JPWO2019003980A1 - Method for manufacturing optical film - Google Patents

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Abstract

表面自由エネルギーが20mJ/m2以下である仮支持面を有する仮支持体の前記仮支持面に、樹脂層を形成する工程;脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムのフィルム表面に、当該フィルム表面の表面自由エネルギーが40mJ/m2以上となるように親水処理を施す工程;前記仮支持体の前記仮支持面に形成された前記樹脂層と、前記基材フィルムの親水処理を施された前記フィルム表面とを、貼合する工程;前記仮支持体を剥離する工程;及び、前記樹脂層及び前記基材フィルムに、前記脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施す工程;を含む、光学フィルムの製造方法。A step of forming a resin layer on the temporary support surface of the temporary support having a temporary support surface having a surface free energy of 20 mJ / m 2 or less; a base film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer A step of subjecting the film surface to a hydrophilic treatment so that the surface free energy of the film surface becomes 40 mJ / m 2 or more; the resin layer formed on the temporary support surface of the temporary support, and the hydrophilicity of the base film. A step of laminating the treated film surface; a step of peeling the temporary support; and a glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer or more in the resin layer and the base film. And a step of performing heat treatment at the temperature of.

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical film.

液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置においては、樹脂製の光学フィルムを設けることがある。このような光学フィルムとして、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムが知られている(例えば特許文献1及び2)。   In a display device such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device, a resin optical film may be provided. As such an optical film, a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer is known (for example, Patent Documents 1 and 2).

特開2010−107958号公報JP, 2010-107958, A 国際公開第2014/175312号International Publication No. 2014/175312

脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムを光学フィルムとして用いる場合、その表面に適切な樹脂層を設けられることがある。例えば、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムの表面に、接着性を高めるために適切な樹脂によって易接着層を形成することがある。一般に、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムは接着性が乏しく、接着剤を用いても他の部材に高い接着強度で貼り合わせることが困難であったが、前記のような易接着層を用いることにより、前記の部材へ高い接着強度で貼り合わせることが可能となる。   When a film made of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer is used as an optical film, an appropriate resin layer may be provided on the surface of the film. For example, an easy-adhesion layer may be formed on the surface of a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer by using a resin suitable for increasing the adhesiveness. Generally, a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer has poor adhesiveness, and it was difficult to bond it to other members with high adhesive strength even if an adhesive was used. By using such an easy-adhesion layer, it becomes possible to bond the above-mentioned member with high adhesive strength.

脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムに対して、易接着層等の樹脂層は、塗工法によって形成されることが通常であった。具体的には、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムに、樹脂層の材料を含む塗工液を塗工し、乾燥させて、樹脂層を形成することが通常であった。しかし、工業生産の現場では、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムに樹脂層を形成する方法として、塗工法以外の方法が望まれる場合がある。   It was usual that a resin layer such as an easy-adhesion layer was formed by a coating method on a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer. Specifically, it is usual that a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer is coated with a coating liquid containing a resin layer material and dried to form a resin layer. It was However, in the field of industrial production, a method other than the coating method may be desired as a method for forming the resin layer on the film formed of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer.

例えば、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムの両面に塗工法によって樹脂層を形成しようとする場合、塗工法の性質上、片面ずつ樹脂層を形成することが求められるので、工程数が多くなり、そのため、製造コストが増加する傾向がある。よって、両面に同時に樹脂層を形成することによって製造コストを抑制する観点では、塗工法以外の方法の開発が望まれる。また、前記の例のように、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムの両面に樹脂層を形成する以外の場合でも、樹脂層を形成する方法として、塗工法以外の方法が望まれることがある。   For example, when a resin layer is formed on both sides of a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer by a coating method, it is required to form a resin layer on each side due to the nature of the coating method. However, the number of steps is increased, which tends to increase the manufacturing cost. Therefore, from the viewpoint of suppressing the manufacturing cost by simultaneously forming the resin layers on both surfaces, development of a method other than the coating method is desired. Further, as in the above example, even in the case where the resin layer is formed on both surfaces of the film formed of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer, the method other than the coating method is used as the method for forming the resin layer. May be desired.

そこで、本発明者は、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムの表面に樹脂層を形成する方法として、転写法を検討した。転写法では、仮支持体上に形成された樹脂層を、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムと貼り合わせ、その後、仮支持体を剥離することで、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムの表面に樹脂層を形成する。ところが、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムは、一般に樹脂層との密着性に乏しいので、転写法によって形成された樹脂層は、フィルムから容易に剥離する傾向があった。特に、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムは、延伸後において密着性が更に低下する傾向があるので、延伸フィルムに転写法によって樹脂層を形成することは、特に難しい。   Therefore, the present inventor has studied a transfer method as a method for forming a resin layer on the surface of a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer. In the transfer method, the resin layer formed on the temporary support is attached to a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer, and then the temporary support is peeled off to obtain an alicyclic structure. A resin layer is formed on the surface of the film formed of the resin containing the contained polymer. However, a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer generally has poor adhesion to the resin layer, and thus the resin layer formed by the transfer method tends to be easily peeled from the film. . In particular, it is particularly difficult to form a resin layer on a stretched film by a transfer method because a film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer tends to have lower adhesiveness after stretching.

また、本発明者が検討したところ、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いた場合、その脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムは、樹脂層との密着性がとりわけ低いことが判明した。さらには、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成されたフィルムの樹脂層に対する接着性は、その脂環式構造含有重合体の結晶化が進行すると更に低下し、樹脂層の剥離が特に生じ易くなることが判明した。   Further, the present inventors have studied, when a crystalline alicyclic structure-containing polymer is used, a film formed of a resin containing the alicyclic structure-containing polymer, adhesion to the resin layer Was found to be particularly low. Furthermore, the adhesiveness of the film formed of the resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer to the resin layer is further reduced as the crystallization of the alicyclic structure-containing polymer proceeds, and the resin layer It has been found that the peeling is particularly likely to occur.

本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたものであって、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムのフィルム表面と仮支持体上に形成された樹脂層とを貼り合わせて、基材フィルム及び前記基材フィルムから剥離し難い樹脂層を含む光学フィルムを製造することができる、光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention was devised in view of the above problems, and a film surface of a base material film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer and a resin layer formed on a temporary support. It is an object of the present invention to provide a method for producing an optical film, which is capable of producing an optical film including a substrate film and a resin layer that is difficult to be peeled off from the substrate film, by laminating.

本発明者は前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、所定の表面自由エネルギーを有する仮支持面を有する仮支持体の前記仮支持面に樹脂層を形成する工程、基材フィルムのフィルム表面に当該フィルム表面の表面自由エネルギーが所定の範囲となるように親水処理を施す工程、仮支持体の仮支持面に形成された樹脂層と基材フィルムの親水処理を施されたフィルム表面とを貼合する工程、仮支持体を剥離する工程、及び、樹脂層及び基材フィルムに脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施す工程、を含む製造方法により、前記の課題が解決されることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a step of forming a resin layer on the temporary support surface of a temporary support having a temporary support surface having a predetermined surface free energy, a film surface of a base film. A step of subjecting the film surface to a hydrophilic treatment so that the surface free energy of the film surface falls within a predetermined range, a resin layer formed on the temporary supporting surface of the temporary support and a film surface subjected to the hydrophilic treatment of the base film. The step of laminating, the step of peeling the temporary support, and the step of subjecting the resin layer and the base material film to a heat treatment at a temperature not lower than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer, The inventors have found that the problems are solved and completed the present invention.
That is, the present invention includes the following.

〔1〕 表面自由エネルギーが20mJ/m以下である仮支持面を有する仮支持体の前記仮支持面に、樹脂層を形成する工程、
脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムのフィルム表面に、当該フィルム表面の表面自由エネルギーが40mJ/m以上となるように親水処理を施す工程、
前記仮支持体の前記仮支持面に形成された前記樹脂層と、前記基材フィルムの親水処理を施された前記フィルム表面とを、貼合する工程、
前記仮支持体を剥離する工程、及び、
前記樹脂層及び前記基材フィルムに、前記脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施す工程、を含む、光学フィルムの製造方法。
〔2〕 前記脂環式構造含有重合体が、結晶性を有する、〔1〕記載の光学フィルムの製造方法。
〔3〕 前記フィルム表面に親水処理を施される前において、前記脂環式構造含有重合体の結晶化度が3%未満である、〔2〕記載の光学フィルムの製造方法。
〔4〕 前記樹脂層及び前記基材フィルムに前記熱処理を施す工程において、前記脂環式構造含有重合体の結晶化が進行する、〔2〕又は〔3〕記載の光学フィルムの製造方法。
〔5〕 前記樹脂層及び前記基材フィルムに前記熱処理を施す工程が、
前記基材フィルムを延伸する工程と、
延伸後に前記基材フィルムに含まれる前記脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させる工程と、を含む、〔2〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
〔6〕 前記親水処理が、コロナ処理、プラズマ処理及びエキシマ処理からなる群より選ばれる少なくとも一つである、〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
〔7〕 前記樹脂層が、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかによって形成されている、〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
[1] A step of forming a resin layer on the temporary support surface of the temporary support having a temporary support surface having a surface free energy of 20 mJ / m 2 or less,
A step of subjecting a film surface of a substrate film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer to a hydrophilic treatment so that the surface free energy of the film surface becomes 40 mJ / m 2 or more;
A step of bonding the resin layer formed on the temporary support surface of the temporary support and the hydrophilic film-treated film surface of the base film,
A step of peeling the temporary support, and
A method for producing an optical film, comprising a step of subjecting the resin layer and the base film to a heat treatment at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer.
[2] The method for producing an optical film according to [1], wherein the alicyclic structure-containing polymer has crystallinity.
[3] The method for producing an optical film according to [2], wherein the alicyclic structure-containing polymer has a crystallinity of less than 3% before the film surface is subjected to a hydrophilic treatment.
[4] The method for producing an optical film according to [2] or [3], wherein crystallization of the alicyclic structure-containing polymer proceeds in the step of subjecting the resin layer and the base film to the heat treatment.
[5] The step of subjecting the resin layer and the base film to the heat treatment,
A step of stretching the substrate film,
The process of advancing crystallization of the said alicyclic structure containing polymer contained in the said base film after extending | stretching, The manufacturing method of the optical film as described in any one of [2]-[4].
[6] The method for producing an optical film according to any one of [1] to [5], wherein the hydrophilic treatment is at least one selected from the group consisting of corona treatment, plasma treatment and excimer treatment.
[7] In any one of [1] to [6], wherein the resin layer is formed of at least one selected from the group consisting of urethane resin, olefin resin, polyester resin, epoxy resin and acrylic resin. A method for producing the optical film described above.

本発明によれば、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムのフィルム表面と仮支持体上に形成された樹脂層とを貼り合わせて、基材フィルム及び前記基材フィルムから剥離し難い樹脂層を含む光学フィルムを製造できる製造方法を提供できる。   According to the present invention, the film surface of the base material film formed of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer and the resin layer formed on the temporary support are bonded together to form a base material film and the base material. It is possible to provide a manufacturing method capable of manufacturing an optical film including a resin layer that is difficult to peel from the film.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and exemplifications shown below, and may be implemented by being arbitrarily modified within the scope of the claims of the present invention and the scope of equivalents thereof.

以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。フィルムの幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば100,000倍以下としうる。   In the following description, the “long” film means a film having a length of 5 times or more the width, preferably having a length of 10 times or more, specifically a roll shape. A film having such a length that it can be wound up and stored or transported. The upper limit of the ratio of the length to the width of the film is not particularly limited, but may be 100,000 times or less, for example.

[1.光学フィルムの製造方法の概要]
本発明の光学フィルムの製造方法は、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムと樹脂層とを備えた光学フィルムの製造方法である。この製造方法は、
所定の表面自由エネルギーを有する仮支持面を有する仮支持体の前記仮支持面に、樹脂層を形成する工程(I)、
基材フィルムのフィルム表面に、当該フィルム表面の表面自由エネルギーが所定の範囲となるように、親水処理を施す工程(II)、
仮支持体の仮支持面に形成された樹脂層と、基材フィルムの親水処理を施されたフィルム表面とを、貼合する工程(III)、
仮支持体を剥離する工程(IV)、及び、
樹脂層及び基材フィルムに、脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施す工程(V)、
を含む。
[1. Overview of optical film manufacturing method]
The method for producing an optical film of the present invention is a method for producing an optical film including a base film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer and a resin layer. This manufacturing method is
A step (I) of forming a resin layer on the temporary support surface of the temporary support having a temporary support surface having a predetermined surface free energy;
On the film surface of the base film, a step of performing a hydrophilic treatment so that the surface free energy of the film surface falls within a predetermined range (II),
A step (III) of laminating the resin layer formed on the temporary support surface of the temporary support and the hydrophilic film surface of the substrate film (III),
Step (IV) of peeling the temporary support, and
A step (V) of subjecting the resin layer and the base film to a heat treatment at a temperature not lower than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer;
including.

前記の製造方法によれば、基材フィルム及び前記基材フィルムから剥離し難い樹脂層を含む光学フィルムを製造することができる。また、前記の製造方法では、仮支持体の仮支持面に樹脂層の一部又は全部が残留することを抑制できるので、基材フィルムのフィルム表面への樹脂層の円滑な形成が可能である。   According to the above manufacturing method, it is possible to manufacture an optical film including a base film and a resin layer that is difficult to peel from the base film. Further, in the above-mentioned manufacturing method, since it is possible to prevent a part or all of the resin layer from remaining on the temporary support surface of the temporary support, it is possible to smoothly form the resin layer on the film surface of the base film. .

前記の製造方法の工程(III)において、樹脂層と基材フィルムのフィルム表面とは、通常、直接に貼合される。よって、光学フィルムにおいて、基材フィルムと樹脂層とは、通常、直に接している。ここで、樹脂層と基材フィルムのフィルム表面とが「直接」に貼合される、とは、樹脂層と基材フィルムのフィルム表面との間に他の層が無い態様での貼合をいう。また、基材フィルムと樹脂層とが「直に接する」とは、基材フィルムと樹脂層との間に他の層が無いことをいう。   In the step (III) of the above-mentioned manufacturing method, the resin layer and the film surface of the substrate film are usually directly bonded. Therefore, in the optical film, the base film and the resin layer are usually in direct contact with each other. Here, the fact that the resin layer and the film surface of the base material film are directly bonded to each other means that the resin layer and the film surface of the base material film are not bonded to each other in a mode in which there is no other layer. Say. In addition, "direct contact between the base film and the resin layer" means that there is no other layer between the base film and the resin layer.

また、工程(V)は、基材フィルムを延伸する工程(V−1)を含んでいてもよい。さらに、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体が結晶性を有する場合、工程(V)は、脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させる工程(V−2)を含んでいてもよい。   Further, the step (V) may include the step (V-1) of stretching the base material film. Furthermore, when the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film has crystallinity, the step (V) includes a step (V-2) of promoting crystallization of the alicyclic structure-containing polymer. You may stay.

[2.仮支持体の仮支持面に樹脂層を形成する工程(I)]
光学フィルムの製造方法は、仮支持体の仮支持面に樹脂層を形成する工程(I)を含む。この工程(I)では、通常、所定の表面自由エネルギーを有する仮支持面を有する仮支持体を用意し、その仮支持面に樹脂層を形成する。
[2. Step (I) of forming a resin layer on the temporary support surface of the temporary support]
The method for producing an optical film includes a step (I) of forming a resin layer on a temporary support surface of a temporary support. In this step (I), usually, a temporary support having a temporary support surface having a predetermined surface free energy is prepared, and a resin layer is formed on the temporary support surface.

仮支持面の表面自由エネルギーは、通常20mJ/m以下、好ましくは20mJ/m未満、より好ましくは19mJ/m未満である。このように低い表面自由エネルギーを有する仮支持面は、優れた剥離性を有する。よって、工程(IV)において前記の仮支持面を有する仮支持体を剥離する際に、仮支持面への樹脂層の残留を抑制することが可能である。仮支持面の表面自由エネルギーの下限は、特段の制限は無く、例えば10mJ/m以上でありうる。Surface free energy of the temporary support surface, usually 20 mJ / m 2 or less, preferably less than 20 mJ / m 2, more preferably less than 19mJ / m 2. The temporary supporting surface having such a low surface free energy has excellent peelability. Therefore, when the temporary support having the temporary support surface is peeled off in the step (IV), it is possible to suppress the resin layer from remaining on the temporary support surface. The lower limit of the surface free energy of the temporary supporting surface is not particularly limited and may be, for example, 10 mJ / m 2 or more.

ある面の表面自由エネルギーは、その面に対する水及びヘキサデカンの接触角を測定し、その測定された接触角をOwens Wendtモデルに当てはめることによって求めることができる。前記の表面自由エネルギーは、具体的には、実施例において説明する測定方法によって測定できる。   The surface free energy of a surface can be determined by measuring the contact angle of water and hexadecane on the surface and fitting the measured contact angle to the Owens Wendt model. The surface free energy can be specifically measured by the measuring method described in the examples.

仮支持体としては、通常、樹脂フィルムを用いる。中でも、ロールトゥロール法によって光学フィルムを効率的に製造する観点から、長尺の樹脂フィルムが好ましい。この樹脂フィルムとしては、例えば、表面自由エネルギーが小さい樹脂材料で形成されたフィルムを用いてもよい。表面自由エネルギーが小さい樹脂材料としては、例えば、脂環式構造含有重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポロプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン等の重合体を含む樹脂が挙げられる。また、この樹脂フィルムとしては、例えば、表面に適切な離型剤による離型処理が施されたフィルムを用いてもよい。   A resin film is usually used as the temporary support. Among them, a long resin film is preferable from the viewpoint of efficiently producing an optical film by the roll-to-roll method. As this resin film, for example, a film formed of a resin material having a small surface free energy may be used. Examples of the resin material having a small surface free energy include resins containing polymers such as alicyclic structure-containing polymers, polyethylene terephthalate, polyethylene, polybutylene terephthalate, polypropylene and polytetrafluoroethylene. Further, as this resin film, for example, a film whose surface is subjected to a release treatment with an appropriate release agent may be used.

