JPWO2021127657A5 - - Google Patents
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Description
代わりの構成において、水素は、（搬送ガス及び／又は捕捉ガスに特異的なガス源等の）アルゴンに予混合される。いくつかのＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳシステムにおいて、アルゴンは、除去されたプルーム用の捕捉ガスとして使用可能である。ＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳに加えて、マスサイトメトリー器具において。ネオンはまた、法外な費用がかかることもあるが、いくつかの用途で検討可能である。さらに別の代わりとなる構成において、アルゴンに予混合される水素は、搬送ガスに添加される。搬送ガスは、総インジェクタ流の部分であり、プルームを搬送するアブレーション捕捉ガスと混合される。Ｈ２／アルゴン予混合物を搬送ガス流に添加することで、ユーザは、純粋なアルゴンとＨ２／Ａｒ予混合物の比率を変えられ、最適アルゴン流を独立して制御する一方、インジェクタへのＨ２の全体流れを制御できる。言い換えれば、予混合物の流れは、Ｈ２の質量流を制御し、予混合物の流れと残りのアルゴン流は、搬送ガスの総アルゴン流を制御する。インジェクタの出力での総アルゴン流は、最適プラズマ温度と最大感度を達成するように、入念に調整される必要がある。Ｈ２のレベルは、その後、感度の改善用に第二の寸法を提供する。提案されるＨ２／アルゴンの予混合物は、低濃度の水素で、可燃限界未満である。この装置は、予混合ガスの追加のシリンダと独立した追加の質量流制御装置が、予混合物の流れに必要であるという不具合がある。しかし、この装置の利点は、所定の器具とプラズマ条件に対し、総流れの水素部分を独立して制御し調整する能力である。例えば、この配列は、Ｈ２／ヘリウム予混合物をプランＡとすると、Ｄｅｕｔｅｒｉｕｍ計画用のプランＢとみなされる。Ｈ２／ヘリウム混合物は、独立したＨ２流れ制御の欠如の典型的に重要度の低い制限による、低コストで簡便な解決法である。
以下に、本発明の例を示す。
（例１）
装置であって、
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
プラズマ源と、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、前記プラズマ源まで搬送するように構成されたインジェクタと、を具備し、
前記プラズマ源と前記試料ステージのうち少なくとも一つは、互いに直交して配向される、装置。
（例２）
前記インジェクタは、硬質である、例１に記載の装置。
（例３）
前記インジェクタは、直線状である、例１または２に記載の装置。
（例４）
前記インジェクタの内径は、１ｍｍ未満である、例１～３のいずれか一項に記載の装置。
（例５）
前記インジェクタの長さは、１０ｃｍ未満である、例１～４のいずれか一項に記載の装置。
（例６）
前記インジェクタの長さは、５ｃｍ未満である、例５に記載の装置。
（例７）
前記装置は、前記インジェクタが通過しない経路上にレーザーを向けるように構成される、例１～６のいずれか一項に記載の装置。
（例８）
前記装置は、毎秒少なくとも１０００個の異なるアブレーションプルームをＩＣＰ源に送達するように作動可能である、例１～７のいずれか一項に記載の装置。
（例９）
質量分析計をさらに具備する、例１～８のいずれか一項に記載の装置。
（例１０）
前記質量分析計は、飛行時間質量分析計である、例９に記載の装置。
（例１１）
前記質量分析計は、イオンの垂直ビームを受けるように構成される、例９または１０に記載の装置。
（例１２）
前記試料ステージは垂直であり、垂直位置に移動するように作動可能である、例１～１１のいずれか一項に記載の装置。
（例１３）
前記プラズマ源は、垂直に配向される、例１～１１のいずれか一項に記載の装置。
（例１４）
前記プラズマ源は、真空密閉されるが、前記プラズマ源までのインジェクタの流入部は除外される、例１３に記載の装置。
（例１５）
前記プラズマ源は、ＩＣＰ源である、例１～１４のいずれか一項に記載の装置。
（例１６）
例１～１５のいずれか一項に記載の装置を使用して、試料をＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳにより分析することを含む、方法。
（例１７）
前記試料は、生体試料である、例１６に記載の方法。
（例１８）
前記試料は、標識原子を含む、例１７に記載の方法。
（例１９）
前記試料をＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳにより分析する前に、前記試料を標識原子で標識することをさらに含む、例１８に記載の方法。
（例２０）
毎秒少なくとも１０００個の異なるアブレーションプルームが分析される、例１６～１９のいずれか一項に記載の方法。
（例２１）
装置であって、
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）トーチと、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、前記ＩＣＰトーチまで搬送するように構成されたインジェクタと、
ヘリウムとアルゴンのうち少なくとも一つと混合した水素ガスを含む圧縮予混合ガス源と、を具備する、装置。
（例２２）
前記圧縮予混合ガス源中の前記水素ガスは、０．１％超で、水素の可燃限界未満である、例２１に記載の装置。
