JPWO2019230952A1 - Equipment and methods for sterilizing water in the water supply pipe of the dental unit - Google Patents

Equipment and methods for sterilizing water in the water supply pipe of the dental unit Download PDF

Info

Publication number
JPWO2019230952A1
JPWO2019230952A1 JP2020522630A JP2020522630A JPWO2019230952A1 JP WO2019230952 A1 JPWO2019230952 A1 JP WO2019230952A1 JP 2020522630 A JP2020522630 A JP 2020522630A JP 2020522630 A JP2020522630 A JP 2020522630A JP WO2019230952 A1 JPWO2019230952 A1 JP WO2019230952A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
supply pipe
water supply
heating device
bacteria
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020522630A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7376106B2 (en
Inventor
宏 江草
宏 江草
信博 高橋
信博 高橋
将博 山田
将博 山田
純平 鷲尾
純平 鷲尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tohoku University NUC
Original Assignee
Tohoku University NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tohoku University NUC filed Critical Tohoku University NUC
Publication of JPWO2019230952A1 publication Critical patent/JPWO2019230952A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7376106B2 publication Critical patent/JP7376106B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61CDENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C19/00Dental auxiliary appliances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/02Treatment of water, waste water, or sewage by heating

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Dental Tools And Instruments Or Auxiliary Dental Instruments (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

装置は、給水配管と、前記給水配管に取り付けられた、給水配管内の水を加熱殺菌するための加温装置とを備え、前記加温装置は、加温装置より下流の給水配管内の水の従属栄養細菌数を2000 CFU/mL以下にすることを特徴とする。The device includes a water supply pipe and a heating device attached to the water supply pipe for heating and sterilizing the water in the water supply pipe, and the heating device is water in the water supply pipe downstream from the heating device. It is characterized in that the number of dependent vegetative bacteria in the plant is 2000 CFU / mL or less.

Description

本発明は、歯科用ユニットの給水配管内の水を殺菌するための装置及び方法に関する。 The present invention relates to an apparatus and method for sterilizing water in a water supply pipe of a dental unit.

昨今、歯を削る機器(エアータービン、マイクロモーター、超音波スケーラー)等の歯科用インスツルメントと患者が着座又は横になって診療を受ける診療台(チェア)とを備えた歯科用ユニットにおいて、内部に滞留する水の微生物汚染が大きな問題として注目されている。この微生物汚染が生じる原因の一つとして、歯科用ユニットの内部に多く利用されている細長い管の内部に水が滞留し易いことや、細菌の集合により形成されるバイオフィルムが付着しやすいことが考えられている。 Nowadays, in a dental unit equipped with dental instruments such as tooth-sharpening equipment (air turbine, micromotor, ultrasonic scaler) and a clinic table (chair) in which a patient sits or lays down to receive medical treatment. Microbial contamination of water that stays inside is drawing attention as a major problem. One of the causes of this microbial contamination is that water tends to stay inside the elongated tube that is often used inside the dental unit, and that the biofilm formed by the aggregation of bacteria easily adheres. It is considered.

この問題を解決する従来技術として、自動的に歯科用ユニット水の残留塩素濃度を補正する中性電解水生成装置(例えば特許文献1参照)が利用されているものの高価であり、細菌現存量をより正確に把握する指標として近年注目されている従属栄養細菌数の減少に効果があるかが不明である。 As a conventional technique for solving this problem, a neutral electrolyzed water generator (see, for example, Patent Document 1) that automatically corrects the residual chlorine concentration of the dental unit water is used, but it is expensive and the existing amount of bacteria can be reduced. It is unclear whether it is effective in reducing the number of heterotrophic bacteria, which has been attracting attention in recent years as an index to grasp more accurately.

なお、医療現場で利用される水の従属栄養細菌数を減少させる手段として、例えば熱水消毒後の人工透析液製造装置ラインの温度管理を50℃に設定すること(非特許文献1)や、手術室における手洗い水場の配管内や循環系統を65℃の熱水で処理すること(非特許文献2)が提案されている。また、非特許文献3には、歯科用ユニットから採取し、3.9×104 CFU/mlの従属栄養細菌が検出されたユニット水を80℃に加熱し、熱消毒を行ったところ、1分間で全ての菌が殺菌されたことが記載されている。As a means for reducing the number of dependent vegetative bacteria in water used in the medical field, for example, the temperature control of the artificial dialysate production equipment line after hot water disinfection is set to 50 ° C. (Non-Patent Document 1). It has been proposed to treat the inside of the pipe of the hand-washing water place in the operating room and the circulation system with hot water at 65 ° C. (Non-Patent Document 2). Further, in Non-Patent Document 3, unit water collected from a dental unit and in which 3.9 × 10 4 CFU / ml heterotrophic bacteria were detected was heated to 80 ° C. and heat sterilized. It is stated that all bacteria have been sterilized.

特開2009-118892JP 2009-118892

北海道科学大学研究紀要, 41, 185-191(2016)Bulletin of Hokkaido University of Science, 41, 185-191 (2016) 医学検査, 65(4), 447-452(2016)Medical Examination, 65 (4), 447-452 (2016) 科学研究費補助金研究成果報告書 ウイルス肝炎患者および易感染性患者の歯科治療における院内対策に関する研究 平成21年5月8日Scientific Research Grant Research Results Report Research on in-hospital measures in dental treatment for patients with viral hepatitis and susceptible infections May 8, 2009

ところで、発明者らは一般歯科用ユニット内の給水配管内に滞留する水(つまり給水配管から排出される水でもある)の従属栄養細菌数に関して、水の滞留箇所(つまり給水配管からの排出箇所でもある)が水道栓から離れるほど増加する傾向にあることを報告している(厚生労働科学研究費補助金 地域医療基盤開発推進研究事業 平成28年度総括研究報告書歯科ユニット給水システム純水化装置の開発に関する研究)。しかしながら、特許文献1ではこの問題を取り扱っていない。 By the way, the inventors regarding the number of dependent vegetative bacteria of water staying in the water supply pipe in the general dental unit (that is, the water discharged from the water supply pipe), the water staying place (that is, the discharge point from the water supply pipe). It is reported that the number of (also) tends to increase as the distance from the tap is increased (Health and Labor Science Research Grant Subsidy Regional Medical Infrastructure Development Promotion Research Project 2016 Summary Research Report Dental Unit Water Supply System Pure Water Purification Equipment Research on development). However, Patent Document 1 does not deal with this problem.

我が国では、歯科用ユニットを初めとする装置の給水配管における水の厳密な水質管理目標設定値は無いが、歯科用ユニット内部を通って供給される水の汚染への対応は喫緊の課題である。歯科用ユニットにおける水道栓から離れた箇所でも厳密な水質管理目標設定値を満たす水を供給できれば、科学的な根拠をもって微生物学的に安全な水質の水を歯科医療に提供することができるため、安全衛生管理上有益である。 In Japan, there is no strict water quality control target setting value for water in the water supply pipes of devices such as dental units, but it is an urgent issue to deal with pollution of water supplied through the inside of dental units. .. If water that meets the strict water quality control target setting values can be supplied even at a location away from the tap in the dental unit, it is possible to provide microbiologically safe water quality to dental care based on scientific grounds. It is beneficial for health and safety management.

本発明の課題は、装置の水道栓から離れた箇所でも、従属栄養細菌数が減少された水を簡便かつ安価に供給できる給水配管内の水を殺菌するための装置及び方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an apparatus and method for sterilizing water in a water supply pipe capable of easily and inexpensively supplying water having a reduced number of heterotrophic bacteria even at a location away from the tap of the apparatus. be.

本発明者らは、歯科用ユニットの給水配管にヒーターを取り付け、該ヒータにより55〜75℃程度の中等度の温度に加熱した給水を用いることで、歯科用ユニットにおける水道栓からの距離が離れた箇所でも水の微生物汚染の原因となる従属栄養細菌の増殖を抑制できることに成功し、本発明を完成するに至った。 The present inventors attach a heater to the water supply pipe of the dental unit, and by using the water supply heated to a moderate temperature of about 55 to 75 ° C. by the heater, the distance from the tap in the dental unit is increased. We have succeeded in suppressing the growth of heterotrophic bacteria that cause microbial contamination of water even at such locations, and have completed the present invention.

すなわち本発明は、以下の項に記載の主題を包含する。
項1.給水配管と、前記給水配管に取り付けられた、給水配管内の水を殺菌するための加温装置とを備え、前記加温装置は、前記加温装置より下流の給水配管内の水の従属栄養細菌数を2000 CFU/mL以下にすることを特徴とする装置。
項2.前記加温装置は前記給水配管内の水を収容可能なケーシングと、前記ケーシング内に設けられたヒータとを備え、前記ケーシング内の水を50℃以上に加熱することを特徴とする項1に記載の装置。
項3.前記加温装置より下流の給水配管内の水の遊離残留塩素濃度を0.1 mg/L以上にすることを特徴とする項1に記載の装置。
項4.前記装置は、アシスタントユニットとドクターユニットとを備えた歯科用ユニットであり、前記給水配管はアシスタントユニットに至る給水配管と、ドクターユニットに至る給水配管とに分岐しており、前記加温装置は該分岐部又はその上流に設けられている項1〜3のいずれかに記載の装置。
項5.前記ドクターユニットは前記給水配管と流体連通するインスツルメントを備え、前記インスツルメントから排出される水の従属栄養細菌数を2000 CFU/mL以下にすることを特徴とする項4に記載の装置。
項6.前記加熱装置による60〜70℃での10分間の加熱の2分後に前記インスツルメントから排出される水の温度が15〜35℃である項5のいずれかに記載の装置。
項7.装置の給水配管内の水の殺菌方法であって、前記給水配管に取り付けられた、前記給水配管内の水を加熱殺菌するための加温装置を用いて、前記加温装置より下流の給水配管内の水の従属栄養細菌数を2000 CFU/mL以下にすることを特徴とする殺菌方法。
That is, the present invention includes the subjects described in the following sections.
Item 1. The water supply pipe is provided with a heating device attached to the water supply pipe for sterilizing the water in the water supply pipe, and the heating device is a dependent nutrient of water in the water supply pipe downstream from the heating device. A device characterized by reducing the number of bacteria to 2000 CFU / mL or less.
Item 2. Item 1 is characterized in that the heating device includes a casing capable of accommodating water in the water supply pipe and a heater provided in the casing, and heats the water in the casing to 50 ° C. or higher. The device described.
Item 3. Item 2. The device according to Item 1, wherein the free residual chlorine concentration of water in the water supply pipe downstream from the heating device is set to 0.1 mg / L or more.
Item 4. The device is a dental unit including an assistant unit and a doctor unit, and the water supply pipe is branched into a water supply pipe leading to the assistant unit and a water supply pipe leading to the doctor unit, and the heating device is the heating device. Item 6. The apparatus according to any one of Items 1 to 3 provided at the branch portion or upstream thereof.
Item 5. Item 4. The apparatus according to Item 4, wherein the doctor unit includes an instrument that fluidly communicates with the water supply pipe, and the number of heterotrophic bacteria in the water discharged from the instrument is 2000 CFU / mL or less. ..
Item 6. Item 5. The device according to any one of Item 5, wherein the temperature of the water discharged from the instrument after 2 minutes of heating at 60 to 70 ° C. for 10 minutes by the heating device is 15 to 35 ° C.
Item 7. It is a method of sterilizing water in the water supply pipe of the device, and uses a heating device attached to the water supply pipe for heating and sterilizing the water in the water supply pipe, and the water supply pipe downstream from the heating device is used. A sterilization method characterized by reducing the number of dependent vegetative bacteria in the water to 2000 CFU / mL or less.

