JP6796443B2 - Light selective absorption resin laminate - Google Patents

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本発明は光選択吸収樹脂積層体に関し、具体的には、近赤外領域の光を吸収することができる光選択吸収樹脂積層体に関する。 The present invention relates to a light selective absorption resin laminate, specifically, a light selective absorption resin laminate capable of absorbing light in the near infrared region.

近年、表示素子や撮像素子等の光学デバイス他、種々の分野において、多機能化を図るため、様々な層から構成された積層構造を有する光学材料が広く用いられている。このような積層構造に含まれる層としては、例えば、基板表面での光の反射を低減させる反射防止層、撮像素子における光学ノイズを低減させる近赤外線吸収層等が挙げられる。近赤外領域のノイズを低減する近赤外線吸収構造体(例えば、近赤外線カットフィルター)は様々知られており、そのような近赤外線吸収構造体として、例えば特許文献1〜5には、オキソカーボン系化合物を近赤外領域の光の吸収源として用いた近赤外線吸収構造体が開示されている。 In recent years, optical materials having a laminated structure composed of various layers have been widely used in various fields such as optical devices such as display elements and image pickup elements in order to achieve multi-functionality. Examples of the layer included in such a laminated structure include an antireflection layer that reduces the reflection of light on the substrate surface, a near-infrared absorbing layer that reduces optical noise in the image sensor, and the like. Various near-infrared absorbing structures (for example, near-infrared cut filters) that reduce noise in the near-infrared region are known, and as such near-infrared absorbing structures, for example, Patent Documents 1 to 5 describe oxocarbon. A near-infrared absorbing structure using a system compound as a light absorbing source in the near-infrared region is disclosed.

特開2012−8532号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-8532 特開2014−59550号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-59550 特開2014−63144号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-63144 特開2014−126642号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-126642 特開2014−148567号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-148567

オキソカーボン系化合物のような近赤外線吸収色素は条件によって比較的分解しやすいものがあるが、近赤外線吸収構造体は光を当てて使用することが基本であることから、近赤外線吸収構造体は十分な耐光性を有することが求められる。すなわち、光照射下での近赤外線吸収色素の分解ができるだけ抑えられることが求められる。本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、近赤外領域の光を選択的に吸収し、耐光性に優れた光選択吸収構造体を提供することにある。 Some near-infrared absorbing dyes such as oxocarbon compounds are relatively easily decomposed depending on the conditions, but since the near-infrared absorbing structure is basically used by exposing it to light, the near-infrared absorbing structure is It is required to have sufficient light resistance. That is, it is required that the decomposition of the near-infrared absorbing dye under light irradiation is suppressed as much as possible. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a light selective absorption structure which selectively absorbs light in the near infrared region and has excellent light resistance.

本発明は、以下の発明を含む。
[1] 近赤外線吸収色素を含有する第1の樹脂層と、前記第1の樹脂層と同一または異なる樹脂から構成された第2の樹脂層とを、積層構造として少なくとも有する光選択吸収樹脂積層体であって、前記第2の樹脂層は、JIS K 7126−2法に従って測定した23℃、ドライ条件での酸素透過率が100cc/m2/day以下であることを特徴とする光選択吸収樹脂積層体。
[2] 前記積層体を構成する少なくとも1つの層に紫外線吸収剤が含まれている[1]に記載の光選択吸収樹脂積層体。
[3] 前記近赤外線吸収色素がオキソカーボン系化合物である[1]または[2]に記載の光選択吸収樹脂積層体。
[4] 前記オキソカーボン系化合物が、下記式(1)で表されるスクアリリウム化合物または下記式(2)で表されるクロコニウム化合物である[3]に記載の光選択吸収樹脂積層体。

Figure 0006796443

[式(1)および式(2)中、R1〜R4はそれぞれ独立して、下記式(3)または下記式(4)で表される基を表す。]
Figure 0006796443

[式(3)中、R5〜R9はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、R5とR6、R6とR7、R7とR8、R8とR9はそれぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。
式(4)中、R10〜R14はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、R10とR11、R11とR12、R12とR13、R13とR14はそれぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。
*は、式(1)中の4員環または式(2)中の5員環との結合部位を表す。] The present invention includes the following inventions.
[1] A light selective absorption resin laminate having at least a first resin layer containing a near-infrared absorbing dye and a second resin layer composed of the same or different resin as the first resin layer as a laminated structure. The second resin layer is a body, and is characterized by light selective absorption having an oxygen transmittance of 100 cc / m 2 / day or less under dry conditions at 23 ° C. measured according to the JIS K 7126-2 method. Resin laminate.
[2] The light selective absorption resin laminate according to [1], wherein the ultraviolet absorber is contained in at least one layer constituting the laminate.
[3] The light selective absorption resin laminate according to [1] or [2], wherein the near-infrared absorbing dye is an oxocarbon-based compound.
[4] The light selective absorption resin laminate according to [3], wherein the oxocarbon-based compound is a squarylium compound represented by the following formula (1) or a croconium compound represented by the following formula (2).
Figure 0006796443

[In the formulas (1) and (2), R 1 to R 4 independently represent a group represented by the following formula (3) or the following formula (4). ]
Figure 0006796443

[In formula (3), R 5 to R 9 independently represent a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, and R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 8 And R 9 may be coupled to each other to form a ring, respectively.
In formula (4), R 10 to R 14 independently represent a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, and are R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , and R 13 . Each of R 14 may be bonded to each other to form a ring.
* Represents a binding site with a 4-membered ring in formula (1) or a 5-membered ring in formula (2). ]

本発明の光選択吸収樹脂積層体は、近赤外線吸収色素を含有する第1の樹脂層によって近赤外領域の光を選択的に吸収することができ、第1の樹脂層に酸素透過率の低い第2の樹脂層を積層することにより、第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素の分解を抑えることができる。そのため、本発明の光選択吸収樹脂積層体は耐光性に優れたものとなる。 The light selective absorption resin laminate of the present invention can selectively absorb light in the near infrared region by a first resin layer containing a near infrared absorbing dye, and the first resin layer has an oxygen transmittance. By laminating the lower second resin layer, the decomposition of the near-infrared absorbing dye contained in the first resin layer can be suppressed. Therefore, the light selective absorption resin laminate of the present invention has excellent light resistance.

本発明の光選択吸収樹脂積層体は、近赤外線吸収色素を含有する第1の樹脂層と、前記第1の樹脂層と同一または異なる樹脂から構成された第2の樹脂層とを、積層構造として少なくとも有するものである。本発明の光選択吸収樹脂積層体は、近赤外線吸収色素を含有する第1の樹脂層によって、近赤外領域(例えば、600〜1100nmの波長範囲の少なくとも一部)の光を選択的に吸収することができる。一方、近赤外線吸収色素は酸素によって分解が促進される傾向があることから、第1の樹脂層に酸素透過率の低い第2の樹脂層を積層することにより、第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素の分解を抑えることができる。そのため、本発明の光選択吸収樹脂積層体は耐光性に優れたものとなる。以下、本発明の光選択吸収樹脂積層体について、詳しく説明する。 The light selective absorption resin laminate of the present invention has a laminated structure of a first resin layer containing a near-infrared absorbing dye and a second resin layer composed of the same or different resin as the first resin layer. At least have as. The light selective absorption resin laminate of the present invention selectively absorbs light in the near infrared region (for example, at least a part of the wavelength range of 600 to 1100 nm) by the first resin layer containing the near infrared absorbing dye. can do. On the other hand, since the near-infrared absorbing dye tends to be decomposed by oxygen, it is contained in the first resin layer by laminating a second resin layer having a low oxygen transmittance on the first resin layer. Decomposition of near-infrared absorbing dye can be suppressed. Therefore, the light selective absorption resin laminate of the present invention has excellent light resistance. Hereinafter, the light selective absorption resin laminate of the present invention will be described in detail.

光選択吸収樹脂積層体に含まれる第1の樹脂層と第2の樹脂層を構成する樹脂は、公知の樹脂を用いることができる。第1の樹脂層を構成する樹脂と第2の樹脂層を構成する樹脂は、互いに同一であっても異なっていてもよい。これらの樹脂層を構成する樹脂としては、透明性が高い樹脂であることが好ましく、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、(メタ)アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂)、シクロオレフィン系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、スチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド樹脂(例えば、ナイロン)、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキド樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂(例えば、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等)、ブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスルホン樹脂、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂)、AS樹脂(アクリロニトリル−スチレン共重合体)、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂(例えば、(メタ)アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等)、フッ素系樹脂(例えば、フッ素化芳香族ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)、フッ素化ポリアリールエーテルケトン(FPEK)、フッ素化ポリイミド(FPI)、フッ素化ポリアミド酸(FPAA)、フッ素化ポリエーテルニトリル(FPEN)等)等が挙げられる。これらの中でも、透明性、汎用性に優れる点から、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フッ素化芳香族ポリマーが好ましい。 As the resin constituting the first resin layer and the second resin layer contained in the light selective absorption resin laminate, a known resin can be used. The resin constituting the first resin layer and the resin constituting the second resin layer may be the same as or different from each other. The resin constituting these resin layers is preferably a highly transparent resin, for example, (meth) acrylic resin, (meth) acrylic urethane resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, and polyolefin. Resin (for example, polyethylene resin, polypropylene resin), cycloolefin resin, melamine resin, urethane resin, styrene resin, polyvinyl acetate, polyamide resin (for example, nylon), aramid resin, polyimide resin, polyamideimide resin, alkyd resin , Phenolic resin, epoxy resin, polyester resin (for example, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), etc.), butyral resin, polycarbonate resin, polyether resin, polysulfone resin, ABS resin (acrylic nitrile butadiene styrene resin) , AS resin (acrylonitrile-styrene copolymer), silicone resin, modified silicone resin (for example, (meth) acrylic silicone resin, alkylpolysiloxane resin, silicone urethane resin, silicone polyester resin, silicone acrylic resin, etc.), fluorine Based resins (for example, fluorinated aromatic polymer, polytetrafluoroethylene (PTFE), perfluoroalkoxyfluororesin (PFA), fluorinated polyaryl ether ketone (FPEK), fluorinated polyimide (FPI), fluorinated polyamic acid ( FPAA), fluorinated polyethylene nitrile (FPN), etc.) and the like. Among these, from the viewpoint of excellent transparency and versatility, (meth) acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyolefin resin, cycloolefin resin, polyimide resin, polyamideimide resin, epoxy resin, polyester Resins, polycarbonate resins, polysulfone resins and fluorinated aromatic polymers are preferred.

(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸またはその誘導体由来の繰り返し単位を有する重合体であり、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル樹脂等の(メタ)アクリル酸エステル由来の繰り返し単位を有する樹脂が好ましく用いられる。(メタ)アクリル系樹脂は主鎖に環構造を有するものも好ましく、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、無水マレイン酸構造、マレイミド環構造等のカルボニル基含有環構造;オキセタン環構造、アゼチジン環構造、テトラヒドロフラン環構造、ピロリジン環構造、テトラヒドロピラン環構造、ピペリジン環構造等のカルボニル基非含有環構造が挙げられる。なお、カルボニル基含有環構造には、イミド基などのカルボニル基誘導体基を含有する構造も含む。カルボニル基含有環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、特開2004−168882号公報、特開2008−179677号公報、国際公開第2005/54311号、特開2007−31537号公報等に記載されたものを用いることができる。 The (meth) acrylic resin is a polymer having a repeating unit derived from (meth) acrylic acid or a derivative thereof, and for example, a repeating unit derived from a (meth) acrylic acid ester such as a poly (meth) acrylic acid ester resin. The resin to have is preferably used. The (meth) acrylic resin preferably has a ring structure in the main chain, for example, a carbonyl group-containing ring structure such as a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, a glutarimide structure, a maleic anhydride structure, and a maleimide ring structure; oxetane. Examples thereof include a carbonyl group-free ring structure such as a ring structure, an azetidine ring structure, a tetrahydrofuran ring structure, a pyrrolidine ring structure, a tetrahydropyran ring structure, and a piperidine ring structure. The carbonyl group-containing ring structure also includes a structure containing a carbonyl group derivative group such as an imide group. Examples of the (meth) acrylic resin having a carbonyl group-containing ring structure are described in JP-A-2004-168882, JP-A-2008-179677, International Publication No. 2005/54311, JP-A-2007-31537 and the like. The ones described can be used.

ポリ塩化ビニル樹脂は、[−CH2−CHCl−]を繰り返し単位に有する重合体であり、ポリ塩化ビニリデン樹脂は、[−CH2−CCl2−]を繰り返し単位に有する重合体である。ポリオレフィン樹脂は、アルケンをモノマーとして重合することにより得られる重合体であり、ポリエチレンやポリプロピレン等が挙げられる。 Polyvinyl chloride resins, [- CH 2 -CHCl-] is a polymer having the repeating units, polyvinylidene chloride resins are polymers having the repeating unit [- - CH 2 -CCl 2] . The polyolefin resin is a polymer obtained by polymerizing an alkene as a monomer, and examples thereof include polyethylene and polypropylene.

シクロオレフィン系樹脂は、モノマー成分の少なくとも一部としてシクロオレフィンを用い、これを重合して得られる重合体であり、主鎖の一部に脂環構造を有するものであれば特に限定されない。シクロオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプラスチック社製のトパス(登録商標)、三井化学社製のアペル(登録商標)、日本ゼオン社製のゼオネックス(登録商標)およびゼオノア(登録商標)、JSR社製のアートン(登録商標)等を用いることができる。 The cycloolefin-based resin is a polymer obtained by using cycloolefin as at least a part of the monomer component and polymerizing the cycloolefin, and is not particularly limited as long as it has an alicyclic structure in a part of the main chain. Examples of cycloolefin resins include Topas (registered trademark) manufactured by Polyplastics, Appel (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Zeonex (registered trademark) and Zeonoa (registered trademark) manufactured by Nippon Zeon, and JSR Corporation. Arton (registered trademark) manufactured by JSR Corporation can be used.

ポリイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にイミド結合を含む重合体であり、例えば、テトラカルボン酸2無水物とジアミンとを重合させてポリアミド酸を得て、これを脱水・環化(イミド化)させることにより製造することができる。ポリイミド樹脂としては、芳香族環がイミド結合で連結された芳香族ポリイミドを用いることが好ましい。ポリイミド樹脂は、例えば、デュポン社製のカプトン(登録商標)、三井化学社製のオーラム(登録商標)、サンゴバン社製のメルディン(登録商標)、東レプラスチック精工社製のTPS(登録商標)TI3000シリーズ等を用いることができる。 The polyimide resin is a polymer containing an imide bond in the repeating unit of the main chain. For example, polycarboxylic acid dianhydride and diamine are polymerized to obtain polyamic acid, which is dehydrated and cyclized (imidized). It can be manufactured by allowing it to be produced. As the polyimide resin, it is preferable to use an aromatic polyimide in which aromatic rings are linked by an imide bond. Polyimide resins include, for example, Kapton (registered trademark) manufactured by DuPont, Aurum (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Meldin (registered trademark) manufactured by Coralvan, and TPS (registered trademark) TI3000 series manufactured by Toray Plastics Precision Precision Co., Ltd. Etc. can be used.

ポリアミドイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にアミド結合とイミド結合を含む重合体である。ポリアミドイミド樹脂は、例えば、ソルベイアドバンストポリマーズ社製のトーロン(登録商標)、東洋紡社製のバイロマックス(登録商標)、東レプラスチック精工社製のTPS(登録商標)TI5000シリーズ等を用いることができる。 The polyamide-imide resin is a polymer containing an amide bond and an imide bond in the repeating unit of the main chain. As the polyamide-imide resin, for example, Toron (registered trademark) manufactured by Solvay Advanced Polymers, Viromax (registered trademark) manufactured by Toyobo, TPS (registered trademark) TI5000 series manufactured by Toray Plastics Precision Precision Co., Ltd., and the like can be used.

エポキシ樹脂は、エポキシ化合物(プレポリマー)を硬化剤や硬化触媒の存在下で架橋することで硬化可能な樹脂である。エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物等が挙げられ、例えば、大阪ガスケミカル社製のフルオレンエポキシ(オグソール(登録商標)PG−100)、三菱化学社製のビスフェノールA型エポキシ化合物(JER(登録商標)828EL)や水添ビスフェノールA型エポキシ化合物(JER(登録商標)YX8000)、ダイセル社製の脂環式液状エポキシ化合物(セロキサイド(登録商標)2021P)等を用いることができる。 Epoxy resin is a resin that can be cured by cross-linking an epoxy compound (prepolymer) in the presence of a curing agent or a curing catalyst. Examples of the epoxy compound include aromatic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, hydrogenated epoxy compounds and the like. For example, fluorene epoxy manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. (Ogsol (registered trademark) PG-100). , Mitsubishi Chemical's bisphenol A type epoxy compound (JER (registered trademark) 828EL), hydrogenated bisphenol A type epoxy compound (JER (registered trademark) YX8000), and Daicel's alicyclic liquid epoxy compound (celloxide (registered)) Trademark) 2021P) and the like can be used.

ポリエステル樹脂は、主鎖の繰り返し単位にエステル結合を含む重合体であり、多価カルボン酸(ジカルボン酸)とポリアルコール(ジオール)とを重縮合させることにより得られる。ポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられ、例えば、帝人社製のTRNシリーズ、テオネックス(登録商標)、デュポン社製のライナイト(登録商標)、三菱化学社製のノバペックス(登録商標)、三菱エンジニアリングプラスチックス社製のノバデュラン(登録商標)、東レ社製のルミラー(登録商標)、トレコン(登録商標)等を用いることができる。 The polyester resin is a polymer containing an ester bond in the repeating unit of the main chain, and is obtained by polycondensing a polyvalent carboxylic acid (dicarboxylic acid) and a polyalcohol (diol). Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, and the like. For example, TRN series manufactured by Teijin, Theonex (registered trademark), and Lynite manufactured by DuPont. (Registered trademark), Novapex (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Novaduran (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Lumirer (registered trademark) manufactured by Toray Industries, etc. can be used. ..

ポリカーボネート樹脂は、主鎖の繰り返し単位にカーボネート基(−O−(C=O)−O−)を含む重合体である。ポリカーボネート樹脂としては、帝人社製のパンライト(登録商標)、三菱エンジニアリングプラスチック社製のユーピロン(登録商標)、ノバレックス(登録商標)、ザンター(登録商標)、住化スタイロンポリカーボネート社製のSDポリカ(登録商標)等を用いることができる。 The polycarbonate resin is a polymer containing a carbonate group (-O- (C = O) -O-) as a repeating unit of the main chain. Polycarbonate resins include Panlite (registered trademark) manufactured by Teijin, Upiron (registered trademark), Novarex (registered trademark), Zanter (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, and SD Polyca manufactured by Sumika Stylon Polycarbonate. (Registered trademark) and the like can be used.

ポリスルホン樹脂は、芳香族環とスルホニル基(−SO2−)と酸素原子とを含む繰り返し単位を有する重合体である。ポリスルホン樹脂は、例えば、住友化学社製のスミカエクセル(登録商標)PES3600PやPES4100P、ソルベイスペシャルティポリマーズ社製のUDEL(登録商標)P−1700等を用いることができる。 The polysulfone resin is a polymer having a repeating unit containing an aromatic ring, a sulfonyl group (−SO 2− ), and an oxygen atom. As the polysulfone resin, for example, Sumika Excel (registered trademark) PES3600P or PES4100P manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., UDEL (registered trademark) P-1700 manufactured by Solvay Specialty Polymers, etc. can be used.

フッ素化芳香族ポリマーは、1以上のフッ素原子を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合よりなる群から選ばれる少なくとも1つの結合とを含む繰り返し単位を有する重合体であり、これらの中でも、1以上のフッ素原子を有する芳香族環とエーテル結合とを含む繰り返し単位を必須的に含む重合体であることが好ましい。フッ素化芳香族ポリマーは、例えば、特開2008−181121号公報に記載されたものを用いることができる。 The fluorinated aromatic polymer is a repeat containing an aromatic ring having one or more fluorine atoms and at least one bond selected from the group consisting of ether bonds, ketone bonds, sulfone bonds, amide bonds, imide bonds and ester bonds. It is a polymer having a unit, and among these, a polymer essentially containing a repeating unit containing an aromatic ring having one or more fluorine atoms and an ether bond is preferable. As the fluorinated aromatic polymer, for example, those described in JP-A-2008-181121 can be used.

第1の樹脂層は近赤外線吸収色素を含有する。第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素は、有機色素であっても、無機色素であっても、有機無機複合色素(例えば、金属原子またはイオンが配位した有機化合物)であってもよく、特にその種類は限定されない。近赤外線吸収色素は波長650nm〜1100nmの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、これにより、光選択吸収樹脂積層体を近赤外線カットフィルター等に好適に適用することができる。近赤外線吸収色素の極大吸収波長の波長範囲は、好ましくは680nm以上であり、700nm以上がより好ましく、また1090nm以下が好ましく、1070nm以下がより好ましい。 The first resin layer contains a near-infrared absorbing dye. The near-infrared absorbing dye contained in the first resin layer may be an organic dye, an inorganic dye, or an organic-inorganic composite dye (for example, an organic compound in which a metal atom or an ion is coordinated). Well, the type is not particularly limited. The near-infrared absorbing dye preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 650 nm to 1100 nm, whereby the light selective absorption resin laminate can be suitably applied to a near-infrared cut filter or the like. The wavelength range of the maximum absorption wavelength of the near-infrared absorbing dye is preferably 680 nm or more, more preferably 700 nm or more, preferably 1090 nm or less, and more preferably 1070 nm or less.

近赤外線吸収色素としては、例えば、中心金属イオンとして銅(例えば、Cu(II))や亜鉛(例えば、Zn(II))等を有していてもよい環状テトラピロール系色素(ポルフィリン類、クロリン類、フタロシアニン類、コリン類等)、オキソカーボン系色素、シアニン系色素、クアテリレン系色素、ナフタロシアニン系色素、ニッケル錯体系色素、銅イオン系色素、ジインモニウム系色素、サブフタロシアニン系色素、キサンテン系色素、アゾ系色素、ジピロメテン系色素等が挙げられる。第1の樹脂層には、近赤外線吸収色素が1種のみ含まれていても、2種以上含まれていてもよい。なお、所望の光学特性が発揮されるように分子設計することが容易な点から、近赤外線吸収色素としては有機色素または有機無機複合色素を用いることが好ましく、中でも、近赤外領域の光を効果的に吸収し、可視光透過率を高めることが容易な点から、近赤外線吸収色素としてはオキソカーボン系化合物を用いることが好ましい。オキソカーボン系化合物はまた、酸素の存在下で比較的分解しやすいため、第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素としてオキソカーボン系化合物を用いることにより、第2の樹脂層による近赤外線吸収色素の分解抑制効果がより奏されやすくなる。 As the near-infrared absorbing dye, for example, a cyclic tetrapyrrole dye (porphyrins, chlorin) which may have copper (for example, Cu (II)), zinc (for example, Zn (II)) or the like as a central metal ion. , Phthalocyanines, choline, etc.), oxocarbon dyes, cyanine dyes, quaterylene dyes, naphthalocyanine dyes, nickel complex dyes, copper ion dyes, diimmonium dyes, subphthalocyanine dyes, xanthene dyes. , Azo dyes, dipyrromethene dyes and the like. The first resin layer may contain only one type of near-infrared absorbing dye, or may contain two or more types. It is preferable to use an organic dye or an organic-infrared composite dye as the near-infrared absorbing dye because it is easy to design the molecule so as to exhibit desired optical characteristics. Among them, light in the near-infrared region is used. It is preferable to use an oxocarbon-based compound as the near-infrared absorbing dye because it can be effectively absorbed and the visible light transmittance can be easily increased. Since the oxocarbon-based compound is also relatively easily decomposed in the presence of oxygen, the near-infrared ray absorption by the second resin layer is performed by using the oxocarbon-based compound as the near-infrared ray absorbing dye contained in the first resin layer. The effect of suppressing the decomposition of the dye is more easily exerted.

オキソカーボン系化合物は、炭素酸化物を基本骨格として含む化合物であれば特に限定されないが、近赤外領域に吸収波長を有する化合物として広く知られているスクアリリウム化合物またはクロコニウム化合物を用いることが好ましい。スクアリリウム化合物としては、下記式(1)で表されるスクアリリウム骨格を有する化合物が具体的に示され、クロコニウム化合物としては、下記式(2)で表されるクロコニウム骨格を有する化合物が具体的に示される。下記式(1)および式(2)において、R1〜R4はそれぞれ独立して有機基を表す。 The oxocarbon-based compound is not particularly limited as long as it is a compound containing a carbon oxide as a basic skeleton, but it is preferable to use a squarylium compound or a croconium compound which is widely known as a compound having an absorption wavelength in the near infrared region. As the squarylium compound, a compound having a squarylium skeleton represented by the following formula (1) is specifically shown, and as a croconium compound, a compound having a croconium skeleton represented by the following formula (2) is specifically shown. Is done. In the following formulas (1) and (2), R 1 to R 4 independently represent organic groups.

Figure 0006796443
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第1の樹脂層に含まれるオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム化合物であってもよいし、クロコニウム化合物であってもよいし、両者が含まれていてもよい。第1の樹脂層に含まれるオキソカーボン系化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The oxocarbon-based compound contained in the first resin layer may be a squarylium compound, a croconium compound, or both may be contained. The oxocarbon-based compound contained in the first resin layer may be only one kind or two or more kinds.

スクアリリウム化合物は、上記式(1)において、R1とR2の少なくとも一方が、スクアリリウム骨格とπ共役系で繋がった、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環を表すものが好ましい。クロコニウム化合物は、上記式(2)において、R3とR4の少なくとも一方が、クロコニウム骨格とπ共役系で繋がった、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環を表すものが好ましい。このようなスクアリリウム化合物またはクロコニウム化合物を用いることにより、π共役系がスクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格から芳香族炭化水素環や芳香族複素環にかけて広がって、近赤外領域の光を選択的に吸収しやすくなる。より好ましくは、上記式(1)において、R1とR2の両方が、スクアリリウム骨格とπ共役系で繋がった、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環を表し、上記式(2)において、R3とR4の両方が、クロコニウム骨格とπ共役系で繋がった、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環を表す。 In the above formula (1), the aromatic hydrocarbon compound has an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle in which at least one of R 1 and R 2 is connected to the squarylium skeleton in a π-conjugated system and may have a substituent. , Or those representing a fused ring containing these ring structures is preferable. In the above formula (2), the croconium compound has an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle in which at least one of R 3 and R 4 is connected to the croconium skeleton in a π-conjugated system and may have a substituent. , Or those representing a fused ring containing these ring structures is preferable. By using such a squarylium compound or a croconium compound, the π-conjugated system spreads from the squarylium skeleton or the croconium skeleton to the aromatic hydrocarbon ring or the aromatic heterocycle, and it is easy to selectively absorb light in the near infrared region. Become. More preferably, in the above formula (1), an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle in which both R 1 and R 2 are connected to the squarylium skeleton in a π-conjugated system and may have a substituent. Alternatively, it represents a fused ring containing these ring structures, and in the above formula (2), both R 3 and R 4 are aromatic hydrocarbons which may have a substituent connected to the croconium skeleton in a π-conjugated system. Represents a hydrogen ring, an aromatic heterocycle, or a fused ring containing these ring structures.

芳香族炭化水素環としては、炭素数6〜20のものが挙げられ、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、フルオランテン環、シクロテトラデカヘプタエン環等が挙げられる。中でも、置換基を有していてもよい5員または6員の芳香族炭化水素環が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon ring include those having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, a fluoranthene ring, and a cyclotetradecaheptaene ring. Of these, a 5- or 6-membered aromatic hydrocarbon ring that may have a substituent is preferable.

芳香族複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む5員または6員の単環性芳香族複素環、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む縮環性芳香族複素環等が挙げられ、具体的には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。中でも、置換基を有していてもよい5員または6員の芳香族複素環が好ましい。 As the aromatic heterocycle, for example, a 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocycle containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and a 3- to 8-membered ring are condensed. Examples thereof include a fused aromatic heterocycle which is bicyclic or tricyclic and contains at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and specific examples thereof include a furan ring, a thiophene ring, and a pyrrol ring. , Pyrazole ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, purine ring, pteridine ring and the like. Of these, a 5- or 6-membered aromatic heterocycle which may have a substituent is preferable.

芳香族炭化水素環と芳香族複素環を含む縮合環としては、例えば、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環等が挙げられる。 Examples of the fused ring containing the aromatic hydrocarbon ring and the aromatic heterocycle include an indole ring, an isoindole ring, a benzimidazole ring, a quinoline ring, a benzopyran ring, an acridine ring, a xanthene ring, and a carbazole ring.

芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環は、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格と直接結合していてもよく、π共役系を有する連結基を介してスクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格と結合していてもよい。いずれの場合も、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格からこれらの環構造にかけてπ共役系が広がるように構成されていればよい。π共役を有する連結基としては、例えば、−CRa1=、−(CRa2=CRa3h−、−N=CRa1−、−NRa1−(CRa2=CRa3h−、−O−(CRa2=CRa3h−、−S−(CRa2=CRa3h−(式中、Ra1〜Ra3は、水素原子、有機基またはハロゲン原子を表し、Ra2とRa3は互いに繋がって環を形成していてもよく、hは1以上の整数を表す)で表される基が示される。Ra1〜Ra3の有機基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。 The aromatic hydrocarbon ring, the aromatic heterocycle, or the fused ring containing these ring structures may be directly bonded to the squarylium skeleton or the croconium skeleton, and the squarylium skeleton or croconium via a linking group having a π-conjugated system. It may be associated with the skeleton. In either case, the π-conjugated system may be configured to extend from the squarylium skeleton or the croconium skeleton to these ring structures. Examples of the linking group having π-conjugation include −CR a1 =, − (CR a2 = CR a3 ) h −, −N = CR a1 −, −NR a1 − (CR a2 = CR a3 ) h −, −O. − (CR a2 = CR a3 ) h −, −S− (CR a2 = CR a3 ) h − (In the formula, R a1 to R a3 represent hydrogen atom, organic group or halogen atom, and R a2 and R a3 May be connected to each other to form a ring, and h represents an integer of 1 or more). Examples of the organic group of R a1 to R a3 include an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group and the like.

芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環が有していてもよい置換基の種類は特に限定されず、例えば、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリール基、アラルキル基、アミド基、スルホンアミド基、シアノ基、ハロゲノ基等が挙げられる。当該置換基としては、好ましくは水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子であり、置換基の数は1〜5個が好ましく、1〜3個がより好ましい。 The type of substituents that the aromatic hydrocarbon ring, the aromatic heterocycle, or the fused ring containing these ring structures may have is not particularly limited, and for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, a nitro group, an alkyl group, etc. Examples thereof include an alkoxy group, an alkyloxycarbonyl group, an aryl group, an aralkyl group, an amide group, a sulfonamide group, a cyano group and a halogeno group. The substituent is preferably a hydroxyl group, a carboxyl group, a nitro group, an alkoxy group, an aryl group, or a halogen atom, and the number of substituents is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3.

オキソカーボン系化合物は、上記式(1)および式(2)において、R1〜R4がそれぞれ独立して、下記式(3)または式(4)で示される基であるものが好ましい。式(3)中、R5〜R9はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、R5とR6、R6とR7、R7とR8、R8とR9はそれぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。式(4)中、R10〜R14はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、R10とR11、R11とR12、R12とR13、R13とR14はそれぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。*は、式(1)中の4員環または式(2)中の5員環との結合部位を表す。 The oxocarbon-based compound is preferably a group in which R 1 to R 4 are independently represented by the following formula (3) or formula (4) in the above formulas (1) and (2). In formula (3), R 5 to R 9 independently represent a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, and are R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , and R 8 . Each of R 9 may be bonded to each other to form a ring. In formula (4), R 10 to R 14 independently represent a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, and are R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , and R 13 . Each of R 14 may be bonded to each other to form a ring. * Represents a binding site with a 4-membered ring in formula (1) or a 5-membered ring in formula (2).

Figure 0006796443
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式(3)および式(4)中、R5〜R14の有機基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基(アルキルチオ基)、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオオキシ基(アリールチオ基)、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリール基、アミド基、スルホンアミド基、カルボキシ基(カルボン酸基)、シアノ基、エチレン含有基、イミン含有基等が挙げられる。R5〜R14の極性官能基としては、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基(スルホン酸基)等が挙げられる。 In the formulas (3) and (4), examples of the organic group of R 5 to R 14 include an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthiooxy group (alkylthio group), an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an aryl group and an aralkyl group. Group, aryloxy group, arylthiooxy group (arylthio group), aryloxycarbonyl group, arylsulfonyl group, arylsulfinyl group, heteroaryl group, amide group, sulfonamide group, carboxy group (carboxylic acid group), cyano group, Examples thereof include an ethylene-containing group and an imine-containing group. Examples of the polar functional groups of R 5 to R 14 include a halogeno group, a hydroxyl group, a nitro group, an amino group, a sulfo group (sulfonic acid group) and the like.

前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の脂環式アルキル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は1〜20が好ましく、具体的には、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば炭素数1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5であり、脂環式のアルキル基であれば炭素数4〜10が好ましく、5〜8がより好ましい。前記アルキル基は置換基を有していてもよく、アルキル基が有する置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基等が挙げられる。ハロゲノ基を有するアルキル基としては、モノハロゲノアルキル基、ジハロゲノアルキル基、トリハロメチル単位を有するアルキル基、パーハロゲノアルキル基等が挙げられる。ハロゲノ基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。 Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group and an undecyl group. Linear or branched alkyl groups such as group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecil group, icosyl group; cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, Examples thereof include alicyclic alkyl groups such as cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group and cyclodecyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 20, and specifically, if it is a linear or branched alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and even more preferably 1. If it is an alicyclic alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 4 to 10, and more preferably 5 to 8. The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent contained in the alkyl group include an aryl group, a heteroaryl group, a halogeno group, a hydroxyl group, a carboxy group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group and an amino group. Examples include a sulfo group. Examples of the alkyl group having a halogeno group include a monohalogenoalkyl group, a dihalogenoalkyl group, an alkyl group having a trihalomethyl unit, a perhalogenoalkyl group and the like. As the halogeno group, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are preferable, and a fluorine atom is particularly preferable.

前記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5である。前記アルコキシ基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。 Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, an undecyloxy group and a dodecyloxy group. , Tridecyloxy group, tetradecyloxy group, pentadecyloxy group, hexadecyloxy group, heptadecyloxy group, octadecyloxy group, nonadesyloxy group, icosyloxy group and the like. The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and even more preferably 1 to 5. The alkyl group in the alkoxy group may be linear or branched.

前記アルキルチオオキシ基(アルキルチオ基)としては、例えば、メチルチオオキシ基(メチルチオ基)、エチルチオオキシ基(エチルチオ基)、プロピルチオオキシ基(プロピルチオ基)、ブチルチオオキシ基(ブチルチオ基)、ペンチルチオオキシ基(ペンチルチオ基)、ヘキシルチオオキシ基(ヘキシルチオ基)、ヘプチルチオオキシ基(ヘプチルチオ基)、オクチルチオオキシ基(オクチルチオ基)、ノニルチオオキシ基(ノニルチオ基)、デシルチオオキシ基(デシルチオ基)、ウンデシルチオオキシ基(ウンデシルチオ基)、ドデシルチオオキシ基(ドデシルチオ基)、トリデシルチオオキシ基(トリデシルチオ基)、テトラデシルチオオキシ基(テトラデシルチオ基)、ペンタデシルチオオキシ基(ペンタデシルチオ基)、ヘキサデシルチオオキシ基(ヘキサデシルチオ基)、ヘプタデシルチオオキシ基(ヘプタデシルチオ基)、オクタデシルチオオキシ基(オクタデシルチオ基)、ノナデシルチオオキシ基(ノナデシルチオ基)、イコシルチオオキシ基(イコシルチオ基)等が挙げられる。アルキルチオオキシ基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5である。前記アルキルチオオキシ基中のアルキル基は、直鎖状であってもよいし分岐状であってもよい。 Examples of the alkylthiooxy group (alkylthio group) include a methylthiooxy group (methylthio group), an ethylthiooxy group (ethylthio group), a propylthiooxy group (propylthio group), a butylthiooxy group (butylthio group), and a pentylthio. Oxy group (pentylthio group), hexylthiooxy group (hexylthio group), heptylthiooxy group (heptylthiooxy group), octylthiooxy group (octylthio group), nonylthiooxy group (nonylthio group), decylthiooxy group (decylthio group) ), Undecylthiooxy group (Undecylthiooxy group), Dodecylthiooxy group (Dodecylthiooxy group), Tridecylthiooxy group (Tridecylthiooxy group), Tetradecylthiooxy group (Tetradecylthiooxy group), Pentadecylthiooxy group (Penta) Decylthio group), hexadecylthiooxy group (hexadecylthio group), heptadecylthiooxy group (heptadecylthio group), octadecylthiooxy group (octadecylthio group), nonadesylthiooxy group (nonadecilthiooxy group), icosylthiooxy group (Icosylthio group) and the like. The number of carbon atoms of the alkylthiooxy group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and even more preferably 1 to 5. The alkyl group in the alkylthiooxy group may be linear or branched.

前記アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基等の無置換アルコキシカルボニル基の他、トリフルオロメチルオキシカルボニル基等の置換アルコキシカルボニル基が挙げられる。ここで置換基としては、ハロゲノ基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、2〜20が好ましく、より好ましくは2〜10であり、さらに好ましくは2〜5である。前記アルコキシカルボニル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。 Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, a heptyloxycarbonyl group, an octyloxycarbonyl group, and a decyloxycarbonyl group. Examples thereof include an unsubstituted alkoxycarbonyl group such as an octadecyloxycarbonyl group and a substituted alkoxycarbonyl group such as a trifluoromethyloxycarbonyl group. Here, examples of the substituent include a halogeno group and the like. The number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10, and even more preferably 2 to 5. The alkyl group in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched.

前記アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基の置換または無置換のアルキルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基の炭素数は、1〜20が好ましく、より好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜5である。前記アルキルスルホニル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。 Examples of the alkylsulfonyl group include methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, butylsulfonyl group, hexylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, octylsulfonyl group and methoxymethylsulfonyl group. Examples thereof include a group, a cyanomethylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group of a trifluoromethylsulfonyl group, and the like. The number of carbon atoms of the alkylsulfonyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and even more preferably 1 to 5. The alkyl group in the alkylsulfonyl group may be linear or branched.

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基、アズレニル基、フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ペンタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、アセナフチレニル基、フェナレニル基等が挙げられる。アリール基の炭素数は、6〜20が好ましく、より好ましくは6〜15である。前記アリール基は置換基を有していてもよく、アリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。前記アリール基は、ヘテロアリール基と縮環していてもよい。 Examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, an indenyl group, an azulenyl group, a fluorenyl group, a terphenyl group, a quarterphenyl group, a pentarenyl group, a heptalenyl group and a biphenylenyl group. Examples thereof include a group, an indacenyl group, an acenaphthylenyl group, a phenylenyl group and the like. The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms. The aryl group may have a substituent, and examples of the substituent contained in the aryl group include an alkyl group, an alkoxy group, a heteroaryl group, a halogeno group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an amino group and a thiocyanate group. Examples thereof include an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and a sulfamoyl group. The aryl group may be fused with a heteroaryl group.

前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基等が挙げられる。前記アラルキル基は置換基を有していてもよく、アラルキル基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。アラルキル基の炭素数は、7〜25が好ましく、より好ましくは7〜15である。 Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, a phenylpentyl group and the like. The aralkyl group may have a substituent, and examples of the substituent contained in the aralkyl group include an alkyl group, an alkoxy group, a halogeno group, a cyano group, a nitro group, a thiocianate group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxy group. Examples thereof include a carbonyl group, a carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and a sulfamoyl group. The carbon number of the aralkyl group is preferably 7 to 25, more preferably 7 to 15.

前記アリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、ビフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基、ピレニルオキシ基、インデニルオキシ基、アズレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ターフェニルオキシ基、クオーターフェニルオキシ基、ペンタレニルオキシ基、ヘプタレニルオキシ基、ビフェニレニルオキシ基、インダセニルオキシ基、アセナフチレニルオキシ基、フェナレニルオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。 Examples of the aryloxy group include a phenyloxy group, a biphenyloxy group, a naphthyloxy group, an anthryloxy group, a phenanthryloxy group, a pyrenyloxy group, an indenyloxy group, an azurenyloxy group, a fluorenyloxy group, and a tar. Examples thereof include a phenyloxy group, a quarterphenyloxy group, a pentarenyloxy group, a heptalenyloxy group, a biphenylenyloxy group, an indacenyloxy group, an acenaphtylenyloxy group and a phenalenyloxy group. The aryloxy group preferably has 6 to 25 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms.

前記アリールチオオキシ基(アリールチオ基)としては、例えば、フェニルチオオキシ基、ビフェニルチオオキシ基、ナフチルチオオキシ基、アントリルチオオキシ基、フェナントリルチオオキシ基、ピレニルチオオキシ基、インデニルチオオキシ基、アズレニルチオオキシ基、フルオレニルチオオキシ基、ターフェニルチオオキシ基、クオーターフェニルチオオキシ基、ペンタレニルチオオキシ基、ヘプタレニルチオオキシ基、ビフェニレニルチオオキシ基、インダセニルチオオキシ基、アセナフチレニルチオオキシ基、フェナレニルチオオキシ基等が挙げられる。アリールチオオキシ基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。 Examples of the arylthiooxy group (arylthiooxy group) include a phenylthiooxy group, a biphenylthiooxy group, a naphthylthiooxy group, an anthrylthiooxy group, a phenanthrylthiooxy group, a pyrenylthiooxy group, and an indenylthio. Oxy group, azulenylthiooxy group, fluorenylthiooxy group, terphenylthiooxy group, quarterphenylthiooxy group, pentalenylthiooxy group, heptalenylthiooxy group, biphenylenylthiooxy group, indacenylthiooxy group , Asenaftyrenylthiooxy group, phenalenylthiooxy group and the like. The number of carbon atoms of the arylthiooxy group is preferably 6 to 25, more preferably 6 to 15.

前記アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等の置換または無置換のフェニルオキシカルボニル基;1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基等の置換または無置換のナフチルオキシカルボニル基;等が挙げられる。アリールオキシカルボニル基の炭素数は、7〜25が好ましく、より好ましくは7〜15である。 Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenoxycarbonyl group, a 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, a 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, a 2-chlorophenyloxycarbonyl group, a 2-methylphenyloxycarbonyl group and a 2-methoxyphenyl group. Oxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxy Substituent or unsubstituted phenyloxycarbonyl group such as carbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group; substituted or unsubstituted 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, etc. Naftyloxycarbonyl group; etc. The aryloxycarbonyl group preferably has 7 to 25 carbon atoms, more preferably 7 to 15 carbon atoms.

前記アリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、2−フルオロフェニルスルホニル基、3−メチルフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、3−フルオロフェニルスルホニル基、4−メチルフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等の置換または無置換のフェニルスルホニル基;1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基等の置換または無置換のナフチルスルホニル基等が挙げられる。アリールスルホニル基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。 Examples of the arylsulfonyl group include a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, a 2-methylphenylsulfonyl group, a 2-methoxyphenylsulfonyl group, and a 2-butoxyphenylsulfonyl group. Group, 2-fluorophenylsulfonyl group, 3-methylphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 3-fluorophenylsulfonyl group Substituted or unsubstituted phenylsulfonyl groups such as groups, 4-methylphenylsulfonyl groups, 4-fluorophenylsulfonyl groups, 4-cyanophenylsulfonyl groups, 4-methoxyphenylsulfonyl groups, 4-dimethylaminophenylsulfonyl groups; 1- Examples thereof include substituted or unsubstituted naphthylsulfonyl groups such as naphthylsulfonyl groups and 2-naphthylsulfonyl groups. The arylsulfonyl group preferably has 6 to 25 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms.

前記アリールスルフィニル基としては、例えば、フェニルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、2−メチルフェニルスルフィニル基、2−メトキシフェニルスルフィニル基、2−ブトキシフェニルスルフィニル基、2−フルオロフェニルスルフィニル基、3−メチルフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、3−シアノフェニルスルフィニル基、3−ニトロフェニルスルフィニル基、4−メチルフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、4−シアノフェニルスルフィニル基、4−メトキシフェニルスルフィニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等の置換または無置換のフェニルスルフィニル基;1−ナフチルスルフィニル基、2−ナフチルスルフィニル基等の置換または無置換のナフチルスルフィニル基等が挙げられる。アリールスルフィニル基の炭素数は、6〜25が好ましく、より好ましくは6〜15である。 Examples of the arylsulfinyl group include phenylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group, 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 2-fluorophenylsulfinyl group and 3-methyl. Phenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group, 4-methylphenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyano Substituent or unsubstituted phenylsulfinyl groups such as phenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-dimethylaminophenylsulfinyl group; substituted or unsubstituted naphthylsulfinyl groups such as 1-naphthylsulfinyl group and 2-naphthylsulfinyl group. And so on. The arylsulfinyl group preferably has 6 to 25 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms.

