KR100187019B1 - Apparatus and method for drying substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 LCD 및 반도체 제조 과정에서 기판을 세정한 후 건조시키는 종래의 기판 건조 장치가 흡수 롤러를 자주 교체해야 하는 문제점이 있기 때문에, 상기 흡수 롤러가 함유한 세정액을 탈수 롤러로 탈수케 함으로써 상기 흡수 롤러의 세정제 함유량이 항상상기 흡수 롤러의 최대 흡수 능력 이하가 되도록하여 상기 흡수 롤러의 건조 성능을 향상시킨 기판 건조 방법과, 상기 흡수 롤러에 밀착되어 상기 흡수 롤러를 탈수시키는 탈수 롤러를 설치하고 상기 탈수 롤러 하부에 세정액을 수거할 수 있도록 폐액통을 설치함으로써 흡수 롤러의 잦은 교체가 필요 없고 주위의 오염도 방지되는 기판 건조 장치에 관한 것이다.The present invention has a problem that the conventional substrate drying apparatus for cleaning and drying the substrate in the LCD and semiconductor manufacturing process has to replace the absorption roller frequently, so that the absorption liquid by dehydrating the cleaning liquid contained in the absorption roller with the dehydration roller The substrate drying method which improved the drying performance of the said absorption roller by always making the cleaning agent content of a roller below the maximum absorption ability of the said absorption roller, and the dehydration roller which adheres to the said absorption roller and dehydrates the said absorption roller, and installs The present invention relates to a substrate drying apparatus in which a waste container is installed to collect the cleaning liquid under the rollers, so that frequent replacement of the absorbing rollers is not necessary and contamination of the surroundings is also prevented.

Description

기판 건조장치 및 방법Substrate Dryer and Method

제1도는 종래 기판 건조 장치의 사시도.1 is a perspective view of a conventional substrate drying apparatus.

제2도는 본 발명에 의한 기판 건조 장치의 도면으로서,2 is a diagram of a substrate drying apparatus according to the present invention,

(a)는 기판 건조 장치의 정면도,(a) is a front view of the substrate drying apparatus,

(b)는 기판 건조 장치의 주요부의 사시도,(b) is a perspective view of an essential part of the substrate drying apparatus,

제3도는 본 발명의 요부 구성인 탈수 롤러부의 도면으로서,3 is a drawing of a dewatering roller part that is a main configuration of the present invention.

(a)는 스프링과 조절 나사를 이용한 탈수 롤러부의 도면,(a) is a drawing of the dewatering roller unit using a spring and an adjustment screw,

(b)는 실린더를 이용한 탈수 롤러부의 도면.(b) is a figure of a dehydration roller part using a cylinder.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

17 : 탈수 롤러 18 : 탈수판17: dewatering roller 18: dewatering plate

20 : 밀착 조절 유니트 21, 21' : 가동 베어링이 블록20: close control unit 21, 21 ': movable bearing block

22 : 밀착 스프링 24 : 밀착 조절 나사22: close contact spring 24: close adjustment screw

25 : 실린더25: cylinder

본 발명은 LCD 및 반도체 제조 과정에서 기판을 세정한 후 건조시키는 기판 건조 장치와 기판 건조 방법에 관한 것으로서, 기판 상의 세정액을 흡수하는 흡수 롤러와, 상기 흡수 롤러에 밀착되어 상기 흡수 롤러를 탈수시키는 탈수 롤러를 포함하여 구성된 기판 건조 장치와, 상기 흡수 롤러가 함유한 세정액을 상기 탈수 롤러로 탈수케 함으로써 상기 흡수 롤러의 세정액 흡수량이 항상 상기 흡수 롤러의 최대 흡수 능력 이하가 되도록 하여 기판을 건조시키도록 하는 기판 건조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate drying apparatus and a substrate drying method for cleaning and drying a substrate in LCD and semiconductor manufacturing processes. The present invention relates to an absorption roller for absorbing a cleaning liquid on a substrate, and a dehydration for contacting the absorption roller to dehydrate the absorption roller. The substrate drying apparatus including the roller and the cleaning liquid contained in the absorbing roller are dehydrated by the dewatering roller so that the absorbent amount of the cleaning liquid of the absorbing roller is always below the maximum absorbing capacity of the absorbing roller so as to dry the substrate. It relates to a substrate drying method.

