JPWO2017208924A1 - Method of forming transparent conductive pattern - Google Patents

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Abstract

【課題】金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブを導電成分として含む透明導電性インクを用いたスクリーン印刷において、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブへのダメージを軽減することにより、簡易な製造工程により透明導電パターンを形成し、製造コスト及び環境負荷を抑制することができる透明導電パターンの形成方法を提供する。【解決手段】金属ナノワイヤと金属ナノチューブの少なくとも一方と、分散媒を含む透明導電性インク5を、スクリーンマスク2に接触する先端部が曲面形状を有する丸スキージ3を使用してスクリーン印刷する。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: In screen printing using a transparent conductive ink containing metal nanowires and / or metal nanotubes as a conductive component, a transparent conductive pattern is achieved by a simple manufacturing process by reducing damage to the metal nanowires and / or metal nanotubes. To provide a method of forming a transparent conductive pattern which can suppress the manufacturing cost and the environmental load. SOLUTION: A transparent conductive ink 5 containing at least one of metal nanowires and metal nanotubes and a dispersion medium is screen printed using a round squeegee 3 whose tip portion contacting the screen mask 2 has a curved shape. [Selected figure] Figure 1

Description

本発明は、透明導電パターンの形成方法に関する。   The present invention relates to a method of forming a transparent conductive pattern.

透明導電膜は、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、有機エレクトロルミネッセンス(OLED)、太陽電池(PV)及びタッチパネル(TP)の透明電極、帯電防止(ESD)フィルムならびに電磁波遮蔽(EMI)フィルム等の種々の分野で使用されており、(1)低い表面抵抗、(2)高い光線透過率、(3)高い信頼性が要求される。   The transparent conductive film is a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic electroluminescence (OLED), a transparent electrode of a solar cell (PV) and a touch panel (TP), an antistatic (ESD) film and an electromagnetic wave shielding (EMI). 2.) It is used in various fields such as films, and (1) low surface resistance, (2) high light transmittance, and (3) high reliability are required.

例えば、LCDの透明電極に対しては、表面抵抗が10〜300Ω/□の範囲内にあり、光線透過率が可視光域で85%以上であるのが好適である。さらに好ましい範囲は、表面抵抗が20〜100Ω/□、光線透過率が90%以上である。OLEDの透明電極に対しては、表面抵抗が10〜100Ω/□の範囲内にあり、光線透過率が可視光域で80%以上であるのが好適である。さらに好ましい範囲は、表面抵抗が10〜50Ω/□、光線透過率が85%以上である。PVの透明電極に対しては、表面抵抗が5〜100Ω/□の範囲内にあり、光線透過率が可視光域で65%以上であるのが好適である。さらに好ましい範囲は、表面抵抗が5〜20Ω/□、光線透過率が70%以上である。TPの電極に対しては、表面抵抗が100〜1000Ω/□の範囲内にあり、光線透過率が可視光域で85%以上であるのが好適である。さらに好ましくは、表面抵抗が150〜500Ω/□の範囲内にあり、光線透過率が可視光域で90%以上である。ESDフィルムに対しては、表面抵抗が500〜10000Ω/□の範囲内にあり、光線透過率が可視光域で90%以上であるのが好適である。さらに好ましくは、表面抵抗が1000〜5000Ω/□の範囲内にあり、光線透過率が可視光域で95%以上である。   For example, for a transparent electrode of LCD, it is preferable that the surface resistance is in the range of 10 to 300 Ω / □, and the light transmittance is 85% or more in the visible light region. A more preferable range is a surface resistance of 20 to 100 Ω / □ and a light transmittance of 90% or more. For the transparent electrode of the OLED, it is preferable that the surface resistance is in the range of 10 to 100 Ω / □, and the light transmittance is 80% or more in the visible light region. A more preferable range is 10 to 50 Ω / □ of surface resistance and 85% or more of light transmittance. For the transparent electrode of PV, it is preferable that the surface resistance is in the range of 5 to 100 Ω / □, and the light transmittance is 65% or more in the visible light region. A more preferable range is 5 to 20 Ω / □ of surface resistance and 70% or more of light transmittance. For the TP electrode, it is preferable that the surface resistance is in the range of 100 to 1000 Ω / □, and the light transmittance is 85% or more in the visible light range. More preferably, the surface resistance is in the range of 150 to 500 Ω / □, and the light transmittance is 90% or more in the visible light range. For the ESD film, it is preferable that the surface resistance is in the range of 500 to 10000 Ω / □, and the light transmittance is 90% or more in the visible light range. More preferably, the surface resistance is in the range of 1000 to 5000 Ω / □, and the light transmittance is 95% or more in the visible light range.

これらの透明電極に用いられる透明導電膜には、従来、ITO(酸化インジウム錫)が用いられてきた。しかし、ITOに用いられるインジウムはレアメタルであるため、近年は供給及び価格の安定化が課題となっている。また、ITOの製膜には、高真空を必要とするスパッタリング法や蒸着法等が用いられているため、真空製造装置が必要となり、製造時間が長くかかる上コストも高くなる。更に、ITOは曲げ等の物理的な応力によってクラックが発生し壊れ易いため、フレキシブル性を付与した基板に対して適用することが困難である。そのため、これらの問題点を解消したITO代替材料の探索が進められており、真空製造装置の使用が不要である塗布成膜可能な材料として、金属ナノワイヤを含有する導電性材料(たとえば特許文献1及び非特許文献1参照)等のナノ構造の導電性成分を含有する導電性材料が報告されている。   Conventionally, ITO (indium tin oxide) has been used for the transparent conductive film used for these transparent electrodes. However, since indium used for ITO is a rare metal, stabilization of supply and price has been a problem in recent years. In addition, since a sputtering method or a vapor deposition method requiring a high vacuum is used for the film formation of ITO, a vacuum manufacturing apparatus is required, the manufacturing time is long, and the cost is also high. Furthermore, ITO is susceptible to cracking due to physical stress such as bending, and is thus fragile, so it is difficult to apply it to a substrate provided with flexibility. Therefore, the search for ITO alternative materials that solves these problems is in progress, and conductive materials containing metal nanowires can be used as a material capable of coating film formation that does not require the use of a vacuum manufacturing apparatus (for example, Patent Document 1 And non-patent documents 1) and the like, and conductive materials containing nano-structured conductive components have been reported.

金属ナノワイヤを含有した導電性材料は、低表面抵抗かつ高光線透過率を示し、更に、フレキシブル性も有しているため、「ITO代替材料」として好適である。   A conductive material containing metal nanowires is suitable as an "ITO alternative material" because it exhibits low surface resistance and high light transmittance, and also has flexibility.

ここで、透明導電膜は、透明電極として使用するために用途に応じたパターン形成を必要とするが、金属ナノワイヤを含有した導電性材料によりパターンを形成する方法としては、ITOのパターン形成同様レジスト材料を用いたフォトリソグラフィー法が一般的に用いられている。上記特許文献1及び非特許文献1のいずれの方法においても、金属ナノワイヤを含む層の上にさらにパターン形成のための感光性を有する層を形成する工程が必要であった。また、感光性を有する層の現像工程及び露出された金属ナノワイヤを含む層の除去工程が必要であるので、除去領域の銀ナノワイヤを無駄に消費してしまう上に、現像液の廃液処理が必要となる場合もあった。さらに、感光性を有する層の現像及び露出された金属ナノワイヤを含む層の除去後、感光性を有する層の除去工程が必要である場合もあった。   Here, although the transparent conductive film needs pattern formation according to the application in order to use it as a transparent electrode, as a method of forming a pattern by the conductive material containing metal nanowire, the resist same as the pattern formation of ITO is formed. Photolithographic methods using materials are generally used. In any of the methods described in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1, it is necessary to further form a layer having photosensitivity for pattern formation on the layer containing metal nanowires. In addition, since the development step of the layer having photosensitivity and the removal step of the layer containing the exposed metal nanowires are necessary, it is necessary to waste the silver nanowires in the removal region and to treat the waste liquid of the developer. It could have been Furthermore, it has also been the case that after the development of the layer having photosensitivity and the removal of the layer containing the exposed metal nanowires, a removal step of the layer having photosensitivity is necessary.

そこで、銀ナノワイヤをインクジェット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷のような印刷法により、直接パターン形成することが望まれている。しかし、印刷を行うにはバインダー樹脂が必要であり、透明性を確保するためには銀ナノワイヤの使用量を少なくする必要があるため、使用するバインダー樹脂が銀ナノワイヤの表面を被覆して導電性を発現しないという問題があった。また、バインダー樹脂を用いない場合には、印刷時にパターンが確保できないか印刷直後はかろうじてパターンが確保できても、溶剤を乾燥する際にパターンが崩れてしまうという問題があった。   Therefore, direct patterning of silver nanowires by a printing method such as inkjet printing, screen printing, gravure printing, flexo printing is desired. However, a binder resin is required for printing, and it is necessary to reduce the amount of silver nanowires used to ensure transparency, so the binder resin used covers the surface of the silver nanowires and becomes conductive. There was a problem of not expressing In addition, when the binder resin is not used, there is a problem that even if the pattern can not be secured during printing or the pattern can be secured barely immediately after printing, the pattern is broken when the solvent is dried.

特許文献2には、金属ナノワイヤと金属ナノチューブの少なくとも一方と、分子量の範囲が150〜500である有機化合物を含みかつ25℃における粘度が1.0×10〜2.0×10mPa・sである形状保持材を含有する分散媒と、を含むことを特徴とする、バインダー樹脂を用いなくても印刷できる透明導電性インクが開示されている。Patent Document 2 contains at least one of metal nanowires and metal nanotubes, and an organic compound having a molecular weight range of 150 to 500, and has a viscosity of 1.0 × 10 3 to 2.0 × 10 6 mPa · s at 25 ° C. There is disclosed a transparent conductive ink which can be printed without using a binder resin, which comprises: a dispersion medium containing a shape-retaining material which is s.

この方法ではスクリーン印刷の条件によっては、印刷を繰り返していく過程において金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブへのダメージがあり、そのダメージが導電性能に影響することが課題であった。   In this method, depending on the screen printing conditions, damage to the metal nanowires and / or the metal nanotubes occurs in the process of repeating printing, and the problem is that the damage affects the conductive performance.

特表2009−505358号公報JP 2009-505358 gazette 国際公開第2013/161996号パンフレットInternational Publication No. 2013/161996 Pamphlet

Shih-HsiangLai, Chun-Yao Ou, Chia-Hao Tsai, Bor-Chuan Chuang, Ming-Ying Ma, and Shuo-WeiLiang; SID Symposium Digest of Technical Papers, Vol.39,Issue 1, pp. 1200-1202 (2008)Shih-HsiangLai, Chun-Yao Ou, Chia-Hao Tsai, Bor-Chuan Chuang, Ming-Ying Ma, and Shuo-WeiLiang; SID Symposium Digest of Technical Papers, Vol. 39, Issue 1, pp. 1200-1202 (2008 )

本発明の目的は、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブを導電成分として含む透明導電性インクを用いたスクリーン印刷において、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブへのダメージを軽減することにより、簡易な製造工程により透明導電パターンを形成し、製造コスト及び環境負荷を抑制することができる透明導電パターンの形成方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a simple manufacturing process by reducing damage to metal nanowires and / or metal nanotubes in screen printing using a transparent conductive ink containing metal nanowires and / or metal nanotubes as a conductive component. It is an object of the present invention to provide a method for forming a transparent conductive pattern which can form a transparent conductive pattern and can suppress the manufacturing cost and the environmental load.

