KR100202866B1 - Manufacturing method of electrophotographic screen of crt - Google Patents

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KR100202866B1 KR1019950012958A KR19950012958A KR100202866B1 KR 100202866 B1 KR100202866 B1 KR 100202866B1 KR 1019950012958 A KR1019950012958 A KR 1019950012958A KR 19950012958 A KR19950012958 A KR 19950012958A KR 100202866 B1 KR100202866 B1 KR 100202866B1
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    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • H01J9/22Applying luminescent coatings
    • H01J9/227Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
    • H01J9/2271Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes

Abstract

형광막을 균일하게 형성하기 위해 광전도막에 균일하게 대전하여 스크린을 제조하는 방법이 제공된다. (1) 상기 판넬내면에 휘발성전도막을 형성시키는 1차코팅 단계; (2)그 전도막위에 전기적 절연을 위한 절연막을 형성시키는 2차코팅 단계; (3) 그 절연막위에 제1파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제1광전도막을 형성시키는 3차코팅단계; (4) 그 제1광전도막위에 제2파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제2광전도막을 형성시키는 4차코팅 단계; (5) 그 제2광전도막에 -직류전극을 인가하고 상기 전도막에 +직류전극을 인가하면서 그 제2광전도막에 제2파장역의 광선을 전면에 걸쳐 노광하므로서 균일한 정전하를 그 제2광전도막에 대전시키는 대전단계; (6) 그 제2광전도막의 정전하를 선택적으로 제1광전도막에 이동시키도록 제1파장역의 광선으로 새도우마스크를 통과시켜 노광하는 노광단계; 그리고 (7) 상기 노광단계(6)에서 정전하가 선택적으로 이동된 제1광전도막의 노광부분과 그 나머지 비노광부분중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함한다. 이에 따라, 코로나방전장치와 같은 방전장치가 필요없을 뿐만 아니라 복잡한 방전조건을 조절할 필요없이 대전을 균일하게 할 수 있고, 공정도 단순화되며, 형광체 도포두께 및 크기, 형상등을 균일하게 할 수 있는 효과가 있다.In order to uniformly form the fluorescent film, a method of manufacturing a screen by uniformly charging the photoconductive film is provided. (1) forming a volatile conductive film on the inner surface of the panel; (2) a secondary coating step of forming an insulating film for electrical insulation on the conductive film; (3) a tertiary coating step of forming a volatile first photoconductive film containing a substance sensitive to light rays of a first wavelength region on the insulating film; (4) forming a volatile second photoconductive film on the first photoconductive film containing a material that is sensitive to light in a second wavelength region; (5) Applying a -DC electrode to the second photoconductive film and applying a + DC electrode to the conductive film while exposing the second wavelength region of light to the second photoconductive film over the entire surface to provide a uniform electrostatic charge. A charging step of charging the two photoconductive films; (6) an exposure step of exposing through a shadow mask with light rays of a first wavelength band so as to selectively move the electrostatic charge of the second photoconductive film to the first photoconductive film; And (7) a developing step of attaching the charged fine powder to any one of an exposed portion of the first photoconductive film to which the electrostatic charge is selectively moved in the exposure step 6 and the remaining non-exposed portion. As a result, not only a discharge device such as a corona discharge device is required, but the charging can be made uniform without the need for adjusting complicated discharge conditions, the process can be simplified, and the coating thickness, size, shape, etc. of the phosphor can be made uniform. There is.

Description

음극선관의 전자사진식 스크린 제조방법Method for manufacturing electrophotographic screen of cathode ray tube

제1도는 칼라 음극선관의 부분단면한 개략정면도.1 is a schematic front view in partial cross section of a color cathode ray tube;

제2도(a)는 제1도의 음극선관의 스크린 구성을 나타낸 부분확대 단면도.FIG. 2 (a) is a partially enlarged sectional view showing the screen configuration of the cathode ray tube of FIG.

제3도(a) 내지 (e)는 방전장치를 이용하여 음극선관의 스크린을 제조하는 건식 전자사진식 스크린제조 공정을 도시한 개략설명도.3 (a) to 3 (e) are schematic explanatory diagrams showing a dry electrophotographic screen manufacturing process for manufacturing a screen of a cathode ray tube using a discharge device.

제4도는 종래의 건식 전자사진식 스크린 제조방법에 의해 칼라음극선관을 제조하는 공정도.4 is a process chart for producing a color cathode ray tube by a conventional dry electrophotographic screen manufacturing method.

제5도(a)(b)는 제3도(b)에 사용되는 음극선관의 스크린제조용 종래의 광전도막 방전장치를 도시한 것으로, (a)는 판넬과의 관계를 설명하는 개략단면도이고, (b)는 방전전극의 구조를 나타내는 방전전극의 상세 단면도.FIG. 5 (a) and (b) show a conventional photoconductive film discharging apparatus for screen manufacturing of a cathode ray tube used in FIG. 3 (b), and (a) is a schematic cross-sectional view illustrating a relationship with a panel. (b) is a detailed sectional view of the discharge electrode which shows the structure of a discharge electrode.

제6도(a) 내지 (f)는 본 발명에 따른 스크린제조방법의 주요공정을 설명하기 위한 판넬면판의 부분단면도.Figure 6 (a) to (f) is a partial cross-sectional view of the panel face plate for explaining the main process of the screen manufacturing method according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10 : 음극선관(CRT) 11 : 전자총10 cathode ray tube (CRT) 11 electron gun

12 : 판넬(panel) 13 : 펀넬(funnel)12: panel 13: funnel

14 : 네크(neck) 15 : 양극 보턴14 neck 15 anode button

16 : 새도우마스크 17 : 편향 요크16: shadow mask 17: deflection yoke

18 : 판넬면판 19a, 19b : 전자빔18: panel face plate 19a, 19b: electron beam

20 : 형광면(스크린) 21 : 빛흡수물질20: fluorescent screen (screen) 21: light absorbing material

22 : 알루미늄박막층 32 : 전도막22: aluminum thin film layer 32: conductive film

34 : 광전도막 36, 50 : 방전장치34: photoelectric film 36, 50: discharge device

38 : 광원(가시광선) 40 : 렌즈38: light source (visible light) 40: lens

42 : 현상용기 51 : 방전전극42: developing container 51: discharge electrode

51a : 팁(tip) 52 : 지지금속편51a: tip 52: support metal piece

53 : 절연판 54 : 절연체53: insulation plate 54: insulator

62 : 전도막 64 : 절연막62: conductive film 64: insulating film

66 : 제1광전도막 68 : 제2광전도막 또는 전도성막66: first photoconductive film 68: second photoconductive film or conductive film

본 발명은 음극선관의 전자사진식 스크린 제조방법에 관한 것으로, 더 상세히는 형광막을 균일하게 형성하기 위해 광전도막에 균일하게 대전하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an electrophotographic screen of a cathode ray tube, and more particularly, to a method of uniformly charging a photoconductive film in order to form a fluorescent film uniformly.

일반적으로 음극선관은, 제1도에 도시된 바와같이, 판넬(panel)(12), 펀넬(funnel)(13)및 네크(14)로 구분되는 진공 벌브(bulb)와, 그 네크(14)내부에 장착되는 전자총(11)과, 판넬(12)의 측벽에 장착되는 새도우마스크(16)를 구비한다.In general, the cathode ray tube, as shown in FIG. 1, has a vacuum bulb divided into a panel 12, a funnel 13 and a neck 14, and the neck 14 thereof. An electron gun 11 mounted therein and a shadow mask 16 mounted on the side wall of the panel 12 are provided.

