JPWO2021222171A5 - - Google Patents

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JPWO2021222171A5
JPWO2021222171A5 JP2022565797A JP2022565797A JPWO2021222171A5 JP WO2021222171 A5 JPWO2021222171 A5 JP WO2021222171A5 JP 2022565797 A JP2022565797 A JP 2022565797A JP 2022565797 A JP2022565797 A JP 2022565797A JP WO2021222171 A5 JPWO2021222171 A5 JP WO2021222171A5
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いくつかの実施形態では、実質的無漏出流体継手は、2つまたはそれを上回る流体ラインのうちの2つ内の相対的流体圧力が少なくとも100倍変動するときに維持される。いくつかの実施形態では、2つまたはそれを上回る流体相互接続はそれぞれ、独立してばね荷重された継手を備える。いくつかの実施形態では、独立してばね荷重された継手は、マイクロ流体カートリッジ内に孔を備える流体ポートと噛合する、平坦面シール継手を備える。
本発明は、例えば、以下を提供する。
(項目1)
マイクロ流体チップであって、
a)基材であって、前記基材は、
i)エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える流体チャネルと、
ii)前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置されるガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を備えるガスチャネルと
を備える、基材
を備え、
前記流体チャネルの遠位端と前記ガスチャネルの遠位端との間の角度は、約0度~約30度に及ぶ、マイクロ流体チップ。
(項目2)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記基材の縁または角または先端上に配置される、項目1に記載のマイクロ流体チップ。
(項目3)
前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接する前記基材の縁上に配置される、項目2に記載のマイクロ流体チップ。
(項目4)
前記基材は、2つまたはそれを上回るガスチャネルを備え、これらのそれぞれは、ガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を備える、項目1-3のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目5)
前記2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して、かつそれを中心として対称的に配置される、項目4に記載のマイクロ流体チップ。
(項目6)
前記角度は、約10度~約20度に及ぶ、項目1-5のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目7)
前記角度は、約15±5度である、項目1-5のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目8)
前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスから排出される溶液の霧化を実施するように構成される、項目1-7のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目9)
前記マイクロ流体デバイスは、それぞれが前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置されるガス出口オリフィスを備える3つまたはそれを上回るガスチャネルを備える、項目1-8のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目10)
前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、前記基材内に配置され、前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、前記少なくとも1つのガスチャネルが前記基材と同一平面内に位置しないように、前記基材に隣接して位置付けられる前記マイクロ流体チップの補助構成要素内に配置される、項目9に記載のマイクロ流体チップ。
(項目11)
前記補助構成要素内に配置される前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、そのガス出口オリフィスが、前記基材のものと略垂直な平面内にあり、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的に、かつそれに隣接して位置付けられるように位置付けられる、項目10に記載のマイクロ流体チップ。
(項目12)
前記補助構成要素内に配置される前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、そのガス出口オリフィスが、前記基材のものに対して回転され、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として、かつそれに隣接して、半径方向対称対様式において位置付けられる1つまたはそれを上回る平面内にあるように位置付けられる、項目11に記載のマイクロ流体チップ。
(項目13)
前記流体チャネルは、分離チャネルを備える、項目1-12のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目14)
前記マイクロ流体チップは、前記流体チャネル内において、被分析物の混合物を備えるサンプルの等電点電気泳動または電気泳動分離を実施するように構成される、項目1-13のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目15)
前記流体チャネルは、約20μm~約600μmに及ぶ幅を有する、項目1-14のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目16)
前記流体チャネルは、約10μm~約100μmに及ぶ深度を有する、項目1-15のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目17)
前記流体チャネルは、約0.25cm~約30cmに及ぶ長さを有する、項目1-16のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目18)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、略正方形、長方形、円形、長円形、または菱形形状断面を有する、項目1-17のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目19)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、約10μm~約100μmに及ぶ最大断面寸法を有する、項目1-18のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目20)
前記ガスチャネルは、約20μm~約200μmに及ぶ幅を有する、項目1-19のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目21)
前記ガスチャネルは、約10μm~約100μmに及ぶ深度を有する、項目1-20のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目22)
前記ガスチャネルは、約0.2cm~約20cmに及ぶ長さを有する、項目1-21のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目23)
前記ガス出口オリフィスは、略正方形、長方形、円形、長円形、または菱形形状断面を有する、項目1-22のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目24)
前記ガス出口オリフィスは、約10μm~約50μmに及ぶ最大断面寸法を有する、項目1-23のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目25)
前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスの100μm以内に配置される、項目1-24のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目26)
前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスの50μm以内に配置される、項目1-25のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目27)
前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスの15μm以内に配置される、項目1-26のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目28)
前記基材は、ガラス、シリコン、ポリマー、またはそれらの任意の組み合わせから加工される、項目1-27のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目29)
マイクロ流体チップであって、
a)基材であって、前記基材は、
i)それぞれがガスをガス出口オリフィスに送達するように構成される異なる長さの2つまたはそれを上回るガスチャネル
を備える、基材
を備え、
前記2つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つの寸法は、前記2つまたはそれを上回るガスチャネルのそれぞれが略同一流体力学的流動抵抗を有するように、その長さの一部に沿って調節される、マイクロ流体チップ。
(項目30)
前記2つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つの断面積は、その長さの一部に沿って調節される、項目29に記載のマイクロ流体チップ。
(項目31)
前記2つまたはそれを上回るガスチャネルの長さにおける最小差異は、約1cm~約10cmに及ぶ、項目29または項目30に記載のマイクロ流体チップ。
(項目32)
前記2つまたはそれを上回るガスチャネルの長さにおける最大差異は、約1cm~約10cmに及ぶ、項目29-31のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目33)
前記基材はさらに、エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える流体チャネルを備える、項目29-32のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目34)
前記2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的に、かつそれに隣接して配置され、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスから排出される溶液の霧化を実施するように構成される、項目33に記載のマイクロ流体チップ。
(項目35)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記基材の縁または角上に配置される、項目33-34のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目36)
前記2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接する前記基材の縁上に配置される、項目35に記載のマイクロ流体チップ。
(項目37)
前記流体チャネルは、分離チャネルを備える、項目29-36のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目38)
前記マイクロ流体チップは、等電点電気泳動または電気泳動分離を実施するように構成される、項目29-37のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目39)
前記ガスは、霧化装置ガスである、項目29-38のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目40)
前記霧化装置ガスは、空気、窒素、酸素、亜酸化窒素、フルオロウレタン、ヘリウム、アルゴン、メタノール、またはそれらの任意の組み合わせを備える、項目39に記載のマイクロ流体チップ。
(項目41)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスがその上に配置される前記基材の縁または前記基材の角の少なくとも一部上に、疎水性コーティングをさらに備える、項目35-40のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目42)
