JPWO2018088416A1 - Thermally conductive silicone composition, cured product thereof, and method of producing the same - Google Patents

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Abstract

(A)オルガノポリシロキサン、(B)平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末、及び(C)平均粒子径0.1〜5μmの球状又は不定形状酸化アルミニウム粉末を含む熱伝導性シリコーン組成物であって、上記(B)成分と(C)成分の配合割合体積比が5:5〜9.5:0.5であり、(B)成分と(C)成分との合計量が組成物中80〜90体積%であり、組成物の熱伝導率がISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上であり、組成物の25℃における粘度がスパイラル粘度計による回転数10rpm測定時において、30〜800Pa・sである高熱伝導性シリコーン組成物。(A) Organopolysiloxane, (B) spherical aluminum oxide powder having an average sphericity of 0.8 or more, 30 hydroxyl groups / nm 2 or less, and an average particle diameter of 50 to 150 μm, and (C) an average particle diameter of 0.1 Conductive silicone composition containing 5 to 5 μm spherical or unshaped shaped aluminum oxide powder, wherein the blending ratio of the components (B) and (C) is 5: 5 to 9.5: 0.5 Yes, the total amount of the components (B) and (C) is 80 to 90% by volume in the composition, and the thermal conductivity of the composition is 5.5 W / m in the hot disc method according to ISO 22007-2. -A high thermal conductivity silicone composition which is K or more and whose viscosity at 25 ° C is 30 to 800 Pa · s when measured at a rotation speed of 10 rpm by a spiral viscometer.

Description

本発明は、熱伝導性に優れたシリコーン組成物に関するものであり、特に電子部品用放熱部材として使用した際に、パワーデバイス、トランジスタ、サイリスタ、CPU(中央処理装置)等の発熱性電子部品を損傷させることなく、電子機器に組み込むことができる、絶縁性に優れた高熱伝導性シリコーン組成物に関するものである。   The present invention relates to a silicone composition excellent in thermal conductivity, and particularly when used as a heat dissipation member for electronic components, heat generating electronic components such as power devices, transistors, thyristors, CPUs (central processing units), etc. The present invention relates to a highly insulating, high thermal conductivity silicone composition that can be incorporated into electronic devices without being damaged.

パワーデバイス、トランジスタ、サイリスタ、CPU等の発熱性電子部品においては、使用時に発生する熱を如何に除去するかが重要な問題となっている。従来、このような除熱方法としては、発熱性電子部品を電気絶縁性の放熱シートを介して放熱フィンや金属板に取り付け、熱を逃がすことが一般的に行われており、その放熱シートとしてはシリコーン樹脂に熱伝導性フィラーを分散させたものが使用されている。   In heat-generating electronic components such as power devices, transistors, thyristors, and CPUs, how to remove heat generated during use is an important issue. Heretofore, as such a heat removal method, it is common practice to attach a heat generating electronic component to a heat radiation fin or a metal plate via an electrically insulating heat radiation sheet, and to release heat, as the heat radiation sheet The thing which made the silicone resin disperse the heat conductive filler is used.

近年、電子部品内の回路の高集積化に伴いその発熱量も大きくなっており、例えば100℃以上、特には150℃環境といった高温時における熱伝導率が重要になる場合もある。このことから、従来にも増して高い熱伝導性を有する材料が求められてきている。熱伝導性材料の熱伝導性を向上させるためには、これまで酸化アルミニウム粉末、窒化アルミニウム粉末といった高い熱伝導性を示すフィラーをマトリックス樹脂へ含有する手法が一般的であった(特許文献1〜4:特開2005−162555号公報、特開2003−342021号公報、特開2002−280498号公報、特開2005−209765号公報)。   In recent years, with the high integration of circuits in electronic parts, the calorific value also increases, and the thermal conductivity at high temperatures such as 100 ° C. or more, particularly 150 ° C. environment may be important. From this, materials having higher thermal conductivity than ever before are required. In order to improve the thermal conductivity of the thermally conductive material, a method in which a filler showing high thermal conductivity, such as aluminum oxide powder and aluminum nitride powder, has hitherto been contained in a matrix resin is generally used (Patent Document 1-4 4: JP 2005-162555 A, JP 2003-342021 A, JP 2002-280498 A, JP 2005-209765 A).

そこで熱伝導率を向上させるために、平均球形度、水酸基量、並びに平均粒子径が10〜50μmで規定された球状酸化アルミニウム粉末と平均粒子径が0.3〜1μmで規定され、それぞれの酸化アルミニウムの配合割合と体積比が規定された高熱伝導性樹脂組成物の手法が開示されているが、球状酸化アルミニウム粉末の平均粒子径が最大で50μmでは、熱伝導率的に不十分な問題があった(特許文献5:特許第5755977号公報)。   Therefore, in order to improve the thermal conductivity, spherical aluminum oxide powder having an average sphericity, an amount of hydroxyl groups, and an average particle diameter of 10 to 50 μm and an average particle diameter of 0.3 to 1 μm are defined. Although the method of the high thermal conductivity resin composition in which the blending ratio and volume ratio of aluminum are specified is disclosed, when the average particle diameter of the spherical aluminum oxide powder is 50 μm at maximum, the problem of insufficient thermal conductivity (Patent Document 5: Patent No. 5755977).

また、平均粒径が0.1〜100μmであるアルミナ粉末を使用した熱伝導性シリコーン組成物が提案されているものの、具体的な熱伝導率や粘度の規定はされていない。さらに、平均粒径が5〜50μm(ただし5μmを含まない)の球状アルミナ粉末と平均粒径が0.1〜5μmの球状もしくは不定形状のアルミナ粉末で規定され、それぞれの酸化アルミニウムの配合割合と重量比が規定された熱伝導性シリコーン組成物が開示されているものの、これも特許文献5と同様、平均粒径が大きい球状アルミナの平均球形度や水酸基量の規定がなく、高熱伝導率化させるためには不十分であるという問題があった(特許文献6:再公表特許2002−092693号公報)。   Although a thermally conductive silicone composition using an alumina powder having an average particle diameter of 0.1 to 100 μm has been proposed, no specific thermal conductivity or viscosity is specified. Further, it is defined by spherical alumina powder having an average particle diameter of 5 to 50 μm (but not including 5 μm) and spherical or irregular shaped alumina powder having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm, Although a thermally conductive silicone composition having a defined weight ratio is disclosed, as in Patent Document 5, there is no definition of the average sphericity or the amount of hydroxyl groups of spherical alumina having a large average particle diameter, and the thermal conductivity is improved. There is a problem that it is insufficient for causing the problem (Patent Document 6: Re-issued Patent No. 2002-092693).

特開2005−162555号公報JP, 2005-162555, A 特開2003−342021号公報JP 2003-342021 A 特開2002−280498号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-280498 特開2005−209765号公報JP, 2005-209765, A 特許第5755977号公報Patent No. 5755977 再公表特許2002−092693号公報Patent Reissued Patent 2002-092693

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、絶縁性と熱伝導性に優れた熱伝導性シリコーン組成物を提供することであり、特に電子部品用放熱部材として好適な熱伝導性シリコーン組成物を提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and is to provide a thermally conductive silicone composition excellent in insulation and thermal conductivity, and in particular, a thermally conductive silicone composition suitable as a heat dissipation member for electronic parts. It is to provide.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、(A)オルガノポリシロキサンを含有するシリコーン組成物に、(B)平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末と、(C)平均粒子径0.1〜5μmの球状又は不定形状酸化アルミニウム粉末とを、特定比率で、特定量配合することで、上記課題を解決でき、取扱い性や作業性が良好となる熱伝導性シリコーン組成物を得ることができる。また、熱伝導性シリコーン組成物の硬化物の150℃における熱伝導率が、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、4.0W/m・K以上とすることで、高温時における熱伝導性に優れた熱伝導性シリコーン組成物を得ることができる。さらに本組成物には、硬化剤を配合して硬化性の組成物とすることもできる。As a result of intensive investigations to achieve the above object, the present inventors have found that (B) an average sphericity of 0.8 or more and a hydroxyl group of 30 pieces / nm 2 or less in the silicone composition containing (A) organopolysiloxane. The above-mentioned spherical aluminum oxide powder having an average particle diameter of 50 to 150 μm and (C) spherical or irregular shaped aluminum oxide powder having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm are compounded at a specific ratio by a specific amount. The thermally conductive silicone composition which can solve a subject and whose handleability and workability become favorable can be obtained. In addition, the thermal conductivity of the cured product of the thermally conductive silicone composition at 150 ° C. is 4.0 W / m · K or more in the hot disc method in accordance with ISO 22007-2 so that the thermal conductivity at high temperature is obtained. It is possible to obtain an excellent heat conductive silicone composition. Furthermore, a curing agent can be blended with the present composition to form a curable composition.