종래의 기판 건조 장치는 제1도에 도시된 바와 같이 세정이 끝난 기판(50a)을 이송하는 이송 롤러(미도시)와, 상기 기판(50a)의 상하 양측에서 상기 기판(50a) 상의 세정액을 흡수하는 2개의 흡수 롤러(1)와, 상기 이송 롤러(미도시)와 상기 흡수 롤러(1)를 구동시키는 구동장치(2)와, 상기 흡수 롤러(1) 축의 양단을 지지하고 상하 이동 가능한 베어링 블록(3)과, 상기 베어링 블록(3)의 상하 이동을 안내하고 지지하는 가이드 바(4)와, 상기 베어링 블록(3)의 상측에 위치되고 상기 베어링 블록(3)의 위치를 조절하여 상기 흡수 롤러(1) 사이의 간격을 제어하는 조절 나사(5)와, 상기 가이드 바(4)가 취부되는 베이스(6)로 구성된다.The conventional substrate drying apparatus absorbs a cleaning roller on the substrate 50a on both upper and lower sides of the transfer roller (not shown) for transferring the cleaned substrate 50a as shown in FIG. Two absorption rollers 1, a drive device 2 for driving the transfer roller (not shown) and the absorption roller 1, and a bearing block that supports both ends of the absorption roller 1 shaft and moves up and down. (3), a guide bar (4) for guiding and supporting the up and down movement of the bearing block (3), and positioned above the bearing block (3) and adjust the position of the bearing block (3) to absorb It consists of an adjusting screw 5 for controlling the distance between the rollers 1 and a base 6 on which the guide bar 4 is mounted.

상기와 같이 구성된 종래 기판 건조 장치는 세정이 끝난 기판(50a)이 상기 이송 롤러(미도시)에 의해 상기 흡수 롤러(1) 사이에 진입되면, 상기 흡수 롤러(1)는 상기 기판(50a)의 상하면에 밀착되어 회전되면서 상기 기판(50a) 상의 세정액을 흡수하게 된다. 상기 기판(50a)의 두께가 변하거나 상기 기판(50a)과 상기 흡수 롤러(1)의 접촉량 변경이 요구될 때에는 상기 조절 나사(5)로 상기 베어링 블록(3)의 위치를 조정함으로써 상기 흡수 롤러(1) 사이의 간격을 조절될 수 있다.In the conventional substrate drying apparatus configured as described above, when the cleaned substrate 50a enters between the absorbing rollers 1 by the conveying roller (not shown), the absorbing roller 1 of the substrate 50a While being in close contact with the upper and lower surfaces to absorb the cleaning liquid on the substrate (50a). When the thickness of the substrate 50a is changed or when the amount of contact between the substrate 50a and the absorption roller 1 is required, the absorption is adjusted by adjusting the position of the bearing block 3 with the adjusting screw 5. The gap between the rollers 1 can be adjusted.

그러나, 상기의 기판 건조 장치는 상기 기판(50a)이 계속 이송되어 오면 상기 흡수 롤러(1)에는 다량의 세정액이 함유되게 되어 건조 성능이 떨어지게 되므로 상기 흡수 롤러(1)를 자주 교체해 주어야 하는 문제점이 있다.However, the substrate drying apparatus has a problem that the absorbing roller (1) should be replaced frequently because the absorbent roller (1) contains a large amount of cleaning liquid when the substrate (50a) is continuously conveyed, resulting in poor drying performance. have.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 흡수 롤러를 교체하지 않아도 상기 흡수 롤러이 건조 성능이 항상 양호한 상태로 유지되는 기판 건조 방법과 그 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method and apparatus for drying a substrate in which the absorption roller is always maintained in a good state even when the absorption roller is not replaced.

