JPWO2017146187A1 - Oxocarbon compound, resin composition, and ink composition - Google Patents

Oxocarbon compound, resin composition, and ink composition Download PDF

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Abstract

下記式(1)または下記式(2)で表されることを特徴とするオキソカーボン系化合物。

Figure 2017146187

[式(1)および式(2)中、R1〜R4はそれぞれ独立して、下記式(3)で示される構造単位を表す。]
Figure 2017146187

[式(3)中、環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し;R5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成しており;環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。]An oxocarbon compound represented by the following formula (1) or the following formula (2).
Figure 2017146187

[In Formula (1) and Formula (2), R 1 to R 4 each independently represent a structural unit represented by the following Formula (3). ]
Figure 2017146187

[In Formula (3), Ring A is an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, or a substituent containing these ring structures. Each of R 5 to R 7 independently represents a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring. The total number of π electrons contained in the rings A and R 7 is 12 or more. ]

Description

本発明は、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格を有するオキソカーボン系化合物と、これを含む樹脂組成物およびインク組成物に関するものである。   The present invention relates to an oxocarbon-based compound having a squarylium skeleton or a croconium skeleton, and a resin composition and an ink composition containing the oxocarbon-based compound.

スクアリリウム骨格やクロコニウム骨格を化合物中に有するオキソカーボン系化合物は、可視から近赤外領域に吸収域を有する色素として知られており、スクアリン酸やクロコン酸を原料とし、この原料の両端に複素環基を導入することで合成することができる。このようなオキソカーボン系化合物として、例えば以下のような化合物が知られている。   Oxocarbon compounds having a squarylium skeleton or a croconium skeleton in the compound are known as pigments having an absorption range from the visible to the near infrared region, and a raw material is squaric acid or croconic acid. It can be synthesized by introducing a group. As such oxocarbon compounds, for example, the following compounds are known.

特許文献1には、下記に示すスクアリリウム化合物が開示されている(特許文献1の実施例2)。   Patent Document 1 discloses the following squarylium compound (Example 2 of Patent Document 1).

Figure 2017146187
Figure 2017146187

特許文献2には、下記に示すスクアリリウム化合物やクロコニウム化合物が開示されている(特許文献2の実施例14,17)。   Patent Document 2 discloses the following squarylium compounds and croconium compounds (Examples 14 and 17 of Patent Document 2).

Figure 2017146187
Figure 2017146187

Figure 2017146187
Figure 2017146187

特許文献3には、下記に示すスクアリリウム化合物が開示されている(特許文献3の実施例1)。   Patent Document 3 discloses the following squarylium compound (Example 1 of Patent Document 3).

Figure 2017146187
Figure 2017146187

非特許文献1には、下記に示すスクアリリウム化合物が開示されている。   Non-Patent Document 1 discloses the following squarylium compounds.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

非特許文献2には、下記に示すクロコニウム化合物が開示されている。   Non-Patent Document 2 discloses the following croconium compounds.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

近赤外領域に吸収域を有する色素は様々な用途への適用が検討されており、セキュリティインク、近赤外線カットフィルタ等としての利用が期待されている。   A dye having an absorption region in the near infrared region has been studied for various uses, and is expected to be used as a security ink, a near infrared cut filter, and the like.

セキュリティインクは、偽造防止を目的として、紙幣、金券類、有価証券類、宝くじ等に暗号化された情報(バーコード、2次元コード、OCR文字等)を印刷するために用いられたり、物流管理システムの効率化のために、信書や荷物に配送情報等を印刷するのに用いられる。セキュリティインクによって印刷された情報を読み取る手段としては、通常、850nm〜1300nmの範囲に発光波長を有する各種レーザーやLEDなどの発光素子が用いられるため、セキュリティインクに用いられる色素には、このような波長域に強い吸収を有することが求められるとともに、可視光下での不可視性に優れることが求められる。例えば特許文献4,5には、近赤外線吸収色素としてフタロシアニン化合物やナフタロシアニン化合物を含有するインクが開示され、また特許文献6には、900nm前後に極大吸収波長を有するフタロシアニン化合物が開示されている。   Security ink is used to print information (barcode, two-dimensional code, OCR characters, etc.) encrypted on banknotes, vouchers, securities, lottery tickets, etc. for the purpose of preventing counterfeiting, and logistics management Used to print delivery information on letters and parcels for system efficiency. As a means for reading information printed by security ink, since light emitting elements such as various lasers and LEDs having an emission wavelength in the range of 850 nm to 1300 nm are usually used, dyes used for security ink include It is required to have strong absorption in the wavelength region and to be excellent in invisibility under visible light. For example, Patent Documents 4 and 5 disclose an ink containing a phthalocyanine compound or a naphthalocyanine compound as a near infrared absorbing dye, and Patent Document 6 discloses a phthalocyanine compound having a maximum absorption wavelength around 900 nm. .

近赤外線カットフィルタは、例えば、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)等の撮像素子に設置され、これにより、画像処理等の妨げとなる光学ノイズ(例えばゴーストやフレア)を除去することができる。例えば特許文献3には、そのような光学フィルタとして、660nm〜710nmの波長域に極大吸収波長を有するスクアリリウム化合物を含有する近赤外線カットフィルタが開示されている。通常の可視光用の撮像素子の場合、700nm前後の波長域に極大吸収波長を有する色素を含む光学フィルタを設けることで、光学特性の入射角度依存性が低減し、視野角度を改善することができる。   The near-infrared cut filter is installed in an image sensor such as a CCD (Charge Coupled Device) or a CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor), for example, thereby removing optical noise (for example, ghost or flare) that hinders image processing. Can be removed. For example, Patent Document 3 discloses a near-infrared cut filter containing a squarylium compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 660 nm to 710 nm as such an optical filter. In the case of a normal visible light image sensor, by providing an optical filter including a dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength region around 700 nm, the dependency of the optical characteristics on the incident angle can be reduced and the viewing angle can be improved. it can.

一方、撮像素子には、一般的なデジタルカメラやビデオカメラ等以外に、監視カメラ等、暗視下での撮影が求められるものもある。夜間などの暗視下での撮影は、人の目では見えない状態での撮影となるので、例えば、近赤外領域の光線を照射して、その反射光を撮像素子で受光することにより行う。暗視用の撮像素子においても、通常の可視光用の撮像素子と同様に、光学特性の入射角度依存性を低減することが求められるが、暗視用の撮像素子では、可視光用の近赤外線カットフィルタを用いても入射角度依存性を低減することは難しく、例えば800nm〜1000nmの範囲内で所望の波長域の光線を吸収するカットフィルタを設ける必要がある。この場合もまた、このような波長域に強い吸収を有するとともに、可視光領域での光線透過率の高い色素をフィルタに含有させることが求められ、これにより可視光下と暗視下の両方で良好な画像撮影が可能となる。   On the other hand, in addition to general digital cameras and video cameras, some imaging devices are required to shoot under night vision, such as surveillance cameras. Shooting under night vision such as at night is performed in a state invisible to the human eye. For example, it is performed by irradiating a light beam in the near infrared region and receiving the reflected light with an imaging device. . Even in a night vision image sensor, it is required to reduce the incident angle dependency of optical characteristics as in a normal visible light image sensor. Even when an infrared cut filter is used, it is difficult to reduce the incident angle dependency. For example, it is necessary to provide a cut filter that absorbs light in a desired wavelength range within a range of 800 nm to 1000 nm. In this case as well, it is required that the filter contains a dye having a strong absorption in such a wavelength region and having a high light transmittance in the visible light region, so that both under visible light and under night vision. A good image can be taken.

特開2008−308602号公報JP 2008-308602 A 特開平6−25165号公報JP-A-6-25165 特開2014−148567号公報JP 2014-148567 A 特開平7−164729号公報JP 7-164729 A 特開2002−309131号公報JP 2002-309131 A 特開2007−56105号公報JP 2007-56105 A

Tetrahedron Letters, vol.40, p.4067-4068 (1999)Tetrahedron Letters, vol.40, p.4067-4068 (1999) Tetrahedron Letters, vol.43, p.8391-8393 (2002)Tetrahedron Letters, vol.43, p.8391-8393 (2002)

近赤外吸収色素は、上記に説明したように、セキュリティインクや近赤外線カットフィルタ等への適用が検討されているが、その適用範囲をさらに拡大するために、例えば850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収できる色素が求められている。しかし、スクアリリウム化合物やクロコニウム化合物といったオキソカーボン系化合物では、これまでそのような長波長域の光線を吸収できるものは知られていなかった。一方、フタロシアニン化合物では、特許文献6に開示されるように、900nm前後の波長域の光線を吸収できるものが知られているが、可視光領域の光線を吸収し、例えば緑色に着色するなど、不可視性の点で改善の余地があった。   As described above, the application of near-infrared absorbing dyes to security inks, near-infrared cut filters, and the like has been studied, but in order to further expand the application range, for example, light rays having a wavelength range exceeding 850 nm. There is a need for dyes that can effectively absorb the above. However, no oxocarbon compounds such as squarylium compounds and croconium compounds have been known so far that can absorb light in such a long wavelength region. On the other hand, as disclosed in Patent Document 6, phthalocyanine compounds are known that can absorb light in the wavelength region around 900 nm, but absorb light in the visible light region, for example, color green, There was room for improvement in terms of invisibility.

本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、より長波長側の近赤外線を吸収でき、可視光領域の光線透過率の高いオキソカーボン系化合物と、これを含む樹脂組成物およびインク組成物を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to absorb near-infrared rays on the longer wavelength side and to have a high light transmittance in the visible light region, and a resin composition containing the same. And providing an ink composition.

前記課題を解決することができた本発明のオキソカーボン系化合物とは、下記式(1)または下記式(2)で表されるところに特徴を有する。   The oxocarbon compound of the present invention that has solved the above-described problems is characterized by being represented by the following formula (1) or the following formula (2).

Figure 2017146187

[式(1)および式(2)中、R1〜R4はそれぞれ独立して、下記式(3)で表される構造単位を表す。]
Figure 2017146187

[In Formula (1) and Formula (2), R 1 to R 4 each independently represent a structural unit represented by the following Formula (3). ]

Figure 2017146187

[式(3)中、環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し;R5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成しており;*は式(1)中の4員環または式(2)中の5員環との結合部位を表し;環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。]
Figure 2017146187

[In Formula (3), Ring A is an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, or a substituent containing these ring structures. Each of R 5 to R 7 independently represents a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring. * Represents a bonding site with a 4-membered ring in formula (1) or a 5-membered ring in formula (2); the total number of π electrons contained in rings A and R 7 is 12 or more is there. ]

本発明のオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格から式(3)で示される構造単位にかけてπ電子系が広がって構成され、式(3)の構造単位中の環Aと置換基R7に含まれるπ電子の合計数が12個以上となっているため、より長波長側の近赤外線を吸収することができ、例えば850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収することができる。一方、オキソカーボン系化合物そのものは、可視光領域の光線透過率が高くなるため、可視光下での不可視性に優れるものとなる。The oxocarbon-based compound of the present invention has a π-electron system extending from the squarylium skeleton or the croconium skeleton to the structural unit represented by the formula (3), and the ring A and the substituent R 7 in the structural unit of the formula (3). Since the total number of π electrons contained in is 12 or more, it is possible to absorb near-infrared rays on the longer wavelength side, for example, to effectively absorb light in a wavelength region exceeding 850 nm. On the other hand, the oxocarbon-based compound itself has a high light transmittance in the visible light region, and therefore has excellent invisibility under visible light.

式(3)中、R5とR6は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基を表すか、R5とR6が互いに連結して形成された、置換基および/または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および/または縮合環構造を有していてもよい複素環を表すことが好ましく、R7は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよいアリール基を表すことが好ましい。In formula (3), R 5 and R 6 each independently have a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or a substituent. Represents an aralkyl group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, or an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, or R 5 and R 6 are connected to each other. R 7 is preferably a hydrocarbon ring that may have a substituent and / or a condensed ring structure, or a heterocyclic ring that may have a substituent and / or a condensed ring structure, , A hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent is preferable.

本発明は、本発明のオキソカーボン系化合物と樹脂成分とを含む樹脂組成物も提供する。樹脂組成物は、さらに液媒体を含んでいてもよい。本発明の樹脂組成物は、フィルムに成形したりすることで、例えば暗視用撮像素子の光学フィルタに好適に適用することができるとともに、可視光領域の透過率が高いため、可視光下で使用する撮像素子に対しても好適に適用することができる。本発明の樹脂組成物は、レーザー溶着法による樹脂の溶着に適用することもでき、例えば溶着対象となる樹脂に含ませて用いたり、レーザー光の吸収体として用いることができる。   The present invention also provides a resin composition comprising the oxocarbon compound of the present invention and a resin component. The resin composition may further contain a liquid medium. The resin composition of the present invention can be suitably applied to, for example, an optical filter of an imaging device for night vision by being molded into a film, and has a high transmittance in the visible light region, so that it can be used under visible light. The present invention can also be suitably applied to an image sensor to be used. The resin composition of the present invention can also be applied to welding of a resin by a laser welding method. For example, the resin composition can be used by being included in a resin to be welded or used as an absorber of laser light.

本発明は、本発明のオキソカーボン系化合物と液媒体とを含むインク組成物も提供する。本発明のインク組成物は、近赤外領域の光線を吸収するとともに、可視光下での不可視性に優れるものとなるため、セキュリティインクとして好適に用いることができる。   The present invention also provides an ink composition comprising the oxocarbon compound of the present invention and a liquid medium. Since the ink composition of the present invention absorbs light in the near-infrared region and is excellent in invisibility under visible light, it can be suitably used as a security ink.

本発明はさらに、下記式(5)で表される縮合複素環化合物や、下記式(5)で表される縮合複素環化合物をスクアリン酸またはクロコン酸と反応させ、上記式(1)または上記式(2)で表されるオキソカーボン系化合物を得る工程を有するオキソカーボン系化合物の製造方法も提供する。下記式(5)で表される縮合複素環化合物は、本発明のオキソカーボン系化合物の製造原料として好適に用いることができる。   In the present invention, the condensed heterocyclic compound represented by the following formula (5) or the condensed heterocyclic compound represented by the following formula (5) is further reacted with squaric acid or croconic acid, and the above formula (1) or the above There is also provided a method for producing an oxocarbon compound having a step of obtaining an oxocarbon compound represented by the formula (2). The condensed heterocyclic compound represented by the following formula (5) can be suitably used as a raw material for producing the oxocarbon compound of the present invention.

Figure 2017146187

[式(5)中、環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し;R5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成しており;環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。]
Figure 2017146187

[In Formula (5), Ring A is an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocycle which may have a substituent, or a substituent containing these ring structures. Each of R 5 to R 7 independently represents a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring. The total number of π electrons contained in the rings A and R 7 is 12 or more. ]

本発明のオキソカーボン系化合物およびこれを含む樹脂組成物およびインク組成物は、より長波長側の近赤外線を吸収することができ、例えば850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収することができるとともに、可視光領域の光線透過率が高く、可視光下での不可視性に優れるものとなる。   The oxocarbon-based compound of the present invention and the resin composition and ink composition containing the same can absorb near-infrared rays on the longer wavelength side, and can effectively absorb, for example, light in a wavelength region exceeding 850 nm. In addition, the light transmittance in the visible light region is high and the invisibility under visible light is excellent.

実施例で用いたクロコニウム化合物1と比較クロコニウム化合物1と比較フタロシアニン化合物1の各透過スペクトルを表す。The transmission spectra of the croconium compound 1, the comparative croconium compound 1, and the comparative phthalocyanine compound 1 used in the examples are shown.

〔1.オキソカーボン系化合物〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格を有する下記式(1)またはクロコニウム骨格を有する下記式(2)で表されるものである。
[1. Oxocarbon compounds
The oxocarbon-based compound of the present invention is represented by the following formula (1) having a squarylium skeleton or the following formula (2) having a croconium skeleton.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

式(1)および式(2)中、R1〜R4はそれぞれ独立して、下記式(3)で示される構造単位を表す。In formula (1) and formula (2), R 1 to R 4 each independently represents a structural unit represented by the following formula (3).

Figure 2017146187
Figure 2017146187

式(3)中、環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し、R5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成しており、*は式(1)中の4員環または式(2)中の5員環との結合部位を表し、環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。In formula (3), ring A represents an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, or a substituent containing these ring structures. R 5 to R 7 each independently represents a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring. * Represents a bonding site with the 4-membered ring in formula (1) or the 5-membered ring in formula (2), and the total number of π electrons contained in rings A and R 7 is 12 or more. .

式(1)および式(2)において、R1とR2は同一または異なっていてもよく、R3とR4は同一または異なっていてもよい。R1とR2が異なる場合またはR3とR4が異なる場合は、オキソカーボン系化合物の分子どうしの会合や凝集が抑制され、溶剤や樹脂に対する溶解性の向上が期待できる。一方、R1とR2が同一の場合またはR3とR4が同一の場合は、オキソカーボン系化合物の熱や光に対する耐久性の向上が期待できる。In Formula (1) and Formula (2), R 1 and R 2 may be the same or different, and R 3 and R 4 may be the same or different. When R 1 and R 2 are different, or R 3 and R 4 are different, association and aggregation of molecules of the oxocarbon compound are suppressed, and improvement in solubility in solvents and resins can be expected. On the other hand, when R 1 and R 2 are the same or when R 3 and R 4 are the same, an improvement in durability of the oxocarbon-based compound against heat and light can be expected.

スクアリリウム骨格を有する化合物(以下、「スクアリリウム化合物」と称する)とクロコニウム骨格を有する化合物(以下、「クロコニウム化合物」と称する)には、それぞれ、共鳴関係にある化合物が存在している場合がある。式(1)のスクアリリウム化合物と共鳴関係にある化合物としては、例えば、下記式(1a),(1b)で表される化合物が挙げられる。式(2)のクロコニウム化合物と共鳴関係にある化合物としては、例えば、下記式(2a)〜(2c)で表される化合物が挙げられる。本発明のオキソカーボン系化合物はこれら全ての共鳴関係にある化合物を含むものとし、具体的には、式(1)のスクアリリウム化合物には、下記式(1a),(1b)で表されるような共鳴関係にある化合物が含まれ、式(2)のクロコニウム化合物には、下記式(2a)〜(2c)で表されるような共鳴関係にある化合物も含まれる。   In some cases, a compound having a squarylium skeleton (hereinafter referred to as “squarylium compound”) and a compound having a croconium skeleton (hereinafter referred to as “croconium compound”) each have a compound having a resonance relationship. Examples of the compound having a resonance relationship with the squarylium compound of the formula (1) include compounds represented by the following formulas (1a) and (1b). Examples of the compound having a resonance relationship with the croconium compound of the formula (2) include compounds represented by the following formulas (2a) to (2c). The oxocarbon-based compound of the present invention includes all these resonance-relevant compounds. Specifically, the squarylium compound of the formula (1) is represented by the following formulas (1a) and (1b). Compounds having a resonance relationship are included, and the croconium compound of the formula (2) includes compounds having a resonance relationship as represented by the following formulas (2a) to (2c).

Figure 2017146187
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Figure 2017146187
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スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格に結合する式(3)で示される構造単位において、*は式(1)で示されるスクアリリウム骨格の4員環または式(2)で示されるクロコニウム骨格の5員環との結合部位を表している。   In the structural unit represented by the formula (3) bonded to the squarylium skeleton or the croconium skeleton, * represents a 4-membered ring of the squarylium skeleton represented by the formula (1) or a 5-membered ring of the croconium skeleton represented by the formula (2). Represents the binding site.

本発明のオキソカーボン系化合物は、環Aと置換基R7に含まれるπ電子の合計数が12個以上となっている。このようにπ電子系が形成されることにより、オキソカーボン系化合物は、より長波長側の近赤外線を効果的に吸収することができ、例えば850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収することができる。一方、オキソカーボン系化合物は、可視光領域の光線透過率が高いため、可視光下での不可視性に優れるものとなる。なお、本発明のオキソカーボン系化合物が850nmを超える波長域の光線を吸収する場合、850nmを超える全波長域の光線を吸収する必要はなく、例えば850nm〜1300nmの波長範囲の一部の波長域の光線を一定程度吸収できるものであればよい。In the oxocarbon compound of the present invention, the total number of π electrons contained in the ring A and the substituent R 7 is 12 or more. By forming a π-electron system in this way, the oxocarbon-based compound can effectively absorb near-infrared rays on the longer wavelength side, for example, effectively absorbing light in a wavelength region exceeding 850 nm. be able to. On the other hand, an oxocarbon-based compound has a high light transmittance in the visible light region, and therefore has excellent invisibility under visible light. In addition, when the oxocarbon-based compound of the present invention absorbs light in a wavelength region exceeding 850 nm, it is not necessary to absorb light in the entire wavelength region exceeding 850 nm, for example, a partial wavelength region in the wavelength range of 850 nm to 1300 nm. As long as the light beam can be absorbed to a certain extent, it is sufficient.

式(3)中、環Aは、芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの環構造を含む縮合環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。オキソカーボン系化合物は、環Aを有することにより、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格からピロール環を介して環Aにかけてπ電子系が広い範囲に広がって形成され、吸収波長の長波長化を実現できる。   In formula (3), ring A represents an aromatic hydrocarbon ring, an aromatic heterocycle or a condensed ring containing these ring structures, and these rings may have a substituent. Since the oxocarbon-based compound has the ring A, the π-electron system is formed in a wide range from the squarylium skeleton or the croconium skeleton to the ring A through the pyrrole ring, and the absorption wavelength can be increased.

環Aの芳香族炭化水素環は、炭素原子と水素原子から構成され、芳香族性を有する環構造であれば特に限定されず、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、テトラセン環、フルオランテン環、ベンゾフルオランテン環、シクロテトラデカヘプタエン環等が挙げられる。芳香族炭化水素環は、環構造を1個のみ有するものであってもよく、2個以上の環構造が縮合したものであってもよい。環Aの芳香族複素環は、N(窒素原子)、O(酸素原子)およびS(硫黄原子)から選ばれる1種以上の原子を環構造に含み、芳香族性を有するものであれば特に限定されず、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。芳香族複素環は、環構造を1個のみ有するものであってもよく、2個以上の環構造が縮合したものであってもよい。これらの環構造を含む縮合環は、芳香族炭化水素環と芳香族複素環とが縮環した構造を有するものであり、例えば、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環等が挙げられる。これらの環構造は、任意の位置で式(3)中のピロール環と縮環していればよい。   The aromatic hydrocarbon ring of ring A is not particularly limited as long as it is composed of a carbon atom and a hydrogen atom and has an aromatic property. For example, a benzene ring, naphthalene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, tetracene ring Fluoranthene ring, benzofluoranthene ring, cyclotetradecaheptaene ring and the like. The aromatic hydrocarbon ring may have only one ring structure or may be a condensation of two or more ring structures. The aromatic heterocycle of ring A is particularly suitable if it contains one or more atoms selected from N (nitrogen atom), O (oxygen atom) and S (sulfur atom) in the ring structure and has aromaticity. Although not limited, For example, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a purine ring, a pteridine ring, etc. are mentioned. The aromatic heterocycle may have only one ring structure, or may be a condensation of two or more ring structures. The condensed ring containing these ring structures has a structure in which an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle are condensed. For example, an indole ring, an isoindole ring, a benzimidazole ring, a quinoline ring, a benzopyran ring , Acridine ring, xanthene ring, carbazole ring and the like. These ring structures should just be condensed with the pyrrole ring in Formula (3) in arbitrary positions.