マイクロ流体チップであって、
a)基材であって、前記基材は、
i)流体入口ポートと流体連通する近位端と、エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える流体チャネルと、
ii)それぞれがガス入口ポートと流体連通する近位端と、ガス出口オリフィスと流体連通する遠位端とを備える少なくとも2つのガスチャネルと
を備える、基材
を備え、
前記少なくとも1つの流体入口ポートおよび前記少なくとも2つのガス入口ポートは、前記基材の第1の縁に沿って配置される、マイクロ流体チップ。
(項目43)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記基材の第2の縁上に位置付けられる、項目42に記載のマイクロ流体チップ。
(項目44)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記第1の縁を備えない前記基材の角上に位置付けられる、項目43に記載のマイクロ流体チップ。
(項目45)
前記基材は、約2.0mm厚未満である、項目42-44のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目46)
前記流体チャネルは、電気泳動分離を実施するように構成される分離チャネルを備える、項目42-45のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目47)
前記流体チャネルは、等電点電気泳動分離を実施するように構成される分離チャネルを備える、項目42-45のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目48)
前記基材は、第1の分離チャネルと、第2の分離チャネルとを備え、前記第1の分離チャネルの遠位端は、前記第2の分離チャネルの近位端と流体連通し、前記第2の分離チャネルの遠位端は、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する、項目46-47のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目49)
前記第1の分離チャネルは、クロマトグラフ分離を実施するように構成され、前記第2の分離チャネルは、電気泳動分離を実施するように構成される、項目48に記載のマイクロ流体チップ。
(項目50)
前記第1の分離チャネルは、クロマトグラフ分離を実施するように構成され、前記第2の分離チャネルは、等電点電気泳動分離を実施するように構成される、項目48に記載のマイクロ流体チップ。
(項目51)
前記流体チャネルは、被分析物の混合物を備えるサンプルの等電点電気泳動分離を実施するように構成される分離チャネルを備え、前記基材はさらに、前記分離チャネルの遠位端と流体連通し、動員電解質の電気泳動導入を前記分離チャネルの遠位端に提供するように構成される動員電解質チャネルを備える、項目42-50のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目52)
マイクロ流体チップからエレクトロスプレーイオン化を実施するための方法であって、
a)基材を備えるマイクロ流体チップを提供することであって、前記基材は、
i)エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える少なくとも1つの流体チャネルと、
ii)前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接するガス出口オリフィスにガスを送達するように構成される少なくとも1つのガスチャネルと
を備える、ことと、
b)溶液が前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスから排出されるように、前記溶液を前記少なくとも1つの流体チャネルを通して流動させることと、
c)ガスが前記ガス出口オリフィスから排出されるように、前記ガスを前記少なくとも1つのガスチャネルを通して流動させることと
を含み、
前記基材の温度は、前記少なくとも1つのガスチャネルを通して流動する前記ガスの温度によって制御される、方法。
(項目53)
前記ガスの温度は、約4℃~約100℃に及ぶ、項目52に記載の方法。
(項目54)
前記基材の温度は、約10℃~約50℃に及ぶ、項目52または項目53に記載の方法。
(項目55)
前記基材の平均温度は、30±5℃に保持される、項目52-54のいずれか1項に記載の方法。
(項目56)
前記少なくとも1つの流体チャネルは、分離チャネルを備える、項目52-55のいずれか1項に記載の方法。
(項目57)
前記分離チャネルは、被分析物の混合物を備えるサンプルの等電点電気泳動分離を実施するように構成される、項目56に記載の方法。
(項目58)
前記分離チャネルは、被分析物の混合物を備えるサンプルの電気泳動分離を実施するように構成される、項目56に記載の方法。
(項目59)
前記マイクロ流体チップがサンプルを質量分析計の中に導入するように構成されるときに達成されるエレクトロスプレーイオン化性能は、総質量質量分析信号強度における1.0%標準誤差未満の変動によって特徴付けられる、項目52-58のいずれか1項に記載の方法。
(項目60)
前記マイクロ流体チップがサンプルを質量分析計の中に導入するように構成されるときのエレクトロスプレーイオン化性能は、総質量質量分析信号強度における0.1%標準誤差未満の変動によって特徴付けられる、項目52-59のいずれか1項に記載の方法。
(項目61)
安定エレクトロスプレーイオン化性能を提供するための方法であって、
a)基材を備えるマイクロ流体チップを提供することであって、前記基材は、(i)エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を有する流体チャネルと、(ii)ガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を有するガスチャネルとを備える、ことと、
b)溶液を前記流体チャネルを通して流動させることと、
c)ガスを前記ガスチャネルを通して流動させることと、
d)前記ガスおよび溶液に関する体積流率の比が1000:1~1,000,000:1に及ぶように、前記ガスの流率および前記溶液の流率を制御することと
を含む、方法。
(項目62)
前記ガスおよび溶液に関する体積流率の比は、10,000:1~500,000:1に及ぶ、項目61に記載の方法。
(項目63)
前記溶液の流動は、圧力、重力、動電力、またはそれらの任意の組み合わせによって制御される、項目61または項目62に記載の方法。
(項目64)
前記ガスの流動は、圧縮ガス源によって提供される、項目61-63のいずれか1項に記載の方法。
(項目65)
前記溶液に関する体積流率は、25μL/分未満である、項目61-64のいずれか1項に記載の方法。
(項目66)
前記マイクロ流体チップは、2つまたはそれを上回るガスチャネルを備え、それぞれがガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を備え、前記2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的に、かつそれに隣接して配置される、項目61-65のいずれか1項に記載の方法。
(項目67)
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記基材の縁または角上に配置される、項目61-66のいずれか1項に記載の方法。
(項目68)
前記1つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記基材の縁上の前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置される、項目67に記載の方法。
(項目69)
前記マイクロ流体チップがサンプルを質量分析計の中に導入するように構成されるときに達成されるエレクトロスプレーイオン化性能は、総質量質量分析信号強度における1.0%標準誤差未満の変動によって特徴付けられる、項目61-68のいずれか1項に記載の方法。
(項目70)
前記マイクロ流体チップがサンプルを質量分析計の中に導入するように構成されるときのエレクトロスプレーイオン化性能は、総質量質量分析信号強度における0.1%標準誤差未満の変動によって特徴付けられる、項目61-69のいずれか1項に記載の方法。
(項目71)
安定エレクトロスプレーイオン化性能を提供するための方法であって、
a)基材を備えるマイクロ流体チップを提供することであって、前記基材は、(i)エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を有する流体チャネルと、(ii)ガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を有するガスチャネルとを備える、ことと、
b)溶液を前記流体チャネルを通して流動させることと、
c)ガスを前記ガスチャネルを通して流動させることと、
d)前記ガス出口オリフィスにおける前記ガスに関する流速および前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスにおける前記溶液に関する流速の比が、100:1~1,000,000:1に及ぶように、前記ガスの流率および前記溶液の流率を制御することと
を含む、方法。
(項目72)
前記ガス出口オリフィスにおける前記ガスに関する流速および前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスにおける前記溶液に関する流速の比は、500:1~5,000:1に及ぶ、項目71に記載の方法。
(項目73)
前記ガス出口オリフィスにおける前記ガスに関する流速および前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスにおける前記溶液に関する流速の比は、1,000:1~3,000:1に及ぶ、項目71または項目72に記載の方法。
(項目74)
マイクロ流体カートリッジであって、
a)マイクロ流体チップの縁上に配置される少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートを備えるマイクロ流体チップと、
b)前記マイクロ流体チップと流体連通し、前記マイクロ流体チップの少なくとも一部を包含するように構成されるマイクロ流体カートリッジ構成要素であって、前記マイクロ流体カートリッジ構成要素は、前記マイクロ流体チップの前記少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートと整合する少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートを備える、マイクロ流体カートリッジ構成要素と
を備える、マイクロ流体カートリッジ。
(項目75)
前記マイクロ流体チップの縁と前記カートリッジの表面との間に配置される1つまたはそれを上回るエラストマ構成要素をさらに備え、前記1つまたはそれを上回るエラストマ構成要素は、力の印加に応じて、前記マイクロ流体チップの前記少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートと前記マイクロ流体カートリッジ構成要素の前記少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートとの間に実質的無漏出シールを形成する、項目74に記載のマイクロ流体カートリッジ。
(項目76)
前記マイクロ流体チップの縁は、約2.0mm厚未満である、項目74または項目75に記載のマイクロ流体カートリッジ。
(項目77)
前記マイクロ流体チップの縁は、約1±0.4mm厚である、項目74-76のいずれか1項に記載のマイクロ流体カートリッジ。
(項目78)
システムであって、
a)2つまたはそれを上回る流体ポートを備え、前記システムから除去可能であるように構成されるマイクロ流体カートリッジと、
b)2つまたはそれを上回る流体相互接続を備える器具と
を備え、
前記2つまたはそれを上回る流体相互接続のそれぞれは、前記2つまたはそれを上回る流体相互接続および前記マイクロ流体カートリッジの前記2つまたはそれを上回る流体ポートを備えるアセンブリへの力の印加に応じて、前記器具の流体ラインと前記マイクロ流体カートリッジの流体ポートとの間に実質的無漏出流体継手を提供するように構成され、
前記実質的無漏出流体継手は、2つまたはそれを上回る流体ラインのうちの2つ内の相対的流体圧力が少なくとも10倍変動するときに維持される、
システム。
(項目79)
前記実質的無漏出流体継手は、前記2つまたはそれを上回る流体ラインのうちの2つ内の相対的流体圧力が少なくとも100倍変動するときに維持される、項目78に記載のシステム。
(項目80)
前記2つまたはそれを上回る流体相互接続のそれぞれは、独立してばね荷重された継手を備える、項目78または項目79に記載のシステム。
(項目81)
前記独立してばね荷重された継手は、前記マイクロ流体カートリッジ内に孔を備える流体ポートと噛合する平坦面シール継手を備える、項目80に記載のシステム。
(項目82)
