KR100212166B1 - Coating apparatus for plane substrate with two sputter cathode - Google Patents

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KR100212166B1 KR1019960027713A KR19960027713A KR100212166B1 KR 100212166 B1 KR100212166 B1 KR 100212166B1 KR 1019960027713 A KR1019960027713 A KR 1019960027713A KR 19960027713 A KR19960027713 A KR 19960027713A KR 100212166 B1 KR100212166 B1 KR 100212166B1
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슈톨렌베르크 요한네스
로이스 페터
크레트슈머 칼-하인츠
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카. 벨러디크, 아. 콜베크
발처스 프로제스 시스템 게엠베하
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Abstract

진공가능한 공통의 코팅챔버(6)내에 나란히 배치되고 그 표적(7, 8)은 기층(3)의 이송면(9)에 평행한 평면에 유지되고 동일한 재료로 구성된 바람직하게는 평면 마그네트론 타입의 2개의 스푸터 캐소드(4, 5)를 갖추고 있고, 소정의 처리가스를 상응하는 표적(7 및 8)범위내로 이동시킬수 있는 가스입력관수기(10, 11)가 각각의 캐소드(4, 5)마다 구비된 평면기층(3)을 연속처리로 코팅하기 위한 장치에 있어서, 표적(7, 8)바로밑의 공간 또는 구역(12 및 13)이 각각 통모양의 블라인더(14, 15)에 의해 둘러싸여지고, 블라인더(14, 15)는 베이스부분(14', 15')을 형성하는 부분에 각각 유동입자를 한정하는 개구부(16, 17)를 구비하고 있고, 2개의 블라인더(14, 15) 각각은 표적면에 수직으로 연장된 그측벽(14 및15)에 리세스(18, 19)또는 일련의 보어를 구비하고 이들 리세스는 상응하는 가스관수기(10 및 11)의 출구개구부를 향해 각각 정렬되어 있다.The targets 7, 8 are arranged side by side in a common coating chamber 6 capable of vacuum and the targets 7, 8 are kept in a plane parallel to the conveying surface 9 of the base layer 3 and are preferably of the planar magnetron type 2 composed of the same material. Gas input irrigators 10 and 11, each having four sputtering cathodes 4 and 5, capable of moving a predetermined process gas within a corresponding target 7 and 8 range, for each cathode 4 and 5, respectively. In the apparatus for coating the provided planar base layer 3 in a continuous process, the spaces or zones 12 and 13 immediately below the targets 7 and 8 are surrounded by cylindrical blinds 14 and 15, respectively. The blinds 14 and 15 have openings 16 and 17 respectively defining flow particles in portions forming the base portions 14 'and 15', and each of the two blinders 14 and 15 has a target. The side walls 14 and 15 extending perpendicular to the face are provided with recesses 18, 19 or a series of bores, the recesses correspondingly. Are aligned toward the outlet openings of the gas pipes 10 and 11, respectively.

Description

2개의 스푸터 캐소드를 갖춘 평면기층의 코팅장치Flat base coating system with two sputter cathodes

제1도는 장치를 부분적으로 종단면으로 도시한 측면도.1 is a side view of the device partially in longitudinal section;

제2도는 제1도에 따르는 가스관수기의 평면도.2 is a plan view of the gas irrigation system according to FIG.

제3도는 2층 패킷(packet)을 도표로 나타낸 도면.3 is a diagram illustrating a two-layer packet.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 기층유지부 2 : 캡부분1: Base holding part 2: Cap part

3 : 평면기층 4, 5 : 캐소드3: flat base layer 4, 5: cathode

6 : 코팅챔버 7, 8 : 표적6: coating chamber 7, 8: target

9 : 이송면 10, 11 : 가스관수기9: transfer surface 10, 11: gas irrigation

12, 13 : 공간, 구역 14, 15 : 블라인더12, 13: space, zone 14, 15: blinder

16, 17 : 개구부 18, 19 : 리세스16, 17: opening 18, 19: recess

21, 22 : 판, 태브 23 : 링크21, 22: plate, tab 23: link

24 : 가스연결부 25, 25', 25, 26, 26', 26 : 가스유출노즐24: gas connection portion 25, 25 ', 25, 26, 26', 26: gas outflow nozzle

