JPWO2019009376A1 - Sterilization treatment device and sterilization treatment method - Google Patents
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Abstract
減菌液の重量を正確に測定する必要のない減菌処理装置及び減菌処理方法を提供する。減菌処理装置は、有効成分を含む減菌液を霧化する霧化ユニットと、霧化ユニットによって霧化された減菌液を、減菌処理を行う減菌処理対象空間に供給する供給ユニットと、減菌処理対象空間の内部の相対湿度を測定する相対湿度測定部とを有している。相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌液の供給を減菌処理対象空間へ行い、その後、減菌処理対象空間の内部での減菌の程度に応じた量の減菌液の供給を減菌処理対象空間へ行うように、減菌液の供給の制御が行われる。A sterilization treatment device and a sterilization treatment method that do not require accurate measurement of the weight of the sterilization liquid. The sterilization treatment device is an atomization unit for atomizing a sterilization liquid containing an active ingredient, and a supply unit for supplying the sterilization liquid atomized by the atomization unit to a sterilization treatment target space for sterilization treatment. And a relative humidity measuring unit for measuring the relative humidity inside the sterilization target space. The amount of sterilization liquid is supplied to the sterilization treatment target space until the relative humidity becomes equal to or higher than the set value, and then the amount of sterilization liquid is supplied according to the degree of sterilization inside the sterilization treatment target space. The supply of the sterilization solution is controlled so that the supply is performed to the sterilization target space.
Description
本発明は、空間に対し減菌処理を行う減菌処理装置及び減菌処理方法に関する。 The present invention relates to a sterilization treatment device and a sterilization treatment method for performing sterilization treatment on a space.
従来、過酸化水素等の有効成分を含む減菌液を霧状にして空間内に噴霧することにより、空間内の減菌処理を行う方法が採用されている。このようにして、空間内で減菌処理することにより、その空間を、細胞培養等を行うのに適した環境にすることができる。また、空間に対し減菌処理を行うのに、減菌処理装置を用いて減菌処理を行う方法が採用されている。減菌処理装置を用いて減菌処理を行うことにより、減菌液の噴霧量を高精度に調節しながら空間内に減菌液を噴霧することができる。 2. Description of the Related Art Conventionally, a method of performing sterilization treatment in a space by atomizing a sterilization liquid containing an active ingredient such as hydrogen peroxide and spraying it into the space has been adopted. In this way, by performing the sterilization treatment in the space, the space can be made into an environment suitable for performing cell culture and the like. In addition, a method of performing sterilization treatment using a sterilization treatment device is used to perform sterilization treatment on a space. By performing the sterilization treatment using the sterilization treatment device, the sterilization liquid can be sprayed into the space while adjusting the spray amount of the sterilization liquid with high accuracy.
このように減菌処理装置を用いて減菌液の噴霧量を高精度に調節しながら空間内の減菌処理を行う減菌処理装置について、特許文献1に開示されている。
特許文献1に開示された減菌処理装置では、装置の使用前の状態と、使用中の状態における減菌液の重量が測定され、使用前との間の重量の差が測定されることによって、そこまでの減菌液の使用量が測定される。測定された減菌液の使用量に基づいて、減菌液の供給を継続するかどうかが判断される。所定量の減菌液が供給されるまで減菌液の供給が行われ、結果的に、減菌液の供給を高精度に行うことができる。
In the sterilization treatment apparatus disclosed in
しかしながら、特許文献1に開示された減菌処理装置では、減菌液の供給を高精度に行うには、装置の使用前の状態と、使用中の状態とにおける減菌液の重量が正確に測定されることが求められる。一般に、減菌処理に用いられる減菌液の使用量は微量であることが多く、装置の使用前の状態と、使用中の状態とにおける減菌液の重量を正確に測定し、減菌液の重量差から減菌液の使用量を正確に測定することは難しい。そのため、減菌液の重量を測定するのに高精度の重量測定装置が必要になり、減菌処理装置の製造コストが増加してしまう可能性がある。
However, in the sterilization treatment device disclosed in
そこで、本発明は上記の事情に鑑み、減菌液の重量を正確に測定する必要のない減菌処理装置及び減菌処理方法を提供することを目的としている。 Therefore, in view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a sterilization treatment apparatus and a sterilization treatment method that do not require accurate measurement of the weight of the sterilization liquid.
本発明の減菌処理装置は、有効成分を含む減菌液を、霧化あるいは気化させる状態変更部と、前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、前記減菌空間の内部の相対湿度を測定する相対湿度測定部と、前記相対湿度が設定値以上となるまでの量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部とを備えたことを特徴とする。 The sterilization treatment apparatus of the present invention is a sterilization solution containing an active ingredient, a state changing unit for atomizing or vaporizing the sterilization liquid, and the sterilization mist or the sterilization liquid in which the sterilization liquid is atomized by the state changing unit Is a sterilizing gas vaporized by the state changing unit, a supply unit that supplies the sterilizing space to perform a sterilizing process, a relative humidity measuring unit that measures the relative humidity inside the sterilizing space, and the relative humidity. Is supplied to the sterilized space in an amount until the sterilized mist or the sterilized gas is supplied to the sterilized space, and then the sterilized space is sterilized in the sterilized space. A control unit for controlling the supply of the sterilized mist or the sterilized gas so that the sterilized mist or the sterilized gas is supplied to the sterilized space.
上記構成の減菌処理装置では、相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌ミストあるいは減菌ガスが減菌空間に供給されるので、減菌空間の内部が有効成分による飽和に近い安定した状態になるまで減菌ミストあるいは減菌ガスを供給し、その後、減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行うことができる。減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う際には、減菌空間の内部が安定した状態になっている。その状態でのわずかな減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量の変化については、減菌処理に対し大きくは影響しない。そのため、その状態からの減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性がない。従って、減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を測定するのに高精度な測定装置は必要とされず、高精度な測定装置が省かれた簡易な構成の減菌処理装置とすることができる。 In the sterilization treatment apparatus having the above configuration, since the sterilization mist or the sterilization gas in an amount until the relative humidity becomes equal to or higher than the set value is supplied to the sterilization space, the inside of the sterilization space is close to saturation with the active ingredient. It is possible to supply the sterilized mist or sterilized gas until a stable state is reached, and then supply the sterilized mist or sterilized gas in an amount according to the degree of sterilization. When supplying the sterilized mist or the sterilized gas in an amount according to the degree of sterilization, the interior of the sterilized space is in a stable state. A slight change in the supply of sterilized mist or sterilized gas in that state does not significantly affect the sterilization treatment. Therefore, the supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas in that state does not need to be measured with high accuracy and does not need to be measured severely. Therefore, a high-accuracy measuring device is not required to measure the supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas, and a sterilization processing device having a simple configuration without the high-accuracy measuring device can be provided. .
また、設定値は、前記減菌空間の内部で前記減菌液中の前記有効成分が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断される前記相対湿度の値であってもよい。 Further, the set value may be a value of the relative humidity in which it is determined that the active ingredient in the sterilized liquid is saturated or in a state conforming to saturation inside the sterilized space.
また、前記有効成分は、過酸化水素であり、前記設定値は、70パーセントであってもよい。 The active ingredient may be hydrogen peroxide, and the set value may be 70%.
有効成分が過酸化水素であるときには、相対湿度が70パーセントで、過酸化水素がほぼ飽和状態になっていると判断することができる。 When the active ingredient is hydrogen peroxide, it can be determined that the relative humidity is 70% and the hydrogen peroxide is almost saturated.
また、前記減菌の程度に応じた量は、周囲の環境の温度と湿度とに応じて定められていてもよい。 Further, the amount corresponding to the degree of sterilization may be determined according to the temperature and humidity of the surrounding environment.
減菌の程度に応じた減菌液の供給量が、周囲の環境の温度と湿度とに応じて定められるので、減菌液の供給量を容易に定めることができる。 Since the supply amount of the sterilization liquid according to the degree of sterilization is determined according to the temperature and humidity of the surrounding environment, the supply amount of the sterilization liquid can be easily determined.
また、前記減菌の程度に応じた量は、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度ごとに、予め行われる試験によって定められ、前記試験では、温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第1の供給量と、温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第2の供給量と、温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第3の供給量と、温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第4の供給量と、が検出され、検出された前記第1の供給量から前記第4の供給量までの供給量のうち、最も多い供給量を、前記減菌の程度に応じた量として定めてもよい。 Further, the amount according to the degree of sterilization is determined by a test performed in advance for each temperature within a certain range and humidity within a certain range in the surrounding environment. At a temperature lower than the lower limit temperature in the range, and at a humidity higher than the upper limit humidity in the constant range of humidity, the sterilized mist confirmed to be sterilized or The first supply amount of the sterilized gas, at a temperature lower than the lower limit temperature in the constant range for temperature, and when the humidity is lower than the lower limit humidity in the constant range for humidity, A second supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas confirmed to be in a sterilized state and a temperature higher than the upper limit temperature in the certain range with respect to temperature. A third supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas, which is confirmed to be in a sterilized state, when the humidity is lower than the lower limit of the humidity in the certain range. It is confirmed that when the temperature is higher than the upper limit temperature in the constant range and the humidity is higher than the upper limit humidity in the constant range, it is in a sterilized state. A fourth supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas is detected, and the largest supply amount among the detected supply amounts from the first supply amount to the fourth supply amount is It may be determined as an amount according to the degree of sterilization.