従って、本発明は下記発明を提供する。
1.(A)オルガノポリシロキサン、
(B)平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末、及び
(C)平均粒子径0.1〜5μmの球状又は不定形状酸化アルミニウム粉末
を含む高熱伝導性シリコーン組成物であって、
上記(B)成分と(C)成分の配合割合体積比((B):(C))が5:5〜9.5:0.5、(B)成分と(C)成分との合計量が組成物中80〜90体積%であり、
組成物の熱伝導率がISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上、組成物の25℃における粘度がスパイラル粘度計による回転数10rpm測定時において、30〜800Pa・sである高熱伝導性シリコーン組成物。
2.さらに、(D)シランカップリング剤を含む1記載の高熱伝導性シリコーン組成物。
3.(D)成分が、下記一般式(1)
−SiR1 a(OR23-a (1)
(式中、R1は独立に非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R2は独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基であり、aは0、1又は2である。)
で表されるシリル基を1分子中に少なくとも1個含有し、25℃での粘度が0.01〜30Pa・sであるオルガノポリシロキサンである2記載の高熱伝導性シリコーン組成物。
4.さらに、(E)中心粒子径の最大値が150μm以上であり、SiO2含有量が50質量%以上の球状ガラスビーズ又は不定形ガラスを、組成物の全量に対し10質量%以下含む1〜3のいずれかに記載の高熱伝導性シリコーン組成物。
5.さらに、硬化剤を含む1〜4のいずれかに記載の高熱伝導性シリコーン組成物。
6.高熱伝導性シリコーン組成物の硬化物の150℃における熱伝導率が、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、4.0W/m・K以上である5記載の熱伝導性シリコーン組成物。
7.付加反応硬化型、縮合反応硬化型又は有機過酸化物硬化型である6記載の高熱伝導性シリコーン組成物。
8.付加反応硬化型である7記載の高熱伝導性シリコーン組成物。
9.5〜8のいずれかに記載の高熱伝導性シリコーン組成物の硬化物。
10.150℃における熱伝導率が、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、4.0W/m・K以上である9記載の硬化物。
11.(A)オルガノポリシロキサン、
(B)平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末、及び
(C)平均粒子径0.1〜5μmの球状又は不定形状酸化アルミニウム粉末
を混合する工程を含む、上記(B)成分と(C)成分の配合割合体積比((B):(C))が5:5〜9.5:0.5、(B)成分と(C)成分との合計量が組成物中80〜90体積%であり、組成物の熱伝導率がISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上、組成物の25℃における粘度がスパイラル粘度計による回転数10rpm測定時において、30〜800Pa・sである高熱伝導性シリコーン組成物を製造する方法。
Accordingly, the present invention provides the following invention.
1. (A) organopolysiloxane,
(B) Spherical aluminum oxide powder having an average sphericity of 0.8 or more, 30 hydroxyl groups / nm 2 or less, and an average particle diameter of 50 to 150 μm, and (C) a spherical or irregular particle having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm A high thermal conductivity silicone composition comprising shaped aluminum oxide powder,
Blending ratio volume ratio ((B) :( C)) of the above (B) component and (C) component is 5: 5 to 9.5: 0.5, and the total amount of (B) component and (C) component Is 80 to 90% by volume in the composition,
When the thermal conductivity of the composition is 5.5 W / m · K or more and the viscosity of the composition at 25 ° C. is 10 to 30 rpm when measured at a rotational speed of 10 rpm by a spiral viscometer in the hot disk method according to ISO 22007-2. high thermal conductivity silicone composition which is s.
2. The high thermal conductivity silicone composition according to 1, further comprising (D) a silane coupling agent.
3. The component (D) is represented by the following general formula (1)
-SiR 1 a (OR 2 ) 3-a (1)
(Wherein, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is independently an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group or an acyl group, and a is 0, 1 or 2) is there.)
The high thermal conductivity silicone composition according to 2, which is an organopolysiloxane containing at least one silyl group represented by 1 in one molecule and having a viscosity of 0.01 to 30 Pa · s at 25 ° C.
4. Furthermore, the maximum value of the (E) central particle diameter is 150 μm or more, and the spherical glass beads or amorphous glass having an SiO 2 content of 50% by mass or more are contained in an amount of 10% by mass or less The high thermal conductivity silicone composition as described in any of the above.
5. Furthermore, the high thermal conductivity silicone composition according to any one of 1 to 4 comprising a curing agent.
6. 5. Thermally conductive silicone composition of 5 whose thermal conductivity at 150 degrees C of hardened | cured material of high thermal conductivity silicone composition is 4.0 W / m * K or more in the hot disk method based on ISO22007-2.
7. 6. The high thermal conductivity silicone composition according to 6, which is an addition reaction curing type, a condensation reaction curing type or an organic peroxide curing type.
8. 7. The high thermal conductivity silicone composition according to 7 which is addition reaction curable.
Cured | cured material of the high thermal conductivity silicone composition in any one of 9.5-8.
10. The cured product according to 9, wherein the thermal conductivity at 150 ° C is 4.0 W / m · K or more in a hot disk method in accordance with ISO 22007-2.
11. (A) organopolysiloxane,
(B) Spherical aluminum oxide powder having an average sphericity of 0.8 or more, 30 hydroxyl groups / nm 2 or less, and an average particle diameter of 50 to 150 μm, and (C) a spherical or irregular particle having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm The mixing ratio volume ratio ((B) :( C)) of the component (B) to the component (C) including the step of mixing the shape aluminum oxide powder is 5: 5 to 9.5: 0.5, (B The total amount of the component (C) and the component (C) is 80 to 90% by volume in the composition, and the thermal conductivity of the composition is 5.5 W / m · K or more in the hot disc method according to ISO 22007-2. A method for producing a high thermal conductivity silicone composition, wherein the viscosity of the composition at 25 ° C. is 30 to 800 Pa · s when measured at a rotation speed of 10 rpm by a spiral viscometer.

本発明によれば、絶縁性と熱伝導性に優れた高熱伝導性シリコーン組成物を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a high thermal conductivity silicone composition which is excellent in insulation and thermal conductivity.

以下、本発明について詳細に説明する。なお、「熱伝導性シリコーン組成物」を「シリコーン組成物」と略す場合がある。
[(A)成分]
(A)成分のオルガノポリシロキサンは本発明のシリコーン組成物の主剤である。このオルガノポリシロキサン中のケイ素原子に結合している基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等の直鎖状アルキル基;イソプロピル基、ターシャリーブチル基、イソブチル基、2−メチルウンデシル基、1−ヘキシルヘプチル基等の分岐鎖状アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基等の環状アルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、2−(2,4,6−トリメチルフェニル)プロピル基等のアラルキル基;3,3,3−トリフルオロプロピル基、3−クロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、ビニル基、フェニル基である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The "thermally conductive silicone composition" may be abbreviated as "silicone composition".
[(A) component]
The organopolysiloxane (A) is the main component of the silicone composition of the present invention. Examples of the group bonded to the silicon atom in this organopolysiloxane include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and undecyl group. Linear alkyl groups such as dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, eicosyl group, etc .; isopropyl group, tertiary butyl group, isobutyl group, 2-methyl group Branched alkyl groups such as undecyl group and 1-hexylheptyl group; cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group and cyclododecyl group; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group and hexenyl group Aryl such as phenyl, tolyl or xylyl Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 2- (2,4,6-trimethylphenyl) propyl group; and halogenated alkyl groups such as 3,3,3-trifluoropropyl group and 3-chloropropyl group It is preferably an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, particularly preferably a methyl group, a vinyl group or a phenyl group.

オルガノポリシロキサンの25℃における粘度は限定されないが、20〜100,000mPa・sの範囲内であることが好ましく、50〜100,000mPa・sがより好ましく、50〜50,000mPa・sがさらに好ましく、100〜50,000mPa・sが特に好ましい。粘度が低すぎると、シリコーン組成物の物理的特性が著しく低下するおそれがあり、粘度が高すぎると、シリコーン組成物の取扱作業性が著しく低下するおそれがある。   The viscosity at 25 ° C. of the organopolysiloxane is not limited, but is preferably in the range of 20 to 100,000 mPa · s, more preferably 50 to 100,000 mPa · s, and still more preferably 50 to 50,000 mPa · s. And 100 to 50,000 mPa · s are particularly preferred. If the viscosity is too low, the physical properties of the silicone composition may be significantly reduced, and if the viscosity is too high, the handling workability of the silicone composition may be significantly reduced.

オルガノポリシロキサンの分子構造は限定されず、例えば、直鎖状、分岐鎖状、一部分岐を有する直鎖状、樹枝状(デンドリマー状)が挙げられ、好ましくは、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状である。このようなオルガノポリシロキサンとしては、例えば、これらの分子構造を有する単一の重合体、これらの分子構造からなる共重合体、又はこれらの重合体の混合物が挙げられる。   The molecular structure of the organopolysiloxane is not limited and includes, for example, linear, branched, partially branched linear, and dendritic (dendrimer-like), preferably linear and partially branched. It is linear. Such organopolysiloxanes include, for example, single polymers having these molecular structures, copolymers composed of these molecular structures, or mixtures of these polymers.

このようなオルガノポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端メチルフェニルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサンコポリマー、式:(CH33SiO1/2で表されるシロキサン単位と式:(CH32(CH2=CH)SiO1/2で表されるシロキサン単位と式:CH3SiO3/2で表されるシロキサン単位と式:(CH32SiO2/2で表されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサンコポリマー、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシリル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサンコポリマー、分子鎖両末端メチルジメトキシシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリエトキシシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルポリシロキサンが挙げられ、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。Such organopolysiloxanes include, for example, dimethylpolysiloxanes blocked with dimethylvinylsiloxy groups at both ends of molecular chains, dimethylpolysiloxanes blocked with methylphenylvinylsiloxy groups at both ends of molecular chains, dimethylpolysiloxanes blocked with dimethylvinylsiloxy groups at molecular ends. Methyl phenyl siloxane copolymer, Molecular chain both ends dimethyl vinylsiloxy group blocked dimethyl siloxane · methyl vinyl siloxane copolymer, Molecular chain both ends trimethylsiloxy group blocked dimethyl siloxane · methyl vinyl siloxane copolymer, Molecular chain both ends dimethyl vinyl siloxy group methyl (3 , 3,3-Trifluoropropyl) polysiloxane, Both chain terminal silanol group blocked dimethyl siloxane / methyl vinyl siloxane copolymer, Molecular chain both terminal silanol Dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer, the formula: (CH 3) 3 siloxane units of the formula represented by SiO 1/2: Table with (CH 3) 2 (CH 2 = CH) SiO 1/2 An organosiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by the formula: a siloxane unit represented by the formula CH 3 SiO 3/2 and a siloxane unit represented by the formula (CH 3 ) 2 SiO 2/2; Dimethylpolysiloxane, Molecular chain both terminal silanol group blocked dimethyl siloxane / methylphenyl siloxane copolymer, Molecular chain both terminal trimethoxysiloxy group blocked dimethylpolysiloxane, Molecular chain both terminal trimethoxysilyl group blocked dimethyl siloxane / methylphenyl siloxane copolymer, Molecular Blocking of both terminal methyldimethoxysiloxy groups Methylpolysiloxane, molecular chain both terminal triethoxysiloxy group blocked dimethylpolysiloxane, molecular chain both terminal trimethoxysilylethyl group blocked dimethylpolysiloxane may be mentioned, and one type can be used alone or two or more types can be used in combination as appropriate. .

