KR0185612B1 - Row decoder for protecting stand by fail - Google Patents

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KR0185612B1
KR0185612B1 KR1019950024429A KR19950024429A KR0185612B1 KR 0185612 B1 KR0185612 B1 KR 0185612B1 KR 1019950024429 A KR1019950024429 A KR 1019950024429A KR 19950024429 A KR19950024429 A KR 19950024429A KR 0185612 B1 KR0185612 B1 KR 0185612B1
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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술 분야; 반도체 메모리 장치의 로우디코더에 관한 것이다.1. the technical field to which the invention described in the claims belongs; A low decoder of a semiconductor memory device.

2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제; 대기상태에서 발생하는 전류 페일을 해소할 수 있는 로우 디코더를 제공한다.2. The technical problem to be solved by the invention; It provides a row decoder that can eliminate current failing in the standby state.

3. 발명의 해결방법의 요지; 스트링선택라인들을 스트링선택신호에 따라 구동하기 위한 스트링구동회로들과, 워드라인들을 제1워드라인선택신호에 따라 구동하기 위한 워드 라인구동회로들을 가지는 로우 디코더에서 상기 워드라인구동회로들중 적어도 두 개이상의 워드라인구동회로를 제2워드라인선택신호에 따라 구동됨을 특징으로 한다.3. Summary of the Solution of the Invention; At least two of the word line driver circuits in a row decoder having string driver circuits for driving string select lines in accordance with a string select signal and word line driver circuits for driving word lines in accordance with a first word line select signal The at least one word line driver circuit is driven according to the second word line selection signal.

4. 발명의 중요한 용도; 반도체 메모리 장치의 로우디코더에 적합하게 사용된다.4. Significant use of the invention; It is suitably used for low decoders of semiconductor memory devices.

Description

대기상태시 페일을 방지한 로우 디코더Low Decoder Prevents Fail in Standby

제1도는 마스크 롬의 전반적인 기능 블록도.1 is an overall functional block diagram of a mask ROM.

제2도는 종래의 기술에 따른 로우 디코더와 로우 디코더에 접속된 메모리 셀어레이를 나타낸 회로도.2 is a circuit diagram showing a row decoder and a memory cell array connected to a row decoder according to the prior art.

제3도는 종래의 기술에 따라 로우디코더를 구동하기 위한 X-프리디코더의 구체회로도.3 is a concrete circuit diagram of an X-predecoder for driving a low decoder according to the prior art.

제4도는 본 발명에 따른 로우디코더와 로우디코더에 접속된 메모리셀 어레이를 나타낸 회로도.4 is a circuit diagram illustrating a low decoder and a memory cell array connected to the low decoder according to the present invention.

제5도는 본 발명에 따라 로우디코더를 구동하기 위한 X-프리디코더의 구체회로도.5 is a detailed circuit diagram of an X-predecoder for driving a low decoder according to the present invention.

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 로우 디코더에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a row decoder.

최근 로우 디코더를 이용하는 반도체 메모리 장치에서 대표적인 메모리 셀의 형태로는 콘택 마스크형과 낸드형이 있는데, 이들 중 상기 낸드형 메모리 셀은 트랜지스터들을 직렬로 접속하는 방식으로서 상기 메모리 셀의 면적을 최소화 할 수 있어 대부분의 롬에서 사용되고 있다. 이러한 낸드형 메모리 셀로 구성된 반도체 메모리 장치의 메모리 셀을 제조공정중 또는 제조공정후에 스트레서(제조공정중 : 화이트 리본, 핀-호울 등등 / 제조공정후 : 번-인 등등)에 의한 불량이 발생하였을 때 불량구제수단(여분의 메모리 셀, 에러정정코드 : ECC)에 의하여 구제가 가능하나, 상기 불량 메모리 셀로 인하여 대기(Stand-by)상태시 전류소모가 증가될때에는 데이터의 불량구제는 의미가 없어지므로 상기 전류증가를 억제하는 것이 필수적이다. 따라서 이와 관련한 대기상태시 전류증가에 대한 문제점을 후술될 제1∼제3도를 참조하여 설명할 것이다.Representative types of memory cells in a semiconductor memory device using a row decoder have a contact mask type and a NAND type. Among these, the NAND type memory cell can minimize the area of the memory cell by connecting transistors in series. It is used in most ROMs. When a memory cell of a semiconductor memory device composed of such NAND type memory cells is damaged by a stressor (during manufacturing process: white ribbon, pin-hole, etc. / after manufacturing process: burn-in, etc.) during or after the manufacturing process Remedy can be performed by a bad remedy (extra memory cell, error correction code: ECC), but when the current consumption increases in the stand-by state due to the bad memory cell, the bad remedy of data becomes meaningless. It is essential to suppress the current increase. Therefore, the problem of the current increase in the standby state in this regard will be described with reference to FIGS.

