KR0179117B1 - Cathode ray tube - Google Patents
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Abstract
본 발명은 음극선관(CRT) 표시스크린 구조에서 앞쪽 스크린 화면이 대전방지성 기능향상과 외부광반사율을 저하시켜 콘트라스트(Contrast)특성을 좋게하고, 특히 화면접촉에 따른 지문 묻어남을 해결하는데 적합한 것에 관한 것으로, 글라스 패널(Glass Panel)상에 대전방지막과 요철(凹凸)부를 이루는 SiO2분사막이 형성되고, 그 상부층에 반사방지막이 형성된 구조를 이루어짐을 특징으로 하는 음극 선관의 표시스크린 장치에 관한 것이다.The present invention relates to the front screen screen in the cathode ray tube (CRT) display screen structure to improve the antistatic performance and to reduce the external light reflectivity to improve the contrast characteristics, in particular suitable for solving the fingerprint smear due to the screen contact The present invention relates to a display screen device of a cathode ray tube, characterized in that a SiO 2 injection film forming an antistatic film and an uneven portion is formed on a glass panel, and an antireflection film is formed on an upper layer thereof. .
Description
제1도는 종래의 음극선관 표시스크린 구조도로서, (a)는 2층 구조도, (b)는 3층 구조도.1 is a conventional cathode ray tube display screen structure diagram, (a) is a two-layer structure diagram, (b) is a three-layer structure diagram.
제2도는 본 발명의 음극선관 표시스크린 구조도.2 is a structure diagram of a cathode ray tube display screen of the present invention.
제3도는 반사율 특성을 나타낸 상태도.3 is a state diagram showing reflectance characteristics.
제4도는 HaZe 율과 해상도를 나타낸 상태도.4 is a state diagram showing the HaZe rate and resolution.
제5도는 콘트라스트 특성을 나타낸 상태도.5 is a state diagram showing contrast characteristics.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 글라스패널 2 : 대전방지막1: glass panel 2: antistatic film
3,6 : 반사방지막 5 : SiO2분사막3,6: antireflection film 5: SiO 2 spray film
본 발명은 음극선관 표시스크린 장치에 관한 것으로, 특히 앞쪽 스크린 표면의 대전방지성 기능향상과 외부광반사율을 저하시켜 콘트라스트(Contrast)특성을 좋게하고, 화면접촉에 따른 지문 묻어남을 해결하는데 적합한 음극선관 표시스크린 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode ray tube display screen device. In particular, the cathode ray tube suitable for improving the antistatic property and reducing the external light reflectance of the front screen surface to improve the contrast characteristics and to solve fingerprint smears due to screen contact. It relates to a display screen structure.
최근 PC의 사용자 및 사용시간이 증가하면서 PC 사용에 따른 인체공학적인 문제점이 점차 중요한 관심이 되고 있으며, 음극선관(CRT)의 표면처리 기술, 즉 대전방지기능 및 반사방지기능이 강력히 요구되고 있다.Recently, as the user and use time of the PC increases, the ergonomic problem caused by the use of the PC becomes an increasingly important concern, and the surface treatment technology of the cathode ray tube (CRT), that is, the antistatic function and the antireflection function is strongly required.
제1도는 이와같은 대전방지 및 반사방지 기능을 갖는 종래의 CRT의 표시스크린 구조를 나타낸 것으로, (a)와 같이 글라스패널(1)(Glass panel)에 투명도전막인 대전방지막(2)과 그 상층부에 반사방지막(3)을 구성하거나, (b)와 같이 (a)와 동일한 구조로하되 반사방지막(3)상층부에 SiO2막을 Spray하여 굴곡구조를 가진 SiO2분사막(4)으로 구성된다.FIG. 1 shows a display screen structure of a conventional CRT having such an antistatic and antireflective function. As shown in (a), an antistatic film 2, which is a transparent conductive film on a glass panel 1, and an upper layer portion thereof are shown in FIG. configuring an anti-reflection film (3) on or, but the same structure as (a) as shown in (b) is composed of an anti-reflection film (3) SiO 2 bun desert 4 having a winding structure by Spray SiO 2 film on the upper layer.