上記構成の減菌処理装置では、複雑な式を用いずに、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度について確実に減菌処理を行うことができる、減菌の程度に応じた減菌空間の内部への減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を定めることができる。従って、減菌の程度に応じた減菌空間の内部への減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を制御するのに高性能の制御部を必要としないので、減菌処理装置の製造コストを少なく抑えることができる。 In the sterilization treatment device having the above configuration, without using a complicated formula, it is possible to perform the sterilization treatment reliably for the temperature within a certain range and the humidity within a certain range in the surrounding environment, the degree of sterilization The amount of sterilized mist or sterilized gas supplied to the interior of the sterilized space can be determined according to the above. Therefore, a high-performance control unit is not required to control the amount of sterilized mist or sterilized gas supplied to the interior of the sterilized space according to the degree of sterilization, which reduces the manufacturing cost of the sterilized treatment device. It can be kept low.
また、本発明の減菌処理装置は、有効成分を含む減菌液を霧化あるいは気化させる状態変更部と、前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、前記減菌空間の内部で前記有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサ部と、前記センサ部によって前記有効成分が飽和していることが検出されるまで前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部とを備えたことを特徴とする。 Further, the sterilization treatment apparatus of the present invention is a state changing unit for atomizing or vaporizing a sterilizing liquid containing an active ingredient, and the sterilizing mist or the sterilizing liquid in which the sterilizing liquid is atomized by the state changing unit. A supply unit for supplying a sterilized gas whose liquid is vaporized by the state changing unit to a sterilized space for performing a sterilization process, and a sensor for detecting whether or not the active ingredient is saturated inside the sterilized space. Section and the sensor section supplies the sterilized mist or the sterilized gas to the sterilized space until it is detected that the active ingredient is saturated, and thereafter, in the sterilized space. A control unit that controls the supply of the sterilized mist or the sterilized gas so as to supply the sterilized mist or the sterilized gas in an amount according to the degree of sterilization to the sterilized space. It is characterized by that.
上記構成の減菌処理装置では、減菌空間の内部が減菌液の有効成分によって飽和しているかどうかが直接的に検出され、飽和していることが確認された後に減菌の程度に応じた量の減菌液の供給が減菌空間へ行われるので、減菌の程度に応じた量の減菌液の供給を行う際に、減菌空間の内部が減菌液の有効成分によって飽和しているかどうかをより確実に判断することができる。減菌空間が減菌液の有効成分によって確実に飽和した状態で減菌の程度に応じた量の減菌液の供給が行われるので、減菌処理をより確実に行うことができる。 In the sterilization treatment device configured as described above, whether or not the inside of the sterilization space is saturated with the active ingredient of the sterilization liquid is directly detected, and after the saturation is confirmed, the degree of sterilization is changed. Since a large amount of sterilization liquid is supplied to the sterilization space, the inside of the sterilization space will be saturated with the effective components of the sterilization liquid when supplying the volume of sterilization liquid according to the degree of sterilization. It is possible to more surely determine whether or not it is. Since the sterilization liquid is supplied in an amount according to the degree of sterilization while the sterilization space is surely saturated with the active ingredient of the sterilization liquid, the sterilization treatment can be performed more reliably.
本発明の減菌処理方法は、減菌処理を行う減菌空間の内部の相対湿度が設定値以上となるまで、前記減菌空間への、有効成分を含む減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う第1の供給工程と、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌空間への前記減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う第2の供給工程とを備えたことを特徴とする。 The sterilization treatment method of the present invention, until the relative humidity inside the sterilization space for performing the sterilization treatment is a set value or more, supply of the sterilization mist or sterilization gas containing the active ingredient to the sterilization space. And a second supplying step of supplying the sterilized mist or sterilized gas to the sterilized space in an amount according to the degree of sterilization inside the sterilized space. It is characterized by having.
上記構成の減菌処理方法では、第1の供給工程で、相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌ミストあるいは減菌ガスが減菌空間に供給されるので、減菌空間の内部が有効成分による飽和に近い安定した状態になるまで減菌ミストあるいは減菌ガスが供給され、その後、第2の供給工程で、減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行うことができる。減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う際には、減菌空間の内部が安定した状態になっている。その状態でのわずかな減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量の変化については、減菌処理に対し大きくは影響しない。そのため、その状態からの減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性がない。従って、減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を測定するのに高精度な測定装置は必要とされず、簡易な構成の減菌処理装置を用いて減菌処理を行うことができる。 In the sterilization treatment method of the above configuration, in the first supply step, the amount of sterilized mist or sterilized gas until the relative humidity becomes equal to or higher than the set value is supplied to the sterilized space. Sterilized mist or sterilized gas is supplied until is in a stable state close to saturation with the active ingredient, and then in the second supply step, an amount of sterilized mist or sterilized gas according to the degree of sterilization is supplied. Supply can be done. When supplying the sterilized mist or the sterilized gas in an amount according to the degree of sterilization, the interior of the sterilized space is in a stable state. A slight change in the supply of sterilized mist or sterilized gas in that state does not significantly affect the sterilization treatment. Therefore, the supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas in that state does not need to be measured with high accuracy and does not need to be measured severely. Therefore, a highly accurate measuring device is not required to measure the supply amount of the sterilized mist or sterilized gas, and the sterilization treatment can be performed using the sterilization treatment device having a simple structure.
本発明によれば、装置の使用前の状態と、使用中あるいは使用後の状態とにおける減菌液の重量を正確に測定する必要がないので、高精度の重量測定装置が省かれた簡易な構成の装置によって、減菌処理の際の減菌液の供給量の制御を行うことができる。従って、減菌処理装置の製造コストを少なく抑えることができる。 According to the present invention, since it is not necessary to accurately measure the weight of the sterilized solution in the state before use of the device and the state during use or after use, a high-precision weight measuring device is omitted in a simple manner. The apparatus configured as described above can control the supply amount of the sterilization solution during the sterilization process. Therefore, the manufacturing cost of the sterilization processing apparatus can be suppressed to a low level.
以下、本発明の実施形態に係る減菌処理装置及び減菌処理方法について、添付図面を参照して説明する。 Hereinafter, a sterilization treatment apparatus and a sterilization treatment method according to embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
(第1実施形態)
図1に、第1実施形態に係る減菌処理装置100についての模式的な構成図を示す。減菌処理装置100は、減菌処理対象空間(減菌空間)200の内部に減菌液としての過酸化水素水を噴霧して減菌処理を行うことが可能に構成されている。減菌液としての過酸化水素水は、殺菌作用を有する有効成分として過酸化水素を含んでいる。本実施形態では、30〜40パーセントの濃度の過酸化水素水が減菌液として用いられている。(First embodiment)
FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of a
減菌処理対象空間200の内部に過酸化水素水を噴霧することにより、減菌処理対象空間200の内部で過酸化水素水の有効成分である過酸化水素の殺菌作用が発揮される。減菌処理対象空間200内部で殺菌作用が発揮されることにより、減菌処理対象空間200の内部が減菌処理され、減菌処理対象空間200の内部の空間を生物学的にクリーンな環境にすることができる。従って、減菌処理対象空間200を、細胞培養等を行うのに適した環境とすることができる。
By spraying the hydrogen peroxide solution into the
本実施形態では、減菌液として過酸化水素水が用いられているので、使用後、過酸化水素水を触媒としての二酸化マンガンに通すことにより、水と酸素に分解することができる。そのため、減菌液を無害な状態にして排出することができる。 In the present embodiment, since hydrogen peroxide solution is used as the sterilizing solution, it can be decomposed into water and oxygen by passing the hydrogen peroxide solution through manganese dioxide as a catalyst after use. Therefore, the sterilized liquid can be discharged in a harmless state.
