JPWO2019077672A1 - Vacuum valve control method - Google Patents

Vacuum valve control method Download PDF

Info

Publication number
JPWO2019077672A1
JPWO2019077672A1 JP2018508257A JP2018508257A JPWO2019077672A1 JP WO2019077672 A1 JPWO2019077672 A1 JP WO2019077672A1 JP 2018508257 A JP2018508257 A JP 2018508257A JP 2018508257 A JP2018508257 A JP 2018508257A JP WO2019077672 A1 JPWO2019077672 A1 JP WO2019077672A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum valve
vacuum
pressure
opening
valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018508257A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6311087B1 (en
Inventor
秀明 永井
慧 岩本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
V Tex Corp
Original Assignee
V Tex Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by V Tex Corp filed Critical V Tex Corp
Application granted granted Critical
Publication of JP6311087B1 publication Critical patent/JP6311087B1/en
Publication of JPWO2019077672A1 publication Critical patent/JPWO2019077672A1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D16/00—Control of fluid pressure
    • G05D16/20—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
    • G05D16/2006—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
    • G05D16/2013—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means
    • G05D16/2026—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means with a plurality of throttling means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
    • F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D16/00—Control of fluid pressure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Control Of Fluid Pressure (AREA)

Abstract

真空チャンバの排気口に真空バルブを介して真空ポンプが取り付けられ、真空バルブを閉じた状態でガスの供給を開始した真空チャンバ内を目標の圧力に制御する真空バルブの制御方法であって、予め真空チャンバ内の時間ごとの圧力データを計測すると共に、真空バルブの時間ごとの開度データを計測する計測ステップと、計測した圧力データ及び開度データから、真空バルブの開度に対するガスの流れやすさを表すコンダクタンスを算出する算出ステップと、算出したコンダクタンスの変化分が、真空バルブの全開状態におけるものから変化していないとみなせる範囲を特定し、その範囲内で設定された閾値における真空バルブの指示開度を取得する取得ステップと、を有し、真空チャンバ内を目標の圧力にする際に、真空バルブを全開ではなく指示開度まで開いてガスの排気を開始し、ガス流量に対する真空バルブの安定開度にしていき目標の圧力で維持する。A vacuum valve control method, wherein a vacuum pump is attached to an exhaust port of a vacuum chamber via a vacuum valve, and the inside of the vacuum chamber that starts supplying gas with the vacuum valve closed is controlled to a target pressure, Measures the pressure data for each time in the vacuum chamber, and measures the step for measuring the opening data for each time of the vacuum valve. From the measured pressure data and the opening data, the gas flows easily with respect to the opening of the vacuum valve. A calculation step for calculating the conductance representing the length, and a range in which the calculated change in the conductance can be regarded as unchanged from that in the fully opened state of the vacuum valve, and the vacuum valve at the threshold set within the range is specified. An acquisition step for acquiring the indicated opening, and when the vacuum chamber is at a target pressure, the vacuum valve is fully opened. It is open until instructed opening without starts exhaust of gas, maintained at a pressure of target continue to stabilize the opening degree of the vacuum valve to the gas flow.

Description

本発明は、真空チャンバ内の圧力を一定に保つための真空バルブの制御方法に関する。   The present invention relates to a method for controlling a vacuum valve for keeping the pressure in a vacuum chamber constant.

半導体素子、太陽電池、液晶などの製造における各種プロセスでは、ウエハ（シリコン等の半導体基板）やガラス基板などに真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学気相成長）等により薄膜を形成する手段や、薄膜の必要部分をレジストでマスクし、不要部分を腐食作用により削り取るエッチング手段や、エッチング後に不要となったレジストをオゾンやプラズマにより除去するアッシング手段などが用いられる。   In various processes in the manufacture of semiconductor elements, solar cells, liquid crystals, etc., means for forming a thin film on a wafer (a semiconductor substrate such as silicon) or a glass substrate by vacuum deposition, sputtering, CVD (chemical vapor deposition), etc. Etching means that masks necessary portions of the resist with a resist and scrapes unnecessary portions by a corrosive action, and ashing means that removes unnecessary resist after etching using ozone or plasma.

例えば、スパッタリング装置では、基板が配置された真空チャンバ内にＡｒ（アルゴン）等の不活性ガスを導入し、所定の真空度で高周波電圧を印加してプラズマを発生させ、材料であるターゲットに衝突させることにより、叩き出された材料を当該基板に付着させて薄膜を形成する。   For example, in a sputtering apparatus, an inert gas such as Ar (argon) is introduced into a vacuum chamber in which a substrate is arranged, and a high frequency voltage is applied at a predetermined degree of vacuum to generate plasma, which collides with a target that is a material. By doing so, the knocked-out material is attached to the substrate to form a thin film.

真空チャンバ内にはガスが供給されるが、製品の品質を向上させるためには、所定の真空度が維持されるよう、真空チャンバ内の圧力制御を精度良く行う必要がある。真空チャンバの排気口には真空バルブを介して真空ポンプが取り付けられ、真空バルブの開度によってガス流量を制御することで、真空チャンバ内の圧力を一定に保つ。特許文献１に記載されているように、設定圧力に追従させるフィードバック制御を行って設定排出ガス量を得る圧力制御方法の発明も開示されている。   Although gas is supplied into the vacuum chamber, in order to improve the quality of the product, it is necessary to accurately control the pressure in the vacuum chamber so that a predetermined degree of vacuum is maintained. A vacuum pump is attached to the exhaust port of the vacuum chamber via a vacuum valve, and the pressure in the vacuum chamber is kept constant by controlling the gas flow rate according to the opening degree of the vacuum valve. As described in Patent Document 1, an invention of a pressure control method for obtaining a set exhaust gas amount by performing feedback control to follow a set pressure is also disclosed.

