KR0140835B1 - Manufacturing method of al-cr alloy deposited steel sheet by single source - Google Patents

Manufacturing method of al-cr alloy deposited steel sheet by single source

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KR0140835B1 KR1019940029275A KR19940029275A KR0140835B1 KR 0140835 B1 KR0140835 B1 KR 0140835B1 KR 1019940029275 A KR1019940029275 A KR 1019940029275A KR 19940029275 A KR19940029275 A KR 19940029275A KR 0140835 B1 KR0140835 B1 KR 0140835B1
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Abstract

본 발명은 단일 증발원에 의해서 제조되는 내식성이 우수한 알루미늄-크롬 합금 증착강판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an aluminum-chromium alloy deposited steel sheet excellent in corrosion resistance produced by a single evaporation source.

진공증착 방법으로 두가지 금속의 합금층을 강판에 증착시키는 방법에 있어서, 두 개의 증발원을 사용하는 경우 증착층의 합금 조성분포가 불규칙하고 기복이 심한 조성으로 분포되므로서 증착층이 치밀하지 못하게 되어 내식성이 떨어지는 문제가 있다.In the method of depositing an alloy layer of two metals on a steel sheet by a vacuum deposition method, when two evaporation sources are used, the alloy composition distribution of the deposition layer is distributed in an irregular and highly undulating composition, so that the deposition layer is not dense and corrosion resistance There is a problem with this falling.

알루미늄-크롬 합금도금 강판을 제조하는 방법에 있어서, 알루미늄과 크롬을 크롬함량이 1.8 ~ 11중량%의 합금조성으로하여 한 개의 증발원에 넣고 이들을 동시에 전자빔을 조사, 가열 증발시켜 기판온도 200~300℃ 의 소지강판에 도금부착량이 10~20g/m2범위로 알루미늄-크롬 합금도금층을 100~1000V 의 전압을 인가한 이온화 전극을 이용하는 이온플레이팅 방법으로 진공증착시키는 알루미늄-크롬 합금도금 증착강판의 제조방법으로 강판을 제조하게 되면 두 개의 증발원을 사용하는 경우보다 우수한 표면 평활성과 내식성을 갖게 된다.In the method of manufacturing an aluminum-chromium alloy plated steel sheet, aluminum and chromium are alloy compositions of chromium content of 1.8 to 11% by weight, and are put in one evaporation source, and they are simultaneously irradiated with an electron beam and heated to evaporate to a substrate temperature of 200 to 300 ° C. Of aluminum-chromium alloy plated deposited steel sheet by vacuum deposition of an aluminum-chromium alloy plated layer in an ion plating method using a voltage of 100 to 1000 V applied to an aluminum-chromium alloy plated layer in a range of 10 to 20 g / m 2 . When the steel sheet is manufactured by the method, surface smoothness and corrosion resistance are better than those of using two evaporation sources.

Description

단일증발원에 의한 알루미늄-크롬 합금증착 도금강판의 제조방법Manufacturing method of aluminum-chromium alloy deposited plated steel sheet by single evaporation source

제 1도는 본 발명의 방법으로 제조한 5.5 중량%의 크롬을 함유한 알루미늄-크롬 합금피막의 깊이방향 성분분포를 오오제 전자분광기를 이용하여 분석한 도표1 is a chart in which the depth component distribution of an aluminum-chromium alloy film containing 5.5% by weight of chromium prepared by the method of the present invention is analyzed using an Ohze electron spectrometer.

제 2도는 2개의 증발원으로 알루미늄 및 크롬을 각각 따로 증발시켜 제조한 5.5 중량%의 크롬을 함유한 알루미늄-크롬 합금피막의 깊이방향 성분분포를 오오제 전자분광기를 이용하여 분석한 도표FIG. 2 is a chart of depth component distribution of an aluminum-chromium alloy film containing 5.5 wt% chromium prepared by evaporating aluminum and chromium separately from two evaporation sources using an Auger electron spectrometer.

