JPWO2020039990A1 - Method of manufacturing a laminate - Google Patents

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Abstract

連続搬送される基材上に、第1塗布液と第2塗布液とを含む複数の塗布液をスロットダイを用いて同時に塗布する工程を少なくとも有し、第1塗布液が、基材上に接触して塗布される塗布液であり、第2塗布液が、第1塗布液に隣接して塗布される塗布液であり、第1塗布液の固形分含有率Aと第2塗布液の固形分含有率Bとの比A/Bが0.1以下であり、第2塗布液を塗布するスロットにおける、基材搬送方向の下流側リップ面と基材との最短距離d1と、基材搬送方向の上流側リップ面と基材との最短距離d2と、の差(d1−d2)が10μm以上であり、最短距離d2と第1塗布液から形成された塗膜の厚みhとの関係がd2>3×hを満たす、積層体の製造方法。It has at least a step of simultaneously applying a plurality of coating liquids including the first coating liquid and the second coating liquid on the base material to be continuously conveyed by using a slot die, and the first coating liquid is placed on the base material. It is a coating liquid that is applied in contact, the second coating liquid is a coating liquid that is applied adjacent to the first coating liquid, and the solid content content A of the first coating liquid and the solid of the second coating liquid. The ratio A / B to the component content B is 0.1 or less, the shortest distance d1 between the lip surface on the downstream side in the substrate transport direction and the substrate in the slot for applying the second coating liquid, and the substrate transport. The difference (d1-d2) between the shortest distance d2 between the upstream lip surface and the base material in the direction is 10 μm or more, and the relationship between the shortest distance d2 and the thickness h of the coating film formed from the first coating liquid is A method for producing a laminated body, which satisfies d2> 3 × h.

Description

本開示は、積層体の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a method for producing a laminate.

ロールトゥロール方式での連続プロセスによって、連続搬送する基材上に、固形分を含む塗布液をスロットダイを用いて塗布し、目的とする薄い塗工層(例えば、乾膜厚み5μm以下の塗工層)を形成して積層体を製造する方法が知られている。 By a continuous process using a roll-to-roll method, a coating liquid containing solid content is applied onto a substrate that is continuously conveyed using a slot die, and a target thin coating layer (for example, a coating with a dry film thickness of 5 μm or less) is applied. A method of forming a work layer) to manufacture a laminated body is known.

積層体を製造する方法の例として、特開2002−059062号公報には、バックロールで塗布反対面が保持され、上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体へ、2層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージョン塗布方法において、最下層粘度をその隣接する層よりも低くすることを特徴とするエクストルージョン塗布方法が開示されている。 As an example of a method for producing a laminate, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-059062 describes coating of two or more layers on a strip-shaped support in which the opposite surface to be coated is held by a back roll and continuously transported from upstream to downstream. In an extrusion coating method for simultaneously coating layers, an extrusion coating method is disclosed, characterized in that the viscosity of the lowest layer is lower than that of adjacent layers.

また、特開2013−220385号公報には、搬送されるウエブを支持するバックアップロールと、バックアップロールに対向配置され、複数のスロット先端から塗布液をそれぞれ吐出してダイ先端面であるリップ面とウエブとの間のクリアランスに塗布液のビードを形成することにより搬送されるウエブに複数の塗布液を同時重層塗布するスロットダイと、塗布液ビードのウエブ搬送方向上流側を減圧する減圧装置と、を備え、複数のスロットを挟んだ両側のリップ面のうち、複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面のウエブ搬送方向からみて下流側のリップ面端部が断面凸状の湾曲形状に形成されていることを特徴とする塗布装置、及びこの塗布装置を用いた塗膜付きフィルムの製造方法が開示されている。 Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-220385, a backup roll that supports a web to be transported and a lip surface that is arranged to face the backup roll and discharges coating liquid from the tips of a plurality of slots, respectively, and is a die tip surface. A slot die that simultaneously coats multiple coating liquids on the web transported by forming a coating liquid bead in the clearance between the web, and a decompression device that reduces the pressure on the upstream side of the coating liquid bead in the web transport direction. Of the lip surfaces on both sides of the plurality of slots, the end of the lip surface on the downstream side when viewed from the web transport direction of the lip surface where the interfaces of the plurality of coating liquids come into contact with each other is formed into a curved shape having a convex cross section. A coating apparatus characterized by the above, and a method for producing a film with a coating film using the coating apparatus are disclosed.

更に、特開2013−052329号公報には、バックアップロールに支持されて連続走行するウエブの表面に粘度が40mPa・s以下の塗布液を同時重層塗布することにより、多層膜付きフィルムを製造する多層膜付きフィルムの製造方法であって、複数のブロックで構成されたダイと、空気を吸引する吸引装置とを準備する準備工程と、ダイの、ウエブの走行方向に対して上流側から吸引装置により空気を吸引することにより、ダイ先端部とウエブとの間の空間を減圧する減圧工程と、減圧工程で減圧しながらウエブにダイの先端部から塗布液を吐出してウエブに多層膜を製膜する製膜工程と、を備え、ダイは、複数のブロックを組み合わせることにより形成された塗布液を貯留するためのポケットを有し、ポケットは、ポケットから供給された塗布液がウエブに吐出されて、ウエブまたはウエブ上に形成された塗布膜に接触した位置である塗布点よりも下の位置に配置され、ブロックのうち走行方向に対して最下流のブロックの先端面である下流リップと、ウエブと、の最短距離をd1とし、最下流のブロックの一つ上流側にあるブロックの先端面であり、下流リップの隣に位置する隣接リップと、ウエブと、の最短距離をd2とし、隣接リップの走行方向の幅をL2とし、最上層の膜厚をh1とし、最上層を除く全ての膜の総膜厚をh2としたとき、式1〜式4の全てを満たすようにブロックが設置されてダイが構成された多層膜付きフィルムの製造方法が開示されている。
10μm≦(d1−d2)≦200μm 式1
d2≦3×h2 式2
50μm≦L2≦200μm 式3
dP/dX>0 式4
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-052329 describes a multilayer film for producing a film with a multilayer film by simultaneously coating a coating liquid having a viscosity of 40 mPa · s or less on the surface of a web that is supported by a backup roll and runs continuously. A method for manufacturing a film with a film, which is a preparatory step of preparing a die composed of a plurality of blocks and a suction device for sucking air, and a suction device from the upstream side of the die in the traveling direction of the web. A decompression step of depressurizing the space between the die tip and the web by sucking air, and a coating liquid being discharged from the die tip to the web while depressurizing in the depressurization step to form a multilayer film on the web. The die has a pocket for storing the coating liquid formed by combining a plurality of blocks, and the pocket is such that the coating liquid supplied from the pocket is discharged to the web. , The downstream lip, which is located below the coating point, which is the position in contact with the web or the coating film formed on the web, and is the tip surface of the most downstream block in the traveling direction, and the web. The shortest distance between and is d1, and the shortest distance between the adjacent lip and the web, which is the tip surface of the block on the upstream side of one of the most downstream blocks and is located next to the downstream lip, is d2. When the width in the traveling direction is L2, the film thickness of the uppermost layer is h1, and the total film thickness of all the films except the uppermost layer is h2, the blocks are installed so as to satisfy all of the formulas 1 to 4. A method for producing a film with a multilayer film in which a die is formed is disclosed.
10 μm ≦ (d1-d2) ≦ 200 μm Equation 1
d2 ≤ 3 × h2 Equation 2
50 μm ≤ L2 ≤ 200 μm Equation 3
dP / dX> 0 Equation 4

スロットダイを用いて、基材上に薄い塗工層(以下、「薄層」ともいう)を有する積層体を製造する場合、例えば、ダイと基材との距離の変化に起因した段ムラが生じたり、また、例えば、ダイの基材搬送方向の上流側に形成される塗布液のメニスカス(即ち、気液界面における曲面)の動き等の影響で塗布スジが生じたりする。
ここで、「段ムラ」とは、基材の幅方向(即ち、基材の搬送方向に垂直な方向)にのびる帯状の膜厚ムラが、基材の搬送方向に膜厚の大小の繰り返しとして現れるものであって、その膜厚の大小の繰り返し間隔は、等間隔の場合又はランダムな場合がある。
また、「塗布スジ」とは、基材の搬送方向にのびる線状の膜厚ムラが、単独で又は複数で現れるものであって、3本以上で現れる場合の隣接する膜厚ムラとの間隔は、等間隔の場合又はランダムな場合がある。
なお、膜厚ムラは、ライトテーブル上に積層体を載置し、積層体に透過光を当てて観察した際に、濃淡又は濃淡の繰り返しとして目視で認識することができる場合もある。また、積層体の膜厚を、例えば、接触式連続膜厚測定器にて測定することで膜厚ムラを検出してもよい。
When a laminate having a thin coating layer (hereinafter, also referred to as "thin layer") is produced on a base material using a slot die, for example, step unevenness due to a change in the distance between the die and the base material occurs. In addition, coating streaks may occur due to the movement of the meniscus (that is, the curved surface at the gas-liquid interface) of the coating liquid formed on the upstream side of the die in the substrate transport direction.
Here, "step unevenness" means that the band-shaped film thickness unevenness extending in the width direction of the base material (that is, the direction perpendicular to the transport direction of the base material) repeats the magnitude of the film thickness in the transport direction of the base material. It appears, and the repetition interval of the thickness is equal or random.
Further, the "coating streak" means that linear film thickness unevenness extending in the transport direction of the base material appears alone or in a plurality of lines, and is an interval between the film thickness unevenness and the adjacent film thickness unevenness when three or more of them appear. May be evenly spaced or random.
The uneven film thickness may be visually recognized as shading or repeating shading when the laminated body is placed on a light table and the laminated body is irradiated with transmitted light for observation. Further, the film thickness unevenness may be detected by measuring the film thickness of the laminated body with, for example, a contact type continuous film thickness measuring device.

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材上に塗布スジ及び段ムラの発生が抑制された塗工層を形成しうる、積層体の製造方法を提供することである。 An object to be solved by one embodiment of the present invention is to provide a method for producing a laminated body capable of forming a coating layer on a substrate in which the occurrence of coating streaks and step unevenness is suppressed.

課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。 Specific means for solving the problem include the following aspects.

<1> 連続搬送される基材上に、第1塗布液と第2塗布液とを含む複数の塗布液をスロットダイを用いて同時に塗布する工程を少なくとも有し、
第1塗布液が、基材上に接触して塗布される塗布液であり、
第2塗布液が、第1塗布液に隣接して塗布される塗布液であり、
第1塗布液の固形分含有率Aと第2塗布液の固形分含有率Bとの比A/Bが0.1以下であり、
第2塗布液を塗布するスロットにおける、基材搬送方向の下流側リップ面と基材との最短距離d1と、基材搬送方向の上流側リップ面と基材との最短距離d2と、の差(d1−d2)が10μm以上であり、
最短距離d2と第1塗布液から形成された塗膜の厚みhとの関係がd2>3×hを満たす、積層体の製造方法。
<1> At least a step of simultaneously applying a plurality of coating liquids including a first coating liquid and a second coating liquid on a substrate that is continuously conveyed using a slot die is provided.
The first coating liquid is a coating liquid that is applied in contact with the base material.
The second coating liquid is a coating liquid that is applied adjacent to the first coating liquid.
The ratio A / B of the solid content content A of the first coating liquid to the solid content content B of the second coating liquid is 0.1 or less.
Difference between the shortest distance d1 between the downstream lip surface in the base material transport direction and the base material and the shortest distance d2 between the upstream lip surface in the base material transport direction and the base material in the slot for applying the second coating liquid. (D1-d2) is 10 μm or more,
A method for producing a laminate, wherein the relationship between the shortest distance d2 and the thickness h of the coating film formed from the first coating liquid satisfies d2> 3 × h.