圧力制御においては、真空バルブを閉じた真空チャンバ内にガス供給が開始されて圧力が高くなった状態から、圧力を下げて目標の圧力で安定させる場合、まず排気口から一気にガスを排出しようとして真空バルブが全開する。真空チャンバ内の圧力が下がってくると排出するガス流量を抑えるために真空バルブを閉じていき、目標の圧力になると真空バルブの開度も安定する。   In pressure control, when gas supply is started in the vacuum chamber with the vacuum valve closed and the pressure is increased, the pressure is lowered and stabilized at the target pressure. The vacuum valve is fully opened. When the pressure in the vacuum chamber decreases, the vacuum valve is closed to suppress the flow rate of the discharged gas, and when the target pressure is reached, the opening degree of the vacuum valve is stabilized.

特許第５１１１５１９号公報Japanese Patent No. 5111519

真空バルブには、排気口に回転軸を通して弁体を回転させることで開度を調整するバタフライバルブや、弁体を振り子のように回動させて排気口に重ねることで開度を調整するペンドロールバルブなどがある。バタフライバルブは、全開から全閉までに要する時間は短いが、全開しても排気口に通っている回転軸に排出物が付着すると、開閉動作に支障が生じる可能性がある。それに対し、ペンドロールバルブは、回転軸は排気口を通らないが、全開から全閉までに時間を要する。ペンドロールバルブの場合、排気口の内径が大きくなるほど、弁体の移動量も多くなるので、移動に要する時間も増えてしまう。   Vacuum valves include a butterfly valve that adjusts the opening by rotating the valve element through the rotating shaft to the exhaust port, and a pen that adjusts the opening by rotating the valve element like a pendulum and overlapping the exhaust port. There are drag valves. The time required for the butterfly valve to be fully opened to fully closed is short, but even if the butterfly valve is fully opened, there is a possibility that the opening / closing operation may be hindered if the discharged matter adheres to the rotating shaft passing through the exhaust port. On the other hand, in the Pendroll valve, the rotation shaft does not pass through the exhaust port, but it takes time from fully open to fully closed. In the case of the pendulum valve, the larger the inner diameter of the exhaust port, the greater the amount of movement of the valve body, and the longer the time required for movement.

そこで、本発明は、真空バルブの動作によって真空チャンバ内を目標の圧力にするまでの時間を短縮する真空バルブの制御方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a method for controlling a vacuum valve that shortens the time until the inside of the vacuum chamber reaches a target pressure by the operation of the vacuum valve.

上記の課題を解決するために、本発明である真空バルブの制御方法は、真空チャンバの排気口に真空バルブを介して真空ポンプが取り付けられ、前記真空バルブを閉じた状態でガスの供給を開始した前記真空チャンバ内を目標の圧力に制御する真空バルブの制御方法であって、予め前記真空チャンバ内の圧力データとそれを目標の圧力にするための真空バルブの開度データを時系列で計測する計測ステップと、計測した前記圧力データ及び前記開度データから、前記真空バルブの開度に対するガスの流れやすさを表すコンダクタンスを算出する算出ステップと、算出した前記コンダクタンスの変化分が、前記真空バルブの全開状態におけるものから変化していないとみなせる範囲を特定し、その範囲内で設定された閾値における前記真空バルブの指示開度を取得する取得ステップと、を有し、前記真空チャンバ内を目標の圧力にする際に、前記真空バルブを全開ではなく前記指示開度まで開いてガスの排気を開始し、ガス流量に対する前記真空バルブの安定開度にしていき目標の圧力で維持する、ことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the vacuum valve control method according to the present invention is such that a vacuum pump is attached to the exhaust port of a vacuum chamber via a vacuum valve, and gas supply is started with the vacuum valve closed. A vacuum valve control method for controlling the inside of the vacuum chamber to a target pressure, wherein the pressure data in the vacuum chamber and the opening data of the vacuum valve for setting the target pressure in advance are measured in time series. Measuring step, calculating step of calculating conductance representing ease of gas flow with respect to the opening degree of the vacuum valve from the measured pressure data and opening degree data, and the calculated change in conductance is the vacuum A range that can be regarded as unchanged from that in the fully opened state of the valve is specified, and the vacuum valve at a threshold set within the range is specified. And acquiring the indicated opening degree, and when the inside of the vacuum chamber is set to a target pressure, the vacuum valve is not fully opened but the indicated opening degree is opened and gas exhaustion is started. The vacuum valve is kept at a stable opening with respect to the flow rate and maintained at a target pressure.

また、前記真空バルブの制御方法において、前記閾値は、前記コンダクタンスの変化分が５％の範囲内で設定される、ことを特徴とする。   In the vacuum valve control method, the threshold value is set within a range where the change in conductance is 5%.

また、本発明である真空バルブの圧力制御コントローラは、真空チャンバの排気口に真空バルブを介して真空ポンプが取り付けられ、前記真空バルブを閉じた状態でガスの供給を開始した前記真空チャンバ内を目標の圧力に制御する圧力制御コントローラであって、予め前記真空チャンバ内の圧力データとそれを目標の圧力にするための真空バルブの開度データを時系列で計測する部と、前記圧力データ及び前記開度データから、前記真空バルブの開度に対するガスの流れやすさを表すコンダクタンスを算出する算出部と、前記コンダクタンスの変化分が、前記真空バルブの全開状態におけるものから変化していないとみなせる範囲を特定し、その範囲内で設定された閾値における前記真空バルブの指示開度を取得する取得部と、前記真空チャンバ内を目標の圧力にする際に、前記真空バルブを全開ではなく前記指示開度まで開いてガスの排気を開始し、ガス流量に対する前記真空バルブの安定開度にしていき目標の圧力で維持する制御部と、を有する、ことを特徴とする。   Further, the pressure control controller of the vacuum valve according to the present invention includes a vacuum pump attached to the exhaust port of the vacuum chamber via the vacuum valve, and the inside of the vacuum chamber in which gas supply is started with the vacuum valve closed. A pressure control controller for controlling to a target pressure, a unit for measuring pressure data in the vacuum chamber in advance and vacuum valve opening data for setting the target pressure in time series; the pressure data; From the opening degree data, it is possible to consider that the calculation unit for calculating the conductance representing the ease of gas flow with respect to the opening degree of the vacuum valve, and the change in the conductance is not changed from that in the fully opened state of the vacuum valve. An acquisition unit for specifying a range and acquiring an indicated opening degree of the vacuum valve at a threshold value set within the range; When setting the target pressure in the chamber, open the vacuum valve to the indicated opening rather than fully open and start exhausting the gas, and keep the vacuum valve at a stable opening with respect to the gas flow rate. And a control unit.

