JPWO2018181976A1 - Ophthalmic laser treatment device - Google Patents
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- A61F9/007—Methods or devices for eye surgery
- A61F9/008—Methods or devices for eye surgery using laser
Abstract
患者眼に治療用のレーザ光を照射する眼科用レーザ治療装置は、治療レーザ光を患者眼に照射するレーザ照射光学系と、治療レーザ光のスポットを患者眼の組織上で2次元的に走査する走査手段と、所定パターンのスポットを形成するパターン照射手段と、通常出力モードと低出力モードとを選択するモード選択手段と、制御手段を備える。低出力モードでは、パターン選択手段と、基準となる照射エネルギーを設定するための設定手段と、基準となる照射エネルギーに対して低下させる補正手段とを術者が操作可能である。制御手段は低出力モードが設定されている場合、基準となる照射エネルギーを補正手段で補正するまではパターン選択を受け付けず、補正後はパターン選択を受付可能とする。An ophthalmic laser treatment device that irradiates a patient's eye with a therapeutic laser beam is a laser irradiation optical system that irradiates the patient's eye with the therapeutic laser beam, and a two-dimensional scan of the spot of the therapeutic laser beam on the tissue of the patient's eye. Scanning means, a pattern irradiation means for forming a spot of a predetermined pattern, a mode selection means for selecting a normal output mode or a low output mode, and a control means. In the low output mode, the operator can operate the pattern selection unit, the setting unit for setting the reference irradiation energy, and the correction unit for reducing the reference irradiation energy. When the low output mode is set, the control unit does not accept the pattern selection until the correction of the reference irradiation energy is performed by the correction unit, and can accept the pattern selection after the correction.
Description
本開示は、患者眼に治療用のレーザ光を照射する眼科用レーザ治療装置に関する。 The present disclosure relates to an ophthalmic laser treatment device that irradiates a patient's eye with treatment laser light.
特許文献1には、患者眼の組織上で治療レーザ光を走査して、治療部位にパターン照射を行う眼科用レーザ治療装置が開示されている。特許文献1の眼科用レーザ治療装置では、照射パターンのスポットを複数グループに分割し、治療レーザ光の照射領域を移動させつつ一連の治療レーザ光を照射する。
ところで、特許文献1のようにパターン照射を行う場合、治療レーザ光の照射エネルギーを誤って設定すると、眼組織の複数箇所に意図せぬエネルギーを照射してしまう恐れがあった。また、特許文献1のようにパターン照射領域を複数領域に分割する場合、当初予定していた領域とは異なる領域に治療レーザ光を照射してしまう恐れがあった。例えば、一連のパターン照射中に患者眼が動いてしまう恐れがあった。また、例えば、治療レーザ光の照射エネルギーが少なく、照射痕を観察し難い場合、眼組織への照準を行い難い恐れがあった。
By the way, when performing pattern irradiation as in
本開示は、上記従来技術の欠点の少なくとも一つを解決する眼科用レーザ治療装置を提供することを技術課題とする。 An object of the present disclosure is to provide an ophthalmic laser treatment apparatus that solves at least one of the disadvantages of the related art.
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
(1)患者眼に治療用のレーザ光を照射する眼科用レーザ治療装置は、治療レーザ光源から出射される治療レーザ光を患者眼に照射するレーザ照射光学系と、前記レーザ照射光学系に設けられ、前記治療レーザ光のスポットを患者眼の組織上で2次元的に走査する走査手段と、前記レーザ照射光学系と前記走査手段を用いて、所定パターンのスポットを形成するパターン照射手段と、前記治療レーザ光の照射により患者眼の組織を変性するための通常出力モードと、患者眼の組織を変性させずに患者眼の組織を光学的に刺激するために前記通常出力モードによる前記治療レーザ光の出力よりも相対的に低出力とする低出力モードとを選択するためのモード選択手段と、眼科用レーザ治療装置を制御する制御手段と、を備え、前記低出力モードでは、複数のパターンから前記所定パターンを選択するためのパターン選択手段と、基準となる前記治療レーザ光の照射エネルギーを設定するための設定手段と、患者眼の組織を変性させることなく患者眼の組織を光学的に刺激するため、前記設定手段で設定された基準となる照射エネルギーに対して所定量だけ出力を低下させる補正をするための補正手段と、を術者が操作可能であり、前記制御手段は前記低出力モードが設定されている場合には、前記設定手段で設定した基準となる照射エネルギーを前記補正手段で補正するまでは前記パターン選択手段によるパターン選択を受け付けず、前記補正手段による補正後において前記パターン選択手段によるパターン選択を受付可能とする、ことを特徴とする。
(2)患者眼に治療用のレーザ光を照射する眼科用レーザ治療装置は、治療レーザ光を患者眼の組織に照射するためのレーザ照射光学系と、前記治療レーザ光の照射予定領域を示す第1パターンと、前記第1パターンとは異なる形状であり、前記第1パターンを治療対象部位に位置合わせするための第2パターンと、前記第1パターンと前記第2パターンを記憶する記憶手段と、照準光を前記患者眼の組織上で走査して、前記第1パターンに基づく第1スポットと前記第2パターンの基づく第2スポットとを前記患者眼の組織上に形成するための照準光学系と、を備えたことを特徴とする。In order to solve the above problems, the present invention is characterized by having the following configuration.
(1) An ophthalmic laser treatment apparatus for irradiating a treatment laser beam to a patient's eye includes a laser irradiation optical system for irradiating a treatment laser beam emitted from a treatment laser light source to the patient's eye, and the laser irradiation optical system. Scanning means for scanning the spot of the treatment laser light two-dimensionally on the tissue of the patient's eye, pattern irradiation means for forming a spot of a predetermined pattern using the laser irradiation optical system and the scanning means, A normal output mode for modifying the tissue of the patient's eye by irradiating the treatment laser light, and the treatment laser in the normal output mode for optically stimulating the tissue of the patient's eye without modifying the tissue of the patient's eye A mode selection unit for selecting a low output mode to output relatively lower than the light output, and a control unit for controlling an ophthalmic laser treatment apparatus, the low output mode Is a pattern selecting means for selecting the predetermined pattern from a plurality of patterns, setting means for setting the irradiation energy of the treatment laser light as a reference, and a patient eye without denaturing the tissue of the patient eye In order to optically stimulate the tissue, the correction means for performing a correction to reduce the output by a predetermined amount with respect to the irradiation energy that is the reference set by the setting means, and the operator can operate, When the low output mode is set, the control unit does not accept the pattern selection by the pattern selection unit until the irradiation energy serving as the reference set by the setting unit is corrected by the correction unit. After the correction by (1), the pattern selection by the pattern selecting means can be accepted.
