 집중시키고 수렴시키는 것은 2개의 평면 도체 패턴에 의해 달성될 수 있다는 것이 발견되었다. 상기 도체 패턴은 정확히 제조될 수 있고 상호에 대해 정확히 배열될 수 있다. 이것은 복잡한 렌즈 시스템의 제조를 가능하게 한다.

Description

음극선관

제1도는 종래 기술의 음극선관의 단면도.

제2도는 종래 기술의 전자총의 단면도.

제3도는 본 발명의 음극선관의 단면도.

제4도는 본 발명의 음극선관용 전자총의 부분 평면도를 가진 단면도.

제5a도 내지 제5b도는 본 발명에 따른 음극선관용 전자총을 위한 도체 패턴이 제공된 평판의 저면도.

제6a도 내지 제6d도는 도체 스트립사이에 발생된 필드의 효과를 나타내는 도면.

제7a도 내지 제16도는 본 발명의 다른 실시예를 도시하는 도면.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

2 : 진공 엔벨로프 3 : 디스플레이 윈도우

5 : 넥크 10 : 디스플레이 스크린

11 : 굴절 유닛트 6, 131 : 전자총

20 : 공통 전극 24 : 스크린 그리드

132, 133 : 유리판

본 발명은 한 평면에서 연장되는 다수의 전자 비임을 발생시키는 전자총을 포함하는 음극선관에 관한 것이며, 또한 음극선관용 전자총에 관한 것이다. 공지의 음극선관은 전자 비임을 통과시키기 위한 개구가 내부에 제공된 다수의 전극을 갖는 전자총을 포함한다. 작동시에, 전극은 전자 비임에 예로서 가속, 집중, 수렴 또는 발산등의 영향을 주는 전기장을 발생시킨다. 그 목적은 전자총에 의해 발생되는 전자 비임의 형상과 상대 위치를 개량하는 것이다. 이러한 목적을 위해서, 특히 전자 비임에 영향을 주기 위해 사용되는 전기장과 전자 비임을 집중시키기 위한 렌즈 필드(field)는 점점 더 복잡해지고, 점점 증가하는 정확성의 요구를 충족시켜야만 한다. 일반적으로, 전자총의 전극의 수는 증가되고, 전극내의 개구의 형상은 전자총내의 전기장에 대한 요구가 높아짐에 따라 점점 복잡해진다. HDTV(고선명 텔레비젼)과 CMT(칼라 모니터 튜브)를 위한 전기장에 대한 요구는 너무 높아서, 그 요구를 만족시키는 것은 매우 어렵거나 종래의 전자총 구조에서는 높은 비용을 포함한다.

본 발명의 목적은 전자총을 위한 다른 구조를 제공하는 것이다.

이러한 목적을 위하여, 본 발명에 따른 음극선관은, 도체 패턴이 2개의 대향 배열된 표면상에 전자총내에 제공되고 상기 평면에 평행하게 상기 평면 양쪽에 연장되며, 음극선관은 상기 도체 패턴사이에 전기장을 형성하는 수단을 포함하고, 상기 도체 패턴은 작동시에 전기장이 전자비임의 이동 방향으로 또한 상기 평면에 평행한 방향으로 또한 전자 비임 이동 방향에 횡방향으로 변화하도록 형성되는 것을 특징으로 한다.

