JPWO2018199172A1 - Protective film - Google Patents

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Abstract

本発明の保護フィルム10は、樹脂基板21に対して、加熱下で熱曲げ加工を施す際に、この樹脂基板21に貼付して用いられる。保護フィルム10は、基材層と、この基材層と樹脂基板21との間に位置し、樹脂基板21に粘着する粘着層とを有する。粘着層は、ポリオレフィンと、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーとを含有する。The protective film 10 of the present invention is used by being adhered to the resin substrate 21 when the resin substrate 21 is subjected to hot bending under heating. The protective film 10 has a base layer and an adhesive layer that is located between the base layer and the resin substrate 21 and adheres to the resin substrate 21. The pressure-sensitive adhesive layer contains a polyolefin and a styrene block elastomer having a styrene content of 25% by weight or less.

Description

本発明は、樹脂基板に対して、加熱下で熱曲げ加工を施す際に、樹脂基板に貼付して用いられる保護フィルムに関する。   The present invention relates to a protective film that is used by being adhered to a resin substrate when the resin substrate is subjected to heat bending under heating.

ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂またはセルロース樹脂で構成される被覆層で偏光子の両面を被覆した構成をなす樹脂基板を備えるサングラス用レンズがある。このようなサングラス用レンズは、例えば、次のようにして製造される。まず、平面視で平板状をなす前記樹脂基板の両面に保護フィルムを貼付する。この状態で、平面視で円形状等の所定の形状に、前記樹脂基板を打ち抜く。その後、この樹脂基板に対して、加熱下で熱曲げ加工を施す。そして、熱曲げがなされた樹脂基板から、保護フィルムを剥離させる。その後に、この樹脂基板の凹面にポリカーボネート層を射出成形する。これにより、サングラス用レンズが製造される。   There is a sunglass lens provided with a resin substrate having a configuration in which both surfaces of a polarizer are coated with a coating layer made of a polycarbonate resin, a polyamide resin, or a cellulose resin. Such a sunglass lens is manufactured, for example, as follows. First, protective films are attached to both surfaces of the resin substrate having a plate shape in plan view. In this state, the resin substrate is punched into a predetermined shape such as a circular shape in plan view. Thereafter, the resin substrate is subjected to heat bending under heating. Then, the protective film is peeled off from the thermally bent resin substrate. Thereafter, a polycarbonate layer is injection-molded on the concave surface of the resin substrate. Thereby, a lens for sunglasses is manufactured.

この保護フィルムは、例えば、基材と、粘着層とを備えている。具体的には、ポリオレフィン系樹脂を主材料とする基材を、ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体等を主材料とする粘着層を介して、前記樹脂基板に対して貼付する構成の保護フィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   This protective film includes, for example, a base material and an adhesive layer. Specifically, a protective film having a configuration in which a base material mainly composed of a polyolefin-based resin is adhered to the resin substrate via an adhesive layer mainly composed of polyethylene, ethylene-propylene copolymer, or the like. It has been proposed (for example, see Patent Document 1).

しかしながら、かかる構成の保護フィルムでは、樹脂基板の打ち抜き時、および、熱曲げ加工時(特に、熱曲げ加工時)に剥離させることなく樹脂基板に貼付させることができるものの、次のような問題があった。すなわち、上記構成の保護フィルムは、熱曲げ加工の後に、樹脂基板に対する密着強度が高くなる傾向を示す。その結果、樹脂基板からの保護フィルムの剥離の際に粘着層に由来する糊残りが樹脂基板に生じるため、製造されるサングラス用レンズの歩留まりの低下を招くと言う問題があった。   However, in the protective film having such a configuration, the protective film can be attached to the resin substrate without being peeled at the time of punching the resin substrate and at the time of hot bending (particularly, at the time of hot bending). However, the following problem occurs. there were. That is, the protective film having the above-described configuration tends to have a higher adhesion strength to the resin substrate after the hot bending process. As a result, when the protective film is peeled off from the resin substrate, glue residue originating from the adhesive layer is formed on the resin substrate, which causes a problem of lowering the yield of manufactured sunglass lenses.

なお、このような問題は、上述したサングラス用レンズばかりでなく、ゴーグルが備えるレンズ、ヘルメットが備えるバイザー等の樹脂基板についても同様に生じている。   Note that such a problem occurs not only with the above-described sunglass lens but also with a resin substrate such as a lens included in goggles and a visor included in a helmet.

特開2003−145616号公報JP 2003-145616 A

本発明の目的は、樹脂基板の熱曲げ加工時に剥離させることなく樹脂基板に貼付させることができるとともに、熱曲げ加工の後に樹脂基板から保護フィルムを剥離させる際に、粘着層に由来する糊残りが樹脂基板に生じるのを的確に抑制または防止し得る保護フィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to allow the resin substrate to be adhered to the resin substrate without being peeled off at the time of hot bending, and to peel off the protective film from the adhesive layer when peeling the protective film from the resin substrate after the hot bending. It is an object of the present invention to provide a protective film capable of accurately suppressing or preventing the occurrence of odor on a resin substrate.

このような目的は、下記(1)〜(8)に記載の本発明により達成される。
(1) 樹脂基板に対して、加熱下で熱曲げ加工を施す際に、前記樹脂基板に貼付して用いられる保護フィルムであって、
基材層と、該基材層と前記樹脂基板との間に位置し、前記樹脂基板に粘着する粘着層とを有し、
前記粘着層は、ポリオレフィンと、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーとを含有することを特徴とする保護フィルム。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (8).
(1) A protective film to be attached to a resin substrate when the resin substrate is subjected to hot bending under heating,
A base layer, and an adhesive layer that is located between the base layer and the resin substrate and adheres to the resin substrate,
A protective film, wherein the adhesive layer contains a polyolefin and a styrene block elastomer having a styrene content of 25% by weight or less.

(2) 前記スチレンブロックエラストマーは、スチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体を含む上記(1)に記載の保護フィルム。   (2) The protective film according to (1), wherein the styrene block elastomer includes a styrene-olefin-styrene block copolymer.

(3) 前記ポリオレフィンは、その融点が150℃以上である上記(1)または(2)に記載の保護フィルム。   (3) The protective film according to (1) or (2), wherein the polyolefin has a melting point of 150 ° C. or more.

(4) 前記ポリオレフィンは、そのJIS K7210に準拠して加熱温度230℃、荷重2.16kgfの条件下において測定されるメルトフローレートが0.5g/10min以上10.0g/10min以下である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の保護フィルム。   (4) The polyolefin has a melt flow rate measured at a heating temperature of 230 ° C. and a load of 2.16 kgf in accordance with JIS K7210 of not less than 0.5 g / 10 min and not more than 10.0 g / 10 min. The protective film according to any one of 1) to (3).

(5) 前記ポリオレフィンは、ポリプロピレンのホモポリマーを含む上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の保護フィルム。   (5) The protective film according to any one of (1) to (4), wherein the polyolefin includes a homopolymer of polypropylene.

(6) 前記樹脂基板の両面に貼付される上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の保護フィルム。   (6) The protective film according to any one of (1) to (5), which is attached to both surfaces of the resin substrate.

(7) 前記樹脂基板の両面、一方の面または他方の面に、ポリカーボネート樹脂層、ポリアミド樹脂層およびセルロース樹脂層のうちの少なくとも1層を有する単層体または積層体で構成される被覆層が設けられる上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の保護フィルム。   (7) On both surfaces, one surface or the other surface of the resin substrate, a coating layer composed of a single layer or a laminate having at least one of a polycarbonate resin layer, a polyamide resin layer and a cellulose resin layer is provided. The protective film according to any one of the above (1) to (6).

(8) 前記樹脂基板は、プレス成形または真空成形により、前記熱曲げ加工される上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の保護フィルム。   (8) The protective film according to any one of (1) to (7), wherein the resin substrate is subjected to the hot bending by press molding or vacuum molding.

本発明によれば、樹脂基板の熱曲げ加工時に剥離させることなく樹脂基板に貼付させることができるとともに、熱曲げ加工の後に樹脂基板から保護フィルムを剥離させる際に、粘着層に由来する糊残りが樹脂基板に生じるのを的確に抑制または防止することができる。そのため、樹脂基板を、例えば、サングラス用レンズが備える樹脂基板に適用した場合には、サングラス用レンズを歩留まりよく製造することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to stick to a resin substrate without peeling at the time of the heat bending of a resin substrate, when peeling a protective film from a resin substrate after a heat bending, the adhesive residue derived from an adhesive layer Can be accurately suppressed or prevented from occurring on the resin substrate. Therefore, when the resin substrate is applied to, for example, a resin substrate included in a sunglass lens, the sunglass lens can be manufactured with high yield.

図1は、保護フィルムを用いたサングラス用レンズの製造方法を説明するための模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a method for manufacturing a sunglass lens using a protective film. 図2は、本発明の保護フィルムの好適実施形態を示す縦断面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a preferred embodiment of the protective film of the present invention.