（例２３）
水素ガスは、１体積％～４体積％である、例２１に記載の圧縮予混合ガス源。
（例２４）
前記圧縮予混合ガス源は、少なくとも５０体積％のヘリウムを含む、例２１、２２または２３に記載の装置。
（例２５）
前記圧縮予混合ガス源は、少なくとも５０体積％のアルゴンを含む、例２１、２２または２３に記載の装置。
（例２６）
前記圧縮予混合ガス源は、ガスを、前記試料ステージを含むアブレーションチャンバに供給する、例２１～２５のいずれか一項に記載の装置。
（例２７）
前記予混合ガス源は、前記アブレーションプルームを前記インジェクタ内に搬送する捕捉ガスを提供する、例２１～２６のいずれか一項に記載の装置。
（例２８）
追加のガス源は、搬送ガスを前記インジェクタに提供し、前記捕捉ガスは、前記アブレーションプルームを前記インジェクタ内の前記搬送ガスに引き上げる、例２７に記載の装置。
（例２９）
前記搬送ガスは、アルゴンを含み、前記捕捉ガスは、ヘリウムと水素ガスの混合物を含む、例２８に記載の装置。
（例３０）
別個の捕捉ガスおよび搬送ガスは存在しない、例２７に記載の装置。
（例３１）
前記インジェクタは、レーザーアブレーションプルームを垂直ＩＣＰトーチに向ける、例２１～３０のいずれか一項に記載の装置。
（例３２）
前記搬送ガスを前記インジェクタに提供する追加のガス源をさらに含む、例２１～２９のいずれか一項に記載の装置。
（例３３）
前記追加のガス源は、少なくとも５０体積％のアルゴンを含み、前記予混合ガス源は、少なくとも５０体積％のヘリウムを含む、例３２に記載の装置。
（例３４）
前記追加のガス源は、液デュワーである、例２１～３３のいずれか一項に記載の装置。
（例３５）
前記圧縮予混合ガス源は、メイクアップ流を、前記レーザーアブレーションプルームが前記インジェクタに入る下流で前記インジェクタに導入するように構成される、例２１～３４のいずれか一項に記載の装置。
（例３６）
前記メイクアップ流は、犠牲流れの下流で導入される、例３５に記載の装置。
（例３７）
前記装置は、犠牲流れを含まない、例３６に記載の装置。
（例３８）
前記圧縮予混合ガス源は、捕捉ガス、搬送ガス、および内部トーチガスのうち少なくとも一つを提供する、例２１～３４のいずれか一項に記載の装置。
（例３９）
前記ＩＣＰトーチへの水素ガス流を、０．００１Ｌ／分～０．１Ｌ／分で提供するように構成された、例２１～３８のいずれか一項に記載の装置。
（例４０）
前記ＩＣＰトーチへの水素ガス流を、０．００１Ｌ／分～０．０２Ｌ／分で提供するように構成された、例３９に記載の装置。
（例４１）
水素ガスを、前記ＩＣＰトーチへの総ガス流の０．００２％～１％で提供するようにさらに構成された、例２１～４０のいずれか一項に記載の装置。
（例４２）
前記装置は、水素ガスを、前記ＩＣＰトーチへの総ガス流の０．０１％～０．１％で提供するように構成される、例４１に記載の装置。
（例４３）
前記ＩＣＰトーチへの総ガス流は、５～３０Ｌ／分である、例４１または４２に記載の装置。
（例４４）
前記ＩＣＰトーチにより生成されたイオン化された原子を検出するように構成された質量分析計をさらに具備する、例２１～４３のいずれか一項に記載の装置。
（例４５）
前記質量分析計は、少なくとも質量８０ａｍｕ以下のイオンを除去するように構成された高パスフィルタを具備する、例４４に記載の装置。
（例４６）
前記ＩＣＰトーチは、前記ＩＣＰトーチが前記レーザーアブレーション源から分離される細胞懸濁モードで、すべての細胞を微粒子化およびイオン化するように構成される、例２１～４５のいずれか一項に記載の装置。
（例４７）
ガス流を加湿するように構成された加湿システムをさらに具備する、例２１～４６のいずれか一項に記載の装置。
（例４８）
加湿された前記ガス流は、搬送ガス流である、例４７に記載の装置。
（例４９）
例２１～４８のいずれか一項に記載の装置を使用して、試料をＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳにより分析することを含む、方法。
（例５０）
前記試料は、生体試料である、例４９に記載の方法。
（例５１）
前記試料は、標識原子を含む、例５０に記載の方法。
（例５２）
前記試料をＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳにより分析する前に、前記試料を標識原子で標識することをさらに含む、例５１に記載の方法。
（例５３）
さらに、３％超の平均酸化物スピルオーバーを有する標識原子は存在しない、例５２に記載の方法。
（例５４）
前記水素ガスは、感度の少なくとも２０％増加を、少なくともいくつかの標識原子に提供する、例４９～５３のいずれか一項に記載の方法。
（例５５）
前記水素ガスは、感度の少なくとも５０％増加を、少なくともいくつかの標識原子に提供する、例５４に記載の方法。
（例５６）
任意の所定の５分の期間での標識原子に対する平均感度は、前記試料を分析する少なくとも１時間にわたって１０％超変化しない、例４９～５５のいずれか一項に記載の方法。
（例５７）
誘導結合プラズマ装置のための圧縮予混合ガス源であって、
少なくとも５０体積％のヘリウムまたはアルゴンと、
０．１体積％～５体積％の水素ガスと、を含む、圧縮予混合ガス源。
（例５８）
少なくとも５０体積％のヘリウムを含む、例５７に記載の圧縮予混合ガス源。
（例５９）
少なくとも５０体積％のアルゴンを含む、例５７に記載の圧縮予混合ガス源。
（例６０）
水素ガスは、１体積％～４体積％である、例５５、５６、または５７に記載の圧縮予混合ガス源。
（例６１）
誘導結合プラズマ装置のための圧縮予混合ガス源であって、
