JPWO2019181916A1 - Coating device and coating system - Google Patents

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Abstract

1つのバーで少なくとも2種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムを提供する。塗布装置は特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、バーに対して基板の走行方向の上流に設けられ、塗布液をバーとの間を通して、基板の走行方向へ流通させる堰板とを有する。塗布装置はバーを回転可能に支持する本体ブロックと、バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、堰板毎に設けられ、堰板に塗布液を供給する複数の供給部とを有する。塗布システムは塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する。Provided are a coating device and a coating system for simultaneously applying at least two kinds of coating liquids in a striped pattern on one bar. The coating device is used for a long bar extending in the width direction orthogonal to the running direction and rotating in contact with at least one surface of a long substrate that runs continuously in a specific running direction via a coating liquid. It is provided upstream in the traveling direction of the substrate, and has a weir plate that allows the coating liquid to flow in the traveling direction of the substrate through the bar. The coating device includes a main body block that rotatably supports the bar, a plurality of weir plates arranged along the longitudinal direction of the bar, and a plurality of supply units provided for each weir plate to supply the coating liquid to the weir plates. And have. In the coating system, the coating devices are arranged so as to face each other across the substrate, and the coating liquid is simultaneously applied to both surfaces of the substrate in a pattern.

Description

本発明は、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーを用いて、薄い金属板、紙およびフイルム等のシート状または長尺状の被塗工基材に、各種の液状物質を塗布する塗布装置および塗布システムに関し、特に、1つのバーで少なくとも2種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムに関する。 In the present invention, various liquid substances are applied to a sheet-like or long-shaped substrate to be coated such as a thin metal plate, paper and a film by using a long bar extending in a width direction orthogonal to the traveling direction. The present invention relates to a coating apparatus and a coating system for coating at least two kinds of coating liquids at the same time in a striped pattern on one bar.

従来、長尺な基板の表面に、例えば、易接着層または帯電防止層といった機能性層を形成させる場合、塗布液を基板の表面に塗布し、塗布膜を形成することが行われている。基板の表面に塗布液を塗布する方法としては、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、およびバーコート法等の多数の塗布方法が知られている。長尺な基板のことをウエブともいう。また、長尺な基板のことを、単に基板ともいう。 Conventionally, when a functional layer such as an easy-adhesion layer or an antistatic layer is formed on the surface of a long substrate, a coating liquid is applied to the surface of the substrate to form a coating film. As a method of applying the coating liquid to the surface of the substrate, many coating methods such as a roll coating method, a die coating method, a spray coating method, and a bar coating method are known. A long substrate is also called a web. Further, a long substrate is also simply referred to as a substrate.

塗布液を基板に塗布する塗布装置は、種々提案されている。例えば、塗布液を基板の上面に塗布する塗布装置が特許文献1に記載されている。特許文献1の塗布装置は、連続走行するウエブ上面に塗布液を介して接触して回転するバーと、バーに対してウエブの走行方向の上流側に設けられていて、塗布液をバーとの間を通して、ウエブ方向へ流通させる堰板とを有する。特許文献1の塗布装置では、堰板と堰板に最も近接するバーの端縁部間の距離をAとし、堰板とウエブ間の距離をBとしたときに、Aは0.5〜5mmであり、Bは0.5〜5mmであり、B≦Aである。 Various coating devices for applying the coating liquid to the substrate have been proposed. For example, Patent Document 1 describes a coating device that applies a coating liquid to the upper surface of a substrate. The coating device of Patent Document 1 is provided with a bar that rotates in contact with the upper surface of a web that travels continuously via a coating liquid, and a bar that is provided on the upstream side of the web in the traveling direction with respect to the bar, and the coating liquid is applied to the bar. It has a weir plate that circulates in the web direction through the space. In the coating device of Patent Document 1, when the distance between the weir plate and the edge of the bar closest to the weir plate is A, and the distance between the weir plate and the web is B, A is 0.5 to 5 mm. B is 0.5 to 5 mm, and B ≦ A.

特開2015−77589号公報JP-A-2015-77589 特開2002−159899号公報JP-A-2002-159899

上述の特許文献1の塗布装置では、基板の上面に、1種類の塗布液しか塗布できない。このため、塗布液交換時に品種切り替えによる製造ロスが発生する。
また、1種類の塗布液しか塗布できないため、塗布液を塗布して切り出したサンプルは1種類の機能しかなく、幅方向に機能違いのサンプルを並べて製品を作製する場合、サンプルの貼合工程が必要となる。このため、製造原価が高くなる。
さらに、ウエブが樹脂であると、ウエブの進行方向に対して直交方向(以下、幅方向)へ引き延ばす延伸工程が設けられている場合がある。この場合、ウエブ厚みを幅方向に均一にするには、延伸前に幅方向に均一な塗布液を塗布する必要がある。このため、製品幅以上に、塗布液を広く塗布する必要があり、最終的に製品幅外へも機能性を持たせる塗布液を塗布することがある。しかし、製品幅外のウエブは廃却することがあり、製品幅外への塗布液が無駄になることと、塗布液混入により製品幅外のウエブを再利用できないことがある。このため、得率が低下する。
In the coating apparatus of Patent Document 1 described above, only one type of coating liquid can be applied to the upper surface of the substrate. For this reason, manufacturing loss occurs due to product type switching when the coating liquid is replaced.
In addition, since only one type of coating liquid can be applied, the sample cut out by applying the coating liquid has only one type of function, and when a product is produced by arranging samples having different functions in the width direction, the sample bonding process is required. You will need it. Therefore, the manufacturing cost is high.
Further, when the web is made of resin, a stretching step of stretching in a direction orthogonal to the traveling direction of the web (hereinafter, width direction) may be provided. In this case, in order to make the web thickness uniform in the width direction, it is necessary to apply a coating liquid uniform in the width direction before stretching. Therefore, it is necessary to apply the coating liquid wider than the product width, and finally, the coating liquid having functionality may be applied to the outside of the product width. However, the web outside the product width may be discarded, the coating liquid outside the product width may be wasted, and the web outside the product width may not be reused due to the mixing of the coating liquid. Therefore, the profit rate is lowered.

上述のことから、2種類以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することも要求されているが、特許文献1の塗布装置では対応できない。
そこで、2種類以上の機能を塗布できる装置として、特許文献2のようにリバース塗布方式のものがある。しかしながら、リバース塗布方式はウエブ背面へバックアップロール(以下、ロール)を設けて、ウエブの変位変動を防止しなければならないことから、構成上、ウエブ背面にロールが必要であり、1つの塗布部でウエブの上面と下面への同時塗布が不可能である。そのため、乾燥設備等、多くの設備投資が必要となったり、設備が大型化したりするという問題がある。
このように、2種類以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置として、十分なものがないのが現状である。
From the above, it is also required to apply two or more kinds of coating liquids in a striped pattern at the same time, but the coating apparatus of Patent Document 1 cannot cope with this.
Therefore, as a device capable of applying two or more kinds of functions, there is a reverse coating method as in Patent Document 2. However, in the reverse coating method, a backup roll (hereinafter referred to as a roll) must be provided on the back surface of the web to prevent displacement fluctuation of the web. Therefore, due to the configuration, a roll is required on the back surface of the web, and one coating portion is used. Simultaneous application to the upper and lower surfaces of the web is not possible. Therefore, there is a problem that a large amount of capital investment such as drying equipment is required and the equipment becomes large.
As described above, there is currently no sufficient coating device for simultaneously coating two or more kinds of coating liquids in a striped pattern.

本発明の目的は、1つのバーで少なくとも2種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a coating device and a coating system for simultaneously applying at least two kinds of coating liquids in a striped pattern on one bar.

上述の目的を達成するために、本発明は、特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、バーに対して基板の走行方向の上流に設けられ、塗布液をバーとの間を通して、基板の走行方向へ流通させる堰板とを有する塗布装置であって、バーを回転可能に支持する本体ブロックと、バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、堰板毎に設けられ、堰板に塗布液を供給する複数の供給部とを有する、塗布装置を提供するものである。 In order to achieve the above object, the present invention has a width direction orthogonal to the traveling direction in which the invention rotates in contact with at least one surface of a long substrate that continuously travels in a specific traveling direction via a coating liquid. A coating device having a long bar that extends and a weir plate that is provided upstream of the bar in the traveling direction of the substrate and allows the coating liquid to flow in the traveling direction of the substrate through the bar. Coating having a main body block that rotatably supports, a plurality of weir plates arranged along the longitudinal direction of the bar, and a plurality of supply portions provided for each weir plate to supply the coating liquid to the weir plates. It provides a device.

バーの長手方向における堰板の間隔が3mm以上であることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれバーの長手方向における位置を変えることができることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれバーとの間に液溜り部を有し、複数の堰板は、それぞれ液溜り部の容量を変えることができることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれ基板の走行方向に対して移動可能であり、バーと堰板との走行方向の距離を変えることができることが好ましい。
The distance between the weir plates in the longitudinal direction of the bar is preferably 3 mm or more.
It is preferable that each of the plurality of weir plates can be repositioned in the longitudinal direction of the bar.
It is preferable that the plurality of weir plates each have a liquid pool portion between the bar and the plurality of weir plates, and the capacity of the liquid pool portion can be changed for each of the plurality of weir plates.
It is preferable that the plurality of dam plates can be moved with respect to the traveling direction of the substrate, and the distance between the bar and the dam plate in the traveling direction can be changed.

走行方向と走行方向に直交する高さ方向とで構成される平面における、液溜り部の断面積Sが20mm以上100mm以下であり、液溜り部の断面積Sは、平面における、バーの走行方向の上流側の周面と、バーの回転中心を通りバーの走行方向の上流側の端面と堰板との最短距離を通る線と、最短距離を通る線と堰板との交点を通り、かつ基板の面に垂直な線と、基板とで囲まれた部分の面積であることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれバーの長手方向の両端部に側板が設けられていることが好ましい。
複数の堰板のうち、隣接する堰板の間に面する、堰板のバーの長手方向の端部に側板が設けられていることが好ましい。
塗布液を貯留する送液貯留部を、本体ブロック、または各堰板に有することが好ましい。
また、本発明の塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する塗布システムを提供するものである。
The cross-sectional area S of the liquid pool portion in the plane composed of the traveling direction and the height direction perpendicular to the traveling direction is 20 mm 2 or more and 100 mm 2 or less, and the cross-sectional area S of the liquid pool portion is the bar in the plane. Passing through the peripheral surface on the upstream side in the traveling direction, the line passing through the center of rotation of the bar and the shortest distance between the end surface on the upstream side in the traveling direction of the bar and the dam plate, and the intersection of the line passing the shortest distance and the dam plate. Moreover, it is preferable that the area is the area of the portion surrounded by the line perpendicular to the surface of the substrate and the substrate.
It is preferable that the plurality of weir plates are provided with side plates at both ends in the longitudinal direction of the bar.
Of the plurality of weir plates, it is preferable that a side plate is provided at the longitudinal end of the bar of the weir plate facing between the adjacent weir plates.
It is preferable that the main body block or each weir plate has a liquid feeding storage unit for storing the coating liquid.
Further, the present invention provides a coating system in which the coating apparatus of the present invention is arranged so as to face each other with the substrate interposed therebetween and the coating liquid is simultaneously applied to both surfaces of the substrate in a pattern.