그 판넬(12)의 면판(18)의 내면에는 형광면(20)이 형성되어 있어, 전자총(11)으로부터 방출된 전자빔(19a)(19b)은 각종 렌즈계에 의해 집속되고 가속되며, 양극보턴(15)을 통해 인가되는 고전압에 의해 크게 가속되면서 편향요크(17)에 의해 편향되고 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬리트(16a)를 통과하여 형광면(20)에 주사된다.A fluorescent surface 20 is formed on the inner surface of the face plate 18 of the panel 12, and the electron beams 19a and 19b emitted from the electron gun 11 are focused and accelerated by various lens systems, and the anode button 15 It is greatly accelerated by the high voltage applied through the deflection yoke (17) and deflected by the deflection yoke (17) and passed through the apertures or slits (16a) of the shadow mask (16) to the fluorescent surface (20).

형광면(20)은 면판(18)의 배면에 형성되는데, 칼라의 경우 제2도에 도시된 바와같이 일정한 배열구조의 다수의 스트라이프(stripe) 또는 도트(dot)형상의 형광체(R, G, B)와, 그 각 형광체들사이의 블랙코팅과 같은 빛흡수물질로 형성된다. 또, 그 배면은 전도막층으로서 알루미늄박막층(22)이 형성되어 형광면의 휘도증대, 형광면의 이온손상방지, 형광면의 전위강하방지 등의 역활을 하게 된다. 또한, 도시되지는 않지만, 그 알루미늄박막층(22)의 평면도 및 반사율을 높이기 위해서는 형광면(20)과 전도막층(22)사이에 라키(lacquer)와 같은 수지가 도포된다.The fluorescent surface 20 is formed on the back surface of the face plate 18. In the case of the color, as shown in FIG. 2, a plurality of stripe or dot-shaped phosphors R, G, and B in a constant array structure are shown. ) And a light absorbing material such as a black coating between the respective phosphors. In addition, the rear surface is formed with an aluminum thin film layer 22 as a conductive film layer, which serves to increase the luminance of the fluorescent surface, to prevent ion damage of the fluorescent surface, and to prevent the potential drop of the fluorescent surface. Although not shown, a resin such as a lacquer is applied between the fluorescent surface 20 and the conductive film layer 22 in order to improve the plan view and reflectance of the aluminum thin film layer 22.

이러한 형광면(20)이 종래의 습식 사진 석판술(photolithographic wet process) 또는 습식 슬러리(slurry)법에 의하면, (1) 판넬의 내면에 한가지 형광체를 감광제(photoresist)수용액과 섞은 슬러리를 도포하여 건조시키고, (2) 새도우마스크(shadow mask)을 끼우고 자외선에 노출하여 형광체 자리의 감광체를 굳히고, (3) 판넬에 높은 압력으로 물을 뿜어 필요없는 부분의 형광체를 씻어내고 말리는 공정을 세 번 반복하여 세 가지 형광체를 입힌다.According to the conventional photolithographic wet process or the wet slurry method, the fluorescent surface 20 is dried by applying a slurry in which one phosphor is mixed with a photoresist aqueous solution to the inner surface of the panel. , (2) put on a shadow mask and expose it to ultraviolet light to harden the photosensitive material at the place of the phosphor, and (3) spray water at high pressure on the panel to wash and dry unnecessary parts of the phosphor three times. Apply three phosphors.

따라서, 이러한 방법은 슬러리를 이용하여야 하고, 필요없는 부분에도 형광체를 모두 입힌 다음 필요한 부분만 남기고 대부분을 씻어내어야 하므로 고화질의 요구를 충족시키지 못할 뿐만 아니라 제조공정 및 제조설비가 복잡하여 제조비용이 크게 소요되며, 또한, 대량의 청정수 소모와 폐수발생, 인배출물, 6가 크롬감광체 배출 등 여러가지 문제점들을 안고 있다. 최근에 이러한 습식 사진석판술을 개량한 전자사진식(electrophotographical) 스크린제조방법이 개발되었는데, 이 전자사진식 제조방법도 습식은 여전히 상술한 문제점들을 안고 있으며, 건식 제조방법에 의해서는 상술한 문제점들이 상당히 해소되었다. 즉, 종래의 습식 방법에 견주어 획기적으로 공정을 단순화한 것으로 공정 단축에 따른 에너지와 자원 절약의 효과가 크며 생산성 향상도 크게 기대되는 방법이다. 아울러 형광막 제조 과정에서 물을 전혀 사용하지 않으므로 물에 예민하거나 녹는 형광체에도 사용할 수 있다. 이렇게 형광체 선택의 폭을 넓히는 효과도 이 건식 방법의 중요한 장점 가운데 하나이다.Therefore, this method requires the use of a slurry, and all of the phosphors need to be coated on the parts that are not needed, and only most of the parts need to be washed away, thus not only satisfying the demands of high definition, but also complicated manufacturing process and manufacturing equipment, resulting in large manufacturing costs. In addition, there are various problems such as consumption of large quantities of clean water, generation of waste water, phosphorus emissions, and hexavalent chromium photoreceptor discharge. Recently, an electrophotographic screen manufacturing method has been developed that improves the wet photolithography. In this electrophotographic manufacturing method, the wet still has the above-mentioned problems, and the dry manufacturing method has the problems described above. It was considerably resolved. In other words, the process is dramatically simplified compared to the conventional wet method, the energy and resource saving effect of the process shortening is great and productivity is expected to be greatly improved. In addition, since no water is used in the manufacturing process of the fluorescent film, it can be used for phosphors that are sensitive or soluble in water. This broadening of the choice of phosphor is also an important advantage of this dry method.

그러한 건식 전자사진식 스크린제조방법은 미국 특허 제 4,921,727호, 제 4,921,767호, 제 5,012,155호, 제 5,083,959호, 제 5,093,217호에 개시되어 있는 바, 그 중 대표적으로 제 4,921,767호(1990년 5월 1일 특허됨)를 간략히 설명하면 다음과 같다.Such dry electrophotographic screen manufacturing methods are disclosed in US Pat. Nos. 4,921,727, 4,921,767, 5,012,155, 5,083,959, and 5,093,217, of which 4,921,767 (May 1, 1990). Patented) is briefly described as follows.

제3도(a)내지(e)에는 그 건식전자사진식 스크린제조방법의 각 기본공정이 개략적으로 도시된다.3 (a) to (e) schematically show each basic process of the dry electrophotographic screen manufacturing method.