前記ヘテロアリール基としては、例えば、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基の炭素数は、2〜20が好ましく、より好ましくは3〜15である。前記ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、ヘテロアリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲノ基、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。前記ヘテロアリール基は、アリール基と縮環していてもよい。 Examples of the heteroaryl group include thienyl group, thiopyranyl group, isothiochromenyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyraridinyl group, pyrimidinyl group, pyridadinyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group and furanyl group. Examples thereof include a pyranyl group. The heteroaryl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 15 carbon atoms. The heteroaryl group may have a substituent, and the substituent of the heteroaryl group includes an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, a halogeno group, a hydroxyl group, a cyano group, an amino group, a nitro group and a thiocyanate group. , Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfo group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group and the like. The heteroaryl group may be fused with an aryl group.

前記アミド基としては、式:−NHCORb1で表され、Rb1がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基としては上記に例示した置換基が具体的に挙げられ、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。 Examples of the amide group include those represented by the formula: -NHCOR b1 in which R b1 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a heteroaryl group and the like. Specific examples of the alkyl group, aryl group, aralkyl group, and heteroaryl group include the substituents exemplified above, and a part of the hydrogen atom may be substituted with a halogen atom.

前記スルホンアミド基としては、式:−NHSO2b2で表され、Rb2がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基としては上記に例示した置換基が具体的に挙げられ、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。 Examples of the sulfonamide group include those represented by the formula: -NHSO 2 R b2 , wherein R b2 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a heteroaryl group and the like. Specific examples of the alkyl group, aryl group, aralkyl group, and heteroaryl group include the substituents exemplified above, and a part of the hydrogen atom may be substituted with a halogen atom.

前記エチレン含有基としては、式:−CH=CH−Rb3で表され、Rb3が脂肪族炭化水素基、アリール基またはヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。Rb3の脂肪族炭化水素基は、飽和または不飽和のいずれであってもよいが、好ましくは不飽和である。このような脂肪族炭化水素基としては、−(CH=CH)k−(kは1〜10の整数であり、好ましくは1〜5の整数である)で表される繰り返し単位を有する基が好ましく、例えばビニル基が挙げられる。脂肪族炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜20のものが好ましく、より好ましくは1〜10のものが挙げられる。Rb3のアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロアリール基としては、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が挙げられる。 Examples of the ethylene-containing group include those represented by the formula: -CH = CH-R b3 in which R b3 is an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or a heteroaryl group. The aliphatic hydrocarbon group of R b3 may be saturated or unsaturated, but is preferably unsaturated. As such an aliphatic hydrocarbon group, a group having a repeating unit represented by − (CH = CH) k − (k is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 5) is used. Preferably, for example, a vinyl group is mentioned. As the aliphatic hydrocarbon group, for example, those having 1 to 20 carbon atoms are preferable, and those having 1 to 10 carbon atoms are more preferable. Examples of the aryl group of R b3 include a phenyl group, a biphenyl group and a naphthyl group, and examples of the heteroaryl group include a thienyl group, a thiopyranyl group, an isothiochromenyl group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group and a pyridyl group. Examples thereof include pyraridinyl group, pyrimidinyl group, pyridadinyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, furanyl group, pyranyl group and the like.

前記イミン含有基としては、式:−CH=N−Rb4で表され、Rb4が置換基を有していてもよいアミノ基であるもの等が挙げられる。Rb4のアミノ基は、置換または無置換のいずれであってもよい。置換基を有するアミノ基としては、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基等が挙げられる。Rb4のアミノ基に結合するアルキル基やアリール基としては、上記に例示したアルキル基やアリール基が具体的に挙げられる。 Examples of the imine-containing group include those represented by the formula: -CH = N-R b4 , in which R b4 is an amino group which may have a substituent. The amino group of R b4 may be substituted or unsubstituted. Examples of the amino group having a substituent include a monoalkylamino group, a dialkylamino group, a monoarylamino group, a diarylamino group, a monoalkyl monoarylamino group and the like. Specific examples of the alkyl group and aryl group bonded to the amino group of R b4 include the alkyl group and the aryl group exemplified above.

前記ハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。 Examples of the halogeno group include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, an iodine group and the like.

前記アミノ基としては、式:−NRb5b6で表され、Rb5およびRb6がそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基としては上記に例示した置換基が具体的に挙げられ、アルケニル基とアルキニル基としては、上記に例示したアルキル基の炭素−炭素単結合の一部が二重結合または三重結合に置き換わった置換基が挙げられ、これらの置換基は水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。また、Rb5とRb6は互いに連結して環形成していてもよい。 The amino group is represented by the formula: -NR b5 R b6 , and R b5 and R b6 are independently represented by a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, and a heteroaryl group. Some things are mentioned. Specific examples of the alkyl group, aryl group, aralkyl group, and heteroaryl group include the substituents exemplified above, and the alkenyl group and alkynyl group include a part of the carbon-carbon single bond of the alkyl group exemplified above. Examples thereof include substituents in which is replaced with a double bond or a triple bond, and these substituents may be partially substituted with a halogen atom. Further, R b5 and R b6 may be connected to each other to form a ring.

5〜R14から形成される各環構造としては、炭化水素環や複素環が挙げられ、これらの環構造は芳香族性を有していても有していなくてもよい。芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、フルオランテン環、シクロテトラデカヘプタエン環等の炭素数6〜20の芳香族環が挙げられる。脂環式炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の炭素数3〜10の単環のシクロアルカン;シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン(例えば、1,3−シクロヘキサジエン)、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、等の炭素数3〜10の単環のシクロアルケン;ビシクロ[2.2.1]ペンタン、ビシクロ[2.2.1]ペンタ−2−エン、ビシクロ[2.2.2]オクタン、ビシクロ[2.2.2]オクタ−2−エン等の橋架けを有する環式アルカン等が挙げられる。中でも、炭素数6〜10の芳香族環、炭素数5〜7の単環のシクロアルカン、炭素数5〜7の単環のシクロアルケン、橋架けを有する炭素数5〜9の環式アルカンが好ましい。複素環は、前記に説明した芳香族炭化水素環または脂環式炭化水素環の環を構成する炭素原子の1個以上が、N(窒素原子)、S(硫黄原子)およびO(酸素原子)から選ばれる少なくとも1種以上の原子に置き換わった環構造であり、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。これらの芳香族炭化水素環、脂環式炭化水素環、複素環は、他の環と縮環していてもよく、そのような環構造としては、例えば、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環等が挙げられる。他の環が縮環することで、得られるオキソカーボン系化合物を長波長化できるため、化合物の色調に応じた分子設計を行いやすくなる。R5〜R14から形成される各環構造は、上記に説明した有機基や極性官能基を置換基として有するものであってもよい。 Examples of the ring structure formed from R 5 to R 14 include a hydrocarbon ring and a heterocycle, and these ring structures may or may not have aromaticity. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include an aromatic ring having 6 to 20 carbon atoms such as a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, a fluoranthene ring, and a cyclotetradecaheptaene ring. Examples of the alicyclic hydrocarbon ring include monocyclic cycloalkanes having 3 to 10 carbon atoms such as cyclopentane, cyclohexane, and cycloheptane; cyclopentene, cyclopentadiene, cyclohexen, and cyclohexadiene (for example, 1,3-cyclohexadiene). ), Cycloheptane, cycloheptadiene, etc., monocyclic cycloalkenes having 3 to 10 carbon atoms; bicyclo [2.2.1] pentane, bicyclo [2.2.1] penta-2-ene, bicyclo [2. 2.2] An example of a ring-type alkane having a bridge such as octane and bicyclo [2.2.2] octa-2-ene. Among them, aromatic rings having 6 to 10 carbon atoms, monocyclic cycloalkanes having 5 to 7 carbon atoms, monocyclic cycloalkanes having 5 to 7 carbon atoms, and cyclic alkanes having 5 to 9 carbon atoms having a bridge are included. preferable. In the heterocycle, one or more carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring or the alicyclic hydrocarbon ring described above are N (nitrogen atom), S (sulfur atom) and O (oxygen atom). A ring structure in which at least one atom selected from the above is replaced with, for example, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrol ring, a pyrazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, and a pyrazine. Examples include a ring, a purine ring, and a pteridine ring. These aromatic hydrocarbon rings, alicyclic hydrocarbon rings, and heterocycles may be fused with other rings, and such ring structures include, for example, indole ring, isoindole ring, and benzimidazole. Examples thereof include a ring, a quinoline ring, a benzpyran ring, an acridine ring, a xanthene ring, and a carbazole ring. By condensing the other rings, the wavelength of the obtained oxocarbon-based compound can be lengthened, which facilitates molecular design according to the color tone of the compound. Each ring structure formed from R 5 to R 14 may have an organic group or a polar functional group described above as a substituent.

前記式(3)の有機基としては、下記式(3−1)で示される基であることが、好ましい実施態様の一つである。式(3−1)中、環Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環を表す。R7〜R9は上記に説明した通りである。スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格に式(3−1)で示される基が結合したオキソカーボン系化合物であれば、環Aのπ共役系を適宜設定することにより、オキソカーボン系化合物の吸収波長を容易に調整することができる。式(3−1)で示される基が結合したオキソカーボン系化合物は、短波長域では、極大吸収波長を例えば650nm程度に調整することができ、環Aのπ電子数を増加させる(π共役系を広げる)ことにより最大吸収波長を長波長シフトさせて、例えば極大吸収波長を1100nm程度まで調整することが可能である。 As the organic group of the formula (3), a group represented by the following formula (3-1) is one of the preferred embodiments. In formula (3-1), ring A represents an aromatic hydrocarbon ring, an aromatic heterocycle, or a fused ring containing these ring structures, which may have a substituent. R 7 to R 9 are as described above. In the case of an oxocarbon-based compound in which a group represented by the formula (3-1) is bonded to a squarylium skeleton or a croconium skeleton, the absorption wavelength of the oxocarbon-based compound can be easily set by appropriately setting the π-conjugated system of ring A. Can be adjusted. The oxocarbon-based compound to which the group represented by the formula (3-1) is bonded can adjust the maximum absorption wavelength to, for example, about 650 nm in the short wavelength region, and increases the number of π electrons in ring A (π conjugation). By expanding the system), the maximum absorption wavelength can be shifted by a long wavelength, and the maximum absorption wavelength can be adjusted to about 1100 nm, for example.

Figure 0006796443
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環Aの置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環の具体例は、上記のR5〜R14から形成される環構造で説明した通りである。環Aに結合する置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4の直鎖状または分岐状アルキル基)、アリール基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜2)、ヘテロアリール基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、水酸基、チオール基、ベンゾチアゾール基、上記のエチレン含有基、上記のイミン含有基等の電子供与性基や;ハロゲノ基(好ましくは、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基)、ハロゲノアルキル基(好ましくは炭素数1〜3のパーハロゲノアルキル基)、シアノ基、アルコキシカルボニル基(エステル基)、カルボキシ基(カルボン酸基)、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、スルホ基(スルホン酸基)、ニトロ基等の電子吸引性基が好ましい。これらの中でも、電子吸引性基がより好ましく、ハロゲノ基が特に好ましい。環Aが置換基を有する場合、その数は1〜3が好ましく、1〜2がより好ましく、さらに好ましくは1である。環Aが複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。なお、環Aは置換基を有しなくてもよい。 Specific examples of an aromatic hydrocarbon ring, an aromatic heterocycle, or a fused ring containing these ring structures, which may have a substituent of ring A, are ring structures formed from the above R 5 to R 14. As explained in. Examples of the substituent bonded to the ring A include an alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), an aryl group, an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms), and an alkylthio. Electron donation of a group (preferably 1-2 carbon atoms), a heteroaryl group, an amino group, an amide group, a sulfonamide group, a hydroxyl group, a thiol group, a benzothiazole group, the above ethylene-containing group, the above imine-containing group, etc. Groups and; halogeno groups (preferably fluoro groups, chloro groups, bromo groups), halogenoalkyl groups (preferably perhalogenoalkyl groups having 1-3 carbon atoms), cyano groups, alkoxycarbonyl groups (ester groups), carboxy groups. An electron-withdrawing group such as (carboxylic acid group), carboxylic acid ester group, carboxylic acid amide group, sulfo group (sulfonic acid group) and nitro group is preferable. Among these, an electron-withdrawing group is more preferable, and a halogeno group is particularly preferable. When the ring A has a substituent, the number thereof is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, and even more preferably 1. When ring A has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different. The ring A does not have to have a substituent.

式(3−1)のR7〜R9としては、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または置換基を有していてもよいアリール基であることが好ましく、これにより、オキソカーボン系化合物の溶剤溶解性を高めたり、最大吸収波長を所望の波長域へより細かく制御することが容易になる。さらに、オキソカーボン系化合物の製造が容易になるといった効果も得られる。R5〜R7の置換基を有していてもよいアルキル基としては、上記に例示したアルキル基が挙げられ、その炭素数は、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば1〜6が好ましく、より好ましくは1〜4であり、脂環式のアルキル基であれば4〜7が好ましく、より好ましくは5〜6である。R5〜R7の置換基を有していてもよいアリール基としては、上記に例示したアリール基が挙げられ、その炭素数は6〜10が好ましく、より好ましくは6〜9である。これらのアルキル基およびアリール基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基等が好ましく挙げられる。 R 7 to R 9 of the formula (3-1) are independent hydrogen atoms, alkyl groups which may have a substituent, or aryl groups which may have a substituent. This makes it easy to increase the solvent solubility of the oxocarbon-based compound and to finely control the maximum absorption wavelength to a desired wavelength range. Further, an effect that the production of the oxocarbon-based compound becomes easy can be obtained. Examples of the alkyl group which may have a substituent of R 5 to R 7 include the alkyl groups exemplified above, and the number of carbon atoms thereof is 1 to 6 as long as it is a linear or branched alkyl group. Is preferable, it is more preferably 1 to 4, and if it is an alicyclic alkyl group, it is preferably 4 to 7, and more preferably 5 to 6. Examples of the aryl group which may have a substituent of R 5 to R 7 include the aryl group exemplified above, and the number of carbon atoms thereof is preferably 6 to 10, and more preferably 6 to 9. Preferred examples of these alkyl groups and aryl groups include methyl group, ethyl group, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and phenyl group.

式(3)の有機基は、下記式(3−2)で示される基であることも好ましい。式(3−2)中、環Bは、置換基を有していてもよい4〜9員の不飽和炭化水素環を表す。環AとR7は上記に説明した通りである。 The organic group of the formula (3) is also preferably a group represented by the following formula (3-2). In formula (3-2), ring B represents a 4- to 9-membered unsaturated hydrocarbon ring that may have a substituent. Rings A and R 7 are as described above.