なお、本実施形態では、減菌液として過酸化水素水を用いた形態について説明するが、本発明は上記実施形態に限定されない。減菌処理対象空間200の内部の殺菌作用を有し、減菌処理対象空間の内部の菌の数を減少させることができるのであれば、他の種類の減菌液が用いられてもよい。例えば、ホルマリンや、次亜塩素酸ナトリウム水溶液が、減菌液として用いられてもよい。
In addition, in the present embodiment, a mode in which hydrogen peroxide solution is used as the sterilization liquid will be described, but the present invention is not limited to the above-described embodiment. Other types of sterilization solutions may be used as long as they have a sterilizing effect inside the sterilization
減菌処理装置100は、過酸化水素水を霧化させるための霧化ユニット(状態変更部)10と、減菌処理対象空間200に霧化された過酸化水素水を供給すると共に減菌処理対象空間200から霧化された過酸化水素水を排出する供給ユニット(供給部)20とを有している。
The
霧化ユニット10は、霧化される前の液体の状態の過酸化水素水を貯留した霧化槽11を有している。霧化槽11は、過酸化水素水を貯留する貯留空間13の一部の壁面を構成し三角形の形状を有するブロック部材14を有している。
The atomizing
霧化槽11の底面には、貯留された過酸化水素水を霧状にして過酸化水素水の霧化を行う超音波振動子12が設けられている。貯留された過酸化水素水の内部で超音波振動子12が駆動されて超音波振動子12から超音波による振動エネルギーが液面に向けて発せられることにより、液面で過酸化水素水が霧状になり、霧化される。過酸化水素水が霧化することにより、減菌作用の有効成分を含む霧状の減菌ミストが生じる。
An
なお、本実施形態では、超音波振動子12によって過酸化水素水の霧化が行われているが、本発明は上記実施形態に限定されず、減菌液の霧化を行うことができるのであれば、他の構成が用いられてもよい。例えば、減菌液をスプレーして、減菌ミストを生じさせる構成が用いられてもよい。
In this embodiment, the hydrogen peroxide solution is atomized by the
また、霧化槽11の内部には、超音波振動子12の上方に、超音波振動子12を挟んで互いに対向するように、2つの通路構成部材15が配置されている。超音波振動子12の上方に2つの通路構成部材15が対向して配置されていることにより、超音波振動子12の上方に通路構成部材15によって画成された通路が形成されている。対向する通路構成部材15によって超音波振動子12の上方に通路が形成されているので、超音波振動子12から過酸化水素水の液面に向かって通路構成部材15によって通路が形成されている。
Further, inside the
このように超音波振動子12と過酸化水素水の液面との間に通路構成部材15によって通路が形成された状態で超音波振動子12が駆動すると、超音波振動子12から発せられた超音波による振動エネルギーが効率的に過酸化水素水の液面に伝達される。従って、超音波振動子12で発せられた振動エネルギーによって、過酸化水素水の霧化が効率的に行われ、多量の過酸化水素水についての霧化を行うことができる。なお、本実施形態の減菌処理装置100では、通路構成部材15が設けられているが、通路構成部材15については省略することも可能である。
When the
また、霧化槽11の内部には、過酸化水素水の水位を計測することが可能な水位計16が配置されている。
In addition, a
霧化ユニット10における超音波振動子12の上方の位置から、減菌処理対象空間200に向けてダクト30が延びている。霧化ユニット10によって霧化された過酸化水素水が、ダクト30を通って、減菌処理対象空間200に供給される。
A
供給ユニット20は、減菌処理対象空間200から霧化槽11に延びるダクト21を有している。ダクト21は、減菌処理対象空間200と霧化ユニット10との間を接続するように配置されている。ダクト21を通じて、減菌処理対象空間200から排出された過酸化水素水が霧化ユニット10の霧化槽11に再び供給されるように構成されている。
The
供給ユニット20は、ファン22を有している。ファン22は、ダクト21の内部に配置されている。ファン22を駆動させて回転させることにより、減菌処理対象空間200から排気を行うことが可能に構成されている。また、ファン22を回転させることにより、減菌処理対象空間200へ霧化された過酸化水素水を減菌処理対象空間200の内部に吸引させ、減菌処理対象空間200に霧化された過酸化水素水を供給することが可能に構成されている。なお、本実施形態の減菌処理装置100では、ファン22がダクト21の内部に配置された構成について説明しているが、本発明は上記実施形態に限定されない。霧化された過酸化水素水が減菌処理対象空間200に供給されるのであれば、他の形態が用いられてもよい。例えば、ファンがダクト30の内部に配置された構成が採用されてもよい。
The
減菌処理対象空間200には、湿度計(相対湿度測定部)40が取り付けられている。減菌処理対象空間200の内部に湿度計40が取り付けられていることにより、減菌処理対象空間200の内部の湿度を計測することが可能に構成されている。
A hygrometer (relative humidity measuring unit) 40 is attached to the sterilization
なお、湿度計40については、減菌処理対象空間200の内部の温度を測定することができるように、温度計としての機能を備えていてもよい。本実施形態では、湿度計40は、温度についても測定できるように構成されている。温度計は、湿度計とは別に構成されていてもよい。
The
減菌処理装置100は、霧化槽11とは別の位置に、過酸化水素水を貯留させる容器50を有している。容器50と霧化ユニット10における霧化槽11との間には、容器50と霧化槽11との間を接続するように、供給管51が設けられている。供給管51には、供給管51を介して容器50内に貯留された過酸化水素水を霧化槽11に向けて供給する供給ポンプ52が配置されている。容器50の下方には、容器50及び容器50の内部に貯留された過酸化水素水の重量を測定することが可能な容器重量計53が配置されている。供給ポンプ52を駆動させることにより、容器50の内部に貯留させている過酸化水素水を霧化槽11に供給することができる。
The
減菌処理装置100は、制御ユニット(制御部)60を備えている。制御ユニット60は、プロセッサ、揮発性メモリ、不揮発性メモリ及びI/Oインターフェース等を有する。制御ユニット60は、受信部、記憶部、診断部及び出力部を有する。受信部及び出力部は、I/Oインターフェースにより実現される。記憶部は、揮発性メモリ及び不揮発性メモリにより実現される。診断部は、不揮発性メモリに保存されたプログラムに基づいてプロセッサが揮発性メモリを用いて演算処理することで実現される。
The
制御ユニット60は、超音波振動子12、水位計16、湿度計40、供給ポンプ52及び容器重量計53に接続されている。制御ユニット60は、水位計16に接続されているので、水位計16によって検出された霧化槽11内に貯留されている過酸化水素水の水位を受け取ることができる。また、制御ユニット60は、湿度計40に接続されているので、湿度計40によって検出された減菌処理対象空間200の内部の湿度を受け取ることができる。また、制御ユニット60は、容器重量計53に接続されているので、容器重量計53によって検出された、容器50内に貯留された過酸化水素水の重量を受け取ることができる。容器重量計53により容器50内の過酸化水素水の重量を検出することによって、容器50から霧化槽11へ供給された過酸化水素水の重量を検出することができる。
The
制御ユニット60は、水位計16、湿度計40及び容器重量計53から受け取ったデータに基づいて、超音波振動子12の駆動を制御することができる。また、水位計16、湿度計40及び容器重量計53から受け取ったデータに基づいて、供給ポンプ52の駆動を制御することができる。
The
水位計16によって霧化槽11内に貯留されている過酸化水素水の水位を検出しながら供給ポンプ52の駆動を制御し、容器50から霧化槽11への過酸化水素水の供給が制御されるので、霧化槽11内での過酸化水素水の水位を一定範囲内に保つことができる。そのため、霧化槽11内での過酸化水素水の水位を、超音波振動子12の駆動による過酸化水素水の霧化に適した水位に保つことができる。これにより、超音波振動子12を駆動させることによって過酸化水素水を霧化させる際に、過酸化水素水を効率良く霧化させることができる。
The drive of the
ファン22の駆動によって減菌処理対象空間200の内部に霧化された過酸化水素水のミストが供給されて霧化槽11内部の過酸化水素水が消費されたときには、消費された分の過酸化水素水が霧化槽11内部に供給され、霧化槽11内部の過酸化水素水の水位が一定に保たれる。霧化槽11内部で過酸化水素水の水位が一定に保たれるので、容器50から霧化槽11へ供給される過酸化水素水の量が、減菌処理対象空間200の内部に供給される過酸化水素水の消費量となる。従って、容器50内の過酸化水素水の重量を検出することによって、霧化槽11で消費される過酸化水素水の消費量を検出することができる。
When the mist of the hydrogen peroxide solution atomized by the drive of the