上記目的を達成するために、本発明は以下の実施態様を含む。   In order to achieve the above object, the present invention includes the following embodiments.

[1]金属ナノワイヤと金属ナノチューブの少なくとも一方と分散媒を含む透明導電性インクを、スクリーンマスクに接触する先端部が曲面形状を有するスキージを使用してスクリーン印刷することを特徴とする透明導電パターンの形成方法。   [1] A transparent conductive pattern characterized in that a transparent conductive ink containing at least one of metal nanowires and metal nanotubes and a dispersion medium is screen-printed using a squeegee having a curved shape at the tip end contacting the screen mask. How it is formed.

[2]上記スクリーンマスクに接触するスキージの先端部の曲面の曲率半径が0.1〜20mmである[1]に記載の透明導電パターンの形成方法。   [2] The method for forming a transparent conductive pattern according to [1], wherein the radius of curvature of the curved surface of the tip of the squeegee in contact with the screen mask is 0.1 to 20 mm.

[3]上記スクリーンマスクに接触するスキージの先端部の曲面の曲率半径が2〜10mmである[2]に記載の透明導電パターンの形成方法。   [3] The method for forming a transparent conductive pattern according to [2], wherein the radius of curvature of the curved surface of the tip of the squeegee in contact with the screen mask is 2 to 10 mm.

[4]上記スキージの材質が合成ゴム、天然ゴム、金属、プラスチックからなる群から選ばれるいずれかである[1]から[3]のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   [4] The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of [1] to [3], wherein the material of the squeegee is any one selected from the group consisting of synthetic rubber, natural rubber, metal and plastic.

[5]上記合成ゴムがウレタンゴムまたはシリコーンゴムからなる[4]に記載の透明導電パターンの形成方法。   [5] The method for forming a transparent conductive pattern according to [4], wherein the synthetic rubber comprises urethane rubber or silicone rubber.

[6]スキージ速度を5〜200mm/secとしてスクリーン印刷する[1]から[5]のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   [6] The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of [1] to [5], wherein screen printing is performed at a squeegee speed of 5 to 200 mm / sec.

[7]上記透明導電性インクが、透明導電性インク総質量に対して、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの総量として0.01〜10質量%含む、[1]から[6]のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   [7] In any one of [1] to [6], wherein the transparent conductive ink contains 0.01 to 10% by mass as a total amount of metal nanowires and metal nanotubes with respect to the total mass of the transparent conductive ink. The formation method of the transparent conductive pattern of description.

[8]上記分散媒が、分子量の範囲が150〜500である有機化合物からなる形状保持材を含む[1]から[7]のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   [8] The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of [1] to [7], wherein the dispersion medium contains a shape-retaining material composed of an organic compound having a molecular weight range of 150 to 500.

[9]上記形状保持材の有機化合物が、単糖類、ポリオール、4級炭素原子及び/または橋かけ環骨格を有するアルキル基と水酸基とを有する化合物のいずれかである[8]に記載の透明導電パターンの形成方法。   [9] The transparent material according to [8], wherein the organic compound of the above-mentioned shape-retaining material is any of a compound having a monosaccharide, a polyol, an alkyl group having a quaternary carbon atom and / or a bridged ring skeleton and a hydroxyl group. Method of forming a conductive pattern.

[10]上記形状保持材の有機化合物が、ジグリセリン、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、キシルロース、リブロース、ボルニルシクロヘキサノール、ボルネオール、イソボルニルシクロヘキサノールまたはイソボルネオールのいずれかである[9]に記載の透明導電パターンの形成方法。   [10] The organic compound of the above-mentioned shape-retaining material is diglycerin, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, xylulose, ribulose, bornyl cyclohexanol, borneol, isobornyl cyclohexanol [9] The method for forming a transparent conductive pattern according to [9], which is either or isoborneol.

[11]上記分散媒が、形状保持材の粘度を調製する粘度調整溶媒をさらに含む[8]から[10]のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   [11] The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of [8] to [10], wherein the dispersion medium further contains a viscosity adjusting solvent for adjusting the viscosity of the shape-retaining material.

[12]上記粘度調整溶媒が、水、アルコール、ケトン、エーテル、脂肪族系炭化水素溶剤及び芳香族系炭化水素溶剤の少なくとも一種である[11]に記載の透明導電パターンの形成方法。   [12] The method for forming a transparent conductive pattern according to [11], wherein the viscosity adjusting solvent is at least one of water, alcohol, ketone, ether, aliphatic hydrocarbon solvent and aromatic hydrocarbon solvent.

[13]上記粘度調整溶媒のアルコールが、テルピネオールである[12]に記載の透明導電パターンの形成方法。   [13] The method for forming a transparent conductive pattern according to [12], wherein the alcohol of the viscosity adjusting solvent is terpineol.

[14]上記形状保持材の含有量が分散媒総質量に対して10〜90質量%である[8]から[13]のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   [14] The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of [8] to [13], wherein the content of the shape-retaining material is 10 to 90 mass% with respect to the total mass of the dispersion medium.

本発明によれば、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブを導電成分として用い、導電性及び光透過性を兼ね備えた塗膜を形成することができる透明導電性インクを、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブへのダメージを軽減させて繰り返しスクリーン印刷することができるので、安定した低い表面抵抗値を有する透明導電パターンを歩留まりよく製造することができる。   According to the present invention, a transparent conductive ink capable of forming a coating film having both conductivity and light transparency by using metal nanowires and / or metal nanotubes as a conductive component is disclosed as metal nanowires and / or metal nanotubes. Thus, transparent conductive patterns having stable and low surface resistance can be manufactured with high yield.

丸スキージを用いたスクリーン印刷の概念図である。It is a conceptual diagram of screen printing using a circle squeegee. パルス光の定義を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the definition of pulsed light. 丸スキージの他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a round squeegee. 比較例1で使用した平スキージの側面図である。FIG. 7 is a side view of the flat squeegee used in Comparative Example 1;

以下、本発明を実施するための形態(以下、実施形態という)を説明する。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as embodiments) will be described.

実施形態にかかる透明導電パターンの形成方法は、金属ナノワイヤと金属ナノチューブの少なくとも一方と分散媒を含む透明導電性インクを、スクリーンマスクに接触する先端部が曲面形状を有するスキージを使用してスクリーン印刷することを特徴とする。   In the method of forming a transparent conductive pattern according to the embodiment, a transparent conductive ink containing at least one of metal nanowires and metal nanotubes and a dispersion medium is screen-printed using a squeegee having a curved tip portion contacting the screen mask. It is characterized by

スクリーンマスクに接触する先端部が曲面形状を有するスキージ(以下、「丸スキージ」と称することがある)は、スクリーンマスクとスキージが接触する部分でのスキージの断面形状が文字通り曲面を有するものである。曲面は曲率が一定の円弧状のものや、曲率が異なる楕円状のものでもよいが、これらに限定されない。このような丸スキージを用いてスクリーン印刷する場合の概念図を図1に示した。   The squeegee whose tip end contacting the screen mask has a curved surface shape (hereinafter sometimes referred to as "round squeegee") is that the cross-sectional shape of the squeegee at the portion where the screen mask and the squeegee contact has a curved surface literally . The curved surface may be an arc having a constant curvature or an elliptical shape having a different curvature, but is not limited thereto. A conceptual view of screen printing using such a round squeegee is shown in FIG.

図1において、基材1とスクリーンマスク2とは一定間隔のクリアランスを有して配置されており、丸スキージ3をスクリーンマスク2に押し当てて基材1とスクリーンマスク2とを密着させつつ印刷方向4に移動させ、スクリーンマスク2上に置かれた透明導電性インク5を基材1側に押し出してスクリーン印刷を行う。   In FIG. 1, the substrate 1 and the screen mask 2 are disposed with a fixed clearance, and the round squeegee 3 is pressed against the screen mask 2 so that the substrate 1 and the screen mask 2 are in close contact with each other. Then, the transparent conductive ink 5 placed on the screen mask 2 is pushed to the side of the substrate 1 to perform screen printing.

丸スキージ3の先端部(スクリーンマスク2と丸スキージ3とが接触する部分)の曲率半径Rは0.1〜20mmが好ましく、1〜15mmがより好ましく、2〜10mmが更に好ましい。曲率半径Rが0.1mm以上であるとスキージを通して透明導電性インク5に十分な印圧を加えることができる。また、曲率半径Rが20mm以下であるとスクリーンマスク上でインクを磨り潰す影響が小さく、金属ナノワイヤや金属ナノチューブの折れ、切断等のダメージを低減できる。   The radius of curvature R of the tip of the round squeegee 3 (the portion where the screen mask 2 and the round squeegee 3 contact) is preferably 0.1 to 20 mm, more preferably 1 to 15 mm, and still more preferably 2 to 10 mm. When the curvature radius R is 0.1 mm or more, a sufficient printing pressure can be applied to the transparent conductive ink 5 through a squeegee. In addition, when the radius of curvature R is 20 mm or less, the effect of grinding the ink on the screen mask is small, and damage such as breakage or breakage of the metal nanowires or metal nanotubes can be reduced.

図1の例では、丸スキージ3の先端部分の断面形状を円弧状に示しているが、少なくともスクリーンマスク2に接触する部分が曲面形状を有していればよく、スクリーンマスク2に接触しない部分の形状には制限がない。すなわち、従来のスクリーンマスク2に汎用されている平スキージの先端エッジに丸みを持たせ、この丸み部分をスクリーンマスク2に接触させるようにスクリーン印刷することもできる。   Although the cross-sectional shape of the tip portion of the round squeegee 3 is shown as an arc in the example of FIG. 1, it is sufficient that at least a portion contacting the screen mask 2 has a curved shape, a portion not contacting the screen mask 2 There is no restriction on the shape of. That is, the tip edge of the flat squeegee generally used for the conventional screen mask 2 may be rounded, and screen printing may be performed such that the rounded portion is in contact with the screen mask 2.