판넬(12)는 스크린공정에 들어가기 전에 그 내면이 여러가지 방법으로 세척된다. 그리고나서, 그 판넬의 면판(18)의 내면에는 제3도(a)에서와 같이 전기적 전도막(32)이 코팅되고, 그 위에 광전도막(34)이 코팅된다. 이러한 전도막(32)에 사용되는 화합물로는 주석이나 인듐(indium)산화물, 또는 그 혼합물과 같은 무기전도물이 개시되어 있고, 휘발성전도막의 원료료는 Aldrich Chemical Co.의 상품명 폴리브린(Polybrene : 1,5-디메틸-1,5-디아자-언디카메틸렌 폴리메소브로마이드, 헥사디메스린 브로마이드)이 개시되어 있다. 이러한 폴리브린은 약 10중량%의 프로판놀과 10중량% 수용성 접착 폴리머(폴리 비닐알콜, 폴리아크릴산, 폴리아미드 등)를 함유하는 수용액상태로 도포되고 건조되어 108Ω/?(ohms per square unit)이하의 표면저항과 약 1-2㎛의 두께를 가지는 전도막(32)를 형성한다. 그 전도막(32)위에 도포되는 광전도막(34)으로는 휘발성 유기폴리머(폴리비닐카바졸)또는 폴리머 바인더(폴리메틸메타크릴레이트 또는 폴리프로필렌 카본네이트)에 용해된 n-에틸 카바졸이나 n-비닐카바졸 또는 테트라페닐부타트리엔과 같은 유기단량체와, 적당한 광전도 염료와 용매를 포함하는 도포액이 개시되어 있다. 그 광전도 염료성분으로는 가시광선(바람직하게는 400-700nm파장)에 반응하는 것으로서 크리스탈 바이오릿(crystal violet), 크로리다인 블루우(chloridine blue), 로다민 EG(rhodamine EG)와 같은 것들이 약 0.1 내지 0.4중량% 함유되는 것으로 개시되어 있다. 그리고 용매로는 전도막(32)을 오염시키지 아니하는 클로로벤젠이나 싸이클로펜타논과 같은 유기물이 개시되어 있다. 이와같은 조성을 가지는 광전도막(34)은 2-6μ의 두께를 가진다.The panel 12 is cleaned in various ways on its inner surface prior to entering the screening process. Then, the inner surface of the panel 18 of the panel is coated with an electrically conductive film 32, as shown in FIG. As the compound used in the conductive film 32, inorganic conductive materials such as tin, indium oxide, or mixtures thereof are disclosed. The raw material of the volatile conductive film is Aldrich Chemical Co. trade name Polybrene: 1,5-dimethyl-1,5-diaza-undicamethylene polymethobromide, hexadimethrin bromide) is disclosed. The polybrine is applied in an aqueous solution containing about 10% by weight of propanol and 10% by weight of water-soluble adhesive polymers (polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyamide, etc.) and dried to obtain 10 8 Ω /? (Ohms per square unit). A conductive film 32 having a surface resistance of 1 m or less and a thickness of about 1-2 mu m is formed. The photoconductive film 34 coated on the conductive film 32 is n-ethyl carbazole or n dissolved in a volatile organic polymer (polyvinylcarbazole) or a polymer binder (polymethylmethacrylate or polypropylene carbonate). A coating liquid comprising an organic monomer such as -vinylcarbazole or tetraphenylbutatriene, a suitable photoconductive dye and a solvent is disclosed. Its photoconductive dye reacts to visible light (preferably 400-700nm wavelength), such as crystal violet, chloridine blue and rhodamine EG. It is disclosed to contain about 0.1 to 0.4% by weight. As the solvent, organic substances such as chlorobenzene and cyclopentanone that do not contaminate the conductive film 32 are disclosed. The photoconductive film 34 having such a composition has a thickness of 2-6 mu.

제3도(b)에는 상술한 바와 같이 이중코팅된 면판(18)의 광전도막(34)에 종래의 방전장치(36)에 의해 암실에서 +전하로 대전되는 대전공정이 개략적으로 도시된다. 그 방전장치(36)는 +200 내지 +700 볼트의 직류전원의 +전극에 인가되고, 전극은 전도막(32)에 인가됨과 동시에 어스되며, 이와같이 +전극에 인가된 방전장치(36)가 면판(18)의 광전도막(34)위를 가로질러 이동함으로서 광전도막(34)은 +전하로 대전되게 된다.3 (b) schematically shows a charging process in which the photoconductive film 34 of the double coated face plate 18 is charged with positive charge in the dark room by the conventional discharge device 36 as described above. The discharge device 36 is applied to the + electrode of the DC power source of +200 to +700 volts, the electrode is applied to the conductive film 32 and grounded at the same time, the discharge device 36 applied to the + electrode in this manner is the face plate By moving across the photoconductive film 34 of 18, the photoconductive film 34 is charged with positive charge.

제3도(c)는 노광공정을 도시한 것으로, 먼저 새도우마스크(16)가 판넬(12)에 장착되고 전도막(32)은 어스되며, 그 뒤, 상술한 바와 같이 대전된 광전도막(34)은 역시 암실내에서 새도우마스크(16)를 통해 렌즈(40)를 구비하는 크세논 플래시 램프(38)에 의해서 노광된다. 따라서, 이 공정에서는 그 크세논 플래시램프(38)를 켜서 렌즈(40)와 새도우마스크(16)를 통해 그 램프(38)의 광선을 광전도막(34)에 조사하면, 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬리트(16a)에 해당하는 광전도막(34)부분들이 노광되고, 그 가시광선에 의해 그 노광부분의 +전하가 전도막(32)을 통해 방출되어 제3도(c)에 도시된 바와 같이 노광부분만 비대전상태로 된다. 이와 같이하여 광전도막에는 소정의 배열구조의 전하잠상(latent image)이 형성된다. 상술한 크세논 플래시 램프(38)는 칼라의 경우 빛흡수물질을 부착시키기 위해서는 종래와 같이 그 광선이 각 전자빔의 입사각에 일치하도록 3위치사이를 이동하는 구조가 바람직하다.FIG. 3 (c) shows an exposure process. First, the shadow mask 16 is mounted on the panel 12 and the conductive film 32 is earthed, and then the charged photoconductive film 34 as described above. ) Is also exposed in the dark room by the xenon flash lamp 38 with the lens 40 through the shadow mask 16. Therefore, in this process, when the xenon flash lamp 38 is turned on and the light beam of the lamp 38 is irradiated to the photoconductive film 34 through the lens 40 and the shadow mask 16, the shadow of the shadow mask 16 is reduced. Portions of the photoconductive film 34 corresponding to the aperture or the slits 16a are exposed, and the positive charges of the exposed portions are released through the conductive film 32 by the visible light, which is illustrated in FIG. As described above, only the exposed portion is in a non-charged state. In this way, a latent image of a predetermined arrangement is formed on the photoconductive film. In the case of the xenon flash lamp 38 described above, in order to attach a light absorbing material to the color, the xenon flash lamp 38 preferably has a structure in which the light beam moves between three positions so as to coincide with the incident angle of each electron beam.

제3도(d)는 현상(형광입자 또는 빛흡수물질의 부착)공정을 개략적으로 도시한다. 이공정에서는 현상용기(42)내에 건식 빛흡수물질미세분말 또는 건식의 각 형광체미세분말과, 그 각 분말과의 접촉으로 정전기를 발생시킬 수 있는 캐리어 비드(carrier bead)가 담겨진다. 그 빛흡수물질용 캐리어 비드는 미세분말과 접촉하여 빛흡수물질입자는 -전하로, 또 형광입자는 +전자로 대전시킬 수 있는 것이 적당하며, 그와같이 전하를 띠도록 혼합된다. 새도우마스크(16)를 제거한 판넬(12)은 광전도막(34)이 그 분말에 접촉할 수 있도록 상술한 분말이 담긴 현상용기(42)위에 설치된다.FIG. 3 (d) schematically shows a development (adhesion of fluorescent particles or light absorbing material) process. In this step, the developing container 42 contains a dry light absorbing material fine powder or dry phosphor fine powder and a carrier bead capable of generating static electricity by contact with each powder. The carrier beads for the light absorbing material are in contact with the fine powder so that the light absorbing material particles can be charged with -charge and the fluorescent particles can be charged with + electrons. The panel 12 from which the shadow mask 16 is removed is installed on the developing container 42 containing the above-described powder so that the photoconductive film 34 can contact the powder.

이 때 혼합된 분말중에서 -전하를 띤 빛흡수물질은 +전하로 대전된 광전도막(34)의 비노광부분에 전기인력에 의해 부착되게 되며, +전하를 띤 형광입자는 +전하로 대전된 광전도막(34)의 비노광부분에서는 반발하고 비대전상태로 된 광전도막(34)의 노광부분에만 역현상(reversal developing)에 의해 부착하게 된다. 이와 같이 하여, 빛흡수물질 또는 형광체의 실상(real image)이 형성된다.At this time, the negatively charged light absorbing material in the mixed powder is attached to the non-exposed portion of the photoconductive film 34 charged with positive charge, and the positively charged fluorescent particles are positively charged photoelectric charge. In the non-exposed part of the coating film 34, it adheres only to the exposed part of the photoconductive film 34 which is in a non-charged state by reversal developing. In this way, a real image of the light absorbing material or the phosphor is formed.

