KR0173948B1 - Wet Filter Wetting System - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 산업용 설비에서 사용되는 화학약품 용액들을 여과하기 위한 습식 필터의 웨팅 시스템에 관한 것으로, 필터(1)로 웨팅 용제를 공급하기 위한 웨팅 용제 탱크(10)와, 필터(1)로 순수를 공급하는 순수 공급부(10)와, N2개스를 공급하는 개스 공급부(30)와, 순수 배출부(40), 에어 유량계(50), 액체 유량계(60), 불순물의 양을 측정하기 위한 불순물 계수기(70)와, 시스템으로 공급되는 압력을 측정하기 위한 압력계(80) 및, 순환계로 구성된다. 이로써, 필터 매질의 미세 기공까지 완벽한 웨팅이 이루어지고, 필터의 웨팅 상태를 쉽게 점검할 수 있으며, 화학약품 용액이 불순물에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다. 또, 필터의 불량 여부를 그것이 설비에서 사용되기 이전에 충분히 검증할 수 있을 뿐만 아니라, 환경을 보호하고 강한 휘발성의 웨팅 용제로 인한 화재 발생의 위험성으로부터 벗어날 수 있다.The present invention relates to a wetting system of a wet filter for filtering chemical solutions used in semiconductor industrial equipment, comprising a wetting solvent tank (10) for supplying a wetting solvent to the filter (1), and a pure water to the filter (1). Pure water supply unit 10 for supplying the gas, gas supply unit 30 for supplying the N 2 gas, pure water discharge unit 40, air flow meter 50, liquid flow meter 60, impurities for measuring the amount of impurities It consists of a counter 70, a pressure gauge 80 for measuring the pressure supplied to the system, and a circulation system. This allows perfect wetting down to the micropores of the filter media, making it easy to check the wetting conditions of the filter and to prevent contamination of the chemical solution with impurities. In addition, it is possible to fully verify whether a filter is defective before it is used in a facility, as well as to protect the environment and to avoid the risk of fire due to strong volatile wetting solvent.
Description
제1도는 종래의 습식 필터 웨팅 방법을 보여 주는 도면.1 shows a conventional wet filter wetting method.
제2도는 본 발명에 따른 습식 필터의 웨팅 시스템.2 is a wetting system for a wet filter according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 필터 4∼9 : 밸브1: Filter 4-9: Valve
10 : 웨팅 용제 탱크 20 : 순수 공급부10: wetting solvent tank 20: pure water supply
30 : 개스 공급부 40 : 순수 배출부30: gas supply part 40: pure water discharge part
50 : 에어 유량계 60 : 액체 유량계50: air flow meter 60: liquid flow meter
70 : 불순물 계수기 80 : 압력계(pressure gauge)70 impurity counter 80 pressure gauge
본 발명은 습식 필터(wet filter)를 웨팅(wetting) 하기 위한 시스템에 관한 것으로, 더 구체적으로는 반도체 산업용 설비에서 사용되는 화학약품 용액들(chemical solutions)을 여과하기 위한 습식 필터의 웨팅 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a system for wetting a wet filter, and more particularly to a wet filter system for filtering chemical solutions used in semiconductor industrial equipment. will be.
잘 알려져 있는 바와 같이, 반도체 제조 공정에서는 다양한 화학약품 용액들이 사용되고 있다. 공정 도중 반도체 웨이퍼(semiconductor wafer)는 여러 가지 산(acid)과 용제(solvent)에 담겨진다. 이런 화학약품 용액의 불순물로는 나트륨(Na) 등과 같이 실리콘(silicon)에서 움직일 수 있는 금속 이온들을 예로 들 수 있다. 화학약품 용액에 함유된 불순물 입자 수는 반도체 제조 공정에서 함께 사용되는 공기, 순수(de-ionized water) 혹은 제조용 개스(gas)에 함유된 불순물 입자 수보다 상당히 많은 것으로 알려져 있다.As is well known, various chemical solutions are used in the semiconductor manufacturing process. During the process, the semiconductor wafer is immersed in various acids and solvents. Impurities of such chemical solutions include metal ions that can move in silicon such as sodium (Na). It is known that the number of impurity particles contained in the chemical solution is significantly higher than the number of impurity particles contained in air, de-ionized water, or manufacturing gas used together in the semiconductor manufacturing process.