제 3도는 본 발명의 방법으로 제조한 크롬 중량%에 따른 알루미늄-크롬 합금피막을 5% NaCl 용액을 이용하여 염수분무시험을 실시했을 때의 초기적청발생시간을 나타낸 도표3 is a chart showing the initial blue-green generation time when the salt spray test using a 5% NaCl solution of the aluminum-chromium alloy film according to the chromium weight% prepared by the method of the present invention

본 발명은 단일증발원에 의해서 제조되는 내식성이 우수한 알루미늄-크롬 합금증착 도금강판의 제조방법에 관한 것이다. 자동차, 가전, 건재 등의 중요한 공업재료로써 광범위하게 사용되고 있는 내식성 강판의 도금계로는 아연도금강판이 경제성 및 생산성의 측면에서 널리 사용되고 있지만, 산업의 다양화 및 세부적인 기능화에 발맞추어 점차 수요가들의 품질 요구도 고내식화, 고내열화등, 강판의 고기능화 및 가혹한 환경에서의 적용성을 높이는 쪽으로 이행되어가고 있다. 아연과 더불어 가장 범용성을 가지는 도금계로는 자원의 확보가 용이하고 가격이 저렴하고 대량생산성, 도금성능등을 만족시키는 알루미늄을 들 수 있다. 일반적으로 알루미늄의 피복은 용융도금법, 용사법, 일부의 전기도금법, 진공도금법등에 의해 행해지고 있다. 최근에 와서는 수요가의 요구조건에 맞추어 고내식성, 내열성 및 경제성을 확보하고자 용융도금법에 의한 Al-Zn, Al-Zn-Si, Al-Zn-Mg, Al-Zn-Sn 등의 용융합금도금이나, 전기도금법에 의한 비정질상(非晶質相)의 Al-Mn을 비롯하여 Al-Ti, Al-Pb, Al-Sn, Al-Ni 등의 알루미늄계 합금도금 제품의 개발이 활발히 진행되고 있다.The present invention relates to a method for producing an aluminum-chromium alloy deposited plated steel sheet excellent in corrosion resistance produced by a single evaporation source. Although galvanized steel is widely used in terms of economics and productivity as a plating system for corrosion resistant steel sheets widely used as an important industrial material for automobiles, home appliances, building materials, etc., it is increasingly necessary to keep pace with diversification and detailed functionalization of industries. Quality requirements are also shifting towards higher corrosion resistance, higher heat resistance, and higher applicability of steel sheets and applicability in harsh environments. In addition to zinc, the most versatile plating system includes aluminum that is easy to secure resources, inexpensive, and satisfies mass productivity and plating performance. In general, aluminum is coated by a hot dip plating method, a spraying method, some electroplating methods, a vacuum plating method, or the like. In recent years, in order to secure high corrosion resistance, heat resistance and economical efficiency in accordance with the requirements of the demand price, hot-dip alloy plating of Al-Zn, Al-Zn-Si, Al-Zn-Mg, Al-Zn-Sn, etc. In addition, the development of aluminum-based alloy plating products such as Al-Ti, Al-Pb, Al-Sn, and Al-Ni, including amorphous Al-Mn by the electroplating method, is actively underway.