<2> 第1塗布液は、粘度が2mPa・s以下である塗布液である、<1>に記載の積層体の製造方法。
<3> 第1塗布液は、粘度が1mPa・s以上である塗布液である、<1>又は<2>に記載の積層体の製造方法。
<2> The method for producing a laminate according to <1>, wherein the first coating liquid is a coating liquid having a viscosity of 2 mPa · s or less.
<3> The method for producing a laminate according to <1> or <2>, wherein the first coating liquid is a coating liquid having a viscosity of 1 mPa · s or more.

<4> 第1塗布液が、溶媒を第1塗布液の質量に対して90質量%以上含む塗布液である、<1>〜<3>のいずれか1に記載の積層体の製造方法。
<5> 溶媒が単一の有機溶剤である、<4>に記載の積層体の製造方法。
<6> 第1塗布液に含まれる溶媒の少なくとも一部が、第2塗布液に含まれる溶媒と同じである、<1>〜<5>のいずれか1に記載の積層体の製造方法。
<4> The method for producing a laminate according to any one of <1> to <3>, wherein the first coating liquid is a coating liquid containing 90% by mass or more of a solvent with respect to the mass of the first coating liquid.
<5> The method for producing a laminate according to <4>, wherein the solvent is a single organic solvent.
<6> The method for producing a laminate according to any one of <1> to <5>, wherein at least a part of the solvent contained in the first coating liquid is the same as the solvent contained in the second coating liquid.

本発明の一実施形態によれば、基材上に塗布スジ及び段ムラの発生が抑制された塗工層を形成しうる、積層体の製造方法が提供される。 According to one embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a laminate capable of forming a coating layer in which the occurrence of coating streaks and step unevenness is suppressed on a base material.

重層塗布工程に適用される塗布装置の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows an example of the coating apparatus applied to a multi-layer coating process. スロットダイの一例を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows an example of a slot die.

以下、本開示の積層体の製造方法について詳細に説明する。
本開示において、「工程」の語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
Hereinafter, the method for producing the laminate of the present disclosure will be described in detail.
In the present disclosure, the term "process" is included in the term not only in an independent process but also in the case where the intended purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes.

本開示において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
なお、複数の図面に記載されている符号が同一である場合、同一の対象を指す。また、各図面において重複する構成及び符号については、説明を省略する場合がある。
本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
In the present disclosure, the numerical range indicated by using "~" indicates a range including the numerical values before and after "~" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
When the reference numerals described in a plurality of drawings are the same, they refer to the same object. In addition, description of overlapping configurations and symbols in the drawings may be omitted.
In the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.

本開示において、「固形分」とは、塗布液に含まれる溶媒以外の成分をいう。また、溶媒とは、水、有機溶剤、又はこれらの混合物をいう。
本開示において、「粘度」とは、液温25℃における粘度をいう。
In the present disclosure, the "solid content" refers to a component other than the solvent contained in the coating liquid. Further, the solvent means water, an organic solvent, or a mixture thereof.
In the present disclosure, the "viscosity" means the viscosity at a liquid temperature of 25 ° C.

従来、スロットダイを用いて、基材上に薄層を有する積層体を製造する方法が知られている。この方法の場合、例えば、スロットダイと基材との距離の変化に起因した段ムラが生じたり、また、例えば、ダイの基材搬送方向の上流側に形成される塗布液のメニスカス(即ち、気液界面における曲面)の動き等の影響で塗布スジが生じたりする。
特に、薄層に生じた段ムラ及び塗布スジが製造された積層体へと及ぼす影響は大きく、積層体に求められる機能、性能等の低下を抑制する観点から、段ムラ及び塗布スジの低減が望まれているのが現状である。
そこで、本発明者は、上記の段ムラ及び塗布スジの発生を抑制するための手法について検討を行ったところ、塗布工程において、固形分のない又は少ない塗布液を、目的とする薄層を形成する塗布液の下層として塗布する重層塗布を行う方法を見出した。
そして、本発明者は、この重層塗布において、アンダーバイト量(即ち、後述する差(d1−d2))を特定の範囲とし、後述する関係d2>3×hを満たすことで、薄く、且つ、段ムラ及び塗布スジの発生が抑制された塗工層が得られる、といった知見を得た。
Conventionally, a method of producing a laminate having a thin layer on a base material using a slot die has been known. In the case of this method, for example, step unevenness occurs due to a change in the distance between the slot die and the base material, or, for example, the meniscus of the coating liquid formed on the upstream side in the base material transport direction of the die (that is,). Coating streaks may occur due to the influence of the movement of the curved surface at the gas-liquid interface.
In particular, the step unevenness and coating streaks generated in the thin layer have a large effect on the manufactured laminated body, and from the viewpoint of suppressing deterioration of the functions and performance required for the laminated body, the step unevenness and coating streaks can be reduced. The current situation is that it is desired.
Therefore, the present inventor investigated a method for suppressing the occurrence of the above-mentioned step unevenness and coating streaks, and found that in the coating step, a coating liquid having no or little solid content was used to form a target thin layer. We have found a method for performing multi-layer coating, which is applied as a lower layer of the coating liquid.
Then, in this multi-layer coating, the present inventor sets the amount of underbite (that is, the difference (d1-d2) described later) to a specific range and satisfies the relationship d2> 3 × h described later to make it thin and thin. It was found that a coating layer in which the occurrence of step unevenness and coating streaks is suppressed can be obtained.

上記の知見に基づく、本開示の積層体の製造方法は、以下の通りである。
即ち、本開示の積層体の製造方法は、連続搬送される基材上に、第1塗布液と第2塗布液とを含む複数の塗布液をスロットダイを用いて同時に塗布する工程(以下、「重層塗布工程」ともいう)を少なくとも有し、第1塗布液が、基材上に接触して塗布される塗布液であり、第2塗布液が、第1塗布液に隣接して塗布される塗布液であり、第1塗布液の固形分含有率Aと第2塗布液の固形分含有率Bとの比A/Bが0.1以下であり、第2塗布液を塗布するスロットにおける、基材搬送方向の下流側リップ面と基材との最短距離d1と、基材搬送方向の上流側リップ面と基材との最短距離d2と、の差(d1−d2)が10μm以上であり、最短距離d2と第1塗布液から形成された塗膜の厚みhとの関係がd2>3×hを満たす。
Based on the above findings, the method for producing the laminate of the present disclosure is as follows.
That is, the method for producing a laminate of the present disclosure is a step of simultaneously applying a plurality of coating liquids including a first coating liquid and a second coating liquid onto a substrate that is continuously conveyed using a slot die (hereinafter, It has at least a "multi-layer coating step"), and the first coating liquid is a coating liquid that is applied in contact with the substrate, and the second coating liquid is applied adjacent to the first coating liquid. The ratio A / B of the solid content A of the first coating liquid to the solid content B of the second coating liquid is 0.1 or less, and the slot for applying the second coating liquid is used. The difference (d1-d2) between the shortest distance d1 between the downstream lip surface in the base material transport direction and the base material and the shortest distance d2 between the upstream lip surface in the base material transport direction and the base material is 10 μm or more. Yes, the relationship between the shortest distance d2 and the thickness h of the coating film formed from the first coating liquid satisfies d2> 3 × h.

ここで、「同時に塗布する」とは、第1塗布液と第2塗布液とを含む複数の塗布液を1つのスロットダイにて塗布することを指す。つまり、1つのスロットダイにて同時に塗布される複数の塗布液がある場合、この複数の塗布液に第1塗布液及び第2塗布液が含まれる。複数の塗布液は、第1塗布液及び第2塗布液のみであってもよいし、第1塗布液及び第2塗布液を含む3つ以上の塗布液であってもよい。
例えば、基材上に、第1塗布液、第2塗布液、及び第3塗布液を第1のスロットダイにて塗布し、第4塗布液を第2のスロットダイにて塗布する場合、本開示における重層塗布工程における「同時に塗布する」ことの対象となる複数の塗布液は、第1塗布液、第2塗布液、及び第3塗布液となる。
Here, "applying at the same time" means applying a plurality of coating liquids including the first coating liquid and the second coating liquid with one slot die. That is, when there are a plurality of coating liquids to be applied simultaneously with one slot die, the plurality of coating liquids include the first coating liquid and the second coating liquid. The plurality of coating liquids may be only the first coating liquid and the second coating liquid, or may be three or more coating liquids including the first coating liquid and the second coating liquid.
For example, when the first coating liquid, the second coating liquid, and the third coating liquid are applied on the base material with the first slot die, and the fourth coating liquid is applied with the second slot die, the present invention is used. The plurality of coating liquids to be "applied at the same time" in the multi-layer coating step in the disclosure are the first coating liquid, the second coating liquid, and the third coating liquid.

本開示の積層体の製造方法によれば、基材上に塗布スジ及び段ムラの発生が抑制された薄層を有する積層体を得ることができる。 According to the method for producing a laminate of the present disclosure, it is possible to obtain a laminate having a thin layer on a substrate in which the occurrence of coating streaks and step unevenness is suppressed.

本開示の積層体の製造方法では、第1塗布液の固形分含有率は第2塗布液に比べて非常に小さく、第1塗布液から形成された塗工層(即ち、乾燥後の塗膜)も第2塗布液から形成された塗工層(即ち、乾燥後の塗膜)に比べて厚みが小さいものとなる。そのため、第1塗布液から形成された塗工層は実質的な層としては機能し難く、基材上には、ほぼ第2塗布液から形成された塗工層が形成されることとなる。
つまり、本開示の積層体の製造方法は、第1塗布液及び第2塗布液を用いる重層塗布工程を行っているものの、実質的には、基材上に、目的とする第2塗布液から形成された塗工層を単層で形成する方法といえる。
本開示の積層体の製造方法では、第1塗布液と第2塗布液との両塗布液が塗布されることから、例えば、第2塗布液(即ち、目的とする塗工層を形成するための塗布液)のみが塗布される場合と比べ、第2塗布液の塗布ビードのサイズが小さくなる。そのため、スロットダイと基材との距離の変化の影響を受けにくく、その結果として、第2塗布液から形成された塗工層における段ムラの発生を抑制しうると考えられる。
また、第1塗布液が基材に接触して塗布されることから、スロットダイの基材搬送方向の上流側に形成される塗布液のメニスカス(気液界面における曲面)の動き等の影響は、第1塗布液までで留まり、第1塗布液に隣接して塗布される第2塗布液まで到達しにくい。その結果、上記のメニスカスの動き等の影響が第1塗布液にて遮られることで、第2塗布液から形成された塗工層における段ムラ及び塗布スジの発生も抑制しうるものと考えられる。
In the method for producing a laminate of the present disclosure, the solid content of the first coating liquid is much smaller than that of the second coating liquid, and the coating layer formed from the first coating liquid (that is, the coating film after drying). ) Also has a smaller thickness than the coating layer formed from the second coating liquid (that is, the coating film after drying). Therefore, the coating layer formed from the first coating liquid is difficult to function as a substantial layer, and the coating layer formed from the second coating liquid is formed on the base material.
That is, in the method for producing the laminate of the present disclosure, although the multi-layer coating step using the first coating liquid and the second coating liquid is performed, substantially, from the target second coating liquid on the base material. It can be said that this is a method of forming the formed coating layer as a single layer.
In the method for producing a laminate of the present disclosure, since both the first coating liquid and the second coating liquid are applied, for example, in order to form a second coating liquid (that is, a target coating layer). The size of the coating bead of the second coating liquid is smaller than that in the case where only the coating liquid) is applied. Therefore, it is considered that it is not easily affected by the change in the distance between the slot die and the base material, and as a result, the occurrence of step unevenness in the coating layer formed from the second coating liquid can be suppressed.
Further, since the first coating liquid is applied in contact with the base material, the influence of the movement of the meniscus (curved surface at the gas-liquid interface) of the coating liquid formed on the upstream side in the substrate transport direction of the slot die is affected. , It stays up to the first coating liquid, and it is difficult to reach the second coating liquid applied adjacent to the first coating liquid. As a result, it is considered that the influence of the above-mentioned movement of the meniscus and the like is blocked by the first coating liquid, so that the generation of step unevenness and coating streaks in the coating layer formed from the second coating liquid can be suppressed. ..