상기의 목적을 실현하기 위한 본 발명에 의한 기판 건조 방법은 탈수 롤러를 사용하여 흡수 롤러의 세정제 함유량이 항상 흡수 롤러의 최대 흡수 능력 이하가 되도록 한 것을 특징으로 하고, 기판 건조 장치는 흡수 롤러에 밀착되어 상기 흡수 롤러가 흡수한 세정액을 탈수시키는 탈수 롤러와, 상기 탈수 롤러를 상기 흡수 롤러에 밀착시키는 밀착 조절 유니트를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.The substrate drying method according to the present invention for achieving the above object is characterized in that the cleaning agent content of the absorption roller is always below the maximum absorption capacity of the absorption roller using a dewatering roller, and the substrate drying apparatus is in close contact with the absorption roller. And a dehydration roller for dewatering the cleaning liquid absorbed by the absorber roller, and a closeness control unit for closely contacting the dewatering roller to the absorber roller.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 기판 건조 방법과, 기판 건조 장치의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of a substrate drying method and a substrate drying apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 기판 건조 방법은 제2도 및 제3도에 도시된 바와 같이 기판(50b)상의 세정액을 흡수 롤러(11)로 흡수하는 제1과정과, 탈수 롤러(17)를 상기 흡수 롤러(11)에 밀착시켜 맞물려 회전되도록 함으로써 상기 흡수 롤러(11)가 흡수한 세정액을 탈수시키는 제2과정과, 상기 탈수 롤러(17) 표면에 잔류된 세정액을 탈수판(18)으로 긁어내는 제3과정과, 탈수된 세정액을 폐액통(19)에 수집하는 제4과정으로 구성되어 있다.The substrate drying method of the present invention includes a first process of absorbing the cleaning liquid on the substrate 50b with the absorption roller 11 as shown in FIGS. 2 and 3, and the dewatering roller 17 with the absorption roller 11. And a second process of dehydrating the cleaning liquid absorbed by the absorbing roller 11 by being in close contact with the rotating member, and a third process of scraping the cleaning liquid remaining on the surface of the dehydrating roller 17 with the dehydrating plate 18. And a fourth process of collecting the dehydrated washing solution into the waste liquid container 19.

상기 흡수 롤러(11)의 세정액 흡수량이 항상 상기 흡수 롤러(11)의 최대 흡수 능력 이하가 되도록 상기 제2과정은 스프링(22)의 탄성을 이용하여 상기 탈수 롤러(17)를 상기 흡수 롤러(11)에 밀착시켜 탈수토록 하는 연속 탈수 방법 또는 기판(50b) 처리 매수를카운팅하여 일정 매수가 처리된 후 실린더(25)가 작동되어 상기 탈수 롤러(17)를 상기 흡수 롤러(11)에 일정 시간 동안 밀착시켜 탈수토록 하는 간헐적 탈수 방법이 사용된다.The second process uses the elasticity of the spring 22 to move the dehydration roller 17 to the absorption roller 11 so that the amount of the cleaning liquid absorbed by the absorption roller 11 is always less than or equal to the maximum absorption capacity of the absorption roller 11. ) Or a dehydration roller (17) to the absorbing roller (11) for a predetermined time after the continuous dewatering method or the number of substrate 50b treated sheets to be dehydrated in close contact with An intermittent dewatering method is used which is in close contact and allows dehydration.

상기의 기판 건조 방법을 이용한 본 발명의 기판 건조 장치는 세정이 끝난 기판(50b)을 이송하는 이송 롤러(미도시)와, 상기 기판(50b)상의 세정액을 흡수하여 상기 기판(50b)을 건조시키는 상·하측의 흡수 롤러(11)와, 상기 이송 롤러(미도시)와 상기 흡수 롤러(11)를 구동시키는 구동장치(12)와, 상기 흡수 롤러(11) 축의 양단을 지지하고 상하 이동 가능한 베어링 블록(13)과, 상기 베어링 블록(13)의 상하 이동을 안내하고 지지하는 가이드 바(14)와, 상기 베어링 블록(13)의 상측에 위치되고 상기 베어링 블록(13)의 위치를 조절하여 상기 흡수 롤러(11)사이의 간격을 제어하는 조절 나사(15)와, 상기 가이드 바(14)가 취부되는 베이스(16)와, 상기 흡수 롤러(11)에 밀착되어 맞물려 회전되면서 상기 흡수 롤러(11)를 탈수시키는 2개의 탈수 롤러(17)로 구성된다.The substrate drying apparatus of the present invention using the above-described substrate drying method includes a transfer roller (not shown) for transferring the cleaned substrate 50b and a cleaning liquid on the substrate 50b to dry the substrate 50b. An upper and lower absorbing roller 11, a driving device 12 for driving the conveying roller (not shown) and the absorbing roller 11, and a bearing capable of supporting both ends of the absorbing roller 11 shaft and moving up and down The block 13, the guide bar 14 for guiding and supporting the vertical movement of the bearing block 13, and the upper position of the bearing block 13, and adjusts the position of the bearing block 13 to Adjusting screw 15 for controlling the interval between the absorbing roller 11, the base 16 on which the guide bar 14 is mounted, and the absorbing roller 11 while being in close contact with the absorbing roller 11 is engaged. ) Is composed of two dewatering rollers 17 for dewatering.