그러나 용융도금법은 설비특성상 부착량 조절(특히 20g/m2이하의 엷은 두께의 도금) 및 폭방향의 도금 두께가 균일치 못하며, 용융점이 철의 재결정 온도이하로 낮거나 상태도 상에서의 합금영역에 속한 금속이어야 한다는 제약이 따르고 있다. 그리고 일반적으로 행하여지고 있는 전기도금법은 공업설비에 있어서 전해액에서의 금속의 용해성 및 합금도금일 때의 전해석출 효율의 문제인 도금금속의 한계가 있다. 그 외에는 대량 생산을 위한 폐수처리의 환경적 안정성, 안전한 재현성, 생산성, 경제성 등의 향후 극복되어져야 하는 기술의 한계가 있어 제한적으로 응용되고 있는 실정이다. 아울러 이 두가지 방법은 양면, 편면도금시 도금부착량 조절이 용이하지 못하며, 합금 조성 조합에 한계가 있게 된다.However, the hot-dip plating method does not uniformly control the adhesion amount (especially thin coating of 20g / m 2 or less) and the thickness of the coating in the width direction is not uniform, and the melting point is lower than the recrystallization temperature of iron or belongs to the alloy region on the state diagram. The constraint is that it must be metal. In general, the electroplating method has a limitation of the plating metal, which is a problem of the solubility of the metal in the electrolytic solution and the electrolytic precipitation efficiency when the alloy plating in the industrial equipment. In addition, there is a limited application of the technology to be overcome in the future, such as environmental stability, safe reproducibility, productivity, economical efficiency of wastewater treatment for mass production. In addition, these two methods are difficult to control the coating amount during double-sided, single-sided plating, there is a limit in the combination of alloy composition.

또한, 두 개의 증발원을 사용하여 각각을 동시에 증발시켜 합금도금피막을 형성하는 진공도금법의 경우, 알루미늄과의 합급대상물질계가 망간, 크롬, 마그네슘 등과 같이 증기화하는 형태가 승화성 금속인 경우에 있어서는 대량생산에 있어서 다음과 같은 문제점을 예상할 수 있다. 승화성 금속일 경우에 생산성을 고려하여 큰 출력의 전자빔으로 증발시키면 증발금속의 튐 현상(Splash 현상)이 발생하여 균일한 증착이 어렵고, 증착중의 증발재질 표면이 증착용기내의 잔류 가스와 반응하여 산화 또는 질화되기 쉬우므로 표면에서 증발속도가 달라져 합금조성의 불균일이 발생할 수 있다. 또 증착소재강판의 폭이 클 경우 증발재질의 표면에서의 불균일한 산화로 인한 증발분포의 차이 때문에 판면의 도금편차가 발생하는 등의 문제점이 있다.In addition, in the case of the vacuum plating method in which an evaporation source is used to simultaneously form an alloy coating film by using two evaporation sources, in the case where the alloying material system with aluminum vaporizes such as manganese, chromium, magnesium, etc., it is a sublimable metal The following problems can be expected in mass production. In the case of a sublimable metal, evaporation with a large output electron beam takes into account the productivity, resulting in splash phenomenon of the evaporated metal, which makes it difficult to deposit uniformly, and the evaporation material surface during deposition reacts with the residual gas in the deposition vessel. Since it is easy to oxidize or nitrate, the evaporation rate may be changed on the surface, which may cause non-uniformity of the alloy composition. In addition, when the width of the deposited material steel sheet is large, there is a problem such as plating deviation of the plate surface occurs due to the difference in evaporation distribution due to uneven oxidation on the surface of the evaporation material.

따라서 본 발명에서는 이러한 문제점을 개선하고 도금재의 제특성을 향상시키고자 이의 해결 수단으로 진공용기내에서 각종의 도금물질을 용이하게 도금할 수 있는 다음의 방법을 창안하게 되었다. 그 방법은 진공 도금법으로 알루미늄-크롬 합금도금강판을 제조함에 있어서 두 개의 증발원을 사용하지 않으며, 한 개의 증발원에서 동시에 증발시키는 방법으로 두께는 10-50g/m2범위에서, 크롬함량이 1.8-11 중량%가 되도록 제조한 것을 특징으로 하는 알루미늄-크롬 합금도금강판의 제조방법에 관한 것이다. 이하에서 본 발명을 설명한다.Therefore, the present invention has been devised the following method for easily plating various plating materials in a vacuum container to solve these problems and to improve the characteristics of the plating material. The method does not use two evaporation sources in the production of aluminum-chromium alloy plated steel sheets by vacuum plating, and simultaneously evaporates from one evaporation source. The thickness is in the range of 10-50 g / m 2 , and the chromium content is 1.8-11. It relates to a method for producing an aluminum-chromium alloy plated steel sheet, characterized in that it is prepared to be by weight%. The present invention will be described below.