상기 기술의 구조를 가진 대전방지 및 반사방지막의 제조방법은 조립된 CRT 튜브(Tube)의 표면을 세록스(CeO2)로 수회연마하여 Glass Panel(1)에 붙어있는 오염물질을 닦아내고 Glass 표면을 활성화시켜 Coating성(도포성)을 향상시키도록 한 다음 물,알코올로 표면을 세척한 후 건조한다.The method of manufacturing the antistatic and antireflection film having the structure of the above technology is to polish the surface of the assembled CRT tube with Cerox 2 several times to wipe off the contaminants adhering to the Glass Panel 1 and to clean the glass surface. Activate to improve coating property (coating property), then wash the surface with water and alcohol and dry.
건조된 튜브의 Glass Panel(1)의 표면을 40~50℃가 되도록 가열한 다음 스핀기(Spin Coater)에 장착하여 100~150℃ rpm의 속도로 회전시키는 상태에서 대전방지 기능을 갖는 Sol(졸)용액을 주입하여 코팅함으로서 대전방지막(2)이 얻어진다.The surface of the glass tube (1) of the dried tube is heated to 40 ~ 50 ℃ and then mounted on a spin coater (Spin Coater) in the state of rotating at a speed of 100 ~ 150 ℃ rpm Sol (sol) The antistatic film 2 is obtained by injecting and coating a solution.
이와같이 대전방지막(2)을 코팅한 후, 다시 Glass Panel 표면을 40~50℃로 가열하고, 스핀기(Spin Coater)에 튜브를 장착하여 상기와 같은 방법으로 반사방지막(3)을 형성한다.After coating the antistatic film 2 as described above, the surface of the glass panel is heated again to 40 ~ 50 ℃, the tube is mounted on a spin coater (Spin Coater) to form the antireflection film (3) in the same manner as described above.
반사방지막(3)은 일반적으로 SiO2Sol용액을 이용한다.The antireflection film 3 generally uses a SiO 2 Sol solution.
이와 같은 방법으로 제1도의 (a)인 ARAS TYPE을 제조하며, 그 상층부에 고압의 Spray기(분사기)을 이용하여 표면온도가 60~70℃인 상태에서 Spray하여 SiO2Spray 막(4)을 형성하면 제2도의 (b)인 ARAS TYPE이 된다.In this manner, ARAS TYPE of FIG. 1 (a) is manufactured, and the SiO 2 Spray film 4 is sprayed by spraying at a surface temperature of 60 to 70 ° C. using a high pressure sprayer (injector) in the upper layer. If it forms, it becomes ARAS type of (b) of FIG.
이때 SiO2Spray 막을 형성하는 목적은 일반적으로 반사방지막(3) 형성시 발생하는 얼룩을 잘보이지 않게 하고, 확산반사율을 줄여주고, 손지문의 묻음을 줄여주고자 하는데 그 목적이 있다.In this case, the purpose of forming the SiO 2 Spray film is to make the stains generated during the formation of the anti-reflection film 3 generally less visible, to reduce the diffuse reflectance, and to reduce the fingerprints on the fingerprints.
그러나 상기와 같이 반사방지막(3)을 제1도의 (a)와 같이 형성할 경우 제3도, 제4도 제5도에서와 같이 광학적인 특성면에서 유리하다.However, when the antireflection film 3 is formed as shown in FIG. 1A as described above, it is advantageous in terms of optical properties as shown in FIGS. 3 and 4.
그러나 막의 얼룩이 눈에 잘 띄어 생산 수율이 상당히 문제가 되며, 또한 손으로 CRT 표면 즉 스크린을 만질 경우 손에 묻어 있는 지방성분이 CRT 표면에 묻게 되어 얼룩으로 보이게 되는 큰 단점이 발생하게 된다.However, the staining of the membrane is prominent, so the production yield is a significant problem, and when the hands touch the surface of the CRT, that is, the screen, the fat component on the CRT surface is stained, resulting in a big disadvantage.