제1도는 마스크 롬의 전반적인 기능 블록도이다.1 is a general functional block diagram of a mask ROM.

제1도를 참조하면, 상기 마스크 롬은 칩 인에이블 신호 CEx에 의해 구동되는 칩 인에이블 버퍼(10)와, 상기 칩 인에이블 신호 CEx와 로우 어드레스 신호 AXi 및 컬럼 어드레스 신호AYi에 의해 구동되는 어드레스 버퍼(20)와, 상기 어드레스버퍼(20)의 출력신호들 P, Q, SS, X에 의해 구동되는 X-프리디코더(40)와, 상기 어드레스버퍼(20)의 출력신호들에 의해 구동되는 Y-프리디코더(50)와, 상기 X-프리디코더(40)의 출력신호들 Pi, Qi, SSi, Xi에 의해 구동되는 로우디코더(60)와, 상기 Y-프리디코더(50)의 출력신호에 의해 구동되는 Y-패스(80)와, 상기 로우디코더(60)의 출력신호와 상기 Y-패스(80)의 출력신호에 의해 구동되는 메모리 셀 어레이(70)와 상기 Y-패스(80)을 통해 출력되는 신호를 감지하여 증폭시키는 센스앰프(90)와, 상기 센스앰프(90)의 출력을 일시적으로 저장하는 데이터 출력버퍼(100)와, 상기 데이터 출력버퍼(100)의 출력단자와 접속된 입출력패드(110)로 구성된다.Referring to FIG. 1, the mask ROM includes a chip enable buffer 10 driven by a chip enable signal CEx, an address driven by the chip enable signal CEx, a row address signal AXi, and a column address signal AYi. Driven by the buffer 20, the X-predecoder 40 driven by the output signals P, Q, SS, and X of the address buffer 20, and the output signals of the address buffer 20. Y-predecoder 50, output signals of the X-predecoder 40, low decoder 60 driven by Pi, Qi, SSi, Xi, and output signal of the Y-predecoder 50 Y-pass 80 driven by the memory cell array 70 and Y-pass 80 driven by the output signal of the low decoder 60 and the output signal of the Y-pass 80. A sense amplifier (90) for sensing and amplifying a signal output through the, and temporarily storing the output of the sense amplifier (90) Emitter an output buffer 100 and an output terminal and the input-output pads (110) connected to the data output buffer 100.

상기 각 구성부중 잘 알려진 공지의 구성부는 본 발명의 특징을 흐리지 않기 위하여 상세한 설명은 생략한다.The well-known components of the above components are omitted from the detailed description so as not to obscure the features of the present invention.

제2도는 상기 제1도에 도시되어 있는 종래의 로우 디코더(60)에 접속된 메모리 셀 어레이(70)를 나타낸 회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram showing the memory cell array 70 connected to the conventional row decoder 60 shown in FIG.