また、本発明である真空バルブは、前記圧力制御コントローラで制御される、ことを特徴とする。   The vacuum valve according to the present invention is controlled by the pressure controller.

本発明によれば、真空チャンバの圧力制御において、最初に真空バルブを開くときに全開よりも若干閉じた指示開度にすることで、指示開度から全開して指示開度に戻るまでの往復に伴う無駄な動作を省き、真空バルブの開度が安定して目標の圧力が維持されるまでの時間を短縮することができる。   According to the present invention, in the pressure control of the vacuum chamber, when the vacuum valve is first opened, the indicated opening is slightly closed rather than fully opened, so that the reciprocation from the indicated opening to the indicated opening is completed. Therefore, it is possible to reduce the time until the target pressure is maintained after the opening of the vacuum valve is stabilized.

本発明である真空バルブの制御方法における弁体の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the valve body in the control method of the vacuum valve which is this invention. 本発明である真空バルブの制御方法が適用される圧力制御系を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the pressure control system to which the control method of the vacuum valve which is this invention is applied. 本発明である真空バルブの制御方法が実行される圧力制御コントローラのブロック図である。It is a block diagram of the pressure control controller with which the control method of the vacuum valve which is this invention is performed. 本発明である真空バルブの制御方法を実行するにあたり予め計測したチャンバ圧力とバルブ開度を示すグラフである。It is a graph which shows the chamber pressure and valve opening which were measured beforehand when performing the control method of the vacuum valve which is the present invention. 本発明である真空バルブの制御方法を実行するにあたり予め算出したバルブ開度に対するコンダクタンス特性を示すグラフである。It is a graph which shows the conductance characteristic with respect to the valve opening degree computed beforehand when performing the control method of the vacuum valve which is this invention. 本発明である真空バルブの制御方法を実行したときの結果を示すグラフである。It is a graph which shows a result when performing the control method of the vacuum valve which is the present invention.

以下に、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する場合がある。   Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In addition, what has the same function attaches | subjects the same code | symbol, and the repeated description may be abbreviate | omitted.

まず、本発明である真空バルブの制御方法について説明する。図１は、真空バルブの制御方法における弁体の動作を説明する図であり、（ａ）は弁体が全開した状態を示し、（ｂ）は弁体の開度が５０％以上１００％未満の状態を示す。   First, the vacuum valve control method according to the present invention will be described. 1A and 1B are diagrams for explaining the operation of a valve body in a method for controlling a vacuum valve. FIG. 1A shows a state in which the valve body is fully opened, and FIG. 1B shows an opening degree of the valve body of 50% or more and less than 100%. Shows the state.

図１に示すように、真空システム１００は、真空チャンバ１１０内を所定の真空度にするための圧力制御系であり、真空チャンバ１１０の排気口１２０に真空バルブ２００を介して真空ポンプ３００（図２参照）が取り付けられる。なお、本実施例においては、真空バルブ２００としてペンドロールバルブを使用した例を示す。   As shown in FIG. 1, the vacuum system 100 is a pressure control system for setting the inside of the vacuum chamber 110 to a predetermined degree of vacuum. A vacuum pump 300 (see FIG. 1) is connected to an exhaust port 120 of the vacuum chamber 110 via a vacuum valve 200. 2) is attached. In this embodiment, an example in which a pen roll valve is used as the vacuum valve 200 is shown.

ペンドロールバルブは、排気口１２０より一回り大きいサイズの弁体２１０、弁体２１０を回動させるためのアーム２２０、及びアーム２２０の回動の支点となる回転軸２３０を有し、全閉位置（開度０％）では弁体２１０が排気口１２０に対して完全に重なって真空チャンバ１１０が密閉され、全開位置（開度１００％）では弁体２１０が排気口１２０と全く重ならない位置まで移動する。なお、開度が０％より大きくても（例えば５％）ガスが排出されなければ全閉位置とする。   The pendulum valve has a valve body 210 that is one size larger than the exhaust port 120, an arm 220 for rotating the valve body 210, and a rotation shaft 230 that serves as a fulcrum for the rotation of the arm 220. At (opening degree 0%), the valve body 210 completely overlaps the exhaust port 120 and the vacuum chamber 110 is sealed, and at the fully open position (opening degree 100%), the valve body 210 does not overlap the exhaust port 120 at all. Moving. Even if the opening degree is larger than 0% (for example, 5%), if the gas is not discharged, the fully closed position is set.

真空バルブ２００の弁体２１０を全閉位置にした状態で真空チャンバ１１０内にガスの供給を開始し、真空チャンバ１１０内を目標の圧力で維持するために、真空バルブ２００の開度を調節して排気口１２０から排出されるガス流量を制御する。   Gas supply into the vacuum chamber 110 is started with the valve body 210 of the vacuum valve 200 in the fully closed position, and the opening degree of the vacuum valve 200 is adjusted in order to maintain the inside of the vacuum chamber 110 at a target pressure. The flow rate of the gas discharged from the exhaust port 120 is controlled.