なお、制御ユニット60は、供給ユニット20のファン22による駆動を制御するように構成されてもよい。
The
以上のように構成された減菌処理装置100によって減菌処理対象空間200の減菌処理が行われる際の、減菌処理装置100による制御フローについて説明する。
A control flow by the
図2に、減菌処理装置100によって減菌処理対象空間200の減菌処理を行う際のフローチャートを示す。
FIG. 2 shows a flowchart when the
まず、減菌処理対象空間200の内部の温度と湿度が測定される(S1)。減菌処理対象空間200の内部の温度と湿度の測定は、減菌処理対象空間200の内部に取り付けられた湿度計40によって行われる。湿度計40によって検出された温度及び湿度についてのデータは、制御ユニット60に送られる。
First, the temperature and humidity inside the
次に、S1で測定された減菌処理対象空間200の内部の温度と湿度が設定範囲内に収まっているかどうかが判断される(S2)。制御ユニット60が受け取った、湿度計40によって測定された減菌処理対象空間200の内部の温度及び湿度についての検出値が、予め定められている設定範囲内に収まっているかどうかが判断される。ここでは、制御ユニット60が、減菌処理対象空間200の内部の温度及び湿度についての検出値と、予め定められている設定範囲との比較を行う。減菌処理対象空間200の内部の温度及び湿度についての検出値と、予め定められている設定範囲との比較を行った結果、減菌処理対象空間200の内部の温度及び湿度が設定範囲から外れている場合には、減菌処理が中止される(S3)。減菌処理対象空間200の内部の温度及び湿度が設定範囲内に収まっている場合には、霧化ユニットによる過酸化水素水の霧化を開始する(S4)。
Next, it is determined whether the temperature and humidity inside the
過酸化水素水の霧化は、超音波振動子12を駆動されることによって行われる。貯留された過酸化水素水の内部で超音波振動子12が駆動されて超音波による振動エネルギーが過酸化水素水に作用するので、貯留された過酸化水素水の液面で過酸化水素水が霧化される。従って、液面の上方の位置に、霧化された過酸化水素水が発生する。
The atomization of the hydrogen peroxide solution is performed by driving the
過酸化水素水の霧化は、超音波振動子12が駆動されている間はずっと行われ続ける。従って、霧化される過酸化水素水の量は、過酸化水素水の内部で超音波振動子12が駆動される時間の長さに比例する。
The atomization of the hydrogen peroxide solution continues while the
霧化ユニット10による過酸化水素水の霧化が行われると、霧化された過酸化水素水が減菌処理対象空間200に供給される(S5)。本実施形態では、霧化ユニット10の超音波振動子12が駆動されると、供給ユニット20のファン22が駆動される。ファン22が駆動することにより減菌処理対象空間200からダクト21を通って空気が排出される。これに伴い減菌処理対象空間200内部の圧力が低下するので、ダクト30を介して、減菌処理対象空間200の内部に霧化ユニット10によって霧化された過酸化水素水が供給される。
When the hydrogen peroxide solution is atomized by the
S5における減菌処理対象空間200への霧化された過酸化水素水の供給は、減菌処理対象空間200の内部の相対湿度が設定値以上となるまで行われる(第1の供給工程)。図3に、過酸化水素水の供給について時間ごとに区切ったときの、減菌処理対象空間200内部の相対湿度の推移についてのグラフを示す。図3では、相対湿度についての設定値をH1として示している。相対湿度が設定値H1以上となるまで過酸化水素水が減菌処理対象空間の内部に供給される間の時間をt1とする。
The atomized hydrogen peroxide solution is supplied to the sterilization
ここで、相対湿度についての設定値は、減菌処理対象空間200の内部で、過酸化水素水の中に含まれる有効成分としての過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断されるときの、相対湿度の値である。ここで、「飽和に準じた状態」とは、減菌処理対象空間200の内部空間よりも減菌処理対象空間200の減菌処理対象物表面の温度が低い場合に、減菌処理対象空間200の空間内部の全体で過酸化水素が飽和していなくても、減菌処理対象空間200の減菌処理対象物表面の周囲の位置では過酸化水素が飽和状態になって結露している状態のことを指すものとする。本実施形態では、減菌処理の対象は、減菌処理対象空間200の空間部分を取り囲む部分の表面及び減菌処理対象空間200の空間内部に設置されるものの表面である。すなわち、減菌処理対象物表面は、減菌処理対象空間200における減菌処理が行われる空間を取り囲む部分の表面及び減菌処理が行われる空間に設置されたものの表面のことである。減菌処理対象物表面としては、例えば、減菌処理対象空間200の空間部分を取り囲む天井や床、側壁等の表面を含む。さらに、例えば、減菌処理対象物表面は、減菌処理対象空間200の空間内部に設置されたロボットや棚の表面などを含む。減菌処理対象空間200の空間中心と減菌処理対象物周囲との間に温度差があり、空間全体では飽和していないが減菌処理対象物周囲では飽和している状態のことを「飽和に準じた状態」というものとする。減菌処理対象物周囲は、減菌処理対象物表面の周囲の部分のことである。
Here, the set value for the relative humidity is determined to be saturated or a state in which the hydrogen peroxide as an active ingredient contained in the hydrogen peroxide solution is saturated in the
減菌液として過酸化水素水が用いられる場合には、減菌処理対象空間200の内部は、霧化された過酸化水素水が供給され続け、水分についての相対湿度が70パーセント以上となったときに、過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断される。過酸化水素水が減菌処理対象空間200の内部で減菌処理を行う減菌液として用いられている場合には、通常、減菌処理対象空間200の内部の水分についての相対湿度が70パーセント以上となったときには、過酸化水素については減菌処理対象空間200の内部で飽和している。あるいは、過酸化水素については減菌処理対象空間200の内部で飽和に近い状態になっている。このように、減菌液の有効成分が過酸化水素であるときには、相対湿度が70パーセントで、過酸化水素がほぼ飽和状態になっていると判断することができる。
When hydrogen peroxide solution is used as the sterilizing solution, atomized hydrogen peroxide solution is continuously supplied to the interior of the
なお、本実施形態では、減菌処理対象空間200の内部の相対湿度についての設定値H1は70パーセントとしているが、本発明はこれに限定されない。減菌液として過酸化水素水を用いている場合には、相対湿度についての設定値は、70パーセント以上であれば、さらに高い数値の設定値であってもよい。高い数値である程、相対湿度が設定値となったときには、過酸化水素水は、より確実に飽和している状態となる。
In the present embodiment, the set value H1 for the relative humidity inside the
また、減菌処理対象空間200の内部の相対湿度についての設定値H1は、70パーセントよりも小さい値であってもよい。具体的には、採用される減菌液の種類によっては、減菌液が、飽和蒸気圧の低いものである場合も考えられる。そのような場合、減菌処理対象空間200の内部において、水分についての相対湿度が70パーセントよりも小さい相対湿度であっても、減菌処理対象空間200の内部で減菌液の有効成分が飽和する可能性がある。また、減菌液が過酸化水素水である場合にも、周囲の環境によっては、減菌処理対象空間200の内部において、水分についての相対湿度が70パーセントよりも小さい相対湿度であっても、減菌処理対象空間200の内部で減菌液の有効成分が飽和する可能性がある。従って、減菌処理対象空間200の内部の相対湿度についての設定値H1は、70パーセントよりも小さい値であってもよい。例えば、減菌処理対象空間200の内部の相対湿度についての設定値H1は、50パーセント程度に設定されてもよい。
The set value H1 for the relative humidity inside the sterilization
また、減菌液として過酸化水素水以外のものが用いられる場合には、減菌液ごとに設定値は変わる。減菌液の物性に応じた相対湿度についての設定値を用いればよい。 When a sterilizing solution other than hydrogen peroxide is used, the set value changes for each sterilizing solution. A set value for the relative humidity depending on the physical properties of the sterilized liquid may be used.