제2도를 참조하면, 열 방향으로 배열된 다수개의 비트라인들중 하나의 브트라인 BL에 접속된 메모리 셀 스트링을 예를들어 설명할 것이다. 상기 비트라인 BL 과 접지전원 VSS사이에 메모리 셀 스트링들 S1,S2이 병렬로 접속되고, 상기 메모리 셀 스트링 S1은 상기 비트라인 BL과 접지전원사이에 상기 메모리 셀 스트링 S1을 선택하기 위한 선택트랜지스터들 ST1,ST2의 채널과 데이터를 저장 및 독출하기 위한 메모리 셀들 M1∼M8(엔채널 모오스 트랜지스터)의 채널들이 직렬로 접속되고, 상기 메모리 셀 스트링 S1과 동일한 구조를 가지는 메모리 셀 스트링들 S1∼Sn은 행과 열의 매트릭스형태로 배열되어 있고, 상기 메모리 셀들 M1∼M8의 제어 게이트들은 대응되는 워드라인들 WL1~WL8과 각기 접속되고, 상기 선택트랜지스터들 ST1,ST2은 대응되는 스트링선택라인들 SL1,SL2과 각기 접속되고, 상기 스트링선택 라인들 SL1,SL2은 대응되는 스트링선택라인들 SL1,SL2과 각기 접속되고, 상기 스트링선택 라인들 SL1,SL2과 상기 워드라인들 WL1∼WL8은 로우 디코더(60)에 접속되는 구조에 있어서, 후술될 본 발명을 명확히 하기 위해 상기 로우 디코더(60)를 상세히 설명하면 상기 로우 디코더(60)는 상기 스트링선택라인들 SL1,SL2에 각기 접속된 인버터들 INV1, INV2과 상기 인버어터들 INV1, INV2의 입력단자인 접속노드들 N2, N3과 전원전압사이에 채널이 직렬로 각기 접속되고 게이트는 상기 접속노드를 N2, N3 과 각기 접속된 프리차아지 트랜지스터들(공핍형(Depletion)) 엔채널 모오스 트랜지스터) PCT1, PCT2과 상기 스트링선택신호들 SS1, SS2과 대응되는 상기 접속노드들 N2, N3 사이에 채널이 직렬로 각기 접속된 패스트랜지스터들(엔채널 모오스 트랜지스터) PT1, PT2과, 상기 워드라인들 WL1∼WL8에 각기 접속된 지연회로들(두개의 인버어터 G2,G3로 구성된 회로) D1∼D8과, 상기 지연회로들 D1∼D8의 입력단자인 접속노드들 N4∼N11과 전원전압사이에 채널이 직렬로 각기 접속되고 게이트는 상기 접속노드들 N4∼N11과 각기 접속된 프리차아지 트랜지스터들(공핍형 엔채널 모오스 트랜지스터) WPCT1∼WPCT8과, 상기 워드라인선택신호들 X1~X8과 대응되는 상기 접속노드들 N셀~N1사이에 채널이 직렬로 각기 접속된 패스트랜지스터들(엔채널 모오스 트랜지스터) WPT1~WPT8과, 상기 패스트랜지스터들 PT1, PT2, WPT1∼WPT8의 게이트가 접속된 접속노드 N1에 접속되어 상기 X-프리디코더(40)의 출력신호들 Pi,Qi의 조합에 의해 동작하는 노아게이트 G1를 가진다.Referring to FIG. 2, a memory cell string connected to a strain line BL of one of a plurality of bit lines arranged in a column direction will be described as an example. Memory cell strings S1 and S2 are connected in parallel between the bit line BL and ground power supply VSS, and the memory cell string S1 selects transistors for selecting the memory cell string S1 between the bit line BL and ground power supply. The channels of ST1 and ST2 and the channels of the memory cells M1 to M8 (en-channel Morse transistor) for storing and reading data are connected in series, and the memory cell strings S1 to Sn having the same structure as the memory cell string S1 are Arranged in a matrix form of rows and columns, the control gates of the memory cells M1 to M8 are connected to the corresponding word lines WL1 to WL8, respectively, and the selection transistors ST1 and ST2 are corresponding string selection lines SL1 and SL2. Are respectively connected to the string selection lines SL1 and SL2 and are respectively connected to the corresponding string selection lines SL1 and SL2 and are respectively connected to the string selection lines SL1 and SL2. Since the word lines WL1 to WL8 are connected to the row decoder 60, the row decoder 60 will be described in detail to clarify the present invention to be described later. A channel is connected in series between the inverters INV1 and INV2 connected to SL1 and SL2 and the connection nodes N2 and N3, which are input terminals of the inverters INV1 and INV2, respectively, and the gate is connected to N2, Precharge transistors (depletion) en-channel MOS transistors connected to N3, respectively, and a channel is serially connected between PCT1 and PCT2 and the connection nodes N2 and N3 corresponding to the string selection signals SS1 and SS2. Fast transistors (en-channel mode transistors) PT1 and PT2 connected to each other, delay circuits (circuit consisting of two inverters G2 and G3) D1 to D8 respectively connected to the word lines WL1 to WL8, and the delay. Of circuits D1-D8 Precharge transistors (depletion en-channel MOS transistors) WPCT1 to WPCT8 are respectively connected in series between the input nodes N4 to N11 and the power supply voltage in series, and the gates are respectively connected to the connection nodes N4 to N11. And fast transistors (en-channel MOS transistors) WPT1 to WPT8 having channels connected in series between the connection nodes N cells to N1 corresponding to the word line selection signals X1 to X8, and the fast transistors PT1. , PT2, and a gate node G1 connected to the connection node N1 to which the gates of WPT1 to WPT8 are connected and operated by a combination of the output signals Pi and Qi of the X-predecoder 40.