(2) An ophthalmic laser treatment apparatus for irradiating a treatment laser beam to a patient's eye shows a laser irradiation optical system for irradiating the treatment laser beam to a tissue of the patient's eye, and a region to be irradiated with the treatment laser beam. A first pattern, a shape different from the first pattern, a second pattern for aligning the first pattern with a treatment target site, and storage means for storing the first pattern and the second pattern. An aiming optical system for scanning aiming light on the tissue of the patient's eye to form a first spot based on the first pattern and a second spot based on the second pattern on the tissue of the patient's eye And characterized in that:
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、患者眼Eに治療レーザ光を照射して、患者眼Eの治療等を行なえる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The ophthalmic
図1と図2を用いて説明する。本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、デリバリー部2、レーザ光源ユニット10、及び光ファイバー20を備える。デリバリー部2はレーザ照射光学系40(図2参照)を含む。レーザ光源ユニット10は治療レーザ光源11を含む。本実施形態では、デリバリー部2とレーザ照射光学系40とが光ファイバー20等で接続されている。レーザ光源ユニット10の筐体内には制御部70が収容されている。レーザ光源ユニット10には、操作ユニット80、フットスイッチ81等が接続される。
This will be described with reference to FIGS. The ophthalmic
本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は更に、細隙灯顕微鏡部3(スリットランプ)とテーブル部4を備える。細隙灯顕微鏡部3は、観察光学系30と照明光学系60を含む(図2参照)。デリバリー部2は細隙灯顕微鏡部3が備える本体部5に接続(合体)される。テーブル部4は、デリバリー部2が接続された本体部5を載置する。なお、眼科用レーザ治療装置1の態様は本開示に限るものでは無い。例えば、デリバリー部2とレーザ光源ユニット10が一体化されていてもよい。また、例えば、デリバリー部2と細隙灯顕微鏡部3が一体化されていてもよい。
The ophthalmic
本実施形態の細隙灯顕微鏡部3は、本体部5とヘッドレスト部22を備える。本体部5は、顕微鏡部7、照明部6、ジョイスティック部9、及び変位機構8を備える。顕微鏡部7には観察光学系30(図2参照)が収容される。照明部6には照明光学系60(図2参照)が収容される。変位手段である変位機構8は、テーブル部4上に載置された本体部5(レーザ照射光学系40等)を、上下方向(図1ではY方向)、左右方向(図1ではX方向)、又は前後方向(図1ではZ方向)に移動できる。変位機構8は更に、上下方向に伸びる軸を回動中心として、観察光学系30を水平方向に回動できる。術者はジョイスティック部9を操作して、本体部5を上下方向、左右方向、又は前後方向に移動できる。
The slit lamp microscope section 3 of the present embodiment includes a
<レーザ光源ユニット>
本実施形態のレーザ光源ユニット10は、治療レーザ光を出射する治療レーザ光源11、可視の照準レーザ光(照準光)を出射する照準光源12、治療レーザ光と照準光を合波するビームスプリッタ13(コンバイナ)、及び集光レンズ14を備える。治療レーザ光源11は、治療目的に応じた波長のレーザ光を出射できる。本実施形態の治療レーザ光源11は、レーザ光のエネルギーを眼底Erが吸収するように、可視域の波長、例えば、532nm(緑色)、577nm(黄色)、647nm(黄色)等のレーザ光を出射できる。なお、本実施形態では、制御部70が治療レーザ光源11を制御することで、3種類(緑色/黄色/赤色)の治療レーザ光のいずれかを、治療レーザ光源11から選択的に出射できる。<Laser light source unit>
The laser
照準光源12は、治療レーザ光の照射予定位置を術者に認識させるための照準光を出射する。本実施形態では、照準光を術者が肉眼で視認できるように、照準光の波長は可視域とされている。治療レーザ光と異なる波長を、照準光として用いてもよい。例えば、照準光の波長として、波長670nm(赤色)を用いてもよい。これにより、治療レーザ光を減衰させる術者保護フィルタを観察光学系30に設けても、治療レーザ光の照射予定位置を術者が確認し易い。照準光源12として、例えば、赤色のレーザ光を出射するレーザダイオード(LD)を用いてもよい。
The aiming
ビームスプリッタ13は、治療レーザ光の大部分を反射し、照準光の一部を透過する。ビームスプリッタ13で合波されたレーザ光は集光レンズ14で集光され、光ファイバー20の入射端面に入射する。治療レーザ光源11とビームスプリッタ13の間には、治療レーザ光を遮断するためのシャッター15が設けられている。照準光又は治療レーザ光が導光される光路には、シャッター16が設けられている。本実施形態のシャッター16は、異常時に閉じられる安全シャッターである。
The
<レーザ照射光学系>
次いでレーザ照射光学系40を説明する。本実施形態のレーザ照射光学系40(照射手段)は、治療レーザ光源11から出射される治療レーザ光を患者眼Eに照射するために用いられる。なお本実施形態では、治療レーザ光と照準光とでレーザ照射光学系40を共用する。なお本実施形態のレーザ照射光学系40は、所定のパターンに基づく照準光のスポットを、患者眼Eの組織上に形成するための照準光学系とも言える。以降では治療レーザ光に対して説明するが、照準光も同様である。光ファイバー20の出射端面から出射される治療レーザ光は、レンズ41、ズームレンズ42、ミラー43の順で介した後、走査部50(走査手段)、対物レンズ46、反射ミラー49、コンタクトレンズCLを経て眼底Er(治療部位)に照射される。レーザ光のスポットサイズを変更するためのズームレンズ42は、光軸方向に移動可能である。なお、コンタクトレンズCLは術者が把持する。<Laser irradiation optical system>
Next, the laser irradiation
本実施形態の走査部50は、レーザ照射光学系40に設けられる。走査部50は、治療レーザ光のスポット(照射位置)を患者眼Eの眼底Er上で2次元的に走査するために用いられる。なお患者眼Eの眼底Er上とは、換言するなら、患者眼Eの組織上、又は眼組織上である。本実施形態の走査部50は、レーザ光の照射位置(照射方向)を2次元的に移動させる走査光学系である。本実施形態の走査部50はスキャナミラーを備える。本実施形態の走査部50は、ガルバノミラー51(第1ガルバノミラー)とガルバノミラー55(第2ガルバノミラー)を備える。ガルバノミラーをガルバノスキャナと換言してもよい。本実施形態のガルバノミラー51は、レーザ光を反射するミラー52(第1ミラー)とアクチュエータ53を備える。アクチュエータ53は、ミラー52を駆動(回動)する駆動部である。ガルバノミラー55は、ミラー56(第2ミラー)とアクチュエータ57を備える。
The
本実施形態では、レーザ照射光学系40の各光学素子を通った治療レーザ光は、反射ミラー49で反射された後、コンタクトレンズCLを介してターゲット面である眼底Erに照射される。ズームレンズ42は、不図示のレンズカムで保持されている。レンズカムが回転すると、各ズームレンズ42は光軸方向に移動する。ズームレンズ42の位置は、レンズカムに取り付けられたエンコーダ42aで検出できる。本実施形態の制御部70は、各レンズの位置情報(検出信号)をエンコーダ42aから受け取り、治療レーザ光のスポットサイズを取得できる。詳細は後述するが、治療レーザ光のスポットがターゲット面で2次元のパターンとして形成されるように、走査部50は制御部70からの指令信号に基づいて制御される。なお、図示は略すが、本実施形態の反射ミラー49は、術者の操作により、レーザ光の光軸L1を2次元的に傾斜させる機構を備える。
In the present embodiment, the treatment laser light that has passed through each optical element of the laser irradiation
図3を併用して、本実施形態の走査部50の構成を説明する。図3は、本実施形態の走査部50の斜視図である。ミラー52は、反射面をX方向に揺動可能となるようにアクチュエータ53に取り付けられている。一方、ミラー56は、反射面をY方向に揺動可能となるようにアクチュエータ57に取り付けられている。本実施形態では、ミラー52の回動軸はY軸と平行であり、ミラー56の回動軸はX軸と平行である。アクチュエータ53とアクチュエータ57は制御部70に接続されており、個別に駆動される。アクチュエータ53とアクチュエータ57には、モータ及びポテンショメータが内蔵されており(共に図示せず)、ミラー52とミラー56の各々は、制御部70の指令信号に基づき独立して回動(揺動)される。このとき、アクチュエータ53とアクチュエータ57のポテンショメータにより、ミラー52又はミラー56がどれだけ回動したかの位置情報が制御部70に送られ、制御部70は、指令信号に対するミラー52又はミラー56の回動位置を把握できる。つまり、本実施形態の制御部70は、ポテンショメータの出力信号を用いて、各スポットの位置出しを行う。
The configuration of the
本実施形態の制御部70は、走査部50の駆動開始、走査部50の駆動停止、治療レーザ光源11からの治療レーザ光の照射開始、治療レーザ光源11からの治療レーザ光の照射停止、の順を繰り返して、眼底Er上に所定パターンのスポットS(一例として図5参照)を形成できる。つまり、本実施形態の制御部70は、走査部50の駆動と治療レーザ光の照射とを制御して、治療レーザ光のパターン照射を行うことが可能である。換言するなら、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、レーザ照射光学系40と走査部50を用いて、所定パターンのスポットを形成するパターン照射手段を有している。本実施形態では、スポットSを構成する各スポットは分離している。しかし、各スポット同士が連結されていてもよい。前述したように、本実施形態のパターン照射手段は、照準光に対しても、所定パターンのスポットSを形成できる。術者は、観察光学系30と照準光を用いて、治療レーザ光の照射予定部位を把握できる。
The
<観察光学系>
本実施形態の観察光学系30は、患者眼Eを観察するために用いられる。つまり本実施形態の観察光学系30は、患者眼Eを観察するための観察手段である。本実施形態の観察光学系30は、対物レンズ、変倍光学系、保護フィルタ、正立プリズム群、視野絞り、接眼レンズ等を備える。術者は観察光学系30の接眼レンズを覗いて、眼底Er、照準光のスポット(換言するなら照準光が眼底Erで反射した反射光)、及び治療レーザ光が照射された眼底Erの部位(照射済みスポット)を確認できる。図4で例示する観察像(術者が視認する眼底像)には、患者眼Eの眼底Er、患者眼Eの黄斑M、患者眼Eの視神経乳頭D、患者眼Eの血管Vが含まれている。なお、観察光学系30に受光素子を配置して、患者眼Eの観察像を電子的に取得してもよい。<Observation optical system>
The observation
<照明光学系>
本実施形態の照明光学系60は、患者眼Eに照明光を投光するために用いられる。本実施形態の照明光学系60は、光源61、コンデンサーレンズ62、スリット63、投影レンズ64等を有する。照明光学系60は、患者眼Eにスリット光を投光できる。術者は、照明光学系60により照明された眼底Erを、観察光学系30を用いて観察できる。<Illumination optical system>