반도체 제조 공정에서 사용되는 화학약품 용액들은 웨이퍼상에 직접 접촉되므로 불순물로 오염된 용액을 사용하게 되면 당연히 제품의 수율이 저하된다. 이러한 수율 저하를 방지하기 위해서는 고순도의 화학약품 용액을 사용하는 것이 요구되는 데, 이런 요구를 충족시키기 위해서는, 현재의 기술 수준상, 필터를 사용하는 것이 필요불가결하다. 필터의 종류를 굳이 분류하자면, 필터 매질(filter media)과 필터 하우징(filter housing)이 분리된 구조의 분리형 필터와, 이들이 일체를 이루는 일체형 필터로 분류할 수 있다. 근래에는 후자의 필터가 주로 사용되고 있다. 이들 필터는 매우 고가(개당 약 500∼1000만원)이며 제품의 품질에 대단한 영향을 준다.Chemical solutions used in the semiconductor manufacturing process are in direct contact with the wafer, so using a solution contaminated with impurities will naturally lower the yield of the product. In order to prevent such a decrease in yield, it is required to use a high-purity chemical solution. To meet this demand, it is indispensable to use a filter in the state of the art. In order to classify the types of filters, the filter may be classified into a separate filter having a structure in which the filter media and the filter housing are separated, and an integrated filter in which they are integrated. The latter filter is mainly used in recent years. These filters are very expensive (about 500 to 10 million won each) and have a great influence on the quality of the product.
반도체 장치 제조용 설비에서는, 통상적으로, 호환성(compatibility)이 높은 PTFE(poly-tetra-fluoro-ethylen) 매질의 막 필터(membrane filter)가 사용되고 있다. PTFE는 소수성(hydrophobic property)의 물질로서 물을 받아 들이지 않는 성질을 갖고 있으므로 수용액(aqueous solution)계의 화학약품 용액들을 여과하기 위한 필터는 설비에서 사용되기에 앞서 프리웨팅(pre-wetting)이라는 전처리 과정을 필요로 한다. 여기서, '웨팅(wetting)'이라 함은 알콜(alchol)과 같이 표면 장력(surface tension)이 낮고 PTFE를 잘 적시면서 물과 잘 섞이는(또는 물에 잘 용해되는) 성질을 갖는 이소프로필 알콜(isoprophyl alchol; IPA) 등과 같은 용제로 미리 필터를 적신 후 그 용제를 순수(DI water)를 치환시켜 공정에서 실제로 사용되는 화학약품용액을 필터로 흘려 보내는 연속적인 작업을 말한다.BACKGROUND In a device for manufacturing a semiconductor device, a membrane filter of a poly-tetra-fluoro-ethylen (PTFE) medium having high compatibility is usually used. PTFE is a hydrophobic property that does not accept water, so a filter for filtering chemical solutions in aqueous solutions is pretreated as pre-wetting before being used in the installation. It requires a process. Here, 'wetting' refers to isopropyl alcohol (isoprophyl) having a low surface tension, such as alcohol, and a property of being well mixed with water (or soluble in water) while wetting PTFE well. It is a continuous operation in which the filter is wetted in advance with a solvent such as alchol (IPA), and the solvent is replaced with DI water to flow the chemical solution actually used in the process to the filter.
한편, 반도체 제조 설비에는 통상적으로 다수개의 습식 필터들이 부착되어 있는데, 이들은 일정한 주기(예를 들면, 6개월, 1년)로 교체된다. 이들의 교체시에는 앞에서 설명한 바와 같이 웨팅 작업이 필요하게 된다.On the other hand, semiconductor manufacturing facilities are typically equipped with a plurality of wet filters, which are replaced at regular intervals (for example, six months, one year). The replacement of these requires a wetting operation as described above.