상기 로우 디코더(60)의 동작은 제3도에 대한 상세한 설명후에 제시될 것이다.The operation of the row decoder 60 will be presented after the detailed description with respect to FIG.

제3도는 본 발명에 따라 워드라인을 제어하기 위한 워드라인선택신호를 발생시키는 워드라인제어회로를 도시한 것이다.3 shows a word line control circuit for generating a word line selection signal for controlling a word line in accordance with the present invention.

상기 워드라인제어회로는 상기 X-프리디코더(40)내에 포함되어 있는 회로이기에 이하 X-프리디코더(40)로 명할 것이다. 상기 워드라인제어회로는 상기 어드레스신호들 Ai, Aj, Ak과 그 상보신호 Ai,Aj,Ak들을 조합하여 워드라인 선택신호들 X1∼X8만을 발생하기 위한 회로가 도시된 상기 X-프리디코더(40)의 구성을 보면, 낸드게이트(41)와 두 개의 인버어터(42,43)로 이루어져 있다.Since the word line control circuit is a circuit included in the X-predecoder 40, it will be referred to as an X-predecoder 40 hereinafter. The word line control circuit comprises the X-predecoder 40 showing a circuit for generating only word line selection signals X1 to X8 by combining the address signals Ai, Aj, Ak and its complementary signals Ai, Aj, Ak. ) Is composed of a NAND gate 41 and two inverters 42 and 43.

