JPWO2020236549A5 - - Google Patents
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Description
本明細書で、範囲は、「約」（おおよそ）１つの特定の値から、及び／又は「約」（おおよそ）別の特定の値まで、として表記される。このような範囲が表記されている場合、別の実施形態は、その１つの特定の値から、及び／又は他の特定の値まで、を含む。同様に、値が概数として表記されている場合、前に「約」を使用することで、その特定の値が別の実施形態を形成することが理解されるであろう。更に、それぞれの範囲の終点は、他の終点と関係していても、他の終点と無関係でも有意であると理解されたい。
本明細書で使用するとき、方向を示す用語、例えば上、下、右、左、表、裏、上、下は、描かれている図を参照して記載されているにすぎず、絶対的な向きを意味するものではない。
特に明記されていない限り、本明細書に記載の任意の方法について、その工程がある特定の順序で実施されることも、任意の装置を用い、特定の向きが要求されることも、必要であると解釈されることを意図するものではない。従って、その工程が従うべき順序が方法の請求項に実際に記載されていない場合、又は個々の構成要素に対して順序若しくは向きが任意の装置の請求項に実際に記載されていない場合、又はある特定の順序に工程が限定されるべきであることが特許請求の範囲もしくは説明に特に具体的に記載されていない場合、又は器具の構成要素に対してある特定の順序もしくは向きが記載されていない場合、いかなる点においても順序又は向きが推論されることは決して意図されない。本明細書で使用されるとき、単数形「１つの」、「ある」、「その」（「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」）は、別段の明確な指示がない限り、複数の参照物を包含する。従って、例えば、「１つの」成分への言及は、別段の明確な指示がない限り、２つ以上のそのような成分を有する態様を含む。
開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく本開示の実施形態に対して様々な修正及び変形を行うことができることが当業者には明らかであろう。従って、そのような修正及び変形が添付の特許請求の範囲及びその等価物の範囲内であるという条件で、本開示はそれらを包含することを意図する。
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔１〕厚さを画定する２つの主面と、光源からの光を受け取るように構成された端面とを備えるガラス基板を含む導光板であって、前記ガラス基板は前記光源からの光を分配するように構成され、前記ガラス基板はガラス基板がマイナスと測定された色ずれΔｙを示すような量のＦｅ、Ｃｒ及びＮｉ金属を含有する、導光板。
〔２〕前記ガラス基板は、Ｆｅ
3+
状態をＦｅ
2+
状態よりも多量に含む、前記〔１〕に記載の導光板。
〔３〕４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ
450nm
、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ
550nm
は、次式：Ｔ
450nm
－Ｔ
550nm
≧－０．３を満たす、前記〔１〕に記載の導光板。
〔４〕４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ
450nm
、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ
550nm
は、次式：Ｔ
450nm
－Ｔ
550nm
≧－０．２を満たす、前記〔１〕に記載の導光板。
〔５〕前記ガラス基板は、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、又はソーダ石灰ガラスを含む、前記〔３〕に記載の導光板。
〔６〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
５０～９０モル％のＳｉＯ
2
、
０～２０モル％のＡｌ
2
Ｏ
3
、
０～２０モル％のＢ
2
Ｏ
3
、及び
０～２５モル％のＲ
x
Ｏ、を含み、
式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板は更に、Ｌｉ
2
Ｏ、Ｎａ
2
Ｏ、Ｋ
2
Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
前記〔３〕に記載の導光板。
〔７〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
６５～８５モル％のＳｉＯ
2
；
０～１３モル％のＡｌ
2
Ｏ
3
；
０～１２モル％のＢ
2
Ｏ
3
；
０～２モル％のＬｉ
2
Ｏ；
０～１４モル％のＮａ
2
Ｏ；
０～１２モル％のＫ
2
Ｏ；
０～４モル％のＺｎＯ；
０～１２モル％のＭｇＯ；
０～５モル％のＣａＯ；
０～７モル％のＳｒＯ；
０～５モル％のＢａＯ；及び
０．０１～１モル％のＳｎＯ
2
を含む、前記〔３〕に記載の導光板。
〔８〕光源と、
反射体と、
前記〔１〕に記載の導光板と、
を含む、ディスプレイ製品。
〔９〕
光源と、
反射体と、
前記〔３〕に記載の導光板と、
を含む、ディスプレイ製品。
〔１０〕前記光源は、前記ガラス基板の前記端面と光学的に結合した発光ダイオードを備える、前記〔９〕に記載のディスプレイ製品。
〔１１〕導光板として使用するためのガラス基板を加工する方法であって、
ガラスバッチの原材料を選択し、前記原材料を加工してガラス組成物を提供する工程と、
前記ガラス組成物から、厚さを画定する２つの主面と端面とを備える前記ガラス基板を形成する工程であって、前記ガラス組成物は、Ｆｅ、Ｃｒ及びＮｉ金属を、前記ガラス基板がマイナスの色ずれΔｙの測定値を示す量で含有する、工程と、
を含む、方法。
〔１２〕前記ガラス基板は、Ｆｅ
3+
状態をＦｅ
2+
状態よりも多量に含む、前記〔１１〕に記載の方法。
〔１３〕前記ガラス基板を通る４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ
450nm
、及び５５０ｎｍにおける光透過率、Ｔ
550nm
は次式：
〔１４〕ガラス基板を通る４５０ｎｍにおける光透過率Ｔ
450nm
、及び５５０ｎｍにおける光透過率Ｔ
550nm
は、次式：Ｔ
450nm
－Ｔ
550nm
≧－０．２を満たす、前記〔１１〕に記載の方法。
〔１５〕前記ガラス基板は、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、及びソーダ石灰ガラスを含む、前記〔１３〕に記載の方法。
〔１６〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
５０～９０モル％のＳｉＯ
2
、
０～２０モル％のＡｌ
2
Ｏ
3
、
０～２０モル％のＢ２Ｏ３、及び
０～２５モル％のＲ
x
Ｏ、を含み、
式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板は更に、Ｌｉ
2
Ｏ、Ｎａ
2
Ｏ、Ｋ
2
Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
前記〔１３〕に記載の方法。
〔１７〕前記ガラス基板は、酸化物のモル％ベースで：
