JPWO2019027045A1 - Hardened film forming composition, alignment material and retardation material - Google Patents

Hardened film forming composition, alignment material and retardation material Download PDF

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Abstract

【課題】良好な液晶配向性を示し、かつ液晶層との密着性に優れる配向材を提供するための硬化膜形成組成物を提供すること。【解決手段】(A)エポキシ基を有するポリマーと重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体との反応生成物及び(B)架橋剤を含有する硬化膜形成組成物、並びにそれから得られる硬化膜、配向材、及び位相差材。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cured film forming composition for providing an alignment material showing good liquid crystal orientation and excellent adhesion to a liquid crystal layer. SOLUTION: A cured film-forming composition containing (A) a reaction product of a polymer having an epoxy group and a cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond and (B) a cross-linking agent, and obtained from the same. Hardened film, alignment material, and retardation material. [Selection diagram] None

Description

本発明は液晶分子を配向させる硬化膜形成組成物、配向材および位相差材に関する。特に本発明は、円偏光メガネ方式の3Dディスプレイに用いられるパターニングされた位相差材や、有機ELディスプレイの反射防止膜として使用される円偏光板に用いられる位相差材を作製するのに有用な硬化膜形成組成物、配向材および位相差材に関する。 The present invention relates to a cured film forming composition, an alignment material and a retardation material for aligning liquid crystal molecules. In particular, the present invention is useful for producing a patterned retardation material used for a circularly polarized glasses type 3D display and a retardation material used for a circular polarizing plate used as an antireflection film for an organic EL display. The present invention relates to a cured film forming composition, an alignment material and a retardation material.

円偏光メガネ方式の3Dディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる2種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。 In the case of a circularly polarized glasses type 3D display, a retardation material is usually arranged on a display element such as a liquid crystal panel that forms an image. In this retardation material, a plurality of two types of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged to form a patterned retardation material. Hereinafter, in the present specification, a retardation material patterned so as to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics is referred to as a patterned retardation material.

パターン化位相差材は、例えば、特許文献1に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られている光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる2種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる2種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜の上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。 The patterned retardation material can be produced, for example, by optically patterning a retardation material made of a polymerizable liquid crystal, as disclosed in Patent Document 1. Optical patterning of a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal utilizes a photoalignment technique known for forming an alignment material for a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-oriented material is provided on a substrate, and two types of polarized light having different polarization directions are irradiated on the coating film. Then, a photoalignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions having different orientation control directions of the liquid crystal are formed. A solution-like retardation material containing a polymerizable liquid crystal is applied onto the photoalignment film to realize the orientation of the polymerizable liquid crystal. Then, the oriented polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.

有機ELディスプレイの反射防止膜は、直線偏光板、1/4波長位相差板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く1/4波長位相差板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、1/4波長位相差板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。 The antireflection film of the organic EL display is composed of a linear polarizing plate and a 1/4 wavelength retardation plate, and the external light directed to the panel surface of the image display panel is converted into linearly polarized light by the linear polarizing plate, followed by 1/4 wavelength. It is converted to circularly polarized light by the retardation plate. Here, the external light due to this circular polarization is reflected by the surface of the image display panel or the like, but the rotation direction of the polarized surface is reversed during this reflection. As a result, the reflected light is converted from the 1/4 wavelength retardation plate into linearly polarized light in the direction shaded by the linear polarizing plate, and then shielded by the subsequent linear polarizing plate, which is the opposite of the light reflected at the time of arrival. As a result, the emission to the outside is remarkably suppressed.

この1/4波長位相差板に関して、特許文献2には、1/2波長板、1/4波長板を組み合わせて1/4波長位相差板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性による液晶材料を使用して逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。 Regarding this 1/4 wavelength retardation plate, Patent Document 2 describes that the optical film has reverse dispersion characteristics by forming a 1/4 wavelength retardation plate by combining a 1/2 wavelength plate and a 1/4 wavelength plate. The method of constructing by is proposed. In the case of this method, in a wide wavelength band used for displaying a color image, a liquid crystal material having a positive dispersion characteristic can be used to form an optical film having a reverse dispersion characteristic.

また近年、この位相差層に適用可能な液晶材料として、逆分散特性を備えるものが提案されている(特許文献3、4)。このような逆分散特性の液晶材料によれば、1/2波長板、1/4波長板を組み合わせて2層の位相差層により1/4波長位相差板を構成する代わりに、位相差層を単層により構成して逆分散特性を確保することができ、これにより広い波長帯域において所望の位相差を確保することが可能な光学フィルムを簡易な構成により実現することができる。 Further, in recent years, as a liquid crystal material applicable to this retardation layer, a material having a reverse dispersion characteristic has been proposed (Patent Documents 3 and 4). According to the liquid crystal material having such a reverse dispersion characteristic, instead of forming the 1/4 wavelength retardation plate by combining the 1/2 wavelength plate and the 1/4 wavelength plate to form the 1/4 wavelength retardation plate by the two retardation layers, the retardation layer Can be configured with a single layer to ensure inverse dispersion characteristics, whereby an optical film capable of securing a desired phase difference in a wide wavelength band can be realized with a simple configuration.

液晶を配向させるためには配向層が用いられる。配向層の形成方法としては、例えばラビング法や光配向法が知られており、光配向法はラビング法の問題点である静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができる点で有用である。 An alignment layer is used to orient the liquid crystal. For example, a rubbing method and a photo-alignment method are known as methods for forming an alignment layer. The photo-alignment method does not generate static electricity or dust, which is a problem of the rubbing method, and can quantitatively control the orientation process. Is useful in.

光配向法を用いた配向材形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光UV照射することにより、液晶の配向を制御する性能(以下、液晶配向性とも言う。)を示すことが報告されている(特許文献5〜特許文献7を参照。)。 In the formation of an alignment material using the photo-alignment method, acrylic resins and polyimide resins having photodimerization sites such as cinnamoyl groups and chalcone groups in the side chains are known as usable photo-alignment materials. It has been reported that these resins exhibit the ability to control the orientation of liquid crystals (hereinafter, also referred to as liquid crystal orientation) by irradiating with polarized UV (see Patent Documents 5 to 7).

また、配向層には、液晶配向能の他、液晶層との密着性が要求される。例えば、配向層とこの上に形成された液晶層との密着力が不十分な場合、位相差フィルムの製造に含まれる巻き取り工程等において、上記液晶層が剥離してしまうことがある。 In addition to the liquid crystal alignment ability, the alignment layer is required to have adhesion to the liquid crystal layer. For example, if the adhesion between the alignment layer and the liquid crystal layer formed on the alignment layer is insufficient, the liquid crystal layer may be peeled off in the winding step or the like included in the production of the retardation film.

特開2005−49865号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-49965 特開平10−68816号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-68816 米国特許第8119026号明細書U.S. Pat. No. 8119026 特開2009−179563号公報JP-A-2009-179563 特許第3611342号公報Japanese Patent No. 361342 特開2009−058584号公報JP-A-2009-058584 特表2001−517719号公報Special Table 2001-517719

本発明の目的は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、良好な液晶配向性を示し、かつ液晶層との密着性に優れる配向材を提供するための硬化膜形成組成物を提供することである。 An object of the present invention has been made based on the above findings and examination results. That is, an object of the present invention is to provide a cured film-forming composition for providing an alignment material that exhibits good liquid crystal orientation and has excellent adhesion to a liquid crystal layer.

本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。 Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the description below.

本発明者らは上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、(A)エポキシ基を有するポリマーと重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体との反応生成物、(B)架橋剤をベースとする硬化膜形成組成物を選択することにより、良好な液晶配向性を示し、かつ液晶層との密着性に優れる硬化膜を形成できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have obtained (A) a reaction product of a polymer having an epoxy group and a cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond, (B). We have found that by selecting a cured film-forming composition based on a cross-linking agent, it is possible to form a cured film showing good liquid crystal orientation and excellent adhesion to the liquid crystal layer, and completed the present invention.

すなわち、本発明は第1観点として、(A)エポキシ基を有するポリマーと重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体との反応生成物及び(B)架橋剤を含有する硬化膜形成組成物に関する。 That is, as a first aspect of the present invention, a cured film-forming composition containing (A) a reaction product of a polymer having an epoxy group and a cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond, and (B) a cross-linking agent. Regarding things.

第2観点として、上記重合性二重結合を含む基が、(メタ)アクリロイル基である第1観点に記載の硬化膜形成組成物に関する。 As a second aspect, the cured film-forming composition according to the first aspect, wherein the group containing the polymerizable double bond is a (meth) acryloyl group.

第3観点として、上記重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体が、下記式(1)で表される化合物である第1観点または第2観点に記載の硬化膜形成組成物に関する。

Figure 2019027045
式(1)中、AとAはそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表し、
は下記式(c−2)
Figure 2019027045
(式(c−2)中、破線は結合手を表し、R101は炭素数1〜30のアルキレン基を表し、このアルキレン基の1つ若しくは複数の水素原子は、フッ素原子又は有機基で置き換えられていてもよい。また、R101中の−CHCH−は−CH=CH−に置き換えられていてもよく、さらに、次に挙げるいずれかの基が互いに隣り合わない場合において、−O−、−NHCO−、−CONH−、−COO−、−OCO−、−NH−、−NHCONH−及び−CO−からなる群から選ばれる基に置き換えられていてもよく、Mは水素原子又はメチル基を表す。)で表される基を表し、
は2価の芳香族基、2価の脂環族基、2価の複素環式基または2価の縮合環式基を表し、
は単結合、酸素原子、−COO−、−OCO−、−CH=CHCOO−または−OCOCH=CH−を表し、
〜Rはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のハロアルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる置換基を表し、
また、R、R及びR又はR、R及びRは一緒になって芳香族基を形成してもよく、
nは0〜3の整数である。)As a third aspect, the cured film-forming composition according to the first aspect or the second aspect, wherein the cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond is a compound represented by the following formula (1).
Figure 2019027045
In formula (1), A 1 and A 2 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 1 is the following formula (c-2)
Figure 2019027045
(In the formula (c-2), the broken line represents a bond, R 101 represents an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and one or more hydrogen atoms of the alkylene group are replaced with a fluorine atom or an organic group. Further, -CH 2 CH 2- in R 101 may be replaced with -CH = CH-, and further, when any of the following groups is not adjacent to each other,- It may be replaced with a group selected from the group consisting of O-, -NHCO-, -CONH-, -COO-, -OCO-, -NH-, -NHCONH- and -CO-, where M 1 is a hydrogen atom. Or represents a group represented by a methyl group.)
R 2 represents a divalent aromatic group, a divalent alicyclic group, a divalent heterocyclic group or a divalent fused ring group.
R 3 represents a single bond, an oxygen atom, -COO-, -OCO-, -CH = CHCOO- or -OCOCH = CH-
R 4 to R 7 are independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Represents a substituent selected from the group consisting of groups, cyano groups, and nitro groups.
In addition, R 2 , R 3 and R 4 or R 2 , R 3 and R 6 may be combined to form an aromatic group.
n is an integer from 0 to 3. )

第4観点として、(B)成分の架橋剤がメチロール基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤である、第1観点乃至第3観点のうち何れか一に記載の硬化膜形成組成物に関する。
第5観点として、(C)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有するポリマーをさらに含有する第1観点乃至第4観点のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物に関する。
第6観点として、(D)架橋触媒をさらに含有する第1観点乃至第5観点のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物に関する。
第7観点として、(E)1つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基A又は該基Aと反応する少なくとも1つの基とを有する化合物を含有する第1観点乃至第6観点のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物に関する。
第8観点として、(A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分を含有する第1観点乃至第7観点のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物に関する。
第9観点として、(A)成分及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1質量部〜400質量部の(C)成分を含有する第5観点乃至第8観点のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物に関する。
第10観点として、(A)成分及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して0.01質量部〜20質量部の(D)成分を含有する第6観点乃至第9観点のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物に関する。
第11観点として、(A)成分及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1質量部〜100質量部の(E)成分を含有する第7観点乃至第10観点のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物に関する。
As a fourth aspect, the cured film-forming composition according to any one of the first to third aspects, wherein the crosslinking agent of the component (B) is a crosslinking agent having a methylol group or an alkoxymethyl group.
As a fifth aspect, among the first to fourth aspects, which further contains a polymer having at least one group selected from the group consisting of (C) hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino group, and alkoxysilyl group. The cured film forming composition according to any one item.
As a sixth aspect, the cured film-forming composition according to any one of the first to fifth aspects, which further contains (D) a crosslinking catalyst.
As a seventh aspect, (E) reacts with at least one group A selected from the group consisting of one or more polymerizable groups and a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group, or the group A. The cured film-forming composition according to any one of the first to sixth aspects, which contains a compound having at least one group.
As the eighth aspect, the cured film formation according to any one of the first to seventh aspects containing 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A). Regarding the composition.
As the ninth viewpoint, the fifth to eighth viewpoints containing 1 part by mass to 400 parts by mass of the component (C) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (A) and the component (B). The cured film forming composition according to any one item.
As a tenth viewpoint, the sixth to ninth viewpoints containing 0.01 part by mass to 20 parts by mass of the component (D) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (A) and the component (B). The cured film forming composition according to any one of the viewpoints.
As the eleventh viewpoint, the seventh to tenth viewpoints containing 1 part by mass to 100 parts by mass of the component (E) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (A) and the component (B). The cured film forming composition according to any one item.

第12観点として、第1観点乃至第11観点のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られることを特徴とする硬化膜に関する。 As a twelfth aspect, the present invention relates to a cured film obtained from the cured film forming composition according to any one of the first to eleventh viewpoints.

第13観点として、第1観点乃至第11観点のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られることを特徴とする配向材に関する。 As a thirteenth viewpoint, the present invention relates to an alignment material obtained from the cured film forming composition according to any one of the first to eleventh viewpoints.

第14観点として、第1観点乃至第11観点のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材に関する。 As a fourteenth aspect, the present invention relates to a retardation material, which is formed by using a cured film obtained from the cured film forming composition according to any one of the first to eleventh viewpoints.