環Aに含まれるπ電子の数、すなわち上記の芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの環構造を含む縮合環に含まれるπ電子の数は特に限定されず、例えば4個以上であってもよく、6個以上であってもよい。なお、オキソカーボン系化合物のπ電子系を距離的により広い範囲に広げて、吸収波長の長波長化を図りやすくする点から、環Aに含まれるπ電子の数は10個以上が好ましく、12個以上がより好ましく、14個以上がさらに好ましく、16個以上がさらにより好ましい。一方、環Aに含まれるπ電子数の上限は特に限定されないが、オキソカーボン系化合物の製造容易性や溶剤溶解性を考慮すると、環Aに含まれるπ電子数は、26個以下が好ましく、24個以下がより好ましく、22個以下がさらに好ましい。なお、環Aに含まれるπ電子数とは、環Aとピロール環とが共有する炭素−炭素結合のπ電子を含む数である。   The number of π electrons contained in ring A, that is, the number of π electrons contained in the above aromatic hydrocarbon ring, aromatic heterocyclic ring or condensed ring containing these ring structures is not particularly limited. There may be six or more. Note that the number of π electrons contained in the ring A is preferably 10 or more from the viewpoint that the π-electron system of the oxocarbon-based compound is spread over a wider range and the absorption wavelength is easily increased. The number is more preferably 14, more preferably 14 or more, and even more preferably 16 or more. On the other hand, the upper limit of the number of π electrons contained in ring A is not particularly limited, but considering the ease of production of oxocarbon compounds and solvent solubility, the number of π electrons contained in ring A is preferably 26 or less, 24 or less is more preferable, and 22 or less is more preferable. The number of π electrons contained in ring A is a number including π electrons of a carbon-carbon bond shared by ring A and the pyrrole ring.

環Aが有していてもよい置換基(以下、「置換基X」と称する)としては、有機基または極性官能基が挙げられる。置換基Xの有機基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基(アルキルチオ基)、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオオキシ基(アリールチオ基)、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリール基、アミド基、スルホンアミド基、エチレン含有基、イミン含有基、カルボキシ基(カルボン酸基)、ベンゾチアゾール基、ハロゲノアルキル基、シアノ基等が挙げられる。置換基Xの極性官能基としては、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基(スルホン酸基)等が挙げられる。   Examples of the substituent that ring A may have (hereinafter referred to as “substituent X”) include an organic group or a polar functional group. Examples of the organic group of the substituent X include an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthiooxy group (alkylthio group), an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an aryl group, an aralkyl group, an aryloxy group, and an arylthiooxy group (arylthio group). ), Aryloxycarbonyl group, arylsulfonyl group, arylsulfinyl group, heteroaryl group, amide group, sulfonamide group, ethylene-containing group, imine-containing group, carboxy group (carboxylic acid group), benzothiazole group, halogenoalkyl group, A cyano group etc. are mentioned. Examples of the polar functional group of the substituent X include a halogeno group, a hydroxyl group, a nitro group, an amino group, and a sulfo group (sulfonic acid group).

前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の脂環式アルキル基;等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜6であり、特に脂環式アルキル基の場合には3以上が好ましい。前記アルキル基は置換基を有していてもよく、アルキル基が有する置換基としては、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group. A linear or branched alkyl group such as a group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, icosyl group; cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, And alicyclic alkyl groups such as a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, and a cyclodecyl group; 1-20 are preferable, as for carbon number of an alkyl group, More preferably, it is 1-10, More preferably, it is 1-6, and 3 or more are preferable especially in the case of an alicyclic alkyl group. The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent that the alkyl group has include a halogeno group, a hydroxyl group, a carboxy group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group, an amino group, and a sulfo group.

前記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5である。前記アルコキシ基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。   Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, an undecyloxy group, and a dodecyloxy group. A tridecyloxy group, a tetradecyloxy group, a pentadecyloxy group, a hexadecyloxy group, a heptadecyloxy group, an octadecyloxy group, a nonadecyloxy group, an icosyloxy group, and the like. 1-20 are preferable, as for carbon number of an alkoxy group, More preferably, it is 1-10, More preferably, it is 1-5. The alkyl group in the alkoxy group may be linear or branched.

前記アルキルチオオキシ基(アルキルチオ基)としては、例えば、メチルチオオキシ基(メチルチオ基)、エチルチオオキシ基(エチルチオ基)、プロピルチオオキシ基(プロピルチオ基)、ブチルチオオキシ基(ブチルチオ基)、ペンチルチオオキシ基(ペンチルチオ基)、ヘキシルチオオキシ基(ヘキシルチオ基)、ヘプチルチオオキシ基(ヘプチルチオ基)、オクチルチオオキシ基(オクチルチオ基)、ノニルチオオキシ基(ノニルチオ基)、デシルチオオキシ基(デシルチオ基)、ウンデシルチオオキシ基(ウンデシルチオ基)、ドデシルチオオキシ基(ドデシルチオ基)、トリデシルチオオキシ基(トリデシルチオ基)、テトラデシルチオオキシ基(テトラデシルチオ基)、ペンタデシルチオオキシ基(ペンタデシルチオ基)、ヘキサデシルチオオキシ基(ヘキサデシルチオ基)、ヘプタデシルチオオキシ基(ヘプタデシルチオ基)、オクタデシルチオオキシ基(オクタデシルチオ基)、ノナデシルチオオキシ基(ノナデシルチオ基)、イコシルチオオキシ基(イコシルチオ基)等が挙げられる。アルキルチオオキシ基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5である。前記アルキルチオオキシ基中のアルキル基は、直鎖状であってもよいし分岐状であってもよい。   Examples of the alkylthiooxy group (alkylthio group) include a methylthiooxy group (methylthio group), an ethylthiooxy group (ethylthio group), a propylthiooxy group (propylthio group), a butylthiooxy group (butylthio group), and pentylthio. Oxy group (pentylthio group), hexylthiooxy group (hexylthio group), heptylthiooxy group (heptylthio group), octylthiooxy group (octylthio group), nonylthiooxy group (nonylthio group), decylthiooxy group (decylthio group) ), Undecylthiooxy group (undecylthio group), dodecylthiooxy group (dodecylthio group), tridecylthiooxy group (tridecylthio group), tetradecylthiooxy group (tetradecylthio group), pentadecylthiooxy group (penta Decylthio group), f Sadecylthiooxy group (hexadecylthio group), heptadecylthiooxy group (heptadecylthio group), octadecylthiooxy group (octadecylthio group), nonadecylthiooxy group (nonadecylthio group), icosylthiooxy group (icosylthio group), etc. Is mentioned. 1-20 are preferable, as for carbon number of an alkylthiooxy group, More preferably, it is 1-10, More preferably, it is 1-5. The alkyl group in the alkylthiooxy group may be linear or branched.

前記アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基等の無置換アルコキシカルボニル基の他、トリフルオロメチルオキシカルボニル基等の置換アルコキシカルボニル基が挙げられる。ここで置換基としては、ハロゲノ基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、2〜20が好ましく、より好ましくは2〜10であり、さらに好ましくは2〜5である。前記アルコキシカルボニル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。   Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, a heptyloxycarbonyl group, an octyloxycarbonyl group, a decyloxycarbonyl group, In addition to unsubstituted alkoxycarbonyl groups such as octadecyloxycarbonyl group, substituted alkoxycarbonyl groups such as trifluoromethyloxycarbonyl group can be mentioned. Here, examples of the substituent include a halogeno group. 2-20 are preferable, as for carbon number of an alkoxycarbonyl group, More preferably, it is 2-10, More preferably, it is 2-5. The alkyl group in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched.

前記アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基の置換または無置換のアルキルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5である。前記アルキルスルホニル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよく環状であってもよい。   Examples of the alkylsulfonyl group include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group, a cyclohexylsulfonyl group, a 2-ethylhexylsulfonyl group, an octylsulfonyl group, and a methoxymethylsulfonyl. Group, a cyanomethylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group of a trifluoromethylsulfonyl group, and the like. 1-20 are preferable, as for carbon number of an alkylsulfonyl group, More preferably, it is 1-10, More preferably, it is 1-5. The alkyl group in the alkylsulfonyl group may be linear, branched or cyclic.

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基、アズレニル基、フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ペンタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、アセナフチレニル基、フェナレニル基等が挙げられる。アリール基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。前記アリール基は置換基を有していてもよく、アリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, an indenyl group, an azulenyl group, a fluorenyl group, a terphenyl group, a quarterphenyl group, a pentarenyl group, a heptaenyl group, and a biphenylenyl group. Group, indacenyl group, acenaphthylenyl group, phenalenyl group and the like. 6-25 are preferable and, as for carbon number of an aryl group, More preferably, it is 6-15. The aryl group may have a substituent, and examples of the substituent of the aryl group include an alkyl group, an alkoxy group, a halogeno group, a halogenoalkyl group, a cyano group, a nitro group, a thiocyanate group, an acyl group, and an alkoxycarbonyl group. Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfo group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group and the like.

前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基等が挙げられる。前記アラルキル基は置換基を有していてもよく、アラルキル基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。アラルキル基の炭素数は、7〜25が好ましく、より好ましくは7〜15である。   Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, and a phenylpentyl group. The aralkyl group may have a substituent, and examples of the substituent that the aralkyl group has include an alkyl group, an alkoxy group, a halogeno group, a halogenoalkyl group, a cyano group, a nitro group, a thiocyanate group, an acyl group, and an alkoxycarbonyl group. Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfo group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group and the like. 7-25 are preferable and, as for carbon number of an aralkyl group, 7-15 are more preferable.

前記アリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、ビフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基、ピレニルオキシ基、インデニルオキシ基、アズレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ターフェニルオキシ基、クオーターフェニルオキシ基、ペンタレニルオキシ基、ヘプタレニルオキシ基、ビフェニレニルオキシ基、インダセニルオキシ基、アセナフチレニルオキシ基、フェナレニルオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。   Examples of the aryloxy group include phenyloxy group, biphenyloxy group, naphthyloxy group, anthryloxy group, phenanthryloxy group, pyrenyloxy group, indenyloxy group, azulenyloxy group, fluorenyloxy group, Examples include a phenyloxy group, a quarterphenyloxy group, a pentarenyloxy group, a heptaenyloxy group, a biphenylenyloxy group, an indacenyloxy group, an acenaphthylenyloxy group, and a phenalenyloxy group. 6-25 are preferable and, as for carbon number of an aryloxy group, More preferably, it is 6-15.

前記アリールチオオキシ基(アリールチオ基)としては、例えば、フェニルチオオキシ基、ビフェニルチオオキシ基、ナフチルチオオキシ基、アントリルチオオキシ基、フェナントリルチオオキシ基、ピレニルチオオキシ基、インデニルチオオキシ基、アズレニルチオオキシ基、フルオレニルチオオキシ基、ターフェニルチオオキシ基、クオーターフェニルチオオキシ基、ペンタレニルチオオキシ基、ヘプタレニルチオオキシ基、ビフェニレニルチオオキシ基、インダセニルチオオキシ基、アセナフチレニルチオオキシ基、フェナレニルチオオキシ基等が挙げられる。アリールチオオキシ基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。   Examples of the arylthiooxy group (arylthio group) include a phenylthiooxy group, a biphenylthiooxy group, a naphthylthiooxy group, an anthrylthiooxy group, a phenanthrylthiooxy group, a pyrenylthiooxy group, and an indenylthio group. Oxy group, azulenylthiooxy group, fluorenylthiooxy group, terphenylthiooxy group, quarterphenylthiooxy group, pentarenylthiooxy group, heptalenylthiooxy group, biphenylenylthiooxy group, indacenylthiooxy group Acenaphthylenylthiooxy group, phenalenylthiooxy group and the like. 6-25 are preferable and, as for carbon number of an arylthiooxy group, 6-15 are more preferable.

前記アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等の置換または無置換のフェニルオキシカルボニル基;1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基等の置換または無置換のナフチルオキシカルボニル基;等が挙げられる。アリールオキシカルボニル基の炭素数は、7〜25が好ましく、より好ましくは7〜15である。   Examples of the aryloxycarbonyl group include phenoxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyl. Oxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxy A substituted or unsubstituted phenyloxycarbonyl group such as a carbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group, etc .; 1-naphthyloxy Carbonyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl oxycarbonyl group such as a 2-naphthyloxycarbonyl group; and the like. 7-25 are preferable and, as for carbon number of an aryloxycarbonyl group, More preferably, it is 7-15.

前記アリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、2−フルオロフェニルスルホニル基、3−メチルフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、3−フルオロフェニルスルホニル基、4−メチルフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等の置換または無置換のフェニルスルホニル基;1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基等の置換または無置換のナフチルスルホニル基;等が挙げられる。アリールスルホニル基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。   Examples of the arylsulfonyl group include a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, a 2-methylphenylsulfonyl group, a 2-methoxyphenylsulfonyl group, and 2-butoxyphenylsulfonyl. Group, 2-fluorophenylsulfonyl group, 3-methylphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 3-fluorophenylsulfonyl Group, 4-methylphenylsulfonyl group, 4-fluorophenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-dimethylaminophenylsulfonyl group, etc. Other unsubstituted phenylsulfonyl group; 1-naphthylsulfonyl group, 2-substituted or unsubstituted naphthylsulfonyl group such naphthylsulfonyl group; and the like. 6-25 are preferable and, as for carbon number of an arylsulfonyl group, 6-15 are more preferable.

前記アリールスルフィニル基としては、例えば、フェニルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、2−メチルフェニルスルフィニル基、2−メトキシフェニルスルフィニル基、2−ブトキシフェニルスルフィニル基、2−フルオロフェニルスルフィニル基、3−メチルフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、3−シアノフェニルスルフィニル基、3−ニトロフェニルスルフィニル基、4−メチルフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、4−シアノフェニルスルフィニル基、4−メトキシフェニルスルフィニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等の置換または無置換のフェニルスルフィニル基;1−ナフチルスルフィニル基、2−ナフチルスルフィニル基等の置換または無置換のナフチルスルフィニル基;等が挙げられる。アリールスルフィニル基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。   Examples of the arylsulfinyl group include a phenylsulfinyl group, a 2-chlorophenylsulfinyl group, a 2-methylphenylsulfinyl group, a 2-methoxyphenylsulfinyl group, a 2-butoxyphenylsulfinyl group, a 2-fluorophenylsulfinyl group, and 3-methyl. Phenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group, 4-methylphenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyano Substituted or unsubstituted phenylsulfinyl group such as phenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-dimethylaminophenylsulfinyl group; 1-naphthyls Finiru group, 2-naphthylsulfinyl substituted or unsubstituted naphthylsulfinyl group such as Le group; and the like. 6-25 are preferable and, as for carbon number of an aryl sulfinyl group, 6-15 are more preferable.

前記ヘテロアリール基としては、例えば、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基の炭素数は、2〜20が好ましく、より好ましくは3〜15である。   Examples of the heteroaryl group include thienyl group, thiopyranyl group, isothiochromenyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyralidinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, furanyl group, A pyranyl group etc. are mentioned. 2-20 are preferable and, as for carbon number of a heteroaryl group, 3-15 are more preferable.

前記アミド基としては、式:−NHCORa1で表され、Ra1がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基としては上記に例示した置換基が具体的に挙げられ、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。Examples of the amide group include those represented by the formula: —NHCOR a1 , wherein R a1 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heteroaryl group. Specific examples of the alkyl group, aryl group, aralkyl group, and heteroaryl group include the substituents exemplified above, and a part of hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom.

前記スルホンアミド基としては、式:−NHSO2a2で表され、Ra2がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基としては上記に例示した置換基が具体的に挙げられ、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。Examples of the sulfonamide group include those represented by the formula: —NHSO 2 R a2 , wherein R a2 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heteroaryl group. Specific examples of the alkyl group, aryl group, aralkyl group, and heteroaryl group include the substituents exemplified above, and a part of hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom.

前記エチレン含有基としては、式:−CRa3=CRa4−Ra5で表され、Ra3〜Ra5が水素、脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基(特にピリジル基)、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシ基であるもの等が挙げられ、これらの基は置換基を有していていてもよい。Ra3〜Ra5の脂肪族炭化水素基は飽和または不飽和のいずれであってもよいが、好ましくは不飽和である。このような脂肪族炭化水素基としては、−(CH=CH)k−(kは1〜10の整数であり、好ましくは1〜5の整数である)で表される繰り返し単位を有する基が好ましく、例えばビニル基が挙げられる。また、1,1−ジシアノエチレン基や1−シアノエチレン基なども好ましい。脂肪族炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜20のものが好ましく、より好ましくは1〜10のものが挙げられる。Ra3〜Ra5のアリール基とヘテロアリール基とアルコキシカルボニル基としては、上記に例示したアリール基とヘテロアリール基とアルコキシカルボニル基が挙げられる。The ethylene-containing group is represented by the formula: —CR a3 = CR a4 —R a5 , and R a3 to R a5 are hydrogen, aliphatic hydrocarbon group, aryl group, heteroaryl group (particularly pyridyl group), cyano group , An alkoxycarbonyl group, a carboxy group, and the like, and these groups optionally have a substituent. The aliphatic hydrocarbon group represented by R a3 to R a5 may be either saturated or unsaturated, but is preferably unsaturated. Examples of such an aliphatic hydrocarbon group include a group having a repeating unit represented by — (CH═CH) k — (k is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 5). Preferably, a vinyl group is mentioned, for example. A 1,1-dicyanoethylene group, a 1-cyanoethylene group, and the like are also preferable. As an aliphatic hydrocarbon group, a C1-C20 thing is preferable, for example, More preferably, a C1-C10 thing is mentioned. Examples of the aryl group, heteroaryl group and alkoxycarbonyl group represented by R a3 to R a5 include the aryl group, heteroaryl group and alkoxycarbonyl group exemplified above.

前記イミン含有基としては、式:−CH=N−Ra6で表され、Ra6が置換基を有していてもよいアミノ基であるもの等が挙げられる。Ra6のアミノ基は、置換または無置換のいずれであってもよい。置換基を有するアミノ基としては、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基等が挙げられる。Ra6のアミノ基に結合するアルキル基やアリール基としては、上記に例示したアルキル基やアリール基が挙げられる。Examples of the imine-containing group include those represented by the formula: —CH═N—R a6 , wherein R a6 is an amino group which may have a substituent. The amino group of R a6 may be substituted or unsubstituted. Examples of the amino group having a substituent include a monoalkylamino group, a dialkylamino group, a monoarylamino group, a diarylamino group, and a monoalkylmonoarylamino group. Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the amino group of R a6 include the alkyl groups and aryl groups exemplified above.

前記ハロゲノアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、6−フルオロヘキシル基、4−フルオロシクロヘキシル基等のモノハロゲノアルキル基;ジクロロメチル基等のジハロゲノアルキル基;1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−プロピル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ブチル基、2,2−ビス(トリフルオロメチル)プロピル基、2,2,2−トリクロロエチル基等のトリハロメチル単位を有するアルキル基;トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロ−n−ペンチル基、パーフルオロ−n−ヘキシル基等のパーハロゲノアルキル基;等が挙げられる。ハロゲノアルキル基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5である。ハロゲノアルキル基のハロゲンとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。   Examples of the halogenoalkyl group include monohalogenoalkyl groups such as a fluoromethyl group, a 3-fluoropropyl group, a 3-chloropropyl group, a 6-fluorohexyl group, and a 4-fluorocyclohexyl group; and a dihalogeno group such as a dichloromethyl group. Alkyl group; 1,1-dihydro-perfluoroethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-propyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-butyl group, 2,2-bis (trifluoro Methyl) propyl group, alkyl group having a trihalomethyl unit such as 2,2,2-trichloroethyl group; trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoro-n-pentyl group, perfluoro-n-hexyl group, etc. Perhalogenoalkyl group; and the like. 1-20 are preferable, as for carbon number of a halogenoalkyl group, More preferably, it is 1-10, More preferably, it is 1-5. The halogen of the halogenoalkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, and particularly preferably a fluorine atom.

前記ハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。   Examples of the halogeno group include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, and an iodo group.

置換基Xとしては、上記の中でも、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ハロゲノ基、ニトロ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基、ハロゲノ基、アリール基がより好ましく、これによりオキソカーボン系化合物の溶剤溶解性を高めたり、最大吸収波長を所望の波長域へより細かく制御することが容易になる。さらに、オキソカーボン系化合物の製造が容易になるといった効果も得られる。この場合、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基の炭素数は1〜5が好ましく、より好ましくは1〜3であり、さらに好ましくは1〜2であり、アルコキシカルボニル基の炭素数は2〜6が好ましく、より好ましくは2〜4であり、さらに好ましくは2〜3であり、アリール基、アリールオキシカルボニル基の炭素数は6〜12が好ましく、6〜10がより好ましい。なお、環Aは置換基Xを有さなくてもよい。環Aが置換基Xを有する場合は、その数は1〜5が好ましく、1〜3がより好ましく、1〜2がさらに好ましい。環Aが複数の置換基Xを有する場合は、複数の置換基Xは同一であっても異なっていてもよい。   Among the above, the substituent X is preferably an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthiooxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, a halogeno group, or a nitro group, and an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group. An oxy group, a halogeno group, and an aryl group are more preferable. This makes it easy to increase the solvent solubility of the oxocarbon-based compound and to finely control the maximum absorption wavelength to a desired wavelength range. Furthermore, the effect that the production of the oxocarbon-based compound is facilitated can also be obtained. In this case, the alkyl group, alkoxy group, and alkylthiooxy group preferably have 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, still more preferably 1 to 2 carbon atoms, and the alkoxycarbonyl group has 2 to 6 carbon atoms. More preferably, it is 2-4, More preferably, it is 2-3, As for carbon number of an aryl group and an aryloxycarbonyl group, 6-12 are preferable and 6-10 are more preferable. Ring A may not have the substituent X. When the ring A has the substituent X, the number is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2. When the ring A has a plurality of substituents X, the plurality of substituents X may be the same or different.

式(3)中、R5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成している。R5〜R7の有機基または極性官能基としては、置換基Xの有機基や極性官能基として例示した基が挙げられる。R5とR6から形成される環構造としては、炭化水素環や複素環が挙げられ、これらの環構造は芳香族性を有していても有していなくてもよい。In formula (3), R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring. Examples of the organic group or polar functional group of R 5 to R 7 include the groups exemplified as the organic group and polar functional group of the substituent X. Examples of the ring structure formed from R 5 and R 6 include a hydrocarbon ring and a heterocyclic ring, and these ring structures may or may not have aromaticity.

5とR6が互いに連結せず独立した基である場合、R5とR6はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基であることが好ましい。これらの基の具体例は、置換基Xとして例示した各基が示される。R5とR6がこのような基であれば、オキソカーボン系化合物の溶剤溶解性を高めたり、最大吸収波長を所望の波長域へより細かく制御することが容易になる。さらに、オキソカーボン系化合物の製造が容易になるといった効果も得られる。When R 5 and R 6 are independent groups that are not connected to each other, R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, or a substituent. An aryl group that may have a substituent, an aralkyl group that may have a substituent, an alkoxycarbonyl group that may have a substituent, or an aryloxycarbonyl group that may have a substituent. . Specific examples of these groups are the groups exemplified as the substituent X. When R 5 and R 6 are such groups, it becomes easy to improve the solvent solubility of the oxocarbon-based compound and to finely control the maximum absorption wavelength to a desired wavelength range. Furthermore, the effect that the production of the oxocarbon-based compound is facilitated can also be obtained.

5またはR6がアルキル基またはアルコキシカルボニル基である場合、これらの基に含まれるアルキル基の炭素数(置換基を除く炭素数)は、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば1〜20が好ましく、より好ましくは1〜12であり、さらに好ましくは1〜10であり、脂環式のアルキル基であれば4〜7が好ましく、より好ましくは5〜6である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が好ましく挙げられる。なお、R5またはR6がアルキル基である場合、アルキル基が有していてもよい置換基にはアリール基は含まれない。R5またはR6がアリール基またはアリールオキシカルボニル基である場合、これらの基に含まれるアリール基の炭素数(置換基を除く炭素数)は6〜10が好ましい。アリール基としては、フェニル基やナフチル基等が好ましく挙げられる。R5またはR6がアラルキル基である場合、その炭素数(置換基を除く炭素数)は7〜20が好ましく、より好ましくは7〜15である。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。R5とR6の各基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基等が好ましく挙げられる。When R 5 or R 6 is an alkyl group or an alkoxycarbonyl group, the carbon number of the alkyl group contained in these groups (the number of carbon atoms excluding the substituent) is 1 if it is a linear or branched alkyl group. -20 is preferable, More preferably, it is 1-12, More preferably, it is 1-10, 4-7 are preferable if it is an alicyclic alkyl group, More preferably, it is 5-6. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. Is preferred. When R 5 or R 6 is an alkyl group, the substituent that the alkyl group may have does not include an aryl group. When R 5 or R 6 is an aryl group or an aryloxycarbonyl group, the number of carbon atoms (the number of carbon atoms excluding the substituent) of the aryl group contained in these groups is preferably 6-10. Preferred examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. When R 5 or R 6 is an aralkyl group, the carbon number (the number of carbon atoms excluding the substituent) is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 15. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, and a phenylpropyl group. Preferred examples of the substituent that each R 5 and R 6 group may have include an alkoxy group, a halogeno group, a halogenoalkyl group, a cyano group, and a nitro group.