The illumination
<制御部>
図2に戻る。本実施形態の制御部70は、CPU71(プロセッサ)、ROM72、RAM73、及び不揮発性メモリ74等を備える。CPU71は、眼科用レーザ治療装置1における各部の制御を司る。ROM72には、各種プログラム、各種パターン(パターンPS1,パターンPP等)、初期値等が記憶されている。RAM73は、各種情報を一時的に記憶できる。不揮発性メモリ74は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、制御部70に着脱可能に装着されるUSBメモリ、フラッシュROM等を、不揮発性メモリ74として使用してもよい。本実施形態の制御部70は、眼科用レーザ治療装置1を制御する制御手段である。<Control unit>
Return to FIG. The
本実施形態の制御部70には、治療レーザ光源11、照準光源12、エンコーダ42a、アクチュエータ53、アクチュエータ57、操作ユニット80、及びフットスイッチ81が接続されている。本実施形態のフットスイッチ81は、レーザ光を照射するためのトリガ入力手段である。本実施形態の操作ユニット80は、治療レーザ光の照射条件に係わる各種パラメータを表示するための表示手段としての機能と、治療レーザ光の照射条件に係わる各種パラメータを設定するための設定手段としての機能とを備える。本実施形態の操作ユニット80は、タッチパネル式のモニタ82を備える。タッチパネルが操作(タッチ)されることで、治療レーザ光の照射条件に係わる各種パラメータを設定可能である。なお、本実施形態の制御部70は、モニタ82の表示内容を制御する表示制御手段としての機能を有する。
The treatment
本実施形態では、フットスイッチ81が術者により踏まれると、制御部70は各種パラメータの設定に基づき、治療レーザ光のパターン(1又は複数のスポット)をターゲット面に形成するように治療レーザ光を照射する。つまり、本実施形態の制御部70は、患者眼Eへの治療レーザ光の照射を制御する照射制御手段である。本実施形態の制御部70は、治療レーザ光源11を制御すると共に、設定されたパターンに基づいて走査部50を制御し、ターゲット面である眼底Er上に治療レーザ光のパターンを形成する。なお、本実施形態の制御部70は、フットスイッチ81が踏まれる前は、治療レーザ光用のパターンを用いて、ターゲット面上に照準光のパターン(1又は複数のスポット)を形成する。
In the present embodiment, when the
図5は、スポット位置のパターンの一例を示す図である。図5で示すパターンでは、スポットS(図5では9つのスポットの集合体)が、3×3の正方行列状に並べられている。ここで、スポットSとは、照準光、治療レーザ光のいずれも指す。このようなパターンに基づいて、治療レーザ光及び照準光は走査部50により走査され、ターゲット面にパターンが形成されることとなる。スタート位置であるスポット位置SP1からスポットSの照射が開始され、終了位置であるスポット位置SP9へ向かってスポットSが2次元的に走査される。つまり、スポット位置SP1、スポット位置SP2、・・・、スポット位置SP8、スポット位置SP9の順で走査される。本実施形態では、図中の矢印(S字形状)が示すように、スポットSはできるだけスポットS間の移動を効率的に行うように、隣接するスポットSへと順番に走査される。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a pattern of a spot position. In the pattern shown in FIG. 5, the spots S (in FIG. 5, an aggregate of nine spots) are arranged in a 3 × 3 square matrix. Here, the spot S indicates both the aiming light and the treatment laser light. Based on such a pattern, the treatment laser light and the aiming light are scanned by the
<使用方法>
本実施形態の眼科用レーザ治療装置1の使用方法を説明する。なお、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、通常出力モードと低出力モードを備える。本実施形態の通常出力モードは、患者眼Eの組織を変性するために用いられる。換言するなら、本実施形態の通常出力モードは、例えば、患者眼Eのタンパク質を変性するために用いられる。本実施形態の低出力モードは、患者眼Eの組織を変性させずに、患者眼Eの組織を光学的に刺激するために用いられる。つまり本実施形態の低出力モードは、患者眼Eの治療部位を少ない照射エネルギー(治療レーザ光)で治療する際に適している。本実施形態の低出力モードは、例えば、黄斑部又は黄斑部周辺の治療に適している。術者は、眼科用レーザ治療装置1の電源を投入する。電源が投入されると、眼科用レーザ治療装置1の初期化が行われ、眼科用レーザ治療装置1は通常出力モードで待機状態となる。<How to use>
A method of using the ophthalmic
術者は、患者の頭をヘッドレスト部22に固定する。術者は顕微鏡部7の接眼レンズを覗いて観察像を観察しつつ、ジョイスティック部9を操作して、レーザ照射光学系40を患者眼Eに対して位置合わせする。なお、レーザ照射光学系40を患者眼Eに位置合わせする際には、照準光が併用される。術者は、患者眼Eとレーザ照射光学系40の距離を、観察像のピント状態で判断する。以下の説明は、患者眼Eに対するレーザ照射光学系40の位置合わせが完了し、術者は、患者眼Eの眼底Erを観察可能な状態として説明する。
The surgeon fixes the patient's head to the
<通常出力モード>
本実施形態の通常出力モードでは、照射条件画面100(図6参照)がモニタ82に表示される。本実施形態の照射条件画面100には、スポットサイズ表示部140、レーザ選択部110、出力設定部120、照射時間設定部130、パターン設定部150(第1パターン選択手段)、テスト部170、及び低出力モード選択部180が設けられている。術者は、モニタ82上の各項目(前述した出力設定部120等)をタッチして、治療レーザ光の照射条件等を変更できる。<Normal output mode>
In the normal output mode of the present embodiment, the irradiation condition screen 100 (see FIG. 6) is displayed on the
本実施形態では、スポットサイズ表示部140には、エンコーダ42aの出力信号を用いたスポット直径が表示される。レーザ選択部110は、治療レーザ光の種類(緑色/黄色/赤色)を術者が選択するために用いられる。出力設定部120は、治療レーザ光の出力値(単位はワット)を術者が設定するために用いられる。本実施形態では、治療レーザ光(緑)の出力値を50mW〜1500mWの範囲内、治療レーザ光(黄)の出力値を50mW〜1500mWの範囲内、また、治療レーザ光(赤)の出力値を50mW〜800mWの範囲内で設定できる。
In the present embodiment, the spot
照射時間設定部130は、治療レーザ光の照射時間を設定するために用いられる。本実施形態では、治療レーザ光の照射時間を0.01〜1.00秒の範囲内、2.00秒、3.00秒のいずれかに設定できる。パターン設定部150は、治療レーザ光のパターンを設定するために用いられる。本実施形態では、ROM72に予め記憶されている25種類のパターンから、所定のパターンを選択できる。テスト部170は、治療レーザ光をテスト照射する際に用いられる。なお、テスト部170がタッチされると、眼科用レーザ治療装置1の照射モードは、通常照射モードとテスト照射モードとに切り替わる。テスト照射モードではパターン設定部150の操作が無効になり、シングルスポットであるパターンPa(図9A参照)が自動設定される。通常照射モードでは、パターン設定部150の操作が有効になる。本実施形態では25種類のパターンから任意のパターンを選択できる。
The irradiation
本実施形態の低出力モード選択部180(モード選択手段)は、通常出力モードから低出力モードへの切り替えに用いられる。つまり本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、治療レーザ光の照射により患者眼の組織を変性するための通常出力モードと、患者眼の組織を変性させずに患者眼の組織を光学的に刺激するために通常出力モードによる治療レーザ光の出力よりも相対的に低出力とする低出力モードとを選択するためのモード選択手段を備える。低出力モード選択部180がタッチされると、モニタ82の表示は照射条件画面200(図7参照)に切り替わる。照射条件画面100から照射条件画面200への切り替わりに連動して、眼科用レーザ治療装置1の動作モードは、通常出力モードから低出力モードへと切り替わる。なお、本実施形態では、照射条件画面100と照射条件画面200とで、画面全体の色調が異なっている。詳細には、照射条件画面100の背景色(ベースカラー)は無彩色であるのに対して、照射条件画面200の背景色は有彩色とされている。これにより術者は、眼科用レーザ治療装置1の動作モード(本実施形態では通常出力モードと低出力モードのいずれか一方)を把握し易い。なお、本実施形態では、照射条件画面100の背景色は灰色であり、照射条件画面200の背景色は黄色である。照射条件画面200の背景色は、低出力モードで固定設定される治療レーザ光(黄)に対応している。
The low output mode selection unit 180 (mode selection means) of the present embodiment is used for switching from the normal output mode to the low output mode. In other words, the ophthalmic
<低出力モード>
前述したように、本実施形態の低出力モードでは、照射条件画面200(図7参照)がモニタ82に表示される。本実施形態の照射条件画面200には、スポットサイズ表示部240、レーザ選択部210、出力設定部220(出力値設定手段)、照射時間設定部230、パターン設定部250(第2パターン選択手段)、出力比率設定部260(補正手段)、テスト部270、移行部280、及びポジションチェック部290(照準選択手段)が設けられている。なお、本実施形態のポジションチェック部290は、一連のパターン照射中に照射領域が移動するパターン(例えば図11A〜図11C)が設定されている際に表示される。なお移行部280は低出力モード選択部180と同様、通常出力モードと低出力モードとを選択するためのモード選択手段である。なお出力設定部220と照射時間設定部230はいずれも、基準となる治療レーザ光の照射エネルギーを設定するための設定手段である。また出力比率設定部260は、患者眼の組織を変性させることなく患者眼の組織を光学的に刺激するため、設定手段(出力設定部220又は照射時間設定部230)で設定された基準となる照射エネルギーに対して所定量だけ出力を低下させる補正をするための補正手段である。低出力モードでは少なくとも、パターン選択手段と設定手段と補正手段とを術者が操作可能である。<Low output mode>
As described above, in the low output mode of the present embodiment, the irradiation condition screen 200 (see FIG. 7) is displayed on the
本実施形態のスポットサイズ表示部240には、エンコーダ42aの出力信号を用いたスポット直径が表示される。レーザ選択部210は、設定されている治療レーザ光の種類(黄色)を術者に呈示するために用いられる。本実施形態では、低出力モードで照射可能な治療レーザ光の種類は黄色に固定設定されており、レーザ選択部210を用いた治療レーザ光の選択は禁止されている。しかし、緑色の治療レーザ光又は赤色の治療レーザ光を低出力モードで選択できてもよい。出力設定部220は、治療レーザ光の出力値(単位はワット)を術者が設定するために用いられる。本実施形態では、治療レーザ光(黄)の出力値を60mW〜1500mWの範囲内で設定できる。照射時間設定部230は、治療レーザ光の照射時間を術者が設定するために用いられる。本実施形態では、治療レーザ光の照射時間を0.01〜0.03秒の範囲内に設定できる。しかし、照射時間設定部230で設定可能な時間を、0.01〜1.00秒の範囲内、2.00秒、3.00秒のいずれかに設定できてもよい。