이러한 점을 보완할 목적으로 제1도의 (b)와 같이 형성할 경우 지문 묻어남의 얼룩 현상은 어느정도 해결이 가능하나 제3도에서와 같이 ARAS TYPE에 비해 외부광반사율이 굉장히 높아지게 되어 반사율 저감의 효과가 떨어지게 되며, 표면굴곡에 의한 Haze율 증가로 제4도와 같이 해상도 및 Contrast가 떨어지고 문제점이 발생하게 된다.For the purpose of supplementing this, as shown in (b) of FIG. 1, the staining of the fingerprint can be solved to some extent. However, as shown in FIG. Is lowered, and the resolution and contrast drop as shown in FIG. 4 due to an increase in Haze rate due to surface curvature, resulting in a problem.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 대전방지막 상층부에 SiO2Spray막을 요철이 되게 형성하고 그성부에 반사방지막을 형성함으로서 콘트라스트 특성, 반사율 저감효과 등을 유지하면서 지문얼룩 발생을 최소화하며 코팅막의 수율이 안정화된 표시스크린 구조를 갖게 하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, by forming a SiO 2 Spray film to the concave-convex portion in the upper layer of the antistatic film, and by forming an anti-reflection film in the formed portion, fingerprint staining while maintaining contrast characteristics, reflectance reduction effect The purpose of the present invention is to provide a display screen structure in which the yield of the coating film is stabilized to be minimized.
이와 같은 목적 달성을 위한 본 발명은 실시예를 나타낸 제2도와 같이 Glass Panel(1) 상부에 대전방지막(2)이 형성되고, 그 상층부에는 요철(凹凸)를 이루는 SiO2Spray막(5)과 반사방지막(6)이 형성된 음극선관 스크린구조로 이루어진다.The present invention for achieving the above object is an antistatic film (2) is formed on the top of the glass panel (1) as shown in the second embodiment showing an embodiment, the upper layer portion of the SiO 2 Spray film (5) and the concave-convex (凹凸) and The cathode ray tube screen structure in which the anti-reflection film 6 is formed is formed.
상기 대전방지막(2)은 도전성이 103~1010Ω/□이고, 대전방지막(2)과 반사방지막(6)의 두께는 200~2000Å로 함이 적당하다.The antistatic film 2 has a conductivity of 10 3 to 10 10 Ω / □, and the thickness of the antistatic film 2 and the antireflection film 6 is suitably 200 to 2000 kPa.
요철부를 이루는 SiO2Spray막(5)은 반사방지막(6)에 함몰되는 형태 즉, 반사방지막(6) 표면에 들어가도록 구성한다.The SiO 2 Spray film 5 forming the uneven portion is configured to be recessed in the anti-reflection film 6, that is, to enter the surface of the anti-reflection film 6.
상기한 CRT의 표시스크린 구조를 제조함에 있어서는 조립된 CRT 튜브(tube)의 표면을 세록스(CeO2)로 수회연마하여 Glass Panel(1)에 붙어있고 오염물질을 닦아내고 Glass 표면을 활성화 시킨 다음 물, 알코올로 수회 세척한다.In manufacturing the display screen structure of the above CRT, the surface of the assembled CRT tube is polished several times with Cerox 2 , which is attached to the Glass Panel 1, wipes off contaminants, activates the glass surface, and then Wash several times with alcohol.
세척한 다음 열풍으로 표면을 건조시킨다.After washing, dry the surface with hot air.
건조된 Tube을 예열로에서 예열시킨 후 대전용액을 사용하여 Spin기에서 코팅한다.Preheat the dried tube in the preheater and coat it on the spin machine using the charging solution.
이때 Coating의 r.P.m 스케줄은 100~150r.P.m으로 1분정도 회전시키면서 Coating한다.At this time, coating r.P.m schedule is 100 ~ 150r.P.m while rotating for about 1 minute.
이때 면의 온도와 용액의 주입속도는 면의 얼룩을 줄이기 위해 균일하게 하는 것이 대단히 중요하며 최적조건은 40~50℃이다.At this time, it is very important to uniform the temperature of the cotton and the injection speed of the solution to reduce the stain of the cotton. The optimum condition is 40 ~ 50 ℃.
