JPWO2018096603A1 - Coil for rotating electrical machine, method for manufacturing coil for rotating electrical machine, mica tape, cured product of mica tape, and article with insulating layer - Google Patents

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みゆき 室町
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Abstract

コイル導体と前記コイル導体の外周に配置された絶縁層とを有し、前記絶縁層はマイカと樹脂成分の硬化物とを含み、前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である回転電機用コイル。A first epoxy compound having a coil conductor and an insulating layer disposed on an outer periphery of the coil conductor, the insulating layer including mica and a cured resin component, wherein the resin component has one mesogenic structure; And a second epoxy compound having two or more mesogenic structures having the same structure as the mesogenic structure, and the proportion of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is Coil for rotating electrical machines that is 70% or less.

Description

本発明は、回転電機用コイル、回転電機用コイルの製造方法、マイカテープ、マイカテープの硬化物及び絶縁層付き物品に関する。   The present invention relates to a coil for a rotating electrical machine, a method for manufacturing the coil for a rotating electrical machine, a mica tape, a cured product of the mica tape, and an article with an insulating layer.

発電機、電動機等の回転電機に用いられるコイル(以下、単にコイルとも称する)は、一般にコイル導体と、コイル導体を外部環境から絶縁するためにコイル導体の外周に配置される絶縁層とを有している。絶縁層を形成する材料としては、マイカテープと呼ばれるマイカを含む絶縁材が知られている。   A coil (hereinafter also simply referred to as a coil) used in a rotating electrical machine such as a generator or an electric motor generally has a coil conductor and an insulating layer disposed on the outer periphery of the coil conductor to insulate the coil conductor from the external environment. is doing. As a material for forming the insulating layer, an insulating material containing mica called a mica tape is known.

マイカテープを用いて形成される絶縁層はコイルと外部とを電気的に絶縁することを主な目的としているが、コイルの外側に水素ガス又は空気を通して冷却する間接冷却の方式を採用する発電機等の分野では、絶縁層の高熱伝導化が望まれている。マイカテープを用いて形成される絶縁層の熱伝導率を高める手法としては、マイカテープに無機フィラーを含有させる手法が知られている。   The main purpose of the insulating layer formed using mica tape is to electrically insulate the coil from the outside, but the generator adopts an indirect cooling method in which hydrogen gas or air is cooled outside the coil. In these fields, it is desired to increase the thermal conductivity of the insulating layer. As a technique for increasing the thermal conductivity of an insulating layer formed using a mica tape, a technique for adding an inorganic filler to the mica tape is known.

例えば、特許文献1には、無機フィラーとして熱伝導率の高いアルミナを含有させることで熱伝導性に優れる絶縁層を形成可能にしたマイカテープが記載されている。   For example, Patent Document 1 describes a mica tape that can form an insulating layer having excellent thermal conductivity by containing alumina having high thermal conductivity as an inorganic filler.

特開2005−199562号公報JP 2005-199562 A

無機フィラーを含有するマイカテープは、絶縁層を形成する過程において無機フィラーの一部がマイカテープの外に流出して無機フィラーの無駄が生じるおそれがある。従って、マイカテープに無機フィラーを含有させる手法に加えて絶縁層の熱伝導性を向上させる技術の開発が待たれている。   In the mica tape containing the inorganic filler, in the process of forming the insulating layer, a part of the inorganic filler may flow out of the mica tape and the inorganic filler may be wasted. Therefore, development of a technique for improving the thermal conductivity of the insulating layer is awaited in addition to the method of incorporating an inorganic filler into the mica tape.

マイカテープに無機フィラーを含有させる以外に絶縁層の熱伝導性を向上させる方法としては、マイカテープに含まれる樹脂成分として、硬化した状態での熱伝導率が高いものを用いることが考えられる。例えば、分子中にメソゲン構造を有するエポキシ化合物は、他のエポキシ化合物に比べて硬化した状態での熱伝導率が高い傾向にあるため、これをマイカテープの樹脂成分として用いることが考えられる。
しかしながら、メソゲン構造を有するエポキシ化合物は一般に結晶性が高く、溶融粘度が大きいため、マイカテープを製造する際のマイカ層と裏打ち層への含浸性が充分でない場合がある。また、マイカテープの製造後に樹脂成分が再結晶化してテープが硬くなり、品質に影響するおそれがある。
このように、メソゲン構造を有するエポキシ樹脂をマイカテープの樹脂成分として適用するにはその特性に改善の余地がある。
As a method for improving the thermal conductivity of the insulating layer in addition to including an inorganic filler in the mica tape, it is conceivable to use a resin component having a high thermal conductivity in a cured state as a resin component contained in the mica tape. For example, an epoxy compound having a mesogenic structure in the molecule tends to have a higher thermal conductivity in a cured state than other epoxy compounds, and therefore it can be considered to be used as a resin component of mica tape.
However, an epoxy compound having a mesogenic structure generally has high crystallinity and a high melt viscosity, so that the mica layer and the backing layer may not be sufficiently impregnated when the mica tape is produced. Further, the resin component is recrystallized after the manufacture of the mica tape, and the tape becomes hard, which may affect the quality.
As described above, there is room for improvement in the characteristics of applying an epoxy resin having a mesogenic structure as a resin component of a mica tape.

本発明は上記事情に鑑み、熱伝導性に優れる絶縁層を有する回転電機用コイル及びその製造方法を提供することを課題とする。本発明はまた、熱伝導性に優れる絶縁層を形成可能なマイカテープ、マイカテープの硬化物及びそれを用いた絶縁層付き物品を提供することを課題とする。   This invention makes it a subject to provide the coil for rotary electric machines which has the insulating layer excellent in thermal conductivity, and its manufacturing method in view of the said situation. Another object of the present invention is to provide a mica tape capable of forming an insulating layer having excellent thermal conductivity, a cured product of the mica tape, and an article with an insulating layer using the same.

前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
<1>コイル導体と前記コイル導体の外周に配置された絶縁層とを有し、前記絶縁層はマイカと樹脂成分の硬化物とを含み、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である回転電機用コイル。
Specific means for achieving the above object are as follows.
<1> a coil conductor and an insulating layer disposed on an outer periphery of the coil conductor, the insulating layer including mica and a cured product of a resin component;
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
The coil for rotating electrical machines, wherein the ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the entire epoxy resin.

<2>前記樹脂成分の硬化物中にスメクチック構造が形成されている、<1>に記載の回転電機用コイル。 <2> The coil for rotating electrical machines according to <1>, wherein a smectic structure is formed in the cured product of the resin component.

<3>コイル導体の外周にマイカと樹脂成分とを含むマイカテープを配置する工程と、前記コイル導体の外周に配置された前記マイカテープから絶縁層を形成する工程と、を有し、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である回転電機用コイルの製造方法。
<3> a step of disposing a mica tape containing mica and a resin component on the outer periphery of the coil conductor, and a step of forming an insulating layer from the mica tape disposed on the outer periphery of the coil conductor.
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
The manufacturing method of the coil for rotary electric machines whose ratio of said 1st epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the said whole epoxy resin.

<4>マイカを含むマイカ層と、裏打ち材を含む裏打ち層と、を有し、かつ樹脂成分を含み、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下であるマイカテープ。
<4> A mica layer containing mica and a backing layer containing a backing material, and including a resin component,
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
A mica tape in which the proportion of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the total epoxy resin.

<5>前記第一のエポキシ化合物が、下記一般式(M)で表されるエポキシ化合物を含む、<4>に記載のマイカテープ。 <5> The mica tape according to <4>, wherein the first epoxy compound includes an epoxy compound represented by the following general formula (M).

[一般式(M)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。][In General Formula (M), R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group each independently. ]

<6>前記第二のエポキシ化合物が、下記一般式(I)で表される構造を2つ以上有するエポキシ化合物を含む、<4>又は<5>に記載のマイカテープ。 <6> The mica tape according to <4> or <5>, wherein the second epoxy compound includes an epoxy compound having two or more structures represented by the following general formula (I).

[一般式(I)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。][In General Formula (I), R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group each independently. ]

<7>前記第二のエポキシ化合物が、前記一般式(I)で表される構造を2つ有するエポキシ化合物を含む、<6>に記載のマイカテープ。 <7> The mica tape according to <6>, wherein the second epoxy compound includes an epoxy compound having two structures represented by the general formula (I).

<8>前記第二のエポキシ化合物が、下記一般式(II−A)〜(II−D)で表される構造からなる群より選択される少なくとも1つを有するエポキシ化合物を含む、<4>〜<7>のいずれか1項に記載のマイカテープ。 <8> The second epoxy compound includes an epoxy compound having at least one selected from the group consisting of structures represented by the following general formulas (II-A) to (II-D): <4> The mica tape according to any one of to <7>.

[一般式(II−A)〜(II−D)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基を示す。n及びmはそれぞれ独立に、0〜4の整数を表す。Xはそれぞれ独立に、−O−又は−NH−を表す。][In General Formulas (II-A) to (II-D), R 1 to R 4 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represent An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is shown. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. Each X independently represents —O— or —NH—. ]

<9>前記樹脂成分は、硬化した状態でスメクチック構造を示す、<4>〜<8>のいずれか1項に記載のマイカテープ。 <9> The mica tape according to any one of <4> to <8>, wherein the resin component exhibits a smectic structure in a cured state.

<10>前記樹脂成分を硬化して得られる、<4>〜<9>のいずれか1項に記載のマイカテープの硬化物。 <10> The cured product of mica tape according to any one of <4> to <9>, obtained by curing the resin component.

<11>被絶縁体と、前記被絶縁体の表面の少なくとも一部に配置される<10>に記載のマイカテープの硬化物である絶縁層と、を有する絶縁層付き物品。 <11> An article with an insulating layer having an insulator and an insulating layer that is a cured product of the mica tape according to <10>, which is disposed on at least a part of the surface of the insulator.

<12>コイル導体と、前記コイル導体の外周に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層は<10>に記載のマイカテープの硬化物である回転電機用コイル。 <12> A coil for a rotating electrical machine having a coil conductor and an insulating layer disposed on an outer periphery of the coil conductor, wherein the insulating layer is a cured product of the mica tape according to <10>.

<13>コイル導体の外周に<4>〜<9>のいずれか1項に記載のマイカテープを配置する工程と、前記コイル導体の外周に配置された前記マイカテープから絶縁層を形成する工程と、を有する回転電機用コイルの製造方法。 <13> The step of arranging the mica tape according to any one of <4> to <9> on the outer periphery of the coil conductor, and the step of forming an insulating layer from the mica tape arranged on the outer periphery of the coil conductor And a method for manufacturing a coil for a rotating electrical machine.

本発明によれば、熱伝導性に優れる絶縁層を有する回転電機用コイル及びその製造方法が提供される。また本発明によれば、熱伝導性に優れる絶縁層を形成可能なマイカテープ、マイカテープの硬化物及びそれを用いた絶縁層付き物品が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coil for rotary electric machines which has an insulating layer excellent in heat conductivity, and its manufacturing method are provided. Moreover, according to this invention, the mica tape which can form the insulating layer excellent in heat conductivity, the hardened | cured material of a mica tape, and the articles | goods with an insulating layer using the same are provided.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the components (including element steps and the like) are not essential unless otherwise specified. The same applies to numerical values and ranges thereof, and the present invention is not limited thereto.

本明細書において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において組成物中の各成分の含有率又は含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本明細書において組成物中の各成分の粒子径は、組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本明細書において「層」との語には、当該層が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
本明細書において「積層」との語は、層を積み重ねることを示し、二以上の層が結合されていてもよく、二以上の層が着脱可能であってもよい。
本明細書において「エポキシ化合物」とは、分子中にエポキシ基を有する化合物を意味する。「エポキシ樹脂」とは、複数のエポキシ化合物を集合体として捉える概念である。「樹脂成分」とは、エポキシ樹脂と、必要に応じて硬化剤として用いられる成分とを含む概念である。
In this specification, the term “process” includes a process that is independent of other processes and includes the process if the purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from the other processes. It is.
In the present specification, the numerical ranges indicated by using “to” include numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical ranges described stepwise in this specification, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range. Good. Further, in the numerical ranges described in this specification, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the values shown in the examples.
In the present specification, the content rate or content of each component in the composition is such that when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition, the plurality of kinds present in the composition unless otherwise specified. It means the total content or content of substances.
In the present specification, the particle diameter of each component in the composition is a mixture of the plurality of types of particles present in the composition unless there is a specific indication when there are a plurality of types of particles corresponding to each component in the composition. Means the value of.
In this specification, the term “layer” refers to the case where the layer is formed only in a part of the region in addition to the case where the layer is formed over the entire region. Is also included.
In this specification, the term “stack” indicates that the layers are stacked, and two or more layers may be bonded, or two or more layers may be detachable.
In the present specification, the “epoxy compound” means a compound having an epoxy group in the molecule. “Epoxy resin” is a concept that captures a plurality of epoxy compounds as an aggregate. The “resin component” is a concept including an epoxy resin and a component used as a curing agent as necessary.

<回転電機用コイル>
本実施形態の回転電機用コイルは、コイル導体と前記コイル導体の外周に配置された絶縁層とを有し、前記絶縁層はマイカと樹脂成分の硬化物とを含み、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である。
<Coils for rotating electrical machines>
The coil for a rotating electrical machine of the present embodiment includes a coil conductor and an insulating layer disposed on an outer periphery of the coil conductor, and the insulating layer includes mica and a cured product of a resin component,
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
The ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the entire epoxy resin.

