KR0166324B1 - Heat generation through mechanical molecular agitation - Google Patents

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KR0166324B1
KR0166324B1 KR1019960700288A KR19960700288A KR0166324B1 KR 0166324 B1 KR0166324 B1 KR 0166324B1 KR 1019960700288 A KR1019960700288 A KR 1019960700288A KR 19960700288 A KR19960700288 A KR 19960700288A KR 0166324 B1 KR0166324 B1 KR 0166324B1
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알. 댈러스 클레이튼
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차알스 그렌치
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Abstract

본 발명은 파이프 시스템에서 포함된 가스 압축기(2,3)는 연결된 처리실(1)과 처리 파이핑부를 신속하고 효과적으로 가열하는 정화 가스 가열과 재순환을 제공할 것이다.The present invention will provide a purge gas heating and recirculation that allows the gas compressors 2 and 3 included in the pipe system to quickly and effectively heat the process chamber 1 and process piping connected thereto.

충분한 열은 회전자(24)당 복수개의 로우브를 구비한 복식 회전자로 된 회전식 가스 압축기의 흡입구와 배출구를 통과하는 가스 분자의 기계적 회동을 통하여 신속하게 발생된다.Sufficient heat is generated quickly through the mechanical rotation of gas molecules passing through the inlet and outlet of a rotary gas compressor of a double rotor with a plurality of lobes per rotor 24.

가스 흐름에 열을 전하는 수단으로서 회전식 가스 압축기의 적용은 폐 루프와 개방 루프 파이핑 적용으로 대류열의 절약원을 제공한다.Application of rotary gas compressors as a means of transferring heat to the gas stream provides a source of convective heat savings with closed loop and open loop piping applications.

Description

[발명의 명칭][Name of invention]

기계적 분자 회동에 의한 열발생기Heat generator by mechanical molecular rotation

[발명의 상세한 설명]Detailed description of the invention

[발명의 배경][Background of invention]

본 발명은 시스템에 연결된 처리실 또는 처리 관부를 신속하고도 효과적으로 데우고, 정화 가스를 가열하고 재순환하게 하는 펌핑 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a pumping system for quickly and effectively warming a process chamber or process tube connected to a system and for heating and recirculating purge gas.

본 발면은 처리실 또는 처리 관부의 내부 표면으로부터 수증기나 탄화수소와 같은 잘 제거되지 않는 오염 물질을 제거하는데 유용하게 이용된다.The present aspect is usefully used to remove inferior contaminants such as water vapor or hydrocarbons from the inner surface of the treatment chamber or treatment tube.

본 발명은 충분한 열을 발생시킨후 가스가 처리량이 크고, 각 회전자가 복수개으 로우브를 갖는 복식 회전자(dual rotor)로 된 회전식 가스 압축기(rotary gas cpmpress)의 흡입구 및 배출구를 통과할 때, 회동하는 가스 분자들에 그 열을 전달한다. 가스 회동/가열 기능을 수행하는 회전식 가스 압축기들은 다양하며, 가장 일반적인 것이 2 로우브를 갖는 복식 회전자로 된 루츠식(Roots Type) 펌프이다. 본 발명은 더 효과적으로 기능을 수행하는 다른 펌프도 가능하지만, 3 로우브 회전자를 갖는 복식 회전자로 된 회전식 가스 압축기를 사용하였다. 기계적 분자 가스 회동에 의한 열발생기의 기능은 1) 압축기의 흡입구와 출구를 통과하는 가스 분자들의 신속한 회동 / 펌프는 가스 온도를 충분히 상승하게 하고, 2) 신속한 가스 처리량으로 인해 페루프 가스 재순환 시스템에서 회동하는 가스의 주파수를 증가시키고, 3) 압축기 흡입구와 배출구 사이에서 미소의 텔타 압력 압축비를 구비한 신속한 가스 회동과 그후에 가스온도 상승으로 인해 압축기를 구동시키는데 요구되는 에너지량을 최소화하고, 4) 광범위한 압력 분포를 일으키는 능력으로 인해 양의 압력과 진공 압력을 모두 포함하게 된다. 신속하고도 효과적으로 가스 온도를 상승시키는 회전식 가스 압축기의 적용은 페루프관에서 대류열의 절약원, 공업용의 대류 오븐, 처리진공 시스템, 양의 압력과 진공 압력 탈수 적용, 그리고 물과 공간의 가열로써 폭 넓게 적용 될 것이다.According to the present invention, when a sufficient amount of heat is generated to generate gas and each rotor passes through an inlet and outlet of a rotary gas cpmpress of a dual rotor having a plurality of lobes, It transfers heat to the rotating gas molecules. Rotating gas compressors that perform gas turning / heating functions are various, the most common being a Roots type pump with a double rotor with two lobes. The invention utilizes a rotary gas compressor of a double rotor with three lobe rotors, although other pumps that function more effectively are possible. The function of the heat generator by mechanical molecular gas rotation is: 1) rapid rotation / pump of gas molecules passing through the inlet and outlet of the compressor causes the gas temperature to rise sufficiently, and 2) due to the rapid gas throughput in the Peruvian gas recirculation system. Increasing the frequency of the rotating gas, 3) minimizing the amount of energy required to drive the compressor due to rapid gas rotation with a small Telta pressure compression ratio between the compressor inlet and outlet, and then increasing the gas temperature; The ability to create a pressure distribution includes both positive and vacuum pressures. The application of rotary gas compressors to quickly and effectively raise the gas temperature is widely used as a conservative source of convective heat in Peruvian pipes, industrial convection ovens, treatment vacuum systems, positive and vacuum dewatering applications, and water and space heating. Will be applied.

대류열을 발생시키기 위해서는 화염이나 고온의 표면을 구비한 가스 매질의 접촉에 의존한다. 열은 구성에 있어서 가스 흐름과 직접 접촉하는 화염의 온도 또는 표면의 상승 온도를 유지하는데 소모되는 에너지량에 직접적으로 배례하는 방식으로 가스 매질에 전해진다. 반대로, 대류나 가스 접촉열은 비록 가열된 정화 가스를 구비한 사이클 정화 진공 시스템의 내부 표면으로부터 탄화 수소 분자와 분자 수증기와 같은 일정한 형태의 오염 물질의 제거와 같은 특별한 적용에 있어서는 효과적인 방법일지라도, 이러한 가열 구성 방식에 있어서, 가스의 불충분한 열전달 능력으로는 표면에 열을 이송하는 데 에너지가 충분하지 못하다.The generation of convective heat relies on the contact of a flame or a gas medium with a hot surface. Heat is transferred to the gas medium in a manner that is directly proportional to the amount of energy consumed to maintain the temperature of the flame or the elevated temperature of the surface in direct contact with the gas stream. Conversely, convection or gas contact heat is an effective method for special applications, such as the removal of certain types of contaminants such as hydrocarbon molecules and molecular water vapor from the inner surface of a cycle purge vacuum system with heated purge gas. In a heating scheme, insufficient heat transfer capability of the gas does not provide enough energy to transfer heat to the surface.

오염 물질을 제거하는 가장 일반적인 방법은 진공 처리실에 외부열을 집중적으로 이용하는 것이다. 상승 온도를 400℉까지 높이 데우는 이 외부열은 처리 시스템의 내부 표면에 있는 오염 물질의 거주 시간을 감소시키기 위한 진공시스템에 사용된다. 외부 가열은 오염 물질의 성공적인 제거를 제공하는데 충분한 것은 아니다. 종래의 구성은 오염 물질의 제거를 위해서 진공에만 의존하였다.The most common method of removing contaminants is to concentrate external heat in a vacuum chamber. This external heat, which warms the elevated temperature to 400 ° F, is used in vacuum systems to reduce the residence time of contaminants on the inner surface of the treatment system. External heating is not sufficient to provide successful removal of contaminants. The conventional configuration only relies on vacuum for the removal of contaminants.

분자 유동 진공 상태에서 이 분자 오염 물질의 불규칙한 운동은 먼저 시간의 감소를 성공적으로 수행한다. 이시간을 감소하기 위한 성공적인 종래의 기술은 진공 펌프 하부 조직에서 오염 물질을 효과적으로 이송하는 기구로서 작용하는 고온의 건조한 가스를 구비한, 분자 오염 물질의 내부 표면을 깨끗하게 청소하는 고온의 가스 정화로 알려져 왔다. 가열된 가스 정화의 효과는 반복된 정화 사이클을 통해서 더욱 향상된다. 이러한 고온의 가스 정화 기능을 수행하는 좀 더 효과적인 방법을 찾기 위한 시도에서 고온의 표면과의 접촉을 이용하는 종래의 기술보다 더 효과적인 방법으로, 가스 흐름에 좀더 빨리 열을 전할 수 있는 분자 가스 회동 기능을 수행하도록 하는 회전식 가스 압축기를 사용하는 열발생 방법을 개발하였다.Irregular movement of this molecular contaminant in a molecular flow vacuum first successfully accomplishes the reduction of time. A successful conventional technique for reducing this time is known as hot gas purification, which cleans the inner surface of molecular contaminants with a hot dry gas that acts as a mechanism for effectively transporting contaminants in the vacuum pump subsystem. come. The effect of heated gas purge is further enhanced through repeated purge cycles. In an attempt to find a more effective way to perform this hot gas purification function, a more effective method than conventional techniques using contact with hot surfaces is to provide a molecular gas rotational function that can transfer heat to the gas stream more quickly. A heat generation method using a rotary gas compressor has been developed.