前記マイクロ流体デバイスは、それぞれが前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに直接隣接して配置されるガス出口オリフィスを備える3つまたはそれを上回るガスチャネルを備える、項目1-8のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
(項目83)
前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、前記基材内に配置され、前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、前記少なくとも1つのガスチャネルが前記基材と同一平面内に位置しないように、前記基材に直接隣接して位置付けられる前記マイクロ流体チップの補助構成要素内に配置される、項目82に記載のマイクロ流体チップ。
(項目84)
前記補助構成要素内に配置される前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、そのガス出口オリフィスが、前記基材のものと略垂直な平面にあり、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的に、かつそれに直接隣接して位置付けられるように位置付けられる、項目83に記載のマイクロ流体チップ。
(項目85)
前記補助構成要素内に配置される前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、そのガス出口オリフィスが、前記基材のものに対して回転され、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として半径方向対称対様式において、かつそれに直接隣接して位置付けられる1つまたはそれを上回る平面にあるように位置付けられる、項目84に記載のマイクロ流体チップ。
(項目86)
等電点電気泳動が、流体を前記流体入口ポートから前記分離チャネルを通して流動させながら実施される、項目47に記載のマイクロ流体チップ。
(項目87)
エレクトロスプレーイオン化が、流体を前記流体入口ポートから前記第1および第2の分離チャネルを通して流動させながら実施される、項目48に記載のマイクロ流体チップ。
(参照による組み込み)
In some embodiments, the substantially leak-free fluid coupling is maintained when the relative fluid pressure in two of the two or more fluid lines varies by at least a factor of 100. In some embodiments, the two or more fluid interconnects each comprise an independently spring-loaded coupling. In some embodiments, the independently spring-loaded coupling comprises a flat face seal coupling that mates with a fluid port that comprises a hole in the microfluidic cartridge.
The present invention provides, for example, the following:
(Item 1)
A microfluidic chip, comprising:
a) a substrate, the substrate comprising:
i) a fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice;
ii) a gas channel having a distal end in fluid communication with a gas exit orifice disposed adjacent to the electrospray ionization orifice;
A substrate comprising:
Equipped with
The microfluidic chip, wherein an angle between the distal end of the fluid channel and the distal end of the gas channel ranges from about 0 degrees to about 30 degrees.
(Item 2)
2. The microfluidic chip of claim 1, wherein the electrospray ionization orifice is positioned on an edge or corner or tip of the substrate.
(Item 3)
3. The microfluidic chip of claim 2, wherein the gas exit orifice is disposed on an edge of the substrate adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 4)
4. The microfluidic chip of any one of items 1-3, wherein the substrate comprises two or more gas channels, each of which comprises a distal end in fluid communication with a gas exit orifice.
(Item 5)
5. The microfluidic chip of claim 4, wherein the two or more gas exit orifices are adjacent to and symmetrically positioned about the electrospray ionization orifice.
(Item 6)
6. The microfluidic chip of any one of items 1 to 5, wherein the angle ranges from about 10 degrees to about 20 degrees.
(Item 7)
6. The microfluidic chip according to any one of items 1 to 5, wherein the angle is about 15±5 degrees.
(Item 8)
8. The microfluidic chip according to any one of items 1 to 7, wherein the gas exit orifice is configured to perform atomization of the solution discharged from the electrospray ionization orifice.
(Item 9)
The microfluidic chip of any one of items 1 to 8, wherein the microfluidic device comprises three or more gas channels, each of which comprises a gas exit orifice positioned adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 10)
10. The microfluidic chip of claim 9, wherein at least one of the three or more gas channels is disposed within the substrate, and at least one of the three or more gas channels is disposed within an auxiliary component of the microfluidic chip positioned adjacent to the substrate such that the at least one gas channel is not coplanar with the substrate.
(Item 11)
11. The microfluidic chip of claim 10, wherein at least one of the three or more gas channels disposed in the auxiliary component is positioned such that its gas exit orifice is in a plane generally perpendicular to that of the substrate and is positioned symmetrically about and adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 12)
12. The microfluidic chip of claim 11, wherein at least one of the three or more gas channels disposed in the auxiliary component is positioned such that its gas exit orifice lies in one or more planes rotated relative to that of the substrate and positioned in a radially symmetric manner centered about and adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 13)
Item 13. The microfluidic chip of any one of items 1-12, wherein the fluid channel comprises a separation channel.
(Item 14)
14. The microfluidic chip of any one of claims 1 to 13, wherein the microfluidic chip is configured to perform isoelectric focusing or electrophoretic separation of a sample comprising a mixture of analytes in the fluid channel.
(Item 15)
15. The microfluidic chip of any one of items 1-14, wherein the fluid channel has a width ranging from about 20 μm to about 600 μm.
(Item 16)
Item 16. The microfluidic chip of any one of items 1-15, wherein the fluidic channel has a depth ranging from about 10 μm to about 100 μm.
(Item 17)
17. The microfluidic chip of any one of items 1-16, wherein the fluid channel has a length ranging from about 0.25 cm to about 30 cm.
(Item 18)
18. The microfluidic chip of any one of items 1-17, wherein the electrospray ionization orifice has a substantially square, rectangular, circular, oval, or diamond-shaped cross section.
(Item 19)
Item 19. The microfluidic chip of any one of items 1-18, wherein the electrospray ionization orifice has a maximum cross-sectional dimension ranging from about 10 μm to about 100 μm.
(Item 20)
20. The microfluidic chip of any one of items 1-19, wherein the gas channel has a width ranging from about 20 μm to about 200 μm.
(Item 21)
21. The microfluidic chip of any one of items 1-20, wherein the gas channels have a depth ranging from about 10 μm to about 100 μm.