少なくとも５０体積％のヘリウムまたはアルゴンと、
少なくとも０．１体積％のガスであって、元素水素を含む、ガスと、を含む、圧縮予混合ガス源。
（例６２）
前記ガスは、メタン、アンモニアまたは水素ガスである、例６１に記載の圧縮予混合ガス源。
（例６３）
装置であって、
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）源と、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、ＩＣＰトーチまで搬送するように構成されたインジェクタと、
ガス流を加湿するように構成された加湿システムと、を具備する、装置。
（例６４）
前記ガス流は、搬送ガス流を含む、例６３に記載の装置。
（例６５）
前記ガス流は、捕捉ガス流を含む、例６３または６４に記載の装置。
（例６６）
前記ガス流は、メイクアップガス流を含む、例６３～６５のいずれか一項に記載の装置。
（例６７）
前記ガス流は、補助ガス流を含む、例６３～６６のいずれか一項に記載の装置。
（例６８）
前記ガス流は、少なくとも５０％のアルゴンを含む、例６３～６７のいずれか一項に記載の装置。
（例６９）
前記加湿システムは、水拡散配管を具備する、例６３～６８のいずれか一項に記載の装置。
（例７０）
前記加湿システムは、前記水拡散配管の温度を制御する、例６９に記載の装置。
（例７１）
前記水拡散配管の周りにガス流を方向転換するように調整可能な可変スプリッタをさらに具備する、例６９または７０に記載の装置。
（例７２）
湿度レベルを維持するため、前記水拡散配管の周りにガス流を方向転換するようにともに構成された制御装置および湿度センサをさらに具備する、例６９～７２のいずれか一項に記載の装置。
（例７３）
前記加湿システムは、水を前記ガス流に直接噴射するように構成された水ポンプを具備する、例６３～６８のいずれか一項に記載の装置。
（例７４）
例６３～７３のいずれか一項に記載の装置を使用して、試料をＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳにより分析することを含む、方法。
（例７５）
前記試料は、生体試料である、例７４に記載の方法。
（例７６）
前記試料は、標識原子を含む、例７５に記載の方法。
（例７７）
前記試料をＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳにより分析する前に、前記試料を標識原子で標識することをさらに含む、例７６に記載の方法。
（例７８）
３％超の平均酸化物スピルオーバーを有する標識原子は存在しない、例７６または７７に記載の方法。
（例７９）
前記加湿は、感度の少なくとも２０％増加を、少なくともいくつかの標識原子に提供する、例７６、７７または７８に記載の方法。
（例８０）
前記加湿は、感度の少なくとも５０％増加を、少なくともいくつかの標識原子に提供する、例７９に記載の方法。
（例８１）
任意の所定の５分の期間での標識原子に対する平均感度は、前記試料を分析する少なくとも１時間にわたって１０％超変化しない、例７３～８０のいずれか一項に記載の方法。
（例８２）
装置であって、
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）トーチと、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、前記ＩＣＰトーチまで搬送するように構成されたインジェクタと、
ヘリウムとアルゴンのうち少なくとも一つと混合した水素含有ガスを含む圧縮予混合ガス源と、を具備する、装置。
（例８３）
前記水素含有ガスは、メタン、アンモニア、または水素ガスである、例８２に記載の装置。
（例８４）
装置であって、
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）源と、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、ＩＣＰトーチまで搬送するように構成されたインジェクタと、を具備し、
前記装置は、レーザーアブレーションＩＣＰ質量分析用の作動中に、水素含有分子を、前記ＩＣＰトーチのプラズマに供給するように構成される、装置。
（例８５）
前記装置は、水素ガス流を含む蒸気を供給するように構成される、例８４に記載の装置。
（例８６）
前記蒸気は、水蒸気またはアルコール蒸気を含む、例８４または８５に記載の装置。
（例８７）
前記蒸気は、水蒸気を含む、例８６に記載の装置。
（例８８）
前記蒸気は、アルコールを含む、例８６に記載の装置。
（例８９）
前記アルコールは、エタノールである、例８８に記載の装置。
（例９０）
例８４～８９のいずれか一項に記載の装置を使用して、試料をＬＡ－ＩＣＰ－ＭＳにより分析することを含む、方法。
（例９１）
装置であって、
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
質量分析計に結合された誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）トーチと、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、前記ＩＣＰトーチまで搬送するように構成されたインジェクタと、を具備し、
前記ＩＣＰトーチは、前記ＩＣＰトーチが前記レーザーアブレーション源から分離される細胞懸濁モードで、すべての細胞を微粒子化およびイオン化するように構成され、