本実施形態の回転電機用コイルでは、絶縁層がメソゲン骨格を有するエポキシ化合物を含む樹脂成分の硬化物を含む。この絶縁層は、メソゲン骨格を有しないエポキシ化合物を含む樹脂成分を用いて形成される従来の絶縁層よりも熱伝導性に優れている。   In the coil for rotating electrical machines of the present embodiment, the insulating layer includes a cured product of a resin component including an epoxy compound having a mesogen skeleton. This insulating layer is more excellent in thermal conductivity than a conventional insulating layer formed using a resin component containing an epoxy compound having no mesogen skeleton.

絶縁層の熱伝導性の観点からは、絶縁層に含まれる樹脂成分の硬化物中にスメクチック構造が形成されていることが好ましい。スメクチック構造の詳細については、後述する。   From the viewpoint of thermal conductivity of the insulating layer, it is preferable that a smectic structure is formed in the cured resin component contained in the insulating layer. Details of the smectic structure will be described later.

本実施形態の回転電機用コイルの絶縁層は、例えば、後述する本実施形態のマイカテープを用いて形成される。本実施形態のコイルに用いられるコイル導体の材質、形状、大きさ等は特に制限されず、コイルの用途等に応じて選択できる。   The insulating layer of the coil for rotating electrical machines of the present embodiment is formed using, for example, the mica tape of the present embodiment described later. The material, shape, size, and the like of the coil conductor used for the coil of this embodiment are not particularly limited, and can be selected according to the use of the coil.

<回転電機用コイルの製造方法>
本実施形態の回転電機用コイルの製造方法は、コイル導体の外周にマイカと樹脂成分とを含むマイカテープを配置する工程と、前記コイル導体の外周に配置された前記マイカテープから絶縁層を形成する工程と、を有し、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である。
<Manufacturing method of coil for rotating electrical machine>
The method for manufacturing a coil for a rotating electrical machine according to the present embodiment includes a step of placing a mica tape containing mica and a resin component on the outer periphery of a coil conductor, and forming an insulating layer from the mica tape arranged on the outer periphery of the coil conductor. And a step of
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
The ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the entire epoxy resin.

本実施形態の回転電機用コイルの製造方法に用いるマイカテープとしては、例えば、後述する本実施形態のマイカテープを用いることができる。
コイル導体の外周にマイカテープを配置する方法は特に制限されず、通常行われる方法を採用することができる。例えば、マイカテープをコイル導体の外周に、マイカテープの一部が重なり合うように螺旋状に巻きつける方法が挙げられる。この場合、マイカテープを巻きつける回数によって、得られる絶縁層の厚みを調節することができる。
As the mica tape used in the method for manufacturing a coil for a rotating electrical machine of the present embodiment, for example, the mica tape of the present embodiment described later can be used.
The method for disposing the mica tape on the outer periphery of the coil conductor is not particularly limited, and a commonly performed method can be adopted. For example, there is a method in which a mica tape is spirally wound around the outer periphery of a coil conductor so that a part of the mica tape overlaps. In this case, the thickness of the insulating layer obtained can be adjusted by the number of times the mica tape is wound.

コイル導体の外周に配置されたマイカテープから絶縁層を形成する方法は、特に制限されない。例えば、コイル導体の外周に配置されたマイカテープを加圧しながら加熱(ヒートプレス)して、マイカテープに含まれている樹脂成分をマイカテープの外に流出させて重なり合うマイカテープ間を埋めるようにし、これを硬化させて絶縁層を形成する方法が挙げられる。   The method for forming the insulating layer from the mica tape disposed on the outer periphery of the coil conductor is not particularly limited. For example, the mica tape placed on the outer periphery of the coil conductor is heated while being pressed (heat press), and the resin component contained in the mica tape is allowed to flow out of the mica tape so as to fill the space between the overlapping mica tapes. And a method of curing this to form an insulating layer.

<マイカテープ>
本実施形態のマイカテープは、マイカを含むマイカ層と、裏打ち材を含む裏打ち層と、を有し、かつ樹脂成分を含み、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である。
<Mica tape>
The mica tape of the present embodiment has a mica layer containing mica and a backing layer containing a backing material, and contains a resin component,
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
The ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the entire epoxy resin.

メソゲン構造を有するエポキシ化合物を含む樹脂成分は、メソゲン構造を有しないエポキシ化合物を含む樹脂成分に比べ、硬化した状態での熱伝導率が高い傾向にある。このため、本実施形態のマイカテープを用いることで、熱伝導性に優れる絶縁層を形成することができる。   A resin component containing an epoxy compound having a mesogenic structure tends to have a higher thermal conductivity in a cured state than a resin component containing an epoxy compound not having a mesogenic structure. For this reason, the insulating layer excellent in thermal conductivity can be formed by using the mica tape of this embodiment.

本実施形態のマイカテープは、例えば、コイル導体等の被絶縁体(外周に絶縁層を形成される対象となる物体)に配置された状態でマイカテープに含まれている樹脂成分を硬化させて被絶縁体の外周に絶縁層を形成するために用いる帯状の物体(プリプレグマイカテープ、RR(Resin Rich)テープ等とも称される)として使用される。   For example, the mica tape of the present embodiment cures the resin component contained in the mica tape in a state where the mica tape is disposed on an insulator such as a coil conductor (an object on which an insulating layer is formed on the outer periphery). It is used as a band-like object (also referred to as a prepreg mica tape, an RR (Resin Rich) tape, or the like) used for forming an insulating layer on the outer periphery of an insulator.

樹脂成分は、マイカ層及び裏打ち層の内部の空隙(マイカ及び裏打ち材が存在しない部分)の少なくとも一部を埋めるようにしてマイカテープ中に存在している(含浸している)。樹脂成分はさらに、マイカ層及び裏打ち層の外部に存在していてもよい。   The resin component is present (impregnated) in the mica tape so as to fill at least a part of voids inside the mica layer and the backing layer (portions where the mica and the backing material do not exist). The resin component may further exist outside the mica layer and the backing layer.

(樹脂成分)
樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含む。また、液体クロマトグラフィーにより得られる第一のエポキシ化合物の割合が、エポキシ樹脂全体の70%以下である。
(Resin component)
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure. Moreover, the ratio of the 1st epoxy compound obtained by a liquid chromatography is 70% or less of the whole epoxy resin.

本発明者らの検討により、液体クロマトグラフィーにより得られる第一のエポキシ化合物の割合がエポキシ樹脂全体の70%以下である場合には、マイカテープの製造中における樹脂成分のマイカ層及び裏打ち層への含浸性が向上することがわかった。その理由は明らかではないが、第一のエポキシ化合物の割合がエポキシ樹脂全体の70%以下であると、塗工時の樹脂の粘度が低下し、マイカ層と裏打ち層の隙間に樹脂が入り込みやすくなったと推測される。また、マイカテープ製造後のエポキシ樹脂の再結晶化が抑制されることがわかった。その理由は明らかではないが、第一のエポキシ化合物の割合がエポキシ樹脂全体の70%以下であると、第一のエポキシ化合物の割合がエポキシ樹脂全体の70%を超える場合に比べ、エポキシ樹脂の溶融温度以下の温度での結晶の析出が抑制されるためと推測される。   When the ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less based on the study by the present inventors, the mica layer and the backing layer of the resin component during the production of the mica tape are used. It was found that the impregnation property of was improved. The reason is not clear, but if the ratio of the first epoxy compound is 70% or less of the entire epoxy resin, the viscosity of the resin during coating decreases, and the resin easily enters the gap between the mica layer and the backing layer. Presumed to be. Moreover, it turned out that the recrystallization of the epoxy resin after mica tape manufacture is suppressed. The reason is not clear, but when the proportion of the first epoxy compound is 70% or less of the whole epoxy resin, the proportion of the epoxy resin is larger than the case where the proportion of the first epoxy compound exceeds 70% of the whole epoxy resin. This is presumably because the precipitation of crystals at a temperature below the melting temperature is suppressed.

本実施形態において、液体クロマトグラフィーにより得られる第一のエポキシ化合物の割合は、液体クロマトグラフにより得られるチャートにおける、全てのエポキシ化合物に由来するピークの合計面積に占める第一のエポキシ化合物に由来するピークの面積の割合(%)である。具体的には、測定対象のエポキシ樹脂の280nmの波長における吸光度を検出し、検出された全てのピークの合計面積と、第一のエポキシ化合物に相当するピークの面積とから、下記式により算出する。
第一のエポキシ化合物に由来するピークの面積の割合(%)=(第一のエポキシ化合物に由来するピークの面積/全てのエポキシ化合物に由来するピークの合計面積)×100
In this embodiment, the ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is derived from the first epoxy compound in the total area of peaks derived from all epoxy compounds in the chart obtained by liquid chromatography. It is the ratio (%) of the area of the peak. Specifically, the absorbance at a wavelength of 280 nm of the epoxy resin to be measured is detected, and is calculated from the total area of all detected peaks and the area of the peak corresponding to the first epoxy compound by the following formula. .
Percentage of area of peak derived from first epoxy compound (%) = (Area of peak derived from first epoxy compound / Total area of peaks derived from all epoxy compounds) × 100

液体クロマトグラフィーは、試料濃度を0.5質量%とし、移動相にテトラヒドロフランを用い、流速を1.0ml/minとして行う。測定は、例えば、株式会社日立製作所製の高速液体クロマトグラフ「L6000」と、株式会社島津製作所製のデータ解析装置「C−R4A」を用いて行うことができる。カラムとしては、例えば、東ソー株式会社製のGPCカラムである「G2000HXL」及び「G3000HXL」を用いることができる。   Liquid chromatography is performed at a sample concentration of 0.5% by mass, tetrahydrofuran as the mobile phase, and a flow rate of 1.0 ml / min. The measurement can be performed using, for example, a high performance liquid chromatograph “L6000” manufactured by Hitachi, Ltd. and a data analysis device “C-R4A” manufactured by Shimadzu Corporation. As the column, for example, “G2000HXL” and “G3000HXL” which are GPC columns manufactured by Tosoh Corporation can be used.

含浸性向上の観点からは、液体クロマトグラフィーにより得られる第一のエポキシ化合物の割合は、エポキシ樹脂全体の60%以下であることが好ましく、50%以下であることがより好ましい。   From the viewpoint of improving the impregnation property, the ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is preferably 60% or less, more preferably 50% or less of the entire epoxy resin.

耐熱性の観点からは、液体クロマトグラフィーにより得られる第一のエポキシ化合物の割合は、エポキシ樹脂全体の20%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましい。   From the viewpoint of heat resistance, the proportion of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is preferably 20% or more, more preferably 30% or more of the entire epoxy resin.

エポキシ樹脂は、第一のエポキシ化合物と第二のエポキシ化合物以外のその他のエポキシ化合物を含んでいてもよい。ただし、その他のエポキシ化合物の液体クロマトグラフィーにより得られる割合は、エポキシ樹脂全体の10%以下であることが好ましい。   The epoxy resin may contain other epoxy compounds other than the first epoxy compound and the second epoxy compound. However, the ratio obtained by liquid chromatography of other epoxy compounds is preferably 10% or less of the entire epoxy resin.

樹脂成分は、メソゲン構造を有するエポキシ化合物のみを含んでいても、メソゲン構造を有するエポキシ化合物に該当しないエポキシ化合物をさらに含んでいてもよい。
絶縁層の熱伝導性を高める観点からは、エポキシ化合物全体(エポキシ樹脂)に占めるメソゲン構造を有するエポキシ化合物の割合は50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。
The resin component may include only an epoxy compound having a mesogenic structure, or may further include an epoxy compound that does not correspond to an epoxy compound having a mesogenic structure.
From the viewpoint of increasing the thermal conductivity of the insulating layer, the proportion of the epoxy compound having a mesogenic structure in the entire epoxy compound (epoxy resin) is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more. More preferably, it is 90% by mass or more.

メソゲン構造を有するエポキシ化合物は、1種のみでも2種以上であってもよい。エポキシ化合物が有するメソゲン構造としては、例えば、ビフェニル構造、フェニルベンゾエート構造、アゾベンゼン構造、スチルベン構造、ターフェニル構造、アントラセン構造、これらの誘導体、及びこれらのメソゲン構造の2つ以上が結合基を介して結合した構造が挙げられる。   The epoxy compound having a mesogenic structure may be one type or two or more types. Examples of the mesogenic structure of the epoxy compound include, for example, a biphenyl structure, a phenylbenzoate structure, an azobenzene structure, a stilbene structure, a terphenyl structure, an anthracene structure, a derivative thereof, and two or more of these mesogenic structures via a bonding group. Examples include bonded structures.

絶縁層の熱伝導率を高める観点からは、メソゲン構造を有するエポキシ化合物は、硬化した状態で高次構造を示すものであることが好ましい。ここで、高次構造とは、その構成要素が配列してミクロな秩序構造を形成した高次構造体を含む構造を意味し、例えば結晶相及び液晶相が相当する。このような高次構造体の存在の有無は、偏光顕微鏡によって判断することができる。すなわち、クロスニコル状態での観察において、偏光解消による干渉縞が見られることで判別可能である。この高次構造体は、通常は硬化物中に島状に存在してドメイン構造を形成しており、その島の一つが一つの高次構造体に対応する。この高次構造体の構成要素自体は、一般には共有結合により形成されている。   From the viewpoint of increasing the thermal conductivity of the insulating layer, the epoxy compound having a mesogenic structure preferably exhibits a higher order structure in a cured state. Here, the higher order structure means a structure including a higher order structure in which constituent elements are arranged to form a micro ordered structure, and corresponds to, for example, a crystal phase and a liquid crystal phase. The presence or absence of such a higher order structure can be determined by a polarizing microscope. That is, in the observation in the crossed Nicols state, it can be distinguished by seeing interference fringes due to depolarization. This higher order structure usually exists in an island shape in the cured product to form a domain structure, and one of the islands corresponds to one higher order structure. In general, the constituent elements of this higher order structure are formed by covalent bonds.