(Item 22)
22. The microfluidic chip of any one of items 1-21, wherein the gas channel has a length ranging from about 0.2 cm to about 20 cm.
(Item 23)
23. The microfluidic chip of any one of items 1-22, wherein the gas exit orifice has a substantially square, rectangular, circular, oval, or diamond-shaped cross-section.
(Item 24)
24. The microfluidic chip of any one of items 1-23, wherein the gas exit orifice has a maximum cross-sectional dimension ranging from about 10 μm to about 50 μm.
(Item 25)
25. The microfluidic chip of any one of items 1-24, wherein the gas exit orifice is positioned within 100 μm of the electrospray ionization orifice.
(Item 26)
26. The microfluidic chip of any one of items 1-25, wherein the gas exit orifice is positioned within 50 μm of the electrospray ionization orifice.
(Item 27)
27. The microfluidic chip of any one of items 1-26, wherein the gas exit orifice is positioned within 15 μm of the electrospray ionization orifice.
(Item 28)
28. The microfluidic chip of any one of items 1-27, wherein the substrate is fabricated from glass, silicon, polymer, or any combination thereof.
(Item 29)
A microfluidic chip, comprising:
a) a substrate, the substrate comprising:
i) two or more gas channels of different lengths, each configured to deliver gas to a gas exit orifice;
A substrate comprising:
Equipped with
A microfluidic chip, wherein a dimension of at least one of the two or more gas channels is adjusted along a portion of its length such that each of the two or more gas channels has approximately the same hydrodynamic flow resistance.
(Item 30)
30. The microfluidic chip of claim 29, wherein a cross-sectional area of at least one of the two or more gas channels is adjusted along a portion of its length.
(Item 31)
31. The microfluidic chip of claim 29 or 30, wherein a minimum difference in length of the two or more gas channels ranges from about 1 cm to about 10 cm.
(Item 32)
32. The microfluidic chip of any one of items 29-31, wherein a maximum difference in length of the two or more gas channels ranges from about 1 cm to about 10 cm.
(Item 33)
33. The microfluidic chip of any one of claims 29-32, wherein the substrate further comprises a fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice.
(Item 34)
34. The microfluidic chip of claim 33, wherein the two or more gas exit orifices are arranged symmetrically about and adjacent to the electrospray ionization orifice and configured to perform atomization of the solution exiting the electrospray ionization orifice.
(Item 35)
35. The microfluidic chip according to any one of items 33-34, wherein the electrospray ionization orifice is positioned on an edge or corner of the substrate.
(Item 36)
36. The microfluidic chip of claim 35, wherein the two or more gas exit orifices are positioned on an edge of the substrate adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 37)
37. The microfluidic chip of any one of claims 29-36, wherein the fluid channel comprises a separation channel.
(Item 38)
38. The microfluidic chip of any one of items 29-37, wherein the microfluidic chip is configured to perform isoelectric focusing or electrophoretic separation.
(Item 39)
39. The microfluidic chip of any one of items 29-38, wherein the gas is an atomizer gas.
(Item 40)
40. The microfluidic chip of claim 39, wherein the atomizer gas comprises air, nitrogen, oxygen, nitrous oxide, fluorourethane, helium, argon, methanol, or any combination thereof.
(Item 41)
41. The microfluidic chip of any one of items 35-40, further comprising a hydrophobic coating on at least a portion of an edge of the substrate or a corner of the substrate on which the electrospray ionization orifice is disposed.
(Item 42)
A microfluidic chip, comprising:
a) a substrate, the substrate comprising:
i) a fluid channel having a proximal end in fluid communication with a fluid inlet port and a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice;
ii) at least two gas channels, each having a proximal end in fluid communication with a gas inlet port and a distal end in fluid communication with a gas outlet orifice;
A substrate comprising:
Equipped with
The at least one fluid inlet port and the at least two gas inlet ports are disposed along a first edge of the substrate.
(Item 43)
43. The microfluidic chip of claim 42, wherein the electrospray ionization orifice is positioned on a second edge of the substrate.
(Item 44)
Item 44. The microfluidic chip of item 43, wherein the electrospray ionization orifice is positioned on a corner of the substrate that does not include the first edge.
(Item 45)
45. The microfluidic chip of any one of items 42-44, wherein the substrate is less than about 2.0 mm thick.
(Item 46)
46. The microfluidic chip of any one of claims 42-45, wherein the fluidic channel comprises a separation channel configured to perform an electrophoretic separation.
(Item 47)
46. The microfluidic chip of any one of claims 42-45, wherein the fluidic channel comprises a separation channel configured to perform isoelectric focusing separation.
(Item 48)
48. The microfluidic chip of any one of items 46-47, wherein the substrate comprises a first separation channel and a second separation channel, a distal end of the first separation channel in fluid communication with a proximal end of the second separation channel, and a distal end of the second separation channel in fluid communication with the electrospray ionization orifice.
(Item 49)
49. The microfluidic chip of claim 48, wherein the first separation channel is configured to perform a chromatographic separation and the second separation channel is configured to perform an electrophoretic separation.
(Item 50)
49. The microfluidic chip of claim 48, wherein the first separation channel is configured to perform a chromatographic separation and the second separation channel is configured to perform an isoelectric focusing separation.
(Item 51)
51. The microfluidic chip of any one of claims 42-50, wherein the fluid channel comprises a separation channel configured to perform isoelectric focusing separation of a sample comprising a mixture of analytes, and the substrate further comprises a mobilization electrolyte channel in fluid communication with a distal end of the separation channel and configured to provide electrophoretic introduction of a mobilization electrolyte to the distal end of the separation channel.
(Item 52)
1. A method for performing electrospray ionization from a microfluidic chip, comprising:
a) providing a microfluidic chip comprising a substrate, the substrate comprising:
i) at least one fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice;
ii) at least one gas channel configured to deliver gas to a gas exit orifice adjacent to said electrospray ionization orifice;
and
b) flowing the solution through the at least one fluid channel such that the solution is ejected from the electrospray ionization orifice;
c) flowing a gas through the at least one gas channel such that the gas is exhausted through the gas exit orifice;
Including,
A method wherein the temperature of the substrate is controlled by the temperature of the gas flowing through the at least one gas channel.
(Item 53)
53. The method of claim 52, wherein the temperature of the gas ranges from about 4°C to about 100°C.
(Item 54)
54. The method of claim 52 or 53, wherein the temperature of the substrate ranges from about 10° C. to about 50° C.
(Item 55)
55. The method of any one of claims 52-54, wherein the average temperature of the substrate is maintained at 30±5°C.
(Item 56)
56. The method of any one of claims 52-55, wherein the at least one fluidic channel comprises a separation channel.
(Item 57)
57. The method of claim 56, wherein the separation channel is configured to perform an isoelectric focusing separation of a sample comprising a mixture of analytes.
(Item 58)
57. The method of claim 56, wherein the separation channel is configured to perform an electrophoretic separation of a sample comprising a mixture of analytes.
(Item 59)
59. The method of any one of items 52-58, wherein the electrospray ionization performance achieved when the microfluidic chip is configured to introduce a sample into a mass spectrometer is characterized by less than 1.0% standard error variation in total mass spectrometry signal intensity.
(Item 60)
60. The method of any one of items 52-59, wherein the electrospray ionization performance when the microfluidic chip is configured to introduce a sample into a mass spectrometer is characterized by less than 0.1% standard error variation in total mass spectrometry signal intensity.