シリコーン組成物がヒドロシリル化反応により硬化する場合には、(A)成分は、(A−I)1分子中に平均0.1個以上のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサンであることが好ましく、1分子中に平均0.5個以上のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサンであることがさらに好ましく、1分子中に平均0.8個以上のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサンであることがより好ましい。これは、1分子中のケイ素原子結合アルケニル基の平均値が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーン組成物が十分に硬化しなくなる傾向があるからである。このオルガノポリシロキサン中のケイ素原子結合アルケニル基としては、前記と同様のアルケニル基が例示され、好ましくはビニル基である。また、このオルガノポリシロキサン中のアルケニル基以外のケイ素原子に結合している基としては、前記と同様の直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基が例示され、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。   When the silicone composition cures by a hydrosilylation reaction, component (A) should be an organopolysiloxane having an average of 0.1 or more silicon-bonded alkenyl groups per molecule (A-I). More preferably, it is an organopolysiloxane having an average of 0.5 or more silicon-bonded alkenyl groups in one molecule, and an organic poly having an average of 0.8 or more silicon-bonded alkenyl groups or more in one molecule. More preferably, it is a siloxane. This is because when the average value of silicon-bonded alkenyl groups in one molecule is less than the lower limit of the above range, the resulting silicone composition tends not to be sufficiently cured. As the silicon-bonded alkenyl group in this organopolysiloxane, the same alkenyl group as described above is exemplified, and a vinyl group is preferable. Further, as the group bonded to a silicon atom other than the alkenyl group in this organopolysiloxane, the same linear alkyl group, branched alkyl group, cyclic alkyl group, aryl group, aralkyl group, halogen as described above are mentioned. Fluorinated alkyl groups are exemplified, preferably alkyl groups and aryl groups, and particularly preferably methyl groups and phenyl groups.

シリコーン組成物が縮合反応により硬化する場合には、(A)成分は、(A−II)1分子中に少なくとも2個のシラノール基もしくはケイ素原子結合加水分解性基を有するオルガノポリシロキサンである。このオルガノポリシロキサン中のケイ素原子結合加水分解性基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;ビニロキシ基、プロペノキシ基、イソプロペノキシ基、1−エチル−2−メチルビニルオキシ基等のアルケノキシ基;メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基等のアルコキシアルコキシ基;アセトキシ基、オクタノイルオキシ基等のアシロキシ基;ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基等のケトオキシム基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ブチルアミノ基等のアミノ基;ジメチルアミノキシ基、ジエチルアミノキシ基等のアミノキシ基;N−メチルアセトアミド基、N−エチルアセトアミド基等のアミド基が挙げられる。また、このオルガノポリシロキサン中のシラノール基及びケイ素原子結合加水分解性基以外のケイ素原子に結合している基としては、前記と同様の直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基が例示される。   When the silicone composition cures by a condensation reaction, component (A) is an organopolysiloxane having at least two silanol groups or silicon-bonded hydrolyzable groups in one molecule of (A-II). The silicon-bonded hydrolyzable group in this organopolysiloxane is, for example, an alkoxy group such as methoxy, ethoxy or propoxy; vinyloxy, propenoxy, isopropenoxy, 1-ethyl-2-methylvinyloxy Alkenoxy groups such as: alkoxyalkoxy groups such as methoxyethoxy, ethoxyethoxy and methoxypropoxy groups; Acyloxy groups such as acetoxy groups and octanoyloxy groups; Ketooxime groups such as dimethylketoxime groups and methylethyl ketoxime groups; Dimethylamino groups Amino groups such as diethylamino group and butylamino group; aminoxy groups such as dimethylaminoxoxy group and diethylaminoxy group; and amide groups such as N-methylacetamide group and N-ethylacetamide group. Moreover, as the silanol group in this organopolysiloxane and the group bonded to a silicon atom other than the silicon-bonded hydrolysable group, the same linear alkyl group, branched alkyl group, cyclic alkyl group as described above can be used. And alkenyl groups, aryl groups, aralkyl groups and halogenated alkyl groups.

シリコーン組成物が有機過酸化物によるフリーラジカル反応により硬化する場合には、(A)成分のオルガノポリシロキサンは限定されないが、好ましくは、(A−III)1分子中に少なくとも1個のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサンである。このオルガノポリシロキサン中のケイ素原子に結合している基としては、前記と同様の直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基が例示され、アルキル基、アルケニル基、アリール基が好ましく、メチル基、ビニル基、フェニル基がより好ましい。   When the silicone composition cures by free radical reaction with an organic peroxide, the organopolysiloxane of the component (A) is not limited, but preferably at least one silicon atom in one molecule of (A-III). It is an organopolysiloxane having a bonded alkenyl group. As the group bonded to the silicon atom in this organopolysiloxane, the same linear alkyl group, branched alkyl group, cyclic alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogenated alkyl group as described above Is exemplified, and an alkyl group, an alkenyl group and an aryl group are preferable, and a methyl group, a vinyl group and a phenyl group are more preferable.

(A)成分の配合量は、シリコーン組成物中1.0〜6.0質量%が好ましく、1.0〜5.8質量%がより好ましい。   1.0-6.0 mass% in a silicone composition is preferable, and, as for the compounding quantity of (A) component, 1.0-5.8 mass% is more preferable.

[(B)成分]
(B)成分は、平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末である。上記範囲を満たすのであれば、平均粒子径が異なる2種類以上の複数種を併用してもよい。
[(B) component]
The component (B) is a spherical aluminum oxide powder having an average sphericity of 0.8 or more, 30 hydroxyl groups / nm 2 or less, and an average particle diameter of 50 to 150 μm. As long as the above range is satisfied, two or more kinds of two or more kinds having different average particle diameters may be used in combination.

酸化アルミニウム粉末の結晶構造は、単結晶体、多結晶体の何れでもよいが、結晶相は高熱伝導性の点からα相が望ましく、また比重は3.7以上が望ましい。比重が3.7未満であると、粒子内部に存在する空孔と低結晶相の割合が多くなるため、熱伝導率を高めることが困難となるおそれがある。酸化アルミニウム粉末の粒度調整は、分級・混合操作によって行うことができる。   The crystal structure of the aluminum oxide powder may be either single crystal or polycrystal, but the crystal phase is preferably an α phase from the viewpoint of high thermal conductivity, and the specific gravity is preferably 3.7 or more. If the specific gravity is less than 3.7, the ratio of the pores present in the interior of the particles to the low crystal phase increases, which may make it difficult to increase the thermal conductivity. The particle size adjustment of the aluminum oxide powder can be performed by classification and mixing operations.

平均球形度は0.8以上であり、0.9以上であることがより好ましい。平均球形度が0.8未満であると流動性が低下する場合がある。平均球形度が0.8未満であると粒子同士の接触が著しくなり、シート表面の凹凸が大きくなって界面熱抵抗が増大し熱伝導率が悪くなる傾向にある。上限は特に限定されないが、球(平均球形度1)に近ければ近いほどよい。   The average sphericity is 0.8 or more, more preferably 0.9 or more. Fluidity may fall that average sphericity is less than 0.8. When the average sphericity is less than 0.8, the contact between the particles becomes remarkable, the unevenness of the sheet surface becomes large, the interface thermal resistance tends to increase, and the thermal conductivity tends to deteriorate. The upper limit is not particularly limited, but the closer to the sphere (average sphericity 1), the better.

本発明における平均球形度は、走査型電子顕微鏡にて撮影した粒子像を画像解析装置、例えばJEOL社製商品名「JSM−7500F」に取り込み、次のようにして測定することができる。すなわち、写真から粒子の投影面積(X)と周囲長(Z)を測定する。周囲長(Z)に対応する真円の面積を(Y)とすると、その粒子の球形度はX/Yとして表示できる。そこで、試料粒子の周囲長(Z)と同一の周囲長をもつ真円を想定すると、Z=2πr、Y=πr2であるから、Y=π×(Z/2π)2となり、個々の粒子の球形度は、球形度=X/Y=X×4π/Z2として算出することができる。このようにして得られた任意の粒子100個の球形度を求め、その平均値を平均球形度とする。The average sphericity in the present invention can be measured as follows by taking a particle image taken with a scanning electron microscope into an image analysis apparatus such as "JSM-7500F" manufactured by JEOL. That is, the projected area (X) and the perimeter (Z) of the particle are measured from the photograph. Assuming that the area of a true circle corresponding to the perimeter (Z) is (Y), the sphericity of the particle can be displayed as X / Y. Therefore, assuming a perfect circle having the same perimeter as the perimeter (Z) of the sample particle, since Z = 2πr and Y = πr 2 , Y = π × (Z / 2π) 2 , and individual particles The sphericity of can be calculated as sphericity = X / Y = X × 4π / Z 2 . The sphericity of 100 particles thus obtained is determined, and the average value thereof is taken as the average sphericity.

水酸基は30個/nm2以下であり、25個/nm2以下が好ましい。下限は特に限定されないが、5個/nm2としてもよい。表面水酸基が30個/nm2を超えると、シリコーン組成物への充填性が悪くなり、熱伝導率が悪くなる傾向にある。The number of hydroxyl groups is 30 / nm 2 or less, preferably 25 / nm 2 or less. The lower limit is not particularly limited, but may be 5 / nm 2 . When the number of surface hydroxyl groups is more than 30 / nm 2 , the filling property to the silicone composition is deteriorated, and the thermal conductivity tends to be deteriorated.

本発明における上記水酸基数、つまり表面水酸基濃度はカールフィッシャー電量滴定法、例えば、三菱化学社製商品名「微量水分測定装置CA−100」にて測定することができる。具体的には、試料0.3〜1.0gを水分気化装置に入れ、脱水処理されたアルゴンガスをキャリアガスとして供給しながら電気ヒーターで加熱昇温する。カールフィッシャー電量測定法において、温度200℃を超え、900℃までに発生した水分を表面水酸基量と定義する。測定された水分量と比表面積から、表面水酸基の濃度を算出する。   The number of hydroxyl groups in the present invention, that is, the surface hydroxyl group concentration, can be measured by Karl Fischer coulometric titration method, for example, by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. under the trade name "minor water content measuring device CA-100". Specifically, 0.3 to 1.0 g of a sample is placed in a water vaporizer, and heated and heated by an electric heater while supplying dehydrated argon gas as a carrier gas. In the Karl-Fisher coulometric measurement method, water generated at temperatures exceeding 200 ° C. and up to 900 ° C. is defined as the amount of surface hydroxyl groups. The concentration of surface hydroxyl groups is calculated from the measured amount of water and the specific surface area.

平均粒子径は50〜150μmであり、60〜140μmが好ましい。平均粒子径が50μm未満では、粒子同士の接触が少なくなり、粒子間接触熱抵抗の増大により熱伝導率が悪くなる傾向にある。また、150μmを超えると、シート表面の凹凸が大きくなって界面熱抵抗が増大する場合がある。   The average particle size is 50 to 150 μm, preferably 60 to 140 μm. When the average particle size is less than 50 μm, the contact between particles is reduced, and the thermal conductivity tends to be deteriorated due to the increase in the thermal contact resistance between particles. Moreover, when it exceeds 150 micrometers, the unevenness | corrugation of a sheet | seat surface may become large and interface thermal resistance may increase.

