JPWO2018030026A1 - Laminate containing low dielectric adhesive layer - Google Patents

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Abstract

従来のポリイミド、ポリエステルフィルムだけでなく、LCPなどの低極性樹脂基材や金属基材と高い接着性を有し、高いハンダ耐熱性を得ることができ、且つ低誘電特性に優れる積層体を提供する。カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)であって、(1)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、(2)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、(3)樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、(4)積層体(Z)の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを特徴とする積層体(Z)。Provides a laminate that has high adhesion to not only conventional polyimide and polyester films but also low polar resin substrates such as LCP and metal substrates, high solder heat resistance, and excellent low dielectric properties. Do. A laminate (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), wherein (1) the metal substrate is removed from the laminate (Z) Dielectric loss tangent (εc) of the laminate (X) at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less, and (2) dielectric loss tangent at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) obtained by removing the metal base from the laminate (Z) (Tan δ) is 0.02 or less, (3) the peel strength between the resin base and the metal base is 0.5 N / mm or more, and (4) the wet solder heat resistance of the laminate (Z) is 240 A laminate (Z) characterized by having a temperature of at least ° C.

Description

本発明は、低誘電率、低誘電正接を示す接着剤層を含有する積層体に関する。より詳しくは、低誘電率、低誘電正接を示す接着剤層を介して樹脂基材と金属基材が積層された積層体に関する。特にフレキシブルプリント配線板(以下、FPCと略す)用の積層体、並びにそれを含む、カバーレイフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに関する。   The present invention relates to a laminate containing an adhesive layer exhibiting a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. More specifically, the present invention relates to a laminate in which a resin base and a metal base are laminated via an adhesive layer exhibiting a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. In particular, the present invention relates to a laminate for a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as an FPC), a coverlay film, a laminate, a copper foil with resin, and a bonding sheet including the laminate.

近年、プリント配線板における伝送信号の高速化に伴い、信号の高周波化が進んでいる。これに伴い、FPCには、高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)の要求が高まっている。このような要求に対して、FPCに用いられる基材フィルムとして、従来のポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレートフィルムに代えて、低誘電特性を有する液晶ポリマー(LCP)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)などの基材フィルムが提案されている。
しかしながら、低誘電特性を有する基材フィルムは、低極性のため、従来のエポキシ系接着剤やアクリル系接着剤を用いた場合、接着力が弱く、カバーレイフィルム、積層板等FPC用部材の作製が困難であった。また、エポキシ系接着剤やアクリル系接着剤は、低誘電特性に優れず、FPCの誘電特性を損なう。
一方、ポリオレフィン樹脂は、低誘電特性を有することが知られている。そこで、ポリオレフィン樹脂を用いたFPC用接着剤組成物が提案されている。たとえば、特許文献1では、カルボキシル基を含有するポリオレフィン系共重合体、芳香族ビニル化合物重合体ブロックと共役ジエン系化合物重合体ブロックとのブロック共重合体、エポキシ樹脂を用いた熱反応性接着剤組成物が提案されている。また、特許文献2では、カルボキシル基含有スチレンエラストマーとエポキシ樹脂を用いた接着剤組成物が提案されている。
In recent years, with the speeding up of transmission signals in printed wiring boards, the frequency of signals has been increased. Along with this, the demand for low dielectric characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in a high frequency region is increasing for the FPC. In order to meet such requirements, conventional polyimide (PI), liquid crystal polymer (LCP) having low dielectric characteristics (LCP), syndiotactic polystyrene (SPS), and the like instead of conventional polyimide (PI) and polyethylene terephthalate film are used as substrate films for FPC. Substrate films such as polyphenylene sulfide (PPS) have been proposed.
However, since the base film having low dielectric properties has low polarity, the adhesion is weak when a conventional epoxy adhesive or acrylic adhesive is used, and a member for FPC such as a coverlay film, a laminate, etc. is produced. Was difficult. In addition, epoxy adhesives and acrylic adhesives do not have excellent low dielectric properties and impair the dielectric properties of the FPC.
On the other hand, polyolefin resins are known to have low dielectric properties. Therefore, an adhesive composition for FPC using a polyolefin resin has been proposed. For example, in Patent Document 1, a thermally reactive adhesive using a carboxyl group-containing polyolefin copolymer, a block copolymer of an aromatic vinyl compound polymer block and a conjugated diene compound polymer block, and an epoxy resin Compositions have been proposed. Further, Patent Document 2 proposes an adhesive composition using a carboxyl group-containing styrene elastomer and an epoxy resin.

特許3621351号公報Patent No. 3621351 WO2014/147903A1公報WO 2014/147903 A1 Publication

しかしながら、特許文献1では、ポリイミドフィルムとSUSとの接着性、ハンダ耐熱性は述べられているが、誘電特性について言及されておらず、LCPなどの低誘電特性を有する基材フィルムとの接着性が得られがたい。また、特許文献2では、誘電特性、ポリイミドフィルムと銅箔との接着性は述べられているが、LCPなどの低誘電特性を有する基材フィルムとの接着性については言及されていない。また、乾燥後のハンダ耐熱性は述べられているが、加湿後のハンダ耐熱性は十分とはいえない。   However, Patent Document 1 mentions the adhesion between a polyimide film and SUS, and solder heat resistance, but does not mention dielectric properties, and adhesion with a base film having low dielectric properties such as LCP. Is difficult to obtain. Moreover, in patent document 2, although the adhesiveness of a dielectric property and a polyimide film and copper foil is described, it is not mentioned about the adhesiveness with the base film which has low dielectric characteristics, such as LCP. Moreover, although the solder heat resistance after drying is described, the solder heat resistance after humidification is not sufficient.

本発明は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の物性を有する接着剤層が、従来のポリイミドフィルムだけでなく、従来技術では想定されていないLCPなどの低誘電特性を有する樹脂基材と、銅箔などの金属基材との、高い接着性、高いハンダ耐熱性、および低誘電特性に優れることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。   As a result of earnest studies to solve the above problems, the present invention finds that the adhesive layer having specific physical properties is not only a conventional polyimide film, but also a resin having low dielectric characteristics such as LCP not assumed in the prior art. It has been found that the base material and the metal base material such as copper foil are excellent in high adhesion, high solder heat resistance, and low dielectric properties, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、ポリイミド、LCPなどの様々な樹脂基材と金属基材双方への良好な接着性を有し、且つ耐熱性、低誘電特性にも優れた接着剤層で積層された積層体を提供することを目的とする。   That is, the present invention is a laminate laminated with an adhesive layer having good adhesion to both of various resin substrates such as polyimide and LCP and metal substrates, and having excellent heat resistance and low dielectric characteristics. Intended to provide the body.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)であって、(1)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、(2)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、(3)樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、(4)積層体(Z)の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを特徴とする積層体(Z)。A laminate (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), wherein (1) the metal substrate is removed from the laminate (Z) Dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz of the laminated body (X) is 3.0 or less, and (2) the dielectric at a frequency of 1 MHz of the laminated body (X) obtained by removing the metal base from the laminate (Z) The tangent (tan δ) is 0.02 or less, (3) the peel strength between the resin base and the metal base is 0.5 N / mm or more, and (4) the wet solder heat resistance of the laminate (Z) is A laminate (Z) characterized by having a temperature of 240 ° C. or more.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層と前記樹脂基材の積層体(X)であって、(1)積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、(2)積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、(3)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体における樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、(4)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを特徴とする積層体(X)。A laminate of the adhesive layer and the resin substrate (X) used in a laminate (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A) (1) The dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) is 3.0 or less, and (2) the dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) is (3) The peel strength between the resin base and the metal base in the laminate when the metal base is laminated on the adhesive layer surface of the laminate (X) is 0.5 N / mm or more (4) A laminate (X) characterized in that the wet solder heat resistance of the laminate when the metal base is laminated on the adhesive layer side of the laminate (X) is 240 ° C. or higher.

前記の積層体(Z)または積層体(X)を含有する接着シート。   An adhesive sheet containing the above laminate (Z) or laminate (X).

前記の接着シートを構成要素として含むプリント配線板。   The printed wiring board which contains the said adhesive sheet as a component.

本発明にかかるカルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)は、(1)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であること、(2)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であること、(3)樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であること、(4)積層体(Z)の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを満足するため、従来のポリイミド、ポリエステルフィルムだけでなく、従来技術では想定されていないLCPフィルムなどの低極性樹脂基材や金属基材と高い接着性を有し、高いハンダ耐熱性を得ることができ、且つ低誘電特性に優れる。A laminate (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A) according to the present invention is (1) a laminate (Z) to a metal substrate The dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) from which the is removed is 3.0 or less, (2) the frequency of the laminate (X) from which the metal substrate is removed from the laminate (Z) The dielectric loss tangent (tan δ) at 1 MHz is 0.02 or less, (3) the peel strength between the resin base and the metal base is 0.5 N / mm or more, (4) the laminate (Z) In order to satisfy moisture solder heat resistance of 240 ° C or higher, not only conventional polyimides and polyester films, but also low-polarity resin substrates and metal substrates such as LCP films not expected in the prior art have high adhesiveness Has high solder heat resistance And excellent in low dielectric characteristics.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層されたものであり、積層体(X)はカルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層と樹脂基材との積層体である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The laminate (Z) according to the present invention is a laminate of a resin substrate and a metal substrate through an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), and the laminate (X) has a carboxyl group It is a laminated body of the adhesive bond layer containing a containing polyolefin resin (A), and a resin base material.

<カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)>
本発明に用いるカルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)(以下、単に(A)成分ともいう)は限定的ではないが、ポリオレフィン樹脂にα,β−不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種をグラフトすることにより得られるものであることが好ましい。ポリオレフィン樹脂とは、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレン等に例示されるオレフィンモノマーの単独重合、もしくはその他のモノマーとの共重合、および得られた重合体の水素化物やハロゲン化物など、炭化水素骨格を主体とする重合体を指す。すわなち、カルボキシル基含有ポリオレフィンは、ポリエチレン、ポリプロピレン及びプロピレン−α−オレフィン共重合体の少なくとも1種に、α,β−不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種をグラフトすることにより得られるものが好ましい。
<Carboxyl group-containing polyolefin resin (A)>
The carboxyl group-containing polyolefin resin (A) (hereinafter also referred to simply as the component (A)) used in the present invention is not limited, but at least one of α, β-unsaturated carboxylic acid and acid anhydride thereof to the polyolefin resin. It is preferable that it is obtained by grafting. Polyolefin resins include homopolymers of olefin monomers such as ethylene, propylene, butene, butadiene, isoprene and the like, or copolymerization with other monomers, and hydrocarbons such as hydrides and halides of the obtained polymers. It refers to a polymer mainly composed of a skeleton. That is, the carboxyl group-containing polyolefin is obtained by grafting at least one of an α, β-unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride thereof onto at least one of polyethylene, polypropylene and a propylene-α-olefin copolymer. What is obtained is preferable.

プロピレン−α−オレフィン共重合体は、プロピレンを主体としてこれにα−オレフィンを共重合したものである。α−オレフィンとしては、例えば、エチレン、1−ブテン、1−ヘプテン、1−オクテン、4−メチル−1−ペンテン、酢酸ビニルなどを1種又は数種用いるこができる。これらのα−オレフィンの中では、エチレン、1−ブテンが好ましい。プロピレン−α−オレフィン共重合体のプロピレン成分とα−オレフィン成分との比率は限定されないが、プロピレン成分が50モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましい。   The propylene-α-olefin copolymer is mainly composed of propylene and copolymerized with α-olefin. As the α-olefin, for example, ethylene, 1-butene, 1-heptene, 1-octene, 4-methyl-1-pentene, vinyl acetate and the like can be used alone or in combination. Among these α-olefins, ethylene and 1-butene are preferred. Although the ratio of the propylene component of an propylene-alpha-olefin copolymer and an alpha-olefin component is not limited, It is preferable that a propylene component is 50 mol% or more, and it is more preferable that it is 70 mol% or more.