The spot diameter using the output signal of the
パターン設定部250は、治療レーザ光のパターンを術者が設定するために用いられる。本実施形態では術者は、ROM72に予め記憶されている25種類のパターンから任意のパターンを選択できる。テスト部270は、治療レーザ光を術者がテスト照射する際に用いられる。なお、テスト部270がタッチされると、眼科用レーザ治療装置1の照射モードは、通常照射モードとテスト照射モードとに切り替わる。なお以降の説明では、テスト照射モードをLPMテストモードと呼ぶ場合がある。テスト照射モードでは、パターン設定部250の操作が無効であり、シングルスポットであるパターンPa(図9A参照)が自動設定される。通常照射モードでは、パターン設定部250の操作が有効になる。本実施形態では25種類のパターンから任意のパターンを選択できる。
The
出力比率設定部260は、出力設定部220で設定されている出力値を補正するために用いられる。詳細には、本実施形態の出力比率設定部260は、出力設定部220で設定されている出力値(補正前)を所定の割合(比率)へと減衰するために用いられる。つまり本実施形態の出力比率設定部260は、患者眼Eの組織を変性させずに患者眼Eの組織を光学的に刺激するため、患者眼Eの組織がかろうじて変性する出力値(補正前)を所定の割合(比率)で減衰するために用いられる。本実施形態では出力比率設定部260の設定として、出力比率を10〜90%の範囲内で選択できる。なお、出力比率設定部260で選択可能な出力比率の下限値は、出力設定部220で設定されている出力値(補正前)で変化する。一例として、出力設定部220で60mWが設定されている場合、出力比率設定部260で選択可能な出力比率値は90%である。本実施形態の制御部70は、出力比率設定部260の設定にて補正された出力値(換言するなら補正後の出力値)が50mWを下回らないように、出力比率設定部260で選択可能な出力比率値、又は出力比率選択画面350(図18参照)で選択可能な出力比率値を制御する。ポジションチェック部290は、レーザ照射光学系40を術者が患者眼Eに位置合わせするために用いられる。詳細には、本実施形態のポジションチェック部290は、治療レーザ光の照射予定領域を術者が患者眼Eの治療対象部位に位置合わせするために用いられる。換言するなら、本実施形態のポジションチェック部290は、エイミング光のパターンを術者が切り替えるために用いられる。
The output
<操作の流れ>
図19を併用し、低出力モードにおける眼科用レーザ治療装置1の操作の流れの一例を説明する。なお、本実施形態では、通常出力モードから低出力モードへの移行時に、眼科用レーザ治療装置1の動作パラメータの一部が低出力モード用に初期設定(自動設定)される。本実施形態では初期設定として、治療レーザ光の種類が黄色に自動設定される。また本実施形態では初期設定として、照準光と治療レーザ光で共用されるパターンがシングルスポット(図9A参照)に自動設定され、出力比率(出力設定部220)が100%に自動設定される。本実施形態の初期設定は更に、治療レーザ光の出力値(POWER)と照射時間(TIME)とにも所定の初期値が自動設定される。<Operation flow>
An example of an operation flow of the ophthalmic
本実施形態の低出力モードは動作状態として、通常動作モードとLPMテストモードを有する。低出力モードの初期状態は、LPMテストモードとされる。LPMテストモードでは、パターン設定部250の操作が無効とされる。つまり、本実施形態のLPMテストモードでは術者によるパターンの変更が禁止される。なお本実施形態の制御部70は、通常動作モードかLPMテストモードかを、モードフラグをRAM73に記憶して管理している。
The low output mode of the present embodiment has a normal operation mode and an LPM test mode as operation states. The initial state of the low output mode is the LPM test mode. In the LPM test mode, the operation of the
図19に戻る。ステップS101にて術者は、出力値(補正前)の設定を行う。詳細には、術者は出力設定部220を操作して、治療レーザ光の出力値(補正前)を設定する。なお、ステップS101で、照射時間が設定(偏光)されてもよいし、出力値(補正前)と照射時間の両方が設定(変更)されてもよい。換言するなら、ステップS101の設定で、患者眼Eに照射する照射エネルギーが設定されればよい。次いでステップS102にて術者は、フットスイッチ81を操作して治療レーザ光のテスト照射を行う。なお、ステップS102はLPMテストモードの条件下であるため、テスト照射の際に使用されるパターンはシングルスポット(図9A参照)である。次いでステップS103にて術者は、治療レーザ光がテスト照射された患者眼Eの部位を観察する。詳細には、術者は、スポット跡の有無、又はスポット跡の度合い(程度)を確認する。次いでステップS104にて術者は、ステップS103での観察結果に基づき、ステップS101で設定した出力値(補正前)が妥当か否かを判断する。本実施形態では術者は、患者眼Eの組織をかろうじて変性する治療レーザ光の出力値(補正前)に設定できたか否かを判断する。患者眼Eの組織のかろうじた変性とは、例えば、かろうじて目視できる凝固班(スポット跡)が治療レーザ光の照射に基づき発生したか否かで判断する。出力値(補正前)が妥当であればステップS105に進み、出力値(補正前)が妥当でなければステップS101に戻る。例えば、ステップS103でスポット跡を確認できなかった場合、又はステップS103でスポット跡を確認できたもののスポット跡が明瞭すぎた場合はステップS101に戻る。つまり、術者は、LPMテストモード中に、テスト照射とスポット跡の観察とを繰り返し、出力値(補正前)を決定する。なお、出力値(補正前)とは、換言するなら基準となる出力値である。本実施形態では患者眼Eの組織をかろうじて変性する出力値を基準となる出力値としている。
It returns to FIG. In step S101, the operator sets output values (before correction). Specifically, the operator operates the
ステップS105にて術者は、出力比率の変更(設定)を行なう。術者により出力比率設定部260が操作され、出力比率の変更が行われる。本実施形態では、出力比率を10%〜90%の範囲内に変更可能である。なお、選択可能な出力比率の下限値は、出力設定部220で設定されている出力値(補正前)で変化する。一例として、出力設定部220で60mWが設定されている場合、出力比率設定部260で選択可能な出力比率は90%である。詳細は後述するが、本実施形態では、出力比率にて補正された出力値(補正後)が予め設けられている所定値(50mW)を下回らないように、術者の操作が規制される。一例として、術者は、治療レーザ光の照射予定部位(黄斑M,周辺部)、疾患状態等を考慮して、出力比率を変更する。つまり、ステップS105では、ステップS101で設定された照射エネルギーが補正(本実施形態では減衰)されればよい。
In step S105, the operator changes (sets) the output ratio. The output
本実施形態では、出力比率が変更されると、通常動作モードへと動作モードが切り替わる。換言するなら、出力比率が100%未満の値に設定されると、LPMテストモードが自動解除される。つまり本実施形態では、患者眼Eの組織をかろうじて変性する出力値(補正前)よりも少ない出力値を患者眼に照射するように術者が操作すると、LPMテストモードが自動解除される。LPMテスト状態が解除されると、パターン変更が可能になる。次いでステップS106にて術者は、パターン設定部250を操作して任意のパターンを選択する。次いでステップS107にて術者は、フットスイッチ81を操作して治療レーザ光の照射(本照射)を行う。つまり、選択後のパターンを用いた治療レーザ光の照射は、出力値(補正前)よりも小さい出力値で行われる。以上のようにして、低出力モードでの治療が行われる。換言するなら、選択後のパターンを用いた治療レーザ光の照射は、補正前の照射エネルギーよりも小さい照射エネルギーで照射される。更に換言するなら、任意のパターンを用いた治療レーザ光の照射は、患者眼Eの組織をかろうじて変性する出力値(補正前)よりも少ない出力値で照射される。これにより、例えば、患者眼Eの組織を変性する出力値でのパターン照射(シングルスポット以外)が抑制されると共に、患者眼Eの組織を変性させない患者眼Eの組織への光学的な刺激を、術者は任意のパターンを選択して効率よく行える。
In the present embodiment, when the output ratio is changed, the operation mode switches to the normal operation mode. In other words, when the output ratio is set to a value less than 100%, the LPM test mode is automatically canceled. That is, in the present embodiment, when the operator operates to irradiate the patient's eye with an output value (before correction) smaller than the output value that barely denatures the tissue of the patient's eye E, the LPM test mode is automatically canceled. When the LPM test state is released, the pattern can be changed. Next, in step S106, the operator operates the
ステップS101〜S107の流れをまとめると、術者は先ず、基準条件を設定する(ステップS101〜S104参照)。基準条件として、例えば、出力値が設定される。次いで術者は、照射条件の最適化を行なう(ステップS105,S106参照)。照射条件の最適化として、例えば、基準条件で設定された出力値の減衰(補正)が行われる。次いで術者は、最適化した照射条件で治療部位に対して治療を行う(ステップS107参照)。つまり、ステップS101〜S104にて術者は、出力設定部220の操作とレーザ光の照射とを繰り返しながら、患者眼Eの組織がかろうじて変性する出力値(補正前)を決定する。次いでステップS105とS106にて術者は、出力比率設定部260を操作して、患者眼Eの組織を変性せずに患者眼Eの組織を光学的に刺激するための出力値(補正後)を決定する。次いでステップS107にて術者は、患者眼Eの組織を変性せずに患者眼Eの組織を光学的に刺激する出力値(補正後)で、治療部位に治療レーザ光を照射する。本実施形態の制御手段は、低出力モードが設定されている場合には、設定手段で設定した基準となる照射エネルギーを補正手段で補正するまではパターン選択手段によるパターン選択を受け付けず、補正手段による補正後においてパターン選択手段によるパターン選択を受付可能とする。このように、術者は、照射条件(照射エネルギー)を段階的に決定できる。これにより、例えば、治療レーザ光の照射予定部位(黄斑M,周辺部)、疾患状態等を考慮した治療レーザ光の照射が容易になる。