제3도(e)는 적외선 가열에 의한 고착공정을 도시한 것으로, 이 공정에서는 상술한 현상공정에서 부착된 건식 빛흡수물질입자 또는 건식의 각 형광입자들이 광전도막(34)에 고착된다. 따라서, 가열에 의해 융착되는 적당한 폴리머 성분이 그 광전도막(34)과 건식 빛흡수물질입자나 건식의 각 형광입자들에 포함된다.FIG. 3 (e) shows a fixing process by infrared heating, in which dry light absorbing material particles or dry fluorescent particles attached in the above-described developing process are fixed to the photoconductive film 34. Therefore, a suitable polymer component fused by heating is included in the photoconductive film 34 and the dry light absorbing material particles or dry fluorescent particles.

제4도에는 제3도(a) 내지 (e)에서 상술한 공정들이 칼라음극선관의 제조에 적용되는 공정도가 도시된다. 제4도에서는 빛흡수물질(21)의 형성에 관한 공정들은 생략되지만, 상술한 설명으로부터 용이하게 알 수 있다. 즉, 판넬(12)이 코팅공정인 단계 S1과 S2를 거친 후, 단계 S2와 단계 S3사이에서 빛흡수물질의 광전도막(34)에의 고착을 위해 제3도(a) 내지 (e)의 각 공정, 즉 대전공정, 노광공정, 현상공정 및 빛흡수물질입자의 고착공정을 거친다.4 shows a process diagram in which the processes described above in FIGS. 3A through 3E are applied to the production of the color cathode ray tube. In FIG. 4, the steps related to the formation of the light absorbing material 21 are omitted, but can be easily understood from the above description. That is, after the panel 12 passes through steps S1 and S2, which are coating processes, the angles of FIGS. 3A to 3E are adhered to the photoconductive film 34 of the light absorbing material between steps S2 and S3. Process, i.e., charging process, exposure process, developing process, and fixing of light absorbing material particles.

이와같이 하여 빛흡수물질(21)이 고착된 판넬(12)은 단계 S3 내지 단계 S13의 공정들을 거쳐 R, G, B 3색 형광체가 그 판넬(12)의 광전도막(34)에 고착된다. 즉, 단계 S3에서 빛흡수물질(21)이 고착된 광전도막(34)이 제3도(b)에서와 같이 +전하로 1차 대전되고 단계 S4에서 제3도(c)에서와 같이 제1형광체부분(G)이 1차 노광되며, 단계 S5에서는 제3도(d)에서와 같이 제1형광입자(G)들이 부착되도록 현상되고, 1차 고착공정인 단계 S6에서 제3도(e)에서와 같이 단계 S5에서 부착된 제1형광입자(G)들이 광전도막(34)에 고착된다. 또한, 제2형광체(B)를 고착시키기 위해 단계S7 내지 단계 S10 사이에서 상술한 제1형광체고착을 위한 공정들과 동일한 공정들이 반복되며, 제3형광체(R)에 대해서도 단계 S11 내지 단계 S14에서 동일하게 반복되어 3색 형광체가 광전도막(34)위에 고착되게 된다. 이후, 단계 S15의 라커공정에서 라커막이 종래의 방법으로 형성되고, 단계 S16의 알루마이징공정에서 알루미늄박막도 종래의 방법으로 형성된다.In this way, the panel 12 to which the light absorbing material 21 is fixed is fixed to the photoconductive film 34 of the panel 12 by R, G, and B three-color phosphors through the steps S3 to S13. That is, in step S3, the photoconductive film 34 to which the light absorbing material 21 is fixed is first charged with positive charge as in FIG. 3 (b) and the first as in FIG. 3 (c) in step S4. The phosphor portion G is first exposed, and developed in step S5 so that the first fluorescent particles G adhere as in FIG. 3d, and in FIG. As in the first fluorescent particles (G) attached in step S5 is fixed to the photoconductive film 34. In addition, the same processes as those for the first phosphor fixing described above are repeated between the steps S7 to S10 to fix the second phosphor B, and the steps S11 to S14 are also performed for the third phosphor R. In the same manner, the three color phosphors are fixed on the photoconductive film 34. Thereafter, in the lacquer process of step S15, a lacquer film is formed by a conventional method, and an aluminum thin film is also formed by the conventional method in the anodizing process of step S16.

이와 같이 알루미늄박막이 형성된 판넬(12)은 단계 S17의 베이킹(baking)공정에서 대기중에서 약 30분동안 425℃에서 가열 건조된다. 이때, 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분이 제거되고 빛흡수물질(21)과 각 형광체(R, G, B)가 제2도에서와 같이 형성된 형광면(20)이 얻어진다. 이후, 판넬은 종래의 종래의 습식 슬러리법과 같이 펀넬(funnel)에 가열 융착되고 전자총을 붙여 진공처리하므로서 음극선관이 완성된다.Thus, the panel 12 in which the aluminum thin film was formed is dried by heating at 425 ° C. for about 30 minutes in the air in the baking process of step S17. At this time, volatile components such as the conductive film 32, the photoconductive film 34, and the solvent present in each phosphor and lacquer are removed, and the light absorbing material 21 and each phosphor R, G, and B are shown in FIG. The fluorescent surface 20 formed as follows is obtained. Thereafter, the panel is heat-melted to the funnel and vacuum-treated by attaching an electron gun as in the conventional wet slurry method to complete the cathode ray tube.

또한, 미합중국 특허 제 5,240,798호(1993. 8. 31. 특허됨)에는 공전도막(18)위에 먼저 3종의 형광체입자들을 상술한 방법으로 고착시키고 그위에 다시 균일하게 대전시키므로서 빛흡수물질(21)을 부착시키기 위한 대전된 개방영역(형광체 입자들이 없는 부분)을 형성하고, 그 후 빛흡수물질의 입자들을 반대극성으로 대전시켜 그 개방영역에 부착시키는 음극선관의 스크린제조방법이 개시되어 있다. 이 특허에서는 먼저 형광체입자들을 고착시킴으로서 고착후 재대전시 형광체입자들이 고착된 부분에서는 대전이 약하게 된다. 따라서, 이 약한 대전부분인 개방부분과 그 이외의 부분과의 전기력차이를 이용하여 빛흡수물질을 부착시킨 것이다. 이에 따라 빛흡수물질(21)을 위한 노광공정이 생략되고 빛흡수물질(21)의 불투명도를 향상시킨 것이다.In addition, U. S. Patent No. 5,240, 798 (patented on Aug. 31, 1993) discloses a light absorbing material (21) by first fixing three kinds of phosphor particles on the idler coating film 18 by the above-described method and uniformly charging them again. There is disclosed a method for producing a screen of a cathode ray tube which forms a charged open area (a part without phosphor particles) for attaching), and then charges particles of the light absorbing material in opposite polarity to attach to the open area. In this patent, the phosphor particles are first fixed, so that the charging is weak in the portion where the phosphor particles are fixed upon recharging after fixing. Therefore, the light-absorbing material is attached by using the electric force difference between the open portion, which is the weakly charged portion, and the other portions. Accordingly, the exposure process for the light absorbing material 21 is omitted and the opacity of the light absorbing material 21 is improved.

