KR0121109B1 - 샴푸 조성물 - Google Patents

샴푸 조성물

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KR0121109B1 KR1019940008657A KR19940008657A KR0121109B1 KR 0121109 B1 KR0121109 B1 KR 0121109B1 KR 1019940008657 A KR1019940008657 A KR 1019940008657A KR 19940008657 A KR19940008657 A KR 19940008657A KR 0121109 B1 KR0121109 B1 KR 0121109B1
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Abstract

본 발명은 자외선으로부터 모발의 효과적이고도 지속적인 보호를 위해 비수용성 자외선차단제의 샴푸조성물내 함량 증가시 기존의 자외선차단제-함유 샴푸조성물에서 나타나게 되는 제품안정성 저하를 해소하기 위하여, N,N-디(하이드로게네이티드 탈로우)프탈아미드산과 고분자 분산/유화제를 비수용성 자외선차단제와 공존시킨 샴푸 조성물에 관한 것으로서, 이와 같은 본 발명에 의하면 높은 자외선차단제 농도 및 심한 온도변화에서도 장기간에 걸쳐 안정한 샴푸 조성물을 달성할 수 있게 된다.

Description

샴푸 조성물
본 발명은 샴푸 조성물, 특히 모발에 침착시켜 모발을 자외선으로부터 보호하기 위한 적어도 1종의 비수용성 자외선차단제 물질을 함유하는 샴푸 조성물에 관한 것이다.
모발은 우리가 풍화작용(Weathering)이라고 부르는 환경으로부터의 공격에 의해 끊임없이 손상받는다. 즉 햇빛, 비, 바람, 대기오염물질, 해수, 수영장의 화학약품등과 같은 환경인자들이 모발의 구조적 변화 및 화학적 변성을 일으킨다. 이들 다양한 환경인자들중에서 가장 심한 손상을 입히는 것은 햇빛중의 자외선으로, 모발의 건조, 강도의 약화, 표면의 거칠어짐, 퇴색 및 부스러짐등의 손상을 입히게 된다.
따라서 이와같은 손상으로부터 모발을 보호하기 위해 샴푸 조성물중에 자외선차단제를 함유시키는 것에 대하여 다양한 연구들이 있어 왔다.
예를 들어 국내특허 제904805호(존슨 앤드 존슨)에는 개선된 활성을 갖는 비듬치료제 및/또는 자외선차단제를 포함하여 특정 항균제를 함유하는 샴푸 및/또는 기타 세제 조성물에 관해 보고되어 있다. 이 특허명세서에 기술된 세제 조성물은 적어도 하나의 수용성 질소-함유 폴리머 및 수용성 비-입자상 물질을 함유한다고 기술되어 있다. 그러나, 수용성 자외선차단제를 샴푸 조성물에 사용시, 이들 자외선차단제는 물에 의해 쉽게 씻겨져 나가므로 모발을 효과적으로 보호하지 못하게 된다. 그러므로 이러한 단점을 개선하기 위하여 하기의 특허들에서는 비수용성 자외선차단제를 사용하고 있다.
미국특허 제3580853호(프록터 앰 갬블)에는 수용성 질소-함유 양이온성 폴리머에 의한 비수용성 자외선차단제의 모발에 대한 침착성 중가에 대하여 기술되어 있다.
국내특허 제941126호(유니레버 엔브이)에는 비수용성-통상 액체 자외선차단제의 침착이 콘디쇼닝 이점도 또한 제공하는 양이온성 폴리머의 농도에서 달성된다고 기재되어 있다. 이러한 액체 자외선차단제는 투명용액의 샴푸 조성물에 첨가될 수 있으며, 이 투명 용액속에서 자외선차단제는 미셀형태의 계면활성제중에 용해되며 미립자 또는 소적(Drop) 형태로 존재하지 않는다.
그러나, 상기한 바와 같은 비수용성 자외선차단제-함유 샴푸 조성물들이 공통적으로 안고 있는 문제점은 샴푸 조성물에 효과적인 자외선차단효과를 부여하기 위해 비수용성 자외선차단제의 샴푸 조성물내 함량 증가시 샴푸 조성물에 함유되어 있는 다른 성분들과의 혼화성이 저하하여 제조된 샴푸의 유통 또는 저장시에 비수용성 자외선차단제의 상분리가 발생하계 되며, 이에 의해 사용자는 제조자가 의도하는 만큼의 자외선차단효과를 경험할 수 없게 된다는 것이다. 이와 같은 자외선차단제의 상분리는 온도변화가 크면 클수록 더욱 심하게 나타난다.