5とR6が互いに連結して環を形成している場合、上記式(3)の構造単位は下記式(4)のように表される。R5とR6により形成される環構造、すなわち下記式(4)における環Bは任意の環構造であればよく、環Bは置換基を有していてもよい。環Bとしては、置換基および/または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および/または縮合環構造を有していてもよい複素環であることが好ましい。When R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring, the structural unit of the above formula (3) is represented by the following formula (4). The ring structure formed by R 5 and R 6 , that is, ring B in the following formula (4) may be any ring structure, and ring B may have a substituent. Ring B is preferably a hydrocarbon ring that may have a substituent and / or a condensed ring structure, or a heterocyclic ring that may have a substituent and / or a condensed ring structure.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

環Bの炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の炭素数3〜10の単環のシクロアルカン;シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン(例えば、1,3−シクロヘキサジエン)、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、等の炭素数3〜10の単環のシクロアルケン等が挙げられる。環Bの複素環としては、前記に説明したような炭化水素環の環を構成する炭素原子の1個以上が、N(窒素原子)、S(硫黄原子)およびO(酸素原子)から選ばれる少なくとも1種以上の原子に置き換わった環構造等が挙げられ、例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チオフェン環、テトラヒドロチオフェン環、ピロール環、ピロリジン環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラン環、テトラヒドロピラン環等が挙げられる。これらの炭化水素環や複素環は他の環と縮環した縮合環構造を有していてもよく、そのような環構造としては、例えば、インデン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、ベンゾフルオレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon ring of ring B include a monocyclic cycloalkane having 3 to 10 carbon atoms such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane; cyclopentene, cyclopentadiene, cyclohexene, cyclohexadiene (for example, 1,3-cyclohexadiene). And monocyclic cycloalkenes having 3 to 10 carbon atoms such as cycloheptene and cycloheptadiene. As the heterocyclic ring of ring B, one or more carbon atoms constituting the hydrocarbon ring as described above are selected from N (nitrogen atom), S (sulfur atom) and O (oxygen atom). Examples include a ring structure in which at least one atom is replaced, such as a furan ring, tetrahydrofuran ring, thiophene ring, tetrahydrothiophene ring, pyrrole ring, pyrrolidine ring, pyrazole ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, pyridine Ring, piperidine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, pyran ring, tetrahydropyran ring and the like. These hydrocarbon rings and heterocycles may have a condensed ring structure condensed with other rings. Examples of such ring structures include indene ring, naphthalene ring, anthracene ring, fluorene ring, benzone ring, Examples include fluorene ring, indole ring, isoindole ring, benzimidazole ring, quinoline ring, benzopyran ring, acridine ring, xanthene ring, carbazole ring, purine ring, pteridine ring and the like.

環Bの炭化水素環や複素環は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、チオアルコキシ基、アリールオキシ基、チオアリールオキシ基、アルキルアミド基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。ハロゲノアルキル基は、アルキル基の有する水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子によって置換されたものであればよく、アルキル基の有する水素原子の全てがハロゲン原子によって置換されたパーハロゲノアルキル基であることが好ましい。ハロゲノアルキル基としては、フルオロアルキル基がより好ましく、パーフルオロアルキル基がさらに好ましい。また、ハロゲノアルキル基の炭素数は、1〜5が好ましく、1〜3がより好ましく、1〜2がさらに好ましい。   The hydrocarbon ring or heterocyclic ring of ring B may have a substituent, such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, a thioalkoxy group, an aryloxy group, a thioaryloxy group, Examples thereof include an alkylamide group, a halogeno group, a halogenoalkyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group. The halogenoalkyl group may be a perhalogenoalkyl group in which at least some of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with halogen atoms, and all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with halogen atoms. Is preferred. As the halogenoalkyl group, a fluoroalkyl group is more preferable, and a perfluoroalkyl group is more preferable. Moreover, 1-5 are preferable, as for carbon number of a halogenoalkyl group, 1-3 are more preferable, and 1-2 are more preferable.

オキソカーボン系化合物の吸収波長の長波長化の観点からは、環Bはπ電子を含むことが好ましく、そのような環構造としては、例えば、シクロヘキサジエン環、ピロール環、ピラン環、インデン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾピラン環、フルオレン環、キサンテン環等が挙げられる。この場合の上記式(4)で表される構造単位としては、例えば、下記式(4−1)〜(4−12)で表される構造単位が示される。   From the viewpoint of increasing the absorption wavelength of the oxocarbon-based compound, the ring B preferably contains a π electron. Examples of such a ring structure include a cyclohexadiene ring, a pyrrole ring, a pyran ring, an indene ring, Indole ring, isoindole ring, benzopyran ring, fluorene ring, xanthene ring and the like can be mentioned. In this case, examples of the structural unit represented by the above formula (4) include structural units represented by the following formulas (4-1) to (4-12).

Figure 2017146187
Figure 2017146187

式(4−1)〜(4−12)中、R8とR9は、R5とR6により形成される環構造に結合する基または原子を表し、R8とR9はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、およびアリールスルホニル基よりなる群から選ばれる基または原子を表すことが好ましい。ハロゲノアルキル基の好適態様等の詳細は、上記に説明した通りである。R8とR9の各環に結合する数は環構造に応じて変わり、R8またはR9が複数結合する場合は、複数のR8またはR9は同一であっても異なっていてもよい。なかでも、R8とR9はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる基または原子であることが好ましく、水素原子、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる基または原子であることがより好ましい。この場合、R5とR6により形成される環構造に結合するR8とR9の全てが水素原子ではないことが好ましい。すなわち、R5とR6により形成される環構造には、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる置換基が結合していることが好ましく、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる置換基が結合していることがより好ましい。これにより、オキソカーボン系化合物の吸収波長の長波長化を図ることができる。In formulas (4-1) to (4-12), R 8 and R 9 represent a group or an atom bonded to the ring structure formed by R 5 and R 6 , and R 8 and R 9 are each independently From a hydrogen atom, alkyl group, alkoxy group, halogeno group, halogenoalkyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, and arylsulfonyl group It preferably represents a group or atom selected from the group consisting of Details of preferred embodiments and the like of the halogenoalkyl group are as described above. The number attached to each ring of R 8 and R 9 are changed depending on the ring structure, if R 8 or R 9 are a plurality of binding a plurality of R 8 or R 9 may be different even in the same . Among these, R 8 and R 9 are preferably each independently a group or atom selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogeno group, a halogenoalkyl group, and a cyano group. And more preferably a group or an atom selected from the group consisting of a halogeno group, a halogenoalkyl group, and a cyano group. In this case, it is preferable that all of R 8 and R 9 bonded to the ring structure formed by R 5 and R 6 are not hydrogen atoms. That is, a substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group, a halogeno group, a halogenoalkyl group, and a cyano group is preferably bonded to the ring structure formed by R 5 and R 6. More preferably, a substituent selected from the group consisting of a group, a halogenoalkyl group, and a cyano group is bonded. As a result, the absorption wavelength of the oxocarbon-based compound can be increased.

環Bとしては、置換基を有していてもよい縮合環構造を有する炭化水素環、または、置換基を有していてもよい縮合環構造を有する複素環が好ましく、これによりオキソカーボン系化合物の吸収波長のさらなる長波長化を図ることができる。縮合環構造を有する炭化水素環または複素環は、π電子共役系が縮合環に広がって形成されていることが好ましく、このような観点から、環Bに含まれるπ電子数は6以上が好ましく、8以上がより好ましく、10以上がさらに好ましく、12以上がさらにより好ましい。環Bに含まれるπ電子数の上限は特に限定されないが、オキソカーボン系化合物の製造容易性や溶剤溶解性を考慮すると、20以下が好ましく、18以下がより好ましく、16以下がさらに好ましい。なお、環Bに含まれるπ電子数とは、環Bの環構造中のπ電子数を意味し、環Bが縮合環構造を有する場合は縮合環構造に含まれるπ電子も含み、環Bの有しうる置換基に含まれるπ電子は含まれない。   Ring B is preferably a hydrocarbon ring having a condensed ring structure which may have a substituent, or a heterocyclic ring having a condensed ring structure which may have a substituent, whereby an oxocarbon compound. The absorption wavelength can be further increased. The hydrocarbon ring or heterocyclic ring having a condensed ring structure is preferably formed so that the π-electron conjugated system extends to the condensed ring. From this viewpoint, the number of π electrons contained in the ring B is preferably 6 or more. 8 or more is more preferable, 10 or more is more preferable, and 12 or more is further more preferable. The upper limit of the number of π electrons contained in ring B is not particularly limited, but is preferably 20 or less, more preferably 18 or less, and even more preferably 16 or less in consideration of the ease of production of the oxocarbon-based compound and solvent solubility. The number of π electrons contained in ring B means the number of π electrons in the ring structure of ring B. When ring B has a condensed ring structure, it also includes π electrons contained in the condensed ring structure, The π electrons contained in the substituent which may have are not included.

環Bとしては、インデン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾピラン環、フルオレン環、キサンテン環が好ましく挙げられる。上記の式(4−1)〜(4−12)で表される構造単位では、式(4−2)、(4−3)、(4−4)、(4−6)、(4−8)、(4−9)、(4−11)、(4−12)で表される構造単位が好ましい。吸収波長の長波長化の観点からは、環Bとしては、置換基を有していてもよいフルオレン環または置換基を有していてもよいキサンテン環が特に好ましく、上記の式(4−1)〜(4−12)で表される構造単位では、式(4−4)、(4−12)で表される構造単位が特に好ましい。これらの構造単位では、フルオレン環またはキサンテン環に含まれるベンゼン環に結合するR8の全てが水素原子ではなく、かつR9の全てが水素原子ではなく、上記に挙げた置換基(特に、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、またはシアノ基)が各ベンゼン環に少なくとも1つ結合していることが好ましい。Preferred examples of ring B include an indene ring, an indole ring, an isoindole ring, a benzopyran ring, a fluorene ring, and a xanthene ring. In the structural units represented by the above formulas (4-1) to (4-12), the formulas (4-2), (4-3), (4-4), (4-6), (4- The structural units represented by 8), (4-9), (4-11), and (4-12) are preferred. From the viewpoint of increasing the absorption wavelength, ring B is particularly preferably a fluorene ring which may have a substituent or a xanthene ring which may have a substituent, and the above formula (4-1) ) To (4-12), the structural units represented by formulas (4-4) and (4-12) are particularly preferable. In these structural units, all of R 8 bonded to the benzene ring included in the fluorene ring or xanthene ring are not hydrogen atoms, and all of R 9 are not hydrogen atoms, and the substituents listed above (particularly, halogeno). Group, halogenoalkyl group, or cyano group) is preferably bonded to each benzene ring.

7は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよいアリール基であることが好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基と置換基を有していてもよいアリール基の詳細は、上記のR5とR6に関する説明が参照される。R7が置換基を有していてもよいアリール基であれば、オキソカーボン系化合物のπ電子系が広がり、吸収波長を長波長シフトできる点で好ましい。このときのR7に含まれるπ電子数は、オキソカーボン系化合物の製造容易性の点から、6個〜10個が好ましい。具体的には、R7のアリール基としては、置換基を有していてもよいフェニル基またはナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。なお、R7はπ電子を有しなくてもよく、水素原子やアルキル基(特に炭素数1〜4のアルキル基)であってもよい。この場合、オキソカーボン系化合物の溶剤溶解性を高めやすくなることやオキソカーボン系化合物の製造が容易になる点で好ましい。なお、R7に含まれるπ電子数とは、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格からR7にかけて繋がって形成されるπ電子系のR7に含まれるπ電子数を意味する。R 7 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and an alkyl group which may have a substituent and For the details of the aryl group which may have a substituent, the description regarding R 5 and R 6 is referred to. If R 7 is an aryl group which may have a substituent, it is preferable in that the π-electron system of the oxocarbon-based compound spreads and the absorption wavelength can be shifted by a long wavelength. The number of π electrons contained in R 7 at this time is preferably 6 to 10 from the viewpoint of ease of production of the oxocarbon compound. Specifically, the aryl group represented by R 7 is preferably a phenyl group or naphthyl group which may have a substituent, and more preferably a phenyl group. R 7 may not have π electrons, and may be a hydrogen atom or an alkyl group (particularly an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). In this case, it is preferable from the viewpoint that the solvent solubility of the oxocarbon-based compound is easily increased and the production of the oxocarbon-based compound is facilitated. Incidentally, the π electron number and contained in R 7, means a π number electrons contained in R 7 of π electron system formed connected toward R 7 from squarylium skeleton or a croconium skeleton.

オキソカーボン系化合物は、環AとR7に含まれるπ電子の合計数が12個以上であり、14個以上がより好ましく、16個以上がさらに好ましく、これにより、より長波長側の近赤外線(例えば、850nmを超える波長域の光線)を効果的に吸収できる。なお、本発明のオキソカーボン系化合物では、環Aに含まれるπ電子数がこのような範囲にあることがより好ましく、これによりπ電子系が距離的により広い範囲に広がり、吸収波長の長波長化を図りやすくなる。この場合の環Aとしては、フェナントレン環、アントラセン環、テトラセン環、フルオランテン環、ベンゾフルオランテン環、シクロテトラデカヘプタエン環、アクリジン環、カルバゾール環等が挙げられる。一方、環AとR7に含まれるπ電子の合計数の上限は特に限定されないが、オキソカーボン系化合物の製造容易性や溶剤溶解性を考慮すると、30個以下が好ましく、28個以下がより好ましく、26個以下がさらに好ましい。In the oxocarbon-based compound, the total number of π electrons contained in the rings A and R 7 is 12 or more, more preferably 14 or more, and even more preferably 16 or more. (For example, light in a wavelength range exceeding 850 nm) can be effectively absorbed. In the oxocarbon-based compound of the present invention, it is more preferable that the number of π electrons contained in ring A is in such a range, whereby the π-electron system spreads over a wider range, and the absorption wavelength is longer. It becomes easy to plan. Examples of the ring A in this case include a phenanthrene ring, an anthracene ring, a tetracene ring, a fluoranthene ring, a benzofluoranthene ring, a cyclotetradecaheptaene ring, an acridine ring, and a carbazole ring. On the other hand, the upper limit of the total number of π electrons contained in the rings A and R 7 is not particularly limited, but is preferably 30 or less, more preferably 28 or less in consideration of the ease of production of oxocarbon compounds and solvent solubility. The number is preferably 26 or less.

上記式(4)で表される構造単位のうち、製造が比較的容易であり、より長波長域の光線を吸収できるオキソカーボン系化合物を与えることができる構造単位の例を下記に示す。下記式(4−21)〜(4−26)に示した構造単位は、上記式(4−4)の構造単位の具体例を表し、下記式(4−27)〜(4−32)に示した構造単位は、上記式(4−12)の構造単位の具体例を表す。下記式(4−21)〜(4−32)において、R7〜R9の説明は上記の説明が参照される。式(4−21)、(4−22)、(4−27)、(4−28)では環Aとしてフルオランテン環が設けられ、式(4−23)、(4−24)、(4−29)、(4−30)では環Aとしてフェナントレン環が設けられ、式(4−25)、(4−26)、(4−31)、(4−32)では環Aとしてアントラセン環が設けられている。これらの環構造のピロール環への結合(縮環)様式は、下記式に示した態様に限定されない。また、環Aとして、これらの環構造以外のものが設けられていてもよい。Of the structural units represented by the above formula (4), examples of structural units that are relatively easy to produce and that can give an oxocarbon compound capable of absorbing light in a longer wavelength range are shown below. The structural units shown in the following formulas (4-21) to (4-26) represent specific examples of the structural unit of the above formula (4-4), and the following formulas (4-27) to (4-32) The structural unit shown represents a specific example of the structural unit of the above formula (4-12). In the following formulas (4-21) to (4-32), the description of R 7 to R 9 is referred to the above description. In the formulas (4-21), (4-22), (4-27), and (4-28), a fluoranthene ring is provided as the ring A, and the formulas (4-23), (4-24), (4- In 29) and (4-30), a phenanthrene ring is provided as ring A, and in formulas (4-25), (4-26), (4-31), and (4-32), an anthracene ring is provided as ring A. It has been. The mode of bonding (condensed ring) of these ring structures to the pyrrole ring is not limited to the embodiment shown in the following formula. Moreover, as ring A, things other than these ring structures may be provided.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

Figure 2017146187
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上記式(4)で表される構造単位を有するオキソカーボン系化合物としては、より長波長域の光線を吸収できる点から、式(2)で表されるクロコニウム化合物であることが好ましい。また、式(2)において、R3とR4の環Aが同一の環構造を有することが好ましく、R3とR4の環Bが同一の環構造を有することが好ましい。より好ましくは、式(2)において、R3とR4の環Aが同一の構造(環Aの環構造とそれに結合し得る置換基も含めた構造)を有し、また、R3とR4の環Bが同一の構造(環Bの環構造とそれに結合し得る置換基も含めた構造)を有する。The oxocarbon compound having the structural unit represented by the above formula (4) is preferably a croconium compound represented by the formula (2) from the viewpoint that it can absorb light in a longer wavelength region. In Formula (2), it is preferable that the ring A of R 3 and R 4 has the same ring structure, and the ring B of R 3 and R 4 preferably has the same ring structure. More preferably, in the formula (2), the ring A of R 3 and R 4 has the same structure (including the ring structure of the ring A and a substituent that can be bonded to it), and R 3 and R 4 Ring B of 4 has the same structure (a structure including a ring structure of ring B and a substituent that can be bonded to it).

本発明のオキソカーボン系化合物は、850nmを超える波長域における光線の吸収率を高める点から、極大吸収波長が835nm以上であることが好ましく、840nm以上がより好ましく、845nm以上がさらに好ましい。極大吸収波長の上限は特に限定されず、例えば1300nm以下であってもよく、1100nm以下であってもよい。   In the oxocarbon-based compound of the present invention, the maximum absorption wavelength is preferably 835 nm or more, more preferably 840 nm or more, and further preferably 845 nm or more, from the viewpoint of increasing the light absorptance in a wavelength region exceeding 850 nm. The upper limit of the maximum absorption wavelength is not particularly limited, and may be, for example, 1300 nm or less or 1100 nm or less.

可視光透過率としては、極大吸収波長における透過率を10%(あるいは10%以下)としたとき、波長400nm〜700nmの平均透過率が83%以上であることが好ましく、84%以上がより好ましく、85%以上がさらに好ましい。   As the visible light transmittance, when the transmittance at the maximum absorption wavelength is 10% (or 10% or less), the average transmittance at a wavelength of 400 nm to 700 nm is preferably 83% or more, and more preferably 84% or more. 85% or more is more preferable.

以上説明したように、本発明のオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格から環Aにかけて(あるいはさらに置換基R7にかけて)π電子系が広がって構成され、環Aと置換基R7に含まれるπ電子の合計数が12個以上となっているため、より長波長側の近赤外線を吸収することができ、例えば850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収することができる。一方、オキソカーボン系化合物そのものは、可視光領域の光線透過率が高くなるため、可視光下での不可視性に優れるものとなる。例えば、フタロシアニン系化合物の中には850nmを超える波長域に極大吸収波長を有するものもあるが、フタロシアニン系化合物は400nm付近の波長域にsoret帯由来の吸収ピークを有し、緑色を呈する場合があるのに対し、本発明のオキソカーボン系化合物は、近赤外吸収色素として機能しつつ、不可視性に優れるものとなる。As described above, the oxocarbon-based compound of the present invention has a π-electron system extending from the squarylium skeleton or the croconium skeleton to the ring A (or further to the substituent R 7 ), and the ring A and the substituent R 7 Since the total number of π electrons contained is 12 or more, near infrared rays on the longer wavelength side can be absorbed, and for example, light rays in a wavelength region exceeding 850 nm can be effectively absorbed. On the other hand, the oxocarbon-based compound itself has a high light transmittance in the visible light region, and therefore has excellent invisibility under visible light. For example, some phthalocyanine compounds have a maximum absorption wavelength in a wavelength region exceeding 850 nm, but phthalocyanine compounds have an absorption peak derived from a soret band in a wavelength region near 400 nm and may exhibit a green color. On the other hand, the oxocarbon compound of the present invention functions as a near-infrared absorbing dye and has excellent invisibility.

本発明のオキソカーボン系化合物は、下記式(5)で表される縮合複素環化合物を、スクアリン酸またはクロコン酸と反応させることにより製造することができる。下記式(5)中、環AおよびR5〜R7は上記の式(3)における意味と同じであり、環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。環AやR5〜R7の好適態様も上記に説明した通りである。The oxocarbon compound of the present invention can be produced by reacting the condensed heterocyclic compound represented by the following formula (5) with squaric acid or croconic acid. In the following formula (5), ring A and R 5 to R 7 have the same meaning as in the above formula (3), and the total number of π electrons contained in rings A and R 7 is 12 or more. The preferred embodiments of ring A and R 5 to R 7 are also as described above.

Figure 2017146187
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式(5)で表される縮合複素環化合物は、本発明のオキソカーボン系化合物の原料として好適に用いられ、これにより、本発明のオキソカーボン系化合物を容易に製造することができる。すなわち、式(5)で表される縮合複素環化合物をスクアリン酸またはクロコン酸と反応させ、式(1)または式(2)で表されるオキソカーボン系化合物を得る工程を有する製造方法により、本発明のオキソカーボン系化合物を製造することができる。具体的には、式(1)で表されるスクアリリウム化合物は、式(5)の縮合複素環化合物をスクアリン酸と反応させることにより得ることができ、式(2)で表されるクロコニウム化合物は、式(5)の縮合複素環化合物をクロコン酸と反応させることにより得ることができる。   The condensed heterocyclic compound represented by the formula (5) is suitably used as a raw material for the oxocarbon compound of the present invention, whereby the oxocarbon compound of the present invention can be easily produced. That is, by a production method having a step of reacting a condensed heterocyclic compound represented by the formula (5) with squaric acid or croconic acid to obtain an oxocarbon-based compound represented by the formula (1) or the formula (2), The oxocarbon compound of the present invention can be produced. Specifically, the squarylium compound represented by the formula (1) can be obtained by reacting the condensed heterocyclic compound of the formula (5) with squaric acid, and the croconium compound represented by the formula (2) is The condensed heterocyclic compound of formula (5) can be obtained by reacting with croconic acid.

縮合複素環化合物をスクアリン酸またはクロコン酸と反応させる際の縮合複素環化合物の使用量は、スクアリン酸またはクロコン酸に対し、1倍mol以上が好ましく、より好ましくは1.5倍mol以上であり、さらに好ましくは2倍mol以上であり、また5倍mol以下が好ましく、より好ましくは4倍mol以下であり、さらに好ましくは3倍mol以下である。   The amount of the condensed heterocyclic compound used in the reaction of the condensed heterocyclic compound with squaric acid or croconic acid is preferably 1 mol or more, more preferably 1.5 times mol or more with respect to squaric acid or croconic acid. More preferably, it is 2 times mol or more, and 5 times mol or less is preferable, More preferably, it is 4 times mol or less, More preferably, it is 3 times mol or less.