종래의 전자총에서 이동 방향에 횡방향으로 연장되는 다수의 전극 사이에서 발생되는 전기장에 의해 달성되는 전자 - 광학적 기능, 즉 예로서 전자 비임의 집중, 수렴 또는 발산 또는 가속은 전자 비임의 이동 방향에 평행하게 연장되는 2개의 평면 도체 패턴사이에서 발생되는 전기장에 의해 본 발명에 따른 음극선관 내에서 달성된다. 도체 패턴은 예로서 판과 같은 표면상에 정확히 제공될 수 있다. 도체 패턴은 본 발명의 구성 내에서 전압이 적용될 수 있는 재료로 제작된 패턴을 뜻한다. 상기 재료는 전도체 재료이지만 또한 예로서 저항층 또는 반도체 재료의 형태의 저항 재료일 수 있다. 간단히 하기 위해서 상기한 모든 가능한 것을 도체 재료로 칭한다. 도체 재료는 예로서 전자 비임의 이동 방향에 횡방향으로 연장되는 다수의 연속 스트립의 도체 재료를 포함할 수 있다. 도체 재료의 스트립은 사진 평판 기술에 의해 상호 높은 정확도를 예로서 판과 같은 표면상에 제공될 수 있다. 전압은 예로서 스트립사이에 전기 접속부를 형성하고 표면의 가장자리에 공급 수단을 형성하므로써 간단한 방법으로 이러한 스트립에 적용될 수 있다. 2개의 표면상의 도체 패턴은 상호 매우 정확히 배열될 수 있다. 그러므로써, 작동시에 도체 패턴에 의해 발생될 전기장의 위치와 형상은 매우 정확하고 재현가능한 방법으로 조정될 수 있다. 계산 결과는 도체 패턴사이에 형성된 렌즈 필드가 적어도 공지의 전자총에서와 같은 품질로 될수 있다는 것을 보여주었다. 실험 결과는 계산이 실제와 대응된다는 것을 보여주었다. 본 발명의 다른 이점은 전기장 특히 렌즈 필드의 수와 복잡성이 증가될 수 있다는 것이다. 종래의 전자총에 수용될 수 있는 전극의 수는 제한된다. 다수의 전극이 상호 배열될 수 있는 정확도는 제한되며, 전극은 마이크로포닉스(microphonics)를 배제시키기 위해서 예로서 100 - 300㎛의 두께를 갖는다. 그러나, 이것은 도체 패턴에 아무 제한도 가하지 않는다. 도체 스트립은 예로서 수십 마이크로미터의 작은 크기를 갖는다. 따라서, 렌즈 시스템은 종래의 전자총으로 얻을 수 없는 복잡성을 갖고 구성될 수 있다. 이것은 HDTV에서 매우 중요하다.

한 실시예에서, 도체 패턴은 작동시에 발생된 전기장이 전자 비임이 수렴 또는 발산하게 만들도록 형성된다.

한 실시예에서, 도체 패턴은 작동시에 발생된 전기장이 전자 비임을 전자 비임의 이동 방향(Z - 방향으로 칭한다)에 횡방향인 2개의 방향(X 및 Y - 방향으로 칭한다)으로 집중 시키도록 형성된다.

전자 비임의 적절한 집중을 보장하기 위해서, 도체 패턴은 발생된 전기장이 전자 비임 사이의 거리와 같은 공간 주기로 주기적으로 변하도록 형성된다. 공간 주기는 전기장의 동일 부분사이의 거리를 뜻한다. 다음에는 각각의 전자 비임은 동일 집중을 겪는다. 전자 비임의 비점수치를 개량하기 위해 전자 비임의 집중에 관해서 실시예사이에 작은 차이가 있을 수 있다. 양호하게, 공간 주기의 지수와 도체 패턴 사이의 거리는 0.5 보다 크다. 0.5 보다 작은 지수에 대해서는 전자 비임을 집중시키기에 충분히 강한 4극 필드를 발생시키는 것은 어렵다.

양호하게, 발생된 필드의 주기의 수는 전자 비임의 수를 초과한다. 따라서 가장자리에서의 역효과는 감소될 수 있다.

공간 주기는 전자 이동 방향에서 볼 때 변경될 수 있다. 이것은 전자 비임의 집중, 수렴 또는 발산이 동시에 실현될 수 있게 한다.

본 발명은 또한 한 전자 비임과 전자총내에서 2개의 대향하여 배열된 표면상에 제공된 도체 패턴을 발생시키기 위한 전자총을 포함하는 음극선관에 관한 것이며, 도체 패턴은 전자 비임의 양쪽에서 전자 비임의 이동 방향에 평행한 평면내에서 연장되고, 음극선관은 도체 패턴사이에 전기장을 형성하는 수단을 포함하며, 도체 패턴은 작동시에 전기장이 전자 비임의 이동 방향에서 또한 상기 평면에 평행한 방향으로 또한 전자 비임의 이동 방향에 횡방향으로 변화되도록 형성된다.