제2도와 제3도를 통하여 상기 로우 디코더(60)의 동작을 살표보면, 스트링 선택라인들 SL1,SL2의 동작은 상기 X-프리디코더(40)로 부터의 출력신호 Pi, Qi 둘다 로우레벨로 상기 노아게이트 G1의 두 입력단자로 입력되면, 상기 노아게이트 G1의 출력단자는 하이레벨로 된다. 이때 외부입력신호인 어드레스신호 SS가 상기 X-프리디코더(40)로 입력되어지고, 상기 X-프리디코더(40)에 의해 선택되는 스트링선택신호 SS1는 로우레벨(선택되지 않은 스트링선택신호를 SS2∼SSn은 모두 하이레벨의 전압값으로 차아지된다)로 천이되어 상기 패스트랜지스터 PT1를 통해 방전시킨다. 이어 상기 인버어터 INV1를 통과한 하이레벨(선택되지 않은 스트링선택라인들 SL2∼SLn은 모두 로우레벨의 전압값이 인가된다)의 전압값이 인가되어 상기 선택트랜지스터 ST3(선택트랜지스터 ST4에는 로우레벨의 전압값이 인가되어 턴-온된다)를 턴-온시켜 상기 스트링 S2이 선택되어진다. 상기 선택된 스트링 S2내의 메모리 셀들 M9∼M16의 게이트에 접속된 워드라인들 WL1∼WL8의 동작은 외부입력신호인 어드레스신호 S가 상기 X-프리 디코더(40)에 입력되고, 이 X-프리 디코더(40)에 의해 선택된 한 개의 워드라인선택신호 X1는 로우레벨로 되어 상기 패스트랜지스터 WPT1를 통해 방전된다. 이어서 상기 지연회로 D1에 의해 지연된 뒤 상기 워드라인 WL1에는 로우레벨(선택되지 않은 워드라인 WL2∼WL8에는 하이레벨)이 인가되어 상기 스트링 S2에 연결된 상기 메모리 셀 M9이 선택된다. 이때 상기 메모리 셀 M9이 증가형(Inhencement)이면 턴-오프되고, 공핍형(Depletion)이면 턴-온되므로 전류는 이미 턴-온되어 있는 메모리 셀 M10에서 상기 메모리 셀 M16를 통해 상기 비트라인 BL에 연결된 상기 센스 앰프(90)와 접지전압(그라운드레벨의 전압)간의 경로가 형성되게 된다. 따라서 상기 센스 앰프(90)와 접지전압간의 전류경로가 형성될때와 형성되지 않을때의 두 모드에 의해 상기 센스 앰프(90)는 논리 데이터 1 또는 논리 데이터 0을 판독하게 되는 것이다. 한편 반도체 메모리 장치의 대기상태시 상기 로우 디코더(60)의 동작을 살펴보면, 상기 로우 디코더(60)를 선택하기 위한 신호인 Pi, Qi신호는 대기상태시 하이레벨로 되므로, 상기 노아게이트 G1의 출력단자인 접속노드 N1는 로우레벨로 되어 상기 패스트랜지스터 PCT1, PCT2, WPCT1~WPCT8을 턴-오프시킴으로써 상기 프리차아지트랜지스터들 PCT1, PCT2, WPCT1~WPCT8에 의해 차아지(하이레벨의 전압값)된다. 상기 프리차아지트랜지스터들 PCT1, PCT2에 의해 차아지된 전하들은 상기 인버어터들 INV1, INV2에 의해 상기 스트링 선택 라인들 SL1, SL2에 로우레벨의 전압값을 인가하고, 상기 워드라인들 WL1~WL8에 접속된 상기 프리차아지트랜지스터들 WPCT1~WPCT8에 의해 프리차아지된 전하들은 상기 지연회로들 D1~D8에 의해 상기 모든 워드라인들 WL1~WL8에 하이레벨의 전압값을 인가한다. 따라서 칩의 대기상태시 상기 메모리 셀들 M1~M8중에서 한개 또는 그이상의 메모리 셀의 게이트 보호막인 산화막이 파괴되어 있다면, 파괴된 상기 메모리 셀의 게이트에 걸리는 전압과 그라운드간의 직류전류경로가 형성되어 대기전류 페일(Fail)을 초래하게 되는 문제점이 있다.Referring to the operation of the row decoder 60 through FIGS. 2 and 3, the operation of the string select lines SL1 and SL2 is performed at the low level of both the output signals Pi and Qi from the X-predecoder 40. When the two input terminals of the noble gate G1 are input, the output terminal of the noble gate G1 becomes high level. At this time, an address signal SS, which is an external input signal, is input to the X-predecoder 40, and the string selection signal SS1 selected by the X-predecoder 40 has a low level (SS2 is selected as a string selection signal. And SSn are all charged to a high level voltage value) to discharge through the fast transistor PT1. Subsequently, a voltage value of a high level (all unselected string selection lines SL2 to SLn are applied with a low level voltage) passing through the inverter INV1 is applied to the selection transistor ST3 (the selection transistor ST4 has a low level). The string S2 is selected by turning on a voltage value applied and being turned on). In the operations of the word lines WL1 to WL8 connected to the gates of the memory cells M9 to M16 in the selected string S2, an address signal S, which is an external input signal, is input to the X-free decoder 40, and the X-free decoder ( One word line selection signal X1 selected by 40) becomes low level and is discharged through the fast transistor WPT1. Subsequently, after being delayed by the delay circuit D1, a low level (high level is applied to unselected word lines WL2 to WL8) is applied to the word line WL1 to select the memory cell M9 connected to the string S2. At this time, if the memory cell M9 is turned on (Inhencement) is turned off, if the depletion (Depletion) is turned on, current is already turned on in the memory cell M10 through the memory cell M16 to the bit line BL A path between the connected sense amplifier 90 and a ground voltage (ground level voltage) is formed. Therefore, the sense amplifier 90 reads the logical data 1 or the logical data 0 by the two modes when the current path between the sense amplifier 90 and the ground voltage is formed or not. On the other hand, the operation of the row decoder 60 in the standby state of the semiconductor memory device will be described. Since the signals Pi and Qi, which are signals for selecting the row decoder 60, are at a high level in the standby state, the output of the NOA gate G1 is output. The connection node N1, which is a terminal, becomes low level and is charged by the precharge transistors PCT1, PCT2, and WPCT1 to WPCT8 by turning off the fast transistors PCT1, PCT2, and WPCT1 to WPCT8. . The charges charged by the precharge transistors PCT1 and PCT2 apply a low level voltage value to the string select lines SL1 and SL2 by the inverters INV1 and INV2, and the word lines WL1 to WL8. The charges precharged by the precharge transistors WPCT1 to WPCT8 connected to the high voltage are applied to all of the word lines WL1 to WL8 by the delay circuits D1 to D8. Therefore, if an oxide layer, which is a gate protection layer of one or more memory cells, is destroyed in the memory cells M1 to M8 during the standby state of the chip, a DC current path is formed between the voltage applied to the gate of the destroyed memory cell and the ground to form a standby current. There is a problem that causes a failure (Fail).