スクアリン酸またはクロコン酸と縮合複素環化合物との反応は、溶媒存在下で実施することが好ましい。使用できる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;クロロトルエン、ジクロロベンゼン等の塩素系芳香族類;テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、tert−アミルアルコール等のアルコール類;等が挙げられる。これらの溶媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なお、反応溶媒としてアルコール類を使用する場合は、3級アルコールを使用することが好ましい。前記溶媒の使用量(合計)は、スクアリン酸またはクロコン酸に対して、1質量倍以上が好ましく、5質量倍以上がより好ましく、10質量倍以上がさらに好ましく、また100質量倍以下が好ましい。   The reaction between squaric acid or croconic acid and the condensed heterocyclic compound is preferably carried out in the presence of a solvent. Solvents that can be used include, for example, chlorinated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and trimethylbenzene; chlorinated aromatics such as chlorotoluene and dichlorobenzene; tetrahydrofuran (THF), ethers such as dioxane, cyclopentyl methyl ether, diisopropyl ether, and diethyl ether; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, tert-butanol, and tert-amyl alcohol; These solvents may use only 1 type and may use 2 or more types together. In addition, when using alcohol as a reaction solvent, it is preferable to use tertiary alcohol. The use amount (total) of the solvent is preferably 1 mass times or more, more preferably 5 mass times or more, further preferably 10 mass times or more, and preferably 100 mass times or less with respect to squaric acid or croconic acid.

スクアリン酸またはクロコン酸と縮合複素環化合物との反応において、反応温度は適宜設定すればよく、例えば30℃以上が好ましく、60℃以上がより好ましく、80℃以上がさらに好ましく、また170℃以下が好ましく、140℃以下がより好ましい。当該反応は還流下で行うことが好ましい。反応時間は特に限定されず、反応の進行状況に応じて適宜設定すればよいが、例えば、0.5時間以上が好ましく、1時間以上がより好ましく、また48時間以下が好ましく、24時間以下がより好ましい。反応時の雰囲気は、不活性ガス(窒素、アルゴン等)雰囲気とすることが好ましい。   In the reaction of squaric acid or croconic acid with the condensed heterocyclic compound, the reaction temperature may be appropriately set, for example, preferably 30 ° C or higher, more preferably 60 ° C or higher, further preferably 80 ° C or higher, and 170 ° C or lower. Preferably, 140 degrees C or less is more preferable. The reaction is preferably performed under reflux. The reaction time is not particularly limited and may be appropriately set according to the progress of the reaction. For example, 0.5 hour or more is preferable, 1 hour or more is more preferable, 48 hours or less is preferable, and 24 hours or less is preferable. More preferred. The atmosphere during the reaction is preferably an inert gas (nitrogen, argon, etc.) atmosphere.

スクアリリウム化合物は、縮合複素環化合物とスクアリン酸とを反応させる公知の合成手法を適宜採用することによって合成できる。例えば、次の論文に記載の合成法によってスクアリリウム化合物を合成することができる:Serguei Miltsov et al.,“New Cyanine Dyes:Norindosquarocyanines”, Tetrahedron Letters, Vol.40, Issue 21, p.4067-4068 (1999)。   The squarylium compound can be synthesized by appropriately adopting a known synthesis method in which a condensed heterocyclic compound and squaric acid are reacted. For example, a squarylium compound can be synthesized by a synthesis method described in the following paper: Serguei Miltsov et al., “New Cyanine Dyes: Norindosquarocyanines”, Tetrahedron Letters, Vol. 40, Issue 21, p.4067-4068 ( 1999).

クロコニウム化合物の合成方法は特に限定されないが、縮合複素環化合物とクロコン酸とを反応させる公知の合成手法を適宜採用することによって合成できる。例えば、特開2002−286931号公報、特開2007−31644号公報、特開2007−31645号公報、特開2007−169315号公報に記載されている方法でクロコニウム化合物を合成することができる。   A method for synthesizing the croconium compound is not particularly limited, but the croconium compound can be synthesized by appropriately adopting a known synthesis method in which a condensed heterocyclic compound and croconic acid are reacted. For example, a croconium compound can be synthesized by a method described in JP-A No. 2002-286931, JP-A No. 2007-31644, JP-A No. 2007-31645, and JP-A No. 2007-169315.

式(5)の縮合複素環化合物は、公知の合成手法を適宜採用することによって合成でき、例えば下記の反応式に従って製造することができる。下記反応式において、環AおよびR5〜R7は上記の式(3)における意味と同じである。The condensed heterocyclic compound of the formula (5) can be synthesized by appropriately adopting known synthetic techniques, and can be produced, for example, according to the following reaction formula. In the following reaction formula, ring A and R 5 to R 7 have the same meaning as in the above formula (3).

Figure 2017146187
Figure 2017146187

例えば、環Aがフルオランテン環、R5とR6がメチル基でR7が水素原子である縮合複素環化合物は、フルオランテニルヒドラジン塩酸塩と3−メチル−2−ブタノンとを反応させることにより合成できる。このように、芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの環構造を含む縮合環のヒドラジン塩酸塩(上記式(6)の化合物)と、ジメチルケトン誘導体(上記式(7)の化合物)とを反応させることにより、式(5)の縮合複素環化合物を合成することができる。縮合複素環化合物の合成は、次の論文も参考にできる:Sajjadifar et al.,“New 3H-Indole Synthesis by Fischer's Method. Part I”, Molecules, Vol.15, p.2491-2498 (2010)。For example, a condensed heterocyclic compound in which ring A is a fluoranthene ring, R 5 and R 6 are methyl groups and R 7 is a hydrogen atom is obtained by reacting fluoranthenyl hydrazine hydrochloride with 3-methyl-2-butanone. Can be synthesized. Thus, an aromatic hydrocarbon ring, an aromatic heterocycle or a condensed ring hydrazine hydrochloride (compound of the above formula (6)) and a dimethyl ketone derivative (compound of the above formula (7)) containing these ring structures. Can be synthesized to produce a condensed heterocyclic compound of the formula (5). The synthesis of fused heterocyclic compounds can also be referred to the following paper: Sajjadifar et al., “New 3H-Indole Synthesis by Fischer's Method. Part I”, Molecules, Vol. 15, p.2491-2498 (2010).

なお、式(5)の縮合複素環化合物を、スクアリン酸またはクロコン酸と反応させることにより得られたオキソカーボン系化合物は、必要に応じて、ろ過、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、アルミナカラムクロマトグラフィー、昇華、再結晶、晶析など公知の精製手段によって適宜精製することができる。得られたオキソカーボン系化合物の化学構造は、質量分析法、単結晶X線構造解析法、フーリエ変換赤外分光法、核磁気共鳴分光法などの公知の分析方法により解析することができる。   The oxocarbon compound obtained by reacting the condensed heterocyclic compound of formula (5) with squaric acid or croconic acid can be filtered, silica gel column chromatography, alumina column chromatography, sublimation as necessary. , And can be appropriately purified by known purification means such as recrystallization and crystallization. The chemical structure of the obtained oxocarbon-based compound can be analyzed by a known analysis method such as mass spectrometry, single crystal X-ray structure analysis, Fourier transform infrared spectroscopy, or nuclear magnetic resonance spectroscopy.

〔2.樹脂組成物〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、樹脂成分と混合して、樹脂組成物とすることができる。樹脂組成物は、本発明のオキソカーボン系化合物と樹脂成分を少なくとも含むものである。本発明の樹脂組成物は、近赤外領域の光線、例えば850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収することができるため、フィルム等の樹脂成形体とすることで、暗視用撮像素子等の光学フィルタに好適に適用することができる。このように形成された光学フィルタは、近赤外領域の短波長側における光学特性の入射角度依存性が低減され、視野角度が改善されたものとなり、また可視光領域の透過率が高く、可視光下で使用する撮像素子に対しても好適に適用することができる。樹脂成形体はまた、省エネルギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板、可視光および近赤外光を利用した太陽電池用材料、プラズマディスプレイパネル(PDP)やCCD用の特定波長吸収フィルタ等への適用も可能である。
[2. Resin composition]
The oxocarbon compound of the present invention can be mixed with a resin component to form a resin composition. The resin composition contains at least the oxocarbon compound of the present invention and a resin component. Since the resin composition of the present invention can effectively absorb light in the near-infrared region, for example, light in the wavelength region exceeding 850 nm, by using a resin molded body such as a film, an imaging device for night vision It can apply suitably for optical filters, such as. The optical filter formed in this way has a reduced incident angle dependency of optical characteristics on the short wavelength side in the near infrared region, an improved viewing angle, a high transmittance in the visible light region, and a visible light. The present invention can also be suitably applied to an image sensor used under light. Resin moldings also include near-infrared absorbing films and near-infrared absorbing plates that block heat rays for energy saving, solar cell materials that use visible light and near-infrared light, plasma display panels (PDP), and specific wavelengths for CCDs. Application to an absorption filter or the like is also possible.

本発明の樹脂組成物は、レーザー溶着用途にも好適に用いることができる。レーザー溶着法による樹脂の接合は、レーザー光を透過する光透過性樹脂とレーザー光を吸収する光吸収性樹脂を重ねて、光透過性樹脂側からレーザー光を照射することにより行うことができる。照射されたレーザー光は光透過性樹脂を透過して、光吸収性樹脂の表面でエネルギーが吸収されて発熱し、これにより光吸収性樹脂が溶け、さらに熱伝導により光透過性樹脂も溶けて、両樹脂を溶着することができる。光吸収性樹脂としては、カーボンブラックや黒色染料等を含有した着色樹脂を用いる場合があるが、レーザー溶着には800nm〜1300nmの波長を有するレーザー光(例えば、半導体レーザー、YAGレーザー、ファイバーレーザー)が用いられるため、光吸収性樹脂を本発明の樹脂組成物から形成することにより、透明樹脂どうしのレーザー溶着が実現できる。つまり、本発明のオキソカーボン系化合物は、レーザー光の吸収材すなわち発熱源として機能させることができる。レーザー溶着法では、本発明の樹脂組成物を、2つの光透過性樹脂の間に挟むレーザー光の吸収体として用いることもできる。   The resin composition of the present invention can also be suitably used for laser welding applications. The joining of the resin by the laser welding method can be performed by stacking a light transmitting resin that transmits laser light and a light absorbing resin that absorbs laser light, and irradiating the laser light from the light transmitting resin side. The irradiated laser light is transmitted through the light-transmitting resin, energy is absorbed on the surface of the light-absorbing resin, and heat is generated. As a result, the light-absorbing resin is melted, and the light-transmitting resin is also melted by heat conduction. Both resins can be welded. As the light absorbing resin, a colored resin containing carbon black or black dye may be used. Laser light having a wavelength of 800 nm to 1300 nm is used for laser welding (for example, semiconductor laser, YAG laser, fiber laser). Therefore, laser welding of transparent resins can be realized by forming the light absorbing resin from the resin composition of the present invention. That is, the oxocarbon-based compound of the present invention can function as a laser light absorber, that is, a heat source. In the laser welding method, the resin composition of the present invention can also be used as a laser light absorber sandwiched between two light transmissive resins.

樹脂組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム化合物であってもよいし、クロコニウム化合物であってもよいし、両者が含まれていてもよい。樹脂組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。   The oxocarbon-based compound contained in the resin composition may be a squarylium compound, a croconium compound, or both. The oxocarbon compound contained in the resin composition may be only one type or two or more types.

樹脂組成物には、上記式(1)で表されるスクアリリウム化合物が2種以上含まれていてもよく、あるいは、上記式(2)で表されるクロコニウム化合物が2種以上含まれていてもよい。このように形成された樹脂組成物は、近赤外領域の光線を効果的に吸収できるとともに、オキソカーボン系化合物の樹脂に対する溶解性が向上し、オキソカーボン系化合物を高濃度に含む樹脂組成物を形成することが容易になる。この場合、オキソカーボン系化合物の樹脂に対する溶解性を高める点から、樹脂組成物は、上記式(1)においてR1とR2が互いに異なる構造を有するスクアリリウム化合物を少なくとも含むことが好ましく、あるいは、上記式(2)においてR3とR4が互いに異なる構造を有するクロコニウム化合物を少なくとも含むことが好ましい。樹脂組成物はオキソカーボン系化合物を3種以上含むことがより好ましく、そのような樹脂組成物としては、例えば、上記式(1)においてR1とR2がともにRxであるスクアリリウム化合物と、R1とR2がともにRyであるスクアリリウム化合物と、R1がRxでありR2がRyであるスクアリリウム化合物を含む樹脂組成物や、上記式(2)においてR3とR4がともにRxであるクロコニウム化合物と、R3とR4がともにRyであるクロコニウム化合物と、R3がRxでありR4がRyであるクロコニウム化合物を含む樹脂組成物が示される。このような樹脂組成物は、オキソカーボン系化合物を複数種含みながら、製造が容易な点で好ましい。なお、ここで説明したRxとRyは、上記式(3)で表される任意の構造単位を表し、RxとRyは同一ではない。The resin composition may contain two or more squarylium compounds represented by the above formula (1), or may contain two or more croconium compounds represented by the above formula (2). Good. The resin composition thus formed effectively absorbs light in the near infrared region, improves the solubility of the oxocarbon compound in the resin, and contains the oxocarbon compound at a high concentration. It becomes easy to form. In this case, from the viewpoint of increasing the solubility of the oxocarbon-based compound in the resin, the resin composition preferably includes at least a squarylium compound having a structure in which R 1 and R 2 are different from each other in the above formula (1). In the above formula (2), it is preferable that R 3 and R 4 contain at least a croconium compound having a different structure. More preferably, the resin composition contains three or more oxocarbon-based compounds. Examples of such a resin composition include a squarylium compound in which R 1 and R 2 are both R x in the above formula (1), and A resin composition comprising a squarylium compound in which R 1 and R 2 are both R y and a squarylium compound in which R 1 is R x and R 2 is R y , or R 3 and R 4 in the above formula (2) are and croconium compounds are both R x, and croconium compound R 3 and R 4 are both R y, R 3 is R 4 is R x is a resin composition comprising a croconium compound is R y is shown. Such a resin composition is preferable in view of easy production while containing a plurality of oxocarbon compounds. In addition, Rx and Ry demonstrated here represent the arbitrary structural units represented by the said Formula (3), and Rx and Ry are not the same.

本発明のオキソカーボン系化合物は一種の色素と見なすことができるが、本発明の樹脂組成物は、用途に応じた所望の性能が確保される限り、本発明のオキソカーボン系化合物とともに他の色素を含有していてもよい。樹脂組成物に含まれていてもよい色素としては、例えば、本発明のオキソカーボン系化合物以外のスクアリリウム系色素やクロコニウム系色素、中心金属イオンとして銅(例えば、Cu(II))や亜鉛(例えば、Zn(II))等を有していてもよい環状テトラピロール系色素(ポルフィリン類、クロリン類、フタロシアニン類、コリン類等)、シアニン系色素、クアテリレン系色素、ナフタロシアニン系色素、ニッケル錯体系色素、銅イオン系色素、ジインモニウム系色素、サブフタロシアニン系色素、キサンテン系色素、アゾ系色素、ジピロメテン系色素等が挙げられる。これら他の色素は、1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。   Although the oxocarbon-based compound of the present invention can be regarded as a kind of dye, the resin composition of the present invention can be used together with the oxocarbon-based compound of the present invention as long as the desired performance according to the application is secured. May be contained. Examples of the dye that may be contained in the resin composition include a squarylium dye and a croconium dye other than the oxocarbon compound of the present invention, and copper (for example, Cu (II)) or zinc (for example, a central metal ion). , Zn (II)) and the like cyclic tetrapyrrole dyes (porphyrins, chlorins, phthalocyanines, cholines, etc.), cyanine dyes, quaterylene dyes, naphthalocyanine dyes, nickel complex systems Examples thereof include dyes, copper ion dyes, diimmonium dyes, subphthalocyanine dyes, xanthene dyes, azo dyes, and dipyrromethene dyes. These other pigments may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物が他の色素をも含有する場合、他の色素の含有量は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素の合計100質量%に対し、60質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、20質量%以下がさらに好ましく、他の色素を実質的に含まないことが特に好ましい。   When the resin composition of the present invention also contains other dyes, the content of the other dyes is preferably 60% by weight or less with respect to 100% by weight in total of the oxocarbon compound of the present invention and the other dyes, 40 mass% or less is more preferable, 20 mass% or less is further more preferable, and it is especially preferable that other pigment | dye is not included substantially.

樹脂組成物中の本発明のオキソカーボン系化合物の含有量は、所望の性能を発現させる点から、樹脂組成物の固形分100質量%中、0.01質量%以上であることが好ましく、0.3質量%以上がより好ましく、1質量%以上がさらに好ましい。また、樹脂組成物の成形性や成膜性等を高める点から、樹脂組成物中の本発明のオキソカーボン系化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分100質量%中、25質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、15質量%以下がさらに好ましい。樹脂組成物が他の色素も含有する場合は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素との合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。なお、樹脂組成物の固形分の質量は、樹脂組成物から液媒体を除いた質量を意味する。   The content of the oxocarbon compound of the present invention in the resin composition is preferably 0.01% by mass or more in 100% by mass of the solid content of the resin composition from the viewpoint of expressing desired performance. More preferably 3% by mass or more, and still more preferably 1% by mass or more. Moreover, from the point which improves the moldability, film formability, etc. of the resin composition, the content of the oxocarbon-based compound of the present invention in the resin composition is 25% by mass or less in 100% by mass of the solid content of the resin composition. Is preferable, 20 mass% or less is more preferable, and 15 mass% or less is further more preferable. When the resin composition also contains other dyes, the total content of the oxocarbon compound of the present invention and the other dyes is preferably in the above range. In addition, the mass of the solid content of the resin composition means a mass obtained by removing the liquid medium from the resin composition.

樹脂組成物に含まれる樹脂成分は、公知の樹脂を用いることができる。樹脂成分としては、透明性が高く、本発明のオキソカーボン系化合物を溶解または分散できるものが好ましい。他の色素を併用する場合は、樹脂成分は、他の色素も溶解または分散できるものが好ましい。このような樹脂成分を選択することにより、透過させたい波長域における高透過率と、遮断したい波長域における高吸収性を両立させることができる。   A known resin can be used as the resin component contained in the resin composition. As the resin component, those having high transparency and capable of dissolving or dispersing the oxocarbon compound of the present invention are preferable. When other dyes are used in combination, the resin component is preferably one that can also dissolve or disperse other dyes. By selecting such a resin component, it is possible to achieve both high transmittance in the wavelength range desired to be transmitted and high absorbency in the wavelength range desired to be blocked.

樹脂成分としては、重合が完結した樹脂のみならず、樹脂原料(樹脂の前駆体、当該前駆体の原料、樹脂を構成する単量体等を含む)であって、樹脂組成物を成形する際に重合反応または架橋反応して樹脂に組み込まれるものも用いることができる。本発明においては、いずれの樹脂も樹脂成分に含まれる。なお後者の場合は、重合反応で得られた反応液中に存在する、未反応物、反応性末端官能基、イオン性基、触媒、酸・塩基性基等により、オキソカーボン系化合物の構造の一部または全部が分解してしまうこともあり得る。従って、そのような懸念がある場合には、重合が完結した樹脂にオキソカーボン系化合物を配合して、樹脂組成物を形成することが望ましい。   The resin component is not only a resin that has been completely polymerized, but also a resin raw material (including a precursor of the resin, a raw material of the precursor, a monomer constituting the resin, and the like), and when the resin composition is molded In addition, those which are incorporated into the resin by polymerization reaction or crosslinking reaction can also be used. In the present invention, any resin is included in the resin component. In the latter case, the structure of the oxocarbon-based compound is caused by unreacted substances, reactive terminal functional groups, ionic groups, catalysts, acid / basic groups, etc. present in the reaction solution obtained by the polymerization reaction. Some or all of them may be decomposed. Therefore, when there is such a concern, it is desirable to form a resin composition by blending an oxocarbon-based compound with a resin that has been completely polymerized.

樹脂成分としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、(メタ)アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等)、シクロオレフィン系樹脂(シクロオレフィンコポリマー、ノルボルネン系樹脂等を含む)、石油樹脂、ロジン系樹脂、ロジンエステル系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸系樹脂、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂(例えば、ナイロン等)、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキド樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂(例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリアリレート樹脂等)、ポリスルホン樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、セルロース誘導体(例えば、エチルセルロース、酢酸セルロース、ニトロセルロース等)、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂(例えば、(メタ)アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等)、フッ素系樹脂(例えば、フッ素化芳香族ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂、フッ素化ポリアリールエーテルケトン、フッ素化ポリイミド、フッ素化ポリアミド酸、フッ素化ポリエーテルニトリル等)、ジアリルフタレート樹脂、クマロンインデン系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、キシレン樹脂、アルキド樹脂、マレイン酸樹脂、フマル酸樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin component include (meth) acrylic resins, (meth) acrylurethane resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyolefin resins (for example, polyethylene resins, polypropylene resins, etc.), cycloolefin resins. (Including cycloolefin copolymer and norbornene resin), petroleum resin, rosin resin, rosin ester resin, urea resin, melamine resin, urethane resin, styrene resin, styrene-acrylic resin, styrene-maleic acid resin , Polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate resin, vinyl acetal resin, polyamide resin (for example, nylon), aramid resin, polyimide resin, polyamideimide resin, alkyd resin, phenol resin, epoxy resin, polyester resin (for example, Poly (Ethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polyarylate resin, etc.), polysulfone resin, butyral resin, polycarbonate resin, polyether resin, acrylonitrile butadiene styrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, cellulose derivative (for example, ethyl cellulose, cellulose acetate, Nitrocellulose, etc.), silicone resins, modified silicone resins (eg, (meth) acrylic silicone resins, alkylpolysiloxane resins, silicone urethane resins, silicone polyester resins, silicone acrylic resins, etc.), fluorine resins (eg, fluorinated) Aromatic polymer, polytetrafluoroethylene, perfluoroalkoxy fluororesin, fluorinated polyaryletherketone, fluorinated polyimid , Fluorinated polyamic acid, fluorinated polyether nitrile, etc.), diallyl phthalate resins, coumarone-indene resins, terpene phenol resins, xylene resins, alkyd resins, maleic acid resins and fumaric acid resins.

樹脂成分は透明性が高いことが好ましく、これにより樹脂組成物を光学用途やレーザー溶着用途に好適に適用しやすくなる。樹脂成分は、例えば、厚さ0.1mmでの全光線透過率が75%以上であることが好ましく、80%以上がより好ましく、85%以上がさらに好ましい。樹脂成分の前記全光線透過率の上限は特に限定されず、全光線透過率は100%以下であればよいが、例えば95%以下であってもよい。全光線透過率は、JIS K 7105に基づき測定する。   The resin component preferably has high transparency, which makes it easy to suitably apply the resin composition to optical applications and laser welding applications. For example, the resin component preferably has a total light transmittance of 75% or more at a thickness of 0.1 mm, more preferably 80% or more, and still more preferably 85% or more. The upper limit of the total light transmittance of the resin component is not particularly limited, and the total light transmittance may be 100% or less, for example, 95% or less. The total light transmittance is measured based on JIS K 7105.

樹脂成分はガラス転移温度(Tg)が高いことが好ましく、これにより、樹脂組成物やこれから得られる各種成形体の耐熱性を高めることができる。樹脂成分のガラス転移温度は、例えば、50℃以上が好ましく、70℃以上がより好ましく、80℃以上がさらに好ましい。樹脂成分のガラス転移温度の上限は特に限定されないが、樹脂組成物の成形加工性を確保する点から、例えば380℃以下が好ましい。   The resin component preferably has a high glass transition temperature (Tg), whereby the heat resistance of the resin composition and various molded articles obtained therefrom can be increased. For example, the glass transition temperature of the resin component is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 70 ° C. or higher, and further preferably 80 ° C. or higher. Although the upper limit of the glass transition temperature of a resin component is not specifically limited, For example, 380 degrees C or less is preferable from the point which ensures the moldability of a resin composition.

樹脂組成物は、射出成形や押出成形等の成形に用いることのできる熱可塑性樹脂組成物であってもよく、スピンコート法、溶媒キャスト法、ロールコート法、スプレーコート法、バーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等により塗工できるよう塗料化された樹脂組成物であってもよい。   The resin composition may be a thermoplastic resin composition that can be used for molding such as injection molding and extrusion molding, such as spin coating, solvent casting, roll coating, spray coating, bar coating, dip coating. It may be a resin composition that is made into a paint so that it can be applied by a coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an ink jet method or the like.