(Item 61)
1. A method for providing stable electrospray ionization performance, comprising:
a) providing a microfluidic chip comprising a substrate comprising: (i) a fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice; and (ii) a gas channel having a distal end in fluid communication with a gas exit orifice;
b) flowing a solution through said fluid channel;
c) flowing a gas through said gas channel;
d) controlling the flow rate of said gas and the flow rate of said solution such that the ratio of volumetric flow rates for said gas and solution ranges from 1000:1 to 1,000,000:1;
A method comprising:
(Item 62)
62. The method of claim 61, wherein the ratio of volumetric flow rates for the gas and solution ranges from 10,000:1 to 500,000:1.
(Item 63)
63. The method of claim 61 or 62, wherein the flow of the solution is controlled by pressure, gravity, electrokinetic force, or any combination thereof.
(Item 64)
64. The method of any one of claims 61-63, wherein the flow of gas is provided by a compressed gas source.
(Item 65)
65. The method of any one of items 61-64, wherein the volumetric flow rate for the solution is less than 25 μL/min.
(Item 66)
66. The method of any one of claims 61-65, wherein the microfluidic chip comprises two or more gas channels, each with a distal end in fluid communication with a gas exit orifice, the two or more gas exit orifices being positioned symmetrically about and adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 67)
67. The method of any one of claims 61-66, wherein the electrospray ionization orifice is positioned on an edge or corner of the substrate.
(Item 68)
Item 68. The method of item 67, wherein the one or more gas exit orifices are positioned adjacent to the electrospray ionization orifice on the edge of the substrate.
(Item 69)
69. The method of any one of claims 61-68, wherein the electrospray ionization performance achieved when the microfluidic chip is configured to introduce a sample into a mass spectrometer is characterized by less than 1.0% standard error variation in total mass spectrometry signal intensity.
(Item 70)
70. The method of any one of claims 61-69, wherein the electrospray ionization performance when the microfluidic chip is configured to introduce a sample into a mass spectrometer is characterized by less than 0.1% standard error variation in total mass spectrometry signal intensity.
(Item 71)
1. A method for providing stable electrospray ionization performance, comprising:
a) providing a microfluidic chip comprising a substrate comprising: (i) a fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice; and (ii) a gas channel having a distal end in fluid communication with a gas exit orifice;
b) flowing a solution through said fluid channel;
c) flowing a gas through said gas channel;
d) controlling the flow rate of the gas and the flow rate of the solution such that the ratio of the flow rate of the gas at the gas exit orifice and the flow rate of the solution at the electrospray ionization orifice ranges from 100:1 to 1,000,000:1;
A method comprising:
(Item 72)
72. The method of claim 71, wherein the ratio of the flow rate for the gas at the gas exit orifice and the flow rate for the solution at the electrospray ionization orifice ranges from 500:1 to 5,000:1.
(Item 73)
73. The method of claim 71 or 72, wherein the ratio of the flow rate for the gas at the gas exit orifice and the flow rate for the solution at the electrospray ionization orifice ranges from 1,000:1 to 3,000:1.
(Item 74)
1. A microfluidic cartridge comprising:
a) a microfluidic chip comprising at least one fluid port and at least two gas ports disposed on an edge of the microfluidic chip;
b) a microfluidic cartridge component in fluid communication with the microfluidic chip and configured to contain at least a portion of the microfluidic chip, the microfluidic cartridge component comprising at least one fluid port and at least two gas ports that align with the at least one fluid port and at least two gas ports of the microfluidic chip;
A microfluidic cartridge comprising:
(Item 75)
Item 75. The microfluidic cartridge of item 74, further comprising one or more elastomer components disposed between an edge of the microfluidic chip and a surface of the cartridge, the one or more elastomer components forming a substantially leak-free seal between the at least one fluid port and at least two gas ports of the microfluidic chip and the at least one fluid port and at least two gas ports of the microfluidic cartridge component upon application of a force.
(Item 76)
76. The microfluidic cartridge of claim 74 or 75, wherein the edge of the microfluidic chip is less than about 2.0 mm thick.
(Item 77)
77. The microfluidic cartridge of any one of items 74-76, wherein the edge of the microfluidic chip is about 1±0.4 mm thick.
(Item 78)
1. A system comprising:
a) a microfluidic cartridge comprising two or more fluid ports and configured to be removable from the system;
b) an instrument comprising two or more fluid interconnections;
Equipped with
each of the two or more fluid interconnects is configured to provide a substantially leak-free fluid coupling between a fluid line of the instrument and a fluid port of the microfluidic cartridge upon application of a force to an assembly comprising the two or more fluid interconnects and the two or more fluid ports of the microfluidic cartridge;
the substantially leak-free fluid coupling is maintained when the relative fluid pressure in two of the two or more fluid lines varies by at least a factor of 10;
system.
(Item 79)
80. The system of claim 78, wherein the substantially leak-free fluid coupling is maintained when the relative fluid pressure within two of the two or more fluid lines varies by at least a factor of 100.
(Item 80)
80. The system of claim 78 or 79, wherein each of the two or more fluid interconnects comprises an independently spring-loaded coupling.
(Item 81)
Item 81. The system of item 80, wherein the independently spring-loaded fitting comprises a flat face seal fitting that mates with a fluid port that comprises a bore in the microfluidic cartridge.
(Item 82)
The microfluidic chip of any one of items 1-8, wherein the microfluidic device comprises three or more gas channels, each comprising a gas exit orifice positioned directly adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 83)
Item 83. The microfluidic chip of item 82, wherein at least one of the three or more gas channels is disposed within the substrate, and at least one of the three or more gas channels is disposed within an auxiliary component of the microfluidic chip that is positioned directly adjacent to the substrate such that the at least one gas channel is not coplanar with the substrate.
(Item 84)
Item 84. The microfluidic chip of item 83, wherein at least one of the three or more gas channels disposed in the auxiliary component is positioned such that its gas exit orifice is in a plane generally perpendicular to that of the substrate and is positioned symmetrically about and directly adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 85)
Item 85. The microfluidic chip of item 84, wherein at least one of the three or more gas channels disposed within the auxiliary component is positioned such that its gas exit orifice lies in one or more planes that are rotated relative to that of the substrate and positioned in a radially symmetric manner about and immediately adjacent to the electrospray ionization orifice.
(Item 86)
48. The microfluidic chip of claim 47, wherein isoelectric focusing is performed while flowing fluid from the fluid inlet port through the separation channel.
(Item 87)
49. The microfluidic chip of claim 48, wherein electrospray ionization is performed while flowing fluid from the fluid inlet port through the first and second separation channels.
(Incorporated by reference)

Claims (46)

マイクロ流体チップであって、
a)基材であって、前記基材は、
i)エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える流体チャネルと、
ii)前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置されるガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を備えるガスチャネルと
を備える、基材
を備え、
前記流体チャネルの遠位端と前記ガスチャネルの遠位端との間の角度は、約0度~約30度に及ぶ、マイクロ流体チップ。
A microfluidic chip, comprising:
a) a substrate, the substrate comprising:
i) a fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice;
ii) a gas channel having a distal end in fluid communication with a gas exit orifice disposed adjacent the electrospray ionization orifice;
The microfluidic chip, wherein an angle between the distal end of the fluid channel and the distal end of the gas channel ranges from about 0 degrees to about 30 degrees.