本発明の殺菌装置及び方法によれば、装置の水道栓から離れた箇所の従属栄養細菌数を簡便かつ安価に減少させることができる。本発明の殺菌装置及び方法によれば、給水配管内の水の殺菌のための薬剤の使用頻度又は量を低減させることもでき、安全性に優れている。本発明は、既存の歯科用ユニットに安価かつ安全に組み込むことができ、実用性に優れている。 According to the sterilization apparatus and method of the present invention, the number of heterotrophic bacteria at a location away from the tap of the apparatus can be easily and inexpensively reduced. According to the sterilization apparatus and method of the present invention, the frequency or amount of the chemical used for sterilizing water in the water supply pipe can be reduced, and the safety is excellent. The present invention can be incorporated into an existing dental unit inexpensively and safely, and is excellent in practicality.

歯科用ユニットの例の略平面図。Schematic plan of an example of a dental unit. 加温装置の例の略断面図。Schematic cross-sectional view of an example of a heating device. 歯科用ユニット内の給水配管と、採水箇所を示す説明図。Explanatory drawing showing a water supply pipe in a dental unit and a water sampling point. 好気及び嫌気環境下での従属栄養細菌及び一般細菌の培養結果を示す写真。Photographs showing the results of culturing heterotrophic bacteria and general bacteria in aerobic and anaerobic environments. 残留水排出による一般歯科用ユニット中の従属栄養細菌の変化を示すグラフ。ハンド:ハンドピース水。含漱:含漱用水。Graph showing changes in heterotrophic bacteria in a general dental unit due to residual water discharge. Hand: Handpiece water. Gargling: Water for gargle. 残留水排出による一般歯科用ユニット中の遊離残留塩素濃度の変化を示すグラフ。ハンド:ハンドピース水。含漱:含漱用水。The graph which shows the change of the free residual chlorine concentration in a general dental unit by the residual water discharge. Hand: Handpiece water. Gargling: Water for gargle. 一般歯科用ユニット配管各箇所における従属栄養細菌数(CFU/mL)を示すグラフ。(A)水道栓(P1)から術者テーブル内部(P6)までのグラフ。(B)ハンドピース(P7)のグラフ。Graph showing the number of heterotrophic bacteria (CFU / mL) at each location of general dental unit piping. (A) Graph from the tap (P1) to the inside of the operator's table (P6). (B) Graph of handpiece (P7). 一般歯科用ユニット配管各箇所における遊離残留塩素濃度(mg/L)を示すグラフ。Graph showing free residual chlorine concentration (mg / L) at each part of general dental unit piping. 薬物洗浄機能付き歯科用ユニットのハンドピース排水中の従属栄養細菌数(CFU/mL)を示すグラフ。Graph showing the number of heterotrophic bacteria (CFU / mL) in the handpiece drainage of a dental unit with a drug cleaning function. 薬物洗浄機能付き歯科用ユニットのハンドピース排出水中の遊離残留塩素濃度(mg/L)を示すグラフ。The graph which shows the free residual chlorine concentration (mg / L) in the handpiece discharge water of the dental unit with a drug cleaning function. 一般歯科用ユニットの給水配管内の水の加熱による、ハンドピース排出水に存在する従属栄養細菌に対する影響を示すグラフ。各加温温度において、左側の棒グラフはユニット1、中央の棒グラフはユニット2、右側の棒グラフはユニット3のデータである。グラフ中の矢印は従属栄養細菌数の目標値(2000 CFU/mL)以下の細菌数を含む試料を示す。The graph which shows the influence on the heterotrophic bacteria existing in the handpiece drainage water by heating of the water in the water supply pipe of a general dental unit. At each heating temperature, the bar graph on the left is the data of unit 1, the bar graph in the center is the data of unit 2, and the bar graph on the right is the data of unit 3. The arrows in the graph indicate samples containing bacterial counts below the target value for heterotrophic bacterial counts (2000 CFU / mL). 一般歯科用ユニットの給水配管内の水の加熱による、ハンドピース排出水の温度と該排出水中の従属栄養細菌とに対する影響を示すグラフ。グラフ中の#は従属栄養細菌数の目標値(2000 CFU/mL)以下の細菌数を含む試料を示す。The graph which shows the influence on the temperature of the handpiece drainage water and the heterotrophic bacteria in the drainage water by heating water in a water supply pipe of a general dental unit. # In the graph indicates a sample containing the number of bacteria below the target value of the number of heterotrophic bacteria (2000 CFU / mL). 一般歯科用ユニットの給水配管内の水の加熱による、ハンドピース排出水の温度と該排出水中の遊離残留塩素濃度とに対する影響を示すグラフ。The graph which shows the influence on the temperature of the handpiece discharge water and the free residual chlorine concentration in the discharge water by heating water in a water supply pipe of a general dental unit.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

本明細書において、一般細菌とは、血液寒天培地を用いて、36℃±1℃、7日間という条件下で培養したときに培地に集落を形成する好気性細菌、通性嫌気性細菌、及び偏性嫌気性菌の総称である。 In the present specification, general bacteria are aerobic bacteria, facultative anaerobic bacteria, and aerobic bacteria that form colonies in the medium when cultured in a blood agar medium at 36 ° C. ± 1 ° C. for 7 days. It is a general term for obligate anaerobic bacteria.

従属栄養細菌とは、低濃度の有機栄養物を含む培地を用いて低温で長時間培養したときに培地に集落を形成するすべての菌を指し、具体的にはR2A寒天培地を用いて20℃で7日間培養したときに集落を形成する細菌の総称である。 Dependent vegetative bacteria refer to all bacteria that form colonies on the medium when cultured at low temperature for a long time using a medium containing low-concentration organic nutrients, specifically, 20 ° C using R2A agar medium. It is a general term for bacteria that form a colony when cultured for 7 days.

図1は、一実施形態に係る歯科用ユニット1の略平面図である。 FIG. 1 is a schematic plan view of the dental unit 1 according to the embodiment.

歯科用ユニット1は、患者用椅子10、歯科用照明(非図示)、患者用椅子10の一方の側面で接続されたスピットン装置15、アーム22を介してスピットン装置15に接続されたアシスタントユニット20、及び患者用椅子10の他方の側面で接続されたドクターユニット30を備えている。 The dental unit 1 includes a patient chair 10, dental lighting (not shown), a spitton device 15 connected to one side of the patient chair 10, and an assistant unit 20 connected to the spitton device 15 via an arm 22. , And a doctor unit 30 connected on the other side of the patient chair 10.

患者用椅子10の下方には基台2が配置されており、該患者用椅子10を支持する。基台2内には、各種制御機器が内包されている。該制御機器としては、例えば、患者用椅子10の昇降、傾倒起立等させるための油圧回路、及び該油圧回路を制御する油圧制御手段等が挙げられる。基台2における患者用椅子10の背面側にはフットスイッチ(非図示)が設けられており、歯科医、歯科助手等の施術者はこのフットスイッチ又はドクターユニット30の操作パネル(非図示)を操作して油圧制御手段に対して指令を送り、油圧回路を制御して患者用椅子10の昇降、傾倒起立等させることが可能である。 A base 2 is arranged below the patient chair 10, and supports the patient chair 10. Various control devices are included in the base 2. Examples of the control device include a hydraulic circuit for raising and lowering the patient chair 10 and tilting and standing up, a hydraulic control means for controlling the hydraulic circuit, and the like. A foot switch (not shown) is provided on the back side of the patient chair 10 on the base 2, and a practitioner such as a dentist or a dental assistant can use the foot switch or the operation panel (not shown) of the doctor unit 30. It is possible to operate and send a command to the hydraulic control means to control the hydraulic circuit to raise and lower the patient chair 10 and to tilt and stand up.

患者用椅子10は、ヘッドレスト11、背もたれ12、座部13、及びレッグレスト14を備えている。 The patient chair 10 includes a headrest 11, a backrest 12, a seat 13, and a leg rest 14.

スピットン装置15は、給水ノズル16、患者が口腔内を洗浄して吐き出した後の水を受けるためのボウル形又は鉢状のスピットン17、給水ノズル16へ水を供給する配管(非図示)及びスピットン17の底面の排出孔17aを通って流れる水を排出する配管(非図示)を収容する給排水ボックス18を備えている。 The spitton device 15 includes a water supply nozzle 16, a bowl-shaped or bowl-shaped spitton 17 for receiving water after the patient has washed and spit out the oral cavity, a pipe (not shown) for supplying water to the water supply nozzle 16, and a spitton. A water supply / drainage box 18 for accommodating a pipe (not shown) for discharging water flowing through the discharge hole 17a on the bottom surface of the 17 is provided.

アシスタントユニット20は、作業台としての補佐テーブル21、補佐テーブル21と連結され、補佐テーブル21を回動可能なアーム22を備え、アーム22の基端部はスピットン装置15に軸支されている。 The assistant unit 20 is connected to an assistant table 21 and an assistant table 21 as a work table, includes an arm 22 capable of rotating the assistant table 21, and a base end portion of the arm 22 is pivotally supported by a spitton device 15.

アシスタントユニット20には各種インスツルメント23を載置又は懸架することができ、そのようなインスツルメント23としては、例えばバキューム、排唾管、シリンジ等のハンドピースを挙げることができる。 Various instruments 23 can be placed or suspended on the assistant unit 20, and examples of such instruments 23 include handpieces such as a vacuum, a saliva drainage tube, and a syringe.

ドクターユニット30は、作業台としての術者テーブル31及び操作パネル32を備えている。ドクターユニット30には各種インスツルメント33を懸架することができ、そのようなインスツルメント33としては施術者が施術の際に使用するハンドピースである、エアータービン、マイクロモーター、超音波スケーラー、シリンジスリーウェイシリンジ等が挙げられる。インスツルメント33の一部は電気回路、水回路、エア回路等と連結されている。操作パネル32は、各種インスツルメント33を動作させるためのスイッチ(非図示)を備えており、例えば、患者用椅子10を上下動、傾倒起立させるスイッチ、インスツルメント33から施術用の水を給水し、給水を停止するスイッチ等が挙げられる。施術者が各種スイッチを操作することにより、非図示の駆動回路及び制御回路を介して、対応する各種インスツルメント33を適宜動作させることが可能である。 The doctor unit 30 includes an operator table 31 and an operation panel 32 as a work table. Various instruments 33 can be suspended on the doctor unit 30, and such instruments 33 are handpieces used by the practitioner during the treatment, such as an air turbine, a micromotor, and an ultrasonic scaler. Syringe Three-way syringe and the like can be mentioned. A part of the instrument 33 is connected to an electric circuit, a water circuit, an air circuit, and the like. The operation panel 32 is provided with a switch (not shown) for operating various instruments 33. For example, a switch for moving the patient chair 10 up and down and tilting it upright, and water for treatment from the instrument 33. Examples include a switch that supplies water and stops water supply. By operating the various switches, the practitioner can appropriately operate the corresponding instruments 33 via a drive circuit and a control circuit (not shown).