[본 발명의 요약]Summary of the Invention

특정한 가스 압축기는 펌프의 흡입구에서 배출구까지 통과하는 가스 분자에 충분한 양의 열을 전할 수 있음이 발견되었다. 재순환 밸브의 추가는 가스 흐름이 압축기를 재순환될 때, 가스 흐름에 열을 신속하고도 효과적으로 전할 수 있게 한다. 본 발명이 처리 진공실 배출 포트와 재순환 포트에서 처리 진공실에 연결되었을 때, 3 로우브 복식 회전자로 된 회전식 압축기에 의해 발생된 열은, 진공 펌프 하부 조직에 의해 효과적으로 퍼낼 수 있도록, 진공 시스템의 내부 표면으로부터 오염 물질의 신속한 제거를 할 수 있도록 하는 고온의 정화 가스를 구비한, 시스템의 내부 표면을 청소하는 재순환 방식에 있어서의 시스템 파이핑을 지원하고, 처리 진공실을 통하여 압축기의 흡입구에서 배출구까지 흐를 때, 정화 가스의 온도를 신속하게 올린다. 가스 승압기(Booster)인 복식 회전자는 다음의 기본적인 3개의 요인의 제어를 통하여 승압기를 통과하는 가스 분자에 다량의 열에너지를 전하게 된다. a) 가스 압력 / 펌프 내부의 분자 밀도. b) 펌프의 흡입구와 배출구 또는 양쪽 모두에서 가스의 흐름을 제한하여 펌프 기구 내부에서 분자 거주 시간을 증가. c) 가스 분자가 재순환 동작에서 펌프 기구를 통과할 때의 주파수. 이러한 요인들은 쉽게 제어되며, 펌프 적용은 간단한 시스템 구성에서 단일 요건으로서의 열발생, 고온 가스 흐름, 재순환과 시스템 배출 기능인 분자 가스 회동을 수행하는 것에 주의해야 한다. 이 간단한 재순환 구성은 이러한 요인들의 조정으로 인해, 전기저항으로 가열된 표면의 접촉을 통해 가열되고 재순환된 고온의 물 또는 공기 보다도 열발생에 있어서 더욱 효과적이고 경제적인 근원임이 증명될 수 있다.It has been found that certain gas compressors can transfer sufficient heat to gas molecules passing from the inlet to the outlet of the pump. The addition of a recirculation valve makes it possible to transfer heat to the gas stream quickly and effectively when the gas stream is recycled to the compressor. When the present invention is connected to the process vacuum chamber at the process vacuum chamber discharge port and the recirculation port, the heat generated by the rotary compressor of three lobe double rotors can be effectively dissipated by the vacuum pump subsystem, so that Supports system piping in a recirculation method of cleaning the inner surface of the system, with a high temperature purge gas to allow for rapid removal of contaminants from the surface, and flows from the inlet to the outlet of the compressor through the process vacuum chamber. , Quickly raise the temperature of the purge gas. The double rotor, a gas booster, delivers a large amount of thermal energy to gas molecules passing through the booster through control of three basic factors: a) gas pressure / molecular density inside the pump. b) Increased molecular residence time within the pump mechanism by restricting the flow of gas at the pump inlet and outlet or both. c) the frequency at which gas molecules pass through the pump mechanism in the recirculation operation. These factors are easily controlled and care should be taken to ensure that the pump application performs molecular gas rotation, a function of heat generation, hot gas flow, recirculation and system discharge as a single requirement in a simple system configuration. This simple recirculation configuration may prove to be a more effective and economical source of heat generation than hot water or air heated and recirculated through the contact of an electrical resistance heated surface due to the adjustment of these factors.

[도면의 간단한 설명][Brief Description of Drawings]

명세서에 포함된 첨부한 도면은 발명의 제한으로서 해석되어 지는 것이 아니라 발명의 상세한 설명을 예를 들어 설명한 것이다.The accompanying drawings included in the specification are not to be construed as limiting the invention, but rather as an illustration of the detailed description of the invention.

제1도는 종래 기술의 구성도로서, 내부 표면의 오염 물질을 제거하기 위한 중간 진공 펌프 구성도이다. 그 구성은 외부 전기 가열 재킷이 있는 진공 처리실과, 가열 정화 가스 흡입구와, 진공계 센서와, 1단계 저진공 펌프와, 3 로우브 회전자 가스 압축기 2단계 복식 회전자로 구성된다.1 is a block diagram of the prior art, which is an intermediate vacuum pump block diagram for removing contaminants on an inner surface. The configuration consists of a vacuum processing chamber with an external electric heating jacket, a heated purge gas inlet, a vacuum sensor, a first stage low vacuum pump, and a three lobe rotor gas compressor two stage double rotor.

제2도는 내부 표면의 오염 물질을 제거하기 위한 가스 재순환 방법을 통합한 중간진공 시스템이다.2 is an intermediate vacuum system incorporating a gas recirculation method to remove contaminants on the inner surface.

제3도는 종래의 기술 구성도로서, 내부 표면의 오염 물질을 제거하기 위한 고 진공 펌프 구성이다. 그 구성은 외부 전기 가열 재킷이 있는 진공 처리실, 가열 정화 가스 흡입구, 진공계 센서, 1단계 저진공 펌프, 2단계 복식 회전자 가스 압축기와 극저온 포착 펌프로 구성된다.3 is a prior art configuration, which is a high vacuum pump configuration for removing contaminants on an inner surface. It consists of a vacuum processing chamber with an external electric heating jacket, a heated purge gas inlet, a vacuum sensor, a first stage low vacuum pump, a two stage double rotor gas compressor and a cryogenic capture pump.

제4도는 내부 표면의 오염 물질을 제거하기 위한 가스 재순환 방법을 포함하는데 있어서 수정된 제3도의 고진공 시스템이다.FIG. 4 is the high vacuum system of FIG. 3 modified to include a gas recirculation method for removing contaminants on the inner surface.

제5도는 3차원 표면으로서, 가스 재순환 진공 펌핑 시스템을 사용하여 고진공실에서 주위 수증기 오염 물질의 빠른 감소를 보여주는 잔류가스 분석표이다.5 is a three-dimensional surface, residual gas analysis table showing the rapid reduction of ambient water vapor contaminants in a high vacuum chamber using a gas recirculation vacuum pumping system.

제6도는 펌프를 통과하는 가스 분자에 열을 전달하는 펌프 기구의 작동 방법을 예를 들어 설명하는, 가스 압축기의 복수개 로우브 회전자로 된 복식 회전자의 절개 단면도이다.6 is a cutaway sectional view of a double rotor of a plurality of lobe rotors of a gas compressor, illustrating by way of example a method of operating a pump mechanism that transfers heat to gas molecules passing through the pump.

제7도는 열발생기의 효과에 있어서, 가스 압력/분자 밀도의 결과를 보여주는 3차원 선도표이다. 이 시험은 제2도에서 보여준 구성을 사용하여 수행되었다.7 is a three-dimensional diagram showing the results of gas pressure / molecular density on the effect of a heat generator. This test was performed using the configuration shown in FIG.

제8도는 지지 탱크의 내부 유체에 열을 이송하는데 사용된 발명의 구성도이다.8 is a schematic diagram of the invention used to transfer heat to an internal fluid of a support tank.

제9도는 가스 흐름 재순화 / 분자 가스 회동의 주파수의 주기에 의한 열발생의 증가를 제공하는 일련의 복수개의 가스 압축기들을 사용하는 공간에 열을 이송하기 위해 사용된 발명의 구성도이다.9 is a schematic diagram of the invention used to transfer heat to a space using a series of a plurality of gas compressors providing an increase in heat generation by a period of frequency of gas flow recirculation / molecular gas rotation.

[바람직한 실시예의 설명][Description of Preferred Embodiment]

제1도에 의하면, 전형적인 종래의 기술인 중간 진공 압력 시스템은 외부에서 가열하고 내부에서는 뜨거워진 가스를 정화하여 파이프 일을 지원하고, 처리 진공실로부터 내부면의 오염 물질을 제거하기 위해 구상된 종래 기술 시스템의 구성에 사용되어진 구성 요소들을 예를 들어 설명한 것을 보여준다. 시스템의 구성의 예를 든 설명은 본 발명을 이해시키는 데 목적을 두고 있다. 종래의 기술 시스템의 실예는 외부의 전기 건조 재킷(6)에 의해 가열되는 처리 진공실(1)을 구성한다. 처리 진공실(1)은 2단계인 중간 진공 압력 펌핑 하부조직과 연결된다. 예시된 하부조직은 1단계인 저진공 펌프(3)와 2단계 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 진공 압축기(2)를 구성한다. 하부조직은 제1단계 및 제2단계 진공 펌프에 의해 발생한 전체 진공 압력 레벨을 측정하기 위한 진공계 센서(5)와, 2단계 중간 진공 압력 차단 밸브(4)와, 정화 가스 흡입 밸브(9)를 포함하는 파이프 다기관에 의해 처리 진공실(1)에 연결된다. 외부 전기 건조 재킷(6)에 추가하여, 시스템 구성은 예시된 진공 시스템의 내부면으로부터 오염 물질의 제거를 지원하는 정화 가스(7)의 온도를 상승시키는 전기 정화 가스 가열기를 포함한다. 외부열의 적용은 진공 펌프 하부조직에서 펌핑할 수 있도록 하기 위해서 진공 시스템의 내부면으로부터 분자 레벨 오염 물질을 흡수 제거할 목적을 가진다. 진공 적용에 있어서, 가장 일반적이면서도 분해하기 어려운 오염 물질의 형태는 분자 수증기이다. 오염 물질의 이러한 형태는 진공 펌프로 제거하기가 무척 어렵다. 수증기 오염 물질을 더욱 효과적으로 제거하기 위하여, 고온의 가스 정화의 추가는 분자 수증기의 내부면을 진공 펌핑 하부 조직에서 수증기 오염 물질의 효과적인 이송 기구로 작용하는 뜨거운 건조 가스로 청소하는 것을 지원한다. 가열된 가스 정화의 효과는 반복되는 정화 사이클에 의해 향상된다.According to FIG. 1, a typical prior art intermediate vacuum pressure system is a prior art system designed to support pipe work by purging externally and purifying hot gases from the inside, and to remove contaminants on the inner surface from the process vacuum chamber. Shows the example of the components used in the configuration of the example. An example of the configuration of the system is for the purpose of understanding the present invention. An example of the prior art system constitutes a processing vacuum chamber 1 which is heated by an external electric drying jacket 6. The process vacuum chamber 1 is connected to a two stage intermediate vacuum pressure pumping subsystem. The illustrated subsystem constitutes a three stage rotor vacuum compressor 2 consisting of a low stage pump 3 and a two stage double rotor. The lower tissue includes a vacuum gauge sensor 5 for measuring the total vacuum pressure level generated by the first and second stage vacuum pumps, a second stage intermediate vacuum pressure shutoff valve 4 and a purge gas intake valve 9. It is connected to the process vacuum chamber 1 by a pipe manifold that includes it. In addition to the external electric drying jacket 6, the system configuration includes an electric purge gas heater that raises the temperature of the purge gas 7 to assist in the removal of contaminants from the inner surface of the illustrated vacuum system. The application of external heat aims to absorb and remove molecular level contaminants from the inner surface of the vacuum system in order to be able to pump in the vacuum pump subsystem. In vacuum applications, the most common but difficult to degrade form of contaminants is molecular water vapor. This form of contaminant is very difficult to remove with a vacuum pump. In order to more effectively remove the water vapor contaminants, the addition of hot gas purification assists in cleaning the inner surface of the molecular water vapor with hot dry gas which serves as an effective transport mechanism for water vapor contaminants in the vacuum pumping subsystem. The effect of heated gas purge is enhanced by repeated purge cycles.