加えて、本開示の積層体の製造方法では、第2塗布液を塗布するスロットにおける、基材搬送方向の下流側リップ面と基材との最短距離d1(単に距離d1ともいう)と、基材搬送方向の上流側リップ面と基材との最短距離d2(単に距離d2ともいう)と、の差(d1−d2)が10μm以上である。
差(d1−d2)は、アンダーバイト量ともいい、この値が10μm以上であることで、第2塗布液の塗布のし易さと、第2塗布液による塗膜の薄層化を達成しうる。
また、本開示の積層体の製造方法では、距離d2と第1塗布液から形成された塗膜の厚みhとの関係がd2>3×hを満たす。
この関係d2>3×hを満たすことで、第1塗布液の圧力が抑えられて、第2塗布液への外乱の伝播が弱くなり、第2塗布液から形成された塗膜に生じる段ムラを軽減することができる。
In addition, in the method for producing a laminate of the present disclosure, the shortest distance d1 (also simply referred to as a distance d1) between the downstream lip surface in the substrate transport direction and the substrate in the slot for applying the second coating liquid and the base. The difference (d1-d2) between the shortest distance d2 (also simply referred to as the distance d2) between the upstream lip surface in the material transport direction and the base material is 10 μm or more.
The difference (d1-d2) is also referred to as the amount of underbite, and when this value is 10 μm or more, the ease of applying the second coating liquid and the thinning of the coating film by the second coating liquid can be achieved. ..
Further, in the method for producing a laminate of the present disclosure, the relationship between the distance d2 and the thickness h of the coating film formed from the first coating liquid satisfies d2> 3 × h.
By satisfying this relationship d2> 3 × h, the pressure of the first coating liquid is suppressed, the propagation of disturbance to the second coating liquid is weakened, and the step unevenness that occurs in the coating film formed from the second coating liquid. Can be reduced.

なお、上記した、特開2002−059062号公報、特開2013−220385号公報、及び特開2013−052329号公報に記載の方法は、(1)基材上に塗布される第1塗布液の固形分含有率が第1塗布液の固形分含有率の10質量%以下であること、(2)アンダーバイト量ともいう差(d1−d2)が10μm以上であること、及び、(3)距離d2と塗膜の厚みhとの関係がd2>3×hを満たすこと、の全てを満たすものではない。
また、特開2002−059062号公報、特開2013−220385号公報、及び特開2013−052329号公報には、目的とする単層の形成に重層塗布を行うといった技術思想はなく、更に、この技術にて塗布スジ及び段ムラの発生が抑制された薄層(単層)を得ることも勿論検討されていない。
The above-mentioned methods described in JP-A-2002-059062, JP-A-2013-220385, and JP-A-2013-052329 are: (1) the first coating liquid to be applied on a substrate. The solid content is 10% by mass or less of the solid content of the first coating film, (2) the difference (d1-d2), which is also called the underbite amount, is 10 μm or more, and (3) the distance. The relationship between d2 and the thickness h of the coating film does not satisfy all of satisfying d2> 3 × h.
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-059062, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-220385, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-052329 do not have a technical idea of performing multi-layer coating for forming a target single layer, and further, this Of course, it has not been studied to obtain a thin layer (single layer) in which the occurrence of coating streaks and step unevenness is suppressed by the technique.

[重層塗布工程]
(塗布装置)
本開示の積層体の製造方法では、スロットダイによる重層塗布工程が実施される。重層塗布工程に適用する塗布装置について、図面を参照して説明する。
ここで、図1は、スロットダイを有する塗布装置の一例を示す概略断面図である。
[Multi-layer coating process]
(Applying device)
In the method for producing a laminate of the present disclosure, a multi-layer coating step using a slot die is performed. The coating apparatus applied to the multi-layer coating process will be described with reference to the drawings.
Here, FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a coating device having a slot die.

図1に示すように、塗布装置100は、基材120を支持して回転するバックアップロール110と、基材120に第1塗布液140a及び第2塗布液140bを塗布するスロットダイ130と、を備える。
基材120としては、例えば、後述のポリマーフィルム等の基材が適用される。
As shown in FIG. 1, the coating device 100 includes a backup roll 110 that rotates while supporting the base material 120, and a slot die 130 that coats the base material 120 with the first coating liquid 140a and the second coating liquid 140b. Be prepared.
As the base material 120, for example, a base material such as a polymer film described later is applied.

バックアップロール110は、回転自在に構成されており、基材を巻き掛けて連続搬送することができる部材であって、基材120の搬送速度と同速度で回転駆動する。
バックアップロール110は、特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロール110としては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から40μm〜60μmが好ましい。
また、バックアップロールの表面粗さは、基材120とバックアップロール110との摩擦力のバラツキを低減させる点から、表面粗さRaにて0.1μm以下が好ましい。
The backup roll 110 is a member that is rotatably configured and can be continuously transported by winding a base material, and is rotationally driven at the same speed as the transport speed of the base material 120.
As the backup roll 110, a known one can be used without particular limitation.
As the backup roll 110, for example, one having a hard chrome-plated surface can be preferably used.
The thickness of the plating is preferably 40 μm to 60 μm from the viewpoint of ensuring conductivity and strength.
The surface roughness of the backup roll is preferably 0.1 μm or less in terms of surface roughness Ra from the viewpoint of reducing the variation in the frictional force between the base material 120 and the backup roll 110.

バックアップロール110は、塗膜の乾燥促進を高める観点から、また、膜面温度低下による塗膜のブラッシング(即ち、微細な結露が生じることによる塗膜の白化)の抑制など観点から、加温されていてもよい。
バックアップロール110の表面温度は、塗膜の組成、塗膜の硬化性能、基材120の耐熱性等に応じて決定されればよく、例えば、30℃〜130℃が好ましく、40℃〜100℃がより好ましい。
The backup roll 110 is heated from the viewpoint of enhancing the drying promotion of the coating film and from the viewpoint of suppressing brushing of the coating film due to a decrease in the film surface temperature (that is, whitening of the coating film due to the occurrence of fine dew condensation). May be.
The surface temperature of the backup roll 110 may be determined according to the composition of the coating film, the curing performance of the coating film, the heat resistance of the base material 120, and the like, and is preferably 30 ° C. to 130 ° C., preferably 40 ° C. to 100 ° C. Is more preferable.

バックアップロール110は、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロール110の表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロール110の温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水による冷却が用いられる。
It is preferable that the backup roll 110 detects the surface temperature and the surface temperature of the backup roll 110 is maintained by the temperature control means based on the temperature.
The temperature control means of the backup roll 110 includes a heating means and a cooling means. Induction heating, water heating, oil heating and the like are used as the heating means, and cooling with cooling water is used as the cooling means.

バックアップロール110の直径としては、基材120が巻き掛け易い観点、スロットダイによる重層塗布が容易な観点、及び、バックアップロール110の製造コストの観点から、100mm〜1000mmが好ましく、100mm〜800mmがより好ましく、200mm〜700mmが更に好ましい。 The diameter of the backup roll 110 is preferably 100 mm to 1000 mm, more preferably 100 mm to 800 mm, from the viewpoint of easy winding of the base material 120, easy layer coating with a slot die, and the manufacturing cost of the backup roll 110. It is preferable, and more preferably 200 mm to 700 mm.

バックアップロール110での基材120の搬送速度は、生産性の確保の観点、及び、塗布性の観点から、10m/min〜100m/minであることが好ましい。 The transport speed of the base material 120 on the backup roll 110 is preferably 10 m / min to 100 m / min from the viewpoint of ensuring productivity and coatability.

バックアップロール110に対する基材120のラップ角は、塗布時における基材120の搬送が安定化され、塗膜の厚みムラの発生を抑制する観点から、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。また、ラップ角の上限は、360°未満であればよく、例えば、180°に設定することができる。
なお、ラップ角とは、基材120がバックアップロール110に接触する際の基材120の搬送方向と、バックアップロール110から基材120が離間する際の120の搬送方向と、からなる角度をいう。
The lap angle of the base material 120 with respect to the backup roll 110 is preferably 60 ° or more, more preferably 90 ° or more, from the viewpoint of stabilizing the transport of the base material 120 at the time of coating and suppressing the occurrence of uneven thickness of the coating film. .. Further, the upper limit of the lap angle may be less than 360 °, and can be set to, for example, 180 °.
The lap angle refers to an angle including a transport direction of the base material 120 when the base material 120 comes into contact with the backup roll 110 and a transport direction of 120 when the base material 120 separates from the backup roll 110. ..

スロットダイ130は、複数のブロック132A,132B,132Cで構成される。スロットダイ130の内部には、複数のブロック132A,132B,132Cを組み合わせることにより、塗布液の流路であるスロット134a及び134bと、塗布液を貯留するポケット136a及び136bと、が形成されている。
具体的には、ブロック132A及び132Bにより、第1塗布液140aを貯留するポケット136aと、ポケット136aからスロットダイ130の先端部に延在する、第1塗布液140aの流路であるスロット134aと、が形成されている。同様に、ブロック132B及び132Cにより、第2塗布液140bを貯留するポケット136bと、ポケット136bからスロットダイ130の先端部に延在する、第2塗布液140bの流路であるスロット134bと、が形成されている。
つまり、塗布装置100には、第1塗布液140aを塗布するスロットとしてスロット134aがあり、第2塗布液140bを塗布するスロットとしてスロット134bがある。
The slot die 130 is composed of a plurality of blocks 132A, 132B, 132C. By combining a plurality of blocks 132A, 132B, 132C, slots 134a and 134b, which are flow paths of the coating liquid, and pockets 136a and 136b for storing the coating liquid are formed inside the slot die 130. ..
Specifically, the blocks 132A and 132B form a pocket 136a for storing the first coating liquid 140a, and a slot 134a which is a flow path of the first coating liquid 140a extending from the pocket 136a to the tip of the slot die 130. , Are formed. Similarly, the blocks 132B and 132C provide a pocket 136b for storing the second coating liquid 140b and a slot 134b which is a flow path of the second coating liquid 140b extending from the pocket 136b to the tip of the slot die 130. It is formed.
That is, the coating device 100 has a slot 134a as a slot for applying the first coating liquid 140a and a slot 134b as a slot for applying the second coating liquid 140b.