樹脂組成物が熱可塑性樹脂組成物である場合は、当該樹脂組成物を、射出成形、押出成形、真空成形、圧縮成形、ブロー成形等をすることにより成形品を得ることができる。この方法では、樹脂成分として熱可塑性樹脂を用い、当該熱可塑性樹脂にオキソカーボン系化合物を配合し、加熱成形することにより成形品が得られる。例えば、ベース樹脂の粉体またはペレットにオキソカーボン系化合物を添加し、150℃〜350℃程度に加熱し、溶解させた後、成形するとよい。成形品の形状は特に限定されるものではないが、板状、シート状、粒状、粉状、塊状、粒子凝集体状、球状、楕円球状、立方体状、柱状、棒状、錐形状、筒状、針状、繊維状、中空糸状、多孔質状等が挙げられる。成形品は任意の異形品であってもよい。また樹脂を混練する際に、紫外線吸収剤、可塑剤等、通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えてもよい。   When the resin composition is a thermoplastic resin composition, a molded product can be obtained by subjecting the resin composition to injection molding, extrusion molding, vacuum molding, compression molding, blow molding, or the like. In this method, a thermoplastic resin is used as a resin component, an oxocarbon-based compound is blended in the thermoplastic resin, and a molded product is obtained by heat molding. For example, an oxocarbon compound may be added to the base resin powder or pellets, heated to about 150 ° C. to 350 ° C., dissolved, and then molded. The shape of the molded product is not particularly limited, but plate shape, sheet shape, granular shape, powder shape, lump shape, particle aggregate shape, spherical shape, elliptical spherical shape, cubic shape, column shape, rod shape, cone shape, cylindrical shape, Examples include a needle shape, a fiber shape, a hollow fiber shape, and a porous shape. The molded product may be any irregular shaped product. Moreover, when kneading | mixing resin, you may add the additive used for normal resin shaping | molding, such as a ultraviolet absorber and a plasticizer.

樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、オキソカーボン系化合物を含む液状またはペースト状の樹脂組成物を、透明基板(例えば、樹脂板、フィルム、ガラス板等)上に塗工することで、厚さ200μm以下のフィルムや、厚さ200μm超の板状物等の面状成形体を形成することができる。塗料化された樹脂組成物は、オキソカーボン系化合物と樹脂成分と液媒体を含んで構成され、例えば、オキソカーボン系化合物を、樹脂成分を含む溶媒に溶解させたり、オキソカーボン系化合物を、樹脂成分を含む分散媒に分散させることにより、塗料化された樹脂組成物を得ることができる。   When the resin composition is a coated resin composition, a liquid or paste resin composition containing an oxocarbon-based compound is applied on a transparent substrate (for example, a resin plate, a film, a glass plate, etc.). By doing so, it is possible to form a planar molded body such as a film having a thickness of 200 μm or less or a plate-like material having a thickness of more than 200 μm. The resin composition formed into a paint includes an oxocarbon compound, a resin component, and a liquid medium. For example, the oxocarbon compound is dissolved in a solvent containing the resin component, or the oxocarbon compound is dissolved in a resin. By dispersing in a dispersion medium containing components, a resin composition that has been made into a paint can be obtained.

樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、樹脂成分としては、有機溶剤に可溶な溶剤可溶性樹脂を用いることが好ましい。なお溶剤可溶性樹脂とは、有機溶剤に可溶な樹脂を意味し、有機溶剤100質量部に対し、1質量部以上溶解する樹脂が好ましい。樹脂成分が溶剤可溶性樹脂であれば、例えばスピンコート法や溶媒キャスト法等により成膜することで、厚みの薄いフィルムを容易に作製することができる。溶剤可溶性樹脂は、架橋反応(硬化反応)することが可能な反応性基(例えば、エポキシ基やオキセタン環、エチレンスルフィド基等の開環重合性基や、アクリル基、メタクリル基、ビニル基等のラジカル硬化性基および/または付加硬化性基)を有するものであってもよい。溶剤可溶性樹脂としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、(メタ)アクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ウレタン樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   When the resin composition is a resin composition formed into a paint, it is preferable to use a solvent-soluble resin that is soluble in an organic solvent as the resin component. The solvent-soluble resin means a resin that is soluble in an organic solvent, and a resin that dissolves 1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the organic solvent is preferable. If the resin component is a solvent-soluble resin, a thin film can be easily produced by forming a film by, for example, spin coating or solvent casting. Solvent-soluble resins are reactive groups that can undergo a crosslinking reaction (curing reaction) (for example, ring-opening polymerizable groups such as epoxy groups, oxetane rings, and ethylene sulfide groups, acrylic groups, methacrylic groups, vinyl groups, and the like). It may have a radical curable group and / or an addition curable group. Examples of the solvent-soluble resin include polyimide resin, polyamideimide resin, fluorinated aromatic polymer, (meth) acrylic resin, polyamide resin, aramid resin, polysulfone resin, cycloolefin resin, urethane resin, phenol resin, and epoxy. Examples thereof include resins, polyarylate resins, polycarbonate resins, and the like.

樹脂としては、透明性や耐熱性に優れる観点から、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、(メタ)アクリル系樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂が好ましい。   As the resin, from the viewpoint of excellent transparency and heat resistance, polyimide resin, polyamideimide resin, fluorinated aromatic polymer, (meth) acrylic resin, polysulfone resin, cycloolefin resin, epoxy resin, polyarylate resin, polycarbonate Resins are preferred.

ポリイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にイミド結合を含む重合体であり、例えば、テトラカルボン酸2無水物とジアミンとを重合させてポリアミド酸を得て、これを脱水・環化(イミド化)させることにより製造することができる。ポリイミド樹脂としては、芳香族環がイミド結合で連結された芳香族ポリイミドを用いることが好ましい。ポリイミド樹脂は、例えば、デュポン社製のカプトン(登録商標)、三井化学社製のオーラム(登録商標)、サンゴバン社製のメルディン(登録商標)、東レプラスチック精工社製のTPS(登録商標)TI3000シリーズ等を用いることができる。   Polyimide resin is a polymer containing an imide bond in the repeating unit of the main chain. For example, tetracarboxylic dianhydride and diamine are polymerized to obtain polyamic acid, which is dehydrated and cyclized (imidized). Can be manufactured. As the polyimide resin, it is preferable to use an aromatic polyimide in which aromatic rings are connected by an imide bond. Polyimide resins include, for example, Kapton (registered trademark) manufactured by DuPont, Aurum (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Meldin (registered trademark) manufactured by Saint-Gobain, and TPS (registered trademark) TI3000 series manufactured by Toray Plastic Seiko Co., Ltd. Etc. can be used.

ポリアミドイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にアミド結合とイミド結合を含む重合体である。ポリアミドイミド樹脂は、例えば、ソルベイアドバンストポリマーズ社製のトーロン(登録商標)、東洋紡社製のバイロマックス(登録商標)、東レプラスチック精工社製のTPS(登録商標)TI5000シリーズ等を用いることができる。   Polyamideimide resin is a polymer containing an amide bond and an imide bond in the repeating unit of the main chain. As the polyamideimide resin, for example, Torlon (registered trademark) manufactured by Solvay Advanced Polymers, Viromax (registered trademark) manufactured by Toyobo, TPS (registered trademark) TI5000 series manufactured by Toray Plastic Seiko Co., Ltd., and the like can be used.

フッ素化芳香族ポリマーは、1以上のフッ素原子を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合よりなる群から選ばれる少なくとも1つの結合とを含む繰り返し単位を有する重合体であり、これらの中でも、1以上のフッ素原子を有する芳香族環とエーテル結合とを含む繰り返し単位を必須的に含む重合体であることが好ましい。フッ素化芳香族ポリマーは、例えば、特開2008−181121号公報に記載されたものを用いることができる。   The fluorinated aromatic polymer includes an aromatic ring having one or more fluorine atoms and at least one bond selected from the group consisting of an ether bond, a ketone bond, a sulfone bond, an amide bond, an imide bond, and an ester bond. A polymer having a unit, and among these, a polymer essentially including a repeating unit containing an aromatic ring having one or more fluorine atoms and an ether bond is preferable. As the fluorinated aromatic polymer, for example, those described in JP 2008-181121 A can be used.

(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸またはその誘導体由来の繰り返し単位を有する重合体であり、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル樹脂等の(メタ)アクリル酸エステル由来の繰り返し単位を有する樹脂が好ましく用いられる。(メタ)アクリル系樹脂は主鎖に環構造を有するものも好ましく、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、無水マレイン酸構造、マレイミド環構造等のカルボニル基含有環構造;オキセタン環構造、アゼチジン環構造、テトラヒドロフラン環構造、ピロリジン環構造、テトラヒドロピラン環構造、ピペリジン環構造等のカルボニル基非含有環構造が挙げられる。なお、カルボニル基含有環構造には、イミド基などのカルボニル基誘導体基を含有する構造も含む。カルボニル基含有環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、特開2004−168882号公報、特開2008−179677号公報、国際公開第2005/54311号、特開2007−31537号公報等に記載されたものを用いることができる。   The (meth) acrylic resin is a polymer having a repeating unit derived from (meth) acrylic acid or a derivative thereof, for example, a repeating unit derived from a (meth) acrylic acid ester such as a poly (meth) acrylic acid ester resin. The resin which has is used preferably. The (meth) acrylic resin preferably has a ring structure in the main chain, for example, a carbonyl group-containing ring structure such as a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, a glutarimide structure, a maleic anhydride structure, or a maleimide ring structure; oxetane Examples include carbonyl group-free ring structures such as a ring structure, an azetidine ring structure, a tetrahydrofuran ring structure, a pyrrolidine ring structure, a tetrahydropyran ring structure, and a piperidine ring structure. The carbonyl group-containing ring structure includes a structure containing a carbonyl group derivative group such as an imide group. Examples of (meth) acrylic resins having a carbonyl group-containing ring structure include those described in JP-A No. 2004-168882, JP-A No. 2008-179777, International Publication No. 2005/54311, JP-A No. 2007-31537, and the like. Those described can be used.

ポリスルホン樹脂は、芳香族環とスルホニル基(−SO2−)と酸素原子とを含む繰り返し単位を有する重合体である。ポリスルホン樹脂は、例えば、住友化学社製のスミカエクセル(登録商標)PES3600PやPES4100P、ソルベイスペシャルティポリマーズ社製のUDEL(登録商標)P−1700等を用いることができる。The polysulfone resin is a polymer having a repeating unit containing an aromatic ring, a sulfonyl group (—SO 2 —), and an oxygen atom. As the polysulfone resin, for example, SUMIKAEXCEL (registered trademark) PES3600P and PES4100P manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., UDEL (registered trademark) P-1700 manufactured by Solvay Specialty Polymers, Inc., and the like can be used.

シクロオレフィン系樹脂は、モノマー成分の少なくとも一部としてシクロオレフィンを用い、これを重合して得られる重合体であり、主鎖の一部に脂環構造を有するものであれば特に限定されない。シクロオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプラスチック社製のトパス(登録商標)、三井化学社製のアペル(登録商標)、日本ゼオン社製のゼオネックス(登録商標)およびゼオノア(登録商標)、JSR社製のアートン(登録商標)等を用いることができる。   The cycloolefin resin is a polymer obtained by polymerizing a cycloolefin as at least a part of the monomer component, and is not particularly limited as long as it has an alicyclic structure in a part of the main chain. Examples of the cycloolefin-based resin include Topas (registered trademark) manufactured by Polyplastics, Appel (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, ZEONEX (registered trademark) and ZEONOR (registered trademark) manufactured by Nippon Zeon, and JSR Arton (registered trademark) or the like made by the manufacturer can be used.

エポキシ樹脂は、エポキシ化合物(プレポリマー)を硬化剤や硬化触媒の存在下で架橋化することで硬化させることができる樹脂である。エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物等が挙げられ、例えば、大阪ガスケミカル社製のフルオレンエポキシ(オグソール(登録商標)PG−100)、三菱化学社製のビスフェノールA型エポキシ化合物(JER(登録商標)828EL)や水添ビスフェノールA型エポキシ化合物(JER(登録商標)YX8000)、ダイセル社製の脂環式液状エポキシ化合物(セロキサイド(登録商標)2021P)等を用いることができる。   The epoxy resin is a resin that can be cured by crosslinking an epoxy compound (prepolymer) in the presence of a curing agent or a curing catalyst. Examples of the epoxy compound include aromatic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, hydrogenated epoxy compounds, and the like, for example, fluorene epoxy (Ogsol (registered trademark) PG-100) manufactured by Osaka Gas Chemical Company. Bisphenol A type epoxy compound (JER (registered trademark) 828EL) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, hydrogenated bisphenol A type epoxy compound (JER (registered trademark) YX8000), alicyclic liquid epoxy compound (celloxide (registered trademark) manufactured by Daicel Corporation) Trademark) 2021P) and the like can be used.

ポリアリレート樹脂は、2価フェノール化合物と2塩基酸(例えば、フタル酸等の芳香族ジカルボン酸)とを重縮合して得られる重合体であり、主鎖の繰り返し単位に芳香族環とエステル結合とを含む繰り返し単位を有する。ポリアリレート樹脂は、例えば、クラレ社製のベクトラン(登録商標)、ユニチカ社製のUポリマー(登録商標)やユニファイナー(登録商標)等を用いることができる。   A polyarylate resin is a polymer obtained by polycondensation of a dihydric phenol compound and a dibasic acid (for example, aromatic dicarboxylic acid such as phthalic acid), and an aromatic ring and an ester bond are added to the main chain repeating unit. And a repeating unit containing As the polyarylate resin, for example, Vectran (registered trademark) manufactured by Kuraray Co., Ltd., U polymer (registered trademark) manufactured by Unitika, Unifiner (registered trademark), or the like can be used.

ポリカーボネート樹脂は、主鎖の繰り返し単位にカーボネート基(−O−(C=O)−O−)を含む重合体である。ポリカーボネート樹脂としては、帝人社製のパンライト(登録商標)、三菱エンジニアリングプラスチック社製のユーピロン(登録商標)、ノバレックス(登録商標)、ザンター(登録商標)、住化スタイロンポリカーボネート社製のSDポリカ(登録商標)等を用いることができる。   The polycarbonate resin is a polymer containing a carbonate group (—O— (C═O) —O—) in the repeating unit of the main chain. Polycarbonate resins include Panlite (registered trademark) manufactured by Teijin Limited, Iupilon (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Novalex (registered trademark), Zanta (registered trademark), SD Polycarbonate manufactured by Sumika Stylon Polycarbonate. (Registered trademark) or the like can be used.

樹脂組成物は、有機溶剤などの液媒体を含有するものであってもよく、例えば、樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、液媒体を含むことにより樹脂組成物の塗工が容易になる。液媒体としては、オキソカーボン系化合物の溶媒(溶剤)として機能するものであっても、分散媒として機能するものであってもよい。液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;PGMEA(2−アセトキシ−1−メトキシプロパン)、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のグリコール誘導体類(エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等);N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類;N−メチル−ピロリドン(具体的には、1−メチル−2−ピロリドン等)等のピロリドン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジプチルエーテル等のエーテル類;等が挙げられる。これらの液媒体は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The resin composition may contain a liquid medium such as an organic solvent. For example, when the resin composition is a resin composition coated, the resin composition is coated by including the liquid medium. Work becomes easy. The liquid medium may function as a solvent (solvent) for the oxocarbon-based compound or may function as a dispersion medium. Examples of the liquid medium include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; glycols such as PGMEA (2-acetoxy-1-methoxypropane), ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, and ethylene glycol ethyl ether acetate. Derivatives (ether compounds, ester compounds, ether ester compounds, etc.); Amides such as N, N-dimethylacetamide; Esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate; N-methyl-pyrrolidone (specifically, Pyrrolidones such as 1-methyl-2-pyrrolidone); aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and heptane; tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, Ethers such as Petit ether; and the like. These liquid media may use only 1 type and may use 2 or more types together.

液媒体の含有量としては、樹脂組成物100質量%中、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上がより好ましく、また100質量%未満が好ましく、95質量%以下がより好ましい。液媒体の含有量をこのような範囲内に調整することにより、オキソカーボン系化合物濃度の高い樹脂組成物を得ることが容易になる。   As content of a liquid medium, it is preferable that it is 50 mass% or more in 100 mass% of resin compositions, 70 mass% or more is more preferable, less than 100 mass% is preferable, and 95 mass% or less is more preferable. By adjusting the content of the liquid medium within such a range, it becomes easy to obtain a resin composition having a high oxocarbon compound concentration.

なお、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等は、オキソカーボン系化合物を分解するおそれがあるため、使用量は少ない方が好ましい。そのためアミド類の含有量は、樹脂組成物100質量%中、60質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、20質量%以下がさらに好ましく、5質量%以下がさらにより好ましく、0質量%が特に好ましい(すなわち、アミド類を含まない)。   It should be noted that amides such as N, N-dimethylacetamide are preferably used in a smaller amount because they may decompose the oxocarbon-based compound. Therefore, the content of amides is preferably 60% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, further preferably 20% by mass or less, still more preferably 5% by mass or less, and further preferably 0% by mass in 100% by mass of the resin composition. % Is particularly preferred (ie does not include amides).

樹脂組成物は、例えば、350nm〜400nmの波長域に吸収能を有する化合物(紫外線吸収剤)を含んでいてもよい。これらの化合物の存在により、350nm〜400nm波長域の光に起因する樹脂組成物の劣化を抑制することができる。350nm〜400nmの波長域に吸収能を有する化合物を併用する場合、350nm〜400nmの波長域に吸収能を有する化合物としては、例えば、BASF社製のTINUVIN(登録商標)シリーズ、三共化成社製のジスライザー(登録商標)シリーズ、アデカ社製のアデカスタブ(登録商標)シリーズ、住友化学社製のスミソーブ(登録商標)シリーズ、共同薬品社製のバイオソーブ(登録商標)シリーズ、シプロ化成社製のシーソーブ(登録商標)シリーズ等を用いることができる。   The resin composition may contain, for example, a compound (ultraviolet absorber) having an absorption ability in a wavelength range of 350 nm to 400 nm. Due to the presence of these compounds, it is possible to suppress deterioration of the resin composition due to light in the wavelength range of 350 nm to 400 nm. When a compound having an absorption ability in the wavelength range of 350 nm to 400 nm is used in combination, examples of the compound having an absorption ability in the wavelength range of 350 nm to 400 nm include TINUVIN (registered trademark) series manufactured by BASF, Sankyo Chemical Co., Ltd. Zithriser (registered trademark) series, Adeka's Adekastab (registered trademark) series, Sumitomo Chemical's Sumisorb (registered trademark) series, Kyodo Yakuhin Biosorb (registered trademark) series, Sipro Kasei's Seasorb (registered) Trademark) series or the like can be used.

樹脂組成物は表面調整剤を含んでいてもよく、これにより、樹脂組成物を硬化して樹脂層を形成した際に、樹脂層にストライエーションや凹み等の外観上の欠陥を生じることを抑制することができる。表面調整剤の種類は特に限定されず、シロキサン系界面活性剤、アセチレングリコール系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アクリル系レベリング剤などを用いることができる。表面調整剤としては、例えば、ビックケミー社製のBYK(登録商標)シリーズや信越化学工業社製のKFシリーズ等を用いることができる。   The resin composition may contain a surface conditioner, thereby suppressing appearance defects such as striations and dents in the resin layer when the resin composition is cured to form a resin layer. can do. The kind of surface conditioning agent is not specifically limited, A siloxane type surfactant, an acetylene glycol type surfactant, a fluorine type surfactant, an acrylic leveling agent, etc. can be used. As the surface conditioner, for example, BYK (registered trademark) series manufactured by Big Chemie, KF series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., or the like can be used.

樹脂組成物は分散剤を含んでいてもよく、これにより、樹脂組成物中でのオキソカーボン系化合物の分散性を安定化し、再凝集を抑制することができる。分散剤の種類は特に限定されず、エフカアディティブズ社製のEFKAシリーズ、ビックケミー社製のBYK(登録商標)シリーズ、日本ルーブリゾール社製のソルスパース(登録商標)シリーズ、楠本化成社製のディスパロン(登録商標)シリーズ、味の素ファインテクノ社製のアジスパー(登録商標)シリーズ、信越化学工業社製のKPシリーズ、共栄社化学社製のポリフローシリーズ、ディーアイシー社製のメガファック(登録商標)シリーズ、サンノプコ社製のディスパーエイドシリーズ等を用いることができる。   The resin composition may contain a dispersant, whereby the dispersibility of the oxocarbon compound in the resin composition can be stabilized and reaggregation can be suppressed. The type of the dispersant is not particularly limited. The EFKA series manufactured by Fuka Additives, the BYK (registered trademark) series manufactured by Big Chemie, the Solsperse (registered trademark) series manufactured by Lubrizol Japan, and the Disparon manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. (Registered trademark) series, Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Ajisper (registered trademark) series, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KP series, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. polyflow series, DIC Co., Ltd. Megafak (registered trademark) series, Sannopco's Dispar Aid series and the like can be used.

本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤、粘度調整剤、消泡剤、防腐剤、比抵抗調整剤、密着性向上剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。   The resin composition of the present invention contains various additives such as a plasticizer, a surfactant, a viscosity modifier, an antifoaming agent, a preservative, a specific resistance modifier, and an adhesion improver as necessary. Also good.

〔3.光学フィルタ(樹脂組成物の適用例)〕
本発明の樹脂組成物は、オプトデバイス用途、表示デバイス用途、機械部品、電気・電子部品等の様々な用途で用いられるフィルタ形成用の樹脂組成物として好ましく使用できる。光学用途のフィルタとしては、特に暗視用撮像素子の光学フィルタに好適に適用することができ、これにより、近赤外領域における光学特性の入射角度依存性が低減され、視野角度が改善された暗視用撮像素子に適した光学フィルタとすることができる。フィルタは、単一または複数の樹脂層から形成されてもよく、支持体と一体化されて形成されてもよい。
[3. Optical filter (application example of resin composition)]
The resin composition of the present invention can be preferably used as a resin composition for forming a filter used in various applications such as an optical device application, a display device application, a machine part, and an electric / electronic part. As a filter for optical applications, it can be suitably applied particularly to an optical filter of an imaging device for night vision, thereby reducing the incident angle dependency of optical characteristics in the near-infrared region and improving the viewing angle. It can be set as the optical filter suitable for the imaging device for night vision. The filter may be formed from a single or a plurality of resin layers, or may be formed integrally with the support.

支持体と一体化されたフィルタは、例えば、樹脂組成物を、支持体表面(または、支持体と樹脂層との間にバインダー層等の他の層を有する場合は、当該他の層の表面)にスピンコート法や溶媒キャスト法により塗布し、乾燥または硬化することにより形成することができる。また、支持体に対して、樹脂組成物から形成された面状成形体を熱圧着することによりフィルタを形成してもよい。   The filter integrated with the support is, for example, the resin composition, the surface of the support (or the surface of the other layer in the case of having another layer such as a binder layer between the support and the resin layer). ) By spin coating or solvent casting, and dried or cured. Moreover, you may form a filter by thermocompression-bonding the planar molded object formed from the resin composition with respect to the support body.

樹脂組成物から形成された樹脂層は、支持体の一方面のみに設けられてもよく、両面に設けられてもよい。樹脂層の厚さは特に限定されないが、所望の近赤外線カット性能を確保する点から、例えば0.5μm以上が好ましく、1μm以上がより好ましく、また10mm以下が好ましく、5mm以下がより好ましく、3mm以下がさらに好ましく、1mm以下が特に好ましい。   The resin layer formed from the resin composition may be provided only on one side of the support, or may be provided on both sides. The thickness of the resin layer is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, more preferably 10 mm or less, more preferably 5 mm or less, and more preferably 3 mm from the viewpoint of ensuring desired near infrared ray cutting performance. The following is more preferable, and 1 mm or less is particularly preferable.

支持体としては、樹脂板、樹脂フィルム、ガラス板等の透明基板を用いることが好ましい。支持体に用いられる樹脂板または樹脂フィルムは、例えば、上記に説明した樹脂成分から形成されたものが好ましく用いられる。支持体としてガラス板を用いる場合は、支持体と樹脂層の間に、例えばシランカップリング剤から形成されたバインダー層を設けることが好ましい。これにより樹脂層とガラス支持体との密着性を高めることができる。なお、樹脂層を形成する樹脂組成物に、密着性向上剤としてシランカップリング剤を含めるようにしても、樹脂層とガラス支持体との密着性を高めることができる。   As the support, a transparent substrate such as a resin plate, a resin film, or a glass plate is preferably used. As the resin plate or resin film used for the support, for example, those formed from the resin components described above are preferably used. When a glass plate is used as the support, it is preferable to provide a binder layer formed of, for example, a silane coupling agent between the support and the resin layer. Thereby, the adhesiveness of a resin layer and a glass support body can be improved. In addition, even if it includes a silane coupling agent as an adhesive improvement agent in the resin composition which forms a resin layer, the adhesiveness of a resin layer and a glass support body can be improved.