이상에서 설명한 공정들중, 제5도(a)에는 제3도(b)의 대전공정에서 사용되는 종래의 방전장치(36)와 판넬(12)과의 관계가 구체적으로 도시되며, 제5도(b)에는 종래의 방전장치(36)의 구조가 단면도로서 도시된다.Among the processes described above, FIG. 5 (a) specifically illustrates the relationship between the conventional discharge device 36 and the panel 12 used in the charging process of FIG. 3 (b). In (b), the structure of the conventional discharge device 36 is shown in cross section.

광전도막(34)에의 대전량은 상술한 제3도(c)의 노광공정과 제3도(d)의 현상공정에서 균일하게 노광되고 현상하기 위해서는 전면적에 걸쳐 균일하게 이루어지는 것이 바람직하지만, 음극선관의 판넬은 가로와 세로의 곡률 반경이 다른 곡면이므로 코로나 방전에 가장 효과적인 곧고 가느다란 전선을 사용할 수가 없고 얇은 금속판의 한 변을 판넬 내부의 한(가로) 곡률에 맞게 자른 박판형 곡선전극을 사용해야 하며, 또한 방전장치(36)의 방전을 위한 톱니모양의 다수의 팁(tip)이 그 선단에 형성된다.Although the charge amount to the photoconductive film 34 is uniformly exposed and developed in the exposure process of FIG. 3C and the developing process of FIG. Since the panel of curved surface has different radius of curvature, it is impossible to use the straight and thin wire that is most effective for corona discharge. In addition, a plurality of saw-toothed tips for discharging the discharge device 36 are formed at the tip thereof.

즉, 제5도(a)(b)에서 방전장치(36)는, 중앙부에 텅스텐 스텐레스 박판형으로 된 방전전극(51)과, 그 주위를 둘러싸는 절연판(53)과, 이들을 지지하기 위한 한 쌍의 지지금속편(52)과, 그 지지금속편(52)과 방전전극(51) 사이에 충전되어 방전전극(51)을 절연되게 지지하는 절연체(54)로 구성된다. 또한, 상기 방전전극(51)의 상단부는 첨예한 톱니모양의 다수의 팁(tip)(51a)으로 형성된다.That is, in FIG. 5 (a) (b), the discharge device 36 includes a discharge electrode 51 in the center of tungsten stainless steel plate, an insulating plate 53 surrounding the periphery thereof, and a pair for supporting them. And the insulator 54 which is charged between the supporting metal piece 52 and the supporting metal piece 52 and the discharge electrode 51 to insulate the discharge electrode 51 from each other. In addition, the upper end of the discharge electrode 51 is formed of a plurality of sharp teeth (tip) 51a.

이 방전전극(51)에는 대략 + 1KV까지 조절가능한 직류전압(V)이 인가되여 광전도막(34)을 + 전하로 대전시킨다. 전기장의 세기가 거의 같아야 모든 부분에서 고르게 방전될 수 있고 음극선관의 판넬이 균일하게 대전될 수 있다.An adjustable direct current voltage (V) is applied to the discharge electrode 51 to approximately +1 KV to charge the photoconductive film 34 with + charge. The intensity of the electric field should be about the same so that it can be discharged evenly in all parts and the panel of the cathode ray tube can be uniformly charged.

이와같이 광전도막(34)에 + 전하로 대전시키는 방전전극(51)과 대향전극(32) 사이의 방전능력은, 팁(51a)과 대향전극(32) 사이의 거리(d1), 팁 사이의 거리(d2), 팁의 형상과 그 첨예도(sharpness), 전기장의 세기, 전도막와 광전도막의 두께 등에 의하여 크게 좌우되며, 방전을 일으키기 위해서는 팁형상을 취해야 하기 때문에 광전도막(34)에 대전되는 전하량은 판넬의 중앙부분에서조차 전표면에 걸쳐 균일하게 될 수가 없다. 즉 팁(51a)으로부터 가장 가까운 직상부에서 최대의 방전이 일어나고 주위로 갈수록 약해진다.Thus, the discharge capacity between the discharge electrode 51 and the counter electrode 32 which charges the photoconductive film 34 with + charge is the distance d 1 between the tip 51a and the counter electrode 32 and between the tips. It depends greatly on the distance d 2 , the shape and sharpness of the tip, the strength of the electric field, the thickness of the conductive film and the photoconductive film, and the like. The amount of charge that is made cannot be uniform over the entire surface even in the center of the panel. That is, the maximum discharge occurs at the uppermost portion closest to the tip 51a, and weakens toward the circumference.

이에 따라, 상술한 노광공정 및 현상공정에서 불균일한 노광과 현상을 야기시키고 형광체입자가 소망의 배열구조에서도 불균일하게 일어나는 문제점이 있다.Accordingly, there is a problem of causing uneven exposure and development in the above-described exposure process and development process and causing the phosphor particles to be uneven even in a desired arrangement structure.

또한, 제5도(a)에서, 판넬(12)는 곡면인 판넬면판(18)과 판넬측벽부(18a)로 구분할 수 있는데, 그 판넬면판(18)의 중앙부(a)보다 주변부(b, c)에서 코로나 방전이 강하게 일어나게 되어, 더욱 대전의 균일성을 확보하기가 어려운 문제점이 있다. 나아가 이렇게 까다로운 조건을 한 번 맞추었다고 하여도 방전장치를 운영하는 과정에서 흐트러지기 쉽기 때문에 판넬을 거듭하여 여러 장 고르게 대전하기는 여간 어려운 일이 아니며, 따라서 대량생산을 목적으로 하는 경우에는 적용하기가 더욱 어려운 문제점이 있다.In addition, in FIG. 5 (a), the panel 12 can be divided into a panel face plate 18 and a panel side wall portion 18a, which are curved surfaces, and the peripheral portion b, rather than the central portion a of the panel face plate 18, is formed. In c), corona discharge is strongly generated, which makes it difficult to secure uniformity of charging. Furthermore, even if these conditions are met once, it is easy to be distracted during the operation of the discharge device, so it is not difficult to repeatedly charge the panels evenly over several times. Therefore, it is difficult to apply them for the purpose of mass production. There is a more difficult problem.

본 발명은 상술한 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 균일한 형광체 등의 현상밀도를 얻기 위해 균일하게 광전도막을 대전시킬 뿐만 아니라, 상술한 복잡한 코로나 방전공정과 그 장치를 제거하는 단순화된 공정에 의해 음극선관을 제조할 수 있는 음극선관의 전자사진식 스크린 제조방법을 제공하는 데에 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and the cathode ray is not only uniformly charged with a photoconductive film in order to obtain a developing density such as a uniform phosphor, but also by a simplified process of removing the complex corona discharge process and the apparatus described above. It is an object of the present invention to provide a method for producing an electrophotographic screen of a cathode ray tube capable of producing a tube.