ポケット136a,136bは、スロットダイ130の幅方向(即ち、基材120の搬送方向に対して垂直方向)にその断面形状を延長された塗布液の貯留空間である。ポケット136a,136bは、塗布液の貯留ができればその形状は問われず、図1に示すように、断面形状が略円形であってもよいし、半円形であってもよい。 The pockets 136a and 136b are storage spaces for the coating liquid whose cross-sectional shape is extended in the width direction of the slot die 130 (that is, the direction perpendicular to the transport direction of the base material 120). The shape of the pockets 136a and 136b does not matter as long as the coating liquid can be stored, and as shown in FIG. 1, the cross-sectional shape may be substantially circular or semicircular.

スロットダイ130の先端面であるリップ面は、基材120に対向する面である。
図2に示されるように、リップ面は、3つのブロック132A,132B,132C毎に存在し、基材120の搬送方向の最上流(これ以後、特に断らない限り、上流、下流、上流側、下流側との記載は、全て基材120の搬送方向に対して上流(側)、下流(側)を意味する。)から、リップ面138A,138B,138Cとなる。
塗布装置100では、リップ面138Cが第2塗布液140bを塗布するスロット134bにおける下流側リップ面となり、リップ面138Bが第2塗布液140bを塗布するスロット134bにおける上流側リップ面となる。そして、リップ面138Bは、第1塗布液140aを塗布するスロット134aにおける下流側リップ面となり、リップ面138Aが第1塗布液140aを塗布するスロット134aにおける上流側リップ面となる。
The lip surface, which is the tip surface of the slot die 130, is a surface facing the base material 120.
As shown in FIG. 2, the lip surface exists for each of the three blocks 132A, 132B, 132C, and the most upstream flow in the transport direction of the base material 120 (hereinafter, unless otherwise specified, upstream, downstream, upstream side, The description of the downstream side means the upstream (side) and the downstream (side) with respect to the transport direction of the base material 120), and the lip surfaces are 138A, 138B, and 138C.
In the coating device 100, the lip surface 138C is the downstream lip surface in the slot 134b for applying the second coating liquid 140b, and the lip surface 138B is the upstream lip surface in the slot 134b for applying the second coating liquid 140b. The lip surface 138B becomes the downstream lip surface in the slot 134a for applying the first coating liquid 140a, and the lip surface 138A becomes the upstream lip surface in the slot 134a for applying the first coating liquid 140a.

塗布装置100は、第2塗布液140bを塗布するスロット134bにおける、下流側リップ面138Cと基材120との距離d1と、上流側リップ面138Bと基材120との距離d2と、の差(d1−d2)が10μm以上であり、また、距離d2と第1塗布液140aから形成された塗膜122の厚みhとの関係がd2>3×hを満たす、ように設計されたスロットダイ130を用いる。 The coating device 100 has a difference (d) between the distance d1 between the downstream lip surface 138C and the base material 120 and the distance d2 between the upstream lip surface 138B and the base material 120 in the slot 134b where the second coating liquid 140b is applied. The slot die 130 is designed so that d1-d2) is 10 μm or more, and the relationship between the distance d2 and the thickness h of the coating film 122 formed from the first coating liquid 140a satisfies d2> 3 × h. Is used.

上記の差(d1−d2)及びd2>3×hについて、図2を参照して説明する。なお、図2では、第1塗布液140aから形成された塗膜122の厚さ「h」には、第2塗布液140bから形成された塗膜124の厚さ「h2」と区別するために、「h1」を併記している。
図2のように、差(d1−d2)は、第2塗布液140bを塗布するスロット134bにおける、下流側リップ面138Cと基材120の表面との距離d1と、上流側リップ面138Bと基材120の表面との距離d2と、の差である。
アンダーバイト量とも呼ばれる差(d1−d2)は、10μm以上であり、15μm以上が好ましい。
差(d1−d2)を10μm以上とすることで、例えば、厚みが5μm以下の塗膜を形成し易い。
また、差(d1−d2)の上限としては、第2塗布液の粘度、塗布量、基材120の搬送速度等により決定されればよく、例えば、300μm以下が好ましく、塗布スジの発生を抑制しやすくなる観点から、200μm以下がより好ましい。
The above difference (d1-d2) and d2> 3 × h will be described with reference to FIG. In addition, in FIG. 2, in order to distinguish the thickness "h" of the coating film 122 formed from the first coating film 140a from the thickness "h2" of the coating film 124 formed from the second coating film 140b. , "H1" are also written.
As shown in FIG. 2, the difference (d1-d2) is based on the distance d1 between the downstream lip surface 138C and the surface of the base material 120 in the slot 134b to which the second coating liquid 140b is applied, and the upstream lip surface 138B. This is the difference from the distance d2 from the surface of the material 120.
The difference (d1-d2), which is also called the amount of underbite, is 10 μm or more, preferably 15 μm or more.
By setting the difference (d1-d2) to 10 μm or more, for example, it is easy to form a coating film having a thickness of 5 μm or less.
The upper limit of the difference (d1-d2) may be determined by the viscosity of the second coating liquid, the coating amount, the transport speed of the base material 120, and the like. For example, 300 μm or less is preferable, and the occurrence of coating streaks is suppressed. 200 μm or less is more preferable from the viewpoint of facilitating the operation.

また、図2のように、距離d2と第1塗布液140aから形成された塗膜122の厚みh(h1)との関係がd2>3×h(h1)を満たす。
距離d2と塗膜122の厚みh(h1)との関係は、d2>3×h(h1)とすることで、上層である第2塗布液140bから形成される塗膜122の段ムラを軽減できる。
距離d2と塗膜122の厚みh(h1)との関係は、d2>4×h(h1)が好ましく、d2>5×h(h1)がより好ましい。
ここで、距離d2の値は、第1塗布液の塗布量に応じて定められるが、第1塗布液を薄く塗りたい場合(つまり、第1塗布液の塗布量が少ない場合)は、例えば、距離d2を1mm以下、好ましくは500μm以下に設定することができる。距離d2の値を小さくすることで、第1塗布液140aから形成された塗膜122の厚みh(h1)を、例えば、10μm以下とし易くなる。
Further, as shown in FIG. 2, the relationship between the distance d2 and the thickness h (h1) of the coating film 122 formed from the first coating liquid 140a satisfies d2> 3 × h (h1).
By setting the relationship between the distance d2 and the thickness h (h1) of the coating film 122 as d2> 3 × h (h1), step unevenness of the coating film 122 formed from the second coating liquid 140b, which is the upper layer, is reduced. it can.
The relationship between the distance d2 and the thickness h (h1) of the coating film 122 is preferably d2> 4 × h (h1), more preferably d2> 5 × h (h1).
Here, the value of the distance d2 is determined according to the coating amount of the first coating liquid, but when it is desired to apply the first coating liquid thinly (that is, when the coating amount of the first coating liquid is small), for example, The distance d2 can be set to 1 mm or less, preferably 500 μm or less. By reducing the value of the distance d2, the thickness h (h1) of the coating film 122 formed from the first coating liquid 140a can be easily set to, for example, 10 μm or less.

ここで、距離d1及び距離d2は、それぞれ、以下のようにして測定する。
即ち、距離d2はテーパーゲージにて測定することができる。
また、距離d1は、距離d1と距離d2との差(即ち、差(d1−d2))を測定顕微鏡の段差測定機能を用いて測定し、得られた測定値を上記方法で測定した距離d2の測定値と足すことで求められる。
Here, the distance d1 and the distance d2 are measured as follows, respectively.
That is, the distance d2 can be measured with a taper gauge.
Further, for the distance d1, the difference between the distance d1 and the distance d2 (that is, the difference (d1-d2)) is measured by using the step measurement function of the measuring microscope, and the obtained measured value is measured by the above method. It is obtained by adding it to the measured value of.

また、第1塗布液による塗膜の厚み(図2におけるh(h1))及び第2塗布液による塗膜の厚み(図2におけるh2)は、それぞれ、以下のようにして測定する。
ここで、厚みh(h1)及び厚みh2は、基材上に、第2塗布液及び第1塗布液のそれぞれによる単独の塗膜を重層塗布の際と同様の条件で形成し、形成された塗膜の厚みを光干渉式膜厚計により測定することで求められる。
光干渉式膜厚計としては、例えば、キーエンス社製の赤外分光干渉式膜厚計SI−T80を用いることができる。
なお、測定位置は、第1塗布液による塗膜は、第1塗布液を塗布するスロットを構成するブロック(図1及び図2におけるブロック132B)の基材搬送方向の下流側端部から100mm離間した位置とし、第1塗布液による塗膜は、第1塗布液を塗布するスロットを構成するブロック(図1及び図2におけるブロック132B)の基材搬送方向の下流側端部から100mm離間した位置とする。
Further, the thickness of the coating film by the first coating liquid (h (h1) in FIG. 2) and the thickness of the coating film by the second coating liquid (h2 in FIG. 2) are measured as follows.
Here, the thickness h (h1) and the thickness h2 are formed by forming a single coating film of each of the second coating liquid and the first coating liquid on the base material under the same conditions as in the case of multi-layer coating. It is obtained by measuring the thickness of the coating film with an optical interference type film thickness meter.
As the optical interference type film thickness meter, for example, an infrared spectroscopic interference type film thickness meter SI-T80 manufactured by KEYENCE Corporation can be used.
The measurement position is such that the coating film with the first coating liquid is 100 mm away from the downstream end of the block (block 132B in FIGS. 1 and 2) forming the slot for applying the first coating liquid in the substrate transport direction. The position where the coating film with the first coating liquid is applied is 100 mm away from the downstream end of the block (block 132B in FIGS. 1 and 2) forming the slot for applying the first coating liquid in the substrate transport direction. And.

本開示において、距離d1としては、塗布のし易さ、装置設計の容易性等の観点から、100μm〜500μmが好ましい。
また、距離d2としては、塗布のし易さ、装置設計の容易性等の観点から、50μm〜1mmが好ましく、50μm〜500μmが好ましい。
In the present disclosure, the distance d1 is preferably 100 μm to 500 μm from the viewpoint of ease of coating, ease of device design, and the like.
The distance d2 is preferably 50 μm to 1 mm, preferably 50 μm to 500 μm, from the viewpoint of ease of coating, ease of device design, and the like.

本開示において、第1塗布液による塗膜の厚みh(h1)としては、段ムラ及び塗布スジの発生が抑制された塗膜を形成しやすい観点、並びに、溶媒の除去性等の観点から、例えば、1μm〜15μmが好ましい。
また、第2塗布液による塗膜の厚みh2としては、目的とする塗工層の膜厚に応じて決定されればよく、例えば、1μm〜15μmの範囲が設定される。
In the present disclosure, the thickness h (h1) of the coating film by the first coating liquid is defined from the viewpoint of easily forming a coating film in which the occurrence of step unevenness and coating streaks is suppressed, and from the viewpoint of solvent removability and the like. For example, 1 μm to 15 μm is preferable.
Further, the thickness h2 of the coating film by the second coating liquid may be determined according to the film thickness of the target coating layer, and is set in the range of, for example, 1 μm to 15 μm.