前記装置は、レーザーアブレーションＩＣＰ質量分析用の作動中であるが、前記細胞懸濁モード中ではない状態で、水素含有分子を、前記ＩＣＰトーチのプラズマに供給するように構成される、装置。
In an alternative configuration, hydrogen is premixed with argon (such as a gas source specific to the carrier gas and/or capture gas). In some LA-ICP-MS systems, argon can be used as a trap gas for the removed plume. In addition to LA-ICP-MS, in mass cytometry instruments. Neon can also be considered for some applications, although it can be cost-prohibitive. In yet another alternative configuration, hydrogen premixed with argon is added to the carrier gas. The carrier gas is part of the total injector flow and is mixed with the ablation capture gas that carries the plume. Adding the H2/Argon premix to the carrier gas stream allows the user to vary the ratio of pure argon to H2/Ar premix, independently controlling the optimal argon flow while controlling the overall H2 to the injector. You can control the flow. In other words, the premix flow controls the mass flow of H2, and the premix flow and the remaining argon flow control the total argon flow of the carrier gas. The total argon flow at the output of the injector needs to be carefully adjusted to achieve optimal plasma temperature and maximum sensitivity. The level of H2 then provides a second dimension for sensitivity improvement. The proposed H2/argon premix has a low concentration of hydrogen, below the flammability limit. This device suffers from the disadvantage that an additional cylinder of premix gas and an additional mass flow controller independent of the premix flow are required. However, the advantage of this device is the ability to independently control and adjust the hydrogen portion of the total flow for a given instrument and plasma conditions. For example, this arrangement would be considered Plan B for the Deuterium program, with Plan A being the H2/Helium premix. H2/helium mixtures are a low cost and convenient solution due to the typically minor limitation of the lack of independent H2 flow control.
Examples of the present invention are shown below.
(Example 1)
A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
a plasma source;
an injector configured to transport an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to the plasma source;
The apparatus, wherein at least one of the plasma source and the sample stage are oriented orthogonally to each other.
(Example 2)
The device according to example 1, wherein the injector is rigid.
(Example 3)
3. The device according to example 1 or 2, wherein the injector is linear.