제2도에 의하면, 가스 재순환 구성을 수정한 중간 진공 압력 시스템을 압력 진공실로부터 내부면의 오염 물질을 제거하기 위한 본 발명을 이용하는 진공 시스템의 구성에 사용되고, 파이프 일을 도와주는 구성 요소들을 예를 들어 설명한 것을 보여준다. 시스템의 예는 제2단계인 중간 진공 압력 펌프 하부 조직과 연결된 처리 진공실(1)을 구성한다. 예의 하부조직은 제1단계 저진공 펌프(3)와, 제2단계 복식 회전자로 된 3로우브 회전자 진공 압축기(2)를 구성한다. 하부조직은 제1단계 진공 펌프에 의해 이루어지는 전체 진공 압력 레벨로 측정하기 위한 진공계 센서(5)와, 제2단계 진공 압력 차단 밸브(4)와, 정화가스 흡입 밸브(9)를 포함하는 파이프 다기관에 의해 처리 진공실(1)과 연결된다. 처리 진공실 재순환 포트(14)에서 처리 진공실(1)과 연결되는 가스 재순환 밸브(13)와 제1단계 낮은 진공 차단 밸브(15)에 추가는 진공 하부 조직으로 효과적으로 제거하기 위해서 예의 진공 시스템의 내부면으로부터 오염 물질의 신속한 제거를 제공하는 고온의 건조 정화 장치를 가지고, 시스템의 내부면을 청소하는 재순환 방식에서 시스템 파이핑을 지원하고, 처리 진공실(1)에 의해 진공 압력 배출구(12)에서 진공 압력 흡입구(11)까지 흐르는 정화 가스(7)의 온도를 상승하게 하는 제2단계 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 진공 압축기(2)에 의해 발생되는 열을 사용할 수 있는 능력을 제공한다.According to FIG. 2, an intermediate vacuum pressure system with a modified gas recirculation configuration is used for the construction of a vacuum system using the present invention for removing contaminants on the inner surface from a pressure vacuum chamber, and the components assisting pipe work. For example, show An example of the system constitutes a process vacuum chamber 1 connected with an intermediate vacuum pressure pump substructure that is a second stage. The substructure of the example constitutes a first stage low vacuum pump 3 and a three lobe rotor vacuum compressor 2 consisting of a second stage double rotor. The undercarriage is a pipe manifold comprising a vacuum gauge sensor (5), a second stage vacuum pressure shutoff valve (4), and a purge gas suction valve (9) for measuring at the overall vacuum pressure level made by the first stage vacuum pump. It is connected with the process vacuum chamber 1 by the. In addition to the gas recirculation valve 13 and the first stage low vacuum shut-off valve 15 which are connected to the process vacuum chamber 1 at the process vacuum chamber recirculation port 14, the inner surface of the example vacuum system for effective removal to the vacuum subsystem. It has a high temperature dry purifying device that provides for rapid removal of contaminants from the system, supports system piping in a recirculation manner of cleaning the inner surface of the system, and in the vacuum pressure inlet 12 at the vacuum pressure outlet 12 by the processing vacuum chamber 1. It provides the ability to use the heat generated by the three-lobe rotor vacuum compressor 2 of the second stage double rotor to raise the temperature of the purge gas 7 flowing up to (11).

제3도에 의하면, 외부에서 가열되고, 내부에서는 고온의 가스가 정화되는, 전형적인 종래의 기술인 고진공 압력 시스템은 파이프 일을 돕고, 처리 진공실로부터 내부면의 오염 물질을 제거하기 위해 구상된 종래의 기술 시스템의 구성에 사용되는 기초적인 구성 요소를 예를 들어 설명한 것을 보여준다. 시스템의 예를 들 설명은 본 발명의 이해를 돕는데 목적이 있다. 종래 기술 시스템의 예는 외부 전기 건조 재킷(6)에 의해 가열되는 처리 진공실(1)을 구성된다. 처리 진공실(1)은 제3단계인 고진공 압력 펌핑 하부조직과 연결된다. 예의 하부조직은 제1단계 저진공 펌프(3)와, 제2단계 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 진공 압축기(2)와 고진공 극저온 포착 펌프(16)로 구성된다. 하부조직은 파이프 다기관에 의해 처리 진공실(1)과 연결되는데, 이 파이프 다기관은 고진공 극저온 포착 펌프(16)에 의해 도달하는 전체 진공 압력을 측정하고, 부분 진공 압력 오염 물질을 측정하기 위한 잔류 가스 분석 센서(18)과, 제3단계 고진공 차단 밸브(17)와 제1, 제2단계 진공 펌프에 의해 이루어지는 전체 진공 압력 레벨을 측정하기 위한 진공계 센서(5)와, 제2단계 중간 진공 압력 차단 벨브(4)와, 정화 가스 흡입 밸브(9)를 포함한다. 외부 전기 건조 재킷 6에 추가하여, 시스템 구성은 예의 진공 시스템의 내부면으로부터 오염 물질의 제거를 좀 더 지원하기 위한 정화 가스의 온도를 높이는 전기 정화 가스 가열기(8)을 포함한다. 외부열의 적용은 진공 펌핑 시스템에 의해 펌프될 수 있도록 진공 시스템의 내부면으로부터 분자 레벨 오염 물질 떼어내는 데 목적이 있다. 진공의 적용에 있어서 가장 일반적이고 제거하기 어려운 형태가 분자 수증기이다. 이러한 오염 물질은 진공 펌프로만 제거하기가 매우 어렵다. 비록 본 예에서 사용된 극저온의 펌프가 이러한 목적에 가장 효과적인 펌프이긴 하지만, 효과적으로 펌프에 수증기를 이송하기에는 시스템에 많은 어려움이 있다. 수증기 오염 물질을 더욱 효과적으로 제거하기 위해서 뜨거운 가스 정화에 추가는 진공 펌프 하부 조직에서 분자 수증기의 내부면을 수증기 오염 물질의 효과적인 이송기구로서 작용하는 뜨거운 건조 가스로 청소하는 것을 지원한다. 가열된 가스 정화의 효과는 반복된 정화 사이클에 의해 향상된다.According to FIG. 3, a conventional, high vacuum pressure system, which is heated externally and purifies hot gases inside, is a conventional technique designed to help pipe work and to remove contaminants on the inner surface from the process vacuum chamber. The basic components used to configure the system are shown as examples. The description of examples of the system is intended to assist in the understanding of the present invention. An example of the prior art system consists of a process vacuum chamber 1 which is heated by an external electric drying jacket 6. The process vacuum chamber 1 is connected with the third stage, the high vacuum pressure pumping substructure. The substructure of the example consists of a first stage low vacuum pump 3, a three lobe rotor vacuum compressor 2 of a second stage double rotor and a high vacuum cryogenic capture pump 16. The subsystem is connected to the process vacuum chamber 1 by a pipe manifold, which measures the total vacuum pressure reached by the high vacuum cryogenic capture pump 16 and analyzes the residual gas for measuring partial vacuum pressure contaminants. A vacuum gauge sensor 5 for measuring the overall vacuum pressure level made by the sensor 18, the third stage high vacuum shutoff valve 17 and the first and second stage vacuum pumps, and the second stage intermediate vacuum pressure shutoff valve. (4) and the purge gas suction valve 9 are included. In addition to the external electric drying jacket 6, the system configuration includes an electric purge gas heater 8 that raises the temperature of the purge gas to further support the removal of contaminants from the inner surface of the vacuum system. The application of external heat is aimed at separating molecular level contaminants from the inner surface of the vacuum system so that it can be pumped by the vacuum pumping system. The most common and difficult to remove form in the application of vacuum is molecular water vapor. Such contaminants are very difficult to remove only with a vacuum pump. Although the cryogenic pump used in this example is the most effective pump for this purpose, there are many difficulties in the system for effectively transferring water vapor to the pump. In addition to the hot gas purification in order to more effectively remove the water vapor contaminants, the internal surface of the molecular water vapor in the vacuum pump substructure supports cleaning with hot dry gas which serves as an effective transport mechanism for water vapor contaminants. The effect of heated gas purge is enhanced by repeated purge cycles.

제4도에 의하면, 가스 재순환 구성을 수정한 고진공 압력 시스템을 파이프 일을 지원하고, 처리 진공실로부터 내부면의 오염 물질을 제거하기 위한 본 발명을 이용하는 진공 시스템의 구성에서 사용된 구성 요소를 예를 들어 설명한 것을 보여준다. 시스템의 예는 3단계인 고진공 압력 펌핑 하부조직과 연결되는 처리 진공실(1)로 구성된다. 하부조직의 예는 제1단계 저진공 펌프(3)와, 2단계 복식 회전자로 된 3로우브 회전자 진공 압축기(2)와, 고진공 극저온 포착 펌프(16)로 구성된다. 하부조직은 파이프 다기관에 의해 처리 진공실(1)과 연결되는데, 이때 파이프 다기관에는, 부분적인 진공 압력 오염 물질 레벨을 측정하기 위한 잔류 가스 분석 센서 (18)와, 제3단계 고진공 차단 밸브(17)과, 제1, 제2단계 진공 펌프에 의해 발생되는 전체 진공 압력을 측정하기 위한 진공계 센서(5)와, 제2단계 중간 진공 압력 차단 밸브(4)와, 정화 가스 흡입 밸브(9)를 포함한다. 처리 진공실 재순환 포트(14)에서 처리 진공실에 연결되는 가스 재순환 밸브(13)와, 제1단계 저진공 차단 밸브(15)에 추가는 진공 하부조직으로 효과적으로 제거할 수 있도록 하기 위해서 예의 진공 시스템이 내부면으로부터 오염 물질의 신속한 제거를 제공하는 고온의 건조 정화 장치를 가지고, 시스템의 내부면을 청소하는 재순환 방식에서 시스템 파이핑을 제공하고, 처리 진공실(1)을 통해 진공 압력 배출구(12)에서 진공 압력 흡입구(11)까지 흐르는 정화 가스(7)의 온도를 상승하게 하는 제2단계 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 진공압축기(2)에 의해 발생되는 열을 사용할 수 있는 능력을 제공한다. 이 구성에 있어서, 재순환 된 가스는 극저온 펌프의 극저온 표면에 의해 보다 쉽게 응축되어 포착되는 분자 수증기 오염 물질의 효과적인 이송 기구로서 작용한다.According to FIG. 4, the components used in the construction of a vacuum system utilizing the present invention for supporting pipe work in a high vacuum pressure system with modification of the gas recirculation configuration and for removing contaminants on the inner surface from the processing vacuum chamber are illustrated. For example, show An example of the system consists of a process vacuum chamber 1 connected to a high vacuum pressure pumping subsystem in three stages. An example of the substructure consists of a first stage low vacuum pump 3, a three lobe rotor vacuum compressor 2 of a two stage double rotor, and a high vacuum cryogenic capture pump 16. The subsystem is connected to the process vacuum chamber 1 by a pipe manifold, in which the residual gas analysis sensor 18 for measuring partial vacuum pressure contaminant levels and the third stage high vacuum shutoff valve 17 are provided. And a vacuum gauge sensor (5) for measuring the total vacuum pressure generated by the first and second stage vacuum pumps, a second stage intermediate vacuum pressure shutoff valve (4), and a purge gas suction valve (9). do. A gas vacuum valve 13 connected to the process vacuum chamber at the process vacuum chamber recirculation port 14 and the first stage low vacuum shut-off valve 15 is provided with an example vacuum system to enable effective removal to the vacuum subsystem. It has a high temperature dry purifying device that provides for rapid removal of contaminants from the face, provides system piping in a recirculation manner to clean the inner surface of the system, and vacuum pressure at the vacuum pressure outlet 12 through the process vacuum chamber 1. It provides the ability to use the heat generated by the three-lobe rotor vacuum compressor 2 of the second stage double rotor to raise the temperature of the purge gas 7 flowing to the inlet 11. In this configuration, the recycled gas acts as an effective transport mechanism for molecular water vapor contaminants that are more easily condensed and trapped by the cryogenic surface of the cryogenic pump.