ここで、図1に示す塗布装置100は、3つのブロック132A,132B,132Cと、2つのポケット136a,136bと、2つのスロット134a,134bと、を有する構成であるが、ブロックの個数は3つに限定されるものではなく、ブロックを組み合わせて形成されるポケット及びスロットの個数も2つに限定されるものではない。
つまり、本開示の積層体の製造方法に適用しうる塗布装置としては、必要とされる塗布膜の種類及び数に応じて、4つ以上のブロックで、必要な数量のポケット及びスロットを形成する態様であってもよい。
Here, the coating device 100 shown in FIG. 1 has a configuration having three blocks 132A, 132B, 132C, two pockets 136a, 136b, and two slots 134a, 134b, but the number of blocks is three. The number of pockets and slots formed by combining blocks is not limited to one, and the number of pockets and slots formed by combining blocks is not limited to two.
That is, as a coating device applicable to the method for producing a laminate of the present disclosure, a required number of pockets and slots are formed by four or more blocks according to the type and number of coating films required. It may be an embodiment.

本開示の積層体の製造方法に適用しうる塗布装置が、4つのブロックを有し、4つのブロックを組み合わせて形成されるポケット及びスロットの個数が3つである場合、第1塗布液及び第2塗布液の他に、第3塗布液が用いられる。
この塗布装置では、第1塗布液及び第2塗布液とこれらの塗布液を塗布する際の「差(d1−d2)」及び「距離d2と第1塗布液から形成された塗膜の厚みhとの関係」は、前述の通りである。このように構成することによって、第1塗布液の圧力が抑えられて第2塗布液及び第3塗布液への外乱の伝播が弱くなり、第2塗布液から形成される塗膜及び第3塗布液から形成される塗膜に生じる段ムラを軽減することができる。
また、第3塗布液は、第2塗布液に隣接して塗布される塗布液である。第3塗布液を塗布するスロット及び第3から形成された塗膜の厚みについては特に制限はないが、以下のような態様とすることが好ましい。
即ち、第3塗布液を塗布するスロットにおける、基材搬送方向の下流側リップ面と基材との最短距離d0と、基材搬送方向の上流側リップ面と基材との最短距離d1と、の差(d0−d1)は10μm以上であることが好ましい。このように構成することによって、第3塗布液の塗布のし易さと、第3塗布液による塗膜の薄層化を達成しうる。
なお、上記の態様は、ブロックの個数並びにポケット及びスロットの個数が更に多くなり、塗布液の種類が増えた場合であっても好ましい態様である。
When the coating apparatus applicable to the method for producing a laminate of the present disclosure has four blocks and the number of pockets and slots formed by combining the four blocks is three, the first coating liquid and the first coating liquid and the first coating apparatus. In addition to the 2 coating liquid, the 3rd coating liquid is used.
In this coating apparatus, the "difference (d1-d2)" when the first coating liquid and the second coating liquid and these coating liquids are applied, and the "distance d2 and the thickness h of the coating film formed from the first coating liquid". "Relationship with" is as described above. With this configuration, the pressure of the first coating liquid is suppressed, the propagation of disturbance to the second coating liquid and the third coating liquid is weakened, and the coating film and the third coating formed from the second coating liquid are weakened. It is possible to reduce the step unevenness that occurs in the coating film formed from the liquid.
The third coating liquid is a coating liquid that is applied adjacent to the second coating liquid. The thickness of the slot for applying the third coating liquid and the coating film formed from the third coating liquid is not particularly limited, but the following aspects are preferable.
That is, in the slot for applying the third coating liquid, the shortest distance d0 between the downstream lip surface in the base material transport direction and the base material, and the shortest distance d1 between the upstream lip surface in the base material transport direction and the base material. The difference (d0-d1) is preferably 10 μm or more. With such a configuration, the ease of coating the third coating liquid and the thinning of the coating film by the third coating liquid can be achieved.
The above aspect is preferable even when the number of blocks and the number of pockets and slots are further increased and the types of coating liquid are increased.

[第1塗布液及び第2塗布液]
本開示における重層塗布工程では、第1塗布液及び第2塗布液が用いられる。
第1塗布液は、基材上に接触して塗布される塗布液である。
第2塗布液は、第1塗布液に隣接して塗布される塗布液であり、目的とする塗工層を形成するために用いる塗布液である。
そして、第1塗布液の固形分含有率Aと第2塗布液の固形分含有率Bとの比A/Bが0.1以下である。
第2塗布液としては、本開示の積層体の製造方法により薄層が形成できる観点から、例えば、光学フィルムにおける、ハードコート層、液晶層、屈折率調整層等を形成するための塗布液が挙げられる。
[First coating liquid and second coating liquid]
In the multi-layer coating step in the present disclosure, the first coating liquid and the second coating liquid are used.
The first coating liquid is a coating liquid that is applied in contact with the substrate.
The second coating liquid is a coating liquid that is applied adjacent to the first coating liquid, and is a coating liquid used to form a target coating layer.
The ratio A / B of the solid content content A of the first coating liquid to the solid content content B of the second coating liquid is 0.1 or less.
As the second coating liquid, from the viewpoint that a thin layer can be formed by the method for producing a laminate of the present disclosure, for example, a coating liquid for forming a hard coat layer, a liquid crystal layer, a refractive index adjusting layer, etc. in an optical film is used. Can be mentioned.

(第2塗布液)
第2塗布液における固形分含有率Bは、目的とする塗工層の種類、粘度等に応じて決定されればよい。
中でも、例えば、段ムラ及び塗布スジの発生が抑制された塗工層の形成の観点からは、固形分含有率Bは、例えば、第2塗布液の全質量に対して5質量%〜50質量%の範囲とすることが好ましい。
(Second coating liquid)
The solid content content B in the second coating liquid may be determined according to the type, viscosity, etc. of the target coating layer.
Above all, for example, from the viewpoint of forming a coating layer in which the occurrence of step unevenness and coating streaks is suppressed, the solid content content B is, for example, 5% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the second coating liquid. It is preferably in the range of%.

第2塗布液の粘度としては、例えば、段ムラ及び塗布スジの発生が抑制された塗工層の形成の観点から、例えば、0.4mPa・s〜3mPa・sの範囲とすることが好ましい。
ここで、第2塗布液の粘度は、B型粘度計、振動型粘度計等によって測定されるが、本開示においては、B型粘度計にて測定された値を採用している。
The viscosity of the second coating liquid is preferably, for example, in the range of 0.4 mPa · s to 3 mPa · s from the viewpoint of forming a coating layer in which the occurrence of step unevenness and coating streaks is suppressed.
Here, the viscosity of the second coating liquid is measured by a B-type viscometer, a vibration-type viscometer, or the like, but in the present disclosure, the value measured by the B-type viscometer is adopted.

ここで、第2塗布液の一例として、ハードコート層を形成するための塗布液(以下、ハードコート層形成用塗布液ともいう)について説明するが、本開示はこの態様に限定されるものではない。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応又は重合反応により形成されることが好ましい。つまり、ハードコート層形成用塗布液としては、例えば、モノマー、オリゴマー等の重合性化合物、重合開始剤、及び溶媒を含むことが好ましい。
重合性化合物としては、光、電子線、放射線等の活性エネルギー線にて重合性を示す化合物が好ましく、中でも、光重合性を示す化合物が好ましい。
光重合性を示す重合性化合物としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。
Here, as an example of the second coating liquid, a coating liquid for forming a hard coat layer (hereinafter, also referred to as a coating liquid for forming a hard coat layer) will be described, but the present disclosure is not limited to this aspect. Absent.
The hard coat layer is preferably formed by a cross-linking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. That is, it is preferable that the coating liquid for forming the hard coat layer contains, for example, a polymerizable compound such as a monomer or an oligomer, a polymerization initiator, and a solvent.
As the polymerizable compound, a compound exhibiting polymerizability with active energy rays such as light, electron beam, and radiation is preferable, and among them, a compound exhibiting photopolymerizability is preferable.
Examples of the polymerizable compound exhibiting photopolymerizability include compounds having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group, and among them, a compound having a (meth) acryloyl group is used. preferable.

−不飽和二重結合を有する化合物−
不飽和二重結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、ポリマー等が挙げられ、中でも、不飽和二重結合を2つ以上(好ましくは3つ以上)有する多官能モノマーであることが好ましい。
-Compounds with unsaturated double bonds-
Examples of the compound having an unsaturated double bond include a monomer, an oligomer, a polymer, and the like, and among them, a polyfunctional monomer having two or more (preferably three or more) unsaturated double bonds is preferable.

不飽和二重結合を2つ以上有する多官能モノマーとしては、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシド或いはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができ、中でも、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類が好ましい。 Examples of the polyfunctional monomer having two or more unsaturated double bonds include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, and (meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohol. Examples include (meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, etc., among which polyhydric alcohols (Meta) acrylic acid diesters are preferable.

不飽和二重結合を2つ以上有する多官能モノマーとしては、具体的には、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。 Specific examples of the polyfunctional monomer having two or more unsaturated double bonds include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol. Di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modification Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylphosphate (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, trimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipenta Erislitol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocia Nurate and the like can be mentioned.

不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用塗布液中の不飽和二重結合を有する化合物の含有率は、十分な重合率を与えて硬度などを付与する観点から、ハードコート層形成用塗布液中の全固形分に対して、40質量%〜98質量%が好ましく、60質量%〜95質量%がより好ましい。
The compound having an unsaturated double bond can be used alone or in combination of two or more.
The content of the compound having an unsaturated double bond in the coating liquid for forming a hard coat layer is the total solid content in the coating liquid for forming a hard coat layer from the viewpoint of imparting a sufficient polymerization rate to impart hardness and the like. On the other hand, 40% by mass to 98% by mass is preferable, and 60% by mass to 95% by mass is more preferable.

−重合開始剤−
ハードコート層形成用塗布液は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落[0133]〜[0151]に記載されており、本開示においても同様に好適に用いることができる。
また、重合開始剤としては、「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており、これらを用いることもできる。
-Polymerization initiator-
The coating liquid for forming a hard coat layer preferably contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator, for example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyl. Examples thereof include dione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lofin dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes and coumarins.
Specific examples of the photopolymerization initiator, preferred embodiments, commercially available products, and the like are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-098658, and can be preferably used in the present disclosure as well. it can.
In addition, as a polymerization initiator, "Latest UV Curing Technology" {Technical Information Association Co., Ltd.} (1991), p. 159 and "Ultraviolet Curing System" by Kiyomi Kato (published by General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65 to 148, and these can also be used.

重合開始剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層用組成物中の重合開始剤の含有率は、ハードコート層用組成物に含まれる重合性化合物を重合させるのに十分多く、かつ、開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという観点から、ハードコート層用組成物中の全固形分に対して、0.5質量%〜8質量%が好ましく、1質量%〜5質量%がより好ましい。
The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymerization initiator in the composition for the hard coat layer is set to a sufficiently small amount so as to polymerize the polymerizable compound contained in the composition for the hard coat layer and not to increase the starting points too much. From the viewpoint of the above, 0.5% by mass to 8% by mass is preferable, and 1% by mass to 5% by mass is more preferable with respect to the total solid content in the composition for the hard coat layer.

−有機溶剤−
ハードコート層形成用塗布液は、溶媒として種々の有機溶剤を含有してもよい。
有機溶剤としては、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等を用いることができる。
具体的には、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン(MEKともいう)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン(アノンともいう)、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
-Organic solvent-
The coating liquid for forming a hard coat layer may contain various organic solvents as a solvent.
As the organic solvent, an ether solvent, a ketone solvent, an aliphatic hydrocarbon solvent, an aromatic hydrocarbon solvent and the like can be used.
Specifically, for example, dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetol, methylethylketone (also known as MEK). ), Diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone (also called anon), methylcyclohexanone, methylisobutylketone, 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol Examples thereof include isopropyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, ethyl carbitol, butyl carbitol, hexane, heptane, octane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, benzene, toluene and xylene.