本発明によれば、1つのバーで少なくとも2種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができる塗布装置を提供できる。
また、基板の両方の面に同時に、少なくとも2種の塗布液をパターン状に塗布することができる塗布システムを提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide a coating device capable of simultaneously applying at least two kinds of coating liquids in a striped pattern with one bar.
Further, it is possible to provide a coating system capable of applying at least two kinds of coating liquids in a pattern on both surfaces of a substrate at the same time.

本発明の実施形態の塗布装置の第1の例を示す模式的斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the 1st example of the coating apparatus of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の塗布装置の第1の例を示す模式的側面図である。It is a schematic side view which shows the 1st example of the coating apparatus of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の塗布装置の第2の例を示す模式的斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the 2nd example of the coating apparatus of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の塗布装置の第3の例を示す模式的斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the 3rd example of the coating apparatus of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の塗布装置の第3の例を示す模式的側面図である。It is a schematic side view which shows the 3rd example of the coating apparatus of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の塗布システムの第1の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the 1st example of the coating system of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の塗布システムの第2の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the 2nd example of the coating system of embodiment of this invention.

以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の塗布装置および塗布システムを詳細に説明する。
なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
なお、以下において数値範囲を示す「〜」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α〜数値βとは、εの範囲は数値αと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばα≦ε≦βである。
「具体的な数値で表された角度」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
The coating apparatus and coating system of the present invention will be described in detail below based on the preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
It should be noted that the figures described below are exemplary for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the figures shown below.
In the following, "~" indicating the numerical range includes the numerical values described on both sides. For example, when ε is a numerical value α to a numerical value β, the range of ε is a range including the numerical value α and the numerical value β, and is α ≦ ε ≦ β in mathematical symbols.
Angles such as "specific numerical angles", "parallel", "vertical" and "orthogonal" include error ranges generally tolerated in the art, unless otherwise stated.

(塗布装置の第1の例)
図1は本発明の実施形態の塗布装置の第1の例を示す模式的斜視図であり、図2は本発明の実施形態の塗布装置の第1の例を示す模式的側面図である。
図1に示す塗布装置10は、特定の走行方向D1に連続走行する長尺な基板30の上面30aまたは横面に塗布液Mを塗布するものであり、1つのバー12で少なくとも2種の塗布液Mを同時にストライプ状にパターン塗布することができる。
横面とは、図1に示す状態の基板30を走行方向D1を中心として90°、高さ方向D3に回転させると上面30aは横を向くが、このときの上面30aのことを横面という。
高さ方向D3とは、基板30の上面30aまたは横面に垂直な方向である。また、横面は基板30の向きが変わるが、この場合、横面の高さ方向D3は、図1の基板30の状態では、幅方向D2に該当する。なお、幅方向D2とは、走行方向D1と基板30の上面30a内で直交する方向のことである。
(First example of coating device)
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a first example of the coating device according to the embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic side view showing the first example of the coating device according to the embodiment of the present invention.
The coating device 10 shown in FIG. 1 coats the coating liquid M on the upper surface 30a or the lateral surface of a long substrate 30 that continuously travels in a specific traveling direction D1, and at least two types of coating are applied by one bar 12. The liquid M can be simultaneously applied in a striped pattern.
The lateral surface means that when the substrate 30 in the state shown in FIG. 1 is rotated 90 ° around the traveling direction D1 and in the height direction D3, the upper surface 30a faces sideways, and the upper surface 30a at this time is referred to as a lateral surface. ..
The height direction D3 is a direction perpendicular to the upper surface 30a or the lateral surface of the substrate 30. Further, the orientation of the substrate 30 changes on the horizontal surface. In this case, the height direction D3 of the horizontal surface corresponds to the width direction D2 in the state of the substrate 30 of FIG. The width direction D2 is a direction orthogonal to the traveling direction D1 in the upper surface 30a of the substrate 30.

塗布装置10について、1つのバー12で3種の塗布液Mを同時にストライプ状にパターン塗布するものを例にして説明する。塗布装置10は、例えば、走行方向D1と直交する幅方向D2に伸びる長尺な、1つのバー12と、本体ブロック14と、3つの堰板16と、3つの供給管20と、3つの供給部22とを有する。また、塗布装置10は、複数の堰板16は、それぞれバー12との間に、塗布液Mを溜める液溜り部17(図2参照)と、送液貯留部24とを有する。 The coating device 10 will be described by taking as an example a device in which three types of coating liquids M are simultaneously applied in a striped pattern on one bar 12. The coating device 10 includes, for example, one long bar 12 extending in the width direction D2 orthogonal to the traveling direction D1, a main body block 14, three weir plates 16, three supply pipes 20, and three supplies. It has a part 22 and. Further, in the coating device 10, each of the plurality of weir plates 16 has a liquid collecting portion 17 (see FIG. 2) for storing the coating liquid M and a liquid feeding storage portion 24 between the bar 12 and the bar 12.

塗布装置10は、バー12に対して長尺な基板30の走行方向D1の上流に設けられ、塗布液Mをバー12との間を通して、長尺な基板30に流通させる堰板16を、上述のように、例えば、3つ有するものである。3つの堰板16は、1つのバー12に対して、バー12の長手方向に沿って、すなわち、幅方向D2に沿って、互いに隙間27をあけて離間して配置されている。3つの堰板16に、それぞれ供給管20が設けられており、各供給管20に、供給部22が接続されている。
堰板16の数は、複数であれば、同時に塗布するパターン数に応じて適宜決定されるものであり、その数は、特に限定されるものではない。
The coating device 10 is provided on the upstream side of the traveling direction D1 of the long substrate 30 with respect to the bar 12, and the weir plate 16 for circulating the coating liquid M through the bar 12 to the long substrate 30 is described above. For example, it has three. The three weir plates 16 are arranged apart from each other with a gap 27 with respect to one bar 12 along the longitudinal direction of the bar 12, that is, along the width direction D2. A supply pipe 20 is provided on each of the three weir plates 16, and a supply unit 22 is connected to each supply pipe 20.
If there are a plurality of weir plates 16, the number is appropriately determined according to the number of patterns to be applied at the same time, and the number is not particularly limited.

バー12は、走行方向D1と直交する幅方向D2に伸びる長尺な部材であり、例えば、円柱状である。バー12は、後述のように本体ブロック14によって回動可能に支持される。バー12の長手方向と、幅方向D2とは平行な関係にある。
バー12は、特定の走行方向D1に連続走行する長尺な基板30の上面30aまたは横面に塗布液Mを介して接触可能であり、かつ回転中心Crで回転するものである。バー12の回転方向は、特に限定されるものではなく、基板30の走行方向D1に対して同方向であっても、反対方向であってもよい。
The bar 12 is a long member extending in the width direction D2 orthogonal to the traveling direction D1, and is, for example, a columnar shape. The bar 12 is rotatably supported by the main body block 14 as described below. The longitudinal direction of the bar 12 and the width direction D2 are in a parallel relationship.
The bar 12 can come into contact with the upper surface 30a or the side surface of the long substrate 30 that continuously travels in the specific traveling direction D1 via the coating liquid M, and rotates at the rotation center Cr. The rotation direction of the bar 12 is not particularly limited, and may be the same direction as or opposite to the traveling direction D1 of the substrate 30.

バー12の直径は1mm〜20mmが好ましく、より好ましくは6mm〜13mmである。バー12の直径を上述の範囲とすることにより、塗布液Mの塗布面に縦筋が発生することを抑制することもできる。
バー12の表面は、平滑に仕上げられていてもよいが、円周方向に一定間隔で溝が設けられていてもよく、またワイヤが密に巻回されていてもよい。いわゆるワイヤーバーであってもよい。この場合、バーに巻回するワイヤの直径は、0.05〜0.5mmであることが好ましく、特に0.05〜0.2mmであることが好ましい。なお、溝が設けられたバー12およびワイヤが巻回されたバー12においては、溝の深さを浅くまたはワイヤを細くすることにより、塗布液Mの塗り付けを薄くでき、溝の深さを深くまたはワイヤを太くすることにより、塗布液Mの塗り付けを厚くできる。
The diameter of the bar 12 is preferably 1 mm to 20 mm, more preferably 6 mm to 13 mm. By setting the diameter of the bar 12 within the above range, it is possible to suppress the generation of vertical streaks on the coating surface of the coating liquid M.
The surface of the bar 12 may be finished to be smooth, but may be provided with grooves at regular intervals in the circumferential direction, or the wire may be tightly wound. It may be a so-called wire bar. In this case, the diameter of the wire wound around the bar is preferably 0.05 to 0.5 mm, particularly preferably 0.05 to 0.2 mm. In the bar 12 provided with the groove and the bar 12 around which the wire is wound, the coating liquid M can be thinned by making the groove depth shallow or the wire thin, and the groove depth can be reduced. By deepening or thickening the wire, the coating liquid M can be thickened.

バーの幅は、基板30の幅と同一の長さであっても良いが、基板30の幅よりも長いことが好ましい。また、バーに溝またはワイヤを設ける場合、溝またはワイヤを設ける範囲は、基板30の幅以上であることが好ましい。 The width of the bar may be the same as the width of the substrate 30, but is preferably longer than the width of the substrate 30. When the bar is provided with a groove or a wire, the range in which the groove or the wire is provided is preferably equal to or larger than the width of the substrate 30.

バーの材質は、ステンレス鋼が好ましく、特に、SUS(Steel Use Stainless)304またはSUS(Steel Use Stainless)316が好ましい。他にも、SUS430、SUS630等が挙げられる。バーの表面には、ハードクロムメッキ、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)または窒化チタン(TiN)等の表面処理を施してもよい。 The material of the bar is preferably stainless steel, and particularly preferably SUS (Steel Use Stainless) 304 or SUS (Steel Use Stainless) 316. In addition, SUS430, SUS630 and the like can be mentioned. The surface of the bar may be surface-treated with hard chrome plating, diamond-like carbon (DLC), titanium nitride (TiN), or the like.

本体ブロック14は、バー12を回転可能に支持するものであり、バー12を回動可能に支持する構造を有する。
例えば、本体ブロック14は、バー12と接する面に円弧状の溝が形成されている。本体ブロック14に円弧状の溝を形成することにより、基板30の張力によるバー12の撓みを抑制し、幅方向D2に均一な塗布膜32a〜32cを形成することができる。
The main body block 14 rotatably supports the bar 12, and has a structure that rotatably supports the bar 12.
For example, the main body block 14 has an arcuate groove formed on the surface in contact with the bar 12. By forming an arcuate groove in the main body block 14, it is possible to suppress the bending of the bar 12 due to the tension of the substrate 30, and to form uniform coating films 32a to 32c in the width direction D2.

本体ブロック14において、バー12に接する側と、バー12に接さない側とは材質が同じである必要はない。例えば、バー12がステンレス鋼等の金属製である場合、本体ブロック14のバー12に接する側は高分子樹脂製等とし、本体ブロック14のバー12に接さない側はステンレス鋼等の金属製とすることが好ましい。 In the main body block 14, the material of the side in contact with the bar 12 and the side not in contact with the bar 12 need not be the same. For example, when the bar 12 is made of metal such as stainless steel, the side of the main body block 14 in contact with the bar 12 is made of polymer resin or the like, and the side of the main body block 14 not in contact with the bar 12 is made of metal such as stainless steel. Is preferable.