이러한 본 발명의 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 판넬내면에 형광면을 형성시키기 위한 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법에 있어서; (1) 상기 판넬내면에 휘발성전도막을 형성시키는 1차코팅 단계; (2) 그 전도막위에 전기적 절연을 위한 절연막을 형성시키는 2차코팅 단계; (3) 그 절연막위에 제1파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제1광전도막을 형성시키는 3차코팅 단계; (4) 그 제1광전도막위에 제2파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제2광전도막을 형성시키는 4차코팅 단계; (5) 그 제2광전도막에 -직류전극을 인가하고 상기 전도막에 +직류전극을 인가하면서 그 제2광전도막에 제2파장역의 광선을 전면에 걸쳐 노광하므로서 균일한 정전하를 그 제2광전도막에 대전시키는 대전단계; (6) 그 제2광전도막의 정전하를 선택적으로 제1광전도막에 이동시키도록 제1파장역의 광선으로 새도우마스크를 통과시켜 노광하는 노광단계; 그리고 (7) 상기 노광단계(6)에서 정전하가 선택적으로 이동된 제1광전도막의 노광부분과 그 나머지 비노광부분중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 전자사진식 스크린제조방법을 제공한다.In order to achieve the object of the present invention, the present invention is a screen manufacturing method of an electrophotographic cathode ray tube for forming a fluorescent surface on the inner surface of the panel; (1) forming a volatile conductive film on the inner surface of the panel; (2) a secondary coating step of forming an insulating film for electrical insulation on the conductive film; (3) a tertiary coating step of forming a volatile first photoconductive film containing a material sensitive to light rays of a first wavelength region on the insulating film; (4) forming a volatile second photoconductive film on the first photoconductive film containing a material that is sensitive to light in a second wavelength region; (5) Applying a -DC electrode to the second photoconductive film and applying a + DC electrode to the conductive film while exposing the second wavelength region of light to the second photoconductive film over the entire surface to provide a uniform electrostatic charge. A charging step of charging the two photoconductive films; (6) an exposure step of exposing through a shadow mask with light rays of a first wavelength band so as to selectively move the electrostatic charge of the second photoconductive film to the first photoconductive film; And (7) a developing step of attaching the charged fine powder to any one of an exposed portion of the first photoconductive film to which the electrostatic charge is selectively shifted and the remaining non-exposed portion in the exposing step (6). Provided is an electrophotographic screen manufacturing method of a cathode ray tube.

또한, 본 발명은, 판넬내면에 형광면을 형성시키기 위한 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법에 있어서; (1) 상기 판넬내면에 휘발성전도막을 형성시키는 1차코팅 단계; (2) 그 전도막위에 전기적 절연을 위한 절연막을 형성시키는 2차코팅 단계; (3) 그 절연막위에 제1파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제1광전도막을 형성시키는 3차코팅단계; (4) 그 제1광전도막위에 휘발성의 전도성막을 형성시키는 4차코팅단계; (5) 그 전도성막에 -직류전극을 인가하고 상기 전도막에 +직류전극을 인가하면서 상기 제1광전도막에 제1파장역의 광선을 새도우마스크를 통과시켜 노광하므로서 선택적으로 전도성막에 충전된 정전하를 제1광전도막에 이동시키는 대전 및 노광단계; 그리고 (6) 상기 대전 및 노광단계(5)에서 정전하가 선택적으로 이동된 제1광전도막의 노광부분과 그 나머지 비노광부분중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 전자사진식 스크린제조방법을 제공한다.In addition, the present invention is a screen manufacturing method of an electrophotographic cathode ray tube for forming a fluorescent surface on the inner surface of the panel; (1) forming a volatile conductive film on the inner surface of the panel; (2) a secondary coating step of forming an insulating film for electrical insulation on the conductive film; (3) a tertiary coating step of forming a volatile first photoconductive film containing a substance sensitive to light rays of a first wavelength region on the insulating film; (4) a fourth coating step of forming a volatile conductive film on the first photoconductive film; (5) while applying -DC electrode to the conductive film and + DC electrode to the conductive film, the first photoconductive film is selectively filled with the conductive film by exposing the first wavelength band of light through a shadow mask. Charging and exposing the electrostatic charges to the first photoconductive film; And (6) a developing step of attaching the charged fine powder to any one of an exposed portion of the first photoconductive film to which the electrostatic charge is selectively moved in the charging and exposing step (5) and the remaining non-exposed portion. It provides a method for producing an electrophotographic screen of a cathode ray tube, characterized in that.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

제6도(a) 내지 (f)는 본 발명에 따른 각 공정을 개략적으로 도시한다. 제6도(a)에서 제3도(a)에 대응하는 것으로, 면판(18)의 내면에 전도막(62), 절연막(64), 제1광전도막(66) 및 제2광전도막(68)이 차례로 종래의 코팅방법에 의해 코팅된다. 전도막(62)는 종래의 조성용액으로서 예를들면, 폴리일렉트로라이트(polyelectrolyte)로서 Calgon사제품인 상품명 Catfloc+c 또는 Catfloc+CL 1+50 중량%와 1+50 중량%의 10% PVA용액의 수용액(나머지는 물)을 종래의 방법으로 도포하여 건조시킨다. 그 위에 제1파장역의 광선에 반응하는 물질을 포함하는 제1광전도막 도포용액을 종래의 방법으로 도포하여 건조시켜 제1광전도막(66)을 형성한다. 제2광전도막(68)도 제2파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 제2광전도막도포용액으로 종래의 방법으로 도포하여 형성된다.6 (a)-(f) schematically show each process according to the present invention. The conductive film 62, the insulating film 64, the first photoconductive film 66, and the second photoconductive film 68 are formed on the inner surface of the face plate 18 in FIGS. 6A through 3A. ) Is in turn coated by conventional coating methods. The conductive film 62 is a conventional composition solution, for example, 1% by weight of Catfloc + c or 1% by weight of Catfloc + c or Catfloc + CL manufactured by Calgon as polyelectrolyte and 1 + 50% by weight of 10% PVA solution. The aqueous solution (the remaining water) is applied by a conventional method and dried. The first photoconductive film coating solution containing the material reacting to the light of the first wavelength region is applied and dried by a conventional method to form the first photoconductive film 66 thereon. The second photoconductive film 68 is also formed by coating with a conventional method with a second photoconductive film coating solution containing a substance sensitive to light in the second wavelength region.

제6도(b)는 대전공정을 개략적으로 도시한 것으로서, 전술한 종래의 방법과는 상이하다. 직류전원의 -극을 제2광전도막(68)에 인가하고 +극은 전도막(62)에 인가된 상태에서 제2파장역의 광선을 제2광전도막(68)에 전면 조사시킨다. 이때, 광원과 제2광전도막(68)사이에 제1파장역의 광선차단필터를 사용할 수 있다. 이와 같이 하여 제2광전도막(68)에 -전하가 대전되는데, 이것은 전도막(62)과 제2광전도막(68)이 절연막(64)와 제1광전도막(66)을 사이에 두고 콘덴서를 형성하기 때문에 대전이 가능하게 되는 것이며, 전면노광의 조도를 제2광전도막(68) 표면에 걸쳐 균일하게 함으로서 균일하게 대전되는 것이 가능하게 된다.6 (b) schematically shows the charging process, which is different from the conventional method described above. In the state where the negative pole of the DC power is applied to the second photoconductive film 68 and the positive pole is applied to the conductive film 62, the light of the second wavelength range is irradiated to the second photoconductive film 68. In this case, a light blocking filter of a first wavelength region may be used between the light source and the second photoconductive film 68. In this manner, -charge is charged to the second photoconductive film 68, which is formed by placing the capacitor between the conductive film 62 and the second photoconductive film 68 with the insulating film 64 and the first photoconductive film 66 interposed therebetween. Since it forms, charging becomes possible, and it becomes possible to be uniformly charged by making uniform the illuminance of whole surface exposure over the surface of the 2nd photoconductive film 68. FIG.