また、上記以外の、例えば、親水性溶媒を含むことが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒を用いてもよい。
具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2−エチル−1−ヘキサノール、2−メチル−1ヘキサノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルn−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、アセトン、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEAともいう)、ジエチレングリコールアセテート等が挙げられる。
Further, it is preferable to contain, for example, a hydrophilic solvent other than the above. As the hydrophilic solvent, an alcohol solvent, a carbonate solvent, or an ester solvent may be used.
Specifically, for example, methanol, ethanol, isopropanol, n-butyl alcohol, cyclohexyl alcohol, 2-ethyl-1-hexanol, 2-methyl-1hexanol, 2-methoxyethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol. , Diacetone alcohol, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diisopropyl carbonate, methyl ethyl carbonate, methyl n-propyl carbonate, ethyl formate, propyl acetate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methyl propionate, propionic acid Ethyl, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-methoxyacetate, methyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, acetone, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, ethylene glycol mono Examples thereof include butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (also referred to as PGMEA), and diethylene glycol acetate.

有機溶剤としては、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用塗布液中の溶剤は、ハードコート層形成用塗布液の固形分含有率が20質量%〜80質量%の範囲となるように用いるのが好ましい。即ち、ハードコート層形成用塗布液中の溶剤の含有率は、ハードコート層形成用塗布液の全質量に対して、20質量%〜80質量%が好ましく、25質量%〜70質量%がより好ましく、30質量%〜60質量%が更に好ましい。
As the organic solvent, one type alone or two or more types can be used in combination.
The solvent in the coating liquid for forming the hard coat layer is preferably used so that the solid content of the coating liquid for forming the hard coat layer is in the range of 20% by mass to 80% by mass. That is, the content of the solvent in the coating liquid for forming the hard coat layer is preferably 20% by mass to 80% by mass, more preferably 25% by mass to 70% by mass, based on the total mass of the coating liquid for forming the hard coat layer. It is preferable, and 30% by mass to 60% by mass is more preferable.

−界面活性剤−
ハードコート層形成用塗布液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、特に制限はないが、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりも高分子化合物であることが好ましい。
-Surfactant-
The coating liquid for forming a hard coat layer may contain a surfactant.
The surfactant is not particularly limited, but a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant are preferable. Further, the surfactant is preferably a high molecular compound rather than a low molecular compound.

界面活性剤としては、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有率は、ハードコート層形成用塗布液の全固形分に対し、0.01質量%〜0.5質量%であることが好ましく、0.01質量%〜0.3質量%であることがより好ましい。
As the surfactant, one type alone or two or more types can be used in combination.
The content of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 0.5% by mass, preferably 0.01% by mass to 0.3% by mass, based on the total solid content of the coating liquid for forming the hard coat layer. Is more preferable.

−その他の成分−
ハードコート層形成用塗布液は、無機粒子、樹脂粒子、屈折率調整用のモノマー、導電性化合物等のその他の成分を含んでいてもよい。
-Other ingredients-
The coating liquid for forming the hard coat layer may contain other components such as inorganic particles, resin particles, a monomer for adjusting the refractive index, and a conductive compound.

ハードコート層形成用塗布液は、上記の組成に限定されず、例えば、特許5933353号公報、特許5331919号公報等に記載の塗布液を適用してもよい。 The coating liquid for forming a hard coat layer is not limited to the above composition, and for example, the coating liquid described in Japanese Patent No. 5933353, Japanese Patent No. 5331919, etc. may be applied.

(第1塗布液)
第1塗布液は、固形分含有率Aを有する塗布液である。本開示において、第1塗布液の固形分含有率Aと第2塗布液の固形分含有率Bとの比A/Bは、0.1以下である。
つまり、第1塗布液の固形分含有率Aは、第2塗布液の固形分含有率Bの1/10以下である。
特に、第2塗布液から形成される塗工層への影響を考慮する観点からは、固形分含有率は少なければ少ないほどよい。具体的には、第1塗布液の固形分含有率Aは、第2塗布液の固形分含有率Bの1/20以下が好ましく、第2塗布液の固形分含有率Bの1/100以下がより好ましく、第1塗布液の固形分含有率が0質量%(即ち、第2塗布液が溶媒のみからなる)であることが特に好ましい。
(First coating liquid)
The first coating liquid is a coating liquid having a solid content content A. In the present disclosure, the ratio A / B of the solid content content A of the first coating liquid to the solid content content B of the second coating liquid is 0.1 or less.
That is, the solid content content A of the first coating liquid is 1/10 or less of the solid content content B of the second coating liquid.
In particular, from the viewpoint of considering the influence on the coating layer formed from the second coating liquid, the smaller the solid content is, the better. Specifically, the solid content A of the first coating liquid is preferably 1/20 or less of the solid content B of the second coating liquid, and 1/100 or less of the solid content B of the second coating liquid. Is more preferable, and it is particularly preferable that the solid content content of the first coating liquid is 0% by mass (that is, the second coating liquid consists only of the solvent).

第1塗布液は、第2塗布液から形成される塗工層への影響を考慮する観点から、溶媒を第1の塗布液の全質量に対して、90質量%以上含む塗布液であることが好ましい。第1塗布液中の溶媒の含有率は、95質量%以上がより好ましく、99質量%以上が更に好ましく、100質量%が特に好ましい。
ここで、第1塗布液に含まれる溶媒としては、特に制限はなく、水の他、公知の有機溶剤が適用できる。有機溶剤としては、具体的には、例えば、前述のハードコート層形成用塗布液に適用される有機溶剤が挙げられる。
第1塗布液に含まれる有機溶剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
The first coating liquid is a coating liquid containing 90% by mass or more of the solvent with respect to the total mass of the first coating liquid from the viewpoint of considering the influence on the coating layer formed from the second coating liquid. Is preferable. The content of the solvent in the first coating liquid is more preferably 95% by mass or more, further preferably 99% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass.
Here, the solvent contained in the first coating liquid is not particularly limited, and a known organic solvent can be applied in addition to water. Specific examples of the organic solvent include the organic solvent applied to the above-mentioned coating liquid for forming a hard coat layer.
The organic solvent contained in the first coating liquid may be used alone or in combination of two or more.

第1塗布液に含まれる有機溶剤としては、第1塗布液から形成される塗膜の除去性の点から、その少なくとも一部として、沸点が80℃以下の有機溶剤を用いることが好ましい。沸点が80℃以下の有機溶剤としては、テトラヒドロフラン(沸点:66℃)、アセトン(沸点:56℃)、メチルエチルケトン(沸点:80℃)、n−ヘキサン(沸点):69℃)、ベンゼン(沸点:80℃)、酢酸メチル(沸点:57℃)、酢酸エチル(沸点:77℃)、エタノール(沸点:78℃)等が挙げられる。
なお、第1塗布液に含まれる有機溶剤としては、沸点が80℃以下の有機溶剤と、他の有機溶剤とを組み合わせ、後述する第1塗布液の粘度の好ましい範囲を満たすようにすることが好ましい。
As the organic solvent contained in the first coating liquid, it is preferable to use an organic solvent having a boiling point of 80 ° C. or lower as at least a part thereof from the viewpoint of removability of the coating film formed from the first coating liquid. Examples of organic solvents having a boiling point of 80 ° C. or lower include tetrahydrofuran (boiling point: 66 ° C.), acetone (boiling point: 56 ° C.), methyl ethyl ketone (boiling point: 80 ° C.), n-hexane (boiling point): 69 ° C.), benzene (boiling point: 56 ° C.). 80 ° C.), methyl acetate (boiling point: 57 ° C.), ethyl acetate (boiling point: 77 ° C.), ethanol (boiling point: 78 ° C.) and the like.
As the organic solvent contained in the first coating liquid, an organic solvent having a boiling point of 80 ° C. or lower and another organic solvent may be combined so as to satisfy a preferable range of viscosity of the first coating liquid described later. preferable.

第1塗布液に含まれる固形分としては、第2塗布液から形成される塗工層への影響を低減させる観点から、第2塗布液に含まれる固形分と同様であることが好ましく、同種であることがより好ましい。
例えば、第2塗布液が、前述のようなハードコート層形成用塗布液である場合、第1塗布液に含まれる固形分として好ましくは、重合性化合物、重合開始剤、及び必要に応じて用いられるその他の成分が挙げられ、そのうち1つ以上を含むことが好ましい。
The solid content contained in the first coating liquid is preferably the same as the solid content contained in the second coating liquid from the viewpoint of reducing the influence on the coating layer formed from the second coating liquid, and is of the same type. Is more preferable.
For example, when the second coating liquid is the coating liquid for forming a hard coat layer as described above, the solid content contained in the first coating liquid is preferably a polymerizable compound, a polymerization initiator, and if necessary, used. Other components such as those mentioned above, preferably containing one or more of them.

また、第1塗布液は、塗布性の向上の観点から、溶媒が単一の有機溶剤であることが好ましい。
単一の有機溶剤としては、後述する第1塗布液の粘度の好ましい範囲を満たす有機溶剤を用いることが好ましく、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(粘度1.1mPa・s)等が挙げられる。
Further, it is preferable that the first coating liquid is an organic solvent having a single solvent from the viewpoint of improving the coating property.
As the single organic solvent, it is preferable to use an organic solvent that satisfies the preferable range of the viscosity of the first coating liquid described later, and examples thereof include propylene glycol monomethyl ether acetate (viscosity 1.1 mPa · s).

第2塗布液から形成される塗工層への影響を低減させる観点から、第1塗布液に含まれる溶媒の少なくとも一部が、第2塗布液に含まれる溶媒と同じであることが好ましい。
例えば、第2塗布液に溶媒としてメチルエチルケトンが含まれている場合、第1塗布液に含まれる溶媒の少なくとも一部としてメチルエチルケトンを含むことが好ましい。
From the viewpoint of reducing the influence on the coating layer formed from the second coating liquid, it is preferable that at least a part of the solvent contained in the first coating liquid is the same as the solvent contained in the second coating liquid.
For example, when the second coating liquid contains methyl ethyl ketone as a solvent, it is preferable that methyl ethyl ketone is contained as at least a part of the solvent contained in the first coating liquid.

第1塗布液の粘度としては、その値が小さいほど(即ち、第2塗布液との粘度の差が大きいほど)、第1塗布液から形成される塗膜の薄膜化に有利である傾向がある。
そのため、第1塗布液の粘度としては、塗布性に優れ、除去性に優れた薄膜の塗膜形成が容易になる観点から、2mPa・s以下であることが好ましく、1.8mPa・s以下であることがより好ましく、1.5mPa・s以下であることが更に好ましい。
また、第1塗布液の粘度としては、塗布ビードの外乱耐性の観点から、0.5mPa・s以上であることが好ましく、0.8mPa・s以上であることがより好ましく、1.0mPa・s以上であることが更に好ましい。
ここで、第1塗布液の粘度も、第2塗布液の粘度と同じ方法で測定される。
As for the viscosity of the first coating liquid, the smaller the value (that is, the larger the difference in viscosity from the second coating liquid), the more advantageous it is for thinning the coating film formed from the first coating liquid. is there.
Therefore, the viscosity of the first coating liquid is preferably 2 mPa · s or less, preferably 1.8 mPa · s or less, from the viewpoint of facilitating the formation of a thin film coating film having excellent coatability and removability. It is more preferable that the thickness is 1.5 mPa · s or less.
The viscosity of the first coating liquid is preferably 0.5 mPa · s or more, more preferably 0.8 mPa · s or more, and 1.0 mPa · s or more, from the viewpoint of disturbance resistance of the coating bead. The above is more preferable.
Here, the viscosity of the first coating liquid is also measured by the same method as the viscosity of the second coating liquid.