제1도는 습식 필터를 웨팅시키는 종래의 방식을 보여 주고 있다. 제1도를 참조하면, 종래에는 필터의 웨팅을 위해 필터 하우징(1)에 깔대기(2) 등을 이용하여 직접 웨팅 용제를 부어 넣었다. 이런 웨팅 방식에 따르면 여러 가지 문제들이 발생되는 데, 그 중 몇가지를 예로 들면 다음과 같다. 첫째로, 가연성이 강한 화학약품이 외부로 노출되게 되므로 화재 발생의 위험이 높다. 둘째, 웨팅 용액(wetting solution)이 필터(1)의 하우징내에서 충분히 유동되지 못하여 필터 매질의 미세 기공(pore)까지 웨팅되지 못하는 경우가 자주 발생된다. 셋째, 화학약품을 고순도로 여과해야 하는 필터의 내부가 외부로 노출되기 때문에 웨팅 과정 중에 필터가 오염될 가능성이 매우 높다. 넷째, 새 필터 혹은 사용중에 있는 필터의 상태를 충분하게 검정할 수 있는 방법이 없어 불량한 필터가 설비에 부착되거나 되어 있는 경우에는 이로 인해 반도체 제품 생산은 심대한 타격을 입게 된다. 다섯째, 필터의 웨팅을 위해 사용된 용제(이소프로필 알콜)는 웨팅이 완료된 후 완전히 제어되어야 하는데(일반적으로 순수(DI water)를 사용하는 용제를 제거함), 웨팅 용제가 완전히 제거되지 않으면 화학약품이 웨팅 용제(더 구체적으로는 거기에 함유된 불순물(예컨대, 유기탄소 등))에 의해 오염될 가능성이 매우 높다. 여섯째, 현재, 필터의 웨팅을 위한 용제로서 주로 사용되고 있는 이소프로필 알콜(IPA)은 강한 가연성의 휘발성 물질이어서 화재의 위험성이 있고 환경에 유해한 물질이기 때문에 더 나아가 그것의 재사용을 위해서도 외부와 격리된 상태에서 처리되는 것이 바람직하나 이를 현실화하는 데는 많은 어려움이 있다.Figure 1 shows a conventional way of wetting the wet filter. Referring to FIG. 1, conventionally, the wetting solvent was poured directly into the filter housing 1 using a funnel 2 or the like for wetting the filter. According to this wetting method, various problems occur, some of which are as follows. Firstly, since highly flammable chemicals are exposed to the outside, there is a high risk of fire. Secondly, wetting solutions often do not flow sufficiently in the housing of the filter 1 to prevent wetting up to the fine pores of the filter media. Third, the filter is highly likely to be contaminated during the wetting process because the inside of the filter, which should filter chemicals with high purity, is exposed to the outside. Fourth, if there is no way to adequately test the condition of the new filter or the filter in use, if a bad filter is attached or installed in the facility, the semiconductor product production will be severely damaged. Fifth, the solvent used for wetting the filter (isopropyl alcohol) must be fully controlled after wetting is complete (typically removing solvents using DI water). There is a high possibility of being contaminated by the wetting solvent (more specifically, impurities contained therein (eg, organic carbon, etc.)). Sixth, isopropyl alcohol (IPA), which is mainly used as a solvent for wetting of filters, is a highly flammable volatile substance that is dangerous to fire and harmful to the environment, and is also isolated from the outside for its reuse. It is desirable to be dealt with at, but there are many difficulties in realizing this.
본 발명은 위와 같은 종래의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 자동유동(auto-flowing) 방식으로 화학약품 용액 여과용 습식 필터를 웨팅하는 시스템을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to provide a system for wetting a wet filter for chemical solution filtration in an auto-flowing manner.