(Example 4)
Apparatus according to any one of examples 1 to 3, wherein the inner diameter of the injector is less than 1 mm.
(Example 5)
Apparatus according to any one of examples 1 to 4, wherein the length of the injector is less than 10 cm.
(Example 6)
The device according to example 5, wherein the length of the injector is less than 5 cm.
(Example 7)
Apparatus according to any one of Examples 1 to 6, wherein the apparatus is configured to direct the laser onto a path that is not traversed by the injector.
(Example 8)
8. The device of any one of Examples 1-7, wherein the device is operable to deliver at least 1000 different ablation plumes per second to the ICP source.
(Example 9)
The apparatus according to any one of Examples 1 to 8, further comprising a mass spectrometer.
(Example 10)
The apparatus of Example 9, wherein the mass spectrometer is a time-of-flight mass spectrometer.
(Example 11)
11. The apparatus of example 9 or 10, wherein the mass spectrometer is configured to receive a vertical beam of ions.
(Example 12)
Apparatus according to any one of Examples 1 to 11, wherein the sample stage is vertical and operable to move to a vertical position.
(Example 13)
Apparatus according to any one of Examples 1 to 11, wherein the plasma source is vertically oriented.
(Example 14)
14. The apparatus of example 13, wherein the plasma source is vacuum sealed, but the inlet of an injector to the plasma source is excluded.
(Example 15)
Apparatus according to any one of Examples 1 to 14, wherein the plasma source is an ICP source.
(Example 16)
A method comprising analyzing a sample by LA-ICP-MS using the apparatus according to any one of Examples 1-15.
(Example 17)
17. The method of Example 16, wherein the sample is a biological sample.
(Example 18)
18. The method of Example 17, wherein the sample comprises labeled atoms.
(Example 19)
The method of Example 18, further comprising labeling the sample with a labeled atom before analyzing the sample by LA-ICP-MS.
(Example 20)
20. The method of any one of Examples 16-19, wherein at least 1000 different ablation plumes are analyzed per second.
(Example 21)
A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
an inductively coupled plasma (ICP) torch;
an injector configured to convey an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to the ICP torch;
a compressed premixed gas source comprising hydrogen gas mixed with at least one of helium and argon.