仮支持体の仮支持面に形成される樹脂層は、光学フィルムに求められる特性に応じた種類の樹脂で形成される。樹脂層を形成する樹脂としては、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかが好ましい。これらの樹脂を用いることにより、樹脂層を易接着層として機能させられるので、他の部材との接着性に優れた光学フィルムを実現できる。   The resin layer formed on the temporary support surface of the temporary support is formed of a resin of a type suitable for the properties required for the optical film. As the resin forming the resin layer, at least one selected from the group consisting of urethane resin, olefin resin, polyester resin, epoxy resin and acrylic resin is preferable. By using these resins, the resin layer can be made to function as an easy-adhesion layer, so that an optical film having excellent adhesiveness to other members can be realized.

ウレタン樹脂としては、ポリウレタン又はその架橋物を含む樹脂を用いることができる。ポリウレタンとしては、例えば、各種のポリオール及びポリイソシアネートから誘導されるポリウレタンが挙げられる。ポリオールの例としては、ポリオール化合物と多塩基酸との反応により得られる脂肪族ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、及びポリエチレンテレフタレートポリオールのいずれか一種;並びにこれらの混合物が挙げられる。前記のポリオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン等が挙げられる。前記の多塩基酸としては、例えば、ジカルボン酸およびトリカルボン酸を含む多価カルボン酸、またはその無水物等の、多価カルボン酸が挙げられる。ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。トリカルボン酸としては、例えば、トリメリット酸等が挙げられる。前記のポリエーテルポリオールとしては、例えば、ポリ(オキシプロピレンエーテル)ポリオール、ポリ(オキシエチレン−プロピレンエーテル)ポリオール等が挙げられる。前記ポリウレタンでは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとの反応後、未反応として残った水酸基を架橋剤における官能基との架橋反応が可能な極性基として利用することができる。ポリウレタンとしては、ポリカーボネート系ポリオール及びポリイソシアネートから誘導され、その骨格にカーボネート構造を含むポリカーボネート系のポリウレタンが好ましい。ウレタン樹脂については、例えば、特開2016−182568号公報の記載を参照しうる。   As the urethane resin, a resin containing polyurethane or a crosslinked product thereof can be used. Examples of polyurethanes include polyurethanes derived from various polyols and polyisocyanates. Examples of the polyol include any one of an aliphatic polyester polyol, a polyether polyol, a polycarbonate-based polyol, and a polyethylene terephthalate polyol obtained by reacting a polyol compound with a polybasic acid; and a mixture thereof. Examples of the polyol compound include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolpropane, and the like. Examples of the polybasic acid include polyvalent carboxylic acids such as dicarboxylic acids and tricarboxylic acids, and anhydrides thereof. Examples of the dicarboxylic acid include adipic acid, succinic acid, sebacic acid, glutaric acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid. Examples of the tricarboxylic acid include trimellitic acid and the like. Examples of the above-mentioned polyether polyols include poly (oxypropylene ether) polyols and poly (oxyethylene-propylene ether) polyols. In the polyurethane, for example, after the reaction between the polyol and the polyisocyanate, the unreacted residual hydroxyl group can be used as a polar group capable of undergoing a crosslinking reaction with the functional group in the crosslinking agent. As the polyurethane, a polycarbonate polyurethane derived from a polycarbonate polyol and a polyisocyanate and having a carbonate structure in its skeleton is preferable. Regarding the urethane resin, for example, the description in JP-A-2016-182568 can be referred to.

ポリウレタンとしては、水系ウレタン樹脂として市販されている水系エマルションに含まれるものを用いてもよい。水系ウレタン樹脂とは、ポリウレタンと水とを含む組成物であり、通常、ポリウレタンおよび必要に応じて含まれる任意成分が水の中に分散しているものである。水系ウレタン樹脂の例としては、ADEKA社製の「アデカボンタイター」シリーズ、三井化学社製の「オレスター」シリーズ、DIC社製の「ボンディック」シリーズ、「ハイドラン(WLS201,WLS202など)」シリーズ、バイエル社製の「インプラニール」シリーズ、花王社製の「ポイズ」シリーズ、三洋化成工業社製の「サンプレン」シリーズ、第一工業製薬社製の「スーパーフレックス」シリーズ、楠本化成社製の「NEOREZ(ネオレッズ)」シリーズ、ルーブリゾール社製の「Sancure」シリーズなどを用いることができる。   As the polyurethane, those contained in water-based emulsions that are commercially available as water-based urethane resins may be used. The water-based urethane resin is a composition containing polyurethane and water, and is usually one in which polyurethane and optional components contained as necessary are dispersed in water. Examples of the water-based urethane resin are "ADEKA Bontiter" series manufactured by ADEKA, "Orestar" series manufactured by Mitsui Chemicals, "Bondick" series manufactured by DIC, "Hydran (WLS201, WLS202, etc.)" series. , Bayer's "Implanyl" series, Kao's "Poise" series, Sanyo Kasei's "Sampren" series, Daiichi Kogyo Seiyaku's "Superflex" series, Kusumoto Kasei's " It is possible to use the NEOREZ series, the Sancure series manufactured by Lubrizol.

オレフィン樹脂としては、不飽和カルボン酸成分の含有量が0.1重量%〜10重量%である酸変性ポリオレフィン又はその架橋物を含む樹脂を用いることができる。酸変性ポリオレフィンの主成分であるオレフィン成分の好ましい例としては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、2−ブテン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセンなどの炭素数2〜6のアルケン、及びこれらの混合物が挙げられる。中でも、樹脂層の密着性を高める観点から、エチレン、プロピレン、イソブチレン、1−ブテンなどの炭素数2〜4のアルケンがより好ましく、エチレン、プロピレンがさらに好ましく、エチレンが特に好ましい。他方、酸変性ポリオレフィンの変性成分である不飽和カルボン酸成分としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、(無水)マレイン酸、(無水)イタコン酸、フマル酸、クロトン酸、不飽和ジカルボン酸のハーフエステル、ハーフアミドなどが挙げられる。中でも、樹脂層の密着性を高めたりひび割れを抑制したりできるので、アクリル酸、メタクリル酸、(無水)マレイン酸が好ましく、アクリル酸、(無水)マレイン酸が特に好ましい。前記の不飽和カルボン酸成分は、通常、酸変性ポリオレフィン中で共重合されており、その形態は特に限定されない。共重合の状態としては、例えば、ランダム共重合、ブロック共重合、グラフト共重合(グラフト変性)などが挙げられる。オレフィン樹脂については、例えば、特開2014−240174号公報の記載を参照しうる。   As the olefin resin, a resin containing an acid-modified polyolefin having a content of the unsaturated carboxylic acid component of 0.1% by weight to 10% by weight or a crosslinked product thereof can be used. Preferable examples of the olefin component which is the main component of the acid-modified polyolefin include ethylene, propylene, isobutylene, 2-butene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, and other alkenes having 2 to 6 carbon atoms, and these. A mixture may be mentioned. Among them, from the viewpoint of enhancing the adhesiveness of the resin layer, an alkene having 2 to 4 carbon atoms such as ethylene, propylene, isobutylene and 1-butene is more preferable, ethylene and propylene are further preferable, and ethylene is particularly preferable. On the other hand, examples of the unsaturated carboxylic acid component that is a modifying component of the acid-modified polyolefin include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid (anhydrous), itaconic acid (anhydrous), fumaric acid, crotonic acid, and a half of unsaturated dicarboxylic acid. Examples thereof include esters and half amides. Of these, acrylic acid, methacrylic acid, and (anhydrous) maleic acid are preferable, and acrylic acid and (anhydrous) maleic acid are particularly preferable, because they can enhance the adhesiveness of the resin layer and suppress cracking. The unsaturated carboxylic acid component is usually copolymerized in an acid-modified polyolefin, and its form is not particularly limited. Examples of the copolymerization state include random copolymerization, block copolymerization, and graft copolymerization (graft modification). Regarding the olefin resin, for example, the description in JP-A-2014-240174 can be referred to.

酸変性ポリオレフィンとしては、市販品を用いてもよい。その水性分散体の該市販品としては、例えば、「アローベース(アローベースSA−1200、アローベースSB−1200、アローベースSE−1200、アローベースSB−1010」シリーズ(ユニチカ社製)などが挙げられる。   A commercially available product may be used as the acid-modified polyolefin. Examples of the commercially available product of the aqueous dispersion include "Arrow base (Arrow base SA-1200, Arrow base SB-1200, Arrow base SE-1200, Arrow base SB-1010" series (manufactured by Unitika Ltd.) and the like. To be

ポリエステル樹脂としては、前記ポリオール化合物と前記多塩基酸との反応により得られるポリエステル又はその架橋物を含む樹脂を用いることができる。このポリエステルでは、例えば、ポリオール化合物と多塩基酸との反応終了後、未反応として残った水酸基及びカルボキシル基を架橋剤との架橋反応が可能な極性基として利用することができる。また、ポリエステルは、前記のポリオール化合物及び多塩基酸に組み合わせて、水酸基、カルボキシル基等の極性基を有する共重合成分を共重合したものであってもよい。また、ポリエステル樹脂は、樹脂層の密着性の向上のため、ポリエステル又はその架橋物に組み合わせて、更にアクリルポリマーを含むことが好ましい。ポリエステル樹脂については、例えば、特開2015−024511号公報の記載を参照しうる。   As the polyester resin, a resin containing a polyester obtained by the reaction of the polyol compound and the polybasic acid or a crosslinked product thereof can be used. In this polyester, for example, after the completion of the reaction between the polyol compound and the polybasic acid, the unreacted residual hydroxyl group and carboxyl group can be used as polar groups capable of undergoing a crosslinking reaction with a crosslinking agent. Further, the polyester may be one obtained by copolymerizing a copolymer component having a polar group such as a hydroxyl group and a carboxyl group in combination with the above-mentioned polyol compound and polybasic acid. The polyester resin preferably further contains an acrylic polymer in combination with polyester or a crosslinked product thereof in order to improve the adhesion of the resin layer. Regarding the polyester resin, for example, the description in JP-A-2015-024511 can be referred to.

ポリエステルとしては、市販品を用いてもよい。水溶性又は水分散のポリエステルの市販品としては、例えば、「ニチゴポリエスター(ニチゴポリエスターW−0030、ニチゴポリエスターW−0005S30WO、ニチゴポリエスターWR−961等)」シリーズ(日本合成化学社製)、「ペスレジンA(ペスレジンA−210、ペスレジンA−520、ペスレジンA−684G、ペスレジンA−695GE等)」シリーズ(高松油脂社製)などが挙げられる。   A commercially available product may be used as the polyester. Examples of commercially available water-soluble or water-dispersible polyesters include, for example, "Nichigo Polyester (Nichigo Polyester W-0030, Nichigo Polyester W-0005S30WO, Nichigo Polyester WR-961)" series (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.). ), "Peth Resin A (Peth Resin A-210, Peth Resin A-520, Peth Resin A-684G, Peth Resin A-695GE, etc.)" series (manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.) and the like.

エポキシ樹脂としては、一液硬化型のエポキシ樹脂、二液硬化型のエポキシ樹脂等、任意のエポキシ樹脂を用いることができる。中でも、水溶性のエポキシポリマーを含むものが好ましい。水溶性のエポキシポリマーの好ましい例としては、ポリアミドエポキシポリマーが挙げられる。このポリアミドエポキシポリマーは、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンと、アジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られる。このようなポリアミドエポキシポリマーの市販品としては、例えば、住化ケムテック社製の「スミレーズレジン 650(30)」、「スミレーズレジン 675」が挙げられる。エポキシ樹脂については、例えば、特開2008−26352号公報の記載を参照しうる。   As the epoxy resin, any epoxy resin such as a one-component curing type epoxy resin and a two-component curing type epoxy resin can be used. Among them, those containing a water-soluble epoxy polymer are preferable. Polyamide epoxy polymer is mentioned as a preferable example of a water-soluble epoxy polymer. This polyamide-epoxy polymer can be obtained, for example, by reacting a polyamide polyamine obtained by reacting a polyalkylene polyamine such as diethylene triamine or triethylene tetramine with a dicarboxylic acid such as adipic acid with epichlorohydrin. Examples of commercially available products of such a polyamide epoxy polymer include "SUMIREZ RESIN 650 (30)" and "SUMIREZ RESIN 675" manufactured by Sumika Chemtech. Regarding the epoxy resin, for example, the description in JP 2008-26352 A can be referred to.

水溶性のエポキシポリマーを用いる場合は、さらに塗工性を向上させるために、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーを組み合わせて用いることが好ましい。このポリビニルアルコールには、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコールだけでなく、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、アミノ基変性ポリビニルアルコール等の、変性ポリビニルアルコールが含まれる。ポリビニルアルコールの市販品としては、クラレ社製のアニオン性基含有ポリビニルアルコールである「KL−318」が挙げられる。   When a water-soluble epoxy polymer is used, it is preferable to use a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol in combination in order to further improve coatability. This polyvinyl alcohol includes not only partially saponified polyvinyl alcohol and fully saponified polyvinyl alcohol, but also modified polyvinyl alcohol such as carboxyl group-modified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, methylol group-modified polyvinyl alcohol, and amino group-modified polyvinyl alcohol. Contains alcohol. As a commercial item of polyvinyl alcohol, anionic group-containing polyvinyl alcohol “KL-318” manufactured by Kuraray Co., Ltd. may be mentioned.

アクリル樹脂としては、アクリルポリマー又はその架橋物を含む樹脂を用いることができる。また、アクリルポリマーとしては、例えば、アクリルモノマーの単独重合体、2種類以上のアクリルモノマーの共重合体、1種類以上のアクリルモノマーと他のモノマーとの共重合体、などが挙げられる。また、アクリルモノマーとしては、例えば、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル、メタクリルアミド及びメタクリロニトリル等が挙げられる。中でも、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルからなる群より選ばれるアクリルモノマーの単独重合体及び共重合体が好ましい。特に好ましい例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルからなる群より選ばれるアクリルモノマーの単独重合体及び共重合体が挙げられる。また、アクリルポリマーは、架橋剤が有する官能基との反応(架橋反応)が可能なように、前記のアクリルモノマーに組み合わせて、水酸基、カルボキシル基等の極性基を有する共重合成分を共重合したものが好ましい。アクリル樹脂については、例えば、特開2015−024511号公報の記載を参照しうる。   As the acrylic resin, a resin containing an acrylic polymer or a crosslinked product thereof can be used. Examples of the acrylic polymer include homopolymers of acrylic monomers, copolymers of two or more types of acrylic monomers, and copolymers of one or more types of acrylic monomers with other monomers. Examples of the acrylic monomer include acrylic acid, acrylic acid ester such as alkyl acrylate, acrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid ester such as methacrylic acid and alkyl methacrylate, methacrylamide, methacrylonitrile and the like. Of these, homopolymers and copolymers of acrylic monomers selected from the group consisting of acrylic acid esters and methacrylic acid esters are preferable. Particularly preferable examples include homopolymers and copolymers of acrylic monomers selected from the group consisting of acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. In addition, the acrylic polymer was combined with the above acrylic monomer to copolymerize a copolymerization component having a polar group such as a hydroxyl group and a carboxyl group so that the acrylic polymer could react with the functional group of the crosslinking agent (crosslinking reaction). Those are preferable. Regarding the acrylic resin, for example, the description in JP-A-2015-024511 can be referred to.

上述した樹脂層において、ポリウレタン、ポリオレフィン、ポリエステル、エポキシポリマー、アクリルポリマー等の重合体は、架橋されていてもよい。架橋された場合、前記の重合体は、架橋剤との反応によって架橋物となっている。この架橋において用いられる架橋剤としては、重合体が含む極性基等の官能基と反応して結合を形成できる官能基を分子内に2個以上有する化合物を用いることができる。架橋剤の例としては、エポキシ化合物、カルボジイミド化合物、オキサゾリン化合物、イソシアネート化合物等が挙げられる。また、架橋剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組合わせて用いてもよい。中でも、架橋剤としては、エポキシ化合物が好ましい。   In the resin layer described above, polymers such as polyurethane, polyolefin, polyester, epoxy polymer and acrylic polymer may be crosslinked. When cross-linked, the above polymer becomes a cross-linked product by the reaction with the cross-linking agent. As the cross-linking agent used in this cross-linking, a compound having two or more functional groups in the molecule capable of reacting with a functional group such as a polar group contained in the polymer to form a bond can be used. Examples of the cross-linking agent include epoxy compounds, carbodiimide compounds, oxazoline compounds and isocyanate compounds. Moreover, as the crosslinking agent, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at an arbitrary ratio. Of these, epoxy compounds are preferable as the crosslinking agent.

エポキシ化合物としては、分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能のエポキシ化合物を用いることができる。これにより、架橋反応を進行させて樹脂層の機械的強度を効果的に向上させることができる。   As the epoxy compound, a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule can be used. As a result, the cross-linking reaction can proceed and the mechanical strength of the resin layer can be effectively improved.

エポキシ化合物としては、水に溶解性があるか、または水に分散してエマルション化しうるものが、使用の容易性の観点から好ましい。エポキシ化合物の例を挙げると、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコール類1モルと、エピクロルヒドリン2モルとのエーテル化によって得られるジエポキシ化合物;グリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の多価アルコール類1モルと、エピクロルヒドリン2モル以上とのエーテル化によって得られるポリエポキシ化合物;フタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、アジピン酸等のジカルボン酸1モルと、エピクロルヒドリン2モルとのエステル化によって得られるジエポキシ化合物;などが挙げられる。   As the epoxy compound, those which are soluble in water or which can be dispersed in water to form an emulsion are preferable from the viewpoint of ease of use. As an example of the epoxy compound, 1 mol of glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexane glycol and neopentyl glycol And a diepoxy compound obtained by etherification with 2 mol of epichlorohydrin; a polyepoxy compound obtained by etherification with 1 mol of polyhydric alcohols such as glycerin, polyglycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, and sorbitol, and 2 mol or more of epichlorohydrin Epoxy compound; diepoxy obtained by esterification of 1 mol of dicarboxylic acid such as phthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid and adipic acid with 2 mol of epichlorohydrin Compounds; and the like.