To summarize the flow of steps S101 to S107, the operator first sets reference conditions (see steps S101 to S104). For example, an output value is set as the reference condition. Next, the operator optimizes the irradiation conditions (see steps S105 and S106). As the optimization of the irradiation condition, for example, the output value set under the reference condition is attenuated (corrected). Next, the operator performs treatment on the treatment site under the optimized irradiation conditions (see step S107). That is, in steps S101 to S104, the operator determines the output value (before correction) at which the tissue of the patient's eye E barely changes while repeating the operation of the
なお、本実施形態では出力比率の変更(換言するなら出力比率100%からの変更)に連動してLPMテストモードが自動解除される。しかし、LPMテストモードの解除方法はこれに限るものではない。例えば、照射時間設定部230で設定された照射時間を補正するための時間補正手段を設け、時間補正手段を用いた照射時間の変更に連動して、LPMテストモードが自動解除されてもよい。つまり、一旦設定された照射エネルギーが補正(変更)された場合に、LPMテストモードが自動解除されてもよい。なお、本実施形態のLPMテストモードは、患者眼Eの複数部位への治療レーザ光のパターン照射が抑制される。換言するなら、本実施形態の通常モードでは、患者眼Eの複数部位への治療レーザ光のパターン照射が可能である。このように、本実施形態ではLPMテストモードを用いることで、眼組織の広い領域への、意図せぬエネルギーの照射を抑制できる。なお、通常モードよりもLPMテストモードの方が、パターン照射時のスポット数が減少されればよい。
In this embodiment, the LPM test mode is automatically canceled in conjunction with the change of the output ratio (in other words, the change from the output ratio of 100%). However, the method of releasing the LPM test mode is not limited to this. For example, a time correction unit for correcting the irradiation time set by the irradiation
<低出力モードでの制御>
図20を用いて、本実施形態の低出力モードにおいて制御部70が実行する制御を説明する。ステップS201にて制御部70は、LPMテストモードか否かを判定する。LPMテストモードの場合はステップS202に進み、通常モードの場合はステップS203に進む。なお、本実施形態では、低出力モードの初期設定はLPMテストモードであり、出力比率は100%である。出力比率が変更されるとLPMテストモードが自動解除(通常モードへと変更)される。ステップS202ではLPMテスト処理(図21参照)が行われる。なお、LPMテスト処理の詳細は後ほど説明する。<Control in low output mode>
The control executed by the
ステップS203にて制御部70は、パターン選択操作の有無を検出する。詳細には、制御部70は、パターン選択画面400にてパターン選択操作がされたか否かを判定する。パターン選択操作がされた場合はステップS204に進む。ステップS204では選択されたパターンへと設定変更する。パターンの設定変更が完了するとステップS205に進む。ステップS205にて制御部70は、照射操作の有無を検出する。詳細には、フットスイッチ81の操作を検出した場合はステップS206に進み、フットスイッチ81の操作を検出しなかった場合はステップS207に進む。ステップS206にて制御部70は、治療レーザ光源11を制御して、レーザ選択部210で設定されている種類の治療レーザ光を、設定されている照射条件に基づき患者眼Eに照射する。ステップS207にて制御部70は、モード終了操作の有無を検出する。詳細には制御部70は、移行部280の操作を検出すると低出力モードを終了し、通常出力モードに移行する。一方、制御部70は移行部280の操作を検出しなかった場合、ステップS201に戻り低出力モードを維持する。なお、本実施形態の低出力モードでは、治療レーザ光のパターン照射に用いられるパターンにて、患者眼Eへの照準光のパターン照射が継続して行われる。
In step S203,
<LPMテスト処理>
図21を用いて、本実施形態のLPMテスト処理(図20のステップS202)にて、制御部70が実行する制御を説明する。ステップS301にて制御部70は、出力値(補正前)の変更操作の有無を検出する。詳細には制御部70は、出力設定部220の操作を検出するとステップS302に進み、出力設定部220の操作を検出しなかった場合はステップS304に進む。ステップS302にて制御部70は、変更後の出力値(補正前)が60mW未満か否かを判定する。60mW未満の場合は出力値を変更せずにステップS301に戻る。一方、60mW以上の場合はステップS303に進んで出力値(補正前)を変更し、その後、ステップS304に進む。<LPM test processing>
The control executed by the
ステップS304にて制御部70は、照射時間の変更操作の有無を検出する。詳細には制御部70は、照射時間設定部230の操作を検出するとステップS305に進み、照射時間設定部230の操作を検出しなかった場合はステップS306に進む。ステップS305にて制御部70は、照射時間設定部230の操作に基づく照射時間へと設定変更し、その後、ステップS306に進む。ステップS306にて制御部70は、出力比率の変更操作の有無を検出する。詳細には制御部70は、出力比率設定部260の操作を検出するとステップS310に進み、出力比率設定部260の操作を検出しなかった場合はステップS307に進む。
In step S304,
ステップS307にて制御部70は、テスト部270の操作の有無を検出する。制御部70は、テスト部270の操作を検出するとステップS308に進み、テスト部270の操作を検出しなかった場合はステップS301に進む(戻る)。ステップS308にて制御部70は、出力比率選択画面350(図18参照)を表示する。本実施形態の出力比率選択画面350には、出力比率ボタンが配置されている。出力比率選択画面350には変更可能な出力比率に対応するボタンが配置される。詳細には出力比率選択画面350には、選択されても出力値(補正後)が50mW以上となる出力比率のボタンが配置される。図18に例示する出力比率選択画面350は、出力設定部220にて設定可能な出力値(補正前)が、500mW以上に設定されている場合の画面である。
In step S307,
ステップS309にて制御部70は、出力比率の選択操作の有無を検出する。制御部70は、出力比率の選択操作を検出するとステップS310に進み、出力比率の選択操作を検出しなかった場合はステップS309に留まる。ステップS310にて制御部70は、出力比率を変更する。詳細には、制御部70は、ステップS306で検出した変更操作、又は、ステップS309で検出した選択操作に基づき出力比率を変更する。なお、出力比率で変更された出力値(補正後)は50mW以上である。次いでステップS311にて制御部70は、LPMテストモードを解除する。つまり、LPMテストモードから通常モードへとモード変更する。以上説明したように、制御部70によるLPMテスト処理が行われる。本実施形態の低出力モードでは、患者眼Eに照射する治療レーザ光の出力値は、所定の下限値を下回らないように制御部70にて制御される。これにより、低出力が故の、患者眼Eへの不安定な治療レーザ光の照射が抑制されている。不安定な治療レーザ光とは、例えば、治療レーザ光を繰り返し照射する際に、各照射間で出力値がばらつく事象である。本実施形態では、設定した出力値(補正前)に対して出力比率を設定し易い。
In step S309,
<選択可能なパターン>
図8,図9A〜図9C,図10A〜図10C,図11A〜図11Cを用いて、通常出力モードで選択可能なパターンと、低出力モードで選択可能なパターンを説明する。先ず図8,図9A〜図9C,図10A〜図10Cを用いて、通常出力モードで選択可能なパターンを説明する。通常モードの照射条件画面100(図6参照)でパターン設定部150がタッチされると、パターン選択画面300(図8参照)がモニタ82に表示される。本実施形態のパターン選択画面300には、選択部310と移行部320が設けられている。選択部310には、25種類のパターン(パターンPa〜パターンPy1)が5行5列で並べられている。各パターンは形状が異なる。一例として、図9AはパターンPaであり、図9BはパターンPlであり、図9CはパターンPpである。なお、図10AはパターンPw1であり、図10BはパターンPx1であり、図10CはパターンPy1である。選択部310のいずれかのパターンが選択されると、モニタ82の表示は照射条件画面100(図6参照)に切り替わり、パターン表示領域111には選択されたパターンが表示される。なお、パターン選択画面300で移行部320がタッチされると、パターンが変更されることなく照射条件画面100に戻る。<Selectable patterns>
A pattern that can be selected in the normal output mode and a pattern that can be selected in the low output mode will be described with reference to FIGS. 8, 9A to 9C, 10A to 10C, and 11A to 11C. First, patterns that can be selected in the normal output mode will be described with reference to FIGS. 8, 9A to 9C, and 10A to 10C. When the
本実施形態のパターンPw1,Px1,Py1の詳細を説明する。図10A〜図10Cの白丸と黒丸は、眼組織上に形成されるスポットSである。白丸と黒丸はパターン照射の順番を示しており、白丸と黒丸とで照射エネルギーは同じである。本実施形態では、パターンPx1はリング形状のパターンであり、パターンPw1は右側が欠けた略リング形状のパターンであり、パターンPy1は左側が欠けた略リング形状のパターンである。パターンPw1とパターンPy1は、例えば、視神経乳頭Dからの神経束を避けて治療レーザ光を照射する場合に好適なパターンである。パターンPx1は、例えば、黄斑周辺の一周に対して治療レーザ光を照射する場合に好適なパターンである。 The details of the patterns Pw1, Px1, and Py1 of the present embodiment will be described. 10A to 10C are spots S formed on the eye tissue. White circles and black circles indicate the order of pattern irradiation, and the white circles and black circles have the same irradiation energy. In the present embodiment, the pattern Px1 is a ring-shaped pattern, the pattern Pw1 is a substantially ring-shaped pattern lacking the right side, and the pattern Py1 is a substantially ring-shaped pattern lacking the left side. The pattern Pw1 and the pattern Py1 are patterns suitable for, for example, irradiating a treatment laser beam while avoiding a nerve bundle from the optic disc D. The pattern Px1 is a pattern suitable for, for example, irradiating a treatment laser beam around the periphery of the macula.