本発明によれば、良好な液晶配向性を示し、かつ液晶層との密着性に優れる硬化膜と、その形成に好適な硬化膜形成組成物を提供することができる。本発明によれば、液晶配向性と光透過性に優れた配向材を提供することができる。また、本発明によれば、高精度な光学パターニングが可能な位相差材を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a cured film showing good liquid crystal orientation and excellent adhesion to a liquid crystal layer, and a cured film forming composition suitable for forming the cured film. According to the present invention, it is possible to provide an alignment material having excellent liquid crystal orientation and light transmission. Further, according to the present invention, it is possible to provide a retardation material capable of high-precision optical patterning.

<硬化膜形成組成物>
本発明の硬化膜形成組成物は、(A)エポキシ基を有するポリマーと重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体との反応生成物、及び(B)架橋剤を含有する。本発明の硬化膜形成組成物は、上記(A)成分及び(B)成分に加えて、さらに、(C)成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有するポリマーを含有することもできる。さらに、(D)成分として架橋触媒をも含有することができる。さらに(E)成分として1つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基A又は該基Aと反応する少なくとも1つの基とを有する化合物を含有することができる。そして、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
以下、各成分の詳細を説明する。
<Cured film forming composition>
The cured film-forming composition of the present invention contains (A) a reaction product of a polymer having an epoxy group and a cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond, and (B) a cross-linking agent. The cured film-forming composition of the present invention is a group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group as the component (C) in addition to the above components (A) and (B). It can also contain a polymer having at least one group selected from. Furthermore, a cross-linking catalyst can also be contained as the component (D). Further, as the component (E), at least one group A selected from the group consisting of one or more polymerizable groups and a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group, or at least one group that reacts with the group A It can contain a compound having one group. Then, other additives can be contained as long as the effects of the present invention are not impaired.
The details of each component will be described below.

<(A)成分>
本発明の硬化膜形成組成物に含有される(A)成分は、エポキシ基を有するポリマーと重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体との反応生成物である。
<Ingredient (A)>
The component (A) contained in the cured film-forming composition of the present invention is a reaction product of a polymer having an epoxy group and a cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond.

<エポキシ基を有するポリマー>
エポキシ基を有するポリマーは、例えばエポキシ基を有する重合性不飽和化合物の重合体またはエポキシ基を有する重合性不飽和化合物とその他の重合性不飽和化合物との共重合体であることができる。
<Polymer with epoxy group>
The polymer having an epoxy group can be, for example, a polymer of a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group or a copolymer of a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group and another polymerizable unsaturated compound.

エポキシ基を有する重合性不飽和化合物の具体例としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等を挙げることができる。 Specific examples of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, glycidyl α-n-propyl acrylate, glycidyl α-n-butyl acrylate, and acrylic. Acid-3,4-epoxybutyl, methacrylic acid-3,4-epoxybutyl, acrylic acid-6,7-epoxyheptyl, methacrylate-6,7-epoxyheptyl, α-ethylacrylic acid-6,7-epoxy Heptyl, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether and the like can be mentioned.

その他の重合性不飽和化合物としては、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物類、マレイミド化合物類、不飽和芳香族化合物、共役ジエン系化合物、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、これら以外の重合性不飽和化合物を挙げることができる。 Other polymerizable unsaturated compounds include (meth) acrylic acid alkyl esters, (meth) acrylic acid cyclic alkyl esters, methacrylate aryl esters, acrylic acid aryl esters, unsaturated dicarboxylic acid diesters, bicyclounsaturated compounds, and maleimides. Examples thereof include compounds, unsaturated aromatic compounds, conjugated diene compounds, unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acid anhydrides, and other polymerizable unsaturated compounds.

これらの具体例としては、メタクリル酸アルキルエステルとして、例えばヒドロキシメチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、2−メタクリロキシエチルグリコサイド、4−ヒドロキシフェニルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、n−ラウリルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、n−ステアリルメタクリレート等;アクリル酸アルキルエステルとして、例えばメチルアクリレート、イソプロピルアクリレート等;メタクリル酸環状アルキルエステルとして、例えばシクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルメタクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート、コレスタニルメタクリレート等;アクリル酸環状アルキルエステルとして、例えばシクロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート、コレスタニルアクリレート等;メタクリル酸アリールエステルとして、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等;アクリル酸アリールエステルとして、例えばフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等;不飽和ジカルボン酸ジエステルとして、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等;ビシクロ不飽和化合物類として、例えばビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシメチル−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等;マレイミド化合物類として、例えばフェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(9−アクリジニル)マレイミド等;不飽和芳香族化合物として、例えばスチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン等;共役ジエン系化合物として、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等;不飽和モノカルボン酸として、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等;不飽和ジカルボン酸として、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等;不飽和ジカルボン酸無水物として、上記不飽和ジカルボン酸の各無水物;上記以外の重合性不飽和化合物として、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等をそれぞれ挙げることができる。Specific examples of these include alkyl methacrylate esters such as hydroxymethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, 2-. Methacryloxyethyl glycoside, 4-hydroxyphenyl methacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl methacrylate, tridecyl methacrylate, n-stearyl methacrylate Etc .; as acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate and isopropyl acrylate; as methacrylate cyclic alkyl esters such as cyclohexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8- Ilmethacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yloxyethyl methacrylate, isobolonyl methacrylate, cholestanyl methacrylate, etc .; as the acrylic acid cyclic alkyl ester, for example, cyclohexyl acrylate, 2-methylcyclohexyl Esters, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yloxyethyl acrylate, isobolonyl acrylate, choles Tanyl acrylate and the like; phenyl methacrylate, benzyl methacrylate and the like as methacrylic acid aryl esters; acrylic acid aryl esters such as phenyl acrylate and benzyl acrylate; Etc; Examples of bicyclounsaturated compounds include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2. 1] Hept-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2] .2.1] Hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] Hept- 2-ene, 5- (2'-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6- Di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (2'-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5 -Methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2] .1] Hept-2-ene and the like; examples of maleimide compounds include phenylmaleimide, cyclohexylmaleimide, benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidebenzoate, N-succinimidyl-4-maleimidebutyrate, N-succinimidyl-6-. Maleimide caproate, N-succinimidyl-3-maleimide propionate, N- (9-acrydinyl) maleimide, etc .; as unsaturated aromatic compounds, for example, styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene , Vinyltoluene, p-methoxystyrene, etc .; as conjugated diene compounds, 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, etc.; as unsaturated monocarboxylic acids, for example, acrylic acid, methacrylic acid, etc. , Crotonic acid, etc .; as unsaturated dicarboxylic acids, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, etc .; as unsaturated dicarboxylic acid anhydrides, each of the unsaturated dicarboxylic acid anhydrides; Examples of unsaturated compounds include acrylonitrile, maleimide, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate and the like.

エポキシ基を有する重合体におけるエポキシ基を有する重合性不飽和化合物の共重合割合は、好ましくは30質量%以上であり、より好ましくは50質量%以上である。 The copolymerization ratio of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group in the polymer having an epoxy group is preferably 30% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more.

エポキシ基を有する重合体の合成は、好ましくは溶媒中、適当な重合開始剤の存在下における公知のラジカル重合法により行うことができる。 The synthesis of the polymer having an epoxy group can be carried out by a known radical polymerization method preferably in a solvent in the presence of a suitable polymerization initiator.

エポキシ基を有する重合体としては、市販品を使用してもよい。かかる市販品としては、例えばEHPE3150、EHPE3150CE(以上、(株)ダイセル(旧 ダイセル化学工業(株))製)、UG−4010、UG−4035、UG−4040、UG−4070(以上、東亜合成(株)製ALUFONシリーズ)、ECN−1299(旭化成(株)製)、DEN431、DEN438(以上、ダウケミカル社製)、jER−152(三菱ケミカル(株)(旧 ジャパンエポキシレジン(株))製)、エピクロンN−660、N−665、N−670、N−673、N−695、N−740、N−770、N−775(以上、DIC(株)(旧 大日本インキ化学工業(株))製)、EOCN−1020、EOCN−102S、EOCN−104S(以上、日本化薬(株)製)などが挙げられる。 As the polymer having an epoxy group, a commercially available product may be used. Examples of such commercially available products include EHPE3150, EHPE3150CE (above, manufactured by DIC CORPORATION (formerly DIC CORPORATION), UG-4010, UG-4035, UG-4040, UG-4070 (above, Toa Synthetic). ALUFON series manufactured by ALUFON series), ECN-1299 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), DEN431, DEN438 (all manufactured by Dow Chemical Corporation), jER-152 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (formerly Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)) , Epicron N-660, N-665, N-670, N-673, N-695, N-740, N-770, N-775 (above, DIC Corporation (formerly Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) ), EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-104S (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.

<重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体>
上記重合性二重結合としては、炭素−炭素間の二重結合が好ましい。この炭素−炭素間の二重結合を含む基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アクリルアミド基等が挙げられるが、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
<Cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond>
As the polymerizable double bond, a carbon-carbon double bond is preferable. Examples of the group containing a carbon-carbon double bond include a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an acrylamide group and the like, and a (meth) acryloyl group is preferable.

上記重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体としては、下記式(1)で表される化合物が好ましい。

Figure 2019027045
式(1)中、AとAはそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表し、
は下記式(c−2)
Figure 2019027045
(式(c−2)中、破線は結合手を表し、R101は炭素数1〜30のアルキレン基を表し、このアルキレン基の1つ若しくは複数の水素原子は、フッ素原子又は有機基で置き換えられていてもよい。また、R101中の−CHCH−は−CH=CH−に置き換えられていてもよく、さらに、次に挙げるいずれかの基が互いに隣り合わない場合において、−O−、−NHCO−、−CONH−、−COO−、−OCO−、−NH−、−NHCONH−及び−CO−からなる群から選ばれる基に置き換えられていてもよく、Mは水素原子又はメチル基を表す。)で表される基を表し、
は2価の芳香族基、2価の脂環族基、2価の複素環式基または2価の縮合環式基を表し、
は単結合、酸素原子、−COO−、−OCO−、−CH=CHCOO−または−OCOCH=CH−を表し、
〜Rはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のハロアルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる置換基を表し、
また、R、R及びR又はR、R及びRは一緒になって芳香族基を形成してもよく、
nは0〜3の整数である。)As the cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond, a compound represented by the following formula (1) is preferable.
Figure 2019027045
In formula (1), A 1 and A 2 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 1 is the following formula (c-2)
Figure 2019027045
(In the formula (c-2), the broken line represents a bond, R 101 represents an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and one or more hydrogen atoms of the alkylene group are replaced with a fluorine atom or an organic group. Further, -CH 2 CH 2- in R 101 may be replaced with -CH = CH-, and further, when any of the following groups is not adjacent to each other,- It may be replaced with a group selected from the group consisting of O-, -NHCO-, -CONH-, -COO-, -OCO-, -NH-, -NHCONH- and -CO-, where M 1 is a hydrogen atom. Or represents a group represented by a methyl group.)
R 2 represents a divalent aromatic group, a divalent alicyclic group, a divalent heterocyclic group or a divalent fused ring group.
R 3 represents a single bond, an oxygen atom, -COO-, -OCO-, -CH = CHCOO- or -OCOCH = CH-
R 4 to R 7 are independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Represents a substituent selected from the group consisting of groups, cyano groups, and nitro groups.
In addition, R 2 , R 3 and R 4 or R 2 , R 3 and R 6 may be combined to form an aromatic group.
n is an integer from 0 to 3. )

の2価の芳香族基としては、例えば1,4−フェニレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基、2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−フェニレン基等を;Rの2価の脂環族基としては、1,2−シクロプロピレン基、1,3−シクロブチレン基、1,4−シクロヘキシレン基等を;Rの2価の複素環式基としては、例えば1,4−ピリジレン基、2,5−ピリジレン基、1,4−フラニレン基等を;Rの2価の縮合環式基としては、例えば2,6−ナフチレン基等を、それぞれ挙げることができる。Rとしては1,4−フェニレン基が好ましい。Examples of the divalent aromatic group R 2, for example, 1,4-phenylene group, 2-fluoro-1,4-phenylene group, 3-fluoro-1,4-phenylene group, 2,3,5,6 Tetrafluoro-1,4-phenylene group and the like; as the divalent alicyclic group of R 2 , 1,2-cyclopropylene group, 1,3-cyclobutylene group, 1,4-cyclohexylene group and the like are used. Examples of the divalent heterocyclic group of R 2 include a 1,4-pyridylene group, a 2,5-pyridylene group, a 1,4-furanylene group, and the like; as a divalent fused cyclic group of R 2. For example, 2,6-naphthylene groups and the like can be mentioned respectively. As R 2 is 1,4-phenylene group is preferred.

上記式(1)で表される化合物の好ましい例としては、例えば、下記式M1−1〜M1−5が挙げられる。

Figure 2019027045
(式中、Mは水素原子又はメチル基であり、s1はメチレン基の数を表し、2乃至9の自然数である。)Preferred examples of the compound represented by the above formula (1) include the following formulas M1-1 to M1-5.
Figure 2019027045
(In the formula, M 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and s1 represents the number of methylene groups, which is a natural number of 2 to 9.)

上記式(1)で表される化合物は、有機化学の定法を適宜に組み合わせて合成することができる。 The compound represented by the above formula (1) can be synthesized by appropriately combining conventional methods of organic chemistry.

<エポキシ基を有するポリマーと特定の桂皮酸誘導体の反応>
本発明の液晶配向剤に含有される、エポキシ基を有するポリマーと特定の桂皮酸誘導体との反応生成物は、上記の如きエポキシ基を有するポリマーと特定の桂皮酸誘導体とを、好ましくは触媒の存在下、好ましくは適当な有機溶媒中で反応させることにより合成することができる。
反応に際して使用される桂皮酸誘導体の使用割合は、エポキシ基を有する重合体に含まれるエポキシ基1モルに対して、好ましくは0.01〜1.5モルであり、より好ましくは0.05〜1.3モルであり、さらに好ましくは0.1〜1.1モルである。
ここで使用することのできる有機触媒としては、有機塩基またはエポキシ化合物と酸無水物との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。
<Reaction between a polymer having an epoxy group and a specific cinnamic acid derivative>
The reaction product of the polymer having an epoxy group and the specific cinnamic acid derivative contained in the liquid crystal alignment agent of the present invention is a polymer having an epoxy group as described above and the specific cinnamic acid derivative, preferably a catalyst. It can be synthesized in the presence, preferably by reacting in a suitable organic solvent.
The ratio of the cinnamic acid derivative used in the reaction is preferably 0.01 to 1.5 mol, more preferably 0.05 to 0.05 mol, based on 1 mol of the epoxy group contained in the polymer having an epoxy group. It is 1.3 mol, more preferably 0.1 to 1.1 mol.
As the organic catalyst that can be used here, a compound known as a so-called curing accelerator that promotes the reaction between an organic base or an epoxy compound and an acid anhydride can be used.