제5도에 의하면 3차원면으로서, 잔류 가스 분석표의 Z축(19)는 부분 진공 압력(Torr), X축(20)은 전체 진공압(Torr), Y축(21)은 원자 질량을 나타낸 것을 보여준다. 데이터 집합은 원자량의 물(H20) 분자(22)의 부분 압력 레벨 표시에서 45.00% 향상을 나타낸다. 이 데이터는 제4도에서 나타낸 것처럼, 고진공 파이프 시스템을 연결함에 의해, 길이 67-직경 4 의 직선부에 1lea., 엘보우(Elbow)에 32ea., 길이 83-직경 4 의 직선부에 18ea., 크로스(Cross)에 12ea., 길이 4-직경 4의 직선부에 40ea. 를 포함하는 복잡한 형상의 고진공 파이프 시스템에서 모여진 것이다. 파이프 시스템의 전체 내부 체적은 23.6ft3이고, 전체 내부 단면적은 283 ft2와 같다. 파이핑 시스템은 제4도에서 나타내 것처럼, 수정된 일련 번호 022292인 Nuvac model NDP 70 2단게 오일(Oil) 프리(Free) 펌핑 시스템을 시용하여, 제3단계 고진공 차단 밸브와, 2단계 중간 진공 압력 차단 밸브를 모두 다 개방하였을 때, 0.003 Torr에서 배출되게 하였다. 2단계 차단 밸브는 그 때 닫혀지고, 정화 밸브는 파이프 시스템의 진공압력이 600 Torr에 도달할 때까지 열려있다. 2단계 차단 밸브는 파이프 시스템이 400 Torr에서 배출될 때까지 열려져 있다. 그 시점에서 1단계 차단 밸브는 닫혀지고, 가스 재순환 밸브는 열려진다. 가스 내부 파이프 시스템은 가스 온도가 200℉에서 배출되며 약 5분 동안 재순환 된다. 이 때 제1단계 저진공 차단 밸브는 파이프 시스템의 압력이 0.01 Torr에 도달할 때까지 열려져 있게 된다.According to FIG. 5, the Z-axis 19 of the residual gas analysis table shows a partial vacuum pressure (Torr), the X-axis 20 shows a total vacuum pressure (Torr), and the Y-axis 21 shows an atomic mass. Shows that The data set shows a 45.00% improvement in the partial pressure level indication of atomic weight water (H 2 0) molecules 22. This data is shown in Figure 4, by connecting a high vacuum pipe system, 1lea. In a straight line of length 67-diameter 4, 32ea in an elbow, 18ea. In a straight line of length 83-diameter 4, 12ea in the cross, 40ea in the straight part of length 4-diameter 4. It will be gathered from a high vacuum pipe system of a complex shape, including. The total internal volume of the pipe system is 23.6 ft 3 and the total internal cross section is equal to 283 ft 2 . The piping system uses a Nuvac model NDP 70 two-stage oil free pumping system, modified serial number 022292, as shown in FIG. 4, with a third stage high vacuum shutoff valve and two stage intermediate vacuum pressure shutoffs. When the valves were all open, they were discharged at 0.003 Torr. The two-stage shut-off valve is then closed and the purge valve is open until the vacuum pressure of the pipe system reaches 600 Torr. The second stage shutoff valve is open until the pipe system is discharged at 400 Torr. At that point, the first stage shutoff valve is closed and the gas recirculation valve is opened. The gas internal pipe system is vented at 200 ° F for about 5 minutes and recirculated. The first stage low vacuum shutoff valve is then opened until the pressure in the pipe system reaches 0.01 Torr.

이 시점에서 CTI On~Board 8, 극저온 포착 펌프 일련번호 AD119939 압축기는 시동하고, 후속으로 극저온 펌프의 냉각이 시작된다. 가스 분자들은 제 2단계 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 압축기에 의해 제2단계 중간 압력 차단 밸브에서 극저온 포착 펌프의 온도가 500K에 도달할 때까지 재순환되고, 가스 재순환 밸브는 닫혀진다. 극저온 포착 펌프가 100K 기본 온도에 도달했을때는, RGA 배출이 커지고 RGA는 20분간 데워 진다. 이 도면에서의 데이터 집합은 분과 데이터가 그 후 1시간 30분 도안 모여진 것을 보여준다. 상기의 데이터를 수집하기 위해서는 MKS 모텔번호 제 600A PPT호, 일련번호 제 1251-9201호인 RGA 를 사용한다.At this point, the CTI On-Board 8, cryogenic capture pump serial number AD119939 compressor starts and subsequently the cryogenic pump starts cooling. The gas molecules are recycled by a three-lobe rotor compressor with a second stage double rotor until the temperature of the cryogenic capture pump reaches 50 0 K in the second stage intermediate pressure shut-off valve, and the gas recirculation valve is closed. . When the cryogenic capture pump reaches the 10 0 K base temperature, the RGA emissions increase and the RGA warms up for 20 minutes. The data set in this figure shows the minutes and data collected thereafter for 1 hour and 30 minutes. In order to collect the data, RKS, MKS motel number 600A PPT and serial number 1251-9201, is used.

제6도에 의하면, 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 가스 압축기 (23)의 절개 단면도로서, 압축기 흡입구(25) 안으로 들어와서, 그 다음으로 회전자 로우브팁(28)과 펌프 스테이터 내의 내경(27) 사이에 형성된 가스 포켓(29)에서 포착되는 가스 분자들에 열을 전하는 펌프의 방식을 예를 설명한 것을 보여준다. 로우브들이 서로 반대 방향으로 동작할 때, 형성된 가스 포켓들은 압축기의 배출구(26)에서 분출된다. 로우브 팁과, 반대편 회전자 밸리(24)와, 펌프 스테이터 내경(27)과의 사이에서 그물처럼 엮어져 있는 밀접한 공차는 펌프내에 가스 분자의 중요한 회동을 만들어 낸다. 또한 압축기 흡입구(25)과 압축기 배출구(26)로부터 가스 분자의 중요한 손실을 막고, 이런 형상의 펌프 기구는 3개의 기본적인 요소를 제어하여 기구를 통과하는 가스 분자에 충분한 열 에너지를 전할 수 있다. a) 가스 압력 / 펌프 내부의 분자 밀도. b) 한쪽 펌프 흡입구에서 가스 흐름을 억제함으로 인하여 펌프 기구 내부에서 가스 분자의 거주 시간(dwell time)의 증가. c) 재순환 작동에서 펌프 기구를 통과하는 가스 분자의 주파수.According to FIG. 6, a cutaway sectional view of a three-lobe rotor gas compressor 23 made of a double rotor, enters the compressor inlet 25, and then the rotor lobe tip 28 and the inner diameter in the pump stator. As an example, a method of pumping heat to gas molecules captured in the gas pocket 29 formed between the 27 and 27 is shown. When the lobes operate in opposite directions, the formed gas pockets are ejected at the outlet 26 of the compressor. The tight tolerances meshed between the lobe tip, the opposite rotor valley 24 and the pump stator bore 27 create a significant rotation of gas molecules within the pump. It also prevents significant loss of gas molecules from the compressor inlet 25 and compressor outlet 26, and the pump mechanism of this shape can control three basic elements to transfer sufficient thermal energy to the gas molecules passing through the apparatus. a) gas pressure / molecular density inside the pump. b) Increased dwell time of gas molecules inside the pump mechanism by inhibiting gas flow at one pump inlet. c) frequency of gas molecules passing through the pump mechanism in the recirculation operation.

이 요소들은 쉽게 제어되고, 압축기는 간단한 시스템 구성에서 단일 구성 요소로서 열 발생과, 고온의 가스 분자 재순환과, 배출 기능을 수행하는 것을 주의해야 한다. 이 간단한 재순환 구성은 이 요소들의 조정을 통해서, 뜨거운 열과의 접촉으로 인해 데워진 공기 또는 뜨거운 물을 재순환하는 것보다 어떤 적용에 있어서는 열원을 더 효과적이고 경제적으로 향상시킬 수 있다.These elements are easily controlled and care must be taken that the compressor performs heat generation, hot gas molecular recirculation, and discharge as a single component in a simple system configuration. This simple recirculation configuration, through adjustment of these elements, can improve the heat source more effectively and economically in some applications than recirculating warmed air or hot water due to contact with hot heat.

제7도에 있어서, 3 차원 선도표(30)를 나타낸 것으로서, Z축(3)은 가스 온도(0F), X축(3)은 시간(Sec), Y축(33)은 압축기 흡입구의 가스 압력으로 구성되어 있는 것을 나타낸다. 데이터 집합은 300 mTorr에서 120초 동안 작동과 10psig에서 60초 동안(또는 전체 시간의 반) 작동과의 시이에서 기계적인 분자 가스 회동에 의한 열발생에 있어서 233%의 향상을 나타낸다. 이러한 그래프 선의 비교에서, 300 mTorr에서의 작동은 440볼트(volts)-3위상(phase)-5.5암페어(amps)의 교류 전력을 소모하고, 10 psig에서 작동은 440볼트-3우이상-8암페어의 교류 전력을 소모한다.In FIG. 7, the three-dimensional diagram 30 shows the Z axis 3 as the gas temperature ( 0 F), the X axis 3 as the time Sec, and the Y axis 33 as the gas at the compressor inlet. It shows that it consists of pressure. The data set shows a 233% improvement in heat generation by mechanical molecular gas rotation in the transition between operation at 300 mTorr for 120 seconds and operation at 10 psig for 60 seconds (or half the total time). In comparison of these graph lines, the operation at 300 mTorr consumes 440 volts-3 phase-5.5 amps of alternating power, and at 10 psig the operation is 440 volts-3 or higher-8 amps. Consumes AC power.