본 발명에서의 알루미늄-크롬 합금피막은 공히 5×10-5Torr 이하의 진공 중에서 증착시켰다. 우선 진공용기에 낱알형상의 알루미늄과 크롬을 각각 일정한 합금조성으로 단일증발원 속에 넣은 다음, 기판을 장착하고 진공펌프를 이용하여 진공용기 내가 5×10-5Torr 이하의 진공이 될 때까지 배기한다. 기판은 0.5 mm 두께의 저탄소냉간압연강판을 사용하였고, 진공 용기에 장입하기전 알카리 탈지와 유기용매를 이용한 초음파 세척을 행하였다. 진공도가 10-5Torr 이하가 되면 기판의 청정 및 활성도를 높이기 위해 10-2Torr 정도의 아르곤 가스 분위기에서 기판에 1000V 의 부(負) 전압을 인가하여 15분정도 글로우 방전에 의한 기판청정을 행한다.The aluminum-chromium alloy film in the present invention was deposited in a vacuum of 5 × 10 −5 Torr or less. First, the grain-shaped aluminum and chromium are put into a single evaporation source with a constant alloy composition, and then the substrate is mounted and evacuated by using a vacuum pump until the vacuum inside the vacuum vessel reaches 5 × 10 -5 Torr or less. As a substrate, a low carbon cold rolled steel sheet having a thickness of 0.5 mm was used, and ultrasonic cleaning using alkaline degreasing and an organic solvent was performed before charging into a vacuum container. When the vacuum level is less than 10 -5 Torr, the substrate is cleaned by glow discharge for 15 minutes by applying a negative voltage of 1000 V to the substrate in an argon gas atmosphere of about 10 -2 Torr to increase the cleanliness and activity of the substrate. .

기판의 청정 정도는 기판에 흐르는 전류를 읽어 간접적으로 판단한다. 초기에는 불순물 또는 산화막 등의 방전으로 해서 불규칙하게 과전류가 흐르다가 어느정도 깨끗해지면 안정한 저전류가 흐르게 되는데, 이것은 불순물 및 산화물의 방전이 없어서 기판의 전류가 안정화되었기 때문이므로 청정작업을 끝낸다. 기판청정이 완료되면 기판의 온도를 150-400 ℃로 맞추고, 단일증발원 및 증발물질의 표면 및 내부에 함유된 개스를 증발원의 두께 및 표면에 따라서 일정량의 전원을 공급하여 증발원을 탈개스시킨다. 탈개스가 끝나면 알루미늄과 크롬을 각각 일정한 조성으로 맞추어 단일증발원에 넣고 증발물질과 증발조건에 맞추어 정한 일정량의 전원을 공급한다. 알루미늄과 크롬이 완전히 녹은 후에 이미 설정된 증발속도로 전력 크기를 조절하여 증발온도가 다른 두물질계를 단일증발원에서 동시에 증발시켜 원하는 중량%를 가진 알루미늄-크롬 합금피막을 만든다.The degree of cleanliness of the substrate is indirectly determined by reading the current flowing through the substrate. Initially, overcurrent flows irregularly due to discharge of impurities or oxide film, and then, when it is cleaned to some extent, a stable low current flows. This is because the current of the substrate is stabilized because there is no discharge of impurities and oxides. When the substrate is cleaned, the temperature of the substrate is adjusted to 150-400 ° C., and the gas contained in the surface and the inside of the single evaporation source and the evaporation material is supplied with a certain amount of power depending on the thickness and the surface of the evaporation source to degas the evaporation source. After degassing, aluminum and chromium are put into a single evaporation source with a constant composition, and a certain amount of power determined according to evaporation materials and evaporation conditions is supplied. After the aluminum and chromium are completely dissolved, the power size is adjusted at the preset evaporation rate to simultaneously evaporate two material systems with different evaporation temperatures from a single evaporator to produce an aluminum-chromium alloy film with the desired weight percent.