따라서, 본 발명의 목적은 칩의 대기상태에서 발생되는 전류 페일을 해소할 수 있는 로우 디코더를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a row decoder capable of eliminating current fail generated in the standby state of a chip.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에서는, 비트라인에 접속된 스트링선택 트랜지스터와 접지전압사이에 직렬로 연결된 복수개의 메모리 쎌 트랜지스터로 이루어진 복수개의 메모리 쎌 스트링을 가지는 불휘발성 반도체 메모리 장치에 있어서 : 상기 메모리 쎌 스트링의 메모리 쎌 트랜지스터중 상기 스트링 트랜지스터측에 연결된 제1메모리 쎌 트랜지스터 그룹의 구동을 제어하는 제1회로부와; 패스트랜지스터, 프리차아지트랜지스터 및 인버터로 구성되며, 상기 메모리 쎌 스트링의 메모리 쎌 트랜지스터중 상기 접지전압측에 연결된 제2메모리 쎌 트랜지스터 그룹의 구동을 제어하여 상기 반도체 메모리 장치가 대기상태에 있을 때 상기 메모리 쎌 스트링과 상기 접지전압사이의 전기적 연결을 선택적으로 통제하는 제2회로부를 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치를 제공한다.In the present invention for achieving the above object, a nonvolatile semiconductor memory device having a plurality of memory strings consisting of a plurality of memory string transistors connected in series between a string select transistor connected to a bit line and a ground voltage. A first circuit section for controlling driving of a first memory V transistor group connected to the string transistor side of the memory V transistors of a memory V string; And a fast transistor, a precharge transistor, and an inverter. The semiconductor memory device is in a standby state by controlling driving of a second memory transistor group connected to the ground voltage side of the memory transistor of the memory string. And a second circuit section for selectively controlling the electrical connection between the memory string and the ground voltage.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명이 첨부된 도면들을 참조하여 설명된다.Hereinafter, the detailed description of the preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도면들중 동일한 구성요소 및 부분들은 가능한한 어느곳에서든지 동일한 부호들을 나타내고 있음을 유의하여야 한다.It should be noted that like elements and parts in the figures represent the same numerals wherever possible.

제4도는 본 발명에 따른 로우 디코더(160)에 접속된 메모리 셀 어레이(70)를 나타낸 회로도이다.4 is a circuit diagram showing a memory cell array 70 connected to the row decoder 160 according to the present invention.

제4도를 참조하여 로우 디코더(160)의 구성을 살펴보면, 제2도에서 설명된 회로구성과 동일한데 다른점은 상기 워드라인들 WL7, WL8을 구동하기 위한 회로에 있어서 상기 제2도에 도시된 지연회로 D7, D8내의 인버어터들 G2,G3중 하나를 제거하여 회로를 구성하였다. 상기 인버어터들 G2,G3중 하나를 제거하여 접속된 인버어터의 번호는 G10, G20으로 각기 명하여 후술될 설명의 편의를 도모할 것이다. 한편 동작에 대한 설명은 제5도에 대한 설명후에 제시될 것이다.Referring to FIG. 4, the configuration of the row decoder 160 is the same as the circuit configuration described with reference to FIG. 2 except for the circuit shown in FIG. 2 in the circuit for driving the word lines WL7 and WL8. The circuit was constructed by removing one of the inverters G2 and G3 in the delay circuits D7 and D8. The number of inverters connected by removing one of the inverters G2 and G3 will be named as G10 and G20, respectively, for the convenience of the following description. The description of the operation will be presented after the description of FIG.

제5도는 본 발명에 따라 워드라인을 제어하기 위한 워드라인선택신호를 발생시키는 워드라인제어회로이다.5 is a word line control circuit for generating a word line selection signal for controlling a word line in accordance with the present invention.

제5도를 통하여 회로구성을 살펴보면, 상기 워드라인들 WL1∼WL6을 제어하기 위한 워드라인선택신호들 X1∼X6을 발생하기 위한 회로구성은 제3도에서 설명된 것과 동일하고, 상기 워드라인들 WL7, WL8을 제어하기 위한 워드라인선택신호들 X7,X8을 발생하기 위한 회로구성은 제3도에서 설명된 것의 출력단에 인버어터(44)를 추가하여 설계하였다.Referring to the circuit arrangement of FIG. 5, the circuit arrangement for generating word line selection signals X1 to X6 for controlling the word lines WL1 to WL6 is the same as that described in FIG. The circuit configuration for generating word line selection signals X7 and X8 for controlling WL7 and WL8 was designed by adding an inverter 44 to the output terminal of the one described in FIG.