６５～８５モル％のＳｉＯ
2
；
０～１３モル％のＡｌ
2
Ｏ
3
；
０～１２モル％のＢ
2
Ｏ
3
；
０～２モル％のＬｉ
2
Ｏ；
０～１４モル％のＮａ
2
Ｏ；
０～１２モル％のＫ
2
Ｏ；
０～４モル％のＺｎＯ；
０～１２モル％のＭｇＯ；
０～５モル％のＣａＯ；
０～７モル％のＳｒＯ；
１～５モル％のＢａＯ；及び
０．０１～１モル％のＳｎＯ
2
を含む、前記〔１３〕に記載の方法。
Ranges are expressed herein as from "about" (approximately) one particular value, and/or to "about" (approximately) another particular value. When such a range is expressed, another embodiment includes from the one particular value and/or to the other particular value. Similarly, when values are expressed as approximations, by use of the preceding "about," it will be understood that the particular value forms another embodiment. Further, it is to be understood that the endpoints of each range are significant whether they are relative to the other endpoints or independent of the other endpoints.
As used herein, directional terms such as up, down, right, left, front, back, up, down are described with reference to the drawing being drawn only and are in absolute terms. It does not imply any direction.
Unless otherwise specified, for any method described herein, it is not necessary that the steps be performed in any particular order, or that any apparatus be used and a particular orientation required. It is not intended to be construed as Thus, if the order to be followed by the steps is not materially set forth in a method claim, or if the order or orientation for individual components is not materially set forth in any apparatus claim, or Unless the claims or description specifically state that the steps are to be limited to a particular order, or do not state a particular order or orientation for the components of the instrument. If not, no order or orientation is intended to be inferred at any point. As used herein, the singular forms "a", "a", "the"("a","an" and "the") refer to plural references unless the context clearly dictates otherwise. contain things. Thus, for example, reference to "a" component includes embodiments having two or more such components, unless expressly specified otherwise.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made to the embodiments of the disclosure without departing from the spirit and scope of the disclosure. Therefore, it is intended that the present disclosure cover such modifications and variations provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.
Another aspect of the present invention may be as follows.
[1] A light guide plate including a glass substrate having two major surfaces defining a thickness and an end surface configured to receive light from a light source, the glass substrate distributing the light from the light source. wherein the glass substrate contains Fe, Cr and Ni metals in such an amount that the glass substrate exhibits a negative measured color shift Δy.
[2] The light guide plate according to [1], wherein the glass substrate contains a larger amount of Fe 3+ state than Fe 2+ state.
[3] The light guide plate according to [1], wherein the light transmittance T 450nm at 450 nm and the light transmittance T 550nm at 550 nm satisfy the following formula : T 450nm −T 550nm ≧−0.3.
[4] The light guide plate according to [1] above, wherein the light transmittance T 450nm at 450 nm and the light transmittance T 550nm at 550 nm satisfy the following formula: T 450nm −T 550nm ≧−0.2.