より具体的に、エポキシ化合物としては、1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピルオキシ)ブタン、1,3,5−トリグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジクリシジル−5−(γ−アセトキシ−β−オキシプロピル)イソシヌレート、ソルビトールポリグリシジルエーテル類、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル類、ジグリセロールポリグルシジルエーテル、1,3,5−トリグリシジル(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、グリセロールポリグリセロールエーテル類およびトリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル類等のエポキシ化合物が好ましい。その具体的な市販品の例としては、ナガセケムテックス社製の「デナコール(デナコールEX−521,EX−614Bなど)」シリーズ等を挙げることができる。   More specifically, as the epoxy compound, 1,4-bis (2 ′, 3′-epoxypropyloxy) butane, 1,3,5-triglycidyl isocyanurate, 1,3-diclycidyl-5- (γ- Acetoxy-β-oxypropyl) isocinurate, sorbitol polyglycidyl ethers, polyglycerol polyglycidyl ethers, pentaerythritol polyglycidyl ethers, diglycerol polyglycidyl ether, 1,3,5-triglycidyl (2-hydroxyethyl) isocyanate Epoxy compounds such as nurate, glycerol polyglycerol ethers and trimethylolpropane polyglycidyl ethers are preferred. Specific examples of commercially available products thereof include "Denacol (Denacol EX-521, EX-614B etc.)" series manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.

さらに、樹脂層を形成する樹脂は、上述した重合体又はその架橋物に組み合わせて、更に任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、硬化促進剤、硬化助剤、粒子、耐熱安定剤、耐候安定剤、レベリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然油、合成油、ワックスなどが挙げられる。任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Further, the resin forming the resin layer may further contain an optional component in combination with the above-mentioned polymer or a crosslinked product thereof. Examples of the optional component include a curing accelerator, a curing aid, particles, a heat resistance stabilizer, a weather resistance stabilizer, a leveling agent, a surfactant, an antioxidant, an antistatic agent, a slip agent, an antiblocking agent, and an antifogging agent. Examples include agents, lubricants, dyes, pigments, natural oils, synthetic oils and waxes. As the arbitrary component, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

樹脂層を形成する樹脂は、1種類でもよく、2種類以上でもよい。よって、例えば、上述したウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂は、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、ポリウレタンと酸変性ポリオレフィンとを組み合わせて含む樹脂を用いたり、ポリエステルとアクリルポリマーとを組み合わせて含む樹脂を用いたりしてもよい。   The resin forming the resin layer may be one type or two or more types. Therefore, for example, the urethane resin, the olefin resin, the polyester resin, the epoxy resin, and the acrylic resin described above may be used in combination of two or more kinds. For example, a resin containing a combination of polyurethane and an acid-modified polyolefin, or a resin containing a combination of polyester and an acrylic polymer may be used.

樹脂層の厚みは、当該樹脂層の用途に応じて任意に設定できる。例えば、易接着層として機能できる樹脂層の厚みは、好ましくは10nm以上、より好ましくは30nm以上、特に好ましくは50nm以上であり、好ましくは5μm以下、より好ましくは2μm以下、特に好ましくは1μm以下である。易接着層の厚みを前記下限値以上にすることにより、光学フィルムを他の部材と十分な接着強度で貼り合わせることができる。また、易接着層の厚みを前記上限値以下にすることにより、比較的軟らかい層となる易接着層の変形の発生が抑制され、光学フィルムをロールとして巻き取ることが容易となる。また、易接着層の厚みが前記範囲内にあることにより、基材フィルムと易接着層との十分な密着性が得られ、かつ、光学フィルムの厚みを薄くできる。   The thickness of the resin layer can be arbitrarily set according to the application of the resin layer. For example, the thickness of the resin layer that can function as an easy-adhesion layer is preferably 10 nm or more, more preferably 30 nm or more, particularly preferably 50 nm or more, preferably 5 μm or less, more preferably 2 μm or less, particularly preferably 1 μm or less. is there. By setting the thickness of the easy-adhesion layer to the above lower limit or more, the optical film can be attached to other members with sufficient adhesive strength. Further, by setting the thickness of the easy-adhesion layer to be equal to or less than the upper limit value, the occurrence of deformation of the easy-adhesion layer, which is a relatively soft layer, is suppressed, and the optical film can be easily wound as a roll. When the thickness of the easy-adhesion layer is within the above range, sufficient adhesion between the base film and the easy-adhesion layer can be obtained, and the thickness of the optical film can be reduced.

仮支持体の仮支持面への樹脂層の形成は、例えば、塗工法によって行うことができる。この塗工法では、通常、樹脂層を形成する樹脂に含まれる重合体等の成分又はその前駆体を含む塗工液を仮支持面に塗工し、その塗工された塗工液を硬化させる。この塗工法では、通常、塗工液は、そのまま、樹脂層となりうる。又は、この塗工法では、通常、塗工液は、必要に応じてその中の成分の反応、溶媒の揮発等を経て、樹脂層となりうる。これにより、塗工液に含まれていた成分の一部もしくは全部、又はその反応生成物を含む樹脂の層として、樹脂層を得ることができる。   The resin layer can be formed on the temporary support surface of the temporary support by, for example, a coating method. In this coating method, usually, a coating liquid containing a component such as a polymer contained in a resin forming a resin layer or a precursor thereof is coated on a temporary support surface, and the coated coating liquid is cured. . In this coating method, the coating liquid can usually form the resin layer as it is. Alternatively, in this coating method, the coating liquid can usually form a resin layer after the reaction of the components therein, the volatilization of the solvent, and the like, if necessary. As a result, a resin layer can be obtained as a layer of a resin containing a part or all of the components contained in the coating liquid or a reaction product thereof.

塗工液におけるポリウレタン等の重合体又はその前駆体の量は、塗工液中の固形分全量100重量%に対して、好ましくは60重量%〜100重量%、さらに好ましくは70重量%〜100重量%である。   The amount of the polymer such as polyurethane or its precursor in the coating liquid is preferably 60% by weight to 100% by weight, more preferably 70% by weight to 100% by weight based on 100% by weight of the total solid content in the coating liquid. % By weight.

塗工液が架橋剤を含む場合、その架橋剤の量は、塗工液中の重合体及びその前駆体の合計100重量部に対して、通常0.1重量部以上、好ましくは1重量部以上、より好ましくは2重量部以上であり、通常20重量部以下、好ましくは15重量部以下、より好ましくは10重量部以下である。架橋剤の量を前記範囲の下限値以上とすることにより架橋反応が十分に進行するので、樹脂層の機械的強度を適切に向上させることができ、架橋剤の量を上限値以下とすることにより、未反応の架橋剤の残留を少なくでき、樹脂層の機械的強度を適切に向上できる。   When the coating liquid contains a crosslinking agent, the amount of the crosslinking agent is usually 0.1 parts by weight or more, preferably 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the polymer and the precursor in the coating liquid. As described above, more preferably 2 parts by weight or more, usually 20 parts by weight or less, preferably 15 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less. Since the crosslinking reaction proceeds sufficiently by setting the amount of the crosslinking agent to the lower limit value or more, the mechanical strength of the resin layer can be appropriately improved, and the amount of the crosslinking agent is set to the upper limit value or less. As a result, the amount of unreacted crosslinking agent remaining can be reduced, and the mechanical strength of the resin layer can be appropriately improved.

塗工液は、必要に応じて、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、水;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、メチルエチルケトン、トリエチルアミン等の有機溶媒;などが挙げられる。また、溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、溶媒としては、水が好ましい。好ましい例としては、塗工液は、有機溶媒の濃度が1重量%未満である水系エマルションでありうる。溶媒の量は、塗工液の粘度が、塗布に適した範囲になるように適切に設定することが好ましい。   The coating liquid may contain a solvent, if necessary. Examples of the solvent include water; organic solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, acetone, tetrahydrofuran, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, methyl ethyl ketone, and triethyl amine; and the like. Further, the solvent may be used alone or in combination of two or more kinds at an arbitrary ratio. Of these, water is preferable as the solvent. As a preferred example, the coating liquid may be an aqueous emulsion having an organic solvent concentration of less than 1% by weight. It is preferable that the amount of the solvent is appropriately set so that the viscosity of the coating liquid is in a range suitable for coating.

塗工液の塗工方法の例としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。   Examples of the coating method of the coating liquid include a wire bar coating method, a dipping method, a spraying method, a spin coating method, a roll coating method, a gravure coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a slide coating method and an extrusion method. Examples include the coating method.

また、仮支持体の仮支持面への樹脂層の形成方法では、仮支持面に塗工液を塗工した後、更に任意の工程を行ってもよい。例えば、塗工液が溶媒を含む場合、塗工液を乾燥させて溶媒を除去することを行ってもよい。また、例えば、架橋液が架橋剤を含む場合、その架橋剤によって架橋を行わせることを行ってもよい。乾燥及び架橋の方法は、任意である。例えば、乾燥は、減圧乾燥、加熱乾燥などの任意の方法としうる。中でも、乾燥と共に架橋反応等の反応を速やかに進行させる観点から、加熱乾燥によって塗工液を硬化させることが好ましい。加熱により塗工液を硬化させる場合、加熱温度は、塗工液を乾燥させて溶媒を除去し、同時に塗工液中の固形分を硬化させることができる範囲で適切に設定できる。   Further, in the method of forming the resin layer on the temporary support surface of the temporary support, an arbitrary step may be further performed after applying the coating liquid to the temporary support surface. For example, when the coating liquid contains a solvent, the coating liquid may be dried to remove the solvent. Further, for example, when the cross-linking liquid contains a cross-linking agent, the cross-linking agent may be used to perform cross-linking. The method of drying and crosslinking is arbitrary. For example, the drying may be any method such as reduced pressure drying and heat drying. Above all, it is preferable to cure the coating liquid by heating and drying from the viewpoint of rapidly advancing a reaction such as a crosslinking reaction as it is dried. When the coating liquid is cured by heating, the heating temperature can be appropriately set within a range in which the coating liquid can be dried to remove the solvent, and at the same time, the solid content in the coating liquid can be cured.

[3.基材フィルムのフィルム表面に親水処理を施す工程(II)]
光学フィルムの製造方法は、基材フィルムのフィルム表面に、親水処理を施す工程(II)を含む。この工程(II)では、通常、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムを用意し、その基材フィルムのフィルム表面に親水処理を施す。
[3. Process of applying hydrophilic treatment to the film surface of the base film (II)]
The method for producing an optical film includes a step (II) of subjecting the film surface of the base film to hydrophilic treatment. In this step (II), usually, a base film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer is prepared, and the film surface of the base film is subjected to hydrophilic treatment.

脂環式構造含有重合体は、分子内に脂環式構造を有する重合体である。脂環式構造含有重合体は、通常、機械的強度、透明性、寸法安定性及び軽量性に優れ、更に、吸湿性が低い。このような脂環式構造含有重合体としては、例えば、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得ることができる重合体又はその水素添加物などが挙げられる。また、前記の脂環式構造含有重合体としては、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いることができる。脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。   The alicyclic structure-containing polymer is a polymer having an alicyclic structure in the molecule. The alicyclic structure-containing polymer is usually excellent in mechanical strength, transparency, dimensional stability and light weight, and further has low hygroscopicity. Examples of such an alicyclic structure-containing polymer include a polymer that can be obtained by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer, or a hydrogenated product thereof. As the alicyclic structure-containing polymer, both a polymer having an alicyclic structure in its main chain and a polymer having an alicyclic structure in its side chain can be used. Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and the cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of thermal stability and the like.

1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上、より好ましくは6個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下である。1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数が上記範囲内にあることで、機械的強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。   The number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, more preferably 6 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, Particularly preferably, it is 15 or less. When the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is within the above range, mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced.

脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以上、更に好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する構造単位の割合を前記のように多くすることにより、光学フィルムの可撓性及び耐熱性を高めることができる。
また、脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。
The proportion of structural units having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, further preferably 70% by weight or more, particularly preferably 90% by weight. That is all. By increasing the proportion of the structural unit having an alicyclic structure as described above, the flexibility and heat resistance of the optical film can be enhanced.
Further, in the alicyclic structure-containing polymer, the balance other than the structural unit having the alicyclic structure is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose of use.

脂環式構造含有重合体としては、結晶性を有するもの、及び、結晶性を有さないもののいずれを用いてもよく、両者を組み合わせて用いてもよい。ここで、結晶性を有する重合体とは、融点Mpを有する重合体をいう。すなわち、結晶性を有する重合体とは、示差走査熱量計(DSC)で融点Mpを観測することができる重合体をいう。結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることにより、光学フィルムの衝撃強度、耐溶媒性、耐回折性、引裂き強度を特に高めることができる。また、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を用いることにより、光学フィルムの製造コストを下げることができる。   As the alicyclic structure-containing polymer, either a polymer having crystallinity or a polymer having no crystallinity may be used, or both may be used in combination. Here, the crystalline polymer means a polymer having a melting point Mp. That is, the crystalline polymer means a polymer whose melting point Mp can be observed by a differential scanning calorimeter (DSC). By using the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity, impact strength, solvent resistance, diffraction resistance, and tear strength of the optical film can be particularly enhanced. Further, the production cost of the optical film can be reduced by using the alicyclic structure-containing polymer having no crystallinity.

結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、例えば、下記の重合体(α)〜重合体(δ)が挙げられる。これらの中でも、可撓性、耐熱性及び耐折性に優れる光学フィルムが得られ易いことから、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、重合体(β)が好ましい。
重合体(α):環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(β):重合体(α)の水素添加物であって、結晶性を有するもの。
重合体(γ):環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(δ):重合体(γ)の水素添加物等であって、結晶性を有するもの。
Examples of the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity include the following polymers (α) to (δ). Among these, the polymer (β) is preferable as the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity because an optical film having excellent flexibility, heat resistance and folding resistance can be easily obtained.
Polymer (α): A ring-opening polymer of a cyclic olefin monomer, which has crystallinity.
Polymer (β): A hydrogenated product of the polymer (α) having crystallinity.
Polymer (γ): Addition polymer of cyclic olefin monomer, which has crystallinity.
Polymer (δ): A hydrogenated product of the polymer (γ), which has crystallinity.

具体的には、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものがより好ましく、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上、さらに好ましくは100重量%の重合体をいう。   Specifically, the crystalline alicyclic structure-containing polymer is a ring-opening polymer of dicyclopentadiene and has crystallinity, and a hydrogenated product of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene. It is more preferable that the polymer has crystallinity, and a hydrogenated product of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene that has crystallinity is particularly preferable. Here, the ring-opening polymer of dicyclopentadiene means that the ratio of structural units derived from dicyclopentadiene to all structural units is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, More preferably, it means 100% by weight of the polymer.

ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物は、ラセモ・ダイアッドの割合が高いことが好ましい。具体的には、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物における繰り返し単位のラセモ・ダイアッドの割合は、好ましくは51%以上、より好ましくは60%以上、特に好ましくは65%以上である。ラセモ・ダイアッドの割合が高いことは、シンジオタクチック立体規則性が高いことを表す。よって、ラセモ・ダイアッドの割合が高いほど、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の融点が高い傾向がある。
ラセモ・ダイアッドの割合は、後述する実施例に記載の13C−NMRスペクトル分析に基づいて決定できる。
The hydride of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene preferably has a high proportion of racemo dyads. Specifically, the ratio of racemo dyad of the repeating unit in the hydride of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene is preferably 51% or more, more preferably 60% or more, particularly preferably 65% or more. A high proportion of Racemo Dyad indicates high syndiotactic stereoregularity. Therefore, the higher the racemo dyad ratio, the higher the melting point of the hydride of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene tends to be.
The ratio of racemo dyads can be determined based on 13 C-NMR spectrum analysis described in Examples below.

高い結晶化度を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、通常、可撓性、耐熱性、耐折性、耐溶媒性等の特性に優れる。よって、光学フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、高い結晶化度を有することが好ましい。しかし、高い結晶化度を有した脂環式構造含有重合体を含む基材フィルムの表面は、他樹脂との密着性が乏しい。したがって、結晶化の進行は、樹脂層を基材フィルムと貼合した後において行うことが好ましく、よって、工程(V)よりも前の時点では、基材フィルムを形成する樹脂に含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化度は、低いことが好ましい。そのため、工程(II)においてフィルム表面に親水処理を施される前の時点においては、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化度は、低いことが好ましい。具体的には、フィルム表面に親水処理を施される前において、基材フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体の結晶化度は、好ましくは3%未満、より好ましくは2%未満、特に好ましくは1%未満である。   A resin containing an alicyclic structure-containing polymer having a high crystallinity is usually excellent in properties such as flexibility, heat resistance, folding resistance and solvent resistance. Therefore, the crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in the optical film preferably has high crystallinity. However, the surface of the base film containing the alicyclic structure-containing polymer having high crystallinity has poor adhesion to other resins. Therefore, the crystallization is preferably performed after the resin layer is attached to the base material film, and therefore, before the step (V), the alicyclic ring included in the resin forming the base material film is preferably used. The crystallinity of the formula structure-containing polymer is preferably low. Therefore, the crystallinity of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film is preferably low before the film surface is subjected to the hydrophilic treatment in step (II). Specifically, the crystallinity of the crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in the base film before the hydrophilic treatment on the film surface is preferably less than 3%, more preferably 2%. %, Particularly preferably less than 1%.