제4도와 제5도를 통하여 동작을 설명하면, 상기 스트링선택라인들 SL1,SL2과 워드라인들 WL1∼WL6을 선택하기 위한 동작은 제2도에서 설명된 것과 동일하여 생략하고, 상기 워드라인들 WL7, WL8을 선택하기위한 동작과, 칩의 대기상태에서의 동작에 대해 상세히 살펴볼 것이다. 우선 상기 칩의 대기상태에서는 상기 노아게이트 G1의 출력단자는 로우레벨의 전압값을 나타내는 상태이므로 상기 패스트랜지스터들 WPL7, WPL8은 턴-오프되고 상기 프리차아지 트랜지스터들 WPCT7, WPCT8에 의해 상기 접속노드를 N10,N11이 차아지된다. 상기 프리차아지트랜지스터들 WPCT7, WPCT8에 의해 차아지된 전하들은 상기 인버어터들 G10, G20에 의해 상기 워드라인들 WL7, WL8에 로우레벨의 전압값을 인가한다. 따라서 상기 스트링내의 메모리 셀들 M1∼M16중에서 한 개 또는 그 이상의 메모리 셀의 게이트 보호막인 산화막이 파괴되어 있더라도 상기 스트링들의 끝단에 접속된 두 메모리 셀 M7, M8 또는 M15, M16의 게이트에 인가되는 전압이 없으므로 대기상태시 페일되는 것을 구제하게 된다 여기서 상기 스트링 S2의 끝단에 접속된 한 개 또는 그 이상의 워드라인을 대기상태시 로우레벨로 되게하는 방법에 있어서 사용상의 차이는 만일 상기 스트링 S2의 끝단에 한 개의 워드라인만이 로우레벨이 되는 경우에는 그 워드라인에 의해 선택되는 메모리 셀 M8이 공핍형(Depletion) 트랜지스터인 경우는 전류경로를 차단하지 못하게 되므로 대기상태시 흐르는 전류를 구제하지 못하게 되며, 상기 메모리 셀 M8이 증가형(Enhancement) 트랜지스터인 경우는 대기상태시 전류를 차단하게 된다. 따라서 이와같은 경우의 확률을 줄이기 위해 두 개 또는 그 이상의 워드라인을 대기상태시 로우레벨이 되게하여 보다 정확한 대기상태시 페일을 구제하게 된다. 또한 상기 워드라인들 WL1∼WL6은 제2도에서 설명된 것과 동일하게 동작되어 진다. 한편 반도체 메모리 장치의 상기 대기상태시 이외의 동작을 살펴보면, 상기 스트링선택라인들 SL1, SL2과 상기 워드라인들 WL1∼WL6의 동작은 제2도에서 설명된 것과 동일하며 상기 워드라인들 WL7, WL8의 동작을 살펴보면, 상기 워드라인들 WL7, WL8중에서 상기 워드라인 WL8이 선택되었을 때 상기 외부입력신호인 어드레스신호 X가 상기 X-프리디코더(40)에 의해 선택되어지는 상기 워드라인 선택신호 X8는 하이레벨의 전압값을 가지고 상기 워드라인 선택신호 X7는 로우레벨의 전압값을 가지게 된다. 따라서, 상기 비선택된 워드라인 WL7에 접속된 상기 턴-온되어 있는 패스트랜지스터 WPT7를 통하여 상기 접속노드 N10를 그라운드레벨로 만듦으로써 상기 인버어터 G10에 의해 하이레벨상태가되어 본래의 로우디코더의 동작이 이루어지게 된다.4 and 5, the operation for selecting the string selection lines SL1 and SL2 and the word lines WL1 to WL6 is the same as that described with reference to FIG. 2, and thus, the word lines are omitted. The operation to select WL7 and WL8 and the operation of the chip in the standby state will be described in detail. First, in the standby state of the chip, since the output terminal of the noble gate G1 is a state indicating a low voltage value, the fast transistors WPL7 and WPL8 are turned off and the connection node is disconnected by the precharge transistors WPCT7 and WPCT8. N10 and N11 are charged. The charges charged by the precharge transistors WPCT7 and WPCT8 apply a low level voltage value to the word lines WL7 and WL8 by the inverters G10 and G20. Therefore, even when an oxide film, which is a gate protection film of one or more memory cells, of the memory cells M1 to M16 in the string is destroyed, the voltages applied to the gates of the two memory cells M7, M8, M15, and M16 connected to the ends of the strings remain. In this case, the difference in usage in the method of bringing one or more word lines connected to the end of the string S2 into the low level in the standby state is limited to the end of the string S2. When only one word line is at a low level, when the memory cell M8 selected by the word line is a depletion transistor, the current path cannot be blocked, and thus the current flowing in the standby state cannot be saved. If memory cell M8 is an enhancement transistor, shut off current in standby It is good. Therefore, in order to reduce the probability of such a case, two or more word lines are brought to a low level in the standby state to save the fail in the more accurate standby state. Further, the word lines WL1 to WL6 are operated in the same manner as described in FIG. Meanwhile, referring to operations other than the standby state of the semiconductor memory device, operations of the string selection lines SL1 and SL2 and the word lines WL1 to WL6 are the same as those described with reference to FIG. 2 and the word lines WL7 and WL8. The word line selection signal X8 in which the address signal X, which is the external input signal, is selected by the X-predecoder 40 when the word line WL8 is selected among the word lines WL7 and WL8, The word line select signal X7 has a low level voltage with a high level voltage. Thus, by bringing the connection node N10 to ground level through the turned-on fast transistor WPT7 connected to the unselected word line WL7, the inverter G10 is brought into a high level state, thereby operating the original low decoder. Will be done.