따라서, 본 발명자는 자외선으로부터 모발의 효과적이고도 지속적인 보호를 위해 비수용성 자외선차단제의 샴푸 조성물내 함량 증가시 기존의 자외선차단제-함유 샴푸 조성물에서 나타나게 되는 제품안정성 저하를 해소할 수 있는 방법에 대해서 연구한 결과, N,N-디(하이드로게네이치드탈로우)프탈아미드산[N,N-di(hydogenated tallolw) phthalamic acid]과 고분자 분산/유화제(polymeric suspension / emulsifier)를 혼합 사용하게 되면 높은 자외선차단제 농도 및 심한 온도변화에서도 장기간에 걸쳐 안정한 샴푸 조성물을 제조할수 있다는 놀라운 사실을 발견하게 되었다.
그러므로, 본 발명에 의하면 적어도 1종 이상의 비수용성 자외선차단제, 고분자 분산/유화제 및 N,N-디(하이드게네이티드 탈로우 ) 프탈아미드산을 함유하는 샴푸 조성물이 제공된다.
보다 구체적으로, 본 발명의 샴푸 조성물은 통상의 계면황성물질과 다음의 성분들을 함유하는 것을 특징으로 한다.
(a) 1종 이상의 비수용성 자외선차단제, 0.02-8중량%, (b) 고분자 분산/유화제, 0.05-3중량%, 및 (c) 하기 일반식( I )의 N,N-디(하이드로게네이티드 탈로우) 프탈아미드산, 0.05-10중량%.
[위 식에서, R1, R2는 하이드로게네이티드 탈로우 패티 라디칼(Hydrogenated Tallow Fatty Radical)로서 탄소수 10-40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기 또는, 탄소수 10-40의 방향족 직쇄 또는 분지쇄 알킬기를 나타냄.]
본 발명의 샴푸 조성물에 있어서, 비수용성 자외선차단제의 샴푸 조성물내 분산 및 안정성의 향상을 위해 첨가되는 상기 식( I )의 N,N-디 (하이드로게네이티드 탈로우) 프탈아미드산은 비수용성 자외선차단제의 함량에 따라 0.05-10중량%로 함유할 수 있다.
본 발명의 샴푸 조성물내 상안정성은 고분자 분산/유화제의 첨가에 의해 더욱 향상될 수 있다. 적합한 고분자 분산/유화제의 예로는 폴리아크릴산, 아크릴산의 가교 폴리머, 아크릴산과 소수성 모노머의 코폴리머, 아크릴산-함유 모노머와 아크릴산 에스테르의 코폴리머, 아크릴산과 아크릴산 에스테르의 가교 코폴리머 및 무수 말레산/메틸 비닐 에테르 코폴리머 등이 있으며, 본 조성물중의 그 함량은 0.05-3중량%, 보다 바람직 하게는 0.1-2중량%이다.
본 조성물중에 비수용성 자외선차단제 화합물의 허용가능한 함량은 0.02-8.0중량%, 보다 바람직하게는 0.1-5.0중량%이다. 본 조성물에 적합한 비수용성 자외선차단제의 예로는 벤조패논-3 또는 벤조페논-8 등의 벤조페논 유도체, 부틸 메톡시 디벤조일 메탄 또는 이소프로필 디벤조일메탄 등의 디벤조일 메탄 유도체와 같은 고체 자외선차단제(25℃에서 고체상태인 자외선차단제)와 옥틸메톡시신나메이트, 2-에톡시에틸-p-메톡시신나메이트, 이소아밀-p-메톡시신나메이트 등의 신나메이트 유도체와 옥틸살리실레이트 및 트리에탄올아민 살리실레이트 등의 살리실산계와 같은 액체 자외선차단제(25℃에서 액체상태인 자외선차단제) 등이 있다.
또한 본 조성물에는 주계면활성제로 음이온 계면활성제와 보조 계면활성제로 양쪽성 계면활성제와 비이온 계면활성제가 단독 또는 혼합물로서 첨가된다.