図1に示すように、本実施形態の歯科用ユニット1は、歯科用ユニット1の給水配管内の水を殺菌するための加温装置40を備えている。加温装置40は歯科用ユニット1の給水配管に取り付けられ、給水配管内の水を加熱殺菌するよう機能する。加温装置40はスピットン装置15の給排水ボックス18内に収容可能であり、患者の施術時には視認されないようにすることができる。 As shown in FIG. 1, the dental unit 1 of the present embodiment includes a heating device 40 for sterilizing water in the water supply pipe of the dental unit 1. The heating device 40 is attached to the water supply pipe of the dental unit 1 and functions to heat sterilize the water in the water supply pipe. The heating device 40 can be accommodated in the water supply / drainage box 18 of the spitton device 15 so that it cannot be visually recognized during the patient's treatment.

図2は加温装置40の構造をより詳細に示した図である。加温装置40は、給水配管61内の水を収容可能な略筒形(特には略円筒形)のケーシング41と、ケーシング41の内部空間42に設けられたヒータ46と、ヒータ46の電源の入/切を切り替えるサーモスイッチ47とを備えている。給水配管61は給水配管60(図3参照)のうち、水道栓4から内部分岐P3までの部分を指す。ケーシング41は側方部材43と、側方部材43の両端に接続された末端部材44及び基端部材45からなる。ヒータ46は末端部材44に取り付けられ、サーモスイッチ47は基端部材45に取り付けられている。基端部材45は歯科用ユニット1の給水配管61と流体連通する孔45a,45bを備え、一方の孔45aが給水配管61からケーシング41の内部空間42内へ流入される水(すなわち加温装置より上流の給水配管内の水)の流入口として作用し、もう一方の孔45bはケーシング41の内部空間42から給水配管61へ流出される水(すなわち加温装置より下流の給水配管内の水)の流出口として作用する。ケーシング41により区画形成された内部空間42は給水配管61と流体連通しているため、ケーシング41及び内部空間42も歯科用ユニット1の給水配管を構成する。 FIG. 2 is a diagram showing the structure of the heating device 40 in more detail. The heating device 40 includes a substantially cylindrical (particularly substantially cylindrical) casing 41 capable of accommodating water in the water supply pipe 61, a heater 46 provided in the internal space 42 of the casing 41, and a power source for the heater 46. It is equipped with a thermo switch 47 that switches on / off. The water supply pipe 61 refers to a portion of the water supply pipe 60 (see FIG. 3) from the water tap 4 to the internal branch P3. The casing 41 includes a side member 43, an end member 44 connected to both ends of the side member 43, and a base end member 45. The heater 46 is attached to the end member 44, and the thermoswitch 47 is attached to the base end member 45. The base end member 45 includes holes 45a and 45b for fluid communication with the water supply pipe 61 of the dental unit 1, and one of the holes 45a is water flowing from the water supply pipe 61 into the internal space 42 of the casing 41 (that is, a heating device). It acts as an inflow port for water in the water supply pipe upstream of the water supply pipe, and the other hole 45b is water flowing out from the internal space 42 of the casing 41 to the water supply pipe 61 (that is, water in the water supply pipe downstream from the heating device). ) Acts as an outlet. Since the internal space 42 partitioned by the casing 41 is in fluid communication with the water supply pipe 61, the casing 41 and the internal space 42 also form the water supply pipe of the dental unit 1.

サーモスイッチ47は加温装置40の表面の温度を感知し、加温装置40内の水温の低下により加温装置40の表面の温度が下がり、ある一定温度(第1温度)に達すると、サーモスイッチ47はヒータ46への電源供給を開始し、加温装置40内の水温の上昇により加温装置40の表面の温度が上がりある温度(第2温度)に達すると、サーモスイッチ47はヒータ46への電源供給を停止する。このようなサーモスイッチによる制御は周知技術である。 The thermo switch 47 senses the temperature of the surface of the heating device 40, and when the temperature of the surface of the heating device 40 drops due to the decrease of the water temperature in the heating device 40 and reaches a certain constant temperature (first temperature), the thermo switch 47 The switch 47 starts supplying power to the heater 46, and when the temperature of the surface of the heating device 40 rises due to the rise in the water temperature in the heating device 40 and reaches a certain temperature (second temperature), the thermoswitch 47 raises the heater 46. Stop the power supply to. Control by such a thermo switch is a well-known technique.

厚生労働省が示す水質基準に関する省令の一部改正で水質管理目標設定項目として追加された健水発第1115002号の目標値として「1mlの検水で、R2A寒天培地法にて20±1℃で7日間培養した後に形成される集落数として2000 CFU/mL以下」が定められている。 The target value of Kensui No. 11150002, which was added as a water quality management target setting item in the partial revision of the ministerial ordinance on water quality standards indicated by the Ministry of Health, Labor and Welfare, was "1 ml of water, at 20 ± 1 ° C by R2A agar medium method. The number of colonies formed after culturing for 7 days is 2000 CFU / mL or less.

加温装置40より下流の給水配管60内の各箇所における水の従属栄養細菌数が2000 CFU/mL以下という基準を満たすためには、加温装置40内の水を55℃以上に加熱することが好ましく、60℃以上に加熱することが好ましく、65℃以上に加熱することがさらに好ましい。特に、水道栓からの距離が長い、ハンドピースを初めとするインスツルメント33から排出される水でも従属栄養細菌数の上記値を満たすために、55℃以上に加熱することが好ましく、60℃以上に加熱することがより好ましく、65℃以上に加熱することがさらに好ましい。また、加熱された水の温度が高すぎると、歯科用ユニット1の部品への負担及び施術者への使用に適さないことから、100℃以下であることが好ましく、90℃以下であることがより好ましく、80℃以下であることがさらに好ましく、75℃以下であることが特に好ましい。加温装置40内の水を55℃〜75℃の中等度の温度に加熱することが好ましく、60℃〜70℃に加熱することがより好ましい。このため、例えば、上記第1温度を約60℃前後、上記第2温度を約80℃、好ましくは上記第2温度を約70℃に設定することが好ましい。 In order to satisfy the standard that the number of heterotrophic bacteria in water at each location in the water supply pipe 60 downstream of the heating device 40 is 2000 CFU / mL or less, the water in the heating device 40 must be heated to 55 ° C. or higher. It is preferable to heat it to 60 ° C. or higher, and it is more preferable to heat it to 65 ° C. or higher. In particular, even water discharged from an instrument 33 such as a handpiece, which is a long distance from a tap, is preferably heated to 55 ° C. or higher in order to satisfy the above value of the number of heterotrophic bacteria, preferably 60 ° C. It is more preferable to heat it above, and it is further preferable to heat it above 65 ° C. Further, if the temperature of the heated water is too high, it is not suitable for the burden on the parts of the dental unit 1 and the use for the practitioner. Therefore, the temperature is preferably 100 ° C. or lower, preferably 90 ° C. or lower. More preferably, it is more preferably 80 ° C. or lower, and particularly preferably 75 ° C. or lower. It is preferable to heat the water in the heating device 40 to a moderate temperature of 55 ° C. to 75 ° C., and more preferably to 60 ° C. to 70 ° C. Therefore, for example, it is preferable to set the first temperature to about 60 ° C., the second temperature to about 80 ° C., and preferably the second temperature to about 70 ° C.

加温装置40による水の加熱時間は特に限定されないが、短時間の方が後の施術の迅速さ及びコストの点で好ましい。加温装置40による水の加熱時間は、好ましくは5秒以上、より好ましくは30秒以上、さらに好ましくは1分以上、さらにより好ましくは2分以上である。加熱時間の上限は例えば60分以下とする。 The heating time of water by the heating device 40 is not particularly limited, but a short time is preferable in terms of speed and cost of the subsequent treatment. The heating time of water by the heating device 40 is preferably 5 seconds or longer, more preferably 30 seconds or longer, still more preferably 1 minute or longer, still more preferably 2 minutes or longer. The upper limit of the heating time is, for example, 60 minutes or less.

また、加温装置40による加熱後に、ハンドピースを初めとするインスツルメント33から排出される水の温度は、そのまま患者の施術に使用できるよう、15〜42℃であることが好ましく、15〜35℃であることがより好ましく、18〜35℃であることがさらに好ましい。 Further, the temperature of the water discharged from the instrument 33 including the handpiece after heating by the heating device 40 is preferably 15 to 42 ° C. so that it can be used as it is for the patient's treatment, and is preferably 15 to 42 ° C. It is more preferably 35 ° C., and even more preferably 18 to 35 ° C.

さらに、前記加熱装置による60〜70℃での10分間の加熱の2分後に前記インスツルメントから排出される水の温度が、15〜42℃であることが好ましく、15〜35℃であることがより好ましく、18〜35℃であることがさらに好ましい。特に、前記加熱装置による60〜65℃での10分間の加熱の2分後に前記インスツルメントから排出される水の温度が、15〜42℃であることが好ましく、15〜35℃であることが好ましく、18〜35℃であることがより好ましい。 Further, the temperature of the water discharged from the instrument after 2 minutes of heating at 60 to 70 ° C. for 10 minutes by the heating device is preferably 15 to 42 ° C., preferably 15 to 35 ° C. Is more preferable, and 18 to 35 ° C. is even more preferable. In particular, the temperature of the water discharged from the instrument after 2 minutes of heating at 60 to 65 ° C. for 10 minutes by the heating device is preferably 15 to 42 ° C., preferably 15 to 35 ° C. Is preferable, and the temperature is more preferably 18 to 35 ° C.

さらに、前記加熱装置による60〜70℃での10分間の加熱後の0〜2分間の間に前記インスツルメントから排出される水の温度が、15〜42℃であることが好ましく、15〜35℃であることがより好ましく、18〜35℃であることがさらに好ましい。特に、前記加熱装置による60〜65℃での10分間の加熱後の0〜2分間の間に前記インスツルメントから排出される水の温度が、15〜42℃であることが好ましく、15〜35℃であることが好ましく、18〜35℃であることがより好ましい。 Further, the temperature of the water discharged from the instrument during 0 to 2 minutes after heating at 60 to 70 ° C. for 10 minutes by the heating device is preferably 15 to 42 ° C., preferably 15 to 42 ° C. It is more preferably 35 ° C., and even more preferably 18 to 35 ° C. In particular, the temperature of the water discharged from the instrument during 0 to 2 minutes after heating at 60 to 65 ° C. for 10 minutes by the heating device is preferably 15 to 42 ° C., preferably 15 to 42 ° C. The temperature is preferably 35 ° C, more preferably 18 to 35 ° C.

