JPWO2020106335A5

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Publication number: JPWO2020106335A5
Application number: JP2021528965A
Authority: JP
Publication date: 2022-08-15
Anticipated expiration: 2039-08-05

Claims

スキャトロメトリオーバーレイ（ＳＣＯＬ）測定方法であって、
信号行列を生成することであって、
少なくとも１つの照射パラメータにおける複数の値で、および前記ターゲット上の複数のスポット位置で、ＳＣＯＬターゲットを照射することであって、前記照射はスポット直径が１μｍ未満で、開口数（ＮＡ）が１／３より大きいものである、照射すること、
ゼロ次回折および一次回折の干渉信号を測定すること、および
前記照射パラメータおよび前記ターゲット上の前記スポット位置に対する前記測定された干渉信号から、前記信号行列を構築することによって、前記信号行列を生成することと、
前記信号行列を分析することによってターゲットオーバーレイを導出することと
を含むことを特徴とするスキャトロメトリオーバーレイ（ＳＣＯＬ）測定方法。
請求項１に記載のＳＣＯＬ測定方法であって、前記ＳＣＯＬターゲットは、少なくとも１つの周期的構造を備え、前記複数のスポット位置は、前記少なくとも１つの周期的構造のピッチ内であることを特徴とするＳＣＯＬ測定方法。
請求項２に記載のＳＣＯＬ測定方法であって、前記少なくとも１つの周期的構造の測定方向に沿って前記ターゲットピッチ以内の前記ターゲット上に、前記複数のスポット位置を設定することと、前記測定方向と垂直な方向において前記測定された干渉信号の平均値を求めることとをさらに含むことを特徴とするＳＣＯＬ測定方法。
請求項１に記載のＳＣＯＬ測定方法であって、前記少なくとも１つの照射パラメータは、照射波長を含み、その前記複数の値は、少なくとも３つの照射波長を含むことを特徴とするＳＣＯＬ測定方法。
請求項１に記載のＳＣＯＬ測定方法であって、既知のオーバーレイ値を用いてＳＣＯＬターゲットの測定を行うまたはシミュレートすることによって、前記信号行列を校正することをさらに含むことを特徴とするＳＣＯＬ測定方法。
請求項５に記載のＳＣＯＬ測定方法であって、前記スポット位置、照射パラメータ、およびターゲットオーバーレイに関して前記信号行列のモデルを作り出すことをさらに含むことを特徴とするＳＣＯＬ測定方法。
コンピュータ可読プログラムを有する非一時的コンピュータ可読記憶媒体を備えたコンピュータプログラム製品であって、請求項１に記載のＳＣＯＬ測定方法を備える１つまたは複数の実行命令をプロセッサで遂行することを特徴とするコンピュータプログラム製品。
請求項７に記載のコンピュータプログラム製品を備えることを特徴とする計測モジュール。
スキャトロメトリオーバーレイ（ＳＣＯＬ）測定システムであって、
少なくとも１つの照射パラメータにおける複数の値で、および前記ターゲット上の複数のスポット位置で、ＳＣＯＬターゲットを照射するように構成された照射ユニットであって、前記照射はスポット直径が１μｍ未満で、開口数（ＮＡ）が１／３より大きいものである、照射ユニットと、
ゼロ次回折および一次回折の干渉信号を測定するように構成された測定ユニットと、
前記照射パラメータおよび前記ターゲット上の前記複数のスポット位置に対する前記測定された干渉信号から、信号行列を構築することと、前記信号行列を分析することによってターゲットオーバーレイを導出することとを行うように構成された処理ユニットと
を備えることを特徴とするスキャトロメトリオーバーレイ（ＳＣＯＬ）測定システム。
請求項９に記載のＳＣＯＬ測定システムであって、前記少なくとも１つの周期的構造の測定方向に沿って前記ターゲットピッチ以内の前記ターゲット上に、前記複数のスポット位置を設定することと、前記少なくとも１つの周期的構造の要素に沿って前記ＳＣＯＬターゲットをスキャンすることによって、前記測定方向と垂直な方向において前記測定された干渉信号の平均値を求めることとを行うようにさらに構成されることを特徴とするＳＣＯＬ測定システム。
請求項９に記載のＳＣＯＬ測定システムであって、前記少なくとも１つの照射パラメータは、照射波長を含み、その前記複数の値は、少なくとも３つの照射波長を含むことを特徴とするＳＣＯＬ測定システム。
請求項９に記載のＳＣＯＬ測定システムであって、既知のオーバーレイ値を用いてＳＣＯＬターゲットの測定を行うまたはシミュレートすることによって、前記信号行列を校正するようにさらに構成されることを特徴とするＳＣＯＬ測定システム。
請求項１２に記載のＳＣＯＬ測定システムであって、前記スポット位置、照射パラメータ、およびターゲットオーバーレイに関して前記信号行列のモデルを作り出すようにさらに構成されることを特徴とするＳＣＯＬ測定システム。
複数の層で周期的構造を有する単一セルを備え、２μｍ×２μｍもしくはそれ未満である、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記周期的構造は最大でも４ピッチバー幅である、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１５に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記周期的構造は２ピッチバー幅である、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４に記載のＳＣＯＬターゲットであって、対応するウェハ上にダイ内に配置される、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記周期的構造は格子である、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１８に記載のＳＣＯＬターゲットであって、更に、前記複数の層の間に少なくとも１つの中間層を備える、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記単一セルは、１μｍ未満のスポット直径で照射されるように構成される、ＳＣＯＬターゲット。
請求項２０に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記スポット直径の開口数は１／３より大きい、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記単一セルは複数のスポット位置で照射されるように構成される、ＳＣＯＬターゲット。
請求項２２に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記複数のスポット位置は、少なくとも１つの前記周期的構造の１ピッチ以内である、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記周期的構造は整列されている、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記周期的構造はゼロ次及び一次の混合を含んだ信号を提供するように構成される、ＳＣＯＬターゲット。
請求項１４に記載のＳＣＯＬターゲットであって、前記周期的構造は前記周期的構造からの測定された信号にゼロ次と一次の間の重複を提供するように構成される、ＳＣＯＬターゲット。