추가된 데이터 표시로서, 표면 가스온도(0F) 대 시간과 압력 ; 300 Torr에서 120초 동안 작동(35)과, 대기압 (높이 시험에서 640 Torr)에서 120초 동안 작동(36)과, 5 psig에서 120초 동안 작동(37)과, 10 psig에서 20초 동안 작동(39)을 열발생 전위에서 가스 분자 밀도의 관계를 좀더 상세히 예를 들어 설명한 것을 나타낸다. 이 압력들에서 사용된 전기 에너지는 300 Torr에서 5.5.암페어와, 대기압(640Torr)에서 6.5암페어와, 5 psig에서 7암페어이다. 이 에너지 요구량은 에너지 소비에 있어서 상대적으로 적은 증가량을 가지며, 압력의 기능에 있어서 가스 분자 밀도에 기초를 둔 열발생 전위에서 만들어진 증가량이다. 이 대단히 효과적인 관계는 일정한 가스 압축기 기하학의 에너지 소비가 주로 펌프 흡입구와 배출구 사이의 미소의 델타(4) 압력이고, 기하학은 높은 미소 델타 온도를 발생시킨다. 더욱이, 실제로 흡입 가스 압력이 증가함에 따라 압축비 효율을 감소시키는 단축된 분자 평균 자유 경로에 기인하는 압축기 흡입구와 배출구 사이의 미소 델타 압력비는 실제로 감소한다. 압축기 기하학으로 인해, 높은 흡입구 가스 압력 / 단축 분자 평균 자유 경로는 압축기의 압축비 효율을 감소시키고, 낮은 흡입구 / 배출구 델타 압력을 만들어 낸다. 압축기가 재순환 구성에 작동할 때 더 높아진 압력에서 감소된 압축비 효율과 델타 압력과의 관계는 더 높아진 압력에서 압축기를 작동시키기 위해서 요구되는 에너지량을 감소시키는 것을 지원한다. 이 도면에서, 기계적 분자 가스 회동 선도표(30)는 기계적 분자 가스 회동에 의한 열발생으로 인해 감소된 압축비 효율은 '가스 흐름에 전달된 열은 기본적인 압축 열에 기인하는 것이 아니라 펌프를 통과 함에 따른 가스 분자의 회동에 기인한다'는 것을 알려 주는 증가된 열발생 효율을 발생시킴을 나타낸 것이다.As an additional data display, surface gas temperature ( 0 F) versus time and pressure; 35 seconds at 300 Torr (35), 120 seconds at atmospheric pressure (640 Torr in height test) 36, 120 seconds at 5 psig (37), 20 seconds at 10 psig ( 39) illustrates the relationship between the gas molecular density at the heat generating potential in more detail as an example. The electrical energy used at these pressures is 5.5 amps at 300 Torr, 6.5 amps at atmospheric pressure (640 Torr) and 7 amps at 5 psig. This energy demand has a relatively small increase in energy consumption and is an increase made at the heat generating potential based on gas molecular density in the function of pressure. This very effective relationship is that the energy consumption of a constant gas compressor geometry is mainly the small delta (4) pressure between the pump inlet and outlet, and the geometry generates high micro delta temperatures. Moreover, as the intake gas pressure actually increases, the microdelta pressure ratio between the compressor inlet and the outlet actually decreases due to the shortened molecular mean free path which reduces the compression ratio efficiency. Due to the compressor geometry, the high inlet gas pressure / shortening molecular mean free path reduces the compression ratio efficiency of the compressor and produces a low inlet / outlet delta pressure. The relationship between reduced compression ratio efficiency and delta pressure at higher pressures when the compressor is operating in a recirculation configuration assists in reducing the amount of energy required to operate the compressor at higher pressures. In this figure, the mechanical molecular gas rotation curve 30 shows that the reduced compression ratio efficiency due to the heat generated by the mechanical molecular gas rotation indicates that the heat transferred to the gas stream is not due to the basic compression heat but rather to the gas molecules as it passes through the pump. Due to the rotation of 'induced increased heat generation efficiency.

제8도에 의하면, 처리 유체용기(50)안에 있는 처리 유체(5)에 열을 전달하는 열 발생 구성은 가스 재순환 시스템에 연결되는 열교환기 흡입구(45)와 배출구(46)를 구비한 폐푸르 열 교환기(44)를 사용하여, 유체에 열 전달의 효과적인 수단으로서 발명의 사용을 예를 들어 설명한 것을 나타낸다. 가스 재순환 시스템 예는 파이프 다기관에 의해 열 교환기에 연결된 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 압축구(2)를 구성하는데, 이 파이프 다기관에는 재순환 가스 흡입구 압력을 측정하기 위한 압력계 센서(40)와, 재순환 가스 압력을 증가 시키기 위한 정화가스 흡입 밸브(9)와, 재순환 가스 온도를 측정하기 위한 온도계 센서(41)와, 재순환 가스 압력을 감소시키기 위한 정화 가스 배출 밸브(42)를 포함한다.According to FIG. 8, the heat generating arrangement for transferring heat to the processing fluid 5 in the processing fluid container 50 is a waste purge having a heat exchanger inlet 45 and an outlet 46 connected to the gas recirculation system. Using the heat exchanger 44, it is illustrated by way of example the use of the invention as an effective means of heat transfer to a fluid. The gas recirculation system example comprises a three-lobe rotor compression port (2) of double rotors connected to a heat exchanger by a pipe manifold, which includes a pressure gauge sensor 40 for measuring the recycle gas inlet pressure. And a purge gas suction valve 9 for increasing the recycle gas pressure, a thermometer sensor 41 for measuring the recycle gas temperature, and a purge gas discharge valve 42 for reducing the recycle gas pressure.

압축기의 작동은 처리 유체(51)에 효과적으로 열을 전달하는 재순환 방식에서 있어서 지원되는 시스템 파이핑에 의해 정화 가스가 압축기 흡입구에서 배출구까지 흐를 때 정화 가스(7)의 내부 수송되는 가스 투입량의 온도를 신속하게 상승시킨다. 예에서 열발생은 가스 투입 압력과 압축기 작동 속도 또는 양쪽 모두의 조정에 의해서 간단히 제어된다.The operation of the compressor allows for rapid recovery of the temperature of the gas inputs carried in the purge gas 7 as the purge gas flows from the compressor inlet to the outlet by system piping supported in a recirculation scheme that effectively transfers heat to the process fluid 51. To increase. In the example, heat generation is simply controlled by adjusting the gas input pressure and the compressor operating speed or both.

제9도에 의하면, 공간에 열을 전달하기 위한 열발생 구성은 이런 방식의 열 전달의 효과적인 수단으로서 발명의 이용을 예를 들어 설명한 것을 나타낸다. 가스 재순환 시스템 예는 제 1 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 압축기(2)와, 파이프 다기관에 의해 열교환기 흡입구(55)와 열 교환기 배출구(46)를 가지는 폐루프 열교환기(44)에 연결되는 제 2 복식 회전자로 된 3 로우브 회전자 압축기를 구성하는데, 이 파이프 다기관에는 재순환 가스 흡입 압력을 측정하기 위한 압력계 센서(40)와, 재순환 가스 압력을 증가시키기 위한 정화 가스 흡입 밸브(9)와, 재순환 가스 흡입 온도를 측정하기 위한 온도계 센서(41)와, 재순환 가스 압력을 감소시키는 정화 가스 배출 밸브(42)를 포함한다.According to FIG. 9, the heat generating arrangement for transferring heat to the space represents by way of example the use of the invention as an effective means of heat transfer in this manner. An example of a gas recirculation system is a three-lobe rotor compressor (2) with a first double rotor and a closed loop heat exchanger (44) having a heat exchanger inlet (55) and a heat exchanger outlet (46) by a pipe manifold. A three-lobe rotor compressor is connected to the second double rotor, which includes a pressure gauge sensor 40 for measuring the recycle gas suction pressure, and a purge gas suction valve for increasing the recycle gas pressure. 9), a thermometer sensor 41 for measuring the recycle gas intake temperature, and a purge gas discharge valve 42 for reducing the recycle gas pressure.

압축기의 작동은 처리 유체(51)에 효과적으로 열을 전달하는 재순환 방식에 있어서, 지원되는 시스템 파이핑에 의해 정화 가스가 제 1 압축기 흡입구(11)에서 제 1 압축기 배출구(12)까지와 제 2 압축기 흡입구(48)에서 제 2 압축기 배출구(49)까지 흐를 때, 정화 가스 (7)의 내부 수송되는 가스 투입량의 온도를 신속하게 상승시킨다. 예에서 열발생은 가스 투입 압력과 압축기 작동 속도 또는 양쪽 모두의 조정에 의해서 간단히 제어되다.The operation of the compressor is a recirculation scheme that effectively transfers heat to the processing fluid 51, in which purge gas is transferred from the first compressor inlet 11 to the first compressor outlet 12 and the second compressor inlet by means of supported system piping. When it flows from 48 to the 2nd compressor discharge port 49, the temperature of the gas input amount conveyed inside of the purification gas 7 is quickly raised. In the example, heat generation is simply controlled by adjusting the gas input pressure and the compressor operating speed or both.

Claims (32)