上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン;トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミン等を挙げることができる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンが好ましい。 Examples of the organic base include 1-2 secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine, and pyrrol; triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, and the like. Tertiary organic amines such as diazabicycloundecene; quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide can be mentioned. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine; and quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide. preferable.

上記硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミンの如き3級アミン;2−メチルイミダゾール、2−n−ヘプチルイミダゾール、2−n−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニル−4,5−ジ〔(2’−シアノエトキシ)メチル〕イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2’−n−ウンデシルイミダゾリル)エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物の如きイミダゾール化合物;ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニルの如き有機リン化合物;ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、n−ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムo,o−ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレートの如き4級フォスフォニウム塩;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7やその有機酸塩の如きジアザビシクロアルケン;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体の如き有機金属化合物;テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩;三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニルの如きホウ素化合物;塩化亜鉛、塩化第二錫の如き金属ハロゲン化合物;ジシアンジアミドやアミンとエポキシ樹脂との付加物等のアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤;前記イミダゾール化合物、有機リン化合物や4級フォスフォニウム塩等の硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤;アミン塩型潜在性硬化剤促進剤;ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等の潜在性硬化促進剤等を挙げることができる。
これらのうち、好ましくはテトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩である。
Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, cyclohexyldimethylamine and triethanolamine; 2-methylimidazole and 2-n-heptylimidazole. , 2-n-Undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2- Ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 1 -(2-Cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-di (hydroxymethyl) imidazole, 1- (2-) Cyanoethyl) -2-phenyl-4,5-di [(2'-cyanoethoxy) methyl] imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazolium trimerite, 1- (2-cyanoethyl) ) -2-phenylimidazolium trimerite, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazolium trimerite, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1') )] Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-n-undecylimidazolyl) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methyl Imidazolyl- (1')] ethyl-s-triazine, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1') ')] Imidazole compounds such as the isocyanuric acid adduct of ethyl-s-triazine; organic phosphorus compounds such as diphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenyl phosphite; benzyltriphenylphosphonium chloride, tetra-n- Butylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, ethyltrife Nylphosphonium iodide, ethyltriphenylphosphonium acetate, tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithionate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazolate, tetra-n- Tertiary phosphonium salts such as butylphosphonium tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate; 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene Diazabicycloalkenes such as -7 and its organic acid salts; organic metal compounds such as zinc octylate, tin octylate, aluminum acetylacetone complexes; tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, tetra-n -Quaternium ammonium salts such as butylammonium chloride; boron compounds such as boron trifluoride and triphenyl borate; metal halogen compounds such as zinc chloride and ferric chloride; additives such as dicyandiamide and amines with epoxy resins, etc. High melting point dispersion type latent curing accelerator such as amine addition type accelerator; Microcapsule type latent curing acceleration in which the surface of the curing accelerator such as imidazole compound, organic phosphorus compound and quaternary phosphonium salt is coated with a polymer Agents: Amine salt-type latent curing accelerators: Potential curing accelerators such as high-temperature dissociation-type thermal cationic polymerization-type latent curing accelerators such as Lewis acid salt and Brensteadated acid salt.
Of these, quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, and tetra-n-butylammonium chloride are preferable.

触媒の使用割合としては、エポキシ基を有する重合体100質量部に対して、好ましくは100質量部以下であり、より好ましくは0.01〜100質量部、さらに好ましくは0.1〜20質量部である。
上記有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アミド化合物、アルコール化合物等を挙げることができる。これらのうち、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アルコール化合物が原料および生成物の溶解性ならびに生成物の精製のし易さの観点から好ましい。溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の質量が溶液の全質量に占める割合)が、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは5〜50質量%となる量で使用される。
反応温度は、好ましくは0〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。反応時間は、好ましくは0.1〜50時間であり、より好ましくは0.5〜20時間である。
このようにして、エポキシ基を有するポリマーと特定の桂皮酸誘導体との反応生成物を含有する溶液が得られる。この溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、溶液中に含まれる重合体を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離した重合体を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。
The ratio of the catalyst used is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 0.01 to 100 parts by mass, and further preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer having an epoxy group. Is.
Examples of the organic solvent include hydrocarbon compounds, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, amide compounds, alcohol compounds and the like. Of these, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, and alcohol compounds are preferable from the viewpoint of solubility of raw materials and products and ease of purification of products. The solvent is used in an amount such that the solid content concentration (the ratio of the mass of the components other than the solvent in the reaction solution to the total mass of the solution) is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 5 to 50% by mass. Will be done.
The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.
In this way, a solution containing a reaction product of a polymer having an epoxy group and a specific cinnamic acid derivative is obtained. This solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal alignment agent, the polymer contained in the solution may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal alignment agent, or the isolated polymer may be purified. It may be used for preparing a liquid crystal aligning agent.

<(B)成分>
本発明の硬化膜形成組成物における(B)成分は、架橋剤である。
(B)成分である架橋剤は、前記(A)成分の熱架橋可能な官能基と架橋を形成する基、例えばメチロール基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤であることが好ましい。
これらの基を有する化合物としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミンおよびアルコキシメチル化メラミン等のメチロール化合物が挙げられる。
<Ingredient (B)>
The component (B) in the cured film forming composition of the present invention is a cross-linking agent.
The cross-linking agent as the component (B) is preferably a cross-linking agent having a group forming a cross-link with the thermally cross-linkable functional group of the component (A), for example, a methylol group or an alkoxymethyl group.
Examples of the compound having these groups include methylol compounds such as alkoxymethylated glycol uryl, alkoxymethylated benzoguanamine and alkoxymethylated melamine.

アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ブトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ヒドロキシメチル)グリコールウリル、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(ブトキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(メトキシメチル)尿素、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)−4,5−ジヒドロキシ−2−イミダゾリノン、および1,3−ビス(メトキシメチル)−4,5−ジメトキシ−2−イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ(株)(旧 三井サイテック(株))製グリコールウリル化合物(商品名:サイメル(登録商標)1170、パウダーリンク(登録商標)1174)等の化合物、メチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)65)、ブチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)300、U−VAN10S60、U−VAN10R、U−VAN11HV)、DIC(株)(旧 大日本インキ化学工業(株))製尿素/ホルムアルデヒド系樹脂(高縮合型、商品名:ベッカミン(登録商標)J−300S、同P−955、同N)等が挙げられる。 Specific examples of alkoxymethylated glycol uryl include 1,3,4,6-tetrax (methoxymethyl) glycol uryl, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycol uryl, 1,3,4. , 6-Tetrax (hydroxymethyl) glycoluryl, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (methoxymethyl) Examples thereof include urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis (methoxymethyl) -4,5-dimethoxy-2-imidazolinone. As commercially available products, compounds such as glycoluril compounds manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.) (trade name: Cymel (registered trademark) 1170, Powderlink (registered trademark) 1174), methylated urea resin (Product name: UFR (registered trademark) 65), Butylated urea resin (Product name: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), DIC Co., Ltd. (former Dainippon Ink and Chemicals) Examples thereof include urea / formaldehyde-based resins manufactured by Kogyo Co., Ltd. (highly condensed type, trade name: Beccamin (registered trademark) J-300S, P-955, N) and the like.

アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としてはテトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ(株)(旧 三井サイテック(株))製(商品名:サイメル(登録商標)1123)、(株)三和ケミカル製(商品名:ニカラック(登録商標)BX−4000、同BX−37、同BL−60、同BX−55H)等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxymethylated benzoguanamine include tetramethoxymethylbenzoguanamine. As commercial products, Nippon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.) (trade name: Cymel (registered trademark) 1123), Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade name: Nicarac (registered trademark) BX- 4000, BX-37, BL-60, BX-55H) and the like.

アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ(株)(旧 三井サイテック(株))製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:サイメル(登録商標)300、同301、同303、同350)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:マイコート(登録商標)506、同508)、(株)三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MW−30、同MW−22、同MW−11、同MS−001、同MX−002、同MX−730、同MX−750、同MX−035)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MX−45、同MX−410、同MX−302)等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxymethylated melamine include hexamethoxymethylmelamine and the like. Commercially available products include methoxymethyl type melamine compounds manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.) (trade name: Cymel (registered trademark) 300, 301, 303, 350), butoxymethyl type melamine. Compounds (trade name: Mycoat (registered trademark) 506, 508), methoxymethyl type melamine compound manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade name: Nicarac (registered trademark) MW-30, MW-22, MW- 11, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-035), butoxymethyl type melamine compound (trade name: Nicarac (registered trademark) MX-45, MX-410) , MX-302) and the like.

また、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物及びベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第6323310号に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)303等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)1123(以上、日本サイテック・インダストリーズ(株)(旧 三井サイテック(株))製)等が挙げられる。 Further, it may be a compound obtained by condensing such a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group. For example, high molecular weight compounds produced from the melamine and benzoguanamine compounds described in US Pat. No. 6,323,310. Examples of commercially available products of the melamine compound include trade name: Cymel (registered trademark) 303 and the like, and commercially available products of the benzoguanamine compound include trade name: Cymel (registered trademark) 1123 (above, Nippon Cytec Industries Co., Ltd.). ) (Formerly manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.) and the like.

さらに、(B)成分の架橋剤として、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−メトキシメチルメタクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルメタクリルアミド等のヒドロキシメチル基(すなわちメチロール基)またはアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物またはメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーも用いることができる。 Further, as a cross-linking agent for component (B), a hydroxymethyl group (that is, a methylol group) or an alkoxymethyl group such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylate, N-ethoxymethylacrylamide, N-butoxymethylmethacrylate and the like. Polymers made using acrylamide compounds or methacrylic amide compounds substituted with are also available.

そのようなポリマーとしては、例えば、ポリ(N−ブトキシメチルアクリルアミド)、N−ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、N−エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びN−ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと2−ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。 Examples of such a polymer include poly (N-butoxymethylacrylamide), a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, and N-ethoxymethyl. Examples thereof include a copolymer of methacrylamide and benzyl methacrylate, and a copolymer of N-butoxymethyl acrylamide, benzyl methacrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate.

また、そのようなポリマーとして、N−アルコキシメチル基とC=C二重結合とを含む重合性基とを有する重合体を用いることも出来る。 Further, as such a polymer, a polymer having a polymerizable group containing an N-alkoxymethyl group and a C = C double bond can also be used.

C=C二重結合を含む重合性基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。 Examples of the polymerizable group containing a C = C double bond include an acrylic group, a methacryl group, a vinyl group, an allyl group, a maleimide group and the like.

上記のようなポリマーを得る方法は、特に限定されない。一例を挙げれば、予めラジカル重合などの重合方法によって、特定官能基1を有するアクリル重合体を生成する。次いで、この特定官能基1と、末端に不飽和結合を有する化合物(以下、特定化合物と称す。)とを反応させることにより、(B)成分であるポリマーにC=C二重結合を含む重合性基を導入することができる。 The method for obtaining the above-mentioned polymer is not particularly limited. As an example, an acrylic polymer having a specific functional group 1 is produced in advance by a polymerization method such as radical polymerization. Next, by reacting the specific functional group 1 with a compound having an unsaturated bond at the terminal (hereinafter referred to as a specific compound), the polymer as the component (B) is polymerized with a C = C double bond. Sex groups can be introduced.

ここで、特定官能基1とは、カルボキシル基、グリシジル基、ヒドロキシ基、活性水素を有するアミノ基、フェノール性ヒドロキシ基若しくはイソシアネート基などの官能基、または、これらから選ばれる複数種の官能基を言う。 Here, the specific functional group 1 is a functional group such as a carboxyl group, a glycidyl group, a hydroxy group, an amino group having an active hydrogen, a phenolic hydroxy group or an isocyanate group, or a plurality of types of functional groups selected from these. To tell.

上述した反応において、特定官能基1と、特定化合物が有する官能基であって反応に関与する基との好ましい組み合わせは、カルボキシル基とエポキシ基、ヒドロキシ基とイソシアネート基、フェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基、カルボキシル基とイソシアネート基、アミノ基とイソシアネート基、または、ヒドロキシ基と酸クロリドなどである。さらに、より好ましい組み合わせは、カルボキシル基とグリシジルメタクリレート、または、ヒドロキシ基とイソシアネートエチルメタクリレートである。 In the above-mentioned reaction, the preferred combination of the specific functional group 1 and the functional group of the specific compound and participating in the reaction is a carboxyl group and an epoxy group, a hydroxy group and an isocyanate group, and a phenolic hydroxy group and an epoxy group. , A carboxyl group and an isocyanate group, an amino group and an isocyanate group, or a hydroxy group and an acid chloride. Further, a more preferable combination is a carboxyl group and glycidyl methacrylate, or a hydroxy group and isocyanate ethyl methacrylate.

このようなポリマーの重量平均分子量(ポリスチレン換算値)は、1,000〜500,000であり、好ましくは、2,000〜200,000であり、より好ましくは3,000〜150,000であり、更に好ましくは3,000〜50,000である。 The weight average molecular weight (polystyrene equivalent value) of such a polymer is 1,000 to 500,000, preferably 2,000 to 200,000, and more preferably 3,000 to 150,000. , More preferably 3,000 to 50,000.

これらの架橋剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。 These cross-linking agents can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化膜形成組成物における(B)成分の架橋剤の含有量は、(A)成分であるポリマー100質量部に基づいて1質量部〜500質量部であることが好ましく、より好ましくは5質量部〜400質量部である。架橋剤の含有量が過小である場合には、硬化膜形成組成物から得られる硬化膜の溶剤耐性が低下し、液晶配向性が低下する。他方、含有量が過大である場合には液晶配向性および保存安定性が低下することがある。 The content of the cross-linking agent of the component (B) in the cured film forming composition of the present invention is preferably 1 part by mass to 500 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer which is the component (A), and more preferably. It is 5 parts by mass to 400 parts by mass. When the content of the cross-linking agent is too small, the solvent resistance of the cured film obtained from the cured film-forming composition is lowered, and the liquid crystal orientation is lowered. On the other hand, if the content is excessive, the liquid crystal orientation and storage stability may decrease.