[5] The light guide plate according to [3], wherein the glass substrate includes aluminosilicate glass, borosilicate glass, or soda-lime glass.
[6] The glass substrate, on the basis of mol% of oxide:
50-90 mol % SiO 2 ,
0-20 mol % Al 2 O 3 ,
0-20 mol % B 2 O 3 , and
0 to 25 mol % of R x O,
wherein x is 2 and R is selected from Li, Na, K, Rb, Cs, and combinations thereof, or x is 1 and R is Zn, Mg, Ca, Sr, Ba, and combinations thereof, and wherein the glass substrate further comprises at least 0.5 mol% of one oxide selected from Li2O , Na2O , K2O , CaO and MgO;
The light guide plate according to [3] above.
[7] The glass substrate, on the basis of mol% of oxide:
65-85 mol % SiO 2 ;
0-13 mol % Al 2 O 3 ;
0-12 mol % B 2 O 3 ;
0-2 mol % Li 2 O;
0-14 mol % Na 2 O;
0-12 mol % K 2 O;
0-4 mol % ZnO;
0-12 mol % MgO;
0-5 mol % CaO;
0-7 mol % SrO;
0-5 mol % BaO; and
0.01-1 mol % SnO 2
The light guide plate according to [3] above.
[8] a light source;
a reflector;
The light guide plate according to [1] above;
display products, including;
[9]
a light source;
a reflector;
The light guide plate according to [3] above;
display products, including;
[10] The display product according to [9], wherein the light source includes a light-emitting diode optically coupled to the end face of the glass substrate.
[11] A method of processing a glass substrate for use as a light guide plate, comprising:
selecting raw materials for a glass batch and processing said raw materials to provide a glass composition;
forming from the glass composition the glass substrate having two major surfaces and edge surfaces defining a thickness, wherein the glass composition comprises Fe, Cr and Ni metals and the glass substrate is minus containing in an amount indicating the measured value of the color shift Δy of
A method, including
[12] The method according to [11] above, wherein the glass substrate contains a larger amount of Fe 3+ state than Fe 2+ state.
[13] The light transmittance T 450nm at 450 nm through the glass substrate and the light transmittance at 550 nm T 550nm are expressed by the following equations:
[14] The method according to [11] above, wherein the light transmittance T 450nm at 450 nm and the light transmittance T 550nm at 550 nm through the glass substrate satisfy the following formula: T 450nm −T 550nm ≧−0.2.
[15] The method according to [13] above, wherein the glass substrate includes aluminosilicate glass, borosilicate glass, and soda-lime glass.
[16] The glass substrate, on the basis of mol% of oxide:
50-90 mol % SiO 2 ,
0-20 mol % Al 2 O 3 ,
0-20 mol % B2O3, and
0 to 25 mol % of R x O,
wherein x is 2 and R is selected from Li, Na, K, Rb, Cs, and combinations thereof, or x is 1 and R is Zn, Mg, Ca, Sr, Ba, and combinations thereof, and wherein the glass substrate further comprises at least 0.5 mol% of one oxide selected from Li2O , Na2O , K2O , CaO and MgO;
The method according to [13] above.
[17] The glass substrate, on the basis of mol% of oxide:
65-85 mol % SiO 2 ;
0-13 mol % Al 2 O 3 ;
0-12 mol % B 2 O 3 ;
0-2 mol % Li 2 O;
0-14 mol % Na 2 O;
0-12 mol % K 2 O;
0-4 mol % ZnO;
0-12 mol % MgO;
0-5 mol % CaO;
0-7 mol % SrO;
1-5 mol % BaO; and
0.01-1 mol % SnO 2
The method according to [13] above.
Claims (14)
５０～９０モル％のＳｉＯ2、
０～２０モル％のＡｌ2Ｏ3、
０～２０モル％のＢ2Ｏ3、及び
０～２５モル％のＲxＯ、を含み、
式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板(28)は更に、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
請求項３に記載の導光板(24)。 The glass substrate (28) , on an oxide mol % basis:
50-90 mol % SiO 2 ,
0-20 mol % Al 2 O 3 ,
0-20 mol % B 2 O 3 and 0-25 mol % R x O,
wherein x is 2 and R is selected from Li, Na, K, Rb, Cs, and combinations thereof, or x is 1 and R is Zn, Mg, Ca, Sr, Ba, and combinations thereof, and the glass substrate (28) further comprises at least 0.5 mol% of one oxide selected from Li2O , Na2O , K2O , CaO and MgO;
A light guide plate (24) according to claim 3.
