KR0182165B1 - 청정실 반입 용지용 세정 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING)장치에 관한 것으로, 세정 처리실내에 투입된 반입 용지가 놓여질 수 있도록 마련된 지지 부재와, 상기 지지 부재의 감응 신호에 따라 반입 용지를 향해 분사됨으로 샤워링이 가능하게 마련된 복수 개의 에어 노즐과, 샤워링에 의해 분리된 입자가 반입 용지의 하면으로 배출될 수 있도록 세정 처리실에 망사형으로 배치되는 바닥면과, 상기 바닥면의 저면을 포함하며, 진공 펌프에 의해 포집된 입자가 배출되도록 입자 포집구가 구비되어 관리해야 될 오염원증 입자(PARTICLE)에 대한 오염이 최소화 되도록 라인 내에 입실하는 작업자가 에어 샤워를 하듯 각종 작업 지침서 및 작업 일지에 대해서도 샤워링을 통한 세정 과정을 마련함으로써 상기의 반입 용지에 부착된 입자들을 조기에 제거하여청정실의 기능 향상을 구현하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치이다.

Description

청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치

제1도는 발명의 실시예에 따라 전체적인 구성 상태를 도시해 보인 개략적인 사시도.

제2도는 도면 제1도의 실시예에서 세정 처리실을 도시해 보인 개략도.

제3도는 도면 제2도의 세정 처리실에 설치되는 지지 부재를 도시한 분해 사시도.

제4도는 상기 실시예에 의한 본 발명의 작동 상태를 도시한 것.

제4a도는 반입 용지가 센서부에 세팅됨을 도시한 개략도.

제4b도는 반입 용지의 세팅 감응 신호에 따라 청정 에어가 분사됨을 도시한 것이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 공간부 10 : 세정 처리실

11 : 지지 부재 12 : 에어 노즐

13 : 바닥면 14 : 입자 포집구

20 : 온/오프 감지 센서 21 : 보호망

22 : 진공 펌프 100 : 반입 용지

본 발명은 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치에 관한 것으로, 특히 청정실에 반입되기 전 각종의 메뉴얼 또는 작업일지등의 반입 용지에 부착된 입자(PARTICLE)의 제거가 가능하도록 상기 반입 용지의 세팅과 동시에 이를 감지하여 청정 에어가 분사되게 하며, 이탈되는 입자는 입자 포집구를 통해 흡착 배출되도록 하여 청정실의 기능 향상을 구현하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING)장치에 관한 것이다.

일반적으로, 생산 활동이 고부가가치의 다품종 소량 생산 시대로 돌입하면서 종래 보다 한층 순도가 높고, 정밀도가 높은 제품을 제조하는 공정이 보편화되고 있으며, 특히 이러한 경향은 기가(GIGA)-비트(BIT)메모리 시대를 모색하고 있는 반도체 생산 공정에서 현실화되고 있다.

즉, 반도체 제조 생산 단계에서는 여러 가지 오염원인들, 각종 이온 불순물(IMPURITY), 중금속 입자등 최근에는 유기물까지 오염 물질에 포함되어 관리해야 될 오염의 범위는 디바이스의 고집적화와 더불어 점점 미세화 되어 가고 있는 추세이다.

따라서, 오염원이 전혀 발생하지 않는 청정한 작업 환경이 필요하게 되는 것이어서 이른바 청정실(CLEAN ROOM)이 제공되는 것이다.

상기의 청정실에는 극소의 불순물도 용납되지 못함으로 각종의 장비는 물론이며, 작업자 역시 청정복을 착복하고 다단계에 걸친 에어 샤워와 흡착 시스템을 통해 오염원을 제거한 후 비로소 소정의 작업을 시행하게 되는 것이다.

그러나, 상기와 같이 매우 정밀하게 청정이 요구되는 상황에서도 각종 작업 지침서(MANUAL) 및 작업일지(CLEAN NOTE) 등의 반입 용지는 클린 페이퍼이면서도청정의 수위 단계와는 무관하게 방치되어 왔으며, 특별히 관리해야 할 용품임에도 불구하고 규제 및 관리 방법이 마련되지 못함이 현실임을 감안할 때에 반입 용지의 청정화의 따른 관리 개선책은 매우 절실하게 요구되는 것이다.

현실적으로, 이와 관련된 각종의 보고서를 참조하여 클린 페이퍼의 입자 발생 빈도(수준)를 실험치에 근거하여 살펴본다.