본 조성물에 적합한 음이온 계면활성제로는 소듐 아실 글루타메이트, 암오늄 아실 사르코시네이트, 소듐 메틸 아실타우레이트 및 소듐 아실이세티오네이트, 디알킬 소듐 설포석시네이트, 폴리옥시에틸렌 라우릴 에테르 인산나트륨, α-올레핀 술폰산염, 또는 하기 일반식(Ⅱ)에 따르는 화합물 등이 있으며, 본 발명의 샴푸 조성물중에는 이러한 음이온성 계면활성제 1종 이상을 2-40중량%로 함유시키는 것이 바람직하다.
[상기 식(Ⅱ)에서, R3은 탄소수 8-18의 알킬기이고, n은 0-4의 정수이며, M은 나트륨, 칼륨, 마그네슘등 1 또는 2가의 알칼리 금속염 및 암모늄 또는 모노-, 디-, 트리에탄을 아민염 중에서 선택됨].
상기 식(II)에 따르는 음이온 계면활성제의 대표적인 예로는 라우릴 황산나트륨, 라우릴 에테르 황산나트륨, 라우릴 에테르 황산칼륨 및 라우릴 황산암모늄, 라우릴 에테르 황산암모늄 및 라우릴 활산 모노-, 디-, 트리에탄을 아민과 폴리옥시 에틸렌 라우질 황산나트륨 등을 들 수 있다.
본 조성물에 기포력 및 기포 사용감을 좋게 하며, 순함정도(Mildness)를 향상시기는 등의 추가적인 유용한 효과를 부여하기 위하여 보조 계면활성제로서 첨가되는 양쪽성 계면활성제와 비이온 계면활성제는 단독 또는 혼합물로서 0.5-20중량%로 첨가될 수 있다.
본 조성물에 사용하기 적합한 양쪽성 계면활성제로는 C10-C18알킬 베타인, C10-C18알킬 아미도프로필 베타인, C10-C18알킬 술포 베타인 또는 이들중 2종이상의 혼합물이 있으며, 그 대표적인 예로는 라우릴 디메틸 아미노 초산 베타인, 코카미도프로필 베타인, 코카미도 프로필 하이드록시 술테인 등이 있다. 본 조성물중에 이와같은 양쪽성 계면활성제의 함량은 0.5-10중량%가 적합하다.
본 조성물에 사용하기 적합한 비이온 계면활성제로는 C10-C18알킬폴리글리코시드, 에톡실화 모노글리세라이드, 에톡실화 알콜, 에톡실화 아민, 아민 옥사이드, 에톡실화 아미드 또는 이들중 2종 이상의 혼합물 등이 있으며, 본 조성물중에 바람직한 함량은 0.5-10중량%이다.
본 발명의 샴푸 조성물에는 또한, 정전기 방지 및 비수용성 자외선차단제의 모발에의 횹착량 중가 및 콘디쇼닝 이점을 부여하기 위하여 하기 일반식(III), (IV)의 양이온성 아미도 아민염과 양이온성 폴리머를 함유시킬 수도 있다.
[상기 식(III), (IV)에서, R4는 탄소수 12-22의 알킬기이고,A는 유기 음이온임]
양이온성 폴리머와 일반식(III) 및 (IV)의 양이온성 아미도 아민염에 대해서는 이들이 함께 비수용성 자외선차단제-함유 샴푸 조성물에 사용되었을때 비수용성 자외선차단제의 모발에 대한 흡착량이 대폭 향상된다는 것을 본 발명자들이 최초로 입증하여 이들을 함유하는 샴푸 조성물에 대하여 본 출원과 동일자로 특허출원한 명세서에 자세하게 기술되어 있다.
본 조성물에 함유시키기에 적합한 상기 일반식(III) 및 (IV)의 양이온성 아미도 아민염의 대표적인 화합물로는 코카미도프로필 디메틸아민 락테이트, 코카미도 프로필 디메틸아민 프로피오네이트, 리시놀아미도프로필 디메틸아민 락테이트, 스테아르아미도프로필 디메틸아민 락테이트, 스테아르아미도프로필 모르폴린 락테이트, 이소스테아르아미도프로필 디메틸아민락테이트, 이소스테아르아미도프로필 모르폴린 락테이트, 비헨아미도프로필 디메틸아민 락테이트, 휘그검아미도프로필 디메틸아민 락테이트 등이 있다. 본 조성물중에 적합한 양이온성 아미도 아민염의 함량은 0.05-5.0중량%, 보다 바람직하게는 0.1-2.0중량%이다.