(Example 22)
22. The apparatus of Example 21, wherein the hydrogen gas in the compressed premixed gas source is greater than 0.1% and below the flammability limit of hydrogen.
(Example 23)
The compressed premixed gas source of Example 21, wherein the hydrogen gas is 1% to 4% by volume.
(Example 24)
24. The apparatus of example 21, 22 or 23, wherein the compressed premixed gas source comprises at least 50% by volume helium.
(Example 25)
24. The apparatus of example 21, 22 or 23, wherein the compressed premixed gas source comprises at least 50% argon by volume.
(Example 26)
26. The apparatus of any one of Examples 21-25, wherein the source of compressed premixed gas supplies gas to an ablation chamber that includes the sample stage.
(Example 27)
27. The apparatus of any one of Examples 21-26, wherein the premixed gas source provides a trapping gas that conveys the ablation plume into the injector.
(Example 28)
28. The apparatus of example 27, wherein an additional gas source provides a carrier gas to the injector, and the captured gas pulls the ablation plume up to the carrier gas within the injector.
(Example 29)
29. The apparatus of Example 28, wherein the carrier gas includes argon and the capture gas includes a mixture of helium and hydrogen gas.
(Example 30)
28. The apparatus of example 27, wherein there are no separate capture and carrier gases.
(Example 31)
31. The apparatus of any one of Examples 21-30, wherein the injector directs a laser ablation plume into a vertical ICP torch.
(Example 32)
30. The apparatus of any one of Examples 21-29, further comprising an additional gas source for providing the carrier gas to the injector.
(Example 33)
33. The apparatus of Example 32, wherein the additional gas source includes at least 50% argon by volume and the premixed gas source includes at least 50% helium by volume.
(Example 34)
Apparatus according to any one of Examples 21 to 33, wherein the additional gas source is a liquid dewar.
(Example 35)
35. The apparatus of any one of Examples 21-34, wherein the compressed premixed gas source is configured to introduce a make-up flow into the injector downstream of the laser ablation plume entering the injector.
(Example 36)
36. The apparatus of example 35, wherein the make-up flow is introduced downstream of the sacrificial flow.
(Example 37)
37. The apparatus of Example 36, wherein the apparatus does not include a sacrificial flow.
(Example 38)
35. The apparatus of any one of Examples 21-34, wherein the compressed premixed gas source provides at least one of a trap gas, a carrier gas, and an internal torch gas.
(Example 39)
39. The apparatus of any one of Examples 21-38, configured to provide a flow of hydrogen gas to the ICP torch at between 0.001 L/min and 0.1 L/min.
(Example 40)
The apparatus of Example 39, configured to provide a flow of hydrogen gas to the ICP torch at 0.001 L/min to 0.02 L/min.
(Example 41)
41. The apparatus of any one of Examples 21-40, further configured to provide hydrogen gas at 0.002% to 1% of the total gas flow to the ICP torch.
(Example 42)
42. The apparatus of Example 41, wherein the apparatus is configured to provide hydrogen gas at 0.01% to 0.1% of the total gas flow to the ICP torch.
(Example 43)
43. The apparatus of example 41 or 42, wherein the total gas flow to the ICP torch is between 5 and 30 L/min.
(Example 44)
44. The apparatus of any one of Examples 21-43, further comprising a mass spectrometer configured to detect ionized atoms produced by the ICP torch.
(Example 45)
45. The apparatus of Example 44, wherein the mass spectrometer comprises a high pass filter configured to remove ions having a mass of at least 80 amu or less.
(Example 46)
46. The ICP torch is configured to micronize and ionize all cells in a cell suspension mode where the ICP torch is separated from the laser ablation source. Device.
(Example 47)
47. The apparatus according to any one of Examples 21 to 46, further comprising a humidification system configured to humidify the gas stream.
(Example 48)
48. The apparatus of example 47, wherein the humidified gas stream is a carrier gas stream.
(Example 49)
A method comprising analyzing a sample by LA-ICP-MS using the apparatus according to any one of Examples 21-48.