通常、真空チャンバ１１０内の圧力が高くなっている場合は、（ａ）のように真空バルブ２００を全閉位置から全開位置まで回動させてガスを排出するが、ガス流量が排気口の内径に応じた最大排出量を下回るまでは全開状態が維持される。そして、真空チャンバ１１０内の圧力が下がって排出するガス流量を制限する場合は、（ｂ）のように真空バルブ２００を揺動させて開度を調整する。そして、目標の圧力になると、弁体２１０の位置も安定する。   Normally, when the pressure in the vacuum chamber 110 is high, the gas is discharged by rotating the vacuum valve 200 from the fully closed position to the fully open position as shown in FIG. The fully open state is maintained until it falls below the maximum discharge amount. Then, when the pressure in the vacuum chamber 110 decreases and the gas flow to be discharged is limited, the opening degree is adjusted by swinging the vacuum valve 200 as shown in FIG. When the target pressure is reached, the position of the valve body 210 is also stabilized.

図２は、真空バルブの制御方法が適用される圧力制御系を示すブロック図である。図３は、真空バルブの制御方法が実行される圧力制御コントローラのブロック図である。なお、図３において、一点鎖線内は圧力制御コントローラ４００に含まれず、一点鎖線内と圧力制御コントローラ４００を含むものが真空システム１００である。   FIG. 2 is a block diagram showing a pressure control system to which the vacuum valve control method is applied. FIG. 3 is a block diagram of a pressure controller in which the vacuum valve control method is executed. In FIG. 3, the inside of the one-dot chain line is not included in the pressure controller 400, and the one including the one-dot chain line and the pressure controller 400 is the vacuum system 100.

図２に示すように、真空システム１００の圧力制御系においては、真空チャンバ１１０にガス５２０を供給しながら、圧力制御コントローラ４００を用いて、真空ポンプ３００へ排出されるガス流量を真空バルブ２００の開度で制御することにより、真空チャンバ１１０内の圧力を一定に維持する。   As shown in FIG. 2, in the pressure control system of the vacuum system 100, while supplying the gas 520 to the vacuum chamber 110, the flow rate of the gas discharged to the vacuum pump 300 is changed using the pressure controller 400. By controlling by the opening, the pressure in the vacuum chamber 110 is kept constant.

真空チャンバ１１０へのガス５２０の供給には、マスフロー５００を使用し、マスフローコントローラ５１０でガス５２０の流量を計測して所定の流量（例えば、５０ｓｃｃｍ）となるように制御すれば良い。なお、真空チャンバ１１０内でガス５２０が反応等するため、供給したガス５２０の流量に対して、排出すべきガス流量が同じになるとは限らない。   For supplying the gas 520 to the vacuum chamber 110, the mass flow 500 is used, and the flow rate of the gas 520 is measured by the mass flow controller 510 and controlled to be a predetermined flow rate (for example, 50 sccm). Since the gas 520 reacts in the vacuum chamber 110, the gas flow rate to be discharged is not always the same as the flow rate of the supplied gas 520.

圧力制御コントローラ４００は、真空チャンバ１１０内の圧力を真空計１３０で計測し、目標の圧力にするために排出すべきガス流量に応じた開度となるように、真空バルブ２００の開閉機構を駆動させる。圧力制御コントローラ４００は、ＡＰＣ（Ａｄａｐｔｉｖｅ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ）コントローラとも呼ばれる。なお、排出されるガス流量は、真空バルブ２００の開度を検出すれば推定可能である。   The pressure controller 400 measures the pressure in the vacuum chamber 110 with the vacuum gauge 130 and drives the opening / closing mechanism of the vacuum valve 200 so as to have an opening degree corresponding to the gas flow rate to be discharged to reach the target pressure. Let The pressure control controller 400 is also called an APC (Adaptive Pressure Control) controller. The discharged gas flow rate can be estimated by detecting the opening degree of the vacuum valve 200.

図３に示すように、圧力制御コントローラ４００は、流入ガス流量推定部４１０、補正部４２０、開度計算部４３０、モータ制御部４４０、コンダクタンステーブル作成部４５０、及び圧力ゲイン計算部４６０などを有する。   As shown in FIG. 3, the pressure controller 400 includes an inflow gas flow rate estimation unit 410, a correction unit 420, an opening degree calculation unit 430, a motor control unit 440, a conductance table creation unit 450, a pressure gain calculation unit 460, and the like. .

流入ガス流量推定部４１０は、まず、真空バルブ２００の開度を検出し、真空バルブ２００から排出されるガス流量を推定する。そして、推定された排出ガス流量に基づいて仮想の真空チャンバ１１０内の圧力を計算し、実際に真空計１３０で計測された真空チャンバ１１０内の圧力との差分から、真空バルブ２００に流入するガス流量を推定する。   The inflow gas flow rate estimation unit 410 first detects the opening degree of the vacuum valve 200 and estimates the gas flow rate discharged from the vacuum valve 200. Then, the pressure in the virtual vacuum chamber 110 is calculated based on the estimated exhaust gas flow rate, and the gas flowing into the vacuum valve 200 from the difference from the pressure in the vacuum chamber 110 actually measured by the vacuum gauge 130. Estimate the flow rate.

補正部４２０は、まず、目標の圧力として設定された圧力指示値を一次遅れフィルタに通した圧力値と、真空計１３０の計測値に一次遅れフィルタを介してノイズを除去した圧力値とから、圧力偏差を求める。そして、ＰＩＤ制御により圧力偏差に基づいて排出ガス流量を得るための補正値を算出する。   First, the correction unit 420 is based on the pressure value obtained by passing the pressure indication value set as the target pressure through the first-order lag filter and the pressure value obtained by removing noise from the measured value of the vacuum gauge 130 via the first-order lag filter. Find the pressure deviation. Then, a correction value for obtaining the exhaust gas flow rate is calculated based on the pressure deviation by PID control.