また、前記加熱装置により、加温装置40内の水を55℃〜75℃、より好ましくは60℃〜70℃、さらに好ましくは60〜65℃の温度に30秒以上、より好ましくは1分以上、さらにより好ましくは2分以上加熱し、加熱2分後に前記インスツルメントから排出される水の温度が、15〜42℃であることが好ましく、15〜35℃であることがより好ましく、18〜35℃であることがさらに好ましい。 Further, the water in the heating device 40 is heated to a temperature of 55 ° C. to 75 ° C., more preferably 60 ° C. to 70 ° C., further preferably 60 to 65 ° C. for 30 seconds or longer, more preferably 1 minute or longer by the heating device. , Even more preferably, the temperature of the water discharged from the instrument after heating for 2 minutes or more is preferably 15 to 42 ° C, more preferably 15 to 35 ° C, 18 It is more preferably ~ 35 ° C.

さらに、前記加熱装置により、加温装置40内の水を55℃〜75℃、より好ましくは60℃〜70℃、さらに好ましくは60〜65℃の温度に30秒以上、より好ましくは1分以上、さらにより好ましくは2分以上加熱し、加熱後の0〜2分間の間に前記インスツルメントから排出される水の温度が、15〜42℃であることが好ましく、15〜35℃であることがより好ましく、18〜35℃であることがさらに好ましい。 Further, by the heating device, the water in the heating device 40 is heated to a temperature of 55 ° C. to 75 ° C., more preferably 60 ° C. to 70 ° C., further preferably 60 to 65 ° C. for 30 seconds or longer, more preferably 1 minute or longer. , Even more preferably, it is heated for 2 minutes or more, and the temperature of the water discharged from the instrument within 0 to 2 minutes after heating is preferably 15 to 42 ° C, preferably 15 to 35 ° C. More preferably, the temperature is 18 to 35 ° C.

厚生労働省が示す水道水質基準(水道法施行規則第17条3号)によれば、水道水の遊離残留塩素濃度の基準値が0.1 mg/L以上と定められている。 According to the tap water quality standards (Article 17, Item 3 of the Waterworks Law Enforcement Regulations) set by the Ministry of Health, Labor and Welfare, the standard value of the free residual chlorine concentration in tap water is set to 0.1 mg / L or more.

給水配管60内の各箇所における水の遊離残留塩素濃度は0.1 mg/L以上であることが好ましく、特に、水道栓からの距離が長い、ハンドピースを初めとするインスツルメント33から排出される水でも遊離残留塩素濃度の上記値を満たすために、加温装置40内の水を45℃以上に加熱することが好ましく、好ましい加熱温度及び加熱時間は、従属栄養細菌数の基準を満たすために上述した通りである。 The free residual chlorine concentration of water at each location in the water supply pipe 60 is preferably 0.1 mg / L or more, and is particularly discharged from the instrument 33 such as the handpiece, which is a long distance from the tap. In order to satisfy the above values of the free residual chlorine concentration even in water, it is preferable to heat the water in the heating device 40 to 45 ° C. or higher, and the preferable heating temperature and heating time are set to meet the criteria for the number of dependent vegetative bacteria. As described above.

次に、歯科用ユニット1の給水配管60について説明する。 Next, the water supply pipe 60 of the dental unit 1 will be described.

図3に示すように、本実施形態の歯科用ユニット1の給水配管60は水道栓4に接続されており、スピットン装置15の給排水ボックス18(図1参照)の内部を通り、分岐する。本実施形態では、給水配管60は、水道栓4から内部分岐P3までの部分である給水配管61と、内部分岐P3から給水ノズル16までの部分である給水配管62と、内部分岐P3からアーム22を介して補佐テーブル21に至る給水配管63と、内部分岐P3からドクターユニット30の術者テーブル31に至る給水配管64とを備えている。歯科医、歯科助手等の施術者は、補佐テーブル21の給水配管63に取り付けたインスツルメント23、及び/又は術者テーブル31の給水配管64に取り付けたインスツルメント33を用いて、給水配管60(61,63,64)からインスツルメント23,33へ排出される水を用いて施術を行う。 As shown in FIG. 3, the water supply pipe 60 of the dental unit 1 of the present embodiment is connected to the water tap 4, passes through the inside of the water supply / drainage box 18 (see FIG. 1) of the spitton device 15, and branches. In the present embodiment, the water supply pipe 60 includes a water supply pipe 61 which is a part from the water tap 4 to the internal branch P3, a water supply pipe 62 which is a part from the internal branch P3 to the water supply nozzle 16, and an internal branch P3 to the arm 22. It is provided with a water supply pipe 63 leading to the assistant table 21 via the water supply pipe 64 and a water supply pipe 64 leading from the internal branch P3 to the operator table 31 of the doctor unit 30. A practitioner such as a dentist or a dental assistant uses an instrument 23 attached to the water supply pipe 63 of the assistant table 21 and / or an instrument 33 attached to the water supply pipe 64 of the operator table 31 to use the water supply pipe. The treatment is performed using the water discharged from 60 (61, 63, 64) to the instruments 23 and 33.

後述するように、給水配管60において水道栓からの距離が離れるほど(採水箇所P1、P2、P3、P4、P5、P6、P7の順に遠い)、給水配管60内に滞留する水の従属栄養細菌数は増加し、遊離残留塩素濃度は低下する傾向がある。このため、特に、水道栓からの距離が離れるほど、給水配管60内に滞留する水は2000 CFU/mL以下の従属栄養細菌数の管理目標値に適合しない場合がある。また、0.1 mg/L以上の遊離残留塩素濃度の水道水基準も満たさない場合もある。特に、スピットン装置15から排出される含嗽水や、水道栓から最も遠いドクターユニット30のインスツルメント33(図ではハンドピースとして例示)から排出される水では、従属栄養細菌数と遊離残留塩素濃度の上記の目標値および基準値をいずれも満たさない場合がある。 As will be described later, as the distance from the tap in the water supply pipe 60 increases (the water sampling points P1, P2, P3, P4, P5, P6, P7 are farther in this order), the heterotrophic nutrients of the water staying in the water supply pipe 60 Bacterial counts tend to increase and free residual chlorine concentrations tend to decrease. Therefore, in particular, as the distance from the tap is increased, the water staying in the water supply pipe 60 may not meet the control target value of the number of heterotrophic bacteria of 2000 CFU / mL or less. In addition, it may not meet the tap water standard for free residual chlorine concentration of 0.1 mg / L or more. In particular, the number of heterotrophic bacteria and the concentration of free residual chlorine in the gargling water discharged from the spitton device 15 and the water discharged from the instrument 33 (exemplified as a handpiece in the figure) of the doctor unit 30 farthest from the tap. In some cases, neither the above target value nor the reference value of is satisfied.

本実施形態の歯科用ユニット1によれば、スピットン装置15内に収容された加温装置40により給水配管60内の水を55℃〜75℃の中等度の温度に加熱することができるため、給水配管62を経て排出される含嗽水や、給水配管63,64を経て排出されるハンドピース排出水を初めとする歯科用ユニットから排出される水における従属栄養細菌数の水質管理目標値及び遊離残留塩素濃度の水質基準をいずれも満たす水を簡便かつ迅速に供給することができる。また、水の加熱に必ずしも薬剤を用いなくても済むため、安全性及び費用の点でも優れている。 According to the dental unit 1 of the present embodiment, the water in the water supply pipe 60 can be heated to a moderate temperature of 55 ° C. to 75 ° C. by the heating device 40 housed in the spitton device 15. Water quality control target value and release of dependent vegetative bacteria in water discharged from dental units such as gargling water discharged through water supply pipe 62 and handpiece discharged water discharged through water supply pipes 63 and 64 It is possible to easily and quickly supply water that meets all the water quality standards for the residual chlorine concentration. In addition, since it is not always necessary to use a chemical for heating water, it is excellent in terms of safety and cost.

本発明は、給水配管内の水を加熱殺菌するための上記加温装置40、加温装置40を備えた歯科用ユニット1、及び加温装置40を用いた歯科用ユニット1の給水配管内の水の殺菌方法も包含する。 The present invention is in the water supply pipe of the heating device 40 for heat sterilizing the water in the water supply pipe, the dental unit 1 provided with the heating device 40, and the dental unit 1 using the heating device 40. It also includes methods for sterilizing water.

上記実施形態は以下の効果を有する。
・本実施形態の歯科用ユニット1によれば、加温装置40により給水配管60内の水を加熱するだけで、加温装置40よりも下流の、水道栓から離れた箇所に従属栄養細菌数の水質管理目標値及び遊離残留塩素濃度の水質基準をいずれも満たす水を供給できるため、簡便性かつ迅速性に優れている。
・従来技術は、歯科用ユニットの水路系に添加する消毒液の残留液が及ぼす生体への影響や、費用対効果などが課題であるところ、本実施形態の歯科用ユニットによれば、水温を中等度に上げるだけで従属栄養細菌が殺菌できるため、安全性は高く、安価で効果的なアプローチである。また、消毒液使用による歯科用ユニットの機器の腐食の可能性も排除又は低減することができる。
・消毒液の頻繁な購入、使用が不要となる。少なくとも消毒液の使用頻度又は使用量を低減させることができる。
・本実施形態の歯科用ユニット1では、加温装置40を内部分岐P3よりも上流の位置に設けているため、加温装置40を一か所に設けるだけで済み、内部分岐P3から分岐する給水配管60のすべての箇所に効率的に従属栄養細菌数の水質管理目標値及び遊離残留塩素濃度の水質基準をいずれも満たす水を供給することができる。
・本実施形態の歯科用ユニット1では、加温装置40を内部分岐P3よりも上流の位置に設けているため、施術者がインスツルメント23,33を使用する時には加温された水の温度は患者に刺激を与えない程度の温度に冷めており、施術にそのまま使用することができる。
・本実施形態は、既存の歯科用ユニットの給水配管に加温装置40を設置することもできるため、現在使用されているすべての歯科用ユニットに安価かつ安全に組み込むことができ、汎用性、実用性に優れている。
The above embodiment has the following effects.
-According to the dental unit 1 of the present embodiment, only by heating the water in the water supply pipe 60 by the heating device 40, the number of dependent vegetative bacteria is located downstream of the heating device 40 and away from the tap. Since it is possible to supply water that meets both the water quality management target value and the water quality standard for the free residual chlorine concentration, it is excellent in convenience and speed.
-In the prior art, there are problems such as the effect on the living body of the residual liquid of the disinfectant solution added to the waterway system of the dental unit and cost effectiveness. However, according to the dental unit of the present embodiment, the water temperature is adjusted. It is a safe, inexpensive and effective approach because it can kill heterotrophic bacteria with a moderate increase. In addition, the possibility of corrosion of the equipment of the dental unit due to the use of the disinfectant solution can be eliminated or reduced.
-No need to frequently purchase and use disinfectant. At least the frequency or amount of disinfectant used can be reduced.
-In the dental unit 1 of the present embodiment, since the heating device 40 is provided at a position upstream of the internal branch P3, the heating device 40 only needs to be provided at one place and branches from the internal branch P3. It is possible to efficiently supply water that satisfies both the water quality control target value of the number of heterotrophic bacteria and the water quality standard of the free residual chlorine concentration to all the locations of the water supply pipe 60.
-In the dental unit 1 of the present embodiment, since the heating device 40 is provided at a position upstream of the internal branch P3, the temperature of the heated water when the practitioner uses the instruments 23 and 33. Is cooled to a temperature that does not irritate the patient and can be used as it is for the treatment.
-In this embodiment, since the heating device 40 can be installed in the water supply pipe of the existing dental unit, it can be inexpensively and safely incorporated into all the dental units currently in use, and is versatile. Excellent in practicality.