Figure 0006796443
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環Bは、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格に結合する炭素原子とピロール環のα位の炭素原子との間に二重結合を有するとともに、ピロール環のα位の炭素とβ位の炭素を含んで構成される。環Bは、前記二重結合以外にも不飽和結合(好ましくは二重結合)を有していてもよく、好ましくは不飽和結合(二重結合)を1個のみ有する。環Bは、好ましくは5〜8員環であり、より好ましくは6〜8員環である。環AおよびR7は上記に説明した通りである。オキソカーボン系化合物が環Bを有していれば、吸収波形のショルダーピークを大幅に低減することが可能となり、可視光領域での光学特性を改善することができる。さらに、環Bを有することによる分子歪みによってπ−π*遷移のバンドギャップが狭くなり、かつ環Aによってπ電子系が広範囲に広がることによって、吸収波長の長波長化を容易に達成することができる。 Ring B has a double bond between the carbon atom bonded to the squarylium skeleton or the croconium skeleton and the carbon atom at the α-position of the pyrrole ring, and is composed of the carbon at the α-position and the carbon at the β-position of the pyrrole ring. Will be done. Ring B may have an unsaturated bond (preferably a double bond) in addition to the double bond, and preferably has only one unsaturated bond (double bond). Ring B is preferably a 5-8 membered ring, more preferably a 6-8 membered ring. Rings A and R 7 are as described above. If the oxocarbon-based compound has a ring B, the shoulder peak of the absorption waveform can be significantly reduced, and the optical characteristics in the visible light region can be improved. Furthermore, the bandgap of the π-π * transition is narrowed by the molecular strain caused by having the ring B, and the π electron system is widened by the ring A, so that the absorption wavelength can be easily lengthened. it can.

環Bの構造としては、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、シクロヘプタトリエン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、シクロノネン、シクロノナジエン、シクロノナトリエン、シクロノナテトラエン等のシクロアルケン構造が挙げられる。中でも、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のシクロアルカンモノエンが好ましい。 The structure of ring B includes, for example, cyclobutene, cyclopentene, cyclopentadiene, cyclohexene, cyclohexadiene, cycloheptene, cycloheptadiene, cycloheptatriene, cyclooctene, cyclooctadiene, cyclooctatriene, cyclononene, cyclononadiene, cyclononatriene, and the like. Cycloalkene structures such as cyclononatetraene can be mentioned. Of these, cycloalkanemonoenes such as cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene are preferable.

環Bは置換基を有していてもよく、そのような置換基としては上記に説明した有機基や極性官能基が挙げられる。中でも、環Bに結合する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、アリール基、アルコキシカルボニル基(エステル基)、アミド基、スルホンアミド基、水酸基が好ましく、アルキル基または水酸基がより好ましく、これにより、オキソカーボン系化合物の有機溶媒への溶解性を高めやすくなる。この場合、アルキル基の炭素数は1〜5が好ましく、より好ましくは1〜3であり、さらに好ましくは1〜2である。環Bが置換基を有する場合、その数は1〜6が好ましく、1〜3がより好ましく、1〜2がさらに好ましい。ただし、環Bの置換基の数は、環Bの構成員数から3を引いた値以下であることが好ましい。環Bが複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数の置換基は各々別の炭素原子に結合していてもよく、1つの炭素原子に結合していてもよい。環Bは置換基を有しなくてもよい。 Ring B may have a substituent, and examples of such a substituent include the organic group and the polar functional group described above. Among them, as the substituent bonded to the ring B, an alkyl group, an alkoxy group, a halogeno group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group (ester group), an amide group, a sulfonamide group and a hydroxyl group are preferable, and an alkyl group or a hydroxyl group is more preferable. This makes it easier to increase the solubility of the oxocarbon-based compound in the organic solvent. In this case, the alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and further preferably 1 to 2 carbon atoms. When the ring B has a substituent, the number thereof is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2. However, the number of substituents on ring B is preferably equal to or less than the number of members of ring B minus 3. When ring B has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different, and the plurality of substituents may be bonded to different carbon atoms, respectively, in one carbon atom. It may be combined. Ring B does not have to have a substituent.

式(3−2)のR7は上記に説明した通りであり、中でも、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アリール基が好ましく、アルキル基またはアリール基がより好ましく、これにより、オキソカーボン系化合物の有機溶媒への溶解性を高めやすくなる。この場合、アルキル基の炭素数は、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば1〜6が好ましく、より好ましくは1〜4であり、脂環式のアルキル基であれば4〜7が好ましく、より好ましくは5〜6である。アリール基の炭素数は6〜12が好ましく、より好ましくは6〜10である。R7がアルキル基またはアリール基である場合、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基等が好ましく挙げられる。 R 7 of the formula (3-2) is as described above, and among them, a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, and an aryl group are preferable, and an alkyl group or an aryl group is more preferable, thereby oxocarbon-based. It becomes easy to increase the solubility of the compound in an organic solvent. In this case, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 6 if it is a linear or branched alkyl group, more preferably 1 to 4, and 4 to 7 if it is an alicyclic alkyl group. It is preferable, more preferably 5 to 6. The aryl group preferably has 6 to 12 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms. When R 7 is an alkyl group or an aryl group, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group and the like are preferably mentioned.

前記式(4)の有機基は、R11〜R13がそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アミノ基またはヒドロキシ基であるか、R11とR12が互いに結合して環を形成しているか、R12とR13が互いに結合して環を形成していることが好ましく、R10およびR14がそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アミド基またはヒドロキシ基であるものが好ましい。このようなスクアリリウム化合物は製造が比較的容易であり、置換基R10〜R14を適宜選択することで、最大吸収波長を所望の波長域に制御したり、溶媒への溶解性を高めることができる。中でも、スクアリリウム化合物のπ共役系を安定的に広範囲に広げることができる点から、R12はアミノ基であることが好ましい。 In the organic group of the above formula (4), R 11 to R 13 are independent of each other, and they are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, an amino group or a hydroxy group, or R 11 and R 12 are each other. It is preferable that R 12 and R 13 are bonded to each other to form a ring, or R 10 and R 14 are independently bonded to each other to form a hydrogen atom, an alkyl group, and an alkoxycarbonyl group. , Aryl group, amide group or hydroxy group is preferable. Such squarylium compounds produced is relatively easy, by selecting the substituents R 10 to R 14 as appropriate, and controls the maximum absorption wavelength in a desired wavelength region, to increase the solubility in a solvent it can. Above all, R 12 is preferably an amino group from the viewpoint that the π-conjugated system of the squarylium compound can be stably expanded over a wide range.

前記式(4)の有機基としては、下記式(4−1)で示される基であることが、好ましい実施態様の一つである。式(4−1)中、R10〜R11およびR13〜R14は上記に説明した通りであり、スクアリリウム化合物の安定性や製造容易性の点から、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。式(4−1)のR15およびR16はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、R11とR15、R16とR13、R15とR16はそれぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。 As the organic group of the formula (4), the group represented by the following formula (4-1) is one of the preferable embodiments. In formula (4-1), R 10 to R 11 and R 13 to R 14 are as described above, and from the viewpoint of stability and ease of manufacture of the scudylium compound, they are independent hydrogen atoms and alkyl groups, respectively. Alternatively, it is preferably an aryl group. R 15 and R 16 in formula (4-1) independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and R 11 and R 15 , R 16 and R 13 , and R 15 and R 16 , respectively, respectively. They may be combined to form a ring.

Figure 0006796443
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式(4−1)のR11とR15、R16とR13が互いに連結した環構造としては、炭素数2〜8の直鎖状アルキレン基の一方の末端が式(4−1)の窒素原子に結合し、他方の末端が式(4−1)のベンゼン環の炭素原子に結合した構造や、当該アルキレン基に含まれる−CH2−の一部が−O−、−CO−、−S−、−NH−で置換された構造が挙げられる。式(4−1)のR15とR16が互いに連結した環構造としては、炭素数2〜8の直鎖状アルキレン基の両末端が式(4−1)の窒素原子に結合した構造や、当該アルキレン基に含まれる−CH2−の一部が−O−、−CO−、−S−、−NH−で置換された構造が挙げられる。これらの環構造は、水素原子の一部が、例えばアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基等によって置換されていてもよい。 As a ring structure in which R 11 and R 15 and R 16 and R 13 of the formula (4-1) are linked to each other, one end of a linear alkylene group having 2 to 8 carbon atoms is of the formula (4-1). A structure in which the other end is bonded to the carbon atom of the benzene ring of the formula (4-1), which is bonded to the nitrogen atom, and a part of −CH 2 − contained in the alkylene group is −O−, −CO−, Examples thereof include structures substituted with −S− and −NH−. The ring structure in which R 15 and R 16 of the formula (4-1) are linked to each other includes a structure in which both ends of a linear alkylene group having 2 to 8 carbon atoms are bonded to a nitrogen atom of the formula (4-1). , A structure in which a part of −CH 2 − contained in the alkylene group is substituted with −O−, −CO−, −S−, −NH−. In these ring structures, a part of the hydrogen atom is replaced with, for example, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a halogeno group, a hydroxyl group, a carboxy group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a sulfo group and the like. May be.

式(4)の有機基は、下記式(4−2)で示される基であることも好ましい。式(4−2)中、R10〜R11およびR14〜R15は上記に説明した通りである。式(4−2)のR17〜R20はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基またはスルホ基を表し、好ましくは、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4の直鎖状または分岐状アルキル基)、アリール基(好ましくは炭素数6〜10のアリール基)、ハロゲノ基、カルボキシ基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基)または水酸基である。オキソカーボン系化合物が式(4−2)で示される基を有していれば、アミノ基がベンゼン環と縮環した構造のため分子の平面性が高く、分子どうしが集合したときに規則的に集まった結晶性の高い集合体構造を取りやすくなる。 The organic group of the formula (4) is also preferably a group represented by the following formula (4-2). In formula (4-2), R 10 to R 11 and R 14 to R 15 are as described above. R 17 to R 20 of the formula (4-2) are independently alkyl group, aryl group, heteroaryl group, halogeno group, hydroxyl group, carboxy group, alkoxy group, cyano group, nitro group, amino group or sulfo group. , Preferably an alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms), a halogeno group, a carboxy group, an alkoxy group. (Preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms) or a hydroxyl group. If the oxocarbon-based compound has a group represented by the formula (4-2), the molecular flatness is high due to the structure in which the amino group is fused with the benzene ring, and it is regular when the molecules are assembled. It becomes easy to take a highly crystalline aggregate structure gathered in.

Figure 0006796443
Figure 0006796443

式(3)または式(4)の有機基を有するオキソカーボン系化合物は、ピロール環含有化合物やベンゼン環含有化合物を、スクアリン酸またはクロコン酸と反応させる公知の合成手法を適宜採用することによって合成できる。スクアリリウム化合物であれば、例えば、次の論文に記載の合成法によって合成することができる:Serguei Miltsov et al., “New Cyanine Dyes:Norindosquarocyanines”, Tetrahedron Letters, Vol.40, Issue 21, p.4067-4068 (1999)。クロコニウム化合物であれば、例えば、特開2002−286931号公報、特開2007−31644号公報、特開2007−31645号公報、特開2007−169315号公報に記載されている方法によって合成することができる。 The oxocarbon-based compound having an organic group of the formula (3) or the formula (4) is synthesized by appropriately adopting a known synthetic method of reacting a pyrrole ring-containing compound or a benzene ring-containing compound with squaric acid or croconic acid. it can. Squalylium compounds can be synthesized, for example, by the synthetic method described in the following paper: Serguei Miltsov et al., “New Cyanine Dyes: Norindosquarocyanines”, Tetrahedron Letters, Vol.40, Issue 21, p.4067. -4068 (1999). The croconium compound can be synthesized by the methods described in, for example, JP-A-2002-286931, JP-A-2007-31644, JP-A-2007-31645, and JP-A-2007-169315. it can.

上記の反応により得られたオキソカーボン系化合物は、必要に応じて、ろ過、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、アルミナカラムクロマトグラフィー、昇華、再結晶、晶析など公知の精製手段によって適宜精製することができる。得られたオキソカーボン系化合物の化学構造は、質量分析法、単結晶X線構造解析法、フーリエ変換赤外分光法、核磁気共鳴分光法などの公知の分析方法により解析することができる。 The oxocarbon-based compound obtained by the above reaction can be appropriately purified by a known purification means such as filtration, silica gel column chromatography, alumina column chromatography, sublimation, recrystallization, and crystallization, if necessary. The chemical structure of the obtained oxocarbon-based compound can be analyzed by known analytical methods such as mass spectrometry, single crystal X-ray structure analysis, Fourier transform infrared spectroscopy, and nuclear magnetic resonance spectroscopy.

第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素の量は、所望の光学性能に応じて適宜調整すればよいが、例えば、第1の樹脂層100質量%中、近赤外線吸収色素の含有量は0.01質量%以上であることが好ましく、0.3質量%以上がより好ましく、0.8質量%以上がさらに好ましく、また25質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、15質量%以下がさらに好ましい。第1の樹脂層中に近赤外線吸収色素としてオキソカーボン系化合物が含まれる場合は、オキソカーボン系化合物の含有量が上記範囲にあることが好ましい。また、第1の樹脂層中にオキソカーボン系化合物と他の近赤外線吸収色素が含まれる場合は、オキソカーボン系化合物と他の近赤外線吸収色素との合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。 The amount of the near-infrared absorbing dye contained in the first resin layer may be appropriately adjusted according to the desired optical performance. For example, the content of the near-infrared absorbing dye in 100% by mass of the first resin layer is It is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.3% by mass or more, further preferably 0.8% by mass or more, still preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and 15% by mass. % Or less is more preferable. When the oxocarbon-based compound is contained as the near-infrared absorbing dye in the first resin layer, the content of the oxocarbon-based compound is preferably in the above range. When the first resin layer contains an oxocarbon-based compound and another near-infrared absorbing dye, the total content of the oxocarbon-based compound and the other near-infrared absorbing dye is preferably in the above range. ..

第1の樹脂層中にオキソカーボン系化合物と他の近赤外線吸収色素が含まれる場合、他の近赤外線吸収色素の含有量は、オキソカーボン系化合物と他の近赤外線吸収色素の合計100質量%に対し、60質量%以下が好ましく、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは20質量%以下であり、特に好ましくは、他の近赤外線吸収色素を実質的に含まないことである。 When the first resin layer contains an oxocarbon-based compound and another near-infrared absorbing dye, the content of the other near-infrared absorbing dye is 100% by mass in total of the oxocarbon-based compound and the other near-infrared absorbing dye. On the other hand, it is preferably 60% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 20% by mass or less, and particularly preferably substantially free of other near-infrared absorbing dyes.

第2の樹脂層は、少なくとも樹脂を含有していればよい。第2の樹脂層は、第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素の分解を抑制するために設けられ、そのために、第2の樹脂層は酸素透過率が低く設定されている。具体的には、第2の樹脂層は、JIS K 7126−2法に従って測定した23℃、ドライ条件での酸素透過率が100cc/m2/day以下となっている。酸素透過率の低い第2の樹脂層を第1の樹脂層に積層することにより、第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素が酸素と接する機会が減少し、第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素の分解を抑えることができる。第2の樹脂層の酸素透過率は、70cc/m2/day以下が好ましく、50cc/m2/day以下がより好ましく、35cc/m2/day以下がさらに好ましい。第2の樹脂層の酸素透過率の下限は特に限定されず、0cc/m2/dayであってもよい。なお、酸素透過率の測定は、試験片を挟んだ一方側のチャンバに酸素ガスを導入し、他方側のチャンバに窒素ガスを導入して行う。 The second resin layer may contain at least a resin. The second resin layer is provided to suppress the decomposition of the near-infrared absorbing dye contained in the first resin layer, and for this purpose, the second resin layer is set to have a low oxygen transmittance. Specifically, the second resin layer has an oxygen permeability of 100 cc / m 2 / day or less under dry conditions at 23 ° C. measured according to the JIS K 7126-2 method. By laminating the second resin layer having a low oxygen transmittance on the first resin layer, the chance that the near-infrared absorbing dye contained in the first resin layer comes into contact with oxygen is reduced, and the second resin layer is contained in the first resin layer. It is possible to suppress the decomposition of the near-infrared absorbing dye. Oxygen permeability of the second resin layer is preferably not more than 70 cc / m 2 / day, more preferably not more than 50 cc / m 2 / day, more preferably less 35cc / m 2 / day. The lower limit of the oxygen permeability of the second resin layer is not particularly limited, and may be 0 cc / m 2 / day. The oxygen permeability is measured by introducing oxygen gas into the chamber on one side of the test piece and introducing nitrogen gas into the chamber on the other side.