図10A〜図10Cの各パターンにて、各パターンを構成する複数のスポットは、複数のグループ(例えば第1グループ〜第3グループ)に分割される。図10A〜図10Cでは、第1グループが黒丸で示されている。先ず、第1グループの各スポット(黒丸)の位置に、照準光のスポットが形成される。この状態でフットスイッチ81が操作されると、照準光のスポット位置に治療レーザ光が照射される。第1グループへの治療レーザ光の照射が完了すると、第2グループの各スポットの位置に、照準光のスポットが形成される。この状態でフットスイッチ81が操作されると、照準光のスポット位置に治療レーザ光が照射される。第2グループへの治療レーザ光の照射が完了すると、第3グループの各スポットの位置に、照準光のスポットが形成される。この状態でフットスイッチ81が操作されると、照準光のスポット位置に治療レーザ光が照射される。複数スポットを複数グループに分割することで、パターン照射に費やす時間を分割できる。これにより、例えば、パターン照射中に患者眼Eが動いたとしても、意図せぬ眼組織への治療レーザ光の照射を抑制し易い。
In each pattern of FIGS. 10A to 10C, a plurality of spots constituting each pattern are divided into a plurality of groups (for example, a first group to a third group). 10A to 10C, the first group is indicated by a black circle. First, aiming light spots are formed at the positions of the spots (black circles) in the first group. When the
次いで図8,図9A〜図9C,図11A〜図11Cを用いて、低出力モードで設定可能なパターンを説明する。照射条件画面200(図7参照)でパターン設定部250がタッチされると、モニタ82にはパターン選択画面400(図8参照)が表示される。本実施形態のパターン選択画面400には、選択部410と移行部320が設けられている。選択部410には、25種類のパターン(パターンPa〜パターンPy2)が5行5列で並べられている。各パターンは形状が異なる。本実施形態では、パターンPa〜パターンPvの各パターンには、通常出力モードと同じパターンが配置される。また、パターンPw2、パターンPx2、及びパターンPy2には通常出力モードとは異なるパターンが配置される。
Next, a pattern that can be set in the low output mode will be described with reference to FIGS. 8, 9A to 9C, and 11A to 11C. When the
図11AはパターンPw2であり、図11BはパターンPx2であり、図11CはパターンPy2である。本実施形態では、パターンPw2、パターンPx2、及びパターンPy2は全て、リング形状のパターンである。パターンPw2とパターンPx2は、複数スポットを複数グループに分割した際の、各グループに含まれるスポット数が異なる。パターンPy2は、パターンPw2とパターンPx2に対して、パターン照射範囲が異なる。パターンPw2、Px2、及びパターンPy2は、例えば、黄斑Mに治療レーザ光を照射する場合に好適なパターンである。 FIG. 11A shows a pattern Pw2, FIG. 11B shows a pattern Px2, and FIG. 11C shows a pattern Py2. In the present embodiment, the pattern Pw2, the pattern Px2, and the pattern Py2 are all ring-shaped patterns. The pattern Pw2 and the pattern Px2 differ in the number of spots included in each group when a plurality of spots are divided into a plurality of groups. The pattern Py2 has a different pattern irradiation range from the pattern Pw2 and the pattern Px2. The patterns Pw2, Px2, and the pattern Py2 are, for example, patterns suitable for irradiating the macula M with therapeutic laser light.
なお、図11A〜図11Cの白丸と黒丸は、図10A〜図10Cと同じ意味であるため、説明を省略する。選択部410中のいずれかのパターンが選択されると、モニタ82の表示は照射条件画面200に切り替わり、パターン表示領域211(図7参照)には選択されたパターンが表示される。なお、パターン選択画面400で移行部320がタッチされると、パターンが変更されることなく照射条件画面200に戻る。
Note that white circles and black circles in FIGS. 11A to 11C have the same meanings as in FIGS. When any of the patterns in the
以上説明したように、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、通常出力モードと低出力モードとで共用する共用パターン(パターンPa〜Pv)と、通常出力モードと低出力モードの各々で独立して選択可能な個別パターン(パターンPw1,Pw2,Px1,Px2,Py1,Py2)とを備える。また、本実施形態では、通常出力モードと低出力モードとで選択可能なパターンの数は同じであるが、選択可能なパターンの種類(形状)が異なっている。これにより、例えば、通常出力モードと低出力モードの各モードで、使用頻度の高いパターンのみが術者に呈示され、術者の選択操作が簡易化される。また、パターンの誤選択も抑制される。
As described above, the ophthalmic
なお、本実施形態では通常出力モードと低出力モードとで、複数個提示されるパターンのうち3つ異なるが、これに限るものではない。眼科用レーザ治療装置1が複数の動作モードを有し、選択されている動作モードに応じて複数個提示されるパターンの少なくとも何れかが変化すればよい。また、同一の動作モード中でも、照射条件等の設定に応じて複数個提示されるパターンの少なくとも何れかが変化すればよい。なお、「変化する」には呈示するパターンの数の増減も含まれる。
In the present embodiment, the normal output mode and the low output mode are different from each other in three of the presented patterns, but the present invention is not limited to this. It is sufficient that the ophthalmic
<ポジションチェック手段>
次いで、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1が有するポジションチェック手段を説明する。以降では、低出力モードのパターン選択画面400でパターンPx2(図11B参照)が選択されたものとして説明する。パターンPx2が選択されると、患者眼EにはパターンPx2に対応した照準光が照射される。照準光は走査されており、患者眼E上には図12で示す、照準光のスポットAS1が形成される。本実施形態のパターンPx2は、パターンPx2を構成する複数のスポットが、複数のグループ(第1グループG1〜第8グループG8)に分割されている。本実施形態ではフットスイッチ81が8回操作されると、パターンPx2に対応する、一連の治療レーザ光の照射が完了される。<Position check means>
Next, the position checking means of the ophthalmic
以降の説明で用いるパターンPS1〜PS3は、パターンPx2を分割したパターンの一部である。また、一例として、パターンPS1に対応するスポットはスポットAS1である。パターンPS1が設定され、照準光のスポットAS1(第1グループG1)を呈示中にフットスイッチ81が操作されると、スポットAS1を構成する各スポットの位置に治療レーザ光が照射される。治療レーザ光の照射が完了すると、パターンPS2が自動設定されて、照準光の照射領域が移動する。患者眼E上には、図13で示す照準光のスポットAS2(第2グループG2)が形成される。スポットAS2を呈示中にフットスイッチ81が操作されると、スポットAS2の各スポットの位置に治療レーザ光が照射される。治療レーザ光の照射が完了すると、パターンPS3が自動設定されて、照準光の照射領域が再び移動する。患者眼E上には図14で示す照準光のスポットAS3(第3グループG3)が形成される。このように、照準光と治療レーザ光の照射領域は、基準位置Uに対して周方向に移動してゆく。
The patterns PS1 to PS3 used in the following description are a part of the pattern obtained by dividing the pattern Px2. Further, as an example, the spot corresponding to the pattern PS1 is the spot AS1. When the
本実施形態の眼科用レーザ治療装置1はポジションチェック手段を有している。本実施形態では、低出力モード中にポジションチェック部290がタッチされると、治療レーザ光のパターンとは異なる形状のパターン(照準光用)が患者眼Eに照射される。図15は、パターンPPが設定され、患者眼E上に形成される照準光のスポットAPを示している。また、図22は、低出力モード中に制御部70が実行する制御を示している。
The ophthalmic
図22を説明する。ステップS401にて制御部70は、ポジションチェック部290の操作の有無を検出する。ポジションチェック部290の操作を検出した場合はステップS402に進み、ポジションチェック部290の操作を検出しなかった場合はステップS404に進む。ステップS402にて制御部70は、パターンPPを設定し、スポットAPを形成するための照準光を患者眼Eにパターン照射し、その後、ステップS403に進む。ステップS403にて制御部70は、パターンPPを用いた照準光の照射を5秒以上継続しているか否かを判定する。5秒以上継続している場合はステップS404に進み、5秒未満の場合はステップS402に進む。つまり、ポジションチェック部290が操作されると、患者眼Eの組織上には、スポットAP(照準光)が5秒間形成される。ステップS404にて制御部70は、治療レーザ光のパターン照射に用いるパターン(例えばパターンAP2)に変更し、照準光をパターン照射する。ステップS401〜S404は、低出力モード中に繰返し実行される。
Referring to FIG. In step S401,
図16,17を用いて、観察像と照準光のスポットとの関係を説明する。図16はパターンPx2(図11B)を用いたパターン照射の過程であり、患者眼E上に照準光のスポットAS3(第3グループG3)が形成された状態を示している。つまり、図16は、パターンPx2を用いて、黄斑M上に環状の照射を行なう過程を示している。本実施形態では、パターンPx2が選択された場合、フットスイッチ81が操作される度に、照準光のスポットの形成位置と治療レーザ光のスポットの形成位置とが移動する。照準光のスポット(図16だとスポットAS3)は、パターンPx2を構成する複数のスポットの一部である。
The relationship between the observation image and the spot of the aiming light will be described with reference to FIGS. FIG. 16 shows a pattern irradiation process using the pattern Px2 (FIG. 11B), and shows a state where a spot AS3 (third group G3) of aiming light is formed on the patient's eye E. That is, FIG. 16 shows a process of performing annular irradiation on the macula M using the pattern Px2. In the present embodiment, when the pattern Px2 is selected, each time the
図17は、図16の状態にて、術者がポジションチェック部290をタッチした場合に術者が観察する観察像である。ポジションチェック部290が操作されたことで、パターン照射に用いるパターンは、パターンPS3からパターンPPへと変更される。パターン照射に用いるパターンの変更に伴い、照準光のスポットは、スポットAS3からスポットAPへと切り替わる。なお、図16と図17では図示していないが、基準位置U(図14,15参照)は、図16と図17とで同じ眼組織上の位置である。つまり、図16と図17とで、患者眼E(網膜部位)とレーザ照射光学系40の位置関係は維持されている。本実施形態のスポットAPは、治療予定部位に治療レーザ光を照射するためのスポットである。本実施形態のスポットAPは、治療レーザ光の照射位置(照射領域)を形成するためのスポットAS(スポットAS1,AS2,AS3等)とは異なる形状である。本実施形態では、例えば、治療レーザ光が低エネルギーで照射され、治療レーザ光のスポット痕を観察し難くても、治療レーザ光を本来予定した眼部位に照射し易い。
FIG. 17 is an observation image observed by the operator when the operator touches the
図22を用いて前述したように、本実施形態では、ポジションチェック部290が操作されると、眼組織上に形成される照準光のスポットは、スポットAS3からスポットAPへと切り替わる。そして、スポットAPは所定時間(予め決定されている5秒間)呈示された後、スポットAPからスポットAS3へと自動復帰される。術者は、スポットAS3からスポットAPへと切り替える際のみ、顕微鏡部7の接眼レンズを覗いた状態を中断すればよい。スポットAPからスポットAS3へは自動で切り替わるため、例えば、術者は、スポットを戻すために顕微鏡部7の接眼レンズを覗いた状態を中断する煩わしさから解放される。なお、スポットAS3からスポットAPへの切り替えが所定の条件に基づき自動で行われてもよい。また、スポットAPを通常呈示とし、ポジションチェック部290が操作されるとスポットASが一時的に形成される態様であってもよい。術者は、スポットASの形成(一時的)が行われている間に治療レーザ光の照射を行えばよい。また、スポットAS3の呈示とスポットAPの呈示とが交互に繰り返されてもよい。