なお、本発明は上記実施形態に限定されず、以下のような変形が可能である。
・加温装置40の構成は図2に示したものに限定されず、公知のヒータを含む、給水配管60内の水を加熱可能な別の構成ヒータを用いてもよい。
・本発明によれば、従属栄養細菌数が2000 CFU/mL以下に抑制されておればよく、遊離残留塩素濃度0.1 mg/L以上の水質基準は必ずしも満たされなくてもよい。
・加温装置40の取り付け位置は水道栓4と内部分岐P3の間の配管61の位置に限定されず、従属栄養細菌数の水質管理目標値を満たす限り、歯科ユニット1内の給水配管60の任意の箇所に取り付けることができる。例えば、加温装置40は、水道栓4とスピットン装置15の間に設けてもよいし、内部分岐P3に設けてもよいし、内部分岐P3より下流の、アシスタントユニット20又はドクターユニット30等に設けてもよい。設置箇所が一か所で済み、施術者がインスツルメント23,33を使用する時には加温された水の温度が患者に刺激を与えない程度の温度に冷めているという点では、加温装置40は内部分岐P3又はその上流に設けられることが好ましい。
・本発明は、歯科用ユニット1に限定されず、家庭用浄水装置の給水配管や、貯水タンクの給水配管等、給水配管を備えた任意の他の装置にも適用することができる。これにより、水質汚染が危惧される敷地、地域、海外でも本発明の装置を使用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and the following modifications can be made.
The configuration of the heating device 40 is not limited to that shown in FIG. 2, and another heater having a configuration capable of heating the water in the water supply pipe 60, including a known heater, may be used.
-According to the present invention, the number of heterotrophic bacteria may be suppressed to 2000 CFU / mL or less, and the water quality standard of free residual chlorine concentration of 0.1 mg / L or more does not necessarily have to be satisfied.
The mounting position of the heating device 40 is not limited to the position of the pipe 61 between the water tap 4 and the internal branch P3, and as long as the water quality control target value of the number of heterotrophic bacteria is satisfied, the water supply pipe 60 in the dental unit 1 It can be attached to any location. For example, the heating device 40 may be provided between the water tap 4 and the spitton device 15, may be provided in the internal branch P3, or may be provided in the assistant unit 20 or the doctor unit 30 downstream of the internal branch P3. It may be provided. The heating device requires only one installation location, and when the practitioner uses the instruments 23 and 33, the temperature of the heated water is cooled to a temperature that does not irritate the patient. 40 is preferably provided at the internal branch P3 or upstream thereof.
-The present invention is not limited to the dental unit 1, and can be applied to any other device provided with a water supply pipe, such as a water supply pipe of a household water purifier and a water supply pipe of a water storage tank. As a result, the apparatus of the present invention can be used in sites, areas, and overseas where water pollution is a concern.

以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

1.歯科用ユニットからの水試料の採取
一般歯科用ユニットとして、東北大学病院内で2009年12月より稼働しているGC社レフィーノ3台(製造番号00036、00041及び00042)と2012年9月より稼働しているGC社イオム レガロ2台(製造番号00672及び00672)を対象とした。また、薬物洗浄機能付き歯科用ユニットとして、2015年5月もしくは2016年3月より稼働しているモリタ スペースラインスピリットV PdWトレーシステム3台(製造番号CH1006、EB1503及びZC1001)を対象とした。
1. 1. Collection of water samples from dental units As general dental units, three GC Refinos (serial numbers 00036, 00041 and 00004), which have been in operation since December 2009 in Tohoku University Hospital, have been in operation since September 2012. The target was two GC Iom Regalo (serial numbers 00672 and 00672). In addition, as a dental unit with a drug cleaning function, three Morita Spaceline Spirit V PdW tray systems (serial numbers CH1006, EB1503 and ZC1001) that have been in operation since May 2015 or March 2016 were targeted.

一般歯科用ユニットは使用前に日本歯科医学会監修 院内感染対策実践マニュアルにあるガイドラインに従い、図1及び図2の符号を用いて説明すると、スピットン装置での使用のために、スピットン装置15の給水ノズル16(P4)から排出される含漱用水(以下、「含漱水」と称する)では紙コップ8杯分、ハンドピースでの使用のために、ハンドピース(P7)から排出される水(以下、「ハンドピース水」と称する)では30秒間の最大運転によるフラッシング(残留水排出)を行い、水質管理を施した。また、薬物洗浄機能付き歯科用ユニットでは、毎週末に、0.1%過酸化水素水をチェア給水管路内部に約2日間滞留させ、毎朝使用前に、専用フラッシングタンクにハンドピース等全ての経路を接続し、水道水を豊富な水流量で7分間循環させ、残留水を排出させた。 Before using the general dental unit, follow the guidelines in the Nosocomial Infection Control Practice Manual supervised by the Japanese Association for Dental Science, and explain using the symbols in FIGS. 1 and 2, the water supply of the spitton device 15 for use in the spitton device. The rinsing water discharged from the nozzle 16 (P4) (hereinafter referred to as "soothing water") is equivalent to eight paper cups, and the water discharged from the handpiece (P7) for use with the handpiece (P7). (Hereinafter referred to as "handpiece water"), flushing (residual water discharge) was performed by maximum operation for 30 seconds to control the water quality. In addition, in the dental unit with a drug cleaning function, 0.1% hydrogen peroxide solution is retained inside the chair water supply line for about 2 days every weekend, and all routes such as handpieces are placed in a dedicated flushing tank before use every morning. It was connected and tap water was circulated at abundant flow rates for 7 minutes to drain residual water.

一般歯科用ユニットおよび薬物洗浄機能付き歯科用ユニットについて、それぞれ残留水排出前後の患者用の含漱用水及びハンドピース水25 mLの各々を滅菌ポリエチレンチューブに10 mLと15 mLとに分けて採水した。先の10 mLは細菌検査に、後の15 mLは遊離残留塩素濃度測定に使用した。 For the general dental unit and the dental unit with drug cleaning function, 25 mL each of the patient's rinsing water and handpiece water before and after the residual water was discharged was divided into 10 mL and 15 mL in a sterile polyethylene tube. did. The first 10 mL was used for bacterial testing and the latter 15 mL was used for free residual chlorine concentration measurement.

また、一般歯科用ユニットGC社レフィーノ2台(製造番号00036及び00041)の給水配管パーツを取り外し、(1)水道栓(採水箇所P1)、(2)水道栓からユニット配管に入った直後(採水箇所P2)、(3)内部分岐点(採水箇所P3)、(4)スピットン装置の給水ノズル(P4)、(5)補佐用テーブル内部(採水箇所P5)及び(6)術者用テーブル内部(採水箇所P6)の各ポイントから同様に25 mLを滅菌ポリエチレンチューブに10 mLと15 mLとに分けて採水した(図3)。 In addition, the water supply piping parts of the two general dental units GC Refino (serial numbers 00036 and 00041) were removed, and (1) the water tap (water sampling point P1), and (2) immediately after entering the unit piping from the tap ( Water sampling point P2), (3) Internal branch point (water sampling point P3), (4) Water supply nozzle of Spitton device (P4), (5) Inside auxiliary table (water sampling point P5) and (6) Operator Similarly, 25 mL of water was sampled from each point inside the water table (water sampling point P6) into 10 mL and 15 mL in a sterile polyethylene tube (Fig. 3).

2.従属栄養細菌及び一般細菌の培養・観察方法
上記1.の各水試料は、0.22μmのフィルタ(Millex-GP SLGP033RS,メルクミリポア社製)にて滅菌したmilliQ水を用いて10倍及び100倍に希釈した。
2. Method of culturing and observing heterotrophic bacteria and general bacteria 1. Each water sample was diluted 10-fold and 100-fold with milliQ water sterilized with a 0.22 μm filter (Millex-GP SLGP033RS, manufactured by Merck Millipore).

一連の実験を開始する前に、培養条件検討のための予備実験として、ハンドピース部より採取した残留水試料中の従属栄養細菌及び一般細菌を、好気及び嫌気環境下で培養した。好気培養は以下に記した従属栄養細菌及び一般細菌検出法と同様に行った。嫌気培養は、テーハー式アナエロボックス(ANB-18-2E、ヒラサワ製)を用いた高度嫌気環境(80% N2, 10% CO2, 10% H2)下で行った。Before starting the series of experiments, heterotrophic bacteria and general bacteria in the residual water sample collected from the handpiece part were cultured in an aerobic and anaerobic environment as a preliminary experiment for examining the culture conditions. The aerobic culture was carried out in the same manner as the heterotrophic and general bacterium detection methods described below. The anaerobic culture was performed in a highly anaerobic environment (80% N 2 , 10% CO 2 , 10% H 2 ) using a Teher-type Anaero box (ANB-18-2E, manufactured by Hirasawa).

従属栄養細菌の培養では、R2A寒天培地(251258, 日本BD)に原液及び希釈した試料を100μLずつ播種し、クールインキュベータ(CN-25C-1, 三菱電機エンジニアリング社製)を用いて20℃、7日間培養後、各寒天培地上のコロニー数を目視にてカウントし、各試料中の細菌数(CFU/mL)を算定した。 For culturing dependent bacterium, 100 μL of undiluted solution and diluted sample were inoculated on R2A agar medium (251258, Japan BD), and 20 ° C, 7 using a cool incubator (CN-25C-1, manufactured by Mitsubishi Electric Engineering Co., Ltd.). After culturing for one day, the number of colonies on each agar medium was visually counted, and the number of bacteria (CFU / mL) in each sample was calculated.

また、一般細菌検出のための培養では、CDC羊血液寒天培地(251733, 日本BD)に原液試料を100μL播種し、インキュベータ(CI-410, アドバンテック社製)を用いて37℃、7日間培養後、同様に細菌数(CFU/mL)を算定した。 In the culture for detecting general bacteria, 100 μL of the undiluted sample was seeded on CDC sheep blood agar medium (251733, BD Japan), and after culturing at 37 ° C for 7 days using an incubator (CI-410, manufactured by Advantech). , Similarly, the number of bacteria (CFU / mL) was calculated.

従属栄養細菌では、水質基準に関する省令の一部改正で水質管理目標設定項目として追加され、健水発第1115002号で当面の目標値として設定された「1mlの検水で、R2A寒天培地法にて20℃で7日間培養した後に形成される集落数として2000 CFU/mL以下」を基に合否を判定した。 For dependent vegetative bacteria, it was added as a water quality management target setting item in the partial revision of the ministry ordinance on water quality standards, and was set as the immediate target value in Kensui No. 1115002. The pass / fail judgment was made based on "2000 CFU / mL or less as the number of colonies formed after culturing at 20 ° C for 7 days."