본 발명에 따른 음극선관의 실시예는 도체 패턴이 전압이 적용될 수 있는 만곡형 저항기를 갖는 것을 특징으로 한다. 따라서, 공정 단계가 얼마 요구되지 않으며 접촉점도 적다.

이하, 본 발명을 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명한다.

음극선관, 본 실시예에서는 칼라 디스플레이 튜브(1)는 디스플레이윈도우(3)와, 콘부(4)와 넥크(5)로 구성되는 진공 엔벨로프(2)를 포함한다. 넥크(5)내에는 한 평면, 본 실시예에서는 첨부된 도면의 평면인 인라인 평면내에 연장되는 3개의 전자 비임(7,8,9)을 발생시키기 위한 전자총(6)이 제공된다. 디스플레이 스크린(10)은 디스플레이 윈도우 내면에 제공된다. 디스플레이 윈도우(10)는 빨강색, 초록색 및 파랑색을 발하는 다수의 인 원소를 포함한다. 전자 비임(7,8,9)은 디스플레이 스크린(10)으로 가는 도중에 굴절 유닛트(11)에 의해 디스플레이 스크린(10)을 가로질러 굴절되고, 개구(13)를 가진 박판을 포함하며 디스플레이 윈도우(3) 앞에 배열된 칼라 선택 전극(12)을 통과한다. 3개의 전자 비임(7,8,9)은 작은 각도로 교차하고, 각각의 전자 비임은 결국 한가지 색의 인원소에 충돌하도록 칼라 선택 전극의 개구(13)를 통과한다.

제2도는 EP-A-0231964 로부터 공지된 전자총의 단면도이다. 전자총은 3개의 음극(21,22,23)이 내부에 고정된 공통 전극(20)과, 공통 판형 스크린 그리드(24)를 포함한다. 축이 동일 평면내에 있는 3개의 전자 비임(7,8,9)은 그것에 공통한 전극 시스템(25(G3),26(G4))에 의해 집중된다. 전극 시스템(25)은 개방단부가 서로 대향하는 2개의 컵형 전극, 즉, 제1전극(27)과 제2전극(28)을 포함한다. 메인 렌즈는 제1전극 시스템(G3)과 양극인 제2전극 시스템(G4)으로 형성된다. 전극(26)은 한 컵형부(29)와, 바닥에 전자 비임을 통과시키는 개구(31)과 형성된 센터링 부시(30)를 포함한다.

전극(28)에는 전극(26)으로 연장되는 에지(32)가 제공되고, 전극(26)에는 전극(28)으로 연장되는 에지(33)가 제공된다. 개구(38,39,40)는 전자 비임(9,7,8)의 축(35,36,37)에 수직으로 연장되는 리세스부(34)내에 제공된다. 개구(42,43,44)는 중심 전자 비임(7)의 축(36)에 수직으로 연장되는 리세스부(41)에 형성된다. 전극내의 개구는 정확히 형성되어야 하고 또한 전극내에서 서로에 대해 정확히 형성되어야 한다. 연장된 개구(45,46,47)를 갖는 평판 형태인 보조 전극(G_AST)은 메인 렌즈로부터 어떤 거리에 이격되어 제공된다. 전극은 상호 정확히 배열되어야 한다. 전극내의 개구는 높은 정확도로 제조되어야 한다. 렌즈를 형성하는 전기장에 대한 요구사항이 많아질수록 전자총에는 점점 더 복잡한 형상을 갖는 더욱 많은 수의 전극과 보조 전극이 부가된다.

이러한 점에서, 본 명세서에 도시된 전자총은 비교적 간단하다. 어떤 구조는 대략 15개의 전극과 보조 전극을 포함한다. 그러나 HDTV는 전자 비임을 위한 전기장의 추가적 개량을 요구하며, 그것은 종래의 전자총에서는 불가능하거나 약간 가능하며 높은 경비를 포함한다.