前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接する前記基材の縁上に配置される、請求項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 1 , wherein the gas exit orifice is located on an edge of the substrate adjacent to the electrospray ionization orifice. 前記基材は、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接してかつ前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的に配置される2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスを備える、請求項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 2 , wherein the substrate comprises two or more gas exit orifices adjacent to and symmetrically positioned about the electrospray ionization orifice . 前記角度は、約10度~約20度に及ぶ、請求項1~3のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 1 , wherein the angle ranges from about 10 degrees to about 20 degrees. 前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスから排出される溶液の霧化を実施するように構成される、請求項1~4のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip according to claim 1 , wherein the gas outlet orifice is configured to effect atomization of the solution exiting the electrospray ionization orifice. 前記マイクロ流体デバイスは、3つまたはそれを上回るガスチャネルを備え、前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのそれぞれは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置されるガス出口オリフィスを備え、前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、前記基材内に配置され、前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、前記少なくとも1つのガスチャネルが前記基材と同一平面内に位置しないように、前記基材に隣接して位置付けられる前記マイクロ流体チップの補助構成要素内に配置される、請求項1~5のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic device according to any one of claims 1 to 5, wherein the microfluidic device comprises three or more gas channels, each of the three or more gas channels comprising a gas exit orifice disposed adjacent to the electrospray ionization orifice, at least one of the three or more gas channels being disposed within the substrate, and at least one of the three or more gas channels being disposed within an auxiliary component of the microfluidic chip positioned adjacent to the substrate such that the at least one gas channel is not coplanar with the substrate . 前記補助構成要素内に配置される前記3つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つは、(a)そのガス出口オリフィスが、前記基材のものと略垂直な平面内にあり、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的にかつ前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して位置付けられるように、または、(b)そのガス出口オリフィスが、前記基材のものに対して回転され、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心としてかつ前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して、半径方向対称対様式において位置付けられる1つまたはそれを上回る平面内にあるように、位置付けられる、請求項に記載のマイクロ流体チップ。 7. The microfluidic chip of claim 6, wherein at least one of the three or more gas channels disposed in the auxiliary component is positioned such that (a) its gas exit orifice is in a plane generally perpendicular to that of the substrate and positioned symmetrically about and adjacent to the electrospray ionization orifice , or ( b ) its gas exit orifice is in one or more planes rotated relative to that of the substrate and positioned in a radially symmetric pair manner about and adjacent to the electrospray ionization orifice . 前記マイクロ流体チップは、前記流体チャネル内において、被分析物の混合物を備えるサンプルの等電点電気泳動または電気泳動分離を実施するように構成される、請求項1~7のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 1 , wherein the microfluidic chip is configured to perform isoelectric focusing or electrophoretic separation of a sample comprising a mixture of analytes in the fluid channel. 前記流体チャネルは、以下の寸法:
(a)約20μm~約600μmに及ぶ幅
(b)約10μm~約100μmに及ぶ深度、または
(c)約0.25cm~約30cmに及ぶ長さ
のうちの1つまたはそれを上回るものを有し、かつ/または、
前記ガスチャネルは、以下の寸法:
(a)約20μm~約200μmに及ぶ幅、
(b)約10μm~約100μmに及ぶ深度、または
(c)約0.2cm~約20cmに及ぶ長さ
のうちの1つまたはそれを上回るものを有する、請求項1~8のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。
The fluid channel has the following dimensions:
(a) a width ranging from about 20 μm to about 600 μm ;
(b) a depth ranging from about 10 μm to about 100 μm; or
(c) a length ranging from about 0.25 cm to about 30 cm
and /or
The gas channels have the following dimensions:
(a) a width ranging from about 20 μm to about 200 μm;
(b) a depth ranging from about 10 μm to about 100 μm; or
(c) a length ranging from about 0.2 cm to about 20 cm
The microfluidic chip according to any one of claims 1 to 8 , comprising one or more of :
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、約10μm~約100μmに及ぶ最大断面寸法を有する、請求項1~9のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 1 , wherein the electrospray ionization orifice has a maximum cross-sectional dimension ranging from about 10 μm to about 100 μm. 前記ガス出口オリフィスは、約10μm~約50μmに及ぶ最大断面寸法を有する、請求項1~10のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 1 , wherein the gas exit orifice has a maximum cross-sectional dimension ranging from about 10 μm to about 50 μm. 前記ガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスの100μm以内、50μm以内、または15μm以内に配置される、請求項1~11のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 1 , wherein the gas exit orifice is positioned within 100 μm , within 50 μm, or within 15 μm of the electrospray ionization orifice. マイクロ流体チップであって、
a)基材であって、前記基材は、
i)異なる長さの2つまたはそれを上回るガスチャネルであって、前記2つまたはそれを上回るガスチャネルのそれぞれは、ガスをガス出口オリフィスに送達するように構成される2つまたはそれを上回るガスチャネル
を備える、基材
を備え、
前記2つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つの寸法は、前記2つまたはそれを上回るガスチャネルのそれぞれが略同一流体力学的流動抵抗を有するように、その長さの一部に沿って調節される、マイクロ流体チップ。
A microfluidic chip, comprising:
a) a substrate, the substrate comprising:
i) a substrate comprising two or more gas channels of different lengths, each of the two or more gas channels configured to deliver gas to a gas exit orifice ;
A microfluidic chip, wherein a dimension of at least one of the two or more gas channels is adjusted along a portion of its length such that each of the two or more gas channels has approximately the same hydrodynamic flow resistance.
前記2つまたはそれを上回るガスチャネルのうちの少なくとも1つの断面積は、その長さの一部に沿って調節される、請求項13に記載のマイクロ流体チップ。 14. The microfluidic chip of claim 13 , wherein a cross-sectional area of at least one of the two or more gas channels is adjusted along a portion of its length. 前記2つまたはそれを上回るガスチャネルの長さにおける差異は、約1cm~約10cmに及ぶ、請求項13または請求項14に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 13 or claim 14 , wherein the difference in length of the two or more gas channels ranges from about 1 cm to about 10 cm. 前記基材はエレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える流体チャネルをさらに備える、請求項13~15のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of any one of claims 13 to 15 , wherein the substrate further comprises a fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice. 前記2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的にかつ前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置され、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスから排出される溶液の霧化を実施するように構成される、請求項16に記載のマイクロ流体チップ。 17. The microfluidic chip of claim 16, wherein the two or more gas exit orifices are positioned symmetrically about and adjacent to the electrospray ionization orifice and configured to perform atomization of a solution exiting the electrospray ionization orifice. 前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記基材の縁または角上に配置され、前記2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接する前記基材の縁上に配置される、請求項16または請求項17に記載のマイクロ流体チップ。 18. The microfluidic chip of claim 16 or claim 17, wherein the electrospray ionization orifice is located on an edge or corner of the substrate and the two or more gas exit orifices are located on the edge of the substrate adjacent to the electrospray ionization orifice . 前記マイクロ流体チップは、等電点電気泳動または電気泳動分離を実施するように構成される、請求項13~18のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of any one of claims 13 to 18 , wherein the microfluidic chip is configured to perform isoelectric focusing or electrophoretic separation. 前記ガスは、霧化装置ガスであり、前記霧化装置ガスは、空気、窒素、酸素、亜酸化窒素、フルオロウレタン、ヘリウム、アルゴン、メタノール、またはそれらの任意の組み合わせを備える、請求項13~19のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 20. The microfluidic chip of claim 13, wherein the gas is an atomizer gas , the atomizer gas comprising air, nitrogen, oxygen, nitrous oxide, fluorourethane, helium, argon, methanol, or any combination thereof . 前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスがその上に配置される前記基材の縁または前記基材の角の少なくとも一部上に、疎水性コーティングをさらに備える、請求項13~20のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of any one of claims 13 to 20 , further comprising a hydrophobic coating on at least a portion of an edge of the substrate or a corner of the substrate on which the electrospray ionization orifice is disposed. マイクロ流体チップであって、
a)基材であって、前記基材は、
i)流体入口ポートと流体連通する近位端と、エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える流体チャネルと、
ii)少なくとも2つのガスチャネルであって、前記少なくとも2つのガスチャネルのそれぞれは、ガス入口ポートと流体連通する近位端と、ガス出口オリフィスと流体連通する遠位端とを備える少なくとも2つのガスチャネルと
を備える、基材
を備え、
前記少なくとも1つの流体入口ポートおよび前記少なくとも2つのガス入口ポートは、前記基材の第1の縁に沿って配置される、マイクロ流体チップ。
A microfluidic chip, comprising:
a) a substrate, the substrate comprising:
i) a fluid channel having a proximal end in fluid communication with a fluid inlet port and a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice;
ii) at least two gas channels, each of the at least two gas channels comprising a proximal end in fluid communication with a gas inlet port and a distal end in fluid communication with a gas outlet orifice ;
The at least one fluid inlet port and the at least two gas inlet ports are disposed along a first edge of the substrate.