본 발명은 진공가능한 공통의 코팅챔버내에 나란히 배치되고 표적이 기층의 이송면에 평행한 평면에 유지되고 동일한 재료로 구성된 바람직하게는 평면 마그네트론 타입의 2개의 스퍼터 캐소드를 갖추고, 각각의 처리가스를 상응하는 표적범위내로 이동시킬수 있는 가스관수기가 각각의 캐소드마다 구비되고, 여기에서 처리가스는 반응가스, 일반적으로 산소와 불활성가스, 일반적으로 아르곤으로 이루어져 있고, 가스저장탱크에서 가스관수기로의 제어된 가스유동을 가능하게 하는 가스공급관의 밸브를 구비하여 평면기층, 예컨대 평면 투사막용 유리시트를 연속처리로 코팅하기 위한 장치에 관한 것이다.The present invention comprises two sputter cathodes, preferably of planar magnetron type, arranged side by side in a common vacuum-capable coating chamber, the target being held in a plane parallel to the transport surface of the substrate and made of the same material, each processing gas corresponding to A gas irrigator capable of moving within the target range is provided for each cathode, wherein the process gas consists of a reaction gas, typically oxygen and an inert gas, typically argon, and controlled gas from the gas storage tank to the gas irrigation. An apparatus for coating a flat base layer, for example, a glass sheet for a flat projection film, by a continuous process, comprising a valve of a gas supply pipe enabling flow.

이러한 장치로서 다음의 타입(EP 0 219 273 B1)이 공지되어 있고, 여기에서는 진공챔버에 여러개의 스퍼터 캐소드가 연이어 배치되어 있고, 여기에서 기층은 코팅할 목적으로 모든 캐소드를 차례로 통과하고 그리고 복수층 구조를 갖추고 있다. 스퍼터 캐소드는 상이한 소스에서 유출된 유동가스에 의해 코팅구역이 세척되기 때문에 금속층 뿐만아니라 산화물층도 기층에 형성될수 있게 되어 있는 평면 마그네트론 타입이다.As such an apparatus the following type (EP 0 219 273 B1) is known, in which several sputter cathodes are arranged successively in a vacuum chamber, in which the substrate passes through all the cathodes in turn for the purpose of coating and in multiple layers. I have a structure. Sputter cathodes are of the planar magnetron type, which allows not only the metal layer but also the oxide layer to be formed on the substrate because the coating zone is cleaned by the flowing gas from different sources.

또한 유사한 장치가 US 3 945 903호에 기술되어 있는데, 이것은 위로부터는 캐소드열의 시작부와 끝부에서 그리고 아래로부터는 중앙캐소드의 영역에서 유동가스가 소스로부터 공정챔버로 유입될수 있고 그리고 표적이 블라인더 케이스에 의해 둘러싸인다는 점에서 상이하다.A similar device is also described in US 3 945 903, which allows the flowing gas to enter the process chamber from the source at the beginning and end of the cathode row from above and from the region of the central cathode from below and the target to the blinder case. It is different in that it is surrounded by.

또한 공정챔버를 통해 이송된 공작물의 코팅과 동시에 공작물 또는 테스트 기층상에 형성되는 박층의 두께를 측정하기 위한 설비가 공지되어 있고(EP 0 411 359 A2호), 여기에서 두게 측정이 투사반응, 반사반응 또는 저항반응을 검출함에 의하거나 또는 박층의 기계적인 측정에 이해 이루어지고, 분무표적을 구비하는 여러개의 캐소드 설비가 연이어 구비되고, 코팅재료의 유동 통과를 위한 중앙 개구옆에 각각 추가적인 창문형태의 리세스를 유동재료 영역에 구비하고 있는 블라인더들이 표적과 공작물 사이에 유지되고, 이 리세스가 기층 이송장치를 가로질러 서로 편위되어 배치되어 캐소드 설비를 통과하여 이송된 공작물 또는 특정한 테스트기층상에 나란히 놓여진 테스트 스트립을 형성시키고, 테스트 스트립은 기층 또는 공작물에 형성된 층패킷의 각각의 층에 상응하게 되어있다There is also known a facility for measuring the thickness of a thin layer formed on a workpiece or test substrate simultaneously with the coating of the workpiece transported through the process chamber (EP 0 411 359 A2), where the measurement is a projection reaction, reflection By means of detecting reactions or resistance reactions or by understanding mechanical measurements of thin layers, several cathode installations with spray targets are provided in series, each with an additional window beside the central opening for the flow of coating material. Blinders with recesses in the fluidized material area are held between the target and the workpiece, the recesses being arranged opposite each other across the substrate feeder and placed side by side on the workpiece or a particular test substrate conveyed through the cathode installation. A test strip is formed, and the test strip is formed of the layer packet formed on the substrate or the workpiece. It is in correspondence to each of the layers