전술한 바와 같이 본 발명은 메모리 셀의 게이트 보호막이 파괴되었을 때 발생할수 있는 대기전류페일을 제거할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of eliminating the standby current fail that may occur when the gate protection layer of the memory cell is destroyed.

본 발명을 8개의 메모리 셀들을 가지는 스트링을 예를 들어 설명하였지만 메모리 셀들이 16개 또는 그이상의 메모리 셀들을 가지는 경우에도 적용가능하다. 또한 상기 비트라인의 양쪽에 두 개의 스트링을 가지는 경우에 한정하여 설명하였지만 한쪽에는 스트링을 가지는 경우에도 적용가능함은 본 분야의 숙련된 자에게 있어 명백할 것이다.Although the present invention has been described with a string having eight memory cells as an example, it is also applicable to the case where the memory cells have 16 or more memory cells. In addition, the present invention has been described in the case of having two strings on both sides of the bit line, but it will be apparent to those skilled in the art that the present invention is applicable to the case of having a string on one side.

Claims (2)

(정정) 비트라인에 접속된 스트링선택트랜지스터와 접지전압사이에 직렬로 연결된 복수개의 메모리 쎌 트랜지스터로 이루어진 복수개의 메모리 쎌 스트링을 가지는 불휘발성 반도체 메모리 장치에 있어서: 상기 메모리 쎌 스트링의 메모리 쎌 트랜지스터중 상기 스트링 트랜지스터 측에 연결된 제1메모리 쎌 트랜지스터 그룹의 구동을 제어하는 제1회로부와; 패스트랜지스터, 프리차이지트랜지스터 및 인버터로 구성되며, 상기 메모리 쎌 스트링의 메모리 쎌 트랜지스터중 상기 접지전압측에 연결된 제2메모리 쎌 트랜지스터 그룹의 구동을 제어하여 상기 반도체 메모리 장치가 대기상태에 있을 때 상기 메모리 쎌 스트링과 상기 접지전압사이의 전기적 연결을 선택적으로 통제하는 제2회로부를 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.1. A nonvolatile semiconductor memory device having a plurality of memory V strings comprising a plurality of memory V transistors connected in series between a string selection transistor connected to a bit line and a ground voltage, wherein: a memory V transistor of the memory V string A first circuit section for controlling driving of a first memory-V transistor group connected to the string transistor side; And a fast transistor, a precharge transistor, and an inverter. The semiconductor memory device is in a standby state by controlling driving of a second memory transistor group connected to the ground voltage side of the memory transistor of the memory string. A second circuit portion for selectively controlling the electrical connection between the string and the ground voltage; (정정) 제1항에 있어서, 대기상태시 상기 제2회로부의 출력은 로우레벨임을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.(Correction) The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the output of said second circuit portion is at a low level in a standby state.
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