本体ブロック14の大きさは、バー12のサイズに応じて適宜決定される。例えば、本体ブロック14の走行方向D1の厚みは、バー12の半径以上であり、バー12の直径の2倍以下とすることが好ましい。また、本体ブロック14の高さ方向D3の高さは、10〜100mmとすることが好ましい。
さらに、本体ブロック14の幅方向D2の幅は、特に限定されるものではなく、バー12と同じ長さである単体のブロック構造でもよく、堰板16と同じ長さの分割されたブロック構造でもよく、いずれの構造でもパターン塗布は可能である。塗布液が混ざることを抑制する観点からは、本体ブロック14の構成は、分割されたブロック構造であることがより好ましい。
The size of the main body block 14 is appropriately determined according to the size of the bar 12. For example, the thickness of the main body block 14 in the traveling direction D1 is preferably not more than the radius of the bar 12 and not more than twice the diameter of the bar 12. Further, the height of the main body block 14 in the height direction D3 is preferably 10 to 100 mm.
Further, the width of the main body block 14 in the width direction D2 is not particularly limited, and may be a single block structure having the same length as the bar 12, or a divided block structure having the same length as the weir plate 16. Well, pattern application is possible with any structure. From the viewpoint of suppressing mixing of the coating liquid, it is more preferable that the main body block 14 has a divided block structure.

堰板16は、基板30の上面30a上に配置されている。
堰板16は、基板30の上面30a側に突出部16aが設けられている。突出部16aの上面30aと対向する端面16cは、例えば、うねり等がなく平坦な状態の基板30の上面30aと平行な面である。
堰板16は、側面16bと本体ブロック14との間、側面16bとバー12との間にスリット15が設けられている。スリット15は幅方向D2に延在しており、スリット15に塗布液Mが送液される。
The weir plate 16 is arranged on the upper surface 30a of the substrate 30.
The weir plate 16 is provided with a protruding portion 16a on the upper surface 30a side of the substrate 30. The end surface 16c facing the upper surface 30a of the protruding portion 16a is, for example, a surface parallel to the upper surface 30a of the substrate 30 in a flat state without waviness or the like.
The weir plate 16 is provided with a slit 15 between the side surface 16b and the main body block 14 and between the side surface 16b and the bar 12. The slit 15 extends in the width direction D2, and the coating liquid M is sent to the slit 15.

堰板16の端面16cは、上述のように上面30aと平行な面としたが、これに限定されるものではなく斜面であってもよい。
堰板に突出部16aを設けることにより、堰板端部の厚みを所定値以下としつつ、堰板全体の剛性を高めることが可能となる。
The end surface 16c of the weir plate 16 is a surface parallel to the upper surface 30a as described above, but the surface is not limited to this and may be a slope.
By providing the protruding portion 16a on the weir plate, it is possible to increase the rigidity of the entire weir plate while keeping the thickness of the end portion of the weir plate below a predetermined value.

また、本体ブロック14と堰板16との境界に送液貯留部24が設けられている。送液貯留部24はスリット15と連通している。送液貯留部24は、本体ブロック14または各堰板16に設けられていてもよく、本体ブロック14と各堰板16とに跨って設けられていてもよい。
送液貯留部24は、例えば、本体ブロック14と各堰板16との幅方向D2に全域に亘り設けられている。
送液貯留部24を設けることで幅方向D2に塗布液Mを均一に流してから基板30へ塗布液Mが流れるため、塗布液Mを幅方向D2に均一に塗布することができる。また、送液貯留部24がない構成とすることもできるが、この場合、送液した塗布液Mが幅方向D2に満たされにくくなり、送液した部分のみに塗布液Mが流れるため、端部25等に空気が滞留した空気滞留部(図示せず)が生じる。この空気滞留部(図示せず)に送液系等から持ち込まれる泡が溜り、泡ハジキを抑制する効果が小さく、最終的に泡ハジキ故障となることがある。
Further, a liquid feed storage unit 24 is provided at the boundary between the main body block 14 and the weir plate 16. The liquid feed storage unit 24 communicates with the slit 15. The liquid feed storage unit 24 may be provided on the main body block 14 or each weir plate 16, or may be provided straddling the main body block 14 and each weir plate 16.
The liquid feed storage unit 24 is provided over the entire area in the width direction D2 between the main body block 14 and each weir plate 16, for example.
By providing the liquid feed storage unit 24, the coating liquid M flows uniformly in the width direction D2 and then flows to the substrate 30, so that the coating liquid M can be uniformly applied in the width direction D2. Further, it is possible to have a configuration in which the liquid feeding storage unit 24 is not provided, but in this case, it becomes difficult for the fed liquid M to be filled in the width direction D2, and the coated liquid M flows only in the fed portion, so that the end An air retention portion (not shown) in which air is retained is generated in the portion 25 or the like. Bubbles brought in from the liquid feeding system or the like accumulate in this air retention portion (not shown), and the effect of suppressing bubble repelling is small, which may eventually lead to a bubble repelling failure.

供給管20は、上述のように各堰板16に、それぞれ設けられるものである。1つの堰板16において、供給管20は堰板16を通り、送液貯留部24に達する。例えば、1つの供給管20に、1つの供給部22が接続されている。
供給部22は、上述のように各堰板16に設けられており、各堰板16毎に塗布液Mをバー12に送液するものである。供給部22は、塗布液Mを貯留するタンク(図示せず)と、塗布液Mを送液するためのポンプ(図示せず)と、塗布液Mの送液量を調整するバルブ(図示せず)と、バルブの開閉量等を調整する制御部(図示せず)とを有する。供給部22としては、予め定められた量の液体を供給することができる公知の液体供給装置を適宜利用可能である。
各堰板16に、それぞれ供給部22を設けることにより、塗布液Mの供給量を堰板16単位で調整することができ、塗布液Mのロスを減らすことができる。これにより、生産性を高くすることができる。
また、各堰板16に、それぞれ供給部22を設けることにより、堰板16毎に、塗布液Mを変えることができ、これにより、塗布膜32a〜32cの組成等を変えることができる。このため、図1の塗布装置10では、3つの堰板16を有する構成であるが、各堰板16の塗布液Mは、同じであってもよく、異なってもよい。形成される塗布膜32a、32b、32cは、例えば、塗布膜32aと塗布膜32cが同じで、塗布膜32bが異なる構成とすることができる。
The supply pipe 20 is provided on each weir plate 16 as described above. In one weir plate 16, the supply pipe 20 passes through the weir plate 16 and reaches the liquid feed storage unit 24. For example, one supply unit 22 is connected to one supply pipe 20.
The supply unit 22 is provided on each weir plate 16 as described above, and supplies the coating liquid M to the bar 12 for each weir plate 16. The supply unit 22 includes a tank for storing the coating liquid M (not shown), a pump for feeding the coating liquid M (not shown), and a valve for adjusting the amount of the coating liquid M (not shown). It has a control unit (not shown) that adjusts the amount of opening and closing of the valve. As the supply unit 22, a known liquid supply device capable of supplying a predetermined amount of liquid can be appropriately used.
By providing the supply unit 22 on each weir plate 16, the supply amount of the coating liquid M can be adjusted in units of the weir plate 16, and the loss of the coating liquid M can be reduced. As a result, productivity can be increased.
Further, by providing the supply unit 22 on each weir plate 16, the coating liquid M can be changed for each weir plate 16, whereby the composition of the coating films 32a to 32c and the like can be changed. For this reason, the coating device 10 of FIG. 1 has a configuration having three weir plates 16, but the coating liquid M of each weir plate 16 may be the same or different. The coating films 32a, 32b, and 32c to be formed can have, for example, the same coating film 32a and the same coating film 32c, but different coating films 32b.

堰板16では、突出部を除いた全体の厚みは、5〜50mmの範囲内であることが好ましい。なお、全体の厚みは、走行方向D1の長さのことである。
また、堰板16の高さ方向D3の長さは、10〜100mmであることが好ましい。
堰板16の幅は、特に限定されるものではなく、堰板16の幅と同等の幅で塗布が可能である。このため、堰板16の幅は、塗布膜の幅に応じて適宜決定される。
また、本体ブロック14が、上述のように分割されたブロック構造である場合、堰板16の幅は本体ブロック14と同じとすることもできる。
幅方向D2の堰板16の隙間27の間隔δは、3mm以上であることが好ましく、より好ましくは5mm以上である。間隔δが狭いと、隣接する堰板16の塗布液Mが混ざることがある。隙間27の間隔δの上限は、特に限定されるものではなく、基板の幅と、塗布膜の数、および塗布膜の配置等に応じて適宜設定されるものである。
The total thickness of the weir plate 16 excluding the protruding portion is preferably in the range of 5 to 50 mm. The total thickness is the length in the traveling direction D1.
Further, the length of the weir plate 16 in the height direction D3 is preferably 10 to 100 mm.
The width of the weir plate 16 is not particularly limited, and coating can be performed with a width equivalent to the width of the weir plate 16. Therefore, the width of the weir plate 16 is appropriately determined according to the width of the coating film.
Further, when the main body block 14 has a block structure divided as described above, the width of the weir plate 16 may be the same as that of the main body block 14.
The distance δ between the gaps 27 of the weir plates 16 in the width direction D2 is preferably 3 mm or more, more preferably 5 mm or more. If the interval δ is narrow, the coating liquid M of the adjacent weir plate 16 may be mixed. The upper limit of the gap δ of the gap 27 is not particularly limited, and is appropriately set according to the width of the substrate, the number of coating films, the arrangement of coating films, and the like.

堰板16について、材質は、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または樹脂である。金属としては、例えば、ステンレス鋼が挙げられ、特に、SUS(Steel Use Stainless)304またはSUS(Steel Use Stainless)316を用いることが好ましい。
これ以外に、堰板としては、金属にハードクロムメッキまたはダイヤモンドライクカーボン処理したものでもよい。
The material of the weir plate 16 is not particularly limited, and is, for example, metal or resin. Examples of the metal include stainless steel, and it is particularly preferable to use SUS (Steel Use Stainless) 304 or SUS (Steel Use Stainless) 316.
In addition to this, the weir plate may be a metal obtained by hard chrome plating or diamond-like carbon treatment.

バー12の上流側、すなわち、基板30のバー12への進入側に設けられる堰板16は、塗布液Mの内圧を高めることができる。このため、エアー同伴によるハジキを抑制することができる。エアー同伴によるハジキについては後に詳細に説明する。また、エアー同伴によるハジキのことを、単にエアー同伴ハジキともいう。 The weir plate 16 provided on the upstream side of the bar 12, that is, on the approach side of the substrate 30 to the bar 12, can increase the internal pressure of the coating liquid M. Therefore, it is possible to suppress repelling caused by air accompanying. The repellent accompanied by air will be explained in detail later. In addition, the repellent accompanied by air is also simply referred to as the repellent accompanied by air.