図3(a)、(b)、(c)には、丸スキージ3の他の例が示される。図3(a)の例が平スキージの先端エッジの両方に丸みを持たせたものであり、図3(b)の例が平スキージの先端エッジの片方に丸みを持たせたものであり、図3(c)の例が平スキージの先端を楕円形状としたものである。なお、図3(c)の例ではスキージの先端形状が楕円とされているが、これには限られず、曲率半径が一定ではないが曲面に加工されているものを全て含む。   The other example of the round squeegee 3 is shown by FIG. 3 (a), (b), (c). The example of FIG. 3 (a) is obtained by rounding both of the tip edges of the flat squeegee, and the example of FIG. 3 (b) is obtained by rounding one end of the tip of the flat squeegee, In the example of FIG. 3C, the tip of the flat squeegee has an elliptical shape. Although the tip shape of the squeegee is an ellipse in the example of FIG. 3C, the present invention is not limited to this, and includes all those processed into a curved surface although the radius of curvature is not constant.

丸スキージ3の材質は特に限定されるものではなく、従来スクリーン印刷用に使用されているスキージと同等の材質のものを用いることができる。例えば、ウレタンゴム、シリコーンゴム等の合成ゴム、天然ゴム、ステンレス等の金属、ポリエステル等のプラスチック等の素材が挙げられる。   The material of the round squeegee 3 is not particularly limited, and the same material as the squeegee conventionally used for screen printing can be used. For example, materials such as urethane rubber, synthetic rubber such as silicone rubber, natural rubber, metals such as stainless steel, plastics such as polyester, etc. may be mentioned.

ゴム素材の丸スキージ3の硬度は特に限定されるのもではなく、例えば、JIS K6031規格の硬度計でHs(ショアー)硬度55〜90のものを使用することができる。   The hardness of the round squeegee 3 of the rubber material is not particularly limited, and, for example, one having a hardness scale of JIS K6031 and a hardness of 55 to 90 in Hs (Shore) can be used.

上記のような丸スキージ3としては、例えば、APOLAN International社製丸スキージ、バンドー化学株式会社製丸スキージ、R付き平スキージ、角スキージ(R付き)等が利用できる。   As the above-mentioned round squeegee 3, for example, a round squeegee manufactured by APOLAN International, a round squeegee manufactured by Bando Chemical Industries, Ltd., a flat squeegee with R, a square squeegee (with R), and the like can be used.

丸スキージ3を用いた印刷でのスキージ速度(印刷方向4への移動速度)は5〜200mm/secが好ましく、10〜150mm/secがより好ましく、20〜100mm/secが更に好ましい。スキージ速度が5mm/sec以上であれば生産性が良好であり、スキージ速度が200mm/sec以下であれば印刷時のインク転写量が過剰となることによる版離れの悪化を抑制することができる。   5-200 mm / sec is preferable, as for the squeegee speed (moving speed to the printing direction 4) in printing using the round squeegee 3, 10-150 mm / sec is more preferable, and 20-100 mm / sec is still more preferable. If the squeegee speed is 5 mm / sec or more, the productivity is good, and if the squeegee speed is 200 mm / sec or less, it is possible to suppress the deterioration of plate separation due to the excessive amount of ink transfer at the time of printing.

丸スキージ3を用いた印刷でのスキージ印圧は0.10〜0.45MPaが好ましく、0.15〜0.30MPaがより好ましい。スキージ印圧が0.10MPa以上であれば印刷されたインクの膜厚の均一性が確保でき、スキージ印圧が0.45MPa以下であれば印刷されたインクの膜厚が薄くなりすぎず、透明導電パターンの形成に好ましい。   The squeegee printing pressure in printing using the round squeegee 3 is preferably 0.10 to 0.45 MPa, and more preferably 0.15 to 0.30 MPa. If the squeegee printing pressure is 0.10 MPa or more, the uniformity of the film thickness of the printed ink can be secured, and if the squeegee printing pressure is 0.45 MPa or less, the film thickness of the printed ink is not too thin and transparent. It is preferable for formation of a conductive pattern.

丸スキージ3を用いた印刷でのスキージ角度は装置の制約を除けば特に制限されない。丸スキージ3はその先端部が曲面形状であるため、スキージ角度を微調整しても透明導電性インク中の金属ナノワイヤや金属ナノチューブへの大きな影響はなく、一般的なスクリーン印刷で使用される60〜80°のスキージ角度で印刷してもよく、装置の制約がなければそれより小さなスキージ角度で印刷してもよい。   The squeegee angle in printing using the round squeegee 3 is not particularly limited except for the limitations of the apparatus. Since the tip of the round squeegee 3 has a curved shape, fine adjustment of the squeegee angle has no significant effect on the metal nanowires and metal nanotubes in the transparent conductive ink, and it is used in general screen printing. The printing may be performed at a squeegee angle of -80 [deg.], And may be performed at a smaller squeegee angle without device limitations.

一般的な強度とテンションを有するスクリーンマスク2を使用した場合、丸スキージ3を用いた印刷でのクリアランスはスクリーン枠の内寸の1/600〜1/150が好ましく、1/450〜1/200がより好ましい。スクリーン枠の内寸の1/600以上あれば印刷時の版離れが悪化することを抑制することができ、1/150以下であれば繰り返し印刷でのスクリーンマスク2へのダメージを抑制することができる。なお、強度が高いスクリーンマスクを使用した場合には、スクリーン枠の内寸の1/100以下でもスクリーンマスク2へのダメージが抑制されることがある。   In the case of using the screen mask 2 having a general strength and tension, the clearance for printing using the round squeegee 3 is preferably 1/600 to 1/150 of the inner size of the screen frame, and 1/450 to 1/200. Is more preferred. If the inner dimension of the screen frame is 1/600 or more, it is possible to suppress the deterioration of the plate separation at the time of printing, and when it is 1/150 or less, to suppress the damage to the screen mask 2 in repeated printing. it can. When a screen mask with high strength is used, damage to the screen mask 2 may be suppressed even at 1/100 or less of the inner dimension of the screen frame.

スクリーン印刷ではスクリーンマスク2上にインクをのせ、スクレッパーでスクリーンマスク2上のインクを展開した後、丸スキージ3等のスキージで基材上に印刷する。スクリーンマスク2上にのせる透明導電性インク5の量が多いと、印刷におけるスキージ操作で透明導電性インク5中の金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブへのダメージが蓄積されてしまう。このため繰り返し大量に印刷する場合には、スクリーンマスク2上にのせる透明導電性インク5の量を制限し、印刷に伴い消費される透明導電性インク5を適宜スクリーンマスク2上に補充する操作を繰り返すことにより、透明導電性インク5中の金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブの平均長さを所望の長さに維持することができる。   In screen printing, the ink is placed on the screen mask 2 and spread on the screen mask 2 with a scraper, and then printed on a substrate with a squeegee such as a round squeegee 3 or the like. When the amount of the transparent conductive ink 5 placed on the screen mask 2 is large, damage to the metal nanowires and / or metal nanotubes in the transparent conductive ink 5 is accumulated in the squeegee operation in printing. For this reason, when printing repeatedly and in large quantities, the amount of the transparent conductive ink 5 placed on the screen mask 2 is limited, and the operation of appropriately replenishing the transparent conductive ink 5 consumed along with printing on the screen mask 2 By repeating the above, the average length of the metal nanowires and / or metal nanotubes in the transparent conductive ink 5 can be maintained at a desired length.

本実施形態の透明導電パターンの形成方法において用いられるスクリーン印刷用の透明導電性インク5は、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの少なくとも一方と分散媒を含むものであって、スクリーン印刷によりパターン形状を保持することができる適度な粘度を有するものであれば適用できる。分散媒は、以下の形状保持材を含むものであると、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブを良好に分散させることができるので好ましい。この透明導電性インクを使用し丸スキージ3を使用してスクリーン印刷することにより、印刷によるパターン形成を良好に行うことができ、分散媒を留去することによって、導電性と光透過性を兼ね備えた塗膜を形成できる。   The transparent conductive ink 5 for screen printing used in the method for forming a transparent conductive pattern of the present embodiment contains at least one of metal nanowires and metal nanotubes and a dispersion medium, and retains the pattern shape by screen printing. It is applicable if it has an appropriate viscosity which can be used. It is preferable that the dispersion medium contains the following shape-retaining material, because metal nanowires and / or metal nanotubes can be well dispersed. By using the transparent conductive ink and screen printing using the round squeegee 3, pattern formation by printing can be satisfactorily performed, and by distilling off the dispersion medium, it has both conductivity and light transmittance. Can form a coated film.

上記形状保持材は、分子量の範囲が150〜500である有機化合物であり、形状保持材を含む分散媒の25℃における粘度が1.0×10〜2.0×10mPa・sであることが好ましい。ここで、有機化合物が25℃で上記粘度範囲の液状である場合は形状保持材を上記有機化合物のみで構成することができる。一方、25℃における粘度が上記粘度範囲より高い場合あるいは25℃で固体の場合は適切な溶媒(有機化合物を溶解しうる溶媒であり、後述の粘度調整溶媒等が挙げられる)と予め混合(希釈、溶解)して分散媒とすることができる。The shape-retaining material is an organic compound having a molecular weight range of 150 to 500, and the viscosity of the dispersion medium containing the shape-retaining material at 25 ° C. is 1.0 × 10 3 to 2.0 × 10 6 mPa · s Is preferred. Here, when the organic compound is liquid at 25 ° C. and in the above viscosity range, the shape-retaining material can be composed of only the above-mentioned organic compound. On the other hand, if the viscosity at 25 ° C. is higher than the above viscosity range or if it is solid at 25 ° C., it is mixed (diluted in advance) with an appropriate solvent (a solvent capable of dissolving an organic compound, including the viscosity adjusting solvent described below) Solution) to obtain a dispersion medium.

分散媒の粘度が上記範囲より低いと印刷したパターンの形状を保持することが出来ず、上記範囲より高いと印刷時の糸曳性等の悪影響が出る。分散媒の25℃の粘度としてより好ましくは5.0×10〜1.0×10mPa・sの範囲である。なお、粘度は円錐平板型回転粘度計(コーンプレートタイプ)を用いて測定した値である。If the viscosity of the dispersion medium is lower than the above range, the shape of the printed pattern can not be maintained, and if it is higher than the above range, adverse effects such as stringiness during printing occur. The viscosity of the dispersion medium at 25 ° C. is more preferably in the range of 5.0 × 10 4 to 1.0 × 10 6 mPa · s. The viscosity is a value measured using a cone and plate type rotational viscometer (cone plate type).

また、使用する形状保持材である有機化合物の分子量が大きいと焼結時に形状保持材が効率よく除去できず、抵抗が下がらない。そのため分子量としては500以下、好ましくは400以下、より好ましくは300以下である。   In addition, when the molecular weight of the organic compound that is the shape-retaining material to be used is large, the shape-retaining material can not be efficiently removed during sintering, and the resistance does not decrease. Therefore, the molecular weight is 500 or less, preferably 400 or less, more preferably 300 or less.