結晶化度は、基材フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体のうち、結晶化したものの割合を示す指標である。基材フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体の結晶化度は、X線回折法によって測定できる。前記の結晶化度は、具体的には、実施例において説明する測定方法によって測定できる。   The crystallinity is an index showing the ratio of the crystallized alicyclic structure-containing polymer having crystallinity contained in the base film. The crystallinity of the crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in the base film can be measured by an X-ray diffraction method. Specifically, the crystallinity can be measured by the measuring method described in Examples.

結晶性を有する脂環式構造含有重合体の融点Mpは、好ましくは200℃以上、より好ましくは230℃以上であり、好ましくは290℃以下である。このような融点Mpを有する結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることによって、成形性と耐熱性とのバランスに更に優れた光学フィルムを得ることができる。   The melting point Mp of the crystalline alicyclic structure-containing polymer is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 230 ° C. or higher, and preferably 290 ° C. or lower. By using a crystalline alicyclic structure-containing polymer having such a melting point Mp, it is possible to obtain an optical film having a better balance between moldability and heat resistance.

前記のような結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、例えば、国際公開第2016/067893号に記載の方法により、製造できる。   The alicyclic structure-containing polymer having the above-mentioned crystallinity can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2016/067893.

他方、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体は、例えば、(1)ノルボルネン系重合体、(2)単環の環状オレフィン重合体、(3)環状共役ジエン重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン系重合体及びこの水素化物がより好ましい。   On the other hand, the alicyclic structure-containing polymer having no crystallinity is, for example, (1) norbornene-based polymer, (2) monocyclic cycloolefin polymer, (3) cyclic conjugated diene polymer, (4) Examples thereof include vinyl alicyclic hydrocarbon polymers and their hydrides. Among these, the norbornene-based polymer and its hydride are more preferable from the viewpoint of transparency and moldability.

ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素化物;ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素化物が特に好ましい。
上記の脂環式構造含有重合体としては、例えば特開2002−321302号公報に記載されたものを任意に選択して用いることができる。
Examples of the norbornene-based polymer include ring-opening polymers of norbornene monomers, ring-opening copolymers of norbornene monomers with other monomers capable of ring-opening copolymerization, and hydrides thereof; addition polymers of norbornene monomers, Examples thereof include addition copolymers of the norbornene monomer and other copolymerizable monomers. Among these, hydrides of ring-opening polymers of norbornene monomers are particularly preferable from the viewpoint of transparency.
As the alicyclic structure-containing polymer, for example, those described in JP-A-2002-321302 can be arbitrarily selected and used.

脂環式構造含有重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   As the alicyclic structure-containing polymer, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

脂環式構造含有重合体のガラス転移温度Tgは、好ましくは80℃以上、より好ましくは85℃以上、更に好ましくは90℃以上であり、好ましくは250℃以下、より好ましくは170℃以下である。ガラス転移温度がこのような範囲にある脂環式構造含有重合体は、高温下での使用における変形及び応力が生じ難く、耐久性に優れる。   The glass transition temperature Tg of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 85 ° C. or higher, further preferably 90 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower. . The alicyclic structure-containing polymer having a glass transition temperature in such a range is resistant to deformation and stress during use at high temperatures and has excellent durability.

脂環式構造含有重合体の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000以上、より好ましくは2,000以上、更に好ましくは10,000以上、特に好ましくは25,000以上であり、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは500,000以下、更に好ましくは100,000以下、中でも好ましくは80,000以下、特に好ましくは50,000以下である。このような重量平均分子量を有する重合体は、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れる。   The weight-average molecular weight (Mw) of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, further preferably 10,000 or more, particularly preferably 25,000 or more, preferably Is 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less, further preferably 100,000 or less, particularly preferably 80,000 or less, and particularly preferably 50,000 or less. A polymer having such a weight average molecular weight has an excellent balance between moldability and heat resistance.

脂環式構造含有重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは1.0以上、より好ましくは1.2以上、特に好ましくは1.5以上であり、好ましくは10以下、より好ましくは4.0以下、更に好ましくは3.5以下である。ここで、Mnは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する脂環式構造含有重合体は、成形加工性に優れる。   The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 1.0 or more, more preferably 1.2 or more, particularly preferably 1.5 or more, preferably 10 or less, more preferably It is 4.0 or less, more preferably 3.5 or less. Here, Mn represents a number average molecular weight. The alicyclic structure-containing polymer having such a molecular weight distribution is excellent in moldability.

前記の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算値として測定できる。   The weight average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) can be measured as a polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a developing solvent.

基材を形成する樹脂における脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以上、更に好ましは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造含有重合体の割合を前記範囲の下限値以上にすることにより、脂環式構造含有重合体の優れた特性を効果的に発揮させることができる。   The proportion of the alicyclic structure-containing polymer in the resin forming the base material is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, further preferably 80% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more. is there. By setting the ratio of the alicyclic structure-containing polymer to be the lower limit value or more in the above range, excellent properties of the alicyclic structure-containing polymer can be effectively exhibited.

基材を形成する樹脂は、脂環式構造含有重合体に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤;ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤;石油系ワックス、フィッシャートロプシュワックス、ポリアルキレンワックス等のワックス;ソルビトール系化合物、有機リン酸の金属塩、有機カルボン酸の金属塩、カオリン及びタルク等の核剤;ジアミノスチルベン誘導体、クマリン誘導体、アゾール系誘導体(例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、及びベンゾチアソール誘導体)、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ナフタル酸誘導体、及びイミダゾロン誘導体等の蛍光増白剤;ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤;タルク、シリカ、炭酸カルシウム、ガラス繊維等の無機充填材;着色剤;難燃剤;難燃助剤;帯電防止剤;可塑剤;近赤外線吸収剤;滑剤;フィラー;軟質重合体等の、脂環式構造含有重合体以外の任意の重合体;などが挙げられる。また、任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The resin forming the base material may further contain an optional component in combination with the alicyclic structure-containing polymer. Examples of optional components include antioxidants such as phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, light stabilizers such as hindered amine light stabilizers, petroleum wax, Fischer-Tropsch wax, and the like. Waxes such as polyalkylene waxes; sorbitol compounds, metal salts of organic phosphoric acids, metal salts of organic carboxylic acids, nucleating agents such as kaolin and talc; diaminostilbene derivatives, coumarin derivatives, azole derivatives (for example, benzoxazole derivatives, Fluorescent brighteners such as benzotriazole derivatives, benzimidazole derivatives, and benzothiazole derivatives), carbazole derivatives, pyridine derivatives, naphthalic acid derivatives, and imidazolone derivatives; benzophenone-based UV absorbers, salicylic acid-based UV absorbers, benzotriazole-based UV absorbers such as external line absorbers; inorganic fillers such as talc, silica, calcium carbonate, glass fibers; coloring agents; flame retardants; flame retardant aids; antistatic agents; plasticizers; near infrared absorbers; lubricants; fillers And any polymer other than the alicyclic structure-containing polymer, such as a soft polymer. In addition, as the optional component, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

基材フィルムは、高い全光線透過率を有することが好ましい。具体的には、基材フィルムの全光線透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、特に好ましくは88%以上である。前記全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長400nm〜700nmの範囲で測定できる。   The base film preferably has a high total light transmittance. Specifically, the total light transmittance of the substrate film is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 88% or more. The total light transmittance can be measured in a wavelength range of 400 nm to 700 nm using an ultraviolet / visible spectrometer.

基材フィルムは、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、基材フィルムのヘイズは、好ましくは3.0%未満、より好ましくは2.0%未満、特に好ましくは1.0%未満であり、理想的には0%である。前記ヘイズは、ヘイズメーターを用いて測定できる。   The base film preferably has a small haze. Specifically, the haze of the substrate film is preferably less than 3.0%, more preferably less than 2.0%, particularly preferably less than 1.0%, and ideally 0%. The haze can be measured using a haze meter.

基材フィルムの厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上、特に好ましくは15μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下、特に好ましくは50μm以下である。基材フィルムの厚みを前記下限値以上にすることにより、光学フィルムの機械的強度を高めることができる。基材フィルムの厚みを前記上限値以下にすることにより、光学フィルムの厚みを薄くできる。   The thickness of the substrate film is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, particularly preferably 15 μm or more, preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, particularly preferably 50 μm or less. By setting the thickness of the base film to be the above lower limit or more, the mechanical strength of the optical film can be increased. The thickness of the optical film can be reduced by adjusting the thickness of the base film to the upper limit or less.

基材フィルムは、脂環式構造含有重合体を含む樹脂を、任意の成形方法によってフィルム状に成形することにより、製造できる。成形方法の例としては、射出成形法、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、ブロー成形法、カレンダー成形法、注型成形法、及び圧縮成形法が挙げられる。これらの中でも、厚みの制御が容易であることから、溶融押出成形法が好ましい。   The base film can be produced by molding a resin containing an alicyclic structure-containing polymer into a film by any molding method. Examples of the molding method include an injection molding method, a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation molding method, a blow molding method, a calender molding method, a cast molding method, and a compression molding method. Among these, the melt extrusion molding method is preferable because the thickness can be easily controlled.

溶融押出成形法によって基材フィルムを製造する場合、押出成形の条件は、好ましくは下記の通りである。シリンダー温度(溶融樹脂温度)は、好ましくは(Tg+80℃)以上、より好ましくは(Tg+100℃)以上であり、好ましくは(Tg+180℃)以下、より好ましくは(Tg+150℃)以下である。また、特に結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いる場合、シリンダー温度は、好ましくはTm以上、より好ましくは(Tm+20℃)以上であり、好ましくは(Tm+100℃)以下、より好ましくは(Tm+50℃)以下である。さらに、キャストロール温度は、好ましくは(Tg−30℃)以上であり、好ましくはTg以下、より好ましくは(Tg−15℃)以下である。このような条件で基材フィルムを製造することにより、好ましい厚みの基材フィルムを容易に製造できる。ここで、「Tm」は脂環式構造含有重合体の融点を表し、「Tg」は脂環式構造含有重合体のガラス転移温度を表す。   When the substrate film is produced by the melt extrusion molding method, the extrusion molding conditions are preferably as follows. The cylinder temperature (melting resin temperature) is preferably (Tg + 80 ° C.) or higher, more preferably (Tg + 100 ° C.) or higher, preferably (Tg + 180 ° C.) or lower, more preferably (Tg + 150 ° C.) or lower. In addition, particularly when a crystalline alicyclic structure-containing polymer is used, the cylinder temperature is preferably Tm or higher, more preferably (Tm + 20 ° C.) or higher, preferably (Tm + 100 ° C.) or lower, more preferably (Tm + 100 ° C.) or lower. Tm + 50 ° C.) or less. Further, the cast roll temperature is preferably (Tg-30 ° C) or higher, preferably Tg or lower, and more preferably (Tg-15 ° C) or lower. By producing the substrate film under such conditions, the substrate film having a preferable thickness can be easily produced. Here, "Tm" represents the melting point of the alicyclic structure-containing polymer, and "Tg" represents the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer.

基材フィルムを用意した後で、この基材フィルムのフィルム面に、親水処理を行う。基材フィルムの片方のフィルム面に樹脂層を形成する場合には、その片方のフィルム面に親水処理を施す。また、基材フィルムの両方のフィルム面に樹脂層を形成する場合には、その両方のフィルム面に親水処理を施す。このような親水処理を施すことにより、基材フィルムのフィルム面の表面自由エネルギーを、所定の範囲に調整する。   After the base film is prepared, the film surface of the base film is subjected to hydrophilic treatment. When the resin layer is formed on one film surface of the base film, the one film surface is subjected to hydrophilic treatment. Further, when the resin layers are formed on both film surfaces of the substrate film, both film surfaces are subjected to hydrophilic treatment. By performing such a hydrophilic treatment, the surface free energy of the film surface of the base film is adjusted within a predetermined range.

親水処理後の基材フィルムのフィルム面の具体的な表面自由エネルギーは、通常40mJ/m以上、好ましくは50mJ/m以上、特に好ましくは60mJ/m以上である。基材フィルムのフィルム面がこのように高い表面自由エネルギーを有することにより、樹脂層がフィルム面に安定して定着できるので、工程(IV)において仮支持体を剥離する際に、この仮支持体の仮支持面への樹脂層の残留を抑制することが可能である。フィルム面の前記表面自由エネルギーの上限は、特段の制限は無く、例えば77mJ/m以下でありうる。Specific surface free energy of the film surface of the substrate film after the hydrophilic treatment is usually 40 mJ / m 2 or more, preferably 50 mJ / m 2 or more, particularly preferably 60 mJ / m 2 or more. Since the film surface of the base material film has such a high surface free energy, the resin layer can be stably fixed to the film surface. Therefore, when the temporary support is peeled off in step (IV), It is possible to suppress the resin layer from remaining on the temporary support surface of. The upper limit of the surface free energy of the film surface is not particularly limited and may be, for example, 77 mJ / m 2 or less.

前記の親水処理としては、コロナ処理、プラズマ処理及びエキシマ処理からなる群より選ばれる少なくとも一つを行うことが好ましい。また、これらの処理は、1種類を単独で行ってもよく、2種類以上を組み合わせて行ってもよい。これらの処理を基材フィルムのフィルム面に施すことにより、通常は、前記のフィルム面に、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基等の親水性基が生成する。これにより、フィルム面の表面自由エネルギーを向上させることができる。   The hydrophilic treatment is preferably at least one selected from the group consisting of corona treatment, plasma treatment and excimer treatment. In addition, these treatments may be performed alone or in combination of two or more. By subjecting the film surface of the substrate film to these treatments, a hydrophilic group such as a hydroxyl group, a carboxyl group or a carbonyl group is usually produced on the film surface. Thereby, the surface free energy of the film surface can be improved.

前記の親水処理の処理条件は、基材フィルムのフィルム面の表面自由エネルギーを所望の範囲に収めることができるように、適切に設定する。具体的な処理条件は、基材フィルムの種類及び処理装置に応じて異なるが、例えば、下記のように設定しうる。   The treatment conditions of the hydrophilic treatment are appropriately set so that the surface free energy of the film surface of the base film can be set within a desired range. Specific processing conditions differ depending on the type of the substrate film and the processing apparatus, but can be set as follows, for example.

コロナ処理では、通常、誘電体と絶縁された電極との間に高周波で高電圧をかけてコロナを発生させ、誘電体と電極との間に基材フィルムを通すことによって、フィルム面を処理する。一般に、電極の種類、電極間隔、電圧、湿度、処理される基材フィルムの種類に応じて、コロナ処理を施されたフィルム面の表面自由エネルギーが調整される。電極と基材フィルムとの距離は、1mm〜5mmが好ましく、1mm〜3mmがより好ましい。コロナ処理を施される基材フィルムの搬送速度は、0.01m/分〜10m/分が好ましく、0.05m/分〜5m/分がより好ましい。電極幅は、0.1m〜1mが好ましい。コロナ出力は、好ましくは100W以上であり、基材フィルムの傷付きを抑制する観点では、好ましくは3kW以下、より好ましくは1.5kW以下である。基材フィルムを搬送しながら行うコロナ処理において「処理強度=(出力)/(搬送速度×電極幅)」で計算される処理強度は、4.2kW・min/m以上が好ましい。In corona treatment, a high voltage is applied at high frequency between a dielectric and an insulated electrode to generate a corona, and a base film is passed between the dielectric and the electrode to treat the film surface. . In general, the surface free energy of the corona-treated film surface is adjusted according to the type of electrodes, electrode spacing, voltage, humidity, and the type of substrate film to be treated. The distance between the electrode and the substrate film is preferably 1 mm to 5 mm, more preferably 1 mm to 3 mm. The transport speed of the base film subjected to the corona treatment is preferably 0.01 m / min to 10 m / min, more preferably 0.05 m / min to 5 m / min. The electrode width is preferably 0.1 m to 1 m. The corona output is preferably 100 W or more, and is preferably 3 kW or less, more preferably 1.5 kW or less from the viewpoint of suppressing scratches on the base film. In the corona treatment performed while transporting the substrate film, the treatment intensity calculated by “treatment intensity = (output) / (transport speed × electrode width)” is preferably 4.2 kW · min / m 2 or more.

プラズマ処理では、通常、不活性ガス及び酸素ガス等のガス雰囲気下で、プラズマ放電を行うことにより、基材フィルムのフィルム面を処理する。このプラズマ処理は、例えば0.1Torr〜1Torr程度の減圧下で行ってもよいが、基材フィルムを搬送しながら効率良く処理を行う観点から、大気圧下で行うことが好ましい。プラズマ処理で用いるガスの種類としては、例えば、窒素;酸素;アルゴン、ヘリウム等の希ガス;アクリル酸;ヒドロキシアルキル;CF、CHF、C等のフッ素系化合物;等が挙げられる。好ましいガスとしては、例えば、窒素等の不活性ガスと酸素とを95.0:5.0〜99.9:0.1の比率で混合した混合ガスが挙げられる。電極と基材フィルムとの距離は、1mm〜5mmが好ましく、1mm〜3mmがより好ましい。プラズマ処理を施される基材フィルムの搬送速度は、1m/分〜70m/分が好ましく、3m/分〜50m/分がより好ましい。電極幅は、0.1m〜1mが好ましい。プラズマ出力は、好ましくは50W以上である。周波数の範囲は、10kHz〜100kHzが好ましい。基材フィルムを搬送しながら行うプラズマ処理において「処理強度=(出力)/(搬送速度×電極幅)」で計算される処理強度は、0.028kW・min/m以上が好ましい。In the plasma treatment, usually, the film surface of the substrate film is treated by performing plasma discharge in a gas atmosphere such as an inert gas and an oxygen gas. This plasma treatment may be performed under reduced pressure of, for example, about 0.1 Torr to 1 Torr, but it is preferably performed under atmospheric pressure from the viewpoint of performing the treatment efficiently while conveying the substrate film. Examples of the type of gas used in the plasma treatment include nitrogen; oxygen; rare gases such as argon and helium; acrylic acid; hydroxyalkyl; fluorine compounds such as CF 4 , CHF 3 , C 2 F 6 and the like. . As a preferable gas, for example, a mixed gas in which an inert gas such as nitrogen and oxygen are mixed in a ratio of 95.0: 5.0 to 99.9: 0.1 can be mentioned. The distance between the electrode and the substrate film is preferably 1 mm to 5 mm, more preferably 1 mm to 3 mm. The conveyance speed of the substrate film that is subjected to the plasma treatment is preferably 1 m / min to 70 m / min, more preferably 3 m / min to 50 m / min. The electrode width is preferably 0.1 m to 1 m. The plasma output is preferably 50 W or more. The frequency range is preferably 10 kHz to 100 kHz. In the plasma treatment performed while transporting the substrate film, the treatment intensity calculated by “treatment intensity = (output) / (transport speed × electrode width)” is preferably 0.028 kW · min / m 2 or more.