α,β−不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種としては、例えば、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸及びこれらの酸無水物が挙げられる。これらの中でも酸無水物が好ましく、無水マレイン酸がより好ましい。具体的には、無水マレイン酸変性ポリプロピレン、無水マレイン酸変性プロピレン−エチレン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン−エチレン−ブテン共重合体等が挙げられ、これら酸変性ポリオレフィンを1種類又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。なかでも無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体が好ましい。無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体のプロピレン成分/1−ブテン成分(モル比)としては、90〜50/10〜50であることが好ましく、85〜60/15〜40であることがより好ましく、80〜55/20〜45であることがさらに好ましく、75〜60/25〜40であることが特に好ましい。上記範囲とすることで特に優れた接着性、加湿ハンダ耐熱性および低誘電特性を発現することができる。   Examples of at least one of the α, β-unsaturated carboxylic acids and their acid anhydrides include maleic acid, itaconic acid, citraconic acid and their acid anhydrides. Among these, acid anhydrides are preferable, and maleic anhydride is more preferable. Specifically, maleic anhydride modified polypropylene, maleic anhydride modified propylene-ethylene copolymer, maleic anhydride modified propylene-butene copolymer, maleic anhydride modified propylene-ethylene-butene copolymer, etc. may be mentioned. These acid-modified polyolefins can be used alone or in combination of two or more. Among these, maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer is preferable. The propylene component / 1-butene component (molar ratio) of the maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer is preferably 90 to 50/10 to 50, and more preferably 85 to 60/15 to 40. It is preferably 80 to 55/20 to 45, more preferably 75 to 60/25 to 40. By setting it as the said range, especially outstanding adhesiveness, moist solder | pewter heat resistance, and a low dielectric property can be expressed.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の酸価は、耐熱性および樹脂基材や金属基材との接着性の観点から、下限は100当量/10g以上であることが好ましく、より好ましくは200当量/10g以上であり、さらに好ましくは250当量/10gである。前記の値未満であると、エポキシ樹脂(D)、カルボジイミド樹脂(C)との相溶性が低く、接着強度が発現しないことがある。また架橋密度が低く耐熱性が乏しい場合がある。上限は1000当量/10g以下であることが好ましく、より好ましくは700当量/10g以下であり、さらに好ましくは500当量/10g以下である。前記の値を超えると、接着性が低下することがある。また、溶液の粘度や安定性が低下し、ポットライフ性が低下することがある。さらに製造効率も低下するため好ましくない。The lower limit of the acid value of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably 100 equivalents / 10 6 g or more, and more preferably 200, from the viewpoint of heat resistance and adhesiveness with the resin substrate and the metal substrate. The equivalent weight / 10 6 g or more, more preferably 250 equivalent / 10 6 g. If it is less than the above value, the compatibility with the epoxy resin (D) and the carbodiimide resin (C) may be low, and the adhesive strength may not be expressed. In addition, the crosslink density may be low and the heat resistance may be poor. The upper limit is preferably 1000 equivalents / 10 6 g or less, more preferably 700 equivalents / 10 6 g or less, and still more preferably 500 equivalents / 10 6 g or less. If the above value is exceeded, adhesion may be reduced. In addition, the viscosity and stability of the solution may be reduced, and the pot life may be reduced. Furthermore, it is not preferable because the production efficiency also decreases.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の重量平均分子量(Mw)は、10,000〜180,000の範囲であることが好ましい。より好ましくは20,000〜160,000の範囲であり、さらに好ましくは30,000〜150,000の範囲であり、特に好ましくは40,000〜140,000の範囲であり、最も好ましくは、50,000〜130,000の範囲である。前記の値未満であると、凝集力が弱くなり接着性が劣る場合がある。一方、前記の値を超えると、流動性が低く接着する際の操作性に問題が生じる場合がある。   The weight average molecular weight (Mw) of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably in the range of 10,000 to 180,000. More preferably, it is in the range of 20,000 to 160,000, more preferably in the range of 30,000 to 150,000, particularly preferably in the range of 40,000 to 140,000, and most preferably 50. The range is from 1,000 to 130,000. If it is less than the above value, the cohesion may be weak and the adhesion may be poor. On the other hand, if the value is above the above range, the flowability is low and there may be a problem in operability when bonding.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)は、結晶性の樹脂であることが好ましい。カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)が結晶性であることで、非晶性に比べ、凝集力が強く、接着性に優れるため有利である。ここで、結晶性とは、示差走査型熱量計(DSC)を用いて、−100℃から250℃ まで20℃/分で昇温し、該昇温過程に明確な融解ピークを示すものを指す。   The carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably a crystalline resin. Since the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is crystalline, it is advantageous because the cohesion is strong and the adhesiveness is excellent compared to the non-crystallinity. Here, the term “crystallinity” refers to one that shows a distinct melting peak in the temperature rising process by raising the temperature from −100 ° C. to 250 ° C. at 20 ° C./minute using a differential scanning calorimeter (DSC). .

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の融点(Tm)は、50℃〜120℃の範囲であることが好ましい。より好ましくは60℃〜100℃の範囲であり、最も好ましくは70℃〜90℃の範囲である。前記の値未満であると、凝集力が弱くなり、接着性が劣る場合がある。一方、前記の値を超えると、流動性が低く接着する際の操作性に問題が生じる場合がある。   The melting point (Tm) of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably in the range of 50 ° C to 120 ° C. More preferably, it is in the range of 60 ° C. to 100 ° C., and most preferably in the range of 70 ° C. to 90 ° C. If it is less than the above value, the cohesion may be weak and the adhesion may be poor. On the other hand, if the value is above the above range, the flowability is low and there may be a problem in operability when bonding.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の融解熱(ΔH)は、5J/g〜60J/gの範囲であることが好ましい。より好ましくは10J/g〜50J/gの範囲であり、さらに好ましくは20J/g〜40J/gの範囲である。前記の値未満であると、凝集力が弱くなり、接着性が劣る場合がある。一方、前記の値を超えると、流動性が低く接着する際の操作性に問題が生じる場合がある。   The heat of fusion (ΔH) of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably in the range of 5 J / g to 60 J / g. More preferably, it is in the range of 10 J / g to 50 J / g, and still more preferably in the range of 20 J / g to 40 J / g. If it is less than the above value, the cohesion may be weak and the adhesion may be poor. On the other hand, if the value is above the above range, the flowability is low and there may be a problem in operability when bonding.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の製造方法としては、特に限定されず、例えばラジカルグラフト反応(すなわち主鎖となるポリマーに対してラジカル種を生成し、そのラジカル種を重合開始点として不飽和カルボン酸および酸無水物をグラフト重合させる反応)、などが挙げられる。   The method for producing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is not particularly limited. For example, a radical grafting reaction (that is, a radical species is generated with respect to a polymer serving as a main chain) Graft polymerization of an acid and an acid anhydride), and the like.

ラジカル発生剤としては、特に限定されないが、有機過酸化物を使用することが好ましい。有機過酸化物としては、特に限定されないが、ジ−tert−ブチルパーオキシフタレート、tert−ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソプロピオニトリル等のアゾニトリル類等が挙げられる。   The radical generator is not particularly limited, but it is preferable to use an organic peroxide. The organic peroxide is not particularly limited, and di-tert-butyl peroxy phthalate, tert-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, tert-butyl peroxy- Peroxides such as 2-ethylhexanoate, tert-butylperoxypivalate, methyl ethyl ketone peroxide, di-tert-butyl peroxide, lauroyl peroxide, etc .; azobisisobutyronitrile, azobisisopropionitrile etc. Azonitriles etc. are mentioned.

<接着剤層>
本発明において、接着剤層(以下、Adともいう)とは、接着剤組成物を基材に塗布し、乾燥あるいは硬化させた後の接着剤組成物の層をいう。接着剤層の厚みは特に限定されないが、好ましくは5μm以上であり、より好ましくは、10μm以上であり、さらに好ましくは15μm以上である。また、好ましくは200μm以下であり、より好ましくは100μm以下であり、さらに好ましくは50μm以下ある。厚さが薄すぎる場合には、接着性能が十分に得られないことがあり、厚すぎる場合には、乾燥が不十分で残留溶剤が多くなりやすくなり、プリント配線板製造のプレス時にフクレを生じるという問題点が挙げられる。
<Adhesive layer>
In the present invention, the adhesive layer (hereinafter also referred to as "Ad") refers to a layer of the adhesive composition after the adhesive composition is applied to a substrate and dried or cured. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and still more preferably 15 μm or more. Moreover, preferably it is 200 micrometers or less, More preferably, it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 50 micrometers or less. If the thickness is too thin, adhesion performance may not be obtained sufficiently. If the thickness is too thick, drying is insufficient and the residual solvent tends to be large, and the printed wiring board may be swollen when pressed. There is a problem of that.

接着剤組成物を基材上にコーティングする方法としては、特に限定されないが、コンマコーター、リバースロールコーター等が挙げられる。もしくは、必要に応じて、プリント配線板構成材料である圧延銅箔、またはポリイミドフィルムに直接もしくは転写法で接着剤層を設けることもできる。乾燥条件は特に限定されないが、乾燥後の残留溶剤率は1質量%以下が好ましい。1質量%超では、プリント配線板プレス時に残留溶剤が発泡して、フクレを生じるという問題点が挙げられる。   Although it does not specifically limit as method to coat an adhesive composition on a base material, A comma coater, a reverse roll coater, etc. are mentioned. Alternatively, if necessary, the adhesive layer can be provided on the rolled copper foil or polyimide film which is a printed wiring board constituent material directly or by a transfer method. Although the drying conditions are not particularly limited, the residual solvent ratio after drying is preferably 1% by mass or less. If the amount is more than 1% by mass, there is a problem that the residual solvent is foamed at the time of pressing the printed wiring board to generate a blister.

接着剤層の1MHzにおける比誘電率(εc)は3.0以下であることが好ましく、より好ましくは2.6以下であり、さらに好ましくは2.3以下である。下限は特に限定されないが、実用上は2.0である。また、周波数1MHz〜10GHzの全領域における比誘電率(εc)が3.0以下であることが好ましく、2.6以下であることがより好ましく、2.3以下であることがさらに好ましい。The relative dielectric constant (ε c ) at 1 MHz of the adhesive layer is preferably 3.0 or less, more preferably 2.6 or less, and still more preferably 2.3 or less. The lower limit is not particularly limited, but is practically 2.0. Further, the relative dielectric constant (ε c ) in the entire region of frequencies 1 MHz to 10 GHz is preferably 3.0 or less, more preferably 2.6 or less, and still more preferably 2.3 or less.

接着剤層の1MHzにおける誘電正接(tanδ)は0.02以下であることが好ましく、より好ましくは0.01以下であり、さらに好ましくは0.005以下である。下限は特に限定されないが、実用上は0.0001である。また、周波数1MHz〜10GHzの全領域における誘電正接(tanδ)が0.02以下であることが好ましく、0.01以下であることがより好ましく、0.005以下であることがさらに好ましい。   The dielectric loss tangent (tan δ) at 1 MHz of the adhesive layer is preferably 0.02 or less, more preferably 0.01 or less, and still more preferably 0.005 or less. The lower limit is not particularly limited, but is practically 0.0001. Further, the dielectric loss tangent (tan δ) in the entire region of frequencies 1 MHz to 10 GHz is preferably 0.02 or less, more preferably 0.01 or less, and still more preferably 0.005 or less.

接着剤層の比誘電率(εc)および誘電正接(tanδ)は、以下のとおり測定することができる。すなわち、接着剤組成物を離型基材に乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、硬化後の接着剤組成物層(接着剤層)を離型フィルムから剥離する。接着剤層の両面に蒸着、スパッタリング法などの薄膜法、または導電性ペーストの塗布などの手法により金属層を形成してコンデンサとし、静電容量を測定して厚さと面積から比誘電率(εc)および誘電正接(tanδ)を算出することができる。The relative permittivity (ε c ) and the dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer can be measured as follows. That is, the adhesive composition is applied to a release substrate to a dry thickness of 25 μm, and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Next, the adhesive composition layer (adhesive layer) after curing is peeled off from the release film by curing by heat treatment at about 140 ° C. for about 4 hours. A metal layer is formed on both sides of the adhesive layer by vapor deposition, a thin film method such as sputtering, or application of a conductive paste to form a capacitor, and the capacitance is measured to determine the relative dielectric constant (ε from thickness and area). c ) and the dielectric loss tangent (tan δ) can be calculated.