以下、本発明の保護フィルムを添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the protective film of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

本発明の保護フィルムは、樹脂基板に対して、加熱下で熱曲げ加工を施す際に、前記樹脂基板に貼付して用いられる保護フィルムである。かかる保護フィルムは、基材層と、該基材層と前記樹脂基板との間に位置し、前記樹脂基板に粘着する粘着層とを有し、前記粘着層は、ポリオレフィンと、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーとを含有することを特徴とする。   The protective film of the present invention is a protective film that is used by being attached to a resin substrate when the resin substrate is subjected to hot bending under heating. Such a protective film has a base layer, and an adhesive layer that is located between the base layer and the resin substrate and adheres to the resin substrate, wherein the adhesive layer has a polyolefin content of styrene. Contains 25% by weight or less of a styrene block elastomer.

保護フィルムが備える粘着層を、かかる構成のものとすることで、樹脂基板の熱曲げ加工時に剥離させることなく樹脂基板に貼付させることができるとともに、熱曲げ加工の後に樹脂基板から保護フィルムを剥離させる際に、粘着層に由来する糊残りが樹脂基板に生じるのを的確に抑制または防止することができる。そのため、樹脂基板を、例えば、サングラス用レンズが備える樹脂基板に適用した場合には、サングラス用レンズを歩留まりよく製造することができる。   By adopting such a configuration of the adhesive layer included in the protective film, the protective film can be attached to the resin substrate without being peeled off during the hot bending of the resin substrate, and the protective film is peeled off from the resin substrate after the hot bending. In this case, it is possible to accurately suppress or prevent the generation of adhesive residue derived from the adhesive layer on the resin substrate. Therefore, when the resin substrate is applied to, for example, a resin substrate included in a sunglass lens, the sunglass lens can be manufactured with high yield.

以下、本発明の保護フィルムを説明するのに先立って、本発明の保護フィルムを用いて製造される、サングラス用レンズの製造方法について説明する。   Hereinafter, prior to describing the protective film of the present invention, a method of manufacturing a sunglass lens manufactured using the protective film of the present invention will be described.

<サングラス用レンズの製造方法>
図1は、保護フィルムを用いたサングラス用レンズの製造方法を説明するための模式図である。なお、以下では、説明の都合上、図1の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<Production method for sunglass lens>
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a method for manufacturing a sunglass lens using a protective film. In the following, for convenience of explanation, the upper side of FIG. 1 is referred to as “upper”, and the lower side is referred to as “lower”.

以下、サングラス用レンズの製造方法の各工程を詳述する。
[1]まず、平板状をなす樹脂基板21を用意し、この樹脂基板21の両面に、保護フィルム10(マスキングテープ)を貼付することで、樹脂基板21の両面に保護フィルム10が貼付された積層体100を得る(図1(a)参照)。
Hereinafter, each step of the method for manufacturing a lens for sunglasses will be described in detail.
[1] First, a resin substrate 21 having a plate shape is prepared, and a protective film 10 (masking tape) is attached to both surfaces of the resin substrate 21, whereby the protective films 10 are attached to both surfaces of the resin substrate 21. A laminate 100 is obtained (see FIG. 1A).

なお、本実施形態では、偏光子23と、被覆層24とを備える樹脂基板21が用意される。偏光子23は、偏光していない自然光から、所定の一方向に偏光面をもつ直線偏光を取出す光学素子として機能する。被覆層24は、偏光子23の両面を被覆している。なお、この樹脂基板21において、被覆層24は、ポリカーボネート樹脂層、ポリアミド樹脂層、および、トリアセチルセルロースのようなセルロース樹脂層のうちの少なくとも1層を有する単層体または積層体で構成される。さらに、被覆層24は、図1(a)のように、偏光子23の両面(双方の面)に形成される場合の他、上面(一方の面)および下面(他方の面)のうちのいずれかに形成されるものであってもよい。   In this embodiment, a resin substrate 21 including a polarizer 23 and a coating layer 24 is prepared. The polarizer 23 functions as an optical element that extracts linearly polarized light having a polarization plane in one predetermined direction from unpolarized natural light. The coating layer 24 covers both surfaces of the polarizer 23. In this resin substrate 21, the coating layer 24 is formed of a single layer or a laminate having at least one of a polycarbonate resin layer, a polyamide resin layer, and a cellulose resin layer such as triacetyl cellulose. . Further, as shown in FIG. 1A, the coating layer 24 is formed on both surfaces (both surfaces) of the polarizer 23, and also on the upper surface (one surface) and the lower surface (the other surface). It may be formed on any of them.

[2]次に、図1(b)に示すように、用意した積層体100を、すなわち、樹脂基板21の両面に保護フィルム10を貼付した状態で樹脂基板21を、その厚さ方向に打ち抜く。これにより、積層体100を平面視で円形状とする。   [2] Next, as shown in FIG. 1B, the prepared laminate 100, that is, the resin substrate 21 in a state where the protective films 10 are adhered to both surfaces of the resin substrate 21, is punched in the thickness direction. . Thereby, the laminated body 100 is formed in a circular shape in plan view.

[3]次に、図1(c)に示すように、円形状とされた積層体100に対して、加熱下で熱曲げ加工を施す。
この熱曲げ加工は、通常、プレス成形または真空成形により実施される。
[3] Next, as shown in FIG. 1C, the laminate 100 having a circular shape is subjected to heat bending under heating.
This hot bending is usually performed by press forming or vacuum forming.

前述の通り、本実施形態では、樹脂基板21が被覆層24を備え、被覆層24が、ポリカーボネート樹脂層、ポリアミド樹脂層、および、セルロース樹脂層のうちの少なくとも1層を有する単層体または積層体で構成されている。このため、熱曲げ加工の際の積層体100(樹脂基板21)の加熱温度(成形温度)は、被覆層24の溶融または軟化温度を考慮して、好ましくは110℃以上150℃以下程度、より好ましくは140℃以上150℃以下程度に設定される。加熱温度をかかる範囲内に設定することにより、樹脂基板21の変質・劣化を防止しつつ、樹脂基板21を軟化または溶融状態として、樹脂基板21を確実に熱曲げすることができる。   As described above, in the present embodiment, the resin substrate 21 includes the covering layer 24, and the covering layer 24 has a single-layer structure or a laminate including at least one of a polycarbonate resin layer, a polyamide resin layer, and a cellulose resin layer. It consists of a body. For this reason, the heating temperature (forming temperature) of the laminate 100 (resin substrate 21) at the time of hot bending is preferably about 110 ° C. or more and 150 ° C. or less in consideration of the melting or softening temperature of the coating layer 24. Preferably, it is set at about 140 ° C. or more and about 150 ° C. or less. By setting the heating temperature within such a range, the resin substrate 21 can be reliably bent while the resin substrate 21 is in a softened or molten state while preventing deterioration and deterioration of the resin substrate 21.

[4]次に、図1(d)に示すように、熱曲げがなされた樹脂基板21すなわち積層体100から、保護フィルム10を剥離させた後、この樹脂基板21の凹面にポリカーボネート樹脂で構成されるポリカーボネート層30を射出成形する。なお、樹脂基板21の凹面には、ポリカーボネート層30に代えて、例えば、ポリアミド樹脂で構成されるポリアミド層を形成してもよい。   [4] Next, as shown in FIG. 1 (d), after the protective film 10 is peeled from the thermally bent resin substrate 21, that is, the laminate 100, the concave surface of the resin substrate 21 is made of polycarbonate resin. The polycarbonate layer 30 to be formed is injection molded. Note that a polyamide layer made of, for example, a polyamide resin may be formed on the concave surface of the resin substrate 21 instead of the polycarbonate layer 30.

これにより、熱曲げがなされた樹脂基板21を備えるサングラス用レンズ200が製造される。   Thus, the sunglass lens 200 including the thermally bent resin substrate 21 is manufactured.

以上のようなサングラス用レンズの製造方法に、本発明の保護フィルムを適用することで、樹脂基板21から保護フィルム10を剥離させることなく前記工程[2]および前記工程[3]における樹脂基板21の打ち抜きおよび熱曲げを実施することができるとともに、前記工程[4]における樹脂基板21からの保護フィルム10の剥離を樹脂基板21に粘着層11に由来する糊残りが生じるのを的確に抑制または防止して実施することができる。以下、本発明の保護フィルムについて詳述する。   By applying the protective film of the present invention to the above-described method for manufacturing a sunglass lens, the resin substrate 21 in the step [2] and the step [3] can be used without peeling the protective film 10 from the resin substrate 21. Of the protective film 10 from the resin substrate 21 in the step [4], and the occurrence of adhesive residue derived from the adhesive layer 11 on the resin substrate 21 is accurately suppressed or It can be implemented with prevention. Hereinafter, the protective film of the present invention will be described in detail.