출입구를 구비한 진공실과, 상기 진공실의 상기 출입구에 연결된 펌핑 시스템으로서, 흡입구와 배출구를 구비한 상기 펌핑 시스템은 상기 진공실에서 진공압을 형성하기 위하여 구성되는 적어도 한 개의 펌프와, 제1도관 수단은 상기 펌핑 시스템을 상기 진공실의 상기 출입구에 연결하기 위한 것으로서, 상기 펌핑 시스템에 연결된 제 1 차단 밸브 수단을 구비한 제 1도관 수단과, 상기 진공실의 내부로부터 오염 물질을 제거하기 위하여 상기 진공 압력 시스템 안으로 정화 가스를 분사하기 위한 수단으로서, 상기 분사 수단은 상기 진공 압력 시스템 안으로 정화 가스를 이동시키기 위한 제2도관을 포함하고, 상기 제2도관 수단은 상기 시스템 안으로의 정화 가스의 흐름을 제어하기 위한 제 2 차단 밸브 수단을 구비하는 분사 수단으로 이루어진 진공 압력 시스템에 있어서, 상기 적어도 한 개의 펌프의 상기 배출구에 연결된 제 3 차단 밸브 수단과, 상기 진공실과 상기 적어도 한 개의 펌프의 상기 배출구 사이에 연결된 제 4 가스 재순환 밸브 수단으로 구성되어, 정화 가스가 진공실과 상기 적어도 한 개의 펌프를 통해 여러 번 재순환 될 수 있고, 상기 정화 가스가 진공실 내부의 오염 물질을 제거하기 위하여 상기 적어도 한 개의 펌프에 의해 가열되도록 된 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.A pumping system connected to said inlet and outlet of said vacuum chamber, said pumping system comprising inlet and outlet comprising at least one pump configured to create a vacuum pressure in said vacuum chamber, and said first conduit means A first conduit means for connecting said pumping system to said inlet and outlet of said vacuum chamber, said first conduit means having a first shut-off valve means connected to said pumping system, and into said vacuum pressure system to remove contaminants from the interior of said vacuum chamber. Means for injecting purge gas, wherein the means for injecting comprises a second conduit for moving purge gas into the vacuum pressure system, the second conduit means for controlling the flow of purge gas into the system; Vacuum pressure consisting of injection means with two shut-off valve means A system comprising: a third shut-off valve means connected to said outlet of said at least one pump, and a fourth gas recirculation valve means connected between said vacuum chamber and said outlet of said at least one pump, wherein purge gas is And wherein the purge gas is heated by the at least one pump to remove contaminants within the vacuum chamber. 제1항에 있어서, 상기 적어도 한 개의 펌프는 회전식 가스 압축기로 구성되는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.The vacuum pressure system of claim 1, wherein said at least one pump consists of a rotary gas compressor. 제2항에 있어서, 상기 회전식 가스 압축기는 다수개 로우브를 가진 복식 회전자로 된 루츠식 펌프로 구성되는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.3. The vacuum pressure system as recited in claim 2, wherein said rotary gas compressor consists of a Roots pump of a double rotor with a plurality of lobes. 제1항에 있어서, 상기 제 1 차단 밸브 수단은 상기 적어도 한 개의 펌프의 상기 흡입구에 연결되고, 상기 제 2 차단 밸브 수단은 상기 제 1 차단 밸브 수단의 위쪽으로 상기 제 1 도관 수단의 일부위에 연결되어, 상기 제 1 차단 밸브 수단이 정화 가스가 상기 전공실의 상기 출입구로 흘러 들어가게 하기 위하여 정화 가스를 차단할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.The valve of claim 1, wherein the first shutoff valve means is connected to the inlet of the at least one pump, and the second shutoff valve means is connected above a portion of the first conduit means above the first shutoff valve means. And the first shut-off valve means is capable of blocking the purge gas to allow the purge gas to flow into the entrance and exit of the chamber. 제1항에 있어서, 상기 제 3차단 밸브 수단은 상기 적어도 한 개의 펌프의 배출구에 연결되고, 상기 제 4 가스 재순환 밸브 수단은 상기 제 3 차단 밸브 수단의 윗쪽으로 상기 적어도 한 개의 펌프의 배출구에 연결되어, 상기 제 3 차단 밸브 수단이 닫혀 있고, 상 기 제 4 가스 재순환 밸브 수단이 열려 있을 때, 정화 가스가 진공실을 통해 재순환될 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.The valve of claim 1, wherein the third shutoff valve means is connected to an outlet of the at least one pump, and the fourth gas recirculation valve means is connected to an outlet of the at least one pump above the third shutoff valve means. And the purge gas can be recycled through the vacuum chamber when the third shutoff valve means is closed and the fourth gas recirculation valve means is open. 제1항에 있어서, 상기 제 4 가스 재순환 밸브 수단은 가스 순환 밸브와 제3도관 수단을 포함하고, 상기 진공실은 제 2 출입구를 포함하고, 상기 제 3 도관 수단은 상기 진공실의 제 2 출입구와 유체 연통하는 단부을 구비하며, 상기 가스 재순환 밸브 수단은 상기 제 3 도관 수단을 통한 흐름을 제어하여 상기 진공실 제 2 출입구 안으로 정화 가스 흐름을 제어하는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.2. The method of claim 1, wherein the fourth gas recirculation valve means comprises a gas circulation valve and a third conduit means, the vacuum chamber comprises a second inlet, and the third conduit means is in fluid communication with a second inlet of the vacuum chamber. And an end in communication with said gas recirculation valve means controlling flow through said third conduit means to control purge gas flow into said vacuum chamber second entrance. 제1항에 있어서, 상기 진공 압력 시스템을 중간 진공 압력 시스템이고, 상기 펌핑 시스템은 제 1, 제 2 단계 펌프를 포함하고, 상기 제 1 도관 수단은 상기 진공실의 출입구에 상기 제 2 단계 펌프의 흡입구를 연결하며, 제 1 차단 밸브 수단은 상기 제 2 단계 펌프와 상기 진공실의 출입구 사이의 흐름을 제어하는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.The vacuum pressure system of claim 1, wherein the vacuum pressure system is an intermediate vacuum pressure system, the pumping system comprises a first and a second stage pump, and the first conduit means is an inlet of the second stage pump to an entrance of the vacuum chamber. And a first shut-off valve means controls the flow between the second stage pump and the inlet and outlet of the vacuum chamber. 제 1항에 있어서, 상기 진공 압력 시스템은 고진공 압력 시스템이고, 상기 펌핑 시스템은 제 1, 제 2 단계 펌프와, 제 3 단계 고지공 펌프를 포함하고, 제 1 차단 밸브 수단은 제 3 단계 고진공 펌프의 흡입구와 상기 진공실의 출입구 사이에 위치하고, 상기 제 5 차단 밸브 수단은 상기 제 2 단계 펌프의 흡입구와 상기 제 3 단계 펌프의 배출구 사이에 위치하고, 제 5 차단 밸브 수단의 윗쪽으로 제 3 단계 펌프 배출구에 연결되어, 제 2 차단 밸브 수단은 제 4 차단 밸브 수단에 의해, 정화 가스가 상기 진공실과 상기 제 3 단계 펌프에 축적될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.2. The vacuum pump system of claim 1, wherein the vacuum pressure system is a high vacuum pressure system, the pumping system comprises first and second stage pumps and a third stage high vacuum pump, wherein the first shutoff valve means is a third stage high vacuum pump. Located between the inlet of the vacuum chamber and the inlet of the vacuum chamber, wherein the fifth shutoff valve means is located between the inlet of the second stage pump and the outlet of the third stage pump, and the third stage pump outlet above the fifth shutoff valve means. Connected to the second shutoff valve means, by the fourth shutoff valve means, a purge gas can be accumulated in the vacuum chamber and the third stage pump. 제8항에 있어서, 상기 제 3 차단 밸브 수단은 상기 제 1 단계 펌프의 흡입구와 제 2 단계 펌프의 배출구 사이에 연결되고, 상기 제 4 가스 재순환 밸브 수단은 상기 제 3 차단 밸브 수단의 윗쪽으로 제 2 단계 펌프의 상기 배출구에 연결되어, 상기 제 3 차단 밸브 수단이 닫여 있고, 상기 제 4 가스 재순환 밸브 수단이 열려 있을 때, 정화 가스가 진공실과 제 2 단계 펌프를 통해 재순환하게 되는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.9. The valve of claim 8 wherein the third shutoff valve means is connected between the inlet of the first stage pump and the outlet of the second stage pump, and the fourth gas recirculation valve means is located above the third shutoff valve means. Connected to the outlet of the two-stage pump, when the third shut-off valve means is closed and the fourth gas recirculation valve means is open, the purge gas is recycled through the vacuum chamber and the second stage pump. Vacuum pressure system. 제9항에 있어서, 제 4 가스 재순환 밸브 수단은 상기 재순환 밸브와 제 3 도관 수단을 포함하고, 상기 진공실은 제 2 출입구를 구성하고, 상기 제 3 도관 수단은 상기 진공실의 제 2 출입구와 유체 연통을 위하여 단부을 구비하고, 가스 재순환 밸브 수단은 상기 제 3 도관 수단을 통하는 흐름과 상기 진공실의 제 2 출입구 안으로 정화 가스의 흐름을 제어하는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.10. The method of claim 9, wherein the fourth gas recirculation valve means comprises the recirculation valve and the third conduit means, the vacuum chamber constitutes a second inlet, and the third conduit means is in fluid communication with the second inlet of the vacuum chamber. And a gas recirculation valve means for controlling the flow through said third conduit means and the flow of purge gas into said second entrance of said vacuum chamber. 제1항에 있어서, 상기 진공실은 다른 출입구를 포함하고, 상기 다른 출입구는 상기 제 4 가스 재순환 밸브 수단에 연결되는 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.The vacuum pressure system of claim 1, wherein the vacuum chamber comprises another inlet and the other inlet is connected to the fourth gas recirculation valve means. 제11항에 있어서, 상기 출입구는 실질적으로 서로 직경방향으로 반대편에 위치되어, 정화 가스가 상기 다른 출입구를 통해 재순환 할 때, 상기 직경방향으로 반대편 출입구를 통해 흘러 나가도록 하여, 실질적으로 상기 진공실의 전 내부 표면적이 그 길이 방향을 따라 정화가 가스에 노출되도록 된 것을 특징으로 하는 진공 압력 시스템.12. The system of claim 11, wherein the doorways are positioned substantially radially opposite each other, such that when purge gas is recycled through the other doorway, they flow out through the diametrically opposite doorway, thereby substantially reducing the vacuum chamber. Vacuum pressure system, characterized in that the entire internal surface area is exposed to gas along its longitudinal direction. 진공 시스템은 흡입구와 배출구를 구비한 펌핑 시스템을 포함하고, 상기 펌핑 시스템은 적어도 한 개의 펌프와, 진공 시스템 안으로 정화 가스를 주입시키기 위한 정화 가스 주입 수단을 포함하는 진공 시스템의 진공실로부터 오염 물질을 제거하기 위하여 사용되는 정화 가스를 가열하는 방법에 있어서 a) 요구 체적만큼 주입될 때까지 진공 시스템 안으로 정화 가스를 주입하는 단계과, b) 정화 가스를 펌프의 흡입구로 이송시켜 정화 가스가 펌프를 통과하도록 하는 단계와, c) 펌프의 배출구에서 배출되는 정화 가스를 진공실로 이송시키는 단계로 구성되고, d) 상기 단계 c)는 펌프의 배출구와 펌핑 시스템의 배출 사이의 유체 연통를 방지하는 단계를 포함하고, 정화 가스가 진공실 안으로 주입되면 진공실 내부의 오염 물질이 제거되도록 된 상기 단계(b)에서는 정화 가스를 가열하는 것을 특징으로 하는 방법.The vacuum system comprises a pumping system having an inlet and an outlet, the pumping system including at least one pump and purge gas injection means for injecting purge gas into the vacuum system to remove contaminants from the vacuum chamber of the vacuum system. A method of heating a purge gas used to: a) inject a purge gas into a vacuum system until the required volume is injected, and b) transfer the purge gas to the inlet of the pump to pass the purge gas through the pump. And c) conveying the purge gas discharged from the outlet of the pump to the vacuum chamber, d) step c) comprising preventing fluid communication between the outlet of the pump and the discharge of the pumping system, The gas is introduced into the vacuum chamber to remove contaminants in the vacuum chamber ( and b) heating the purge gas. 