樹脂組成物から形成された樹脂層には、第2の樹脂層として、当該樹脂層と同一または異なる樹脂から構成された保護層を積層させてもよい。保護層を設けることにより、樹脂層に含まれるオキソカーボン系化合物の耐久性(耐分解性)を高めることができる。保護層は、樹脂層の一方面のみに設けられてもよく、両面に設けられてもよい。樹脂層が支持体上に設けられる場合は、保護層は、樹脂層の支持体とは反対側の面に設けられることが好ましい。   In the resin layer formed from the resin composition, a protective layer made of the same or different resin as the resin layer may be laminated as the second resin layer. By providing the protective layer, the durability (decomposition resistance) of the oxocarbon compound contained in the resin layer can be improved. The protective layer may be provided only on one side of the resin layer, or may be provided on both sides. When the resin layer is provided on the support, the protective layer is preferably provided on the surface of the resin layer opposite to the support.

保護層は、樹脂層に含まれるオキソカーボン系化合物の分解を抑える点から、酸素透過率が低く形成されていることが好ましく、例えば、JIS K 7126−2法に従って測定した23℃、ドライ条件での酸素透過率が100cc/m2/day以下であることが好ましく、70cc/m2/day以下がより好ましく、50cc/m2/day以下がさらに好ましい。酸素透過率の下限は特に限定されず、0cc/m2/dayであってもよい。なお、酸素透過率の測定は、試験片を挟んだ一方側のチャンバに酸素ガスを導入し、他方側のチャンバに窒素ガスを導入して行う。また、オキソカーボン系化合物の分解を抑える点から、樹脂層および/または保護層に紫外線吸収剤が含まれていてもよい。The protective layer is preferably formed with a low oxygen permeability from the viewpoint of suppressing the decomposition of the oxocarbon-based compound contained in the resin layer. For example, the protective layer is measured at 23 ° C. and dry conditions measured according to the JIS K 716-2 method. Is preferably 100 cc / m 2 / day or less, more preferably 70 cc / m 2 / day or less, and even more preferably 50 cc / m 2 / day or less. The lower limit of the oxygen transmission rate is not particularly limited, and may be 0 cc / m 2 / day. Note that the oxygen permeability is measured by introducing oxygen gas into one chamber across the test piece and introducing nitrogen gas into the other chamber. Moreover, the ultraviolet absorber may be contained in the resin layer and / or the protective layer from the point which suppresses decomposition | disassembly of an oxocarbon type compound.

本発明の樹脂組成物から光学フィルタを形成する場合、光学フィルタは、蛍光灯等の映り込みを低減する反射防止性や防眩性を有する層(反射防止膜)、傷付き防止性能を有する層、その他の機能を有する透明基材等を有していてもよい。   In the case of forming an optical filter from the resin composition of the present invention, the optical filter is a layer having antireflection and antiglare properties (antireflection film) for reducing the reflection of a fluorescent lamp or the like, and a layer having scratch resistance. In addition, a transparent substrate having other functions may be included.

光学フィルタは、樹脂層上に近赤外線反射膜(例えば、700nm〜800nmの波長域の反射膜)を有していてもよい。近赤外線反射膜は、樹脂層よりも入光側に設けられていることが好ましい。近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし酸化スズを少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜等を用いることができる。光学フィルタに近赤外線反射膜が設けられていれば、光学フィルタの透過光から近赤外線をよりカットすることができる。なお、近赤外線反射膜は、紫外線反射機能を兼ね備えるものであってもよい。   The optical filter may have a near-infrared reflective film (for example, a reflective film having a wavelength range of 700 nm to 800 nm) on the resin layer. It is preferable that the near-infrared reflective film is provided on the light incident side with respect to the resin layer. As a near-infrared reflective film, an aluminum vapor-deposited film, a noble metal thin film, a resin film in which metal oxide fine particles mainly containing indium oxide and containing a small amount of tin oxide are dispersed, a high refractive index material layer and a low refractive index material layer, A dielectric multilayer film or the like in which the layers are alternately stacked can be used. If the optical filter is provided with a near-infrared reflective film, the near-infrared light can be further cut from the transmitted light of the optical filter. Note that the near-infrared reflective film may have an ultraviolet reflection function.

近赤外線反射膜や反射防止膜(可視光反射防止膜)は、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜から構成することができる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が1.7以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常1.7〜2.5の材料が選択される。高屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化スズ、酸化ビスマス等の酸化物;窒化ケイ素等の窒化物;前記酸化物や前記窒化物の混合物やそれらにアルミニウムや銅等の金属や炭素をドープしたもの(例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO))等が挙げられる。低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が1.6以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常1.2〜1.6の材料が選択される。低屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、二酸化ケイ素(シリカ)、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が挙げられる。   The near-infrared reflective film or antireflection film (visible light antireflection film) can be composed of a dielectric multilayer film in which high refractive index material layers and low refractive index material layers are alternately laminated. As a material constituting the high refractive index material layer, a material having a refractive index of 1.7 or more can be used, and a material having a refractive index range of 1.7 to 2.5 is usually selected. Examples of the material constituting the high refractive index material layer include oxides such as titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, indium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, tin oxide, and bismuth oxide; silicon nitride Nitrides such as oxides, mixtures of the nitrides, and those doped with metals such as aluminum and copper and carbon (for example, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO)), etc. It is done. As a material constituting the low refractive index material layer, a material having a refractive index of 1.6 or less can be used, and a material having a refractive index range of 1.2 to 1.6 is usually selected. Examples of the material constituting the low refractive index material layer include silicon dioxide (silica), alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, and aluminum hexafluoride sodium.

光学フィルタは、撮像素子の構成部材の一つとして用いることができる。撮像素子は、固体撮像素子やイメージセンサチップとも称され、被写体の光を電気信号等に変換して出力する電子部品である。撮像素子は、通常、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)等の検出素子(センサ)を有し、レンズを有していてもよい。撮像素子は、携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子(LED等)等に用いることができる。特に、本発明の樹脂組成物から形成された光学フィルタを備えた撮像素子は、暗視用として監視カメラ等に好適に適用することができる。撮像素子は、上記の光学フィルタを1または2以上含み、必要に応じて、さらに他のフィルタ(例えば、可視光線カットフィルタ、赤外線カットフィルタ、紫外線カットフィルタ等)を有していてもよい。   The optical filter can be used as one of constituent members of the image sensor. The image sensor is also referred to as a solid-state image sensor or an image sensor chip, and is an electronic component that converts light from a subject into an electrical signal or the like and outputs the electrical signal. The imaging element usually has a detection element (sensor) such as a charge coupled device (CCD) or a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS), and may have a lens. The imaging element can be used for a mobile phone camera, a digital camera, a vehicle-mounted camera, a surveillance camera, a display element (LED or the like), and the like. In particular, an image sensor provided with an optical filter formed from the resin composition of the present invention can be suitably applied to a surveillance camera or the like for night vision. The image sensor includes one or more of the optical filters described above, and may further include other filters (for example, a visible light cut filter, an infrared cut filter, an ultraviolet cut filter, etc.) as necessary.

本発明の樹脂組成物は、上記に説明した光学用途のフィルタ以外に、任意の基材に塗工して用いることができる。このときの基材としては、樹脂組成物を塗工することで樹脂層を形成できるものであれば特に限定されず、例えば、鉄鋼、非鉄金属(軽金属、貴金属、レアメタル、レアアース、銅、亜鉛、鉛、スズ等)、木、ガラス、コンクリート、石、セラミックス、樹脂、ゴム、皮革、紙、布、毛髪、皮膚等が挙げられる。基材の形状も特に限定されず、粒状、粉状、塊状、これらの凝集体状、板状、シート状、球状、楕円球状、立方体状、柱状、棒状、錐形状、筒状、針状、繊維状、中空糸状、多孔質状等が挙げられる。   The resin composition of the present invention can be used by coating on an arbitrary substrate other than the optical use filter described above. The base material at this time is not particularly limited as long as the resin layer can be formed by applying the resin composition. For example, steel, non-ferrous metal (light metal, noble metal, rare metal, rare earth, copper, zinc, Lead, tin, etc.), wood, glass, concrete, stone, ceramics, resin, rubber, leather, paper, cloth, hair, skin and the like. The shape of the substrate is not particularly limited, and is granular, powdery, massive, aggregated, plate-like, sheet-like, spherical, elliptical spherical, cubical, columnar, rod-like, conical, cylindrical, needle-like, Examples thereof include a fiber shape, a hollow fiber shape, and a porous shape.

〔4.インク組成物〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、インク組成物に適用することができる。インク組成物は、本発明のオキソカーボン系化合物と液媒体を少なくとも含むものである。本発明のインク組成物は、例えば850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収できるとともに、可視光透過率が高く、不可視性に優れるものとなるため、セキュリティインクとして好適に用いることができる。
[4. Ink composition]
The oxocarbon compound of the present invention can be applied to an ink composition. The ink composition contains at least the oxocarbon compound of the present invention and a liquid medium. The ink composition of the present invention can be effectively used as a security ink because it can effectively absorb, for example, light in a wavelength region exceeding 850 nm and has high visible light transmittance and excellent invisibility.

インク組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム化合物であってもよいし、クロコニウム化合物であってもよいし、両者が含まれていてもよい。インク組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。   The oxocarbon-based compound contained in the ink composition may be a squarylium compound, a croconium compound, or both. The oxocarbon-based compound contained in the ink composition may be only one type or two or more types.

インク組成物には、上記式(1)で表されるスクアリリウム化合物が2種以上含まれていてもよく、あるいは、上記式(2)で表されるクロコニウム化合物が2種以上含まれていてもよい。このように形成されたインク組成物は、近赤外領域の光線を効果的に吸収できるとともに、オキソカーボン系化合物の液媒体に対する溶解性が向上し、オキソカーボン系化合物を高濃度に含むインク組成物を形成することが容易になる。この場合、オキソカーボン系化合物の液媒体に対する溶解性を高める点から、インク組成物は、上記式(1)においてR1とR2が互いに異なる構造を有するスクアリリウム化合物を少なくとも含むことが好ましく、あるいは、上記式(2)においてR3とR4が互いに異なる構造を有するクロコニウム化合物を少なくとも含むことが好ましい。インク組成物はオキソカーボン系化合物を3種以上含むことがより好ましく、そのようなインク組成物としては、例えば、上記式(1)においてR1とR2ともにRxであるスクアリリウム化合物と、R1とR2がともにRyであるスクアリリウム化合物と、R1がRxでありR2がRyであるスクアリリウム化合物を含むインク組成物や、上記式(2)においてR3とR4がともにRxであるクロコニウム化合物と、R3とR4がともにRyであるクロコニウム化合物と、R3がRxでありR4がRyであるクロコニウム化合物を含むインク組成物が示される。このようなインク組成物は、オキソカーボン系化合物を複数種含みながら、製造が容易な点で好ましい。なお、ここで説明したRxとRyは、上記式(3)で表される任意の構造単位を表し、RxとRyは同一ではない。The ink composition may contain two or more types of squarylium compounds represented by the above formula (1), or may contain two or more types of croconium compounds represented by the above formula (2). Good. The ink composition thus formed can effectively absorb light in the near-infrared region, improves the solubility of the oxocarbon compound in a liquid medium, and contains an oxocarbon compound at a high concentration. It becomes easy to form an object. In this case, from the viewpoint of increasing the solubility of the oxocarbon-based compound in the liquid medium, the ink composition preferably includes at least a squarylium compound having a structure in which R 1 and R 2 are different from each other in the above formula (1). In the above formula (2), it is preferable that R 3 and R 4 contain at least a croconium compound having a different structure. The ink composition more preferably contains three or more oxocarbon-based compounds. Examples of such an ink composition include a squarylium compound in which R 1 and R 2 are both R x in the above formula (1), and R An ink composition comprising a squarylium compound in which both R 1 and R 2 are R y and a squarylium compound in which R 1 is R x and R 2 is R y , and R 3 and R 4 are both in the above formula (2) An ink composition comprising a croconium compound having R x , a croconium compound in which R 3 and R 4 are both R y , and a croconium compound having R 3 in R x and R 4 in R y is shown. Such an ink composition is preferable in terms of easy production while containing a plurality of oxocarbon compounds. In addition, Rx and Ry demonstrated here represent the arbitrary structural units represented by the said Formula (3), and Rx and Ry are not the same.

インク組成物は、用途に応じた所望の性能が確保される限り、本発明のオキソカーボン系化合物とともに他の色素を含有していてもよい。他の色素の詳細は、樹脂組成物に含まれてもよい他の色素の説明が参照される。なお、セキュリティインクとして使用する場合などは、他の色素の含有量は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素の合計100質量%に対し、50質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、5質量%以下がさらに好ましい。   The ink composition may contain other coloring matter together with the oxocarbon compound of the present invention as long as desired performance according to the application is ensured. For details of other dyes, refer to the description of other dyes that may be included in the resin composition. When used as a security ink, the content of other pigments is preferably 50% by mass or less, and 20% by mass or less, with respect to 100% by mass in total of the oxocarbon compound of the present invention and other pigments. More preferred is 5% by mass or less.

インク組成物中の本発明のオキソカーボン系化合物の含有量は、インク組成物100質量%中、0.1質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましく、また40質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましく、20質量%以下がさらに好ましい。インク組成物が他の色素も含有する場合は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素との合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。このような範囲に調整することにより、十分な濃度の印字面を得やすくなり、またオキソカーボン系化合物や他の色素のインク組成物中での安定性を確保しやすくなる。   The content of the oxocarbon compound of the present invention in the ink composition is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and preferably 40% by mass or less, in 100% by mass of the ink composition. 30 mass% or less is more preferable, and 20 mass% or less is further more preferable. When the ink composition also contains other dyes, the total content of the oxocarbon compound of the present invention and the other dyes is preferably in the above range. By adjusting to such a range, it becomes easy to obtain a printing surface having a sufficient density, and it becomes easy to ensure the stability of the oxocarbon compound and other dyes in the ink composition.

液媒体は、オキソカーボン系化合物の溶媒(溶剤)として機能するものであっても、分散媒として機能するものであってもよい。液媒体としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、tert−アミルアルコール、n−ヘキサノール等のアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)等のグリコール誘導体類(エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等);酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、3−エトキシプロピロオン酸エチル等のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類;等が挙げられる。これらの液媒体は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The liquid medium may function as a solvent (solvent) for the oxocarbon-based compound or may function as a dispersion medium. Examples of the liquid medium include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, and cyclohexanone; methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, alcohols such as tert-butyl alcohol, tert-amyl alcohol, n-hexanol; ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl Glycol derivatives such as ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) (ether compounds, ester compounds, ether ester compounds, etc.); ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, 3-ethoxypropylo Examples thereof include esters such as ethyl onate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane and heptane; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; These liquid media may use only 1 type and may use 2 or more types together.

液媒体の含有量は、インク組成物100質量%中、30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましく、また95質量%以下が好ましく、90質量%以下がより好ましく、80質量%以下がさらに好ましい。液媒体の含有量をこのような範囲内に調整することにより、オキソカーボン系化合物の溶解性や分散性を高めることができるとともに、オキソカーボン系化合物濃度の高いインク組成物を得ることが容易になる。   The content of the liquid medium is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, further preferably 50% by mass or more, more preferably 95% by mass or less, and preferably 90% by mass or less in 100% by mass of the ink composition. Is more preferable, and 80 mass% or less is still more preferable. By adjusting the content of the liquid medium within such a range, the solubility and dispersibility of the oxocarbon-based compound can be improved, and an ink composition having a high oxocarbon-based compound concentration can be easily obtained. Become.

インク組成物は、液媒体に加えて樹脂成分を有していてもよい。樹脂成分を配合することにより、インク組成物の粘度や密着性等を高めることができる。樹脂成分は、インク組成物に使用される公知の樹脂を使用することができ、(メタ)アクリル系樹脂、(メタ)アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等)、シクロオレフィン系樹脂(シクロオレフィンコポリマー、ノルボルネン系樹脂等を含む)、石油樹脂、ロジン系樹脂、ロジンエステル系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸系樹脂、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂(例えば、ナイロン等)、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキド樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂(例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリアリレート樹脂等)、ポリスルホン樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、セルロース誘導体(例えば、エチルセルロース、酢酸セルロース、ニトロセルロース等)、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂(例えば、(メタ)アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等)、フッ素系樹脂(例えば、フッ素化芳香族ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂、フッ素化ポリアリールエーテルケトン、フッ素化ポリイミド、フッ素化ポリアミド酸、フッ素化ポリエーテルニトリル等)、ジアリルフタレート樹脂、クマロンインデン系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、キシレン樹脂、アルキド樹脂、マレイン酸樹脂、フマル酸樹脂等が挙げられる。樹脂成分を配合する場合の配合量は、インク組成物100質量%中、1質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましく、また60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。   The ink composition may have a resin component in addition to the liquid medium. By blending the resin component, the viscosity and adhesion of the ink composition can be increased. As the resin component, a known resin used in the ink composition can be used. (Meth) acrylic resin, (meth) acrylic urethane resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyolefin resin ( For example, polyethylene resins, polypropylene resins, etc.), cycloolefin resins (including cycloolefin copolymers, norbornene resins, etc.), petroleum resins, rosin resins, rosin ester resins, urea resins, melamine resins, urethane resins, styrene resins Resin, styrene-acrylic resin, styrene-maleic acid resin, polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate resin, vinyl acetal resin, polyamide resin (for example, nylon), aramid resin, polyimide resin, polyamideimide resin, alkyd Resin, phenolic resin, Xy resin, polyester resin (for example, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polyarylate resin, etc.), polysulfone resin, butyral resin, polycarbonate resin, polyether resin, acrylonitrile butadiene styrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylic Nitrile-butadiene copolymers, cellulose derivatives (eg, ethyl cellulose, cellulose acetate, nitrocellulose, etc.), silicone resins, modified silicone resins (eg, (meth) acryl silicone resins, alkylpolysiloxane resins, silicone urethane resins, silicones) Polyester resin, silicone acrylic resin, etc.), fluororesin (eg fluorinated aromatic polymer, polytetrafluoroethylene, perfume) Oloalkoxy fluororesin, fluorinated polyaryletherketone, fluorinated polyimide, fluorinated polyamic acid, fluorinated polyethernitrile, etc.), diallyl phthalate resin, coumarone indene resin, terpene phenol resin, xylene resin, alkyd resin, Examples thereof include maleic acid resins and fumaric acid resins. The amount of the resin component to be blended is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, in 100% by mass of the ink composition.

インク組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、表面調整剤、分散剤、電導度調整剤、重合禁止剤、レベリング剤、酸化防止剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤の詳細は、樹脂組成物における添加剤の説明が参照される。   The ink composition may contain various additives such as an ultraviolet absorber, a surface modifier, a dispersant, a conductivity modifier, a polymerization inhibitor, a leveling agent, and an antioxidant as necessary. For details of these additives, refer to the description of the additives in the resin composition.

インク組成物は、公知の方法によって製造できる。例えば、本発明のオキソカーボン系化合物を含む色素、液媒体、および、必要に応じて重合性モノマーや重合開始剤、各種添加剤を、サンドミル等の混合機を用いて混合することによって調製できる。必要であれば、このようにして得られた混合液を、孔径3μm以下や1μm以下のフィルタでろ過してもよい。   The ink composition can be produced by a known method. For example, it can be prepared by mixing the dye containing the oxocarbon compound of the present invention, a liquid medium, and, if necessary, a polymerizable monomer, a polymerization initiator, and various additives using a mixer such as a sand mill. If necessary, the liquid mixture thus obtained may be filtered with a filter having a pore size of 3 μm or less or 1 μm or less.

本発明のインク組成物は、スクリーン印刷用インク、グラビア印刷用インク、オフセット印刷用インク、フレキソ印刷用インク、インクジェット記録用インク等に使われる通常の溶剤型インク、光(紫外線、可視光、赤外光)硬化型インク、水性インク等の各種インクに適用することができる。   The ink composition of the present invention comprises a normal solvent type ink used for screen printing ink, gravure printing ink, offset printing ink, flexographic printing ink, ink jet recording ink, etc., light (ultraviolet light, visible light, red ink). It can be applied to various inks such as external light) curable ink and water-based ink.

インク組成物は任意の材料に印刷(塗工)して使用して、印刷物を形成することができる。印刷対象物となる基材しては、例えば、紙、布、木、ガラス、コンクリート、石、セラミックス、樹脂、ゴム、皮革、鉄鋼、非鉄金属(軽金属、貴金属、レアメタル、レアアース、銅、亜鉛、鉛、スズ等)、毛髪、皮膚等が挙げられる。印刷対象物となる基材の形状も特に限定されず、シート状、板状、球状、楕円球状、立方体状、柱状、棒状、錐形状、筒状、粒状、粉状、塊状、粒子凝集体状、針状、繊維状、中空糸状、多孔質状等が挙げられる。   The ink composition can be used by printing (coating) on an arbitrary material to form a printed matter. Examples of the base material to be printed include paper, cloth, wood, glass, concrete, stone, ceramics, resin, rubber, leather, steel, non-ferrous metal (light metal, precious metal, rare metal, rare earth, copper, zinc, Lead, tin, etc.), hair, skin and the like. The shape of the substrate to be printed is also not particularly limited, and is in the form of a sheet, plate, sphere, ellipsoid, cube, column, rod, cone, cylinder, granule, powder, lump, particle aggregate , Needle shape, fiber shape, hollow fiber shape, porous shape and the like.

〔5.その他〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、上記に説明したような樹脂組成物、樹脂成形体、レーザー溶着用の光熱変換材料、インク組成物以外に、加圧や加熱による不具合の生じにくい光を利用した光定着法用材料(フラッシュ定着法用の静電荷現像用トナー)や、近赤外線を吸収またはカットする機能を有する化粧品用材料、光検出と測距(LIDAR)システム用材料等への適用も可能である。
[5. Others]
The oxocarbon-based compound of the present invention utilizes light that is less likely to cause problems due to pressurization and heating, in addition to the resin composition, resin molded body, laser welding photothermal conversion material, and ink composition as described above. It can also be applied to materials for photofixing (electrostatic charge developing toner for flash fixing), cosmetic materials that have the function of absorbing or cutting near infrared rays, and materials for light detection and ranging (LIDAR) systems. It is.

本願は、2016年2月25日に出願された日本国特許出願第2016−034756号と2016年12月27日に出願された日本国特許出願第2016−254310号に基づく優先権の利益を主張するものである。2016年2月25日に出願された日本国特許出願第2016−034756号と2016年12月27日に出願された日本国特許出願第2016−254310号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。   This application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2016-034756 filed on February 25, 2016 and Japanese Patent Application No. 2016-254310 filed on December 27, 2016. To do. The entire contents of the specifications of Japanese Patent Application No. 2016-034756 filed on February 25, 2016 and Japanese Patent Application No. 2016-254310 filed on December 27, 2016 are hereby incorporated by reference. Incorporated for.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, and is implemented with appropriate modifications within a range that can meet the purpose described above and below. Any of these may be included in the technical scope of the present invention.