제6도(c)는 노광공정을 개략적으로 도시한 것으로서, 제1파장역의 광선이 소망의 입사각으로 새도우마스크(16)에 입사하며, 소망의 배열을 가진 새도우마스크(16)의 애퍼처(aperture) 또는 슬리트(16a)홀을 통과하여 박막의 제2광전도막(68)과 제1광전도막(66)을 소망의 배열로 노광시킨다. 이에 의해 그 노광부분이 도전성을 가지게 되어, 제2광전도막(68)에 대전된 노광부분의 -전하가 제1광전도막(66)으로 선택적으로 이동한다. 그리고, 비노광부분의 전하는 그대로 제2광전도막(68)의 제1광전도막(66)측 표면에 잔존하게 된다. 그 뒤, 제6도(d)에서와 같이 0볼트의 전원을 전도막(62)와 제2광전도막(68)에 인가하여 그 잔존하는 전하를 방출시키므로서 제6도(e)에서와 같은 소정의 배열구조의 -전하잠상이 얻어진다.FIG. 6 (c) schematically shows the exposure process, in which light rays of the first wavelength region are incident on the shadow mask 16 at a desired angle of incidence, and the apertures of the shadow mask 16 having the desired arrangement ( The second photoconductive film 68 and the first photoconductive film 66 of the thin film are exposed through a hole or the slit 16a hole in a desired arrangement. As a result, the exposed portion becomes conductive, and the -charge of the exposed portion charged to the second photoconductive film 68 selectively moves to the first photoconductive film 66. The charge in the non-exposed portion remains on the surface of the first photoconductive film 66 side of the second photoconductive film 68 as it is. Thereafter, as in FIG. 6 (d), a 0-volt power source is applied to the conductive film 62 and the second photoconductive film 68 to release the remaining charges, and as shown in FIG. A latent charge image of a predetermined arrangement is obtained.

제6하(f)는 제3도(d)의 종래의 현상공정과 유사하다. 미세분말에 대전되는 정전기의 극성은 상기 노광공정에서의 노광부분과 비노광부분중 어느 부분에 그 미세분말을 부착시킬 것인가에 따라 결정는다. 즉 -전하를 띤 노광부분에 부착시킬 경우에는 미세분말이 +전하로 대전되고, 전하가 방출된 비노광부분에 부착시킬 경우에는 미세분말이 -전하로 대전된다. 이와같이 대전된 미세분말은 전기적 인력과 반발력의 작용에 의하여 소망의 배열로 광전도막(66)의 표면에 강하게 부착되어 실상을 형성한다.6f is similar to the conventional developing process of FIG. The polarity of the static electricity charged in the fine powder is determined depending on which of the exposed portion and the non-exposed portion is attached to the fine powder. In other words, the fine powder is charged to + charge when attached to the exposed portion of the charge, and the fine powder is charged to the non-exposed portion where the charge is released. The fine powder thus charged is strongly attached to the surface of the photoconductive film 66 in a desired arrangement by the action of electrical attraction and repulsive force to form a real image.

이와 같이 부착된 미세분말들은 종래와 같이 적외선 등에 의한 가열, 융착으로 제2광전도막(68)에 고착된다.The fine powders attached as described above are fixed to the second photoconductive film 68 by heating and fusion by infrared rays or the like as conventionally.

상기 본 발명에 따른 공정들도 칼라음극선관의 제조의 경우 제4도에서와 유사하게 제1내지 제3형광체(R, G, B)에 대해 반복 실시된다. 여기에 투입되는 판넬(12)은 그 면판(18)의 내면에 종래의 습식 스크린제조방법이나 건식 스크린제조방법 또는 상술한 본 발명의 스크린 제조방법에 의해 소망의 배열로 빛흡수물질(21)이 고착된 것이다. 그러나, 빛흡수물질(21)이 먼저 형성될 필요는 없고 전술한 미국 특허 제 5,240,798호에서와 같이, 형광체들을 고착시킨 후, 빛흡수물질(21)을 소망의 배열로 본 발명의 제조방법을 이용하여 부착 및 고착시킬 수 있다.The processes according to the present invention are also repeated for the first to third phosphors R, G, and B similarly as in FIG. 4 in the case of the production of the color cathode ray tube. The panel 12 to be inserted into the light absorbing material 21 is formed on the inner surface of the face plate 18 in a desired arrangement by a conventional wet screen manufacturing method, a dry screen manufacturing method, or the screen manufacturing method of the present invention described above. It is stuck. However, the light absorbing material 21 does not need to be formed first, and as shown in the above-mentioned US Patent No. 5,240,798, after fixing the phosphors, the light absorbing material 21 is used in a desired arrangement using the manufacturing method of the present invention. Can be attached and fixed.

그 뒤, 종래의 방법에 따라 라키가 도포되고, 알루미늄필름이 형성되며, 대기중에서 고온가열하므로서 전도막(62), 절연막(64), 제1광전도막(66), 제2광전도막(68) 등과 기타 휘발성물질들이 제거되고 형광체들이 고정되어 원하는 스크린이 얻어진다.Thereafter, the laki is coated in accordance with a conventional method, an aluminum film is formed, and heated at high temperature in the air, thereby conducting the conductive film 62, the insulating film 64, the first photoconductive film 66, and the second photoconductive film 68. And other volatiles are removed and the phosphors are fixed to obtain the desired screen.

또한, 상술한 제2광전도막(68)대신에 전도성막을 형성시킨 경우에는 제6도(b) 내지 (d)의 대전 및 전하이동단계가 동시에 실시될 수 있어, 제3도(b) 및 (c)의 대전 및 노광공정에 대체될 수 있다. 즉, 제6도(c)에서 제2광전도막(68)이 전도성막인 경우 전도막(62)와 전도성막(68)에 직류전원이 인가된 상태에서 새도우마스크(도시생략됨)를 통해 제1파장역의 광선을 제1광전도막(66)에 가하므로서 전도성막(68)에 충전됨과 동시에 소정의 배열구조로 그 노광부분만이 전하가 그 전도성막(68)로부터 제1광전도막(66)으로 이동하게 되고, 그 후, 제1파장역의 광선을 차단하고 전원을 0볼트로 하여 잔존하는 전도막(62)와 전도성막(68)의 전하를 방출하므로서 보다 간단하게 상술한 바와 같은 전하잠상을 얻을 수 있다.In addition, in the case where the conductive film is formed instead of the above-described second photoconductive film 68, the charging and charge transfer steps of FIGS. 6 (b) to (d) may be simultaneously performed. alternative to the charging and exposing process of c). That is, in FIG. 6C, when the second photoconductive film 68 is a conductive film, the second photoconductive film 68 is formed through a shadow mask (not shown) while DC power is applied to the conductive film 62 and the conductive film 68. The light of one wavelength region is applied to the first photoconductive film 66 and the conductive film 68 is charged, and only the exposed portion of the charge is transferred from the conductive film 68 to the first photoconductive film 66 in a predetermined arrangement. ), And then the electric charges of the first wavelength region are cut off and the electric power is set to 0 volts to release the remaining charges of the conductive film 62 and the conductive film 68. A latent image can be obtained.

이와같이 본 발명에 의하면, 전도막위에 절연막, 제1파장역의 광선에 감응하는 제1광전도막 및 제2파장역의 광선을 감응하는 제2광전도막을 형성하고 직접 전원을 인가하여 그 제2광전도막에 대전시키거나, 또는 제2광전도막대신 전도성막을 형성하여 전하잠상을 형성하므로서, 코로나방전장치와 같은 방전장치가 필요없을 뿐만 아니라 복잡한 방전조건을 조절할 필요없이 대전을 균일하게 할 수 있고, 공정도 단순화되며, 형광체 도포두께 및 크기, 형상 등을 균일하게 할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, an insulating film, a first photoconductive film sensitive to light rays in the first wavelength region, and a second photoconductive film sensitive to light rays in the second wavelength region are formed on the conductive film, and the power is directly applied to the second photoelectric film. By charging the coating film or forming a conductive film instead of the second photoconductive film to form a latent charge image, it is possible not only to eliminate the need for a discharge device such as a corona discharge device, but also to uniformly charge without controlling complicated discharge conditions. Also simplified, there is an effect that can uniform the thickness, size, shape and the like of the phosphor coating.