(Example 50)
50. The method of Example 49, wherein the sample is a biological sample.
(Example 51)
51. The method of Example 50, wherein the sample includes labeled atoms.
(Example 52)
The method of Example 51, further comprising labeling the sample with a labeled atom before analyzing the sample by LA-ICP-MS.
(Example 53)
Further, the method of Example 52, wherein there are no labeled atoms with an average oxide spillover of greater than 3%.
(Example 54)
54. The method of any one of Examples 49-53, wherein the hydrogen gas provides at least some labeled atoms with at least a 20% increase in sensitivity.
(Example 55)
55. The method of Example 54, wherein the hydrogen gas provides at least a 50% increase in sensitivity to at least some labeled atoms.
(Example 56)
56. The method of any one of Examples 49-55, wherein the average sensitivity for labeled atoms in any given 5 minute period does not change by more than 10% over at least 1 hour of analyzing the sample.
(Example 57)
A compressed premixed gas source for an inductively coupled plasma device, the source comprising:
at least 50% by volume helium or argon;
0.1% to 5% by volume of hydrogen gas.
(Example 58)
The compressed premixed gas source of Example 57, comprising at least 50% helium by volume.
(Example 59)
The compressed premixed gas source of Example 57, comprising at least 50% argon by volume.
(Example 60)
The compressed premixed gas source of Example 55, 56, or 57, wherein the hydrogen gas is 1% to 4% by volume.
(Example 61)
A compressed premixed gas source for an inductively coupled plasma device, the source comprising:
at least 50% by volume helium or argon;
A source of compressed premixed gas comprising at least 0.1% by volume of the gas, the gas comprising elemental hydrogen.
(Example 62)
The compressed premixed gas source of Example 61, wherein the gas is methane, ammonia or hydrogen gas.
(Example 63)
A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
an inductively coupled plasma (ICP) source;
an injector configured to convey an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to an ICP torch;
a humidification system configured to humidify a gas flow.
(Example 64)
64. The apparatus of example 63, wherein the gas stream comprises a carrier gas stream.
(Example 65)
65. The apparatus of example 63 or 64, wherein the gas stream comprises a trapped gas stream.
(Example 66)
66. The apparatus of any one of Examples 63-65, wherein the gas flow comprises a make-up gas flow.
(Example 67)
67. The apparatus of any one of Examples 63-66, wherein the gas stream comprises an auxiliary gas stream.
(Example 68)
Apparatus according to any one of Examples 63 to 67, wherein the gas stream comprises at least 50% argon.
(Example 69)
69. The apparatus according to any one of Examples 63 to 68, wherein the humidification system comprises water diffusion piping.
(Example 70)
70. The apparatus of example 69, wherein the humidification system controls the temperature of the water diffusion piping.
(Example 71)
71. The apparatus of example 69 or 70, further comprising a variable splitter adjustable to redirect gas flow around the water diffusion piping.
(Example 72)
73. The apparatus of any one of Examples 69-72, further comprising a controller and a humidity sensor, both configured to redirect gas flow around the water diffusion piping to maintain humidity levels.
(Example 73)
69. The apparatus of any one of Examples 63-68, wherein the humidification system comprises a water pump configured to inject water directly into the gas stream.
(Example 74)
A method comprising analyzing a sample by LA-ICP-MS using the apparatus according to any one of Examples 63-73.
(Example 75)
75. The method of Example 74, wherein the sample is a biological sample.
(Example 76)
76. The method of Example 75, wherein the sample comprises labeled atoms.
(Example 77)
77. The method of Example 76, further comprising labeling the sample with a labeled atom before analyzing the sample by LA-ICP-MS.
(Example 78)
78. The method of Example 76 or 77, wherein there are no labeled atoms with an average oxide spillover of greater than 3%.
(Example 79)
79. The method of example 76, 77 or 78, wherein said humidification provides at least a 20% increase in sensitivity to at least some labeled atoms.