본 발명의 다른 목적은 습식 필터의 웨팅 상태를 점검할 수 있는 시스템을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a system capable of checking the wet state of a wet filter.
본 발명의 또 다른 목적은 불량 필터를 선별할 수 있는 기능을 갖는 시스템을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a system having a function of selecting a bad filter.
본 발명의 또 다른 목적은 환경을 보호하고 화재 발생을 방지할 수 있는 안전한 필터 웨팅 시스템을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a safe filter wetting system that can protect the environment and prevent the occurrence of fire.
이와 같은 목적들을 달성하기 위한 본 발명에 따른 필터 웨팅 시스템은, 화학약품 용액의 여과를 위한 필터의 매질을 웨팅하기 위한 용제를 상기 필터로 공급하는 용제 공급 수단과, 상기 필터의 웨팅 상태를 검출하는 웨팅 상태 검출 수단과 상기 필터로부터 상기 웨팅 용제를 회수하기 위한 용제 회수 수단과, 상기 필터를 세정하기 위한 세정 수단을 구비하는 데 그 특징이 있다.The filter wetting system according to the present invention for achieving the above object, the solvent supply means for supplying a solvent for wetting the medium of the filter for the filtration of the chemical solution to the filter, and detecting the wetting state of the filter It is characterized by including wet state detection means, solvent recovery means for recovering the wetting solvent from the filter, and cleaning means for cleaning the filter.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 용제 공급 수단은, 개스 공급 수단과, 상기 개스 공급 수단에 흡입구가 연결되고 상기 필터의 제1 포트에 배출구가 연결되며 웨팅 용제를 담는 용제 탱크를 구비한다.In a preferred embodiment, the solvent supply means comprises a gas supply means, a solvent tank connected to the gas supply means, a discharge port connected to the first port of the filter, and a solvent tank containing the wetting solvent.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 웨팅 상태 검출 수단으로서는, 상기 필터의 제2 포트에 연결되는 에어 유량계가 사용된다.In a preferred embodiment, as the wetting state detection means, an air flow meter connected to the second port of the filter is used.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 세정 수단은, 상기 필터로 순수를 공급하는 순수 공급 수단과, 상기 필터로부터 상기 순수를 배출하는 순수 배출 수단을 구비한다.In a preferred embodiment, the cleaning means comprises pure water supply means for supplying pure water to the filter and pure water discharge means for discharging the pure water from the filter.
다른 특징으로서, 본 발명의 시스템은, 화학약품 용액의 여과를 위한 필터의 매질을 웨팅하기 위한 용제를 상기 필터로 공급하는 용제 공급 수단과, 상기 필터의 웨팅 상태를 검출하는 웨팅 상태 검출 수단과, 상기 필터로부터 상기 웨팅 용제를 회수하기 위한 용제 회수 수단과, 상기 필터를 세정하기 위한 세정 수단 및, 상기 필터의 세정이 완료된 후 상기 필터에 남아 있는 불순물의 양을 측정하는 불순물 측정 수단을 구비한다.In another aspect, the system of the present invention includes a solvent supply means for supplying a solvent for wetting a medium of a filter for filtration of a chemical solution to the filter, wet state detection means for detecting a wet state of the filter, Solvent recovery means for recovering the wetting solvent from the filter, cleaning means for cleaning the filter, and impurity measuring means for measuring the amount of impurities remaining in the filter after the cleaning of the filter is completed.