<(C)成分>
本発明の硬化膜形成組成物は、(C)成分として、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基(以下、特定官能基2ともいう)を有するポリマーを含有しても良い。
<Component (C)>
The cured film-forming composition of the present invention has at least one group (hereinafter, also referred to as the specific functional group 2) selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group as the component (C). May contain a polymer having (referred to as).

(C)成分であるポリマーとしては、例えば、アクリル重合体、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエステルポリカルボン酸、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、セルロース類(セルロースまたはその誘導体)、フェノールノボラック樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂等の直鎖構造または分岐構造を有するポリマー、シクロデキストリン類等の環状ポリマー等が挙げられる。 Examples of the polymer as the component (C) include acrylic polymer, polyamic acid, polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyester polycarboxylic acid, polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, polyalkyleneimine, and poly. Examples thereof include polymers having a linear structure or a branched structure such as allylamine, celluloses (cellulose or a derivative thereof), phenol novolac resin and melamine formaldehyde resin, and cyclic polymers such as cyclodextrins.

(C)成分であるポリマーとしては、好ましくは、アクリル重合体、ヒドロキシアルキルシクロデキストリン類、セルロース類、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール並びにポリカプロラクトンポリオールが挙げられる。 Preferred examples of the polymer as the component (C) include acrylic polymers, hydroxyalkylcyclodextrins, celluloses, polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, and polycaprolactone polyols.

(C)成分のポリマーの好ましい一例であるアクリル重合体としては、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、ビニル化合物等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体であって、特定官能基2を有するモノマーを含むモノマーまたはその混合物を重合させることにより得られる重合体であればよく、アクリル重合体を構成する高分子の主鎖の骨格および側鎖の種類などについて特に限定されない。 The acrylic polymer which is a preferable example of the polymer of the component (C) is a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as acrylic acid, methacrylic acid, styrene, vinyl compound, and is specified. The polymer may be a polymer obtained by polymerizing a monomer containing a monomer having a functional group 2 or a mixture thereof, and the type of the main chain skeleton and side chains of the polymer constituting the acrylic polymer is not particularly limited.

特定官能基2を有するモノマーとしては、ポリエチレングリコールエステル基を有するモノマー、炭素原子数2〜5のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマー、フェノール性ヒドロキシ基を有するモノマー、カルボキシル基を有するモノマー、アミノ基を有するモノマー、アルコキシシリル基および上記式2で表される基を有するモノマーが挙げられる。 Examples of the monomer having the specific functional group 2 include a monomer having a polyethylene glycol ester group, a monomer having a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, a monomer having a phenolic hydroxy group, a monomer having a carboxyl group, and an amino group. Examples thereof include a monomer having an alkoxysilyl group and a monomer having a group represented by the above formula 2.

上述したポリエチレングリコールエステル基を有するモノマーとしては、H−(OCHCH)n−OHのモノアクリレートまたはモノメタクリレートが挙げられる。そのnの値は2〜50であり、好ましくは2〜10である。Examples of the above-mentioned monomer having a polyethylene glycol ester group include monoacrylate or monomethacrylate of H- (OCH 2 CH 2 ) n-OH. The value of n is 2 to 50, preferably 2 to 10.

上述した炭素原子数2〜5のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレートが挙げられる。 Examples of the above-mentioned monomer having a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate. , 4-Hydroxybutyl methacrylate.

上述したフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシスチレンが挙げられる。 Examples of the above-mentioned monomer having a phenolic hydroxy group include p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, and o-hydroxystyrene.

上述したカルボキシル基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル安息香酸が挙げられる。 Examples of the above-mentioned monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, and vinyl benzoic acid.

上述したアミノ基を側鎖に有するモノマーとしては、例えば、2−アミノエチルアクリレート、2−アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアクリレート及びアミノプロピルメタクリレートが挙げられる。 Examples of the above-mentioned monomer having an amino group in the side chain include 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate and aminopropyl methacrylate.

上述したアルコキシシリル基を側鎖に有するモノマーとしては、例えば、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン及びアリルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the monomer having an alkoxysilyl group in the side chain include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxy. Examples thereof include silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane and allyltriethoxysilane.

また、本実施形態においては、(C)成分の例であるアクリル重合体を合成するに際し、本発明の効果を損なわない限り、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基で表される基のいずれも有さないモノマーを併用することができる。 Further, in the present embodiment, when synthesizing the acrylic polymer which is an example of the component (C), a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group are used as long as the effect of the present invention is not impaired. Monomers that do not have any of the represented groups can be used in combination.

そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。 Specific examples of such monomers include acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic acid anhydrides, styrene compounds and vinyl compounds.

アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−メチル−2−アダマンチルアクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルアクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルアクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。 Examples of the acrylic acid ester compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, and tert-butyl. Acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2- Examples thereof include propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルメタクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルメタクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。 Examples of the methacrylate ester compound include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and tert-butyl. Methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, 2- Examples thereof include propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate and the like.

マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、及びN−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。 Examples of the maleimide compound include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like.

スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。 Examples of the styrene compound include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene and the like.

ビニル化合物としては、例えば、ビニルエーテル、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、及び、プロピルビニルエーテル等が挙げられる。 Examples of the vinyl compound include vinyl ether, methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, propyl vinyl ether and the like.

(C)成分の例であるアクリル重合体を得るために用いる特定官能基2を有するモノマーの使用量は、(C)成分であるアクリル重合体を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、2モル%以上であることが好ましい。特定官能基2を有するモノマーが2モル%よりも過小の場合は、得られる硬化膜の耐溶剤性が不充分となり易い。 The amount of the monomer having a specific functional group 2 used to obtain the acrylic polymer which is an example of the component (C) is based on the total amount of all the monomers used to obtain the acrylic polymer which is the component (C). It is preferably 2 mol% or more. When the monomer having the specific functional group 2 is less than 2 mol%, the solvent resistance of the obtained cured film tends to be insufficient.

(C)成分の例であるアクリル重合体を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定官能基2を有するモノマーを含むモノマーと、所望により特定官能基2を有さないモノマーと、重合開始剤等とを共存させた溶剤中において、50℃〜110℃の温度下で重合反応により得られる。その際、用いられる溶剤は、特定官能基2を有するモノマーと、所望により用いられる特定官能基2を有さないモノマーおよび重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する[溶剤]の項に記載する。 The method for obtaining the acrylic polymer as an example of the component (C) is not particularly limited, but for example, a monomer containing a monomer having a specific functional group 2, a monomer having no specific functional group 2 if desired, and a polymerization initiator. It is obtained by a polymerization reaction at a temperature of 50 ° C. to 110 ° C. in a solvent in which the above is coexisted. At that time, the solvent used is not particularly limited as long as it dissolves a monomer having a specific functional group 2, a monomer having no specific functional group 2 used as desired, a polymerization initiator and the like. Specific examples will be described in the [Solvent] section described later.

以上の方法により得られる(C)成分の例であるアクリル重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態である。 The acrylic polymer, which is an example of the component (C) obtained by the above method, is usually in the state of a solution dissolved in a solvent.

また、上記方法で得られた(C)成分の例であるアクリル重合体の溶液を、攪拌下のジエチルエーテルや水等に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後に、常圧または減圧下で、常温乾燥または加熱乾燥し、(C)成分の例であるアクリル重合体の粉体とすることができる。上述の操作により、(C)成分の例であるアクリル重合体と共存する重合開始剤および未反応のモノマーを除去することができ、その結果、精製した(C)成分の例であるアクリル重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解させ、上述の操作を繰り返し行えば良い。 Further, the solution of the acrylic polymer, which is an example of the component (C) obtained by the above method, is put into diethyl ether or water under stirring to reprecipitate, and the generated precipitate is filtered and washed, and then the precipitate is filtered and washed. It can be dried at room temperature or heat-dried under normal pressure or reduced pressure to obtain a powder of an acrylic polymer as an example of the component (C). By the above operation, the polymerization initiator and the unreacted monomer coexisting with the acrylic polymer which is an example of the component (C) can be removed, and as a result, the acrylic polymer which is an example of the purified component (C) can be removed. Powder is obtained. If the powder cannot be sufficiently purified by one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.

(C)成分の好ましい例であるアクリル重合体は、重量平均分子量が3000〜200000であることが好ましく、4000〜150000であることがより好ましく、5000〜100000であることがさらに好ましい。重量平均分子量が200000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が3000未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性が低下する場合がある。尚、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準資料としてポリスチレンを用いて得られる値である。以下、本明細書においても同様とする。 The acrylic polymer, which is a preferable example of the component (C), preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000, more preferably 4,000 to 150,000, and even more preferably 5,000 to 100,000. If the weight average molecular weight is more than 200,000 and is excessive, the solubility in a solvent may be lowered and the handleability may be lowered, and if the weight average molecular weight is less than 3000 and too small, curing is insufficient at the time of thermosetting. In some cases, the solvent resistance may decrease. The weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard material. The same shall apply hereinafter in this specification.

次に、(C)成分の好ましい一例であるポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロピレングリコールやビスフェノールA、トリエチレングリコール、ソルビトール等の多価アルコールにプロピレンオキサイドやポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等を付加したものが挙げられる。ポリエーテルポリオールの具体例としてはADEKA製アデカポリエーテルPシリーズ、Gシリーズ、EDPシリーズ、BPXシリーズ、FCシリーズ、CMシリーズ、日油製ユニオックス(登録商標)HC−40、HC−60、ST−30E、ST−40E、G−450、G−750、ユニオール(登録商標)TG−330、TG−1000、TG−3000、TG−4000、HS−1600D、DA−400、DA−700、DB−400、ノニオン(登録商標)LT−221、ST−221、OT−221等が挙げられる。 Next, examples of the polyether polyol which is a preferable example of the component (C) include polyhydric alcohols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, propylene glycol and bisphenol A, triethylene glycol and sorbitol, and propylene oxide, polyethylene glycol and polypropylene glycol. Can be mentioned with the addition of. Specific examples of the polyether polyol include ADEKA's ADEKA polyether P series, G series, EDP series, BPX series, FC series, CM series, NOF's Uniox (registered trademark) HC-40, HC-60, ST- 30E, ST-40E, G-450, G-750, Unior® TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, DB-400 , Nonion (registered trademark) LT-221, ST-221, OT-221 and the like.

(C)成分の好ましい一例であるポリエステルポリオールとしては、アジピン酸、セバシン酸、イソフタル酸等の多価カルボン酸にエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジオールを反応させたものが挙げられる。ポリエステルポリオールの具体例としてはDIC製ポリライト(登録商標)OD−X−286、OD−X−102、OD−X−355、OD−X−2330、OD−X−240、OD−X−668、OD−X−2108、OD−X−2376、OD−X−2044、OD−X−688、OD−X−2068、OD−X−2547、OD−X−2420、OD−X−2523、OD−X−2555、OD−X−2560、クラレ製ポリオールP−510、P−1010、P−2010、P−3010、P−4010、P−5010、P−6010、F−510、F−1010、F−2010、F−3010、P−1011、P−2011、P−2013、P−2030、N−2010、PNNA−2016等が挙げられる。 As a polyester polyol which is a preferable example of the component (C), a polyvalent carboxylic acid such as adipic acid, sebacic acid and isophthalic acid is reacted with a diol such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, polyethylene glycol and polypropylene glycol. Things can be mentioned. Specific examples of the polyester polyol include Polylite (registered trademark) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X-668, manufactured by DIC. OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523, OD- X-2555, OD-X-2560, Polyesters made by Kuraray P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F-510, F-1010, F −2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, PNNA-2016 and the like can be mentioned.

(C)成分の好ましい一例であるポリカプロラクトンポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールを開始剤としてε−カプロラクトンを開環重合させたものが挙げられる。ポリカプロラクトンポリオールの具体例としてはDIC製ポリライト(登録商標)OD−X−2155、OD−X−640、OD−X−2568、ダイセル製プラクセル(登録商標)205、L205AL、205U、208、210、212、L212AL、220、230、240、303、305、308、312、320等が挙げられる。 Examples of the polycaprolactone polyol which is a preferable example of the component (C) include ring-opening polymerization of ε-caprolactone using a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol as an initiator. Specific examples of polycaprolactone polyols include DIC Polylite® OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568, Daicel Praxel® 205, L205AL, 205U, 208, 210, Examples thereof include 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312 and 320.

(C)成分の好ましい一例であるポリカーボネートポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールと炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル、エチレンカーボネート等を反応させたものが挙げられる。ポリカーボネートポリオールの具体例としてはダイセル製プラクセル(登録商標)CD205、CD205PL、CD210、CD220、クラレ製のC−590、C−1050、C−2050、C−2090、C−3090等が挙げられる。 As a preferable example of the component (C), a polycarbonate polyol obtained by reacting a multivalent alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol with diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate or the like can be mentioned. Specific examples of the polycarbonate polyol include Daicel's Praxel (registered trademark) CD205, CD205PL, CD210, CD220, and Kuraray's C-590, C-1050, C-2050, C-2090, and C-3090.

(C)成分の好ましい一例であるセルロース類としては、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルエチルセルロース等のヒドロキシアルキルアルキルセルロース類およびセルロース等が挙げられ、例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類が好ましい。 Examples of celluloses which are preferable examples of the component (C) include hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose, hydroxyalkyl alkyl celluloses such as hydroxyethyl methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose and hydroxyethyl ethyl cellulose, and cellulose and the like. For example, hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose are preferable.

(C)成分の好ましい一例であるシクロデキストリン類としては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリンおよびγシクロデキストリン等のシクロデキストリン、メチル−α−シクロデキストリン、メチル−β−シクロデキストリンならびにメチル−γ−シクロデキストリン等のメチル化シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−α−シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−β−シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−γ−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−α−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−β−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−γ−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン等のヒドロキシアルキルシクロデキストリン等が挙げられる。 Cyclodextrins which are preferable examples of the component (C) include cyclodextrins such as α-cyclodextrin, β-cyclodextrin and γ cyclodextrin, methyl-α-cyclodextrin, methyl-β-cyclodextrin and methyl-γ. Methylated cyclodextrin such as -cyclodextrin, hydroxymethyl-α-cyclodextrin, hydroxymethyl-β-cyclodextrin, hydroxymethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-β -Cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-α -Cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-β-cyclodextrin, 2, Examples thereof include hydroxyalkylcyclodextrins such as 3-dihydroxypropyl-γ-cyclodextrin.