본 발명의 목적은 다른 형태의 전자총을 제공하는 것이다. 제3도는 본 발명에 따른 음극선관의 단면도이다. 전자총(131)은 음극(21,22,23)과 전극(20,24)을 포함한다. 전자총은 또한 동일 평면상에 배열된 2개의 유리판(132,133)을 포함한다. 제4도는 전자총(131)의 유리판(132)의 평면도와 음극(21,22,23)과 전극(20,24)의 단면도이다. 작동시에 전자 비임은 유리판(132,133)사이에서 이동한다. 도체 패턴은 유리판상에 제공된다. 음극선관은 도체 패턴에 전위차를 적용하는 수단을 포함한다. 작동시에는 전기장, 렌즈필드 및 가속 피들는 유판사이에 형성된다. 도체 패턴은 예로서 사진 평판 기술에 의해 매우 정확히 제공될 수 있다. 상호에 대해 배열되어야 하는 소자의 수는 현저히 감소되었다.

제5a도는 평판(132)의 저면도이다. 다수의 도체 스트립(141)을 갖는 도체 패턴(134)은 상기 평판상에 제공된다. 대응 도체 패턴은 다른 평판(133)상에 제공된다. 스트립은 전자 비임(7,8,9)에 횡방향으로 또한 전자 비임(7,8,9)의 평면에서 볼때(따라서 도체 패턴이 연장되는 평면에 대략 평행하게(상기 방향은 제5a도에 I - I 선으로 표시되고 제5b도에서 X방향으로 표시된다)) 대략 주기적으로 변한다. 공간 주기는 대략 전자 비임사이의 거리와 같다. 그 결과, 각각의 전자 비임은 대략 동일한 전기장에 놓이고, 전자 비임사이의 전기장은 전자 비임 중앙의 전기장과는 다르다.

제5b도는 판의 상세사항을 도시한다. 상기 도면에는 다수의 등전위선(142)이 도시되었다. 전위(볼트 단위)가 표시되었다. 등전위선(142)에 따라 형성된 전기장은 전자 이동 방향(Z - 방향)에서, Z - 방향에 횡방향에서 또한 전자 비임을 통하는 평면에 평행한 방향(X - 방향)에서 변한다. 그러한 전위장의 집중 작용은 제6a도 내지 제6d도에 설명된다. 전자 비임의 이동 방향(7)은 Z - 방향으로 표시되었다. 등전위선 주위에서 도체 영역(141)은 판의 표면상에 제공된다. 표시된 전위가 도체 영역(141)에 적용될 때, 표시된 등전위선과 대체로 일치되는 전기장은 판사이에 형성된다. 상기 필드는 전자 비임내의 전자를 Z - 방향으로 가속시키며 전자 비임(7)을 X - 방향에서, 또한 X - 방향과 Z - 방향에 횡방향(이 방향은 이하 Y - 방향으로 지칭된다)에서 집중시킨다.

계산결과는 판사이에 형성되는 렌즈 필드는 종래의 전자총에서와 같은 특성을 갖는 것을 보여주었다. 시험결과는 계산이 실제에 대응됨을 보여 주었다. 형성된 렌즈가 상호에 대해 정확히 배열될 수 있다는(공지된 전자총은 서로의 뒤에 배열된 다수의 렌즈를 갖는다) 상기 이점에 추가하여, 본 발명의 다른 이점은 렌즈 필드의 수가 현저히 증가될 수 있다는 것이다. 전자총내에 수용될 수 있는 전극의 수는 제한되는데, 왜냐하면 다수의 전극이 상호 배열될 수 있는 정확도에 제한이 있고 또한 전극은 마이크로포닉스를 배제하는 특정 두께를 갖기 때문이다. 그러나, 이것은 도체 스트립의 수를 이 경우에 평판인 표면상에서 제한하지 않는다. 따라서, 렌즈 시스템은 종래의 전자총으로 얻을 수 없었던 복잡섭을 갖도록 구성될 수 있다. 이것은 특히 HDTV에 중요하다.