이러한 공지된 설비에서는 모두 불활성가스 및 반응가스를 위한 입구가 구비되고, 하지만 이 가스는 전체공정챔버내에 그리고 차례로 배치된 양 캐소드의 표적 바로 앞에서 블라인더에 의해 둘러싸인 공간내에 균일하게 분배된다.All of these known installations are equipped with inlets for inert and reactive gases, but this gas is uniformly distributed in the overall process chamber and in the space surrounded by the blinder just before the targets of both cathodes arranged in turn.

마지막으로 전기적 절연물질, 예컨대 이산화규소로 반응적 코팅을 하기 위한 장치가 이미 제안되어있고(US-PS 5,169,509), 이것은 진공가능한 코팅챔버에 배치된 자석을 둘러싼 캐소드와 연결된 교류원으로 구성되고, 이 캐소드는 분무될 표적과 전기적으로 함께 작용하고 그 표적의 분무 입자는 기층상에 코팅되고, 코팅챔버에는 처리가스 및 반응 가스, 예컨대 아르곤 및 산소가 유입될수 있고, 교류원, 바람직하게 교류변환기의 2차 코일의 2개의 무접지 출구가 표적을 지지하는 캐소드 바람직하게는 마그네트론 캐소드와 연결되고, 코팅챔버에 나란히 놓여진 양 캐소드는 대향하여 놓여진 기층에 대해 대략 동일한 공간 간격을 가진 플라즈마실내에 구비된다.Finally, a device for reactive coating with electrically insulating materials such as silicon dioxide has already been proposed (US-PS 5,169,509), which consists of an alternating current source connected to a cathode surrounding a magnet disposed in a vacuumable coating chamber, The cathode works together with the target to be sprayed and the spray particles of the target are coated on the substrate, and the processing chamber and the reactant gases, such as argon and oxygen, can be introduced into the coating chamber, the source of the alternating current, preferably 2 Two ungrounded outlets of the secondary coil are connected to the cathode supporting the target, preferably the magnetron cathode, and both cathodes placed side by side in the coating chamber are provided in the plasma chamber with approximately equal spacing to the oppositely placed substrate.

양 캐소드의 표적을 둘러싼 공통 블라인더는 그 측벽에 리세스를 구비하기 때문에 양 캐소드는 각각의 가스관수기와 함께 작용하고 이 관수기를 통해 처리가스는 블라인더 또는 블라인더 케이스에 의해 둘러싸인 구역에 유입될수 있다.Since the common blinder surrounding the target of both cathodes has a recess on its side wall, both cathodes work with each gas irrigation through which the process gas can enter the area enclosed by the blinder or blind case.

공지된 장치의 중대한 단점은 유동가스의 혼합을 피할수 없어서 층품질 및 층두께가 협소경계내에 유지될수 없다는 점에 있다.A significant disadvantage of the known apparatus is that mixing of the flowing gas cannot be avoided so that bed quality and bed thickness cannot be maintained in a narrow boundary.

본 발명의 목적은 금속층 및 금속산화물층 그리고 두 물질로 이루어진 중간층 또는 변이층으로 구성된 복수의 층을 기층상에 형성하기에 적합하게된 장치를 제공하여 상기 문제점을 해결하는 것이고, 여기에서 층두께, 층합성 및 층동질성은 가능한 한 협소 경계범위내에서, 특히 유동가스를 통해 제어될수 있어야 한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above problems by providing an apparatus adapted to form a plurality of layers consisting of a metal layer and a metal oxide layer and an intermediate layer or a transition layer composed of two materials on a base layer, wherein the layer thickness, The bed synthesis and bed homogeneity should be able to be controlled as far as possible within the narrow boundary, in particular through the flowing gas.