本発明における平均粒子径はレーザー回折式粒度分布測定装置、例えば、島津製作所製「レーザー回折式粒度分布測定装置SALD−2300」を用いて測定することができる。評価サンプルは、ガラスビーカーに50ccの純水と測定する熱伝導性粉末を5g添加して、スパチュラを用いて撹拌し、その後超音波洗浄機で10分間、分散処理を行う。分散処理を行った熱伝導性材料の粉末の溶液をスポイトにて、装置のサンプラ部に一滴ずつ添加して、吸光度が測定可能になるまで安定するのを待つ。このようにして吸光度が安定になった時点で測定を行う。レーザー回折式粒度分布測定装置では、センサで検出した粒子による回折/散乱光の光強度分布のデータから粒度分布を計算する。平均粒子径は測定される粒子径の値に相対粒子量(差分%)を掛けて、相対粒子量の合計(100%)で割って求められる。なお、平均粒子径は粒子の平均直径である。   The average particle diameter in the present invention can be measured using a laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus, for example, “Laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus SALD-2300” manufactured by Shimadzu Corporation. The evaluation sample is prepared by adding 5 g of 50 cc of pure water and 5 g of a heat conductive powder to be measured to a glass beaker, stirring using a spatula, and then dispersing for 10 minutes with an ultrasonic cleaner. Add the dispersed solution of the thermally conductive material powder drop by drop to the sampler part of the apparatus with a dropper, and wait for the absorbance to stabilize until it becomes measurable. When the absorbance becomes stable in this way, measurement is performed. In a laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus, a particle size distribution is calculated from data of light intensity distribution of diffracted / scattered light by particles detected by a sensor. The average particle size is determined by multiplying the value of the particle size to be measured by the relative particle amount (difference%) and dividing by the total relative particle amount (100%). The average particle size is the average diameter of the particles.

[(C)成分]
(C)成分は、平均粒子径0.1〜5μm、好ましくは0.5〜2μmの酸化アルミニウム粉末であり、球状でも不定形状でもよい。なお、球状以外のものが不定形状である。本発明を損なわない範囲で、1種単独でも、平均粒子径が異なる2種類以上の複数種を併用してもよい。平均粒子径が0.1μm未満では、粒子同士の接触が少なくなり、粒子間接触熱抵抗の増大により熱伝導率が悪くなる傾向にある。また、5μm超であると、シート表面の凹凸が大きくなって界面熱抵抗が増大し熱伝導率が悪くなる傾向にある。なお、(C)成分が球状の場合、(B)成分と同様、平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であることが好ましい。なお、平均粒子径、平均球形度、水酸基の測定方法は(B)成分と同じである。
[(C) ingredient]
The component (C) is an aluminum oxide powder having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm, preferably 0.5 to 2 μm, and may be spherical or amorphous. In addition, things other than a spherical thing are indeterminate shape. As long as the present invention is not impaired, it may be used alone or in combination of two or more kinds having different average particle sizes. When the average particle size is less than 0.1 μm, the contact between particles is reduced, and the thermal conductivity tends to be deteriorated due to the increase in the thermal contact resistance between particles. If the thickness is more than 5 μm, the surface roughness of the sheet becomes large, the interface thermal resistance increases, and the thermal conductivity tends to deteriorate. When the component (C) is spherical, as in the component (B), it is preferable that the average sphericity is 0.8 or more and the number of hydroxyl groups is 30 / nm 2 or less. In addition, the measuring method of an average particle diameter, average sphericity, and a hydroxyl group is the same as (B) component.

上記(B)成分と(C)成分の配合割合体積比((B):(C))は、5:5〜9.5:0.5であり、6:4〜9:1がより好ましい。(B)成分の割合が体積比で5((B)成分と(C)成分合計で10、以下同様)より小さくなると、(B)成分及び(C)成分の充填性が悪くなる傾向にある。一方、(C)成分の割合が、9.5より大きくなると、(B)成分及び(C)成分が緻密に充填し難くなり、熱伝導性が減少する傾向にある。   The compounding ratio volume ratio ((B) :( C)) of the said (B) component and (C) component is 5: 5-9.5: 0.5, and 6: 4-9: 1 is more preferable. . When the ratio of component (B) is smaller than 5 (volume of component (B) and component (C) total 10, the same applies hereinafter), the packing properties of component (B) and component (C) tend to deteriorate. . On the other hand, when the ratio of the component (C) becomes larger than 9.5, the components (B) and (C) become difficult to be densely packed, and the thermal conductivity tends to decrease.

(B)成分と(C)成分との合計配合量はシリコーン組成物中80〜90体積%であり、80〜85体積%が好ましい。配合量が80体積%未満では、シリコーン組成物の熱伝導性が不十分となる場合があり、90体積%を超えると、熱伝導性フィラーの充填が困難となる。   The total blending amount of the component (B) and the component (C) is 80 to 90% by volume in the silicone composition, preferably 80 to 85% by volume. If the amount is less than 80% by volume, the thermal conductivity of the silicone composition may be insufficient. If it exceeds 90% by volume, the filling of the thermally conductive filler becomes difficult.

[(D)成分]
本発明においては、さらに(D)シランカップリング剤を含み、(B)成分及び(C)成分が(D)シランカップリング剤で表面処理されていることが好ましい。
[(D) component]
In the present invention, it is preferable to further include (D) a silane coupling agent, and the (B) component and the (C) component are surface-treated with the (D) silane coupling agent.

(D−I)
(D)シランカップリング剤としては、ビニル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、アクリル系シランカップリング剤、並びに長鎖アルキル系シランカップリング剤等が挙げられ、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。中でも、長鎖アルキル系シランカップリング剤が好ましく、デシルトリメトキシシランが好ましい。
(D-I)
(D) As a silane coupling agent, a vinyl type silane coupling agent, an epoxy type silane coupling agent, an acrylic type silane coupling agent, and a long chain alkyl type silane coupling agent etc. are mentioned, and 1 type is individual or Two or more species can be used in combination as appropriate. Among them, long chain alkyl type silane coupling agents are preferable, and decyltrimethoxysilane is preferable.

(D−I)成分による(B)成分、(C)成分の表面処理方法としては、流体ノズルを用いた噴霧方式、せん断力のある攪拌方式、ボールミル、ミキサー等の乾式法、水系又は有機溶剤系等の湿式法を採用することができる。攪拌式は、球状酸化アルミニウム粉末の破壊が起こらない程度にして行う。乾式法における系内温度又は処理後の乾燥温度は、表面処理剤の種類に応じ、表面処理剤の揮発や分解しない領域で適宜決定されるが、80〜180℃である。   As a surface treatment method of the (B) component and the (C) component by the (D-I) component, a spraying method using a fluid nozzle, a stirring method with shear force, a dry method such as a ball mill or a mixer, a water system or an organic solvent A wet method such as a system can be adopted. The stirring method is performed to such an extent that destruction of the spherical aluminum oxide powder does not occur. The in-system temperature in the dry method or the drying temperature after the treatment is appropriately determined in a region where the surface treatment agent does not volatilize or decompose depending on the type of the surface treatment agent, but is 80 to 180 ° C.

(D−I)成分の処理使用量は、(B)成分及び(C)成分の合計100質量部に対して、0.1〜5質量部であることが好ましい。0.1質量部より少ないとその効果は小さく、5質量部より多くても使用量にあった効果は発現しない。   The treatment amount of the component (D-I) is preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the components (B) and (C). If the amount is less than 0.1 parts by mass, the effect is small, and if the amount is more than 5 parts by mass, the effect corresponding to the amount used does not appear.

(D)成分として、(D−II)下記一般式(1)で表されるシリル基を1分子中に少なくとも1個含有し、25℃での粘度が0.01〜30Pa・sであるオルガノポリシロキサンが挙げられる。
−SiR1 a(OR23-a (1)
(式中、R1は独立に非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R2は独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基であり、aは0、1又は2である。)
Organo (D-II) containing at least one silyl group represented by the following general formula (1) in one molecule as component (D) and having a viscosity of 0.01 to 30 Pa · s at 25 ° C. Polysiloxane is mentioned.
-SiR 1 a (OR 2 ) 3-a (1)
(Wherein, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is independently an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group or an acyl group, and a is 0, 1 or 2) is there.)

(D−II)成分としては、下記一般式(2)で表されるオルガノポリシロキサンが挙げられる。

Figure 2018088416
(式中、R1は独立に非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R2は独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基であり、bは2〜100の整数であり、aは0、1又は2である。)As (D-II) component, the organopolysiloxane represented by following General formula (2) is mentioned.
Figure 2018088416
(Wherein, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is independently an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group or an acyl group, and b is an integer of 2 to 100) And a is 0, 1 or 2.)

式(1),(2)中、R1は独立に非置換又は置換の、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜3の1価炭化水素基であり、その例としては、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。分岐鎖状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。環状アルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、2−フェニルエチル基、2−メチル−2−フェニルエチル基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、例えば、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−(ノナフルオロブチル)エチル基、2−(ヘプタデカフルオロオクチル)エチル基等が挙げられる。R1として、メチル基、フェニル基が好ましい。In formulas (1) and (2), R 1 is independently a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 3 carbon atoms Examples thereof include linear alkyl groups, branched alkyl groups, cyclic alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, aralkyl groups and halogenated alkyl groups. As a linear alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group etc. are mentioned, for example. As a branched alkyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert- butyl group, 2-ethylhexyl group etc. are mentioned, for example. As a cyclic alkyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. are mentioned, for example. As an alkenyl group, a vinyl group, an allyl group, etc. are mentioned, for example. As an aryl group, a phenyl group, a tolyl group, etc. are mentioned, for example. As an aralkyl group, 2-phenylethyl group, 2-methyl- 2-phenylethyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the halogenated alkyl group include 3,3,3-trifluoropropyl group, 2- (nonafluorobutyl) ethyl group, 2- (heptadecafluorooctyl) ethyl group and the like. As R 1 , a methyl group and a phenyl group are preferable.