硬化した状態で形成される高次構造としては、ネマチック構造とスメクチック構造とが挙げられる。ネマチック構造とスメクチック構造はそれぞれ液晶構造の一種である。ネマチック構造は分子長軸が一様な方向を向いており、配向秩序のみをもつ液晶構造である。これに対し、スメクチック構造は配向秩序に加えて一次元の位置の秩序を持ち、層構造を有する液晶構造である。秩序性はネマチック構造よりもスメクチック構造の方が高い。   Examples of the higher order structure formed in the cured state include a nematic structure and a smectic structure. Each of the nematic structure and the smectic structure is a kind of liquid crystal structure. The nematic structure is a liquid crystal structure in which the molecular long axis is oriented in a uniform direction and has only an alignment order. On the other hand, the smectic structure is a liquid crystal structure having a one-dimensional positional order in addition to the orientation order and having a layer structure. The order is higher in the smectic structure than in the nematic structure.

絶縁層の熱伝導性を高める観点からは、メソゲン構造を有するエポキシ化合物は、硬化した状態でスメクチック構造を示すものであることがより好ましい。
硬化した状態でスメクチック構造が形成されているか否かは、硬化物のX線回折測定により判断できる。CuKα1線を用い、管電圧40kV、管電流20mA、2θ=0.5〜30°の範囲で測定すると、スメクチック構造を有している硬化物であれば、2θ=2〜10°の範囲に回折ピークが現れる。X線回折測定は、例えば、株式会社リガク製のX線回折装置を用いて行うことができる。
From the viewpoint of increasing the thermal conductivity of the insulating layer, the epoxy compound having a mesogenic structure is more preferably a smectic structure in a cured state.
Whether or not a smectic structure is formed in a cured state can be determined by X-ray diffraction measurement of the cured product. Using CuKα1 wire, tube voltage 40 kV, tube current 20 mA, 2θ = 0.5 to 30 °, and if it is a cured product having a smectic structure, it is diffracted to 2θ = 2 to 10 °. A peak appears. X-ray diffraction measurement can be performed, for example, using an X-ray diffraction apparatus manufactured by Rigaku Corporation.

(第一のエポキシ化合物)
第一のエポキシ化合物は、メソゲン構造を1つ有するエポキシ化合物であれば特に制限されない。メソゲン構造としては、例えば、ビフェニル構造、フェニルベンゾエート構造、アゾベンゼン構造、スチルベン構造、ターフェニル構造、アントラセン構造、これらの誘導体、及びこれらのメソゲン構造の2つ以上が結合基を介して結合した構造が挙げられる。エポキシ樹脂に含まれる第一のエポキシ化合物は、1種のみでも分子構造の異なる2種以上であってもよい。
本明細書においてエポキシ化合物が「メソゲン構造を1つ有する」とは、エポキシ化合物の分子中に2つ以上の同じ構造のメソゲン構造(例えば、2つ以上のビフェニル構造)が存在しないことを意味する。
(First epoxy compound)
The first epoxy compound is not particularly limited as long as it is an epoxy compound having one mesogen structure. Examples of the mesogenic structure include a biphenyl structure, a phenylbenzoate structure, an azobenzene structure, a stilbene structure, a terphenyl structure, an anthracene structure, derivatives thereof, and a structure in which two or more of these mesogenic structures are bonded via a bonding group. Can be mentioned. The first epoxy compound contained in the epoxy resin may be one kind or two or more kinds having different molecular structures.
In the present specification, an epoxy compound having “one mesogenic structure” means that two or more mesogenic structures having the same structure (for example, two or more biphenyl structures) are not present in the molecule of the epoxy compound. .

第一のエポキシ化合物の分子量は、特に制限されない。第一のエポキシ化合物を用いて第二のエポキシ化合物を溶剤を用いて合成する場合、各種溶剤への溶解性等の合成しやすさの観点からは、800以下であることが好ましく、600以下であることがより好ましい。硬化物中の高次構造形成の観点からは、300以上であることが好ましく、350以上であることがより好ましい。   The molecular weight of the first epoxy compound is not particularly limited. In the case of synthesizing the second epoxy compound using the first epoxy compound using a solvent, from the viewpoint of ease of synthesis such as solubility in various solvents, it is preferably 800 or less, and 600 or less. More preferably. From the viewpoint of forming a higher order structure in the cured product, it is preferably 300 or more, and more preferably 350 or more.

第一のエポキシ化合物の好ましい例としては、下記一般式(M)で表される化合物が挙げられる。一般式(M)で表される化合物を含む樹脂成分は、硬化物中にスメクチック液晶構造を形成する。第一のエポキシ化合物が一般式(M)で表される化合物である場合、一般式(M)で表される化合物は1種のみでも2種以上であってもよい。   Preferable examples of the first epoxy compound include compounds represented by the following general formula (M). The resin component containing the compound represented by the general formula (M) forms a smectic liquid crystal structure in the cured product. When the first epoxy compound is a compound represented by the general formula (M), the compound represented by the general formula (M) may be one kind or two or more kinds.

一般式(M)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。また、R〜Rのうちの2個〜4個が水素原子であることが好ましく、3個又は4個が水素原子であることがより好ましく、4個すべてが水素原子であることがさらに好ましい。R〜Rのいずれかが炭素数1〜3のアルキル基である場合、R及びRの少なくとも一方が炭素数1〜3のアルキル基であることが好ましい。In general formula (M), R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group each independently. R 1 to R 4 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and even more preferably a hydrogen atom. Further, it is preferable that two to four of R 1 to R 4 is a hydrogen atom, more preferably 3 or 4 hydrogen atoms, further that all four are hydrogen atoms preferable. If any of R 1 to R 4 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, it is preferred that at least one of R 1 and R 4 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

一般式(M)で表される化合物としては、特開2011−74366号公報に記載されている化合物が挙げられる。具体的には、4−{4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル}シクロヘキシル=4−(2,3−エポキシプロポキシ)ベンゾエート及び4−{4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル}シクロヘキシル=4−(2,3−エポキシプロポキシ)−3−メチルベンゾエートからなる群より選択される少なくとも1種の化合物が挙げられる。   Examples of the compound represented by the general formula (M) include compounds described in JP2011-74366A. Specifically, 4- {4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl} cyclohexyl = 4- (2,3-epoxypropoxy) benzoate and 4- {4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl} cyclohexyl = At least one compound selected from the group consisting of 4- (2,3-epoxypropoxy) -3-methylbenzoate.

(第二のエポキシ化合物)
第二のエポキシ化合物は、第一のエポキシ化合物が有するメソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有するエポキシ化合物であれば特に制限されない。
エポキシ樹脂が第一のエポキシ化合物に加えて第二のエポキシ化合物を含む場合は、エポキシ樹脂が第一のエポキシ化合物のみを含む場合に比べてエポキシ化合物の溶融点以下での粘度が低くなる傾向にある。
(Second epoxy compound)
The second epoxy compound is not particularly limited as long as it is an epoxy compound having two or more mesogenic structures having the same structure as the mesogenic structure of the first epoxy compound.
When the epoxy resin contains the second epoxy compound in addition to the first epoxy compound, the viscosity below the melting point of the epoxy compound tends to be lower than when the epoxy resin contains only the first epoxy compound. is there.

第二のエポキシ化合物は、第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物との反応により得られるものであっても、第一のエポキシ化合物同士の自己重合により得られるものであっても、その他の方法により得られるものであってもよい。   Even if the second epoxy compound is obtained by a reaction between the first epoxy compound and a compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound, Even those obtained by self-polymerization may be obtained by other methods.

第二のエポキシ化合物に含まれる、第一のエポキシ化合物が有するメソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造の数は、特に制限されない。固有粘度(溶融粘度)の観点からは、第二のエポキシ化合物のうち、液体クロマトグラフィーにより得られる割合が最も大きいもののメソゲン構造の数が2であることが好ましい。   The number of mesogenic structures having the same structure as the mesogenic structure of the first epoxy compound contained in the second epoxy compound is not particularly limited. From the viewpoint of the intrinsic viscosity (melt viscosity), it is preferable that the number of mesogenic structures of the second epoxy compound that has the largest proportion obtained by liquid chromatography is 2.

第二のエポキシ化合物が、第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物との反応により得られるものである場合、第二のエポキシ化合物としては、下記一般式(A)又は(B)で表される構造を有するエポキシ化合物が挙げられる。   When the second epoxy compound is obtained by a reaction between the first epoxy compound and a compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound, as the second epoxy compound, The epoxy compound which has a structure represented by the following general formula (A) or (B) is mentioned.

一般式(A)及び(B)において、*は隣接する原子との結合位置を表す。隣接する原子としては酸素原子及び窒素原子が挙げられる。R〜Rはそれぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を表す。n、m及びlはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。n、m及びlはそれぞれ独立に、0〜2の整数であることが好ましく、0〜1の整数であることがより好ましく、0であることがさらに好ましい。In the general formulas (A) and (B), * represents a bonding position with an adjacent atom. Adjacent atoms include oxygen and nitrogen atoms. R 1 to R 3 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. n, m and l each independently represents an integer of 0 to 4. n, m and l are each independently preferably an integer of 0 to 2, more preferably an integer of 0 to 1, and still more preferably 0.

一般式(A)又は(B)で表される構造の中でも、下記一般式(a)又は(b)で表される構造が好ましい。このような構造を有するエポキシ化合物は、分子構造が直線的になりやすい。このため、分子のスタッキング性が高く、高次構造をより形成し易いと考えられる。   Among the structures represented by the general formula (A) or (B), a structure represented by the following general formula (a) or (b) is preferable. An epoxy compound having such a structure tends to have a linear molecular structure. For this reason, it is considered that the stacking property of molecules is high and higher-order structures are more easily formed.

一般式(a)及び(b)における*、R〜R、n、m及びlの定義及び好ましい例は、一般式(A)及び(B)における*、R〜R、n、m及びlの定義及び好ましい例と同様である。 * In the general formula (a) and (b), defined and preferred examples of R 1 ~R 3, n, m and l are * in formula (A) and (B), R 1 ~R 3 , n, The definition and preferred examples of m and l are the same.

第二のエポキシ化合物が、一般式(A)又は(B)で表される構造を有するエポキシ化合物である場合、第二のエポキシ化合物としては、下記一般式(C)又は(D)で表されるエポキシ化合物が挙げられる。   When the second epoxy compound is an epoxy compound having a structure represented by the general formula (A) or (B), the second epoxy compound is represented by the following general formula (C) or (D). Epoxy compounds.

一般式(C)及び(D)におけるR〜R、n、m及びlの定義及び好ましい例は、一般式(A)及び(B)におけるR〜R、n、m及びlの定義及び好ましい例と同様である。Msはそれぞれ独立に、メソゲン構造を有する2価の基を表す。Xはそれぞれ独立に、−O−又は−NH−を表す。Definitions and preferred examples of R 1 to R 3, n, m and l in formula (C) and (D) has the general formula (A) and in R 1 to R 3, n, m and l (B) Definitions and preferred examples are the same. Ms independently represents a divalent group having a mesogenic structure. Each X independently represents —O— or —NH—.

第二のエポキシ化合物は、下記一般式(I)で表される構造を2つ以上有するエポキシ化合物であってもよい。   The second epoxy compound may be an epoxy compound having two or more structures represented by the following general formula (I).

[一般式(I)におけるR〜Rの具体例は、一般式(M)におけるR〜Rの具体例と同様であり、その好ましい範囲も同様である。]Specific examples of R 1 to R 4 in General Formula (I) are the same as the specific examples of R 1 to R 4 in the general formula (M), is the same preferred ranges thereof. ]

第二のエポキシ化合物は、下記一般式(II−A)〜(II−D)で表される構造からなる群より選択される少なくとも1つを有するエポキシ化合物であってもよい。   The second epoxy compound may be an epoxy compound having at least one selected from the group consisting of structures represented by the following general formulas (II-A) to (II-D).

一般式(II−A)〜(II−D)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示し、R及びRはそれぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基を示す。n及びmはそれぞれ独立に、0〜4の整数を示す。Xはそれぞれ独立に、−O−又は−NH−を表す。In general formulas (II-A) to (II-D), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represent carbon. The alkyl group of number 1-8 is shown. n and m each independently represent an integer of 0 to 4. Each X independently represents —O— or —NH—.

一般式(II−A)〜(II−D)におけるR〜Rの具体例は、一般式(M)におけるR〜Rの具体例と同様であり、その好ましい範囲も同様である。Specific examples of R 1 to R 4 in General Formulas (II-A) to (II-D) are the same as the specific examples of R 1 to R 4 in General Formula (M), and preferred ranges thereof are also the same. .

一般式(II−A)〜(II−D)中、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を表し、炭素数1〜3のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。In general formulas (II-A) to (II-D), R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, More preferably, it is a group.

一般式(II−A)〜(II−D)中、n及びmはそれぞれ独立に、0〜4の整数を示し、0〜2の整数であることが好ましく、0〜1の整数であることがより好ましく、0であることがさらに好ましい。つまり、一般式(II−A)〜(II−D)においてR又はRを付されたベンゼン環は、2個〜4個の水素原子を有することが好ましく、3個又は4個の水素原子を有することがより好ましく、4個の水素原子を有することがさらに好ましい。In general formulas (II-A) to (II-D), n and m each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and an integer of 0 to 1. Is more preferred and 0 is even more preferred. That is, in the general formulas (II-A) to (II-D), the benzene ring to which R 5 or R 6 is attached preferably has 2 to 4 hydrogen atoms, and preferably 3 or 4 hydrogen atoms. More preferably, it has an atom, and further preferably has 4 hydrogen atoms.