이러한 목적은 본 발명에 따라 바로 표적하부의 구역이 각각 통모양의 블라인더 또는 블라인더 케이스에 의해 구획지어짐에 의해 해결되고, 여기에서 블라인더는 그 베이스부분을 형성하는 부분에 각각 표적으로부터 유동입자를 관통시켜 평면 이동기층 쪽으로 이동시키는 개구부를 구비하고 있고, 2개의 블라인더 각각은 표적면에 수직으로 연장된 측벽에 리세스 또는 연속된 구멍을 구비하고 이러한 리세스 또는 연속된 구멍은 상응하는 가스관수기의 유출노즐를 향해 정렬되어 있다.This object is solved in accordance with the invention by the zone immediately below the target being respectively partitioned by a cylindrical blind or a blinder case, where the blinder penetrates the fluid particles from the target, respectively, in the portion forming its base portion. And two openings each having recesses or contiguous holes in the sidewalls extending perpendicular to the target surface, the recesses or contiguous holes having an outlet for the corresponding gas irrigation. Aligned toward the nozzle.

바람직하게 가스관수기는 통모양의 블라인더를 적어도 부분적으로 둘러싼 관으로 형성되어 있고, 이 관은 블라인더의 측벽에 있는 리세스에 대향하게 놓여진 관의 섹션상에 유출노즐을 갖추고 있고, 이 유출노즐은 블라인더로 둘러싸인 공간내로 유동가스가 직접 유입될수 있게 한다.Preferably the gas irrigation is formed by a tube at least partially surrounding the tubular blinder, the tube having an outlet nozzle on a section of the tube placed opposite the recess in the side wall of the blinder, the outlet nozzle being a blinder. It allows the flowing gas to flow directly into the space surrounded by the furnace.

유익하게 각각의 가스관수기는 3개의 관으로 구성되고, 이들 관은 대략 U자 형태로 배치되고 그리고 3개의 관들중 중앙 관에는 처리가스를 위한 유출노즐이 구비되고, 유출노즐을 구비하는 양 가스관수기의 중앙 관은 통모양의 양 블라인더의 서로 다른쪽으로 향한 측면상에 배치된다.Advantageously each gas irrigation system consists of three tubes, these tubes being arranged in a substantially U-shape and the central tube of the three tubes is provided with an outlet nozzle for the process gas, and both gas pipelines with an outlet nozzle. The central tube of is disposed on the side facing each other of the cylindrical both blinds.

바람직한 실시형태에서 통모양의 블라인더의 측벽에 구비된 리세스는 태브모양의 판에 의해 덮혀지고, 이 판은 단부에서 측벽과 견고히 결합되고 그리고 그 단부로부터 블라인더 공간내로 경사지게 돌출되어 있다.In a preferred embodiment a recess provided in the side wall of the cylindrical blinder is covered by a tabbed plate which is firmly engaged with the side wall at the end and protrudes obliquely into the blinder space from the end.

본 발명은 상이한 실시형태를 최대한 허용하고, 그중 하나가 첨부된 도면에 의해 보다 상세히 기술된다.The invention allows for the best of the different embodiments, one of which is described in more detail by the accompanying drawings.