증발원은 증발물질과 증발원과의 반응성, 증발의 용이성, 증발원의 수명, 가격 등을 고려하여 흑연 보우트위에 액화 질화붕소(Boron-Nitride)를 분사, 고상으로 응고시킨 보우트를 사용하였으며, 알루미늄-크롬 합금피막에 있어서 크롬의 중량%를 1.8-11%로하고, 피막의 총부착량을 10g/m2이상으로 한다. 이하 크롬의 중량과 부착량을 제한함은, 망간의 중량이 1.8% 이하가 되면 크롬의 첨가 효과가 줄어들고 알루미늄 단금속만이 존재하여 부식을 억제하지 못하며, 11% 이상이 되면 조직이 크롬 첨가의 영향으로 치밀치 못하게 되어 구멍부식이 일어나기 쉬운 조직으로 바뀌게 되어 부식생성물에 의한 치밀한 산화피막의 형성이 미약하기 때문이다. 도금층의 부착량을 10g/m2이상으로 제한한 것은 부착량이 이 이하가 되면 구멍부식(Pitting Corrosion)을 방지하는 도금피막내의 구멍(Pit)이 증가하여 내공식성(구멍 부식성에 대한 내성)이 급격히 저하하므로 치밀한 산화피막의 형성이 미약하여 강판을 보호하는 역할을 충분히 못하기 때문이다.As the evaporation source, a boron nitride solidified by injecting liquid boron nitride onto the graphite bow in consideration of the reactivity between the evaporation material and the evaporation source, the evaporation source, the lifetime of the evaporation source, and the price was used. In the coating, the weight percent of chromium is 1.8-11%, and the total coating amount of the coating is 10 g / m 2 or more. Limiting the weight and adhesion of chromium below, when the weight of manganese is less than 1.8%, the effect of adding chromium is reduced, and only aluminum monometal is present to prevent corrosion, and when it is more than 11%, the effect of chromium on the structure This is because the formation of a dense oxide film due to corrosion products is weak because it is changed to a structure where hole corrosion is likely to occur. The adhesion amount of the plating layer was limited to 10 g / m 2 or more. When the adhesion amount is less than this, the pits in the plating film which prevents pitting corrosion increase, and pitting resistance (resistance to hole corrosion) decreases rapidly. Therefore, it is because the formation of the dense oxide film is not enough to protect the steel sheet.

이온 플레이팅법에서는 알루미늄, 크롬을 단일증발원에서 동시에 증발시키면서 열전자 방출원과 이온화전극을 이용하여 100-1000V 의 전압을 인가하여 증발물질을 이온화기키고 기판에는 부(-)의 전압을 인가하여 실시하였다.In the ion plating method, aluminum and chromium were simultaneously evaporated from a single evaporation source, and a voltage of 100-1000 V was applied using a hot electron emission source and an ionization electrode to ionize the evaporation material and a negative voltage was applied to the substrate. .

이온 플레이팅법(Ion plating) 은 기판에 부(-)의 전압을 걸어주고 전자빔 가열방식 또는 저항가열방식으로 증발원을 가열하면서 증발원에 100-1000V 의 전압을 걸어주면 기판 주변에서 글로우 방전(glow discharge) 이 생기게 되며 이 글로우 방전의 영역에 존재하는 물질의 입자가 이온화(Ionization) 되어 그것이 음극의 기판에 충돌하므로서 피막을 형성시키는 방법이다. 이와같은 이온플레이팅 방법은 100~500 ℃ 의 낮은 온도에서 증착이 가능하므로 고온공정에서 발생할 수 있는 모체의 변형이나 재질의 변화를 방지할 수 있다.Ion plating method applies a negative voltage to the substrate and heats the evaporation source by electron beam heating or resistive heating while applying a voltage of 100-1000V to the evaporation source. This is a method in which particles of a substance present in the glow discharge region are ionized and collide with the substrate of the cathode to form a film. Since the ion plating method can be deposited at a low temperature of 100 ~ 500 ℃ it can prevent the deformation of the matrix or the change of material that can occur in the high temperature process.