이때, 상기 탈수 롤러(17)는 제1·2 탈수 롤러로 구성되어 상기 상·하측 흡수 롤러(11)에 각각 밀착되게 되는데, 하측 롤러에는 그 전방에서 제1탈수 롤러가 밀착되어 탈수시키고, 상측 롤러에는 그 후방에서 제2 탈수 롤러가 밀착되어 탈수시키게 된다.At this time, the dewatering roller 17 is composed of first and second dewatering rollers to be in close contact with the upper and lower absorbing rollers 11, respectively. The second dewatering roller is in close contact with the roller to be dewatered.

또한, 상기 탈수 롤러(17)의 하측에 위치되어 상기 탈수 롤러(17) 표면에 잔류된 세정액을 긁어내는 탈수판(18)과, 상기 탈수 롤러(17)의 하측에 바닥면이 일정 정도 경사지도록 설치되어 상기 탈수 롤러(17)와 상기 탈수판(18)에 의해 제거된 세정액을 모아 저장시키는 폐액통(19)과, 상기 탈수 롤러(17)를 상기 흡수 롤러(11)에 밀착시키는 밀착조절 유니트(20)로 구성된다.In addition, the dewatering plate 18 positioned below the dewatering roller 17 and scraping off the cleaning liquid remaining on the surface of the dewatering roller 17, and the bottom surface of the dewatering roller 17 is inclined to a certain degree. A waste liquid container 19 installed to collect and store the cleaning liquid removed by the dewatering roller 17 and the dewatering plate 18, and an adhesion control unit for closely attaching the dewatering roller 17 to the absorption roller 11; It consists of 20.

상기 밀착 조절 유니트(20)는 상기 탈수 롤러(17)축의 양단에 각각 위치되고, 상기 축을 지지하고 이동 가능한 가동 베어링 블록(21)과, 상기 가동 베어링 블록(21)을 탄발시키는 스프링(22)과, 상기 가동 베어링 블록(21)과 상기 스프링(22)의 외측에 위치되어 상기 부품들(21, 22)을 지지하는 케이스(23)와, 상기 가동 베어링 블록(21)의 위치를 제어하는 밀착 조절 나사(24)로 되어 있다.The close contact control unit 20 is located at both ends of the shaft of the dehydration roller 17, the movable bearing block 21 which supports and moves the shaft, and the spring 22 which elasticizes the movable bearing block 21; A close adjustment of the case 23 positioned outside the movable bearing block 21 and the spring 22 to support the parts 21 and 22 and the position of the movable bearing block 21. It is a screw 24.

상기와 같이 구성된 본 발명의 작용 효과를 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the effects of the present invention configured as described above in detail.

세정이 끝난 기판(50b)이 상기 흡수 롤러(11)에 진입되면 상기 흡수 롤러(11)는 상기 기판(50b)의 상하면에 각각 밀착되어 회전되면서 상기 기판(50b) 상의 세정액을 흡수하게 된다.When the cleaned substrate 50b enters the absorption roller 11, the absorption roller 11 is in close contact with the upper and lower surfaces of the substrate 50b to rotate and absorb the cleaning liquid on the substrate 50b.