제1도에 도시한 바와같이, 양 스프터 캐소드(4, 5)는, 화살표(A)방향으로 움직이는 기층 운반장치(1) 바로 위에서 이 위에 놓여진 기층(3)과 함께 표적(7, 8)이 정렬되도록 더 이상 상세히 도시되지 않은 진공챔버의 캡부분(2)내에 설치된다. 양 캐소드(4, 5)의 하면은 장방형 평면을 가진 통모양의 블라인더(14, 15)와 견고히 나사결합된다. 블라인더(14, 15)는 그 베이스부분(14', 15')에 개구부(16, 17)를 구비하고, 이 개구부는 표적(7, 8)으로부터 유동입자를 화살표 방향으로 움직이는 평면기층(3)쪽으로 관통할수 있게 한다. 양 블라인더(14, 15) 각각은 U 자형으로 휘어진 관섹션으로 각각 구성된 가스관수기(10, 11)에 의해 둘러싸이고, 각각의 중앙관(10)( 및 11, 더 상세히는 도시안됨)은 기층이동방향(A)으로 구비된 최초 및 최후 측벽부분(14 및 15)과 평행하게 배치된다. 2개의 가스관수기 (제2도)의 중앙관(10, 11) 각각은 여러개의 유출노즐(25, 25', 25 및 26, 26', 26, ...)을 영역(B)에서 구비하고 이 유출노즐 모두는 U자형의 관설비의 중앙 관(10)의 내측에 배치된다. 유출노즐(25, 25', 25, ...)은 구멍 또는 리세스(18, 19)쪽으로 정렬되어 있고 이 리세스는 통모양의 블라인더(14, 15)의 측벽부분(14, 15)에서 절개되어 있어서 노즐(25, 25', 25 및 26, 26', 26)로부터 유출된 가스가 양블라인더(14, 15)에 의해 에워싸여진 표적(7,8) 바로밑의 양 공간 또는 구역(12, 13)으로 직접 유입된다.As shown in FIG. 1, both sputter cathodes 4 and 5, together with the base 3 placed thereon just above the base carrier 1 moving in the direction of the arrow A, targets 7 and 8; This is installed in the cap part 2 of the vacuum chamber, which is no longer shown in detail so that it is aligned. The lower surface of both cathodes 4, 5 is firmly screwed into the cylindrical blinds 14, 15 having a rectangular plane. The blinds 14, 15 have openings 16, 17 in their base portions 14 ′, 15 ′, which are planar bases 3 which move fluid particles from the targets 7, 8 in the direction of the arrows. Allow it to penetrate toward Both blinders 14 and 15 are each surrounded by gas irrigation units 10 and 11 each consisting of a tube section bent in a U-shape, and each central tube 10 (and 11, not shown in more detail) in the direction of substrate movement. It is arranged in parallel with the first and last sidewall portions 14 and 15 provided with (A). Each of the central tubes 10, 11 of the two gas irrigation pipes (FIG. 2) has several outlet nozzles 25, 25 ', 25 and 26, 26', 26, ... in zone B and All of the outflow nozzles are arranged inside the central pipe 10 of the U-shaped pipe. Outlet nozzles 25, 25 ′, 25,... Are aligned toward holes or recesses 18, 19, which recess in side wall portions 14, 15 of cylindrical blinders 14, 15. Both spaces or zones 12 underneath the targets 7, 8, which are incised so that the gas flowing out of the nozzles 25, 25 ′, 25 and 26, 26 ′, 26 is surrounded by the double blinds 14, 15. , 13) directly.

예컨대 양 캐소드(4, 5)에 크롬으로 이루어진 표적(7, 8)이 설치되고 그리고 가스관수기 (11)를 통해 불활성가스가 유입되고 그리고 다른 가스관수기(10)를 통해 반응가스가 유입됨과 동시에 기층이 화살표방향(A)으로 양 캐소드(4, 5)를 지나치게 될 때, 기층(3)에는 예컨대 Cr/CrOxNy 층 구조가 형성된다. 또한 가스관수기(11)를 통해 반응가스가 그리고 가스관수기(10)를 통해 불활성가스가 공간(13 및 12)내로 유입될수도 있어서, 예컨데 층구조 CrOxNy/CrNx 또는 CrOxNy/Cr 가 형성될수 있다.For example, both cathodes 4 and 5 are provided with targets 7 and 8 made of chromium, inert gas is introduced through the gas irrigation 11, and reactant gas is introduced through the other gas irrigation 10. When both cathodes 4 and 5 are exceeded in this arrow direction A, for example, a Cr / CrOxNy layer structure is formed in the base layer 3. In addition, the reaction gas may be introduced into the spaces 13 and 12 through the gas irrigation 11 and the inert gas through the gas irrigation 10, for example, a layer structure CrOxNy / CrNx or CrOxNy / Cr may be formed.