式(1),(2)中、R2は独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基である。アルキル基としては、例えば、R1において例示したのと同様の直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基が挙げられる。アルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシエチル基、メトキシプロピル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、R1において例示したのと同様のものが挙げられる。炭素数は1〜8のものが好ましい。アシル基としては、例えば、アセチル基、オクタノイル基等が挙げられる。R2はアルキル基であることが好ましく、特にはメチル基、エチル基であることが好ましい。bは2〜100の整数であり、好ましくは5〜50である。aは0、1又は2であり、好ましくは0である。In formulas (1) and (2), R 2 is independently an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group or an acyl group. Examples of the alkyl group include linear alkyl groups, branched alkyl groups and cyclic alkyl groups similar to those exemplified for R 1 . As an alkoxy alkyl group, a methoxyethyl group, a methoxypropyl group etc. are mentioned, for example. As an alkenyl group, the same thing as having illustrated in R 1 is mentioned, for example. The carbon number is preferably 1 to 8. As an acyl group, an acetyl group, an octanoyl group, etc. are mentioned, for example. R 2 is preferably an alkyl group, particularly preferably a methyl group or an ethyl group. b is an integer of 2 to 100, preferably 5 to 50; a is 0, 1 or 2, preferably 0.

(D−II)成分のオルガノポリシロキサンの好適な具体例としては、下記のものを挙げることができる。

Figure 2018088416
(式中、Meはメチル基である。)The following can be mentioned as a preferable specific example of the organopolysiloxane of (D-II) component.
Figure 2018088416
(Wherein, Me is a methyl group)

(D−II)成分のオルガノポリシロキサンの25℃における粘度は、通常、0.01〜30Pa・sであり、0.01〜10Pa・sが好ましい。粘度が0.01Pa・sより低いと、シリコーン組成物からオイルブリードが発生し易くなってしまい、また垂れ易くなってしまうおそれがある。粘度が30mPa・sより大きいと、得られるシリコーン組成物の流動性が著しく乏しくなり、塗布作業性が悪化してしまうおそれがある。なお、この粘度は、回転粘度計による測定値である(以下同様)。   The viscosity at 25 ° C. of the organopolysiloxane of the component (D-II) is usually 0.01 to 30 Pa · s, preferably 0.01 to 10 Pa · s. If the viscosity is lower than 0.01 Pa · s, oil bleeding is likely to be generated from the silicone composition, and there is also a possibility that the silicone composition may easily sag. If the viscosity is more than 30 mPa · s, the flowability of the resulting silicone composition may be extremely poor, and the coating workability may be deteriorated. In addition, this viscosity is a measured value by a rotational viscometer (same below).

(D−II)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して5〜900質量部が好ましく、10〜900質量部がより好ましく、20〜700質量部がさらに好ましい。   5-900 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) component, as for the compounding quantity of (D-II) component, 10-900 mass parts is more preferable, and 20-700 mass parts is more preferable.

[(E)成分]
本発明のシリコーン組成物には、(E)中心粒子径の最大値が150μm以上であり、SiO2含有量が50質量%以上の球状ガラスビーズ又は不定形ガラスを、シリコーン組成物の全量に対し10質量%以下配合することが好ましい。(E)成分は、中心粒子径の最大値が(B)成分の平均粒子径よりも大きいことが特徴であり、最大値の上限は特に限定されないが、300μm以下とすることもできる。(E)成分を配合すると、極少量であっても熱伝導性シリコーン組成物を、所望される150μm以上の硬化厚みとすることができる。材料としては、ソーダ石灰ガラス、ソーダ石灰シリカガラス、又はホウケイ酸ガラスが挙げられる。硬化厚みの均一性の観点から、(E)成分は不定形よりも球状の方が好ましく、(E)成分が球状ガラスビーズの場合、平均球形度は(B)成分と同様、0.8以上が好ましい。
[(E) ingredient]
In the silicone composition of the present invention, spherical glass beads or amorphous glass having a maximum value of (E) central particle diameter of 150 μm or more and a SiO 2 content of 50% by mass or more relative to the total amount of silicone composition It is preferable to mix | blend 10 mass% or less. The component (E) is characterized in that the maximum value of the central particle diameter is larger than the average particle diameter of the component (B), and the upper limit of the maximum value is not particularly limited, but may be 300 μm or less. When the component (E) is blended, the thermally conductive silicone composition can be made to have a desired cured thickness of 150 μm or more, even in a very small amount. Materials include soda lime glass, soda lime silica glass, or borosilicate glass. From the viewpoint of uniformity of the cured thickness, it is preferable that the component (E) is spherical rather than amorphous, and when the component (E) is spherical glass beads, the average sphericity is 0.8 or more, as with the component (B). Is preferred.

(E)成分は本発明を損なわない範囲で少量添加することが好ましく、具体的に熱伝導性シリコーン組成物の熱伝導率を顕著に低下させないためには、シリコーン組成物の全量に対し、(F)成分量は10質量%以下(0〜10質量%)であることが好ましい。なお、中心粒子径の測定は、レーザー回折法で、例えば、島津製作所製「レーザー回折式粒度分布測定装置SALD−2300」を用いて測定することができる。   It is preferable to add a small amount of the component (E) within the range that does not impair the present invention. Specifically, in order not to significantly reduce the thermal conductivity of the thermally conductive silicone composition, The amount of component F) is preferably 10% by mass or less (0 to 10% by mass). In addition, the measurement of a center particle diameter can be measured by a laser diffraction method, for example, using Shimadzu Corp. make "laser diffraction type | formula particle size distribution measuring apparatus SALD-2300."

本発明の高熱伝導性シリコーン組成物はそのままでもよいし、さらに硬化剤を配合し、硬化性の組成物とすることもできる。   The high thermal conductivity silicone composition of the present invention may be used as it is, or a curing agent may be further blended to form a curable composition.

硬化性熱伝導性シリコーン組成物とする際には、以下の3形態が挙げられ、ベースポリマーであるオルガノポリシロキサン(A)として、上記(A−I)〜(A−III)成分のオルガノポリシロキサンを用い、上述した熱伝導性充填材(B)及び(C)を配合したものとすることができる。
[I]付加反応硬化型熱伝導性シリコーン組成物
[II]縮合反応硬化型熱伝導性シリコーン組成物
[III]有機過酸化物硬化型熱伝導性シリコーン組成物
中でも、速やかに硬化し副生成物が発生しないことから、[I]付加反応硬化型熱伝導性シリコーン組成物であることが好ましい。以下に、それぞれの組成物について具体的に示す。
The curable thermal conductive silicone composition includes the following three forms, and as the organopolysiloxane (A) as the base polymer, the organopoly of the above (A-I) to (A-III) components It is possible to use siloxane and blend the above-mentioned thermally conductive fillers (B) and (C).
[I] Addition reaction curing type thermally conductive silicone composition [II] Condensation reaction curing type thermally conductive silicone composition [III] Organic peroxide curing type thermally conductive silicone composition [I] An addition reaction-curable heat conductive silicone composition is preferred because it does not occur. Below, it shows concretely about each composition.

[I]付加反応硬化型熱伝導性シリコーン組成物
シリコーン組成物がヒドロシリル化反応により硬化する付加反応硬化型熱伝導性シリコーン組成物である場合には、上記(A)として上記に示す(A−I)成分を用い、さらに、下記成分を含むものであり、硬化剤は下記(F)及び(G)成分である。
(F)ケイ素原子に直接結合した水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(G)白金族金属系硬化触媒、
(H)必要に応じて、付加反応制御剤
[I] Addition reaction curing type heat conductive silicone composition When the silicone composition is an addition reaction curing type heat conductive silicone composition which cures by a hydrosilylation reaction, the above-mentioned (A) is shown as the above (A- The component (I) is used and the following components are further contained, and the curing agent is the following components (F) and (G).
(F) organohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms,
(G) platinum group metal based curing catalyst,
(H) Addition reaction control agent, if necessary

[(F)成分]
ケイ素原子に直接結合した水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンは架橋剤として作用する成分である。オルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子結合に結合している基としては、前記と同様の直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基が例示され、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。(F)成分の25℃における粘度は限定されないが、1〜100,000mPa・sの範囲が好ましく、1〜5,000mPa・sの範囲がより好ましい。(F)成分の分子構造は限定されず、例えば、直鎖状、分岐鎖状、一部分岐を有する直鎖状、環状、樹枝状(デンドリマー状)が挙げられる。このようなオルガノポリシロキサンとしては、例えば、これらの分子構造を有する単一重合体、これらの分子構造からなる共重合体、またはこれらの混合物が挙げられる。
[(F) component]
An organohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms is a component acting as a crosslinking agent. Examples of the group bonded to the silicon atom bond of the organohydrogenpolysiloxane include the same linear alkyl group, branched alkyl group, cyclic alkyl group, aryl group, aralkyl group and halogenated alkyl group as described above. And preferably an alkyl group or an aryl group, particularly preferably a methyl group or a phenyl group. Although the viscosity at 25 degrees C of (F) component is not limited, The range of 1-100,000 mPa * s is preferable, and the range of 1-5,000 mPa * s is more preferable. The molecular structure of the component (F) is not limited, and examples thereof include linear, branched, partially branched linear, cyclic, and dendritic (dendrimer-like). Such organopolysiloxanes include, for example, homopolymers having these molecular structures, copolymers composed of these molecular structures, or mixtures thereof.

(F)成分としては、例えば、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサンコポリマー、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサンコポリマー、式:(CH33SiO1/2で表されるシロキサン単位と式:(CH32HSiO1/2で表されるシロキサン単位と式:SiO4/2で表されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサンコポリマーが挙げられ、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。As the component (F), for example, dimethylhydrogensiloxy group-capped dimethylpolysiloxane with molecular chain both end trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, molecular chain both terminal dimethylhydrogensiloxy group-capped Dimethyl siloxane / methyl hydrogen siloxane copolymer, siloxane unit represented by the formula: (CH 3 ) 3 SiO 1/2 and siloxane unit represented by the formula: (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 and formula: SiO 4 / The organosiloxane copolymer which consists of a siloxane unit represented by 2 is mentioned, It can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types suitably.

(F)成分の配合量は、シリコーン組成物の硬化に必要な量であり、具体的には、(A−I)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、(F)成分中のケイ素原子結合水素原子が0.1〜10モルの範囲内となる量であることが好ましく、さらに、0.1〜5モルの範囲内となる量であることが好ましく、特に、0.1〜3.0モルの範囲内となる量であることが好ましい。これは本成分の含有量が上記範囲の下限未満となる量であると、得られるシリコーン組成物が十分に硬化しなくなる傾向があるからであり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーン硬化物が非常に硬質となり、表面に多数のクラックを生じたりする場合がある。   The compounding amount of the component (F) is an amount necessary for curing of the silicone composition, and specifically, in the component (F) relative to 1 mole of silicon-bonded alkenyl group in the component (A-I) Is preferably in an amount of 0.1 to 10 moles, and more preferably in an amount of 0.1 to 5 moles, particularly 0.1 The amount is preferably in the range of -3.0 mol. This is because when the content of the component is less than the lower limit of the above range, the resulting silicone composition tends to be not sufficiently cured, while when it exceeds the upper limit of the above range, it is obtained The cured silicone becomes very hard and may cause many cracks on the surface.