第2の樹脂層の酸素透過率は、第2の樹脂層を構成する樹脂の種類を適切に選択したり、第2の樹脂層の厚みを厚くすることにより、低減することができる。また第2の樹脂層として、無機蒸着樹脂層(無機蒸着フィルム)を用いても、酸素透過率を下げることができる。例えば、樹脂層に酸化アルミニウムや酸化ケイ素等の金属酸化物や炭素(アモルファスカーボン等)の蒸着膜を形成したものを用いることにより、第2の樹脂層の酸素透過率を下げることができる。第2の樹脂層が無機蒸着樹脂層である場合は、第2の樹脂層の酸素透過率を低く抑えつつ、厚みを薄く形成することが可能となる。 The oxygen permeability of the second resin layer can be reduced by appropriately selecting the type of resin constituting the second resin layer or increasing the thickness of the second resin layer. Further, even if an inorganic thin-film resin layer (inorganic thin-film film) is used as the second resin layer, the oxygen transmittance can be lowered. For example, the oxygen transmittance of the second resin layer can be lowered by using a resin layer having a metal oxide such as aluminum oxide or silicon oxide or a vapor-deposited film of carbon (amorphous carbon or the like) formed therein. When the second resin layer is an inorganic vapor-deposited resin layer, the thickness of the second resin layer can be made thin while keeping the oxygen transmittance low.

第2の樹脂層は、上記に説明したような近赤外線吸収色素も含有していてもよいが、第2の樹脂層の設置目的に鑑みれば、第2の樹脂層には近赤外線吸収色素が多く含まれないことが好ましく、特に酸素の存在下で分解しやすいオキソカーボン系化合物は多く含まれないことが好ましい。例えば、第2の樹脂層の近赤外線吸収色素の濃度は第1の樹脂層の近赤外線吸収色素の濃度の50質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましく、10質量%以下がさらに好ましく、第2の樹脂層が実質的に近赤外線吸収色素を含有しないことが特に好ましい。また、第2の樹脂層のオキソカーボン系化合物の濃度は第1の樹脂層のオキソカーボン系化合物の濃度の50質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましく、10質量%以下がさらに好ましく、第2の樹脂層が実質的にオキソカーボン系化合物を含有しないことが特に好ましい。 The second resin layer may also contain the near-infrared absorbing dye as described above, but in view of the purpose of installing the second resin layer, the second resin layer contains the near-infrared absorbing dye. It is preferable that the amount is not large, and it is preferable that the amount of the oxocarbon-based compound that is easily decomposed in the presence of oxygen is not large. For example, the concentration of the near-infrared absorbing dye in the second resin layer is preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, still more preferably 10% by mass or less of the concentration of the near-infrared absorbing dye in the first resin layer. It is particularly preferable that the second resin layer substantially does not contain a near-infrared absorbing dye. The concentration of the oxocarbon-based compound in the second resin layer is preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, still more preferably 10% by mass or less, of the concentration of the oxocarbon-based compound in the first resin layer. It is particularly preferable that the second resin layer does not substantially contain an oxocarbon-based compound.

第1および第2の樹脂層は、任意の有機微粒子または無機微粒子を含有してもよい。有機微粒子または無機微粒子は、例えば、樹脂層に、屈折率や導電性等に関する機能を付与するために用いられる。樹脂層の高屈折率化や導電性付与に有用な微粒子の具体例として、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられる。一方、樹脂層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例として、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカ等が挙げられる。防眩性付与に有用な微粒子の具体例としては、上記の微粒子に加え、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン等の無機微粒子:シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂及びこれらの共重合樹脂等の有機微粒子が挙げられる。樹脂層は、これらの微粒子を1種のみ含有していてもよく、2種以上含有していてもよい。 The first and second resin layers may contain any organic or inorganic fine particles. The organic fine particles or the inorganic fine particles are used, for example, to impart functions related to the refractive index, conductivity, etc. to the resin layer. Specific examples of fine particles useful for increasing the refractive index and imparting conductivity of the resin layer include zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, tin oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, indium-doped zinc oxide, and oxidation. Examples thereof include indium and antimony oxide. On the other hand, specific examples of the fine particles useful for lowering the refractive index of the resin layer include magnesium fluoride, silica, hollow silica and the like. Specific examples of fine particles useful for imparting antiglare include, in addition to the above fine particles, inorganic fine particles such as calcium carbonate, barium sulfate, talc, and kaolin: silicone resin, melamine resin, benzogamine resin, acrylic resin, polystyrene resin, and these. Examples include organic fine particles such as the copolymer resin of. The resin layer may contain only one kind of these fine particles, or may contain two or more kinds of these fine particles.

樹脂層には、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤、分散剤、表面張力調整剤、粘度調整剤、消泡剤、防腐剤、比抵抗調整剤、pH調整剤、密着性向上剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。また、樹脂層には、樹脂層を構成する樹脂を硬化させるための硬化触媒や硬化速度調整剤が含まれていてもよい。 The resin layer may contain plasticizers, surfactants, dispersants, surface tension regulators, viscosity regulators, defoamers, preservatives, specific resistance regulators, pH regulators, adhesion improvers, etc., as required. Various additives may be contained. Further, the resin layer may contain a curing catalyst and a curing rate adjusting agent for curing the resin constituting the resin layer.

樹脂層は、少なくとも樹脂成分を含有する樹脂組成物から形成することができる。第1の樹脂層は、さらに近赤外線吸収色素を含有する樹脂組成物から形成することができる。樹脂組成物は、射出成形等の成形に用いることのできる熱可塑性樹脂組成物であってもよく、スピンコート法や溶媒キャスト法等により塗工できるよう塗料化された樹脂組成物であってもよい。樹脂成分としては、重合が完結した樹脂のみならず、樹脂原料(樹脂の前駆体、当該前駆体の原料、樹脂を構成する単量体等を含む)であって、樹脂組成物を成形する際に重合反応または架橋反応して樹脂に組み込まれるものも用いることができる。 The resin layer can be formed from a resin composition containing at least a resin component. The first resin layer can be formed from a resin composition further containing a near-infrared absorbing dye. The resin composition may be a thermoplastic resin composition that can be used for molding such as injection molding, or may be a resin composition that has been made into a paint so that it can be coated by a spin coating method, a solvent casting method, or the like. Good. The resin component is not only a resin whose polymerization has been completed, but also a resin raw material (including a resin precursor, a raw material of the precursor, a monomer constituting the resin, etc.), and when molding a resin composition. It is also possible to use a resin which is incorporated into a resin by a polymerization reaction or a cross-linking reaction.

樹脂組成物が熱可塑性樹脂組成物である場合は、当該樹脂組成物を、射出成形、押出成形、真空成形、圧縮成形、ブロー成形等をすることにより樹脂層を形成することができる。この方法では、樹脂成分として熱可塑性樹脂を用い、必要に応じて当該熱可塑性樹脂に近赤外線吸収色素を配合し、加熱成形することにより、樹脂層を形成することができる。例えば、ベース樹脂の粉体またはペレットに必要に応じて近赤外線吸収色素を添加し、150℃〜350℃程度に加熱し、溶解させた後、成形するとよい。また樹脂を混練する際に、必要に応じて各種添加剤を加えてもよい。第1の樹脂層と第2の樹脂層を同時に加熱成形する場合は、第1の樹脂層を与える樹脂組成物と第2の樹脂層を与える樹脂組成物とを共押出成形してもよい。 When the resin composition is a thermoplastic resin composition, the resin layer can be formed by subjecting the resin composition to injection molding, extrusion molding, vacuum molding, compression molding, blow molding, or the like. In this method, a resin layer can be formed by using a thermoplastic resin as a resin component, blending a near-infrared absorbing dye with the thermoplastic resin as needed, and heat-molding the resin. For example, it is preferable to add a near-infrared absorbing dye to the powder or pellet of the base resin as needed, heat it to about 150 ° C. to 350 ° C. to dissolve it, and then mold it. Further, when kneading the resin, various additives may be added as needed. When the first resin layer and the second resin layer are heat-molded at the same time, the resin composition giving the first resin layer and the resin composition giving the second resin layer may be co-extruded.

樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、液状またはペースト状の樹脂組成物を基板(例えば、第1または第2の樹脂層、その他の樹脂板、ガラス板等)上に塗工することで、基板上に樹脂層を形成することができる。近赤外線吸収色素を含有する塗料化された樹脂組成物としては、例えば、樹脂を含む溶媒(溶剤)に近赤外線吸収色素を溶解させたものや、近赤外線吸収色素を数μm以下に微粒化して樹脂のエマルジョン中に分散したもの等が挙げられる。塗料化された樹脂組成物の塗工方法としては、スピンコート法、溶媒キャスト法、ロールコート法、スプレーコート法、バーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等が好適に用いられる。 When the resin composition is a paint-based resin composition, a liquid or paste-like resin composition is applied onto a substrate (for example, a first or second resin layer, another resin plate, a glass plate, etc.). By working, a resin layer can be formed on the substrate. Examples of the paint-based resin composition containing the near-infrared absorbing dye include those in which the near-infrared absorbing dye is dissolved in a solvent containing a resin, and the near-infrared absorbing dye is atomized to several μm or less. Examples thereof include those dispersed in a resin emulsion. Examples of the coating method for the paint-based resin composition include a spin coating method, a solvent casting method, a roll coating method, a spray coating method, a bar coating method, a dip coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, and an inkjet method. It is preferably used.

樹脂組成物は、溶媒(溶剤)を含有するものであってもよく、例えば、樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、溶媒を含むことにより樹脂組成物の塗工が容易になる。溶媒としては、有機溶剤を用いることが好ましく、例えば、メチルエチルケトン(2−ブタノン)、メチルイソブチルケトン(4−メチル−2−ペンタノン)、シクロヘキサノン等のケトン類;PGMEA(2−アセトキシ−1−メトキシプロパン)、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のグリコール誘導体(エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等);N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類;N−メチル−ピロリドン(具体的には、1−メチル−2−ピロリドン等)等のピロリドン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類;等が挙げられる。 The resin composition may contain a solvent (solvent). For example, when the resin composition is a paint-based resin composition, the resin composition can be easily coated by containing the solvent. become. As the solvent, it is preferable to use an organic solvent, for example, ketones such as methyl ethyl ketone (2-butanone), methyl isobutyl ketone (4-methyl-2-pentanone), cyclohexanone; PGMEA (2-acetoxy-1-methoxypropane). ), Glycol derivatives such as ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate (ether compounds, ester compounds, ether ester compounds, etc.); amides such as N, N-dimethylacetamide; acetic acid Esters such as ethyl, propyl acetate and butyl acetate; Pyrrolidones such as N-methyl-pyrrolidone (specifically, 1-methyl-2-pyrrolidone); Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Cyclohexane, Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as heptane; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether and dibutyl ether; and the like.

溶媒の含有量としては、樹脂組成物100質量%中、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上がより好ましく、また100質量%未満が好ましく、95質量%以下がより好ましい。溶媒の含有量をこのような範囲内に調整することにより、近赤外線吸収色素濃度の高い樹脂組成物を得ることが容易になる。 The content of the solvent is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, more preferably less than 100% by mass, and more preferably 95% by mass or less in 100% by mass of the resin composition. By adjusting the content of the solvent within such a range, it becomes easy to obtain a resin composition having a high concentration of near-infrared absorbing dye.

第1の樹脂層と第2の樹脂層のそれぞれの厚みは特に限定されず、各樹脂層の所望の性能や強度に応じて適宜調整すればよい。各樹脂層の厚みは、例えば、0.5μm以上が好ましく、1μm以上がより好ましく、2μm以上がさらに好ましく、また500μm以下が好ましく、200μm以下がより好ましく、150μm以下がさらに好ましい。基板上に塗料化された樹脂組成物を塗工するなどして樹脂層を形成する場合は、基板によって光選択吸収樹脂積層体の強度を確保することができるため、樹脂層の厚みをさらに薄くすることができる。基板上に樹脂層を形成する場合の樹脂層の厚みは、例えば100μm以下であってもよく、50μm以下であってもよく、30μm以下であってもよい。第1の樹脂層は、所望の光選択吸収性能を発揮させることが可能であれば、比較的厚みを薄く形成することができ、その厚みは0.5μm以上が好ましく、1μm以上がより好ましく、また30μm以下が好ましく、25μm以下がより好ましく、20μm以下がさらに好ましい。第2の樹脂層の厚みは、酸素透過率を低く抑えることが容易な点から、6μm以上が好ましく、8μm以上がより好ましく、10μm以上がさらに好ましい。 The thickness of each of the first resin layer and the second resin layer is not particularly limited, and may be appropriately adjusted according to the desired performance and strength of each resin layer. The thickness of each resin layer is, for example, preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, further preferably 2 μm or more, preferably 500 μm or less, more preferably 200 μm or less, still more preferably 150 μm or less. When the resin layer is formed by applying a paint-based resin composition on the substrate, the strength of the light selective absorption resin laminate can be ensured by the substrate, so that the thickness of the resin layer is further reduced. can do. The thickness of the resin layer when the resin layer is formed on the substrate may be, for example, 100 μm or less, 50 μm or less, or 30 μm or less. The first resin layer can be formed to have a relatively thin thickness as long as it can exhibit the desired light selective absorption performance, and the thickness is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more. Further, 30 μm or less is preferable, 25 μm or less is more preferable, and 20 μm or less is further preferable. The thickness of the second resin layer is preferably 6 μm or more, more preferably 8 μm or more, still more preferably 10 μm or more, from the viewpoint that the oxygen transmittance can be easily suppressed to be low.

第1の樹脂層と第2の樹脂層は、これらの間に接着層を設けることによって密着性を高めてもよい。接着層は公知の接着剤から形成することができ、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリオール樹脂、ポリカルボン酸樹脂、およびこれらの複合樹脂を用いて形成することができる。これらの樹脂は、1種のみを用いても、2種以上を併用してもよい。例えば接着層をウレタン樹脂から形成する場合は、ウレタン樹脂を形成するポリイソシアネートとポリオールの種類は特に限定されず、ポリオールは、ポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等のいずれを用いてもよい。 The first resin layer and the second resin layer may be provided with an adhesive layer between them to improve the adhesiveness. The adhesive layer can be formed from a known adhesive, for example, it can be formed using a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, a cellulose resin, a polyol resin, a polycarboxylic acid resin, and a composite resin thereof. Only one type of these resins may be used, or two or more types may be used in combination. For example, when the adhesive layer is formed from urethane resin, the types of polyisocyanate and polyol forming the urethane resin are not particularly limited, and the polyol may be any of polyacrylic polyol, polyester polyol, polyether polyol, and the like. ..