塗布装置10では、走行方向D1と高さ方向D3とで構成される平面PLにおける、液溜り部17の断面積Sが20mm以上100mm以下であることが好ましく、より好ましくは30mm以上50mm以下である。液溜り部17の断面積Sとは、バーの走行方向の上流側の周面と、バーの回転中心を通りバーの走行方向の上流側の端面と堰板との最短距離を通る線と、最短距離を通る線と堰板との交点を通り、かつ基板の面に垂直な線と、基板とで囲まれた部分の面積であり、図2に示す符号Sの領域の面積である。
バー12の回転により塗布液Mが掻き上げられるが、液溜り部17の断面積Sが20mm満であると、塗布液Mの掻き上げ量>塗布液Mの供給量となり、液切れ故障(液の供給量が不足することにより発生する薄塗りによる故障)が発生する。また、液溜り部17の断面積Sが100mmを超えると、塗布液の内圧が小さくなり、基板30に同伴されてもってくるエアー圧に液圧が負けてハジキ故障(ウエブに同伴されて持ちこまれるエアーにより発生する薄塗りによる故障)が発生する。
In the coating device 10, the cross-sectional area S of the liquid pool portion 17 in the plane PL composed of the traveling direction D1 and the height direction D3 is preferably 20 mm 2 or more and 100 mm 2 or less, more preferably 30 mm 2 or more and 50 mm. It is 2 or less. The cross-sectional area S of the liquid pool portion 17 is a line passing through the peripheral surface on the upstream side in the traveling direction of the bar, the end surface on the upstream side in the traveling direction of the bar passing through the center of rotation of the bar, and the shortest distance between the dam plate. It is the area of the portion surrounded by the line passing through the shortest distance and the intersection of the dam plate, the line perpendicular to the surface of the substrate, and the substrate, and is the area of the region of reference numeral S shown in FIG.
The coating liquid M is scraped up by the rotation of the bar 12, but when the cross-sectional area S of the liquid pool portion 17 is 20 mm 2 full, the scraping amount of the coating liquid M> the supply amount of the coating liquid M, and the liquid runs out failure ( Failure due to thin coating caused by insufficient supply of liquid) occurs. Further, when the cross-sectional area S of the liquid pool portion 17 exceeds 100 mm 2 , the internal pressure of the coating liquid becomes small, and the liquid pressure loses to the air pressure accompanied by the substrate 30, causing a repellent failure (carried by the web). Failure due to thin coating caused by air) occurs.

塗布装置10では、複数の堰板16は、それぞれ液溜り部17の容量を変えることができることが好ましい。すなわち、上述の液溜り部17の断面積Sを変えることができることが好ましい。
複数の堰板16は、それぞれ基板30の走行方向D1に対して移動可能であり、バー12と堰板16との走行方向D1の距離を変えることができる。この場合、例えば、堰板16と本体ブロック14とをボルト(図示せず)で固定する構成とし、ボルトを締めるか、緩めるかして、バー12と堰板16との走行方向D1の距離を変える構成とする。
In the coating device 10, it is preferable that the plurality of weir plates 16 can change the capacity of the liquid pool portion 17. That is, it is preferable that the cross-sectional area S of the liquid pool portion 17 described above can be changed.
The plurality of weir plates 16 can each move with respect to the traveling direction D1 of the substrate 30, and the distance between the bar 12 and the weir plate 16 in the traveling direction D1 can be changed. In this case, for example, the weir plate 16 and the main body block 14 are fixed with bolts (not shown), and the bolts are tightened or loosened to reduce the distance between the bar 12 and the weir plate 16 in the traveling direction D1. The configuration will be changed.

バー12の走行方向D1の上流側の端面12aと、堰板16との最短距離である距離Bが0.05mm以上2mm以下であることが好ましい。
バー12の走行方向D1の上流側の端面12aと、堰板16との距離Bが0.05mm未満では、バー12と堰板16の間のスリット15から塗布液Mが幅方向D2に均一に供給されない。
一方、堰板16との距離Bが2mm以下を超えると、塗布液Mの内圧を高めにくくなり、エアー同伴ハジキが発生しやくなる。より好ましくは、バー12の走行方向D1の上流側の端面12aと、堰板16との距離Bは0.1mm以上1mm以下である。
It is preferable that the distance B, which is the shortest distance between the end surface 12a on the upstream side of the traveling direction D1 of the bar 12 and the weir plate 16, is 0.05 mm or more and 2 mm or less.
When the distance B between the end surface 12a on the upstream side of the traveling direction D1 of the bar 12 and the weir plate 16 is less than 0.05 mm, the coating liquid M is uniformly distributed in the width direction D2 from the slit 15 between the bar 12 and the weir plate 16. Not supplied.
On the other hand, if the distance B from the weir plate 16 exceeds 2 mm or less, it becomes difficult to increase the internal pressure of the coating liquid M, and air-accompanied cissing is likely to occur. More preferably, the distance B between the end surface 12a on the upstream side in the traveling direction D1 of the bar 12 and the weir plate 16 is 0.1 mm or more and 1 mm or less.

また、堰板16と、長尺な基板30との距離Aが0.2mm以上2mm以下であることが好ましい。
堰板16と、長尺な基板30との距離Aが0.2mm未満では、走行方向D1の上流側へ流れる塗布液Mがなくなり、塗布液Mの液切れが発生しやすくなる。
一方、堰板16と、長尺な基板30との距離Aが2mmを超えると、塗布液Mの内圧を高めにくくなり、エアー同伴ハジキが発生しやくなる。より好ましくは、堰板16と、長尺な基板30との距離Aは0.4mm以上1mm以下である。
また、堰板16と長尺な基板30との距離Aとは、堰板16の最下部と基板30の最上部との間の長さのことであり、堰板16と基板30との最短距離のことである。図2の構成では堰板16の端面16cと基板30の上面30aとの最短距離である。
Further, it is preferable that the distance A between the weir plate 16 and the long substrate 30 is 0.2 mm or more and 2 mm or less.
If the distance A between the dam plate 16 and the long substrate 30 is less than 0.2 mm, the coating liquid M flowing to the upstream side in the traveling direction D1 disappears, and the coating liquid M tends to run out.
On the other hand, if the distance A between the weir plate 16 and the long substrate 30 exceeds 2 mm, it becomes difficult to increase the internal pressure of the coating liquid M, and air-accompanied cissing is likely to occur. More preferably, the distance A between the weir plate 16 and the long substrate 30 is 0.4 mm or more and 1 mm or less.
Further, the distance A between the weir plate 16 and the long substrate 30 is the length between the lowermost portion of the weir plate 16 and the uppermost portion of the substrate 30, and is the shortest distance between the weir plate 16 and the substrate 30. It is the distance. In the configuration of FIG. 2, it is the shortest distance between the end surface 16c of the weir plate 16 and the upper surface 30a of the substrate 30.

(塗布方法)
次に、塗布装置10の塗布方法について説明する。
供給部22から供給管20を介して堰板16に塗布液Mを供給し、送液貯留部24を経てスリット15に塗布液Mを満たす。そして、バー12を回転させる。特定の走行速度で、走行方向D1に基板30を連続走行させ、連続走行する基板30の上面30aに、堰板16毎に塗布液Mを介してバー12を接触させ、基板30の上面30aに、各堰板16に応じた塗布液Mを塗布し、1つのバー12で3種の塗布液Mを同時にストライプ状にパターン塗布する。しかも、各パターンの混ざりがなく塗布できる。これにより、1つのバー12で、基板30に幅方向D2に異なる3つの塗布膜32a、32b、32cを隙間33をあけて同時にストライプ状にパターン形成することができる。この場合、互いに塗布液が混じることなく塗布膜32a、32b、32cを形成することができる。
(Applying method)
Next, the coating method of the coating device 10 will be described.
The coating liquid M is supplied from the supply unit 22 to the weir plate 16 via the supply pipe 20, and the slit 15 is filled with the coating liquid M via the liquid feeding storage unit 24. Then, the bar 12 is rotated. The substrate 30 is continuously traveled in the traveling direction D1 at a specific traveling speed, and the bar 12 is brought into contact with the upper surface 30a of the continuously traveling substrate 30 via the coating liquid M for each weir plate 16 to reach the upper surface 30a of the substrate 30. , The coating liquid M corresponding to each weir plate 16 is applied, and three kinds of coating liquid M are simultaneously applied in a striped pattern on one bar 12. Moreover, each pattern can be applied without being mixed. As a result, with one bar 12, three coating films 32a, 32b, and 32c different in the width direction D2 can be simultaneously formed into a striped pattern on the substrate 30 with a gap 33. In this case, the coating films 32a, 32b, and 32c can be formed without mixing the coating liquids with each other.

塗布装置10の塗布方法について、基板30の上面30aに塗布することについて説明したが、基板30の横面にも上述のようにして塗布することができる。基板30の下面30bにも上述のようにして塗布することができる。 Although the coating method of the coating device 10 has been described for coating on the upper surface 30a of the substrate 30, it can also be applied to the lateral surface of the substrate 30 as described above. The lower surface 30b of the substrate 30 can also be coated as described above.

塗布装置10では、1つのバー12で3種の塗布液Mを同時にストライプ状にパターン塗布して、基板30の幅方向D2に並んだ3つの塗布膜32a、32b、32cをストライプ状に形成することができる。これにより、基板30の幅方向D2に機能違いのサンプルを並べた製品を作製することができる。この場合、サンプルの貼合工程が不要となり、幅方向D2に機能違いのサンプルを並べた製品の製造原価を低くできる。
また、樹脂の基板30に対して、幅方向D2に引き延ばす延伸工程を実施する場合、製品幅外の領域に塗布液として、例えば、不純物を含まない液を塗布することにより、製品幅外の基板30を回収することができ、製品幅外の基板30が無駄になることを抑制することができる。これにより、得率の低下を抑制することができ、生産性を向上させることができる。
しかも、塗布装置10の堰板16は、塗布液Mの内圧を高めるため、上流側からのエアーの進入が抑制され、エアー同伴ハジキを抑制する。
また、送液貯留部24を設けており、泡ハジキの発生が抑制され、塗布液Mを基板30の幅方向D2に均一に塗布できる。しかも、液切れの発生を抑制することができる。
In the coating device 10, three types of coating liquids M are simultaneously applied in a striped pattern on one bar 12 to form three coating films 32a, 32b, 32c arranged in the width direction D2 of the substrate 30 in a striped shape. be able to. As a result, it is possible to produce a product in which samples having different functions are arranged in the width direction D2 of the substrate 30. In this case, the sample bonding step becomes unnecessary, and the manufacturing cost of a product in which samples having different functions are arranged in the width direction D2 can be reduced.
Further, when the stretching step of stretching the resin substrate 30 in the width direction D2 is performed, the substrate outside the product width is coated with, for example, a liquid containing no impurities as a coating liquid in a region outside the product width. 30 can be recovered, and it is possible to prevent the substrate 30 outside the product width from being wasted. As a result, it is possible to suppress a decrease in the profit rate and improve productivity.
Moreover, since the weir plate 16 of the coating device 10 increases the internal pressure of the coating liquid M, the ingress of air from the upstream side is suppressed, and the air-accompanied repellent is suppressed.
Further, the liquid feeding storage unit 24 is provided, so that the generation of foam repellent is suppressed, and the coating liquid M can be uniformly applied to the width direction D2 of the substrate 30. Moreover, the occurrence of liquid shortage can be suppressed.

(塗布装置の第2の例)
次に、塗布装置の第2の例について説明する。
図3は本発明の実施形態の塗布装置の第2の例を示す模式的斜視図である。
なお、図3に示す塗布装置10において、図1および図2に示す塗布装置10と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
(Second example of coating device)
Next, a second example of the coating apparatus will be described.
FIG. 3 is a schematic perspective view showing a second example of the coating device according to the embodiment of the present invention.
In the coating device 10 shown in FIG. 3, the same components as those of the coating device 10 shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図3に示す塗布装置11は、図1に示す塗布装置10に比して、堰板16の間隔δが異なる点、および堰板16がバー12の長手方法、すなわち、幅方向D2に移動可能である点が異なり、それ以外の構成は図1に示す塗布装置10と同じであるため、その詳細な説明は省略する。図3に示す塗布装置11は、図1に示す塗布装置10の効果を得ることができる。 The coating device 11 shown in FIG. 3 has a different interval δ between the weir plates 16 as compared with the coating device 10 shown in FIG. 1, and the weir plates 16 can be moved in the longitudinal method of the bar 12, that is, in the width direction D2. The other points are the same as those of the coating apparatus 10 shown in FIG. 1, and the detailed description thereof will be omitted. The coating device 11 shown in FIG. 3 can obtain the effect of the coating device 10 shown in FIG.