(1)色素化合物の合成
(1−1)合成例1(クロコニウム化合物1の合成)
300mLの4口フラスコに塩酸60mLを入れ、フラスコ内の温度を−10℃以下に冷却し、フラスコ内の温度が0℃を超えないようにしながら、3−アミノフルオランテン5.13g(0.024mol)を加えて溶解させた。発熱が収まった後に、フラスコ内の温度を−10℃以下に維持したまま、亜硝酸ナトリウム1.63g(0.024mol)を蒸留水11gに溶かした溶液を1時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに塩化スズ・2水和物26.63g(0.118mol)を塩酸27mLに溶かした溶液を、フラスコ内の温度が0℃を超えないように1時間かけて滴下し、反応を進行させた。反応終了後、ろ別して得たケーキを真空乾燥機を用いて60℃で12時間乾燥し、フルオランテン−3−ヒドラジン塩酸塩を5.5g得た。3−アミノフルオランテンに対する収率は87.2mol%であった。
(1) Synthesis of Dye Compound (1-1) Synthesis Example 1 (Synthesis of Croconium Compound 1)
Into a 300 mL four-necked flask, 60 mL of hydrochloric acid was put, the temperature in the flask was cooled to -10 ° C. or lower, and while keeping the temperature in the flask not exceeding 0 ° C., 5.13 g (0.1. 024 mol) was added and dissolved. After the exotherm subsided, a solution in which 1.63 g (0.024 mol) of sodium nitrite was dissolved in 11 g of distilled water was added dropwise over 1 hour while maintaining the temperature in the flask at −10 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, a solution of 26.63 g (0.118 mol) of tin chloride dihydrate dissolved in 27 mL of hydrochloric acid was added dropwise over 1 hour so that the temperature in the flask did not exceed 0 ° C. Proceeded. After completion of the reaction, the cake obtained by filtration was dried using a vacuum dryer at 60 ° C. for 12 hours to obtain 5.5 g of fluoranthene-3-hydrazine hydrochloride. The yield based on 3-aminofluoranthene was 87.2 mol%.

次いで、50mLの4口フラスコに、上記で得られたフルオランテン−3−ヒドラジン塩酸塩3.01g(0.011mol)、3−メチル−2−ブタノン0.96g(0.011mol)、溶媒として1−ブタノール20gを仕込み、窒素流通下(5mL/min)、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、60℃にて4時間反応させて、縮合複素環化合物を得た。反応終了後、縮合複素環化合物を含む溶液を室温まで冷却し、ろ過した後、得られたろ液を200mLの4口フラスコに移した。そこへクロコン酸0.78g(0.006mol)とトルエン20gを加えて、窒素流通下(5mL/min)、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、かつディーンスターク装置を用いて溶出してくる水を取り除きながら、還流条件にて6時間反応させた。反応終了後、得られた反応液をエバポレーターで濃縮し、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製し、精製された単離物をさらにメタノール中で再結晶して、目的物であるクロコニウム化合物1を0.45g得た。クロコン酸に対する収率は12.2mol%であった。   Next, 3.01 g (0.011 mol) of the fluoranthene-3-hydrazine hydrochloride obtained above, 0.96 g (0.011 mol) of 3-methyl-2-butanone, and 1- 20 g of butanol was charged, and the mixture was reacted at 60 ° C. for 4 hours with stirring using a magnetic stirrer under nitrogen flow (5 mL / min) to obtain a condensed heterocyclic compound. After completion of the reaction, the solution containing the condensed heterocyclic compound was cooled to room temperature and filtered, and the obtained filtrate was transferred to a 200 mL four-necked flask. Then, 0.78 g (0.006 mol) of croconic acid and 20 g of toluene were added, stirred under a nitrogen flow (5 mL / min) using a magnetic stirrer, and water eluted using a Dean-Stark apparatus. While removing, the reaction was allowed to proceed for 6 hours under reflux conditions. After completion of the reaction, the obtained reaction solution is concentrated by an evaporator, the obtained solid is purified by column chromatography (developing solvent: chloroform), and the purified isolate is further recrystallized in methanol. 0.45 g of the target croconium compound 1 was obtained. The yield based on croconic acid was 12.2 mol%.

得られた化合物は、質量分析計(島津製作所社製「LCMS−2020」、M/Z=50−2000、ポジティブ・ネガティブ同時スキャン)により同定した。具体的には、得られた化合物約1mgをガラス棒に塗布して付着させ、直接イオン化ユニット(DART)(島津製作所社製「DART−OS」、ヒーター温度500℃)にてイオン化し、質量分析計に導入することにより、当該化合物のマススペクトルを測定した。   The obtained compound was identified by a mass spectrometer (“LCMS-2020” manufactured by Shimadzu Corporation, M / Z = 50-2000, positive / negative simultaneous scan). Specifically, about 1 mg of the obtained compound was applied and adhered to a glass rod, ionized directly with an ionization unit (DART) (“DART-OS” manufactured by Shimadzu Corporation, heater temperature 500 ° C.), and mass spectrometry was performed. By introducing it into the meter, the mass spectrum of the compound was measured.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

(1−2)合成例2(クロコニウム化合物2の合成)
合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに2−メチルアセト酢酸エチルを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物2を得た。クロコン酸に対する収率は5.8mol%であった。
(1-2) Synthesis Example 2 (Synthesis of Croconium Compound 2)
A croconium compound 2 shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that ethyl 2-methylacetoacetate was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. The yield based on croconic acid was 5.8 mol%.

(1−3)合成例3(クロコニウム化合物3の合成)
300mLの4口フラスコに、窒素流通下、3−(トリフルオロメチル)フェニルアセトン4.45g(0.022mol)を入れ、フラスコ内の温度を−10℃以下に冷却し、フラスコ内の温度が0℃を超えないようにしながら、ヘキサメチルジシラザンリチウム(1.3M テトラヒドロフラン溶液)19.06g、N,N’−ジメチルプロピレンウレア8.46g(0.066mol)、塩化マンガン2.77g(0.022mol)、臭化ベンジル4.14g(0.024mol)を順に加えた後、温度を制御せずに一晩撹拌を行った。得られた反応液を希塩酸でクエンチした後、酢酸エチルで抽出し、ブラインにて3回洗浄した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレーターで濃縮した後、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製して、4−フェニル−3−(3−(トリフルオロメチル)フェニル)ブタン−2−オンを5.0g得た。3−(トリフルオロメチル)フェニルアセトンに対する収率は78.1mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに4−フェニル−3−(3−(トリフルオロメチル)フェニル)ブタン−2−オンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物3を得た。クロコン酸に対する収率は10.1mol%であった。
(1-3) Synthesis Example 3 (Synthesis of Croconium Compound 3)
In a 300 mL four-necked flask, under nitrogen flow, 4.45 g (0.022 mol) of 3- (trifluoromethyl) phenylacetone was added, the temperature in the flask was cooled to −10 ° C. or lower, and the temperature in the flask was 0. While not exceeding ℃, hexamethyldisilazane lithium (1.3M tetrahydrofuran solution) 19.06 g, N, N′-dimethylpropyleneurea 8.46 g (0.066 mol), manganese chloride 2.77 g (0.022 mol) ) And 4.14 g (0.024 mol) of benzyl bromide were sequentially added, and the mixture was stirred overnight without controlling the temperature. The obtained reaction solution was quenched with dilute hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, and washed 3 times with brine. The obtained organic phase was dehydrated with sodium sulfate and concentrated with an evaporator, and then the obtained solid was purified by column chromatography (developing solvent: chloroform) to give 4-phenyl-3- (3- (trifluoro 5.0 g of methyl) phenyl) butan-2-one was obtained. The yield based on 3- (trifluoromethyl) phenylacetone was 78.1 mol%. The subsequent synthesis procedures were the same as those in Synthesis Example 1 except that 4-phenyl-3- (3- (trifluoromethyl) phenyl) butan-2-one was used instead of 3-methyl-2-butanone. In the same manner as in Example 1, the croconium compound 3 shown in Table 1 was obtained. The yield based on croconic acid was 10.1 mol%.

(1−4)合成例4(クロコニウム化合物4の合成)
合成例3において臭化ベンジルの代わりに(2−ヨードエチル)ベンゼンを用いた以外は、合成例3と同様にして、5−フェニル−3−(3−(トリフルオロメチル)フェニル)ペンタン−2−オンを得た。3−(トリフルオロメチル)フェニルアセトンに対する収率は86.6mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに5−フェニル−3−(3−(トリフルオロメチル)フェニル)ペンタン−2−オンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物4を得た。クロコン酸に対する収率は8.3mol%であった。
(1-4) Synthesis Example 4 (Synthesis of Croconium Compound 4)
In the same manner as in Synthesis Example 3 except that (2-iodoethyl) benzene was used instead of benzyl bromide in Synthesis Example 3, 5-phenyl-3- (3- (trifluoromethyl) phenyl) pentane-2- Got on. The yield based on 3- (trifluoromethyl) phenylacetone was 86.6 mol%. The subsequent synthesis procedures were the same as those in Synthesis Example 1 except that 5-phenyl-3- (3- (trifluoromethyl) phenyl) pentan-2-one was used instead of 3-methyl-2-butanone. In the same manner as in Example 1, the croconium compound 4 shown in Table 1 was obtained. The yield based on croconic acid was 8.3 mol%.

(1−5)合成例5(クロコニウム化合物5の合成)
合成例3において3−(トリフルオロメチル)フェニルアセトンの代わりに3,4−ジメトキシフェニルアセトンを用い、臭化ベンジルの代わりに(2−ヨードエチル)ベンゼンを用いたこと以外は、合成例3と同様にして、3−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−フェニルペンタン−2−オンを得た。3,4−ジメトキシフェニルアセトンに対する収率は95.1mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに3−(3,4−ジメトキシフェニル)−5−フェニルペンタン−2−オンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物5を得た。クロコン酸に対する収率は15.4mol%であった。
(1-5) Synthesis Example 5 (Synthesis of Croconium Compound 5)
Same as Synthesis Example 3 except that 3,4-dimethoxyphenylacetone was used instead of 3- (trifluoromethyl) phenylacetone and (2-iodoethyl) benzene was used instead of benzyl bromide in Synthesis Example 3. Thus, 3- (3,4-dimethoxyphenyl) -5-phenylpentan-2-one was obtained. The yield based on 3,4-dimethoxyphenylacetone was 95.1 mol%. Subsequent synthesis procedures were the same as those in Synthesis Example 1 except that 3- (3,4-dimethoxyphenyl) -5-phenylpentan-2-one was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. In the same manner, the croconium compound 5 shown in Table 1 was obtained. The yield based on croconic acid was 15.4 mol%.

(1−6)合成例6(クロコニウム化合物6の合成)
合成例3において臭化ベンジルの代わりに1−ヨードヘプタンを用いたこと以外は、合成例3と同様にして、3−(3−(トリフルオロメチル)フェニル)デカン−2−オンを得た。3−(トリフルオロメチル)フェニルアセトンに対する収率は89.1mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに3−(3−(トリフルオロメチル)フェニル)デカン−2−オンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物6を得た。クロコン酸に対する収率は9.2mol%であった。
(1-6) Synthesis Example 6 (Synthesis of Croconium Compound 6)
3- (3- (trifluoromethyl) phenyl) decan-2-one was obtained in the same manner as in Synthesis Example 3, except that 1-iodoheptane was used instead of benzyl bromide in Synthesis Example 3. The yield based on 3- (trifluoromethyl) phenylacetone was 89.1 mol%. The subsequent synthesis procedures are the same as those in Synthesis Example 1 except that 3- (3- (trifluoromethyl) phenyl) decan-2-one was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Thus, the croconium compound 6 shown in Table 1 was obtained. The yield based on croconic acid was 9.2 mol%.

(1−7)合成例7(クロコニウム化合物7の合成)
合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに1,1−ジフェニルアセトンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物7を得た。クロコン酸に対する収率は1.8mol%であった。
(1-7) Synthesis Example 7 (Synthesis of Croconium Compound 7)
A croconium compound 7 shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 1,1-diphenylacetone was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. The yield based on croconic acid was 1.8 mol%.

(1−8)合成例8(クロコニウム化合物8の合成)
水浴中に設置した300mLの4口フラスコに、窒素流通下、発熱に注意しながらカリウムtert−ブトキシド6.73g(0.060mol)、超脱水テトラヒドロフラン35g、フルオレン3.32g(0.020mol)、酢酸エチル3.52g(0.040mol)を順に加えた後、湯浴で加熱しながら還流条件にて3時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、希塩酸でクエンチした後、酢酸エチルで抽出し、ブラインにて3回洗浄した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレーターで濃縮した後、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製して、9−アセチル−9H−フルオレンを4.1g得た。フルオレンに対する収率は97.6%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに9−アセチル−9H−フルオレンを用いたこと、溶媒として1−ブタノールの代わりにtert−アミルアルコールを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物8を得た。クロコン酸に対する収率は30.5mol%であった。
(1-8) Synthesis Example 8 (Synthesis of Croconium Compound 8)
In a 300 mL four-necked flask placed in a water bath, under nitrogen flow, while paying attention to heat generation, 6.73 g (0.060 mol) of potassium tert-butoxide, 35 g of ultra-dehydrated tetrahydrofuran, 3.32 g (0.020 mol) of fluorene, acetic acid After sequentially adding 3.52 g (0.040 mol) of ethyl, the mixture was stirred for 3 hours under reflux conditions while heating in a hot water bath. The resulting reaction solution was cooled, quenched with dilute hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, and washed 3 times with brine. The obtained organic phase was dehydrated with sodium sulfate and concentrated with an evaporator, and then the obtained solid was purified by column chromatography (developing solvent: chloroform) to obtain 4.1 g of 9-acetyl-9H-fluorene. It was. The yield based on fluorene was 97.6%. Subsequent synthetic procedures were other than using 9-acetyl-9H-fluorene instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1 and using tert-amyl alcohol instead of 1-butanol as a solvent. Produced the croconium compound 8 shown in Table 1 in the same manner as in Synthesis Example 1. The yield based on croconic acid was 30.5 mol%.

(1−9)合成例9(クロコニウム化合物9の合成)
合成例8において、フルオレンの代わりに2−ブロモ−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして2−ブロモ−9−アセチル−9H−フルオレンを得た。2−ブロモ−9H−フルオレンに対する収率は97.1mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに2−ブロモ−9−アセチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物9を得た。クロコン酸に対する収率は10.4mol%であった。
(1-9) Synthesis Example 9 (Synthesis of Croconium Compound 9)
In Synthesis Example 8, 2-bromo-9-acetyl-9H-fluorene was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8, except that 2-bromo-9H-fluorene was used instead of fluorene. The yield based on 2-bromo-9H-fluorene was 97.1 mol%. The subsequent synthesis procedures are shown in Table 1 in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 2-bromo-9-acetyl-9H-fluorene was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Croconium compound 9 was obtained. The yield based on croconic acid was 10.4 mol%.

(1−10)合成例10(クロコニウム化合物10の合成)
合成例8において、フルオレンの代わりに2−ヨード−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして2−ヨード−9−アセチル−9H−フルオレンを得た。2−ヨード−9H−フルオレンに対する収率は95.8mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに2−ヨード−9−アセチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物10を得た。クロコン酸に対する収率は18.9mol%であった。
(1-10) Synthesis Example 10 (Synthesis of Croconium Compound 10)
In Synthesis Example 8, 2-iodo-9-acetyl-9H-fluorene was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8, except that 2-iodo-9H-fluorene was used instead of fluorene. The yield based on 2-iodo-9H-fluorene was 95.8 mol%. The subsequent synthesis procedures are shown in Table 1 in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 2-iodo-9-acetyl-9H-fluorene was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Croconium compound 10 was obtained. The yield based on croconic acid was 18.9 mol%.

(1−11)合成例11(クロコニウム化合物11の合成)
Organic Letters, vol.16, p.4268-4271 (2014) に記載の手法を用いて2−トリフルオロメチル−9H−フルオレンを合成した。次いで、合成例8において、フルオレンの代わりに2−トリフルオロメチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして2−トリフルオロメチル−9−アセチル−9H−フルオレンを得た。2−トリフルオロメチル−9H−フルオレンに対する収率は91.4mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに2−トリフルオロメチル−9−アセチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表2に示すクロコニウム化合物11を得た。クロコン酸に対する収率は10.1mol%であった。
(1-11) Synthesis Example 11 (Synthesis of Croconium Compound 11)
2-Trifluoromethyl-9H-fluorene was synthesized using the method described in Organic Letters, vol. 16, p.4268-4271 (2014). Subsequently, 2-trifluoromethyl-9-acetyl-9H-fluorene was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8 except that 2-trifluoromethyl-9H-fluorene was used instead of fluorene in Synthesis Example 8. . The yield based on 2-trifluoromethyl-9H-fluorene was 91.4 mol%. Subsequent synthesis procedures are as shown in Table 2 except that 2-trifluoromethyl-9-acetyl-9H-fluorene was used in place of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. The croconium compound 11 shown in FIG. The yield based on croconic acid was 10.1 mol%.

(1−12)合成例12(クロコニウム化合物12の合成)
The Journal of Organic Chemistry, vol.69, p.987-990 (2004) に記載の手法を用いて2−シアノ−9H−フルオレンを合成した。次いで、合成例8において、フルオレンの代わりに2−シアノ−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして2−シアノ−9−アセチル−9H−フルオレンを得た。2−シアノ−9H−フルオレンに対する収率は95.9mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに2−シアノ−9−アセチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表2に示すクロコニウム化合物12を得た。クロコン酸に対する収率は12.4mol%であった。
(1-12) Synthesis Example 12 (Synthesis of Croconium Compound 12)
2-Cyano-9H-fluorene was synthesized using the method described in The Journal of Organic Chemistry, vol.69, p.987-990 (2004). Subsequently, 2-cyano-9-acetyl-9H-fluorene was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8 except that 2-cyano-9H-fluorene was used instead of fluorene in Synthesis Example 8. The yield based on 2-cyano-9H-fluorene was 95.9 mol%. The subsequent synthesis procedures are shown in Table 2 in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 2-cyano-9-acetyl-9H-fluorene was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Croconium compound 12 was obtained. The yield based on croconic acid was 12.4 mol%.

(1−13)合成例13(クロコニウム化合物13の合成)
合成例8において、フルオレンの代わりに2,7−ジブロモフルオレンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして9−アセチル−9H−2,7−ジブロモフルオレンを得た。2,7−ジブロモフルオレンに対する収率は95.9mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに9−アセチル−9H−2,7−ジブロモフルオレンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表2に示すクロコニウム化合物13を得た。クロコン酸に対する収率は18.5mol%であった。
(1-13) Synthesis Example 13 (Synthesis of Croconium Compound 13)
In Synthesis Example 8, 9-acetyl-9H-2,7-dibromofluorene was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8, except that 2,7-dibromofluorene was used instead of fluorene. The yield based on 2,7-dibromofluorene was 95.9 mol%. The subsequent synthesis procedures are shown in Table 2 in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 9-acetyl-9H-2,7-dibromofluorene was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. The indicated croconium compound 13 was obtained. The yield based on croconic acid was 18.5 mol%.

(1−14)合成例14(クロコニウム化合物14の合成)
合成例8において、フルオレンの代わりに2−ブロモ−7−ヨード−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして2−ブロモ−7−ヨード−9−アセチル−9H−フルオレンを得た。2−ブロモ−7−ヨード−9H−フルオレンに対する収率は95.9mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに2−ブロモ−7−ヨード−9−アセチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表2に示すクロコニウム化合物14を得た。クロコン酸に対する収率は19.3mol%であった。
(1-14) Synthesis Example 14 (Synthesis of Croconium Compound 14)
In Synthesis Example 8, 2-bromo-7-iodo-9-acetyl-9H-fluorene was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 8 except that 2-bromo-7-iodo-9H-fluorene was used instead of fluorene. Obtained. The yield based on 2-bromo-7-iodo-9H-fluorene was 95.9 mol%. The subsequent synthesis procedures were the same as those in Synthesis Example 1 except that 2-bromo-7-iodo-9-acetyl-9H-fluorene was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. The croconium compound 14 shown in Table 2 was obtained. The yield based on croconic acid was 19.3 mol%.

(1−15)合成例15(クロコニウム化合物15の合成)
合成例8において、フルオレンの代わりに2,7−ジ−tert−ブチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして2,7−ジ−tert−ブチル−9−アセチル−9H−フルオレンを得た。2,7−ジ−tert−ブチル−9H−フルオレンに対する収率は97.3mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに2,7−ジ−tert−ブチル−9−アセチル−9H−フルオレンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表2に示すクロコニウム化合物15を得た。クロコン酸に対する収率は9.3mol%であった。
(1-15) Synthesis Example 15 (Synthesis of Croconium Compound 15)
In Synthesis Example 8, 2,7-di-tert-butyl-9-acetyl- was used in the same manner as in Synthesis Example 8, except that 2,7-di-tert-butyl-9H-fluorene was used instead of fluorene. 9H-fluorene was obtained. The yield based on 2,7-di-tert-butyl-9H-fluorene was 97.3 mol%. The subsequent synthesis procedures were the same as those in Synthesis Example 1 except that 2,7-di-tert-butyl-9-acetyl-9H-fluorene was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Thus, the croconium compound 15 shown in Table 2 was obtained. The yield based on croconic acid was 9.3 mol%.

(1−16)合成例16(クロコニウム化合物16の合成)
合成例8に記載される方法により9−アセチル−9H−フルオレンを得るとともに、合成例13に記載される方法により9−アセチル−9H−2,7−ジブロモフルオレンを得た。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに9−アセチル−9H−フルオレンおよび9−アセチル−9H−2,7−ジブロモフルオレンをモル比率1:1で用いたこと以外は、合成例1と同様にして表2に示すクロコニウム化合物16(混合物)を得た。クロコン酸に対する収率は12.1mol%であった。
(1-16) Synthesis Example 16 (Synthesis of Croconium Compound 16)
9-Acetyl-9H-fluorene was obtained by the method described in Synthesis Example 8, and 9-acetyl-9H-2,7-dibromofluorene was obtained by the method described in Synthesis Example 13. Subsequent synthetic procedures used 9-acetyl-9H-fluorene and 9-acetyl-9H-2,7-dibromofluorene in a molar ratio of 1: 1 instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Except that, the croconium compound 16 (mixture) shown in Table 2 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. The yield based on croconic acid was 12.1 mol%.

(1−17)合成例17(クロコニウム化合物17の合成)
合成例8において、フルオレンの代わりにインデンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして1−(1H−インデン−1−イル)エタン−1−オンを得た。インデンに対する収率は74.8mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに1−(1H−インデン−1−イル)エタン−1−オンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表2に示すクロコニウム化合物17を得た。クロコン酸に対する収率は1.5mol%であった。
(1-17) Synthesis Example 17 (Synthesis of Croconium Compound 17)
In Synthesis Example 8, 1- (1H-inden-1-yl) ethane-1-one was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8, except that indene was used instead of fluorene. The yield based on indene was 74.8 mol%. The subsequent synthesis procedures were the same as those in Synthesis Example 1 except that 1- (1H-inden-1-yl) ethane-1-one was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Thus, the croconium compound 17 shown in Table 2 was obtained. The yield based on croconic acid was 1.5 mol%.

(1−18)合成例18(クロコニウム化合物18の合成)
合成例8において、フルオレンの代わりにキサンテンを用いたこと以外は、合成例8と同様にして9−アセチル−9H−キサンテンを得た。キサンテンに対する収率は84.2mol%であった。これ以降の合成手順は、合成例1において3−メチル−2−ブタノンの代わりに9−アセチル−9H−キサンテンを用いたこと以外は、合成例1と同様にして表1に示すクロコニウム化合物18を得た。クロコン酸に対する収率は11.7mol%であった。
(1-18) Synthesis Example 18 (Synthesis of Croconium Compound 18)
In Synthesis Example 8, 9-acetyl-9H-xanthene was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8 except that xanthene was used instead of fluorene. The yield based on xanthene was 84.2 mol%. Subsequent synthesis procedures were performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 9-acetyl-9H-xanthene was used instead of 3-methyl-2-butanone in Synthesis Example 1. Obtained. The yield based on croconic acid was 11.7 mol%.