(C)成分の好ましい一例であるメラミンホルムアルデヒド樹脂としては、メラミンとホルムアルデヒドを重縮合して得られる樹脂が挙げられる。 Examples of the melamine formaldehyde resin which is a preferable example of the component (C) include a resin obtained by polycondensing melamine and formaldehyde.

(C)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は、保存安定性の観点からメラミンとホルムアルデヒドの重縮合の際に生成したメチロール基がアルキル化されていることが好ましい。(C)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂としては、例えば下記式で表される単位構造を有する樹脂が挙げられる。

Figure 2019027045
上記式中、R21は水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、nは繰り返し単位の数を表す自然数である。From the viewpoint of storage stability, the melamine formaldehyde resin of the component (C) preferably has a methylol group formed during polycondensation of melamine and formaldehyde alkylated. Examples of the melamine formaldehyde resin of the component (C) include a resin having a unit structure represented by the following formula.
Figure 2019027045
In the above formula, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is a natural number representing the number of repeating units.

(C)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂を得る方法は特には限定されないが、一般的にメラミンとホルムアルデヒドを混合し、炭酸ナトリウムやアンモニア等を用いて弱アルカリ性にした後60℃〜100℃にて加熱することにより合成される。さらにアルコールと反応させることでメチロール基をアルコキシ化することができる。 The method for obtaining the melamine formaldehyde resin of the component (C) is not particularly limited, but generally, melamine and formaldehyde are mixed, weakly alkalineized with sodium carbonate, ammonia, etc., and then heated at 60 ° C to 100 ° C. Is synthesized by. Further, the methylol group can be made into an alkoxy by reacting with an alcohol.

(C)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は、重量平均分子量が250〜5000であることが好ましく、300〜4000であることがより好ましく、350〜3500であることがさらに好ましい。重量平均分子量が5000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が250未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性の向上効果が十分に現れない場合がある。 The melamine formaldehyde resin as the component (C) preferably has a weight average molecular weight of 250 to 5000, more preferably 300 to 4000, and even more preferably 350 to 3500. If the weight average molecular weight is more than 5000 and is excessive, the solubility in a solvent may be lowered and the handleability may be lowered, and if the weight average molecular weight is less than 250 and too small, curing is insufficient at the time of thermosetting. In some cases, the effect of improving solvent resistance does not appear sufficiently.

本発明の実施形態においては、(C)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は液体形態で、あるいは精製した液体を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。 In the embodiment of the present invention, the melamine formaldehyde resin of the component (C) may be used in a liquid form or in a solution form in which a purified liquid is redissolved in a solvent described later.

(C)成分の好ましい一例であるフェノールノボラック樹脂としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物などが挙げられる。 Examples of the phenol novolac resin which is a preferable example of the component (C) include a phenol-formaldehyde polycondensate.

本実施形態の硬化膜形成組成物において、(C)成分のポリマーは、粉体形態で、または精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。 In the cured film-forming composition of the present embodiment, the polymer of the component (C) may be used in a powder form or in a solution form in which the purified powder is redissolved in a solvent described later.

また、本実施の形態の硬化膜形成組成物において、(C)成分は、(C)成分として例示されたポリマーの複数種の混合物であってもよい。 Further, in the cured film forming composition of the present embodiment, the component (C) may be a mixture of a plurality of types of polymers exemplified as the component (C).

本発明の硬化膜形成組成物における(C)成分を含有させる場合の含有量は、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して、好ましくは400質量部以下、より好ましくは10質量部〜380質量部、更に好ましくは40質量部〜360質量部である。(C)成分の含有量が過大の場合は液晶配向性が低下し易い。 The content of the cured film-forming composition of the present invention when the component (C) is contained is preferably 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymer as the component (A) and the cross-linking agent of the component (B). It is 400 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass to 380 parts by mass, and further preferably 40 parts by mass to 360 parts by mass. When the content of the component (C) is excessive, the liquid crystal orientation tends to decrease.

<(D)成分>
本発明の硬化膜形成組成物は、前記(A)成分及び(B)成分に加えて、さらに(D)成分として架橋触媒を含有することができる。
(D)成分である架橋触媒としては、例えば、酸または熱酸発生剤を好適に使用できる。この(D)成分は、本発明の硬化膜形成組成物の熱硬化反応を促進させることにおいて有効である。
(D)成分は、具体的には、上記酸としてスルホン酸基含有化合物、塩酸またはその塩が挙げられる。そして上記熱酸発生剤としては、加熱処理時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度80℃から250℃で熱分解して酸を発生する化合物であれば、特に限定されるものではない。
<Ingredient (D)>
The cured film-forming composition of the present invention may further contain a cross-linking catalyst as a component (D) in addition to the components (A) and (B).
As the cross-linking catalyst as the component (D), for example, an acid or a thermoacid generator can be preferably used. This component (D) is effective in accelerating the thermosetting reaction of the cured film-forming composition of the present invention.
Specific examples of the component (D) include a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof as the acid. The thermal acid generator is not particularly limited as long as it is a compound that thermally decomposes to generate an acid during heat treatment, that is, a compound that thermally decomposes at a temperature of 80 ° C. to 250 ° C. to generate an acid. ..

上記酸の具体例としては、例えば、塩酸またはその塩;メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−フェノールスルホン酸、2−ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−キシレン−2−スルホン酸、m−キシレン−2−スルホン酸、4−エチルベンゼンスルホン酸、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ(2−エトキシエタン)スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン−1−スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸基含有化合物またはその水和物や塩等が挙げられる。 Specific examples of the above acids include hydrochloric acid or a salt thereof; methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentansulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphor. Sulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylensulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H, Sulfonic acid group-containing compounds such as 1H, 2H, 2H-perfluorooctane sulfonic acid, perfluoro (2-ethoxyethane) sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, nonafluorobutane-1-sulfonic acid, dodecylbenzene sulfonic acid or Examples thereof include hydrates and salts.

また熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス(トシルオキシ)エタン、ビス(トシルオキシ)プロパン、ビス(トシルオキシ)ブタン、p−ニトロベンジルトシレート、o−ニトロベンジルトシレート、1,2,3−フェニレントリス(メチルスルホネート)、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、p−トルエンスルホン酸モルホニウム塩、p−トルエンスルホン酸エチルエステル、p−トルエンスルホン酸プロピルエステル、p−トルエンスルホン酸ブチルエステル、p−トルエンスルホン酸イソブチルエステル、p−トルエンスルホン酸メチルエステル、p−トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルp−トルエンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエチルp−トルエンスルホネート、2−ヒドロキシブチルp−トルエンスルホネート、N−エチル−p−トルエンスルホンアミド、さらに下記式で表される化合物: Examples of compounds that generate acid by heat include bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1,2,3. -Pholuenetris (methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morphonium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid butyl ester, p- Toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl p-toluenesulfonate, 2,2,2-trifluoroethyl p-toluenesulfonate, 2-hydroxybutyl p-toluenesulfonate , N-ethyl-p-toluenesulfoneamide, and compounds represented by the following formulas:

Figure 2019027045
Figure 2019027045

Figure 2019027045
Figure 2019027045

Figure 2019027045
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Figure 2019027045

Figure 2019027045
Figure 2019027045

Figure 2019027045
等が挙げられる。
Figure 2019027045
And so on.

本発明の硬化膜形成組成物における(D)成分の含有量は、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して、好ましくは0.01質量部〜20質量部、より好ましくは0.1質量部〜15質量部、更に好ましくは0.5質量部〜10質量部である。(D)成分の含有量を0.01質量部以上とすることで、充分な熱硬化性および溶剤耐性を付与することができる。しかし、20質量部より多い場合、組成物の保存安定性が低下する場合がある。 The content of the component (D) in the cured film-forming composition of the present invention is preferably 0.01 mass by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymer as the component (A) and the cross-linking agent of the component (B). Parts to 20 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass to 15 parts by mass, still more preferably 0.5 parts by mass to 10 parts by mass. By setting the content of the component (D) to 0.01 parts by mass or more, sufficient thermosetting property and solvent resistance can be imparted. However, if it is more than 20 parts by mass, the storage stability of the composition may decrease.

<(E)成分>
本発明は(E)成分として、1つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基A又は該基Aと反応する少なくとも1つの基とを有する化合物を含有することもできる。これは、形成される硬化膜の接着性を向上させる成分(以下、密着向上成分とも言う。)として作用する。
<Ingredient (E)>
In the present invention, as the component (E), one or more polymerizable groups and at least one group A or the group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group. It can also contain a compound having at least one group that reacts. This acts as a component for improving the adhesiveness of the formed cured film (hereinafter, also referred to as an adhesion improving component).

(E)成分を含有する本実施形態の硬化膜形成組成物から形成される硬化膜を配向材として用いる場合、配向材と重合性液晶の層との密着性が向上するよう、重合性液晶の重合性官能基と配向材の架橋反応部位を共有結合によりリンクさせることができる。その結果、本実施形態の配向材上に硬化した重合性液晶を積層してなる本実施形態の位相差材は、高温高質の条件下でも、強い密着性を維持することができ、剥離等に対する高い耐久性を示すことができる。 When a cured film formed from the cured film-forming composition of the present embodiment containing the component (E) is used as the alignment material, the polymerizable liquid crystal is provided so as to improve the adhesion between the alignment material and the layer of the polymerizable liquid crystal. The polymerizable functional group and the cross-linking reaction site of the alignment material can be linked by a covalent bond. As a result, the retardation material of the present embodiment, which is formed by laminating a cured polymerizable liquid crystal on the alignment material of the present embodiment, can maintain strong adhesion even under high temperature and high quality conditions, and can be peeled off or the like. Can show high durability against.

(E)成分としては、ヒドロキシ基及びN−アルコキシメチル基から選ばれる基と、重合性基とを有するモノマー及びポリマーが好ましい。
このような(E)成分としては、ヒドロキシ基と(メタ)アクリル基とを有する化合物、N−アルコキシメチル基と(メタ)アクリル基とを有する化合物、N−アルコキシメチル基と(メタ)アクリル基を有するポリマー等が挙げられる。以下、それぞれ具体例を示す。
As the component (E), a monomer and a polymer having a group selected from a hydroxy group and an N-alkoxymethyl group and a polymerizable group are preferable.
Such (E) components include a compound having a hydroxy group and a (meth) acrylic group, a compound having an N-alkoxymethyl group and a (meth) acrylic group, and an N-alkoxymethyl group and a (meth) acrylic group. Examples thereof include polymers having. Specific examples are shown below.

(E)成分の一例として、ヒドロキシ基を含有した多官能アクリレート(以下、ヒドロキシ基含有多官能アクリレートとも言う。)を挙げることができる。
(E)成分の例であるヒドロキシ基含有多官能アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリトリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
As an example of the component (E), a hydroxy group-containing polyfunctional acrylate (hereinafter, also referred to as a hydroxy group-containing polyfunctional acrylate) can be mentioned.
Examples of the hydroxy group-containing polyfunctional acrylate that is an example of the component (E) include pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate.

(E)成分の一例として、1つのアクリル基と、1つ以上のヒドロキシ基とを有する化合物も挙げられる。このような、1つのアクリル基と、1つ以上のヒドロキシ基とを有する化合物の好ましい例を挙げる。尚、(E)成分の化合物は、以下の化合物例に限定されるものではない。 As an example of the component (E), a compound having one acrylic group and one or more hydroxy groups can also be mentioned. Preferred examples of such a compound having one acrylic group and one or more hydroxy groups will be given. The compound of the component (E) is not limited to the following compound examples.

Figure 2019027045
(上記式中、R11は水素原子またはメチル基を表し、mは1〜10の整数を表す。)
Figure 2019027045
(In the above formula, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and m represents an integer of 1 to 10.)

また、(E)成分の化合物としては、1分子中にC=C二重結合を含む重合性基を少なくとも1つと、N−アルコキシメチル基を少なくとも1つ有する化合物が挙げられる。 In addition, examples of the compound of the component (E) include a compound having at least one polymerizable group containing a C = C double bond in one molecule and at least one N-alkoxymethyl group.

C=C二重結合を含む重合性基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。 Examples of the polymerizable group containing a C = C double bond include an acrylic group, a methacryl group, a vinyl group, an allyl group, a maleimide group and the like.

N−アルコキシメチル基のN、すなわち窒素原子としては、アミドの窒素原子、チオアミドの窒素原子、ウレアの窒素原子、チオウレアの窒素原子、ウレタンの窒素原子、含窒素へテロ環の窒素原子の隣接位に結合した窒素原子等が挙げられる。従って、N−アルコキシメチル基としては、アミドの窒素原子、チオアミドの窒素原子、ウレアの窒素原子、チオウレアの窒素原子、ウレタンの窒素原子、含窒素へテロ環の窒素原子の隣接位に結合した窒素原子等から選ばれる窒素原子にアルコキシメチル基が結合した構造が挙げられる。 The N of the N-alkoxymethyl group, that is, the nitrogen atom, includes the nitrogen atom of amide, the nitrogen atom of thioamide, the nitrogen atom of urea, the nitrogen atom of thiourea, the nitrogen atom of urethane, and the nitrogen atom of the nitrogen-containing heterocycle. Examples include nitrogen atoms bonded to. Therefore, the N-alkoxymethyl group includes nitrogen bonded to the nitrogen atom of amide, the nitrogen atom of thioamide, the nitrogen atom of urea, the nitrogen atom of thiourea, the nitrogen atom of urethane, and the nitrogen atom of the nitrogen-containing heterocycle. Examples thereof include a structure in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom selected from atoms and the like.

(E)成分としては、上記の基を有するものであればよいが、好ましくは、例えば下記の式(X1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2019027045
(式中、R31は水素原子又はメチル基を表し、R32は水素原子、若しくは直鎖又は分岐の炭素原子数1乃至10のアルキル基を表す)The component (E) may have any of the above groups, but preferably, for example, a compound represented by the following formula (X1) can be mentioned.
Figure 2019027045
(In the formula, R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 32 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms).