このような有機化合物としては水酸基の入った化合物が好ましく、例えば単糖類、ポリオール、4級炭素原子及び/または橋かけ環骨格を有するアルキル基と水酸基とを有する化合物が好ましく、例えば、ジグリセリン、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、キシルロース、リブロース、ボルニルシクロヘキサノール、ボルネオール、イソボルニルシクロヘキサノール、イソボルネオール等が挙げられる。   As such an organic compound, a compound having a hydroxyl group is preferable, and for example, a compound having a monosaccharide, a polyol, an alkyl group having a quaternary carbon atom and / or a bridged ring skeleton and a hydroxyl group is preferable. 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, xylulose, ribulose, bornyl cyclohexanol, borneol, isobornyl cyclohexanol, isoborneol and the like.

上記列挙した化合物の中ではイソボルニル基と水酸基を有するものが特に好ましい。イソボルニル基が有する複雑な立体構造に加えて水酸基の水素結合によりインクに適度な粘着性を与えるためである。また、イソボルニル基と水酸基を有する化合物は、揮発温度がそれほど高くないにも拘わらず、高い粘性を有するため、インクの高粘度化が実現できるためである。イソボルニル基と水酸基を有する化合物としては、イソボルニルシクロヘキサノールまたはイソボルニルフェノールのいずれか一方またはその双方が挙げられる。上記列挙した化合物は適度な粘着性を有するため、インクに適度な粘着性を与える。また、インク溶媒として適当な沸点を示すため、印刷、乾燥終了後、適切な加熱、光焼結等により、残渣を低減することができる。インク中の形状保持材の含有量は分散媒総質量に対して10〜90質量%が好ましく、30〜80質量%がより好ましい。形状保持材の含有量が分散媒総質量に対して10〜90質量%であると、インクが印刷に適した粘度となり、印刷時のパターン崩れや糸曳性等の不具合がない印刷ができる。   Among the compounds listed above, those having an isobornyl group and a hydroxyl group are particularly preferred. In addition to the complicated steric structure of the isobornyl group, the hydrogen bond of the hydroxyl group gives the ink appropriate tackiness. In addition, since the compound having an isobornyl group and a hydroxyl group has high viscosity despite the fact that the volatilization temperature is not so high, it is possible to realize high viscosity of the ink. Examples of the compound having an isobornyl group and a hydroxyl group include isobornyl cyclohexanol and / or isobornyl phenol. The above-listed compounds have adequate tack, and thus give the ink proper tack. In addition, since the ink solvent exhibits a suitable boiling point, the residue can be reduced by appropriate heating, light sintering, etc. after printing and drying. The content of the shape-retaining material in the ink is preferably 10 to 90% by mass, and more preferably 30 to 80% by mass, based on the total mass of the dispersion medium. When the content of the shape-retaining material is 10 to 90% by mass with respect to the total mass of the dispersion medium, the ink has a viscosity suitable for printing, and printing can be performed without defects such as pattern collapse and stringiness during printing.

また、形状保持材としては、そのもの自体が上述した好ましい分散媒の粘度範囲である粘稠な液体であることが望ましいが、上記粘度範囲を満たすように他の粘度調整溶媒を混合して上記範囲の粘度を有する分散媒を調製し、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブを導電成分として分散媒中に分散させて透明導電性インクとしてもよい。   In addition, although it is desirable that the shape-retaining material is a viscous liquid which itself is the viscosity range of the preferable dispersion medium described above, other viscosity adjusting solvents may be mixed to satisfy the above viscosity range. A dispersion medium having a viscosity of 1 to 10 may be prepared, and metal nanowires and / or metal nanotubes may be dispersed as a conductive component in the dispersion medium to form a transparent conductive ink.

粘度調整溶媒の例としては、水、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、脂肪族系炭化水素溶剤及び芳香族系炭化水素溶剤が挙げられる。インク組成物中の各成分を良好に分散する観点から、水、エタノール、イソプロピルアルコール、1−メトキシ−2−プロパノール(PGME)、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコール、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テルピネオール、ジヒドロテルピネオール、ジヒドロテルピニルモノアセテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、エチルラクテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジブチルエーテル、オクタン、トルエンが好ましく、テルピネオールが特に好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of viscosity adjusting solvents include water, alcohols, ketones, esters, ethers, aliphatic hydrocarbon solvents and aromatic hydrocarbon solvents. From the viewpoint of well dispersing each component in the ink composition, water, ethanol, isopropyl alcohol, 1-methoxy-2-propanol (PGME), ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, diacetone alcohol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol, tripropylene glycol Ethylene glycol monoethyl ether, terpineol Dihydroterpineol, dihydroterpinyl monoacetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, dibutyl ether, octane, toluene Is preferred and terpineol is particularly preferred. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブとは、径の太さがナノメーターオーダーのサイズである金属であり、金属ナノワイヤはワイヤ状、金属ナノチューブはポーラスあるいはノンポーラスのチューブ状の形状を有する導電性材料である。本明細書において、「ワイヤ状」と「チューブ状」はいずれも線状であるが、前者は中央が中空ではないもの、後者は中央が中空であるものを意図する。性状は、柔軟であってもよく、剛直であってもよい。金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブは、いずれかを用いてもよく、両者を混合したものを用いてもよい。   Metal nanowires and metal nanotubes are metals whose diameter is as large as nanometer order, and metal nanowires are wire-like, and metal nanotubes are conductive materials having a porous or non-porous tube-like shape. In the present specification, "wire-like" and "tube-like" are both linear, but the former is intended not to be hollow in the center and the latter to be hollow in the center. The properties may be flexible or rigid. Either metal nanowires or metal nanotubes may be used, or a mixture of both may be used.

金属の種類としては、金、銀、白金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、カドミウム、オスミウム、イリジウムからなる群から選ばれる少なくとも1種及びこれらの金属を組み合わせた合金等が挙げられる。低い表面抵抗かつ高い全光線透過率を有する塗膜を得るためには、金、銀及び銅のいずれかを少なくとも1種含むことが好ましい。これらの金属は導電性が高いため、一定の表面抵抗を得る際に、面に占める金属の密度を減らすことができるので、高い全光線透過率を実現できる。   As the type of metal, at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, platinum, copper, nickel, iron, cobalt, zinc, ruthenium, rhodium, palladium, cadmium, osmium and iridium and an alloy combining these metals Etc. In order to obtain a coating film having low surface resistance and high total light transmittance, it is preferable to contain at least one of gold, silver and copper. Since these metals have high conductivity, the density of the metal occupied on the surface can be reduced when obtaining a constant surface resistance, so that high total light transmittance can be realized.

これらの金属の中でも、金または銀の少なくとも1種を含むことがより好ましい。最適な態様としては、銀のナノワイヤが挙げられる。   Among these metals, it is more preferable to include at least one of gold and silver. Optimal embodiments include silver nanowires.

透明導電性インク中の金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブの径の太さ、長軸の長さ及びアスペクト比は一定の分布を有することが好ましい。この分布は、本実施形態の透明導電性インクから得られる塗膜が、全光線透過率が高くかつ表面抵抗が低い塗膜となるように選択される。具体的には、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの径の太さの平均は、1〜500nmが好ましく、5〜200nmがより好ましく、5〜100nmがさらに好ましく、10〜100nmが特に好ましい。また、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブの長軸の長さの平均は、1〜100μmが好ましく、1〜50μmがより好ましく、2〜50μmがさらに好ましく、5〜30μmが特に好ましい。金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブは、径の太さの平均及び長軸の長さの平均が上記範囲を満たすとともに、アスペクト比の平均が5より大きいことが好ましく、10以上であることがより好ましく、100以上であることがさらに好ましく、200以上であることが特に好ましい。ここで、アスペクト比は、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブの径の平均的な太さをb、長軸の平均的な長さをaと近似した場合、a/bで求められる値である。a及びbは、走査電子顕微鏡を用い、実施例に記載の方法で測定できる。金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブの断面形状は、角部を有さない円あるいは楕円であることが好ましいが、角部を有するものであっても適用できる。なお、角部は鋭角よりも鈍角である方が好ましい。断面に複数の角部を有する場合、各々の角部の角度は同一であってもよいし、異なっていてもよい。   It is preferable that the diameter thickness, the major axis length and the aspect ratio of the metal nanowires and / or metal nanotubes in the transparent conductive ink have a constant distribution. This distribution is selected so that the coating film obtained from the transparent conductive ink of the present embodiment is a coating film having a high total light transmittance and a low surface resistance. Specifically, the average diameter of the metal nanowires and metal nanotubes is preferably 1 to 500 nm, more preferably 5 to 200 nm, still more preferably 5 to 100 nm, and particularly preferably 10 to 100 nm. Moreover, 1-100 micrometers is preferable, 1-50 micrometers is more preferable, 2-50 micrometers is more preferable, and, as for the average of the long axis length of a metal nanowire and / or a metal nanotube, 5-30 micrometers is especially preferable. The metal nanowires and / or metal nanotubes preferably have an average aspect ratio of 5 or more, more preferably 10 or more, while the average of the thickness of the diameter and the average of the lengths of the major axes satisfy the above range. It is more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. Here, the aspect ratio is a value obtained by a / b when the average diameter of the diameter of the metal nanowires and / or the metal nanotubes is b and the average length of the major axes is a. a and b can be measured by the method described in the examples using a scanning electron microscope. The cross-sectional shape of the metal nanowires and / or the metal nanotubes is preferably a circle or an ellipse having no corner, but may be applied to one having a corner. The corner portion is preferably obtuse rather than acute. In the case of having a plurality of corners in the cross section, the angle of each corner may be the same or different.

金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブの製造方法としては、公知の製造方法を用いることができる。例えば、銀ナノワイヤは、ポリオール(Poly−ol)法を用いて、ポリビニルピロリドン存在下で硝酸銀を還元することによって合成することができる(Chem.Mater.,2002,14,4736参照)。金ナノワイヤも同様に、ポリビニルピロリドン存在下で塩化金酸水和物を還元することによって合成することができる(J.Am.Chem.Soc.,2007,129,1733参照)。銀ナノワイヤ及び金ナノワイヤの大規模な合成及び精製の技術に関しては国際公開公報WO2008/073143パンフレットと国際公開第2008/046058号パンフレットに詳細な記述がある。ポーラス構造を有する金ナノチューブは、銀ナノワイヤを鋳型にして、塩化金酸溶液を還元することにより合成することができる。ここで、鋳型に用いた銀ナノワイヤは塩化金酸との酸化還元反応により溶液中に溶け出し、結果としてポーラス構造を有する金ナノチューブができる(J.Am.Chem.Soc.,2004,126,3892−3901参照)。   A known production method can be used as a method for producing the metal nanowires and / or the metal nanotubes. For example, silver nanowires can be synthesized by reducing silver nitrate in the presence of polyvinyl pyrrolidone using the Polyol (Poly-ol) method (see Chem. Mater., 2002, 14, 4736). Gold nanowires can also be synthesized by reduction of chloroauric acid hydrate in the presence of polyvinyl pyrrolidone (see J. Am. Chem. Soc., 2007, 129, 1733). WO 2008/073143 pamphlet and WO 2008/046058 pamphlet describe in detail the technology of large-scale synthesis and purification of silver nanowires and gold nanowires. Gold nanotubes having a porous structure can be synthesized by using a silver nanowire as a template and reducing a chlorauric acid solution. Here, the silver nanowires used as the template are dissolved in the solution by the redox reaction with chloroauric acid, and as a result, gold nanotubes having a porous structure can be formed (J. Am. Chem. Soc., 2004, 126, 3892 -3901).