As described above with reference to FIG. 22, in the present embodiment, when the
本実施形態のパターンPPは円環形状である。詳細には、本実施形態のパターンPPは、パターンPPを構成する複数のスポットを、基準位置Uを中心として円環形状に配列している。一方、本実施形態のパターンPSは、基準位置Uを中心として周方向に移動されるスポットである。患者眼E上にスポットAPが形成されることで、術者は、一連のパターン照射中にパターン照射領域が周方向に移動しても、患者眼Eとレーザ照射光学系40の位置関係(換言するなら治療レーザ光を当初予定の眼組織領域に照射できるか否か)を容易に判断できる。つまり、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、スポットAPとスポットASの位置関係を変更するための変更手段(一例としてパターンPS1〜3)を備える。
The pattern PP of the present embodiment has an annular shape. Specifically, in the pattern PP of the present embodiment, a plurality of spots forming the pattern PP are arranged in an annular shape with the reference position U as a center. On the other hand, the pattern PS of the present embodiment is a spot that is moved in the circumferential direction around the reference position U. The spot AP is formed on the patient's eye E, so that the operator can maintain the positional relationship between the patient's eye E and the laser irradiation optical system 40 (in other words, even if the pattern irradiation area moves in the circumferential direction during a series of pattern irradiations). Then, it can be easily determined whether or not the treatment laser beam can be irradiated to the initially planned eye tissue region. That is, the ophthalmic
なお、本実施形態のパターン照射領域(スポットASの形成位置)は周方向に移動するが、パターン照射領域の移動は周方向への移動(つまり回動)に限るものでは無い。例えば、パターン照射領域が上下方向/左右方向に移動されてもよい(例えば特開2014−68909号公報を参照されたし)。パターンPPを用いた照準光のパターン照射を行うことで、複数スポットを複数グループに分割する一連のパターン照射時に、一連のパターン照射の基準とする眼組織部位に、レーザ照射光学系40を位置合わせできればよい。なお、本実施形態ではスポットASとスポットAPを切り換えるが、スポットASとスポットAPを同時に形成(呈示)してもよい。
Note that the pattern irradiation area (the position where the spot AS is formed) in the present embodiment moves in the circumferential direction, but the movement of the pattern irradiation area is not limited to movement in the circumferential direction (that is, rotation). For example, the pattern irradiation area may be moved in the up / down direction / left / right direction (for example, see JP-A-2014-68909). By performing pattern irradiation of aiming light using the pattern PP, the laser irradiation
なお、パターンPPを構成する複数のスポットの一部は、パターンPSを構成する複数のスポットの一部と共用されている。図14と図15を用いて説明すると、パターンPS3の枠G内のスポットは、パターンPPの枠H内のスポットと一致する。つまり、本実施形態のパターンPPの直径は、パターンPx2(リング状パターン)の内径と一致している。従って、パターンPx2を用いた治療レーザ光の照射では、パターンPPを構成する各スポットよりも内側に、治療レーザ光が照射されることは無い。術者は眼底Er像と照準光のスポットAPとを観察することで、パターンPx2を用いた一連のパターン照射の際の、治療レーザ光の照射範囲を把握し易い。なお、本実施形態のパターンPPは、例えば、中心窩への照準光の照射を抑制できる。これにより、照準光が照射された患者の眩しさが低減されている。しかし、パターンPPの形状はこれに限るものではない。例えば、パターンPPが、基準位置Uを重心位置にした四角形、十字形状、又は中実の円形状であってもよい。また、例えば、パターンPPがシングルスポット(スポットは基準位置Uに配置)であってもよい。一連のパターン照射の基準とする眼組織部位に、レーザ照射光学系40を位置合わせできればよい。本実施形態のスポットAPは黄斑Mへの位置合わせに好適であるが、スポットAPの照準対象は黄斑Mに限るものではない。例えば、スポットAPを用いて、視神経乳頭D、血管V等への照準が行われてもよい。眼科用レーザ治療装置1が、形状が異なる複数のスポットAPを備え、スポットAPを選択できてもよい。この選択は、術者が選択できてもよいし、眼科用レーザ治療装置1の動作モードに応じて自動選択されてもよい。
Note that some of the plurality of spots forming the pattern PP are shared with some of the plurality of spots forming the pattern PS. Describing with reference to FIGS. 14 and 15, the spot in the frame G of the pattern PS3 coincides with the spot in the frame H of the pattern PP. That is, the diameter of the pattern PP of the present embodiment matches the inner diameter of the pattern Px2 (ring-shaped pattern). Therefore, in the irradiation of the treatment laser light using the pattern Px2, the treatment laser light is not irradiated inside the spots forming the pattern PP. By observing the fundus Er image and the aiming light spot AP, the surgeon can easily grasp the irradiation range of the treatment laser light in a series of pattern irradiation using the pattern Px2. In addition, the pattern PP of this embodiment can suppress irradiation of aiming light to a fovea, for example. Thereby, the glare of the patient irradiated with the aiming light is reduced. However, the shape of the pattern PP is not limited to this. For example, the pattern PP may be a square, a cross, or a solid circle with the reference position U at the center of gravity. Further, for example, the pattern PP may be a single spot (the spot is arranged at the reference position U). It suffices if the laser irradiation
<まとめ>
以上説明したように、本実施形態の眼科用レーザ治療装置は、治療レーザ光源から出射される治療レーザ光を患者眼に照射するレーザ照射光学系と、レーザ照射光学系に設けられ、治療レーザ光のスポットを患者眼の組織上で2次元的に走査する走査手段と、レーザ照射光学系と走査手段を用いて、所定パターンのスポットを形成するパターン照射手段を備えている。また、治療レーザ光の照射により患者眼の組織を変性するための通常出力モードと、患者眼の組織を変性させずに患者眼の組織を光学的に刺激するために通常出力モードによる治療レーザ光の出力よりも相対的に低出力とする低出力モードとを選択するためのモード選択手段と、眼科用レーザ治療装置を制御する制御手段と、を備えている。低出力モードでは、複数のパターンから所定パターンを選択するためのパターン選択手段と、基準となる治療レーザ光の照射エネルギーを設定するための設定手段と、患者眼の組織を変性させることなく患者眼の組織を光学的に刺激するため、設定手段で設定された基準となる照射エネルギーに対して所定量だけ出力を低下させる補正をするための補正手段と、を術者が操作可能である。制御手段は低出力モードが設定されている場合には、設定手段で設定した基準となる照射エネルギーを補正手段で補正するまではパターン選択手段によるパターン選択を受け付けず、補正手段による補正後においてパターン選択手段によるパターン選択を受付可能とする。これにより、例えば、意図せぬ照射エネルギーでの治療レーザ光のパターン照射が抑制される。<Summary>
As described above, the ophthalmic laser treatment apparatus according to the present embodiment is provided in the laser irradiation optical system for irradiating the patient's eye with the treatment laser light emitted from the treatment laser light source, and the treatment laser light Scanning means for scanning the spot two-dimensionally on the tissue of the patient's eye, and pattern irradiation means for forming a spot of a predetermined pattern using a laser irradiation optical system and a scanning means. Also, a normal output mode for denaturing the tissue of the patient's eye by irradiating the treatment laser light, and a treatment laser beam in the normal output mode for optically stimulating the tissue of the patient's eye without denaturing the tissue of the patient's eye And a control means for controlling the ophthalmic laser treatment apparatus. In the low output mode, a pattern selecting means for selecting a predetermined pattern from a plurality of patterns, a setting means for setting irradiation energy of a reference treatment laser beam, and a patient eye without denaturing the tissue of the patient eye In order to optically stimulate the tissue, the operator can operate correction means for performing a correction to reduce the output by a predetermined amount with respect to the reference irradiation energy set by the setting means. When the low output mode is set, the control unit does not accept the pattern selection by the pattern selection unit until the irradiation energy serving as the reference set by the setting unit is corrected by the correction unit. Pattern selection by the selection means can be accepted. Thereby, for example, pattern irradiation of the treatment laser beam with unintended irradiation energy is suppressed.