또한 제2도에 도시된 바와같이 블라인더 케이스의 영역에서 가스관수기를 보다 양호하게 유지시키는데 사용되는 링크(23)에 의해 양 외부관(10', 10' 및 11', 11')이 서로 결합되는 것이 도시되어 있다. 처리가스 자체는 연결부(24)에 의해 각각 3개의 관중 첫 번째 관에서 유입된다.Also, as shown in FIG. 2, both outer tubes 10 ', 10' and 11 ', 11' are coupled to each other by a link 23 used to better maintain the gas irrigation in the area of the blinder case. Is shown. The process gas itself is introduced by the connection part 24 in the first tube of three tubes, respectively.

제3도에는 실제로 형성된 층패킷의 실시예가 도표로 도시되어 있다.3 shows a diagram of an embodiment of a layer packet actually formed.

Claims (7)

진공가능한 공통의 코팅챔버(6)내에 나란히 배치되고 표적(7, 8)이 평면기층(3)의 이송면(9)에 평행한 평면에 유지되고 동일한 재료로 구성된, 바람직하게는 평면 마그네트론 타입의 2개의 스퍼터 캐소드(4, 5)를 갖추고 있고, 반응가스, 일반적으로 산소와 그리고 불활성가스, 일반적으로 아르곤으로 이루어져 있는 처리가스를 각각 할당된 표적(7 및 8)범위내로 이동시킬수 있는 가스관수기(10, 11)가 각각의 캐소드(4, 5) 마다 구비되고 가스공급용기로부터 가스관수기(10, 11)로의 제어된 가스유동을 가능하게 하는 가스공급관의 밸브를 구비한, 평면기층(3), 예컨대 평면 투사막용 유리시트를 연속처리로 코팅하기 위한 장치에 있어서, 표적(7, 8) 바로밑의 공간 또는 구역(12 및 13)이 각각 통모양의 블라인더(14, 15)에 의해 둘러싸여지고, 블라인더(14, 15)는 베이스부분(14', 15')을 형성하는 부분에 각각 표적으로 부터 유동입자를 관통시켜 이동하는 평면기층(3)쪽으로 이동시키는 개구부(16, 17)를 구비하고 있고, 2개의 블라인더(14, 15) 각각은 표적면에 수직으로 연장된 측벽(14 및 15)에 리세스(18, 19) 또는 연속된 구멍을 구비하고 이들 리세스는 상응하는 가스관수기(10 및 11)의 유출노즐(25, 25',...26, 26')을 향해 각각 정렬되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅장치.It is arranged side by side in a common vacuum-capable coating chamber 6 and the targets 7, 8 are kept in a plane parallel to the conveying surface 9 of the planar base layer 3 and made of the same material, preferably of the planar magnetron type. A gas irrigation device having two sputter cathodes 4 and 5 and capable of moving a process gas consisting of a reaction gas, typically oxygen and an inert gas, generally argon, within the range of the assigned targets 7 and 8, respectively. A flat base layer 3, having 10, 11 provided for each cathode 4, 5 and having a valve of a gas supply pipe enabling controlled gas flow from the gas supply container to the gas pipe 10, 11, In a device for continuously coating a glass sheet for a planar projection film, for example, the spaces or zones 12 and 13 immediately below the targets 7 and 8 are surrounded by cylindrical blinds 14 and 15, respectively. , Blinds 14 and 15 have a base Openings 16 and 17 are provided in the portions forming the powders 14 'and 15', respectively, and are moved to the planar base layer 3 through which the moving particles penetrate from the target. Each has recesses 18, 19 or continuous holes in the sidewalls 14 and 15 extending perpendicular to the target surface and these recesses are provided with outlet nozzles 25, corresponding to the corresponding gas irrigation 10 and 11). 25 ',... 26, 26'). 제1항에 있어서, 가스관수기(10 및 11)는 통모양의 블라인더(14 및 15)를 적어도 부분적으로 둘러싼 관으로 형성되어 있고, 이 관은 블라인더(14 및 15)의 측벽(14 및 15)에 있는 리세스(18 및 19)에 대향하게 놓여진 관의 섹션상에 유출노즐(25, 25', 25 및 26, 26', 26,...)