６５～８５モル％のＳｉＯ2；
０～１３モル％のＡｌ2Ｏ3；
０～１２モル％のＢ2Ｏ3；
０～２モル％のＬｉ2Ｏ；
０～１４モル％のＮａ2Ｏ；
０～１２モル％のＫ2Ｏ；
０～４モル％のＺｎＯ；
０～１２モル％のＭｇＯ；
０～５モル％のＣａＯ；
０～７モル％のＳｒＯ；
０～５モル％のＢａＯ；及び
０．０１～１モル％のＳｎＯ2
を含む、請求項３に記載の導光板(24)。 The glass substrate (28) , on an oxide mol % basis:
65-85 mol % SiO 2 ;
0-13 mol % Al 2 O 3 ;
0-12 mol % B 2 O 3 ;
0-2 mol % Li 2 O;
0-14 mol % Na 2 O;
0-12 mol % K 2 O;
0-4 mol % ZnO;
0-12 mol % MgO;
0-5 mol % CaO;
0-7 mol % SrO;
0-5 mol % BaO; and 0.01-1 mol % SnO 2
The light guide plate (24) of claim 3, comprising:
反射体(38)と、
請求項１又は３に記載の導光板(24)と、
を含む、ディスプレイ製品。 a light source (36) ;
a reflector (38) ;
A light guide plate (24) according to claim 1 or 3 ;
display products, including;
ガラスバッチの原材料を選択し、前記原材料を加工してガラス組成物を提供する工程と、
前記ガラス組成物から、厚さ(T)を画定する２つの主面(30, 32)と端面(34a)とを備える前記ガラス基板(28)を形成する工程であって、前記ガラス組成物は、Ｆｅ、Ｃｒ及びＮｉ金属を、前記ガラス基板(28)がマイナスの色ずれΔｙの測定値を示す量で含有する、工程と、
を含む、方法。 A method of processing a glass substrate (28) for use as a light guide plate (24) , comprising:
selecting raw materials for a glass batch and processing said raw materials to provide a glass composition;
forming from the glass composition the glass substrate (28) comprising two main surfaces (30, 32) defining a thickness (T) and an end surface (34a) , the glass composition comprising , Fe, Cr and Ni metals in amounts in which said glass substrate (28) exhibits a negative color shift Δy measurement;
A method, including
５０～９０モル％のＳｉＯ2、
０～２０モル％のＡｌ2Ｏ3、
０～２０モル％のＢ2Ｏ3、及び
０～２５モル％のＲxＯ、を含み、
式中、ｘは２であり、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、及びこれらの組み合わせから選択されるか、又はｘは１であり、ＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びこれらの組み合わせから選択され、かつ前記ガラス基板(28)は更に、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、ＣａＯ及びＭｇＯから選択される１つの酸化物を少なくとも０．５モル％含む、
請求項１０に記載の方法。 The glass substrate (28) , on an oxide mol % basis:
50-90 mol % SiO 2 ,
0-20 mol % Al 2 O 3 ,
0-20 mol % B 2 O 3 and 0-25 mol % R x O,
wherein x is 2 and R is selected from Li, Na, K, Rb, Cs, and combinations thereof, or x is 1 and R is Zn, Mg, Ca, Sr, Ba, and combinations thereof, and the glass substrate (28) further comprises at least 0.5 mol% of one oxide selected from Li2O , Na2O , K2O , CaO and MgO;
11. The method of claim 10 .
６５～８５モル％のＳｉＯ2；
０～１３モル％のＡｌ2Ｏ3；
０～１２モル％のＢ2Ｏ3；
０～２モル％のＬｉ2Ｏ；
０～１４モル％のＮａ2Ｏ；
０～１２モル％のＫ2Ｏ；
０～４モル％のＺｎＯ；
０～１２モル％のＭｇＯ；
０～５モル％のＣａＯ；
０～７モル％のＳｒＯ；
１～５モル％のＢａＯ；及び
０．０１～１モル％のＳｎＯ2
を含む、請求項１０に記載の方法。 The glass substrate (28) , on an oxide mol % basis:
65-85 mol % SiO 2 ;
0-13 mol % Al 2 O 3 ;
0-12 mol % B 2 O 3 ;
0-2 mol % Li 2 O;
0-14 mol % Na 2 O;
0-12 mol % K 2 O;
0-4 mol % ZnO;
0-12 mol % MgO;
0-5 mol % CaO;
0-7 mol % SrO;
1-5 mol % BaO; and 0.01-1 mol % SnO 2
11. The method of claim 10 , comprising:
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