또 다른 특징으로서, 본 발명의 시스템은, 화학약품 용액의 여과를 위한 필터의 매질을 웨팅하기 위한 용제를 상기 필터로 공급하는 용제 공급 수단과, 상기 필터의 웨팅 상태를 검출하는 웨팅 상태 검출 수단과, 상기 필터로부터 상기 웨팅 용제를 회수하기 위한 용제 회수 수단과, 상기 필터를 세정하기 위한 세정 수단과, 상기 필터의 세정이 완료된 후 상기 필터에 남아 있는 불순물의 양을 측정하는 불순물 측정 수단 및, 상기 필터의 불량 여부를 검사하는 필터 품질 검출 수단을 구비한다.In still another aspect, the system of the present invention includes a solvent supply means for supplying a solvent for wetting a medium of a filter for filtration of a chemical solution to the filter, wet state detection means for detecting a wet state of the filter; Solvent recovery means for recovering the wetting solvent from the filter, cleaning means for cleaning the filter, impurity measurement means for measuring an amount of impurities remaining in the filter after the cleaning of the filter is completed, and Filter quality detection means for inspecting whether the filter is defective is provided.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 불순물 측정 수단은, 상기 필터와 상기 순수 배출 수단 사이에 연결되어 상기 순수의 양을 측정하는 액체 유량계와, 상기 필터로부터 상기 순수 배출 수단으로 배출되는 상기 순수에 함유된 불순물을 계수하는 불순물 계수 수단을 구비한다.In a preferred embodiment, the impurity measuring means comprises a liquid flow meter connected between the filter and the pure water discharging means to measure the amount of pure water, and impurities contained in the pure water discharged from the filter to the pure water discharging means. And impurity counting means for counting.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 필터 품질 검출 수단은 상기 필터에 가해지는 압력을 측정하기 위한 압력계를 구비한다.In a preferred embodiment, said filter quality detecting means comprises a manometer for measuring the pressure applied to said filter.
이제부터는 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 대해 상세히 설명해 나가도록 하겠다. 본 발명의 웨팅 시스템에 따르면, 웨팅 기능이 향상되고, 필터의 불량을 웨팅 과정 중에 미리 검색할 수 있게 되며, 유해한 물질로부터 환경이 오염되는 것을 방지할 수 있게 된다. 제2도는 본 발명의 바람직한 실시예를 보여주고 있다. 제2도를 참조하면, 본 실시예의 웨팅 시스템은, 필터(1)로 웨팅 용제를 공급하기 위한 웨팅 용제 탱크(10)와, 필터(1)로 순수를 공급하는 순수 공급부(20)와, N2개스를 공급하는 개스 공급부(30)와, 순수 배출부(40), 에어 유량계(air flowmeter)(50), 액체 유량계(liquid flowmeter)(60), 전 유기 탄소(total orginc carbon; TOC) 등과 같은 불순물의 양을 측정하기 위한 불순물 계수기(70)와, 시스템으로 공급되는 압력을 측정하기 위한 압력계(pressure gauge)(80) 및, 순환계로 구성된다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. According to the wetting system of the present invention, the wetting function is improved, the defect of the filter can be searched in advance during the wetting process, and the environment can be prevented from being polluted from harmful substances. 2 shows a preferred embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the wetting system of the present embodiment includes a wetting solvent tank 10 for supplying the wetting solvent to the filter 1, a pure water supply unit 20 for supplying pure water to the filter 1, and N. A gas supply unit 30 for supplying two gases, a pure water discharge unit 40, an air flowmeter 50, a liquid flowmeter 60, a total organic carbon (TOC), and the like. And an impurity counter 70 for measuring the amount of the same impurity, a pressure gauge 80 for measuring the pressure supplied to the system, and a circulation system.