なお、本発明の保護フィルム10では、粘着層11が、ポリオレフィンと、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーとを含有すればよく、基材層15の構成は、特に限定されない。以下では、基材層15が第1の層16と第2の層17との積層体で構成される場合を一例に説明する。   In the protective film 10 of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer 11 only needs to contain a polyolefin and a styrene block elastomer having a styrene content of 25 wt% or less, and the configuration of the base layer 15 is not particularly limited. Hereinafter, a case where the base material layer 15 is configured by a laminate of the first layer 16 and the second layer 17 will be described as an example.

<保護フィルム10>
図2は、本発明の保護フィルムの好適実施形態を示す縦断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図2の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<Protective film 10>
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a preferred embodiment of the protective film of the present invention. In the following, for convenience of description, the upper side of FIG. 2 is referred to as “upper”, and the lower side is referred to as “lower”.

保護フィルム10は、基材層15と、この基材層15と樹脂基板21との間に位置し、樹脂基板21に粘着(接合)する粘着層11とを有する。図2に示すように、基材層15は、本実施形態では、粘着層11の反対側、すなわち、成形型側に位置する第1の層16と、粘着層11側、すなわち、樹脂基板21側に位置する第2の層17とを有している。   The protective film 10 includes a base layer 15 and an adhesive layer 11 that is located between the base layer 15 and the resin substrate 21 and that adheres (joins) to the resin substrate 21. As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the base layer 15 includes the first layer 16 located on the opposite side of the adhesive layer 11, that is, the first layer 16 located on the mold side, and the adhesive layer 11 side, that is, the resin substrate 21. And a second layer 17 located on the side.

以下、これら各層について詳述する。
<<粘着層11>>
粘着層11は、基材層15と樹脂基板21との間に位置(介在)し、樹脂基板21に粘着する。このように、粘着層11は、基材層15を樹脂基板21に接合する機能を有する。
Hereinafter, each of these layers will be described in detail.
<< adhesive layer 11 >>
The adhesive layer 11 is located (interposed) between the base material layer 15 and the resin substrate 21 and adheres to the resin substrate 21. Thus, the adhesive layer 11 has a function of joining the base material layer 15 to the resin substrate 21.

この粘着層11は、本発明では、前述の通り、ポリオレフィンと、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーとを含有する。   In the present invention, as described above, the adhesive layer 11 contains a polyolefin and a styrene block elastomer having a styrene content of 25% by weight or less.

このように、粘着層11が、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーを含有することにより、前記工程[4]における樹脂基板21からの保護フィルム10の剥離の際に、樹脂基板21に粘着層11が残存することを的確に抑制または防止することができる。すなわち、樹脂基板21における粘着層11に由来する糊残りの発生を的確に抑制または防止することができる。   As described above, since the adhesive layer 11 contains the styrene block elastomer having a styrene content of 25 wt% or less, when the protective film 10 is peeled off from the resin substrate 21 in the step [4], The adhesive layer 11 can be accurately suppressed or prevented from remaining. That is, it is possible to accurately suppress or prevent the generation of adhesive residue derived from the adhesive layer 11 on the resin substrate 21.

このスチレンブロックエラストマー(スチレンブロックを有するスチレン系エラストマー)としては、特に限定されないが、スチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体エラストマーであることが好ましい。このように、モノマー成分としてスチレンを含むスチレンブロックエラストマーとして、スチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体を用いることで、スチレンの含有量を25wt%以下とした際に、前記工程[4]において、樹脂基板21に糊残りが発生するのをより的確に抑制または防止することができる。   The styrene block elastomer (styrene-based elastomer having a styrene block) is not particularly limited, but is preferably a styrene-olefin-styrene block copolymer elastomer. As described above, when the styrene content is 25 wt% or less by using the styrene-olefin-styrene block copolymer as the styrene block elastomer containing styrene as a monomer component, in the step [4], the resin The generation of adhesive residue on the substrate 21 can be more accurately suppressed or prevented.

また、スチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体としては、例えば、スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体(SIBS)、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体(SIS)等が挙げられる。これらの中でも、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)が好ましい。スチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体として、SEBSを選択することにより、エラストマーにおけるスチレンの含有量を、比較的容易に25wt%以下に設定することができ、前述した効果をより確実に得ることができる。   Examples of the styrene-olefin-styrene block copolymer include styrene-isobutylene-styrene block copolymer (SIBS), styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), and styrene-butadiene-styrene block. Copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene copolymer (SIS) and the like. Among them, styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS) is preferable. By selecting SEBS as the styrene-olefin-styrene block copolymer, the styrene content in the elastomer can be relatively easily set at 25 wt% or less, and the above-described effects can be more reliably obtained. it can.

さらに、エラストマーにおけるスチレンの含有量は、25wt%以下であればよいが、10wt%以上18wt%以下であることが好ましい。これにより、スチレン含有量が高くなることに起因して、粘着層11の硬度の上昇を招くのを的確に抑制または防止することができる。そのため、粘着層11の樹脂基板21(被覆層24)に対する密着力を確実に維持しつつ、樹脂基板21に糊残りが発生するのをより的確に抑制または防止することができる。   Furthermore, the content of styrene in the elastomer may be 25 wt% or less, but is preferably 10 wt% or more and 18 wt% or less. Thereby, it is possible to accurately suppress or prevent the increase in the hardness of the adhesive layer 11 due to the increase in the styrene content. Therefore, it is possible to more accurately suppress or prevent the occurrence of adhesive residue on the resin substrate 21 while reliably maintaining the adhesion of the adhesive layer 11 to the resin substrate 21 (the covering layer 24).

粘着層11における、エラストマーの含有量は、特に限定されないが、好ましくは20wt%以上80wt%以下、より好ましくは30wt%以上60wt%以下に設定される。これにより、粘着層11に、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーを含有させることにより得られる効果を、より顕著に発揮させることができる。   The content of the elastomer in the adhesive layer 11 is not particularly limited, but is preferably set to 20 wt% or more and 80 wt% or less, more preferably 30 wt% or more and 60 wt% or less. Thereby, the effect obtained by allowing the adhesive layer 11 to contain a styrene block elastomer having a styrene content of 25 wt% or less can be more remarkably exhibited.

また、粘着層11は、本発明では、前述の通り、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーの他に、ポリオレフィンを含有する。   Further, in the present invention, as described above, the adhesive layer 11 contains a polyolefin in addition to the styrene block elastomer having a styrene content of 25 wt% or less.

このように、粘着層11が、ポリオレフィンを含有することにより、樹脂基板21から保護フィルム10を剥離させることなく前記工程[2]および前記工程[3]における樹脂基板21の打ち抜きおよび熱曲げを実施することができるとともに、前記工程[4]における樹脂基板21からの保護フィルム10の剥離を比較的容易に実施することができる。   As described above, since the pressure-sensitive adhesive layer 11 contains polyolefin, the resin substrate 21 can be punched and thermally bent in the step [2] and the step [3] without peeling the protective film 10 from the resin substrate 21. The peeling of the protective film 10 from the resin substrate 21 in the step [4] can be performed relatively easily.

また、このポリオレフィンの融点は、150℃以上であることが好ましく、155℃以上160℃以下であることがより好ましい。ポリオレフィンの融点をこのような温度範囲に設定することにより、粘着層11にポリオレフィンが含まれることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。   Further, the melting point of the polyolefin is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 155 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. By setting the melting point of the polyolefin in such a temperature range, the effect obtained by including the polyolefin in the adhesive layer 11 can be more remarkably exhibited.

ここで、樹脂基板21からの保護フィルム10の易剥離性は、ピール強度を用いて表すことができる。具体的には、被覆層24に、保護フィルム10を貼付し、積層体を得る。その後、温度50℃、時間12hrの条件で積層体を保管した後のJIS C−6481:1996に準拠して測定される、被覆層24と保護フィルム10との間のピール強度T、および、温度150℃、時間5minの条件で積層体を保管した後のJIS C−6481:1996に準拠して測定される、被覆層24と保護フィルム10との間のピール強度Tは、それぞれ、0.05N/25mm以上3.0N/25mm以下であることが好ましく、0.10N/25mm以上1.5N/25mm以下であることがより好ましく、0.15N/25mm以上0.5N/25mm以下であることがさらに好ましい。温度50℃、時間12hrの条件および温度150℃、時間5minの条件で、それぞれ、積層体を保管した後のピール強度Tおよびピール強度Tを前記範囲内とすることで、前記工程[2]および前記工程[3]における樹脂基板21の打ち抜きおよび熱曲げを、樹脂基板21から保護フィルム10を剥離させることなく実施することができ、かつ、前記工程[3]における熱曲げによる熱履歴を保護フィルム10が経たとしても、前記工程[4]における樹脂基板21からの保護フィルム10の剥離を確実に実施することができる。Here, the easy peelability of the protective film 10 from the resin substrate 21 can be expressed by using the peel strength. Specifically, the protective film 10 is attached to the coating layer 24 to obtain a laminate. Thereafter, the peel strength T 1 between the coating layer 24 and the protective film 10 measured according to JIS C-6481: 1996 after storing the laminate under the conditions of a temperature of 50 ° C. and a time of 12 hours, and temperature 150 ℃, JIS C-6481 after storage of the laminate under conditions of time 5min: is measured according to 1996, the peel strength T 2 of the between the covering layer 24 and the protective film 10, respectively, 0 It is preferably from 0.05 N / 25 mm to 3.0 N / 25 mm, more preferably from 0.10 N / 25 mm to 1.5 N / 25 mm, and more preferably from 0.15 N / 25 mm to 0.5 N / 25 mm. Is more preferable. Temperature 50 ° C., the time 12hr conditions and temperatures 0.99 ° C. for a time under conditions of 5min, respectively, the peel strength T 1 and peel strength T 2 of the after storage a laminate by the above range, the step [2 ] And the bending of the resin substrate 21 in the step [3] and the thermal bending can be performed without peeling the protective film 10 from the resin substrate 21. Even if the protective film 10 has passed, the peeling of the protective film 10 from the resin substrate 21 in the step [4] can be reliably performed.