<樹脂基材>
本発明において樹脂基材とは、本発明の接着剤組成物を塗布、乾燥し、接着剤層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、フィルム状樹脂等の樹脂基材(以下、基材フィルム層ともいう)が好ましい。具体的には、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー(LCP)、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。LCPフィルムの市販品としては、例えば、株式会社クラレ製のベクスター(登録商標)が挙げられる。また、ポリイミドフィルムの市販品としては、例えば、株式会社カネカ製のアピカル(登録商標)が挙げられる。
<Resin base material>
In the present invention, the resin base is not particularly limited as long as the adhesive composition of the present invention can be applied and dried to form an adhesive layer, but a resin base such as a film-like resin ( Hereinafter, it is also preferable to refer to a base film layer). Specifically, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamide imide resin, liquid crystal polymer (LCP), polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, fluorine resin and the like can be exemplified. As a commercial item of LCP film, Kuraray Co., Ltd. make Vexter (registered trademark) is mentioned, for example. Moreover, as a commercial item of a polyimide film, the Apical (trademark) made from Kaneka Corporation is mentioned, for example.

樹脂基材の厚みについては特に限定はないが、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは、3μm以上であり、さらに好ましくは10μm以上である。また、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下ある。厚さが薄すぎる場合には、回路の充分な電気的性能が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には回路作製時の加工能率等が低下する場合がある。また、樹脂基材の比誘電率(εc)は、5.0以下であることが好ましく、4.0以下であることがより好ましく、3.5以下であることがさらに好ましい。下限値は特に限定されず、工業的には0.1以上あれば問題ない。The thickness of the resin substrate is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and still more preferably 10 μm or more. Moreover, preferably it is 50 micrometers or less, More preferably, it is 30 micrometers or less, More preferably, it is 20 micrometers or less. When the thickness is too thin, it may be difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit. On the other hand, when the thickness is too thick, the processing efficiency and the like at the time of circuit fabrication may decrease. Further, the relative dielectric constant (ε c ) of the resin base is preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less, and still more preferably 3.5 or less. The lower limit is not particularly limited, and there is no problem if it is 0.1 or more industrially.

<金属基材>
金属基材としては、回路基板に使用可能な任意の従来公知の導電性材料が使用可能である。素材としては、SUS、銅、アルミニウム、鉄、スチール、亜鉛、ニッケル等の各種金属、及びそれぞれの合金、めっき品、亜鉛やクロム化合物など他の金属で処理した金属等を例示することができる。好ましくは金属箔であり、より好ましくは銅箔である。金属箔の厚みについては特に限定はないが、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは、3μm以上であり、さらに好ましくは10μm以上である。また、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下ある。厚さが薄すぎる場合には、回路の充分な電気的性能が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には回路作製時の加工能率等が低下する場合がある。金属箔は、通常、ロール状の形態で提供されている。本発明のプリント配線板を製造する際に使用される金属箔の形態は特に限定されない。リボン状の形態の金属箔を用いる場合、その長さは特に限定されない。また、その幅も特に限定されないが、250〜500cm程度であるのが好ましい。
<Metal base>
As the metal substrate, any conventionally known conductive material that can be used for a circuit board can be used. Examples of the material include various metals such as SUS, copper, aluminum, iron, steel, zinc and nickel, alloys thereof, plated products, metals treated with other metals such as zinc and chromium compounds, and the like. Preferably it is metal foil, More preferably, it is copper foil. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and still more preferably 10 μm or more. Moreover, preferably it is 50 micrometers or less, More preferably, it is 30 micrometers or less, More preferably, it is 20 micrometers or less. When the thickness is too thin, it may be difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit. On the other hand, when the thickness is too thick, the processing efficiency and the like at the time of circuit fabrication may decrease. The metal foil is usually provided in the form of a roll. The form of the metal foil used when manufacturing the printed wiring board of this invention is not specifically limited. When using a metallic foil in the form of a ribbon, its length is not particularly limited. The width is also not particularly limited, but preferably about 250 to 500 cm.

<積層体>
本発明の積層体(Z)は、樹脂基材と金属基材が接着剤層を介して積層したもの(樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体)であり、積層体(X)は樹脂基材と接着剤層が積層したもの(樹脂基材/接着剤層)である。本発明では、積層体(X)および積層体(Z)をあわせて単に積層体ということがある。積層体(X)は、積層体(Z)から金属基材をエッチング等の方法で除去することで得られるものでも良いし、接着剤組成物を、常法に従い、樹脂基材に塗布、乾燥することで得られるものでも良い。積層体(Z)は、積層体(X)に金属基材を積層することにより得られるものでも良いし、接着剤組成物を常法に従い金属基材に塗布、乾燥した後、樹脂基材を積層することにより得られるものでも良い。積層体(X)の接着剤層の面に離型基材を積層することもできる。また、積層体(Z)の樹脂基材または金属基材にさらに接着剤層を積層(接着剤層/樹脂基材/接着剤層/金属基材、樹脂基材/接着剤層/金属基材/接着剤層、接着剤層/樹脂基材/接着剤層/金属基材/接着剤層)しても差し支えない。
<Laminate>
The laminate (Z) of the present invention is a laminate in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer (a three-layer laminate of resin substrate / adhesive layer / metal substrate), and a laminate (X) is a laminate of a resin base and an adhesive layer (resin base / adhesive layer). In the present invention, the laminate (X) and the laminate (Z) may be simply referred to as a laminate. The laminate (X) may be obtained by removing the metal substrate from the laminate (Z) by a method such as etching, or the adhesive composition is applied to the resin substrate according to a conventional method and dried. What is obtained by doing may be good. The laminate (Z) may be obtained by laminating a metal substrate on the laminate (X), or the adhesive composition is applied to a metal substrate according to a conventional method and dried, and then the resin substrate is What is obtained by laminating may be used. A release substrate can also be laminated on the surface of the adhesive layer of the laminate (X). In addition, an adhesive layer is further laminated on the resin base or metal base of the laminate (Z) (adhesive layer / resin base / adhesive layer / metal base, resin base / adhesive layer / metal base / Adhesive layer, adhesive layer / resin base material / adhesive layer / metal base / adhesive layer).

本発明の積層体は、さらに下記要件(1)〜(4)を満足する。   The laminate of the present invention further satisfies the following requirements (1) to (4).

<要件(1)>
要件(1)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であることが必要である。具体的には、積層体(X)の比誘電率(εc)は以下のとおり測定することができる。すなわち、積層体(Z)の金属基材をエッチング液できれいに除去し、接着剤層と樹脂基材の2層の積層体(X)を得る。エッチング液は特に限定されず、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、硫酸過酸化水素水混液、アルカリエッチャント、ニッケルエッチャント等を使用することができる。次いで、積層体(X)の両面に蒸着、スパッタリング法などの薄膜法、または導電性ペーストの塗布などの手法により金属層を形成してコンデンサとし、静電容量を測定して厚さと面積から比誘電率(εc)を算出する方法を例示できる。
<Requirement (1)>
The requirement (1) will be described. In the laminate (Z) according to the present invention, it is necessary that the dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) obtained by removing the metal base from the laminate (Z) is 3.0 or less is there. Specifically, the relative dielectric constant (ε c ) of the laminate (X) can be measured as follows. That is, the metal base of the laminate (Z) is cleanly removed with an etching solution to obtain a two-layer laminate (X) of the adhesive layer and the resin base. The etching solution is not particularly limited, and an aqueous solution of ferric chloride, an aqueous solution of cupric chloride, a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, an alkaline etchant, a nickel etchant and the like can be used. Next, a metal layer is formed on both sides of the laminate (X) by a thin film method such as evaporation, sputtering, or coating of a conductive paste to form a capacitor, and the capacitance is measured to measure the thickness and area A method of calculating the dielectric constant (ε c ) can be exemplified.

また別法として、樹脂基材に乾燥後の厚みが25μmとなるよう接着剤組成物を塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させても積層体(X)を作製することができる。積層体(X)の比誘電率(εc)は前記のとおり測定することができる。なお、前記方法以外の方法で作製された積層体(X)であっても、周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であれば、本発明に包含される。Alternatively, the adhesive composition is applied to the resin substrate to a dry thickness of 25 μm and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Then, the laminate (X) can be produced also by heat treatment at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured. The relative dielectric constant (ε c ) of the laminate (X) can be measured as described above. In addition, even if it is laminated body (X) produced by methods other than the said method, if the dielectric constant ((epsilon) c ) in frequency 1 MHz is 3.0 or less, it is included by this invention.

積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)は3.0以下であり、好ましくは2.8以下であり、より好ましくは2.7以下であり、さらに好ましくは2.6以下である。下限は特に限定されないが、実用上は2.0である。また、周波数1MHz〜10GHzの全領域における比誘電率(εc)が3.0以下であることが好ましく、2.8以下であることがより好ましく、2.7以下であることがさらに好ましく、2.6以下であることが特に好ましい。The relative dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) is 3.0 or less, preferably 2.8 or less, more preferably 2.7 or less, still more preferably 2.6 or less It is. The lower limit is not particularly limited, but is practically 2.0. In addition, the relative dielectric constant (ε c ) in the entire region of frequencies 1 MHz to 10 GHz is preferably 3.0 or less, more preferably 2.8 or less, and still more preferably 2.7 or less, It is particularly preferred that it is 2.6 or less.

<要件(2)>
要件(2)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であることが必要である。具体的には、積層体(X)の誘電正接(tanδ)は以下のとおり測定することができる。すなわち、積層体(Z)の金属基材をエッチング液できれいに除去し、接着剤層と樹脂基材の2層の積層体(X)を得る。エッチング液は特に限定されず、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、硫酸過酸化水素水混液、アルカリエッチャント、ニッケルエッチャント等を使用することができる。次いで、積層体(X)の両面に蒸着、スパッタリング法などの薄膜法、または導電性ペーストの塗布などの手法により金属層を形成してコンデンサとし、静電容量を測定して厚さと面積から誘電正接(tanδ)を算出する方法を例示できる。
<Requirement (2)>
The requirement (2) will be described. In the laminate (Z) according to the present invention, the dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) obtained by removing the metal base from the laminate (Z) needs to be 0.02 or less. Specifically, the dielectric loss tangent (tan δ) of the laminate (X) can be measured as follows. That is, the metal base of the laminate (Z) is cleanly removed with an etching solution to obtain a two-layer laminate (X) of the adhesive layer and the resin base. The etching solution is not particularly limited, and an aqueous solution of ferric chloride, an aqueous solution of cupric chloride, a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, an alkaline etchant, a nickel etchant and the like can be used. Next, a metal layer is formed on both sides of the laminate (X) by a method such as vapor deposition, thin film method such as sputtering method, or application of conductive paste to make a capacitor, and the capacitance is measured. A method of calculating the tangent (tan δ) can be exemplified.

また別法として、樹脂基材に乾燥後の厚みが25μmとなるよう接着剤組成物を塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させても積層体(X)を作製することができる。積層体(X)の誘電正接(tanδ)は前記のとおり測定することができる。なお、前記方法以外の方法で作製された積層体(X)であっても、周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であれば、本発明に包含される。   Alternatively, the adhesive composition is applied to the resin substrate to a dry thickness of 25 μm and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Then, the laminate (X) can be produced also by heat treatment at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured. The dielectric loss tangent (tan δ) of the laminate (X) can be measured as described above. In addition, even if it is laminated body (X) produced by methods other than the said method, if the dielectric loss tangent (tan-delta) in 1 MHz of frequencies is 0.02 or less, it is included by this invention.

積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)は0.02以下であり、好ましくは0.01以下であり、より好ましくは0.005以下である。下限は特に限定されないが、実用上は0.0001である。また、周波数1MHz〜10GHzの全領域における誘電正接(tanδ)が0.02以下であることが好ましく、0.01以下であることがより好ましく、0.005以下であることがさらに好ましい。   The dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) is 0.02 or less, preferably 0.01 or less, and more preferably 0.005 or less. The lower limit is not particularly limited, but is practically 0.0001. Further, the dielectric loss tangent (tan δ) in the entire region of frequencies 1 MHz to 10 GHz is preferably 0.02 or less, more preferably 0.01 or less, and still more preferably 0.005 or less.