또 다른 이점은 전극에 의해 예비집중이 발생되는 실시예에서 얻어진다. 그러한 예비집중은 양의 구형 수차를 발생시키는데, 즉, 예비집중 렌즈내의 비교적 외부에 위치된 선은 과다하게 굴절되며, 전자 비임의 최외부의 초점이 Z - 방향에서 볼 때 전자 비임의 중앙부의 초점보다 전자 - 광학 렌즈에 보다 가깝게 위치되게 한다. 그러한 양의 구성 수차는 종래의 전자총에서는 보상될 수 없다. 상기 렌즈 오류에 기인하여 예비집중 렌즈의 중앙부만이 사용될 수 있는데, 즉, 전자 비임의 직경은 렌즈 직경보다 현저히 작다. 위에 보인 도체 패턴은 전자 - 광학 렌즈가 음의 구형 수차를 갖도록 발생되게 하는데, 즉, 비교적 외부에 위치된 선이 보다 작은 각도로 굴절된다. 본 발명에 따른 음극선관의 실시예는 음의 구형 수차를 갖는 전자 - 광학 렌즈와 양의 구형 수차를 갖는 전극 렌즈가 작동 동안에 사이에서 형성되는 도체 패턴을 포함한다. 따라서, 상기 두가지 전자 - 광학 렌즈에 의해 발생되는 구형 수차는 적어도 부분적으로 상호 보상한다. 전극 렌즈는 예비집중 렌즈일 수도 있는데, 이 경우에 메인 렌즈는 도체 패턴사이에 형성되며, 또는 전극 렌즈는 메인 렌즈일 수도 있는데, 이 경우에 예비집중 렌즈는 도체 패턴사이에 형성된다. 약간의 구형 수차는 HDTV에 중요하다.

제6a도 내지 제6d도는 스트립 사이에 발생된 전기장의 효과를 도시한다. 이 도면에서, 전자 비임을 따른 방향은 Z - 방향으로 한정되고, 전자 비임과 판에 대한 횡방향은 Y - 방향으로 한정된다. 제6a도는 절연영역(63)으로 분리된 2개의 도체 영역(61, 62)의 측면도이다. 제6b도는 I - I선에 따른 단면도이다. 상기 선은 전자 비임의 이동 방향(Z - 방향)에 평행하게 연장된다. 도체 영역(61, 62)은 평판(64, 65)에 제공된다. 작동시에, 2개의 다른 전위는 영역(61,62)에 적용되어 전위차는 영역(61,62)사이에 적용된다.

이 때문에 전기장이 발생된다. 상기 전기장은 전자 비임(E)을 제6b와 같이 Y - 방향에서 집중시킨다. X - 방향(Y - 방향 및 Z - 방향에 수직인 방향)에서는 빔 단면과 방향이 변경되지 않고 유지된다. 전기장은 X - 방향에서 변화를 받지 않는다. 그러한 배열은 전자 비임이 두 방향, 즉, X - 방향 및 Y - 방향으로 집중될 수 있게 하지 않는다. 제6c도는 4극 렌즈가 형성된 도체 영역의 형상의 개략적 평면도이다. 제6d도는 Ⅱ - Ⅱ선에 따른 단면도이다. 영역(65,66)사이에 형성된 전기장은 빔 단면을 Y - 방향으로 확장시키고 X - 방향에서 감소시킨다. 영역(65,66)사이의 형상과 거리는 X - 방향의 감소가 Y - 방향의 확장을 초과하도록 선택되어야 한다. 전자 비임이 제6a도 및 6b도와 같은 렌즈와 제6c도 및 6d도와 같은 렌즈를 연속하여 통과하면, 비임 단면은 X - 방향 및 Y - 방향으로 감소되는데, 즉, 렌즈의 조합은 대체로 회전 대칭 렌즈로서 작용한다. 8극 필드 및 고차 렌즈 필드가 또한 형성될 수 있다.