霧化された過酸化水素水の供給が、減菌処理対象空間200の内部の相対湿度が設定値H1以上となるまで行われると、減菌処理対象空間200の内部の相対湿度が設定値H1以上であるかどうかの判断が行われる(S6)。減菌処理対象空間200の内部の相対湿度が設定値H1以上であるかどうかの判断は、制御ユニット60によって行われる。制御ユニット60には、湿度計40による減菌処理対象空間200の内部の相対湿度についての測定値が送られるので、制御ユニット60は、受け取った湿度計40によって検出された相対湿度についての測定値と、予め定められている設定値H1との間で比較を行う。比較の結果、相対湿度についての検出値が設定値H1以上であれば、減菌処理対象空間200の内部で、過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になっていると判断される。相対湿度についての検出値が設定値H1よりも小さい値であれば、減菌処理対象空間200の内部への過酸化水素水の供給を継続して行う。減菌処理対象空間200の内部への過酸化水素水の供給は、相対湿度についての検出値が設定値H1以上となるまで行われる。
When the atomized hydrogen peroxide solution is supplied until the relative humidity inside the sterilization
減菌処理対象空間200の内部の相対湿度が設定値H1以上となるまでの時間t1の間の過酸化水素水の供給が行われると、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水の供給が減菌処理対象空間200へ行われる。このときの過酸化水素水の供給についても、霧化された過酸化水素水が減菌処理対象空間200に供給される(S7)。
When the hydrogen peroxide solution is supplied for a time t1 until the relative humidity inside the sterilization
減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量の減菌処理対象空間200への過酸化水素水の供給は、図3に示される時間t2の間行われている減菌処理対象空間200への過酸化水素水の供給である。
The supply of hydrogen peroxide water to the sterilization
時間t2における減菌処理対象空間200への過酸化水素水の供給(追加投入)では、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給される(第2の供給工程)。このときの、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量は、予め試験によって定められている。試験によって定められる、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量については後述する。
In the supply (additional input) of the hydrogen peroxide solution to the sterilization
減菌処理対象空間200の内部が、過酸化水素によって飽和すると、減菌処理対象空間200の内部で過酸化水素水が凝縮する。減菌処理対象空間200の内部で過酸化水素水が凝縮すると、凝縮した過酸化水素水が減菌処理対象空間200の減菌処理対象物表面に付着する。減菌処理対象空間200の減菌処理対象物表面に付着した過酸化水素水は、そこで殺菌作用を効果的に発揮することにより、減菌処理対象空間200の内部が減菌処理される。なお、過酸化水素水は、ガス状態でも殺菌作用を発揮するが、液体状態の方がガス状態に比べて殺菌力が格段に強くなる。つまり、乾式法による減菌処理よりも、湿式法による減菌処理の方が、殺菌力は強い。また、減菌処理対象空間200の減菌処理対象物周囲で過酸化水素が飽和状態になって結露し、過酸化水素が飽和に準じた状態となっても、減菌処理対象空間200の減菌処理対象物表面で過酸化水素水が凝縮することにより、減菌処理対象空間200の減菌処理対象物表面に付着した過酸化水素水がそこで殺菌作用を効果的に発揮させることができる。従って、減菌処理対象空間200の内部で過酸化水素が飽和に準じた状態であっても、湿式法により減菌処理対象空間200の内部で減菌処理を行うことができる。
When the interior of the sterilization
時間t2で、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が減菌処理対象空間200に供給されると、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が減菌処理対象空間200に供給されたかどうかの判断が行われる(S8)。このときの判断は、制御ユニット60によって行われる。制御ユニット60は、容器重量計53による過酸化水素水の貯留した容器50の重量の検出値を受け取ることができる。容器50の重量の検出値から、過酸化水素水の消費量を検出することができる。
At time t2, when hydrogen peroxide water in an amount corresponding to the degree of sterilization inside the sterilization
検出された過酸化水素水の消費量から、減菌処理対象空間200に、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されたかどうかの判断が行われる。減菌処理対象空間200に、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されていなければ、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されるまで継続して過酸化水素水の供給が行われる。減菌処理対象空間200に、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されれば、時間t2における過酸化水素水の供給が完了し、減菌処理対象空間200への過酸化水素水の供給が止められる。
From the detected consumption amount of hydrogen peroxide water, it is determined whether or not the amount of hydrogen peroxide water according to the degree of sterilization has been supplied to the
このとき、霧化ユニット10による過酸化水素水の霧化が停止する。その後、その状態で一定時間保持される。図3に示される保持時間t3については、減菌処理の程度に応じて予め定められている。予め定められた分の保持時間による状態の保持が行われる。
At this time, atomization of the hydrogen peroxide solution by the
図3の保持時間t3が過ぎると、減菌処理対象空間200からの排気が行われる(S10)。減菌処理対象空間200からの排気は、図3の時間t4の間に亘って行われる。このとき、減菌処理対象空間200内部について排気して換気することにより、残留する過酸化水素水等を減菌処理対象空間200から排出させる。本実施形態では、時間t4の間行われる減菌処理対象空間200からの排気は、減菌処理対象空間200の内部の過酸化水素の濃度が、1ppm以下となるまで行われる。
When the holding time t3 in FIG. 3 has passed, the sterilization
なお、本実施形態では、減菌処理対象空間200からの排気は、減菌処理対象空間200の内部の過酸化水素の濃度が1ppm以下となるまで行われているが、本発明はこれに限定されない。減菌処理対象空間200の内部の過酸化水素の濃度がさらに低い濃度となるまで行われてもよいし、減菌処理対象空間200の内部の過酸化水素の濃度が高い状態の段階で排気を止めてもよい。
In the present embodiment, the exhaust from the sterilization
時間t4の間行われる減菌処理対象空間200からの排気が行われると、ファン22の駆動が止められる。このとき、減菌処理が完了する。
When the
次に、S7で、図3に示される時間t2の間に減菌処理対象空間200に供給される、過酸化水素水についての、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量を定める試験について説明する。時間t2に減菌処理対象空間200に供給される、過酸化水素水についての、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量は、周囲の環境の温度と湿度とに応じて、予め定められている。
Next, in S7, according to the degree of sterilization of the hydrogen peroxide solution supplied to the sterilization
時間t2の追加投入で減菌処理対象空間200に供給される、過酸化水素水についての供給量は、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度ごとに、予め行われる試験によって定められる。このときの過酸化水素水についての減菌処理対象空間200への供給量は、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量である。
The supply amount of the hydrogen peroxide solution, which is supplied to the sterilization
一定の範囲内の温度及び湿度ごとに行われる試験では、温度、湿度について、一定の範囲の外側であって、一定の範囲の4つの角の付近の4点(図4)で減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量を検出する。4点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、減菌の程度に応じた量として定められる。 In a test conducted for each temperature and humidity within a certain range, the temperature and humidity were sterilized at four points outside the certain range and near four corners of the certain range (Fig. 4). The supply amount of hydrogen peroxide solution that is confirmed to be in the state is detected. Of the supply of hydrogen peroxide water detected at 4 points and confirmed to be in a sterilized state, the largest supply amount of hydrogen peroxide water is determined as an amount according to the degree of sterilization. To be
所定量の過酸化水素水を投入したときに、温度、湿度について、一定の範囲よりも減菌作用にとって厳しい環境のときに減菌された状態であることが確認されれば、一定の範囲内の温度、湿度では、その量の過酸化水素水の供給量で減菌された状態が維持されると推定できる。そのため、本実施形態では、一定の範囲よりも、わずかに温度の高い領域、わずかに温度の低い領域、わずかに湿度の高い領域、わずかに湿度の低い領域についてそれぞれ、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量が検出される。すなわち、温度、湿度について、一定の範囲の外側の4点で、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量が検出される。4点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、減菌の程度に応じた量として定められる。 If a certain amount of hydrogen peroxide is added and temperature and humidity are confirmed to be sterilized in an environment that is more severe than the certain range for sterilizing action, then within a certain range. It can be presumed that at the temperature and humidity of 1, the sterilized state is maintained by the supplied amount of the hydrogen peroxide solution. Therefore, in the present embodiment, a slightly sterilized region, a slightly cooled region, a slightly humidified region, and a slightly dipped region are sterilized in a certain range. It is confirmed that the supply amount of hydrogen peroxide solution is detected. That is, regarding the temperature and the humidity, the supply amount of the hydrogen peroxide solution which is confirmed to be in the sterilized state is detected at four points outside the fixed range. Of the supply of hydrogen peroxide water detected at 4 points and confirmed to be in a sterilized state, the largest supply amount of hydrogen peroxide water is determined as an amount according to the degree of sterilization. To be
図4には、減菌処理対象空間200の内部での一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度についての減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量を設定するための試験の行われる際に設定される温度及び湿度について示されている。図4では、一定の範囲の温度は20度〜30度の範囲であり、一定の範囲の湿度は35〜80パーセントの範囲である。このときに行われる試験では、温度及び湿度が図4のP1、P2、P3及びP4の点における温度及び湿度に設定されて、減菌された状態が確認されるときの過酸化水素水の供給量をそれぞれの状態で検出する。検出されたそれぞれの状態における減菌された状態が確認されるときの過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量を、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた供給量として設定する。
FIG. 4 shows a test line for setting the supply amount of hydrogen peroxide solution according to the degree of sterilization for a certain range of temperature and a certain range of humidity inside the
図4の状態P1では、温度が、一定の範囲における下限の温度20度よりもやや低く、且つ、湿度が、一定の範囲における上限の湿度80パーセントよりもやや高い湿度に設定されている。状態P1は、図4における、温度が一定の範囲における下限の温度20度よりも低く、湿度が一定の範囲における上限の湿度80パーセントよりも高い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。 In the state P1 of FIG. 4, the temperature is set to be slightly lower than the lower limit temperature of 20 degrees in the certain range, and the humidity is set to be slightly higher than the upper limit of 80% in the certain range. The state P1 is a temperature within a certain range and a certain range within a region in which the temperature is lower than the lower limit temperature of 20 degrees in the certain range and higher than the upper limit humidity of 80% in the certain range in FIG. The temperature and humidity of the part close to the humidity of.