上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、n−ヘプチル基、1−メチル−n−ヘキシル基、2−メチル−n−ヘキシル基、3−メチル−n−ヘキシル基、1,1−ジメチル−n−ペンチル基、1,2−ジメチル−n−ペンチル基、1,3−ジメチル−n−ペンチル基、2,2−ジメチル−n−ペンチル基、2,3−ジメチル−n−ペンチル基、3,3−ジメチル−n−ペンチル基、1−エチル−n−ペンチル基、2−エチル−n−ペンチル基、3−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−1−エチル−n−ブチル基、1−メチル−2−エチル−n−ブチル基、1−エチル−2−メチル−n−ブチル基、2−メチル−2−エチル−n−ブチル基、2−エチル−3−メチル−n−ブチル基、n−オクチル基、1−メチル−n−ヘプチル基、2−メチル−n−ヘプチル基、3−メチル−n−ヘプチル基、1,1−ジメチル−n−ヘキシル基、1,2−ジメチル−n−ヘキシル基、1,3−ジメチル−n−ヘキシル基、2,2−ジメチル−n−ヘキシル基、2,3−ジメチル−n−ヘキシル基、3,3−ジメチル−n−ヘキシル基、1−エチル−n−ヘキシル基、2−エチル−n−ヘキシル基、3−エチル−n−ヘキシル基、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、3−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 1-methyl-n. -Butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1,2-dimethyl-n-propyl group, 2,2-dimethyl- n-propyl group, 1-ethyl-n-propyl group, n-hexyl group, 1-methyl-n-pentyl group, 2-methyl-n-pentyl group, 3-methyl-n-pentyl group, 4-methyl- n-pentyl group, 1,1-dimethyl-n-butyl group, 1,2-dimethyl-n-butyl group, 1,3-dimethyl-n-butyl group, 2,2-dimethyl-n-butyl group, 2 , 3-Dimethyl-n-butyl group, 3,3-dimethyl-n-butyl group, 1-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-n-butyl group, 1,1,2-trimethyl-n-propyl Group, 1,2,2-trimethyl-n-propyl group, 1-ethyl-1-methyl-n-propyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl group, n-heptyl group, 1-methyl- n-hexyl group, 2-methyl-n-hexyl group, 3-methyl-n-hexyl group, 1,1-dimethyl-n-pentyl group, 1,2-dimethyl-n-pentyl group, 1,3-dimethyl -N-pentyl group, 2,2-dimethyl-n-pentyl group, 2,3-dimethyl-n-pentyl group, 3,3-dimethyl-n-pentyl group, 1-ethyl-n-pentyl group, 2- Ethyl-n-pentyl group, 3-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl-1-ethyl-n-butyl group, 1-methyl-2-ethyl-n-butyl group, 1-ethyl-2-methyl- n-Butyl group, 2-methyl-2-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-3-methyl-n-butyl group, n-octyl group, 1-methyl-n-heptyl group, 2-methyl-n -Heptyl group, 3-methyl-n-heptyl group, 1,1-dimethyl-n-hexyl group, 1,2-dimethyl-n-hexyl group, 1,3-dimethyl-n-hexyl group, 2,2- Dimethyl-n-hexyl group, 2,3-dimethyl-n-hexyl group, 3,3-dimethyl-n-hexyl group, 1-ethyl-n-hexyl group, 2-ethyl-n-hexyl group, 3-ethyl -N-hexyl group, 1-methyl-1-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl-2-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, 2-methy Examples thereof include ru-2-ethyl-n-pentyl group, 2-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, 3-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like. ..

上記式(X1)で表される化合物の具体例としては、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物又はメタクリルアミド化合物が挙げられる。なお(メタ)アクリルアミドとはメタクリルアミドとアクリルアミドの双方を意味する。 Specific examples of the compound represented by the above formula (X1) include N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, and N-butoxymethyl (meth). Examples thereof include an acrylamide compound or a methacrylicamide compound substituted with a hydroxymethyl group such as acrylamide or an alkoxymethyl group. Note that (meth) acrylamide means both methacrylamide and acrylamide.

(E)成分のC=C二重結合を含む重合性基とN−アルコキシメチル基を有する化合物の別の態様としては、好ましくは、例えば下記の式(X2)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2019027045
式中、R51は水素原子又はメチル基を表す。
52は炭素原子数2乃至20のアルキル基、炭素原子数5乃至6の1価の脂肪族環基、若しくは炭素原子数5乃至6の脂肪族環を含む1価の脂肪族基を表し、構造中にエーテル結合を含んでいてもよい。
53は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数2乃至20のアルキレン基、炭素原子数5乃至6の2価の脂肪族環基、若しくは炭素原子数5乃至6の脂肪族環を含む2価の脂肪族基を表し、構造中にエーテル結合を含んでいてもよい。
54は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数1乃至20の2価乃至9価の脂肪族基、炭素原子数5乃至6の2価乃至9価の脂肪族環基、若しくは炭素原子数5乃至6の脂肪族環を含む2価乃至9価の脂肪族基を表し、これらの基の一つのメチレン基または隣り合わない複数のメチレン基がエーテル結合に置き換わっていてもよい。
Zは>NCOO−、または−OCON<(ここで「−」は結合手が1つであることを示す。また、「>」「<」は結合手が2つであることを示し、かつ、どちらか1つの結合手にアルコキシメチル基(即ち−OR52基)が結合していることを示す。)を表す。
rは2以上9以下の自然数である。Another embodiment of the compound having a polymerizable group containing a C = C double bond and an N-alkoxymethyl group of the component (E) is preferably a compound represented by the following formula (X2), for example. ..
Figure 2019027045
In the formula, R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a monovalent aliphatic ring group having 5 to 6 carbon atoms, or a monovalent aliphatic group containing an aliphatic ring having 5 to 6 carbon atoms. An ether bond may be included in the structure.
R 53 is a straight-chain or branched chain containing an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, a divalent aliphatic ring group having 5 to 6 carbon atoms, or an aliphatic ring having 5 to 6 carbon atoms. Represents an aliphatic group of, and may contain an ether bond in the structure.
R 54 is a straight-chain or branched chain having a divalent to 9-valent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent to 9-valent aliphatic ring group having 5 to 6 carbon atoms, or a carbon atom number of 5. It represents a divalent to 9-valent aliphatic group containing to 6 aliphatic rings, and one methylene group of these groups or a plurality of non-adjacent methylene groups may be replaced with an ether bond.
Z indicates> NCOO- or -OCON <(where "-" indicates that there is one bond, and ">" and "<" indicate that there are two bonds, and Indicates that an alkoxymethyl group (that is, -OR52 group) is bonded to either one of the bonds).
r is a natural number of 2 or more and 9 or less.

53の定義における炭素原子数2乃至20のアルキレン基の具体例としては、炭素原子数2乃至20のアルキル基から、さらに1個の水素原子を取り去った2価の基が挙げられる。
またR54の定義における炭素原子数1乃至20の2価乃至9価の脂肪族基の具体例としては、炭素原子数1乃至20のアルキル基から、さらに1乃至8個の水素原子を取り去った2価乃至9価の基が挙げられる。
Specific examples of the alkylene group having 2 to 20 carbon atoms in the definition of R 53 include a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms.
Further, as a specific example of the divalent to 9-valent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms in the definition of R 54 , 1 to 8 hydrogen atoms were further removed from the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples include divalent to 9-valent groups.

炭素原子数1のアルキル基はメチル基であり、また炭素原子数2乃至20のアルキル基の具体例としては、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、それらの一種または複数種が炭素原子数20までの範囲で結合した基と、これらの基の一つのメチレンまたは隣り合わない複数のメチレン基がエーテル結合に置き換わった基等が一例として挙げられる。 The alkyl group having 1 carbon atom is a methyl group, and specific examples of the alkyl group having 2 to 20 carbon atoms include ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group and i-butyl. Group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl- n-propyl group, n-hexyl group, 1-methyl-n-pentyl group, 2-methyl-n-pentyl group, 1,1-dimethyl-n-butyl group, 1-ethyl-n-butyl group, 1, 1,2-trimethyl-n-propyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group , N-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecil group, n-eicosyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, one or more of them having up to 20 carbon atoms. Examples include a group bonded in a range and a group in which one methylene of these groups or a plurality of non-adjacent methylene groups are replaced with an ether bond.

これらのうち、炭素原子数2乃至10のアルキレン基が好ましく、R53がエチレン基であり、R54がヘキシレン基であるのが原料の入手性等の点から特に好ましい。Of these, an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms is preferable, R 53 is an ethylene group, and R 54 is a hexylene group, which is particularly preferable from the viewpoint of availability of raw materials.

52の定義における炭素原子数1乃至20のアルキル基の具体例としては、R53の定義における炭素原子数2乃至20のアルキル基の具体例及びメチル基が挙げられる。これらのうち、炭素原子数1乃至6のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基またはn−ブチル基が特に好ましい。Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in the definition of R 52 include specific examples of the alkyl group having 2 to 20 carbon atoms in the definition of R 53 and a methyl group. Of these, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an n-butyl group is particularly preferable.

rとしては、2以上9以下の自然数が挙げられるが、中でも、2乃至6が好ましい。 Examples of r include natural numbers of 2 or more and 9 or less, and 2 to 6 are preferable.

本発明の実施形態の硬化膜形成組成物における(E)成分の含有量は、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して、好ましくは1質量部〜100質量部であり、更に好ましくは5質量部〜70質量部である。(E)成分の含有量を1質量部以上とすることで、形成される硬化膜に充分な密着性を付与することができる。しかし、100質量部より多い場合、液晶配向性が低下し易い。 The content of the component (E) in the cured film forming composition of the embodiment of the present invention is preferably 1 with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymer as the component (A) and the cross-linking agent of the component (B). It is by mass to 100 parts by mass, more preferably 5 parts by mass to 70 parts by mass. By setting the content of the component (E) to 1 part by mass or more, sufficient adhesion can be imparted to the formed cured film. However, when the amount is more than 100 parts by mass, the liquid crystal orientation tends to decrease.

また、本実施形態の硬化膜形成組成物において、(E)成分は、(E)成分の化合物の複数種の混合物であってもよい。 Further, in the cured film forming composition of the present embodiment, the component (E) may be a mixture of a plurality of types of the compound of the component (E).

<溶剤>
本発明の硬化膜形成組成物は、主として溶剤に溶解した溶液状態で用いられる。その際に使用する溶剤は、(A)成分、(B)成分および必要に応じて(C)成分、(D)成分、(E)成分および/または後述するその他添加剤を溶解できればよく、その種類および構造などは特に限定されるものでない。
<Solvent>
The cured film-forming composition of the present invention is mainly used in a solution state dissolved in a solvent. The solvent used at that time may be sufficient as long as it can dissolve the component (A), the component (B) and, if necessary, the component (C), the component (D), the component (E) and / or other additives described later. The type and structure are not particularly limited.

溶剤の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、2−メチル−1−ブタノール、n−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ブタノン、3−メチル−2−ペンタノン、2−ペンタノン、2−ヘプタノン、γ−ブチロラクトン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、シクロペンチルメチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、およびN−メチル−2−ピロリドン等が挙げられる。 Specific examples of the solvent include, for example, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, 2-methyl-1-butanol, n-pentanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, and the like. Methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, Toluene, xylene, methyl ethyl ketone, isobutyl methyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl-2-pentanone, 2-pentanone, 2-heptanone, γ-butyrolactone, ethyl 2-hydroxypropionate, 2-hydroxy Ethyl -2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxy Ethyl propionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, cyclopentyl methyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone. And so on.

本発明の硬化膜形成組成物を用い、樹脂フィルム上に硬化膜を形成して配向材を製造する場合は、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−メチル−1−ブタノール、2−ヘプタノン、イソブチルメチルケトン、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル等が、樹脂フィルムが耐性を示す溶剤であるという点から好ましい。 When a cured film is formed on a resin film to produce an alignment material using the cured film-forming composition of the present invention, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, 2-methyl-1-butanol are used. , 2-Heptanone, isobutylmethyl ketone, diethylene glycol, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, cyclopentyl methyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate and the like are preferable from the viewpoint that the resin film exhibits resistance. ..

これらの溶剤は、1種単独でまたは2種以上の組合せで使用することができる。 These solvents can be used alone or in combination of two or more.

<その他添加剤>
さらに、本発明の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、密着向上剤、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。
<Other additives>
Further, the cured film-forming composition of the present invention is, if necessary, an adhesion improver, a silane coupling agent, a surfactant, a rheology adjuster, a pigment, a dye, and storage stability, as long as the effects of the present invention are not impaired. It can contain agents, antifoaming agents, antioxidants and the like.

<硬化膜形成組成物の調製>
本発明の硬化膜形成組成物は、(A)成分のポリマーおよび(B)成分の架橋剤を含有し、所望により(C)成分のポリマー、(D)成分の架橋触媒および(E)成分密着促進剤、そして更に本発明の効果を損なわない限りにおいてその他の添加剤を含有することができる組成物である。そして通常は、それらが溶剤に溶解した溶液の形態として用いられる。
<Preparation of cured film forming composition>
The cured film-forming composition of the present invention contains the polymer of the component (A) and the cross-linking agent of the component (B), and optionally adheres to the polymer of the component (C), the cross-linking catalyst of the component (D) and the component (E). It is a composition that can contain an accelerator and further additives as long as the effects of the present invention are not impaired. And usually, they are used in the form of a solution dissolved in a solvent.