을 갖추고 있고, 이 유출노즐은 블라인더(14, 15)로 둘러싸인 공간(12, 13) 내로 유동가스를 직접 유입시키는 것을 특징으로 하는 코팅장치.The gas irrigation systems 10 and 11 are formed of tubes at least partially surrounding the tubular blinds 14 and 15, which are the side walls 14 and 15 of the blinds 14 and 15. And outlet nozzles 25, 25 ′, 25 and 26, 26 ′, 26,... On the section of the tube placed opposite the recesses 18 and 19 in the chamber, which are provided with blinds 14. Coating device, characterized in that to flow the gas directly into the space (12, 13) enclosed by 15). 제1항 또는 제2항에 있어서, 각각의 가스관수기(10 및 11)는 3개의 관(10', 10, 10' 및 11', 11, 11')으로 구성되고 이들 관은 각각 대략 U자 형태로 배치되고 그리고 3개 관(10', 10, 10', 11', 11, 11')중 중앙 관에는 각각 처리가스를 위한 유출 노즐(25, 25', 25... 및 26, 26', 26...)이 구비되는 것을 특징으로 하는 코팅장치.3. Each of the gas irrigation groups 10 and 11 consists of three tubes 10 ′, 10, 10 ′ and 11 ′, 11, 11 ′ and each of these tubes is approximately U shaped. In the form of a central tube of the three tubes 10 ', 10', 10 ', 11', 11 and 11 ', respectively, with outlet nozzles 25, 25', 25 ... and 26, 26 for process gas, respectively. ', 26 ...) is provided with a coating apparatus. 제3항에 있어서, 유출노즐(25, 25', 25...)을 구비하는 가스관수기(10, 11)의 관(10 및 11) 각각은 통모양의 양 블라인더(14, 15)의 서로 반대쪽으로 향한 측면상에 배치되는 것을 특징으로 하는 코팅장치.4. Each of the tubes 10 and 11 of the gas irrigation systems 10 and 11, having the outlet nozzles 25, 25 ', 25 ..., has a cylindrical tubular blinder 14, 15 of each other. Coating device, characterized in that disposed on the side facing away. 제1항 또는 제2항에 있어서, 통모양의 블라인더(14, 15)의 측벽(14 및15)에 구비된 리세스(18 및 19)는 각각 태브 모양의 판(21 및 22)에 의해 덮혀지고, 이 판은 각각 그 단부에서 측벽(14 및 15)과 견고히 결합되고 그리고 그 자유 단부에서 블라인더 공간(12 및 13)내로 경사지게 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅장치.The recesses 18 and 19 provided in the side walls 14 and 15 of the cylindrical blinders 14 and 15 are covered by tab-shaped plates 21 and 22, respectively. And the plate is firmly engaged with the side walls (14 and 15) at its ends, respectively, and protrudes obliquely into the blinder space (12 and 13) at its free ends. 제3항에 있어서, 통모양의 블라인더(14, 15)의 측벽(14 및 15)에 구비된 리세스(18 및 19)는 각각 태브 모양의 판(21 및 22)에 의해 덮혀지고, 이 판은 각각 그 단부에서 측벽(14 및 15)과 견고히 결합되고 그리고 그 자유 단부에서 블라인더 공간(12 및 13)내로 경사지게 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅장치.4. The recesses 18 and 19 provided in the side walls 14 and 15 of the cylindrical blinders 14 and 15 are covered by tab-shaped plates 21 and 22, respectively. Is respectively firmly coupled to the side walls (14 and 15) at their ends and protrudes obliquely into the blinder space (12 and 13) at their free ends. 제4항에 있어서, 통모양의 블라인더(14, 15)의 측벽(14 및 15)에 구비된 리세스 (18 및 19)는 각각 태브 모양의 판(21 및 22)에 의해 덮혀지고, 이 판은 각각 그 단부에서 측벽(14 및 15)과 견고히 결합되고 그리고 그 자유 단부에서 블라인더 공간(12 및 13) 내로 경사지게 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅장치.5. The recesses 18 and 19 provided in the side walls 14 and 15 of the cylindrical blinders 14, 15 are covered by tab-shaped plates 21 and 22, respectively. Is respectively firmly coupled to the side walls (14 and 15) at their ends and protrudes obliquely into the blinder space (12 and 13) at their free ends.
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