また、ポリオレフィンとしては、特に限定されず、例えば、ポリプロピレンの単独重合体(ホモポリマー)、ポリエチレンの単独重合体、EPR相(ゴム相)を備えるプロピレン−エチレンブロック共重合体、エチレン−酢酸ビニルブロック共重合体、エチレン−エチルアクリレートブロック共重合体、エチレン−メチルメタクリレートブロック共重合体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、ポリプロピレンの単独重合体(ホモポリマー)が好ましい。ポリプロピレンの単独重合体は、比較的安価に入手することができ、さらに、融点が150℃以上のポリプロピレンの単独重合体も容易に入手することができる。また、ポリプロピレンの単独重合体であれば粘着層11に透明性を付与することができる。そのため、基材層15も同様に透明性を有している場合には、保護フィルム10が透明性を備えることができる。したがって、前記工程[1]における保護フィルム10の樹脂基板21への貼付の際に、ホコリ等のゴミが保護フィルム10と樹脂基板21との間に介在しているか否かを視認し得る。そのため、前記工程[2]以降にゴミが介在している積層体100が移行するのを確実に防止することができる。結果として、得られるサングラス用レンズ200の歩留まりの向上が図られる。   The polyolefin is not particularly limited, and may be, for example, a homopolymer of polypropylene (homopolymer), a homopolymer of polyethylene, a propylene-ethylene block copolymer having an EPR phase (rubber phase), or an ethylene-vinyl acetate block. Copolymers, ethylene-ethyl acrylate block copolymers, ethylene-methyl methacrylate block copolymers and the like can be mentioned, and one or more of these can be used in combination. Among these, a homopolymer of polypropylene (homopolymer) is preferable. A polypropylene homopolymer can be obtained relatively inexpensively, and a polypropylene homopolymer having a melting point of 150 ° C. or more can be easily obtained. In addition, if it is a homopolymer of polypropylene, transparency can be imparted to the adhesive layer 11. Therefore, when the base material layer 15 also has transparency, the protective film 10 can have transparency. Therefore, at the time of attaching the protective film 10 to the resin substrate 21 in the step [1], it is possible to visually check whether dust such as dust is interposed between the protective film 10 and the resin substrate 21. Therefore, it is possible to reliably prevent the stack 100 in which dust is present from being transferred after the step [2]. As a result, the yield of the obtained sunglass lens 200 is improved.

さらに、ポリオレフィンは、そのJIS K7210に準拠して、加熱温度230℃、荷重2.16kgfの条件下において測定されるメルトフローレート(MFR)が0.5g/10min以上10.0g/10min以下であることが好ましく、1.0g/10min以上5.0g/10min以下であることがより好ましく、2.0g/10min以上3.5g/10min以下であることがさらに好ましい。これにより、被覆層24に対する初期の馴染み性に優れた粘着層11が得られるため、前記工程[1]における保護フィルム10の樹脂基板21に対する貼付を、優れた密着性をもって行うことができる。   Further, the polyolefin has a melt flow rate (MFR) of 0.5 g / 10 min or more and 10.0 g / 10 min or less measured under the conditions of a heating temperature of 230 ° C. and a load of 2.16 kgf in accordance with JIS K7210. It is preferably 1.0 g / 10 min or more and 5.0 g / 10 min or less, more preferably 2.0 g / 10 min or more and 3.5 g / 10 min or less. As a result, the adhesive layer 11 having excellent initial conformability to the coating layer 24 is obtained, so that the protective film 10 can be attached to the resin substrate 21 in the step [1] with excellent adhesion.

なお、本明細書において、粘着層11を含む保護フィルム10を構成する各層の融点とは、それぞれ、各層に含まれる各構成材料の融点(DSC測定によるピーク温度)に、それぞれ、各構成材料が含まれる比率を乗じたものの和により求められた値を融点とする。   In the present specification, the melting point of each layer constituting the protective film 10 including the adhesive layer 11 refers to the melting point (peak temperature by DSC measurement) of each constituent material contained in each layer, respectively. The value determined by the sum of the products multiplied by the included ratio is defined as the melting point.

また、粘着層11は、その平均厚さが5μm以上40μm以下であることが好ましく、10μm以上20μm以下であることがより好ましい。これにより、前述した粘着層11としての機能を確実に発揮させることができる。   The average thickness of the adhesive layer 11 is preferably 5 μm or more and 40 μm or less, more preferably 10 μm or more and 20 μm or less. Thereby, the function as the above-mentioned adhesive layer 11 can be reliably exhibited.

<<基材層15>>
基材層15は、粘着層11を介して樹脂基板21(被覆層24)に接合される。基材層15は、前記工程[2]および前記工程[3]における樹脂基板21の打ち抜きおよび熱曲げの際に、樹脂基板21を保護(マスキング)する機能層(保護層)として機能するものである。
<<< base material layer 15 >>>
The base material layer 15 is joined to the resin substrate 21 (the covering layer 24) via the adhesive layer 11. The base material layer 15 functions as a functional layer (protective layer) for protecting (masking) the resin substrate 21 at the time of punching and thermal bending of the resin substrate 21 in the steps [2] and [3]. is there.

基材層15は、かかる機能を発揮するものであれば、いかなる構成であってもよく、単層体または積層体のいずれであってもよい。本実施形態では、図2に示すように、基材層15が、粘着層11の反対側、すなわち、成形型側に位置する第1の層16と、粘着層11側、すなわち、樹脂基板21側に位置する第2の層17とを有する積層体で構成される場合について説明する。   The base material layer 15 may have any configuration as long as it exhibits such a function, and may be a single-layer body or a laminate. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the base layer 15 includes the first layer 16 located on the opposite side of the adhesive layer 11, that is, the first layer 16 located on the mold side, and the adhesive layer 11 side, that is, the resin substrate 21. A case is described in which it is constituted by a laminate having the second layer 17 located on the side.

<<第1の層16>>
第1の層16は、粘着層11の反対側、すなわち、前記工程[3]における熱曲げの際に、成形型側に位置して、樹脂基板21を保護するための最外層として機能する。
<<< first layer 16 >>>
The first layer 16 is located on the opposite side of the adhesive layer 11, that is, on the mold side during the thermal bending in the step [3], and functions as an outermost layer for protecting the resin substrate 21.

この第1の層16は、前記工程[3]における熱曲げの後に、成形型からの優れた離脱性を維持させること、すなわち、成形型(金型)に第1の層16を密着させないことを目的に、第1の層16の融点は、150℃以上であることが好ましく、155℃以上165℃以下程度であることがより好ましい。ここで、前述の通り、前記工程[3]における熱曲げの際の被覆層24(樹脂基板21)の加熱温度は、好ましくは、110℃以上150℃以下程度に設定される。そのため、第1の層16の融点を前記の通り設定することにより、前記工程[3]における熱曲げの際に、第1の層16が溶融または軟化状態となるのを確実に防止することができるため、前記工程[3]における熱曲げの後に、成形型から確実に積層体100を離脱させることができる。   This first layer 16 is to maintain excellent releasability from the mold after the thermal bending in the step [3], that is, to prevent the first layer 16 from being in close contact with the mold (die). For the purpose, the melting point of the first layer 16 is preferably 150 ° C. or higher, more preferably about 155 ° C. or higher and 165 ° C. or lower. Here, as described above, the heating temperature of the coating layer 24 (the resin substrate 21) at the time of the thermal bending in the step [3] is preferably set to about 110 ° C. or more and about 150 ° C. or less. Therefore, by setting the melting point of the first layer 16 as described above, it is possible to reliably prevent the first layer 16 from being in a molten or softened state during the thermal bending in the step [3]. Therefore, after the thermal bending in the step [3], the laminate 100 can be reliably separated from the mold.