本発明の硬化膜形成組成物の好ましい例は、以下のとおりである。
[1]:(A)成分、(A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分を含有する硬化膜形成組成物。
[2]:(A)成分、(A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分、並びに、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1〜400質量部の(C)成分を含有する硬化膜形成組成物。
[3]:(A)成分、(A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分、並びに、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。
[4]:(A)成分、(A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1〜400質量部の(C)成分、並びに、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。
[5]:(A)成分、(A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1〜400質量部の(C)成分、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して0.01質量部〜20質量部の(D)成分、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。
[6]:(A)成分、(A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1〜400質量部の(C)成分、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して0.01質量部〜20質量部の(D)成分、(A)成分であるポリマー及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1質量部〜100質量部の(E)成分、並びに、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。
Preferred examples of the cured film forming composition of the present invention are as follows.
[1]: A cured film forming composition containing 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A) and the component (A).
[2]: Based on 100 parts by mass of the component (A) and the component (A), 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B), and a cross-linking agent for the polymer and the component (B) which are the components (A). A cured film forming composition containing 1 to 400 parts by mass of the component (C) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the above.
[3]: A cured film forming composition containing 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B) and a solvent based on 100 parts by mass of the component (A) and the component (A).
[4]: Total of 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B), the polymer as the component (A), and the cross-linking agent of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A) and the component (A). A cured film-forming composition containing 1 to 400 parts by mass of the component (C) and a solvent with respect to 100 parts by mass of the amount.
[5]: Total of 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B), the polymer as the component (A), and the cross-linking agent of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A) and the component (A). From 1 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (C), the polymer (A) and the component (B) with respect to 100 parts by mass. A cured film-forming composition containing 20 parts by mass of the component (D) and a solvent.
[6]: A total of 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B), the polymer as the component (A), and the cross-linking agent of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A) and the component (A). From 1 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (C), the polymer (A) and the component (B) with respect to 100 parts by mass. 1 part by mass to 100 parts by mass of the component (E) and the solvent with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (D), the polymer (A) and the component (B) in an amount of 20 parts by mass. A cured film-forming composition containing.

本発明の硬化膜形成組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。
本発明の硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、1質量%〜60質量%であり、好ましくは2質量%〜50質量%であり、より好ましくは2質量%〜20質量%である。ここで、固形分とは、硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。
The blending ratio, preparation method, etc. when the cured film-forming composition of the present invention is used as a solution will be described in detail below.
The proportion of the solid content in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is 1% by mass to 60% by mass, preferably 2. It is from mass% to 50% by mass, more preferably 2% by mass to 20% by mass. Here, the solid content refers to a composition obtained by removing the solvent from all the components of the cured film forming composition.

本発明の硬化膜形成組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、溶剤に溶解した(A)成分の溶液に(B)成分、さらには(C)成分、(D)成分、(E)成分等を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、或いは、この調製法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。 The method for preparing the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited. As a preparation method, for example, the component (B), the component (C), the component (D), the component (E) and the like are mixed in a solution of the component (A) dissolved in a solvent at a predetermined ratio to make it uniform. Examples thereof include a method of making a solution, or a method of further adding and mixing other additives as needed at an appropriate stage of this preparation method.

本発明の硬化膜形成組成物の調製においては、溶剤中の重合反応によって得られる特定共重合体(ポリマー)の溶液をそのまま使用することができる。この場合、例えば、(A)成分の溶液に前記と同様に(B)成分、さらには(C)成分、(D)成分、(E)成分等を入れて均一な溶液とする。この際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、(A)成分の生成過程で用いられる溶剤と、硬化膜形成組成物の濃度調整に用いられる溶剤とは同一であってもよく、また異なってもよい。 In the preparation of the cured film-forming composition of the present invention, the solution of the specific copolymer (polymer) obtained by the polymerization reaction in the solvent can be used as it is. In this case, for example, the component (B), the component (C), the component (D), the component (E) and the like are added to the solution of the component (A) in the same manner as described above to obtain a uniform solution. At this time, an additional solvent may be added for the purpose of adjusting the concentration. At this time, the solvent used in the process of producing the component (A) and the solvent used for adjusting the concentration of the cured film-forming composition may be the same or different.

また、調製された硬化膜形成組成物の溶液は、孔径が0.2μm程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。 Further, it is preferable that the prepared solution of the cured film-forming composition is used after being filtered using a filter having a pore size of about 0.2 μm or the like.

<硬化膜、配向材および位相差材>
本発明の硬化膜形成組成物の溶液を基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)やフィルム基板(例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ポリカーボネート(PC)フィルム、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルム、シクロオレフィンコポリマー(COC)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、アクリルフィルム、ポリエチレンフィルム等の樹脂フィルム)等の上に、バーコート、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することができる。該硬化膜はそのまま配向材として適用できる。
<Hardened film, alignment material and retardation material>
The solution of the cured film-forming composition of the present invention is applied to a substrate (for example, a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, etc., a glass substrate, a quartz substrate, ITO. Substrates, etc.) and film substrates (eg, triacetyl cellulose (TAC) film, polycarbonate (PC) film, cycloolefin polymer (COP) film, cycloolefin copolymer (COC) film, polyethylene terephthalate (PET) film, acrylic film, polyethylene. A coating film is formed by applying on a resin film such as a film) by bar coating, rotary coating, sink coating, roll coating, slit coating, rotary coating following the slit, inkjet coating, printing, etc., and then A cured film can be formed by heating and drying in a hot plate or an oven. The cured film can be applied as it is as an alignment material.

加熱乾燥の条件としては、硬化膜(配向材)の成分が、その上に塗布される重合性液晶溶液に溶出しない程度に、架橋剤による架橋反応が進行すればよく、例えば、温度60℃〜200℃、時間0.4分間〜60分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度および加熱時間が採用される。加熱温度および加熱時間は、好ましくは70℃〜160℃、0.5分間〜10分間である。 As a condition for heating and drying, the cross-linking reaction by the cross-linking agent may proceed to the extent that the components of the cured film (aligning material) do not elute into the polymerizable liquid crystal solution applied thereto. A heating temperature and heating time appropriately selected from the range of 200 ° C. and a time of 0.4 minutes to 60 minutes are adopted. The heating temperature and heating time are preferably 70 ° C. to 160 ° C., 0.5 minutes to 10 minutes.

本発明の硬化性組成物を用いて形成される硬化膜(配向材)の膜厚は、例えば、0.05μm〜5μmであり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。 The film thickness of the cured film (aligning material) formed by using the curable composition of the present invention is, for example, 0.05 μm to 5 μm, and is appropriately considered in consideration of the step of the substrate to be used and the optical and electrical properties. You can choose.

本発明の硬化膜組成物から形成された配向材は耐溶剤性および耐熱性を有しているため、この配向材上に、垂直配向性を有する重合性液晶溶液などの位相差材料を塗布し、配向材上で配向させることができる。そして、配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させることにより、光学異方性を有する層として位相差材を形成することができる。そして、配向材を形成する基板がフィルムである場合には、位相差フィルムとして有用となる。 Since the alignment material formed from the cured film composition of the present invention has solvent resistance and heat resistance, a retardation material such as a polymerizable liquid crystal solution having vertical orientation is applied onto the alignment material. , Can be oriented on the alignment material. Then, by curing the alignment material in the oriented state as it is, the retardation material can be formed as a layer having optical anisotropy. When the substrate on which the alignment material is formed is a film, it is useful as a retardation film.

また、上記のようにして形成された、本発明の配向材を有する2枚の基板を用い、スペーサを介して両基板上の配向材が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子とすることもできる。
このように本発明の硬化膜形成組成物は、各種位相差材(位相差フィルム)や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
Further, using two substrates having the alignment material of the present invention formed as described above, the alignment materials on both substrates are laminated so as to face each other via a spacer, and then between the substrates. It is also possible to inject a liquid crystal into a liquid crystal display element in which the liquid crystal is oriented.
As described above, the cured film forming composition of the present invention can be suitably used for manufacturing various retardation materials (phase difference films), liquid crystal display elements, and the like.

以下、本発明の実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples of the present invention, but the present invention is not construed as being limited thereto.

[実施例で用いる略記号]
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
<原料>
GMA:グリシジルメタクリレート
AIBN:α,α’−アゾビスイソブチロニトリル
BMAA:N−ブトキシメチルアクリルアミド
MMA:メタクリル酸メチル
HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
<重合性基を有する桂皮酸化合物>
CIN1:4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)桂皮酸

Figure 2019027045
CIN2:4−(3−メタクリルオキシプロピル−1−オキシ)桂皮酸
Figure 2019027045
CIN3:4−(6−アクリルオキシヘキシル−1−オキシ)桂皮酸
Figure 2019027045
<重合性基を有さない桂皮酸化合物>
CIN4:4−メトキシ桂皮酸
Figure 2019027045
<B成分>
HMM:下記の構造式で表されるメラミン架橋剤[サイメル(CYMEL)(登録商標)303(三井サイテック(株)製)]
Figure 2019027045
<D成分>
PTSA:p−トルエンスルホン酸・一水和物
<E成分>
E−1:下記の構造式で示されるN−アルコキシメチル基およびアクリル基を有する化合物
Figure 2019027045
<溶剤>
実施例及び比較例の各樹脂組成物は溶剤を含有し、その溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PM)を用いた。[Abbreviations used in Examples]
The meanings of the abbreviations used in the following examples are as follows.
<Raw materials>
GMA: Glycidyl methacrylate AIBN: α, α'-azobisisobutyronitrile BMAA: N-butoxymethylacrylamide MMA: Methyl methacrylate HEMA: 2-Hydroxyethyl methacrylate <Ceramic acid compound having a polymerizable group>
CIN1: 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid
Figure 2019027045
CIN2: 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamic acid
Figure 2019027045
CIN3: 4- (6-acrylicoxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid
Figure 2019027045
<Cinnamic acid compound having no polymerizable group>
CIN4: 4-Methoxycinnamic acid
Figure 2019027045
<B component>
HMM: Melamine cross-linking agent represented by the following structural formula [CYMEL (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.)]
Figure 2019027045
<D component>
PTSA: p-toluenesulfonic acid / monohydrate <E component>
E-1: Compound having N-alkoxymethyl group and acrylic group represented by the following structural formula
Figure 2019027045
<Solvent>
Each of the resin compositions of Examples and Comparative Examples contained a solvent, and propylene glycol monomethyl ether (PM) was used as the solvent.

<重合体の分子量の測定>
重合例におけるアクリル共重合体の分子量は、(株)Shodex社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置(GPC−101)、Shodex社製カラム(KD―803、KD−805)を用い以下のようにして測定した。
なお、下記の数平均分子量(以下、Mnと称す。)及び重量平均分子量(以下、Mwと称す。)は、ポリスチレン換算値にて表した。
カラム温度:40℃
溶離液:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/分
検量線作成用標準サンプル:昭和電工社製 標準ポリスチレン(分子量 約197,000、55,100、12,800、3,950、1,260、580)。
<Measurement of molecular weight of polymer>
The molecular weight of the acrylic copolymer in the polymerization example was as follows using a room temperature gel permeation chromatography (GPC) apparatus (GPC-101) manufactured by Shodex Co., Ltd. and columns (KD-803, KD-805) manufactured by Shodex Co., Ltd. And measured.
The following number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) are represented by polystyrene-equivalent values.
Column temperature: 40 ° C
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / Standard sample for preparing a calibration curve: Standard polystyrene manufactured by Showa Denko KK (molecular weight: about 197,000, 55, 100, 12,800, 3,950, 1,260,580).

<A成分の合成>
<重合例1>
GMA 15.0g、重合触媒としてAIBN 0.5gをテトラヒドロフラン 46.4gに溶解し、加熱還流下にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。得られたアクリル共重合体溶液をヘキサン500.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、エポキシ基を有するアクリル重合体(P1)を得た。得られたアクリル重合体のMnは25,000、Mwは10,000であった。
<Synthesis of component A>
<Polymerization example 1>
An acrylic polymer solution was obtained by dissolving 15.0 g of GMA and 0.5 g of AIBN as a polymerization catalyst in 46.4 g of tetrahydrofuran and reacting them under heating and reflux for 20 hours. The obtained acrylic copolymer solution was gradually added dropwise to 500.0 g of hexane to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic polymer (P1) having an epoxy group. The obtained acrylic polymer had Mn of 25,000 and Mw of 10,000.