また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、設定手段には、治療レーザ光の出力値を設定するための出力値設定手段が含まれ、補正手段は出力値設定手段で設定された出力値を低下させる。これにより、例えば、治療レーザ光を意図せぬ出力値(治療レーザ光)のまま、患者眼Eに照射してしまう事象が抑制される。また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、補正手段は補正後の出力値が所定の下限値を下回らないように出力値設定手段で設定可能な設定範囲を規制する。これにより、例えば、不安定な治療レーザ光を患者眼Eに照射してしまう事象を抑制できる。
In the ophthalmic
また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、患者眼Eへの治療レーザ光の照射を制御する照射制御手段を備え、制御手段は、パターン選択手段でのパターン選択が禁止されている場合は、所定パターンとしてシングルスポットを形成する。これにより、例えば、基準条件を決定する際の、患者眼Eの負担が軽減される。
Further, the ophthalmic
また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、治療レーザ光を患者眼Eの組織に照射するためのレーザ照射光学系40と、治療レーザ光の照射予定領域を示す第1パターン(例えばパターンPS3)と、第1パターンとは異なる形状であり、第1パターンを治療対象部位に位置合わせするための第2パターン(例えばパターンPP)と、第1パターンと第2パターンを記憶する記憶手段(ROM72)と、照準光を患者眼Eの組織上で走査して、第1パターンに基づく第1スポットと第2パターンの基づく第2スポットとを患者眼Eの組織上に形成するための照準光学系(レーザ照射光学系40)を備えている。これにより、例えば、意図せぬ部位への治療レーザ光の照射を抑制できる。
Further, the ophthalmic
また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、患者眼Eの組織上に、第1スポットと第2スポットのいずれかを選択的に形成させるための照準選択手段(ポジションチェック部290)を備えている。これにより、例えば、第1スポットと第2スポットとを簡単な操作で容易に切り替え可能である。
Further, the ophthalmic
また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、第1スポットと第2スポットの位置関係を変更するための変更手段を備える。これにより、例えば、パターン照射領域を移動させても、照射予定領域に照準光を位置合わせし易い。また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、患者眼Eへの治療レーザ光の照射を制御する照射制御手段を備え、変更手段は治療レーザ光の照射が行われると、第1スポットを回動中心として、第2スポットを第1スポットに対して周方向に移動させる。これにより、例えば、黄斑Mへのパターン照射を行い易い。また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、第1パターンとして円環形状を用いている。これにより、例えば、黄斑Mへのパターン照射を行い易い。
Further, the ophthalmic
なお、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、波長が異なる複数の治療レーザ光を患者眼Eに照射できる。しかし、本開示の技術を、特定波長の治療レーザ光(例えば黄色)のみを患者眼Eに照射できる眼科用レーザ治療装置に適用してもよい。また、本実施形態の眼科用レーザ治療装置1は、レーザ光を断続的に照射して、分離したスポットで構成されるパターンを形成する。しかし、レーザ光が連続照射されて、連続したスポットによるパターンが形成されてもよい。
The ophthalmic
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲及びこれと均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiment disclosed this time is an example in all respects, and should be considered as non-limiting. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include the claims, any equivalents, and all modifications within the scope.
E:患者眼
40:レーザ照射光学系
50:操作部
260:出力比率設定部
350:出力比率選択画面
410:パターン選択画面
E: patient's eye 40: laser irradiation optical system 50: operation unit 260: output ratio setting unit 350: output ratio selection screen 410: pattern selection screen
Claims (4)
前記レーザ照射光学系に設けられ、前記治療レーザ光のスポットを患者眼の組織上で2次元的に走査する走査手段と、
前記レーザ照射光学系と前記走査手段を用いて、所定パターンのスポットを形成するパターン照射手段と、
前記治療レーザ光の照射により患者眼の組織を変性するための通常出力モードと、患者眼の組織を変性させずに患者眼の組織を光学的に刺激するために前記通常出力モードによる前記治療レーザ光の出力よりも相対的に低出力とする低出力モードとを選択するためのモード選択手段と、
眼科用レーザ治療装置を制御する制御手段と、
を備え、
前記低出力モードでは、
複数のパターンから前記所定パターンを選択するためのパターン選択手段と、
基準となる前記治療レーザ光の照射エネルギーを設定するための設定手段と、
患者眼の組織を変性させることなく患者眼の組織を光学的に刺激するため、前記設定手段で設定された基準となる照射エネルギーに対して所定量だけ出力を低下させる補正をするための補正手段と、
を術者が操作可能であり、
前記制御手段は前記低出力モードが設定されている場合には、前記設定手段で設定した基準となる照射エネルギーを前記補正手段で補正するまでは前記パターン選択手段によるパターン選択を受け付けず、前記補正手段による補正後において前記パターン選択手段によるパターン選択を受付可能とする、
ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。A laser irradiation optical system that irradiates the patient's eye with treatment laser light emitted from the treatment laser light source,
Scanning means provided in the laser irradiation optical system, for two-dimensionally scanning the spot of the treatment laser light on the tissue of the patient's eye;
Using the laser irradiation optical system and the scanning means, pattern irradiation means for forming a spot of a predetermined pattern,
A normal output mode for modifying the tissue of the patient's eye by irradiating the treatment laser light, and the treatment laser in the normal output mode for optically stimulating the tissue of the patient's eye without modifying the tissue of the patient's eye Mode selection means for selecting a low output mode to be relatively low output than the light output,
Control means for controlling the ophthalmic laser treatment device,
With
In the low power mode,
Pattern selection means for selecting the predetermined pattern from a plurality of patterns,
Setting means for setting the irradiation energy of the treatment laser light as a reference,
Correction means for performing a correction to reduce the output by a predetermined amount with respect to the reference irradiation energy set by the setting means in order to optically stimulate the tissue of the patient's eye without denaturing the tissue of the patient's eye When,
Is operable by the surgeon,
When the low output mode is set, the control unit does not accept the pattern selection by the pattern selection unit until the correction unit corrects the reference irradiation energy set by the setting unit. After the correction by the means, it is possible to accept the pattern selection by the pattern selection means,
An ophthalmic laser treatment apparatus characterized by the above-mentioned.
前記設定手段には、前記治療レーザ光の出力値を設定するための出力値設定手段が含まれ、
前記補正手段は前記出力値設定手段で設定された出力値を低下させる、
ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。The ophthalmic laser treatment apparatus according to claim 1,
The setting means includes an output value setting means for setting an output value of the treatment laser light,
The correction means reduces the output value set by the output value setting means,
An ophthalmic laser treatment apparatus characterized by the above-mentioned.
前記補正手段は補正後の出力値が所定の下限値を下回らないように前記出力値設定手段で設定可能な設定範囲を規制する、
ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。The ophthalmic laser treatment apparatus according to claim 2,
The correction means regulates a setting range that can be set by the output value setting means so that the output value after correction does not fall below a predetermined lower limit value,
An ophthalmic laser treatment apparatus characterized by the above-mentioned.
前記患者眼への前記治療レーザ光の照射を制御する照射制御手段を備え、
前記制御手段は、前記パターン選択手段でのパターン選択が禁止されている場合は、前記所定パターンとしてシングルスポットを形成する、
ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。
The ophthalmic laser treatment apparatus according to any one of claims 1 to 3,
An irradiation control unit that controls irradiation of the treatment laser light to the patient's eye,
The control means forms a single spot as the predetermined pattern when pattern selection by the pattern selection means is prohibited,
An ophthalmic laser treatment apparatus characterized by the above-mentioned.
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Citations (4)
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JPH11309170A (en) * | 1998-04-30 | 1999-11-09 | Nidek Co Ltd | Lasering device |
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