(1−19)合成例19(比較クロコニウム化合物1の合成)
50mLの4口フラスコに、2,3,3−トリメチル−4,5−ベンゾ−3H−インドール0.73g(0.004mol)、クロコン酸0.25g(0.002mol)、溶媒として1−ブタノール10gおよびトルエン10gを仕込み、窒素流通下(5mL/min)、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、かつディーンスターク装置を用いて溶出してくる水を取り除きながら、還流条件にて6時間反応させた。反応終了後、得られた反応液をエバポレーターで濃縮し、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製し、精製された単離物をさらにメタノール中で再結晶して、表2に示す比較クロコニウム化合物1を0.30g得た。クロコン酸に対する収率は32.7mol%であった。
(1-19) Synthesis Example 19 (Synthesis of Comparative Croconium Compound 1)
In a 50 mL four-necked flask, 0.73 g (0.004 mol) of 2,3,3-trimethyl-4,5-benzo-3H-indole, 0.25 g (0.002 mol) of croconic acid, and 10 g of 1-butanol as a solvent. Then, 10 g of toluene was charged, stirred under a nitrogen flow (5 mL / min) using a magnetic stirrer, and reacted for 6 hours under reflux conditions while removing the eluted water using a Dean-Stark apparatus. After completion of the reaction, the obtained reaction solution is concentrated by an evaporator, the obtained solid is purified by column chromatography (developing solvent: chloroform), and the purified isolate is further recrystallized in methanol. 0.30 g of comparative croconium compound 1 shown in Table 2 was obtained. The yield based on croconic acid was 32.7 mol%.

(1−20)合成例20(比較フタロシアニン化合物1の合成)
特開2007−56105号公報の実施例2に記載の合成法により、表3に示す比較フタロシアニン化合物1を得た。
(1-20) Synthesis Example 20 (Synthesis of Comparative Phthalocyanine Compound 1)
Comparative phthalocyanine compound 1 shown in Table 3 was obtained by the synthesis method described in Example 2 of JP-A-2007-56105.

Figure 2017146187
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Figure 2017146187
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Figure 2017146187
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(2)樹脂の調製
(2−1)フッ素化芳香族樹脂の調製
温度計、冷却管、ガス導入管、および、撹拌機を備えた反応器に、4,4’−ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンゾイル)ジフェニルエーテル16.74質量部、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン10.5質量部、炭酸カリウム4.34質量部、ジメチルアセトアミド90質量部を仕込んだ。反応器に仕込んだ混合物を80℃に加温し、8時間反応させた。反応終了後、反応溶液をブレンダーで激しく撹拌しながら、1%酢酸水溶液中に注加した。析出した反応物をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄した後、減圧乾燥して、フッ素化芳香族樹脂を得た。フッ素化芳香族樹脂のガラス転移温度(Tg)は242℃であり、数平均分子量(Mn)は70,770であった。なお、数平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィーを用い、ポリスチレン換算にて求めた。
(2) Preparation of resin (2-1) Preparation of fluorinated aromatic resin In a reactor equipped with a thermometer, a cooling pipe, a gas introduction pipe, and a stirrer, 4,4′-bis (2,3, 4,5,6-pentafluorobenzoyl) diphenyl ether 16.74 parts by mass, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene 10.5 parts by mass, potassium carbonate 4.34 parts by mass, dimethylacetamide 90 parts by mass It is. The mixture charged in the reactor was heated to 80 ° C. and reacted for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into a 1% aqueous acetic acid solution while vigorously stirring with a blender. The precipitated reaction product was filtered off, washed with distilled water and methanol, and then dried under reduced pressure to obtain a fluorinated aromatic resin. The glass transition temperature (Tg) of the fluorinated aromatic resin was 242 ° C., and the number average molecular weight (Mn) was 70,770. The number average molecular weight was determined in terms of polystyrene using gel permeation chromatography.

(2−2)アクリル系樹脂の調製
温度計、冷却管、ガス導入管、および、撹拌機を備えた反応器に、単量体としてα−アリルオキシメチルアクリル酸メチル(AMA)21.0質量部、N−フェニルマレイミド9.0質量部、重合溶媒として酢酸エチル45.0質量部を仕込み、窒素ガスの流通下、撹拌しながら昇温した。反応器内の温度が70℃で安定した後、アゾ系ラジカル重合開始剤(日本ファインケム社製、ABN−V)0.03質量部を添加し、重合反応を開始した。反応器内の温度を69℃〜71℃に維持しながら3.5時間反応させ、その後、室温まで冷却した。希釈溶媒としてテトラヒドロフランを加え、貧溶媒としてn−ヘキサンを用いて再沈殿処理を行い、沈殿物を吸引ろ過により分離した。得られた沈殿物を減圧乾燥器を用いて減圧下80℃で2時間乾燥し、アクリル系樹脂を得た。ゲル透過クロマトグラフィーにより測定したアクリル系樹脂の重量平均分子量は31,600であった。また、示差走査熱量計により測定したアクリル系樹脂のガラス転移温度(Tg)は152℃であった。
(2-2) Preparation of acrylic resin 21.0 mass of methyl α-allyloxymethyl acrylate (AMA) as a monomer in a reactor equipped with a thermometer, a cooling tube, a gas introduction tube, and a stirrer Part, N-phenylmaleimide 9.0 parts by weight, and 45.0 parts by weight of ethyl acetate as a polymerization solvent were charged, and the temperature was raised with stirring under a stream of nitrogen gas. After the temperature in the reactor was stabilized at 70 ° C., 0.03 part by mass of an azo radical polymerization initiator (manufactured by Nippon Finechem Co., Ltd., ABN-V) was added to initiate the polymerization reaction. The reaction was carried out for 3.5 hours while maintaining the temperature in the reactor at 69 ° C. to 71 ° C., and then cooled to room temperature. Tetrahydrofuran was added as a diluent solvent, reprecipitation was performed using n-hexane as a poor solvent, and the precipitate was separated by suction filtration. The obtained precipitate was dried under reduced pressure at 80 ° C. for 2 hours using a vacuum dryer to obtain an acrylic resin. The weight average molecular weight of the acrylic resin measured by gel permeation chromatography was 31,600. Moreover, the glass transition temperature (Tg) of the acrylic resin measured with the differential scanning calorimeter was 152 degreeC.

(3)フィルタ(樹脂積層基板)の製造例
(3−1)製造例1
ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウム化合物7を0.02質量部、クロロホルム18質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この樹脂組成物をガラス基板(SCHOTT社製、D263Teco、60mm×60mm×0.3mm、平均透過率91%)上に約1cc垂らした後、スピンコーター(ミカサ社製、1H−D7)を用いて塗布した。樹脂組成物を成膜したガラス基板を、イナートオーブン(ヤマト科学社製、DN610I)を用いて100℃で30分間窒素雰囲気下で乾燥することにより、ガラス基板上に樹脂層を形成した樹脂積層基板1を得た。樹脂層の厚みは約2μmであった。
(3) Manufacturing example of filter (resin laminated substrate) (3-1) Manufacturing example 1
2 parts by mass of polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Iupilon (registered trademark) E-2000), 0.02 parts by mass of croconium compound 7 and 18 parts by mass of chloroform are mixed to obtain a dye-containing resin composition. It was. After about 1 cc of this resin composition was dropped on a glass substrate (manufactured by SCHOTT, D263Teco, 60 mm × 60 mm × 0.3 mm, average transmittance 91%), a spin coater (manufactured by Mikasa, 1H-D7) was used. Applied. The resin laminated substrate which formed the resin layer on the glass substrate by drying the glass substrate which formed the resin composition into a film using nitrogen oven for 30 minutes at 100 degreeC using inert oven (the Yamato Scientific company make, DN610I) 1 was obtained. The thickness of the resin layer was about 2 μm.

(3−2)製造例2
製造例1において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりにシクロオレフィン系樹脂(日本ゼオン社製、ゼオノア(登録商標)1410R)を用い、またクロロホルムの代わりにジクロロベンゼンを用いたこと以外は、製造例1と同様にして樹脂積層基板2を作製した。
(3-2) Production Example 2
Production Example 1 except that cycloolefin resin (Zeonor (registered trademark) 1410R, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was used instead of polycarbonate resin as production resin, and dichlorobenzene was used instead of chloroform. In the same manner as in Example 1, a resin laminated substrate 2 was produced.

(3−3)製造例3
製造例1において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりにシクロオレフィン系樹脂の一種であるノルボルネン系樹脂(JSR社製、アートン(登録商標)RX4500)を用い、クロコニウム化合物7の代わりにクロコニウム化合物8を用い、さらにクロロホルムの代わりにトルエンを用いたこと以外は、製造例1と同様にして樹脂積層基板3を作製した。
(3-3) Production Example 3
In Production Example 1, a norbornene resin (JSR, Arton (registered trademark) RX4500), which is a kind of cycloolefin resin, was used as the resin used instead of the polycarbonate resin, and the croconium compound 8 was used instead of the croconium compound 7. A resin laminated substrate 3 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that toluene was used instead of chloroform.

(3−4)製造例4
製造例1において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりにシクロオレフィン系樹脂の一種であるシクロオレフィンコポリマー(ポリプラスチックス社製、TOPAS(登録商標)5013)を用い、クロコニウム化合物7の代わりにクロコニウム化合物8を用い、さらにクロロホルムの代わりにメチルシクロヘキサンを用いたこと以外は、製造例1と同様にして樹脂積層基板4を作製した。
(3-4) Production Example 4
In Production Example 1, a cycloolefin copolymer (TOPAS (registered trademark) 5013, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.), which is a kind of cycloolefin resin, was used as the resin used instead of the polycarbonate resin, and the croconium compound 7 was used instead of the croconium compound 7. Resin laminate substrate 4 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that methylcyclohexane was used instead of chloroform.

(3−5)製造例5
製造例1において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりに上記(2−1)で調製したフッ素化芳香族樹脂を用い、クロコニウム化合物7の代わりにクロコニウム化合物8を用い、さらにクロロホルムの代わりにトルエンを用いたこと以外は、製造例1と同様にして樹脂積層基板5を作製した。
(3-5) Production Example 5
In Production Example 1, the fluorinated aromatic resin prepared in (2-1) above was used instead of the polycarbonate resin as the resin used, the croconium compound 8 was used instead of the croconium compound 7, and toluene was used instead of chloroform. A resin laminated substrate 5 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that it was used.

(3−6)製造例6
製造例1において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりに上記(2−2)で調製したアクリル系樹脂を用い、クロコニウム化合物7の代わりにクロコニウム化合物8を用い、さらにクロロホルムの代わりにトルエンを用いたこと以外は、製造例1と同様にして樹脂積層基板6を作製した。
(3-6) Production Example 6
In Production Example 1, the acrylic resin prepared in the above (2-2) was used as the resin used instead of the polycarbonate resin, the croconium compound 8 was used instead of the croconium compound 7, and toluene was used instead of chloroform. Except for this, a resin laminated substrate 6 was produced in the same manner as in Production Example 1.

(3−7)比較製造例1
製造例1において、クロコニウム化合物7の代わりに比較フタロシアニン化合物1を用いたこと以外は、製造例1と同様にして比較樹脂積層基板1を作製した。
(3-7) Comparative production example 1
Comparative resin laminated substrate 1 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that Comparative Phthalocyanine Compound 1 was used instead of Croconium Compound 7 in Production Example 1.

(4)評価
(4−1)色素化合物と樹脂積層基板の分光測定
合成例1〜20で得た各色素化合物のクロロホルム溶液を調製し、波長400nm〜1100nmにおける吸収スペクトル(透過スペクトル)を測定した。色素化合物のクロロホルム溶液は、極大吸収波長における透過率が10%(±0.05%)となるように濃度を調整し、分光光度計(島津製作所社製、UV−1800)を用いて、測定ピッチ1nmで光線透過率を測定し、波長400nm〜1100nmの範囲で吸収が最大となる波長(極大吸収波長λmax)、極大吸収波長よりも長波長側で透過率が30%となる波長(%T30)、波長400nm〜700nmの平均透過率(可視光透過率)、波長400nmにおける透過率(%T(400nm))をそれぞれ求めた。また、製造例1〜6および比較製造例1で作製した各樹脂積層基板についても、上記と同様にして波長400nm〜1100nmにおける吸収スペクトル(透過スペクトル)を測定し、極大吸収波長における透過率を10%(±0.05%)としたときの極大吸収波長λmax、%T30、可視光透過率、%T(400nm)をそれぞれ求めた。
(4) Evaluation (4-1) Spectroscopic measurement of dye compound and resin laminated substrate A chloroform solution of each dye compound obtained in Synthesis Examples 1 to 20 was prepared, and an absorption spectrum (transmission spectrum) at wavelengths of 400 nm to 1100 nm was measured. . The chloroform solution of the dye compound was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-1800) after adjusting the concentration so that the transmittance at the maximum absorption wavelength was 10% (± 0.05%). The light transmittance is measured at a pitch of 1 nm, the wavelength at which absorption is maximum in the wavelength range of 400 nm to 1100 nm (maximum absorption wavelength λmax), and the wavelength at which the transmittance is 30% on the longer wavelength side than the maximum absorption wavelength (% T30 ), An average transmittance (visible light transmittance) at a wavelength of 400 nm to 700 nm, and a transmittance (% T (400 nm)) at a wavelength of 400 nm. Moreover, also about each resin laminated substrate produced by the manufacture examples 1-6 and the comparative manufacture example 1, the absorption spectrum (transmission spectrum) in wavelength 400nm-1100nm is measured like the above, and the transmittance | permeability in maximum absorption wavelength is 10 The maximum absorption wavelength λmax,% T30, visible light transmittance, and% T (400 nm) when% (± 0.05%) were determined.

各色素化合物のクロロホルム溶液の分光測定結果を表4にまとめ、クロコニウム化合物1、比較クロコニウム化合物1、比較フタロシアニン化合物1の各透過スペクトルを図1に示した。クロコニウム化合物1〜18は環Aと置換基R7のπ電子の合計数が16個であり、極大吸収波長λmaxが892nm〜934nm、%T30が918nm〜963nm、可視光平均透過率が85.2%〜92.2%であった。一方、比較クロコニウム化合物1は環Aと置換基R7のπ電子の合計数が10個であり、極大吸収波長λmaxが810nm、%T30が830nm、可視光平均透過率が92.8%であった。クロコニウム化合物1(クロコニウム化合物1〜18の中で%T30が最も低波長となるクロコニウム化合物)と比較クロコニウム化合物1のπ電子数と%T30の波長との関係を線形補間すると、π電子数が12個以上であれば%T30の波長が850nm以上となり、850nmを超える波長域の光線を効果的に吸収できることが分かる。%T30の波長が850nm以上であれば、例えば、セキュリティインクやレーザー溶着用途に好適に用いることができる。なお、比較フタロシアニン化合物1は、極大吸収波長λmaxが904nmと850nmを超える波長域の光線を吸収することができるものの、可視光平均透過率が80.8%と低く、不可視性の点でやや劣るものとなった。The spectral measurement results of the chloroform solution of each dye compound are summarized in Table 4, and the transmission spectra of the croconium compound 1, the comparative croconium compound 1, and the comparative phthalocyanine compound 1 are shown in FIG. In the croconium compounds 1 to 18, the total number of π electrons of the ring A and the substituent R 7 is 16, the maximum absorption wavelength λmax is 892 to 934 nm,% T30 is 918 to 963 nm, and the visible light average transmittance is 85.2. % To 92.2%. On the other hand, the comparative croconium compound 1 has a total number of π electrons of the ring A and the substituent R 7 of 10, the maximum absorption wavelength λmax is 810 nm,% T30 is 830 nm, and the visible light average transmittance is 92.8%. It was. When the relationship between the number of π electrons of the croconium compound 1 (the croconium compound in which% T30 has the lowest wavelength among the croconium compounds 1 to 18) and the comparative croconium compound 1 is linearly interpolated, the number of π electrons is 12 If the number is more than one, the wavelength of% T30 is 850 nm or more, and it can be seen that light in a wavelength region exceeding 850 nm can be effectively absorbed. If the wavelength of% T30 is 850 nm or more, it can be suitably used, for example, for security ink and laser welding applications. The comparative phthalocyanine compound 1 can absorb light in the wavelength range where the maximum absorption wavelength λmax exceeds 904 nm and 850 nm, but the visible light average transmittance is as low as 80.8%, which is slightly inferior in invisibility. It became a thing.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

表5には、各樹脂積層基板の分光測定結果をまとめた。樹脂積層基板1〜2には色素としてクロコニウム化合物7が含まれており、樹脂積層基板3〜6には色素としてクロコニウム化合物8が含まれており、比較樹脂積層基板1には色素として比較フタロシアニン化合物1が含まれているが、いずれも樹脂の種類によらず、樹脂積層基板の極大吸収波長λmaxの値はクロロホルム溶液中のそれとほぼ近い値となった。また可視光透過率は、樹脂積層基板1〜6の方が比較樹脂積層基板1よりも高くなった。樹脂積層基板1〜6は、例えば暗視用撮像素子の光学フィルタに好適に適用することができる。   Table 5 summarizes the spectroscopic measurement results of each resin laminated substrate. The resin laminated substrates 1 and 2 contain a croconium compound 7 as a dye, the resin laminated substrates 3 to 6 contain a croconium compound 8 as a dye, and the comparative resin laminated substrate 1 contains a comparative phthalocyanine compound as a dye. 1 was included, but regardless of the type of resin, the value of the maximum absorption wavelength λmax of the resin laminated substrate was almost the same as that in the chloroform solution. Further, the visible light transmittance of the resin laminated substrates 1 to 6 was higher than that of the comparative resin laminated substrate 1. The resin laminated substrates 1 to 6 can be preferably applied to, for example, an optical filter of an imaging device for night vision.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

(4−2)インク組成物としたときの保存安定性
合成例7で得たクロコニウム化合物7を5mg秤量し、これをクロロホルムで希釈して100mLに調製した。得られたクロロホルム溶液をホールピペットを用いて5mL分取して、さらにクロロホルムで希釈して50mLに調製し、インク組成物1を得た。得られたインク組成物1を室温にて遮光下で1ヶ月間保存した。調製直後と1ヶ月保存後のインク組成物1について、上記と同様にして波長400nm〜1100nmにおける吸収スペクトル(透過スペクトル)を測定し、極大吸収波長における透過率と可視光透過率をそれぞれ求めた。クロコニウム化合物7を含むインク組成物1は、1ヶ月が経過しても分光特性上の劣化は確認されず、保存安定性に優れていることが確認された。
(4-2) Storage stability when used as ink composition 5 mg of the croconium compound 7 obtained in Synthesis Example 7 was weighed and diluted with chloroform to prepare 100 mL. 5 mL of the resulting chloroform solution was collected using a whole pipette, and further diluted with chloroform to prepare 50 mL. Thus, ink composition 1 was obtained. The obtained ink composition 1 was stored at room temperature for 1 month under light shielding. For the ink composition 1 immediately after preparation and after storage for 1 month, the absorption spectrum (transmission spectrum) at a wavelength of 400 nm to 1100 nm was measured in the same manner as described above, and the transmittance and the visible light transmittance at the maximum absorption wavelength were obtained. It was confirmed that the ink composition 1 containing the croconium compound 7 was excellent in storage stability without degradation in spectral characteristics even after one month.

Figure 2017146187
Figure 2017146187

本発明のオキソカーボン系化合物は、例えば、近赤外線を吸収・カットする機能を有する半導体受光素子用の光学フィルタ、省エネルギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板、セキュリティインクや不可視バーコードインクとしての情報表示材料、可視光および近赤外光を利用した太陽電池用材料、プラズマディスプレイパネル(PDP)やCCD用の特定波長吸収フィルタ、レーザー溶着用の光熱変換材料、加圧や加熱による不具合の生じにくい光を利用した光定着法用材料(フラッシュ定着法用の静電荷現像用トナー)、近赤外線を吸収またはカットする機能を有する化粧品用材料、光検出と測距(LIDAR)システム用材料等に適用することができる。   The oxocarbon-based compound of the present invention includes, for example, an optical filter for a semiconductor light-receiving element having a function of absorbing and cutting near infrared rays, a near-infrared absorbing film and a near-infrared absorbing plate for blocking heat rays for energy saving, security ink and invisible. Information display material as barcode ink, solar cell material using visible light and near infrared light, specific wavelength absorption filter for plasma display panel (PDP) and CCD, photothermal conversion material for laser welding, pressurization and Materials for photo-fixing methods that use light that is less likely to cause defects due to heating (static charge developing toner for flash fixing methods), cosmetic materials that have the function of absorbing or cutting near infrared rays, and light detection and ranging (LIDAR) It can be applied to system materials.

Claims (7)

下記式(1)または下記式(2)で表されることを特徴とするオキソカーボン系化合物。
Figure 2017146187

[式(1)および式(2)中、R1〜R4はそれぞれ独立して、下記式(3)で示される構造単位を表す。]
Figure 2017146187

[式(3)中、
環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し、
5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成しており、
*は式(1)中の4員環または式(2)中の5員環との結合部位を表し、
環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。]
An oxocarbon compound represented by the following formula (1) or the following formula (2).
Figure 2017146187

[In Formula (1) and Formula (2), R 1 to R 4 each independently represent a structural unit represented by the following Formula (3). ]
Figure 2017146187

[In Formula (3),
Ring A may have an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocycle which may have a substituent, or a substituent containing these ring structures. Represents a fused ring,
R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an organic group, or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring,
* Represents a binding site with the 4-membered ring in formula (1) or the 5-membered ring in formula (2);
The total number of π electrons contained in rings A and R 7 is 12 or more. ]
前記R5とR6は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基を表すか、R5とR6が互いに連結して形成された、置換基および/または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および/または縮合環構造を有していてもよい複素環を表し、
前記R7は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよいアリール基を表す請求項1に記載のオキソカーボン系化合物。
R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl which may have a substituent. A substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, or an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, or a substituent formed by linking R 5 and R 6 to each other And / or a hydrocarbon ring optionally having a condensed ring structure, or a heterocyclic ring optionally having a substituent and / or a condensed ring structure,
The oxocarbon compound according to claim 1, wherein R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
請求項1または2に記載のオキソカーボン系化合物と樹脂成分とを含むことを特徴とする樹脂組成物。   A resin composition comprising the oxocarbon-based compound according to claim 1 or 2 and a resin component. さらに液媒体を含む請求項3に記載の樹脂組成物。   Furthermore, the resin composition of Claim 3 containing a liquid medium. 請求項1または2に記載のオキソカーボン系化合物と液媒体とを含むことを特徴とするインク組成物。   An ink composition comprising the oxocarbon-based compound according to claim 1 and a liquid medium. 下記式(5)で表されることを特徴とする縮合複素環化合物。
Figure 2017146187

[式(5)中、
環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し、
5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成しており、
環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。]
A condensed heterocyclic compound represented by the following formula (5):
Figure 2017146187

[In Formula (5),
Ring A may have an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocycle which may have a substituent, or a substituent containing these ring structures. Represents a fused ring,
R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an organic group, or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring,
The total number of π electrons contained in rings A and R 7 is 12 or more. ]
下記式(5)で表される縮合複素環化合物をスクアリン酸またはクロコン酸と反応させ、下記式(1)または下記式(2)で表されるオキソカーボン系化合物を得る工程を有することを特徴とするオキソカーボン系化合物の製造方法。
Figure 2017146187

[式(5)中、
環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し、
5〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、R5とR6は互いに連結して環を形成しており、
環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。]
Figure 2017146187

[式(1)および式(2)中、R1〜R4はそれぞれ独立して、下記式(3)で示される構造単位を表す。]
Figure 2017146187

[式(3)中、
環AおよびR5〜R7は上記と同じ意味を表し、
*は式(1)中の4員環または式(2)中の5員環との結合部位を表し、
環AおよびR7に含まれるπ電子の合計数は12個以上である。]
It comprises a step of reacting a condensed heterocyclic compound represented by the following formula (5) with squaric acid or croconic acid to obtain an oxocarbon compound represented by the following formula (1) or the following formula (2). A process for producing an oxocarbon compound.
Figure 2017146187

[In Formula (5),
Ring A may have an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocycle which may have a substituent, or a substituent containing these ring structures. Represents a fused ring,
R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an organic group, or a polar functional group, or R 5 and R 6 are connected to each other to form a ring,
The total number of π electrons contained in rings A and R 7 is 12 or more. ]
Figure 2017146187

[In Formula (1) and Formula (2), R 1 to R 4 each independently represent a structural unit represented by the following Formula (3). ]
Figure 2017146187

[In Formula (3),
Ring A and R 5 to R 7 have the same meaning as above,
* Represents a binding site with the 4-membered ring in formula (1) or the 5-membered ring in formula (2);
The total number of π electrons contained in rings A and R 7 is 12 or more. ]
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