고온 분위기의 반응구역으로 반응물을 기체 상태로 보내어 화학반응을 일으켜서 원하는 기판에 고체상태의 증착층을 얻는 여타의 화학증착법(Chemical Vapor Deposition)에 비하여 치밀한 피막이 얻어지므로 재연마 공정없이 경면(鏡面)과 같은 고도로 평활한 피막을 갖는 표면을 얻을 수 있는 장점이 있다.Compared to other chemical vapor deposition methods, chemical reactions are produced by sending the reactants in a gaseous state to a reaction zone in a high-temperature atmosphere to obtain a solid deposition layer on a desired substrate. Thus, a dense film is obtained without a regrinding process. There is an advantage that a surface having the same highly smooth coating can be obtained.

제 1도는 이와 같은 방법으로 0.5 × 100 × 150 mm 의 저탄소냉연강판상에 크롬함량이 5.5 중량%가 되도록 제조한 시편을 AES (오오제 전자분광기)를 이용하여 깊이 방향에 따른 성분분포를 나타낸 그림이다. 두 개의 증발원을 사용하여 합금피막을 형성시킨 것과는 달리 그림에서 보듯이 깊이 방향에 따라 알루미늄과 크롬이 일정한 조건으로 고르게 분포되어 있음을 알 수 있다.1 is a diagram showing the distribution of components along the depth direction using AES (Ozeo Electron Spectroscope) on a specimen prepared in such a way that a chromium content of 5.5% by weight on a 0.5 × 100 × 150 mm low carbon cold rolled steel sheet to be. Unlike the alloy coatings formed using two evaporation sources, it can be seen that aluminum and chromium are evenly distributed according to the depth direction as shown in the figure.

제 2도는 단일증발원이 아닌 2개의 증발원으로 알루미늄 및 크롬을 각각 따로 증발시켜 0.5 × 100 × 150 mm 의 저탄소냉연강판상에 크롬함량이 5.5 중량%가 되도록 제조한 시편을 AES (오오제 전자분광기)를 이용하여 깊이 방향에 따른 성분분포를 나타낸 그림이다. 제 1도의 단일증발원을 사용하여 합금피막을 형성시킨 것에 비해 그림에서 보듯이 깊이 방향에 따라 알루미늄과 크롬이 고르지 않고 불규칙하고 기복이 심한 조성으로 분포되어 있음을 알 수 있다.2 shows a sample prepared by evaporating aluminum and chromium separately from two evaporation sources instead of a single evaporation source so that the chromium content is 5.5% by weight on a 0.5 × 100 × 150 mm low carbon cold rolled steel sheet. The figure shows the component distribution along the depth direction by using. As shown in the figure, aluminum and chromium are distributed unevenly and irregularly and stiffly in composition according to the depth direction, as compared to the alloy coating formed using the single evaporation source of FIG.