エキシマ処理では、通常、エキシマランプを用いて、中心波長が180nm未満の光を照射することにより、基材フィルムのフィルム面を処理する。照射する光の中心波長の下限は、特段の制限は無く、例えば100nm以上でありうる。ここで、「光の中心波長」とは、発光スペクトルにおいて、最大の発光強度をもたらす波長をいう。エキシマ処理では、エキシマランプの種類を選択することにより、目的の中心波長の光が得られる。例えば、Arエキシマランプから照射される光の中心波長は126nmであり、Krエキシマランプから照射される光の中心波長は146nmであり、ArBrエキシマランプから照射される光の中心波長は165nmであり、Xeエキシマランプから照射される光の中心波長は172nmであり、ArClエキシマランプから照射される光の中心波長は175nmである。光の照射時間は、0.1秒〜150秒、好ましくは1秒〜120秒、より好ましくは10秒〜90秒である。照度は、50mW/cm以上が好ましい。エキシマランプと基材フィルムとの距離は、10mm以下が好ましい。In the excimer treatment, an excimer lamp is usually used to treat the film surface of the base material film by irradiating it with light having a central wavelength of less than 180 nm. The lower limit of the central wavelength of the irradiation light is not particularly limited and may be, for example, 100 nm or more. Here, the "center wavelength of light" refers to a wavelength that gives the maximum emission intensity in the emission spectrum. In the excimer processing, by selecting the type of the excimer lamp, the light having the target center wavelength can be obtained. For example, the center wavelength of the light emitted from the Ar excimer lamp is 126 nm, the center wavelength of the light emitted from the Kr excimer lamp is 146 nm, the center wavelength of the light emitted from the ArBr excimer lamp is 165 nm, The central wavelength of the light emitted from the Xe excimer lamp is 172 nm, and the central wavelength of the light emitted from the ArCl excimer lamp is 175 nm. The irradiation time of light is 0.1 second to 150 seconds, preferably 1 second to 120 seconds, and more preferably 10 seconds to 90 seconds. The illuminance is preferably 50 mW / cm 2 or more. The distance between the excimer lamp and the base film is preferably 10 mm or less.

[4.基材フィルムと樹脂層とを貼合する工程(III)]
工程(I)及び工程(II)の後で、仮支持体の仮支持面に形成された樹脂層と、基材フィルムの親水処理を施されたフィルム表面とを、貼合する工程(III)を行う。この工程(III)では、通常、接着層等の他の層を介することなく、樹脂層と基材フィルムのフィルム面とを直接に貼合する。
[4. Step of bonding substrate film and resin layer (III)]
After step (I) and step (II), a step (III) of laminating the resin layer formed on the temporary support surface of the temporary support and the hydrophilic film surface of the substrate film I do. In this step (III), usually, the resin layer and the film surface of the substrate film are directly bonded to each other without interposing another layer such as an adhesive layer.

前記の貼合は、樹脂層と基材フィルムとの間に気泡が残らないようにする観点から、樹脂層と基材フィルムとが互いに押圧されるように行うことが好ましい。例えば、一対のニップロールの間に、仮支持面に樹脂層を形成された仮支持体と基材フィルムとを通すことにより、樹脂層と基材フィルムとを圧接させて、貼合を行ってもよい。   From the viewpoint of preventing bubbles from remaining between the resin layer and the base film, the above-mentioned bonding is preferably performed so that the resin layer and the base film are pressed against each other. For example, by passing the temporary support having the resin layer formed on the temporary support surface and the base film between the pair of nip rolls, the resin layer and the base film are brought into pressure contact with each other, and the bonding is performed. Good.

前記の貼合は、通常、基材フィルムを形成する樹脂に含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化開始温度未満の温度で行う。加熱のためのエネルギーを削減して製造コストを抑制する観点では、貼合は、常温において行うことが好ましい。   The above-mentioned bonding is usually performed at a temperature lower than the crystallization start temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin forming the base film. From the viewpoint of reducing the energy for heating and suppressing the manufacturing cost, the bonding is preferably performed at room temperature.

[5.仮支持体を剥離する工程(IV)]
工程(III)の後で、仮支持体を剥離する工程(IV)を行う。基材フィルムのフィルム面の表面自由エネルギーが上述した範囲にあることにより、樹脂層は、基材フィルムのフィルム面に安定して定着できている。また、仮支持体の仮支持面の表面自由エネルギーが上述した範囲にあることにより、仮支持体の仮支持面から樹脂層は円滑に離れることができる。したがって、仮支持体は、円滑に剥離される。よって、剥離される仮支持体の仮支持面への樹脂層の一部又は全部の残留を、生じ難くできる。
前記の仮支持体の剥離により、基材フィルム及び樹脂層を備える複層フィルムが得られる。
[5. Step (IV) of peeling the temporary support]
After the step (III), the step (IV) of peeling the temporary support is performed. When the surface free energy of the film surface of the base film is within the above range, the resin layer can be stably fixed on the film surface of the base film. Further, since the surface free energy of the temporary support surface of the temporary support is within the above range, the resin layer can be smoothly separated from the temporary support surface of the temporary support. Therefore, the temporary support is peeled off smoothly. Therefore, it is possible to prevent a part or all of the resin layer from remaining on the temporary support surface of the temporary support to be peeled off.
By peeling off the temporary support, a multilayer film including a base film and a resin layer can be obtained.

[6.基材フィルム及び樹脂層に熱処理を施す工程(V)]
工程(IV)の後で、樹脂層及び基材フィルムに熱処理を施す工程(V)を行う。熱処理温度は、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上に設定する。このような熱処理温度において、樹脂層と基材フィルムとの密着性が高められて、基材フィルム及びこの基材フィルムから剥離し難い樹脂層を含む光学フィルムを製造することができる。
[6. Step (V) of heat-treating the base material film and the resin layer]
After the step (IV), a step (V) of heat-treating the resin layer and the base film is performed. The heat treatment temperature is set to be equal to or higher than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film. At such a heat treatment temperature, the adhesion between the resin layer and the base film is enhanced, and an optical film including the base film and the resin layer that is difficult to be peeled from the base film can be manufactured.

樹脂層に含まれる樹脂がガラス転移温度を有する場合、樹脂層に含まれる樹脂のガラス転移温度は、通常、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体のガラス転移温度よりも低い。よって、工程(V)における熱処理温度は、通常、樹脂層に含まれる樹脂のガラス転移温度よりも高温である。また、樹脂層に含まれる樹脂のガラス転移温度が基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体のガラス転移温度よりも高い場合には、樹脂層と基材フィルムとの密着性を効果的に高める観点から、工程(V)における熱処理温度は、樹脂層に含まれる樹脂のガラス転移温度よりも高温に設定することが好ましい。   When the resin contained in the resin layer has a glass transition temperature, the glass transition temperature of the resin contained in the resin layer is usually lower than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film. Therefore, the heat treatment temperature in the step (V) is usually higher than the glass transition temperature of the resin contained in the resin layer. Further, when the glass transition temperature of the resin contained in the resin layer is higher than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film, the adhesiveness between the resin layer and the base film is effective. From the viewpoint of increasing the temperature to a higher level, the heat treatment temperature in the step (V) is preferably set higher than the glass transition temperature of the resin contained in the resin layer.

具体的な熱処理温度は、好ましくは(Tg+30℃)以上、より好ましくは(Tg+50℃)以上、特に好ましくは(Tg+70℃)以上であり、好ましくは(Tg+120℃)以下、より好ましくは(Tg+110℃)以下、特に好ましくは(Tg+100℃)以下である。熱処理温度が、前記範囲の下限値以上であることにより、樹脂層と基材フィルムとの密着性を効果的に高められる。また、熱処理温度が、前記範囲の上限値以下であることにより、基材フィルムの白濁を抑制できる。ここで「Tg」は、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体のガラス転移温度を表す。   The specific heat treatment temperature is preferably (Tg + 30 ° C.) or higher, more preferably (Tg + 50 ° C.) or higher, particularly preferably (Tg + 70 ° C.) or higher, preferably (Tg + 120 ° C.) or lower, more preferably (Tg + 110 ° C.) It is particularly preferably (Tg + 100 ° C.) or less. When the heat treatment temperature is at least the lower limit value of the above range, the adhesiveness between the resin layer and the base film can be effectively enhanced. When the heat treatment temperature is at most the upper limit value of the above range, cloudiness of the base film can be suppressed. Here, "Tg" represents the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film.

前記の熱処理を施す処理時間は、樹脂層と基材フィルムとの密着性を高められる範囲で任意に設定できる。具体的な処理時間は、好ましくは5秒以上、より好ましくは15秒以上、特に好ましくは30秒以上である。処理時間が、前記範囲の下限値以上であることにより、樹脂層と基材フィルムとの密着性を効果的に高められる。処理時間の上限は、特段の制限は無いが、例えば5分以下でありうる。   The treatment time for performing the heat treatment can be arbitrarily set within a range in which the adhesion between the resin layer and the base film can be enhanced. The specific treatment time is preferably 5 seconds or longer, more preferably 15 seconds or longer, and particularly preferably 30 seconds or longer. When the treatment time is at least the lower limit value of the above range, the adhesiveness between the resin layer and the base film can be effectively enhanced. The upper limit of the processing time is not particularly limited, but may be, for example, 5 minutes or less.

工程(V)は、必要に応じて、基材フィルムを延伸する工程(V−1)を含んでいてもよい。この工程(V−1)では、基材フィルム及び樹脂層を備える複層フィルムを延伸することにより、基材フィルムを延伸する。通常、この延伸は、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上の温度条件で行われる。よって、工程(V−1)においては、樹脂層及び基材フィルムに対する熱処理と、基材フィルムの延伸処理との、両方を行うことができる。   Step (V) may include a step (V-1) of stretching the base material film, if necessary. In this step (V-1), the base film is stretched by stretching the multilayer film including the base film and the resin layer. Usually, this stretching is performed under a temperature condition of the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the substrate film or higher. Therefore, in the step (V-1), both the heat treatment of the resin layer and the base film and the stretching treatment of the base film can be performed.

基材フィルムの延伸方法に格別な制限は無く、任意の延伸方法を用いうる。延伸方法の例としては、基材フィルムを長手方向に一軸延伸する方法(縦一軸延伸法)、基材フィルムを幅方向に一軸延伸する方法(横一軸延伸法)等の、一軸延伸法;基材フィルムを長手方向に延伸すると同時に幅方向に延伸する同時二軸延伸法、基材フィルムを長手方向及び幅方向の一方に延伸した後で他方に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法;並びに基材フィルムを幅方向に対し0°超90°未満といった、幅方向に対し平行でも垂直でもない斜め方向に延伸する方法(斜め延伸法)が挙げられる。このような延伸方法としては、例えば、国際公開第2016/067893号に記載の方法を用いることができる。   There is no particular limitation on the stretching method of the base film, and any stretching method can be used. Examples of the stretching method include a uniaxial stretching method such as a method of uniaxially stretching the base film in the longitudinal direction (longitudinal uniaxial stretching method) and a method of uniaxially stretching the base film in the width direction (transverse uniaxial stretching method); Biaxial stretching such as simultaneous biaxial stretching in which the material film is stretched in the longitudinal direction and simultaneously in the width direction, and sequential biaxial stretching in which the base film is stretched in one of the longitudinal direction and the width direction and then stretched in the other. Method; and a method (oblique stretching method) of stretching the substrate film in an oblique direction which is neither parallel nor perpendicular to the width direction, such as more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the width direction. As such a stretching method, for example, the method described in International Publication No. 2016/067893 can be used.

工程(V−1)における延伸温度は、好ましくはTg℃以上であり、好ましくは(Tg+60℃)以下、より好ましくは(Tg+50℃)以下である。このような温度範囲で延伸を行うことにより、基材フィルムに含まれる重合体分子を適切に配向させることができる。ここで「Tg」は、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体のガラス転移温度を表す。   The stretching temperature in the step (V-1) is preferably Tg ° C. or higher, preferably (Tg + 60 ° C.) or lower, and more preferably (Tg + 50 ° C.) or lower. By performing stretching in such a temperature range, the polymer molecules contained in the base film can be properly oriented. Here, "Tg" represents the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film.

工程(V−1)における延伸倍率は、延伸後に得られる光学特性、厚み、強度などの属性に応じて適切に選択でき、通常は1.1倍以上であり、通常は10倍以下、好ましくは5倍以下である。ここで、例えば二軸延伸法のように異なる複数の方向に延伸を行う場合、延伸倍率は各延伸方向における延伸倍率の積で表される総延伸倍率のことである。延伸倍率を前記範囲の上限値以下にすることにより、フィルムが破断する可能性を小さくできるので、光学フィルムの製造を容易に行うことができる。   The stretching ratio in the step (V-1) can be appropriately selected according to the attributes such as optical properties, thickness and strength obtained after stretching and is usually 1.1 times or more, usually 10 times or less, preferably It is 5 times or less. Here, when stretching is performed in a plurality of different directions as in the biaxial stretching method, the stretching ratio is the total stretching ratio represented by the product of the stretching ratios in each stretching direction. By setting the stretching ratio to the upper limit value of the above range or less, the possibility that the film is broken can be reduced, so that the optical film can be easily manufactured.

工程(V−1)において前記のような延伸処理を基材フィルムに施すことにより、所望の特性を有する光学フィルムを得ることができる。   By subjecting the substrate film to the stretching treatment as described above in the step (V-1), an optical film having desired characteristics can be obtained.

工程(V)は、基材フィルムが結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む場合、必要に応じて、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させる工程(V−2)を含んでいてもよい。この工程(V−2)では、基材フィルム及び樹脂層を備える複層フィルムを加熱することによって、基材フィルムを所定の温度に加熱し、脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させる。通常、脂環式構造含有重合体の結晶化の進行は、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上の温度条件で行われる。よって、工程(V−2)においては、樹脂層及び基材フィルムに対する熱処理と、基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化処理との、両方を行うことができる。また、工程(V)が基材フィルムを延伸する工程(V−1)を含む場合、通常、脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させる工程(V−2)は、工程(V−1)の後に行われる。   The step (V) is a step of advancing crystallization of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film, if necessary, when the base film contains a crystalline alicyclic structure-containing polymer. (V-2) may be included. In this step (V-2), the base film is heated to a predetermined temperature by heating the multilayer film including the base film and the resin layer, and crystallization of the alicyclic structure-containing polymer proceeds. . Usually, the crystallization of the alicyclic structure-containing polymer is carried out under the temperature condition of the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film or higher. Therefore, in the step (V-2), both the heat treatment of the resin layer and the base film and the crystallization treatment of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film can be performed. When the step (V) includes the step (V-1) of stretching the substrate film, the step (V-2) of advancing the crystallization of the alicyclic structure-containing polymer is usually the step (V- It is performed after 1).

結晶化は、基材フィルムを含む複層フィルムの少なくとも二の端辺を保持して緊張させた状態で行うことが好ましい。複層フィルムを緊張させた状態とは、複層フィルムに張力がかかった状態をいう。ただし、この複層フィルムを緊張させた状態には、複層フィルムが実質的に延伸される状態を含まない。また、実質的に延伸されるとは、複層フィルムのいずれかの方向への延伸倍率が通常1.1倍以上になることをいう。複層フィルムの少なくとも二の端辺を保持されて緊張した状態では、保持された端辺の間の領域において複層フィルムの熱収縮による変形が妨げられる。よって、そのフィルムの平滑性を損なうことなく、結晶化を進めることができる。   Crystallization is preferably performed in a state in which at least two edges of the multilayer film including the base film are held and strained. The tensioned state of the multilayer film means a state in which the multilayer film is under tension. However, the tensioned state of the multilayer film does not include the state in which the multilayer film is substantially stretched. Further, “substantially stretched” means that the stretching ratio in either direction of the multilayer film is usually 1.1 times or more. In a state where at least two edges of the multilayer film are held and tensioned, deformation of the multilayer film due to heat shrinkage is prevented in a region between the held edges. Therefore, crystallization can be promoted without impairing the smoothness of the film.