前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記基材の第2の縁上、または、前記第1の縁を備えない前記基材の角上に位置付けられる、請求項22に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of claim 22 , wherein the electrospray ionization orifice is positioned on a second edge of the substrate or on a corner of the substrate that does not include the first edge . 前記基材は、約2.0mm厚未満である、請求項22または請求項23のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 24. The microfluidic chip of claim 22 or claim 23, wherein the substrate is less than about 2.0 mm thick. 前記流体チャネルは、電気泳動分離または等電点電気泳動分離を実施するように構成される分離チャネルを備える、請求項22~24のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of any one of claims 22 to 24 , wherein the fluidic channels comprise a separation channel configured to perform electrophoretic or isoelectric focusing separation . 前記基材は、第1の分離チャネルと、第2の分離チャネルとを備え、前記第1の分離チャネルの遠位端は、前記第2の分離チャネルの近位端と流体連通し、前記第2の分離チャネルの遠位端は、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通し、前記第1の分離チャネルは、クロマトグラフ分離を実施するように構成され、前記第2の分離チャネルは、電気泳動分離または等電点電気泳動分離を実施するように構成される、請求項22~25のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 26. The microfluidic chip of claim 22, wherein the substrate comprises a first separation channel and a second separation channel, a distal end of the first separation channel in fluid communication with a proximal end of the second separation channel, and a distal end of the second separation channel in fluid communication with the electrospray ionization orifice, the first separation channel configured to perform a chromatographic separation, and the second separation channel configured to perform an electrophoretic separation or an isoelectric focusing separation . 前記流体チャネルは、被分析物の混合物を備えるサンプルの等電点電気泳動分離を実施するように構成される分離チャネルを備え、前記基材は、動員電解質チャネルをさらに備え、前記動員電解質チャネルは、前記分離チャネルの遠位端と流体連通し、動員電解質の電気泳動導入を前記分離チャネルの遠位端に提供するように構成される請求項22~26のいずれか1項に記載のマイクロ流体チップ。 The microfluidic chip of any one of claims 22 to 26, wherein the fluid channel comprises a separation channel configured to perform isoelectric focusing separation of a sample comprising a mixture of analytes, and the substrate further comprises a mobilization electrolyte channel, the mobilization electrolyte channel in fluid communication with a distal end of the separation channel and configured to provide electrophoretic introduction of mobilization electrolyte to the distal end of the separation channel . マイクロ流体チップからエレクトロスプレーイオン化を実施するための方法であって、
a)基材を備えるマイクロ流体チップを提供することであって、前記基材は、
i)エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を備える少なくとも1つの流体チャネルと、
ii)前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接するガス出口オリフィスにガスを送達するように構成される少なくとも1つのガスチャネルと
を備える、ことと、
b)溶液が前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスから排出されるように、前記溶液を前記少なくとも1つの流体チャネルを通して流動させることと、
c)ガスが前記ガス出口オリフィスから排出されるように、前記ガスを前記少なくとも1つのガスチャネルを通して流動させることと
を含み、
前記基材の温度は、前記少なくとも1つのガスチャネルを通して流動する前記ガスの温度によって制御される、方法。
1. A method for performing electrospray ionization from a microfluidic chip, comprising:
a) providing a microfluidic chip comprising a substrate, the substrate comprising:
i) at least one fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice;
ii) at least one gas channel configured to deliver gas to a gas exit orifice adjacent said electrospray ionization orifice;
b) flowing the solution through the at least one fluid channel such that the solution is ejected from the electrospray ionization orifice;
c) flowing a gas through the at least one gas channel such that the gas is discharged through the gas exit orifice;
A method wherein the temperature of the substrate is controlled by the temperature of the gas flowing through the at least one gas channel.
前記ガスの温度は、約4℃~約100℃に及び、前記基材の温度は、約10℃~約50℃に及ぶ、請求項28に記載の方法。 29. The method of claim 28 , wherein the temperature of the gas ranges from about 4°C to about 100°C and the temperature of the substrate ranges from about 10°C to about 50°C. 前記分離チャネルは、被分析物の混合物を備えるサンプルの等電点電気泳動分離または電気泳動分離を実施するように構成される、請求項28または請求項29に記載の方法。 30. The method of claim 28 or claim 29 , wherein the separation channel is configured to perform isoelectric focusing or electrophoretic separation of a sample comprising a mixture of analytes. 前記マイクロ流体チップがサンプルを質量分析計の中に導入するように構成されるときエレクトロスプレーイオン化性能は、総質量質量分析信号強度における1.0%または0.1%標準誤差未満の変動によって特徴付けられる、請求項28~30のいずれか1項に記載の方法。 31. The method of any one of claims 28 to 30, wherein when the microfluidic chip is configured to introduce a sample into a mass spectrometer , the electrospray ionization performance is characterized by less than 1.0% or 0.1% standard error variation in total mass spectrometric signal intensity. 安定エレクトロスプレーイオン化性能を提供するための方法であって、
a)基材を備えるマイクロ流体チップを提供することであって、前記基材は、(i)エレクトロスプレーイオン化オリフィスと流体連通する遠位端を有する流体チャネルと、(ii)ガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を有するガスチャネルとを備える、ことと、
b)溶液を前記流体チャネルを通して流動させることと、
c)ガスを前記ガスチャネルを通して流動させることと、
d)前記ガスおよび溶液に関する体積流率の比が1000:1~1,000,000:1に及ぶように、または、前記ガス出口オリフィスにおける前記ガスに関する流速および前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスにおける前記溶液に関する流速の比が、100:1~1,000,000:1に及ぶように、前記ガスの流率および前記溶液の流率を制御することと
を含む、方法。
1. A method for providing stable electrospray ionization performance, comprising:
a) providing a microfluidic chip comprising a substrate comprising: (i) a fluid channel having a distal end in fluid communication with an electrospray ionization orifice; and (ii) a gas channel having a distal end in fluid communication with a gas exit orifice;
b) flowing a solution through said fluid channel;
c) flowing a gas through said gas channel;
d) controlling the flow rates of the gas and the solution such that the ratio of volumetric flow rates for the gas and the solution ranges from 1000:1 to 1,000,000:1, or such that the ratio of the flow rate for the gas at the gas exit orifice and the flow rate for the solution at the electrospray ionization orifice ranges from 100:1 to 1,000,000:1 .