제 3도는 크롬의 중량%에 따른 알루미늄-크롬 합금피막을 5% NaCl 용액을 이용하여 염수분무 시험을 실시했을 때의 초기적청발생시간을 나타낸 그림이다. 크롬의 함유량이 1.8-11 중량%의 범위에서 1000시간 이상이 되는 매우 우수한 나내식성을 보여주고 있다. 본 발명을 통해 기존의 도금제품보다 훨씬 적은 부착량으로 나내식성이 우수한 도금제품을 단일증발원에 의해 실현한 알루미늄-크롬 합금피막을 제조함으로써 자동차, 가전, 건재 등에서 고내식성 및 고내열성의 요구되는 제품에 사용될 수 있을 것으로 기대된다. 아울러 두 개의 증발원을 사용하지 않고 한 개의 증발원을 사용함으로써 승화성 금속이 합금원소일 때에 공정의 단순화 및 경제성을 확보할 수 있을 것으로 기대된다.3 is a diagram showing the initial blue-green generation time when the salt spray test using a 5% NaCl solution of aluminum-chromium alloy coating according to the weight percent of chromium. It shows very good corrosion resistance that the content of chromium is in the range of 1.8-11 wt% over 1000 hours. Through the present invention, by producing an aluminum-chromium alloy coating which realizes a plating product having excellent corrosion resistance with a much smaller adhesion amount than a conventional plating product by a single evaporation source, it is required for products requiring high corrosion resistance and high heat resistance in automobiles, home appliances, building materials, etc. It is expected to be used. In addition, by using one evaporation source rather than two evaporation sources, it is expected that the process can be simplified and economical when the sublimable metal is an alloying element.

하기 실시예는 본 발명의 방법으로 진공도금한 알루미늄-크롬 합금피막을 제조하여 그 특성을 조사하였으며, 비교재로서 진공도금한 알루미늄과 크롬 단독도금제품, 전기 및 용융도금 아연 단독도금제품을 사용하였다. 그리고 단일증발원이 아닌 2개의 증발원에서 증착한 알루미늄-크롬 증착도금 강판과 특성을 비교하였다. 특성 평가 및 비교로는 나내식성 시험을 하였으며 그 결과를 표 1에 나타내었다. 나내식성은 5% NaCl 용액중에서 초기적청 발생시간으로 비교하였다.In the following examples, the aluminum-chromium alloy film vacuum-plated by the method of the present invention was prepared and its characteristics were investigated. As a comparative material, vacuum-plated aluminum and chromium single plated products, and electric and hot dip zinc single plated products were used. . And the characteristics were compared with aluminum-chromium evaporated plated steel sheets deposited from two evaporation sources rather than a single evaporation source. As a property evaluation and comparison, the corrosion resistance test was performed and the results are shown in Table 1. Corrosion resistance was compared by initial red blue development time in 5% NaCl solution.

[실시예 1]Example 1

알루미늄-크롬 증발을 위해 흑연(Graphite) 보우트 위에 액체 질화붕소(Boron-Nitride)를 분사응고시킨 보우트를 증발원으로 사용했으며, 기판온도가 250℃ 이고, 증발도중의 진공도가 5×10-5Torr에서 크롬의 중량을 1.8%로 하고 20g/m2의 부착량으로 0.5 × 100 × 150 mm 의 저탄소강판에 500V 의 전압을 인가한 이온플레이팅 방법으로 증착했을 때의 제품이다.For the evaporation of aluminum-chromium, a boat made by spray-coagulating liquid boron nitride on a graphite boat was used as an evaporation source. The substrate temperature was 250 ° C and the vacuum degree during evaporation was 5 × 10 -5 Torr. It is a product when it deposits by the ion plating method which applied the voltage of 500V to the low carbon steel plate of 0.5x100x150 mm with the weight of chromium 1.8% and the adhesion amount of 20g / m <2> .

[실시예 2-7]Example 2-7

실시예 1과 동일하게 하되 크롬의 중량을 각각 2.1, 2.5, 3.2, 5,5. 8.5, 11%로 했을 때의 제품이다.Same as Example 1, but the weight of chromium 2.1, 2.5, 3.2, 5,5. It is a product at 8.5 and 11%.

[비교예 1-7][Comparative Example 1-7]

2개의 증발원에 의해 제작된 알루미늄-크롬 2, 3, 6, 8, 11, 13 중량% 의 피막을 20 g/m2저탄소 냉연강판상에 증착한 제품의 경우이다.In the case of a product in which an aluminum-chromium 2, 3, 6, 8, 11, 13 wt% film produced by two evaporation sources was deposited on a 20 g / m 2 low carbon cold rolled steel sheet.