<要件(3)>
要件(3)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、樹脂基材と金属基材の剥離強度が0.5N/mm以上であることが必要である。具体的には、常温(約25℃)にて、該積層体(Z)の樹脂基材を引張速度50mm/minで90°剥離し、剥離強度を測定する。90°剥離強度は0.5N/mm以上であることが必要であり、好ましくは0.8N/mm以上であり、より好ましくは1.0N/mm以上である。
<Requirement (3)>
The requirement (3) will be described. In the laminate (Z) according to the present invention, the peel strength between the resin base and the metal base needs to be 0.5 N / mm or more. Specifically, at normal temperature (about 25 ° C.), the resin base of the laminate (Z) is peeled at 90 ° at a tensile speed of 50 mm / min, and the peel strength is measured. The 90 ° peel strength needs to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

積層体(Z)は以下のとおり作製することができる。具体的には、接着剤組成物を樹脂基材に乾燥後の厚みが約25μmとなるように塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。なお、前記方法以外の方法で作製された積層体(Z)であっても、90°剥離強度が0.5N/mm以上であれば、本発明に包含される。The laminate (Z) can be produced as follows. Specifically, the adhesive composition is applied to a resin substrate to a dry thickness of about 25 μm, and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Next, a metal substrate is bonded to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer). Bonding is carried out by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 ° C. so that the shiny side of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Then, heat treatment and curing are carried out at about 140 ° C. for about 4 hours to produce a resin base / adhesive layer / metal base three-layer laminate (Z). In addition, even if it is a laminated body (Z) produced by methods other than the said method, if 90 degree peel strength is 0.5 N / mm or more, it is included by this invention.

積層体(X)からは、積層体(X)の接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。常温(約25℃)にて、該積層体(Z)の樹脂基材を引張速度50mm/minで90°剥離し、剥離強度を測定する。90°剥離強度は0.5N/mm以上であることが必要であり、好ましくは0.8N/mm以上であり、より好ましくは1.0N/mm以上である。From the laminate (X), the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a metal base on the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (X). Bonding is carried out by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 ° C. so that the shiny side of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Then, heat treatment and curing are carried out at about 140 ° C. for about 4 hours to produce a resin base / adhesive layer / metal base three-layer laminate (Z). At normal temperature (about 25 ° C.), the resin base of the laminate (Z) is peeled at 90 ° at a tensile speed of 50 mm / min, and the peel strength is measured. The 90 ° peel strength needs to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

<要件(4)>
要件(4)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることが必要である。具体的には、積層体(Z)を約40℃、約80RH%の条件下で約72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定する。加湿ハンダ耐熱性は240℃以上であることが必要であり、好ましくは250℃以上であり、より好ましくは260℃以上である。
<Requirement (4)>
The requirement (4) will be described. The layered product (Z) according to the present invention is required to have a humidified solder heat resistance of 240 ° C. or higher. Specifically, the laminate (Z) is treated for about 72 hours under conditions of about 40 ° C. and about 80 RH%, and flows for 1 minute into the molten solder bath at each temperature, causing no appearance change such as blistering. Measure the temperature. Humidified solder heat resistance needs to be 240 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher, and more preferably 260 ° C. or higher.

積層体(Z)は以下のとおり作製することができる。具体的には、接着剤組成物を樹脂基材に、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下に約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。なお、前記方法以外の方法で作製された積層体(Z)であっても、加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であれば、本発明に包含される。The laminate (Z) can be produced as follows. Specifically, the adhesive composition is applied to a resin base so that the thickness after drying is 25 μm, and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Next, a metal substrate is bonded to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer). Bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 ° C. so that the shiny side of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Then, heat treatment and curing are carried out at about 140 ° C. for about 4 hours to produce a resin base / adhesive layer / metal base three-layer laminate (Z). In addition, even if it is a laminated body (Z) produced by methods other than the said method, if humidified solder heat resistance is 240 degreeC or more, it is included in this invention.

積層体(X)からは、積層体(X)の接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。該積層体(Z)を約40℃、約80RH%の条件下で約72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定する。加湿ハンダ耐熱性は240℃以上であることが必要であり、好ましくは250℃以上であり、より好ましくは260℃以上である。From the laminate (X), the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a metal base on the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (X). Bonding is carried out by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 ° C. so that the shiny side of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Then, heat treatment and curing are carried out at about 140 ° C. for about 4 hours to produce a resin base / adhesive layer / metal base three-layer laminate (Z). The laminate (Z) is treated for about 72 hours under conditions of about 40 ° C. and about 80 RH%, and flows for 1 minute into the molten solder bath at each temperature, and a temperature not causing appearance change such as blistering is measured. . Humidified solder heat resistance needs to be 240 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher, and more preferably 260 ° C. or higher.

<接着剤組成物>
本発明に用いる接着剤組成物は、少なくともカルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含むものである。カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含有することで、該接着剤組成物からなる接着剤層を介した積層体が前記(1)〜(4)の優れた性能を発現することができる。
<Adhesive composition>
The adhesive composition used in the present invention contains at least a carboxyl group-containing polyolefin resin (A). By containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), a laminate having an adhesive layer formed of the adhesive composition can exhibit the excellent performances of the above (1) to (4).

本発明の接着剤組成物は、前記(A)成分の他に、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)(以下、単に(B)成分ともいう。)、カルボジイミド樹脂(C)(以下、単に(C)成分ともいう。)および/またはエポキシ樹脂(D)(以下、単に(D)成分ともいう。)を含有することが好ましい。前記(A)成分〜(D)成分の4種類の樹脂を含有することで、従来のポリイミド、ポリエステルフィルムだけでなく、従来技術では想定されていないLCPフィルム等の低極性樹脂基材であっても、金属基材と高い接着性を有し、高いハンダ耐熱性を得ることができ、且つ低誘電特性に優れる。   The adhesive composition of the present invention comprises, in addition to the component (A), a carboxyl group-containing styrene resin (B) (hereinafter, also simply referred to as component (B)), a carbodiimide resin (C) (hereinafter, simply (C). And / or epoxy resin (D) (hereinafter, also simply referred to as component (D)). Not only conventional polyimides and polyester films but also low-polarity resin substrates such as LCP films not expected in the prior art by containing the four types of resins of the components (A) to (D) It also has high adhesion to a metal substrate, can obtain high solder heat resistance, and is excellent in low dielectric characteristics.

<カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)>
本発明で用いることができるカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)は限定的ではないが、芳香族ビニル化合物単独もしくは、芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物とのブロック及び/又はランダム構造を主体とする共重合体、並びにその水素添加物を、不飽和カルボン酸で変性したものであることが好ましい。芳香族ビニル化合物としては、特に限定されないが、例えばスチレン、t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1,1−ジフェニルスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノエチルスチレン、ビニルトルエン、p−第3ブチルスチレン等が挙げられる。また、共役ジエン化合物としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等が挙げられる。これら芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物との共重合体の具体例としては、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS)、スチレン−エチレン−エチレン・プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEEPS)などが挙げられる。
<Carboxyl group-containing styrene resin (B)>
The carboxyl group-containing styrene resin (B) which can be used in the present invention is not limited, but a vinyl aromatic compound alone or a copolymer of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound mainly composed of a block and / or a random structure. It is preferable that the polymer and its hydrogenated substance be modified with an unsaturated carboxylic acid. The aromatic vinyl compound is not particularly limited, and examples thereof include styrene, t-butylstyrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylstyrene, N, N-diethyl-p-aminoethyl Styrene, vinyl toluene, p-tert-butyl styrene and the like can be mentioned. Moreover, as a conjugated diene compound, butadiene, isoprene, a 1, 3- pentadiene, a 2, 3- dimethyl- 1, 3- butadiene etc. are mentioned, for example. Specific examples of the copolymer of the aromatic vinyl compound and the conjugated diene compound are styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS), Styrene-ethylene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEEPS) etc. are mentioned.

カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の変性は、例えば、スチレン樹脂の重合時に、不飽和カルボン酸を共重合させることにより行うことができる。また、スチレン樹脂と不飽和カルボン酸を有機パーオキサイドの存在下に加熱、混練することにより行うこともできる。不飽和カルボン酸としては、特に限定されず、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フマル酸等が挙げられる。   The modification of the carboxyl group-containing styrene resin (B) can be performed, for example, by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid at the time of polymerization of the styrene resin. It can also be carried out by heating and kneading a styrene resin and an unsaturated carboxylic acid in the presence of an organic peroxide. The unsaturated carboxylic acid is not particularly limited and includes acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, fumaric anhydride and the like.

カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の酸価は、耐熱性および樹脂基材や金属基材との接着性の観点から、下限は10当量/10g以上であることが好ましく、より好ましくは100当量/10g以上であり、さらに好ましくは150当量/10gである。前記の値未満であると、エポキシ樹脂(D)、カルボジイミド樹脂(C)との相溶性が低く、接着強度が発現しないことがある。また架橋密度が低く耐熱性が乏しい場合がある。上限は1000当量/10g以下であることが好ましく、より好ましくは700当量/10g以下であり、さらに好ましくは500当量/10g以下である。前記の値を超えると、接着性、低誘電特性が低下する場合がある。The lower limit of the acid value of the carboxyl group-containing styrene resin (B) is preferably 10 equivalents / 10 6 g or more, more preferably 100, from the viewpoint of heat resistance and adhesion to the resin substrate and metal substrate. The equivalent weight / 10 6 g or more, more preferably 150 equivalent / 10 6 g. If it is less than the above value, the compatibility with the epoxy resin (D) and the carbodiimide resin (C) may be low, and the adhesive strength may not be expressed. In addition, the crosslink density may be low and the heat resistance may be poor. The upper limit is preferably 1000 equivalents / 10 6 g or less, more preferably 700 equivalents / 10 6 g or less, and still more preferably 500 equivalents / 10 6 g or less. If the above values are exceeded, adhesion and low dielectric properties may be reduced.

本発明に用いる接着剤組成物において、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の含有量は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)5〜95質量部に対して、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)95〜5質量部の範囲であること、すなわち(A)成分/(B)成分=5〜95/95〜5(質量比)であることが好ましい。より好ましくは(A)成分/(B)成分10〜90/90〜10(質量比)であり、最も好ましくは(A)成分/(B)成分=15〜85/85〜15(質量比)の範囲である。(A)成分量が前記の値未満であると、架橋密度が低下し、加湿ハンダ耐熱性が低下することがある。(A)成分量が前記の値を超えると、基材への濡れ性が低下し、接着強度が低下することがある。   In the adhesive composition used in the present invention, the content of the carboxyl group-containing styrene resin (B) is 95 to 150 parts by mass of the carboxyl group-containing styrene resin (B) based on 5 to 95 parts by mass of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A). It is preferable that it is the range of 5 mass parts, ie, (A) component / (B) component = 5-95 / 95-5 (mass ratio). More preferably, (A) component / (B) component 10 to 90/90 to 10 (mass ratio), and most preferably (A) component / (B) component = 15 to 85/85 to 15 (mass ratio) Range. When the amount of the component (A) is less than the above value, the crosslinking density may be reduced, and the moisture resistance to humidified solder may be reduced. When the amount of the component (A) exceeds the above value, the wettability to the substrate may be reduced, and the adhesive strength may be reduced.

<カルボジイミド樹脂(C)>
カルボジイミド樹脂(C)としては、分子内にカルボジイミド基を有するものであれば、特に限定されない。好ましくは分子内にカルボジイミド基を2個以上有するポリカルボジイミドである。カルボジイミド樹脂(C)を使用することによって、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)またはカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)のカルボキシル基とカルボジイミドとが反応し、接着剤組成物と基材との相互作用を高め、接着性を向上することができる。
<Carbodiimide resin (C)>
The carbodiimide resin (C) is not particularly limited as long as it has a carbodiimide group in the molecule. Preferred is a polycarbodiimide having two or more carbodiimide groups in the molecule. By using the carbodiimide resin (C), the carboxyl group of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) or the carboxyl group-containing styrene resin (B) reacts with the carbodiimide to interact the adhesive composition with the substrate. The adhesion can be enhanced.