이상에서 본 발명이 바람직한 실시예들을 통해 설명되었으나, 본 발명은 이에 한정되지 아니하고 청구범위에 기재된 사항으로부터 당업자라면 여러가지 응용과 변형이 가능할 것이다.Although the present invention has been described through the preferred embodiments, the present invention is not limited thereto, and various changes and modifications will be possible to those skilled in the art from the matters described in the claims.

Claims (6)

판넬내면에 형광면을 형성시키기 위한 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법에 있어서; (1) 상기 판넬내면에 휘발성전도막을 형성시키는 1차코팅 단계; (2) 그 전도막위에 전기적 절연을 위한 절연막을 형성시키는 2차코팅 단계; (3) 그 절연막위에 제1파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제1광전도막을 형성시키는 3차코팅 단계; (4) 그 제1광전도막위에 제2파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제2광전도막을 형성시키는 4차코팅 단계; (5) 그 제 2광전도막에 -직류전극을 인가하고 상기 전도막에 +직류전극을 인가하면서 그 제2광전도막에 제2파장역의 광선을 전면에 걸쳐 노광하므로서 균일한 정전하를 그 제2광전도막에 대전시키는 대전단계; (6) 그 제2광전도막의 정전하를 선택적으로 제1광전도막에 이동시키도록 제1파장역의 광선으로 새도우마스크를 통과시켜 노광하는 노광단계; 그리고 (7) 상기 노광단계(6)에서 정전하가 선택적으로 이동된 제1광전도막의 노광부분과 그 나머지 비노광부분중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 전자사진식 스크린제조방법.A screen manufacturing method of an electrophotographic cathode ray tube for forming a fluorescent surface on an inner surface of a panel; (1) forming a volatile conductive film on the inner surface of the panel; (2) a secondary coating step of forming an insulating film for electrical insulation on the conductive film; (3) a tertiary coating step of forming a volatile first photoconductive film containing a material sensitive to light rays of a first wavelength region on the insulating film; (4) forming a volatile second photoconductive film on the first photoconductive film containing a material that is sensitive to light in a second wavelength region; (5) Applying a -DC electrode to the second photoconductive film and applying a + DC electrode to the conductive film while exposing the second wavelength region of light to the second photoconductive film over the entire surface to provide a uniform electrostatic charge. A charging step of charging the two photoconductive films; (6) an exposure step of exposing through a shadow mask with light rays of a first wavelength band so as to selectively move the electrostatic charge of the second photoconductive film to the first photoconductive film; And (7) a developing step of attaching the charged fine powder to any one of an exposed portion of the first photoconductive film to which the electrostatic charge is selectively shifted and the remaining non-exposed portion in the exposing step (6). An electrophotographic screen manufacturing method of a cathode ray tube. 제1항에 있어서, 상기 현상단계(7)에서의 미세분말이 제1, 제2 및 제3 형광체분말의 어느 하나를 포함하며, 그 각 제1, 제2 및 제3형광체분말에 대해 소망의 배열을 이루도록 상기 대전단계(5), 노광단계(6) 및 현상단계(7)가 반복적으로 실시되고, 그 후 각 형광체들을 고착시키는 고착단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법.The method of claim 1, wherein the fine powder in the developing step (7) comprises any one of the first, second and third phosphor powders, the desired powder for each of the first, second and third phosphor powders. The screen of the electrophotographic cathode ray tube, characterized in that the charging step (5), the exposure step (6) and the developing step (7) are repeatedly carried out to form an arrangement, and then a fixing step of fixing the respective phosphors. Manufacturing method. 제2항에 있어서, 상기 고착단계직전에 제1, 제2 및 제3형광체의 배열을 분리시키는 매트릭스 패턴을 형성하도록 빛흡수물질분말에 대해 상기 대전 단계(5)와 현상단계(7)가 실시되고, 그 고착단계는 배열된 각 형광체와 매트릭스패턴을 이룬 빛흡수물질을 고착시키는 단계인 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법.3. The charging step (5) and the developing step (7) according to claim 2, wherein the charging step (5) and the developing step (7) are carried out on the light absorbing material powder to form a matrix pattern which separates the arrangement of the first, second and third phosphors immediately before the fixing step. The fixing step is a step of fixing the light absorbing material having a matrix pattern with each of the phosphors arranged, the screen manufacturing method of an electrophotographic cathode ray tube. 판넬내면에 형광면을 형성시키기 위한 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법에 있어서; (1) 상기 판넬내면에 휘발성전도막을 형성시키는 1차코팅 단계; (2) 그 전도막위에 전기적 절연을 위한 절연막을 형성시키는 2차코팅 단계; (3) 그 절연막위에 제1파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제1광전도막을 형성시키는 3차코팅 단계; (4) 그 제1광전도막위에 휘발성의 전도성막을 형성시키는 4차코팅 단계; (5) 그 전도성막에 -직류전극을 인가하고 상기 전도막에 +직류전극을 인가하면서 상기 제1광전도막에 제1파장역의 광선을 새도우마스크를 통과시켜 노광하므로서 선택적으로 전도성막에 충전된 정전하를 제1광전도막에 이동시키는 대전 및 노광단계; 그리고 (6) 상기 대전 및 노광단계(5)에서 정전하가 선택적으로 이동된 제1광전도막의 노광부분과 그 나머지 비노광부분중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 전자사진식 스크린제조방법.A screen manufacturing method of an electrophotographic cathode ray tube for forming a fluorescent surface on an inner surface of a panel; (1) forming a volatile conductive film on the inner surface of the panel; (2) a secondary coating step of forming an insulating film for electrical insulation on the conductive film; (3) a tertiary coating step of forming a volatile first photoconductive film containing a material sensitive to light rays of a first wavelength region on the insulating film; (4) a fourth coating step of forming a volatile conductive film on the first photoconductive film; (5) while applying -DC electrode to the conductive film and + DC electrode to the conductive film, the first photoconductive film is selectively filled with the conductive film by exposing the first wavelength band of light through a shadow mask. Charging and exposing the electrostatic charges to the first photoconductive film; And (6) a developing step of attaching the charged fine powder to any one of an exposed portion of the first photoconductive film to which the electrostatic charge is selectively moved in the charging and exposing step (5) and the remaining non-exposed portion. Electrophotographic screen manufacturing method of a cathode ray tube, characterized in that. 제4항에 있어서, 상기 현상단계(6)에서의 미세분말이 제1, 제2 및 제3형광체분말의 어느 하나를 포함하며, 그 각 제1, 제2 및 제3형광체분말에 대해 소망의 배열을 이루도록 상기 대전 및 노광단계(5)와, 현상단계(6)가 반복적으로 실시되고, 그 후 각 형광체들을 고착시키는 고착단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법.5. The method according to claim 4, wherein the fine powder in the developing step (6) comprises any one of the first, second and third phosphor powders, the desired powder for each of the first, second and third phosphor powders. Wherein the charging and exposing step (5) and the developing step (6) are repeatedly performed to form an arrangement, and then a fixing step of fixing the respective phosphors thereon. 제5항에 있어서, 상기 고착단계직전에 제1, 제2 및 제3형광체의 배열을 분리시키는 매트릭스 패턴을 형성하도록 빛흡수물질분말에 대해 상기 대전 및 노광단계(5)와 현상단계(6)가 실시되고, 그 고착단계는 배열된 각 형광체와 매트릭스패턴을 이룬 빛흡수물질을 고착시키는 단계인 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린제조방법.6. The charging and exposing step (5) and the developing step (6) for the light absorbing material powder according to claim 5, in order to form a matrix pattern separating the arrangement of the first, second and third phosphors immediately before the fixing step. The fixing step is a step of fixing the light absorbing material forming the matrix pattern with each of the phosphors arranged, the screen manufacturing method of an electrophotographic cathode ray tube.
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