[塗布条件]
本開示における重層塗布工程は、以下の塗布条件で行うことができる。
例えば、第1塗布液及び第2塗布液を含む複数の塗布液における、スロットダイから吐出される際の温度としては、塗布液の組成及び塗布のしやすさ等に応じて適宜決定されればよく、例えば、それぞれ、15℃〜40℃の範囲で設定される。
また、第1塗布液及び第2塗布液を含む複数の塗布液における、スロットダイから吐出される際の塗布量としては、設定された塗膜の厚みに応じて決定されればよく、例えば、それぞれ、5ml/m〜50ml/mの範囲で設定される。
[Application conditions]
The multi-layer coating step in the present disclosure can be performed under the following coating conditions.
For example, the temperature at which the first coating liquid and the plurality of coating liquids including the second coating liquid are discharged from the slot die may be appropriately determined according to the composition of the coating liquid, the ease of coating, and the like. Often, for example, each is set in the range of 15 ° C to 40 ° C.
Further, the coating amount of the plurality of coating liquids including the first coating liquid and the second coating liquid when discharged from the slot die may be determined according to the set thickness of the coating film, for example. each of which is set in a range of 5ml / m 2 ~50ml / m 2 .

以上のような重層塗布工程を経ることで、塗布スジ及び段ムラの発生が抑制された塗膜(即ち、第2塗布液から形成された塗膜)が形成される。 By going through the multi-layer coating step as described above, a coating film in which the occurrence of coating streaks and step unevenness is suppressed (that is, a coating film formed from the second coating liquid) is formed.

本開示の積層体の製造方法は、前述の重層塗布工程以外に、重層塗布工程で形成された塗膜から溶媒を減少させる乾燥工程、乾燥工程後の塗膜に対して活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させる硬化工程等を有していてもよい。 In the method for producing a laminate of the present disclosure, in addition to the above-mentioned multi-layer coating step, a drying step of reducing the solvent from the coating film formed in the multi-layer coating step and a coating film after the drying step are irradiated with active energy rays. It may have a curing step of curing the coating film or the like.

[乾燥工程]
乾燥工程では、重層塗布工程で形成された塗膜から溶媒を減少させる。
乾燥工程で用いる乾燥手段としては、特に制限はなく、例えば、オーブン、温風機、赤外線(IR)ヒーター等を用いる方法が挙げられる。
温風機による乾燥においては、基材の塗膜形成面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗膜が温風にて流動しないよう、拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、形成された塗膜の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、30℃〜140℃の範囲で、10秒〜10分間行うことが好ましい。
[Drying process]
In the drying step, the solvent is reduced from the coating film formed in the multi-layer coating step.
The drying means used in the drying step is not particularly limited, and examples thereof include a method using an oven, a hot air blower, an infrared (IR) heater, and the like.
In drying with a warm air blower, warm air may be blown from a surface opposite to the coating film forming surface of the base material, or a diffusion plate may be installed so that the coating film does not flow with warm air.
The drying conditions may be determined according to the type of the formed coating film, the coating amount, the transport speed, and the like. For example, the drying conditions are preferably carried out in the range of 30 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 10 minutes.

[硬化工程]
硬化工程は、乾燥工程後の塗膜に対して活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させる。
硬化工程で用いる活性エネルギー線の照射手段としては、照射する塗膜中に活性種を発生させうるエネルギーを付与する手段であれば、特に制限はない。
活性エネルギー線として、具体的には、例えば、α線、γ線、X線、紫外線、赤外線、可視光線、電子線等が挙げられる。これらのうち、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、活性エネルギー線としては、紫外線が好ましく用いられる。
[Curing process]
In the curing step, the coating film after the drying step is irradiated with active energy rays to cure the coating film.
The means for irradiating the active energy rays used in the curing step is not particularly limited as long as it is a means for imparting energy capable of generating active species in the coating film to be irradiated.
Specific examples of the active energy rays include α-rays, γ-rays, X-rays, ultraviolet rays, infrared rays, visible rays, and electron beams. Of these, ultraviolet rays are preferably used as the active energy rays from the viewpoint of curing sensitivity and availability of equipment.

紫外線の光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
紫外線の光源から発せられる紫外線のピーク波長は、200nm〜400nmが好ましい。
また、紫外線の露光エネルギー量としては、例えば、100mJ/cm〜500mJ/cmが好ましい。
Examples of the ultraviolet light source include tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, carbon arc lamps and other lamps, and various lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon lasers, argon ions). Examples include lasers, helium cadmium lasers, YAG (Yttrium Aluminum Garnet) lasers), light emitting diodes, and cathode wire tubes.
The peak wavelength of ultraviolet rays emitted from the light source of ultraviolet rays is preferably 200 nm to 400 nm.
As the exposure energy amount of ultraviolet rays, for example, 100mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2 is preferred.

以上により、基材上に第2塗布液から形成された塗工層が設けられた積層体を製造することができる。 From the above, it is possible to manufacture a laminate in which a coating layer formed from the second coating liquid is provided on the base material.

[積層体]
本開示の積層体の製造方法で得られた積層体は、基材と、第2塗布液から形成された塗工層と、を有する。
[Laminate]
The laminate obtained by the method for producing a laminate of the present disclosure has a base material and a coating layer formed from a second coating liquid.

(基材)
基材としては、積層体の用途に応じて、適宜選択することができ、例えば、ポリマーフィルムが挙げられる。
光学フィルム用途であれば、基材の光透過率は、80%以上であることが好ましい。
光学フィルム用途であれば、基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。
基材としては、例えば、ポリエステル系基材(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のフィルム若しくはシート)、セルロース系基材(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)等のフィルム若しくはシート)、ポリカーボネート系基材、ポリ(メタ)アクリル系基材(ポリメチルメタクリレート等のフィルム若しくはシート)、ポリスチレン系基材(ポリスチレン、アクリロニトリルスチレン共重合体等のフィルム若しくはシート)、オレフィン系基材(ポリエチレン、ポリプロピレン、環状若しくはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレンプロピレン共重合体等のフィルム若しくはシート)、ポリアミド系基材(ポリ塩化ビニル、ナイロン、芳香族ポリアミド等のフィルム若しくはシート)、ポリイミド系基材、ポリスルホン系基材、ポリエーテルスルホン系基材、ポリエーテルエーテルケトン系基材、ポリフェニレンスルフィド系基材、ビニルアルコール系基材、ポリ塩化ビニリデン系基材、ポリビニルブチラール系基材、ポリ(メタ)アクリレート系基材、ポリオキシメチレン系基材、エポキシ樹脂系基材等の透明基材、又は上記のポリマー材料をブレンドしたブレンドポリマーからなる基材等が挙げられる。
(Base material)
The base material can be appropriately selected depending on the use of the laminate, and examples thereof include a polymer film.
For optical film applications, the light transmittance of the base material is preferably 80% or more.
For optical film applications, when a polymer film is used as the base material, it is preferable to use an optically isotropic polymer film.
Examples of the base material include a polyester-based base material (film or sheet of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), a cellulose-based base material (film or sheet of diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), etc.), and a polycarbonate-based base material. , Poly (meth) acrylic base material (film or sheet such as polymethyl methacrylate), polystyrene base material (film or sheet such as polystyrene, acrylonitrile styrene copolymer), olefin base material (polyethylene, polypropylene, cyclic or Polyamide having a norbornene structure, film or sheet of ethylene-propylene copolymer, etc.), polyamide-based substrate (film or sheet of polyvinyl chloride, nylon, aromatic polyamide, etc.), polyimide-based substrate, polysulfone-based substrate, poly Ethersulfone-based base material, polyether ether ketone-based base material, polyphenylene sulfide-based base material, vinyl alcohol-based base material, polyvinylidene chloride-based base material, polyvinyl butyral-based base material, poly (meth) acrylate-based base material, polyoxy Examples thereof include a transparent base material such as a methylene-based base material and an epoxy resin-based base material, and a base material made of a blended polymer blended with the above polymer materials.

基材としては、上記のポリマーフィルム上に予め層が形成されたものであってもよい。
予め形成される層としては、接着層、水、酸素等に対するバリア層、屈折率調整層等が挙げられる。
The base material may be one in which a layer is formed in advance on the above polymer film.
Examples of the layer formed in advance include an adhesive layer, a barrier layer against water, oxygen and the like, a refractive index adjusting layer and the like.

(第2塗布液から形成される層)
第2塗布液から形成される塗工層としては、特に制限はなく、光学フィルム用途であれば、ハードコート層、液晶層、屈折率調整層等が挙げられる。
第2塗布液から形成される層の厚さとしては、用途に応じて異なるが、本開示の積層体の製造方法を採用することで、例えば、0.1μm〜100μm、より好ましくは0.1μm〜5μmの範囲とすることができる。
(Layer formed from the second coating liquid)
The coating layer formed from the second coating liquid is not particularly limited, and examples thereof include a hard coat layer, a liquid crystal layer, and a refractive index adjusting layer for optical film applications.
The thickness of the layer formed from the second coating liquid varies depending on the application, but by adopting the method for producing a laminate of the present disclosure, for example, 0.1 μm to 100 μm, more preferably 0.1 μm. It can be in the range of ~ 5 μm.

(その他の層)
第2塗布液から形成される塗工層上には、更に、用途に応じて、その他の層を有していてもよい。
その他の層は、第2塗布液を塗布するスロットダイと同じスロットダイにて塗布して形成した層(即ち、重層塗布工程で第2塗布液と同時に塗布して形成した塗工層)であってもよいし、第2塗布液を塗布するスロットダイとは別のスロットダイにて塗布して形成した塗工層であってもよい。
(Other layers)
On the coating layer formed from the second coating liquid, another layer may be further provided depending on the intended use.
The other layers are layers formed by coating with the same slot die as the slot die to which the second coating liquid is applied (that is, a coating layer formed by coating at the same time as the second coating liquid in the multi-layer coating process). It may be a coating layer formed by coating with a slot die different from the slot die to which the second coating liquid is applied.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

(基材の準備)
基材として、厚み60μm、幅1490mmの長尺状のトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(TD40UL、富士フイルム(株)、屈折率1.48)を用意した。
(Preparation of base material)
As a base material, a long triacetyl cellulose (TAC) film (TD40UL, FUJIFILM Corporation, refractive index 1.48) having a thickness of 60 μm and a width of 1490 mm was prepared.

(ハードコート層形成用塗布液1:第2塗布液1の調製)
以下に記載の各成分の混合物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用塗布液(固形分含有率50質量%、粘度2.9mPa・s)を調製した。
(Coating liquid for forming a hard coat layer 1: Preparation of the second coating liquid 1)
The mixture of each component described below is put into a mixing tank, stirred, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm, and coated with a coating liquid for forming a hard coat layer (solid content content: 50% by mass, viscosity 2. 9 mPa · s) was prepared.