このような第1の層16の構成材料としては、好ましくは融点が150℃以上である熱可塑性樹脂が挙げられ、より好ましくは融点が150℃以上のポリオレフィンが選択される。これにより、第1の層16の融点を容易に150℃以上に設定することができる。また、後述する第2の層17もポリオレフィンを含む構成とした際には、基材層15(第1の層16および第2の層17)と粘着層11との密着性を向上させることができるため、保護フィルム10が備える各層において剥離が生じるのを的確に抑制または防止することができる。   As a constituent material of such a first layer 16, a thermoplastic resin having a melting point of preferably 150 ° C. or more is preferably used, and more preferably, a polyolefin having a melting point of 150 ° C. or more is selected. This makes it possible to easily set the melting point of the first layer 16 to 150 ° C. or higher. When the second layer 17 described later also includes a polyolefin, the adhesion between the base layer 15 (the first layer 16 and the second layer 17) and the adhesive layer 11 can be improved. Therefore, it is possible to accurately suppress or prevent the occurrence of peeling in each layer of the protective film 10.

なお、融点が150℃以上のポリオレフィンとしては、例えば、前述した粘着層11に含まれるポリオレフィンのうち融点が150℃以上のポリオレフィンが挙げられる。   The polyolefin having a melting point of 150 ° C. or higher includes, for example, a polyolefin having a melting point of 150 ° C. or higher among the polyolefins contained in the adhesive layer 11 described above.

また、第1の層16は、その平均厚さが10μm以上50μm以下であることが好ましく、15μm以上35μm以下であることがより好ましい。これにより、前述した第1の層16としての機能を確実に発揮させることができる。   The average thickness of the first layer 16 is preferably 10 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 15 μm or more and 35 μm or less. Thereby, the function as the first layer 16 described above can be reliably exhibited.

<<第2の層17>>
第2の層17は、粘着層11側、すなわち、樹脂基板21側に位置して、粘着層11と第1の層16との間に位置する中間層として機能する。
<<< second layer 17 >>>
The second layer 17 is located on the adhesive layer 11 side, that is, on the resin substrate 21 side, and functions as an intermediate layer located between the adhesive layer 11 and the first layer 16.

この第2の層17は、前記工程[3]における熱曲げの際に溶融・軟化状態となり、積層体100の熱曲げにより、積層体100の湾曲面の縁部に第1の層16が突出した掴みシロを形成させるための中間層として機能することを目的として、基材層15に設けられている。このため、第2の層17の融点は、120℃未満であることが好ましく、90℃以上119℃以下程度であることがより好ましい。ここで、前述の通り、前記工程[3]における熱曲げの際の被覆層24(樹脂基板21)の加熱温度は、好ましくは、110℃以上150℃以下程度に設定される。そのため、第2の層17の融点を前記の通り設定することにより、前記工程[3]における熱曲げの際に、第2の層17を確実に溶融または軟化状態とすることができる。したがって、前記工程[3]において、この第2の層17は、溶融または軟化状態の中間層としての機能を発揮して、樹脂基板21の面方向に対して、第1の層16を位置ずれさせ得る。その結果、積層体100の縁部に第1の層16による掴みシロが形成されることとなる。そのため、前記工程[4]における保護フィルム10の剥離を、掴みシロを掴むことで実施し得ることから、この剥離を容易に行うことができる。   The second layer 17 is in a molten and softened state during the thermal bending in the step [3], and the first layer 16 protrudes at the edge of the curved surface of the multilayer body 100 due to the thermal bending of the multilayer body 100. It is provided on the base material layer 15 for the purpose of functioning as an intermediate layer for forming a gripping sill. For this reason, the melting point of the second layer 17 is preferably less than 120 ° C., and more preferably about 90 ° C. or more and 119 ° C. or less. Here, as described above, the heating temperature of the coating layer 24 (resin substrate 21) during the thermal bending in the step [3] is preferably set to about 110 ° C. or more and 150 ° C. or less. Therefore, by setting the melting point of the second layer 17 as described above, the second layer 17 can be reliably melted or softened during the thermal bending in the step [3]. Therefore, in the step [3], the second layer 17 functions as an intermediate layer in a molten or softened state, and displaces the first layer 16 with respect to the surface direction of the resin substrate 21. I can make it. As a result, a gripping white by the first layer 16 is formed at the edge of the stacked body 100. For this reason, the peeling of the protective film 10 in the step [4] can be performed by grasping a grasping sill, so that the peeling can be easily performed.

また、この掴みシロの長さをLとし、平面視で円形状をなす積層体100が前記工程[3]により熱曲げされた後の平面視における直径をLとし、前記工程[3]により熱曲げされた積層体100の曲率半径Rを8.5cmとしたとき、(L/L)×100は、0.1%以上1%以下であることが好ましく、0.2%以上0.5%以下であることがより好ましい。かかる関係を満足することにより、前記工程[3]により形成される掴みシロを用いて、前記工程[4]における保護フィルム10の剥離を、確実に実施することができる。Further, the length of the gripping white and L 1, a diameter in plan view after it has been bent heat and L 2 laminate 100 forms a circular shape in plan view by the step [3], the step [3] (L 1 / L 2 ) × 100 is preferably 0.1% or more and 1% or less, and more preferably 0.2% or more when the radius of curvature R of the laminate 100 that is thermally bent by the above is 8.5 cm. More preferably, it is 0.5% or less. By satisfying such a relationship, the protective film 10 can be reliably peeled off in the step [4] using the gripping sill formed in the step [3].

このような第2の層17の構成材料としては、好ましくは融点が120℃未満である熱可塑性樹脂が挙げられ、より好ましくは融点が120℃未満のポリオレフィンが選択される。これにより、第2の層17の融点を容易に120℃未満に設定することができる。また、前述した第1の層16もポリオレフィンを含む構成とした際には、基材層15(第1の層16および第2の層17)と粘着層11との密着性を向上させることができるため、保護フィルム10が備える各層において剥離が生じるのを的確に抑制または防止することができる。   As a constituent material of such a second layer 17, a thermoplastic resin having a melting point of preferably less than 120 ° C. is preferably used, and a polyolefin having a melting point of less than 120 ° C. is more preferably selected. This makes it possible to easily set the melting point of the second layer 17 to less than 120 ° C. When the first layer 16 also includes a polyolefin, the adhesion between the base layer 15 (the first layer 16 and the second layer 17) and the adhesive layer 11 can be improved. Therefore, it is possible to accurately suppress or prevent the occurrence of peeling in each layer of the protective film 10.

なお、融点が120℃未満のポリオレフィンとしては、前述した粘着層11に含まれるポリオレフィンのうち、融点が120℃未満のポリオレフィンが挙げられる。例えば、融点が120℃未満のポリエチレンの単独重合体、α−オレフィン/ポリエチレン共重合体、α−オレフィン/ポリプロピレン共重合体等が挙げられる。   In addition, as a polyolefin having a melting point of less than 120 ° C., a polyolefin having a melting point of less than 120 ° C. among the polyolefins contained in the adhesive layer 11 described above is exemplified. Examples thereof include a homopolymer of polyethylene having a melting point of less than 120 ° C., an α-olefin / polyethylene copolymer, and an α-olefin / polypropylene copolymer.

また、第2の層17は、その平均厚さが10μm以上60μm以下であることが好ましく、15μm以上30μm以下であることがより好ましい。これにより、前述した第2の層17としての機能を確実に発揮させることができる。   The second layer 17 preferably has an average thickness of 10 μm or more and 60 μm or less, and more preferably 15 μm or more and 30 μm or less. Thereby, the function as the second layer 17 described above can be reliably exhibited.

なお、上述した保護フィルム10が備える粘着層11、基材層15(第1の層16および第2の層17)の各層には、それぞれ、上述した構成材料の他に、酸化防止剤、光安定剤、帯電防止剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。
また、これら各層の間には、上記添加剤等を含む中間層が形成されていてもよい。
The adhesive layer 11 and the base layer 15 (the first layer 16 and the second layer 17) included in the above-described protective film 10 have an antioxidant and a light, respectively, in addition to the constituent materials described above. Various additives such as a stabilizer and an antistatic agent may be contained.
Further, an intermediate layer containing the above-mentioned additives and the like may be formed between these layers.

さらに、上述した保護フィルム10は、いかなる方法により製造されてもよいが、例えば、共押し出し法を用いることで製造し得る。   Further, the above-described protective film 10 may be manufactured by any method, and for example, may be manufactured by using a co-extrusion method.

具体的には、3つの押し出し機を用意し、これらに、それぞれ、粘着層11、第1の層16および第2の層17の構成材料を収納する。その後、これらの構成材料を溶融または軟化状態として、押し出す。これにより、共押し出しTダイから、これらの構成材料が層状に積層された、溶融または軟化状態の積層体が得られる。得られた積層体を、複数の冷却ロール等で構成されるシート成形部に供給し、その後、このシート成形部において積層体を冷却することにより保護フィルム10が製造される。   Specifically, three extruders are prepared, and the constituent materials of the adhesive layer 11, the first layer 16, and the second layer 17 are stored in these extruders, respectively. Thereafter, these constituent materials are extruded in a molten or softened state. Thereby, a laminated body in a molten or softened state, in which these constituent materials are laminated in a layer, is obtained from the co-extruded T-die. The obtained laminate is supplied to a sheet forming section composed of a plurality of cooling rolls and the like, and then the laminate is cooled in the sheet forming section, whereby the protective film 10 is manufactured.