3.遊離残留塩素濃度の測定
遊離残留塩素濃度の測定はジエチルパラフェニレンジアミン試薬(遊離残留塩素測定用試薬DPDプラス、株式会社オーヤラックス、Cat. # OYWT-11-03)及び吸光光度法による残留塩素測定器(Photometer CL、株式会社オーヤラックス、Cat. # OYWT-31)を用いて、添付の取り扱い説明書に沿って行った。15 mLの水サンプルの内10mLを試料セル内に分取し、ゼロ校正を行った後、粉末試薬1包を溶解した。測定器のセル挿入部にセットし、約30秒間静置後測定を行った。ゼロ校正ならびに超純水による試料セルの洗浄を試料ごとに行った。厚生労働省が示す水道水質基準(水道法施行規則第17条3号)の基準値(0.1 mg/L以上)をもとに合否を判定した。
3. 3. Measurement of free residual chlorine concentration Measurement of free residual chlorine concentration is performed by diethyl paraphenylenediamine reagent (reagent for measuring free residual chlorine DPD Plus, Oyalux Co., Ltd., Cat. # OYWT-11-03) and a residual chlorine measuring device by the absorptiometry. (Photometer CL, Oyalux Co., Ltd., Cat. # OYWT-31) was used and the procedure was performed according to the attached instruction manual. 10 mL of the 15 mL water sample was dispensed into the sample cell, zero calibration was performed, and then one packet of the powder reagent was dissolved. It was set in the cell insertion part of the measuring instrument and allowed to stand for about 30 seconds before measurement. Zero calibration and cleaning of the sample cell with ultrapure water were performed for each sample. Pass / fail was judged based on the standard value (0.1 mg / L or more) of the tap water quality standard (Article 17-3 of the Waterworks Law Enforcement Regulations) indicated by the Ministry of Health, Labor and Welfare.

4.ハンドピース残留水中の従属栄養細菌に対する加温効果の検証方法(in vitro)
一般歯科用ユニットGC社レフィーノ3台(製造番号00036、00041及び00042)よりフラッシング(残留水排出)を行わずに採取した、前日からハンドピース内に残留していたハンドピース水試料をin vitroで加熱した際の、試料中の従属栄養細菌に対する殺菌効果を検証するため、以下のように試料を処理した。
4. Handpiece Verification method of heating effect on heterotrophic bacteria in residual water (in vitro)
In vitro, a handpiece water sample that had remained in the handpiece from the previous day, collected from three general dental units GC Refino (serial numbers 00036, 00041 and 0402) without flushing (residual water discharge). In order to verify the bactericidal effect on heterotrophic bacteria in the sample when heated, the sample was treated as follows.

残留水試料を、それぞれ15mlの滅菌コニカルチューブに5ml分注した。アルミブロックを搭載した小型ドライインキュベータ(BSR-M002, Bio Medical Science社製)に、上記1.の水試料を入れたコニカルチューブと、水道水を同量入れた同コニカルチューブをセット後、加温を開始した。水道水を入れたコニカルチューブには水銀温度計をセットし、この温度計の温度が30、35、40、45、50、55、60℃に達した時点で、各試料の入ったコニカルチューブから速やかに300μLの水試料を滅菌フィンピペットにて採取し、滅菌チューブ(アシストチューブ 72.693.100S, ザルスタット株式会社)に移して播種まで氷冷にて保管した。 5 ml of the residual water sample was dispensed into each 15 ml sterile conical tube. In a small dry incubator (BSR-M002, manufactured by Bio Medical Science) equipped with an aluminum block, the above 1. After setting the conical tube containing the water sample of No. 1 and the same conical tube containing the same amount of tap water, heating was started. A mercury thermometer is set in the conical tube containing tap water, and when the temperature of this thermometer reaches 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60 ° C, from the conical tube containing each sample. A 300 μL water sample was immediately collected with a sterilized fin pipette, transferred to a sterilized tube (assist tube 72.693.100S, Zalstat Co., Ltd.), and stored in ice-cooled until seeding.

5.一般歯科用ユニットの給水配管への中等度加温効果の検証方法
一般歯科用ユニットGC社イオム レガロ2台(製造番号00672及び00672)の給水配管のスピットン装置(15)の給排水ボックス(18)内の内部分岐P3の直前(図3に矢印で示した位置)(図3参照)に図2に示す構造を有する中等度加温装置を設置した。この加温装置は、歯科用ユニットの加温装置40内の温度を9分間で23℃から65℃まで加温することができる。加温装置のケーシングの容量は180ml、加温装置の電圧はAC24V、電力は52.8W、電力密度は2.5W/cm2、最大温度(ヒータ吐出口における最大水温)は約65℃であった。
5. How to verify the moderate heating effect on the water supply pipe of the general dental unit General dental unit GC company Iom Regalo 2 units (serial numbers 00672 and 00672) in the water supply / drainage box (18) of the spitton device (15) of the water supply pipe. Immediately before the internal branch P3 (the position indicated by the arrow in FIG. 3) (see FIG. 3), a moderate heating device having the structure shown in FIG. 2 was installed. This heating device can heat the temperature inside the heating device 40 of the dental unit from 23 ° C. to 65 ° C. in 9 minutes. The capacity of the casing of the heating device was 180 ml, the voltage of the heating device was AC24V, the power was 52.8W, the power density was 2.5W / cm 2 , and the maximum temperature (maximum water temperature at the heater outlet) was about 65 ° C.

加温装置の作動前にフラッシング(残留水排出)を行わずに前日からハンドピース内に残留していたハンドピース水25mLを滅菌ポリエチレンチューブに10 mLと15 mLに分けて採水した。その後、加温装置を作動させ、10分間加温した。その後、ハンドピースの最大出力での運転を開始し、ハンドピース運転30秒後、1分間後及び2分間後それぞれで25mLを同様の方法で採水した。各採水時に、デジタル温度計(CT-05SD, CUSTOM社製)を用いて検温した。加温装置は実験が終了するまで作動させ続けた。 Before the operation of the heating device, 25 mL of handpiece water remaining in the handpiece from the previous day without flushing (residual water discharge) was collected in 10 mL and 15 mL in a sterile polyethylene tube. Then, the heating device was operated and heated for 10 minutes. After that, the operation at the maximum output of the handpiece was started, and 25 mL of water was sampled in the same manner 30 seconds after the operation of the handpiece, 1 minute after the operation, and 2 minutes after the operation. At each water sampling, the temperature was measured using a digital thermometer (CT-05SD, manufactured by CUSTOM). The warmer continued to operate until the end of the experiment.

6.結果
(1)培養条件の検討:好気及び嫌気環境下での従属栄養細菌及び一般細菌の培養結果
図4に示すように、一連の実験の開始前の予備実験として、ハンドピースより採取した残留水試料中の従属栄養細菌及び一般細菌を、好気及び嫌気環境下で培養したところ、従属栄養細菌は好気環境のみでコロニーが観察され、嫌気では非検出となった。また、一般細菌はどちらの条件でも非検出となった。そのため、それ以後の実験では、好気培養で検出された従属栄養細菌数を研究対象とした。
6. result
(1) Examination of culture conditions: Culture results of heterotrophic bacteria and general bacteria in aerobic and anaerobic environments As shown in Fig. 4, residual water collected from a handpiece as a preliminary experiment before the start of a series of experiments. When the heterotrophic bacteria and general bacteria in the sample were cultured in an aerobic and anaerobic environment, colonies of the heterotrophic bacteria were observed only in the aerobic environment, and were not detected in the anaerobic environment. In addition, general bacteria were not detected under either condition. Therefore, in subsequent experiments, the number of heterotrophic bacteria detected in aerobic culture was the subject of research.

(2)残留水排出による一般歯科用ユニット水中の従属栄養細菌数の変化
図5に示すように、残留水排出後のハンドピース水及び含漱用水中の従属栄養細菌数は、排出前と比較し、ハンドピース水で約94%、含漱用水で98%、有意に減少した。(P <0.01, paired t-test)。また、含漱用水では残留水排出後の細菌数が目標値である2000 CFU/mLを下回ったが、ハンドピース水では残留水排出後でも目標値の5倍近い細菌数が検出された。
(2) Changes in the number of heterotrophic bacteria in general dental unit water due to residual water discharge As shown in Fig. 5, the number of heterotrophic bacteria in handpiece water and rinsing water after residual water discharge is compared with that before discharge. However, it decreased significantly by about 94% in handpiece water and 98% in gargle-containing water. (P <0.01, paired t-test). In the rinsing water, the number of bacteria after the residual water was discharged was below the target value of 2000 CFU / mL, but in the handpiece water, the number of bacteria was detected to be close to 5 times the target value even after the residual water was discharged.

(3)残留水排出による一般歯科用ユニット水中の遊離残留塩素濃度の変化
図6に示すように、含漱用水の遊離残留塩素濃度は、残留水排出前では水道法の基準値(0.1 mg/L)よりも低かったが、残留水排出後に0.2 mg/L以上となり基準値を大きく上回った(P <0.01, paired t-test)。一方、ハンドピース水の遊離残留塩素濃度は残留水排出の有無にかかわらず、0.5 mg/L程度であり、基準値を上回ることはなかった。
(3) Changes in free residual chlorine concentration in general dental unit water due to residual water discharge As shown in Fig. 6, the free residual chlorine concentration in rinsing water is the standard value of the Waterworks Law (0.1 mg /) before residual water discharge. Although it was lower than L), it was 0.2 mg / L or more after the residual water was discharged, which greatly exceeded the standard value (P <0.01, paired t-test). On the other hand, the free residual chlorine concentration of the handpiece water was about 0.5 mg / L regardless of the presence or absence of residual water discharge, and did not exceed the standard value.

(4)歯科用ユニットの給水配管各部の従属栄養細菌数
図7に示すように、ユニット内の各ポイントから水試料を採取し、各々の従属栄養細菌数を比較したところ、水道栓(P1)及び水道栓からユニット配管に入った直後(P2)の試料中では、従属栄養細菌はほとんど検出されなかったのに対し、内部分岐部(P3)、スピットン装置の給水ノズル(P4)、及び補佐用テーブル内(P5)の配管から採取した試料では、目標値である2000 CFU/mL内に収まったものの、その検出数は徐々に増加した。さらに、術者用テーブル内(P6)では2000 CFU/mL前後の検出数となり、より細い配管で繋げられたハンドピース先端からの試料(P7)では、その検出数が一気に150000 CFU/mLへと増加した。これらの結果は、元栓からの距離に応じて、従属栄養細菌数が増加する傾向を示しており、元栓から遠いユニット内配管中では水中に含まれる従属栄養細菌が滞り、バイオフィルムなどの細菌供給源を形成している可能性が示唆された。
(4) Number of heterotrophic bacteria in each part of the water supply pipe of the dental unit As shown in Fig. 7, water samples were taken from each point in the unit and the numbers of each heterotrophic bacteria were compared. And, while heterotrophic bacteria were hardly detected in the sample immediately after entering the unit pipe from the tap (P2), the internal branch (P3), the water supply nozzle of the spitton device (P4), and the assistant In the sample collected from the pipe in the table (P5), although it was within the target value of 2000 CFU / mL, the number of detections gradually increased. Furthermore, in the operator's table (P6), the number of detections was around 2000 CFU / mL, and in the sample (P7) from the tip of the handpiece connected by a thinner pipe, the number of detections reached 150,000 CFU / mL at once. Increased. These results show that the number of heterotrophic bacteria tends to increase according to the distance from the main plug, and the heterotrophic bacteria contained in the water stay in the piping in the unit far from the main plug, and the bacteria such as biofilm are supplied. It was suggested that it may form a source.