상기 렌즈 필드의 적절한 조합은 전자 비임의 원하는 집중을 가능하게 한다. 계산결과는 회전 대칭 렌즈 필드가 생성될 수 있음을 보여주었고, 시험결과는 상기 계산이 실제에 대응되는 것을 보여주었다. 비점수차의 특정 형태, 즉, 전자 비임이 완전히 대칭적으로 집중되지 않는 것은 굴절 필드에 의한 비점수차를 전자총내의 카운터 - 비점수차를 보상하기 위해서 어떤 적용에서는 필요하다. 제7a도는 평판(72) 상에 도체 패턴(71)의 추가적 예를 도시한다. 도체 패턴(71)은 전자 비임에 횡방향에서 볼 때 반복적 서브패턴(74)으로 구성된 다수의 도체 영역(73)을 포함한다. 도체 패턴은 전자 비임 사이의 거리와 대체로 같은 공간 주기(λ)를 갖는 주기성을 갖는다. 그 결과, 발생된 전기장은 대체로 주기적이다. 도체 패턴의 측면이 전자 비임에 효과를 갖는 것을 배제하기 위하여, 서브패턴은 최외 전자 비임 다음까지 연장되는 것이 바람직하다.

이 예에서, 서브패턴(도면에서 괄호 사이의 영역으로 표시됨)은 3개의 비임에 대해 네 번 반복된다. 중심 서브패턴과 최외부 서브패턴 사이에 작은 차이가 있을 수 있는데, 왜냐하면 예로서 어떤 적용에서는 최외부 비임은 중심 비임보다 약간 다르게 집중되기 때문이다. 발생된 필드는 공간 주기를 가진 주기성을 보인다. 제7b도는 전자 비임 사이의 거리와 도체 패턴사이의 거리(h)에 대체로 대응되는 공간 주기(λ)의 지수(λ/h)의 함수로서의 4극 필드의 상대적 강도(Q)를 도시한다. 양호하게, 상기 지수는 0.5보다 크다. 0.5보다 작은 값에 대해서는, 4극 필드의 상대적 강도는 작다. 곡선은 1과 2사이에서 대략 1.5에서 λ/h의 최대치를 보여준다. 양호하게, 상기 지수는 이 범위에 위치된다. 만약에 예로서 전자 비임 사이의 거리가 대략 7㎜라면, 패턴사이의 거리는 양호하게 14㎜보다 작고 양호하게 약 4.7㎜이다.

제8도는 본 발명의 다른 실시예를 도시한다. 이 도면은 서브패턴 사이의 주기 또는 피치가 변화될 수 있음을 보여준다. 그 결과, 비임(7,8,9)은 도면과 같이 서로를 향해 굽혀지지 않는다. 동일한 효과가 제9도와 같이 전자 비임에 대해 패턴을 만곡된 형태로 제공하므로서 얻어질 수 있다. 제9도에서 유리판(90)에는 도체 영역(91)이 제공된다. 이 실시예에서 비임은 영역(92)에서 상호 교차하고 영역(93)에서 서로를 향해 굽혀진다. 이 실시예에서, 발생된 전기장은 전자 비임이 수렴되도록 변화된다.

제10도 및 11도는 본 발명의 또다른 실시예를 도시한다. 이 실시예에서, 제4도의 전극(20,24)은 평면 3극 진공관을 형성하는 도체 영역(101,102,103)을 갖는 평판(100)으로 대치된다. 그 결과로 전자총의 구성에 사용되는 소자의 수는 더욱 감소되었다. 따라서, 이 실시예에서 전극의 일부는 전자 비임에 횡방향으로 연장되는 판상에 구성된다.

본 발명의 범주내에서 여러 가지 변형이 가능한 것은 명백하다. 실시예는 3개의 전자 비임을 발생시키는 전자총을 도시한다. 본 발명은 또한 일열의 전자 비임을 발생시키는 전자총을 갖는 음극선관에 사용될 수도 있다.