以上、本発明の保護フィルムについて説明したが、本発明は、これに限定されず、保護フィルムを構成する各層は、同様の機能を発揮し得る任意の構成の層と置換することができる。   Although the protective film of the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto, and each layer constituting the protective film can be replaced with a layer having an arbitrary configuration capable of exhibiting the same function.

さらに、前記実施形態では、本発明の保護フィルムを、サングラス用レンズが有する樹脂基板に対して、熱曲げ加工する際に、樹脂基板に貼付して用いる場合について説明した。しかし、本発明の保護フィルムは、このようなサングラス用レンズが有する樹脂基板の熱曲げに適用できる他、例えば、ゴーグルが備えるレンズ、ヘルメットが備えるバイザー等の樹脂基板を熱曲げする際にも用いることができる。   Furthermore, in the said embodiment, the case where the protective film of this invention was affixed to the resin substrate at the time of performing a heat bending process with respect to the resin substrate which a lens for sunglasses uses was used. However, the protective film of the present invention is applicable not only to the thermal bending of the resin substrate of such a sunglass lens, but also to the use of, for example, a lens provided in goggles and a visor provided in a helmet. be able to.

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples. Note that the present invention is not limited at all by these examples.

1.粘着層に含まれるエラストマーの種類の検討
1−1.原材料の準備
まず、各実施例および各比較例の保護フィルムの作製に使用した原料は以下の通りである。
1. Examination of types of elastomer contained in adhesive layer 1-1. Preparation of Raw Materials First, the raw materials used for producing the protective films of the respective examples and comparative examples are as follows.

<ポリオレフィン>
融点が145℃のランダムポリプロピレン(日本ポリプロ社製、「ノバッテックEG8B」、MFR=0.8g/10min)
融点が158℃のホモポリプロピレン(日本ポリプロ社製、「ノバッテックEA9」、MFR=0.5g/10min)
融点が119℃の直鎖状低密度ポリエチレン(宇部丸善ポリエチレン社製、「ユリメット1540F」、MFR=4.0g/10min)
<Polyolefin>
A random polypropylene having a melting point of 145 ° C. (“Novatech EG8B”, manufactured by Nippon Polypropylene Co., Ltd., MFR = 0.8 g / 10 min)
Homopolypropylene having a melting point of 158 ° C. (manufactured by Nippon Polypropylene, “Novatec EA9”, MFR = 0.5 g / 10 min)
Linear low density polyethylene having a melting point of 119 ° C. (Ube Maruzen Polyethylene Co., Ltd., “Ulimet 1540F”, MFR = 4.0 g / 10 min)

<エラストマー>
スチレン含有量が12wt%のスチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)(旭化成社製、「タフテックH1221」)
スチレン含有量が20wt%のスチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)(旭化成社製、「タフテックH1052」)
スチレン含有量が20wt%のスチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体(SIBS)(カネカ社製、「シブスター062H」)
α−オレフィン/ポリプロピレン共重合体エラストマー(三井化学社製、「タフマーPN2060」)
α−オレフィン/ポリエチレン共重合体エラストマー(日本ポリエチレン社製、「カーネルKF350」)
スチレン含有量が30wt%のスチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)(旭化成社製、「製品番号タフテックH1041」)
<Elastomer>
Styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS) having a styrene content of 12% by weight ("TUFTEC H1221" manufactured by Asahi Kasei Corporation)
Styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS) having a styrene content of 20% by weight ("TUFTEC H1052" manufactured by Asahi Kasei Corporation)
Styrene-isobutylene-styrene block copolymer (SIBS) having a styrene content of 20% by weight (“Sivstar 062H” manufactured by Kaneka Corporation)
α-olefin / polypropylene copolymer elastomer (“Tuffmer PN2060” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
α-Olefin / polyethylene copolymer elastomer (“Kernel KF350”, manufactured by Japan Polyethylene Corporation)
Styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS) having a styrene content of 30% by weight (manufactured by Asahi Kasei Corporation, “product number Tuftec H1041”)

1−2.保護フィルムの製造
(実施例1A)
[1A]まず、粘着層を形成するにあたり、スチレン含有量が12wt%のSEBSと融点が145℃のランダムポリプロピレンとを、SEBSの含有量が50wt%となるように混練することで粘着層形成材料(樹脂組成物)を調製した。
1-2. Production of protective film (Example 1A)
[1A] First, in forming an adhesive layer, an adhesive layer forming material is kneaded with SEBS having a styrene content of 12 wt% and random polypropylene having a melting point of 145 ° C. so that the SEBS content becomes 50 wt%. (Resin composition) was prepared.

[2A]次に、調製した粘着層形成材料と、第2の層(中間層)形成材料として融点が119℃の低密度ポリエチレンと、第1の層(最外層)形成材料として融点が158℃のホモポリプロピレンとを、それぞれ、3つの押し出し機に収納した。   [2A] Next, the prepared adhesive layer forming material, low density polyethylene having a melting point of 119 ° C. as a second layer (intermediate layer) forming material, and a melting point of 158 ° C. as a first layer (outermost layer) forming material And homopolypropylene were stored in three extruders, respectively.

[3A]次に、3つの押し出し機から、これらの形成材料を溶融状態として、押し出した。これにより、共押し出しTダイから、これらの形成材料が層状に積層された溶融状態の積層体が得られた。その後、この積層体を冷却することで、実施例1Aの保護フィルムを得た。   [3A] Next, these extruders were extruded in a molten state from three extruders. As a result, a laminated body in a molten state in which these forming materials were laminated in layers was obtained from the co-extruded T-die. Thereafter, the laminate was cooled to obtain a protective film of Example 1A.

(実施例2A〜実施例7A、比較例1A〜比較例3A)
前記工程[1A]においてスチレン含有量が12wt%のSEBSに代えて用いたエラストマーの種類、前記工程[1A]において調製する粘着層形成材料に含まれるエラストマーの含有量、前記工程[3A]において形成する積層体における粘着層の平均厚さを、それぞれ、表1に示すように変更したこと以外は、前記実施例1Aと同様にして、実施例2A〜実施例7A、比較例1A〜比較例3Aの保護フィルムを得た。
(Examples 2A to 7A, Comparative Examples 1A to 3A)
The type of elastomer used in place of SEBS having a styrene content of 12 wt% in the step [1A], the content of the elastomer contained in the adhesive layer forming material prepared in the step [1A], and the formation in the step [3A] Examples 2A to 7A and Comparative Examples 1A to 3A in the same manner as in Example 1A, except that the average thickness of the pressure-sensitive adhesive layer in the laminated body was changed as shown in Table 1. Was obtained.

1−3.評価
各実施例の保護フィルムを、以下の方法で評価した。
1-3. Evaluation The protective film of each example was evaluated by the following method.

<1>熱曲げ前の密着性評価
まず、各実施例および各比較例の保護フィルムについて、それぞれ、偏光子を2枚のポリカーボネート基板(ポリカーボネート層)で挾持(被覆)した構成をなす樹脂基板(住友ベークライト社製、「P1352」)を用意した。各保護フィルムを、各樹脂基板の両面に、荷重0.5kg/cmの条件でロールを用いて圧着することで、保護フィルムを貼付することで積層体を得た。
<1> Evaluation of Adhesion Before Thermal Bending First, with respect to the protective films of Examples and Comparative Examples, a resin substrate having a configuration in which a polarizer was sandwiched (covered) by two polycarbonate substrates (polycarbonate layers) was used. "P1352" manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) was prepared. Each protective film was pressure-bonded to both surfaces of each resin substrate using a roll under a load of 0.5 kg / cm 2 , and the protective film was attached to obtain a laminate.

次いで、JIS C−6481:1996に準拠してポリカーボネート基板と保護フィルムとの間のピール強度を測定した。そして、得られたピール強度を、次の評価基準に基づいて、評価した。   Next, the peel strength between the polycarbonate substrate and the protective film was measured according to JIS C-6481: 1996. Then, the obtained peel strength was evaluated based on the following evaluation criteria.

A:ピール強度が、0.10N/25mm以上1.5N/25mm以下である。
B:ピール強度が、0.05N/25mm以上0.10N/mm未満、または、1.5N/25mm超3.0N/25mm以下である。
C:ピール強度が、0.05N/25mm未満、または、3.0N/25mm超である。
A: The peel strength is 0.10 N / 25 mm or more and 1.5 N / 25 mm or less.
B: The peel strength is 0.05 N / 25 mm or more and less than 0.10 N / mm, or 1.5 N / 25 mm or more and 3.0 N / 25 mm or less.
C: The peel strength is less than 0.05 N / 25 mm or more than 3.0 N / 25 mm.