또한 양이온성 폴리머로는 구아고무의 양이온성 유도체 또는 수용성 질소-함유 폴리머 또는 이들중 2종이상의 혼합물 등이 있으며, 그 대표적인 예로는 구아히드록시프로필 트리모늄 클로라이드, 트리메틸암모늄이 치환된 에폭사이드와 히드록시에틸 셀룰로오즈가 중합된 4급암모늡의 반응생성물(CTFA명 ; 폴리쿼터니움 10), 디알릴 디메틸 암모늄클로라이드와 아크릴아미드의 공중합체(CTFL명 ; 폴리쿼터니움 7) 등이 있다.
이러한 양이온성 폴리머는 본 조성물중에 0.05-1.5중량% 범위내에서 사용시에, 음이온 계면활성제와의 상용성이 좋고 모발 건조후 모발에 콘디셔닝 효과 및 셋팅력(Setting Power)을 주게 된다.
본 발명의 샴푸 조성물은 또한 샴푸 조성물에 통상적으로 사용되는 미량의 기타 성분을 함유할 수 있다. 이러한 성분의 예를 들면 유화제, 기포촉진체, 점도 조절제, 유백제, 진주광택제, 착향제, 착색제, 콘디쇼닝제, 비듬 방지제, 보존제, 증점제, 단백질, 폴리머, 완충제 등이 있다.
이하, 본 발명은 하기의 실시예 및 비교예의 샴푸 조성물로부터 더욱 상세히 설명된다.
[실시예 1~3 및 비교예 1~6]
상법에 따라 하기 표 1에 제시되는 조성물들로부터 테스트샴푸를 제조하였다. 각 샴푸 제조에 공통으로 사용된 자외선차단제는 고체 자외선차단제인 유비눌 엠-40(Uvinul M-40 ; BASF사 제품)과 액체 자외선 차단제인 파솔 엠시엑스(Parsol MCX ; Givaudan사 제품)이었다.
이와 같이 제조된 테스트 샴푸들은 -5℃에서 3회 이상의 얼림/풀림 순환을 반복하는 것을 포함하여 1개월간 저장한 후의 상분리의 유무, 45℃에서 1개월간 저장한 후의 상분리의 유무 및 상온에서 1개월간 저장한 후에 상분리의 유무를 육안으로 검사하여 저장안정성을 평가하였다. 그 결과는 하기 표 2에 제시된다.
*1 : 카보풀 940(arbopol 940 : Goodrich사에서 제조된 아크릴 산의 가교 몰리어)
*2 : 폴리솔베이트 80(ICI사의 Tween 80)
*3 : 폴리쿼터늄-7(Mcintire사의 Mackernium 007)
* : 3회이상의 얼림/풀림 순환과정을 포함.
평가 : O= 안정, X =불안정
상기 표 2로부터 명백히 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 분산/유화제로서 N,N-디(하이드로게네이티드 탈로우) 프탈아미드산과 고분자 분산/유화제를 혼합 사용한 실시예 1 내지 3의 조성물이 장기간의 각각 다른 온도조건에서 매우 안정함을 나타내고 있다. N,N-디(하이드로게네이티드 탈로우) 프탈아미드산을 단독 사용한 조성물인 비교예 1과 고분자 분산/유화제를 단독 사용한 비교예 2 내지 4 및 솔비탄 유도체를 단독 사용한 비교때 5의 조성물에서는 상분리가 발생하였으며, 또한 N,N-디(하이드로계네이티드 탈로우) 프탈아미드산과 솔비탄 유도체를 혼합 사용한 비교예 6의 조성물에서도 상분리가 발생하였다. 즉, 비교예 1 내지 6 및 실시예 1 내지 3의 결과로부터 본 발명에 따라 N,N-디(하이드로게네이티드 탈로우) 프탈아미드산과 고분자 분산/유화제를 함께 사용할 경우에 가장 안정한 조성물을 얻을 수 있음을 알 수 있다.

Claims (7)

  1. 통상의 계면활성물질과 다음의 성분들을 함유하는 샴푸 조성물 : (a) 1종 이상의 비수용성 자외선차단제, 0.02-8중량%, (b) 고분자 분산/유화제, 0.05-3중량%, 및 (c) 하기 일반식( I)의 N,N-디(하이드로게네이티드 탈로우) 프탈아미드산, 0.05-10중량%.
    [위 식에서, R1, R2는 하이드로게네이티드 탈로우 패티 라디칼로서 탄소수 10-40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기 또는, 탄소수 10-40의 방향족 직쇄 또는 분지쇄 알킬기를 나타냄.]