高次構造形成の観点からは、一般式(II−A)〜(II−D)で表される構造の中でも下記一般式(II−a)〜(II−d)で表される構造を有するエポキシ化合物が好ましい。   From the viewpoint of higher order structure formation, it has a structure represented by the following general formulas (II-a) to (II-d) among the structures represented by the general formulas (II-A) to (II-D). Epoxy compounds are preferred.

一般式(II−a)〜(II−d)におけるR〜R、n、m及びXの定義及び好ましい例は一般式(II−A)〜(II−D)におけるR〜R、n、m及びXの定義及び好ましい例と同様である。Formula (II-a) ~ R 1 ~R 6 in (II-d), n, definition and preferred examples of m and X have the general formula (II-A) R 1 in the ~ (II-D) ~R 6 , N, m and X are the same as defined and preferred examples.

第二のエポキシ化合物が、一般式(I)で表される構造を2つ有するエポキシ化合物(二量体)である場合の例としては、下記一般式(III−A)〜(III〜F)で表されるエポキシ化合物からなる群より選択される少なくとも1種が挙げられる。   Examples where the second epoxy compound is an epoxy compound (dimer) having two structures represented by the general formula (I) include the following general formulas (III-A) to (III to F): And at least one selected from the group consisting of epoxy compounds represented by the formula:

一般式(III−A)〜(III〜F)におけるR〜R、n、m及びXの定義は、一般式(II−A)〜(II−D)におけるR〜R、n、m及びXの定義と同様であり、その好ましい範囲も同様である。 R 1 to R 6 in the general formula (III-A) ~ (III~F ), n, the definition of m and X have the general formula (II-A) R 1 ~R 6 in ~ (II-D), n , M and X are the same, and the preferred range is also the same.

高次構造形成の観点からは、一般式(III−A)〜(III〜F)で表されるエポキシ化合物の中でも下記一般式(III−a)〜(III〜f)で表されるエポキシ化合物が好ましい。   From the viewpoint of higher order structure formation, epoxy compounds represented by the following general formulas (III-a) to (III to f) among the epoxy compounds represented by the general formulas (III-A) to (III to F) Is preferred.

一般式(III−a)〜(III〜f)におけるR〜R、n、m及びXの定義は、一般式(III−A)〜(III−F)におけるR〜R、n、m及びXの定義と同様であり、その好ましい範囲も同様である。Formula (III-a) R 1 in the ~ (III~f) ~R 6, n , the definition of m and X, R 1 to R 6 in the general formula (III-A) ~ (III -F), n , M and X are the same, and the preferred range is also the same.

第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物とを反応させて第二のエポキシ化合物を合成する方法は、特に制限されない。具体的には、例えば、第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物と、必要に応じて用いる反応触媒とを溶媒中に溶解し、加熱しながら撹拌することで、第二のエポキシ化合物を合成することができる。
あるいは、例えば、第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物を、必要に応じて用いる反応触媒と溶媒を用いずに混合し、加熱しながら撹拌することで、第二のエポキシ化合物を合成することができる。
The method for synthesizing the second epoxy compound by reacting the first epoxy compound with a compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound is not particularly limited. Specifically, for example, a first epoxy compound, a compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound, and a reaction catalyst used as necessary are dissolved in a solvent and heated. The second epoxy compound can be synthesized by stirring while stirring.
Alternatively, for example, the first epoxy compound and the compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound are mixed without using a reaction catalyst and a solvent as necessary, and stirred while heating. By doing so, the second epoxy compound can be synthesized.

溶媒は、第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物とを溶解でき、かつ両化合物が反応するのに必要な温度にまで加温できる溶媒であれば、特に制限されない。具体的には、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、N−メチルピロリドン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等が挙げられる。   The solvent is a solvent that can dissolve the first epoxy compound and the compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound and can be heated to a temperature necessary for the reaction of both compounds. If there is, there is no particular limitation. Specific examples include cyclohexanone, cyclopentanone, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, N-methylpyrrolidone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monopropyl ether.

溶媒の量は、第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物と、必要に応じて用いる反応触媒とを反応温度において溶解できる量であれば特に制限されない。反応前の原料の種類、溶媒の種類等によって溶解性が異なるものの、例えば、仕込み固形分濃度が20質量%〜60質量%となる量であれば、反応後の溶液の粘度が好ましい範囲となる傾向にある。   Especially if the quantity of a solvent is the quantity which can melt | dissolve the 1st epoxy compound, the compound which has a functional group which can react with the epoxy group of a 1st epoxy compound, and the reaction catalyst used as needed in reaction temperature. Not limited. Although the solubility differs depending on the type of raw material before reaction, the type of solvent, etc., for example, if the charged solid content concentration is 20% by mass to 60% by mass, the viscosity of the solution after the reaction becomes a preferable range. There is a tendency.

第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物は、特に制限されない。硬化物中にスメクチック構造を形成する観点からは、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物は、2つの水酸基が1つのベンゼン環に結合した構造を有するジヒドロキシベンゼン化合物、2つのアミノ基が1つのベンゼン環に結合した構造を有するジアミノベンゼン化合物、ビフェニル構造を形成する2つのベンゼン環にそれぞれ1つの水酸基が結合した構造を有するジヒドロキシビフェニル化合物及びビフェニル構造を形成する2つのベンゼン環にそれぞれ1つのアミノ基が結合した構造を有するジアミノビフェニル化合物からなる群より選択される少なくとも1種(以下、特定芳香族化合物とも称する)であることが好ましい。   The compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound is not particularly limited. From the viewpoint of forming a smectic structure in the cured product, the compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound is a dihydroxybenzene compound having a structure in which two hydroxyl groups are bonded to one benzene ring, A diaminobenzene compound having a structure in which two amino groups are bonded to one benzene ring, a dihydroxybiphenyl compound having a structure in which one hydroxyl group is bonded to each of two benzene rings forming a biphenyl structure, and two forming a biphenyl structure It is preferably at least one selected from the group consisting of diaminobiphenyl compounds each having a structure in which one amino group is bonded to the benzene ring (hereinafter also referred to as a specific aromatic compound).

第一のエポキシ化合物のエポキシ基と特定芳香族化合物の水酸基又はアミノ基とを反応させることで、一般式(II−A)〜(II−D)で表される構造からなる群より選択される少なくとも1つを有する第二のエポキシ化合物を合成することができる。   By reacting the epoxy group of the first epoxy compound with the hydroxyl group or amino group of the specific aromatic compound, it is selected from the group consisting of structures represented by the general formulas (II-A) to (II-D) A second epoxy compound having at least one can be synthesized.

ジヒドロキシベンゼン化合物としては、1,2−ジヒドロキシベンゼン(カテコール)、1,3−ジヒドロキシベンゼン(レゾルシノール)、1,4−ジヒドロキシベンゼン(ヒドロキノン)、これらの誘導体等が挙げられる。
ジアミノベンゼン化合物としては、1,2−ジアミノベンゼン、1,3−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼン、これらの誘導体等が挙げられる。
ジヒドロキシビフェニル化合物としては、3,3’−ジヒドロキシビフェニル、3,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、これらの誘導体等が挙げられる。
ジアミノビフェニル化合物としては、3,3’−ジアミノビフェニル、3,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノビフェニル、これらの誘導体等が挙げられる。
特定芳香族化合物の誘導体としては、特定芳香族化合物のベンゼン環に炭素数1〜8のアルキル基等の置換基が結合した化合物が挙げられる。特定芳香族化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the dihydroxybenzene compound include 1,2-dihydroxybenzene (catechol), 1,3-dihydroxybenzene (resorcinol), 1,4-dihydroxybenzene (hydroquinone), and derivatives thereof.
Examples of the diaminobenzene compound include 1,2-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 1,4-diaminobenzene, and derivatives thereof.
Examples of the dihydroxybiphenyl compound include 3,3′-dihydroxybiphenyl, 3,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-dihydroxybiphenyl, and derivatives thereof.
Examples of the diaminobiphenyl compound include 3,3′-diaminobiphenyl, 3,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminobiphenyl, and derivatives thereof.
Examples of the derivative of the specific aromatic compound include a compound in which a substituent such as an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is bonded to the benzene ring of the specific aromatic compound. A specific aromatic compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

エポキシ樹脂の硬化物中におけるスメクチック構造の形成し易さの観点からは、特定芳香族化合物としては1,4−ジヒドロキシベンゼン、1,4−ジアミノベンゼン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル及び4,4’−ジアミノビフェニルが好ましい。これらの化合物は、ベンゼン環上の2つの水酸基又はアミノ基がパラ位の位置関係となっているため、これを第一のエポキシ化合物と反応させて得られる第二のエポキシ化合物は直線構造となり易い。このため、分子のスタッキング性が高く、硬化物中にスメクチック構造を形成し易いと考えられる。   From the viewpoint of easy formation of a smectic structure in the cured epoxy resin, 1,4-dihydroxybenzene, 1,4-diaminobenzene, 4,4′-dihydroxybiphenyl and 4,4 are used as the specific aromatic compound. '-Diaminobiphenyl is preferred. In these compounds, since the two hydroxyl groups or amino groups on the benzene ring are in a para-position, the second epoxy compound obtained by reacting this with the first epoxy compound tends to have a linear structure. . For this reason, it is considered that the stacking property of the molecule is high and it is easy to form a smectic structure in the cured product.

反応触媒の種類は特に限定されず、反応速度、反応温度、貯蔵安定性等の観点から適切なものを選択できる。具体的には、イミダゾール化合物、有機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩等が挙げられる。反応触媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The type of the reaction catalyst is not particularly limited, and an appropriate catalyst can be selected from the viewpoint of reaction rate, reaction temperature, storage stability, and the like. Specific examples include imidazole compounds, organophosphorus compounds, tertiary amines, and quaternary ammonium salts. A reaction catalyst may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

硬化物の耐熱性の観点からは、反応触媒としては有機リン化合物が好ましい。
有機リン化合物の好ましい例としては、有機ホスフィン化合物、有機ホスフィン化合物に無水マレイン酸、キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、有機ホスフィン化合物と有機ボロン化合物との錯体などが挙げられる。
From the viewpoint of the heat resistance of the cured product, an organic phosphorus compound is preferable as the reaction catalyst.
Preferred examples of the organic phosphorus compound include an organic phosphine compound, a compound having an intramolecular polarization formed by adding a compound having a π bond such as maleic anhydride, a quinone compound, diazophenylmethane, and a phenol resin to an organic phosphine compound, organic And a complex of a phosphine compound and an organic boron compound.

有機ホスフィン化合物として具体的には、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p−トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキルアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン等が挙げられる。   Specific examples of the organic phosphine compound include triphenylphosphine, diphenyl (p-tolyl) phosphine, tris (alkylphenyl) phosphine, tris (alkoxyphenyl) phosphine, tris (alkylalkoxyphenyl) phosphine, tris (dialkylphenyl) phosphine, Tris (trialkylphenyl) phosphine, tris (tetraalkylphenyl) phosphine, tris (dialkoxyphenyl) phosphine, tris (trialkoxyphenyl) phosphine, tris (tetraalkoxyphenyl) phosphine, trialkylphosphine, dialkylarylphosphine, alkyldiaryl A phosphine etc. are mentioned.

キノン化合物として具体的には、1,4−ベンゾキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等が挙げられる。   Specific examples of the quinone compound include 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl- Examples include 1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, and phenyl-1,4-benzoquinone.

有機ボロン化合物として具体的には、テトラフェニルボレート、テトラ−p−トリルボレート、テトラ−n−ブチルボレート等が挙げられる。   Specific examples of the organic boron compound include tetraphenyl borate, tetra-p-tolyl borate, and tetra-n-butyl borate.

反応触媒の量は特に制限されない。反応速度及び貯蔵安定性の観点からは、第一のエポキシ化合物と、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物との合計質量100質量部に対し、0.1質量部〜1.5質量部であることが好ましく、0.2質量部〜1質量部であることがより好ましい。   The amount of the reaction catalyst is not particularly limited. From the viewpoint of reaction rate and storage stability, 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the first epoxy compound and the compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group of the first epoxy compound. It is preferable that it is -1.5 mass part, and it is more preferable that it is 0.2 mass part-1 mass part.

第一のエポキシ化合物を用いて第二のエポキシ化合物を合成する場合、第一のエポキシのすべてが反応して第二のエポキシ化合物の状態になっていても、第一のエポキシ化合物の一部が反応せずに第一のエポキシ化合物の状態で残存していてもよい。   When synthesizing the second epoxy compound using the first epoxy compound, even if all of the first epoxy is reacted to be in the state of the second epoxy compound, a part of the first epoxy compound is You may remain | survive in the state of a 1st epoxy compound, without reacting.

第二のエポキシ化合物の合成は、少量スケールであればフラスコ、大量スケールであれば合成釜等の反応容器を使用して行うことができる。具体的な合成方法は、例えば以下の通りである。
まず、第一のエポキシ化合物を反応容器に投入し、必要に応じて溶媒を入れ、オイルバス又は熱媒により反応温度まで加温し、第一のエポキシ化合物を溶解する。そこに第一のエポキシ化合物のエポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物を投入し、次いで必要に応じて反応触媒を投入し、反応を開始させる。次いで、必要に応じて減圧下で溶媒を留去することで、第二のエポキシ化合物が得られる。
The synthesis of the second epoxy compound can be performed using a reaction vessel such as a flask for a small scale and a synthesis kettle for a large scale. A specific synthesis method is as follows, for example.
First, a 1st epoxy compound is thrown into reaction container, a solvent is put as needed, and it heats to reaction temperature with an oil bath or a heat medium, and melt | dissolves a 1st epoxy compound. The compound which has a functional group which can react with the epoxy group of a 1st epoxy compound is thrown into there, and then a reaction catalyst is thrown in as needed, and reaction is started. Next, the second epoxy compound is obtained by distilling off the solvent under reduced pressure as necessary.