즉, 반도체 웨이퍼를 워크-스테이션(WORK-STATION)위에 올려놓고 바로 옆에서 런(RUN) 시트(SHEET)를 자연스럽게 떨어뜨렸을 때, 워크-스테이션 상부 표면의 파티클 수준은 0.3㎛ : 83EA / 스퀘어 인치, 0.5㎛ : 61EA / 스퀘어 인치로 나타났고, 상기 보고서에서 알 수 있는 내용은 클린 페이퍼의 경우 청정실외 지역의 비교적 큰 입자로 구성된 파티클이 상기 페이퍼의 경우 청정실외 지역의 비교적 큰 입자로 구성된 파티클이 상기 페이퍼에 흡착됨으로 인해 절대적으로 청정이 요구되는 작업 포인트(예컨대, 웨이퍼 가공라인등)에 치명적인 폐해를 준다는 것이다.

따라서, 상기의 제반 문제점을 적절하게 해결하기 위한 방안의 하나로 안출된 본 발명은 목적은 관리해야 될 오염원중 입자(PARTICLE)에 대한 오염이 최소화 되도록 라인 내에 입실하는 작업자가 에어 샤워를 하듯 각종 작업 지침서 및 작업 일지에 대해서도 샤워링을 통한 세정 과정을 마련함으로써 상기의 반입 용지에 부착된 입자들을 조기에 제거하여 청정실의 기능 향상을 구현하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치를 제공함에 있다.

상기의 목적을 달성하기 위해 마련되는 본 발명의 반입 용지용 세정 장치는 세정 처리실내에 투입된 반입 용지가 놓여질 수 있도록 마련된 지지 부재와, 상기 지지 부재의 감응 신호에 따라 반입 용지를 향해 분사됨으로 샤워링이 가능하게 마련된 복수 개의 에어 노즐과, 샤워링에 의해 분리된 입자가 반입 용지의 하면을 배출될 수 있도록 세정 처리시에 망사형으로 배치되는 바닥면과, 상기 바닥면의 저면을 포함하며, 진공 펌프에 의해 포집된 입자가 배출되도록 입자 포집구가 구비됨을 특징으로 하는 것이다.

상기 세정 처리실의 상단은 개/폐가능한 중앙부을 기준으로 양면이 하향 경사지도록 하여 에어 분사의 최종 방향이 바닥면을 향하도록 함이 바람직하다.

이때, 상기 세정 처리실의 상단 경사각은 30∼45°임의 바람직하다.

또한, 상기 지지 부재의 감응 수단은 반입 용지의 사이즈에 무관하게 작동될 수 있도록 지지 부재의 길이 방향을 따라 적어도 2개이상으로 설치되는 온/오프 감지 센서임이 바람직하다.

이때, 상기 온/오프 감지 센서를 반입 용지로부터 보호하기 위하여 지지 부재의 보호망이 더 구비될 수 있다.

또한, 상기 세정 처리실의 에어 노즐은 제어변에 의해 임의의 각도로 조절될 수 있도록 함이 필요할 것이다.

또한, 상기 입자 포집망에 포함되는 진공 펌프는 와류로 인한 역 오염이 방지되도록 퍼지 펌프로 마련됨이 보다 바람직하다.

이하, 첨부된 도면의 실시예에 의거하여 보다 구체적으로 본 발명의 세정 장치를 설명한다.

첨부된 도면 제1도는 본 발명의 실시예에 따라 전체적인 구성 상태를 도시해 보인 개략적인 사시도 인바, 반도체 제조 공정상에 마련되는 청정실(CLEAN ROOM)에 있어서, 상기 청정실에 반입되어 사용되는 작업 지침서 및 작업일지 등의 반입 용지를 세정(SHOWERING)하기 위해 마련되는 공간부(1)와, 상기 공간부(1)내에 위치된 세정 처리실(10)에는 투입된 반입 용지(100)가 바람직하게는 하면 향해 걸쳐질 수 있도록 고정된 바(BAR) 형상의 지지 부재(11)와, 상기 지지 부재(11)에 적어도 2개 이상으로 설치된 온/오프 감지 센서(20)의 인가된 신호에 따라 반입 용지(100)를 향해 다방향에서 분사되어 샤워링이 가능하도록 세정 처리실(10)의 측면에 설치되어 임의의 각도(방향)로 조절되는 복수 개의 에어 노즐(12)과, 제3도에서와 같이 상기 온/오프 감지 센서(20)가 반입 용지(100)로부터 발생되는 파손 및 스크래치 등에 영향이 없도록 지지 부재(11) 상단으로 씌어질 수 있는 보호망(21)과, 상기 에어 노즐(12)의 샤워링에 의해 분리된 입자(PARTICLE)가 반입 용지(100)의 하면으로 떨어져 배출될 수 있도록 세정 처리실(10)에 망사형으로 배치되는 바닥면(13)가, 상기 바닥면(13)의 저면이 모두 포함되며, 퍼지 진공 펌프(22)에 의하여 포집된 입자가 배출되도록 공간부(1)에 마련되는 라운드진 입자 포집구(14)로 이루어진 구성이다.