開度計算部４３０は、まず、流入ガス流量推定部４１０で推定された流入ガス流量に、補正部４２０で算出された補正値を適用したものを、排出ガス流量として設定する。そして、設定された排出ガス流量においてコンダクタンスを計算することにより、圧力指示値にするための真空バルブ２００の開度を算出する。   First, the opening calculation unit 430 sets, as the exhaust gas flow rate, a value obtained by applying the correction value calculated by the correction unit 420 to the inflow gas flow rate estimated by the inflow gas flow rate estimation unit 410. Then, by calculating the conductance at the set exhaust gas flow rate, the opening degree of the vacuum valve 200 for obtaining the pressure instruction value is calculated.

なお、コンダクタンス（ｓｃｃｍ／Ｐａ）は、真空バルブ２００の開度ごとにガスの流れやすさについて、真空チャンバ１１０内の圧力（Ｐａ）に対する排気口１２０から排出されるガス流量（ｓｃｃｍ）で表したものとする。圧力の単位は、ｍＴｏｒｒを使用しても良い。   The conductance (sccm / Pa) is represented by the gas flow rate (sccm) discharged from the exhaust port 120 with respect to the pressure (Pa) in the vacuum chamber 110 for the ease of gas flow for each opening degree of the vacuum valve 200. Shall. The unit of pressure may be mTorr.

モータ制御部４４０は、真空バルブ２００を開度計算部４３０で算出された開度にするために開閉機構のモータを駆動させる。なお、真空バルブ２００の開度は、センサー等で検出し、流入ガス流量推定部４１０にフィードバックされる。また、真空チャンバ１１０内の圧力も、真空計１３０で計測し、流入ガス流量推定部４１０及び補正部４２０にフィードバックされる。   The motor control unit 440 drives the motor of the opening / closing mechanism to set the vacuum valve 200 to the opening calculated by the opening calculation unit 430. The opening degree of the vacuum valve 200 is detected by a sensor or the like and fed back to the inflow gas flow rate estimation unit 410. The pressure in the vacuum chamber 110 is also measured by the vacuum gauge 130 and fed back to the inflow gas flow rate estimation unit 410 and the correction unit 420.

圧力制御コントローラ４００は、開度計算部４３０で所定のガス流量を排出するためにどれくらいのコンダクタンスがあれば良いか算出し、モータ制御部４４０で必要なコンダクタンスに見合う位置（開度）で真空バルブ２００の弁体２１０が停止するように制御する。   The pressure controller 400 calculates how much conductance is required to discharge a predetermined gas flow rate in the opening calculation unit 430, and the motor control unit 440 uses a vacuum valve at a position (opening) corresponding to the required conductance. Control is performed so that 200 valve bodies 210 stop.

ここで、真空チャンバ１１０内を目標の圧力にする際に、真空バルブ２００を全開してからコンダクタンスに見合う安定開度にしていくのではなく、全開まで行かなくともある程度の指示開度まで開いてガスの排気を開始し、そこから真空バルブ２００を安定開度にしていくことで、目標の圧力で維持されるまでの弁体２１０の動作時間を短縮する。   Here, when the inside of the vacuum chamber 110 is set to a target pressure, the vacuum valve 200 is not fully opened and then the stable opening corresponding to the conductance is set. Gas exhaust is started, and the vacuum valve 200 is set to a stable opening from there to shorten the operation time of the valve body 210 until the target pressure is maintained.

図４は、真空バルブの制御方法を実行するにあたり予め計測したチャンバ圧力とバルブ開度を示すグラフである。図５は、真空バルブの制御方法を実行するにあたり予め算出したバルブ開度に対するコンダクタンス特性を示すグラフである。圧力制御コントローラ４００は、コンダクタンス特性をラーニングしておき、真空バルブ２００の制御に用いる。   FIG. 4 is a graph showing the chamber pressure and valve opening measured in advance when the vacuum valve control method is executed. FIG. 5 is a graph showing conductance characteristics with respect to the valve opening calculated in advance in executing the vacuum valve control method. The pressure controller 400 learns the conductance characteristic and uses it for controlling the vacuum valve 200.

図４に示すように、まず、圧力制御コントローラ４００は、予め真空チャンバ１１０内の圧力データ６００とそれを目標の圧力にするための真空バルブ２００の開度データ６１０を時系列で計測する。なお、真空チャンバ１１０内に流入するガス流量は、マスフロー５００及びマスフローコントローラ５１０によって所定の量に制御される。   As shown in FIG. 4, first, the pressure controller 400 measures in advance the pressure data 600 in the vacuum chamber 110 and the opening data 610 of the vacuum valve 200 for setting the pressure data 600 to a target pressure. The flow rate of the gas flowing into the vacuum chamber 110 is controlled to a predetermined amount by the mass flow 500 and the mass flow controller 510.

圧力データ６００を低め（例えば、０Ｐａ）にしたい場合は、開度データ６１０を大きく（例えば、１００％）にすれば良く、圧力データ６００を高め（例えば、１２００Ｐａ以上）にしたい場合は、開度データ６１０を小さく（例えば、２０％以下）にすれば良い。   When the pressure data 600 is to be lowered (for example, 0 Pa), the opening degree data 610 may be increased (for example, 100%). When the pressure data 600 is to be increased (for example, 1200 Pa or more), the opening degree The data 610 may be made small (for example, 20% or less).

図５に示すように、次に、計測した圧力データ６００及び開度データ６１０から、真空バルブ２００の開度に対するガスの流れやすさを表すコンダクタンス６２０を算出する。例えば、開度データ６１０が小さければ（例えば、１０％）、ガスの排出が抑制され、開度データ６１０が大きければ（例えば、１００％）、ガスの排出が促進される。なお、開度データ６１０が５０％よりも大きくなると、コンダクタンス６２０の変化分は小さくなる。   As shown in FIG. 5, next, conductance 620 representing the ease of gas flow with respect to the opening degree of the vacuum valve 200 is calculated from the measured pressure data 600 and opening degree data 610. For example, if the opening degree data 610 is small (for example, 10%), the gas discharge is suppressed, and if the opening degree data 610 is large (for example, 100%), the gas discharge is promoted. Note that when the opening degree data 610 becomes larger than 50%, the change in the conductance 620 becomes smaller.