위의 방법으로 대전방지막(2)을 형성한 다음 Tube의 스크린면을 60~80℃로 가열한다.After forming the antistatic film (2) by the above method, the screen surface of the tube is heated to 60 ~ 80 ℃.
전체면의 균일도가 일정한 상태에서 Spray기로 SiO2Sol용액을 Spray한다.Spray the SiO 2 Sol solution with a sprayer in a state where the uniformity of the entire surface is constant.
SiO2Spray막(5)광택 또는 Non Coating Glass에서의 광택도가 80~95 사이와 비슷한 수준으로 코팅하여 구성한다.SiO 2 Spray film (5) Gloss or gloss in non-coating glass is formed by coating at a level similar to 80 ~ 95.
이와같이 80~95 정도로 Spray한 다음 면의 온도를 40~50℃로 다음 그 상부층에 반사방지막(6)을 Spin Coating한다.After spraying at 80 ~ 95 degree, the surface temperature is 40 ~ 50 ℃ and spin coating the anti-reflection film (6) on the upper layer.
이때 Spin Coating의 Sol 용액은 SiO2Sol이며 그것의 막두께는 500~1500Å 정도가 적당하다.At this time, Sol solution of Spin Coating is SiO 2 Sol and its thickness is about 500 ~ 1500Å.
이와같은 두께를 가지기 위해 Sol 용액의 고형분량은 0.1~1.5wt% 이내가 적당하다.In order to have such a thickness, the solid content of the Sol solution is appropriate within 0.1 ~ 1.5wt%.
Spin Coating 한후 충분한 막강도를 유지시키고 안정된 막으로 만들기 위해 150~250℃ 사이의 온도를 30분~1시간 정도 소성한다.After spin coating, bake the temperature between 150 ~ 250 ℃ for 30 minutes ~ 1 hour to maintain sufficient film strength and make it into a stable film.
상기한 요철막인 SiO2Spray막(5)을 형성하는 방법으로는 Spray 분사기를 이용하지 않고 CVD(Chemical Vapour Deposition)방법을 사용할 수 있다.As a method of forming the SiO 2 spray film 5 as the uneven film, a chemical vapor deposition (CVD) method may be used without using a spray injector.
이때 Panel의 면온도는 굉장히 높게 되므로 Tube 상태가 아닌 Panel 만의 상태로 코팅된다.At this time, the surface temperature of panel is very high, so it is coated in the state of panel only, not in tube state.
이와같이 요철부를 이루는 SiO2분사막(5)에 반사방지막(6)을 형성함에 따라 제3도~제5도에서와 같이 본 발명은 제1도의 (b)인 ARAS TYPE에 비해 광학적인 특성이 우수하며, 특히 제1도의 (a)인 ARAS TYPE 막에서 발생하는 얼룩의 발생을 최소화하여 Coating 막의 수율을 안정화시킬 수 있으며, 손으로 표면을 만질 경우 발생하는 지문얼룩을 줄일 수 있고, 지문발생을 줄이기 위해 ARAS TYPE으로한 경우보다는 지문효과를 동일하게 하면서도 해상도 저하를 줄일 수 있는 장점이 있다.As the anti-reflection film 6 is formed on the SiO 2 injection film 5 forming the uneven portion as described above, the present invention has superior optical characteristics as compared to ARAS TYPE (b) of FIG. In particular, the yield of the coating film can be stabilized by minimizing the occurrence of stains occurring in the ARAS TYPE membrane of FIG. 1 (a), and the fingerprint stain generated when the surface is touched by hand, and the fingerprint generation can be reduced. For this reason, the fingerprint effect is the same as in the case of the ARAS type, but the resolution can be reduced.
따라서, 해상도는 제1도의 (a)와 비슷하면서도 제1도 (b)의 지문감소 효과도 동시에 얻을 수 있는 특징으로 갖고 CRT의 표시스크린을 갖게된다.Therefore, the resolution is similar to that of (a) of FIG. 1, but the fingerprint reduction effect of FIG. 1 (b) can be obtained simultaneously, and the display screen of the CRT is obtained.
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