接着層の厚みは特に限定されず、例えば、0.01μm以上が好ましく、0.05μm以上がより好ましく、0.1μm以上がさらに好ましく、また50μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましく、5μm以下がさらに好ましい。 The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, and for example, 0.01 μm or more is preferable, 0.05 μm or more is more preferable, 0.1 μm or more is further preferable, 50 μm or less is preferable, 10 μm or less is more preferable, and 5 μm or less is preferable. More preferred.

接着層の形成方法は限定されず、公知の方法に従えばよい。接着層は、例えば、接着性を有する樹脂を含有する接着剤組成物を第1の樹脂層および/または第2の樹脂層に塗布して、当該組成物の塗布膜を形成した後、形成した塗布膜を乾燥させることにより形成することができる。その後、第1の樹脂層と第2の樹脂層を接着層を介して貼り合わせることで、第1の樹脂層と接着層と第2の樹脂層とを有する積層構造を形成することができる。 The method for forming the adhesive layer is not limited, and a known method may be used. The adhesive layer was formed, for example, by applying an adhesive composition containing a resin having adhesiveness to the first resin layer and / or the second resin layer to form a coating film of the composition. It can be formed by drying the coating film. After that, by laminating the first resin layer and the second resin layer via the adhesive layer, a laminated structure having the first resin layer, the adhesive layer, and the second resin layer can be formed.

光選択吸収樹脂積層体は、第2の樹脂層が第1の樹脂層よりも受光側に位置するように形成することが好ましい。すなわち、第2の樹脂層の透過光が第1の樹脂層を透過するように各層が配置されることが好ましい。 The light selective absorption resin laminate is preferably formed so that the second resin layer is located closer to the light receiving side than the first resin layer. That is, it is preferable that each layer is arranged so that the transmitted light of the second resin layer passes through the first resin layer.

第1の樹脂層は、一方側の面と他方側の面の両方が酸素透過率の低い層によって覆われていることが好ましい。例えば、光選択吸収樹脂積層体は、第1の樹脂層の両側面に第2の樹脂層が設けられた積層構造や、第1の樹脂層の一方側の面に第2の樹脂層が設けられ、他方側の面にガラス基板が設けられた積層構造を有することが好ましい。 It is preferable that both one side surface and the other side surface of the first resin layer are covered with a layer having a low oxygen permeability. For example, the light selective absorption resin laminate has a laminated structure in which second resin layers are provided on both side surfaces of the first resin layer, or a second resin layer is provided on one surface of the first resin layer. It is preferable to have a laminated structure in which a glass substrate is provided on the other side surface.

第1の樹脂層に含まれる近赤外線吸収色素の分解を抑える観点からは、光選択吸収樹脂積層体を構成する少なくとも1つの層に紫外線吸収剤が含まれていることが好ましい。より好ましくは第1の樹脂層以外の層に紫外線吸収剤が含まれる。紫外線吸収剤は、例えば、第2の樹脂層や、光選択吸収樹脂積層体が接着層を有する場合は接着層に含まれることが好ましい。 From the viewpoint of suppressing the decomposition of the near-infrared absorbing dye contained in the first resin layer, it is preferable that at least one layer constituting the light selective absorbing resin laminate contains an ultraviolet absorber. More preferably, the ultraviolet absorber is contained in a layer other than the first resin layer. The ultraviolet absorber is preferably contained in, for example, a second resin layer or, when the light selective absorption resin laminate has an adhesive layer, in the adhesive layer.

紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、サリシケート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、4−n−オクチルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。サリシケート系化合物としては、例えば、フェニルサリチレート、p−t−ブチルフェニルサリシケート等が挙げられる。ベンゾエート系化合物としては、例えば、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3',5'−ジ−t−ブチル−4'−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。 Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone compounds, salicate compounds, benzoate compounds, triazole compounds, triazine compounds and the like. Examples of the benzophenone compound include 2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 4-n-octyloxy-2-hydroxybenzophenone and the like. Examples of the silicate-based compound include phenyl salicylate and pt-butyl phenyl silicate. Examples of the benzoate compound include 2,4-di-t-butylphenyl-3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzoate and the like.

トリアゾール系化合物としては、例えば、2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−ベンゾトリアゾール−2−イル−4,6−ジ−t−ブチルフェノール、2−[5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル−6−(t−ブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−t−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミジルメチル)フェノール、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。 Examples of the triazole-based compound include 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazole-2-yl) phenol], 2- (3). , 5-Di-t-butyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -p-cresol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2-benzotriazole-2-yl-4,6-di-t-butylphenol, 2- [5-chloro (2H) -benzotriazole- 2-Il] -4-methyl-6- (t-butyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4,6-di-t-butylphenol, 2- (2H-benzotriazole-2) -Il) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4-methyl-6- (3,4,5,6-tetrahydro) Examples thereof include phthalimidylmethyl) phenol and 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole.

トリアジン系化合物は、例えば、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシエトキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3−5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ−3−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。 Triazine-based compounds include, for example, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-ethoxy). Phenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-butoxy) Phenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy) -4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- 6- (2-Hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-Diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyethoxy) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -6- (2,4-) Dibutoxyphenyl) -1,3-5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-hexyloxy-3-methylphenyl) -1,3,5-triazine and the like can be mentioned.

紫外線吸収剤は、市販の物質を用いてもよく、例えば、ADEKA社製のアデカスタブ(登録商標)シリーズや、BASF社製のチヌビン(登録商標)シリーズ等を用いることができる。 As the ultraviolet absorber, a commercially available substance may be used, and for example, ADEKA's ADEKA STAB (registered trademark) series, BASF's Chinubin (registered trademark) series, and the like can be used.

紫外線吸収剤の含有量は所望する性能に応じて適宜調整すればよいが、紫外線吸収剤を含有する層100質量%中、0.1質量%以上が好ましく、0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上がさらに好ましく、また30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、15質量%以下がさらに好ましい。 The content of the ultraviolet absorber may be appropriately adjusted according to the desired performance, but is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, based on 100% by mass of the layer containing the ultraviolet absorber. 1, 1% by mass or more is further preferable, 30% by mass or less is preferable, 20% by mass or less is more preferable, and 15% by mass or less is further preferable.

本発明の光選択吸収樹脂積層体は、第1の樹脂層、第2の樹脂層、接着層、ガラス基板以外に、他の層(膜)を有していてもよい。他の層(膜)としては、誘電体多層膜、防眩性を有する層、傷付き防止性能を有する層、金属膜、その他の機能を有する透明基材等が挙げられる。 The light selective absorption resin laminate of the present invention may have another layer (film) in addition to the first resin layer, the second resin layer, the adhesive layer, and the glass substrate. Examples of other layers (films) include a dielectric multilayer film, a layer having antiglare properties, a layer having scratch prevention performance, a metal film, and a transparent base material having other functions.

本発明の光選択吸収樹脂積層体は、高い耐光性を有するため、近赤外線を選択的に吸収する樹脂積層体として様々な用途に用いることができる。例えば、近赤外線を吸収・カットする機能を有する半導体受光素子用の光学フィルター、省エネルギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板、セキュリティーインクや不可視バーコードインクとしての情報表示材料、可視光および近赤外光を利用した太陽電池用材料、プラズマディスプレイパネル(PDP)やCCD用の特定波長吸収フィルター;レーザー溶着用の光熱変換材料、加圧や加熱による不具合の生じにくい光を利用した光定着法用材料(フラッシュ定着法用の静電荷現像用トナー)等に用いることができる。 Since the light selective absorption resin laminate of the present invention has high light resistance, it can be used for various purposes as a resin laminate that selectively absorbs near infrared rays. For example, an optical filter for a semiconductor light receiving element that has a function of absorbing and cutting near infrared rays, a near infrared ray absorbing film or a near infrared ray absorbing plate that blocks heat rays for energy saving, and an information display material as security ink or invisible bar code ink. Materials for solar cells using visible light and near-infrared light, specific wavelength absorption filters for plasma display panels (PDPs) and CCDs; photothermal conversion materials for laser welding, light that is less likely to cause problems due to pressurization or heating It can be used as a material for an optical fixing method (a toner for electrostatic charge development for a flash fixing method) or the like.

光選択吸収樹脂積層体の厚みは、例えば、1mm以下であることが好ましい。これにより、光選択吸収樹脂積層体を撮像素子に適用した場合などに、撮像素子の小型化への要請に十分に応えることができる。光選択吸収樹脂積層体の厚みは、より好ましくは500μm以下、さらに好ましくは300μm以下、さらにより好ましくは150μm以下であり、また30μm以上が好ましく、50μm以上がさらに好ましい。 The thickness of the light selective absorption resin laminate is preferably 1 mm or less, for example. As a result, it is possible to sufficiently meet the demand for miniaturization of the image pickup device when the light selective absorption resin laminate is applied to the image pickup device. The thickness of the light selective absorption resin laminate is more preferably 500 μm or less, further preferably 300 μm or less, even more preferably 150 μm or less, still more preferably 30 μm or more, still more preferably 50 μm or more.

以下に、実施例を示すことにより本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

(1)近赤外線吸収色素の合成
(1−1)クロコニウムAの合成
特願2016−034756号に記載の合成例2に従い、近赤外線吸収色素として、下記の表1に示すクロコニウムAを合成した。
(1) Synthesis of near-infrared absorbing dye (1-1) Synthesis of croconium A According to Synthesis Example 2 described in Japanese Patent Application No. 2016-034756, croconium A shown in Table 1 below was synthesized as a near-infrared absorbing dye.

(1−2)スクアリリウムAの合成
特開2016−74649号公報に記載の実施例1−18に従い、近赤外線吸収色素として、下記の表1に示すスクアリリウムAを合成した。
(1-2) Synthesis of Squalylium A Squalylium A shown in Table 1 below was synthesized as a near-infrared absorbing dye according to Example 1-18 described in JP-A-2016-74649.

(1−3)スクアリリウムBの合成
特開2016−74649号公報に記載の実施例1−10に従い、近赤外線吸収色素として、下記の表1に示すスクアリリウムBを合成した。
(1-3) Synthesis of squarylium B Squalylium B shown in Table 1 below was synthesized as a near-infrared absorbing dye according to Examples 1-10 described in JP-A-2016-74649.

(1−4)スクアリリウムCの合成
特願2016−176990号に記載の調製例4に従い、近赤外線吸収色素として、下記の表1に示すスクアリリウムCを合成した。
(1-4) Synthesis of Squalylium C According to Preparation Example 4 described in Japanese Patent Application No. 2016-176990, Squalylium C shown in Table 1 below was synthesized as a near-infrared absorbing dye.

Figure 0006796443
Figure 0006796443

(2)樹脂積層体の作製
(2−1)製造例1
ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウムAを0.02質量部、クロロホルム18質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この色素含有樹脂組成物を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の第1の樹脂層を形成した。ガラス基板上に形成した第1の樹脂層の上に、エステルウレタン樹脂溶液系接着剤(大日精化工業社製、セイカボンド(登録商標)A−601E)1.8質量部、イソシアネート系硬化剤(大日精化工業社製、セイカボンド(登録商標)C−84)0.3質量部、酢酸エチル8.4質量部からなる接着剤組成物をスピンコーターにて塗布後、90℃で乾燥し、約1μmの接着層を形成した。このように形成した接着層の上に、第2の樹脂層として、厚み50μm、酸素透過率27cc/m2/dayのPETフィルム(東レ社製、ルミラーS10)を載せて、ニップロール温度70℃でラミネートすることにより、樹脂積層体1を作製した。
(2) Preparation of resin laminate (2-1) Production example 1
A dye-containing resin composition was obtained by mixing 2 parts by mass of a polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Iupilon (registered trademark) E-2000), 0.02 parts by mass of croconium A, and 18 parts by mass of chloroform. .. This dye-containing resin composition was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a first resin layer having a film thickness of about 20 μm. On the first resin layer formed on the glass substrate, 1.8 parts by mass of an ester-urethane resin solution-based adhesive (Seikabond (registered trademark) A-601E manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.), an isocyanate-based curing agent ( An adhesive composition consisting of 0.3 parts by mass of Seikabond (registered trademark) C-84) and 8.4 parts by mass of ethyl acetate manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. was applied with a spin coater, dried at 90 ° C., and about. A 1 μm adhesive layer was formed. A PET film having a thickness of 50 μm and an oxygen transmittance of 27 cc / m 2 / day (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror S10) was placed on the adhesive layer thus formed as a second resin layer at a nip roll temperature of 70 ° C. By laminating, a resin laminate 1 was produced.

(2−2)製造例2
製造例1において、第2の樹脂層として、厚み100μm、酸素透過率15cc/m2/dayのPETフィルム(東レ社製、ルミラーT60)を用いた以外は、製造例1と同様にして樹脂積層体2を作製した。
(2-2) Production Example 2
Resin lamination in the same manner as in Production Example 1 except that a PET film having a thickness of 100 μm and an oxygen transmittance of 15 cc / m 2 / day (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror T60) was used as the second resin layer in Production Example 1. Body 2 was made.

(2−3)製造例3
製造例1において、第2の樹脂層として、厚み12μm、酸素透過率2.1cc/m2/dayの酸化アルミニウム蒸着PETフィルム(東レ社製、バリアロックス1011HG;表2では「Al蒸着PET」と表記)を用いた以外は、製造例1と同様にして樹脂積層体3を作製した。
(2-3) Production Example 3
In Production Example 1, as the second resin layer, an aluminum oxide-deposited PET film having a thickness of 12 μm and an oxygen permeability of 2.1 cc / m 2 / day (manufactured by Toray Industries, Inc., Barrierox 1011HG; in Table 2, “Al-deposited PET” is used. The resin laminate 3 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that (notation) was used.

(2−4)製造例4
製造例1において、接着剤組成物として、エステルウレタン樹脂溶液系接着剤(大日精化工業社製、セイカボンド(登録商標)A−601E)1.8質量部、イソシアネート系硬化剤(大日精化工業社製、セイカボンド(登録商標)C−84)0.3質量部、酢酸エチル8.4質量部、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF社製、チヌビンP)0.25質量部からなる接着剤組成物を用いた以外は、製造例1と同様にして樹脂積層体4を作製した。
(2-4) Production Example 4
In Production Example 1, as the adhesive composition, 1.8 parts by mass of an ester urethane resin solution-based adhesive (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Bond (registered trademark) A-601E), an isocyanate-based curing agent (Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) Adhesive composition consisting of 0.3 parts by mass of Seikabond (registered trademark) C-84), 8.4 parts by mass of ethyl acetate, and 0.25 parts by mass of benzotriazole-based ultraviolet absorber (Tinubin P, manufactured by BASF). The resin laminate 4 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the product was used.

(2−5)製造例5
製造例4において、第2の樹脂層として、厚み100μm、酸素透過率15cc/m2/dayのPETフィルム(東レ社製、ルミラーT60)を用いた以外は、製造例4と同様にして樹脂積層体5を作製した。
(2-5) Production Example 5
In Production Example 4, a PET film having a thickness of 100 μm and an oxygen transmittance of 15 cc / m 2 / day (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror T60) was used as the second resin layer, but the resin was laminated in the same manner as in Production Example 4. Body 5 was made.