첨부된 도면 제2도는 도면 제1도의 실시예에서 세정 처리실을 도시해 보인 개략도로써, 도시된 바와 같이 세정 처리실(10)의 상단은 개/폐가능하게 제공되며, 중앙부를 기준으로 삼각 형상이 되도록 양측면이 경사져 하향되도록 함이 바람직한데, 특히 그 경사각은 30∼45°임이 적절하다.

상기의 구성은 이하에서 설명되는 작용 관계에 의하여 더욱 명확해질 수 있다.

첨부된 도면 제4도는 상기 실시예에 의한 본 발명의 작동 상태를 도시한 것으로서, a도는 반입 용지가 센서부에 세팅됨을 도시한 개략도이며, b도는 반입 용지의 세팅 감응 신호에 따라 청정 에어가 분사됨을 도시한 것이다.

상기에서와 같이, 청정실에 반입되는 반입 용지(100)는 세정 처리실(10)이 높여진 공간부(1)에서 상기 세정 처리실(10)의 상단을 개방하여 노출되는 횡설된 지지 부재(11)에 바람직하게는 펼친 상태로 걸쳐지게 하는데, 이때, 반입 용지(100)의 사이즈에 무관하게 세팅 여부가 인지될 수 있도록 온/오프 감지 센서(20)가 보호망(21)의 보호 아래 복수로 설치되어 있어 즉각적인 세팅 여부의 감응 신호를 기대할 수 있다.

상기의 감응 신호는 별도의 제어변을 통해 복수 개로 설치된 에어노즐(12)로 N₂클린 에어를 분사하는데, 상단의 경사각으로 인하여 에어 샤워링시 반입 용지(100)의 떨어짐과 찢어짐 등의 충격을 최소화시킬 수 있으며, 에어의 최종적인 방향이 하면을 향하도록 반사 기능을 갖추고 있으므로 샤워링에 따른 효과가 극대화된다.

상기의 분사 과정에 따라 이탈되어 떨어지는 입자(PARTICLE)는 하단의 바닥면(13)에 입자의 원활한 배출이 가능하도록 형성된 망사형의 공간을 통해 입자 포집구(14)로 적층되는데, 상기 입자 포집구(14)는 하면을 라운드 처리하여 입자의 흡착을 최대한 막고, 청정을 할 수 있도록 제공되고, 포집된 입자는 최종적으로 진공 퍼지 펌프(22)에 의해 외부로 배출시킴으로 각종의 작업 지침서나 작업일지 등의 반입 용지(100)에 흡착된 미립자를 자동적으로 샤워링시켜 내부의 미립자를 배출시킴으로 클린 페이퍼의 규제 및 관리가 가능하여 양질의 반도체생산이 구현된다.

Claims (7)

1. 세정 처리실내에 투입된 반입 용지가 놓여질 수 있도록 마련된 지지 부재와, 상기 지지 부재의 감응 신호에 따라 반입 용지를 향해 분사됨으로 샤워링이 가능하게 마련된 복수 개의 에어 노즐과, 샤워링에 의해 분리된 입자가 반입 용지의 하면으로 배출될 수 있도록 세정 처리실에 망사형으로 배치되는 바닥면과, 상기 바닥면의 저면을 포함하며, 진공 펌프에 의해 포집된 입자가 배출되도록 입자 포집구가 구비됨을 특징으로 하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 세정 처리실의 상단은 개/폐가능한 중앙부를 기준으로 양면이 하향 경사지도록 하여 에어 분사의 최종 방향이 바닥면을 향하도록 함을 특징으로 하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 세정 처리실의 상단 경사각은 30∼45°임을 특징으로 하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 지지 부재의 감응 수단은 반입 용지의 사이즈에 무관하게 작동될 수 있도록 지지 부재의 길이 방향을 따라 적어도 2개상으로 설치되는 온/오프 감지 센서임을 특징으로 하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치.
5. 제1항에 있어서, 상기 지지 부재의 감응 수단을 반입 용지로부터 보호하기 위하여 지지 부재의 상단으로 구비되는 보호망이 포함됨을 특징으로 하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치.
6. 제1항에 있어서, 상기 세정 처리실의 에어 노즐은 제어변에 의해 임의의 각도로 조절될 수 있도록 함을 특징으로 하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치.
7. 제1항에 있어서, 상기 입자 포집망에 포함되는 진공 펌프는 와류로 인한 역 오염이 방지되도록 퍼지 펌프로 마련됨을 특징으로 하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치.