塗布装置11のように、複数の堰板16は、それぞれ、バー12の長手方法における位置、すなわち、幅方向D2における位置を変えることができることが好ましい。これにより、塗布膜32a、32b、32cの基板30の幅方向D2における形成位置を変えることができ、塗布膜32a、32b間の隙間33の間隔、および塗布膜32b、32c間の隙間33の間隔を変えることができる。このことにより、3つの塗布膜32a、32b、32cで形成されるストライプ状のパターンの幅方向の位置を変えることができる。
また、基板30の幅が変わった場合にも、堰板16の幅方向D2の位置を変えることにより、基板30の幅に対応することができる。例えば、基板30の幅が狭くなった場合には、両側の堰板16と、中央の堰板16との隙間27を狭くする。基板30の幅が広くなった場合には、両側の堰板16と、中央の堰板16との隙間27を広くする。
堰板16の幅方向D2における位置を変える場合、例えば、本体ブロック14が分割されたブロック構造である場合、堰板16は本体ブロック14と一緒に幅方向D2に移動する。
また、本体ブロック14が単体のブロック構造である場合、堰板16だけが幅方向D2に移動する。
堰板16の幅方向D2の位置を変える場合、例えば、堰板16に幅方向D2に伸びる長穴(図示せず)を設けて幅方向D2に動かせるようにする。なお、堰板16は、例えば、ボルト(図示せず)を用いて固定する。
Like the coating device 11, it is preferable that each of the plurality of weir plates 16 can change the position of the bar 12 in the longitudinal method, that is, the position in the width direction D2. As a result, the formation position of the coating films 32a, 32b, 32c in the width direction D2 of the substrate 30 can be changed, and the interval of the gap 33 between the coating films 32a, 32b and the interval 33 of the gap 33 between the coating films 32b, 32c. Can be changed. This makes it possible to change the position of the striped pattern formed by the three coating films 32a, 32b, and 32c in the width direction.
Further, even when the width of the substrate 30 is changed, the width of the substrate 30 can be accommodated by changing the position of the weir plate 16 in the width direction D2. For example, when the width of the substrate 30 is narrowed, the gap 27 between the weir plates 16 on both sides and the weir plate 16 in the center is narrowed. When the width of the substrate 30 is widened, the gap 27 between the weir plates 16 on both sides and the weir plate 16 in the center is widened.
When changing the position of the weir plate 16 in the width direction D2, for example, when the main body block 14 has a divided block structure, the weir plate 16 moves in the width direction D2 together with the main body block 14.
Further, when the main body block 14 has a single block structure, only the weir plate 16 moves in the width direction D2.
When changing the position of the weir plate 16 in the width direction D2, for example, a long hole (not shown) extending in the width direction D2 is provided in the weir plate 16 so that the weir plate 16 can be moved in the width direction D2. The weir plate 16 is fixed using, for example, bolts (not shown).

(塗布装置の第3の例)
図4は本発明の実施形態の塗布装置の第3の例を示す模式的斜視図であり、図5は本発明の実施形態の塗布装置の第3の例を示す模式的側面図である。
なお、図4および図5に示す塗布装置10において、図1および図2に示す塗布装置10と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図4に示す塗布装置11aは、図1に示す塗布装置10に比して、堰板16の間隔δが異なる点、および側板26を有する点が異なり、それ以外の構成は図1に示す塗布装置10と同じであるため、その詳細な説明は省略する。図4および図5に示す塗布装置11aは、図1に示す塗布装置10の効果を得ることができる。
(Third example of coating device)
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a third example of the coating device according to the embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a schematic side view showing a third example of the coating device according to the embodiment of the present invention.
In the coating apparatus 10 shown in FIGS. 4 and 5, the same components as those of the coating apparatus 10 shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
The coating device 11a shown in FIG. 4 is different from the coating device 10 shown in FIG. 1 in that the interval δ of the weir plates 16 is different and that it has the side plates 26, and the other configurations are the coating shown in FIG. Since it is the same as the device 10, the detailed description thereof will be omitted. The coating device 11a shown in FIGS. 4 and 5 can obtain the effect of the coating device 10 shown in FIG.

塗布装置11aでは、複数の堰板16は、それぞれバー12の長手方向の両端部に側板26が設けられている。すなわち、複数の堰板16は、それぞれバー12の幅方向D2の両側の端部25に側板26が設けられている。
図5に示す側板26は、端部25から塗布液Mが流れでないように端部25を覆うものであり、その形状は図5に示す形状に特に限定されるものではない。例えば、側板26は基板30と接触しない構成であり、側板26の基板30の上面30a側の上辺26aは、バー12と基板30とが最接近した位置から端面16cに向って、基板30の上面30aとの距離が増加するように傾斜している。
In the coating device 11a, the plurality of weir plates 16 are provided with side plates 26 at both ends in the longitudinal direction of the bar 12, respectively. That is, each of the plurality of weir plates 16 is provided with side plates 26 at the ends 25 on both sides of the bar 12 in the width direction D2.
The side plate 26 shown in FIG. 5 covers the end portion 25 so that the coating liquid M does not flow from the end portion 25, and the shape thereof is not particularly limited to the shape shown in FIG. For example, the side plate 26 is configured so as not to come into contact with the substrate 30, and the upper side 26a of the side plate 26 on the upper surface 30a side of the substrate 30 faces the end surface 16c from the position where the bar 12 and the substrate 30 are closest to each other and is the upper surface of the substrate 30. It is inclined so that the distance from 30a increases.

側板26を設けることにより、塗布液Mの利用効率を高めることができる。一方、側板26がないと端部25から流れ出る塗布液Mがあり、塗布に必要な塗布液Mの量が多くなる。
また、側板26がないと端部25に塗布液Mが流れでてしまい、塗布液Mの液切れが発生しやすくなる。このため、均一に塗布するための塗布液Mの送液量が多くなる。塗布液Mの送液量が多くなることで堰板16とバー12の間の液溜り部17の塗布液Mの流速が上昇し、隣の堰板16の塗布液Mと混ざりやすくなる。
側板26の材質は特に限定されるものではなく、塗布液Mに応じたものが適宜選択される。側板26は、例えば、SUS(Steel Use Stainless)等の金属または樹脂等で構成される。
By providing the side plate 26, the utilization efficiency of the coating liquid M can be improved. On the other hand, without the side plate 26, there is a coating liquid M flowing out from the end portion 25, and the amount of the coating liquid M required for coating increases.
Further, if the side plate 26 is not provided, the coating liquid M will flow to the end portion 25, and the coating liquid M is likely to run out. Therefore, the amount of the coating liquid M to be uniformly applied increases. As the amount of the coating liquid M sent increases, the flow velocity of the coating liquid M in the liquid pool portion 17 between the weir plate 16 and the bar 12 increases, and it becomes easy to mix with the coating liquid M of the adjacent weir plate 16.
The material of the side plate 26 is not particularly limited, and a material suitable for the coating liquid M is appropriately selected. The side plate 26 is made of, for example, a metal such as SUS (Steel Use Stainless) or a resin.

なお、側板26は、全ての堰板16の幅方向の端部25に設けることに限定されるものではない。両側の堰板16の幅方向D2の外側の端部25では、塗布液Mが流れても、隣の堰板16の塗布液Mと混ざることがないため、複数の堰板16のうち、隣接する堰板16の間に面する、堰板16のバー12の長手方向の端部25に、側板26が設けられていればよい。すなわち、堰板16の隙間27にある端部25にだけ側板26を設ける構成であればよい。
また、塗布装置11aは、図3に示す塗布装置11と同じく、堰板16が幅方向D2に移動可能である構成でもよい。
なお、上述のいずれの塗布装置10、11、11aも送液貯留部24を設ける構成としたが、これに限定されるものではなく、送液貯留部24が設けられていない構成でもよいが、この場合、空気滞留部(図示せず)に送液系等から持ち込まれる泡が溜まるため、泡ハジキを抑制する効果が小さい。
The side plates 26 are not limited to being provided at the end portions 25 in the width direction of all the weir plates 16. At the outer end 25 of the weir plates 16 on both sides in the width direction D2, even if the coating liquid M flows, it does not mix with the coating liquid M of the adjacent weir plate 16, so that the weir plates 16 are adjacent to each other. A side plate 26 may be provided at the longitudinal end 25 of the bar 12 of the weir plate 16 facing between the weir plates 16. That is, the side plate 26 may be provided only at the end portion 25 in the gap 27 of the weir plate 16.
Further, the coating device 11a may have a configuration in which the weir plate 16 can be moved in the width direction D2, similarly to the coating device 11 shown in FIG.
It should be noted that any of the above-mentioned coating devices 10, 11 and 11a has a configuration in which the liquid feed storage unit 24 is provided, but the present invention is not limited to this, and a configuration in which the liquid feed storage unit 24 is not provided may be used. In this case, since bubbles brought in from the liquid feeding system or the like are accumulated in the air retention portion (not shown), the effect of suppressing foam repelling is small.

次に、塗布システムについて説明する。
(塗布システム)
図6は本発明の実施形態の塗布システムの第1の例を示す模式図であり、図7は本発明の実施形態の塗布システムの第2の例を示す模式図である。
なお、図6および図7に示す塗布システム40において、図1および図2に示す塗布装置10と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
Next, the coating system will be described.
(Applying system)
FIG. 6 is a schematic view showing a first example of the coating system of the embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a schematic diagram showing a second example of the coating system of the embodiment of the present invention.
In the coating system 40 shown in FIGS. 6 and 7, the same components as those of the coating apparatus 10 shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

塗布システム40は、上述の塗布装置10を、基板30を挟んで対向して配置し、基板30の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布するものである。塗布装置10の回転中心Crは、走行方向D1の位置をずらして配置されている。
塗布システム40では、基板30の両面に、複数の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができる。
塗布システム40は、1つの乾燥部42を有する。乾燥部42の構成は、特に限定されるものではなく、例えば、温風により乾燥するものである。
乾燥部42により、基板30の両面に、ストライプ状にパターン塗布された塗布液が乾燥され、複数の塗布膜が形成される。
塗布システム40の同時とは、時間が同じではなく、一度のプロセスであることを意味する。
塗布システム40では、1つの基板30の両面に、複数の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布し、1つの乾燥部42で乾燥させて、1つの基板30の両面に、複数のストライプ状の塗布膜を形成することができる。これに対して、上述のリバース塗布方式のでは、ウエブの上面と下面への同時塗布が不可能であるため、乾燥部を設ける場合、乾燥部を2つ設ける必要があり、多くの設備投資が必要であり、かつ設備の大型化を招く。このように、塗布システム40では、1つの乾燥部42で済み、乾燥設備等、多くの設備投資が不要であり、設備を安価に構築でき、かつ設備の大型化を抑制することができる。
In the coating system 40, the coating devices 10 described above are arranged so as to face each other with the substrate 30 interposed therebetween, and the coating liquid is simultaneously applied to both surfaces of the substrate 30 in a pattern. The rotation center Cr of the coating device 10 is arranged so as to be displaced from the position in the traveling direction D1.
In the coating system 40, a plurality of coating liquids can be simultaneously applied in a striped pattern on both surfaces of the substrate 30.
The coating system 40 has one drying portion 42. The structure of the drying portion 42 is not particularly limited, and is, for example, one that is dried by warm air.
The drying portion 42 dries the coating liquid in which the striped pattern is applied on both surfaces of the substrate 30, and a plurality of coating films are formed.
Simultaneous application system 40 means that the time is not the same, but one process.
In the coating system 40, a plurality of coating liquids are simultaneously applied in a striped pattern on both surfaces of one substrate 30, dried by one drying portion 42, and a plurality of striped coatings are applied on both surfaces of one substrate 30. A film can be formed. On the other hand, in the above-mentioned reverse coating method, simultaneous coating on the upper surface and the lower surface of the web is not possible. Therefore, when providing a drying portion, it is necessary to provide two drying portions, which requires a lot of capital investment. It is necessary and causes the equipment to become large. As described above, in the coating system 40, only one drying unit 42 is required, a large amount of capital investment such as drying equipment is not required, the equipment can be constructed at low cost, and the size of the equipment can be suppressed.