本実施形態にかかる透明導電性インクにおける金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブの含有量は、その良好な分散性並びに透明導電性インクから得られる塗膜の良好なパターン形成性、高い導電性及び良好な光学特性の観点から、透明導電性インク総質量に対して、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブが0.01〜10質量%の量であることが好ましく、より好ましくは0.05〜5質量%であり、さらに好ましくは0.1〜2質量%の量である。金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブが0.01質量%以上であれば、所望の導電性を確保するために、透明導電層を非常に厚く印刷する必要はないので印刷の難易度が高くなることや乾燥時のパターン崩れ等の発生を抑制できる。また、10質量%以下であれば所望の透明度を確保するために非常に薄く印刷する必要がなく、印刷が容易である。なお、透明導電性インクには光学特性、電気特性等に悪影響を及ぼさない範囲で他の導電成分(金属粒子等)や無機粒子(シリカ等)を含んでもよい。これらの粒子の粒径は小さい方が好ましく、平均粒径が1〜30nmであることが好ましく、5〜25nm以下であることがより好ましく、10〜20nmであることがさらに好ましい。また、これらの粒子の配合量は、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブ100質量部に対して30質量部以下であることが好ましい。   The content of the metal nanowires and / or metal nanotubes in the transparent conductive ink according to the present embodiment is the good dispersibility and the good patternability of the coating film obtained from the transparent conductive ink, high conductivity and good. From the viewpoint of optical properties, the amount of metal nanowires and / or metal nanotubes is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 5% by mass, based on the total mass of the transparent conductive ink. It is more preferably 0.1 to 2% by mass. If the metal nanowires and / or metal nanotubes are 0.01% by mass or more, it is not necessary to print the transparent conductive layer very thick in order to ensure the desired conductivity, and the printing becomes more difficult. It is possible to suppress the occurrence of pattern collapse and the like at the time of drying. Moreover, if it is 10 mass% or less, it is not necessary to print very thinly in order to ensure desired transparency, and printing is easy. The transparent conductive ink may contain other conductive components (such as metal particles) and inorganic particles (such as silica) as long as the optical properties, electric properties, and the like are not adversely affected. The particle diameter of these particles is preferably small, and the average particle diameter is preferably 1 to 30 nm, more preferably 5 to 25 nm or less, and still more preferably 10 to 20 nm. Moreover, it is preferable that the compounding quantity of these particle | grains is 30 mass parts or less with respect to 100 mass parts of metal nanowires and / or metal nanotubes.

本実施形態にかかる透明導電性インクは、その性質を損なわない範囲で、上記成分(形状保持材、粘度調整溶媒、金属ナノワイヤ、金属ナノチューブ)以外の任意成分、例えば、バインダー樹脂、腐食防止剤、密着促進剤、界面活性剤等を含んでいてもよい。   The transparent conductive ink according to the present embodiment is an optional component other than the above components (shape-retaining material, viscosity adjusting solvent, metal nanowires, metal nanotubes), as long as the properties thereof are not impaired, such as binder resin, corrosion inhibitor, An adhesion promoter, surfactant, etc. may be included.

バインダー樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリロニトリル等のポリアクリロイル化合物;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリカーボネート;ノボラック等の高共役性ポリマー;ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のイミド類;ポリスルフィド;ポリスルホン;ポリフェニレン;ポリフェニルエーテル;ポリウレタン;エポキシ;ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリビニルキシレン等の芳香族ポリオレフィン;ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等の脂肪族ポリオレフィン;ポリノルボルネン等の脂環式オレフィン、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリ−N−ビニルカプロラクタム、ポリ−N−ビニルアセトアミド等のポリ−N−ビニル化合物、;アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合ポリマー(ABS);ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)、ニトロセルロース等のセルロース類;シリコーン樹脂;ポリアセテート;合成ゴム;ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等の含塩素ポリマー;ポリフルオロビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン、フルオロオレフィン−ヒドロカーボンオレフィンの共重合ポリマー等の含フッ素ポリマー等が挙げられる。   Binder resins include polyacryloyl compounds such as polymethyl methacrylate, polyacrylate and polyacrylonitrile; polyvinyl alcohols; polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polycarbonates; highly conjugated polymers such as novolaks; polyimides, polyamideimides, polyethers Imide such as imide; polysulfide; polysulfone; polyphenylene; polyphenyl ether; polyurethane; epoxy; aromatic polyolefin such as polystyrene, polyvinyltoluene, polyvinylxylene etc; aliphatic polyolefin such as polypropylene, polymethylpentene; Type olefin, poly-N-vinyl pyrrolidone, poly-N-vinyl caprolactam, poly-N-vinyl alcohol Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS); Hydroxypropyl methyl cellulose (HPMC), celluloses such as nitrocellulose; silicone resins; polyacetates; synthetic rubbers; polyvinyl chloride, Chlorine-containing polymers such as chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene; and fluorine-containing polymers such as polyfluorovinylidene, polytetrafluoroethylene, polyhexafluoropropylene, copolymer of fluoroolefin-hydrocarbon olefin, and the like.

また、腐食防止剤としてはベンゾトリアゾール等、密着促進剤としては2−ヒドロキシメチルセルロース等、界面活性剤としては商品名F―472SF(DIC(株)製)等が挙げられる。   Further, examples of the corrosion inhibitor include benzotriazole and the like, an adhesion promoter includes 2-hydroxymethylcellulose and the like, and a surfactant includes a trade name F-472SF (manufactured by DIC Corporation).

透明導電性インクは、上述した成分を、公知の方法で攪拌、混合、加熱、冷却、溶解、分散等を適宜選択して行うことによって製造できる。   The transparent conductive ink can be produced by appropriately selecting, stirring, mixing, heating, cooling, dissolving, dispersing and the like according to known methods.

本実施形態にかかる透明導電性インクの好ましい粘度は、25℃における粘度が100〜2×10mPa・sであることが好ましく、より好ましくは10〜5×10mPa・sである。なお、粘度は円錐平板型回転粘度計(コーンプレートタイプ)を用いて測定した値である。The preferable viscosity of the transparent conductive ink according to this embodiment is preferably 100 to 2 × 10 5 mPa · s at 25 ° C., and more preferably 10 3 to 5 × 10 4 mPa · s. The viscosity is a value measured using a cone and plate type rotational viscometer (cone plate type).

このようにして調製した透明導電性インクを使用して、スクリーン印刷によりパターン印刷を行う。   Pattern printing is performed by screen printing using the transparent conductive ink prepared in this manner.

パターン印刷を行う基材としては、堅くてもよく(剛性)、曲がり易くてもよい(可撓性)。また、着色されていてもよい。基材としては、たとえばガラス、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、アクリル樹脂、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリオレフィン(シクロオレフィンポリマーを含む)、ポリ塩化ビニル等の材料が挙げられる。これらは、高い全光線透過率と低いヘイズ値を有することが好ましい。屈曲性を有する点では樹脂フィルムであることが好ましい。フィルム厚みは1mm以下であることが好ましく、500μm以下であることがより好ましく、250μm以下であることがさらに好ましく、125μm以下であることが特に好ましい。また、取り扱い性の点から10μm以上であることが好ましく、18μm以上であることがより好ましく、25μm以上であることがさらに好ましく、38μm以上であることが特に好ましい。上述の基材の中でも、優れた光透過性や柔軟性、機械的特性などの点からポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーを用いることが好ましい。シクロオレフィンポリマーとしては、ノルボルネンの水素化開環メタセシス重合型シクロオレフィンポリマー(ZEONOR(登録商標、日本ゼオン社製)、ZEONEX(登録商標、日本ゼオン社製)、ARTON(登録商標、JSR社製)等)やノルボルネン/エチレン付加共重合型シクロオレフィンポリマー(APEL(登録商標、三井化学社製)、TOPAS(登録商標、ポリプラスチックス社製))を用いることができる。基材は、更に、TFT素子等の回路が形成されている基板でもよく、カラーフィルター等の機能性材料が形成されていてもよい。また基材は多数積層されていてもよい。   The substrate on which the pattern printing is performed may be rigid (rigid) or flexible (flexible). Moreover, it may be colored. Examples of the substrate include materials such as glass, polyimide, polycarbonate, polyether sulfone, acrylic resin, polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like), polyolefin (including cycloolefin polymer), polyvinyl chloride and the like. Preferably they have high total light transmission and low haze values. It is preferable that it is a resin film in the point which has flexibility. The film thickness is preferably 1 mm or less, more preferably 500 μm or less, still more preferably 250 μm or less, and particularly preferably 125 μm or less. The thickness is preferably 10 μm or more, more preferably 18 μm or more, still more preferably 25 μm or more, and particularly preferably 38 μm or more from the viewpoint of handleability. Among the above-mentioned substrates, it is preferable to use polyethylene terephthalate and cycloolefin polymers from the viewpoint of excellent light transmittance, flexibility, mechanical properties and the like. As the cycloolefin polymer, hydrogenated ring-opening metathesis-polymerized cycloolefin polymer of norbornene (ZEONOR (registered trademark, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), ZEONEX (registered trademark, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), ARTON (registered trademark, manufactured by JSR Corporation) And norbornene / ethylene addition copolymer type cycloolefin polymer (APEL (registered trademark, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), TOPAS (registered trademark, manufactured by Polyplastics)) can be used. The substrate may further be a substrate on which a circuit such as a TFT element is formed, or a functional material such as a color filter may be formed. Moreover, many base materials may be laminated.

透明導電性インクの基材への塗布量は、用途により求められる透明導電性パターンの膜厚を勘案して決定される。膜厚は、用途に基づいて選択される。所望の膜厚は、透明導電性インクの塗布量及び塗布方法の条件を調整することにより得られる。膜厚は、低い表面抵抗の観点からは厚いほど良く、段差による表示不良の発生を抑制する観点からは薄いほど良いことから、これらを総合的に勘案すると、5〜500nmの膜厚が好ましく、5〜200nmの膜厚がより好ましく、5〜100nmの膜厚がさらに好ましい。   The application amount of the transparent conductive ink to the substrate is determined in consideration of the film thickness of the transparent conductive pattern determined by the application. The film thickness is selected based on the application. The desired film thickness can be obtained by adjusting the application amount of the transparent conductive ink and the conditions of the application method. The film thickness is preferably as thick as possible from the viewpoint of low surface resistance, and as thin as possible from the viewpoint of suppressing the occurrence of display defects due to step differences, a film thickness of 5 to 500 nm is preferable in comprehensive consideration of these A film thickness of 5 to 200 nm is more preferable, and a film thickness of 5 to 100 nm is more preferable.