본 실시예의 순환계는; 필터(1)의 드레인 포트들에 각각 연결되는 밸브들(4, 5)(이하, '제1 및 제2 드레인 밸브'라 함)과, 필터(1)의 제1 포트(1a), 제2 드레인 밸브(5)와, 웨팅 용제 탱크(10)의 배출구(11) 및, 순수 공급부(20)에 3개의 포트들이 각각 연결되는 4-웨이 밸브(6)와; 이 밸브(6)(이하, '제1의 4-웨이 밸브'라 함)의 나머지 한 포트와, 웨팅 용제 탱크(10)의 흡입구(12) 및, 압력계(80)에 3개의 포트들이 각각 연결되는 다른 하나의 4-웨이 밸브(7)와, 이 밸브(7)(이하, '제2의 4-웨이 밸브'라 함)의 나머지 한 포트와 개스 공급부(30) 사이에 위치하는 밸브(8)(이하, '개스 밸브'라 함) 및, 필터(1)의 제2 포트(1B)와, 순수 배출부(40) 및, 에어 유량계(50)에 포트들이 각각 연결되는 3-웨이 밸브(9)로 구성된다. 3 웨이 밸브(9)와 순수 배출부(40) 사이에는 액체 유량계(60)와 불순물 계수기(70)가 위치한다.The circulation system of this embodiment is; Valves 4 and 5 (hereinafter referred to as 'first and second drain valves') respectively connected to the drain ports of the filter 1, the first port 1a and the second of the filter 1 A four-way valve 6 having three ports connected to the drain valve 5, the outlet 11 of the wetting solvent tank 10, and the pure water supply unit 20; Three ports are connected to the other port of the valve 6 (hereinafter referred to as 'first four-way valve'), the inlet 12 of the wetting solvent tank 10, and the pressure gauge 80, respectively. Another four-way valve 7, and a valve 8 located between the gas supply 30 and the other port of the valve 7 (hereinafter referred to as the second four-way valve). (Hereinafter referred to as a 'gas valve'), and a three-way valve having ports connected to the second port 1B of the filter 1, the pure water discharge portion 40, and the air flow meter 50, respectively. 9). The liquid flow meter 60 and the impurity counter 70 are located between the three-way valve 9 and the pure water discharge portion 40.
다음에는 이상에서 설명된 바와 같은 구성을 갖는 본 실시예의 시스템의 동작 원리에 대해 상세히 설명해 나가도록 하겠다.Next, the operation principle of the system of the present embodiment having the configuration as described above will be described in detail.
미세 기공을 갖는 PTFE 재질의 필터 매질을 웨팅하기 위해서는 이소프로필 알콜과 같이 표면 장력이 낮은 웨팅 용제를 필터로 강하게 흘러 미세 기공을 적셔주어야 한다. 이를 위하여, 제1의 4-웨이 밸브(6)를 필터(1)와 용제 탱크(10) 쪽으로 전환하고, 제2의 4-웨이 밸브(7)를 용제 탱크(10)와 개스 공급부(30) 쪽으로 전환한 후, 개스 밸브(8)를 열어 개스 공급부(30)로부터의 N2등과 같은 개스에 의해 용제 탱크(10)가 가압되도록 한다. 이로써, 탱크(10)로부터 웨팅 용제가 필터(1)로 유입된다. 이때, 제1 드레인 밸브(4)를 열어 필터(1) 내의 에어 및 거품(bubble)이 필터(1)의 외부로 빠져 나가도록 하며, 30분 이상 적셔 충분한 웨팅이 이루어지도록 한다. 웨팅이 완료되면, 개스 밸브(8)를 닫고 제2드레인 밸브(5)를 열어 필터(1)로부터 웨팅 용제가 탱크(10)로 회수되도록 한다.In order to wet the filter medium made of PTFE having fine pores, a wetting solvent having a low surface tension such as isopropyl alcohol must be strongly flowed into the filter to wet the fine pores. To this end, the first four-way valve 6 is switched to the filter 1 and the solvent tank 10, and the second four-way valve 7 is the solvent tank 10 and the gas supply unit 30. After switching to the side, the gas valve 8 is opened so that the solvent tank 10 is pressurized by gas such as N 2 from the gas supply part 30. As a result, the wetting solvent flows into the filter 1 from the tank 10. At this time, the first drain valve 4 is opened to allow air and bubbles in the filter 1 to escape to the outside of the filter 1 and to be wetted for 30 minutes or more to allow sufficient wetting. When the wetting is complete, the gas valve 8 is closed and the second drain valve 5 is opened to allow the wetting solvent to be recovered from the filter 1 to the tank 10.