(G)白金族金属系硬化触媒は、シリコーン組成物の硬化を促進するための触媒であり、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体、白金のカルボニル錯体が挙げられる。   (G) A platinum group metal-based curing catalyst is a catalyst for promoting the curing of the silicone composition, for example, chloroplatinic acid, alcohol solution of chloroplatinic acid, olefin complex of platinum, alkenyl siloxane complex of platinum, platinum And a carbonyl complex of

(G)成分の配合量は、シリコーン組成物の硬化に必要な量であり、具体的には、(A−I)成分に対して(G)成分中の白金金属が質量単位で0.01〜1,000ppmの範囲内となる量であることが好ましく、特に、0.1〜500ppmの範囲内となる量であることが好ましい。これは、(G)成分の配合量が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーン組成物が十分に硬化しなくなる傾向があり、一方、上記範囲の上限を超える量を配合しても得られるシリコーン組成物の硬化速度は顕著に向上しない。   The compounding amount of the (G) component is an amount necessary for curing of the silicone composition, and specifically, the platinum metal in the (G) component is 0.01 parts by mass unit to the (A-I) component. The amount is preferably in the range of ̃1,000 ppm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 500 ppm. This is because when the compounding amount of the component (G) is less than the lower limit of the above range, the resulting silicone composition tends not to be sufficiently cured. The cure rate of the resulting silicone composition is not significantly improved.

(H)硬化反応抑制剤
シリコーン組成物の硬化速度を調節し、取扱作業性を向上させるために、硬化反応抑制剤を配合することができる。硬化反応抑制剤としては、2−メチル−3−ブチン−2−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のアセチレン系化合物;3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のエン−イン化合物;その他、ヒドラジン系化合物、フォスフィン系化合物、メルカプタン系化合物等が挙げられ、1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。
(H) Curing Reaction Inhibitor In order to adjust the curing speed of the silicone composition and improve the handling workability, a curing reaction inhibitor can be blended. Curing reaction inhibitors include acetylene compounds such as 2-methyl-3-butyn-2-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, 1-ethynyl-1-cyclohexanol and the like; 3-methyl-3 -En-yne compounds such as pentene-1-yne and 3,5-dimethyl-3-hexene-1-yne; and others, including hydrazine compounds, phosphine compounds, mercaptan compounds and the like, which may be used alone or in combination Two or more species can be used in combination as appropriate.

(H)成分の配合量は特に限定されないが、シリコーン組成物に対して0.0001〜1.0質量%が好ましい。上記範囲とすることで、シリコーン組成物の作業性や、硬化速度がより好適となる。   Although the compounding quantity of (H) component is not specifically limited, 0.0001-1.0 mass% is preferable with respect to a silicone composition. By setting it as the said range, the workability of a silicone composition and hardening speed become more suitable.

[II]縮合反応硬化型熱伝導性シリコーン組成物
シリコーン組成物が縮合反応硬化型熱伝導性シリコーン組成物である場合には、上記(A)として上記に示す(A−II)成分を用い、さらに、下記成分を含むものであり、硬化剤は下記(I)成分である。
(I)1分子中に少なくとも3個のケイ素原子結合加水分解性基を有するシランもしくはその部分加水分解物、
(J)必要に応じて、縮合反応用触媒
[II] Condensation reaction curing type thermally conductive silicone composition When the silicone composition is a condensation reaction curing type thermally conductive silicone composition, the component (A-II) shown above as the above (A) is used, Furthermore, it contains the following components, and the curing agent is the following (I) component.
(I) a silane having at least three silicon-bonded hydrolyzable groups in one molecule or a partial hydrolyzate thereof
(J) If necessary, a catalyst for condensation reaction

(I)成分中のケイ素原子結合加水分解性基としては、前記と同様のアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケノキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基が例示される。また、このシランのケイ素原子には上記の加水分解性基以外に、例えば、前記と同様の直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基を結合していてもよい。このようなシランもしくはその部分加水分解物としては、例えば、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、エチルオルソシリケートが挙げられる。   Examples of the silicon-bonded hydrolyzable group in the component (I) include the same alkoxy group, alkoxyalkoxy group, acyloxy group, ketoxime group, alkenoxy group, amino group, aminoxy group and amido group as described above. In addition to the above hydrolyzable groups, silicon atoms of this silane may be, for example, the same linear alkyl group, branched alkyl group, cyclic alkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, halogen as described above. It is also possible to bind a fluorinated alkyl group. Examples of such silanes or partial hydrolysates thereof include methyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and ethyl orthosilicate.

(I)成分の配合量は、シリコーン組成物の硬化に必要な量であり、具体的には、(A−II)成分100質量部に対して0.01〜20質量部の範囲内であることが好ましく、特に、0.1〜10質量部の範囲内であることが好ましい。これは、このシランもしくはその部分加水分解物の含有量が上記範囲の下限未満の量であると、得られるシリコーン組成物の貯蔵安定性が低下するおそれがあり、一方、上記範囲の上限を超える量であると、得られるシリコーン組成物の硬化が著しく遅くなったりするおそれがある。   The compounding amount of the component (I) is an amount necessary for curing the silicone composition, and specifically, it is in the range of 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A-II). It is preferable that it is in the range of 0.1-10 mass parts especially. If the content of this silane or its partial hydrolyzate is less than the lower limit of the above range, the storage stability of the resulting silicone composition may be reduced, while the upper limit of the above range is exceeded. If it is an amount, the curing of the resulting silicone composition may be significantly delayed.

(J)成分は任意の成分であり、例えば、アミノキシ基、アミノ基、ケトオキシム基等の加水分解性基を有するシランを硬化剤として用いる場合には必須ではない。このような縮合反応用触媒としては、例えば、テトラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン酸エステル;ジイソプロポキシビス(アセチルアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等の有機チタンキレート化合物;アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等の有機アルミニウム化合物;ジルコニウムテトラ(アセチルアセトネート)、ジルコニウムテトラブチレート等の有機アルミニウム化合物;ジブチルスズジオクトエート、ジブチルスズジラウレート、ブチルスズ−2−エチルヘキソエート等の有機スズ化合物;ナフテン酸スズ、オレイン酸スズ、ブチル酸スズ、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛等の有機カルボン酸の金属塩;ヘキシルアミン、燐酸ドデシルアミン等のアミン化合物、及びその塩;ベンジルトリエチルアンモニウムアセテート等の4級アンモニウム塩;酢酸カリウム、硝酸リチウム等のアルカリ金属の低級脂肪酸塩;ジメチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン等のジアルキルヒドロキシルアミン;グアニジル基含有有機ケイ素化合物が挙げられる。   The component (J) is an optional component, and is not essential when, for example, a silane having a hydrolyzable group such as an aminoxy group, an amino group or a ketoxime group is used as a curing agent. As such a condensation reaction catalyst, for example, organic titanates such as tetrabutyl titanate and tetraisopropyl titanate; organic titanium such as diisopropoxy bis (acetyl acetate) titanium and diisopropoxy bis (ethyl aceto acetate) titanium Chelate compounds; organoaluminum compounds such as aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate); organoaluminum compounds such as zirconium tetra (acetylacetonate) and zirconium tetrabutyrate; dibutyltin dioctoate, dibutyltin dilaurate, Organotin compounds such as butyl tin 2-ethyl hexoate; Organics such as tin naphthenate, tin oleate, tin butylate, cobalt naphthenate, zinc stearate Metal salts of rubonic acid; amine compounds such as hexylamine and dodecylamine phosphate, and salts thereof; quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium acetate; lower fatty acid salts of alkali metals such as potassium acetate and lithium nitrate; dimethylhydroxylamine, And dialkylhydroxylamines such as diethylhydroxylamine; and guanidyl group-containing organosilicon compounds.

(J)成分を配合する場合、その配合量はシリコーン組成物の硬化に必要な量であればよく、具体的には、(A)成分100質量部に対して0.01〜20質量部の範囲内であることが好ましく、特に0.1〜10質量部の範囲内であることが好ましい。これは、この触媒が必須である場合、この触媒の含有量が上記範囲の下限未満の量であると、得られるシリコーン組成物が十分に硬化しなくなる傾向があるからであり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーン組成物の貯蔵安定性が低下する傾向があるからである。   When compounding component (J), the compounding amount may be an amount necessary for curing of the silicone composition, and specifically, 0.01 to 20 parts by mass of 100 parts by mass of component (A) It is preferably in the range, and particularly preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass. This is because when the catalyst is essential, if the content of the catalyst is less than the lower limit of the above range, the resulting silicone composition tends not to be sufficiently cured, while the above range If the upper limit of the above is exceeded, the storage stability of the resulting silicone composition tends to decrease.

[III]有機過酸化物硬化型熱伝導性シリコーン組成物
シリコーン組成物が有機過酸化物硬化型熱伝導性シリコーン組成物である場合には、上記(A)として上記に示す(A−III)成分を用い、さらに、下記成分を含むものであり、硬化剤は下記(K)成分である。
(K)有機過酸化物
[III] Organic peroxide curable thermally conductive silicone composition When the silicone composition is an organic peroxide curable thermally conductive silicone composition, it is shown above as (A) above (A-III) The component is used and the following component is further contained, and the curing agent is the following (K) component.
(K) Organic peroxide

(K)有機過酸化物としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチルビス(2,5−t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエートが挙げられる。   (K) Examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethylbis (2,5-t-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, and t- And butyl perbenzoate.

(K)成分の配合量は、シリコーン組成物の硬化に必要な量であり、具体的には、上記(A−III)成分のオルガノポリシロキサン100質量部に対して0.1〜5質量部の範囲が好ましい。(K)成分の配合量が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーン組成物が十分に硬化しなくなる傾向があり、一方、上記範囲の上限を超える量を配合しても得られるシリコーン組成物の硬化速度は顕著に向上せず、寧ろボイドの原因となるおそれがある。   The compounding amount of the (K) component is an amount necessary for curing of the silicone composition, and specifically, 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane of the (A-III) component. Is preferred. When the compounding amount of the component (K) is less than the lower limit of the above range, the resulting silicone composition tends not to be sufficiently cured, and on the other hand, the silicone composition obtained even if the amount exceeds the upper limit of the above range The curing speed of the material is not significantly improved and may cause a void.