印刷(塗布)した透明導電性インクは、必要に応じて塗布物を加熱処理して乾燥させる。加熱温度は、分散媒を構成する液状成分によっても異なるが、乾燥温度が高すぎると形成したパターンが保持できないことがある。そのため、乾燥温度は高くとも120℃以下、より好ましくは100℃以下である。特に最初の乾燥温度は重要であるので、40〜80℃程度から乾燥を開始し必要に応じて段階的に120℃を超えない範囲で昇温することが特に好ましい。粘稠な液体の形状保持材は概して沸点が高く、形状保持材よりも低沸点の粘度調整溶媒が分散媒に共存する場合低沸点の粘度調整溶媒が優先的に留去されることになる。そのため乾燥により分散媒の粘度は上昇する方向となり、乾燥時の印刷パターンの崩れが抑制される。   The printed (coated) transparent conductive ink is heat-treated and dried as needed. The heating temperature varies depending on the liquid component constituting the dispersion medium, but when the drying temperature is too high, the formed pattern may not be maintained. Therefore, the drying temperature is at most 120 ° C. or less, more preferably 100 ° C. or less. In particular, since the initial drying temperature is important, it is particularly preferable to start the drying from about 40 to 80 ° C. and to raise the temperature stepwise not exceeding 120 ° C. as necessary. The viscous liquid shape-retaining material generally has a high boiling point, and when a viscosity-adjusting solvent having a boiling point lower than that of the shape-retaining material coexists in the dispersion medium, the viscosity control solvent having a lower boiling point is preferentially distilled off. Therefore, the viscosity of the dispersion medium increases in the direction of drying, and the collapse of the printing pattern at the time of drying is suppressed.

得られた透明導電性パターンの表面抵抗及び全光線透過率は、その膜厚すなわち組成物の塗布量及び塗布方法の条件の調整、本実施形態にかかる透明導電性インク中の金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブの濃度の調整により、所望の値とすることができる。   The surface resistance and the total light transmittance of the obtained transparent conductive pattern are controlled by adjusting the film thickness, that is, the coating amount of the composition and the conditions of the coating method, metal nanowires or metal nanotubes in the transparent conductive ink according to the present embodiment. The desired value can be obtained by adjusting the concentration of

一般に膜厚が厚いほど、表面抵抗及び全光線透過率は低くなる。また、透明導電性インク中の金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブの濃度が高いほど、表面抵抗及び全光線透過率は低くなる。   Generally, the thicker the film, the lower the surface resistance and the total light transmittance. Also, the higher the concentration of metal nanowires or metal nanotubes in the transparent conductive ink, the lower the surface resistance and the total light transmittance.

上記のようにして得られた塗膜は、表面抵抗の値が5〜1000Ω/□であり、かつ全光線透過率が60%以上であることが好ましく、表面抵抗の値が10〜200Ω/□であり、かつ全光線透過率が80%以上であることがより好ましい。   The coating film obtained as described above preferably has a surface resistance value of 5 to 1000 Ω / □ and a total light transmittance of 60% or more, and a surface resistance value of 10 to 200 Ω / □ More preferably, the total light transmittance is 80% or more.

本実施形態にかかる透明導電性インクは、乾燥するだけでもある程度表面抵抗が低くなるが、より効率的に低くするには、パルス光を照射することが好ましい。   In the transparent conductive ink according to the present embodiment, the surface resistance is lowered to some extent by drying alone, but it is preferable to irradiate pulsed light in order to lower it more efficiently.

本明細書中において「パルス光」とは、光照射期間(照射時間)が短時間の光であり、光照射を複数回繰り返す場合は図2に示すように、第一の光照射期間(on)と第二の光照射期間(on)との間に光が照射されない期間(照射間隔(off))を有する光照射を意味する。図2ではパルス光の光強度が一定であるように示しているが、1回の光照射期間(on)内で光強度が変化してもよい。上記パルス光は、キセノンフラッシュランプ等のフラッシュランプを備える光源から照射される。このような光源を使用して、上記基板に堆積された金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブにパルス光を照射する。n回繰り返し照射する場合は、図2における1サイクル(on+off)をn回反復する。なお、繰り返し照射する場合には、次パルス光照射を行う際に、基材を室温付近まで冷却できるようにするため基材側から冷却することが好ましい。   In the present specification, “pulsed light” is light having a short light irradiation period (irradiation time), and in the case where light irradiation is repeated a plurality of times, as shown in FIG. Between the second light irradiation period (on) and the second light irradiation period (on) (irradiation interval (off)). Although FIG. 2 shows that the light intensity of the pulsed light is constant, the light intensity may change within one light irradiation period (on). The pulsed light is emitted from a light source provided with a flash lamp such as a xenon flash lamp. Using such a light source, pulsed light is applied to the metal nanowires or metal nanotubes deposited on the substrate. In the case of repeating irradiation n times, one cycle (on + off) in FIG. 2 is repeated n times. In the case of repeated irradiation, when performing the next pulse light irradiation, it is preferable to cool from the side of the substrate so that the substrate can be cooled to around room temperature.

また、上記パルス光としては、1pm〜1mの波長範囲の電磁波を使用することができ、好ましくは10nm〜1000μmの波長範囲の電磁波(遠紫外から遠赤外まで)、さらに好ましくは100nm〜2000nmの波長範囲の電磁波を使用することができる。このような電磁波の例としては、ガンマ線、X線、紫外線、可視光、赤外線、マイクロ波、マイクロ波より長波長側の電波等が挙げられる。なお、熱エネルギーへの変換を考えた場合には、あまりに波長が短い場合には、形状保持材、パターン印刷を行う樹脂基材等へのダメージが大きく好ましくない。また、波長が長すぎる場合には効率的に吸収して発熱することが出来ないので好ましくない。従って、波長の範囲としては、前述の波長の中でも特に紫外から赤外の範囲が好ましく、より好ましくは100〜2000nmの範囲の波長である。   Further, as the pulse light, an electromagnetic wave in a wavelength range of 1 pm to 1 m can be used, preferably an electromagnetic wave in a wavelength range of 10 nm to 1000 μm (far ultraviolet to far infrared), more preferably 100 nm to 2000 nm It is possible to use electromagnetic waves in the wavelength range. Examples of such electromagnetic waves include gamma rays, X rays, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, microwaves, radio waves on the longer wavelength side than microwaves, and the like. When conversion to thermal energy is considered, if the wavelength is too short, damage to the shape-retaining material, the resin base material on which pattern printing is performed, and the like are large, which is not preferable. In addition, when the wavelength is too long, it is not preferable because the light can not be efficiently absorbed and generated. Therefore, as a range of wavelength, the range of ultraviolet to infrared is particularly preferable among the above-mentioned wavelengths, and more preferably, the wavelength is in the range of 100 to 2000 nm.

パルス光の1回の照射時間(on)は、光強度にもよるが、20マイクロ秒〜50ミリ秒の範囲が好ましい。20マイクロ秒よりも短いと金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブの焼結が進まず、導電膜の性能向上の効果が低くなる。また、50ミリ秒よりも長いと光劣化、熱劣化により基材へ悪影響を及ぼすことがあり、また金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブが吹き飛びやすくなる。より好ましくは40マイクロ秒〜10ミリ秒である。上記理由により、本実施形態では連続光ではなくパルス光を用いる。パルス光の照射は単発で実施しても効果はあるが、上記の通り繰り返し実施することもできる。繰返し実施する場合照射間隔(off)は生産性を考慮すると20マイクロ秒〜5秒、より好ましくは2ミリ秒〜2秒の範囲とすることが好ましい。20マイクロ秒よりも短いと、連続光に近くになってしまい、一回の照射後に放冷される間も無く照射されるので、基材が加熱され温度が高くなって劣化する可能性がある。また、5秒よりも長いとプロセス時間が長くなるので好ましくない。   The irradiation time (on) of the pulsed light is preferably in the range of 20 microseconds to 50 milliseconds depending on the light intensity. If it is shorter than 20 microseconds, sintering of the metal nanowires or metal nanotubes does not proceed, and the effect of improving the performance of the conductive film becomes low. In addition, if it is longer than 50 milliseconds, light degradation or thermal degradation may adversely affect the substrate, and the metal nanowires or metal nanotubes may be easily blown away. More preferably, it is 40 microseconds to 10 milliseconds. For the above reasons, in the present embodiment, not continuous light but pulsed light is used. Although the pulsed light irradiation may be effective even if it is carried out in a single shot, it may be carried out repeatedly as described above. In the case of repeated implementation, the irradiation interval (off) is preferably in the range of 20 microseconds to 5 seconds, more preferably 2 milliseconds to 2 seconds in consideration of productivity. If it is shorter than 20 microseconds, it will be close to continuous light, and it will be irradiated for a while without being cooled after a single irradiation, so the substrate may be heated and the temperature may be increased to deteriorate. . Moreover, if it is longer than 5 seconds, the process time becomes long, which is not preferable.

本実施形態にかかる透明導電パターンを製造する場合は、適宜な基板上に本実施形態にかかる透明導電性インクを使用して任意の形状(基板全面に形成するベタ状も含む)のパターンを印刷し、加熱処理して乾燥させた後、このパターンにキセノン式のパルス式照射ランプ等を用いて、パルス幅(on)が20マイクロ秒〜50ミリ秒、より好ましくは40マイクロ秒〜10ミリ秒であるパルス光を照射して金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブ相互の交点を接合する。ここで、接合とは、金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブ同士の交点において、ナノワイヤまたはナノチューブの材料(金属)がパルス光を吸収し、交差部分でより効率的に内部発熱を起こすことにより、その部分が熔接されることである。この接合により、交差部分でのナノワイヤまたはナノチューブ間の接続面積が増え表面抵抗を下げることができる。このように、パルス光を照射して金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブの交点を接合することにより、金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブが網目状となった導電層が形成される。このため、透明導電パターンの導電性を向上でき、その表面抵抗値は、10〜800Ω/□となる。なお、金属ナノワイヤまたは金属ナノチューブが形成する網目は、間隔を空けずに密集している状態では好ましくない。間隔を空けないと光の透過率が低下するからである。なお、光照射は大気雰囲気下で実施することができるが、必要に応じて窒素等の不活性雰囲気下や減圧下で実施することもできる。   When manufacturing the transparent conductive pattern according to the present embodiment, a pattern of an arbitrary shape (including a solid shape formed on the entire surface of the substrate) is printed on a suitable substrate using the transparent conductive ink according to the present embodiment Heat-treated and dried, and then the pulse width (on) of the pattern is 20 microseconds to 50 milliseconds, more preferably 40 microseconds to 10 milliseconds, using a xenon type pulse irradiation lamp or the like. The pulse light is irradiated to join the intersection points of the metal nanowires or metal nanotubes. Here, the junction means that the material (metal) of the nanowire or nanotube absorbs pulse light at the intersection of metal nanowires or metal nanotubes, and the internal heat is generated more efficiently at the intersection, thereby welding that portion. It is to be done. This junction can increase the connection area between the nanowires or nanotubes at the intersection and reduce the surface resistance. As described above, by irradiating pulsed light and joining the intersections of the metal nanowires or the metal nanotubes, a conductive layer in which the metal nanowires or the metal nanotubes form a network is formed. For this reason, the conductivity of the transparent conductive pattern can be improved, and the surface resistance value thereof is 10 to 800 Ω / □. In addition, the network which metal nanowire or a metal nanotube forms is unpreferable in the state which is closely packed without spacing. This is because the light transmittance decreases if the interval is not made. The light irradiation can be carried out in the atmosphere, but it can also be carried out in an inert atmosphere such as nitrogen or under reduced pressure as required.