(5)歯科用ユニットの給水配管各部の遊離残留塩素濃度
図8に示すように、水道栓(P1)及び水道栓からユニット配管に入った直後(P2)の遊離残留塩素濃度は、0.3 mg/L以上であり、水道法の基準値(0.1 mg/L)を大きく超えていた。一般歯科用ユニット内部に進むにつれ遊離残留塩素濃度は下がるが、内部分岐部(P3)や補佐用テーブル内部(P5)では未だ基準値以上であった。しかし、スピットン装置の給水ノズル(P4)、術者用テーブル内部(P6)及びハンドピース先端からの試料(P7)では基準値を下回った。水道栓から遠い箇所ほど、遊離残留塩素濃度は低くなる傾向を示した。
(5) Free residual chlorine concentration of each part of the water supply pipe of the dental unit As shown in FIG. 8, the free residual chlorine concentration of the tap (P1) and immediately after entering the unit pipe from the tap (P2) is 0.3 mg / It was L or more, which greatly exceeded the standard value (0.1 mg / L) of the Waterworks Law. The concentration of free residual chlorine decreased as it proceeded to the inside of the general dental unit, but it was still above the standard value at the internal branch (P3) and the inside of the assisting table (P5). However, the water supply nozzle (P4) of the spitton device, the inside of the operator's table (P6), and the sample from the tip of the handpiece (P7) were below the reference value. The farther away from the tap, the lower the concentration of free residual chlorine tended to be.

(6)薬物洗浄機能付き歯科用ユニットのハンドピース水中の従属栄養細菌数
図9に示すように、参考例として、薬物洗浄機能付き歯科用ユニットハンドピースより採取した水試料では、残留水排出前でも、従属栄養細菌数が非常に少なく、目標値をクリアしていた。残留水の排出後はさらにその数が減少した。日頃より過酸化水素水が流路を循環することで、流路内の従属栄養細菌が殺菌されていることが示唆された。
(6) Handpiece of dental unit with drug cleaning function Number of heterotrophic bacteria in water As shown in Fig. 9, as a reference example, in the water sample collected from the handpiece of the dental unit with drug cleaning function, before residual water is discharged. However, the number of heterotrophic bacteria was very small, and the target value was cleared. The number decreased further after the residual water was discharged. It was suggested that the heterotrophic bacteria in the channel were sterilized by the daily circulation of the hydrogen peroxide solution in the channel.

(7)薬物洗浄機能付き歯科用ユニットのハンドピース水中の遊離残留塩素濃度
図10に示すように、参考例として、残留水排出前の薬物洗浄機能付き歯科用ユニットハンドピースより採取した水試料中の遊離残留塩素濃度は水道法基準値未満であった。残留水排出により、遊離残留塩素濃度は増加傾向にあったが、必ずしも基準値以上にならなかった。このように、遊離残留塩素濃度が必ずしも水道法に準拠しないこと、さらに、過酸化水素による配管の継時的腐食が危惧された。
(7) Free Residual Chlorine Concentration in Water of Handpiece of Dental Unit with Drug Cleaning Function As shown in Fig. 10, as a reference example, in the water sample collected from the handpiece of the dental unit with drug cleaning function before the residual water is discharged. The free residual chlorine concentration in was less than the standard value of the Waterworks Law. The concentration of free residual chlorine tended to increase due to the discharge of residual water, but it did not necessarily exceed the standard value. In this way, there was concern that the concentration of free residual chlorine would not necessarily comply with the Waterworks Law, and that hydrogen peroxide would cause successive corrosion of pipes.

(8)従属栄養細菌に対する加温による影響(in vitro)
ハンドピースより各々採取した水試料をin vitroで各温度まで加熱した際の、試料中の従属栄養細菌に対する影響を検証した。
(8) Effect of heating on heterotrophic bacteria (in vitro)
The effect of each water sample collected from the handpiece on heterotrophic bacteria in the sample when heated to each temperature in vitro was examined.

図11に示すように、今回対象とした3台の一般歯科ユニットから採取した試料では、検出される従属栄養細菌数は常温から45度までは、ほぼ横ばいの値を示したが、50度以上で急激に減少し、55℃以上では、目標値である2000 CFU/mLを下回る検出量となった。50〜60℃程度の中等度の加温により、ハンドピース水中の従属栄養細菌数を大幅に減少させることができることが示された。 As shown in Fig. 11, in the samples collected from the three general dental units targeted this time, the number of heterotrophic bacteria detected was almost flat from room temperature to 45 degrees, but it was 50 degrees or more. The detection amount decreased sharply at 55 ° C or higher, and the detection amount was below the target value of 2000 CFU / mL. It has been shown that moderate heating at about 50-60 ° C can significantly reduce the number of heterotrophic bacteria in the handpiece water.

(9)一般歯科用ユニットの給水配管の中等度加温によるハンドピース水内従属栄養細菌への殺菌効果
ユニットの給水配管内の加温装置により、最大で65℃まで加温した際の、ハンドピース水試料中の採取直後の温度及び従属栄養細菌数の経時的変化を調べた。
(9) Handpiece by moderate heating of the water supply pipe of the general dental unit Handpiece when heated to a maximum of 65 ° C by the heating device in the water supply pipe of the unit, the bactericidal effect on the heterotrophic bacteria in the water The change over time in the temperature immediately after collection and the number of heterotrophic bacteria in the piece water sample was examined.

図12に示すように、中等度加温後にハンドピース先端より採取した水試料温度は最大で33℃程度であった。これは、加温装置からハンドピース先端までのユニット内配管に距離があったことから、流路内で冷却されたためと考えられた。 As shown in FIG. 12, the temperature of the water sample collected from the tip of the handpiece after moderate heating was about 33 ° C at the maximum. It was considered that this was because there was a distance in the piping inside the unit from the heating device to the tip of the handpiece, so it was cooled in the flow path.

従属栄養細菌数は、ハンドピース先端より水を出し続け30秒後に採取した試料では、加温前の試料と比較し、大きく減少し2台のユニット共に目標値である2000 CFU/mLをクリアする結果を得た。その後、1分後、2分後まで、減少した状態が保たれた。 The number of heterotrophic bacteria in the sample collected 30 seconds after continuing to drain water from the tip of the handpiece is significantly reduced compared to the sample before heating, and both units clear the target value of 2000 CFU / mL. I got the result. After that, the decreased state was maintained until 1 minute and 2 minutes later.

この加温装置によりユニット内の従属栄養細菌が殺菌され、排水中はその効果が維持されることが示された。 It has been shown that this heating device kills heterotrophic bacteria in the unit and maintains its effect during drainage.

(10)一般歯科用ユニットの給水配管の中等度加温によるハンドピース排出水の温度と遊離残留塩素濃度への影響
図13に示すように、一般歯科用ユニットのハンドピース水の温度は加熱前後の残留水は約20℃の常温であり、加熱後残留水を排出するにつれ上昇したが、30℃前後で頭打ちとなった。
(10) Effect of moderate heating of the water supply pipe of the general dental unit on the temperature of the handpiece discharged water and the free residual chlorine concentration As shown in Fig. 13, the temperature of the handpiece water of the general dental unit is before and after heating. The residual water in the water was at room temperature of about 20 ° C, and increased as the residual water was discharged after heating, but reached a plateau at around 30 ° C.

ハンドピース残留水の遊離残留塩素濃度は加熱前は水道法の基準値(0.1 mg/L)以下をとる場合があったが、中等度加熱後にハンドピース残留水中の遊離残留塩素濃度は著しく増加し、ユニット1では0.3 mg/L以上となり、水道法の基準値を大きく上回った。2分間の残留水排出中、遊離残留塩素濃度が水道法の基準値未満となることはなく、いずれのユニットも常に0.2 mg/L以上であった。 The free residual chlorine concentration in the handpiece residual water sometimes fell below the standard value (0.1 mg / L) of the Waterworks Law before heating, but the free residual chlorine concentration in the handpiece residual water increased significantly after moderate heating. In unit 1, it was 0.3 mg / L or more, which greatly exceeded the standard value of the Waterworks Law. During the 2-minute residual water discharge, the free residual chlorine concentration did not fall below the standard value of the Waterworks Law, and all units were always 0.2 mg / L or more.

以上の結果から、既存の院内感染対策実践マニュアルにあるガイドラインに従う方法や薬物洗浄機能付き歯科用ユニットにおける過酸化水素水を用いた殺菌では、従属栄養細菌数及び遊離残留塩素濃度の両方の点で、水道法に準拠した基準で水質管理が困難であることが示された。一方で、本実施例では、歯科用ユニット内部の給水配管の分岐部に中等度加温装置を取り付けることで、歯科用ユニットのハンドピース水の水質を、安全性と確実性が高く、従属栄養細菌数及び遊離残留塩素濃度の両方の点で、水道法に準拠した水準で管理できることが示された。 Based on the above results, the method of following the guidelines in the existing Nosocomial Infection Control Practice Manual and the sterilization using hydrogen peroxide solution in a dental unit with a drug cleaning function in terms of both the number of heterotrophic bacteria and the concentration of free residual chlorine. , It was shown that water quality management is difficult according to the standards based on the Waterworks Law. On the other hand, in this embodiment, by attaching a moderate heating device to the branch of the water supply pipe inside the dental unit, the water quality of the handpiece water of the dental unit is highly safe and reliable, and heterotrophic nutrition. It was shown that both the number of bacteria and the concentration of free residual chlorine can be controlled at a level compliant with the Waterworks Law.

40…加温装置、60…給水配管。 40 ... heating device, 60 ... water supply piping.