제12a도 및 12b도는 그러한 전자총을 도시한다. 제12a도는 부분적인 측면 사시도이다. 제12b도는 단면도이다. 전자 비임(120)은 방출 소자(122)에 의해 방출되고 가속되며, 평판(124,125)상에 위치된 도체 패턴(123)에 의해 경로를 따라 인도된다. 이 실시예에서, 도체 패턴이 제공된 판은 평판이고, 판은 동일 평면에 배열된다. 판은 제13a도 및 13b도와 같이 약간 만곡될 수 있거나, 제14도와 같이 작은 각도를 포함할 수 있다. 13a도 및 13b도에서 판(200,201)은 약간 만곡되었다. 제13a도는 사시측면도이고 제13b도는 단면도이다. 전자 비임(7,8,9)의 위치는 제13b도에 도시되었다. 판은유리 또는 다른 전기 절연 재료 또는 전기 절연 재료의 층으로 코팅된 금속으로부터 제조될 수 있다.

제15도 및 16도는 도체 패턴에 전압을 적용하기 위한 2개의 가능한 구조체를 도시한다. 제15도에서, 만곡형 저항기 래더(ladder)(153)는 다수의 스트립(152)으로 구성된 도체 패턴(151) 다음에 유리판(150)상에 제공된다. 전기 접속부(154)는 만곡형 저항기(153)와 도체 스트립(152)사이에 위치된다. 전압(V₁)은 전압을 전기 접속부에 적용하므로써 상기 만곡형 저항기(153)를 가로질러 적용된다. 그러한 저항층에 가능한 재료는 RuO₂및 In₂O₃이다. 제16도에서 도체 패턴(161)은 특정 저항치를 갖는 만곡층으로 구성되고, 전압(V₂)은 도체 패턴의 시작부와 종료부에 적용된다. 이것은 공정 단계와 접속점이 적게 요구되기 때문에 이점을 갖는다.

발명의 범위내에서, 음극선관은 디스플레이 장치만이 아니고 예로서 전자 마이크로스코프 또는 화상 픽-업 튜브를 뜻하는 것으로 이해된다. 그러한 장치에서 전자 비임은 역시 전자총으로 발생된다.

발명은 인라인 전자총을 갖는 음극선관에 매우 적합하다.

본 실시예는 하나 이상의 전자 비임이 발생되는 전자총을 포함하는 음극선관을 도시한다. 본 발명은 그러한 음극선관에 대단히 적합하지만, 그것에 제한되지는 않는다. 본 발명의 실시예에서, 음극선관은 한 전자 비임을 발생하는 하나 이상의 전자총과, 2개의 대향 표면상에 전자총내에 제공되고 전자 비임의 이동 방향에 평행한 평면에서 연장되는 도체 패턴을 포함할 수 있으며, 음극선관은 또한 작동시에 전기장이 전자 비임의 이동 방향과 상기 평면에 평행한 방향과 또한 전자 비임의 이동 방향에 횡방향으로 변하도록 형성된 도체 패턴 사이에 전기장을 형성하는 수단을 포함한다. 양호하게, 도체 패턴은 작동시에 전기장이 전자 비임은 이동 방향에 횡방향인 2개의 방향으로 집중시키도록 형성된다.

몇가지 추가적 실시예는 다음과 같다.

도시된 실시예에서, 전자총은 도체 패턴이 제공된 대향 면상에 판을 포함한다. 상기 판은 도체 패턴이 제공된 평면을 보여주는 소자로서 간주될 수 있다. 수정예에서 예로서 도체 패턴이 제공된 소자는 다른 형상, 예로서 상호 평면끼리 대향되는 2개의 솔리드 세미실린더 또는 상호 대향하는 평면을 갖는 2개의 다른 부재를 갖는다.

도시된 실시예에서, 전자총은 2개의 판을 포함한다. 그러나 이것은 본 발명의 전자총이 2개의 판만을 포함하는 것으로 제한하지는 않는다. 한 수정예에서, 전자총은 예비 집중을 위하여 사이의 거리가 비교적 큰 도체 패턴을 갖는 한쌍의 판을 포함할 수 있다. 전자 비임의 이동 방향에서 볼 때 전자총의 더 많은 소자가 이 두 쌍의 판 사이에 배열될 수 있다.

도시된 실시예에서 판은 평면이다. 수정예에서, 판은 전자이동 방향에서 볼 때 스텝을 보이지 않는다. 이것으로 인하여 판사이의 거리가 단계적으로 변한다. 이것은 예로서 앞에서 언급한 예비집중 및 메인 렌즈 도체 패턴이 한쌍의 판상에 제공되게 한다.