本発明に用いる接着剤組成物において、カルボジイミド樹脂(C)の含有量は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)とカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の合計100質量部に対して、0.1〜30質量部の範囲であることが好ましい。より好ましくは1〜25質量部の範囲であり、最も好ましくは2〜20質量部の範囲である。前記の値未満であると、基材との相互作用が発現せず、接着性が低下する問題がある。前記の値を超えると、接着剤のポットライフが低下、低誘電特性が低下する問題がある。   In the adhesive composition used in the present invention, the content of the carbodiimide resin (C) is 0.1 to 0.1 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B). It is preferably in the range of 30 parts by mass. More preferably, it is in the range of 1 to 25 parts by mass, and most preferably in the range of 2 to 20 parts by mass. If it is less than the above-mentioned value, there is a problem that the interaction with the substrate is not expressed, and the adhesiveness is lowered. If the above value is exceeded, there is a problem that the pot life of the adhesive is lowered and the low dielectric property is lowered.

<エポキシ樹脂(D)>
エポキシ樹脂(D)としては、分子中にグリシジル基を有するものであれば、特に限定されないが、好ましくは分子中に2個以上のグリシジル基を有するものである。具体的には、特に限定されないが、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミンからなる群から選択される少なくとも1つを用いることができる。好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂またはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂である。
<Epoxy resin (D)>
The epoxy resin (D) is not particularly limited as long as it has a glycidyl group in its molecule, but preferably it has two or more glycidyl groups in its molecule. Specifically, although not particularly limited, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, At least one selected from the group consisting of tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexanone, and N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine can be used. Preferably, it is a bisphenol A epoxy resin, a novolak epoxy resin or a dicyclopentadiene epoxy resin.

本発明に用いる接着剤組成物において、エポキシ樹脂(D)の含有量は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)とカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の合計100質量部に対して、1〜30質量部の範囲であることが好ましく、2〜15質量部の範囲であることがより好ましく、3〜10質量部の範囲であることが最も好ましい。前記範囲未満では十分な硬化効果が得られず接着性および耐熱性が低下することがある。また、前記範囲以上は、接着剤のポットライフが低下、低誘電特性が低下する問題がある。   In the adhesive composition used in the present invention, the content of the epoxy resin (D) is 1 to 30 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B). It is preferably in the range of parts, more preferably in the range of 2 to 15 parts by mass, and most preferably in the range of 3 to 10 parts by mass. If the amount is less than the above range, a sufficient curing effect can not be obtained, and adhesion and heat resistance may be reduced. Further, in the above range, there is a problem that the pot life of the adhesive is lowered and the low dielectric property is lowered.

本発明に用いる接着剤組成物は、さらに有機溶剤を含有することができる。本発明で用いる有機溶剤は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、およびエポキシ樹脂(D)を溶解させるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素、トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロパンジオール、フェノール等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノン等のケトン系溶剤、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等のセルソルブ類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ギ酸ブチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールモノn -ブチルエーテル、エチレングリコールモノi s o -ブチルエーテル、エチレングリコールモノt e r t - ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノn -ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノi s o -ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノn -ブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノn -ブチルエーテ等のグリコールエーテル系溶剤等を使用することができ、これら1種または2種以上を併用することができる。   The adhesive composition used in the present invention may further contain an organic solvent. The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it dissolves a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), a carboxyl group-containing styrene resin (B), a carbodiimide resin (C) and an epoxy resin (D). Specifically, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane and decane, and alicyclic carbonized compounds such as cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane and ethylcyclohexane Hydrogen, halogenated hydrocarbons such as trichloroethylene, dichloroethylene, chlorobenzene, chloroform, etc., methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, pentanol, hexanol, propanediol, alcohol solvents such as phenol, acetone, methyl isobutyl ketone, Ketone solvents such as methyl ethyl ketone, pentanone, hexanone, cyclohexanone, isophorone, acetophenone, cell solves such as methyl cell sorb, ethyl cell sorb, methyl acetate, ethyl acetate, vinegar Ester solvents such as methyl propionate, butyl formate, etc., ethylene glycol mono n-butyl ether, ethylene glycol mono iso-butyl ether, ethylene glycol mono tert-butyl ether, diethylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol mono iso-butyl ether, triethylene glycol Glycol ether solvents such as mono n-butyl ether and tetraethylene glycol mono n-butyl ether can be used, and one or more of these can be used in combination.

有機溶剤は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)とカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の合計100質量部に対して、100〜1000質量部の範囲であることが好ましく、200〜900質量部の範囲であることがより好ましく、300〜800質量部の範囲であることが最も好ましい。前記範囲未満では、液状およびポットライフ性が低下することがある。また、前記範囲を超えると製造コスト、輸送コストの面から不利となる問題がある。   The organic solvent is preferably in the range of 100 to 1000 parts by mass, and in the range of 200 to 900 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B). Is more preferable, and most preferably in the range of 300 to 800 parts by mass. Below the range, the liquid and pot life may be reduced. Moreover, when the said range is exceeded, there exists a problem which becomes disadvantageous from the surface of manufacturing cost and transportation cost.

また、本発明に用いる接着剤組成物には、さらに他の成分を必要に応じて含有してもよい。このような成分の具体例としては、難燃剤、粘着性付与剤、フィラー、シランカップリング剤が挙げられる。   In addition, the adhesive composition used in the present invention may further contain other components as necessary. Specific examples of such components include flame retardants, tackifiers, fillers, and silane coupling agents.

<難燃剤>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じて難燃剤を配合しても良い。難燃剤としては、臭素系、リン系、窒素系、水酸化金属化合物等が挙げられる。中でも、リン系難燃剤が好ましく、リン酸エステル、例えば、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート等、リン酸塩、例えばホスフィン酸アルミニウム等、ホスファゼン等の公知のリン系難燃剤を使用できる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。難燃剤を含有させる場合、(A)〜(D)成分の合計100質量部に対し、難燃剤を1〜200質量部の範囲で含有させることが好ましく、5〜150質量部の範囲がより好ましく、10〜100質量部の範囲が最も好ましい。前記範囲未満では、難燃性が低い場合がある。前記範囲を超えると接着性、耐熱性、電気特性等が悪化する問題がある。
<Flame retardant>
A flame retardant may be added to the adhesive composition used in the present invention as required. Examples of the flame retardant include bromine-based, phosphorus-based, nitrogen-based and metal hydroxide compounds. Among them, phosphorus-based flame retardants are preferable, and phosphate esters such as trimethyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate and the like, phosphates such as aluminum phosphinate and the like, and known phosphorus flame retardants such as phosphazene etc. can be used. . These may be used alone or in any combination of two or more. When the flame retardant is contained, the flame retardant is preferably contained in a range of 1 to 200 parts by mass, more preferably 5 to 150 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) to (D). The range of 10 to 100 parts by mass is most preferable. Below the range, the flame retardance may be low. If the above range is exceeded, there is a problem that the adhesion, heat resistance, electrical properties and the like deteriorate.

<粘着性付与剤>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じて粘着付与剤を配合しても良い。粘着性付与剤としては、ポリテルペン樹脂、ロジン系樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、スチレン樹脂および水添石油樹脂等が挙げられ、接着強度を向上させる目的で用いられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。
<Tackifier>
A tackifier may be added to the adhesive composition used in the present invention as required. The tackifier includes polyterpene resin, rosin resin, aliphatic petroleum resin, alicyclic petroleum resin, copolymer petroleum resin, styrene resin, hydrogenated petroleum resin, etc., and improves adhesion strength. It is used for the purpose. These may be used alone or in any combination of two or more.

<フィラー>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じてシリカなどのフィラーを配合しても良い。シリカを配合することにより耐熱性の特性が向上するため非常に好ましい。シリカとしては一般に疎水性シリカと親水性シリカが知られているが、ここでは耐吸湿性を付与する上でジメチルジクロロシランやヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン等で処理を行った疎水性シリカの方が良い。シリカの配合量は、(A)〜(D)成分の合計100質量部に対し、0.05〜30質量部の配合量であることが好ましい。0.05質量部未満であると耐熱性を向上させる効果が発揮しない場合がある。一方30質量部を越えるとシリカの分散不良が生じたり溶液粘度が高くなりすぎて作業性に不具合が生じたり或いは接着性が低下する場合がある。
<Filler>
The adhesive composition used in the present invention may optionally contain a filler such as silica. It is very preferable to blend silica because the heat resistance property is improved. Generally, hydrophobic silica and hydrophilic silica are known as the silica, but here, hydrophobic silica treated with dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, octylsilane or the like to impart moisture resistance is known. Is good. It is preferable that the compounding quantity of a silica is a compounding quantity of 0.05-30 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A)-(D) component. If the amount is less than 0.05 parts by mass, the effect of improving the heat resistance may not be exhibited. On the other hand, if it exceeds 30 parts by mass, dispersion failure of the silica may occur, the solution viscosity may become too high, and the workability may be impaired or the adhesiveness may be lowered.

<シランカップリング剤>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じてシランカップリング剤を配合しても良い。シランカップリング剤を配合することにより金属への接着性や耐熱性の特性が向上するため非常に好ましい。シランカップリング剤としては特に限定されないが、不飽和基を有するもの、グリシジル基を有するもの、アミノ基を有するものなどが挙げられる。これらのうち耐熱性の観点からγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランやβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランやβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のグリシジル基を有したシランカップリング剤がさらに好ましい。シランカップリング剤の配合量は(A)〜(D)成分の合計100質量部に対して0.5〜20質量部の配合量であることが好ましい。0.5質量部未満であると耐熱性不良となる場合がある。一方、20質量部を越えると耐熱性不良や接着性が低下する場合がある。
<Silane coupling agent>
A silane coupling agent may be blended into the adhesive composition used in the present invention as required. It is very preferable to blend a silane coupling agent because the adhesion to metals and the heat resistance property are improved. The silane coupling agent is not particularly limited, and examples thereof include those having an unsaturated group, those having a glycidyl group, and those having an amino group. Among them, glycidyl such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane from the viewpoint of heat resistance Further preferred is a silane coupling agent having a group. It is preferable that the compounding quantity of a silane coupling agent is a compounding quantity of 0.5-20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A)-(D) component. If the amount is less than 0.5 parts by mass, heat resistance may be impaired. On the other hand, if it exceeds 20 parts by mass, heat resistance may be poor and adhesiveness may be lowered.

<接着シート>
本発明において、接着シートとは、前記積層体(Z)と離型基材とを接着剤組成物を介して積層したもの、または積層体(X)の接着剤層面に離型基材を積層したもの、または接着剤層の少なくとも一方の面に離型基材を積層したものである。具体的な構成態様としては、離型基材/接着剤層、離型基材/接着剤層/離型基材、樹脂基材/接着剤層/離型基材、金属基材/接着剤層/離型基材、積層体/接着剤層/離型基材、または離型基材/接着剤層/積層体/接着剤層/離型基材が挙げられる。離型基材を積層することで基材の保護層として機能する。また離型基材を使用することで、接着シートから離型基材を離型して、さらに別の基材に接着剤層を転写することができる。
<Adhesive sheet>
In the present invention, the adhesive sheet refers to a laminate of the laminate (Z) and a release substrate through an adhesive composition, or a release substrate laminated on the adhesive layer surface of the laminate (X). Or a release substrate laminated on at least one surface of the adhesive layer. Specific configuration modes are: release substrate / adhesive layer, release substrate / adhesive layer / release substrate, resin substrate / adhesive layer / release substrate, metal substrate / adhesive Layers / release substrates, laminates / adhesive layers / release substrates, or release substrates / adhesive layers / laminates / adhesive layers / release substrates may be mentioned. By laminating a release substrate, it functions as a protective layer of the substrate. Moreover, by using a release substrate, the release substrate can be released from the adhesive sheet, and the adhesive layer can be transferred to another substrate.