反応温度は、第一のエポキシ化合物のエポキシ基と、エポキシ基と反応しうる官能基との反応が進行する温度であれば特に制限されず、例えば100℃〜180℃の範囲であることが好ましく、100℃〜150℃の範囲であることがより好ましい。反応温度を100℃以上とすることで、反応が完結するまでの時間をより短くできる傾向にある。一方、反応温度を180℃以下とすることで、ゲル化する可能性を低減できる傾向にある。   The reaction temperature is not particularly limited as long as the reaction proceeds between the epoxy group of the first epoxy compound and the functional group capable of reacting with the epoxy group, and is preferably in the range of, for example, 100 ° C to 180 ° C. More preferably, the temperature is in the range of 100 ° C to 150 ° C. By setting the reaction temperature to 100 ° C. or higher, the time until the reaction is completed tends to be shortened. On the other hand, by setting the reaction temperature to 180 ° C. or lower, the possibility of gelation tends to be reduced.

第二のエポキシ化合物の合成に用いる第一のエポキシ化合物と、エポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物の配合比は、特に制限されない。例えば、エポキシ基の当量数(A)と、エポキシ基と反応しうる官能基の当量数(B)との比率(A:B)が100:100〜100:1の範囲となる配合比としてもよい。硬化物の破壊靭性及び耐熱性の観点からは、A:Bが100:50〜100:1の範囲となる配合比が好ましい。   The mixing ratio of the first epoxy compound used for the synthesis of the second epoxy compound and the compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group is not particularly limited. For example, even if the ratio (A: B) of the number of equivalents of epoxy groups (A) and the number of equivalents of functional groups capable of reacting with epoxy groups (B) is in the range of 100: 100 to 100: 1, Good. From the viewpoint of fracture toughness and heat resistance of the cured product, a blending ratio in which A: B is in the range of 100: 50 to 100: 1 is preferable.

第二のエポキシ化合物の構造は、例えば、合成に使用した第一のエポキシ化合物と、エポキシ基と反応しうる官能基を有する化合物との反応より得られると推定される第二のエポキシ化合物の分子量と、UV及びマススペクトル検出器を備える液体クロマトグラフを用いて実施される液体クロマトグラフィーにより求めた目的化合物の分子量とを照合させることで決定することができる。   The structure of the second epoxy compound is, for example, the molecular weight of the second epoxy compound estimated to be obtained from the reaction between the first epoxy compound used for the synthesis and the compound having a functional group capable of reacting with the epoxy group. And the molecular weight of the target compound determined by liquid chromatography carried out using a liquid chromatograph equipped with UV and mass spectrum detectors.

エポキシ化合物全体(エポキシ樹脂)のエポキシ当量は、特に制限されない。樹脂成分の流動性と硬化物の熱伝導率を両立する観点からは、245g/eq〜500g/eqであることが好ましく、250g/eq〜450g/eqであることがより好ましく、260g/eq〜400g/eqであることがさらに好ましい。エポキシ樹脂のエポキシ当量が245g/eq以上であれば、樹脂成分の結晶性が高くなりすぎず流動性が低下しにくい傾向にある。一方、エポキシ樹脂のエポキシ当量が500g/eq以下であれば、エポキシ樹脂の架橋密度が低下しにくいため、成形物の熱伝導率が高くなる傾向にある。本実施形態において、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、過塩素酸滴定法により測定する。   The epoxy equivalent of the entire epoxy compound (epoxy resin) is not particularly limited. From the viewpoint of achieving both the fluidity of the resin component and the thermal conductivity of the cured product, it is preferably 245 g / eq to 500 g / eq, more preferably 250 g / eq to 450 g / eq, and 260 g / eq to More preferably, it is 400 g / eq. When the epoxy equivalent of the epoxy resin is 245 g / eq or more, the crystallinity of the resin component does not become too high, and the fluidity tends not to decrease. On the other hand, if the epoxy equivalent of the epoxy resin is 500 g / eq or less, the crosslinking density of the epoxy resin is unlikely to decrease, and the thermal conductivity of the molded product tends to increase. In the present embodiment, the epoxy equivalent of the epoxy resin is measured by a perchloric acid titration method.

エポキシ樹脂の数平均分子量(Mn)と重量平均分子量(Mw)は、特に制限されず、エポキシ樹脂の所望の特性に応じて選択できる。粘度の観点からは、エポキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は1200〜1550の範囲から選択されることが好ましい。   The number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin are not particularly limited and can be selected according to desired properties of the epoxy resin. From the viewpoint of viscosity, the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin is preferably selected from the range of 1200 to 1550.

本実施形態において、エポキシ樹脂の数平均分子量(Mn)と重量平均分子量(Mw)は液体クロマトグラフィーにより得られる値とする。
液体クロマトグラフィーは、試料濃度を0.5質量%とし、移動相にテトラヒドロフランを用い、流速を1.0ml/minとして行う。検量線はポリスチレン標準サンプルを用いて作成し、それを用いてポリスチレン換算値でMn及びMwを測定する。
測定は、例えば、株式会社日立製作所製の高速液体クロマトグラフ「L6000」と、株式会社島津製作所製のデータ解析装置「C−R4A」を用いて行うことができる。カラムとしては、例えば、東ソー株式会社製のGPCカラムである「G2000HXL」及び「G3000HXL」を用いることができる。
In the present embodiment, the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin are values obtained by liquid chromatography.
Liquid chromatography is performed at a sample concentration of 0.5% by mass, tetrahydrofuran as the mobile phase, and a flow rate of 1.0 ml / min. A calibration curve is prepared using a polystyrene standard sample, and Mn and Mw are measured in terms of polystyrene using the calibration curve.
The measurement can be performed using, for example, a high performance liquid chromatograph “L6000” manufactured by Hitachi, Ltd. and a data analysis device “C-R4A” manufactured by Shimadzu Corporation. As the column, for example, “G2000HXL” and “G3000HXL” which are GPC columns manufactured by Tosoh Corporation can be used.

(マイカ)
マイカ層に含まれるマイカの種類は、特に制限されない。例えば、未焼成硬質マイカ、焼成硬質マイカ、未焼成軟質マイカ、焼成軟質マイカ、合成マイカ及びフレークマイカが挙げられる。これらの中でも、価格及び入手しやすさの観点からは、未焼成硬質マイカが好ましい。
(Mica)
The kind of mica contained in the mica layer is not particularly limited. Examples include unfired hard mica, fired hard mica, unfired soft mica, fired soft mica, synthetic mica, and flake mica. Among these, unfired hard mica is preferable from the viewpoints of price and availability.

マイカの粒子径は、特に制限されない。例えば、絶縁性の観点からは、JIS標準篩を用いて篩い分けしたときに、粒子径が2.8mm以上であるマイカ片の割合が、マイカ片全体の45質量%未満であることが好ましく、マイカ片全体の30質量%以下であることがより好ましく、20質量%以下であることがさらに好ましい。   The particle diameter of mica is not particularly limited. For example, from the viewpoint of insulation, when sieving using a JIS standard sieve, the proportion of mica pieces having a particle diameter of 2.8 mm or more is preferably less than 45% by mass of the whole mica pieces, It is more preferably 30% by mass or less, and further preferably 20% by mass or less, based on the entire mica piece.

充分な絶縁破壊電界強度を確保する観点からは、JIS標準篩を用いて篩い分けしたときの粒子径が0.5mm以上であるマイカ片の割合が、マイカ片全体の40質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましい。   From the viewpoint of securing sufficient dielectric breakdown electric field strength, the proportion of mica pieces having a particle diameter of 0.5 mm or more when sieved using a JIS standard sieve is 40% by mass or more of the entire mica pieces. Is preferable, and it is more preferable that it is 60 mass% or more.

前記JIS標準篩はJIS−Z−8801−1:2006に準拠し、ISO3310−1:2000に対応する。尚、ISO3310−1:2000を用いる場合には、JIS−Z−8801−1:2006と同様に篩い目の形状が正方形であるものを適用することが好ましい。   The JIS standard sieve conforms to JIS-Z-8801-1: 2006 and corresponds to ISO3310-1: 2000. In addition, when using ISO3310-1: 2000, it is preferable to apply what has the shape of a sieve mesh square like JIS-Z-8801-1: 2006.

マイカテープに含まれるマイカにおけるJIS標準篩を用いて篩い分けしたときの粒子径が2.8mm以上であるマイカ片の割合、及び粒子径が0.5mm以上であるマイカ片の割合は、例えば、以下のようにして確認することができる。   The ratio of mica pieces having a particle diameter of 2.8 mm or more when sieving using a JIS standard sieve in mica contained in the mica tape, and the ratio of mica pieces having a particle diameter of 0.5 mm or more are, for example, It can be confirmed as follows.

マイカテープの裏打ち層とマイカ層の界面に剃刀を差し込み、裏打ち層からマイカ層を剥離する。剥離したマイカ層1gをメチルエチルケトン100gに分散させ、10分間振とう後、8000回転/分(rpm)で5分間遠心分離する。上澄み液を除去して残った固形分に対して、メチルエチルケトン100gを加え、10分間振とう後、8000回転/分(rpm)で5分間遠心分離する。さらにもう一度、上澄み液を除去して残った固形分に対して、メチルエチルケトン100gを加え、10分間振とうした後、8000回転/分(rpm)で5分間遠心分離する。上澄み液を除去して残った固形分1gにメチルエチルケトン100gを加え、ミックスローターにて30分間分散させ、さらに10分間振とうする。その後、容器を振とうさせながら、目開き2.8mmから目開き0.5mmの順にJIS標準篩(JIS−Z−8801−1:2006、ISO3310−1:2000、東京スクリーン株式会社、試験用ふるい)で篩い分けする。
上記篩い分けは、電磁式篩振動機を用い、振動数3000回/分、振幅1mm、10分間行う。
Insert a razor into the interface between the backing layer and the mica layer of the mica tape, and peel off the mica layer from the backing layer. 1 g of the peeled mica layer is dispersed in 100 g of methyl ethyl ketone, shaken for 10 minutes, and then centrifuged at 8000 rotations / minute (rpm) for 5 minutes. 100 g of methyl ethyl ketone is added to the solid content remaining after removing the supernatant, shaken for 10 minutes, and then centrifuged at 8000 rpm for 5 minutes. Further, 100 g of methyl ethyl ketone is added to the remaining solid after removing the supernatant, and the mixture is shaken for 10 minutes and then centrifuged at 8000 rpm for 5 minutes. The supernatant is removed, 100 g of methyl ethyl ketone is added to 1 g of the remaining solid, and the mixture is dispersed for 30 minutes with a mix rotor and shaken for another 10 minutes. Thereafter, while shaking the container, JIS standard sieves (JIS-Z-8801-1: 2006, ISO3310-1: 2000, Tokyo Screen Co., Ltd., test sieve) ).
The sieving is performed using an electromagnetic sieve vibrator at a frequency of 3000 times / minute, an amplitude of 1 mm, and 10 minutes.

篩い分けの結果、目開き2.8mm(又は0.5mm)の篩いの目を通過しなかったマイカ片を「粒子径が2.8mm(又は0.5mm)以上であるマイカ片」とし、篩い分けする前のマイカ片の全量中の「粒子径が2.8mm(又は0.5mm)以上であるマイカ片」の割合(質量%)を「JIS標準篩を用いて篩い分けしたときの粒子径が2.8mm(又は0.5mm)以上であるマイカ片の割合」とする。   As a result of sieving, a mica piece that has not passed through a sieve having an opening of 2.8 mm (or 0.5 mm) is defined as a “mica piece having a particle diameter of 2.8 mm (or 0.5 mm) or more”. The ratio (mass%) of “mica pieces with a particle diameter of 2.8 mm (or 0.5 mm) or more” in the total amount of mica pieces before being divided is “particle diameter when sieving using a JIS standard sieve. Is the ratio of mica pieces with 2.8 mm (or 0.5 mm) or more.

マイカは1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。マイカを2種以上併用する場合としては、例えば、同じ成分で粒子径が異なるマイカを2種以上用いる場合、粒子径が同じで成分の異なるマイカを2種以上用いる場合、並びに平均粒子径及び成分の異なるマイカを2種以上用いる場合が挙げられる。   Mica may be used alone or in combination of two or more. When two or more mica are used in combination, for example, when two or more mica having the same component and different particle sizes are used, when two or more mica having the same particle size and different components are used, and the average particle size and component The case where 2 or more types of mica having different types is used is mentioned.

マイカ層中のマイカの量は、特に制限されない。例えば、80g/m〜230g/mの範囲が好ましく、100g/m〜200g/mの範囲がより好ましい。マイカ層中のマイカの量が80g/m以上であれば、充分な絶縁性が確保される傾向にある。マイカ層中のマイカの量が230g/m以下であれば、マイカテープの厚さを薄くでき、充分な熱伝導性が確保される傾向にある。The amount of mica in the mica layer is not particularly limited. For example, is preferably in a range of 80g / m 2 ~230g / m 2 , the range of 100g / m 2 ~200g / m 2 is more preferable. If the amount of mica in the mica layer is 80 g / m 2 or more, sufficient insulating properties tend to be secured. If the amount of the mica mica layer is 230 g / m 2 or less, it can reduce the thickness of the mica tape, in sufficient tendency to thermal conductivity is ensured.

(裏打ち材)
マイカテープの裏打ち層に含まれる裏打ち材の種類は、特に制限されない。例えば、ガラスクロスが挙げられる。裏打ち材としてガラスクロスを用いることで、ガラスクロスを構成する繊維の間に浸透した樹脂成分によって隣接するマイカ層と良好に一体化し、絶縁層の熱伝導性がより向上する傾向にある。
(Lining material)
The type of the backing material contained in the backing layer of the mica tape is not particularly limited. For example, a glass cloth is mentioned. By using glass cloth as the backing material, the resin component penetrated between the fibers constituting the glass cloth is well integrated with the adjacent mica layer, and the thermal conductivity of the insulating layer tends to be further improved.