複層フィルムの広い面積において変形を妨げるためには、複層フィルムの対向する二の端辺を含む端辺を保持して、その保持された端辺の間の領域を緊張した状態にすることが好ましい。例えば、矩形の枚葉の複層フィルムでは、対向する二の端辺(例えば、長辺側の端辺同士、又は、短辺側の端辺同士)を保持して前記二の端辺の間の領域を緊張した状態にすることで、その枚葉の複層フィルムの全面において変形を妨げることができる。また、長尺の複層フィルムでは、幅方向の端部にある二の端辺(即ち、長辺側の端辺)を保持して前記二の端辺の間の領域を緊張した状態にすることで、その長尺の複層フィルムの全面において変形を妨げることができる。このように変形を妨げられた複層フィルムは、熱収縮によってフィルム内に応力が生じても、シワ等の変形の発生が抑制される。複層フィルムとして延伸処理を施されたものを用いる場合は、延伸方向(二軸延伸の場合は延伸倍率が大きい方向)と直交する少なくとも二の端辺を保持することで、変形の抑制がより確実なものとなる。このような保持具としては、例えば、国際公開第2016/067893号に記載のものを用いることができる。   In order to prevent deformation in a large area of the multilayer film, hold the edges including two opposite edges of the multilayer film and tension the area between the held edges. Is preferred. For example, in the case of a rectangular sheet-fed multilayer film, two opposing edges (for example, edges on the long side or edges on the short side) are held and the space between the two edges is held. By making the region of 10 in a tense state, it is possible to prevent deformation on the entire surface of the single-layered multilayer film. Further, in a long multi-layer film, the two end sides (that is, the end sides on the long side) at the end portions in the width direction are held and the region between the two end sides is in a tense state. Thus, the deformation can be prevented on the entire surface of the long multilayer film. In the multilayer film thus prevented from being deformed, the occurrence of deformation such as wrinkles is suppressed even if stress is generated in the film due to heat shrinkage. When a stretched film is used as the multilayer film, the deformation is more suppressed by holding at least two edges that are orthogonal to the stretching direction (the direction in which the stretching ratio is large in the case of biaxial stretching). It will be certain. As such a holder, for example, those described in International Publication No. 2016/067893 can be used.

工程(V−2)では、前記のように、基材フィルムの温度を所定の処理温度に調整して、その基材フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させる。この際、具体的な処理温度は、通常Tg以上、好ましくは(Tg+20℃)以上、より好ましくは(Tg+30℃)以上であり、通常Tm以下、好ましくは(Tm−20℃)以下、より好ましくは(Tm−40℃)以下である。ここで、「Tm」は、基材フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体の融点を表し、「Tg」は、基材フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体のガラス転移温度を表す。処理温度が前記範囲の下限値以上であることにより、脂環式構造含有重合体の結晶化を効率的に進行させることができる。また、処理温度が前記範囲の上限値以下であることにより、基材フィルムの白濁を抑制できる。   In the step (V-2), as described above, the temperature of the base film is adjusted to a predetermined treatment temperature to promote crystallization of the alicyclic structure-containing polymer contained in the base film. At this time, the specific treatment temperature is usually Tg or higher, preferably (Tg + 20 ° C.) or higher, more preferably (Tg + 30 ° C.) or higher, and usually Tm or lower, preferably (Tm−20 ° C.) or lower, more preferably (Tm-40 ° C) or less. Here, "Tm" represents the melting point of the crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in the base film, and "Tg" represents the crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in the base film. It represents the glass transition temperature of the polymer. When the treatment temperature is at least the lower limit value of the above range, crystallization of the alicyclic structure-containing polymer can be efficiently progressed. In addition, when the treatment temperature is equal to or lower than the upper limit value of the above range, cloudiness of the base film can be suppressed.

工程(V−2)において、基材フィルムの温度を前記の温度範囲に維持する処理時間は、好ましくは1秒以上、より好ましくは5秒以上であり、好ましくは30分以下、より好ましくは10分以下である。処理時間が、前記範囲の下限値以上であることにより、結晶性を有する脂環式構造含有重合体の結晶化を十分に進行させられるので、光学フィルムの可撓性、耐熱性、耐折性等の特性を高めることができる。また、処理時間が前記範囲の上限値以下であることにより、基材フィルムの白濁を抑制できる。   In the step (V-2), the treatment time for maintaining the temperature of the substrate film in the above temperature range is preferably 1 second or longer, more preferably 5 seconds or longer, preferably 30 minutes or shorter, and more preferably 10 minutes. It is less than a minute. When the treatment time is at least the lower limit value of the above range, crystallization of the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity can be sufficiently promoted, so that flexibility, heat resistance, and folding endurance of the optical film are obtained. It is possible to improve the characteristics such as. In addition, when the treatment time is equal to or less than the upper limit value of the above range, cloudiness of the base film can be suppressed.

工程(V−2)において前記のような結晶化処理を基材フィルムに施すことにより、基材フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体の結晶化度を高めることができるので、可撓性、耐熱性、耐折性、耐溶媒性等の特性に優れる光学フィルムを得ることができる。   By subjecting the base film to the crystallization treatment as described above in the step (V-2), the crystallinity of the crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in the base film can be increased. It is possible to obtain an optical film having excellent characteristics such as flexibility, heat resistance, folding resistance and solvent resistance.

[7.任意の工程]
光学フィルムの製造方法は、上述した工程に組み合わせて、更に任意の工程を含んでいてもよい。
任意の工程としては、例えば、工程(V−2)の後に、基材フィルムを熱収縮させて、残留応力を除去する緩和工程が挙げられる。
[7. Arbitrary process]
The method for producing an optical film may further include an optional step in combination with the above steps.
Examples of the optional step include a relaxation step of removing the residual stress by heat-shrinking the base film after the step (V-2).

また、任意の工程としては、例えば、光学フィルムに基材フィルム及び樹脂層以外の任意の層を設ける工程が挙げられる。任意の層は、通常、樹脂層とは反対側の基材フィルムの面に設けられる。任意の層の例としては、導電層、反射防止層、ハードコート層、帯電防止層、防眩層、防汚層、セパレーターフィルム層等を挙げることができる。   Moreover, as an arbitrary process, the process of providing the optical film with arbitrary layers other than a base material film and a resin layer is mentioned, for example. The optional layer is usually provided on the surface of the base film opposite to the resin layer. Examples of the optional layer include a conductive layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an antistatic layer, an antiglare layer, an antifouling layer, and a separator film layer.

[8.光学フィルム]
上述した製造方法によれば、基材フィルムと、この基材フィルムのフィルム面に形成されて前記基材フィルムから剥離し難い樹脂層とを含む光学フィルムを得ることができる。この光学フィルムでは、基材フィルムに延伸処理が施されていたり、基材フィルムが結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含んでいたり、更には前記の脂環式構造含有重合体の結晶化が進行していたりしても、基材フィルムと樹脂層との密着性を高くできる。
[8. Optical film]
According to the manufacturing method described above, it is possible to obtain an optical film including a base film and a resin layer formed on the film surface of the base film and difficult to peel from the base film. In this optical film, the base material film is subjected to a stretching treatment, the base material film contains a crystalline alicyclic structure-containing polymer, and further, the alicyclic structure-containing polymer crystal The adhesion between the base material film and the resin layer can be increased even if the progress of the polymerization is progressing.

この光学フィルムにおいて、樹脂層は、基材フィルムの片方のフィルム面のみに形成されていてもよく、基材フィルムの両方のフィルム面に形成されていてもよい。基材フィルムの両方のフィルム面に樹脂層を有する光学フィルムは、両方の樹脂層を同時に形成することができる。例えば、上述した工程(II)〜工程(V)それぞれを、基材フィルムの両方のフィルム面で同時に行って、2層の樹脂層を同時に形成できる。そのため、塗工法による樹脂層の形成のように、樹脂層の形成を片面ずつ行う必要が無いので、工程数の削減及び製造時間の短縮が可能となり、製造コストを抑制することができる。   In this optical film, the resin layer may be formed only on one film surface of the base film, or may be formed on both film surfaces of the base film. In an optical film having resin layers on both film surfaces of a base film, both resin layers can be formed simultaneously. For example, the steps (II) to (V) described above can be simultaneously performed on both film surfaces of the base film to simultaneously form two resin layers. Therefore, unlike the case of forming the resin layer by the coating method, it is not necessary to form the resin layer on each side, so that the number of steps and the manufacturing time can be reduced, and the manufacturing cost can be suppressed.

光学フィルムは、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムを含むので、脂環式構造含有重合体が示す優れた特性を発揮できる。よって、光学フィルムは、通常、機械的強度、透明性、寸法安定性及び軽量性に優れ、更に、吸湿性が低い。また、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いた場合には、光学フィルムは、前記の優れた性質に加えて、更に、可撓性、耐熱性、耐折性、低吸水性等の特性に優れる。   Since the optical film includes the substrate film formed of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer, the optical film can exhibit the excellent properties exhibited by the alicyclic structure-containing polymer. Therefore, the optical film is usually excellent in mechanical strength, transparency, dimensional stability and light weight, and further has low hygroscopicity. Further, in the case of using a polymer having an alicyclic structure having crystallinity, the optical film has flexibility, heat resistance, folding resistance, low water absorption, etc. in addition to the above-mentioned excellent properties. Excellent in characteristics.

中でも、可撓性、耐熱性、耐折性、低吸水性等の特性を特に良好なものとする観点から、光学フィルムが含む基材フィルム中の結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、高い結晶化度を有することが好ましい。具体的な結晶化度の範囲は、好ましくは10%以上、より好ましくは15%以上、更に好ましくは30%以上、中でも好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上である。このように高い結晶化度は、工程(V)において脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させることによって達成できる。結晶化度の上限は、理想的には100%であるが、通常は90%以下、又は80%以下としうる。   Among them, from the viewpoint of making properties such as flexibility, heat resistance, folding resistance, and low water absorption particularly good, the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity in the base film included in the optical film is It is preferable to have high crystallinity. The specific crystallinity range is preferably 10% or more, more preferably 15% or more, further preferably 30% or more, particularly preferably 50% or more, particularly preferably 60% or more. Such high crystallinity can be achieved by promoting crystallization of the alicyclic structure-containing polymer in step (V). The upper limit of the crystallinity is ideally 100%, but usually 90% or less, or 80% or less.

また、光学フィルムは、樹脂層を含むので、樹脂層に基づく優れた特性を示すことができる。例えば、樹脂層として易接着層を含む光学フィルムは、当該易接着層側の面において、優れた接着性を示すことができる。よって、易接着層側の面で、他の部材に、接着剤又は粘着剤を介して光学フィルムを高い接着強度で接着することが可能である。   In addition, since the optical film includes the resin layer, it can exhibit excellent characteristics based on the resin layer. For example, an optical film including an easy-adhesion layer as a resin layer can exhibit excellent adhesiveness on the surface of the easy-adhesion layer side. Therefore, it is possible to bond the optical film to the other member with a high bonding strength via the adhesive or the pressure-sensitive adhesive on the surface of the easily adhesive layer side.

光学フィルムは、高い全光線透過率を有することが好ましい。具体的には、光学フィルムの全光線透過率は、基材フィルムの全光線透過率の範囲として上述したのと同じ範囲に収まることが好ましい。   The optical film preferably has a high total light transmittance. Specifically, the total light transmittance of the optical film is preferably within the same range as described above as the range of the total light transmittance of the substrate film.

光学フィルムは、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、光学フィルムのヘイズは、基材フィルムのヘイズの範囲として上述したのと同じ範囲に収まることが好ましい。   The optical film preferably has a small haze. Specifically, the haze of the optical film is preferably within the same range as described above as the haze range of the base film.

光学フィルムは、光学用途に任意に適用でき、例えば、表示装置の構成要素として用いることができる。中でも、光学フィルムは、その優れた耐熱性及び機械的強度(特に、可撓性)を活用して、液晶表示装置のタッチセンサの構成要素として用いることが好ましい。特に、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む基材フィルムを備えた光学フィルムは、耐折性に優れるので、フレキシブルな表示装置に適用可能であり、好ましい。   The optical film can be arbitrarily applied to optical applications and can be used as a constituent element of a display device, for example. Among them, the optical film is preferably used as a component of a touch sensor of a liquid crystal display device by utilizing its excellent heat resistance and mechanical strength (in particular, flexibility). In particular, an optical film provided with a substrate film containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer is excellent in folding endurance, and thus is applicable to a flexible display device, which is preferable.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples described below, and may be implemented by being arbitrarily modified within the scope of the claims of the present invention and the scope of equivalents thereof.
In the following description, "%" and "parts" representing amounts are by weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under the conditions of normal temperature and normal pressure unless otherwise specified.

[評価方法]
(厚みの測定方法)
フィルムに含まれる各層の厚みは、次のようにして測定した。サンプルとなるフィルムの各層の屈折率を、エリプソメトリー(ウーラム社製「M−2000」)を用いて測定した。その後、測定した屈折率を用いて、フィルムの厚みを、光干渉式膜厚計(大塚電子社製「MCPD−9800」)で測定した。
[Evaluation methods]
(Method of measuring thickness)
The thickness of each layer contained in the film was measured as follows. The refractive index of each layer of the sample film was measured using ellipsometry (“M-2000” manufactured by Woollam Co., Ltd.). Then, using the measured refractive index, the thickness of the film was measured with an optical interference type film thickness meter (“MCPD-9800” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

(重量平均分子量及び数平均分子量の測定方法)
重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)システム(東ソー社製「HLC−8320」)を用いて、ポリスチレン換算値として測定した。測定の際、カラムとしてはHタイプカラム(東ソー社製)を用い、溶媒としてはテトラヒドロフランを用いた。また、測定時の温度は、40℃であった。
(Measurement method of weight average molecular weight and number average molecular weight)
The weight average molecular weight and the number average molecular weight of the polymer were measured as polystyrene equivalent values using a gel permeation chromatography (GPC) system ("HLC-8320" manufactured by Tosoh Corporation). At the time of measurement, an H type column (manufactured by Tosoh Corporation) was used as a column, and tetrahydrofuran was used as a solvent. The temperature at the time of measurement was 40 ° C.

(ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物のガラス転移温度Tg、融点Tm及び結晶化温度Tpcの測定方法)
窒素雰囲気下で300℃に加熱した試料を液体窒素で急冷し、示差操作熱量計(DSC)を用いて、10℃/分で昇温して試料のガラス転移温度Tg、融点Tm及び結晶化温度Tpcをそれぞれ求めた。
(Method for measuring glass transition temperature Tg, melting point Tm and crystallization temperature Tpc of hydride of ring-opening polymer of dicyclopentadiene)
A sample heated to 300 ° C. in a nitrogen atmosphere is rapidly cooled with liquid nitrogen, and the temperature is increased at 10 ° C./min using a differential operation calorimeter (DSC) to increase the glass transition temperature Tg, melting point Tm, and crystallization temperature of the sample. Each Tpc was determined.

(ポリウレタンのガラス転移温度の測定方法)
実施例で用いたポリウレタンの水分散体を、テフロン(登録商標)加工を施された容器に流し入れ、常温で24時間乾燥させた。その後、120℃のオーブンで更に1時間乾燥し、厚み150μmのポリウレタンの層状物を用意した。この層状物のガラス転移温度を、動的粘弾性測定装置(ユービーエム社製「Rheogel−E4000」)を用いて、tanδのピークから測定した。この際、ピークが2つ出る場合は、温度が低い方のピークをガラス転移温度として採用した。
(Measurement method of glass transition temperature of polyurethane)
The aqueous dispersion of polyurethane used in the examples was poured into a Teflon (registered trademark) -treated container and dried at room temperature for 24 hours. Then, it was further dried in an oven at 120 ° C. for 1 hour to prepare a polyurethane layered product having a thickness of 150 μm. The glass transition temperature of this layered product was measured from the peak of tan δ using a dynamic viscoelasticity measuring device (“Rheogel-E4000” manufactured by UBM). At this time, when two peaks appeared, the one having the lower temperature was adopted as the glass transition temperature.

(重合体の水素化率の測定方法)
重合体の水素化率は、オルトジクロロベンゼン−dを溶媒として、145℃で、H−NMR測定により測定した。
(Method of measuring hydrogenation rate of polymer)
The hydrogenation rate of the polymer was measured by 1 H-NMR measurement at 145 ° C. using orthodichlorobenzene-d 4 as a solvent.

(重合体のラセモ・ダイアッドの割合の測定方法)
オルトジクロロベンゼン−d/トリクロロベンゼン−d(混合比(質量基準)1/2)を溶媒として、200℃で、inverse−gated decoupling法を適用して、重合体の13C−NMR測定を行った。この13C−NMR測定の結果において、オルトジクロロベンゼン−dの127.5ppmのピークを基準シフトとして、メソ・ダイアッド由来の43.35ppmのシグナルと、ラセモ・ダイアッド由来の43.43ppmのシグナルとを同定した。これらのシグナルの強度比に基づいて、重合体のラセモ・ダイアッドの割合を求めた。
(Measurement method of the ratio of racemo diad of polymer)
13 C-NMR measurement of the polymer was carried out at 200 ° C. using the ortho-dichlorobenzene-d 4 / trichlorobenzene-d 3 (mixing ratio (mass standard) 1/2) as a solvent and applying the inverse-gated decoupling method. went. In the result of this 13 C-NMR measurement, with the peak of 127.5 ppm of orthodichlorobenzene-d 4 as a reference shift, a signal of 43.35 ppm derived from meso dyad and a signal of 43.43 ppm derived from racemo dyad were obtained. Was identified. Based on the intensity ratio of these signals, the racemo-dyad ratio of the polymer was determined.

(重合体の結晶化度の測定方法)
結晶化度は、JIS K0131に準じて、X線回折により確認した。具体的には、広角X線回折装置(リガク社製「RINT 2000」)を用いて、結晶化部分からの回析X線強度を求め、全体の回析X線強度との比から、下記式(I)によって結晶化度を求めた。
Xc=K・Ic/It (I)
上記式(I)において、Xcは被検試料の結晶化度、Icは結晶化部分からの回析X線強度、Itは全体の回析X線強度、Kは補正項を、それぞれ表す。
(Measurement method of crystallinity of polymer)
The crystallinity was confirmed by X-ray diffraction according to JIS K0131. Specifically, a wide-angle X-ray diffractometer (“RINT 2000” manufactured by Rigaku Corporation) was used to determine the diffraction X-ray intensity from the crystallized portion, and from the ratio to the overall diffraction X-ray intensity, the following formula The crystallinity was determined according to (I).
Xc = K · Ic / It (I)
In the above formula (I), Xc represents the crystallinity of the test sample, Ic represents the diffraction X-ray intensity from the crystallized portion, It represents the entire diffraction X-ray intensity, and K represents the correction term.