さらに、算出したコンダクタンス６２０の変化分が、真空バルブ２００の全開状態におけるものから変化していないとみなせる範囲を特定し、その範囲内で設定された閾値６３０における真空バルブ２００の開度データ６１０を指示開度として取得する。   Further, a range in which the calculated change in the conductance 620 can be regarded as not changing from that in the fully opened state of the vacuum valve 200 is specified, and the opening degree data 610 of the vacuum valve 200 at the threshold 630 set within the range is obtained. Obtained as the indicated opening.

例えば、変化していないとみなせる範囲を２％までとしたとき、閾値６３０を開度データ６１０が１００％のときのコンダクタンス６２０から２％下がったところと設定すると、そのときの開度データ６１０は７０％となり、それを指示開度とすれば良い。なお、変化していないとみなせる範囲は５％以内とすることが好ましい。   For example, when the range that can be regarded as not changing is up to 2%, the threshold value 630 is set to be 2% lower than the conductance 620 when the opening degree data 610 is 100%, the opening degree data 610 at that time is 70%, which may be the indicated opening. In addition, it is preferable that the range which can be regarded as not changing is 5% or less.

図６は、真空バルブの制御方法を実行したときの結果を示すグラフであり、（ａ）は指示開度が１００％の場合であり、（ｂ）は指示開度が７０％の場合である。図６に示すように、目標圧力６４０を約７Ｐａとしたときに、真空チャンバ１１０内の圧力値６６０が約１４００Ｐａで、真空バルブ２００の開度値６７０が約２０％の状態から制御する例である。   FIG. 6 is a graph showing the results when the vacuum valve control method is executed. (A) is a case where the indicated opening is 100%, and (b) is a case where the indicated opening is 70%. . As shown in FIG. 6, when the target pressure 640 is about 7 Pa, the pressure value 660 in the vacuum chamber 110 is about 1400 Pa, and the opening value 670 of the vacuum valve 200 is controlled from about 20%. is there.

図６（ａ）のように指示開度６５０による制御をしない場合（すなわち、指示開度６５０ａを１００％にした場合）、まず、圧力値６６０ａを一気に下げるために、圧力制御コントローラ４００は、真空バルブ２００を全開させるよう指示し、開度値６７０ａが１００％まで上がる。   When the control by the command opening 650 is not performed as shown in FIG. 6A (that is, when the command opening 650a is set to 100%), first, the pressure controller 400 is vacuumed to reduce the pressure value 660a all at once. The valve 200 is instructed to be fully opened, and the opening value 670a is increased to 100%.

次に、真空チャンバ１１０から排出されるガス流量が多くなることで圧力値６６０ａが下がっていき、目標圧力６４０を下回ると、圧力制御コントローラ４００は、排出されるガス流量を抑えるために真空バルブ２００を閉じるように指示し、開度値６７０ａが下がっていく。   Next, when the flow rate of gas discharged from the vacuum chamber 110 increases, the pressure value 660a decreases. When the pressure value drops below the target pressure 640, the pressure controller 400 controls the vacuum valve 200 to suppress the discharged gas flow rate. Is closed, and the opening value 670a decreases.

さらに、真空チャンバ１１０から排出されるガス流量を調整することで圧力値６６０ａが目標圧力６４０に近づくと、真空バルブ２００の開度値６７０ａも調整されて徐々に安定する（この例では約４０％）。このとき、目標圧力６４０になるまで約９秒であった。   Further, when the pressure value 660a approaches the target pressure 640 by adjusting the gas flow rate discharged from the vacuum chamber 110, the opening value 670a of the vacuum valve 200 is also adjusted and gradually stabilized (in this example, about 40%). ). At this time, it took about 9 seconds until the target pressure 640 was reached.

図６（ｂ）のように指示開度６５０ｂを７０％にした場合、まず、圧力制御コントローラ４００は、真空バルブ２００の開度値６７０ｂを７０％にするように指示する。なお、真空チャンバ１１０から排出されるガス流量は、指示開度６５０ａが１００％の場合とほとんど変わらないレベルである。   When the instruction opening 650b is set to 70% as shown in FIG. 6B, the pressure controller 400 first instructs the opening value 670b of the vacuum valve 200 to be 70%. The gas flow rate discharged from the vacuum chamber 110 is at a level that is almost the same as when the indicated opening 650a is 100%.

次に、真空チャンバ１１０から排出されるガス流量が多くなることで圧力値６６０ｂが下がっていき、目標圧力６４０を下回ると、圧力制御コントローラ４００は、排出されるガス流量を抑えるために真空バルブ２００を閉じるように指示し、開度値６７０ｂが下がっていく。   Next, when the flow rate of gas discharged from the vacuum chamber 110 increases, the pressure value 660b decreases. When the pressure value drops below the target pressure 640, the pressure controller 400 controls the vacuum valve 200 to suppress the discharged gas flow rate. Is closed, and the opening degree value 670b decreases.

さらに、真空チャンバ１１０から排出されるガス流量を調整することで圧力値６６０ｂが目標圧力６４０に近づくと、真空バルブ２００の開度値６７０ｂも調整されて徐々に安定する。このとき、目標圧力６４０になるまで約８秒であり、指示開度６５０ａが１００％の場合よりも約１秒短縮された。   Further, when the pressure value 660b approaches the target pressure 640 by adjusting the gas flow rate discharged from the vacuum chamber 110, the opening value 670b of the vacuum valve 200 is also adjusted and gradually becomes stable. At this time, it took about 8 seconds to reach the target pressure 640, which was shortened by about 1 second compared with the case where the indicated opening 650a was 100%.