裏打ち材の平均厚さは特に限定されない。例えば、30μm〜60μmであることが好ましく、45μm〜50μmであることがより好ましい。裏打ち材の平均厚さが30μm以上であれば、マイカテープを加圧した際に裏打ち層が裏打ち材の厚さに追従して薄くなりすぎるのが抑制され、熱伝導率の低下が抑制される傾向にある。裏打ち材の厚さが60μm以下であれば、マイカテープが厚くなるのを抑制でき、マイカテープを被絶縁体に巻き付ける工程中のマイカテープの切れ、ひび等の発生が抑制される傾向にある。   The average thickness of the backing material is not particularly limited. For example, it is preferably 30 μm to 60 μm, and more preferably 45 μm to 50 μm. When the average thickness of the backing material is 30 μm or more, it is suppressed that the backing layer becomes too thin following the thickness of the backing material when the mica tape is pressed, and a decrease in thermal conductivity is suppressed. There is a tendency. If the thickness of the backing material is 60 μm or less, the thickness of the mica tape can be suppressed, and the occurrence of breakage, cracks, and the like of the mica tape during the process of winding the mica tape around the insulator tends to be suppressed.

本実施形態において裏打ち材の平均厚さは、マイクロメーター(MDC−SB、株式会社ミツトヨ)を用いて裏打ち材の厚さを計10箇所で測定し、得られた測定値の算術平均値とする。   In this embodiment, the average thickness of the backing material is measured at a total of 10 locations using a micrometer (MDC-SB, Mitutoyo Corporation), and is the arithmetic average value of the obtained measured values. .

裏打ち材は、必要に応じて表面処理されたものでもよい。裏打ち材の表面処理の方法としては、例えば、シランカップリング剤による処理が挙げられる。   The backing material may be surface-treated as necessary. Examples of the surface treatment method for the backing material include treatment with a silane coupling agent.

(その他の成分)
マイカテープは、必要に応じてエポキシ樹脂、マイカ及び裏打ち材以外のその他の成分を含んでもよい。その他の成分としては、硬化触媒、無機フィラー、硬化剤、カップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、安定剤、難燃剤、増粘剤等が挙げられる。マイカテープがこれらの成分を含む場合、その含有量は特に制限されない。
(Other ingredients)
The mica tape may contain other components other than the epoxy resin, mica and the backing material as necessary. Examples of other components include a curing catalyst, an inorganic filler, a curing agent, a coupling agent, an antioxidant, an anti-aging agent, a stabilizer, a flame retardant, and a thickener. When a mica tape contains these components, the content is not particularly limited.

硬化触媒の具体例としては、上述したエポキシ化合物の多量体の合成に使用しうる反応触媒として例示した化合物が挙げられる。   Specific examples of the curing catalyst include compounds exemplified as the reaction catalyst that can be used for the synthesis of the above-described multimer of epoxy compounds.

無機フィラーの具体例としては、シリカ、窒化ホウ素及びアルミナが挙げられる。熱伝導性の観点からは、アルミナが好ましい。熱伝導性とマイカテープの巻きつけ性を両立させる観点からは、窒化ホウ素が好ましい。   Specific examples of the inorganic filler include silica, boron nitride, and alumina. Alumina is preferable from the viewpoint of thermal conductivity. Boron nitride is preferable from the viewpoint of achieving both thermal conductivity and winding ability of the mica tape.

窒化ホウ素の種類は特に限定されず、六方晶窒化ホウ素(h−BN)、立方晶窒化ホウ素(c−BN)、ウルツ鉱型窒化ホウ素等が挙げられる。これらの中でも、六方晶窒化ホウ素(h−BN)が好ましい。窒化ホウ素は、鱗片状に形成されている窒化ホウ素の一次粒子であっても、一次粒子が凝集して形成された二次粒子であってもよい。   The kind of boron nitride is not particularly limited, and examples thereof include hexagonal boron nitride (h-BN), cubic boron nitride (c-BN), and wurtzite boron nitride. Among these, hexagonal boron nitride (h-BN) is preferable. The boron nitride may be primary particles of boron nitride formed in a scale shape or secondary particles formed by agglomeration of primary particles.

無機フィラーの平均粒子径は、特に限定されない。例えば、1μm〜40μmであることが好ましく、5μm〜20μmであることがより好ましく、5μm〜10μmであることがさらに好ましい。   The average particle diameter of the inorganic filler is not particularly limited. For example, it is preferably 1 μm to 40 μm, more preferably 5 μm to 20 μm, and even more preferably 5 μm to 10 μm.

無機フィラーの平均粒子径は、例えば、レーザー回折散乱方式粒度分布測定装置(マイクロトラック MT3000II、日機装株式会社)を用いることで測定可能である。具体的には、純水中に無機フィラーを投入した後に、超音波分散機で分散する。この分散液の粒子径分布を測定することで、無機フィラーの粒子径分布が測定される。この粒子径分布に基づいて、小径側からの体積累積50%に対応する粒子径(D50)を平均粒子径として求める。   The average particle diameter of the inorganic filler can be measured by using, for example, a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer (Microtrack MT3000II, Nikkiso Co., Ltd.). Specifically, an inorganic filler is introduced into pure water and then dispersed with an ultrasonic disperser. By measuring the particle size distribution of the dispersion, the particle size distribution of the inorganic filler is measured. Based on this particle size distribution, the particle size (D50) corresponding to 50% volume accumulation from the small diameter side is determined as the average particle size.

無機フィラーは1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。無機フィラーを2種以上併用する場合としては、例えば、同じ成分で平均粒子径が異なる無機フィラーを2種以上用いる場合、平均粒子径が同じで成分の異なる無機フィラーを2種以上用いる場合、並びに平均粒子径及び種類の異なる無機フィラーを2種以上用いる場合が挙げられる。   An inorganic filler may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. As a case where two or more inorganic fillers are used in combination, for example, when two or more inorganic fillers having the same component and different average particle sizes are used, two or more inorganic fillers having the same average particle size and different components are used, and A case where two or more inorganic fillers having different average particle diameters and types are used.

硬化剤の具体例としては、アミン硬化剤、フェノール硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤等が挙げられる。   Specific examples of the curing agent include amine curing agents, phenol curing agents, acid anhydride curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, and blocked isocyanate curing agents.

<マイカテープの全体構成>
マイカテープの平均厚さは、特に制限されない。例えば、マイカテープの平均厚さは400μm以下であってよく、350μm以下であることが好ましく、300μm以下であることがより好ましい。
<Overall configuration of mica tape>
The average thickness of the mica tape is not particularly limited. For example, the average thickness of the mica tape may be 400 μm or less, preferably 350 μm or less, and more preferably 300 μm or less.

マイカテープの巻きつけやすさの観点からは、マイカテープの平均厚さは300μm以下であることが好ましく、290μm以下であることがより好ましい。絶縁性の観点からは、マイカテープの平均厚さは120μm以上であることが好ましく、150μm以上であることがより好ましく、160μm以上であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of easy winding of the mica tape, the average thickness of the mica tape is preferably 300 μm or less, and more preferably 290 μm or less. From the viewpoint of insulation, the average thickness of the mica tape is preferably 120 μm or more, more preferably 150 μm or more, and further preferably 160 μm or more.

マイカ層の平均厚さは、特に制限されない。マイカテープの巻き付けやすさの観点からは、マイカ層の平均厚さは180μm以下であることが好ましく、170μm以下であることがより好ましい。絶縁性の観点からは、マイカ層の平均厚さは80μm以上であることが好ましく、90μm以上であることがより好ましい。   The average thickness of the mica layer is not particularly limited. From the viewpoint of ease of winding the mica tape, the average thickness of the mica layer is preferably 180 μm or less, and more preferably 170 μm or less. From the viewpoint of insulation, the average thickness of the mica layer is preferably 80 μm or more, and more preferably 90 μm or more.

裏打ち層の平均厚さは、特に制限されない。マイカテープの巻き付けやすさの観点からは、裏打ち層の平均厚さは60μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましい。マイカテープの強度の観点からは、裏打ち層の平均厚さは10μm以上であることが好ましく、20μm以上であることがより好ましい。   The average thickness of the backing layer is not particularly limited. From the viewpoint of ease of winding the mica tape, the average thickness of the backing layer is preferably 60 μm or less, and more preferably 50 μm or less. From the viewpoint of the strength of the mica tape, the average thickness of the backing layer is preferably 10 μm or more, and more preferably 20 μm or more.

本実施形態においてマイカテープの平均厚さは、マイクロメーター(MDC−SB、株式会社ミツトヨ)を用いてマイカテープの厚さを計10箇所で測定し、得られた測定値の算術平均値とする。   In this embodiment, the average thickness of the mica tape is the arithmetic average value of the measured values obtained by measuring the thickness of the mica tape at a total of 10 locations using a micrometer (MDC-SB, Mitutoyo Corporation). .

本実施形態においてマイカテープ中のマイカ層及び裏打ち層の厚さは、マイカテープの断面におけるマイカ層及び裏打ち層の厚さを実体顕微鏡(例えば、オリンパス株式会社、「BX51」)のミクロメーターにて3箇所観察し、その算術平均値とする。   In the present embodiment, the thickness of the mica layer and the backing layer in the mica tape is determined by measuring the thickness of the mica layer and the backing layer in the cross section of the mica tape with a micrometer of a stereomicroscope (for example, Olympus Corporation “BX51”). Observe 3 points and use the arithmetic average.

マイカテープにおける樹脂成分の含有率は特に制限されず、マイカテープの用途等に応じて選択できる。例えば、マイカテープ中の樹脂成分の含有率は、マイカテープ全体の15質量%〜40質量%であってよく、25質量%〜33質量%であることがより好ましい。   The content of the resin component in the mica tape is not particularly limited, and can be selected according to the use of the mica tape. For example, the content of the resin component in the mica tape may be 15% by mass to 40% by mass of the entire mica tape, and more preferably 25% by mass to 33% by mass.

本実施形態において、マイカテープ中の樹脂成分の含有率は、例えば、下記方法によって算出される。
幅30mm及び長さ50mmの大きさに切断したマイカテープを電気炉にて600℃及び2時間の条件で加熱し、加熱前後の質量減少率(%)を下記式により求める。以上の工程を3回行い、得られた値の算術平均値として求める。
樹脂成分の含有率={(加熱前の質量−加熱後の質量)/加熱前の質量}×100
In this embodiment, the content rate of the resin component in the mica tape is calculated by the following method, for example.
The mica tape cut to a size of 30 mm in width and 50 mm in length is heated in an electric furnace at 600 ° C. for 2 hours, and the mass reduction rate (%) before and after heating is obtained by the following formula. The above process is performed three times, and an arithmetic average value of the obtained values is obtained.
Resin component content = {(mass before heating−mass after heating) / mass before heating} × 100

マイカテープが無機フィラーを含む場合、マイカテープ中の無機フィラーの含有率は、特に制限されない。   When the mica tape contains an inorganic filler, the content of the inorganic filler in the mica tape is not particularly limited.

マイカテープは、必要に応じ、マイカテープの最表面に設けられる保護層(保護フィルム)等を有していてもよい。   The mica tape may have a protective layer (protective film) provided on the outermost surface of the mica tape, if necessary.

<マイカテープの製造方法>
本実施形態のマイカテープの製造方法は特に制限されず、公知の製造方法を適用することができる。
<Mica tape manufacturing method>
The manufacturing method in particular of the mica tape of this embodiment is not restrict | limited, A well-known manufacturing method is applicable.

マイカテープの製造方法の一例としては、裏打ち材をマイカペーパの上に配置して積層体を準備する工程と、樹脂成分及び必要に応じて含まれるその他の成分を含む組成物を、前記積層体の前記裏打ち材側に付与する工程と、を含む方法が挙げられる。マイカペーパは、マイカが集合して形成されたシート状の物体である。   As an example of a method for producing mica tape, a step of preparing a laminate by placing a backing material on mica paper, and a composition containing a resin component and other components contained as necessary, And a step of applying to the backing material side. The mica paper is a sheet-like object formed by gathering mica.

上記方法に用いられるマイカ、裏打ち材、組成物に含まれる樹脂成分及びその他の成分、並びに製造されるマイカテープの詳細及び好ましい態様は、上述したとおりである。   Details and preferred embodiments of the mica, the backing material, the resin component and other components contained in the composition, and the produced mica tape are as described above.

必要に応じ、組成物は溶剤を含んでもよい。溶剤を含むことで組成物の粘度が低下し、含浸性が向上する傾向にある。溶剤の種類は特に制限されず、通常用いられる有機溶剤から選択できる。具体的には、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエン、メタノール等が挙げられる。溶剤は1種のみを用いても、2種以上を併用してもよい。   If desired, the composition may include a solvent. By including the solvent, the viscosity of the composition is lowered, and the impregnation property tends to be improved. The type of the solvent is not particularly limited, and can be selected from commonly used organic solvents. Specific examples include cyclohexanone, methyl ethyl ketone, toluene, methanol and the like. A solvent may use only 1 type or may use 2 or more types together.

組成物の付与は、裏打ち材に付与した組成物が裏打ち材の他方の面側(マイカペーパ側)ににじみ出てマイカペーパの全体又は一部に浸透するように行うことが好ましい。この場合、フィブリット混抄のマイカペーパでなくても、マイカペーパが自立可能となりやすく、崩れにくい。フィブリットを含まないマイカペーパを用いることで、電気絶縁性と熱伝導率が向上する傾向にある。   The application of the composition is preferably performed so that the composition applied to the backing material oozes out to the other surface side (mica paper side) of the backing material and penetrates all or part of the mica paper. In this case, even if it is not a fibrotic mixed paper, the mica paper can easily become independent and is not easily collapsed. By using mica paper that does not contain fibrites, electrical insulation and thermal conductivity tend to be improved.