<合成例1>
重合例1で得たエポキシ基を有するアクリル重合体(P1)5.2g、CIN1 12.0g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.1g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン 0.2gをPM 70.0gに溶解させ、100℃で20時間反応させた。この溶液をジエチルエーテル 1000gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PA−1)を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 1>
PM 70 contains 5.2 g of the epoxy group-containing acrylic polymer (P1) obtained in Polymerization Example 1, 12.0 g of CIN1, 0.1 g of ethyltriphenylphosphonium bromide as a reaction catalyst, and 0.2 g of dibutylhydroxytoluene as a polymerization inhibitor. It was dissolved in 0.0 g and reacted at 100 ° C. for 20 hours. This solution was gradually added dropwise to 1000 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to give a polymer (PA-1). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<合成例2>
重合例1で得たエポキシ基を有するアクリル重合体(P1)5.2g、CIN2 11.0g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.1g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン 0.2gをPM 70.0gに溶解させ、100℃で20時間反応させた。この溶液をジエチルエーテル 1000gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PA−2)を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 2>
PM 70 contains 5.2 g of the epoxy polymer (P1) having an epoxy group obtained in Polymerization Example 1, 11.0 g of CIN2, 0.1 g of ethyltriphenylphosphonium bromide as a reaction catalyst, and 0.2 g of dibutylhydroxytoluene as a polymerization inhibitor. It was dissolved in 0.0 g and reacted at 100 ° C. for 20 hours. This solution was gradually added dropwise to 1000 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to give a polymer (PA-2). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<合成例3>
重合例1で得たエポキシ基を有するアクリル重合体(P1)5.2g、CIN3 12.0g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.1g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン 0.2gをPM 70.0gに溶解させ、100℃で20時間反応させた。この溶液をジエチルエーテル 1000gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PA−3)を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 3>
PM 70 contains 5.2 g of the epoxy group-containing acrylic polymer (P1) obtained in Polymerization Example 1, 12.0 g of CIN3, 0.1 g of ethyltriphenylphosphonium bromide as a reaction catalyst, and 0.2 g of dibutylhydroxytoluene as a polymerization inhibitor. It was dissolved in 0.0 g and reacted at 100 ° C. for 20 hours. This solution was gradually added dropwise to 1000 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to give a polymer (PA-3). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<合成例4>
フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂N−775(DIC(株)製EPICLONシリーズ)5.7g、CIN1 11.0g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.2g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン 0.2gをPM 40.0gに溶解させ、100℃で20時間反応させた。この溶液をジエチルエーテル 500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PA−4)を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 4>
Phenol novolac type epoxy resin N-775 (EPICLON series manufactured by DIC Corporation) 5.7 g, CIN1 11.0 g, ethyltriphenylphosphonium bromide 0.2 g as a reaction catalyst, and dibutylhydroxytoluene 0.2 g as a polymerization inhibitor. It was dissolved in 40.0 g of PM and reacted at 100 ° C. for 20 hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to give a polymer (PA-4). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<合成例5>
重合例1で得たエポキシ基を有するアクリル重合体(P1)5.2g、CIN1 10.0g、CIN4 2.0g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.1g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン 0.2gをPM 70.0gに溶解させ、100℃で20時間反応させた。この溶液をジエチルエーテル 1000gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PA−5)を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 5>
The acrylic polymer (P1) having an epoxy group obtained in Polymerization Example 1 was 5.2 g, CIN1 10.0 g, CIN4 2.0 g, ethyltriphenylphosphonium bromide 0.1 g as a reaction catalyst, and dibutylhydroxytoluene 0 as a polymerization inhibitor. .2 g was dissolved in 70.0 g of PM and reacted at 100 ° C. for 20 hours. This solution was gradually added dropwise to 1000 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to give a polymer (PA-5). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<合成例6>
重合例1で得たエポキシ基を有するアクリル重合体(P1)5.2g、CIN4 6.5g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.1gをPM 48.0gに溶解させ、100℃で20時間反応させた。この溶液をジエチルエーテル 500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PA−6)を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 6>
5.2 g of the acrylic polymer (P1) having an epoxy group obtained in Polymerization Example 1, 6.5 g of CIN4, and 0.1 g of ethyltriphenylphosphonium bromide as a reaction catalyst were dissolved in 48.0 g of PM, and the mixture was dissolved at 100 ° C. for 20 hours. It was reacted. This solution was gradually added dropwise to 500 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain a polymer (PA-6). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<合成例7>
フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂N−775(DIC(株)製EPICLONシリーズ)5.3g、CIN4 5.0g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.2gをPM 25.0gに溶解させ、100℃で20時間反応させた。この溶液をジエチルエーテル 500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PA−7)を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 7>
Feno-Lnovolac type epoxy resin N-775 (EPICLON series manufactured by DIC Corporation) 5.3 g, CIN4 5.0 g, and ethyltriphenylphosphonium bromide 0.2 g as a reaction catalyst were dissolved in PM 25.0 g and at 100 ° C. It was allowed to react for 20 hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to give a polymer (PA-7). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<B成分の合成>
<重合例2>
BMAA 100.0g、重合触媒としてAIBN 4.2gをPM 193.5gに溶解し、90℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。得られたアクリル重合体のMnは2,700、Mwは3,900であった。アクリル重合体溶液をヘキサン2000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PB−1)を得た。
<Synthesis of component B>
<Polymerization example 2>
An acrylic polymer solution was obtained by dissolving 100.0 g of BMAA and 4.2 g of AIBN as a polymerization catalyst in 193.5 g of PM and reacting at 90 ° C. for 20 hours. The obtained acrylic polymer had Mn of 2,700 and Mw of 3,900. The acrylic polymer solution was gradually added dropwise to 2000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain a polymer (PB-1).

<C成分の合成>
<重合例3>
MMA 30.0g、HEMA 3.0g、重合触媒としてAIBN 0.3gをPM146.0gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液を得た。アクリル共重合体溶液をヘキサン1000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル共重合体(PC−1)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは18,000、Mwは32,800であった。
<Synthesis of C component>
<Polymerization example 3>
An acrylic copolymer solution was obtained by dissolving 30.0 g of MMA, 3.0 g of HEMA, and 0.3 g of AIBN as a polymerization catalyst in 146.0 g of PM and reacting at 80 ° C. for 20 hours. The acrylic copolymer solution was gradually added dropwise to 1000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PC-1). The obtained acrylic copolymer had Mn of 18,000 and Mw of 32,800.

<実施例、比較例>
表1に示す組成にて実施例及び比較例の各硬化膜形成組成物を調製した。次に、各位相差材形成組成物を用いて硬化膜を形成し、得られた硬化膜それぞれについて、配向性および密着性の評価を行った。
<Examples and comparative examples>
The cured film-forming compositions of Examples and Comparative Examples were prepared according to the compositions shown in Table 1. Next, a cured film was formed using each retardation material forming composition, and the orientation and adhesion of each of the obtained cured films were evaluated.

Figure 2019027045
Figure 2019027045

[配向性の評価]
実施例及び比較例の各硬化膜形成組成物を、オゾン処理を施したCOPフィルム上にバーコーターを用いてWet膜厚4μmにて塗布した。それぞれ温度110℃で60秒間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、COPフィルム上にそれぞれ硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を10mJ/cmの露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。COPフィルム上の配向材の上に、メルク株式会社製の水平配向用重合性液晶溶液RMS03−013Cを、バーコーターを用いてWet膜厚6μmにて塗布した。この塗膜を300mJ/cmで露光し、位相差材を作製した。作製した基板上の位相差材を一対の偏光板で挟み込み、位相差材における位相差特性の発現状況を観察し、位相差が欠陥なく発現しているものを○、位相差が発現していないものを×として「配向性」の欄に記載した。評価結果は、後に表2にまとめて示す。
[Evaluation of orientation]
Each of the cured film-forming compositions of Examples and Comparative Examples was applied onto an ozone-treated COP film with a Wet film thickness of 4 μm using a bar coater. Each was heated and dried in a heat circulation type oven at a temperature of 110 ° C. for 60 seconds to form a cured film on the COP film. Each of the cured films was vertically irradiated with linearly polarized light of 313 nm at an exposure amount of 10 mJ / cm 2 to form an alignment material. On the alignment material on the COP film, RMS03-013C, a polymerizable liquid crystal solution for horizontal alignment manufactured by Merck & Co., Inc., was applied using a bar coater at a Wet thickness of 6 μm. This coating film was exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation material. The retardation material on the produced substrate was sandwiched between a pair of polarizing plates, and the expression status of the phase difference characteristics in the retardation material was observed. Those in which the phase difference was exhibited without defects were marked with ○, and the phase difference was not exhibited. Those are described as x in the "Orientation" column. The evaluation results are summarized in Table 2 later.

[密着性の評価]
実施例及び比較例の各硬化膜形成組成物を、オゾン処理を施したCOPフィルム上にバーコーターを用いてWet膜厚4μmにて塗布した。それぞれ温度110℃で60秒間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、COPフィルム上にそれぞれ硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を10mJ/cmの露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。COPフィルム上の配向材の上に、メルク株式会社製の水平配向用重合性液晶溶液RMS03−013Cを、バーコーターを用いてWet膜厚6μmにて塗布した。この塗膜を300mJ/cmで露光し、位相差材を作製した。この位相差材に縦横1mm間隔で10×10マスとなるようカッターナイフで切込みをつけた。この切り込みの上にスコッチテープを用いてセロハンテープ剥離試験を行った。評価結果は「密着性」とし、100マス全て剥がれずに残っているものを○、1マスでも剥がれているものを×とした。評価結果は、後に表2にまとめて示す。
[Evaluation of adhesion]
Each of the cured film-forming compositions of Examples and Comparative Examples was applied onto an ozone-treated COP film with a Wet film thickness of 4 μm using a bar coater. Each was heated and dried in a heat circulation type oven at a temperature of 110 ° C. for 60 seconds to form a cured film on the COP film. Each of the cured films was vertically irradiated with linearly polarized light of 313 nm at an exposure amount of 10 mJ / cm 2 to form an alignment material. On the alignment material on the COP film, RMS03-013C, a polymerizable liquid crystal solution for horizontal alignment manufactured by Merck & Co., Inc., was applied using a bar coater at a Wet thickness of 6 μm. This coating film was exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation material. The retardation material was cut with a cutter knife so as to have 10 × 10 squares at intervals of 1 mm in length and width. A cellophane tape peeling test was performed on this notch using scotch tape. The evaluation result was "adhesion", and those in which all 100 squares were not peeled off were evaluated as ◯, and those in which even one square was peeled off were evaluated as x. The evaluation results are summarized in Table 2 later.

Figure 2019027045
Figure 2019027045

表2に示すように、実施例の硬化膜形成組成物を用いて得られた配向材は、良好な配向性と密着性を示した。 As shown in Table 2, the alignment material obtained by using the cured film forming composition of the example showed good orientation and adhesion.

それに対して、比較例の硬化膜形成組成物を用いて得られた配向材は、良好な配向性は示したが、密着性が得られなかった。 On the other hand, the alignment material obtained by using the cured film forming composition of Comparative Example showed good orientation, but could not obtain adhesion.

本発明による硬化膜形成組成物は、液晶表示素子の液晶配向膜や、液晶表示素子に内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材を形成する材料として非常に有用であり、特に、IPS−LCDや有機ELディスプレイの反射防止膜として使用される円偏光板の位相差材向け材料として好適である。 The cured film forming composition according to the present invention is very useful as a material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element or an alignment material for forming an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element. In particular, it is suitable as a material for retardation materials for circularly polarizing plates used as antireflection films for IPS-LCDs and organic EL displays.

Claims (14)

(A)エポキシ基を有するポリマーと重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体との反応生成物及び(B)架橋剤を含有する硬化膜形成組成物。 A cured film-forming composition containing (A) a reaction product of a polymer having an epoxy group and a cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond, and (B) a cross-linking agent. 上記重合性二重結合を含む基が、(メタ)アクリロイル基である請求項1に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to claim 1, wherein the group containing the polymerizable double bond is a (meth) acryloyl group. 上記重合性二重結合を含む基を有する桂皮酸誘導体が、下記式(1)で表される化合物である、請求項1または請求項2に記載の硬化膜形成組成物。
Figure 2019027045
式(1)中、AとAはそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表し、
は下記式(c−2)
Figure 2019027045
(式(c−2)中、破線は結合手を表し、R101は炭素数1〜30のアルキレン基を表し、このアルキレン基の1つ若しくは複数の水素原子は、フッ素原子又は有機基で置き換えられていてもよい。また、R101中の−CHCH−は−CH=CH−に置き換えられていてもよく、さらに、次に挙げるいずれかの基が互いに隣り合わない場合において、−O−、−NHCO−、−CONH−、−COO−、−OCO−、−NH−、−NHCONH−及び−CO−からなる群から選ばれる基に置き換えられていてもよく、Mは水素原子又はメチル基を表す。)で表される基を表し、
は2価の芳香族基、2価の脂環族基、2価の複素環式基または2価の縮合環式基を表し、
は単結合、酸素原子、−COO−、−OCO−、−CH=CHCOO−または−OCOCH=CH−を表し、
〜Rはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のハロアルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる置換基を表し、
また、R、R及びR又はR、R及びRは一緒になって芳香族基を形成してもよく、
nは0〜3の整数である。)
The cured film-forming composition according to claim 1 or 2, wherein the cinnamic acid derivative having a group containing a polymerizable double bond is a compound represented by the following formula (1).
Figure 2019027045
In formula (1), A 1 and A 2 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, respectively.
R 1 is the following formula (c-2)
Figure 2019027045
(In the formula (c-2), the broken line represents a bond, R 101 represents an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and one or more hydrogen atoms of the alkylene group are replaced with a fluorine atom or an organic group. Further, -CH 2 CH 2- in R 101 may be replaced with -CH = CH-, and further, when any of the following groups is not adjacent to each other,- It may be replaced with a group selected from the group consisting of O-, -NHCO-, -CONH-, -COO-, -OCO-, -NH-, -NHCONH- and -CO-, where M 1 is a hydrogen atom. Or represents a group represented by a methyl group.)
R 2 represents a divalent aromatic group, a divalent alicyclic group, a divalent heterocyclic group or a divalent fused ring group.
R 3 represents a single bond, an oxygen atom, -COO-, -OCO-, -CH = CHCOO- or -OCOCH = CH-
R 4 to R 7 are independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Represents a substituent selected from the group consisting of groups, cyano groups, and nitro groups.
In addition, R 2 , R 3 and R 4 or R 2 , R 3 and R 6 may be combined to form an aromatic group.
n is an integer from 0 to 3. )
(B)成分の架橋剤がメチロール基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤である、請求項1乃至請求項3のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the cross-linking agent of the component (B) is a cross-linking agent having a methylol group or an alkoxymethyl group. (C)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有するポリマーをさらに含有する請求項1乃至請求項4のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物。 (C) In any one of claims 1 to 4, further containing a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group. The cured film-forming composition according to the above. (D)架橋触媒をさらに含有する請求項1乃至請求項5のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物。 (D) The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising a cross-linking catalyst. (E)1つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基A又は該基Aと反応する少なくとも1つの基とを有する化合物を含有する請求項1乃至請求項6のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物。 (E) At least one group A selected from the group consisting of one or more polymerizable groups and a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group, or at least one group that reacts with the group A. The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 6, which contains a compound having and. (A)成分100質量部に基づいて、1質量部〜500質量部の(B)成分を含有する請求項1乃至請求項7のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 7, which contains 1 part by mass to 500 parts by mass of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A). (A)成分及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1質量部〜400質量部の(C)成分を含有する請求項5乃至請求項8のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The item according to any one of claims 5 to 8, which contains 1 part by mass to 400 parts by mass of the component (C) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (A) and the component (B). The cured film forming composition according to the above. (A)成分及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して0.01質量部〜20質量部の(D)成分を含有する請求項6乃至請求項9のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 Any one of claims 6 to 9 containing 0.01 parts by mass to 20 parts by mass of the component (D) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (A) and the component (B). The cured film forming composition according to the item. (A)成分及び(B)成分の架橋剤の合計量の100質量部に対して1質量部〜100質量部の(E)成分を含有する請求項7乃至請求項10のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The item according to any one of claims 7 to 10, which contains 1 part by mass to 100 parts by mass of the component (E) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the cross-linking agent of the component (A) and the component (B). The cured film forming composition according to the above. 請求項1乃至請求項11のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られることを特徴とする硬化膜。 A cured film obtained from the cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 11. 請求項1乃至請求項11のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られることを特徴とする配向材。 An alignment material obtained from the cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 11. 請求項1乃至請求項11のうち何れか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材。 A retardation material, which is formed by using a cured film obtained from the cured film forming composition according to any one of claims 1 to 11.
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