また、パルス光照射後は、透明導電パターンの上部に保護フィルムを貼付し導電膜を保護することが好ましい。   Moreover, after pulsed light irradiation, it is preferable to affix a protective film on the upper part of a transparent conductive pattern, and to protect a conductive film.

前述のパルス光を照射する代わりに乾燥後の塗膜をプレス(加圧)することも有効である。ここで言うプレスとは基材に圧力をかけることを指し、形態としてはどのようなものでも良いが、特に二枚の平板に基材を挟んで押し付ける方法や、円柱状のロールを用いて基材に圧力をかける方式が好ましく、特に後者のロールを用いる方式が圧力を均質にかけることから好ましい。   It is also effective to press the coated film after drying instead of irradiating the above-mentioned pulsed light. The term "press" as used herein refers to applying pressure to the substrate, and any form may be used, but in particular, a method of pressing the substrate between two flat plates and pressing, or using a cylindrical roll, The method of applying pressure to the material is preferable, and in particular, the latter method using a roll is preferable because the pressure is uniformly applied.

加圧ロールにより圧力をかける場合には、線圧が0.1kgf/cm(98Pa・m)以上1000kgf/cm(980kPa・m)以下が好ましく、1kgf/cm(980Pa・m)以上100kgf/cm(98kPa・m)以下がより好ましい。基材の送り速度(ライン速度)も実用的な範囲において適宜選択することができるが、一般には10mm/分以上10000mm/分以下が好ましく、10mm/分以上100m/分以下がより好ましい。早すぎると十分な加圧時間が取れないし、精度よく均一に圧力をかけることも難しくなるからである。また、加圧ロールの本数を増やし、何回も圧着回数を増やし、加圧時間を増やすことにより、金属ナノワイヤの接続を確保することも有用な方法である。また、より強固に密着させるために、プレス時に加熱を行っても良い。   When pressure is applied by a pressure roll, the linear pressure is preferably 0.1 kgf / cm (98 Pa · m) or more and 1000 kgf / cm (980 kPa · m) or less, and 1 kgf / cm (980 Pa · m) or more and 100 kgf / cm (cm) 98 kPa · m) or less is more preferable. The feed speed (line speed) of the substrate can also be appropriately selected within a practical range, but generally 10 mm / min or more and 10000 mm / min or less is preferable, and 10 mm / min or more and 100 m / min or less is more preferable. If it is too early, sufficient pressurizing time can not be obtained, and it becomes difficult to apply pressure accurately and uniformly. In addition, it is also a useful method to secure the connection of the metal nanowires by increasing the number of pressure rolls, increasing the number of times of pressure bonding, and increasing the pressure time. Further, heating may be performed at the time of pressing in order to make the contact more firmly.

通常のプレス装置により平板2枚に挟んで加圧する場合には加圧ロールほど均一に加圧できないために、圧力としては0.1MPa〜200MPa、より好ましくは1MPa〜100MPaが望ましい。   The pressure can not be as uniform as that of a pressure roll when pressing between two flat plates by a normal pressing device, so the pressure is preferably 0.1 MPa to 200 MPa, more preferably 1 MPa to 100 MPa.

また、より強固に密着させるために、加圧時に加熱を行っても良い。加圧することにより体積抵抗率が低下するだけでなく、折り曲げ強度等の機械特性も向上することが出来る。なお圧力については本来高圧であればあるほど体積抵抗率の低下や機械強度の向上には効果があるが、あまりに圧力が高すぎる場合には、加圧装置のコストが非常に高くなってしまうのに反して得られる効果は高くないために、前記上限値が望ましい値である。   Further, heating may be performed at the time of pressurization in order to make the adhesion more firmly. By applying pressure, not only the volume resistivity decreases, but also mechanical properties such as bending strength can be improved. With regard to pressure, the higher the pressure, the more effective the reduction in volume resistivity and the improvement in mechanical strength. However, if the pressure is too high, the cost of the pressurizing device becomes extremely high. The upper limit is a desirable value because the effect obtained against the above is not high.

前記光照射とプレスは、いずれか一方のみを実施してもよいし、両者を併用することもできる。   Only one of the light irradiation and the press may be performed, or both may be used in combination.

以下、本発明の実施例を具体的に説明する。なお、以下の実施例は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。   Examples of the present invention will be specifically described below. The following examples are for the purpose of facilitating the understanding of the present invention, and the present invention is not limited to these examples.

実施例1
<銀ナノワイヤの作製>
ポリビニルピロリドンK−90((株)日本触媒社製)(0.49g)、AgNO(0.52g)及びFeCl(0.4mg)を、エチレングリコール(125ml)に溶解し、150℃で1時間加熱反応した。得られた析出物を遠心分離により単離し、析出物を乾燥して目的の銀ナノワイヤ(平均径36nm、平均長さ20μm)を得た。上記エチレングリコール、AgNO、FeClは和光純薬工業株式会社製である。
Example 1
<Production of silver nanowires>
Polyvinyl pyrrolidone K-90 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) (0.49 g), AgNO 3 (0.52 g) and FeCl 3 (0.4 mg) are dissolved in ethylene glycol (125 ml), 1 at 150 ° C. Heated reaction for time. The resulting precipitate was isolated by centrifugation, and the precipitate was dried to obtain the target silver nanowire (average diameter 36 nm, average length 20 μm). The above ethylene glycol, AgNO 3 and FeCl 3 are manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

<透明導電性インクの作製>
上記150℃で1時間加熱反応して得られた銀ナノワイヤの反応液に、6倍容量のジブチルエーテルを添加して攪拌後、静置してナノワイヤを沈降させた。ナノワイヤの沈降後、デカンテーションにより上澄み液を分離することにより、溶媒置換を行い、銀ナノワイヤを約20質量%含んだジブチルエーテル(粘度調整溶媒)に分散した銀ナノワイヤの懸濁液を得た。
<Preparation of transparent conductive ink>
Six volumes of dibutyl ether were added to the reaction solution of silver nanowires obtained by heat reaction at 150 ° C. for 1 hour, and after stirring, the mixture was allowed to stand to precipitate the nanowires. After settling of the nanowires, solvent substitution was performed by separating the supernatant liquid by decantation to obtain a suspension of silver nanowires dispersed in dibutyl ether (viscosity adjusting solvent) containing about 20% by mass of silver nanowires.

この銀ナノワイヤの懸濁液0.5gに、粘度調整溶媒としてテルピネオール(日本テルペン化学(株)製)6gを加え、良く分散させた後、形状保持材としてテルソルブ MTPH(日本テルペン化学(株)製、イソボルニルシクロヘキサノール)14gを加え、(株)シンキー社製のARV−310を用いてよく分散させて透明導電性インクを得た。   6 g of terpineol (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) as a viscosity control solvent is added to 0.5 g of the suspension of the silver nanowires, and after well dispersed, Tersolve MTPH (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) as a shape-retaining material Then, 14 g of isobornyl cyclohexanol) was added and well dispersed using ARV-310 manufactured by Shinky Co., Ltd. to obtain a transparent conductive ink.

得られたインクは熱重量分析を行い、500℃加熱後の残渣がインク中の銀ナノワイヤであるとして計算した結果、インク中の銀ナノワイヤ濃度は0.5質量%であった。熱重量の分析装置はブルカー・エイックス株式会社製差動型超高温熱天秤TG−DTA galaxy(S)である。   The ink obtained was subjected to thermogravimetric analysis, and the residue after heating at 500 ° C. was calculated to be silver nanowires in the ink. As a result, the concentration of silver nanowires in the ink was 0.5% by mass. The thermogravimetric analyzer is a differential type ultra-high temperature thermal balance TG-DTA galaxy (S) manufactured by Bruker Aix Co., Ltd.

得られたインクはブルックフィールド社製型DV−II+Proを用いて25℃での粘度を測定した。ロータ番号52を用いて測定した粘度は1.5×10mPa・sであった。なお、インク中に含有される銀ナノワイヤ含有量は0.5質量%と少量であるため、このインク粘度は分散媒自体の粘度と略同等であった。The obtained ink was measured for viscosity at 25 ° C. using Brookfield-type DV-II + Pro. The viscosity measured using rotor number 52 was 1.5 × 10 4 mPa · s. Since the content of silver nanowires contained in the ink was as small as 0.5% by mass, the viscosity of the ink was substantially equal to the viscosity of the dispersion medium itself.

<透明導電性インクの印刷>
上記により調製した透明導電性インクを用いて2.5cm角のベタ膜をスクリーン印刷機MT−320TVZ(マイクロテック(株)製)に、丸スキージ(APOLAN International社製丸スキージ、ポリウレタン製、硬度70、厚み9.5mm、曲率半径4.8mm)を装着して印刷(クリアランス:1.0mm、スキージ角度:70°、スキージ速度:100mm/sec、印刷時のスキージ移動距離:15cm、スキージ印圧:0.2MPa、スクレッパ圧:0.15MPa、背圧:0.1MPa)した。また、基材には東レ(株)社ポリエステルフィルム:ルミラー(登録商標)T60(厚み125μm)を用いた。印刷後、熱風循環乾燥機にて100℃−1時間かけて乾燥し透明導電性インクの印刷物を得た。
<Printing of transparent conductive ink>
A solid film of 2.5 cm square was formed into a screen printer MT-320TVZ (manufactured by Microtech Co., Ltd.) using the transparent conductive ink prepared as described above, and a round squeegee (manufactured by APOLAN International, made of polyurethane, polyurethane, hardness 70) , Mounting thickness 9.5mm, radius of curvature 4.8mm) Printing (clearance: 1.0mm, squeegee angle: 70 °, squeegee speed: 100mm / sec, squeegee movement distance at printing: 15cm, squeegee pressure: 0.2 MPa, the scraper pressure: 0.15 MPa, the back pressure: 0.1 MPa). Moreover, Toray Industries, Inc. polyester film: Lumirror (trademark) T60 (125 micrometers in thickness) was used for a base material. After printing, it dried at 100 degreeC -1 hour with a hot-air circulation dryer, and obtained the printed matter of the transparent conductive ink.