  2. 제1항에 있어서, 고분자 분산/유화제가 폴리아크릴산, 아크릴 산의 가교 폴리머, 아크릴산과 소수성 모노머의 코폴리머, 아크릴산-함유 모노머와 아크릴산 에스테르의 코폴리머, 아크릴산과 아크릴산 에스테르의 가교 코폴리머, 무수 말레산/메틸 비닐 에테르 코폴리머 또는 이들중 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 샴푸 조성물
  3. 제1항에 있어서, 비수용성 자외선차단제가 옥틸메톡시신나메이트, 2-에톡시에틸-p-메톡시신나메이트 및 이소아밀-p-메톡시신나메이트 등의 신나메이트 유도체와 옥틸살리실레이트 및 트리에탄올아민 살리실레이트 등의 살리실산계와 같은 액체 자외선차단제 , 벤조페논-8 및 벤조페논-3 등의 벤조페논 유도체, 부릴 메톡시 디벤조일 메탄 및 이소프로필 디벤조일메탄 등의 디벤조일 메탄 유도체와 같은 고체 자외선차단제 , 또는 이들중 2종 이상치 혼합물로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 샴푸 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 계면활성물질로서 소듐 아실 글루타메이트, 암모늄 아실 사르코시네이트, 소듐 메틸아실타우레이트 및 소듐 아실이세티오네이트, 디알킬 소듐 설포석시네이트, 폴리옥시에틸렌 라우릴 에테르 인산나트륨, α-올레핀 술폰산염, 하기 일반식(II)으로 표시되는 화합물 또는 이들중 2종 이상의 흔합물로부터 선택되는 음이온 계면활성제 2-40중량% ;
    [상기 식(II)에서, R3은 탄소수 8-18의 알킬기이고, n은 0-4의 정수이며, M은 나트륨, 칼륨, 마그네슘등 1 또는 2가의 알칼리 금속염 및 암모늄 또는 모노-, 디-, 트리에탄올 아민염 중에서 선택됨.]
    C10-C18알킬 베타인, C10-C18알킬 아미도프로필 베타인, C|10-C18알킬 술포 베타인 또는 이들중 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 양쪽성 계면활성제 0.50-10중량% ; C10-C18알킬폴리글리코시드, 에톡실화 모노글리세라이드, 에톡실화 알콜, 에폭실화 아민, 아딘 옥사이드, 에톡실화 아미드 또는 이들중 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 비이온 계면활성제 0.5-10중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 샴푸 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 구아고무의 양이온성 유도체 또는 수용성 질소-함유 폴리머 또는 이들중 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 양이온성 폴리머 0.05-1.5중량%와 , 하기 식(III) 또는 (IV)에 따르는 화합물 또는 이들중 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 양이온성 아미도 아민염 0.05-5중량%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 샴푸 조성물.
    [상기 식(III), (IV)에서, R4는 탄소수 12-22의 알킬기이고,4는 유기 음이온임]
  6. 제 5항에 있어서, 양이온성 폴리머가 구아 히드록시 프로괼트리모늄 클로라이드, 트리메틸 암모뉴 치환된 에톡사이드와 히드록시 에틸 셀룰로오즈가 중합된 4급 암모늄염의 반응 생성물, 디알릴 디메틸 암모늄클로라이드와 아크릴아미드의 공중합체로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 샴푸 조성물.
  7. 제 5항에 있어서, 양이온성 아미도 아민염이 코카미프로필 디메틸아민 락테이트, 코카미도 프로필 디메틸아민 프로피오네이트, 리시놀아미도프로필 디메틸아민 락테이트, 스테아라미도프로필 디메틸아민 락테이트, 스테아라미도프로필 몰폴린 락테이트, 이소스테아라미도프로필 디메틸아민 락테이트, 이소스테아라미도 프로필 몰폴린. 락테이트, 비헨아미도프로필 디메틸아민 락테이트, 휘트검아미도프로필 디메틸아민 락테이트 또는 이들중 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 샴푸 조성물.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101158328B1 (ko) * 2003-08-28 2012-06-22 존슨 앤드 존슨 컨수머 캄파니즈, 인코포레이티드 신체 보호 조성물의 자극을 감소시키는 방법
KR101305974B1 (ko) * 2006-11-06 2013-09-12 (주)아모레퍼시픽 자외선 차단용 분산 제형 모발 화장료 조성물

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