状態P1のときに、減菌処理対象空間200の内部に霧状のミスト(減菌ミスト)の状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量(第1の供給量)が検出される。これにより、減菌処理対象空間200の内部に供給されるミスト(減菌ミスト)の供給量が検出される。
In the state P1, hydrogen peroxide solution is supplied in the state of mist-like mist (sterile mist) into the interior of the
図4の状態P2では、温度が、一定の範囲における下限の温度20度よりもやや低く、且つ、湿度が、一定の範囲における下限の湿度35パーセントよりもやや低い湿度に設定されている。状態P2は、図4における、温度が一定の範囲における下限の温度20度よりも低く、湿度が一定の範囲における下限の湿度35パーセントよりも低い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。 In the state P2 of FIG. 4, the temperature is set to be slightly lower than the lower limit temperature of 20 degrees in the certain range, and the humidity is set to be slightly lower than the lower limit of 35% in the certain range. The state P2 is a temperature in a certain range and a certain range in a region in which the temperature is lower than the lower limit temperature of 20 degrees in the certain range and the humidity is lower than 35% of the lower limit humidity in the certain range in FIG. The temperature and humidity of the part close to the humidity of.
状態P2のときに、減菌処理対象空間200の内部にミストの状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量(第2の供給量)が検出される。
In the state P2, the hydrogen peroxide solution is supplied to the interior of the sterilization
図4の状態P3では、温度が、一定の範囲における上限の温度30度よりもやや高く、且つ、湿度が、一定の範囲における下限の湿度35パーセントよりもやや低い湿度に設定されている。状態P3は、図4における、温度が一定の範囲における上限の温度30度よりも高く、湿度が一定の範囲における下限の湿度35パーセントよりも低い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。 In the state P3 of FIG. 4, the temperature is set to be slightly higher than the upper limit temperature of 30 degrees in a certain range, and the humidity is set to be slightly lower than the lower limit of 35% in the certain range. The state P3 is a temperature within a certain range and a certain range in a region in which the temperature is higher than the upper limit temperature of 30 degrees in the certain range and lower than the lower limit humidity of 35% in the certain range in FIG. The temperature and humidity of the part close to the humidity of.
状態P3のときに、減菌処理対象空間200の内部にミストの状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量(第3の供給量)が検出される。
In the state P3, the hydrogen peroxide solution is supplied to the interior of the
図4の状態P4では、温度が、一定の範囲における上限の温度30度よりもやや高く、且つ、湿度が、一定の範囲における下限の湿度80パーセントよりもやや高い湿度に設定されている。状態P4は、図4における、温度が一定の範囲における上限の温度30度よりも高く、湿度が一定の範囲における上限の湿度80パーセントよりも高い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。 In state P4 of FIG. 4, the temperature is set to be slightly higher than the upper limit temperature of 30 degrees in a certain range, and the humidity is set to be slightly higher than the lower limit of 80% in the certain range. In the state P4, the temperature in a certain range and the certain range are higher than the upper limit temperature of 30 degrees in the certain range and the humidity is higher than 80% of the upper limit humidity in the certain range in FIG. The temperature and humidity of the part close to the humidity of.
状態P4のときに、減菌処理対象空間200の内部にミストの状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量(第4の供給量)が検出される。
In the state P4, the hydrogen peroxide solution is supplied to the interior of the
このように、P1〜P4の4点のそれぞれで、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量が検出される。P1〜P4の4点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、この範囲における減菌の程度に応じた量として定められる。 In this way, at each of the four points P1 to P4, the supply amount of the hydrogen peroxide solution confirmed to be in the sterilized state is detected. Among the supply amount of hydrogen peroxide water which is confirmed to be in a sterilized state detected at 4 points of P1 to P4, the largest supply amount of hydrogen peroxide water is the sterilization amount in this range. It is set as an amount according to the degree.
減菌処理対象空間200の内部が減菌された状態にあるかどうかを確認する際には、バイオロジカルインジケータを用いて確認を行うことができる。減菌処理の行われた減菌処理対象空間200の内部にバイオロジカルインジケータを配置し、その後のバイオロジカルインジケータの状態を確認することにより、減菌処理対象空間200の内部に菌が残っているかどうかを確認することができる。バイオロジカルインジケータを用いて減菌処理対象空間200の内部に菌が残っているかどうかの状態を確認した際に、菌が残っていないことが確認されると、減菌された状態が達成されたと判断することができる。
When confirming whether or not the inside of the sterilization
試験によって予め定められる、過酸化水素水についての減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた供給量は、減菌処理対象空間200の内部で要求される減菌処理の程度に応じて変わる。厳しいレベルの減菌処理が要求される場合には、その分、減菌処理対象空間200の内部に供給される過酸化水素水の量は多くなる。その一方、減菌処理で要求されるレベルが厳しくない場合には、多量の過酸化水素水は必要とされず、減菌処理対象空間200の内部に供給される過酸化水素水の量は少なくて済む。
The supply amount according to the degree of sterilization of the hydrogen peroxide solution inside the sterilization
このようにして、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度についての、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量が設定される。また、この一定の範囲の温度及び湿度についての減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を他の範囲についても行うことにより、他の範囲の温度及び湿度についても減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を行うことができる。このように、使用される温度及び湿度についての範囲を複数に区切り、複数の範囲のそれぞれについて減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を行うことにより、使用される温度及び湿度についての範囲の全体に亘って、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を行うことができる。また、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量が、周囲の環境の温度と湿度とに応じて定められるので、減菌液の供給量を容易に定めることができる。 In this way, the supply amount of the hydrogen peroxide solution according to the degree of sterilization is set for a certain temperature range and a certain humidity range. Further, by setting the supply amount of the hydrogen peroxide solution according to the degree of sterilization with respect to the temperature and humidity within the certain range for the other ranges, the sterilization can be performed for the temperature and humidity within the other ranges. The supply amount of hydrogen peroxide solution can be set according to the degree. In this way, by dividing the range of temperature and humidity to be used into a plurality of ranges, and setting the supply amount of hydrogen peroxide solution according to the degree of sterilization for each of the plurality of ranges, The supply amount of the hydrogen peroxide solution can be set according to the degree of sterilization over the entire range of humidity. Further, since the supply amount of the hydrogen peroxide solution according to the degree of sterilization is determined according to the temperature and humidity of the surrounding environment, the supply amount of the sterilization liquid can be easily determined.
以上のように、減菌処理装置100を用いて、減菌処理対象空間200の内部の減菌処理が行われる。本実施形態では、相対湿度が設定値以上となるまでの量の過酸化水素水の供給が減菌処理対象空間200へ行われ、その後、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水の供給が減菌処理対象空間200へ行われる。従って、減菌処理対象空間200の内部での減菌の程度に応じて、減菌処理対象空間200への過酸化水素水の供給量が変えられるので、要求されるレベルに応じた減菌処理を容易に行うことができる。
As described above, the
また、設定値以上となるまでの量の過酸化水素水が減菌処理対象空間200の内部に供給されるので、減菌処理対象空間200が飽和した状態に近い状態となるまで過酸化水素水を供給することができる。過酸化水素水を減菌処理対象空間200に供給することにより、減菌処理対象空間200が過酸化水素で飽和した状態に近い状態となるので、減菌処理対象空間200の内部が均衡し、比較的安定した状態になる。このように安定した状態では、ごくわずかな過酸化水素水の量の変化については、減菌処理に対しあまり大きく影響しない。そのため、そこからの過酸化水素水の供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性はない。従って、過酸化水素水の量を測定するのに高精度な重量測定装置は必要とされない。従って、高精度の重量測定装置が省かれた装置によって、減菌処理の際の過酸化水素水の供給量の制御を行うことができる。これにより、減菌処理装置の製造コストを少なく抑えることができる。
In addition, since the hydrogen peroxide solution in an amount up to the set value or more is supplied to the interior of the sterilization
また、時間t1で過酸化水素水が供給される際の減菌処理対象空間200の内部の相対湿度の設定値は、減菌処理対象空間200の内部で過酸化水素中の有効成分の過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断される相対湿度の値である。従って、時間t2で減菌処理対象空間200の内部に過酸化水素水が供給される際には、減菌処理対象空間200の内部は、過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になっている。減菌処理の際の減菌の程度は、減菌処理対象空間200の内部が飽和した状態になってから減菌処理対象空間200の内部に供給される過酸化水素の量に比例する。従って、本実施形態の減菌処理によれば、減菌処理対象空間200の内部を一旦飽和あるいは飽和に準じた安定した状態とし、そこから減菌の程度に応じた供給量による過酸化水素水の供給が行われる。従って、要求される減菌の程度に応じた供給量による過酸化水素水の供給を容易に行うことができる。
In addition, the set value of the relative humidity inside the sterilization
本実施形態では、減菌処理対象空間200の内部が飽和した状態になってから減菌処理対象空間200の内部に供給される過酸化水素水の量は、容器重量計53によって検出された過酸化水素水を貯留した容器50の重量とから検出されている。従って、高精度の重量測定装置を必要とせず、簡易な構成によって、減菌処理対象空間200の内部が飽和した状態になってからの過酸化水素水の消費量を検出することができる。
In the present embodiment, the amount of hydrogen peroxide solution supplied to the interior of the sterilization