<マイカテープの硬化物>
本実施形態のマイカテープの硬化物は、上述したマイカテープに含まれる樹脂成分を硬化して得られる。硬化の方法は特に制限されず、通常の方法から選択できる。
<Hardened mica tape>
The cured product of the mica tape of this embodiment is obtained by curing the resin component contained in the mica tape described above. The curing method is not particularly limited, and can be selected from ordinary methods.

<絶縁層付き物品>
本実施形態の絶縁層付き物品は、被絶縁体と、前記被絶縁体の表面の少なくとも一部に配置される本実施形態のマイカテープの硬化物である絶縁層と、を有する。本実施形態のマイカテープを用いて絶縁層を形成する方法は特に制限されず、従来から公知の製造方法を適用することができる。例えば、被絶縁体にマイカテープを巻き付けた後にマイカテープを加圧しながら加熱(ヒートプレス)して、あらかじめマイカテープに含まれている樹脂成分をマイカテープの外に流出させて重なり合うマイカテープ間を埋めるようにし、これを硬化させて絶縁層を形成する方法が挙げられる。
<Article with insulating layer>
The article with an insulating layer according to the present embodiment includes an insulator and an insulating layer that is a cured product of the mica tape according to the present embodiment that is disposed on at least a part of the surface of the insulator. The method for forming the insulating layer using the mica tape of the present embodiment is not particularly limited, and conventionally known production methods can be applied. For example, after winding mica tape around an insulator, heat the mica tape while applying pressure (heat press), and let the resin component contained in the mica tape flow out of the mica tape in advance and overlap between the overlapping mica tapes. There is a method of forming an insulating layer by filling and curing the insulating layer.

本実施形態の絶縁層付き物品に適用されうる被絶縁体は、特に限定されるものではなく、上述した回転電機用コイルのコイル導体、棒状の銅、板状の銅等が挙げられる。   The to-be-insulated material that can be applied to the article with an insulating layer of the present embodiment is not particularly limited, and examples thereof include a coil conductor of a coil for a rotating electrical machine described above, rod-shaped copper, and plate-shaped copper.

本実施形態のマイカテープを用いることで、熱伝導性に優れる絶縁層を形成することができる。従って、本実施形態の絶縁層付き物品がコイルである場合、当該コイルを冷却する際、従来では水直接冷却方式を採用されていた規模のコイルに対しても、水素冷却方式又は空冷方式を採用することができるようになり、コイルの構造を簡素化することが可能となる。   By using the mica tape of this embodiment, an insulating layer having excellent thermal conductivity can be formed. Therefore, when the article with an insulating layer of the present embodiment is a coil, when cooling the coil, a hydrogen cooling method or an air cooling method is adopted even for a coil of a scale that conventionally employs a direct water cooling method. It becomes possible to simplify the structure of the coil.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
(1)エポキシ樹脂の合成
500mLの三口フラスコに、下記構造で示されるエポキシモノマー(4−{4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル}シクロヘキシル=4−(2,3−エポキシプロポキシ)ベンゾエート)を50g(0.118mol)量り取り、そこにプロピレングリコールモノメチルエーテルを80g添加した。三口フラスコに冷却管及び窒素導入管を設置し、溶媒に漬かるように撹拌羽を取り付けた。この三口フラスコを120℃のオイルバスに浸漬し、撹拌を開始した。エポキシモノマーが溶解し、透明な溶液になったことを確認した後、特定芳香族化合物としてヒドロキノンを添加した。
ヒドロキノンの添加量は、エポキシモノマーのエポキシ基の当量数(A)とヒドロキノンの水酸基の当量数(B)の比(A:B)が100:13となる量とした。さらに反応触媒としてトリフェニルホスフィンを0.5g添加し、120℃のオイルバス温度で加熱を継続した。5時間加熱を継続した後に、反応溶液からプロピレングリコールモノメチルエーテルを減圧留去し、残渣を室温(25℃)まで冷却することにより、合成に用いたエポキシモノマー(第一のエポキシ化合物)の一部が多量体(第二のエポキシ化合物)を形成(プレポリマー化)した状態のエポキシ樹脂を得た。
<Example 1>
(1) Synthesis of epoxy resin In a 500 mL three-necked flask, an epoxy monomer represented by the following structure (4- {4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl} cyclohexyl = 4- (2,3-epoxypropoxy) benzoate) 50 g (0.118 mol) was weighed, and 80 g of propylene glycol monomethyl ether was added thereto. A cooling tube and a nitrogen introducing tube were installed in the three-necked flask, and a stirring blade was attached so as to be immersed in the solvent. This three-necked flask was immersed in a 120 ° C. oil bath, and stirring was started. After confirming that the epoxy monomer dissolved and became a transparent solution, hydroquinone was added as a specific aromatic compound.
The amount of hydroquinone added was such that the ratio (A: B) of the epoxy group equivalent number (A) of the epoxy monomer to the hydroquinone hydroxyl group equivalent number (B) was 100: 13. Further, 0.5 g of triphenylphosphine was added as a reaction catalyst, and heating was continued at an oil bath temperature of 120 ° C. After continuing the heating for 5 hours, the propylene glycol monomethyl ether was distilled off under reduced pressure from the reaction solution, and the residue was cooled to room temperature (25 ° C.), thereby a part of the epoxy monomer (first epoxy compound) used for the synthesis. Obtained an epoxy resin in a state where a multimer (second epoxy compound) was formed (prepolymerized).

得られたエポキシ樹脂について、エポキシモノマーのエポキシ樹脂全体における割合を上述した条件で液体クロマトグラフィーにより測定したところ、66%であった。   About the obtained epoxy resin, when the ratio in the whole epoxy resin of an epoxy monomer was measured by the liquid chromatography on the conditions mentioned above, it was 66%.

(2)樹脂組成物の調製
得られたエポキシ樹脂87.4質量%と、硬化触媒としての三フッ化ホウ素モノエチルアミン(和光純薬工業株式会社)2.6質量%と、溶媒としてのシクロヘキサノン(和光純薬工業株式会社)10.0質量%と、を混合して樹脂組成物を調製した。
(2) Preparation of resin composition 87.4% by mass of the obtained epoxy resin, 2.6% by mass of boron trifluoride monoethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a curing catalyst, and cyclohexanone as a solvent ( Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 10.0% by mass was mixed to prepare a resin composition.

(3)マイカテープの作製
未焼成硬質マイカを水中に分散してマイカ粒子とし、抄紙機にて抄造して、マイカ量が180g/mのマイカペーパ(未焼成硬質集成マイカ)を作製した。
マイカペーパの作製に用いた未焼成硬質マイカを公称目開きが2.8mmのJIS標準篩を用いて篩い分けしたところ、篩い目を通過しないマイカの割合はマイカ全体の0質量%であった。
マイカペーパの作製に用いた未焼成硬質マイカを公称目開き0.5mmのJIS標準篩を用いて篩い分けしたところ、篩い目を通過しないマイカの割合はマイカ全体の63質量%であった。
(3) Production of mica tape Unfired hard mica was dispersed in water to form mica particles, and the paper was made with a paper machine to produce mica paper (unfired hard laminated mica) having a mica amount of 180 g / m 2 .
When the unfired hard mica used for the preparation of mica paper was sieved using a JIS standard sieve having a nominal mesh opening of 2.8 mm, the proportion of mica that did not pass through the mesh was 0% by mass of the entire mica.
When the unfired hard mica used for the preparation of mica paper was sieved using a JIS standard sieve having a nominal aperture of 0.5 mm, the proportion of mica that did not pass through the sieve was 63% by mass of the entire mica.

台上に配置したマイカペーパの上に裏打ち材としてガラスクロス(株式会社双洋、「WEA 03G 103」、厚さ0.030mm)を重ね、積層体とした。次いで、ガラスクロスの上面に、90℃に加熱した樹脂組成物をロールコーターを用いて塗布した。塗布は、樹脂組成物がガラスクロスの下のマイカペーパの全体にも浸透するように実施したところ、樹脂組成物のガラスクロス及びマイカペーパへの含浸性は良好であった。その後100℃で20分かけて乾燥し、樹脂成分を含有するマイカ層とガラスクロス層(裏打ち層)とからなる積層体を作製した。この積層体を幅が30mmとなるように切断して、マイカテープを作製した。   A glass cloth (Soyo Co., Ltd., “WEA 03G 103”, thickness 0.030 mm) as a backing material was stacked on the mica paper placed on the table to form a laminate. Subsequently, the resin composition heated at 90 degreeC was apply | coated to the upper surface of the glass cloth using the roll coater. The application was carried out so that the resin composition penetrates the entire mica paper under the glass cloth, and the impregnation property of the resin composition into the glass cloth and mica paper was good. Thereafter, the laminate was dried at 100 ° C. for 20 minutes to produce a laminate comprising a mica layer containing a resin component and a glass cloth layer (backing layer). The laminate was cut so that the width was 30 mm to produce a mica tape.

(4)熱伝導率の測定
上述の方法によって作製したマイカテープを16枚重ねて、170℃で1時間のヒートプレスを行って樹脂成分を硬化させ、熱伝導率測定用の積層硬化物を作製した。この積層硬化物について、熱伝導率測定装置(英弘精機株式会社、「HC−110」)を用いて、熱伝導率(W/(m・K))を測定した。結果を表1に示す。
(4) Measurement of thermal conductivity Sixteen mica tapes produced by the above-described method are stacked and subjected to heat pressing at 170 ° C. for 1 hour to cure the resin component, thereby producing a laminated cured product for measuring thermal conductivity. did. About this laminated hardened | cured material, the heat conductivity (W / (m * K)) was measured using the heat conductivity measuring apparatus (Eihiro Seiki Co., Ltd., "HC-110"). The results are shown in Table 1.

(5)再結晶化の評価
マイカテープの作製(樹脂組成物の塗布)から30℃で3時間放置した後、長さ20cmの試験片を作製し、30℃で目視にて観察して、樹脂成分の再結晶化を下記の評価基準で評価した。結果を表1に示す。
樹脂成分が透明でテープを曲げた際のひび割れ等が起こらない・・・A
樹脂成分がやや透明でテープを曲げた際のひび割れ、皺等が1〜4箇所・・・B
樹脂成分が不透明でテープを曲げた際のひび割れ、皺等が5箇所以上・・・C
(5) Evaluation of recrystallization After the mica tape was prepared (application of the resin composition) and left at 30 ° C. for 3 hours, a test piece having a length of 20 cm was prepared and visually observed at 30 ° C. The recrystallization of the components was evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1.
The resin component is transparent and does not crack when the tape is bent ... A
The resin component is slightly transparent, and there are 1 to 4 cracks, wrinkles, etc. when the tape is bent. B
5 or more cracks and wrinkles when the tape is bent because the resin component is opaque. C

(6)樹脂成分の含浸性の評価
マイカテープの作製の際に、樹脂組成物の積層体への含浸性を以下の評価基準で評価した。結果を表1に示す。
1mの積層体において、含浸不良の領域が見られない・・・A
1mの積層体において、含浸不良の領域が0.2m未満・・・B
1mの積層体において、含浸不良の領域が0.2m以上・・・C
(6) Evaluation of impregnation property of resin component During the production of mica tape, the impregnation property of the laminate of the resin composition was evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1.
In a 1 m 2 laminate, no impregnated area is seen ... A
In a 1 m 2 laminate, the area of poor impregnation is less than 0.2 m 2 ... B
In a 1 m 2 laminate, the area of impregnation failure is 0.2 m 2 or more ... C

(7)スメクチック構造形成の有無
上述の方法によって合成したエポキシ樹脂を用いて硬化物を作製し、硬化物のX線回折測定を行った。測定条件は、CuKα線を用い、管電圧40kV、管電流20mA、測定角度を2θ=0.5〜30°とした。評価装置には、株式会社リガク製のX線回折装置を用いた。結果を表1に示す。
有…2θ=2°〜10°の範囲に回折ピークが現れ、スメクチック構造が形成されている。
無…2θ=2°〜10°の範囲に回折ピークが現れず、スメクチック構造が形成されていない。
(7) Presence / absence of smectic structure formation A cured product was prepared using the epoxy resin synthesized by the method described above, and X-ray diffraction measurement of the cured product was performed. The measurement conditions were CuKα rays, tube voltage 40 kV, tube current 20 mA, and measurement angle 2θ = 0.5-30 °. An X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Corporation was used as the evaluation device. The results are shown in Table 1.
Existence: A diffraction peak appears in the range of 2θ = 2 ° to 10 °, and a smectic structure is formed.
None: No diffraction peak appears in the range of 2θ = 2 ° to 10 °, and no smectic structure is formed.

<実施例2>
エポキシモノマーのエポキシ基の当量数(A)とヒドロキノンの水酸基の当量数(B)の比(A:B)が100:25となるようにヒドロキノンの添加量を変更した以外は実施例1と同様にしてエポキシ樹脂を合成した。得られたエポキシ樹脂全体におけるエポキシモノマーの割合は、45%であった。
<Example 2>
Example 1 except that the amount of hydroquinone added was changed so that the ratio (A: B) of the number of equivalents of epoxy groups (A) of the epoxy monomer to the number of equivalents (B) of hydroxyl groups of hydroquinone was 100: 25. Thus, an epoxy resin was synthesized. The ratio of the epoxy monomer in the whole obtained epoxy resin was 45%.

合成したエポキシ樹脂97.1質量%と、硬化触媒としての三フッ化ホウ素モノエチルアミン(和光純薬工業株式会社)2.9質量%とを混合して樹脂組成物を調製した。   A resin composition was prepared by mixing 97.1% by mass of the synthesized epoxy resin and 2.9% by mass of boron trifluoride monoethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a curing catalyst.