本発明に用いる接着剤組成物を、常法に従い、各種積層体に塗布、乾燥することにより、本発明の接着シートを得ることができる。また乾燥後、接着剤層に離型基材を貼付けると、基材への裏移りを起こすことなく巻き取りが可能になり操業性に優れるとともに、接着剤層が保護されることから保存性に優れ、使用も容易である。また離型基材に塗布、乾燥後、必要に応じて別の離型基材を貼付すれば、接着剤層そのものを他の基材に転写することも可能になる。   The adhesive sheet of the present invention can be obtained by applying and drying the adhesive composition used in the present invention on various laminates according to a conventional method. In addition, when the release substrate is attached to the adhesive layer after drying, it can be taken up without causing offset to the substrate, and the operation property is excellent, and the adhesive layer is protected. And easy to use. In addition, if another release substrate is applied to the release substrate after drying and if necessary, the adhesive layer itself can be transferred to the other substrate.

<離型基材>
離型基材としては、特に限定されるものではないが、例えば、上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙などの紙の両面に、クレー、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの目止剤の塗布層を設け、さらにその各塗布層の上にシリコーン系、フッ素系、アルキド系の離型剤が塗布されたものが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−α−オレフィン共重合体、プロピレン−α−オレフィン共重合体等の各種オレフィンフィルム単独、及びポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に上記離型剤を塗布したものも挙げられる。離型基材と接着剤層との離型力、シリコーンが電気特性に悪影響を与える等の理由から、上質紙の両面にポリプロピレン目止処理しその上にアルキド系離型剤を用いたもの、またはポリエチレンテレフタレート上にアルキド系離型剤を用いたものが好ましい。
<Release Material>
The release substrate is not particularly limited. For example, a coating agent of an adhesive such as clay, polyethylene, polypropylene, etc. is applied to both sides of a paper such as high-quality paper, kraft paper, roll paper, glassine paper, etc. Further, there may be mentioned those in which silicone, fluorine or alkyd release agents are applied on the respective coated layers. Further, various olefin films such as polyethylene, polypropylene, ethylene-α-olefin copolymer, and propylene-α-olefin copolymer alone, and those obtained by applying the above-mentioned release agent on a film such as polyethylene terephthalate may also be mentioned. For both sides of wood free paper, polypropylene sealing is applied to both sides of wood free paper and an alkyd release agent is applied on the both sides, for the reasons such as the mold release force between the mold release substrate and the adhesive layer, and silicone adversely affects electrical properties. Or what used the alkyd type mold release agent on polyethylene terephthalate is preferable.

<プリント配線板>
本発明における「プリント配線板」は、導体回路を形成する金属箔と樹脂基材とから形成された積層体を構成要素として含むものである。プリント配線板は、例えば、金属張積層体を用いてサブトラクティブ法などの従来公知の方法により製造される。必要に応じて、金属箔によって形成された導体回路を部分的、或いは全面的にカバーフィルムやスクリーン印刷インキ等を用いて被覆した、いわゆるフレキシブル回路板(FPC)、フラットケーブル、テープオートメーティッドボンディング(TAB)用の回路板などを総称している。
<Printed wiring board>
The “printed wiring board” in the present invention includes, as a component, a laminate formed of a metal foil forming a conductor circuit and a resin base. The printed wiring board is manufactured, for example, by a conventionally known method such as a subtractive method using a metal-clad laminate. If necessary, a so-called flexible circuit board (FPC), flat cable, or tape automated bonding (cover circuit, screen printing ink, etc.) partially or entirely covered with a conductor circuit formed of metal foil. It is a generic term for circuit boards for TAB.

本発明のプリント配線板は、プリント配線板として採用され得る任意の積層構成とすることができる。例えば、基材フィルム層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の4層から構成されるプリント配線板とすることができる。また例えば、基材フィルム層、接着剤層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の5層から構成されるプリント配線板とすることができる。   The printed wiring board of the present invention can be of any laminated configuration that can be employed as a printed wiring board. For example, it can be set as the printed wiring board comprised from four layers, a base film layer, a metal foil layer, an adhesive bond layer, and a cover film layer. For example, it can be set as the printed wiring board comprised from five layers, a base film layer, an adhesive layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer.

さらに、必要に応じて、上記のプリント配線板を2つもしくは3つ以上積層した構成とすることもできる。   Furthermore, as required, two or three or more of the above printed wiring boards can be stacked.

本発明に用いる接着剤組成物はプリント配線板の各接着剤層に好適に使用することが可能である。特に本発明に用いる接着剤組成物を接着剤として使用すると、プリント配線板を構成する従来のポリイミド、ポリエステルフィルム、銅箔だけでなく、LCPなどの低極性の樹脂基材と高い接着性を有し、耐はんだリフロー性を得ることができ、接着剤層自信が低誘電特性に優れる。そのため、カバーレイフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに用いる接着剤組成物として好適である。   The adhesive composition used in the present invention can be suitably used for each adhesive layer of a printed wiring board. In particular, when the adhesive composition used in the present invention is used as an adhesive, it has high adhesiveness with a low polar resin base material such as LCP as well as the conventional polyimide, polyester film and copper foil constituting a printed wiring board. The solder reflow resistance can be obtained, and the adhesive layer itself is excellent in low dielectric characteristics. Therefore, it is suitable as an adhesive composition used for a coverlay film, a laminated board, copper foil with resin, and a bonding sheet.

本発明のプリント配線板において、基材フィルムとしては、従来からプリント配線板の基材として使用されている任意の樹脂フィルムが使用可能である。基材フィルムの樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。特に、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の低極性基材に対しても、優れた接着性を有する。   In the printed wiring board of the present invention, any resin film conventionally used as a base material of printed wiring boards can be used as the base film. As resin of a base film, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamide imide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, fluorine resin, etc. can be illustrated. In particular, it has excellent adhesion to low polar substrates such as liquid crystal polymers, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resins.

<カバーフィルム>
カバーフィルムとしては、プリント配線板用の絶縁フィルムとして従来公知の任意の絶縁フィルムが使用可能である。例えば、ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の各種ポリマーから製造されるフィルムが使用可能である。より好ましくは、ポリイミドフィルムまたは液晶ポリマーフィルムである。
<Cover film>
As the cover film, any insulating film conventionally known as an insulating film for a printed wiring board can be used. For example, manufactured from various polymers such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyether ether ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyimide, polyamide imide, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, etc. Films are available. More preferably, it is a polyimide film or a liquid crystal polymer film.

本発明のプリント配線板は、上述した各層の材料を用いる以外は、従来公知の任意のプロセスを用いて製造することができる。   The printed wiring board of the present invention can be manufactured using any conventionally known process except that the materials of the respective layers described above are used.

好ましい実施態様では、カバーフィルム層に接着剤層を積層した半製品(以下、「カバーフィルム側半製品」という)を製造する。他方、基材フィルム層に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側2層半製品」という)または基材フィルム層に接着剤層を積層し、その上に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側3層半製品」という)を製造する(以下、基材フィルム側2層半製品と基材フィルム側3層半製品とを合わせて「基材フィルム側半製品」という)。このようにして得られたカバーフィルム側半製品と、基材フィルム側半製品とを貼り合わせることにより、4層または5層のプリント配線板を得ることができる。   In a preferred embodiment, a semi-finished product (hereinafter referred to as a "cover film side semi-finished product") in which an adhesive layer is laminated on a cover film layer is produced. On the other hand, a metal foil layer is laminated on the base film layer to form a desired circuit pattern (hereinafter, referred to as “base film side two-layer semi-finished product”) or an adhesive layer is laminated on the base film layer To manufacture a semi-finished product (hereinafter referred to as "three base film side semi-finished products") having a desired circuit pattern formed by laminating a metal foil layer thereon (hereinafter referred to as "two base film side semi-finished products" Together with the base film side three-layer semi-finished product, it is called "base film side semi-finished product"). By laminating the cover film side semi-finished product thus obtained and the base film side semi-finished product together, a 4-layer or 5-layer printed wiring board can be obtained.

基材フィルム側半製品は、例えば、(A)前記金属箔に基材フィルムとなる樹脂の溶液を塗布し、塗膜を初期乾燥する工程(B)(A)で得られた金属箔と初期乾燥塗膜との積層物を熱処理・乾燥する工程(以下、「熱処理・脱溶剤工程」という)を含む製造法により得られる。   The base film side semi-finished product applies the solution of resin used as a base film to (A) the above-mentioned metal foil, and carries out initial drying of a coating film, and the metal foil and initial stage obtained by (A) It can be obtained by a manufacturing method including a step of heat treating and drying a laminate with a dried coating (hereinafter, referred to as "heat treatment and solvent removal step").

金属箔層における回路の形成は、従来公知の方法を用いることができる。アクティブ法を用いてもよく、サブトラクティブ法を用いてもよい。好ましくは、サブトラクティブ法である。   A conventionally known method can be used to form a circuit in the metal foil layer. The active method may be used or the subtractive method may be used. Preferably, it is a subtractive method.

得られた基材フィルム側半製品は、そのままカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後にカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。   The obtained base film side semi-finished product may be used as it is for bonding with the cover film side semi-finished product, or after bonding and releasing a release film, for bonding with the cover film side semi-finished product You may use it.

カバーフィルム側半製品は、例えば、カバーフィルムに接着剤を塗布して製造される。必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。   The cover film side semifinished product is manufactured, for example, by applying an adhesive to the cover film. If necessary, a crosslinking reaction can be carried out in the applied adhesive. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

得られたカバーフィルム側半製品は、そのまま基材側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。   The obtained cover film side semi-finished product may be used as it is for bonding with the base material side semi-finished product, or after bonding and releasing the release film for bonding with the base film side semi-finished product You may use it.

基材フィルム側半製品とカバーフィルム側半製品とは、それぞれ、例えば、ロールの形態で保管された後、貼り合わされて、プリント配線板が製造される。貼り合わせる方法としては、任意の方法が使用可能であり、例えば、プレスまたはロールなどを用いて貼り合わせることができる。また、加熱プレス、または加熱ロ−ル装置を使用するなどの方法により加熱を行いながら両者を貼り合わせることもできる。   The base film side semi-finished product and the cover film side semi-finished product are respectively stored, for example, in the form of a roll and then laminated to produce a printed wiring board. As a method of bonding, any method can be used, and for example, bonding can be performed using a press or a roll. Moreover, both can also be bonded together, performing heating by methods, such as a heating press or using a heating roll apparatus.

補強材側半製品は、例えば、ポリイミドフィルムのように柔らかく巻き取り可能な補強材の場合、補強材に接着剤を塗布して製造されることが好適である。また、例えばSUS、アルミ等の金属板、ガラス繊維をエポキシ樹脂で硬化させた板等のように硬く巻き取りできない補強板の場合、予め離型基材に塗布した接着剤を転写塗布することによって製造されることが好適である。また、必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。   For example, in the case of a soft and windable reinforcing material such as a polyimide film, the reinforcing material-side semifinished product is preferably produced by applying an adhesive to the reinforcing material. Also, for example, in the case of a reinforcing plate which can not be wound up as hard as a metal plate such as SUS, aluminum or the like, a plate obtained by curing glass fiber with an epoxy resin, etc., an adhesive coated in advance on a release substrate is transferred and applied. It is preferred to be manufactured. Moreover, the crosslinking reaction in the apply | coated adhesive agent can be performed as needed. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

得られた補強材側半製品は、そのままプリント配線板裏面との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。   The obtained semi-finished product on the reinforcing material side may be used as it is for bonding to the back surface of the printed wiring board, or it may be used for bonding to the semi-finished product on the base film side after storing the release film. You may

基材フィルム側半製品、カバーフィルム側半製品、補強剤側半製品はいずれも、本発明におけるプリント配線板用積層体である。   The base film side semifinished product, the cover film side semifinished product, and the reinforcing agent side semifinished product are all the laminates for a printed wiring board in the present invention.

<実施例>
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。実施例中および比較例中に単に部とあるのは質量部を示す。
<Example>
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to the examples. The term "parts" in the examples and comparative examples indicates parts by mass.