真空バルブ２００の弁体２１０が大きく重量がある場合は、全閉に近い状態から全開に近い状態まで振子状に回動させるのに時間を要するため、目標圧力６４０となる安定開度に移動するまでの時間に影響する。１秒でも短縮されることで、１日に何千回と繰り返し行われる作業の時間を大きく短縮することができる。   When the valve body 210 of the vacuum valve 200 is large and heavy, it takes time to rotate the pendulum from a state close to full close to a state close to full open. Affects the time until. By shortening even one second, it is possible to greatly reduce the time of work repeatedly performed thousands of times a day.

このように、真空チャンバ１１０の圧力制御において、最初に真空バルブ２００を開くときに全開よりも若干閉じた指示開度にすることで、指示開度から全開して指示開度に戻るまでの往復に伴う無駄な動作を省き、真空バルブ２００の開度が安定して目標の圧力が維持されるまでの時間を短縮することができる。   As described above, in the pressure control of the vacuum chamber 110, when the vacuum valve 200 is first opened, the indicated opening is slightly closed rather than fully opened, so that the reciprocation from the indicated opening to the indicated opening is completed. Therefore, it is possible to reduce the time required until the opening of the vacuum valve 200 is stabilized and the target pressure is maintained.

以上、本発明の実施例を述べたが、これらに限定されるものではない。例えば、ペンドロールバルブだけでなく、バタフライバルブ等にも適用することができる。   As mentioned above, although the Example of this invention was described, it is not limited to these. For example, the present invention can be applied not only to a pen roll valve but also to a butterfly valve.

１００：真空システム（圧力制御系）
１１０：真空チャンバ
１２０：排気口
１３０：真空計
２００：真空バルブ（ペンドロールバルブ）
２１０：弁体
２２０：アーム
２３０：回転軸
３００：真空ポンプ
４００：圧力制御コントローラ（ＡＰＣコントローラ）
４１０：流入ガス流量推定部
４２０：補正部
４３０：開度計算部
４４０：モータ制御部
５００：マスフロー
５１０：マスフローコントローラ
５２０：ガス
６００：圧力データ
６１０：開度データ
６２０：コンダクタンス
６３０：閾値
６４０：目標圧力
６５０：指示開度
６６０：圧力値
６７０：開度値100: Vacuum system (pressure control system)
110: Vacuum chamber 120: Exhaust port 130: Vacuum gauge 200: Vacuum valve (pendroll valve)
210: Valve body 220: Arm 230: Rotating shaft 300: Vacuum pump 400: Pressure control controller (APC controller)
410: Inflow gas flow rate estimation unit 420: Correction unit 430: Opening degree calculation unit 440: Motor control unit 500: Mass flow 510: Mass flow controller 520: Gas 600: Pressure data 610: Opening data 620: Conductance 630: Threshold 640: Target Pressure 650: Instruction opening 660: Pressure value 670: Opening value

Claims (4)

真空チャンバの排気口に真空バルブを介して真空ポンプが取り付けられ、前記真空バルブを閉じた状態でガスの供給を開始した前記真空チャンバ内を目標の圧力に制御する真空バルブの制御方法であって、
予め前記真空チャンバ内の圧力データとそれを目標の圧力にするための真空バルブの開度データを時系列で計測する計測ステップと、
計測した前記圧力データ及び前記開度データから、前記真空バルブの開度に対するガスの流れやすさを表すコンダクタンスを算出する算出ステップと、
算出した前記コンダクタンスの変化分が、前記真空バルブの全開状態におけるものから変化していないとみなせる範囲を特定し、その範囲内で設定された閾値における前記真空バルブの指示開度を取得する取得ステップと、を有し、
前記真空チャンバ内を目標の圧力にする際に、前記真空バルブを全開ではなく前記指示開度まで開いてガスの排気を開始し、ガス流量に対する前記真空バルブの安定開度にしていき目標の圧力で維持する、
ことを特徴とする真空バルブの制御方法。A vacuum valve control method, wherein a vacuum pump is attached to an exhaust port of a vacuum chamber via a vacuum valve, and the supply of gas is started with the vacuum valve closed to control the inside of the vacuum chamber to a target pressure. ,
Measuring step for measuring pressure data in the vacuum chamber in advance and opening data of a vacuum valve for making it a target pressure in time series,
From the measured pressure data and the opening data, a calculation step for calculating a conductance representing the ease of gas flow with respect to the opening of the vacuum valve;
An acquisition step of identifying a range in which the calculated change in conductance can be regarded as not changing from that in the fully opened state of the vacuum valve, and acquiring an indicated opening degree of the vacuum valve at a threshold set within the range And having
When the inside of the vacuum chamber is set to a target pressure, the vacuum valve is not fully opened but is opened to the indicated opening, and gas exhaust is started, and the vacuum valve is stably opened with respect to the gas flow rate. Keep in,
A method for controlling a vacuum valve. 前記閾値は、前記コンダクタンスの変化分が５％の範囲内で設定される、
ことを特徴とする請求項１に記載の真空バルブの制御方法。The threshold is set within a range where the change in conductance is 5%.
The method for controlling a vacuum valve according to claim 1. 真空チャンバの排気口に真空バルブを介して真空ポンプが取り付けられ、前記真空バルブを閉じた状態でガスの供給を開始した前記真空チャンバ内を目標の圧力に制御する圧力制御コントローラであって、
予め前記真空チャンバ内の圧力データとそれを目標の圧力にするための真空バルブの開度データを時系列で計測する計測部と、
前記圧力データ及び前記開度データから、前記真空バルブの開度に対するガスの流れやすさを表すコンダクタンスを算出する算出部と、
前記コンダクタンスの変化分が、前記真空バルブの全開状態におけるものから変化していないとみなせる範囲を特定し、その範囲内で設定された閾値における前記真空バルブの指示開度を取得する取得部と、
前記真空チャンバ内を目標の圧力にする際に、前記真空バルブを全開ではなく前記指示開度まで開いてガスの排気を開始し、ガス流量に対する前記真空バルブの安定開度にしていき目標の圧力で維持する制御部と、を有する、
ことを特徴とする真空バルブの圧力制御コントローラ。A pressure control controller for controlling the inside of the vacuum chamber to a target pressure, wherein a vacuum pump is attached to the exhaust port of the vacuum chamber via a vacuum valve, and gas supply is started with the vacuum valve closed;
A measurement unit that measures in advance the pressure data in the vacuum chamber and the opening data of the vacuum valve for making it a target pressure;
From the pressure data and the opening degree data, a calculation unit that calculates conductance representing ease of gas flow with respect to the opening degree of the vacuum valve;
An acquisition unit that specifies a range in which the change in the conductance can be regarded as not changing from that in the fully opened state of the vacuum valve, and acquires the indicated opening degree of the vacuum valve at a threshold set within the range;
When the inside of the vacuum chamber is set to a target pressure, the vacuum valve is not fully opened but is opened to the indicated opening, and gas exhaust is started, and the vacuum valve is stably opened with respect to the gas flow rate. And a control unit to be maintained at
A vacuum valve pressure controller characterized by that. 請求項３に記載の圧力制御コントローラで制御される、
ことを特徴とする真空バルブ。Controlled by the pressure controller according to claim 3.
A vacuum valve characterized by that.
JP2018508257A 2017-10-17 2017-10-17 Vacuum valve control method Active JP6311087B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2017/037453 WO2019077672A1 (en) 2017-10-17 2017-10-17 Vacuum valve control method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6311087B1 JP6311087B1 (en) 2018-04-11
JPWO2019077672A1 true JPWO2019077672A1 (en) 2019-11-21