(Example 80)
80. The method of Example 79, wherein the humidification provides at least a 50% increase in sensitivity to at least some labeled atoms.
(Example 81)
81. The method of any one of Examples 73-80, wherein the average sensitivity for labeled atoms in any given 5 minute period does not change by more than 10% over at least 1 hour of analyzing the sample.
(Example 82)
A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
an inductively coupled plasma (ICP) torch;
an injector configured to convey an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to the ICP torch;
a compressed premixed gas source comprising a hydrogen-containing gas mixed with at least one of helium and argon.
(Example 83)
83. The apparatus of Example 82, wherein the hydrogen-containing gas is methane, ammonia, or hydrogen gas.
(Example 84)
A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
an inductively coupled plasma (ICP) source;
an injector configured to convey an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to an ICP torch;
The apparatus is configured to supply hydrogen-containing molecules to the plasma of the ICP torch during operation for laser ablation ICP mass spectrometry.
(Example 85)
85. The apparatus of example 84, wherein the apparatus is configured to supply steam comprising a stream of hydrogen gas.
(Example 86)
86. The apparatus of example 84 or 85, wherein the vapor comprises water vapor or alcohol vapor.
(Example 87)
87. The apparatus of Example 86, wherein the steam comprises water vapor.
(Example 88)
87. The apparatus of Example 86, wherein the vapor comprises alcohol.
(Example 89)
89. The apparatus of Example 88, wherein the alcohol is ethanol.
(Example 90)
A method comprising analyzing a sample by LA-ICP-MS using the apparatus according to any one of Examples 84-89.
(Example 91)
A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
an inductively coupled plasma (ICP) torch coupled to a mass spectrometer;
an injector configured to convey an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to the ICP torch;
the ICP torch is configured to micronize and ionize all cells in a cell suspension mode where the ICP torch is separated from the laser ablation source;
The apparatus is configured to supply hydrogen-containing molecules to the plasma of the ICP torch while the apparatus is in operation for laser ablation ICP mass spectrometry, but not in the cell suspension mode.
Claims (36)
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）トーチと、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、前記ＩＣＰトーチまで搬送するように構成されたインジェクタと、
ヘリウムとアルゴンのうち少なくとも一つと混合した水素ガスを含む圧縮予混合ガス源と、を具備する、装置。 A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
an inductively coupled plasma (ICP) torch;
an injector configured to convey an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to the ICP torch;
a compressed premixed gas source comprising hydrogen gas mixed with at least one of helium and argon.
試料を少なくとも二つの方向に移動するように構成された試料ステージと、
前記試料ステージ上に取り付けられた試料を除去するように構成されたレーザーアブレーション源と、
質量分析計に結合された誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）トーチと、
前記レーザーアブレーション源により前記試料から作成されたアブレーションプルームを、前記ＩＣＰトーチまで搬送するように構成されたインジェクタと、を具備し、
前記ＩＣＰトーチは、前記ＩＣＰトーチが前記レーザーアブレーション源から分離される細胞懸濁モードで、すべての細胞を微粒子化およびイオン化するように構成され、
前記装置は、レーザーアブレーションＩＣＰ質量分析用の作動中であるが、前記細胞懸濁モード中ではない状態で、水素含有分子を、前記ＩＣＰトーチのプラズマに供給するように構成される、装置。 A device,
a sample stage configured to move the sample in at least two directions;
a laser ablation source configured to remove a sample mounted on the sample stage;
an inductively coupled plasma (ICP) torch coupled to a mass spectrometer;
an injector configured to convey an ablation plume created from the sample by the laser ablation source to the ICP torch;
the ICP torch is configured to micronize and ionize all cells in a cell suspension mode in which the ICP torch is separated from the laser ablation source;
The apparatus is configured to supply hydrogen-containing molecules to the plasma of the ICP torch while the apparatus is in operation for laser ablation ICP mass spectrometry, but not in the cell suspension mode.
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