이때, 상기 스프링(22)의 탄성에 의해 상기 탈수 롤러(17)가 상기 흡수 롤러(11)에 밀착되고 서로 맞물려 회전되면서, 상기 흡수 롤러(11)가 흡수한 세정액을 탈수시켜 하측의 상기 폐액통(19)으로 보내게 되고, 상기 탈수판(18)이 상기 탈수 롤러(17) 표면에 잔류된 세정액을 긁어내려 상기 폐액통(19)으로 보내게 된다.At this time, the dehydration roller 17 is in close contact with the absorption roller 11 and rotated by the elasticity of the spring 22, while dehydrating the cleaning liquid absorbed by the absorption roller 11 to the lower waste container The dehydration plate 18 scrapes off the cleaning liquid remaining on the surface of the dehydration roller 17 and sends the dehydration plate 18 to the waste liquid container 19.

제3도의 (b)에 도시된 본 발명의 다른 실시예는 가동 베어링 블록(21')을 전후 이동시키는 실린더(25)와, 상기 기판(50b)의 처리 매수를 카운팅하여 상기 실린더(25)를 제어하는 센서(미도시)를 포함하여 구성되어, 상기 흡수 롤러(11)가 상기 기판(50b) 상의 세정액을 흡수하면 그 처리 매수를 상기 센서(미도시)가 카운팅하게 된다.Another embodiment of the present invention shown in (b) of FIG. 3 includes a cylinder 25 for moving the movable bearing block 21 'back and forth, and counting the number of sheets of the substrate 50b so as to count the cylinder 25. It is configured to include a sensor (not shown) to control, the sensor (not shown) counts the number of processing when the absorption roller 11 absorbs the cleaning liquid on the substrate (50b).

상기 흡수 롤러(11)가 일정 매수의 상기 기판(50b)을 처리하면 기판(50b) 이송이 일시 정지되고, 상기 센서(미도시)에 의해 상기 실린더(25)가 작동되어 상기 흡수 롤러(11)에 상기 탈수 롤러(17)를 밀착시켜 상기 흡수 롤러(11)를 탈수시키게 된다. 일정 시간이 지나면 상기 실린더(25)가 작동되어 상기 탈수 롤러(17)를 이격시키고 다시 상기 기판(50b)이 이송되어 건조된다.When the absorption roller 11 processes the predetermined number of substrates 50b, the transfer of the substrate 50b is temporarily stopped, and the cylinder 25 is operated by the sensor (not shown) to operate the absorption roller 11. The dehydration roller 17 is brought into close contact with the dewatering roller 11 to dehydrate the absorption roller 11. After a certain time, the cylinder 25 is operated to space the dehydration roller 17 and again the substrate 50b is transferred and dried.

상기와 같이 본 발명은 흡수 롤러의 흡수량을 항상 상기 흡수 롤러의 최대 흡수 능력 이하가 되도록 탈수시킴으로써, 상기 흡수 롤러를 교체하지 않고도 상기 흡수 롤러의 건조 성능이 항상 양호한 상태로 유지되는 잇점이 있다.As described above, the present invention has the advantage that the drying performance of the absorbing roller is always maintained in a good state without replacing the absorbing roller by dehydrating the absorbing amount of the absorbing roller to always be below the maximum absorbing capacity of the absorbing roller.

또한, 탈수된 세정액을 폐액통을 통해 전량 수거함으로써 오염을 방지하는 또 다른 잇점이 있다.In addition, there is another advantage of preventing contamination by collecting all the dehydrated cleaning liquid through the waste container.

Claims (8)