한편, 필터 매질의 표면은 미세한 기공들의 집합체로 생각할 수 있으며, 기공의 크기가 작을수록 필터 매질로부터 웨팅 용제를 밀어냄에 있어 더 큰 압력이 필요하게 된다. 따라서, 개스 가압시, 필터 매질의 기공으로부터 웨팅 용제가 밀려 나오게 되는 압력점을 '버블 포인트(bubble point)'라 할 때, 어떤 필터의 버블 포인트가 규정 압력보다 낮으면 그 필터의 매질의 기공 크기가 규정치보다 크거나, 기공에 균열이 있거나 혹은 웨팅이 불완전한 것으로 규정할 수 있다. 이를 이용하면, 필터 매질의 균열이나 필터 조립 상태(또는 밀봉 상태)의 불량을 확인할 수 있게 된다.On the other hand, the surface of the filter medium can be thought of as a collection of fine pores, and the smaller the pore size, the greater the pressure required to push the wetting solvent out of the filter medium. Therefore, when the pressure point at which the wetting solvent is pushed out of the pores of the filter medium when the gas is pressurized is called a 'bubble point', if the bubble point of a filter is lower than the prescribed pressure, the pore size of the filter medium Can be defined as greater than the specified value, cracks in the pores, or incomplete wetting. By using this, it is possible to confirm the crack of the filter medium and the defect of the filter assembly state (or the sealing state).
따라서, 필터(1)의 웨팅이 완료되어 필터(1)로부터 웨팅 용제를 탱크(10)로 회수한 후에는, 필터 매질의 웨팅 여부를 확인하기 위해, 제1의 4-웨이 밸브(6)를 필터(1)와 제2의 4-웨이 밸브(7) 쪽으로 전환하고, 제2의 4-웨이 밸브(7)를 제1의 4-웨이 밸브(6)와 개스 공급부(30) 및 압력계(80) 쪽으로 전환하며, 3-웨이 밸브(9)를 필터(1)와 에어 유량계(50) 쪽으로 전환한 후, 개스 밸브(8)를 열어 필터(1)의 버블 포인트(개스의 유량이 갑자기 증가하는 포인트)에서의 개스 압력을 측정하고 이를 통하여 필터(1)의 불량 여부를 확인한다.Therefore, after the wetting of the filter 1 is completed and the wetting solvent is recovered from the filter 1 to the tank 10, the first four-way valve 6 is opened to check whether the filter medium is wetted. Switch to the filter 1 and the second four-way valve 7, and switch the second four-way valve 7 to the first four-way valve 6, the gas supply unit 30 and the pressure gauge 80. ), And after switching the 3-way valve 9 to the filter 1 and the air flow meter 50, the gas valve 8 is opened to open the bubble point (the flow rate of the gas suddenly increases). The gas pressure at the point) and check whether the filter 1 is defective.