(物性評価方法) (Physical property evaluation method)

酸価(A)成分:カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂
本発明における酸価(当量/10g)は、FT−IR(島津製作所社製、FT−IR8200PC)を使用して、無水マレイン酸のカルボニル(C=O)結合の伸縮ピーク(1780cm−1)の吸光度(I)、アイソタクチック特有のピーク(840cm−1)の吸光度(II)および無水マレイン酸(東京化成製)のクロロホルム溶液によって作成した検量線から得られるファクター(f)を用いて下記式により算出した値を樹脂1ton中の当量(当量/10g)として表した。
酸価=[吸光度(I)/吸光度(II)×(f)/無水マレイン酸の分子量×2×10
無水マレイン酸の分子量:98.06
Acid Value (A) Component: Carboxyl Group-Containing Polyolefin Resin The acid value (equivalent weight / 10 6 g) in the present invention is the carbonyl of maleic anhydride (FT-IR (manufactured by Shimadzu Corporation, FT-IR 8200 PC). Absorbance (I) of stretching peak (1780 cm -1 ) of C = O) bond, absorbance (II) of isotactic characteristic peak (840 cm -1 ) and chloroform solution of maleic anhydride (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) The value calculated by the following equation using a factor (f) obtained from the calibration curve was expressed as an equivalent (equivalent weight / 10 6 g) in 1 ton of resin.
Acid value = [Absorbance (I) / Absorbance (II) × (f) / Molecular weight of maleic anhydride × 2 × 10 4 ]
Molecular weight of maleic anhydride: 98.06

酸価(B)成分:カルボキシル基含有スチレン樹脂
本発明における酸価(当量/10g)は、カルボキシル基含有スチレン樹脂をトルエンに溶解し、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液でフェノールフタレインを指示薬として滴定した。樹脂1ton中の当量(当量/10g)として表した。
Acid value (B) component: Carboxyl group-containing styrene resin The acid number (equivalent weight / 10 6 g) in the present invention is obtained by dissolving a carboxyl group-containing styrene resin in toluene and using phenolphthalein as an indicator in a methanol solution of sodium methoxide. Titrated. It was expressed as equivalent weight (equivalent weight / 10 6 g) in 1 ton of resin.

重量平均分子量(Mw)
本発明における重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPC、標準物質:ポリスチレン樹脂、移動相:テトラヒドロフラン)によって測定した値である。
Weight average molecular weight (Mw)
The weight average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography (hereinafter, GPC, standard substance: polystyrene resin, mobile phase: tetrahydrofuran).

融点、融解熱量の測定
本発明における融点、融解熱量は示差走査熱量計(以下、DSC、ティー・エー・インスツルメント・ジャパン製、Q−2000)を用いて、20℃/分の速度で昇温融解、冷却樹脂化して、再度昇温融解した際の融解ピークのトップ温度および面積から測定した値である。
Measurement of melting point and heat of fusion The melting point and heat of fusion in the present invention are raised at a rate of 20 ° C./minute using a differential scanning calorimeter (hereinafter, DSC, manufactured by TA Instruments Japan, Q-2000) It is a value measured from the top temperature and the area of the melting peak at the time of heat melting, cooling resinification, and temperature rising melting again.

(1)剥離強度(接着性)
後述する接着剤組成物を厚さ12.5μmのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製、アピカル)、または、厚さ25μmのLCPフィルム(株式会社クラレ製、ベクスター)に、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した。この様にして得られた接着性フィルム(Bステージ品)を18μmの圧延銅箔と貼り合わせた。貼り合わせは、圧延銅箔の光沢面が接着剤と接する様にして、160℃で40kgf/cmの加圧下に30秒間プレスし、接着した。次いで140℃で4時間熱処理して硬化させて、剥離強度評価用サンプルを得た。剥離強度は、25℃において、フィルム引き、引張速度50mm/minで90°剥離試験を行ない、剥離強度を測定した。この試験は常温での接着強度を示すものである。
<評価基準>
◎:1.0N/mm以上
○:0.8N/mm以上1.0N/mm未満
△:0.5N/mm以上0.8N/mm未満
×:0.5N/mm未満
(1) Peeling strength (adhesiveness)
The adhesive composition to be described later becomes 25 μm in thickness after drying to a 12.5 μm thick polyimide film (Kaneka Co., Ltd., Apical) or a 25 μm thick LCP film (Kuraray Co., Ltd., Vecter) The solution was applied and dried at 130 ° C. for 3 minutes. The adhesive film (B-stage product) obtained in this manner was bonded to a 18 μm rolled copper foil. The lamination was performed by pressing for 30 seconds under a pressure of 40 kgf / cm 2 at 160 ° C. so that the shiny side of the rolled copper foil was in contact with the adhesive. Next, the sample was heat treated at 140 ° C. for 4 hours to be cured to obtain a sample for evaluation of peel strength. The peel strength was determined by film drawing at 25 ° C., and a 90 ° peel test at a tensile rate of 50 mm / min to measure the peel strength. This test shows the adhesive strength at normal temperature.
<Evaluation criteria>
:: 1.0 N / mm or more ○: 0.8 N / mm or more and 1.0 N / mm or less Δ: 0.5 N / mm or more and 0.8 N / mm or less ×: 0.5 N / mm or less

(2)乾燥ハンダ耐熱性
上記と同じ方法でサンプルを作製し、2.0cm×2.0cmのサンプル片を120℃で30分乾燥処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定した。
<評価基準>
◎:310℃以上
○:300℃以上310℃未満
△:290℃以上300℃未満
×:290℃未満
(2) Dry solder heat resistance A sample is prepared by the same method as described above, and a 2.0 cm × 2.0 cm sample piece is subjected to a drying treatment at 120 ° C. for 30 minutes, and is allowed to flow for 1 minute in molten solder bath at each temperature. The temperature which does not cause the appearance change such as blistering was measured.
<Evaluation criteria>
◎: 310 ° C. or more ○: 300 ° C. or more and less than 310 ° C. Δ: 290 ° C. or more and less than 300 ° C. ×: less than 290 ° C.

(3)加湿ハンダ耐熱性
上記と同じ方法でサンプルを作製し、2.0cm×2.0cmのサンプル片を40℃×80RH%×72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定した。
<評価基準>
◎:260℃以上
○:250℃以上260℃未満
△:240℃以上250℃未満
×:240℃未満
(3) Humidified solder heat resistance A sample is produced by the same method as the above, and a 2.0 cm × 2.0 cm sample piece is treated at 40 ° C. × 80 RH% × 72 hours, and melted for 1 minute in a solder bath melted at each temperature. The temperature which does not cause the appearance change such as flow and swelling was measured.
<Evaluation criteria>
◎: 260 ° C. or more ○: 250 ° C. or more and less than 260 ° C. Δ: 240 ° C. or more and less than 250 ° C. ×: less than 240 ° C.

(4)比誘電率(εc)及び誘電正接(tanδ)
後述する接着剤組成物を厚さ12.5μmのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製、アピカルNPI(1MHzにおける比誘電率3.28、1MHzにおける誘電正接0.0101))、または、厚さ25μmのLCPフィルム(株式会社クラレ製、ベクスターCTZ−50(1MHzにおける比誘電率3.03、1MHzにおける誘電正接0.0186))に、乾燥硬化後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した。次いで140℃で4時間熱処理して硬化させて試験用の積層体(X)を得た。得られた試験用の積層体(X)の両面に、蒸発乾固型の導電性銀ペーストを直径50mmの円形にスクリーン印刷にて塗布し120℃30分乾燥硬化させ、さらに導電性銀ペーストによる円の中央に長さ30mmのリード線を導電性接着剤にて接着し平行平板コンデンサを得た。得られた平行平板コンデンサの静電容量Capと損失係数D(誘電正接)をPRECISION LCR meter HP−4284Aを用いて、22℃下、周波数1MHzの条件で測定を行い、次式より比誘電率(εc)を算出した。
εc=(Cap×d)/(S×ε0
ここに Cap:静電容量[F]
d:誘電体層厚さ=25×10-6[m]
S:被測定誘電体面積=π×(25×10-32
ε0:真空の誘電率 8.854×10-12
である。
得られた比誘電率、誘電正接について、以下の通りに評価した。
<比誘電率の評価基準>
◎:2.6以下
○:2.6を超え2.8以下
△:2.8を超え3.0以下
×:3.0を超える
<誘電正接の評価基準>
◎:0.005以下
○:0.005を超え0.01以下
△:0.01を超え0.02以下
×:0.02を超える
(4) Relative permittivity (ε c ) and dielectric loss tangent (tan δ)
The adhesive composition to be described later is a polyimide film of 12.5 μm thickness (Apical NPI (dielectric constant 3.28 at 1 MHz, dielectric loss tangent 0.0101 at 1 MHz) manufactured by Kaneka Co., Ltd.) or LCP of 25 μm thickness Apply a film (manufactured by Kuraray Co., Ltd., Bexter CTZ-50 (dielectric constant 3.03 at 1 MHz, dielectric loss tangent at 1 MHz 0.0186)) to a dry thickness of 25 μm, 3 at 130 ° C. Dried for a minute. Next, the laminate was heat treated at 140 ° C. for 4 hours to be cured to obtain a laminate (X) for test. Conductive silver paste of evaporation-to-dry type is applied by screen printing in a circle of 50 mm in diameter on both sides of the obtained laminate (X) for test, dried and cured at 120 ° C. for 30 minutes, and further conductive silver paste A lead wire of 30 mm in length was adhered to the center of the circle with a conductive adhesive to obtain a parallel plate capacitor. The capacitance Cap and loss coefficient D (dielectric loss tangent) of the obtained parallel plate capacitor are measured under conditions of a frequency of 1 MHz at 22 ° C. using a PRECISION LCR meter HP-4284A. The ε c ) was calculated.
ε c = (Cap × d) / (S × ε 0 )
Here Cap: Capacitance [F]
d: Dielectric layer thickness = 25 × 10 -6 [m]
S: dielectric area to be measured = π × (25 × 10 −3 ) 2
ε 0 : permittivity of vacuum 8.854 × 10 -12
It is.
The obtained relative dielectric constant and dielectric loss tangent were evaluated as follows.
<Evaluation criteria for relative permittivity>
:: 2.6 or less ○: more than 2.6 and 2.8 or less :: more than 2.8 and 3.0 or less ×: more than 3.0 <evaluation criteria of dielectric loss tangent>
:: 0.005 or less ○: more than 0.005 and 0.01 or less Δ: more than 0.01 and 0.02 or less ×: more than 0.02

(カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂)
製造例1
1Lオートクレーブに、プロピレン−ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7080」)100質量部、トルエン150質量部及び無水マレイン酸19質量部、ジ−tert−ブチルパーオキサイド6質量部を加え、140℃まで昇温した後、更に3時間撹拌した。その後、得られた反応液を冷却後、多量のメチルエチルケトンが入った容器に注ぎ、樹脂を析出させた。その後、当該樹脂を含有する液を遠心分離することにより、無水マレイン酸がグラフト重合した酸変性プロピレン−ブテン共重合体と(ポリ)無水マレイン酸および低分子量物とを分離、精製した。その後、減圧下70℃で5時間乾燥させることにより、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−1、酸価410当量/10g、重量平均分子量60,000、Tm80℃、△H35J/g)を得た。
(Carboxyl group-containing polyolefin resin)
Production Example 1
In a 1 L autoclave, 100 parts by mass of propylene-butene copolymer ("Tafmer (registered trademark) XM 7080" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 150 parts by mass of toluene and 19 parts by mass of maleic anhydride, 6 parts by mass of di-tert-butyl peroxide Were added, and the temperature was raised to 140.degree. C., followed by stirring for 3 hours. Then, after cooling the obtained reaction liquid, it poured in the container containing a large amount of methyl ethyl ketone, and deposited resin. Thereafter, the solution containing the resin is centrifuged to separate and purify the acid-modified propylene-butene copolymer graft-polymerized with maleic anhydride, (poly) maleic anhydride and low molecular weight substances. Then, by drying under reduced pressure at 70 ° C. for 5 hours, maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-1, acid value 410 equivalent / 10 6 g, weight average molecular weight 60,000, Tm 80 ° C., ΔH 35 J / G).