<2>熱曲げ後の糊残り評価
まず、各実施例および各比較例の保護フィルムについて、それぞれ、偏光子を2枚のポリカーボネート基板(ポリカーボネート層)で挾持した構成をなす樹脂基板(住友ベークライト社製、「P1352」)を用意した。各保護フィルムを、各樹脂基板の両面に、荷重0.5kg/cmの条件でロールを用いて圧着することで、保護フィルムを貼付することで積層体を得た。
<2> Evaluation of adhesive residue after thermal bending First, a resin substrate (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) having a configuration in which a polarizer was sandwiched between two polycarbonate substrates (polycarbonate layers) was used for each of the protective films of Examples and Comparative Examples. , “P1352”). Each protective film was pressure-bonded to both surfaces of each resin substrate using a roll under a load of 0.5 kg / cm 2 , and the protective film was attached to obtain a laminate.

次いで、得られた積層体を、温度150℃の加熱温度で加熱しつつ、積層体を真空成形により熱曲げした。熱曲げした積層体について、ポリカーボネート基板から保護フィルムを剥離させ、その後、ポリカーボネート基板における糊残りの有無を観察した。そして、糊残りの有無の観察結果を、次の評価基準に基づいて、評価した。   Next, while heating the obtained laminate at a heating temperature of 150 ° C., the laminate was thermally bent by vacuum forming. About the laminated | stacked body which carried out the heat bending, the protective film was peeled from the polycarbonate substrate, and after that, the presence or absence of the adhesive residue in the polycarbonate substrate was observed. Then, the observation result of the presence or absence of the adhesive residue was evaluated based on the following evaluation criteria.

A:糊残りが全く認められない。
B:若干の糊残りが認められる。
C:明らかな糊残りが認められる。
A: No adhesive residue is observed.
B: Some adhesive residue is observed.
C: Clear adhesive residue is observed.

以上のようにして得られた各実施例および各比較例の保護フィルムにおける評価結果を、それぞれ、下記の表1に示す。   The evaluation results of the protective films of the respective examples and comparative examples obtained as described above are shown in Table 1 below.

Figure 2018199172
Figure 2018199172

表1に示したように、各実施例では、保護フィルムの粘着層において、エラストマーとして、スチレン含有量が25wt%以下のスチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体を用いた。このため、各実施例における保護フィルムでは、熱曲げした後のポリカーボネート基板と保護フィルムとの積層体において、ポリカーボネート基板から保護フィルムを、ポリカーボネート基板に糊残りを認めることなく、容易に剥離し得ることが明らかとなった。   As shown in Table 1, in each example, a styrene-olefin-styrene block copolymer having a styrene content of 25% by weight or less was used as an elastomer in the adhesive layer of the protective film. For this reason, in the protective film in each example, in the laminate of the polycarbonate substrate and the protective film after the heat bending, the protective film can be easily peeled from the polycarbonate substrate without any adhesive residue on the polycarbonate substrate. Became clear.

これに対して、各比較例における保護フィルムでは、粘着層に含まれるエラストマーとして、スチレンを含有しないエラストマー、または、スチレン含有量が25wt%超のスチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体を用いた。このため、各比較例における保護フィルムでは、ポリカーボネート基板から保護フィルムを剥離した際に、ポリカーボネート基板に明らかな糊残りが認められる結果を示した。   On the other hand, in the protective film in each comparative example, an elastomer containing no styrene or a styrene-olefin-styrene block copolymer having a styrene content of more than 25 wt% was used as the elastomer contained in the adhesive layer. For this reason, in the protective film in each comparative example, when the protective film was peeled off from the polycarbonate substrate, a result was observed in which a clear adhesive residue was recognized on the polycarbonate substrate.

2.粘着層に含まれるポリオレフィンの融点の検討
2−1.原材料の準備
まず、各実施例の保護フィルムの作製に使用した原料は以下の通りである。
2. Examination of melting point of polyolefin contained in adhesive layer 2-1. Preparation of Raw Materials First, the raw materials used for producing the protective film of each example are as follows.

<ポリオレフィン>
融点が158℃のホモポリプロピレン(住友化学社製、「ノーブレンFS2011DG2」、MFR=2.5g/10min)
融点が158℃のホモポリプロピレン(日本ポリプロ社製、「ノバッテックEA9」、MFR=0.5g/10min)
融点が158℃のホモポリプロピレン(住友化学社製、「ノーブレンWF836DG3」、MFR=7.0g/10min)
融点が155℃のブロックポリプロピレン(EPR相(ゴム相)を備えるプロピレン−エチレンブロック共重合体)(日本ポリプロ社製、「ノバッテックEC9GD」、MFR=0.5g/10min)
融点が145℃のランダムポリプロピレン(日本ポリプロ社製、「ノバッテックEG8B」、MFR=0.8g/10min)
融点が119℃の直鎖状低密度ポリエチレン(宇部丸善ポリエチレン社製、「ユリメット1540F」、MFR=4.0g/10min)
融点が132℃のランダムポリプロピレン(住友化学社製、「ノーブレンS131」、MFR=1.5g/10min)
融点が121℃の直鎖状低密度ポリエチレン(宇部丸善ポリエチレン社製、「ユリメット2525F」、MFR=2.5g/10min)
融点が98℃の直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製、「エボリューSP0540」、MFR=3.8g/10min)
<Polyolefin>
Homopolypropylene having a melting point of 158 ° C. (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., “Nobrene FS2011DG2”, MFR = 2.5 g / 10 min)
Homopolypropylene having a melting point of 158 ° C. (manufactured by Nippon Polypropylene, “Novatec EA9”, MFR = 0.5 g / 10 min)
Homopolypropylene having a melting point of 158 ° C. (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., “Nobrene WF836DG3”, MFR = 7.0 g / 10 min)
Block polypropylene having a melting point of 155 ° C. (a propylene-ethylene block copolymer having an EPR phase (rubber phase)) (manufactured by Nippon Polypropylene, “Novatec EC9GD”, MFR = 0.5 g / 10 min)
A random polypropylene having a melting point of 145 ° C. (“Novatech EG8B”, manufactured by Nippon Polypropylene Co., Ltd., MFR = 0.8 g / 10 min)
Linear low density polyethylene having a melting point of 119 ° C. (Ube Maruzen Polyethylene Co., Ltd., “Ulimet 1540F”, MFR = 4.0 g / 10 min)
Random polypropylene having a melting point of 132 ° C. (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., “Nobrene S131”, MFR = 1.5 g / 10 min)
Linear low density polyethylene having a melting point of 121 ° C. (Ube Maruzen Polyethylene Co., Ltd., “Ulimet 2525F”, MFR = 2.5 g / 10 min)
Linear low-density polyethylene having a melting point of 98 ° C. (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., “Evolu SP0540”, MFR = 3.8 g / 10 min)

<エラストマー>
スチレン含有量が20wt%のスチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)(旭化成社製、「タフテックH1052」)
<Elastomer>
Styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS) having a styrene content of 20% by weight ("TUFTEC H1052" manufactured by Asahi Kasei Corporation)

2−2.保護フィルムの製造
(実施例1B)
[1B]まず、粘着層を形成するにあたり、スチレン含有量が20wt%のSEBSと融点が158℃のホモポリプロピレン(ノーブレンFS2011DG2)とを、SEBSの含有量が50wt%となるように混練することで粘着層形成材料(樹脂組成物)を調製した。
2-2. Production of protective film (Example 1B)
[1B] First, in forming the adhesive layer, SEBS having a styrene content of 20 wt% and homopolypropylene (Nobrene FS2011DG2) having a melting point of 158 ° C. are kneaded so that the SEBS content becomes 50 wt%. An adhesive layer forming material (resin composition) was prepared.

[2B]次に、調製した粘着層形成材料と、第2の層(中間層)形成材料として融点が119℃の直鎖状低密度ポリエチレンと、第1の層(最外層)形成材料として融点が158℃のホモポリプロピレン(ノバッテックEA9)とを、それぞれ、3つの押し出し機に収納した。   [2B] Next, the prepared adhesive layer forming material, a linear low density polyethylene having a melting point of 119 ° C. as a second layer (intermediate layer) forming material, and a melting point as a first layer (outermost layer) forming material And 158 ° C. homopolypropylene (Novatec EA9) were stored in three extruders, respectively.

[3B]次に、3つの押し出し機から、これらの形成材料を溶融状態として、押し出した。これにより、共押し出しTダイから、これらの形成材料が層状に積層された溶融状態の積層体が得られた。その後、この積層体を冷却することで、実施例1Bの保護フィルムを得た。   [3B] Next, these extruders were extruded in a molten state from three extruders. As a result, a laminated body in a molten state in which these forming materials were laminated in layers was obtained from the co-extruded T-die. Thereafter, the laminate was cooled to obtain a protective film of Example 1B.