例えば、特開2011−136035号公報に開示された減菌処理装置では、装置の使用前の状態と、使用中の状態とにおける減菌液の重量を測定することにより、減菌液の消費量を測定している。この装置では、減菌液の重量を測定する際に、減菌処理対象空間の内部を減菌液の有効成分によって飽和させているわけではないので、減菌処理対象空間の内部が不安定な状態にある。従って、減菌液の供給量がわずかに変わっただけで減菌処理における減菌の程度が大きく変わる。従って、この装置では、減菌処理で用いられる減菌液の消費量を正確に測定することが求められる。減菌処理装置の内部の減菌液の重量を正確に測定する際には、霧化槽と減菌処理対象空間との間に延びるダクト内で結露している減菌液の重量についても測定する必要がある。装置の構成上、ダクト内までは重量測定装置は設けられないことが多いので、減菌液がダクト内で凝縮して残ることを抑えるために、ダクト内を加温することがある。ダクトを加温することで、ダクト内で減菌液を蒸発させ、ダクト内に減菌液が残ることを防止する場合がある。これにより、減菌液がダクト内に残ることが抑えられ、装置内の減菌液の重量を正確に測定することができる。ところが、この場合には、ダクト内を加温する構成が必要になり、減菌処理装置の製造コストが増加してしまう可能性がある。また、高精度の重量測定装置が必要になり、減菌処理装置の製造コストが増加してしまう可能性がある。 For example, in the sterilization treatment device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2011-136035, the consumption of the sterilization liquid is measured by measuring the weight of the sterilization liquid in a state before use and a state in use. Is being measured. In this device, when measuring the weight of the sterilization liquid, the inside of the sterilization treatment target space is not saturated with the effective components of the sterilization treatment liquid, so the inside of the sterilization treatment target space is unstable. Is in a state. Therefore, the degree of sterilization in the sterilization treatment greatly changes even if the supply amount of the sterilization liquid is slightly changed. Therefore, this device is required to accurately measure the consumption amount of the sterilized liquid used in the sterilization treatment. When accurately measuring the weight of the sterilization liquid inside the sterilization treatment equipment, also measure the weight of the sterilization liquid that has condensed in the duct that extends between the atomization tank and the sterilization treatment target space. There is a need to. Since the weight measuring device is often not provided up to the inside of the duct due to the configuration of the device, the inside of the duct may be heated in order to prevent the sterilized liquid from condensing and remaining in the duct. Heating the duct may evaporate the sterilized liquid in the duct and prevent the sterilized liquid from remaining in the duct. This prevents the sterilized liquid from remaining in the duct, and the weight of the sterilized liquid in the device can be accurately measured. However, in this case, a structure for heating the inside of the duct is required, which may increase the manufacturing cost of the sterilization treatment apparatus. In addition, a highly accurate weight measuring device is required, which may increase the manufacturing cost of the sterilization processing device.
これに対し、本実施形態では、測定される過酸化水素水の消費量は、減菌処理対象空間200の内部が過酸化水素で飽和された状態になってからの、減菌処理対象空間200の内部に供給される過酸化水素水の量である。
On the other hand, in the present embodiment, the measured consumption amount of hydrogen peroxide water is the sterilization
過酸化水素水の消費量が測定される際には、減菌処理対象空間200が過酸化水素で飽和し、減菌処理対象空間200の内部が安定した状態となっている。そこからの過酸化水素水の供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性がないので、過酸化水素水の量を測定するのに高精度な重量測定装置は必要とされない。また、高精度に過酸化水素水の重量を測定する必要がないので、ダクト内を加温する構成を設置する必要性がない。従って、ダクト30及びダクト21に加温するための構成を設けることを必要とせず、減菌処理装置100からダクト内の加温のための構成を省くことにより、減菌処理装置100の構成を簡易にすることができる。これにより、減菌処理装置100の製造コストを少なく抑えることができる。
When the consumption of hydrogen peroxide water is measured, the sterilization
また、減菌処理対象空間200が過酸化水素で飽和し、均衡して安定した状態となってから、減菌の程度に応じた供給量の過酸化水素水の供給が行われている。従って、減菌の程度に応じた供給量の過酸化水素水の供給を行う際に、必要とされる過酸化水素水の供給量が周囲の環境の変化による影響を受け難い。周囲の環境の変化によって減菌処理対象空間200内部の温度、湿度がわずかに変化したとしても、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量はあまり影響を受けない。従って、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給を行う際に、周囲の環境の変化によらず、一定の量の過酸化水素水の供給によって、減菌処理対象空間200の内部の減菌処理を確実に行うことができる。そのため、周囲の温度、湿度の変化によらず、安定した減菌処理を行うことができる。
Further, after the
また、本実施形態では、時間t2で減菌処理対象空間200に供給される過酸化水素水の減菌の程度に応じた供給量は、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度ごとに、予め行われる試験によって定められている。従って、減菌処理を行う際に、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給を容易に行うことができる。
Further, in the present embodiment, the supply amount according to the degree of sterilization of the hydrogen peroxide solution supplied to the sterilization
また、時間t2で供給される過酸化水素水の供給量を定める試験では、温度、湿度について、一定の範囲の外側であって、一定の範囲の4つの角の付近の4点で減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量を検出する。4点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、減菌の程度に応じた量として定められる。 Further, in the test for determining the supply amount of the hydrogen peroxide solution supplied at the time t2, the temperature and humidity were sterilized at four points outside the fixed range and near the four corners of the fixed range. The supply amount of hydrogen peroxide water, which is confirmed to be in the open state, is detected. Of the supply of hydrogen peroxide water detected at 4 points and confirmed to be in a sterilized state, the largest supply amount of hydrogen peroxide water is determined as an amount according to the degree of sterilization. To be
これにより、一定の範囲の温度及び湿度では、減菌された状態であることが確認された過酸化水素水の供給量が、時間t2での供給量として定められている。従って、減菌処理の際には、確実に減菌された状態を達成することのできる量の供給量の過酸化水素水を減菌処理対象空間200に供給することができる。従って、減菌処理装置100の信頼性を高く維持することができる。また、時間t2での過酸化水素水の供給量を設定するのに、複雑な式を用いて過酸化水素水の供給量を算出する必要がなく、簡易な方法によって過酸化水素水の供給量を設定することができる。従って、制御ユニット60の性能を高くする必要がなく、減菌処理装置100の製造コストを少なく抑えることができる。
As a result, the supply amount of the hydrogen peroxide solution confirmed to be in a sterilized state within a certain range of temperature and humidity is set as the supply amount at time t2. Therefore, at the time of the sterilization treatment, it is possible to supply the sterilization
なお、上記実施形態では、減菌液が霧化された減菌ミストとしての過酸化水素水が減菌処理対象空間200の内部に供給される形態について説明した。しかしながら、本発明は上記実施形態に限定されない。減菌液が気化されて生成された減菌ガスが減菌処理対象空間200の内部に供給されてもよい。その場合、気化された減菌ガスが減菌処理対象空間200の内部で殺菌作用を発揮させることにより、減菌処理対象空間200の内部の減菌処理を行う。減菌ガスが、過酸化水素水が気化されて生成された過酸化水素である場合には、過酸化水素が減菌処理対象空間200の内部で殺菌作用を発揮して減菌処理対象空間200の内部の減菌を行う。
In addition, the said embodiment demonstrated the form which the hydrogen peroxide solution as a sterilization mist in which the sterilization liquid was atomized is supplied to the inside of the sterilization
また、減菌液が気化されて生成された減菌ガスとしての過酸化水素が減菌処理対象空間200の内部に供給される形態であっても、減菌処理対象空間200の内部が過酸化水素の有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態になるまで気化された過酸化水素が供給され、その後に減菌の程度に応じた量の過酸化水素が供給される形態であってもよい。
Even if hydrogen peroxide as a sterilizing gas generated by vaporizing the sterilizing liquid is supplied to the interior of the sterilization
その際、減菌液の状態を変更させる状態変更部として、過酸化水素水といった減菌液を霧化させる霧化ユニット10に代えて、減菌液を気化させる気化ユニットを減菌処理装置に設けてもよい。減菌液を気化させる気化ユニットとしては、例えば、減菌液を加熱する加熱装置が適用されてもよい。
At that time, as a state changing unit for changing the state of the sterilized liquid, instead of the
減菌ガスは、過酸化水素水等の液体の減菌液が気化されて生成されることから、比較的湿度が高い。減菌ガスが過酸化水素である場合には、殺菌作用の有効成分を含む減菌液としての過酸化水素水が加熱等により気化されて減菌ガスとしての過酸化水素が生成されるので、気化された減菌ガスとしての過酸化水素の湿度は比較的高い。従って、気化された過酸化水素が減菌処理対象空間200に供給される場合、減菌処理対象空間200の内部に減菌ガスを供給し続けることにより、減菌処理対象空間200の内部の湿度が次第に高くなる。相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌ガスの供給を減菌処理対象空間200に行うと、減菌処理対象空間200の内部が、減菌ガスの有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態となる。減菌処理対象空間200の内部が有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態となった後に、減菌の程度に応じた量の気化された減菌ガスを減菌処理対象空間200の内部に供給する。これにより、減菌の程度に応じた量の減菌ガスを、減菌処理対象空間200の内部に供給することができる。このように、減菌液が気化されて生成された減菌ガスが減菌処理対象空間200の内部に供給される場合であっても、減菌ガスの供給の制御を行うことができる。
The sterilized gas has a relatively high humidity because a sterilized liquid such as hydrogen peroxide solution is vaporized and generated. When the sterilized gas is hydrogen peroxide, hydrogen peroxide as a sterilized solution containing a sterilizing active ingredient is vaporized by heating or the like to generate hydrogen peroxide as a sterilized gas, The humidity of hydrogen peroxide as a vaporized sterile gas is relatively high. Therefore, when the vaporized hydrogen peroxide is supplied to the sterilization
また、霧化された減菌ミストと気化された減菌ガスとが混合した状態で発生し、霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスが減菌処理対象空間200に供給されて殺菌作用を発揮させることとしてもよい。
Further, the atomized sterilized mist and the vaporized sterilized gas are generated in a mixed state, and the atomized sterilized mist and the vaporized sterilized gas are supplied to the
その際も同様に、相対湿度が設定値以上となるまでの量の霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスの供給を減菌処理対象空間200に行い、減菌処理対象空間200の内部を、減菌液の有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態にする。その後、霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスを減菌処理対象空間200の内部に供給することにより、減菌の程度に応じた量の霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスが減菌処理対象空間200に供給される。
At that time, similarly, the atomized sterilization mist and the vaporized sterilization gas are supplied to the sterilization
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る減菌処理装置について説明する。なお、上記第1実施形態と同様に構成される部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。(Second embodiment)
Next, a sterilization processing apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described. It should be noted that description of the parts configured in the same manner as in the first embodiment is omitted, and only different parts will be described.