調製した樹脂ワニスを用いて実施例1と同様にしてマイカテープを作製し、熱伝導率の測定と評価を行った。また、エポキシ樹脂の硬化物中にスメクチック構造が形成されている否かを確認した。結果を表1に示す。   Using the prepared resin varnish, a mica tape was produced in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity was measured and evaluated. Moreover, it was confirmed whether the smectic structure was formed in the hardened | cured material of an epoxy resin. The results are shown in Table 1.

<実施例3>
エポキシモノマーのエポキシ基の当量数(A)とヒドロキノンの水酸基の当量数(B)の比(A:B)が100:30となるようにヒドロキノンの添加量を変更した以外は実施例1と同様にしてエポキシ樹脂を合成した。得られたエポキシ樹脂全体におけるエポキシモノマーの割合は、38%であった。
<Example 3>
Example 1 except that the amount of hydroquinone added was changed so that the ratio (A: B) of the number of equivalents of epoxy groups (A) of the epoxy monomer to the number of equivalents (B) of hydroxyl groups of hydroquinone was 100: 30. Thus, an epoxy resin was synthesized. The ratio of the epoxy monomer in the whole epoxy resin obtained was 38%.

合成したエポキシ樹脂97.1質量%と、硬化触媒としての三フッ化ホウ素モノエチルアミン(和光純薬工業株式会社)2.9質量%とを混合して樹脂組成物を調製した。   A resin composition was prepared by mixing 97.1% by mass of the synthesized epoxy resin and 2.9% by mass of boron trifluoride monoethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a curing catalyst.

調製した樹脂組成物を用いて実施例1と同様にしてマイカテープを作製し、熱伝導率の測定と評価を行った。また、エポキシ樹脂の硬化物中にスメクチック構造が形成されている否かを確認した。結果を表1に示す。   A mica tape was produced using the prepared resin composition in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity was measured and evaluated. Moreover, it was confirmed whether the smectic structure was formed in the hardened | cured material of an epoxy resin. The results are shown in Table 1.

<実施例4>
エポキシモノマーのエポキシ基の当量数(A)とヒドロキノンの水酸基の当量数(B)の比(A:B)が100:35となるようにヒドロキノンの添加量を変更した以外は実施例1と同様にしてエポキシ樹脂を合成した。得られたエポキシ樹脂全体におけるエポキシモノマーの割合は、31%であった。
<Example 4>
Example 1 except that the amount of hydroquinone added was changed so that the ratio (A: B) of the number of equivalents of epoxy groups (A) of the epoxy monomer to the number of equivalents (B) of hydroxyl groups of hydroquinone was 100: 35. Thus, an epoxy resin was synthesized. The ratio of the epoxy monomer in the whole obtained epoxy resin was 31%.

合成したエポキシ樹脂97.1質量%と、硬化触媒としての三フッ化ホウ素モノエチルアミン(和光純薬工業株式会社)2.9質量%とを混合して樹脂組成物を調製した。   A resin composition was prepared by mixing 97.1% by mass of the synthesized epoxy resin and 2.9% by mass of boron trifluoride monoethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a curing catalyst.

調製した樹脂組成物を用いて実施例1と同様にしてマイカテープを作製し、熱伝導率の測定と評価を行った。また、エポキシ樹脂の硬化物中にスメクチック構造が形成されている否かを確認した。結果を表1に示す。   A mica tape was produced using the prepared resin composition in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity was measured and evaluated. Moreover, it was confirmed whether the smectic structure was formed in the hardened | cured material of an epoxy resin. The results are shown in Table 1.

<実施例5>
ヒドロキノンの代わりに4,4−ジヒドロキシビフェニルを使用し、エポキシモノマーのエポキシ基の当量数(A)と4,4−ジヒドロキシビフェニルの水酸基の当量数(B)の比(A:B)が100:30となるようにヒドロキノンの添加量を変更した以外は実施例1と同様にしてエポキシ樹脂を合成した。得られたエポキシ樹脂全体におけるエポキシモノマーの割合は、40%であった。
<Example 5>
4,4-dihydroxybiphenyl is used in place of hydroquinone, and the ratio (A: B) of the number of equivalents (A) of epoxy groups of epoxy monomers to the number of equivalents (B) of hydroxyl groups of 4,4-dihydroxybiphenyl is 100: An epoxy resin was synthesized in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of hydroquinone was changed to 30. The ratio of the epoxy monomer in the whole obtained epoxy resin was 40%.

合成したエポキシ樹脂97.1質量%と、硬化触媒としての三フッ化ホウ素モノエチルアミン(和光純薬工業株式会社)2.9質量%とを混合して樹脂組成物を調製した。   A resin composition was prepared by mixing 97.1% by mass of the synthesized epoxy resin and 2.9% by mass of boron trifluoride monoethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a curing catalyst.

調製した樹脂組成物を用いて実施例1と同様にしてマイカテープを作製し、熱伝導率とガラス転移温度を測定した。また、エポキシ樹脂の硬化物中にスメクチック構造が形成されている否かを確認した。結果を表1に示す。   A mica tape was produced using the prepared resin composition in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity and glass transition temperature were measured. Moreover, it was confirmed whether the smectic structure was formed in the hardened | cured material of an epoxy resin. The results are shown in Table 1.

<比較例1>
エポキシモノマーのエポキシ基の当量数(A)とヒドロキノンの水酸基の当量数(B)の比(A:B)が100:7となるようにヒドロキノンの添加量を変更した以外は実施例1と同様にしてエポキシ樹脂を合成した。得られたエポキシ樹脂全体におけるエポキシモノマーの割合は、76%であった。
<Comparative Example 1>
Example 1 except that the amount of hydroquinone added was changed so that the ratio (A: B) of the number of equivalents of epoxy groups (A) of the epoxy monomer to the number of equivalents (B) of hydroxyl groups of hydroquinone was 100: 7. Thus, an epoxy resin was synthesized. The ratio of the epoxy monomer in the whole epoxy resin obtained was 76%.

合成したエポキシ樹脂87.4質量%と、硬化触媒としての三フッ化ホウ素モノエチルアミン(和光純薬工業株式会社)2.6質量%と、溶媒としてのシクロヘキサノン(和光純薬工業株式会社)10.0質量%と、を混合して樹脂組成物を調製した。   9. 87.4% by mass of the synthesized epoxy resin, 2.6% by mass of boron trifluoride monoethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a curing catalyst, and cyclohexanone (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a solvent. A resin composition was prepared by mixing 0% by mass.

調製した樹脂組成物を用いて実施例1と同様にしてマイカテープを作製したところ、エポキシ樹脂の再結晶化が観察され、樹脂組成物の含浸が不充分であった。このため、熱伝導率の測定は行わなかった。   When the prepared resin composition was used to produce a mica tape in the same manner as in Example 1, recrystallization of the epoxy resin was observed, and the impregnation of the resin composition was insufficient. For this reason, the measurement of thermal conductivity was not performed.

表1の結果に示すように、エポキシモノマーの割合がエポキシ樹脂全体の70%以下であるエポキシ樹脂を用いて作製した実施例1〜5のマイカテープは、エポキシ樹脂の再結晶化が抑制され、樹脂組成物の含浸性に優れていた。また、硬化した状態での熱伝導率も高かった。   As shown in the results of Table 1, the mica tapes of Examples 1 to 5 produced using an epoxy resin in which the proportion of the epoxy monomer is 70% or less of the entire epoxy resin, the recrystallization of the epoxy resin is suppressed, The impregnation property of the resin composition was excellent. Moreover, the heat conductivity in the hardened state was also high.

エポキシモノマーの割合がエポキシ樹脂全体の70%を超える比較例1のエポキシ樹脂を用いて作製した比較例1のマイカテープは、エポキシ樹脂の再結晶化が観察され、樹脂組成物の含浸性も不充分であったことから、絶縁層の形成に適していないと考えられる。
以上より、本実施形態のマイカテープは、熱伝導性に優れる絶縁層を形成可能であることがわかった。
In the mica tape of Comparative Example 1 produced using the epoxy resin of Comparative Example 1 in which the proportion of the epoxy monomer exceeds 70% of the total epoxy resin, recrystallization of the epoxy resin was observed and the impregnation property of the resin composition was not good. Since it was sufficient, it is thought that it is not suitable for formation of an insulating layer.
From the above, it was found that the mica tape of this embodiment can form an insulating layer having excellent thermal conductivity.

Claims (13)

コイル導体と前記コイル導体の外周に配置された絶縁層とを有し、前記絶縁層はマイカと樹脂成分の硬化物とを含み、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である回転電機用コイル。
A coil conductor and an insulating layer disposed on an outer periphery of the coil conductor, the insulating layer including mica and a cured resin component;
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
The coil for rotating electrical machines, wherein the ratio of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the entire epoxy resin.
前記樹脂成分の硬化物中にスメクチック構造が形成されている、請求項1に記載の回転電機用コイル。   The coil for rotating electrical machines according to claim 1, wherein a smectic structure is formed in the cured product of the resin component. コイル導体の外周にマイカと樹脂成分とを含むマイカテープを配置する工程と、前記コイル導体の外周に配置された前記マイカテープから絶縁層を形成する工程と、を有し、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下である回転電機用コイルの製造方法。
A step of disposing a mica tape containing mica and a resin component on the outer periphery of the coil conductor, and a step of forming an insulating layer from the mica tape disposed on the outer periphery of the coil conductor.
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
The manufacturing method of the coil for rotary electric machines whose ratio of said 1st epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the said whole epoxy resin.
マイカを含むマイカ層と、裏打ち材を含む裏打ち層と、を有し、かつ樹脂成分を含み、
前記樹脂成分は、メソゲン構造を1つ有する第一のエポキシ化合物と、前記メソゲン構造と同じ構造のメソゲン構造を2つ以上有する第二のエポキシ化合物と、を含むエポキシ樹脂を含み、
液体クロマトグラフィーにより得られる前記第一のエポキシ化合物の割合が、前記エポキシ樹脂全体の70%以下であるマイカテープ。
A mica layer containing mica, and a backing layer containing a backing material, and including a resin component;
The resin component includes an epoxy resin including a first epoxy compound having one mesogen structure and a second epoxy compound having two or more mesogen structures having the same structure as the mesogen structure,
A mica tape in which the proportion of the first epoxy compound obtained by liquid chromatography is 70% or less of the total epoxy resin.
前記第一のエポキシ化合物が、下記一般式(M)で表されるエポキシ化合物を含む、請求項4に記載のマイカテープ。

[一般式(M)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。]
The mica tape according to claim 4, wherein the first epoxy compound includes an epoxy compound represented by the following general formula (M).

[In General Formula (M), R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group each independently. ]
前記第二のエポキシ化合物が、下記一般式(I)で表される構造を2つ以上有するエポキシ化合物を含む、請求項4又は請求項5に記載のマイカテープ。

[一般式(I)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。]
The mica tape according to claim 4 or 5, wherein the second epoxy compound includes an epoxy compound having two or more structures represented by the following general formula (I).

[In General Formula (I), R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group each independently. ]
前記第二のエポキシ化合物が、前記一般式(I)で表される構造を2つ有するエポキシ化合物を含む、請求項6に記載のマイカテープ。   The mica tape according to claim 6, wherein the second epoxy compound includes an epoxy compound having two structures represented by the general formula (I). 前記第二のエポキシ化合物が、下記一般式(II−A)〜(II−D)で表される構造からなる群より選択される少なくとも1つを有するエポキシ化合物を含む、請求項4〜請求項7のいずれか1項に記載のマイカテープ。

[一般式(II−A)〜(II−D)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基を示す。n及びmはそれぞれ独立に、0〜4の整数を表す。Xはそれぞれ独立に、−O−又は−NH−を表す。]
The second epoxy compound includes an epoxy compound having at least one selected from the group consisting of structures represented by the following general formulas (II-A) to (II-D). 8. The mica tape according to any one of 7 above.

[In General Formulas (II-A) to (II-D), R 1 to R 4 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represent An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is shown. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. Each X independently represents —O— or —NH—. ]
前記樹脂成分は、硬化した状態でスメクチック構造を示す、請求項4〜請求項8のいずれか1項に記載のマイカテープ。   The mica tape according to any one of claims 4 to 8, wherein the resin component exhibits a smectic structure in a cured state. 前記樹脂成分を硬化して得られる、請求項4〜請求項9のいずれか1項に記載のマイカテープの硬化物。   The cured product of mica tape according to any one of claims 4 to 9, which is obtained by curing the resin component. 被絶縁体と、前記被絶縁体の表面の少なくとも一部に配置される請求項10に記載のマイカテープの硬化物である絶縁層と、を有する絶縁層付き物品。   An article with an insulating layer, comprising: an insulator; and an insulating layer that is a cured product of the mica tape according to claim 10 disposed on at least a part of a surface of the insulator. コイル導体と、前記コイル導体の外周に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層は請求項10に記載のマイカテープの硬化物である回転電機用コイル。   It has a coil conductor and the insulating layer arrange | positioned on the outer periphery of the said coil conductor, The said insulating layer is a coil for rotary electric machines which is the hardened | cured material of the mica tape of Claim 10. コイル導体の外周に請求項4〜請求項9のいずれか1項に記載のマイカテープを配置する工程と、前記コイル導体の外周に配置された前記マイカテープから絶縁層を形成する工程と、を有する回転電機用コイルの製造方法。   A step of disposing the mica tape according to any one of claims 4 to 9 on the outer periphery of the coil conductor, and a step of forming an insulating layer from the mica tape disposed on the outer periphery of the coil conductor. A method for manufacturing a coil for a rotating electrical machine.
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