塗布システム40の塗布装置10の配置は、図6に示す配置に限定されるものではなく、図7に示す配置でもよい。図7に示す塗布システム40は、図6に示す塗布システム40の塗布装置10を、高さ方向D3に回転させて、基板30の上面30aを、横に向かせた構成である。
なお、塗布システム40は、上述の塗布装置10に限定されるものではなく、上述の塗布装置11および塗布装置11aを用いることもできる。
The arrangement of the coating device 10 of the coating system 40 is not limited to the arrangement shown in FIG. 6, and may be the arrangement shown in FIG. The coating system 40 shown in FIG. 7 has a configuration in which the coating device 10 of the coating system 40 shown in FIG. 6 is rotated in the height direction D3 so that the upper surface 30a of the substrate 30 is turned sideways.
The coating system 40 is not limited to the coating device 10 described above, and the coating device 11 and the coating device 11a described above can also be used.

次に、上述の塗布装置10、11、11aおよび塗布システム40に用いられる基板30および塗布液Mについて説明する。 Next, the substrate 30 and the coating liquid M used in the above-mentioned coating devices 10, 11, 11a and the coating system 40 will be described.

(基板)
基板としては、ガラス材、金属材、合金材、紙、プラスチックフィルム、レジンコーティッド紙、合成紙および布等が挙げられる。プラスチックフィルムの材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体、6,6−ナイロン、6−ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が挙げられる。また、レジンコーティッド紙に用いられる樹脂としては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィンを代表例として例示できる。
(substrate)
Examples of the substrate include glass material, metal material, alloy material, paper, plastic film, resin coated paper, synthetic paper, cloth and the like. Examples of the material of the plastic film include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, vinyl polymers such as polyvinyl acetate, polyvinyl chloride and polystyrene, polyamides such as 6,6-nylon and 6-nylon, polyethylene terephthalate and polyethylene-2. , 6-Polyester such as naphthalate, polycarbonate, cellulose triacetate, cellulose acetate such as cellulose diacetate and the like. Further, as the resin used for the resin coated paper, polyolefins such as polyethylene can be exemplified as a typical example.

基板の厚さは特に限定されないが、厚さが0.01〜1.5mmのものが取扱い、および汎用性の観点から好ましく用いられる。 The thickness of the substrate is not particularly limited, but those having a thickness of 0.01 to 1.5 mm are preferably used from the viewpoint of handling and versatility.

基板は、張力を加えた状態でバーに塗布液を介して接触する。基板と、水平面とのなす角度は、バーの上流側および下流側のいずれにおいても0°〜10°であることが好ましく、0°〜5°であることがより好ましい。基板の角度を上述の範囲とすることにより、塗布面を均一にすることができ、かつバーの摩耗等を抑制することができる。
基板の形態としては、特に限定されるものではなく、シート状、および連続帯状等が挙げられる。なお、連続帯状の基板、すなわち、長尺な基板のことをウエブという。
The substrate comes into contact with the bar under tension via the coating liquid. The angle formed by the substrate and the horizontal plane is preferably 0 ° to 10 °, more preferably 0 ° to 5 ° on both the upstream side and the downstream side of the bar. By setting the angle of the substrate within the above range, the coated surface can be made uniform and the wear of the bar can be suppressed.
The form of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a sheet shape and a continuous strip shape. A continuous strip-shaped substrate, that is, a long substrate is called a web.

(塗布液)
塗布液は、各種の液状物質のことである。
塗布液において、溶媒は、例えば、水、および有機溶剤である。有機溶剤は、例えば、メチルエチルケトン(MEK)、メチルプロピレングリコール(MFG)およびメタノール等である。
バインダーは、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリビニルアルコール(PVA)等のポリマーまたはモノマー等を含む。また、塗布液には、固形分として、例えば、酸化ケイ素粒子および酸化チタン粒子等を含んでもよい。
塗布液の粘度は、7×10−4〜0.4Pa・s(0.7〜400cP(センチポアズ))、塗布量は0.1〜200ml(ミリリットル)/m(1〜200cc/m)、塗布速度は1〜400m/分において適用可能である。
好ましくは、粘度は1×10−3〜0.1Pa・s(1〜100cP)であり、塗布量は1〜100ml/m(1〜100cc/m)であり、塗布速度は1〜200m/分である。
(Coating liquid)
The coating liquid refers to various liquid substances.
In the coating solution, the solvent is, for example, water and an organic solvent. The organic solvent is, for example, methyl ethyl ketone (MEK), methyl propylene glycol (MFG), methanol and the like.
Binders include polymers or monomers such as polyurethane, polyester, polyolefin, acrylic, polyvinyl alcohol (PVA) and the like. Further, the coating liquid may contain, for example, silicon oxide particles and titanium oxide particles as solid content.
The viscosity of the coating liquid is 7 × 10 -4 to 0.4 Pa · s (0.7 to 400 cP (centipores)), and the coating amount is 0.1 to 200 ml (milliliter) / m 2 (1 to 200 cc / m 2 ). , The coating speed can be applied at 1 to 400 m / min.
Preferably, the viscosity is 1 × 10 -3 to 0.1 Pa · s (1 to 100 cP), the coating amount is 1 to 100 ml / m 2 (1 to 100 cc / m 2 ), and the coating rate is 1 to 200 m. / Minute.

また、塗布液としては、上述のもの以外に、基板に塗布し、乾燥させて皮膜を形成することに使用される溶液が挙げられる。具体的には、感光層形成液および感熱層形成液のほか、基板の表面に中間層を形成して製版層の接着を改善する中間層形成液、平版印刷原版基板の製版面を酸化から保護するポリビニルアルコール水溶液、写真フィルムにおける感光層を形成するのに使用される写真フィルム用感光剤コロイド液、印画紙の感光層の形成に使用される印画紙用感光剤コロイド液、録音テープ、ビデオテープ、およびフロッピーディスクの磁性層の形成に使用される磁性層形成液、ならびに金属の塗装に使用される各種塗料等が挙げられる。 In addition to the above-mentioned coating solutions, examples of the coating solution include solutions used for coating on a substrate and drying to form a film. Specifically, in addition to the photosensitive layer forming liquid and the heat sensitive layer forming liquid, the intermediate layer forming liquid that forms an intermediate layer on the surface of the substrate to improve the adhesion of the plate making layer, and protects the plate making surface of the plate printing original plate from oxidation. Polyvinyl alcohol aqueous solution, colloidal solution of photosensitive agent for photographic film used to form a photosensitive layer in photographic film, colloidal solution of photosensitive agent for photographic paper used to form a photosensitive layer of photographic paper, recording tape, video tape. , And the magnetic layer forming liquid used for forming the magnetic layer of the floppy disk, and various paints used for coating metal.

(用途)
塗布装置および塗布方法は、金属、紙、布、およびフイルム等にバーを用いて液膜を塗布して製品を製作するあらゆる分野に適用可能であり、用途は特に限定されるものではない。
塗布装置および塗布方法の用途としては、例えば、写真フィルム等の感光材料の製造、録音テープ等の磁気記録材料の製造、およびカラー鉄板等の塗装金属薄板の製造等、バーを用いて塗布を行う場合に使用できる。したがって、基板としては、従来技術の欄で述べた支持体基板のほか、支持体基板の目立てした側の面に感光性または感熱性の製版面を形成した平版印刷原版基板、写真フィルム用基材、印画紙用バライタ紙、録音テープ用基材、ビデオテープ用基材、フロッピー(登録商標)ディスク用基材等、金属、プラスチック、または紙等からなり、連続した帯状で、かつ可撓性を有する基材等が挙げられる。
また、塗布液としては、上述のもの以外に、基板に塗布し、乾燥させて皮膜を形成することに使用される溶液が挙げられ、具体的には、感光層形成液および感熱層形成液のほか、基板の表面に中間層を形成して製版層の接着を改善する中間層形成液、平版印刷原版基板の製版面を酸化から保護するポリビニルアルコール水溶液、写真フィルムにおける感光層を形成するのに使用される写真フィルム用感光剤コロイド液、印画紙の感光層を形成するのに使用される印画紙用感光剤コロイド液、録音テープ、ビデオテープ、フロッピーディスクの磁性層を形成するのに使用される磁性層形成液、および金属の塗装に使用される各種塗料等が挙げられる。
(Use)
The coating device and coating method can be applied to all fields in which a liquid film is applied to metal, paper, cloth, film or the like using a bar to manufacture a product, and the application is not particularly limited.
Applications of the coating device and coating method include, for example, the production of photosensitive materials such as photographic film, the production of magnetic recording materials such as recording tapes, and the production of coated metal thin plates such as colored iron plates. Can be used if. Therefore, as the substrate, in addition to the support substrate described in the section of the prior art, a lithographic printing original plate substrate having a photosensitive or heat-sensitive plate-making surface formed on the sharpened side surface of the support substrate, and a base material for photographic film. , Barrier paper for photographic paper, base material for recording tape, base material for video tape, base material for floppy (registered trademark) disc, etc., made of metal, plastic, paper, etc., and has a continuous strip shape and flexibility. Examples thereof include a base material having a base material.
In addition to the above-mentioned coating solutions, examples thereof include solutions used for coating on a substrate and drying to form a film, and specifically, a photosensitive layer forming solution and a heat sensitive layer forming solution. In addition, to form an intermediate layer forming solution that forms an intermediate layer on the surface of the substrate to improve the adhesion of the plate making layer, a polyvinyl alcohol aqueous solution that protects the plate making surface of the plate printing original substrate from oxidation, and a photosensitive layer in a photographic film. Photosensitizer colloid solution for photographic film used, photographic paper photosensitive colloid solution used to form the photosensitive layer of photographic paper, used to form the magnetic layer of recording tape, video tape, floppy disk Examples include colloidal layer forming solutions and various paints used for coating metals.