(表面自由エネルギーの測定方法)
フィルムの面の表面自由エネルギーは、下記の方法によって測定した。
液体試料として水及びヘキサデカンを用意した。これらの液体試料それぞれについて、フィルムの面に対する接触角を測定した。接触角の測定方法は、下記の通りとした。
<接触角測定方法>
・測定装置:AutoDispenser AD−31(協和界面科学社製)
・制御解析ソフトウェア:FAMAS ver3.13
・接触角測定法:懸滴法
・解析法:Young−Laplace法
・テフロン(登録商標)コート針:18G(もしくは22G)
・液量:3μL〜4μL
・測定待ち時間:3000ms
・測定回数:10回測定し、その平均値を採用。
(Measurement method of surface free energy)
The surface free energy of the surface of the film was measured by the following method.
Water and hexadecane were prepared as liquid samples. The contact angle with respect to the surface of the film was measured for each of these liquid samples. The contact angle was measured as follows.
<Contact angle measuring method>
・ Measuring device: AutoDispenser AD-31 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
・ Control analysis software: FAMAS ver3.13
・ Contact angle measurement method: hanging drop method ・ Analysis method: Young-Laplace method ・ Teflon (registered trademark) coated needle: 18G (or 22G)
・ Liquid volume: 3 μL to 4 μL
・ Measurement waiting time: 3000 ms
・ Number of measurements: Measured 10 times and adopted the average value.

測定された接触角θを、下記のOwens Wendtモデルに当てはめて、フィルムの面の表面自由エネルギーrを計算した。このOwens Wendtモデルにおいて、フィルムが固体試料に相当する。また、このOwens Wendtモデルにおいて、記号の意味は下記表1の通りであり、液体試料のr、r 及びr の値は表2の通りである。The measured contact angle θ was applied to the following Owens Wendt model to calculate the surface free energy r S of the surface of the film. In this Owens Wendt model, the film corresponds to a solid sample. In the Owens Wendt model, the meanings of the symbols are as shown in Table 1 below, and the values of r L , r L d, and r L p of the liquid sample are as shown in Table 2.

Figure 2019003980
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[易接着層の転写性の評価方法]
仮支持体を剥離した後で、剥離された仮支持体の表面を目視で観察した。観察の結果、下記の基準によって、易接着層の転写性を判定した。
○:直径50μm以上の易接着層の部分からなる付着片が、仮支持体の表面に全く残っていない。
△:直径50μm以上の易接着層の部分からなる付着片が、仮支持体の表面に1つ以上残っている。
×:仮支持体を易接着層から剥離すること自体ができなかった。
[Evaluation method of transferability of easily adhesive layer]
After peeling off the temporary support, the surface of the peeled temporary support was visually observed. As a result of the observation, the transferability of the easy-adhesion layer was judged according to the following criteria.
◯: No adhered piece consisting of the easily adhesive layer having a diameter of 50 μm or more remains on the surface of the temporary support.
Δ: One or more adhered pieces consisting of the easily adhesive layer having a diameter of 50 μm or more remain on the surface of the temporary support.
X: The temporary support itself could not be separated from the easy-adhesion layer.

[易接着層と基材フィルムとの密着性の評価方法]
光学フィルムの易接着層に、カッターを用いて、1mm間隔で縦横に11本の切れ目を入れて、1mm角の正方形(碁盤目)を100個(10×10)作成した。この易接着層の表面にセロハンテープを貼り付けて、素早く剥がし、剥がれずに残った正方形の数を数えた。剥がれずに残った正方形の数が多いほど、易接着層と基材フィルムとの密着性に優れることを表す。
[Evaluation Method of Adhesion between Easy Adhesion Layer and Base Film]
Eleven cuts were made longitudinally and laterally at 1 mm intervals in the easy-adhesion layer of the optical film to form 100 squares (10 × 10) of 1 mm square. Cellophane tape was attached to the surface of this easy-adhesion layer, which was quickly peeled off, and the number of squares remaining without peeling off was counted. The larger the number of squares remaining without peeling, the better the adhesion between the easy-adhesion layer and the base film.

[剥離強度の測定]
光学フィルムの易接着層面に、コロナ処理を施した。また、ノルボルネン系樹脂で形成された未延伸フィルム(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、厚み100μm、樹脂のガラス転移温度160℃)の片面に、コロナ処理を施した。未延伸フィルムのコロナ処理面に、紫外線硬化型の接着剤(東洋インキ社製「CRB1352」)を塗工した。そして、この接着剤が塗工された面に、ラミネータを使用して、光学フィルムのコロナ処理面を貼り合わせた。高圧水銀ランプを用いて、照度350mJ/cm、積算光料1000mJ/cmの条件で紫外線を照射して、接着剤の架橋を行った。これにより、光学フィルムと未延伸フィルムとを含む貼合サンプルを得た。その後、前記貼合サンプルを25mmの幅に裁断して、その光学フィルム側の面を、スライドガラスの表面に粘着剤にて貼合して、貼合物を得た。貼合に際し、粘着剤としては、両面粘着テープ(日東電工社製、品番「CS9621」)を用いた。貼合後、貼合物を12時間静置した。
その後、フォースゲージの先端の治具で未延伸フィルムの端部を挟み、スライドガラスの表面の法線方向に牽引することにより、90度剥離試験を実施した。牽引の際の剥離速度は20mm/分とした。未延伸フィルムが剥れる際に測定された力は、未延伸フィルムを光学フィルムから剥離させるために要する力であるので、この力の大きさを剥離強度として測定した。この剥離強度は、未延伸フィルムと光学フィルムとの接着強度に相当する。
[Measurement of peel strength]
Corona treatment was applied to the easy-adhesion layer surface of the optical film. Further, one side of an unstretched film (“Zeonor film” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness 100 μm, glass transition temperature 160 ° C. of resin) formed of norbornene-based resin was subjected to corona treatment. An ultraviolet curable adhesive (“CRB1352” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was applied to the corona-treated surface of the unstretched film. Then, the corona-treated surface of the optical film was attached to the surface coated with this adhesive using a laminator. The adhesive was crosslinked by irradiating ultraviolet rays using a high pressure mercury lamp under the conditions of an illuminance of 350 mJ / cm 2 and an integrated light material of 1000 mJ / cm 2 . Thus, a bonded sample including the optical film and the unstretched film was obtained. Then, the bonded sample was cut into a width of 25 mm, and the surface on the optical film side was bonded to the surface of the slide glass with an adhesive to obtain a bonded product. A double-sided pressure-sensitive adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Corp., product number “CS9621”) was used as the pressure-sensitive adhesive during the bonding. After the bonding, the bonded product was allowed to stand for 12 hours.
Then, a 90-degree peel test was carried out by sandwiching the end portion of the unstretched film with a jig at the tip of the force gauge and pulling it in the direction normal to the surface of the slide glass. The peeling speed during pulling was 20 mm / min. Since the force measured when the unstretched film peels off is the force required to peel the unstretched film from the optical film, the magnitude of this force was measured as the peel strength. This peel strength corresponds to the adhesive strength between the unstretched film and the optical film.

[製造例1.ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の製造]
金属製の耐圧反応器を、充分に乾燥した後、窒素置換した。この金属製耐圧反応器に、シクロヘキサン154.5部、ジシクロペンタジエン(エンド体含有率99%以上)の濃度70%シクロヘキサン溶液42.8部(ジシクロペンタジエンの量として30部)、及び1−ヘキセン1.9部を加え、53℃に加温した。
[Production Example 1. Production of hydride of ring-opening polymer of dicyclopentadiene]
The pressure resistant reactor made of metal was thoroughly dried and then replaced with nitrogen. 154.5 parts of cyclohexane, 42.8 parts of a 70% cyclohexane solution of dicyclopentadiene (end content 99% or more) (30 parts as the amount of dicyclopentadiene), and 1- 1.9 parts of hexene was added, and the mixture was heated to 53 ° C.

テトラクロロタングステンフェニルイミド(テトラヒドロフラン)錯体0.014部を0.70部のトルエンに溶解した溶液に、濃度19%のジエチルアルミニウムエトキシド/n−ヘキサン溶液0.061部を加えて10分間攪拌して、触媒溶液を調製した。
この触媒溶液を耐圧反応器に加えて、開環重合反応を開始した。その後、53℃を保ちながら4時間反応させて、ジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液を得た。
得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれ、8750および28,100であり、これらから求められる分子量分布(Mw/Mn)は3.21であった。
To a solution prepared by dissolving 0.014 parts of tetrachlorotungsten phenylimide (tetrahydrofuran) complex in 0.70 parts of toluene, 0.061 parts of a 19% diethylaluminum ethoxide / n-hexane solution was added and stirred for 10 minutes. To prepare a catalyst solution.
This catalyst solution was added to the pressure resistant reactor to start the ring-opening polymerization reaction. Then, the reaction was carried out for 4 hours while maintaining 53 ° C to obtain a solution of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene.
The number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) of the obtained ring-opening polymer of dicyclopentadiene were 8750 and 28,100, respectively, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) obtained from them was 3 It was .21.

得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液200部に、停止剤として1,2−エタンジオール0.037部を加えて、60℃に加温し、1時間攪拌して重合反応を停止させた。ここに、ハイドロタルサイト様化合物(協和化学工業社製「キョーワード(登録商標)2000」)を1部加えて、60℃に加温し、1時間攪拌した。その後、濾過助剤(昭和化学工業社製「ラヂオライト(登録商標)#1500」)を0.4部加え、PPプリーツカートリッジフィルター(ADVANTEC東洋社製「TCP−HX」)を用いて吸着剤と溶液を濾別した。   To 200 parts of the obtained solution of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene, 0.037 part of 1,2-ethanediol was added as a terminating agent, heated to 60 ° C., and stirred for 1 hour to stop the polymerization reaction. Let To this, 1 part of a hydrotalcite-like compound (“Kyoward (registered trademark) 2000” manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) was added, heated to 60 ° C., and stirred for 1 hour. Then, 0.4 parts of a filter aid (“Radiolite (registered trademark) # 1500” manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and a PP pleated cartridge filter (“TCP-HX” manufactured by ADVANTEC Toyo Corp.) was used as an adsorbent. The solution was filtered off.

濾過後のジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液200部(重合体量30部)に、シクロヘキサン100部を加え、クロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム0.0043部を添加して、水素圧6MPa、180℃で4時間水素化反応を行った。これにより、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む反応液が得られた。この反応液は、水素化物が析出してスラリー溶液となっていた。   To 200 parts of a solution of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene after filtration (100 parts of polymer), 100 parts of cyclohexane was added, and 0.0043 parts of chlorohydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium was added to obtain hydrogen. The hydrogenation reaction was carried out at a pressure of 6 MPa and 180 ° C. for 4 hours. As a result, a reaction liquid containing a hydride of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene was obtained. This reaction liquid was a slurry solution in which hydride was deposited.

前記の反応液に含まれる水素化物と溶液とを、遠心分離器を用いて分離し、60℃で24時間減圧乾燥して、結晶性を有するジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物28.5部を得た。この水素化物の水素化率は99%以上、ガラス転移温度Tgは94℃、融点(Tm)は262℃、結晶化温度Tpcは170℃、ラセモ・ダイアッドの割合は89%であった。   27. A hydride of a ring-opening polymer of crystalline dicyclopentadiene was separated from the hydride contained in the above reaction solution and the solution by using a centrifuge and dried under reduced pressure at 60 ° C. for 24 hours. 5 parts were obtained. The hydride had a hydrogenation ratio of 99% or more, a glass transition temperature Tg of 94 ° C., a melting point (Tm) of 262 ° C., a crystallization temperature Tpc of 170 ° C., and a racemo dyad ratio of 89%.

[製造例2.基材フィルムの製造]
製造例1で得たジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物100部に、酸化防止剤(テトラキス〔メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン;BASFジャパン社製「イルガノックス(登録商標)1010」)0.5部を混合して、結晶性樹脂を得た。
[Production Example 2. Manufacturing of base film]
An antioxidant (tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)) was added to 100 parts of the hydride of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene obtained in Production Example 1. Propionate] Methane; 0.5 part of "IRGANOX (registered trademark) 1010" manufactured by BASF Japan Ltd.) was mixed to obtain a crystalline resin.

結晶性樹脂を、内径3mmΦのダイ穴を4つ備えた二軸押出機(東芝機械社製「TEM−37B」)に投入した。前記の二軸押出機によって、結晶性樹脂を熱溶融押出成形によりストランド状の成形体に成形した。この成形体をストランドカッターにて細断して、結晶性樹脂のペレットを得た。   The crystalline resin was charged into a twin-screw extruder (“TEM-37B” manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) equipped with four die holes having an inner diameter of 3 mmΦ. The crystalline resin was molded into a strand-shaped molded body by hot melt extrusion molding using the above-mentioned twin-screw extruder. This molded body was shredded with a strand cutter to obtain crystalline resin pellets.

引き続き、得られたペレットを、Tダイを備える熱溶融押出フィルム成形機に供給した。このフィルム成形機を用いて、前記の結晶性樹脂からなる長尺のフィルム(幅120mm)を、27m/分の速度でロールに巻き取る方法にて製造した。前記のフィルム成形機の運転条件を、以下に示す。
・バレル温度設定:280℃〜290℃
・ダイ温度:270℃
・スクリュー回転数:30rpm
・キャストロール温度:70℃
これにより、結晶性樹脂によって形成された長尺の結晶性樹脂フィルムとして、基材フィルムを得た。得られた基材フィルムの厚みは20μmであった。この基材フィルムにおけるジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の結晶化度は、0.7%であった。
Subsequently, the obtained pellets were fed to a hot melt extrusion film forming machine equipped with a T die. Using this film forming machine, a long film (width 120 mm) made of the above-mentioned crystalline resin was produced by a method of winding it on a roll at a speed of 27 m / min. The operating conditions of the film forming machine are shown below.
・ Barrel temperature setting: 280 ℃ -290 ℃
・ Die temperature: 270 ℃
・ Screw rotation speed: 30 rpm
・ Cast roll temperature: 70 ℃
As a result, a base film was obtained as a long crystalline resin film formed of the crystalline resin. The thickness of the obtained base film was 20 μm. The crystallinity of the hydride of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene in this substrate film was 0.7%.

[製造例3.易接着層用の塗工液の製造]
カーボネート系ポリウレタンの水分散体(ADEKA社製「アデカボンタイター SPX−0672」、ガラス転移温度−16℃)をポリウレタンの量で100部と、架橋剤としての多官能性エポキシ化合物(ナガセケムテックス社製「デナコールEX−521」)2.7部と、界面活性剤としてのアセチレングリコール(日信化学工業社製「サーフィノール440」)0.18部と、溶媒としてのイオン交換水とを混合して、固形分濃度30%の塗工液を得た。
[Production Example 3. Production of coating liquid for easy adhesion layer]
An aqueous dispersion of a carbonate-based polyurethane (“ADEKA BONTITER SPX-0672” manufactured by ADEKA, glass transition temperature −16 ° C.) in an amount of 100 parts by weight of polyurethane, and a polyfunctional epoxy compound as a cross-linking agent (Nagase Chemtex Corporation) 2.7 parts of "Denacol EX-521" manufactured by Japan, 0.18 parts of acetylene glycol ("Surfynol 440" manufactured by Nisshin Chemical Industry Co., Ltd.) as a surfactant, and ion-exchanged water as a solvent are mixed. Thus, a coating liquid having a solid content concentration of 30% was obtained.

[実施例1]
(1.1.仮支持体上への易接着層の形成工程)
仮支持体として、ノルボルネン系樹脂で形成された樹脂フィルム(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム ZF16−050」、厚み50μm;以下、「仮支持体1」と記すことがある。)を用意した。この仮支持体1の表面の表面自由エネルギーを測定した。仮支持体1の前記表面に、製造例3で製造した塗工液を塗工した。その後、塗工された塗工液の層を、90℃で120秒乾燥させて、仮支持体1の表面に、厚み100nmの易接着層を形成した。
[Example 1]
(1.1. Step of forming easily-adhesive layer on temporary support)
As a temporary support, a resin film (“Zeonor film ZF16-050” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness: 50 μm; hereinafter sometimes referred to as “temporary support 1”) formed of norbornene-based resin was prepared. The surface free energy of the surface of this temporary support 1 was measured. The coating liquid produced in Production Example 3 was applied to the surface of the temporary support 1. Then, the layer of the applied coating liquid was dried at 90 ° C. for 120 seconds to form an easy-adhesion layer having a thickness of 100 nm on the surface of the temporary support 1.

(1.2.基材フィルムのフィルム表面へのコロナ処理工程)
製造例2で製造した基材フィルムを、当該基材フィルムの長手方向に搬送しながら、そのフィルム表面にコロナ処理を施した。このコロナ処理は、出力100W、電極幅0.3m、フィルム搬送速度0.080m/minの条件で行った。この条件でのコロナ処理の処理強度は、4.2kW・min/mである。コロナ処理を施された基材フィルムのフィルム表面の表面自由エネルギーを測定した。
(1.2. Corona treatment step on the film surface of the base film)
The substrate film produced in Production Example 2 was corona-treated on the surface of the substrate film while being conveyed in the longitudinal direction of the substrate film. This corona treatment was performed under the conditions of an output of 100 W, an electrode width of 0.3 m, and a film transport speed of 0.080 m / min. The treatment intensity of the corona treatment under this condition is 4.2 kW · min / m 2 . The surface free energy of the film surface of the base film that was subjected to corona treatment was measured.

(1.3.貼合工程)
仮支持体1の表面に形成された易接着層と、基材フィルムのコロナ処理面とを、貼り合わせた。
(1.3. Laminating process)
The easy-adhesion layer formed on the surface of the temporary support 1 and the corona-treated surface of the base film were bonded together.