제13항에 있어서, e) 상기 단계 c)후에, 정화 가스가 펌프의 흡입구에서 배출구까지 펌프를 통해 통과함에 따라, 가스를 재가열하기 위해 펌프의 흡입구로 정화 가스를 되돌려 보내는 단계와, f) 상기 단계(b)와 (c)를 적어도 한번 이상 반복하게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.E) returning the purge gas to the inlet of the pump for reheating the gas as the purge gas passes through the pump from the inlet to the outlet of the pump; Repeating steps (b) and (c) at least once. 제14항에 있어서, g) 진공 시스템으로부터 정화 가스를 제거하기 위하여, 단계 (a)에서 단계 f)까지를 거친후, 펌프의 배출구와 펌핑 시스템의 배출을 유동적으로 연결하는 단계를 포함하며, 상기 단계 (g)는 제 2 단계 펌프의 배출구로부터 진공실까지 정화 가스의 흐름을 방지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, comprising: g) fluidly connecting the outlet of the pump and the outlet of the pumping system after passing from step (a) to step f) to remove purge gas from the vacuum system; Step (g) comprises preventing the flow of purge gas from the outlet of the second stage pump to the vacuum chamber. 제13항에 있어서, 상기 진공 시스템은 제 1 단계 펌프와, 제 2 단계 펌프와, 그 배출구가 제 2 단계 펌프와 유체 연통을 위하여 연결되도록 한 제 3 단계 고진공 펌프를 포함하고, 상기 단계 (a)는 제 3 단계 펌프의 아래쪽으로 정화 가스를 주입하며, 진공실의 내부를 요구되는 정화 가스량으로 채우기 위해서 제 3 단계 펌프의 배출구와 제 2 단계 펌프 흡입구의 사이의 유체 연통을 방지하는 단계를 포함 하고, 상기 단계 (b)는 상기 단계 (a)후에, 제 2 단계 펌프의 흡입구에 제 3 단계 펌프의 배출구를 유동적으로 연결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.14. The vacuum system of claim 13, wherein the vacuum system comprises a first stage pump, a second stage pump, and a third stage high vacuum pump such that the outlet is connected for fluid communication with the second stage pump, wherein the step (a ) Injects purge gas into the bottom of the third stage pump and prevents fluid communication between the outlet of the third stage pump and the second stage pump inlet to fill the interior of the vacuum chamber with the required amount of purge gas; And wherein step (b) comprises, after step (a), fluidly connecting the outlet of the third stage pump to the inlet of the second stage pump. 제13항에 있어서, 상기 진공 시스템은 제 1단계 펌프와, 그 배출구가 유체 연통을 위해서 제1단계 펌프의 흡입구와 연결되는 제 2 단계 펌프를 포함하고, 상기 단계 (a)는 제 2 단계 펌프의 아래쪽으로 정화 가스를 주입하며, 진공실 내부를 요구되는 정화 가스량으로 채우기 위해서 제 1 단계 펌프의 흡입구와 제 2 단계 펌프의 배출구 사이의 유체 연통을 방지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.14. The vacuum pump of claim 13 wherein the vacuum system comprises a first stage pump and a second stage pump whose outlet is connected to an inlet of the first stage pump for fluid communication, wherein step (a) is a second stage pump. Injecting a purge gas into the bottom of the chamber and preventing fluid communication between the inlet of the first stage pump and the outlet of the second stage pump to fill the interior of the vacuum chamber with the required amount of purge gas. 제13항에 있어서, 상기 단계 (a)는 팽창 도관으로부터 방출하는 열이 팽창 도관의 표면적에 노출된 내부 체적을 가열하기 위하여 사용되는 위치까지 팽창 도관을 따라 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.14. The method of claim 13, wherein step (a) comprises moving the exhaust gas along the expansion conduit to a location where heat emitted from the expansion conduit is used to heat an interior volume exposed to the surface area of the expansion conduit. How to feature. 가스 흡입구와 배출구를 구비한 주 하우징을 포함하는 가스 압축기 장치에 있어서, 페루우프 시스템을 제공하기 위해서, 상기 흡입구에 상기 배출구를 연결하는 도관 수단으로서, 상기 배출구로부터 역으로 상기 흡입구 안으로 고온의 배출 가스를 재순환하게 하여, 배출 가스는 각 재순환 동안에 재가열 되는 도관 수단으로 구성되며, 상기 가스 압축기 장치는 스테이터를 포함하는 회전식 가스 압축기와, 상기 스테이터에 회전하도록 장치되는 적어도 한 개의 회전자를 포함하고, 상기 도관 수단은 상기 배출구에 연결되는 제 1 단부와 제 2 단부를 구비한 제 1 도 관부와, 상기 흡입구에 연결되는 제 1 단부와 제 2 단부를 구비한 제2 도관부와, 상기 제 1, 제2의 도관부 사이에 제 3 작업부를 포함하고, 상기 제 3 작업부 일을 수행하기 위해서 상기 배출구로부터 배출 가스열을 이용하고, 상기 제 3 작업부는 제 3 도관부와 내부 체적을 갖는 주요소를 포함하고, 상기 제 3 도관부는 상기 주요소의 상기 내부 체적을 통과하여, 상기 내부 체적은 상기 재순환, 재가열된 배출 가스에 의해 가열되게 하고,상기 주요소는 액체실이며, 상기 제 3 도관부는 상기 주요소에서 보관되는 액체를 가열하는 것을 특징으로 하는 장치.A gas compressor device comprising a gas inlet and a main housing having an outlet, said conduit means for connecting said outlet to said inlet, in order to provide a Peruvian system, wherein hot exhaust gas is reversed from said outlet into said inlet. Recirculating, the exhaust gas comprises conduit means reheated during each recirculation, the gas compressor device comprising a rotary gas compressor comprising a stator and at least one rotor adapted to rotate on the stator, The conduit means includes a first conduit section having a first end and a second end connected to the outlet, a second conduit section having a first end and a second end connected to the inlet, and the first and second ends. A third working portion between the conduits of the third working portion and to the outlet to perform the work A third conduit comprises a main conduit having a third conduit section and an internal volume, wherein the third conduit passes through the internal volume of the main conduit so that the internal volume is recirculated, reheated. The main element is a liquid chamber, and the third conduit portion heats the liquid stored in the main element. 일을 수행하기 위해서 열을 이용하는 방법을 구성함에 있어서, a) 배출 가스의 열이 일을 수행하기 위해서 가스 압축기 장치의 배출구로부터 방출되는 가열된 배출 가스를 이동시키는 단계와, b) 가스가 그 흡입구에서 배출구까지 가스 압축기 장치를 통과할때, 가스를 재가열하기 위해서 상기 일을 수행하는 열의 위치로부터 가스 압축기 장치의 흡입구까지 배출 가스를 되돌려 보내는 단계로 구성되며, 상기 단계 (a)는 진공실 안으로 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 단계 (b)는 진공실로부터 가스압축기 장치의 흡입구까지 배출 가스를 주입시키는 단계를 포함하고, 상기 단계 (a)는 루츠식 진공 펌프로부터 진공실 안으로 배출 가스를 주입하는 단계를 포함하고, 상기 단계 (b)는 진공실로부터 루츠식 진공 펌프의 흡입구까지 배출 가스를 주입하는 단계를 포함하고, 상기 단계(a)와 (b)가 수행되기 전에 , 제 1 단계 저진공 펌프의 흡입구에 루츠식 펌프의 배출을 유동적으로 연결하는 단계를 포함하고, 제 1 단계 펌프는 루츠식 펌프가 작동 진공 압력까지 내려가도록 하고, 상기 단계 (a)와 (b)가 수행하기 전에, 제 1 단계 거친 펌프의 흡입구에서 유동적으로 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.In constructing a method of using heat to perform a task, a) moving the heated exhaust gas emitted from the outlet of the gas compressor device to perform the work of heat of the exhaust gas, and b) the inlet of the gas Returning the exhaust gas from the position of the heat to perform the work to the inlet of the gas compressor device when passing through the gas compressor device from the outlet to the outlet, where step (a) is exhaust gas into the vacuum chamber. Moving the discharge gas from the vacuum chamber to the inlet of the gas compressor device, wherein step (a) injects the discharge gas from the Roots vacuum pump into the vacuum chamber. A step (b) of discharging the exhaust gas from the vacuum chamber to the inlet of the Roots vacuum pump. And a step of fluidly connecting the discharge of the Roots pump to the inlet of the first stage low vacuum pump before the steps (a) and (b) are performed. Causing the Roots pump to descend to the working vacuum pressure and fluidly separating at the inlet of the first stage coarse pump before steps (a) and (b) are performed. 제20항에 있어서, 상기 가스는 정화 가스이고, 상기 방법은 루츠식 펌프의 흡입구에 정화 가스를 최초로 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 정화 가스를 최초로 이동시키는 단계를 상기 단계 (a)전에 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.21. The method of claim 20, wherein the gas is a purge gas, the method comprising initially moving the purge gas to an inlet of a Roots pump, wherein the step of initially moving the purge gas is performed before step (a). Characterized in that the method. 제20항에 있어서, 상기 단계 (a)와 (b)을 여러 번 반복하는 단계를 포함하여, 재순환된 배출 가스가 가스 압축기 장치의 흡입구에서 배출구까지 각 통로에서 가열되는 것을 특징으로 하는 방법.21. The method of claim 20, comprising repeating steps (a) and (b) several times, wherein the recycled exhaust gas is heated in each passage from the inlet to the outlet of the gas compressor device. 일을 수행하기 위해 열을 이용하는 방법이 있어서, a) 가스압축기 장치의 배출구로부터 배출되는 가열된 배출 가스를 배출 가스의 열이 일을 수행하는데 이용되는 위치로 이동시키는 단계와, b) 그 흡입구에서 배출구까지 가스 압축기 장치를 통과할때, 가스를 재가열하기 위하여 상기 열이 일을 수행하는 위치로부터 가스압축기 장치의 흡입구까지 배출 가스를 되돌려 보내는 단계로 구성되며, 상기 단계 (a)는 진공실 안으로 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 단계 (b)는 진공실로부터 가스 압축기 장치의 흡입구까지 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 단계 (a)는 루츠식 진공 펌프로부터 진공실 안으로 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 단계 (b)는 진공실로부터 루츠식 진공 펌프의 흡입구까지 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 단계 (a)와 (b)를 수행하기 전에, 제 3 단계 고진공 펌프의 배출구에 루츠식 펌프의 흡입구를 유동적으로 연결하는 단계를 포함하고, 상기 단계 (b)는 루츠식 펌프의 흡입구로 통과 중에, 배출 가스가 제 3 단계 펌프를 통과하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.A method of using heat to perform a work, comprising the steps of: a) moving a heated exhaust gas exiting the outlet of the gas compressor device to a location where the heat of the exhaust gas is used to perform the work, and b) at the inlet. When passing through the gas compressor device to the outlet, returning the exhaust gas from the position at which the heat is performed to the inlet of the gas compressor device to reheat the gas, wherein step (a) is exhaust gas into the vacuum chamber. Moving the discharge gas from the vacuum chamber to the inlet of the gas compressor device, wherein step (a) moves the discharge gas from the Roots type vacuum pump into the vacuum chamber. And (b) moving the exhaust gas from the vacuum chamber to the inlet of the Roots vacuum pump. And a step of fluidly connecting the inlet of the Roots pump to the outlet of the third stage high vacuum pump before performing steps (a) and (b), wherein step (b) During the passage to the inlet of the Roots pump, passing the exhaust gas through the third stage pump. 