(実施例2B〜実施例13B)
前記工程[1B]において158℃のホモポリプロピレン(ノーブレンFS2011DG2)に代えて用いたポリオレフィンの種類、前記工程[1B]において調製する粘着層形成材料に含まれるエラストマーの含有量、前記工程[3B]において形成する積層体における粘着層の平均厚さを、それぞれ、表2に示すように変更したこと以外は、前記実施例1Bと同様にして、実施例2B〜実施例13Bの保護フィルムを得た。
(Examples 2B to 13B)
The type of polyolefin used in place of the homopolypropylene (Nobrene FS2011DG2) at 158 ° C. in the step [1B], the content of the elastomer contained in the adhesive layer forming material prepared in the step [1B], and the content of the elastomer in the step [3B] The protective films of Examples 2B to 13B were obtained in the same manner as in Example 1B, except that the average thickness of the pressure-sensitive adhesive layer in the formed laminate was changed as shown in Table 2.

2−3.評価
各実施例の保護フィルムを、以下の方法で評価した。
2-3. Evaluation The protective film of each example was evaluated by the following method.

<1>熱履歴を経る前の密着強度評価
まず、各実施例の保護フィルムについて、それぞれ、偏光子を2枚のポリカーボネート基板(ポリカーボネート層)で挾持した構成をなす樹脂基板(住友ベークライト社製、「P1352」)を用意した。各保護フィルムを、各樹脂基板の両面に、荷重0.5kg/cmの条件でロールを用いて圧着することで、保護フィルムを貼付することで積層体を得た。
<1> Evaluation of Adhesion Strength Before Heat History First, for the protective film of each example, a resin substrate (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) having a configuration in which a polarizer was sandwiched between two polycarbonate substrates (polycarbonate layers) was used. “P1352”) was prepared. Each protective film was pressure-bonded to both surfaces of each resin substrate using a roll under a load of 0.5 kg / cm 2 , and the protective film was attached to obtain a laminate.

次いで、得られた積層体を、温度50℃、時間12hrの条件で保管した後に、JIS C−6481:1996に準拠してポリカーボネート基板と保護フィルムとの間のピール強度Tを測定した。Then, the resulting laminate, the temperature 50 ° C., after storage under conditions of time 12hr, JIS C-6481: the peel strength was measured T 1 of the between the compliant polycarbonate substrate and the protective film 1996.

<2>熱履歴を経た後の密着強度評価
まず、各実施例の保護フィルムについて、それぞれ、偏光子を2枚のポリカーボネート基板(ポリカーボネート層)で挾持した構成をなす樹脂基板(住友ベークライト社製、「P1352」)を用意した。各保護フィルムを、各樹脂基板の両面に、荷重0.5kg/cmの条件でロールを用いて圧着することで、保護フィルムを貼付することで積層体を得た。
<2> Evaluation of adhesion strength after heat history First, for the protective films of the examples, a resin substrate (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) having a configuration in which a polarizer was sandwiched between two polycarbonate substrates (polycarbonate layers) was used. “P1352”) was prepared. Each protective film was pressure-bonded to both surfaces of each resin substrate using a roll under a load of 0.5 kg / cm 2 , and the protective film was attached to obtain a laminate.

次いで、得られた積層体を、温度150℃、時間5minの条件で保管した後に、JIS C−6481:1996に準拠してポリカーボネート基板と保護フィルムとの間のピール強度Tを測定した。Then, the resulting laminate, temperature 0.99 ° C., after storage under conditions of time 5min, JIS C-6481: the peel strength was measured T 2 of the between the compliant polycarbonate substrate and the protective film 1996.

以上のようにして得られた各実施例の保護フィルムにおける評価結果を、それぞれ、下記の表2に示す。   The evaluation results of the protective films of the examples obtained as described above are shown in Table 2 below.

Figure 2018199172
Figure 2018199172

表2に示したように、各実施例における保護フィルムでは、ポリオレフィンが粘着層に含まれることで、ピール強度T、および、ピール強度Tともに0.05N/25mm以上3.0N/25mm以下の範囲内に設定された。このため、各実施例における保護フィルムを用いた場合、前記工程[2]および前記工程[3]における樹脂基板の打ち抜きおよび熱曲げを、樹脂基板から保護フィルムを剥離させることなく実施することができ、かつ、前記工程[3]における熱曲げによる熱履歴を保護フィルムが経たとしても、前記工程[4]における樹脂基板からの保護フィルムの剥離を実施することができる程度に、保護フィルムが樹脂基板に貼付されていることが判った。As shown in Table 2, in the protective film in each example, since the polyolefin is contained in the adhesive layer, the peel strength T 1 and the peel strength T 2 are both 0.05 N / 25 mm or more and 3.0 N / 25 mm or less. Was set within the range. For this reason, when the protective film in each example is used, the punching and thermal bending of the resin substrate in the step [2] and the step [3] can be performed without peeling the protective film from the resin substrate. And, even if the protective film has passed through the heat history due to the thermal bending in the step [3], the protective film is formed so that the protective film can be separated from the resin substrate in the step [4]. It was found to be attached to.

本発明によれば、樹脂基板の熱曲げ加工時に剥離させることなく樹脂基板に貼付させることができるとともに、熱曲げ加工の後に樹脂基板から保護フィルムを剥離させる際に、粘着層に由来する糊残りが樹脂基板に生じるのを的確に抑制または防止し得る保護フィルムを提供することができる。したがって、本発明は、産業上の利用可能性を有する。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to stick to a resin substrate without peeling at the time of the heat bending of a resin substrate, when peeling a protective film from a resin substrate after a heat bending, the adhesive residue derived from an adhesive layer A protective film capable of accurately suppressing or preventing the occurrence of on the resin substrate. Therefore, the present invention has industrial applicability.

10 保護フィルム
11 粘着層
15 基材層
16 第1の層
17 第2の層
21 樹脂基板
23 偏光子
24 被覆層
30 ポリカーボネート層
100 積層体
200 サングラス用レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Protective film 11 Adhesive layer 15 Base layer 16 1st layer 17 2nd layer 21 Resin substrate 23 Polarizer 24 Coating layer 30 Polycarbonate layer 100 Laminated body 200 Lens for sunglasses

Claims (8)

樹脂基板に対して、加熱下で熱曲げ加工を施す際に、前記樹脂基板に貼付して用いられる保護フィルムであって、
基材層と、該基材層と前記樹脂基板との間に位置し、前記樹脂基板に粘着する粘着層とを有し、
前記粘着層は、ポリオレフィンと、スチレンの含有量が25wt%以下のスチレンブロックエラストマーとを含有することを特徴とする保護フィルム。
For a resin substrate, when subjected to thermal bending under heating, a protective film used to be attached to the resin substrate,
A base layer, and an adhesive layer that is located between the base layer and the resin substrate and adheres to the resin substrate,
A protective film, wherein the adhesive layer contains a polyolefin and a styrene block elastomer having a styrene content of 25% by weight or less.
前記スチレンブロックエラストマーは、スチレン−オレフィン−スチレンブロック共重合体を含む請求項1に記載の保護フィルム。   The protective film according to claim 1, wherein the styrene block elastomer includes a styrene-olefin-styrene block copolymer. 前記ポリオレフィンは、その融点が150℃以上である請求項1または2に記載の保護フィルム。   The protective film according to claim 1, wherein the polyolefin has a melting point of 150 ° C. or higher. 前記ポリオレフィンは、そのJIS K7210に準拠して加熱温度230℃、荷重2.16kgfの条件下において測定されるメルトフローレートが0.5g/10min以上10.0g/10min以下である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の保護フィルム。   The melt flow rate of the polyolefin measured at a heating temperature of 230 ° C. and a load of 2.16 kgf according to JIS K7210 is from 0.5 g / 10 min to 10.0 g / 10 min. The protective film according to any one of the above. 前記ポリオレフィンは、ポリプロピレンのホモポリマーを含む請求項1ないし4のいずれか1項に記載の保護フィルム。   The protective film according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyolefin includes a homopolymer of polypropylene. 前記樹脂基板の両面に貼付される請求項1ないし5のいずれか1項に記載の保護フィルム。   The protective film according to any one of claims 1 to 5, which is attached to both surfaces of the resin substrate. 前記樹脂基板の両面、一方の面または他方の面に、ポリカーボネート樹脂層、ポリアミド樹脂層およびセルロース樹脂層のうちの少なくとも1層を有する単層体または積層体で構成される被覆層が設けられる請求項1ないし6のいずれか1項に記載の保護フィルム。   A coating layer comprising a single layer or a laminate having at least one of a polycarbonate resin layer, a polyamide resin layer and a cellulose resin layer is provided on both sides, one side or the other side of the resin substrate. Item 7. The protective film according to any one of Items 1 to 6. 前記樹脂基板は、プレス成形または真空成形により、前記熱曲げ加工される請求項1ないし7のいずれか1項に記載の保護フィルム。   The protective film according to any one of claims 1 to 7, wherein the resin substrate is subjected to the hot bending by press molding or vacuum molding.
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