<透明導電性インクの印刷物の光焼成>
透明導電性インクの印刷物はNovaCentrix社製光焼成装置PulseForge 3300を用いて、600V、40マイクロ秒のパルス光を単発照射した。
<Light Baking of Printed Material of Transparent Conductive Ink>
The printed matter of the transparent conductive ink was single-shot irradiated with pulsed light of 600 V and 40 microseconds using a light baking apparatus Pulse Forge 3300 manufactured by NovaCentrix.

比較例1
<透明導電性インクの印刷>
丸スキージ(APOLAN International社製丸スキージ、硬度70、曲率半径4.8mm)の代わりに、平スキージ(マイクロ・テック社製マイクロスキージ、ポリウレタン製、硬度70、厚み9mm)を装着した以外は実施例1と同様に印刷した。なお、使用した平スキージの側面図を図4に示す。
Comparative Example 1
<Printing of transparent conductive ink>
Instead of a round squeegee (round squeegee manufactured by APOLAN International, hardness 70, radius of curvature 4.8 mm), an example except that a flat squeegee (micro squeegee manufactured by Micro Tech, polyurethane, hardness 70, thickness 9 mm) was attached It printed similarly to 1. In addition, the side view of the used flat squeegee is shown in FIG.

<透明導電性インクの印刷物の光焼成>
NovaCentrix社製光焼成装置PulseForge 3300を用いて、600V、40マイクロ秒のパルス光を照射した代わりに、同じ装置で600V、50マイクロ秒のパルス光を単発照射した。
<Light Baking of Printed Material of Transparent Conductive Ink>
Using the light baking apparatus PulseForge 3300 manufactured by NovaCentrix, instead of irradiating pulsed light of 600 V and 40 microseconds, single irradiation of pulsed light of 600 V and 50 microseconds was performed using the same apparatus.

<銀ナノワイヤの計測>
上記の通り作製して得られた銀ナノワイヤの平均径及び平均長さ(平均径36nm、平均長さ20μm)は、上記150℃で1時間加熱反応後の銀ナノワイヤの反応液をジブチルエーテルで溶媒置換した銀ナノワイヤの懸濁液の一部をさらにジブチルエーテルで希釈し、ガラス上にキャストし、乾燥後にSEM(株式会社日立製作所製S−5000)にて100本の銀ナノワイヤの径と長さを計測して各々平均値を求めた。
<Measurement of silver nanowires>
The average diameter and average length (average diameter 36 nm, average length 20 μm) of the silver nanowires obtained by preparing as described above are obtained by using dibutyl ether as a solvent for the reaction solution of silver nanowires after heating for 1 hour at 150 ° C. A portion of the suspension of substituted silver nanowires is further diluted with dibutyl ether, cast on glass, and after drying, the diameter and length of 100 silver nanowires by SEM (S-5000 manufactured by Hitachi, Ltd.) Were measured to obtain an average value.

印刷前(印刷回数0回)の銀ナノワイヤの長さは、上記の通り作製して得られた透明導電性インクを少量サンプリングし、メタノールで希釈してガラス上にキャストし、乾燥後にSEM(株式会社日立製作所製S−5000)にて100本の銀ナノワイヤの長さを計測し、その平均値を求めた。   Before printing (the number of times of printing is 0), the length of the silver nanowire is sampled a small amount of the transparent conductive ink obtained as described above, diluted with methanol and cast on glass, and after drying, SEM (stock The length of 100 silver nanowires was measured with the company Hitachi S-5000), and the average value was calculated | required.

また、実施例1及び比較例1の方法により繰り返し200回の印刷を実施し、5、50、100、150、200回印刷直後のスクリーンマスク上のインク及び印刷前のインクを少量サンプリングし、メタノールで希釈してガラス上にキャストし、乾燥後にSEM(株式会社日立製作所製S−5000)にて100本の銀ナノワイヤの長さを計測し、その平均値を5、50、100、150、200回印刷後の銀ナノワイヤの長さとして求めた。   In addition, printing is repeated 200 times by the method of Example 1 and Comparative Example 1, and a small amount of ink on the screen mask immediately after printing 5, 50, 100, 150 and 200 times and ink before printing are sampled, and methanol Diluted and cast on glass, and after drying, measure the length of 100 silver nanowires with SEM (S-5000 manufactured by Hitachi, Ltd.), and average the values 5, 50, 100, 150, 200. It calculated | required as the length of silver nanowire after printing.

表1に印刷前(印刷回数0回)及び5、50、100、150、200回印刷後の銀ナノワイヤの長さを示した。   Table 1 shows the lengths of silver nanowires before printing (0 times of printing) and after 5, 50, 100, 150 and 200 times of printing.

<表面抵抗の測定>
パルス光を照射した後の銀ナノワイヤの堆積層について、三菱化学株式会社製LORESTA−GP MCP−T610 4探針法表面抵抗率、体積抵抗率測定装置を使用して表面抵抗を測定した。測定した結果を表1に示した。測定数は2であり、その平均値を示した。
<Measurement of surface resistance>
About the deposition layer of silver nanowire after irradiating pulsed light, surface resistance was measured using Mitsubishi Chemical Corp. LORESTA-GP MCP-T610 4 probe method surface resistivity, a volume resistivity measuring device. The measured results are shown in Table 1. The number of measurements was 2, and the average value was shown.

<全光線透過率の測定>
日本電色工業(株)製濁度計NDH2000を用いて、全光線透過率を測定した。測定した結果を表1に示した。測定数は2であり、その平均値を示した。
<Measurement of total light transmittance>
The total light transmittance was measured using Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. product turbidity meter NDH2000. The measured results are shown in Table 1. The number of measurements was 2, and the average value was shown.

繰返し印刷に伴いワイヤの長さを比較すると、印刷回数が50回以上で比較例1に対して実施例1の方が約3倍長い状態を維持していること、また表面抵抗が安定推移していることが分かる。また、丸スキージを使用した実施例1ではその他の印刷条件が同じであると平スキージを使用した場合に比べてインクにかかる鉛直方向の力が大きくなりその分印刷膜厚が厚くなり、その結果表面抵抗及び全光線透過率が低くなった。   When the length of the wire is compared with the repeated printing, the condition of Example 1 is maintained about 3 times longer than that of Comparative Example 1 when the number of printing times is 50 or more, and the surface resistance is stably changed. Know that Further, in Example 1 in which a round squeegee is used, when the other printing conditions are the same, the force in the vertical direction applied to the ink becomes larger and the printing film thickness becomes thicker accordingly, as a result. The surface resistance and the total light transmittance decreased.

Figure 2017208924
Figure 2017208924

1 基材、2 スクリーンマスク、3 丸スキージ、4 印刷方向、5 透明導電性インク。   1 substrate, 2 screen mask, 3 circle squeegee, 4 printing direction, 5 transparent conductive ink.

Claims (14)

金属ナノワイヤと金属ナノチューブの少なくとも一方と分散媒を含む透明導電性インクを、スクリーンマスクに接触する先端部が曲面形状を有するスキージを使用してスクリーン印刷することを特徴とする透明導電パターンの形成方法。   A method of forming a transparent conductive pattern comprising: printing a transparent conductive ink containing at least one of metal nanowires and metal nanotubes and a dispersion medium, using a squeegee having a curved shape at the tip contacting the screen mask. . 前記スクリーンマスクに接触するスキージの先端部の曲面の曲率半径が0.1〜20mmである請求項1に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to claim 1, wherein the radius of curvature of the curved surface of the tip of the squeegee in contact with the screen mask is 0.1 to 20 mm. 前記スクリーンマスクに接触するスキージの先端部の曲面の曲率半径が2〜10mmである請求項2に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to claim 2, wherein the radius of curvature of the curved surface of the tip of the squeegee in contact with the screen mask is 2 to 10 mm. 前記スキージの材質が合成ゴム、天然ゴム、金属、プラスチックからなる群から選ばれるいずれかである請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of claims 1 to 3, wherein the material of the squeegee is any one selected from the group consisting of synthetic rubber, natural rubber, metal and plastic. 前記合成ゴムがウレタンゴムまたはシリコーンゴムからなる請求項4に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to claim 4, wherein the synthetic rubber comprises urethane rubber or silicone rubber. スキージ速度を5〜200mm/secとしてスクリーン印刷する請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of claims 1 to 5, wherein screen printing is performed at a squeegee speed of 5 to 200 mm / sec. 前記透明導電性インクが、透明導電性インク総質量に対して、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの総量として0.01〜10質量%含む、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   The transparent according to any one of claims 1 to 6, wherein the transparent conductive ink contains 0.01 to 10% by mass in total of the metal nanowires and the metal nanotubes with respect to the total mass of the transparent conductive ink. Method of forming a conductive pattern. 前記分散媒が、分子量の範囲が150〜500である有機化合物からなる形状保持材を含む請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of claims 1 to 7, wherein the dispersion medium contains a shape-retaining material composed of an organic compound having a molecular weight range of 150 to 500. 前記形状保持材の有機化合物が、単糖類、ポリオール、4級炭素原子及び/または橋かけ環骨格を有するアルキル基と水酸基とを有する化合物のいずれかである請求項8に記載の透明導電パターンの形成方法。   9. The transparent conductive pattern according to claim 8, wherein the organic compound of the shape-retaining material is any of a compound having a monosaccharide, a polyol, an alkyl group having a quaternary carbon atom and / or a bridged ring skeleton and a hydroxyl group. Formation method. 前記形状保持材の有機化合物が、ジグリセリン、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、キシルロース、リブロース、ボルニルシクロヘキサノール、ボルネオール、イソボルニルシクロヘキサノールまたはイソボルネオールのいずれかである請求項9に記載の透明導電パターンの形成方法。   The organic compound of the shape-retaining material is diglycerin, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, xylulose, ribulose, bornyl cyclohexanol, borneol, isobornyl cyclohexanol or isoborneol. The method for forming a transparent conductive pattern according to claim 9, which is any one of the above. 前記分散媒が、形状保持材の粘度を調製する粘度調整溶媒をさらに含む請求項8から請求項10のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of claims 8 to 10, wherein the dispersion medium further comprises a viscosity adjusting solvent for adjusting the viscosity of the shape-retaining material. 前記粘度調整溶媒が、水、アルコール、ケトン、エーテル、脂肪族系炭化水素溶剤及び芳香族系炭化水素溶剤の少なくとも一種である請求項11に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to claim 11, wherein the viscosity adjusting solvent is at least one of water, alcohol, ketone, ether, aliphatic hydrocarbon solvent and aromatic hydrocarbon solvent. 前記粘度調整溶媒のアルコールが、テルピネオールである請求項12に記載の透明導電パターンの形成方法。   The method for forming a transparent conductive pattern according to claim 12, wherein the alcohol of the viscosity adjusting solvent is terpineol. 前記形状保持材の含有量が分散媒総質量に対して10〜90質量%である請求項8から請求項13のいずれか一項に記載の透明導電パターンの形成方法。

The method for forming a transparent conductive pattern according to any one of claims 8 to 13, wherein the content of the shape-retaining material is 10 to 90% by mass with respect to the total mass of the dispersion medium.

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