명확성을 위해서, 판은 실시예에서 2개의 별도의 도체 패턴 지지 소자로서 도시되었다. 발명의 수정예에서 판은 보다 큰 유닛트 일부를 형성할 수도 있다. 판은 예로서 측벽에 의해 상호 접속될 수 있다. 이것은 구조의 강도를 증가시키고 파단 또는 마이크로포닉스의 위험을 감소시킨다. 2개의 판상의 도체 패턴을 측벽을 상호 접속시킬 수 있으며, 따라서 전기 접속의 수를 감소시킬 수 있다. 측벽은 예로서 판에 횡방향으로 연장될 수 있고 한 판으로부터 다른 판으로 유연한 원호의 형태로 연장된다. 도체 패턴은 측벽을 통해서 서로 혼합될 수 있다.

Claims (13)

1. 한 평면내에서 연장되는 다수의 전자 비임을 발생시키는 전자총을 포함하는 음극선관에 있어서, 도체 패턴사이에 전기장을 형성하는 수단을 포함하고, 상기 도체 패턴은 전자총내에 2개의 대향 배열된 표면상에 제공되며, 상기 평면에 대체로 평행하게 그 양면에서 연장되고, 또한 작동시에 전기장이 전자 비임의 이동 방향과 상기 평면에 평행한 방향과 전자 비임의 이동 방향에 횡방향으로 변하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관.
2. 제1항에 있어서, 상기 도체 패턴은 작동시에 전기장이 전자 비임을 수렴 또는 발산하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관.
3. 제1항에 있어서, 상기 도체 패턴은 작동시에 전기장이 전자 비임을 전자 비임의 이동 방향에 횡방향인 2개의 방향으로 집중 시키도록 형성된 것을 특징으로 하는 음극선관.
4. 제1항에 있어서, 상기 도체 패턴은 발생된 전기장이 전자 비임사이의 거리와 대체로 같은 공간 주기로 대략 주기적으로 변하도록 형성된 것을 특징으로 하는 음극선관.
5. 제4항에 있어서, 상기 공간 주기와 도체 패턴사이의 거리 지수는 0.5보다 큰 것을 특징으로 하는 음극선관.
6. 제4항에 있어서, 상기 도체 패턴은 발생된 필드가 전자 비임의 수보다 많은 주기를 포함하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관.
7. 제4항에 있어서, 상기 도체 패턴은 전자 비임의 이동 방향에서 볼 때 공간 주기가 변하도록 형성된 것을 특징으로 하는 음극선관.
8. 한 전자 비임을 발생시키는 전자총을 포함하는 음극선관에 있어서, 도체 패턴사이에 전기장을 형성하는 수단을 포함하고, 상기 도체 패턴은 전자총내에 2개의 대향 배열된 표면상에 제공되며, 전자 비임의 양쪽에서 전자 비임의 이동 방향에 평행한 평면에서 연장되고, 또한 작동시에 전기장이 전자 비임의 이동 방향과 상기 평면에 평행한 방향과 전자 비임의 이동 방향에 횡방향으로 변하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관.
9. 제8항에 있어서, 상기 도체 패턴은 작동시에 전기장이 전자 비임을 전자 비임의 이동 방향에 횡방향인 2개의 방향으로 집중시키도록 형성된 것을 특징으로 하는 음극선관.
10. 제1항에 있어서, 상기 도체 패턴은 다수의 도체 재료의 만곡 스트립을 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
11. 제1항에 있어서, 상기 도체 패턴은 전압이 인가될 수 있는 만곡형 저항기를 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
12. 제1항에 있어서, 상기 만곡형 저항기는 도체 패턴 다음에 제공되고, 전기 접속부는 도체 패턴과 만곡형 저항기 사이에서 연장되고 전기 전압은 상기 만곡형 저항기에 적용되는 것을 특징으로 하는 음극선관.
13. 제1항에서 청구된 음극선관에 사용하기 적합한 것을 특징으로 하는 전자총.