さらに、本発明のシリコーン組成物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の成分として、例えば、酸化亜鉛、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、ヒュームド酸化チタン等の充填剤、この充填剤の表面を有機ケイ素化合物により疎水化処理した充填剤;3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の接着付与剤;その他、顔料、染料、蛍光染料、耐熱添加剤、トリアゾール系化合物等の難燃性付与剤、可塑剤を含有してもよい。なお、本発明の効果を損なわない範囲において、(B)成分以外の熱伝導性充填材を配合してもよく、例えば、アルミニウム粉末、銅粉末、銀粉末、ニッケル粉末、金粉末、酸化亜鉛粉末、酸化マグネシム粉末、窒化ホウ素粉末、窒化アルミニウム粉末、ダイヤモンド粉末、カーボン粉末等が挙げられる。   Furthermore, in the silicone composition of the present invention, as the other optional components, for example, fillers such as zinc oxide, fumed silica, precipitated silica, fumed titanium oxide, etc. as long as the object of the present invention is not impaired Fillers obtained by hydrophobizing the surface of organic silicon compounds with organosilicon compounds; adhesion promoters such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; other pigments, dyes, fluorescent dyes, heat-resistant additives And a flame retardant such as a triazole compound, and a plasticizer. In addition, in the range which does not impair the effect of this invention, you may mix | blend heat conductive fillers other than (B) component, for example, aluminum powder, copper powder, silver powder, nickel powder, gold powder, zinc oxide powder. And magnesium oxide powder, boron nitride powder, aluminum nitride powder, diamond powder, carbon powder and the like.

[製造方法]
本発明のシリコーン組成物は、上記各成分の所定量を均一に混合することにより調製できる。例えば、(A)オルガノポリシロキサン、
(B)平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末、及び
(C)平均粒子径0.1〜5μmの球状又は不定形状酸化アルミニウム粉末
を混合する工程を含む、上記(B)成分と(C)成分の配合割合体積比((B):(C))が5:5〜9.5:0.5、(B)成分と(C)成分との合計量が組成物中80〜90体積%であり、組成物の熱伝導率がISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上、組成物の25℃における粘度がスパイラル粘度計による回転数10rpm測定時において、30〜800Pa・sである高熱伝導性シリコーン組成物を製造する方法が挙げられる。さらに、任意成分を混合する工程を含んでいてもよい。
[Production method]
The silicone composition of the present invention can be prepared by uniformly mixing predetermined amounts of the above-mentioned components. For example, (A) organopolysiloxane,
(B) Spherical aluminum oxide powder having an average sphericity of 0.8 or more, 30 hydroxyl groups / nm 2 or less, and an average particle diameter of 50 to 150 μm, and (C) a spherical or irregular particle having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm The mixing ratio volume ratio ((B) :( C)) of the component (B) to the component (C) including the step of mixing the shape aluminum oxide powder is 5: 5 to 9.5: 0.5, (B The total amount of the component (C) and the component (C) is 80 to 90% by volume in the composition, and the thermal conductivity of the composition is 5.5 W / m · K or more in the hot disc method according to ISO 22007-2. The method of manufacturing the highly thermally conductive silicone composition whose viscosity in 25 degreeC of a composition is 30-800 Pa.s is measured at the time of rotation speed 10 rpm measurement by a spiral viscometer. Furthermore, the step of mixing optional components may be included.

[高熱伝導性シリコーン組成物]
熱伝導性シリコーン組成物の熱伝導率は、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上の高熱伝導性シリコーン組成物であり、6.0W/m・K以上がより好ましい。上限は特に限定されず、高くてもよいが、10W/m・K以下とすることができる。測定温度は25℃である。
[High thermal conductivity silicone composition]
The thermal conductivity of the thermally conductive silicone composition is a high thermal conductivity silicone composition of 5.5 W / m · K or more in the hot disc method according to ISO 22007-2, and 6.0 W / m · K or more More preferable. The upper limit is not particularly limited and may be high, but it may be 10 W / m · K or less. The measurement temperature is 25 ° C.

また、熱伝導性シリコーン組成物の25℃における粘度は、スパイラル粘度計による回転数10rpm測定時において、30〜800Pa・sであり、30〜600Pa・sが好ましい。   Moreover, the viscosity at 25 degrees C of a heat conductive silicone composition is 30-800 Pa.s at the time of rotation speed 10 measurement by a spiral viscometer, and 30-600 Pa.s is preferable.

[硬化物]
シリコーン組成物が硬化性のものである場合、それを硬化させる方法は限定されず、例えば、シリコーン組成物を成形後、常温で放置する方法、シリコーン組成物を成形後、40〜200℃に加熱する方法が挙げられ、シリコーンエラストマー成形品が得られる。また、このようにして得られるシリコーンゴムの性状は限定されないが、例えば、ゲル状、低硬度のゴム状、あるいは高硬度のゴム状が挙げられる。その硬化厚みは150μm以上が好ましい。上限は特に限定されないが、本組成物を使用した発熱性電子部品の大きさを考慮した場合、5mm以下が好ましい。なお、硬化物の硬度は、シリコーン組成物を6mm硬化厚みとなるような成形型に流し込み、100℃で1時間硬化させた。次に6mm厚みの硬化物を2枚重ねてアスカーC硬度計で測定した場合、3〜90が好ましく、5〜80がより好ましい。
[Cured product]
When the silicone composition is curable, the method of curing the silicone composition is not limited. For example, a method of molding the silicone composition and leaving it at room temperature, heating to 40 to 200 ° C. after molding the silicone composition The silicone elastomer molded article is obtained. Also, the properties of the silicone rubber obtained in this way are not limited, but examples include gel-like, low-hardness rubber-like, or high-hardness rubber-like. The cured thickness is preferably 150 μm or more. The upper limit is not particularly limited, but in consideration of the size of the heat-generating electronic component using the present composition, 5 mm or less is preferable. In addition, the hardness of hardened | cured material poured the silicone composition into the shaping | molding die used as 6 mm hardening thickness, and was made to harden | cure at 100 degreeC for 1 hour. Next, when 2 sheets of hardened | cured material of 6 mm thickness are accumulated and it measures with an Asker C hardness meter, 3-90 are preferable and 5-80 are more preferable.

硬化物の150℃における熱伝導率は、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、4.0W/m・K以上が好ましく、4.0〜6.5がより好ましい。さらに、硬化物の25℃における熱伝導率は、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上であり、6.0W/m・K以上がより好ましい。上限は特に限定されず、高くてもよいが、10W/m・K以下とすることができる。なお、25℃における、150℃におけるとは、測定温度をいい、150℃において上記のような熱伝導率を有することで、高温時における熱伝導性に優れたものが得られる。
また、横軸を温度、縦軸を熱伝導率とした際、25℃と150℃で得られた熱伝導率をプロットして得られた一次直線において、各温度から推定される熱伝導率も本発明に網羅される。
The thermal conductivity of the cured product at 150 ° C. is preferably 4.0 W / m · K or more, more preferably 4.0 to 6.5, in a hot disk method in accordance with ISO 22007-2. Furthermore, the thermal conductivity of the cured product at 25 ° C. is 5.5 W / m · K or more, more preferably 6.0 W / m · K or more in a hot disk method in accordance with ISO 22007-2. The upper limit is not particularly limited and may be high, but it may be 10 W / m · K or less. The term “at 150 ° C.” at 25 ° C. refers to the measurement temperature, and by having the above-described thermal conductivity at 150 ° C., a material excellent in thermal conductivity at high temperature can be obtained.
Moreover, when making a horizontal axis into temperature and setting a vertical axis | shaft to thermal conductivity, the thermal conductivity estimated from each temperature is also obtained in the linear line obtained by plotting the thermal conductivity obtained by 25 degreeC and 150 degreeC It is covered by the present invention.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記式において、Meはメチル基である。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below by showing Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. In the following formulae, Me is a methyl group.

実施例及び比較例に用いられている成分を下記に示す。
まず、以下の各成分を用意した。
(A)成分
A−1:25℃における粘度が400mPa・sであり、両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖され、Vi基量が0.018moL/100gであるジメチルポリシロキサン
A−2:信越化学工業製KF−54、比重(25℃)が1.07であり、動粘度(25℃)が400mm2/sの分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサンコポリマー
A−3:信越化学工業製KF−50−1,000cs、比重(25℃)が1.00であり、動粘度(25℃)が1,000mm2/sの分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサンコポリマー
The components used in Examples and Comparative Examples are shown below.
First, the following components were prepared.
(A) Component A-1: dimethylpolysiloxane A-2 having a viscosity of 400 mPa · s at 25 ° C., both ends blocked with a dimethylvinylsilyl group, and a Vi group content of 0.018 moL / 100 g: Shin-Etsu Chemical Industrial manufactured KF-54, Molecular weight both ends trimethylsiloxy group blocked dimethyl siloxane / diphenyl siloxane copolymer A-3 having specific gravity (25 ° C.) and dynamic viscosity (25 ° C.) 400 mm 2 / s: Shin-Etsu Chemical Industrially manufactured KF-50-1,000 cs, specific gravity (25 ° C.) is 1.00, and kinematic viscosity (25 ° C.) is 1,000 mm 2 / s Molecular chain both terminal trimethylsiloxy group-blocked dimethyl siloxane / diphenyl siloxane copolymer

(B)成分
下記表に示す性質を有する球状酸化アルミニウム

Figure 2018088416
(B) Component Spherical aluminum oxide having the properties shown in the following table
Figure 2018088416

(C)成分
下記表に示す性質を有する球状又は不定形状酸化アルミニウム

Figure 2018088416
(C) Component Spherical or amorphous aluminum oxide having the properties shown in the following table
Figure 2018088416

(D)成分
D−1:下記式で表されるオルガノポリシロキサン

Figure 2018088416
(D) Component D-1: Organopolysiloxane represented by the following formula
Figure 2018088416

(E)成分
E−1:ポッターズ・バロティーニ製MIL粒度シリーズM−9(中心粒子径の最大値が180μm)、SiO2含有量が99.4質量%の球状ガラスビーズ
(E) Component E-1: Spherical glass bead with 99.4% by mass of SiO 2 content, MIL particle size series M-9 (Maximum central particle diameter is 180 μm) manufactured by Potters Barotini

(F)成分
F−1:下記式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン

Figure 2018088416

F−2:下記式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
Figure 2018088416
Component F-1: Organohydrogenpolysiloxane represented by the following formula
Figure 2018088416

F-2: Organohydrogenpolysiloxane represented by the following formula
Figure 2018088416

(G)成分
G−1:白金濃度が1質量%である塩化白金酸−1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体
(G) component G-1: chloroplatinic acid-1,3-divinyltetramethyldisiloxane complex having a platinum concentration of 1% by mass

(H)成分
H−1:1−エチニル−1−シクロヘキサノールの50%トルエン溶液
(H) Component H-1: 50% solution of 1-ethynyl-1-cyclohexanol in toluene

[実施例1〜7、比較例1〜7]
上記成分を用い、下記に示す方法でシリコーン組成物を調製し、このシリコーン組成物を用いて熱伝導性成型物を得た。これらを用いて下記に示す方法により評価した。結果を表中に併記する。
[Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 7]
Using the components described above, a silicone composition was prepared by the method shown below, and a thermally conductive molded product was obtained using this silicone composition. Using these, it evaluated by the method shown below. The results are shown in the table.