(1.4.仮支持体の剥離工程)
仮支持体1を剥離して、基材フィルム及び易接着層を備える複層フィルムを得た。剥離された仮支持体1の表面を観察して、易接着層の転写性を評価した。
(1.4. Step of peeling temporary support)
The temporary support 1 was peeled off to obtain a multilayer film including a base film and an easy-adhesion layer. The transferability of the easy-adhesion layer was evaluated by observing the surface of the peeled temporary support 1.

(1.5.延伸工程)
前記の複層フィルムに、延伸温度130℃、延伸倍率1.2倍、延伸速度4mm/分の延伸条件で、当該複層フィルムの幅方向に延伸する延伸処理を施した。
(1.5. Stretching process)
The multilayer film was stretched in the width direction of the multilayer film under the conditions of a stretching temperature of 130 ° C., a stretching ratio of 1.2 times and a stretching speed of 4 mm / min.

(1.6.結晶化工程)
延伸処理の後で、複層フィルムを、温度170℃で30秒加熱する結晶化処理を行った。前記の結晶化処理は、複層フィルムの端部を固定して緊張させ、熱収縮によるシワが発生しない状態で行った。
これにより、基材フィルム及び易接着層を備える光学フィルムを得た。得られた光学フィルムが含む基材フィルム中のジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の結晶化度は、73%であった。この光学フィルムについて、上述した方法で評価を行った。
(1.6. Crystallization step)
After the stretching treatment, the multilayer film was subjected to a crystallization treatment of heating at 170 ° C. for 30 seconds. The above-mentioned crystallization treatment was performed in a state where the end portion of the multilayer film was fixed and tensioned so that wrinkles due to heat shrinkage did not occur.
Thereby, an optical film including the base film and the easy-adhesion layer was obtained. The crystallinity of the hydride of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene in the substrate film contained in the obtained optical film was 73%. This optical film was evaluated by the method described above.

[実施例2]
仮支持体を、ノルボルネン系樹脂で形成された樹脂フィルム(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、厚み50μm;以下、「仮支持体2」と記すことがある。)に変更した。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
[Example 2]
The temporary support was changed to a resin film formed of norbornene-based resin (“Zeonor film” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness 50 μm; hereinafter, may be referred to as “temporary support 2”).
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

[実施例3]
基材フィルムを、ノルボルネン系樹脂で形成された樹脂フィルム(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、厚み100μm、ノルボルネン系重合体のガラス転移温度125℃;以下、「非結晶性COP」と記すことがある。)に変更した。
また、複層フィルムの延伸処理において、延伸倍率を3.0倍に変更した。
さらに、複層フィルムに対する結晶化処理を行わないで、延伸処理後に得られた複層フィルムを光学フィルムとして評価した。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
[Example 3]
The substrate film is a resin film formed of norbornene-based resin (“ZEONOR film” manufactured by Zeon Corporation, thickness 100 μm, glass transition temperature of norbornene-based polymer 125 ° C .; hereinafter, may be referred to as “non-crystalline COP”). There is).
Further, in the stretching treatment of the multilayer film, the stretching ratio was changed to 3.0 times.
Furthermore, the multilayer film obtained after the stretching treatment was evaluated as an optical film without performing the crystallization treatment on the multilayer film.
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

[実施例4]
仮支持体を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡社製「コスモシャイン(登録商標)A4100」、厚み100μm;以下、「仮支持体3」と記すことがある。)に変更した。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
[Example 4]
The temporary support was changed to a polyethylene terephthalate film (“Cosmoshine (registered trademark) A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 100 μm; hereinafter, may be referred to as “temporary support 3”).
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

[比較例1:易接着層を形成しなかった例]
製造例2で製造した基材フィルムに、実施例1と同じ条件で、コロナ処理、延伸処理及び結晶化処理を行った。すなわち、基材フィルムと易接着層との貼合を行わなかったこと以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの代わりに基材フィルムを得た。こうして得た基材フィルムの剥離強度を、上述した測定方法で測定した。この測定方法では、基材フィルムのコロナ処理面をスライドガラスの表面に貼合して、剥離強度を測定した。
[Comparative Example 1: Example in which no easy adhesion layer was formed]
The base film produced in Production Example 2 was subjected to corona treatment, stretching treatment and crystallization treatment under the same conditions as in Example 1. That is, a base film was obtained instead of the optical film in the same manner as in Example 1 except that the base film and the easy-adhesion layer were not attached. The peel strength of the substrate film thus obtained was measured by the above-described measuring method. In this measuring method, the corona-treated surface of the substrate film was attached to the surface of the slide glass, and the peel strength was measured.

[比較例2:易接着層を形成しなかった例]
実施例3で用意した基材フィルムに、実施例3と同じ条件で、コロナ処理及び延伸処理を行った。すなわち、基材フィルムと易接着層との貼合を行わなかったこと以外は、実施例3と同じにして、光学フィルムの代わりに基材フィルムを得た。こうして得た基材フィルムの剥離強度を、上述した測定方法で測定した。この測定方法では、基材フィルムのコロナ処理面をスライドガラスの表面に貼合して、剥離強度を測定した。
[Comparative Example 2: Example in which no easy adhesion layer was formed]
The base film prepared in Example 3 was subjected to corona treatment and stretching treatment under the same conditions as in Example 3. That is, a substrate film was obtained instead of the optical film in the same manner as in Example 3 except that the substrate film and the easy-adhesion layer were not attached. The peel strength of the substrate film thus obtained was measured by the above-described measuring method. In this measuring method, the corona-treated surface of the substrate film was attached to the surface of the slide glass, and the peel strength was measured.

[比較例3:易接着層との貼合後に熱処理を行わなかった例]
製造例2で製造した基材フィルムに、実施例1と同じ条件で、延伸処理及び結晶化処理を行って、結晶化基材フィルムを得た。この結晶化基材フィルムを、製造例2で製造した基材フィルムの代わりに用いた。
また、この結晶化基材フィルムと易接着層との貼合、及び、仮支持体の剥離を行った後には、延伸処理及び結晶化処理を行わなかった。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
[Comparative Example 3: Example in which heat treatment was not performed after bonding with the easily adhesive layer]
The base film produced in Production Example 2 was subjected to a stretching treatment and a crystallization treatment under the same conditions as in Example 1 to obtain a crystallized base film. This crystallized base film was used instead of the base film produced in Production Example 2.
Further, the stretching treatment and the crystallization treatment were not performed after the bonding of the crystallized base film and the easy-adhesion layer and the peeling of the temporary support.
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

[比較例4:熱処理の温度が低かった例]
延伸処理における延伸温度を、90℃に変更した。
また、結晶化処理を行わなかった。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
[Comparative Example 4: Example in which heat treatment temperature was low]
The stretching temperature in the stretching process was changed to 90 ° C.
In addition, no crystallization treatment was performed.
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

[比較例5:仮支持面の表面自由エネルギーが大きかった例]
製造例3で製造した塗工液を塗工する前に、仮支持体1の表面に、出力100W、電極幅0.3m、フィルム搬送速度0.080m/minの条件で、処理強度4.2kW・min/mのコロナ処理を施した。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。しかし、易接着層の転写性が劣っていたので、易接着層と基材フィルムとの密着性の評価、並びに、剥離強度の測定を行えなかった。
[Comparative Example 5: Example in which the surface free energy of the temporary supporting surface was large]
Before applying the coating liquid produced in Production Example 3, a treatment strength of 4.2 kW was applied to the surface of the temporary support 1 under conditions of an output of 100 W, an electrode width of 0.3 m, and a film transport speed of 0.080 m / min.・ A corona treatment of min / m 2 was applied.
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters. However, since the transferability of the easy-adhesion layer was poor, it was not possible to evaluate the adhesion between the easy-adhesion layer and the base film and measure the peel strength.

[比較例6:基材フィルムのフィルム表面の表面自由エネルギーが小さかった例]
基材フィルムのフィルム表面へのコロナ処理を行わなかった。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。しかし、易接着層の転写性が劣っていたので、易接着層と基材フィルムとの密着性の評価、並びに、剥離強度の測定を行えなかった。
[Comparative Example 6: Example in which the surface free energy of the film surface of the base film was small]
No corona treatment was applied to the film surface of the base film.
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters. However, since the transferability of the easy-adhesion layer was poor, it was not possible to evaluate the adhesion between the easy-adhesion layer and the base film and measure the peel strength.

[比較例7:基材フィルムのフィルム表面の表面自由エネルギーが小さかった例]
基材フィルムのフィルム表面へのコロナ処理の処理強度を、3.2kW・min/mに変更した。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。ただし、比較例7は、易接着層の転写性が不十分であったので、剥離強度の評価は行っていない。
[Comparative Example 7: Example in which the surface free energy of the film surface of the base film was small]
The treatment strength of the corona treatment on the film surface of the base film was changed to 3.2 kW · min / m 2 .
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters. However, in Comparative Example 7, the transferability of the easy-adhesion layer was insufficient, and thus the peel strength was not evaluated.

[比較例8:仮支持面の表面自由エネルギーが大きかった例]
ノルボルネン系樹脂で形成された樹脂フィルム(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム ZF16−050」、厚み50μm)の表面に、処理強度4.2kW・min/mでコロナ処理を施した。このコロナ処理面に、製造例3で製造した塗工液を塗工した。塗工された塗工液の層を、90℃で120秒乾燥させて、厚み100nmの易接着層を形成した。これにより、樹脂フィルム及び易接着層を備える複層構造の仮支持体(以下、「仮支持体5」と記すことがある。)を得た。
[Comparative Example 8: Example in which the surface free energy of the temporary supporting surface was large]
The surface of a resin film (“Zeonor film ZF16-050” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness: 50 μm) formed of a norbornene-based resin was subjected to corona treatment with a treatment strength of 4.2 kW · min / m 2 . The coating liquid produced in Production Example 3 was applied to this corona-treated surface. The applied coating layer was dried at 90 ° C. for 120 seconds to form an easy-adhesion layer having a thickness of 100 nm. Thus, a temporary support having a multilayer structure including the resin film and the easy-adhesion layer (hereinafter sometimes referred to as “temporary support 5”) was obtained.

この複層構造の仮支持体5を、実施例1で用いた仮支持体1の代わりに用いた。この際、複層構造の仮支持体5の易接着層側の表面を、更に易接着層を形成するための仮支持面として用いた。
また、基材フィルムのフィルム表面へのコロナ処理を行わなかった。
以上の事項以外は、実施例1と同じにして、光学フィルムの製造及び評価を行った。しかし、易接着層の転写性が劣っていたので、易接着層と基材フィルムとの密着性の評価、並びに、剥離強度の測定を行えなかった。
This temporary support 5 having a multilayer structure was used instead of the temporary support 1 used in Example 1. At this time, the surface of the temporary support 5 having the multilayer structure on the side of the easy adhesion layer was used as a temporary support surface for further forming the easy adhesion layer.
Further, the corona treatment on the film surface of the substrate film was not performed.
An optical film was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above matters. However, since the transferability of the easy-adhesion layer was poor, it was not possible to evaluate the adhesion between the easy-adhesion layer and the base film and measure the peel strength.

[結果]
前記の実施例及び比較例の結果を、下記の表3及び表4に示す。下記の表において、密着性の欄においては、分子の数値が、易接着層が剥がれずに残った正方形の数を表す。
[result]
The results of the above Examples and Comparative Examples are shown in Tables 3 and 4 below. In the following table, in the column of adhesion, the numerical value of the molecule represents the number of squares left without peeling off the easily adhesive layer.

Figure 2019003980
Figure 2019003980

Figure 2019003980
Figure 2019003980

[検討]
比較例3から分かるように、仮支持体の仮支持面に形成された易接着層は、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムに単純に貼合しても、高い密着性が得られず、容易に剥離する。また、比較例4から分かるように、易接着層を基材フィルムに貼合した後で熱処理を施しても、その熱処理の温度が所定の温度範囲から外れていれば、高い密着性は得られない。これに対し、実施例では、易接着層を基材フィルムに貼合した後で、所定の温度範囲で熱処理を施したことにより、易接着層と基材フィルムとの密着性を効果的に高めることができた。
また、比較例5〜8から分かるように、仮支持体の仮支持面の表面自由エネルギー及び基材フィルムのフィルム面の表面自由エネルギーが所定の範囲から外れていると、仮支持面上に形成された易接着層を円滑に基材フィルムのフィルム面に移すことができない。これに対し、実施例では、仮支持体の仮支持面の表面自由エネルギー及び基材フィルムのフィルム面の表面自由エネルギーが所定の範囲にあることにより、易接着層が仮支持面に残ることなく、円滑な転写が実現できた。
以上の結果から、本発明の製造方法では、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムのフィルム表面と仮支持体上に形成された樹脂層とを貼り合わせて、基材フィルム及び前記基材フィルムから剥離し難い樹脂層を含む光学フィルムを製造できることが確認された。
[Consideration]
As can be seen from Comparative Example 3, the easy-adhesion layer formed on the temporary support surface of the temporary support was simply laminated to the base film formed of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer, High adhesion cannot be obtained and peeling is easy. Further, as can be seen from Comparative Example 4, even if heat treatment is performed after the easy-adhesion layer is attached to the substrate film, high adhesion can be obtained if the temperature of the heat treatment is out of the predetermined temperature range. Absent. On the other hand, in the examples, after the easy-adhesion layer is attached to the base film, the adhesion between the easy-adhesion layer and the base film is effectively increased by performing heat treatment in a predetermined temperature range. I was able to.
Further, as can be seen from Comparative Examples 5 to 8, when the surface free energy of the temporary support surface of the temporary support and the surface free energy of the film surface of the base material film are out of the predetermined ranges, they are formed on the temporary support surface. The easily adhesive layer thus formed cannot be smoothly transferred to the film surface of the base film. On the other hand, in the examples, the surface free energy of the temporary support surface of the temporary support and the surface free energy of the film surface of the base film are within a predetermined range, so that the easily adhesive layer does not remain on the temporary support surface. , Smooth transfer was realized.
From the above results, in the production method of the present invention, the film surface of the base material film formed of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer and the resin layer formed on the temporary support are bonded together to form a substrate. It was confirmed that an optical film including a material film and a resin layer that is difficult to peel off from the base film can be manufactured.

さらに、比較例1及び2から分かるように、脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムは、接着剤又は粘着剤を用いてスライドガラス等の部材に接着しても、その接着強度は小さい。これに対し、基材フィルムに樹脂層としての易接着層を形成して光学フィルムにすることで、実施例に示すように、その光学フィルムは、前記の部材に強力に接着させられることが確認された。   Further, as can be seen from Comparative Examples 1 and 2, even if the base film formed of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer is adhered to a member such as a slide glass using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, Its adhesive strength is low. On the other hand, by forming an easy-adhesion layer as a resin layer on the base film to form an optical film, it was confirmed that the optical film can be strongly adhered to the member as shown in the examples. Was done.

Claims (7)

表面自由エネルギーが20mJ/m以下である仮支持面を有する仮支持体の前記仮支持面に、樹脂層を形成する工程、
脂環式構造含有重合体を含む樹脂で形成された基材フィルムのフィルム表面に、当該フィルム表面の表面自由エネルギーが40mJ/m以上となるように親水処理を施す工程、
前記仮支持体の前記仮支持面に形成された前記樹脂層と、前記基材フィルムの親水処理を施された前記フィルム表面とを、貼合する工程、
前記仮支持体を剥離する工程、及び、
前記樹脂層及び前記基材フィルムに、前記脂環式構造含有重合体のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施す工程、を含む、光学フィルムの製造方法。
A step of forming a resin layer on the temporary support surface of the temporary support having a temporary support surface having a surface free energy of 20 mJ / m 2 or less,
A step of subjecting a film surface of a substrate film formed of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer to a hydrophilic treatment so that the surface free energy of the film surface becomes 40 mJ / m 2 or more;
A step of bonding the resin layer formed on the temporary support surface of the temporary support and the hydrophilic film-treated film surface of the base film,
A step of peeling the temporary support, and
A method for producing an optical film, comprising a step of subjecting the resin layer and the base film to a heat treatment at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer.
前記脂環式構造含有重合体が、結晶性を有する、請求項1記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the alicyclic structure-containing polymer has crystallinity. 前記フィルム表面に親水処理を施される前において、前記脂環式構造含有重合体の結晶化度が3%未満である、請求項2記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 2, wherein the crystallinity of the alicyclic structure-containing polymer is less than 3% before the film surface is subjected to a hydrophilic treatment. 前記樹脂層及び前記基材フィルムに前記熱処理を施す工程において、前記脂環式構造含有重合体の結晶化が進行する、請求項2又は3記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 2, wherein crystallization of the alicyclic structure-containing polymer proceeds in the step of subjecting the resin layer and the base film to the heat treatment. 前記樹脂層及び前記基材フィルムに前記熱処理を施す工程が、
前記基材フィルムを延伸する工程と、
延伸後に前記基材フィルムに含まれる前記脂環式構造含有重合体の結晶化を進行させる工程と、を含む、請求項2〜4のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
The step of applying the heat treatment to the resin layer and the base film,
A step of stretching the substrate film,
The process of advancing crystallization of the said alicyclic structure containing polymer contained in the said base film after extending | stretching is included, The manufacturing method of the optical film as described in any one of Claims 2-4.
前記親水処理が、コロナ処理、プラズマ処理及びエキシマ処理からなる群より選ばれる少なくとも一つである、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the hydrophilic treatment is at least one selected from the group consisting of corona treatment, plasma treatment and excimer treatment. 前記樹脂層が、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかによって形成されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。   7. The optical film according to claim 1, wherein the resin layer is formed of at least one selected from the group consisting of urethane resin, olefin resin, polyester resin, epoxy resin and acrylic resin. Production method.
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