また、塗布装置および塗布方法を用いることにより、基板の両面に塗布面を効率良く形成することが可能となる。従来は、均一な塗布膜を形成する場合には、下面塗布装置が用いられることが多く、この場合、第1の下面塗布工程を設けた後、基板搬送ロールで搬送方向を変え、再度、第2の下面塗布工程を設ける必要があった。このため、両面に塗布面を形成するまでの搬送距離が長くなり、塗布液の塗布スペースが広く必要とされていた。
しかし、塗布装置および塗布方法を用いることにより、上面塗布においても均一な塗布膜を形成することが可能となった。このため、基板の両面に塗布面を形成する場合、従来の下面塗布と上述の塗布装置を用いた上面塗布を同時に行うことができ、塗布スペースを省スペース化することができる。これにより、製膜工程を簡略化することができ、製造コストを抑制することも可能となる。
Further, by using the coating device and the coating method, it is possible to efficiently form the coated surfaces on both surfaces of the substrate. Conventionally, when forming a uniform coating film, a bottom surface coating device is often used. In this case, after providing the first bottom surface coating step, the transfer direction is changed by the substrate transfer roll, and the second surface is again applied. It was necessary to provide the bottom surface coating step of 2. For this reason, the transport distance until the coating surfaces are formed on both sides is long, and a wide coating space for the coating liquid is required.
However, by using the coating device and the coating method, it has become possible to form a uniform coating film even in the top coating. Therefore, when the coating surfaces are formed on both sides of the substrate, the conventional bottom surface coating and the top surface coating using the above-mentioned coating device can be performed at the same time, and the coating space can be saved. As a result, the film forming process can be simplified and the manufacturing cost can be suppressed.

本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の塗布装置および塗布システムについて詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。 The present invention is basically configured as described above. Although the coating apparatus and coating system of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements or modifications may be made without departing from the gist of the present invention. Of course.

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
本実施例では、実施例1〜13および比較例1の塗布装置を用いて基板に塗布液を塗布し、パターン塗布性、液の混ざり、液切れ、およびハジキを評価した。
The features of the present invention will be described in more detail with reference to Examples below. The materials, reagents, amounts of substances and their ratios, operations, etc. shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following examples.
In this example, the coating liquid was applied to the substrate using the coating devices of Examples 1 to 13 and Comparative Example 1, and the pattern coating property, liquid mixing, liquid drainage, and repelling were evaluated.

塗布装置は、バー径を直径10mmとし、幅を800mmとした。また、バー回転数を1500回転/分(rpm)とした。塗布は、1次側基板進入角度を3°とし、定常部の膜厚が5μmとなるように実施した。なお、1次側基板進入角度とは、基板がバーの上流側から進入する角度のことである。基板の走行速度を120m/分とした。
基板には、幅が700mmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。
塗布液には、ポリエステル樹脂、架橋剤、および界面活性剤を水に溶解して調製したものを用いた。なお、塗布液は、組成物量を調整し、粘度が2mPa・sとなるようにした。塗布液の表面張力は40mN/mであった。
The coating device had a bar diameter of 10 mm and a width of 800 mm. The bar rotation speed was set to 1500 rotations / minute (rpm). The coating was carried out so that the primary side substrate approach angle was 3 ° and the film thickness of the stationary portion was 5 μm. The primary side substrate approach angle is an angle at which the substrate enters from the upstream side of the bar. The traveling speed of the substrate was set to 120 m / min.
A polyethylene terephthalate (PET) film having a width of 700 mm was used as the substrate.
As the coating liquid, a polyester resin, a cross-linking agent, and a surfactant prepared by dissolving in water were used. The amount of the composition of the coating liquid was adjusted so that the viscosity was 2 mPa · s. The surface tension of the coating liquid was 40 mN / m.

次に、評価項目であるパターン塗布性、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて説明する。なお、パターン塗布性、液切れおよびハジキの各評価項目では、目視観察しているが、その目視観察時間は、1サンプル当り、1分間とした。 Next, the evaluation items such as pattern coatability, liquid mixing, liquid drainage, and repellent will be described. In each evaluation item of pattern coatability, liquid drainage, and repellent, visual observation was performed, and the visual observation time was 1 minute per sample.

(パターン塗布性)
パターン塗布性は、塗布膜を目視観察し、以下に示すパターン塗布性評価基準で評価した。その結果を下記表1に示す。
パターン塗布性評価基準
A:パターン塗布できる
B:パターン塗布できない
(Pattern coatability)
The pattern coatability was evaluated by visually observing the coating film and using the pattern coatability evaluation criteria shown below. The results are shown in Table 1 below.
Pattern coating evaluation criteria A: Pattern coating is possible B: Pattern coating is not possible

(液の混ざり)
液の混ざりは、塗布後の塗布液を回収し、回収後に、回収液を塗布して塗布膜を得た。この塗布膜の成分を蛍光X線(XRF)測定で特定した。
液の混ざりは、特定した成分の結果に基づき、以下に示す液の混ざり評価基準で評価した。その結果を下記表1に示す。
液の混ざり評価基準
A:コンタミネーション率0%
B:コンタミネーション率0%超20%未満
C:コンタミネーション率20%以上
(Mixed liquid)
For mixing of the liquids, the coating liquid after coating was recovered, and after recovery, the recovered liquid was applied to obtain a coating film. The components of this coating film were identified by fluorescent X-ray (XRF) measurements.
The mixture of liquids was evaluated based on the results of the specified components according to the following evaluation criteria of liquid mixture. The results are shown in Table 1 below.
Liquid mixture evaluation criteria A: Contamination rate 0%
B: Contamination rate more than 0% and less than 20% C: Contamination rate 20% or more

(液切れ)
液切れは、塗布膜を目視観察し、目視評価後に故障箇所に対して、電子線マイクロアナライザ(EPMA)による元素分析を実施した。
液切れは、元素分析の結果に基づき、以下に示す液の混ざり評価基準で評価した。その結果を下記表1に示す。
液切れ評価基準
A:特定元素100%含有
B:特定元素80%以上100%未満含有
C:特定元素80%未満含有
(Out of liquid)
For liquid drainage, the coating film was visually observed, and after visual evaluation, elemental analysis was performed on the faulty part with an electron probe microanalyzer (EPMA).
The liquid drainage was evaluated by the following liquid mixture evaluation criteria based on the results of elemental analysis. The results are shown in Table 1 below.
Liquid drainage evaluation criteria A: Contains 100% of specific elements B: Contains 80% or more and less than 100% of specific elements C: Contains less than 80% of specific elements

(ハジキ)
ハジキは、塗布膜を目視観察し、目視評価後に故障箇所に対して、電子線マイクロアナライザ(EPMA)による元素分析を実施した。
ハジキは、元素分析の結果に基づき、以下に示すハジキ評価基準で評価した。その結果を下記表1に示す。
ハジキ評価基準
A:特定元素100%含有
B:特定元素80%以上100%未満含有
C:特定元素80%未満含有
(Hajiki)
Hajiki visually observed the coating film, and after visual evaluation, performed elemental analysis of the failed portion with an electron probe microanalyzer (EPMA).
Hajiki was evaluated according to the following Hajiki evaluation criteria based on the results of elemental analysis. The results are shown in Table 1 below.
Repellent Evaluation Criteria A: Contains 100% of specific elements B: Contains 80% or more and less than 100% of specific elements C: Contains less than 80% of specific elements

以下、実施例1〜13および比較例1について説明する。なお、下記表1において、塗布条件の欄の「−」は該当するものがないことを示す。
(実施例1)
実施例1は、図1および図2に示す塗布装置の構成において、堰板の数を2とした。第1の堰板の幅を100mmとし、第2の堰板の幅を300mmとし、第1の堰板と第2の堰板の間隔δを1mmとした。
第1の堰板の送液量を100cc/minとし、第2の堰板の送液量を300cc/minとした。また、液溜り部の断面積Sを10mmとした。実施例1では、側板を設けていない。
(実施例2)
実施例2は、図1および図2に示す塗布装置の構成とし、堰板の数は3である。第1の堰板の幅を100mmとし、第2の堰板の幅を300mmとし、第3の堰板の幅を100mmとし、堰板の間隔δを1mmとした。
第1の堰板の送液量を100cc/minとし、第2の堰板の送液量を300cc/minとし、第3の堰板の送液量を100cc/minとした。また、液溜り部の断面積Sを10mmとした。実施例2では、側板を設けていない。
Hereinafter, Examples 1 to 13 and Comparative Example 1 will be described. In Table 1 below, "-" in the application condition column indicates that there is no applicable item.
(Example 1)
In Example 1, the number of weir plates was set to 2 in the configuration of the coating apparatus shown in FIGS. 1 and 2. The width of the first weir plate was 100 mm, the width of the second weir plate was 300 mm, and the distance δ between the first weir plate and the second weir plate was 1 mm.
The liquid feed rate of the first weir plate was set to 100 cc / min, and the liquid feed rate of the second weir plate was set to 300 cc / min. Further, the cross-sectional area S of the liquid pool portion was set to 10 mm 2 . In the first embodiment, the side plate is not provided.
(Example 2)
In the second embodiment, the coating apparatus shown in FIGS. 1 and 2 is configured, and the number of weir plates is 3. The width of the first weir plate was 100 mm, the width of the second weir plate was 300 mm, the width of the third weir plate was 100 mm, and the interval δ of the weir plates was 1 mm.
The liquid feed amount of the first weir plate was 100 cc / min, the liquid feed amount of the second weir plate was 300 cc / min, and the liquid feed amount of the third weir plate was 100 cc / min. Further, the cross-sectional area S of the liquid pool portion was set to 10 mm 2 . In the second embodiment, the side plate is not provided.

(実施例3)
実施例3は、実施例2に比して、液溜り部の断面積Sが120mmである点以外は実施例2と同じとした。
(実施例4)
実施例4は、実施例2に比して、液溜り部の断面積Sが100mmである点以外は実施例2と同じとした。
(実施例5)
実施例5は、実施例2に比して、液溜り部の断面積Sが20mmである点以外は実施例2と同じとした。
(実施例6)
実施例6は、実施例2に比して、液溜り部の断面積Sが30mmである点以外は実施例2と同じとした。
(実施例7)
実施例7は、実施例2に比して、液溜り部の断面積Sが50mmである点以外は実施例2と同じとした。
(Example 3)
Example 3 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 120 mm 2 were the same as in Example 2.
(Example 4)
Example 4 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 100 mm 2 were the same as in Example 2.
(Example 5)
Example 5 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir has a except a 20 mm 2 same as Example 2.
(Example 6)
Example 6 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 30 mm 2 were the same as in Example 2.
(Example 7)
Example 7 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 50 mm 2 were the same as in Example 2.

(実施例8)
実施例8は、実施例2に比して、堰板の間隔δが3mmである点、および液溜り部の断面積Sが50mmである点以外は実施例2と同じとした。
(実施例9)
実施例9は、実施例2に比して、堰板の間隔δが3mmである点、液溜り部の断面積Sが50mmである点、および側板を有する点以外は実施例2と同じとした。
(実施例10)
実施例10は、実施例2に比して、堰板の間隔δが5mmである点、および液溜り部の断面積Sが50mmである点以外は実施例2と同じとした。
(実施例11)
実施例11は、実施例2に比して、堰板の間隔δが5mmである点、液溜り部の断面積Sが50mmである点、および側板を有する点以外は実施例2と同じとした。
(実施例12)
実施例12は、実施例2に比して、堰板の間隔δが5mmである点、送液量が異なる点、液溜り部の断面積Sが50mmである点、および側板を有する点以外は実施例2と同じとした。
実施例12では、第1の堰板の送液量を70cc/minとし、第2の堰板の送液量を220cc/minとし、第3の堰板の送液量を70cc/minとした。
(実施例13)
実施例13は、実施例12に比して、側板がない点以外は実施例12と同じとした。
(Example 8)
Example 8 is different from the embodiment 2, a point spacing of the sheathing board δ is 3 mm, and the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 50 mm 2 were the same as in Example 2.
(Example 9)
Example 9 is the same as Example 2 except that the interval δ of the weir plates is 3 mm, the cross-sectional area S of the liquid pool portion is 50 mm 2 , and the side plate is provided, as compared with Example 2. And said.
(Example 10)
Example 10 is different from the embodiment 2, a point spacing of the sheathing board δ is 5 mm, and the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 50 mm 2 were the same as in Example 2.
(Example 11)
Example 11 is the same as Example 2 except that the distance δ of the weir plates is 5 mm, the cross-sectional area S of the liquid pool portion is 50 mm 2 , and the side plate is provided, as compared with Example 2. And said.
(Example 12)
Compared to Example 2, Example 12 has a point that the interval δ of the weir plates is 5 mm, a point that the amount of liquid sent is different, a point that the cross-sectional area S of the liquid pool portion is 50 mm 2 , and a point that the side plate is provided. Other than that, it was the same as in Example 2.
In Example 12, the liquid feed amount of the first weir plate was 70 cc / min, the liquid feed amount of the second weir plate was 220 cc / min, and the liquid feed amount of the third weir plate was 70 cc / min. ..
(Example 13)
Compared with Example 12, Example 13 was the same as Example 12 except that there was no side plate.