【0016】
[0059]
加温装置の作動前にフラッシング(残留水排出)を行わずに前日からハンドピース内に残留していたハンドピース水25mLを滅菌ポリエチレンチューブに10mLと15mLに分けて採水した。その後、加温装置を作動させ、10分間加温した。その後、ハンドピースの最大出力での運転を開始し、ハンドピース運転30秒後、1分間後及び2分間後それぞれで25mLを同様の方法で採水した。各採水時に、デジタル温度計(CT−O5SD,CUSTOM社製)を用いて検温した。加温装置は実験が終了するまで作動させ続けた。
[0060]
6.結果
(1)培養条件の検討:好気及び嫌気環境下での従属栄養細菌及び一般細菌の培養結果
図4に示すように、一連の実験の開始前の予備実験として、ハンドピースより採取した残留水試料中の従属栄養細菌及び一般細菌を、好気及び嫌気環境下で培養したところ、従属栄養細菌は好気環境のみでコロニーが観察され、嫌気では非検出となった。また、一般細菌はどちらの条件でも非検出となった。そのため、それ以後の実験では、好気培養で検出された従属栄養細菌数を研究対象とした。
[0061]
(2)残留水排出による一般歯科用ユニット水中の従属栄養細菌数の変化
図5に示すように、残留水排出後のハンドピース水及び含漱用水中の従属栄養細菌数は、排出前と比較し、ハンドピース水で約94%、含漱用水で98%、有意に減少した。(P<0.01,paired t−test)。また、含漱用水では残留水排出後の細菌数が目標値である2000CFU/mLを下回ったが、ハンドピース水では残留水排出後でも目標値の5倍近い細菌数が検出された。
[0062]
(3)残留水排出による一般歯科用ユニット水中の遊離残留塩素濃度の変化
図6に示すように、含漱用水の遊離残留塩素濃度は、残留水排出前では水道法の基準値(0.1mg/L)よりも低かったが、残留水排出後に0.2mg/L以上となり基準値を大きく上回った(P<0.01,paired t−test)。一方、ハンドピース水の遊離残留塩素濃度は残留水排出の有無にかかわらず、0.05mg/L程度で
0016.
[0059]
Before the operation of the heating device, 25 mL of handpiece water remaining in the handpiece from the previous day without flushing (residual water discharge) was collected in 10 mL and 15 mL in a sterilized polyethylene tube. Then, the heating device was operated and heated for 10 minutes. Then, the operation at the maximum output of the handpiece was started, and 25 mL of water was sampled in the same manner 30 seconds after the operation of the handpiece, 1 minute after the operation, and 2 minutes after the operation. At each water sampling, the temperature was measured using a digital thermometer (CT-O5SD, manufactured by CUSTOM). The warmer continued to operate until the end of the experiment.
[0060]
6. result
(1) Examination of culture conditions: Culture results of heterotrophic bacteria and general bacteria in aerobic and anaerobic environments As shown in FIG. 4, residual water collected from a handpiece as a preliminary experiment before the start of a series of experiments. When the heterotrophic bacteria and general bacteria in the sample were cultured in an aerobic and anaerobic environment, colonies of the heterotrophic bacteria were observed only in the aerobic environment, and were not detected in the anaerobic environment. In addition, general bacteria were not detected under either condition. Therefore, in subsequent experiments, the number of heterotrophic bacteria detected in aerobic culture was the subject of research.
[0061]
(2) Changes in the number of heterotrophic bacteria in general dental unit water due to residual water discharge As shown in FIG. 5, the number of heterotrophic bacteria in handpiece water and rinsing water after residual water discharge is compared with that before discharge. However, it decreased significantly by about 94% in handpiece water and 98% in gargle-containing water. (P <0.01, paired t-test). In the irrigation water, the number of bacteria after the residual water was discharged was lower than the target value of 2000 CFU / mL, but in the handpiece water, the number of bacteria was detected to be close to 5 times the target value even after the residual water was discharged.
[0062]
(3) Changes in Free Residual Chlorine Concentration in General Dental Unit Water Due to Residual Water Discharge As shown in Fig. 6, the free residual chlorine concentration in rinsing water is the standard value (0.1 mg) of the Waterworks Law before the residual water is discharged. Although it was lower than / L), it was 0.2 mg / L or more after the residual water was discharged, which greatly exceeded the standard value (P <0.01, paired t-test). On the other hand, the free residual chlorine concentration of handpiece water is about 0.05 mg / L regardless of the presence or absence of residual water discharge.

Claims (7)

給水配管と、
前記給水配管に取り付けられた、給水配管内の水を殺菌するための加温装置とを備え、
前記加温装置は、前記加温装置より下流の給水配管内の水の従属栄養細菌数を2000 CFU/mL以下にすることを特徴とする装置。
Water supply piping and
It is equipped with a heating device attached to the water supply pipe for sterilizing the water in the water supply pipe.
The heating device is a device characterized in that the number of heterotrophic bacteria in water in a water supply pipe downstream of the heating device is 2000 CFU / mL or less.
前記加温装置は前記給水配管内の水を収容可能なケーシングと、前記ケーシング内に設けられたヒータとを備え、前記ケーシング内の水を50℃以上に加熱することを特徴とする請求項1に記載の装置。 The heating device includes a casing capable of accommodating water in the water supply pipe and a heater provided in the casing, and heats the water in the casing to 50 ° C. or higher. The device described in. 前記加温装置より下流の給水配管内の水の遊離残留塩素濃度を0.1 mg/L以上にすることを特徴とする請求項1に記載の装置。 The device according to claim 1, wherein the free residual chlorine concentration of water in the water supply pipe downstream from the heating device is set to 0.1 mg / L or more. 前記装置は、アシスタントユニットとドクターユニットとを備えた歯科用ユニットであり、前記給水配管はアシスタントユニットに至る給水配管と、ドクターユニットに至る給水配管とに分岐しており、前記加温装置は該分岐部又はその上流に設けられている請求項1〜3のいずれかに記載の装置。 The device is a dental unit including an assistant unit and a doctor unit, and the water supply pipe is branched into a water supply pipe leading to the assistant unit and a water supply pipe leading to the doctor unit, and the heating device is the heating device. The device according to any one of claims 1 to 3 provided at the branch portion or upstream thereof. 前記ドクターユニットは前記給水配管と流体連通するインスツルメントを備え、前記インスツルメントから排出される水の従属栄養細菌数を2000 CFU/mL以下にすることを特徴とする請求項4に記載の装置。 The fourth aspect of claim 4, wherein the doctor unit includes an instrument that fluidly communicates with the water supply pipe, and the number of heterotrophic bacteria in the water discharged from the instrument is 2000 CFU / mL or less. Device. 前記加熱装置による60〜70℃での10分間の加熱の2分後に前記インスツルメントから排出される水の温度が15〜35℃である請求項5のいずれかに記載の装置。 The device according to any one of claims 5, wherein the temperature of the water discharged from the instrument after 2 minutes of heating at 60 to 70 ° C. for 10 minutes by the heating device is 15 to 35 ° C. 装置の給水配管内の水の殺菌方法であって、前記給水配管に取り付けられた、前記給水配管内の水を加熱殺菌するための加温装置を用いて、前記加温装置より下流の給水配管内の水の従属栄養細菌数を2000 CFU/mL以下にすることを特徴とする殺菌方法。 It is a method of sterilizing water in the water supply pipe of the device, and uses a heating device attached to the water supply pipe for heating and sterilizing the water in the water supply pipe, and the water supply pipe downstream from the heating device is used. A sterilization method characterized by reducing the number of dependent vegetative bacteria in the water to 2000 CFU / mL or less.
JP2020522630A 2018-06-01 2019-05-31 Apparatus and method for sterilizing water in water supply piping of a dental unit Active JP7376106B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018106435 2018-06-01
JP2018106435 2018-06-01
PCT/JP2019/021736 WO2019230952A1 (en) 2018-06-01 2019-05-31 Apparatus and method for sterilizing water within water supply pipe of dental unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2019230952A1 true JPWO2019230952A1 (en) 2021-07-26
JP7376106B2 JP7376106B2 (en) 2023-11-08

Family

ID=68696695

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020522630A Active JP7376106B2 (en) 2018-06-01 2019-05-31 Apparatus and method for sterilizing water in water supply piping of a dental unit

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7376106B2 (en)
WO (1) WO2019230952A1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000070291A (en) * 1998-08-31 2000-03-07 J Morita Tokyo Mfg Corp Dental sterilization and washing management apparatus
JP2004181078A (en) * 2002-12-05 2004-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electric hot-water heater, and sterilizing method
WO2009125702A1 (en) * 2008-04-09 2009-10-15 国立大学法人長崎大学 Heat sterilizing water purifier

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003164474A (en) * 2001-04-27 2003-06-10 Jonan Kk Distributing water pipe for medical treatment unit, and method and device for current sterilizing of distributing water
JP2011254989A (en) * 2010-06-09 2011-12-22 Takeshi Kameda Autoclaving/drying/sterilized water generation system
JP4902803B1 (en) * 2011-06-28 2012-03-21 株式会社セルフメディカル Electrolyzed water generating device, dental medical device including the same, and method for sterilizing inside of water supply pipe of dental medical device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000070291A (en) * 1998-08-31 2000-03-07 J Morita Tokyo Mfg Corp Dental sterilization and washing management apparatus
JP2004181078A (en) * 2002-12-05 2004-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electric hot-water heater, and sterilizing method
WO2009125702A1 (en) * 2008-04-09 2009-10-15 国立大学法人長崎大学 Heat sterilizing water purifier

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019230952A1 (en) 2019-12-05
JP7376106B2 (en) 2023-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103330628B (en) Dental unit
US5158454A (en) Dental unit
CN203370070U (en) Dental unit
Al‐Hiyasat et al. The presence of Pseudomonas aeruginosa in the dental unit waterline systems of teaching clinics
WO2015059651A1 (en) Dental operating unit consisting of original single equipment joined to each other through hoses and cables which allow operating under absolute sterility conditions
JP2012192120A (en) Dental treating device
JP7376106B2 (en) Apparatus and method for sterilizing water in water supply piping of a dental unit
Eleazer et al. A chemical treatment regimen to reduce bacterial contamination in dental waterlines
US6612838B2 (en) Method for sterilizing conduits that convey fluid to medical instruments, especially dental instruments
CN216757520U (en) Automatic pipeline disinfection equipment and system with same
CN109674614A (en) A kind of water route sterilizing flusher of oral cavity combined therapy desks
CN102284095B (en) Multifunction intestinal tract cleaning instrument
CN110314246B (en) Oral cavity is diagnose and is used water piping disinfection system and is diagnose platform water route disinfection cleaning unit
KR102101759B1 (en) Apparatus and Method for generating panoramic image, computer-readable recording medium
CN203677575U (en) Nasal endoscope disinfecting device
CN110013339B (en) Automatic disinfection integration equipment of dental treatment system
JP2011254989A (en) Autoclaving/drying/sterilized water generation system
KR20020095135A (en) Digital dental water system
CN218642537U (en) Waterway disinfection system of oral cavity comprehensive treatment table and oral cavity comprehensive treatment table
CN219167183U (en) Hypochlorous acid disinfection all-in-one machine for oral hospitals
JP2003522000A (en) Sterilization of medical instruments
CN213911530U (en) Dental chair pipeline cleaning and sterilizing equipment
CN212521809U (en) Superficial blood vessel ultrasonic examination probe bracket
CN214495951U (en) Water sterilization system
CN218521118U (en) Waterway disinfection system of oral cavity comprehensive treatment table and oral cavity comprehensive treatment table

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201013

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220406

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230404

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20230601

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230621

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231010

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231019

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7376106

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150