製造例2
無水マレイン酸の仕込み量を13質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−2、酸価290当量/10g、重量平均分子量68,000、Tm79℃、△H32J/g)を得た。
Production Example 2
Maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-2, acid value 290 equivalents / 10 6 g, weight) as in Production Example 1 except that the preparation amount of maleic anhydride is changed to 13 parts by mass An average molecular weight of 68,000, Tm 79 ° C., ΔH 32 J / g) was obtained.

製造例3
無水マレイン酸の仕込み量を8質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−3、酸価220当量/10g、重量平均分子量74,000、Tm78℃、△H29J/g)を得た。
Production Example 3
Maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-3, acid value: 220 equivalents / 10 6 g, weight) as in Production Example 1 except that the amount of maleic anhydride charged is changed to 8 parts by mass An average molecular weight of 74,000, Tm 78 ° C., ΔH 29 J / g) was obtained.

製造例4
プロピレン−ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7080」)をプロピレン−ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7070」)に変えた以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−4、酸価400当量/10g、重量平均分子量57,000、Tm68℃、△H15J/g)を得た。
Production Example 4
Production Example 1 and Production Example 1 except that the propylene-butene copolymer ("Tafmer (registered trademark) XM 7080" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is changed to a propylene-butene copolymer ("Tafmer (registered trademark) XM 7070" manufactured by Mitsui Chemicals) By doing the same, a maleic anhydride modified propylene-butene copolymer (CO-4, acid value 400 equivalent / 10 6 g, weight average molecular weight 57,000, Tm 68 ° C., ΔH 15 J / g) was obtained.

製造例5
無水マレイン酸の仕込み量を15質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−5、酸価300当量/10g、重量平均分子量65,000、Tm70℃、△H21J/g)を得た。
Production Example 5
Maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-5, acid value: 300 equivalents / 10 6 g, weight) as in Production Example 1 except that the amount of maleic anhydride charged is changed to 15 parts by mass Average molecular weight 65,000, Tm 70 ° C., ΔH 21 J / g) was obtained.

実施例1
水冷還流凝縮器と撹拌機を備えた500mlの四つ口フラスコに、製造例1で得られた無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−1)を80質量部、カルボキシル基含有スチレン樹脂(タフテック(登録商標)M1943)を20質量部、トルエンを500質量部仕込み、撹拌しながら80℃まで昇温し、撹拌を1時間続けることで溶解した。冷却して得られた溶液に、カルボジイミド樹脂V−05を5質量部、エポキシ樹脂HP−7200を10質量部配合し、接着剤組成物を得た。配合量、接着強度、ハンダ耐熱性、電気特性を表1に示す。なお、接着剤層の比誘電率は2.27、誘電正接は0.0031であり、積層体1(接着剤層/ポリイミドフィルム)の比誘電率は2.51、誘電正接は0.0042であり、積層体2(接着剤層/LCPフィルム)の比誘電率は2.68、誘電正接は0.0122であった。
Example 1
In a 500 ml four-necked flask equipped with a water cooled reflux condenser and a stirrer, 80 parts by mass of the maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-1) obtained in Production Example 1 and a carboxyl group-containing styrene resin 20 parts by mass of (Tuftec (registered trademark) M1943) and 500 parts by mass of toluene were charged, the temperature was raised to 80 ° C. while stirring, and the solution was dissolved by continuing stirring for 1 hour. In the solution obtained by cooling, 5 parts by mass of carbodiimide resin V-05 and 10 parts by mass of epoxy resin HP-7200 were blended to obtain an adhesive composition. The compounding amount, adhesive strength, solder heat resistance, and electrical properties are shown in Table 1. The relative dielectric constant of the adhesive layer is 2.27, the dielectric loss tangent is 0.0031, the relative dielectric constant of the laminate 1 (adhesive layer / polyimide film) is 2.51, and the dielectric loss tangent is 0.0042. The dielectric constant of laminate 2 (adhesive layer / LCP film) was 2.68, and the dielectric loss tangent was 0.0122.

実施例2〜17
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、エポキシ樹脂(D)を表1に示すものに変更し、実施例1と同様な方法で、表1に示す各配合量となるように変更し、実施例2〜17を行った。接着強度、ハンダ耐熱性、電気特性を表1に示す。
Examples 2 to 17
The carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C) and the epoxy resin (D) were changed to those shown in Table 1, and in the same manner as Example 1, Table 1 It changed so that it might become each compounding quantity shown to, and Examples 2-17 were performed. The adhesive strength, solder heat resistance and electrical properties are shown in Table 1.

Figure 2018030026
Figure 2018030026

比較例1〜7
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、エポキシ樹脂(D)を表2に示すものに変更し、実施例1と同様な方法で、表2に示す各配合量となるように変更し、比較例1〜7を行った。配合量、接着強度、ハンダ耐熱性、電気特性を表2に示す。
Comparative Examples 1 to 7
The carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C) and the epoxy resin (D) are changed to those shown in Table 2, and in the same manner as Example 1, Table 2 It changed so that it might become each compounding quantity shown to, and carried out Comparative Examples 1-7. The compounding amount, adhesive strength, solder heat resistance and electrical properties are shown in Table 2.

Figure 2018030026
Figure 2018030026

表1、2で用いたポリオレフィン樹脂、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、エポキシ樹脂(D)は以下のものである。
カルボキシル基含有スチレン樹脂:タフテック(登録商標)M1911(旭化成ケミカルズ社製)
カルボキシル基含有スチレン樹脂:タフテック(登録商標)M1913(旭化成ケミカルズ社製)
カルボキシル基含有スチレン樹脂:タフテック(登録商標)M1943(旭化成ケミカルズ社製)
ポリオレフィン樹脂:タフマー(登録商標)XM7080(三井化学社製)
スチレン樹脂:タフテック(登録商標)H1052(旭化成ケミカルズ社製)
カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴムNBR(株式会社JSR製)
カルボジイミド樹脂:V−05(日清紡ケミカル社製)
カルボジイミド樹脂:V−03(日清紡ケミカル社製)
o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂:YDCN−700−10(新日鉄住金化学社製)
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂:HP−7200(DIC社製)
The polyolefin resin, carboxyl group-containing styrene resin (B), carbodiimide resin (C) and epoxy resin (D) used in Tables 1 and 2 are as follows.
Carboxyl group-containing styrene resin: Tuftec (registered trademark) M1911 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
Carboxyl group-containing styrene resin: Tuftec (registered trademark) M1913 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
Carboxyl group-containing styrene resin: Tuftec (registered trademark) M1943 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
Polyolefin resin: Tafmer (registered trademark) XM 7080 (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
Styrene resin: Tuftec (registered trademark) H1052 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
Carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber NBR (manufactured by JSR Corporation)
Carbodiimide resin: V-05 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.)
Carbodiimide resin: V-03 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.)
o-Cresol novolac epoxy resin: YDCN-700-10 (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.)
Dicyclopentadiene type epoxy resin: HP-7200 (manufactured by DIC)

表1から明らかなように、実施例1〜17では、ポリイミド(PI)と銅箔と優れた接着性、ハンダ耐熱性を有しながら、液晶ポリマー(LCP)と銅箔とも優れた接着性、ハンダ耐熱性を有する。また、積層体の電気特性は誘電率、誘電正接ともに低く良好である。これに対し、表2から明らかなように、比較例1では、カルボキシル基含有スチレン樹脂を配合していないため、加湿ハンダ耐熱性、接着強度が劣る。比較例2では、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂を配合していないため、架橋密度が低く、加湿ハンダ耐熱性が劣る。比較例3では、ポリオレフィン樹脂がカルボキシル基を含有していないため、架橋密度が低く、加湿ハンダ耐熱性が劣る。比較例4では、スチレン樹脂がカルボキシル基を含有していないため、架橋密度が低く、加湿ハンダ耐熱性が劣る。比較例5では、カルボジイミド樹脂を配合していないため、LCP界面との相互作用が少なく、接着強度が低い。比較例6では、エポキシ樹脂を配合していないため、架橋密度が低く、ハンダ耐熱性が劣る。比較例7では、ポリオレフィン樹脂、スチレン樹脂を配合していないため、接着剤組成物の低誘電特性が劣っている。   As is clear from Table 1, in Examples 1 to 17, while having excellent adhesion with a polyimide (PI) and a copper foil and solder heat resistance, excellent adhesion with both a liquid crystal polymer (LCP) and a copper foil, It has solder heat resistance. In addition, the electrical properties of the laminate are low both in dielectric constant and dielectric loss tangent and good. On the other hand, as is clear from Table 2, in Comparative Example 1, the carboxyl group-containing styrene resin is not blended, so that the moisture resistance and the heat resistance of the wet solder are inferior. In Comparative Example 2, since the carboxyl group-containing polyolefin resin is not blended, the crosslink density is low, and the wet solder heat resistance is poor. In Comparative Example 3, since the polyolefin resin does not contain a carboxyl group, the crosslink density is low, and the wet solder heat resistance is poor. In Comparative Example 4, since the styrene resin does not contain a carboxyl group, the crosslink density is low, and the wet solder heat resistance is poor. In Comparative Example 5, since the carbodiimide resin is not blended, the interaction with the LCP interface is small, and the adhesive strength is low. In Comparative Example 6, since the epoxy resin is not blended, the crosslink density is low and the solder heat resistance is inferior. In Comparative Example 7, since the polyolefin resin and the styrene resin are not blended, the low dielectric characteristics of the adhesive composition are inferior.

本発明により、従来のポリイミド、ポリエチレンテレフタレートフィルムだけでなく、LCPなどの低誘電特性を有する樹脂基材と、銅箔などの金属基材との、高い接着性を有し、高いハンダ耐熱性を得ることができ、低誘電特性に優れる積層体を提供することができる。上記特性により、フレキシブルプリント配線板用途、特に高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)が求められるFPC用途において有用である。さらに本発明の積層体は電磁波シールド用途にも好適に使用することができる。   According to the present invention, not only conventional polyimide and polyethylene terephthalate films but also resin substrates having low dielectric properties such as LCP, and metal substrates such as copper foil have high adhesiveness and high solder heat resistance. It is possible to provide a laminate that can be obtained and that is excellent in low dielectric properties. The above characteristics are useful in flexible printed wiring board applications, particularly in FPC applications where low dielectric characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in high frequency regions are required. Furthermore, the laminate of the present invention can be suitably used for electromagnetic wave shielding applications.

Claims (4)

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)であって、
(1)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、
(2)積層体(Z)から金属基材を除去した積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、
(3)樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、
(4)積層体(Z)の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上である
ことを特徴とする積層体(Z)。
A laminate (Z) in which a resin base and a metal base are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A),
(1) The dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) obtained by removing the metal base from the laminate (Z) is 3.0 or less,
(2) The dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) obtained by removing the metal base from the laminate (Z) is 0.02 or less,
(3) The peel strength between the resin base and the metal base is 0.5 N / mm or more,
(4) A laminate (Z) characterized in that the wet solder heat resistance of the laminate (Z) is 240 ° C. or higher.
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層と前記樹脂基材の積層体(X)であって、
(1)積層体(X)の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、
(2)積層体(X)の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、
(3)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体における樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、
(4)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上である
ことを特徴とする積層体(X)。
A laminate of the adhesive layer and the resin substrate (X) used in a laminate (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A) ) And
(1) The dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) is 3.0 or less,
(2) The dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 MHz of the laminate (X) is 0.02 or less,
(3) The peel strength between the resin substrate and the metal substrate in the laminate when the metal substrate is laminated on the adhesive layer surface of the laminate (X) is 0.5 N / mm or more,
(4) A laminate (X) characterized in that the wet solder heat resistance of the laminate when the metal base is laminated on the adhesive layer surface of the laminate (X) is 240 ° C. or higher.
請求項1に記載の積層体(Z)または請求項2に記載の積層体(X)を含有する接着シート。   The adhesive sheet containing the laminated body (Z) of Claim 1, or the laminated body (X) of Claim 2. 請求項3に記載の接着シートを構成要素として含むプリント配線板。   A printed wiring board comprising the adhesive sheet according to claim 3 as a component.
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