Family

ID=61901868

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018508257A Active JP6311087B1 (en) 2017-10-17 2017-10-17 Vacuum valve control method

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6311087B1 (en)
KR (1) KR102277953B1 (en)
WO (1) WO2019077672A1 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110543194B (en) * 2019-06-11 2022-09-16 北京北方华创微电子装备有限公司 Pressure control device and semiconductor device
JP2022084409A (en) * 2020-11-26 2022-06-07 株式会社島津製作所 Vacuum valve and estimation system
CN113741571B (en) * 2021-09-09 2023-08-25 北京卫星环境工程研究所 Pressure control system for covering normal pressure to high vacuum
KR102381679B1 (en) * 2021-09-13 2022-04-01 주식회사 씨맵 Auto pressure control vacuum plasma system
CN114415747B (en) * 2021-12-21 2023-10-27 成都中科唯实仪器有限责任公司 Pressure regulating method of vacuum regulating valve
CN115826636B (en) * 2023-02-16 2023-04-18 广州志橙半导体有限公司 Pressure control method and system of CVD (chemical vapor deposition) equipment
CN117646198B (en) * 2024-01-30 2024-04-23 浙江大学 Automatic control method and system for pressure of atomic-level-precision CVD equipment

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5111519B1 (en) 1969-01-18 1976-04-12
JP3606754B2 (en) * 1998-11-27 2005-01-05 シーケーディ株式会社 Vacuum pressure control valve
CN100454200C (en) * 2003-06-09 2009-01-21 喜开理株式会社 Relative pressure control system and relative flow control system
US8316879B2 (en) * 2007-12-05 2012-11-27 Hitachi Zosen Corporation Method and device for controlling pressure of vacuum container
JP5424721B2 (en) 2009-06-02 2014-02-26 日立造船株式会社 Vacuum vessel simulation equipment

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200031161A (en) 2020-03-23
WO2019077672A1 (en) 2019-04-25
KR102277953B1 (en) 2021-07-16
JP6311087B1 (en) 2018-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6311087B1 (en) Vacuum valve control method
US7438534B2 (en) Wide range pressure control using turbo pump
US7253107B2 (en) Pressure control system
JP5111519B2 (en) Vacuum container pressure control method and pressure control apparatus
US7155319B2 (en) Closed loop control on liquid delivery system ECP slim cell
JP6678489B2 (en) Substrate processing equipment
US10113235B2 (en) Source gas supply unit, film forming apparatus and source gas supply method
US9777377B2 (en) Film forming method and film forming device
KR102263899B1 (en) Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device
JP5943999B2 (en) Method and apparatus for processing a substrate using model-based control
JP7168329B2 (en) Optimized pressure regulation with vacuum valve for vacuum valve
CN112074941A (en) Virtual sensor for spatially resolved wafer temperature control
JP2019104974A (en) Substrate processing method, memory medium, and raw material gas supply apparatus
JP2010118605A (en) Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and temperature controlling method
US9880569B2 (en) Pressure control method for process chamber and pressure control device for process chamber
JP2016027592A (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
JP2008248395A (en) Plasma treating apparatus and pressure control method of plasma treating apparatus
US11835974B2 (en) Pressure regulated flow controller
TWI749652B (en) System and storage medium for determining cleaning process endpoint
JP2023000280A (en) Temperature correction information calculation apparatus, semiconductor manufacturing apparatus, program, and temperature correction information calculation method
US10606288B2 (en) Pressure control method for process chamber and pressure control device for process chamber
US20220384178A1 (en) Etching method and etching apparatus
TWI837124B (en) Virtual sensor for spatially resolved wafer temperature control
JP2022158087A (en) Gas supply apparatus, gas supply method, and substrate treatment apparatus
JP2022187915A (en) Temperature correction information calculation device, semiconductor manufacturing device, program, temperature correction information calculation method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180215

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20180215

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20180306

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180313

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180319

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6311087

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250