세정이 끝난 기판을 이송시키는 이송 롤러와, 상기 기판의 상하측에 위치되어 상기 기판 상의 세정액을 흡수하여 건조시키는 흡수 롤러를 포함하여 구성된 기판 건조 장치에 있어서, 상기 흡수 롤러에 밀착되어 상기 흡수 롤러가 흡수한 세정액을 탈수시키는 탈수 롤러와, 상기 탈수 롤러를 밀착시키는 밀착 조절 유니트로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.A substrate drying apparatus comprising a transfer roller for transferring a cleaned substrate and an absorption roller positioned above and below the substrate to absorb and dry the cleaning liquid on the substrate, wherein the absorption roller is in close contact with the absorption roller. A dehydration roller for dewatering the absorbed cleaning liquid, and a close contact control unit for adhering the dewatering roller. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 흡수 롤러는 상·하측 롤러로 구성되고, 상기 탈수 롤러는 제1·2 탈수 롤러로 구성되어, 하측 롤러의 전방에 제1 탈수 롤러가 위치되고 상측 롤러의 후방에 제2 탈수 롤러가 위치되도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.The absorption roller is composed of upper and lower rollers, and the dehydration roller is composed of first and second dehydration rollers such that the first dehydration roller is positioned in front of the lower roller and the second dehydration roller is positioned behind the upper roller. Substrate drying apparatus, characterized in that configured. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탈수 롤러는 그 하측에 상기 탈수 롤러 표면에 잔류된 수분을 제거하는 탈수판과, 바닥이 일정 정도 경사지도록 설치되어 상기 탈수 롤러와 탈수판에 의해 제거된 세정액을 모아 저장시키는 폐액통이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 건조장치.The dewatering roller has a dewatering plate for removing the water remaining on the surface of the dewatering roller and a waste container for collecting and storing the cleaning liquid removed by the dewatering roller and the dewatering plate is installed so that the bottom is inclined to a certain degree. Substrate drying apparatus characterized in that. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 밀착 조절 유니트는 상기 탈수 롤러 축의 양측에 위치되어 상기 가이드 바를 따라 상하 이동 가능토록 설치된 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.The close contact control unit is located on both sides of the dehydration roller shaft and the substrate drying apparatus, characterized in that installed so as to move up and down along the guide bar. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 밀착 조절 유니트는 상기 탈수 롤러 축을 지지하는 가동 베어링 블록과, 상기 가동 베어링 블록을 탄발시켜 상기 탈수 롤러를 상기 흡수 롤러에 밀착시키는 스프링과, 상기 가동 베어링 블록과 상기 스프링의 외측에 위치되어 상기 부품들을 지지하고 상하 이동되는 케이스와, 상기 가동 베어링 블록의 위치를 제어하는 조절 나사로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.The close contact control unit includes a movable bearing block for supporting the dewatering roller shaft, a spring for elastically tightening the movable bearing block to closely contact the dewatering roller to the absorbing roller, and the movable bearing block and the spring, which are located outside the component. A substrate drying apparatus comprising: a case for supporting them and moving up and down, and an adjusting screw for controlling the position of the movable bearing block. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 밀착 조절 유니트는 상기 탈수 롤러 축의 양단을 지지하는 가동 베어링 블록과, 상기 가동 베어링 블록을 전후 이동시키는 실린더와, 상기 기판의 처리 매수를 카운팅하여 상기 실린더를 작동시키는 기판 감지 센서로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.The close contact control unit includes a movable bearing block for supporting both ends of the dehydration roller shaft, a cylinder for moving the movable bearing block back and forth, and a substrate detection sensor for operating the cylinder by counting the number of sheets of the substrate. Substrate drying device. 세정후 이송된 기판 상의 세정액을 흡수 롤러로 흡수하는 제1과정과, 탈수 롤러를 상기 흡수 롤러에 밀착시켜 맞물려 회전되도록 함으로써 상기 흡수 롤러가 흡수한 세정액을 탈수시키는 제2과정과, 탈수 롤러의 표면에 잔류된 세정액을 긁어내리는 제3과정과, 탈수된 세정액을 폐액통에 수집하는 제4과정으로 이루어진 기판 건조 방법.A first process of absorbing the cleaning liquid on the substrate transferred after cleaning with an absorption roller, a second process of dewatering the cleaning liquid absorbed by the absorption roller by engaging and rotating the dehydration roller to the absorption roller, and the surface of the dewatering roller And a third process of scraping off the cleaning liquid remaining in the wastewater and a fourth process of collecting the dehydrated cleaning liquid in the waste container. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제2과정은 상기 흡수 롤러의 세정액 흡수량이 항상 상기 흡수 롤러의 최대 흡수 능력 이하가 되도록 탈수시키는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법.And said second step is dewatering so that the amount of cleaning liquid absorption of said absorption roller is always below the maximum absorption capacity of said absorption roller.
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