上記成分を下記表3,4に示す配合量で以下のように混合して、シリコーン組成物を得た。即ち、5リットルゲートミキサー(井上製作所(株)製、商品名:5リットルプラネタリミキサー)に、(A)、(B)、(C)、(D)成分を表に示す配合量で取り、150℃で2時間脱気加熱混合した。その後、常温(25℃)になるまで冷却し、(G)成分を加え、均一になるように室温(25℃)にて混合し、続けて(H)成分を加え、均一になるように室温(25℃)にて混合した。さらに(E)及び(F)成分を加え、均一になるように室温にて脱気混合した。このようにして得られたシリコーン組成物について、初期粘度、硬化後硬度、硬化前後の熱伝導率を下記に示す方法により評価した。結果を表中に併記する。   The above components were mixed in the amounts shown in Tables 3 and 4 below as follows to obtain a silicone composition. That is, the components (A), (B), (C) and (D) were taken in the amounts shown in the table in a 5-liter gate mixer (product name: 5-liter planetary mixer, manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.). Degassed and mixed for 2 hours at ° C. Thereafter, the mixture is cooled to room temperature (25 ° C.), the component (G) is added, and mixing is carried out at room temperature (25 ° C.) to be uniform, then the component (H) is added, and room temperature is made uniform. Mix at (25 ° C.). Further, components (E) and (F) were added, and the mixture was degassed at room temperature to be uniform. With respect to the silicone composition thus obtained, the initial viscosity, the hardness after curing, and the thermal conductivity before and after curing were evaluated by the methods shown below. The results are shown in the table.

〔初期粘度評価〕
シリコーン組成物の初期粘度は25℃における値であり、その測定はスパイラル粘度計:マルコム粘度計(タイプPC−10AA、回転数10rpm)を用いた。
〔硬化後硬度評価〕
シリコーン組成物を6mm硬化厚みとなるような成形型に流し込み、100℃で1時間硬化させた。次に6mm厚みの硬化物を2枚重ねてアスカーC硬度計で測定した。
〔熱伝導率評価〕
京都電子工業(株)製ホットディスク法熱物性測定装置TPS 2500 Sを用いて25℃におけるシリコーン組成物の硬化前の熱伝導率を測定した(ISO 22007−2準拠のホットディスク法)。
さらに、シリコーン組成物を6mm硬化厚みとなるような成形型に流し込み、100℃で1時間硬化させた。得られた6mm厚みの硬化物について、25℃及び150℃における硬化物の熱伝導率を測定した。
[Initial viscosity evaluation]
The initial viscosity of the silicone composition is a value at 25 ° C., and a spiral viscometer: Malcom viscometer (type PC-10AA, rotational speed 10 rpm) was used for the measurement.
[Hardness evaluation after curing]
The silicone composition was poured into a mold having a 6 mm cured thickness and cured at 100 ° C. for 1 hour. Next, two 6 mm thick cured products were stacked and measured with an Asker C hardness tester.
[Thermal conductivity evaluation]
The thermal conductivity before curing of the silicone composition at 25 ° C. was measured using a hot disk method thermal physical property measuring apparatus TPS 2500 S manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd. (Hot disk method according to ISO 22007-2).
Furthermore, the silicone composition was poured into a mold having a cured thickness of 6 mm and cured at 100 ° C. for 1 hour. The thermal conductivity of the cured product at 25 ° C. and 150 ° C. was measured for the obtained 6 mm thick cured product.

Figure 2018088416
Figure 2018088416

Figure 2018088416
Figure 2018088416

Claims (11)

(A)オルガノポリシロキサン、
(B)平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末、及び
(C)平均粒子径0.1〜5μmの球状又は不定形状酸化アルミニウム粉末
を含む高熱伝導性シリコーン組成物であって、
上記(B)成分と(C)成分の配合割合体積比((B):(C))が5:5〜9.5:0.5、(B)成分と(C)成分との合計量が組成物中80〜90体積%であり、
組成物の熱伝導率がISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上、組成物の25℃における粘度がスパイラル粘度計による回転数10rpm測定時において、30〜800Pa・sである高熱伝導性シリコーン組成物。
(A) organopolysiloxane,
(B) Spherical aluminum oxide powder having an average sphericity of 0.8 or more, 30 hydroxyl groups / nm 2 or less, and an average particle diameter of 50 to 150 μm, and (C) a spherical or irregular particle having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm A high thermal conductivity silicone composition comprising shaped aluminum oxide powder,
Blending ratio volume ratio ((B) :( C)) of the above (B) component and (C) component is 5: 5 to 9.5: 0.5, and the total amount of (B) component and (C) component Is 80 to 90% by volume in the composition,
When the thermal conductivity of the composition is 5.5 W / m · K or more and the viscosity of the composition at 25 ° C. is 10 to 30 rpm when measured at a rotational speed of 10 rpm by a spiral viscometer in the hot disk method according to ISO 22007-2. high thermal conductivity silicone composition which is s.
さらに、(D)シランカップリング剤を含む請求項1記載の高熱伝導性シリコーン組成物。   The high thermal conductivity silicone composition according to claim 1, further comprising (D) a silane coupling agent. (D)成分が、下記一般式(1)
−SiR1 a(OR23-a (1)
(式中、R1は独立に非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R2は独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基であり、aは0、1又は2である。)
で表されるシリル基を1分子中に少なくとも1個含有し、25℃での粘度が0.01〜30Pa・sであるオルガノポリシロキサンである請求項2記載の高熱伝導性シリコーン組成物。
The component (D) is represented by the following general formula (1)
-SiR 1 a (OR 2 ) 3-a (1)
(Wherein, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is independently an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group or an acyl group, and a is 0, 1 or 2) is there.)
The high thermal conductivity silicone composition according to claim 2, which is an organopolysiloxane containing at least one silyl group represented by 1 in one molecule and having a viscosity of 0.01 to 30 Pa · s at 25 ° C.
さらに、(E)中心粒子径の最大値が150μm以上であり、SiO2含有量が50質量%以上の球状ガラスビーズ又は不定形ガラスを、組成物の全量に対し10質量%以下含む請求項1〜3のいずれか1項記載の高熱伝導性シリコーン組成物。Furthermore, spherical glass beads or amorphous glass having a maximum value of (E) central particle diameter of 150 μm or more and an SiO 2 content of 50% by mass or more is contained at 10% by mass or less based on the total amount of the composition. The high thermal conductivity silicone composition of any one of -3. さらに、硬化剤を含む請求項1〜4のいずれか1項記載の高熱伝導性シリコーン組成物。   The high thermal conductivity silicone composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising a curing agent. 高熱伝導性シリコーン組成物の硬化物の150℃における熱伝導率が、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、4.0W/m・K以上である請求項5記載の熱伝導性シリコーン組成物。   The thermally conductive silicone composition according to claim 5, wherein the thermal conductivity of the cured product of the high thermal conductivity silicone composition at 150 ° C is 4.0 W / m · K or more in the hot disk method in accordance with ISO 22007-2. . 付加反応硬化型、縮合反応硬化型又は有機過酸化物硬化型である請求項6記載の高熱伝導性シリコーン組成物。   7. The high thermal conductivity silicone composition according to claim 6, which is an addition reaction curing type, a condensation reaction curing type or an organic peroxide curing type. 付加反応硬化型である請求項7記載の高熱伝導性シリコーン組成物。   The high thermal conductivity silicone composition according to claim 7, which is addition reaction curable. 請求項5〜8のいずれか1項記載の高熱伝導性シリコーン組成物の硬化物。   A cured product of the high thermal conductivity silicone composition according to any one of claims 5 to 8. 150℃における熱伝導率が、ISO 22007−2準拠のホットディスク法において、4.0W/m・K以上である請求項9記載の硬化物。   10. The cured product according to claim 9, wherein the thermal conductivity at 150 ° C. is 4.0 W / m · K or more in a hot disk method in accordance with ISO 22007-2. (A)オルガノポリシロキサン、
(B)平均球形度0.8以上、水酸基が30個/nm2以下であり、平均粒子径50〜150μmの球状酸化アルミニウム粉末、及び
(C)平均粒子径0.1〜5μmの球状又は不定形状酸化アルミニウム粉末
を混合する工程を含む、上記(B)成分と(C)成分の配合割合体積比((B):(C))が5:5〜9.5:0.5、(B)成分と(C)成分との合計量が組成物中80〜90体積%であり、組成物の熱伝導率がISO 22007−2準拠のホットディスク法において、5.5W/m・K以上、組成物の25℃における粘度がスパイラル粘度計による回転数10rpm測定時において、30〜800Pa・sである高熱伝導性シリコーン組成物を製造する方法。
(A) organopolysiloxane,
(B) Spherical aluminum oxide powder having an average sphericity of 0.8 or more, 30 hydroxyl groups / nm 2 or less, and an average particle diameter of 50 to 150 μm, and (C) a spherical or irregular particle having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm The mixing ratio volume ratio ((B) :( C)) of the component (B) to the component (C) including the step of mixing the shape aluminum oxide powder is 5: 5 to 9.5: 0.5, (B The total amount of the component (C) and the component (C) is 80 to 90% by volume in the composition, and the thermal conductivity of the composition is 5.5 W / m · K or more in the hot disc method according to ISO 22007-2. A method for producing a high thermal conductivity silicone composition, wherein the viscosity of the composition at 25 ° C. is 30 to 800 Pa · s when measured at a rotation speed of 10 rpm by a spiral viscometer.
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