−ハードコート層形成用塗布液1−
・重合性化合物:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)NKエステル) : 48.4質量%
・光重合開始剤:Omnirad 184(IGM Resins B.V.社) : 1.5質量%
・界面活性剤:以下に示されるフッ素系界面活性剤 : 0.1質量%
・有機溶剤:メチルエチルケトン : 50質量%
− Coating liquid for forming a hard coat layer 1-
-Polymerizable compound: Pentaerythritol tetraacrylate (NK ester of Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.): 48.4% by mass
-Photopolymerization initiator: Omnirad 184 (IGM Resins BV): 1.5% by mass
-Surfactant: Fluorine-based surfactant shown below: 0.1% by mass
-Organic solvent: Methyl ethyl ketone: 50% by mass

Figure 2020039990
Figure 2020039990

(ハードコート層形成用塗布液2:第2塗布液2の調製)
以下に記載の各成分の混合物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用塗布液(固形分含有率50質量%、粘度3.6mPa・s)を調製した。
(Coating liquid 2: for forming a hard coat layer: Preparation of the second coating liquid 2)
The mixture of each component described below is put into a mixing tank, stirred, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm, and coated with a coating liquid for forming a hard coat layer (solid content content: 50% by mass, viscosity 3. 6 mPa · s) was prepared.

−ハードコート層形成用塗布液2−
・重合性化合物:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)) : 48.5質量%
・光重合開始剤:Omnirad 907(IGM Resins B.V.社) : 1.5質量%
・有機溶剤:メチルエチルケトン : 35質量%
・有機溶剤:シクロヘキサノン : 15質量%
− Coating liquid for forming a hard coat layer 2-
-Polymerizable compound: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.): 48.5% by mass
-Photopolymerization initiator: Omnirad 907 (IGM Resins BV): 1.5% by mass
-Organic solvent: Methyl ethyl ketone: 35% by mass
-Organic solvent: Cyclohexanone: 15% by mass

(第1塗布液1〜9の調製)
下記表1に記載の成分を用いて(複数の成分を用いる場合は混合して)、第1塗布液1〜9を調製した。
なお、第1塗布液6〜9は、前述の第2塗布液1に含まれる固形分を同じ組成比で含み、その固形分含有率Aのみを変えた塗布液(即ち、前述の第2塗布液1を、下記表1に記載の有機溶剤で下記表1に記載の固形分含有率Aとなるように希釈した塗布液)である。
固形分含有率及び粘度も表1に併記した。
なお、粘度は、前述の方法で測定した値である。
(Preparation of 1st coating liquids 1 to 9)
The first coating liquids 1 to 9 were prepared using the components listed in Table 1 below (when a plurality of components were used, they were mixed).
The first coating liquids 6 to 9 contain the solid content contained in the second coating liquid 1 in the same composition ratio, and only the solid content content A is changed (that is, the second coating liquid described above). Liquid 1 is a coating liquid obtained by diluting the liquid 1 with the organic solvent shown in Table 1 below so as to have the solid content content A shown in Table 1 below).
The solid content and viscosity are also shown in Table 1.
The viscosity is a value measured by the above method.

Figure 2020039990
Figure 2020039990

表1に記載の成分の詳細は以下の通りである。
・MEK:メチルエチルケトン
・アノン:シクロヘキサノン
・PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
The details of the components listed in Table 1 are as follows.
-MEK: Methyl ethyl ketone-Anone: Cyclohexanone-PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

(実施例1〜13及び比較例1〜4)
(重層塗布工程)
図1に示す塗布装置を用いて、TACフィルム上に重層塗布を行った。
具体的には、外径300mmのバックアップロール上に、基材を搬送し、バックアップロール上の基材に対し、図1に示すスロットダイを用い、表2に記載の第1塗布液及び第2塗布液の塗布を行った。このとき、基材のラップ角は150°であった。
このときの距離d1、距離d2、厚さh(h1)、及び厚さh2は、表2に記載の通りであった。
また、重層塗布工程において、塗布液の吐出時の温度は23℃、塗布幅は1300mm、塗布速度(即ち、搬送速度)は10m/minであった。
(Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 4)
(Multi-layer coating process)
Layer coating was performed on the TAC film using the coating apparatus shown in FIG.
Specifically, the base material is conveyed onto a backup roll having an outer diameter of 300 mm, and the slot die shown in FIG. 1 is used for the base material on the backup roll, and the first coating liquid and the second coating liquid shown in Table 2 are used. The coating liquid was applied. At this time, the lap angle of the base material was 150 °.
The distance d1, the distance d2, the thickness h (h1), and the thickness h2 at this time are as shown in Table 2.
Further, in the multi-layer coating step, the temperature at the time of discharging the coating liquid was 23 ° C., the coating width was 1300 mm, and the coating speed (that is, the transport speed) was 10 m / min.

(乾燥工程及び硬化工程)
続いて、塗膜を60℃1分間で乾燥した後、紫外線を露光エネルギー200mJ/cmにて照射して塗膜の硬化を行った。
その結果、厚み5μmのハードコート層が形成された。
ハードコート層が形成されたTACフィルムはロール状に巻き取られた。
(Drying process and curing process)
Subsequently, after the coating film was dried at 60 ° C. for 1 minute, the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays at an exposure energy of 200 mJ / cm 2.
As a result, a hard coat layer having a thickness of 5 μm was formed.
The TAC film on which the hard coat layer was formed was wound into a roll.

以上のようにして、各例の積層体を製造した。 As described above, the laminate of each example was produced.

(評価:塗布スジ及び段ムラの評価)
上記で製造した積層体の、末端(巻き終わり側の端部)から1m〜10mまで間を観察対象とした。観察対象の積層体について、ライトテーブル上に載置し、積層体に透過光を当てて、濃淡又は濃淡の繰り返しの有無を目視にて観察し、塗布スジ及び段ムラを評価した。
評価指標は以下の通りである。
(Evaluation: Evaluation of coating streaks and step unevenness)
The distance from the end (the end on the winding end side) of the laminate produced above to 1 m to 10 m was set as an observation target. The laminated body to be observed was placed on a light table, the laminated body was exposed to transmitted light, and the presence or absence of repeated shading or shading was visually observed to evaluate coating streaks and step unevenness.
The evaluation indexes are as follows.

−塗布スジの評価指標−
1:塗布スジがみられない。
2:塗布スジが極弱く観察された。
3:塗布スジが1本以上5本未満で観察された。
4:塗布スジが全面に観察された。
-Evaluation index of coating streaks-
1: No coating streaks are seen.
2: The coating streaks were observed to be extremely weak.
3: Application streaks were observed with 1 or more and less than 5 streaks.
4: Application streaks were observed on the entire surface.

−段ムラの評価指標−
1:段ムラがみられない。
2:段ムラが極弱く観察された。
3:段ムラが観察された。
4:段ムラが強く観察された。
-Evaluation index of step unevenness-
1: No step unevenness is seen.
2: Step unevenness was observed very weakly.
3: Step unevenness was observed.
4: Step unevenness was strongly observed.

Figure 2020039990
Figure 2020039990

表2に示すように、実施例の製造方法によれば、いずれも、段ムラ及び塗布スジの発生が抑制された塗工層を有する積層体が得られることが分かる。 As shown in Table 2, it can be seen that, according to the production methods of the examples, a laminated body having a coating layer in which the occurrence of step unevenness and coating streaks is suppressed can be obtained.

[符号の説明]
100 塗布装置
110 バックアップロール
120 基材
122 第1塗布液から形成された塗膜
124 第2塗布液から形成された塗膜
130 スロットダイ
132A、132B、132C ブロック
134a、134b スロット
136a、136b ポケット
138A、138B、138C リップ面
140a 第1塗布液
140b 第2塗布液
d1 第2塗布液を塗布するスロットにおける、下流側リップ面と基材の表面との最短距離
d2 第2塗布液を塗布するスロットにおける、上流側リップ面と基材の表面との最短距離
h(h1) 第1塗布液から形成された塗膜の厚み
h2 第2塗布液から形成された塗膜の厚み
[Explanation of code]
100 Coating device 110 Backup roll 120 Base material 122 Coating film formed from the first coating film 124 Coating film formed from the second coating film 130 Slot dies 132A, 132B, 132C Block 134a, 134b Slot 136a, 136b Pocket 138A, 138B, 138C Lip surface 140a 1st coating liquid 140b 2nd coating liquid d1 Shortest distance between the downstream lip surface and the surface of the base material in the slot for applying the 2nd coating liquid d2 In the slot for applying the 2nd coating liquid The shortest distance between the upstream lip surface and the surface of the base material h (h1) Thickness of the coating film formed from the first coating film h2 Thickness of the coating film formed from the second coating film

2018年8月20日に出願された日本出願2018−154088の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
The disclosure of Japanese application 2018-154088, filed August 20, 2018, is incorporated herein by reference in its entirety.
All documents, patent applications, and technical standards described herein are to the same extent as if the individual documents, patent applications, and technical standards were specifically and individually stated to be incorporated by reference. Incorporated herein by reference.

Claims (6)

連続搬送される基材上に、第1塗布液と第2塗布液とを含む複数の塗布液をスロットダイを用いて同時に塗布する工程を少なくとも有し、
前記第1塗布液が、基材上に接触して塗布される塗布液であり、
前記第2塗布液が、前記第1塗布液に隣接して塗布される塗布液であり、
前記第1塗布液の固形分含有率Aと前記第2塗布液の固形分含有率Bとの比A/Bが0.1以下であり、
前記第2塗布液を塗布するスロットにおける、基材搬送方向の下流側リップ面と基材との最短距離d1と、基材搬送方向の上流側リップ面と基材との最短距離d2と、の差(d1−d2)が10μm以上であり、
前記最短距離d2と前記第1塗布液から形成された塗膜の厚みhとの関係がd2>3×hを満たす、積層体の製造方法。
It has at least a step of simultaneously applying a plurality of coating liquids including the first coating liquid and the second coating liquid on the substrate to be continuously conveyed by using a slot die.
The first coating liquid is a coating liquid that is applied in contact with the base material.
The second coating liquid is a coating liquid that is applied adjacent to the first coating liquid.
The ratio A / B of the solid content content A of the first coating liquid to the solid content content B of the second coating liquid is 0.1 or less.
In the slot for applying the second coating liquid, the shortest distance d1 between the downstream lip surface in the base material transport direction and the base material and the shortest distance d2 between the upstream lip surface in the base material transport direction and the base material. The difference (d1-d2) is 10 μm or more,
A method for producing a laminate, wherein the relationship between the shortest distance d2 and the thickness h of the coating film formed from the first coating liquid satisfies d2> 3 × h.
前記第1塗布液は、粘度が2mPa・s以下である塗布液である、請求項1に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the first coating liquid is a coating liquid having a viscosity of 2 mPa · s or less. 前記第1塗布液は、粘度が1mPa・s以上である塗布液である、請求項1又は請求項2に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 1 or 2, wherein the first coating liquid is a coating liquid having a viscosity of 1 mPa · s or more. 前記第1塗布液が、溶媒を第1塗布液の質量に対して90質量%以上含む塗布液である、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the first coating liquid is a coating liquid containing 90% by mass or more of a solvent with respect to the mass of the first coating liquid. 前記溶媒が単一の有機溶剤である、請求項4に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 4, wherein the solvent is a single organic solvent. 前記第1塗布液に含まれる溶媒の少なくとも一部が、第2塗布液に含まれる溶媒と同じである、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein at least a part of the solvent contained in the first coating liquid is the same as the solvent contained in the second coating liquid.
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