PTFE 재질의 필터 매질은 수용액계의 화학약품 용액을 여과하는 데 사용되는 경우에는 반드시 웨팅 과정을 필요로 하고, 웨팅 후에는 반드시 순수를 흘려 필터(1) 내에 남아 있는 웨팅 용액을 완전히 제거해야 한다. 예를 들어, 웨팅 용제로서 사용되는 이소프로필 알콜은 전 유기 탄소(TOC)를 함유하고 있는 데, 필터(1) 내에 이소프로필 알콜(IPA)이 잔류하게 되면, 전 유기 탄소(TOC)가 화학약품 용액으로 유입되어 화학약품 용액이 오염된다. 이는 결국 반도체 제품의 수율을 떨어뜨리게 된다. 본 시스템은 이러한 화학약품 용액의 불량원의 발생을 방지하기 위한 액체 유량계(60)와 불순물(즉 TOC) 계수기(70)를 구비하고 있다. 순수를 이용하여 필터(1)로부터 웨팅 용액을 완전히 제거하기 위해, 제1의 4-웨이 밸브(6)를 필터(1)와 순수 공급부(20) 쪽으로 전환하고 3-웨이 밸브(9)를 필터(1)와 액체 유량계 및 불순물 계수기(70) 쪽으로 전환하여 필터(1)로부터의 순수(액체 유량계(60)에 측정된 값)내에 함유된 불순물(TOC)의 양이 소정의 기준치 이하인 지를 불순물 계수기(70)를 사용하여 측정한다.When the filter medium made of PTFE is used to filter an aqueous chemical solution, a wetting process must be required, and after wetting, a pure water must be flowed to completely remove the wetting solution remaining in the filter (1). For example, isopropyl alcohol used as a wetting solvent contains all organic carbon (TOC). If isopropyl alcohol (IPA) remains in the filter (1), all organic carbon (TOC) is a chemical Entering the solution contaminates the chemical solution. This will eventually lower the yield of semiconductor products. The system is provided with a liquid flow meter 60 and an impurity (ie TOC) counter 70 to prevent the generation of defective sources of chemical solutions. To completely remove the wetting solution from the filter 1 using pure water, switch the first four-way valve 6 towards the filter 1 and the pure water supply 20 and filter the three-way valve 9. (1) and toward the liquid flow meter and the impurity counter 70, the impurity counter determines whether the amount of impurities (TOC) contained in the pure water from the filter 1 (the value measured by the liquid flow meter 60) is equal to or less than a predetermined reference value. Measure using 70.
필터 매질이 PTFE 계 재질인 경우에는 웨팅 용제로서 이소프로필 알콜(IPA)이 적합하나 이 IPA는 화재의 위험성이 높고 환경에 매우 유해한 용제이므로 외부로부터 격리되는 것이 바람직한 데, 본 시스템은 이를 충족시킬 뿐만 아니라 이를 수거하여 재사용할 수 있도록 한다.If the filter medium is PTFE-based, isopropyl alcohol (IPA) is suitable as a wetting solvent, but it is preferable to isolate it from the outside because it is a high risk of fire and is very harmful to the environment. Rather, they can be collected and reused.
이상에서 상세히 설명한 바와 같은 본 발명에 따르면, 필터 매질의 미세 기공까지 완벽한 웨팅이 이루어진다. 둘째, 필터의 웨팅 상태를 쉽게 점검할 수 있다. 셋째, 화학약품 용액이 불순물에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다. 넷째, 필터의 불량 여부를 그것이 설비에서 사용되기 이전에 충분히 검증할 수 있다. 다섯째, 환경을 보호하고 강한 휘발성의 웨팅 용제로 인한 화재 발생의 위험성으로부터 벗어날 수 있다.According to the present invention as described in detail above, complete wetting to the fine pores of the filter medium is achieved. Second, the wetting state of the filter can be easily checked. Third, the chemical solution can be prevented from being contaminated by impurities. Fourth, the failure of the filter can be fully verified before it is used in the installation. Fifth, it can protect the environment and escape the risk of fire caused by strong volatile wetting solvent.
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950056427A KR0173948B1 (en) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | Wet Filter Wetting System |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950056427A KR0173948B1 (en) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | Wet Filter Wetting System |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970052073A KR970052073A (en) | 1997-07-29 |
| KR0173948B1 true KR0173948B1 (en) | 1999-04-01 |
Family
ID=19444340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950056427A KR0173948B1 (en) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | Wet Filter Wetting System |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0173948B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100441249B1 (en) * | 2001-07-27 | 2004-07-21 | 삼성전자주식회사 | Toc measure apparatus for a semiconductor device fabrication installation and toc measure method for using the apparatus |
-
1995
- 1995-12-26 KR KR1019950056427A patent/KR0173948B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100441249B1 (en) * | 2001-07-27 | 2004-07-21 | 삼성전자주식회사 | Toc measure apparatus for a semiconductor device fabrication installation and toc measure method for using the apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970052073A (en) | 1997-07-29 |
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