[비교예 8]Comparative Example 8

실시예 1과 동일하게 하되 크롬의 중량을 0.7 %로 한 제품의 경우이다.In the same manner as in Example 1 except that the weight of chromium is 0.7%.

[비교예 9]Comparative Example 9

단금속 알루미늄을 증착함에 있어 흑연 보우트 위에 액체 질화붕소를 분사응고시킨 보우트를 증발원으로 사용하고 기판온도를 250℃ , 증발도중의 진공도가 5×10-5Torr에서 20g/m2을 0.5 × 100 × 150 mm 의 저탄소냉연강판상에 증착한 제품의 경우이다.In the deposition of monometallic aluminum, using a boat of liquid solid boron nitride spray-coated on the graphite boat as the evaporation source, the substrate temperature is 250 ° C and the vacuum degree during evaporation is 20 x / m 2 at 5 x 10 -5 Torr and 0.5 x 100 x This is the case for products deposited on 150 mm low carbon cold rolled steel sheets.

[비교예 11]Comparative Example 11

전기도금법에 의해 제작된 아연단독도금제품 20g/m2피복된 제품의 경우이다.This is the case for the product coated with 20g / m 2 zinc monocoated product manufactured by electroplating method.

[비교예 12]Comparative Example 12

용융도금법에 의해 제작된 아연단독도금제품 40g/m2피복된 제품의 경우이다.This is the case of the product coated with 40g / m 2 zinc monocoated product manufactured by hot dip plating method.

본 실시예 및 하기 표 1에서는 기판온도 250℃, 도금 부착량 20g/m2의 경우만 나타내고 있으나, 본 발명에서 증발원이 저항가열식 또는 전자빔 가열방식 중 어느 방식도 무방하며 이온 플레이팅 방법으로 증착시킴에 있어 기판온도 150 ~ 400℃ 범위에서 도금부착량을 10 ~ 50 g/m2되도록 부착시키는 경우 본 실시예에서와 같은 우수한 내식성을 나타내었다.In the present embodiment and the following Table 1, only the substrate temperature of 250 ℃, the coating weight of 20g / m 2 is shown only, in the present invention, the evaporation source may be any of resistive heating or electron beam heating method is deposited by ion plating method In the case where the plating deposition amount is 10 to 50 g / m 2 in the substrate temperature range of 150 ~ 400 ℃ exhibited the same excellent corrosion resistance as in this embodiment.

Claims (1)

알루미늄-크롬 합금도금 강판을 제조하는 방법에 있어서, 알루미늄과 크롬을 크롬함량이 1.8 ~ 11 중량% 의 합금조성으로하여 한 개의 증발원에 넣고 이들을 동시에 전자빔을 조사, 가열 증발시켜 기판온도 200 ~ 300 ℃ 의 소지강판에 도금부착량이 10 ~ 20 g/m2범위로 알루미늄-크롬 합금도금층을 100 ~ 1000V 의 전압을 인가한 이온화 전극을 이용하는 이온플레이팅 방법으로 진공증착시키는 알루미늄-크롬 합금도금 증착 강판의 제조방법.In the method for manufacturing an aluminum-chromium alloy plated steel sheet, aluminum and chromium are alloy compositions of chromium content of 1.8 to 11% by weight and placed in one evaporation source, and they are simultaneously irradiated with an electron beam and heated to evaporate to a substrate temperature of 200 to 300 ° C. a chromium alloy plating deposition plate - of the substrate steel sheet coating weight is 10 ~ 20 g / m aluminum to 2 range for aluminum for vacuum depositing a chrome alloy plating layer by an ion plating method using an ionization electrode applying a voltage of 100 ~ 1000V Manufacturing method.
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