第1実施形態では、湿度計40を用いて減菌処理対象空間200内部の相対湿度について測定し、相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌液を減菌処理対象空間200に供給することにより、減菌処理対象空間200内部を減菌液によって飽和した状態にしている。これに対し、第2実施形態では、減菌処理対象空間200内部の相対湿度を測定せずに、減菌処理対象空間200内部が減菌液によって飽和している状態であるかどうかを直接検出している点で第1実施形態と異なる。
In the first embodiment, the relative humidity inside the sterilization
第2実施形態では、減菌処理対象空間200の内部で減菌液の有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサ(センサ部)が減菌処理対象空間200の内部に配置される。減菌処理対象空間200内部に配置されたセンサによって減菌処理対象空間200の内部が減菌液の有効成分によって飽和している状態であることが確認されると、時間t1での減菌液の供給から、時間t2における減菌の程度に応じた供給量の減菌液の供給に移る。つまり、減菌処理対象空間200の内部が過酸化水素水の有効成分である過酸化水素によって飽和している状態であることが確認されると、減菌の程度に応じた供給量の過酸化水素水の供給に移る。
In the second embodiment, a sensor (sensor unit) that detects whether or not the effective component of the sterilization liquid is saturated inside the sterilization
減菌処理対象空間200の内部で減菌液の有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサとしては、例えば、減菌処理対象空間200の内部に光を照射し、反射する光を検出することにより、減菌処理対象空間200の内部が減菌液の有効成分で飽和しているかどうかを検出するセンサが用いられてもよい。また、減菌処理対象空間200の内部に電気抵抗を配置し、電気抵抗を流れる電流を検出することにより、減菌処理対象空間200の内部が過酸化水素で飽和しているかどうかを検出するセンサが用いられてもよい。減菌処理対象空間200の内部が減菌液の有効成分によって飽和している状態を検出することができるのであれば、どんなセンサが用いられてもよい。
As a sensor for detecting whether or not the active ingredient of the sterilization solution is saturated inside the sterilization
このように、第2実施形態では、減菌処理対象空間200の内部で減菌液の有効成分が飽和している状態が直接的に検出される。減菌処理対象空間200の内部が減菌液の有効成分で飽和している状態が検出されると、時間t2における減菌の程度に応じた供給量の減菌液の供給が行われる。減菌処理対象空間200の内部で減菌液の有効成分が飽和している状態が直接的に検出されているので、減菌処理対象空間200の内部が減菌液の有効成分によって飽和しているかどうかをより確実に判断することができる。減菌処理対象空間200が減菌液の有効成分によって確実に飽和した状態で減菌の程度に応じた量の減菌液の供給が行われるので、減菌処理をより確実に行うことができる。
As described above, in the second embodiment, the state in which the effective component of the sterilization liquid is saturated inside the
10 霧化ユニット
20 供給ユニット
40 湿度計
60 制御ユニット
10
Claims (7)
前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、
前記減菌空間の内部の相対湿度を測定する相対湿度測定部と、
前記相対湿度が設定値以上となるまでの量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部と
を備えたことを特徴とする減菌処理装置。A sterilizing solution containing an active ingredient, a state changing section for atomizing or vaporizing,
A sterilization mist in which the sterilized liquid is atomized by the state changing unit or a sterilized gas in which the sterilized liquid is vaporized by the state changing unit, and a supply unit that supplies the sterilized space for performing sterilization processing. ,
A relative humidity measuring unit for measuring the relative humidity inside the sterilized space,
Supplying the sterilized mist or the sterilized gas in an amount until the relative humidity becomes equal to or more than a set value to the sterilized space, and then an amount according to the degree of sterilization in the sterilized space. And a control unit for controlling the supply of the sterilized mist or the sterilized gas so that the sterilized mist or the sterilized gas is supplied to the sterilized space. Processing equipment.
前記設定値は、70パーセントであることを特徴とする請求項2に記載の減菌処理装置。The active ingredient is hydrogen peroxide,
The sterilization processing apparatus according to claim 2, wherein the set value is 70%.
前記試験では、
温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第1の供給量と、
温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第2の供給量と、
温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第3の供給量と、
温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第4の供給量と、が検出され、
検出された前記第1の供給量から前記第4の供給量までの供給量のうち、最も多い供給量を、前記減菌の程度に応じた量として定めることを特徴とする請求項4に記載の減菌処理装置。The amount according to the degree of sterilization, for each temperature within a certain range and humidity within a certain range in the surrounding environment, is determined by a test performed in advance,
In the test,
It is confirmed that the sterilized state is when the temperature is lower than the lower limit temperature in the constant range of temperature and higher than the upper limit humidity in the constant range of humidity. A first supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas,
It is confirmed that a sterilized state is obtained when the temperature is lower than the lower limit temperature in the constant range and the humidity is lower than the lower limit humidity in the constant range. A second supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas,
It is confirmed that the sterilized state is when the temperature is higher than the upper limit temperature in the constant range and the humidity is lower than the lower limit humidity in the constant range. A third supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas,
It is confirmed that when the temperature is higher than the upper limit temperature in the constant range and the humidity is higher than the upper limit humidity in the constant range, it is in a sterilized state. A fourth supply amount of the sterilized mist or the sterilized gas is detected,
The maximum supply amount among the detected supply amounts from the first supply amount to the fourth supply amount is determined as an amount according to the degree of the sterilization. Sterilization processing equipment.
前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、
前記減菌空間の内部で前記有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサ部と、
前記センサ部によって前記有効成分が飽和していることが検出されるまで前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部と
を備えたことを特徴とする減菌処理装置。A state changing unit that atomizes or vaporizes the sterilized liquid containing the active ingredient,
A sterilization mist in which the sterilized liquid is atomized by the state changing unit or a sterilized gas in which the sterilized liquid is vaporized by the state changing unit, and a supply unit that supplies the sterilized space for performing sterilization processing. ,
A sensor unit that detects whether the active ingredient is saturated inside the sterilized space,
The sterilized mist or the sterilized gas is supplied to the sterilized space until it is detected that the active ingredient is saturated by the sensor unit, and then the sterilized space inside the sterilized space is sterilized. A control unit for controlling the supply of the sterilized mist or the sterilized gas so that the sterilized mist or the sterilized gas in an amount according to the degree is supplied to the sterilized space. Characteristic sterilization processing device.
前記第1の供給工程の後に、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌空間への前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を行う第2の供給工程と
を備えたことを特徴とする減菌処理方法。
A first supply step of supplying a sterilized mist or a sterilized gas containing an active ingredient to the sterilized space until the relative humidity inside the sterilized space to be sterilized reaches a set value or more;
A second supply step of supplying the sterilized mist or the sterilized gas to the sterilized space in an amount according to the degree of sterilization inside the sterilized space after the first supply step. And a sterilization method.
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