前記溶液の流動は、圧力、重力、動電力、またはそれらの任意の組み合わせによって制御され、前記ガスの流動は、圧縮ガス源によって提供される、請求項32に記載の方法。 33. The method of claim 32 , wherein the flow of the solution is controlled by pressure, gravity, electrokinetic force, or any combination thereof , and the flow of gas is provided by a compressed gas source. 前記溶液に関する体積流率は、25μL/分未満である、請求項32または33のいずれか1項に記載の方法。 34. The method of any one of claims 32 or 33, wherein the volumetric flow rate for the solution is less than 25 μL/min. 前記マイクロ流体チップは、2つまたはそれを上回るガスチャネルを備え、それぞれがガス出口オリフィスと流体連通する遠位端を備え、前記2つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスを中心として対称的にかつ前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置される、請求項32~34のいずれか1項に記載の方法。 35. The method of any one of claims 32 to 34, wherein the microfluidic chip comprises two or more gas channels, each with a distal end in fluid communication with a gas exit orifice, the two or more gas exit orifices positioned symmetrically about and adjacent to the electrospray ionization orifice . 前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスは、前記基材の縁または角上に配置され、前記1つまたはそれを上回るガス出口オリフィスは、前記基材の縁上の前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスに隣接して配置される、請求項32~35のいずれか1項に記載の方法。 36. The method of any one of claims 32 to 35, wherein the electrospray ionization orifice is located on an edge or corner of the substrate, and the one or more gas exit orifices are located adjacent to the electrospray ionization orifice on the edge of the substrate . 前記マイクロ流体チップがサンプルを質量分析計の中に導入するように構成されるときエレクトロスプレーイオン化性能は、総質量質量分析信号強度における1.0%または0.1%標準誤差未満の変動によって特徴付けられる、請求項32~36のいずれか1項に記載の方法。 37. The method of any one of claims 32 to 36, wherein when the microfluidic chip is configured to introduce a sample into a mass spectrometer , the electrospray ionization performance is characterized by less than 1.0% or 0.1% standard error variation in total mass spectrometric signal intensity. 前記ガス出口オリフィスにおける前記ガスに関する流速および前記エレクトロスプレーイオン化オリフィスにおける前記溶液に関する流速の比は、500:1~5,000:1または1,000:1~3,000:1に及ぶ、請求項32~37のいずれか1項に記載の方法。 38. The method of any one of claims 32 to 37, wherein the ratio of the flow rate for the gas at the gas exit orifice and the flow rate for the solution at the electrospray ionization orifice ranges from 500:1 to 5,000:1 or from 1,000:1 to 3,000:1 . マイクロ流体カートリッジであって、
a)マイクロ流体チップであって、前記マイクロ流体チップは、前記マイクロ流体チップの縁上に配置される少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートを備えるマイクロ流体チップと、
b)前記マイクロ流体チップと流体連通し、前記マイクロ流体チップの少なくとも一部を包含するように構成されるマイクロ流体カートリッジ構成要素であって、前記マイクロ流体カートリッジ構成要素は、前記マイクロ流体チップの前記少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートと整合する少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートを備える、マイクロ流体カートリッジ構成要素と
を備える、マイクロ流体カートリッジ。
1. A microfluidic cartridge comprising:
a) a microfluidic chip comprising at least one fluid port and at least two gas ports disposed on an edge of the microfluidic chip ;
b) a microfluidic cartridge component in fluid communication with the microfluidic chip and configured to contain at least a portion of the microfluidic chip, the microfluidic cartridge component comprising at least one fluid port and at least two gas ports that align with the at least one fluid port and at least two gas ports of the microfluidic chip.
前記マイクロ流体チップの縁と前記カートリッジの表面との間に配置される1つまたはそれを上回るエラストマ構成要素をさらに備え、前記1つまたはそれを上回るエラストマ構成要素は、力の印加に応じて、前記マイクロ流体チップの前記少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートと前記マイクロ流体カートリッジ構成要素の前記少なくとも1つの流体ポートおよび少なくとも2つのガスポートとの間に実質的無漏出シールを形成する、請求項39に記載のマイクロ流体カートリッジ。 40. The microfluidic cartridge of claim 39, further comprising one or more elastomeric components disposed between an edge of the microfluidic chip and a surface of the cartridge, the one or more elastomeric components forming a substantially leak-free seal between the at least one fluid port and at least two gas ports of the microfluidic chip and the at least one fluid port and at least two gas ports of the microfluidic cartridge component upon application of a force. 前記マイクロ流体チップの縁は、約2.0mm厚未満である、請求項39または請求項40に記載のマイクロ流体カートリッジ。 41. A microfluidic cartridge according to claim 39 or claim 40 , wherein the edge of the microfluidic chip is less than about 2.0 mm thick. システムであって、
a)2つまたはそれを上回る流体ポートを備え、前記システムから除去可能であるように構成されるマイクロ流体カートリッジと、
b)2つまたはそれを上回る流体相互接続を備える器具と
を備え、
前記2つまたはそれを上回る流体相互接続のそれぞれは、前記2つまたはそれを上回る流体相互接続および前記マイクロ流体カートリッジの前記2つまたはそれを上回る流体ポートを備えるアセンブリへの力の印加に応じて、前記器具の流体ラインと前記マイクロ流体カートリッジの流体ポートとの間に実質的無漏出流体継手を提供するように構成され、
前記実質的無漏出流体継手は、2つまたはそれを上回る流体ラインのうちの2つ内の相対的流体圧力が少なくとも10倍変動するときに維持される、システム。
1. A system comprising:
a) a microfluidic cartridge comprising two or more fluid ports and configured to be removable from the system;
b) an instrument comprising two or more fluid interconnections;
each of the two or more fluid interconnects is configured to provide a substantially leak-free fluid coupling between a fluid line of the instrument and a fluid port of the microfluidic cartridge upon application of a force to an assembly comprising the two or more fluid interconnects and the two or more fluid ports of the microfluidic cartridge;
A system wherein the substantially leak-free fluid coupling is maintained when the relative fluid pressure within two of the two or more fluid lines varies by at least a factor of 10.
前記実質的無漏出流体継手は、前記2つまたはそれを上回る流体ラインのうちの2つ内の前記相対的流体圧力が少なくとも100倍変動するときに維持される、請求項42に記載のシステム。 43. The system of claim 42 , wherein the substantially leak-free fluid coupling is maintained when the relative fluid pressure within two of the two or more fluid lines varies by at least a factor of 100. 前記2つまたはそれを上回る流体相互接続のそれぞれは、独立してばね荷重された継手を備える、請求項42または請求項43に記載のシステム。 44. The system of claim 42 or claim 43 , wherein each of the two or more fluid interconnects comprises an independently spring-loaded coupling. 前記独立してばね荷重された継手は、前記マイクロ流体カートリッジ内に孔を備える流体ポートと噛合する平坦面シール継手を備える、請求項44に記載のシステム。 45. The system of claim 44 , wherein the independently spring-loaded fitting comprises a flat face seal fitting that mates with a fluid port that comprises a hole in the microfluidic cartridge. 等電点電気泳動が、流体を前記流体入口ポートから前記分離チャネルを通して流動させながら実施される、請求項25または26に記載のマイクロ流体チップ。
27. The microfluidic chip of claim 25 or 26 , wherein isoelectric focusing is performed while flowing fluid from the fluid inlet port through the separation channel.
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