체임버 벽으로부터 오염 물질을 제거하기 위해서 정화 가스로 정화되는 고 체임버로서, 출입구를 구비한 체임버와, 상기 체임버의 출입구에 연결되는 펌핑 시스템으로서, 흡입구와 배출구를 구비한 적어도 한개의 펌프를 포함하는 펌핑 시스템과, 상기 체임버의 출입구에 상기 펌핑 시스템을 연결하기 위한 제 1 도관 수단과, 상기 체임버의 내부로부터 오염 물질을 제거하게 위해서, 상기 시스템 안으로 정화 가스를 분사하기 위한 수단으로서, 상기 시스템 안으로 정화 가스를 이동시키는 제 2 도관 수단을 포함하고, 상기 제 2 도관 수단은 시스템 안으로 정화 가스의 흐름을 제어하기 위해서 제 1 차단 밸브 수단을 구비한 정화 가스를 분사하기 위한 수단으로 이루어진 장치에 있어서, 상기 적어도 한개의 펌프의 배출구에 연결된 제 2 차단 밸브 수단과, 상기 적어도 한개의 펌프의 배출구와 상기 제 2 밸브 수단의 윗쪽으로 상기 체임버 사이에 연결된 제 3 가스 재순환 밸브 수단으로 구성되어, 정화 가스가 체임버와 상기 적어도 한개의 펌프와 통해 여러 번 재순환할 수 있고, 상기 정화 가스는 체임버의 내부로부터 오염 물질을 제거하기 위해서 상기 적어도 한 개의 펌프의 의해 가열되는 것을 특징으로 하는 장치.A high chamber purged with purge gas to remove contaminants from the chamber wall, comprising: a chamber having an entrance and a pumping system connected to the entrance of the chamber, the pump comprising at least one pump having an inlet and an outlet A system, first conduit means for connecting said pumping system to an entrance to said chamber, and means for injecting purge gas into said system for removing contaminants from the interior of said chamber, said purge gas into said system. A second conduit means for moving the apparatus, said second conduit means comprising means for injecting purge gas with a first shut-off valve means for controlling the flow of purge gas into the system, the apparatus comprising: Second shut-off valve means connected to the outlet of one pump and And a third gas recirculation valve means connected between the outlet of said at least one pump and said chamber upwards of said second valve means, wherein purge gas can be recirculated multiple times through said chamber and said at least one pump and And the purge gas is heated by the at least one pump to remove contaminants from the interior of the chamber. 내부 오염 물질을 주기적인 정화가 필요하고, 가스 흡입구와 가스 배출구를 구비하는 체임버로 이루어진 장치에 있어서, 페루우프 시스템을 제공하기 위해서, 상기 흡입구에 상기 배출구를 연결하는 도관 수단으로서, 고온 배출 가스를 상기 배출구로부터 역으로 상기 흡입구 안으로 재순환시켜, 배출 가스가 각 재순환 동안 재가열 되도록 하는 도관 수단과, 스테이터와 상기 스테이터에서 회전을 위해서 장치되는 적어도 한 개의 회전자를 포함하는 상기 회전식 가스 압축기로서, 상기 도관 수단은 상기 배출구에 연결되는 제 1 단부와 제 2 단부를 구비한 제 1 도관부와, 상기 흡입구에 연결되는 제 1 단부와 제 2 단부를 구비한 제 2 도관부를 포함하는 상기 회전식 가스 압축기와, 정화 가스원과, 상기 체임버가 정화되었을 때, 상기 도관 수단 안으로 상기 정화 가스를 선택적으로 주입시키기 위하여 상기 정화 가스원에 기능적으로 연결된 수단으로서, 상기 체임버가 정화되었을 때, 상기 정화 가스를 선택적으로 주입시키기 위해서 상기 도관 수단 안으로 상기 정화 가스를 흐를 수 있게 하며, 상기 체입버가 정화된 후에는 상기 도관 수단 안으로 상기 정화 가스가 흐르는 것을 방지하는 밸브 수단을 포함하여, 상기 정화 가스를 선택적으로 주입시키기 위한 수단에 의해 상기 정화 가스가 상기 도관 수단 안으로 흐르는 것이 방지된 후에는, 상기 가스 압축기가 정화된 오염 물질과 정화 가스를 체임버의 벽에서 대기까지 펴내도록된 정화 가스를 선택적으로 주입하기 위한 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.In a device composed of a chamber having periodic gas purification and a gas inlet and a gas outlet, in order to provide a Peruvian system, conduit means for connecting the outlet to the inlet is provided. Said conduit means comprising conduit means for recirculating back from said outlet into said inlet, such that exhaust gas is reheated during each recirculation, and said stator and at least one rotor mounted for rotation in said stator, said conduit The means comprises: a rotary gas compressor comprising a first conduit section having a first end and a second end connected to the outlet, a second conduit section having a first end and a second end connected to the inlet; The gas source and the chamber into the conduit means when the chamber is Means operatively connected to the purge gas source for selectively injecting purge gas, the purge gas being allowed to flow into the conduit means for selectively injecting the purge gas when the chamber is purged, And a valve means for preventing the purge gas from flowing into the conduit means after it has been purged, after the purge gas is prevented from flowing into the conduit means by means for selectively injecting the purge gas. And means for the gas compressor to selectively inject the purified contaminant and purge gas adapted to spread the purge gas from the walls of the chamber to the atmosphere. 상기 체임버의 벽으로부터 오염 물질 제거를 위해 정화 가스로 정화되는 체임버로서, 출입구를 구비하는 상기 체임버와, 상기 체임버의 출입구에 연결되는 펌핑 시스템으로서, 흡입구와 배출구를 구비한 적어도 한 개의 펌프를 포함하는 펌핑 시스템과, 상기 체임버의 출입구에 상기 펌핑 시스템을 연결하기 위한 도관 수단과, 상기 체임버의 내부로부터 오염 물질을 제거하기 위해서 상기 시스템 안으로 정화 가스를 분사하는 수단으로서, 상기 시스템 안으로 정화 가스를 이동시키기 위한 제 2 도관 수단을 포함하고, 상기 제 2도관 수단은 상기 시스템 안으로 정화 가스의 흐름을 제어하기 위한 제 1 차단 밸브 수단을 구비한 정화 가스를 분사하는 수단으로 이루어진 장치에 있어서, 상기 체이버는 통로 안으로 상기 정화 가스를 분사하기 위하여 다른 출입구를 구비한 것을 특징으로 하는 장치.A chamber purged with purge gas to remove contaminants from a wall of the chamber, the chamber having an inlet and a pumping system connected to the inlet of the chamber, the chamber comprising at least one pump having an inlet and an outlet. A pumping system, conduit means for connecting the pumping system to the entrance and exit of the chamber, and means for injecting purge gas into the system to remove contaminants from the interior of the chamber, the purge gas being moved into the system. A device for injecting purge gas having a first shut-off valve means for controlling the flow of purge gas into the system, wherein the chamber is a passage. To inject the above purification gas into another Device comprising the inlet. 흡입구와 배출구를 구비한 펌핑 시스템을 포함하고, 상기 펌핑 시스템은 상기 체임버를 효과적으로 보조하는 흡입구를 구비한 적어도 한개의 펌프와, 진공 시스템 안으로 정화 가스를 주입시키기 위한 정화 가스 주입 수단을 포함하는 진공 시스템을 이용한 진공실로부터 오염 물질을 제거하기 위한 방법에 있어서, a) 요구 체적이 주입될 때까지 진공 시스템 안으로 정화 가스를 주입하는 단계와, b) 정화 가스가 오염 물질 제거를 위해 체임버를 통과하기 위해서 체임버의 제 1 출입구로 정화 가스를 이동시키는 단계와, c) 체임버의 제 2 출입구를 통하여 체임버의 밖으로 정화 가스를 이동시키는 단계와, d) 상기 펌핑 시스템의 수단에 의해 상기 제 2 의 출입구로 방출되는 오염 물질과 함께 정화 가스를 펴내는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.A pumping system having an inlet and an outlet, said pumping system comprising at least one pump having an inlet for effectively assisting said chamber and a vacuum system comprising purge gas injection means for injecting purge gas into the vacuum system A method for removing contaminants from a vacuum chamber using a method comprising the steps of: a) injecting purge gas into the vacuum system until the required volume is injected, and b) purging gas passes through the chamber for contaminant removal. Moving purge gas to a first entrance of c, c) moving purge gas out of the chamber through a second entrance of the chamber, and d) being discharged to the second entrance by means of the pumping system Spreading the purge gas together with the contaminant. 일을 수행하는 열을 이용하는 방법에 있어서, a) 가스 압축기 장치의 배출구로부터 방출되는 가열된 배출 가스를 가스열이 작업을 수행하는데 이용되는 위치까지 이동시키고, b) 그 흡입구에서 배출구까지 가스 압축기 장치를 통과할 때, 가스를 재가열하기 위해서 상기 열이 일을 수행할 위치로부터 가스 압축기 장치의 흡입구까지 배출 가스를 되돌려 보내는 단계를 포함하는 것을 특징으로하는 방법.A method of using heat to perform a work comprising: a) moving a heated exhaust gas emitted from an outlet of a gas compressor device to a location where gas heat is used to perform the work, and b) a gas compressor device from the inlet to the outlet. Passing the exhaust gas back from the location where the heat is to be performed to the inlet of the gas compressor device to reheat the gas. 제28항에 있어서, 상기 단계(a)와 (b)를 여러번 반복하는 단계를 포함하여, 재순환된 배출 가스가 가스 압축기 장치 흡입구에서 배출구까지 각각 통과하는 동안 가열되도록 하는 것을 특징으로 하는 방법.29. The method of claim 28, comprising repeating steps (a) and (b) several times, wherein the recycled exhaust gas is heated during each passage from the gas compressor device inlet to the outlet. 제28항에 있어서, 상기 단계(a)는 진공실 안으로 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 단계(b)는 진공실로부터 가스 압축기 장치의 흡입구까지 배출 가스를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.29. The method of claim 28, wherein step (a) comprises moving the exhaust gas into the vacuum chamber, wherein step (b) comprises moving the exhaust gas from the vacuum chamber to the inlet of the gas compressor device. How to. 제30항에 있어서, 스테이터와, 스테이터에서 회전을 위해 장치된 적어도 한개의 회전자를 포함하는 가스 압축기 장치이고, 상기 단계 (a)는 회전식 가스 압축기의 배출구로부터 방출되는 가열된 배출 가스를 상기 배출 가스의 열이 일을 수행하는데 이용되는 상기 위치까지 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.31. The gas compressor apparatus of claim 30, comprising a stator and at least one rotor mounted for rotation in the stator, wherein step (a) comprises discharging the heated exhaust gas discharged from an outlet of a rotary gas compressor. Moving the heat of gas to said location used to perform the work. 제28항에 있어서, 가스 압축기 장치는 스테이터와 스테이터에서 회전을 위해 장치된 적어도 한개의 회전자를 포함하는 루츠식 가스 압축기이고, 상기 단계(a)는 루츠식 가스 압축기의 배출구로부터 방출되는 가열된 배출 가스를 배출 가스의 열이 일을 수행하는데 이용되는 상기 위치까지 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.29. The gas compressor apparatus of claim 28, wherein the gas compressor device is a Roots gas compressor comprising a stator and at least one rotor mounted for rotation in the stator, wherein step (a) is a heated gas discharged from an outlet of the Roots gas compressor. Moving the exhaust gas to the location where the heat of the exhaust gas is used to perform the work.
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