(比較例1)
比較例1は、図1および図2に示す塗布装置の構成において、堰板の数を1とし、実施例1の第2の堰板に相当するものしかない構成である。比較例1は、送液量を300cc/minとし、液溜り部の断面積Sを10mmとした。比較例1は、塗布膜が1つしか形成されないため、液の混ざりが生じない。このため、液の混ざりの評価結果の欄には「−」と記した。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, in the configuration of the coating apparatus shown in FIGS. 1 and 2, the number of weir plates is 1, and there is only a configuration corresponding to the second weir plate of Example 1. In Comparative Example 1, the liquid feeding amount was set to 300 cc / min, and the cross-sectional area S of the liquid pool portion was set to 10 mm 2 . In Comparative Example 1, since only one coating film is formed, the liquids do not mix. Therefore, "-" is written in the column of the evaluation result of the mixture of liquids.

表1に示すように、実施例1〜13は、2種以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができた。なお、比較例1は、堰板が1つの構成であり、2種以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布できなかった。
実施例1および実施例2は、液溜り部の断面積Sが小さく液切れが生じた。また、実施例1および実施例2は、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例3は、液溜り部の断面積Sが大き過ぎハジキが生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例4は、液溜り部の断面積Sが好ましい範囲の上限であり、ハジキが若干生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例5は、液溜り部の断面積Sが好ましい範囲の下限であり、液切れが若干生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例6および実施例7は、液溜り部の断面積Sが好ましい範囲にあり、液切れおよびハジキについて良好な結果が得られた。また、実施例6および実施例7は、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例8は、堰板の間隔δが好ましい範囲の下限であり、液の混ざりについて実施例7よりも良好な結果を得ることができた。実施例9は、堰板の間隔δが好ましい範囲の下限であり、かつ側板を有するものであり、液の混ざりについて実施例8よりも、さらに良好な結果を得ることができた。
As shown in Table 1, in Examples 1 to 13, two or more kinds of coating liquids could be simultaneously applied in a striped pattern. In Comparative Example 1, the weir plate was configured as one, and two or more kinds of coating liquids could not be simultaneously applied in a striped pattern.
In Examples 1 and 2, the cross-sectional area S of the liquid pool portion was small and the liquid ran out. Further, in Examples 1 and 2, the interval δ of the weir plates was narrow and the liquids were mixed.
In Example 3, the cross-sectional area S of the liquid pool portion was too large to cause repelling, and the interval δ of the dam plates was narrow, resulting in liquid mixing.
In Example 4, the cross-sectional area S of the liquid pool portion was the upper limit of the preferable range, some repelling was generated, and the interval δ of the weir plates was narrow, and the liquid was mixed.
In Example 5, the cross-sectional area S of the liquid pool portion was the lower limit of the preferable range, the liquid was slightly drained, the interval δ of the dam plates was narrow, and the liquid was mixed.
In Examples 6 and 7, the cross-sectional area S of the liquid pool portion was in a preferable range, and good results were obtained for liquid drainage and repelling. Further, in Examples 6 and 7, the interval δ of the weir plates was narrow and the liquids were mixed.
In Example 8, the interval δ of the weir plates was the lower limit of the preferable range, and better results could be obtained than in Example 7 in terms of liquid mixing. In Example 9, the interval δ of the weir plates was the lower limit of the preferable range and the side plates were provided, and even better results could be obtained with respect to the mixing of the liquids than in Example 8.

実施例10は、堰板の間隔δが好ましい範囲にあり、液の混ざりについてさらに良好な結果を得ることができた。
実施例11は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、かつ側板を有するものであり、液の混ざりについてさらに良好な結果を得ることができた。
実施例12は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、かつ側板を有するものであり、送液量を少なくしても、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて、良好な結果を得ることができた。これにより、塗布液の損失を小さくできる。
実施例13は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、送液量を少なくした場合、側板がないため、液切れについて、良好な結果を得ることができなかった。
なお、実施例9の塗布装置を用いて、塗布システムを構成し、基板の両面に同時塗布しところ、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて、良好な結果を得ることができた。
In Example 10, the interval δ of the weir plates was in a preferable range, and even better results could be obtained for the mixing of the liquids.
In Example 11, the interval δ of the weir plates was in a preferable range and the side plates were provided, and even better results could be obtained for the mixing of the liquids.
In Example 12, the interval δ of the weir plates is in a preferable range and the side plates are provided, and good results can be obtained for liquid mixing, liquid drainage, and repellent even if the amount of liquid to be fed is small. Was made. As a result, the loss of the coating liquid can be reduced.
In Example 13, the interval δ of the weir plates was in a preferable range, and when the amount of liquid to be fed was reduced, good results could not be obtained for liquid drainage because there was no side plate.
When a coating system was constructed using the coating apparatus of Example 9 and simultaneously coated on both sides of the substrate, good results could be obtained for liquid mixing, liquid drainage, and repelling.

10、11、11a 塗布装置
12 バー
12a 端面
14 本体ブロック
15 スリット
16 堰板
16a 突出部
16b 側面
16c 端面
17 液溜り部
20 供給管
22 供給部
24 送液貯留部
25 端部
26 側板
27 隙間
30 基板
30a 上面
30b 下面
32a、32b、32c 塗布膜
33 隙間
40 塗布システム
42 乾燥部
A 距離
B 距離
Cr 回転中心
D1 走行方向
D2 幅方向
D3 高さ方向
M 塗布液
PL 平面
δ 間隔
S 断面積
10, 11, 11a Coating device 12 bar 12a End face 14 Main body block 15 Slit 16 Weir plate 16a Protruding part 16b Side surface 16c End face 17 Liquid pool part 20 Supply pipe 22 Supply part 24 Liquid supply storage part 25 End part 26 Side plate 27 Gap 30 Substrate 30a Upper surface 30b Lower surface 32a, 32b, 32c Coating film 33 Gap 40 Coating system 42 Drying part A Distance B Distance Cr Rotation center D1 Traveling direction D2 Width direction D3 Height direction M Coating liquid PL plane δ Interval S Cross-sectional area

Claims (10)

特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、前記走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、
前記バーに対して前記基板の前記走行方向の上流に設けられ、前記塗布液を前記バーとの間を通して、前記基板の前記走行方向へ流通させる堰板とを有する塗布装置であって、
前記バーを回転可能に支持する本体ブロックを有し、
前記バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、
前記堰板毎に設けられ、前記堰板に前記塗布液を供給する複数の供給部とを有する、塗布装置。
A long bar extending in a width direction orthogonal to the running direction, which rotates in contact with at least one surface of a long substrate running continuously in a specific running direction via a coating liquid.
A coating device having a weir plate provided upstream of the traveling direction of the substrate with respect to the bar and allowing the coating liquid to flow in the traveling direction of the substrate through the bar.
It has a body block that rotatably supports the bar.
A plurality of weir plates arranged along the longitudinal direction of the bar,
A coating device provided for each weir plate and having a plurality of supply units for supplying the coating liquid to the weir plate.
前記バーの前記長手方向における前記堰板の間隔が3mm以上である、請求項1に記載の塗布装置。 The coating device according to claim 1, wherein the distance between the dam plates in the longitudinal direction of the bar is 3 mm or more. 前記複数の堰板は、それぞれ前記バーの前記長手方向における位置を変えることができる、請求項1または2記載の塗布装置。 The coating device according to claim 1 or 2, wherein the plurality of weir plates can be repositioned in the longitudinal direction of the bar, respectively. 前記複数の堰板は、それぞれ前記バーとの間に液溜り部を有し、
前記複数の堰板は、それぞれ前記液溜り部の容量を変えることができる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の塗布装置。
Each of the plurality of weir plates has a liquid pool portion between the weir plate and the bar.
The coating device according to any one of claims 1 to 3, wherein the plurality of weir plates can each change the capacity of the liquid pool portion.
前記複数の堰板は、それぞれ前記基板の前記走行方向に対して移動可能であり、前記バーと前記堰板との前記走行方向の距離を変えることができる、請求項4に記載の塗布装置。 The coating device according to claim 4, wherein each of the plurality of weir plates is movable with respect to the traveling direction of the substrate, and the distance between the bar and the weir plate in the traveling direction can be changed. 前記走行方向と前記走行方向に直交する高さ方向とで構成される平面における、前記液溜り部の断面積Sが20mm以上100mm以下であり、
前記液溜り部の前記断面積Sは、前記平面における、前記バーの前記走行方向の上流側の周面と、
前記バーの回転中心を通り前記バーの前記走行方向の上流側の端面と前記堰板との最短距離を通る線と、
前記最短距離を通る線と前記堰板との交点を通り、かつ前記基板の面に垂直な線と、
前記基板とで囲まれた部分の面積である、請求項4に記載の塗布装置。
The cross-sectional area S of the liquid pool portion in the plane composed of the traveling direction and the height direction orthogonal to the traveling direction is 20 mm 2 or more and 100 mm 2 or less.
The cross-sectional area S of the liquid pool portion is a peripheral surface on the plane on the upstream side of the bar in the traveling direction.
A line passing through the center of rotation of the bar and the shortest distance between the end face of the bar on the upstream side in the traveling direction and the weir plate,
A line that passes through the intersection of the line passing through the shortest distance and the weir plate and is perpendicular to the surface of the substrate.
The coating device according to claim 4, which is the area of the portion surrounded by the substrate.
前記複数の堰板は、それぞれ前記バーの前記長手方向の両端部に側板が設けられている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 6, wherein the plurality of weir plates are provided with side plates at both ends of the bar in the longitudinal direction. 前記複数の堰板のうち、隣接する堰板の間に面する、前記堰板の前記バーの前記長手方向の端部に側板が設けられている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の塗布装置。 The invention according to any one of claims 1 to 6, wherein a side plate is provided at the longitudinal end of the bar of the weir plate facing between adjacent weir plates among the plurality of weir plates. Coating device. 前記塗布液を貯留する送液貯留部を、前記本体ブロック、または前記各堰板に有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 8, wherein the liquid feeding storage unit for storing the coating liquid is provided in the main body block or each weir plate. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、
前記基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する、塗布システム。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 9 is arranged so as to face each other with a substrate interposed therebetween.
A coating system in which a coating liquid is simultaneously applied to both surfaces of the substrate in a pattern.
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