(2−6)製造例6
製造例4において、第2の樹脂層として、厚み12μm、酸素透過率2.1cc/m2/dayの酸化アルミニウム蒸着PETフィルム(東レ社製、バリアロックス1011HG;表2では「Al蒸着PET」と表記)を用いた以外は、製造例4と同様にして樹脂積層体6を作製した。
(2-6) Production Example 6
In Production Example 4, as the second resin layer, an aluminum oxide-deposited PET film having a thickness of 12 μm and an oxygen permeability of 2.1 cc / m 2 / day (manufactured by Toray Industries, Inc., Barrierox 1011HG; in Table 2, “Al-deposited PET” is used. The resin laminate 6 was produced in the same manner as in Production Example 4 except that (notation) was used.

(2−7)製造例7
製造例2において、色素含有樹脂組成物として、ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウムAを0.02質量部、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF社製、チヌビンP)0.02質量部、クロロホルム18質量部を混合して得られたものを用いた以外は、製造例2と同様にして樹脂積層体7を作製した。
(2-7) Production Example 7
In Production Example 2, as the dye-containing resin composition, 2 parts by mass of a polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Upiron (registered trademark) E-2000), 0.02 parts by mass of croconium A, and benzotriazole-based ultraviolet absorption are absorbed. A resin laminate 7 was produced in the same manner as in Production Example 2 except that a mixture of 0.02 parts by mass of an agent (Tinubin P manufactured by BASF) and 18 parts by mass of chloroform was used.

(2−8)製造例8
製造例7で調製した色素含有樹脂溶液を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の樹脂層を形成し、これを樹脂積層体8とした。
(2-8) Production Example 8
The dye-containing resin solution prepared in Production Example 7 was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a resin layer having a film thickness of about 20 μm, which was used as the resin laminate 8. ..

(2−9)製造例9
製造例1で調製した色素含有樹脂溶液を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の樹脂層を形成し、これを樹脂積層体9とした。
(2-9) Production Example 9
The dye-containing resin solution prepared in Production Example 1 was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a resin layer having a film thickness of about 20 μm, which was used as the resin laminate 9. ..

(2−10)製造例10
製造例5において、クロコニウムAの代わりにスクアリリウムAを用いた以外は、製造例5と同様にして樹脂積層体10を得た。
(2-10) Production Example 10
A resin laminate 10 was obtained in the same manner as in Production Example 5, except that squarylium A was used instead of croconium A in Production Example 5.

(2−11)製造例11
製造例9において、クロコニウムAの代わりにスクアリリウムAを用いた以外は、製造例9と同様にして樹脂積層体11を得た。
(2-11) Production Example 11
A resin laminate 11 was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that squarylium A was used instead of croconium A in Production Example 9.

(2−12)製造例12
製造例5において、クロコニウムAの代わりにスクアリリウムBを用いた以外は、製造例5と同様にして樹脂積層体12を得た。
(2-12) Production Example 12
A resin laminate 12 was obtained in the same manner as in Production Example 5, except that squarylium B was used instead of croconium A in Production Example 5.

(2−13)製造例13
製造例9において、クロコニウムAの代わりにスクアリリウムBを用いた以外は、製造例9と同様にして樹脂積層体13を得た。
(2-13) Production Example 13
A resin laminate 13 was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that squarylium B was used instead of croconium A in Production Example 9.

(2−14)製造例14
製造例5において、クロコニウムAの代わりにスクアリリウムCを用いた以外は、製造例5と同様にして樹脂積層体14を得た。
(2-14) Production Example 14
A resin laminate 14 was obtained in the same manner as in Production Example 5, except that squarylium C was used instead of croconium A in Production Example 5.

(2−15)製造例15
製造例9において、クロコニウムAの代わりにスクアリリウムCを用いた以外は、製造例9と同様にして樹脂積層体15を得た。
(2-15) Production Example 15
A resin laminate 15 was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that squarylium C was used instead of croconium A in Production Example 9.

(2−16)製造例16
ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウムAを0.02質量部、光安定化剤(ADEKA社製、アデカスタブ(登録商標)LA−57)を0.02質量部、クロロホルム18質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この色素含有樹脂組成物を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の樹脂層を形成し、これを樹脂積層体16とした。
(2-16) Production Example 16
Polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Iupilon (registered trademark) E-2000) by 2 parts by mass, croconium A by 0.02 parts by mass, light stabilizer (manufactured by ADEKA, ADEKA STAB (registered trademark) LA-57) ) By 0.02 parts by mass and 18 parts by mass of chloroform to obtain a dye-containing resin composition. This dye-containing resin composition was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a resin layer having a film thickness of about 20 μm, which was used as a resin laminate 16.

(2−17)製造例17
ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウムAを0.02質量部、酸化防止剤としてADEKA社製のアデカスタブ(登録商標)PEP−36とアデカスタブ(登録商標)AO−412Sと住友化学社製のスミライザー(登録商標)GA−80をそれぞれ0.01質量部、クロロホルム18質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この色素含有樹脂組成物を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の樹脂層を形成し、これを樹脂積層体17とした。
(2-17) Production Example 17
Polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Iupilon (registered trademark) E-2000) by 2 parts by mass, croconium A by 0.02 parts by mass, and ADEKA manufactured by ADEKA (registered trademark) PEP-36 as an antioxidant. Adecastab (registered trademark) AO-412S and Sumirizer (registered trademark) GA-80 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. were mixed by 0.01 part by mass and 18 parts by mass of chloroform, respectively, to obtain a dye-containing resin composition. This dye-containing resin composition was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a resin layer having a film thickness of about 20 μm, which was used as a resin laminate 17.

(2−18)製造例18
ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウムAを0.02質量部、光安定化剤としてビス(ジチオベンジル)ニッケル(II)を0.02質量部、クロロホルム18質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この色素含有樹脂組成物を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の樹脂層を形成し、これを樹脂積層体18とした。
(2-18) Production Example 18
Polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Iupilon (registered trademark) E-2000) is 2 parts by mass, chloroform A is 0.02 parts by mass, and bis (dithiobenzyl) nickel (II) is 0. 02 parts by mass and 18 parts by mass of chloroform were mixed to obtain a dye-containing resin composition. This dye-containing resin composition was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a resin layer having a film thickness of about 20 μm, which was used as a resin laminate 18.

(2−19)製造例19
ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウムAを0.02質量部、酸化防止剤としてβ−カロテンを0.02質量部、クロロホルム18質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この色素含有樹脂組成物を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の樹脂層を形成し、これを樹脂積層体19とした。
(2-19) Production Example 19
Polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Iupilon (registered trademark) E-2000) is 2 parts by mass, croconium A is 0.02 parts by mass, β-carotene as an antioxidant is 0.02 parts by mass, and chloroform is 18 parts by mass. The parts were mixed to obtain a dye-containing resin composition. This dye-containing resin composition was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a resin layer having a film thickness of about 20 μm, which was used as a resin laminate 19.

(2−20)製造例20
ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン(登録商標)E−2000)を2質量部、クロコニウムAを0.02質量部、光安定化剤として7,7,8,8−テトラシアノキノジメタンを0.02質量部、クロロホルム18質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この色素含有樹脂組成物を、ガラス基板上に300μmのアプリケーターを用いて塗布後、50℃で乾燥し、約20μm膜厚の樹脂層を形成し、これを樹脂積層体20とした。
(2-20) Production Example 20
Polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Iupilon (registered trademark) E-2000) is 2 parts by mass, chloroform A is 0.02 parts by mass, and 7,7,8,8-tetracyanokinoji as a light stabilizer. 0.02 parts by mass of methane and 18 parts by mass of chloroform were mixed to obtain a dye-containing resin composition. This dye-containing resin composition was applied onto a glass substrate using a 300 μm applicator and then dried at 50 ° C. to form a resin layer having a film thickness of about 20 μm, which was used as the resin laminate 20.

(3)分析・試験方法
(3−1)酸素透過率
酸素透過率測定装置(イリノイ社製、Model8001)を用いて、JIS K 7126−2法に従い、23℃、ドライ条件で、第2の樹脂層に用いたPETフィルムと酸化アルミニウム蒸着PETフィルムの酸素透過率をそれぞれ測定した。酸素透過率の測定は、各フィルムを挟んだ一方側のチャンバに酸素ガスを導入し、他方側のチャンバに窒素ガスを導入して行った。
(3) Analysis / test method (3-1) Oxygen permeability Using an oxygen permeability measuring device (Model 8001 manufactured by Irinoi Co., Ltd.), the second resin is used at 23 ° C. in dry conditions according to the JIS K 7126-2 method. The oxygen transmittances of the PET film used for the layer and the aluminum oxide vapor-deposited PET film were measured. The oxygen transmission rate was measured by introducing oxygen gas into the chamber on one side of each film and introducing nitrogen gas into the chamber on the other side.

(3−2)耐光性試験
キセノンウェザーメーター(スガ試験機社製、X75SC)を用いて、60W/m2、53℃60%RHの条件で各樹脂積層体に24時間光照射し、耐光性試験を行った。各樹脂積層体の試験前後の吸光度を分光光度計(島津製作所社製、UV−1800)にて計測し、波長400nm〜1100nmの範囲における最大吸収波長の吸光度を求め、試験前後での吸光度保持率を算出した。
(3-2) Light resistance test Using a xenon weather meter (Suga Test Instruments Co., Ltd., X75SC), each resin laminate was irradiated with light for 24 hours under the conditions of 60 W / m 2 and 53 ° C. 60% RH, and light resistance. The test was conducted. The absorbance of each resin laminate before and after the test was measured with a spectrophotometer (UV-1800 manufactured by Shimadzu Corporation) to determine the absorbance of the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 nm to 1100 nm, and the absorbance retention rate before and after the test. Was calculated.

(4)結果
製造例1〜20で作製した樹脂積層体1〜20の耐光性試験の結果を表2に示す。近赤外線吸収色素としていずれの色素を用いた場合も、酸素透過率が100cc/m2/day以下の第2の樹脂層を設けることにより、第2の樹脂層を設けない場合よりも耐光性試験24時間後の吸光度保持率が向上した(樹脂積層体1〜3、9〜15)。その上でさらに紫外線吸収剤を接着層または第1の樹脂層に添加することで、吸光度保持率はさらに高くなった(樹脂積層体4〜7)。一方、第2の樹脂層を設けない場合は、耐光性添加剤として紫外線吸収剤、光安定化剤または酸化防止剤を第1の樹脂層に添加しても、第2の樹脂層を設けた場合と比べて、吸光度保持率の大きな改善は見られなかった(樹脂積層体8、16〜20)。
(4) Results Table 2 shows the results of the light resistance test of the resin laminates 1 to 20 produced in Production Examples 1 to 20. Regardless of which dye is used as the near-infrared absorbing dye, by providing a second resin layer having an oxygen transmittance of 100 cc / m 2 / day or less, a light resistance test is performed as compared with the case where the second resin layer is not provided. The absorbance retention rate after 24 hours was improved (resin laminates 1 to 3, 9 to 15). Further, by adding an ultraviolet absorber to the adhesive layer or the first resin layer, the absorbance retention rate was further increased (resin laminates 4 to 7). On the other hand, when the second resin layer is not provided, the second resin layer is provided even if an ultraviolet absorber, a light stabilizer or an antioxidant is added to the first resin layer as a light-resistant additive. Compared with the case, no significant improvement in the absorbance retention rate was observed (resin laminates 8, 16 to 20).

Figure 0006796443
Figure 0006796443

本発明の光選択吸収樹脂積層体は、高い耐光性を有するため、近赤外線を選択的に吸収する樹脂積層体として様々な用途に用いることができる。例えば、近赤外線を吸収・カットする機能を有する半導体受光素子用の光学フィルター、省エネルギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板、セキュリティーインクや不可視バーコードインクとしての情報表示材料、可視光および近赤外光を利用した太陽電池用材料、プラズマディスプレイパネル(PDP)やCCD用の特定波長吸収フィルター;レーザー溶着用の光熱変換材料、加圧や加熱による不具合の生じにくい光を利用した光定着法用材料(フラッシュ定着法用の静電荷現像用トナー)等に用いることができる。 Since the light selective absorption resin laminate of the present invention has high light resistance, it can be used for various purposes as a resin laminate that selectively absorbs near infrared rays. For example, an optical filter for a semiconductor light receiving element that has a function of absorbing and cutting near infrared rays, a near infrared ray absorbing film or a near infrared ray absorbing plate that blocks heat rays for energy saving, and an information display material as security ink or invisible bar code ink. Materials for solar cells using visible light and near-infrared light, specific wavelength absorption filters for plasma display panels (PDPs) and CCDs; photothermal conversion materials for laser welding, light that is less likely to cause problems due to pressurization or heating It can be used as a material for an optical fixing method (a toner for electrostatic charge development for a flash fixing method) or the like.

Claims (2)

近赤外線吸収色素として下記式(2)で表されるクロコニウム化合物を含有する第1の樹脂層と、前記第1の樹脂層と同一または異なる樹脂から構成された第2の樹脂層と、前記第1の樹脂層と前記第2の樹脂層の間に設けられた接着層とを、積層構造として少なくとも有する光選択吸収樹脂積層体であって、
前記接着層は紫外線吸収剤を含有し、
前記第2の樹脂層は、JIS K 7126−2法に従って測定した23℃、ドライ条件での酸素透過率が100cc/m2/day以下であることを特徴とする光選択吸収樹脂積層体。
Figure 0006796443

[式(2)中、R 3 〜R 4 はそれぞれ独立して、下記式(3)または下記式(4)で表される基を表す。]
Figure 0006796443

[式(3)中、R 5 〜R 9 はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、R 5 とR 6 、R 6 とR 7 、R 7 とR 8 、R 8 とR 9 はそれぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。
式(4)中、R 10 〜R 14 はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、R 10 とR 11 、R 11 とR 12 、R 12 とR 13 、R 13 とR 14 はそれぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。
*は、式(2)中の5員環との結合部位を表す。]
A first resin layer containing a croconium compound represented by the following formula (2) as a near-infrared absorbing dye , a second resin layer composed of the same or different resin as the first resin layer, and the first resin layer. A light selective absorption resin laminate having at least one resin layer and an adhesive layer provided between the second resin layers as a laminated structure.
The adhesive layer contains an ultraviolet absorber and
The second resin layer is a light selective absorption resin laminate having an oxygen transmittance of 100 cc / m 2 / day or less under dry conditions at 23 ° C. measured according to the JIS K 7126-2 method.
Figure 0006796443

[In the formula (2), R 3 to R 4 independently represent a group represented by the following formula (3) or the following formula (4). ]
Figure 0006796443

[In formula (3), R 5 to R 9 independently represent a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, and R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 8 And R 9 may be coupled to each other to form a ring, respectively.
In formula (4), R 10 to R 14 independently represent a hydrogen atom, an organic group or a polar functional group, and are R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , and R 13 . Each of R 14 may be bonded to each other to form a ring.
* Represents the binding site with the 5-membered ring in formula (2). ]
前記第2の樹脂層が無機蒸着樹脂層である請求項1に記載の光選択吸収樹脂積層体。 The light selective absorption resin laminate according to claim 1, wherein the second resin layer is an inorganic vapor-deposited resin layer.
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