JPWO2015125193A1 - 処理装置 - Google Patents
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Abstract
真空容器と、前記真空容器内に配置された複数の電極と、前記複数の電極のそれぞれに電位を与える複数の電源と、前記真空容器内に搬送される基板と前記複数の電極のそれぞれとの間のプロセス空間における電位を検出する検出部と、前記検出部によって検出された電位に基づいて、前記複数の電源によって前記複数の電極のそれぞれに与えられる電位の位相を制御する制御部と、を有することを特徴とする処理装置を提供する。
Description
本発明は、一般には、基板を処理する処理装置に関する。
複数のターゲットを用いてスパッタリングを行う処理装置(スパッタリング装置)は、複数の元素からなる化合物の成膜、或いは、磁気記録媒体の製造などの単一の真空処理室における複数の基板の同時処理や基板の両面の同時処理などに用いられている。このような処理装置では、それぞれの高周波電源からターゲットに印加される高周波電力(電位)の位相を、カソード(ターゲット電極)に印加される高周波電力の位相(高周波電源側)をモニタ(検出)しながら設定(制御)している(特許文献1及び2参照)。また、かかる処理装置では、主に、金属などの伝導性を有する材料がターゲットとして用いられている。
しかしながら、近年、熱アシスト磁気記録媒体の製造では、磁気記録層の配向を制御する下地層を形成する過程において、MgOなどの絶縁性の物質をターゲットとして用いて、複数のカソードから同時にスパッタリングを行う必要が生じている。
本発明者らは、絶縁性の物質をターゲットとして用いると、カソードからプラズマに印加される高周波電力の位相が、高周波電源側をモニタして設定した高周波電力の位相からシフトする現象が生じることを見出した。この場合、複数のカソードのそれぞれからプラズマに印加される高周波電力の位相が揃わないため、プラズマの生じる位置が変化し、基板に形成される膜の均一性などの膜質向上の妨げとなる。
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、複数の電源によって複数の電源のそれぞれに与えられる電位の位相を制御するのに有利な処理装置を提供することを例示的目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての処理装置は、真空容器と、前記真空容器内に配置された複数の電極と、前記複数の電極のそれぞれに電位を与える複数の電源と、前記真空容器内に搬送される基板と前記複数の電極のそれぞれとの間のプロセス空間における電位を検出する検出部と、前記検出部によって検出された電位に基づいて、前記複数の電源によって前記複数の電極のそれぞれに与えられる電位の位相を制御する制御部と、を有することを特徴とする。
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
本発明によれば、例えば、複数の電源によって複数の電源のそれぞれに与えられる電位の位相を制御するのに有利な処理装置を提供することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
<第1の実施形態>
図1は、本発明の一側面としての処理装置100の構成を示す概略平面図である。処理装置100は、磁気記録媒体などに用いられる基板を処理する装置であって、本実施形態では、インライン式の処理装置として構成されている。インライン式とは、連結された複数のチャンバを経由して基板を搬送しながら基板を処理する方法である。図1では、複数のチャンバ111乃至130が矩形のレイアウトを構成するように無端状に連結されている。チャンバ111乃至130のそれぞれには排気装置が設けられており、かかる排気装置によって内部が真空排気される。
図1は、本発明の一側面としての処理装置100の構成を示す概略平面図である。処理装置100は、磁気記録媒体などに用いられる基板を処理する装置であって、本実施形態では、インライン式の処理装置として構成されている。インライン式とは、連結された複数のチャンバを経由して基板を搬送しながら基板を処理する方法である。図1では、複数のチャンバ111乃至130が矩形のレイアウトを構成するように無端状に連結されている。チャンバ111乃至130のそれぞれには排気装置が設けられており、かかる排気装置によって内部が真空排気される。
処理装置100において、互いに隣接するチャンバは、ゲートバルブを介して連結されている。また、チャンバ111乃至130のそれぞれには、ゲートバルブを介して、基板1を保持したキャリア10を搬送する搬送装置が配置されている。搬送装置は、キャリア10を垂直姿勢で搬送する搬送路を有している。基板1は、キャリア10に保持されて搬送路に沿って搬送される。なお、基板1は、中心部分に孔(内周孔部)を有する金属又はガラスからなる円板状部材である。
キャリア10は、本実施形態では、2枚の基板1を同時に保持し、上述したように、垂直姿勢で搬送路上を移動する。キャリア10は、基板1を保持するA1合金からなるホルダーと、かかるホルダーを支持して搬送路上を移動するスライダとを含む。キャリア10は、ホルダーに設けられた複数の保持部材(爪)で基板1の外周部を保持することで、基板1の処理面(成膜面など)を遮ることなく、ターゲットに対向した姿勢で基板1を保持する。
チャンバ111乃至130は、スタッパチャンバなどのプロセスチャンバを含む。チャンバ111乃至130のうち、例えば、チャンバ111は、キャリア10に基板1を取り付ける処理が行われるロードロック室であり、チャンバ116は、キャリア10から基板1を取り外す処理が行われるアンロードロック室である。チャンバ112、113、114及び115は、キャリア10(基板1)の搬送方向を90度転換する方向転換装置を備えたチャンバである。また、例えば、チャンバ117は、基板1に密着層を形成する密着層形成室であり、チャンバ118乃至120は、密着層が形成された基板1に軟磁性層を形成する軟磁性層形成室である。チャンバ121は、軟磁性層が形成された基板1にシード層を形成するシード層形成室であり、チャンバ123及び124は、シード層が形成された基板1に中間層を形成する中間層形成室である。チャンバ126及び127は、中間層が形成された基板1に磁性膜を形成する磁性膜形成室であり、チャンバ129は、磁性膜が形成された基板1に保護膜を形成する保護膜形成室である。
処理装置100における基板1の処理手順の一例について説明する。まず、チャンバ111において、未処理の2枚の基板1が先頭のキャリア10に取り付けられる。かかるキャリア10は、密着層を形成するためのチャンバ117に移動して、基板1に密着層が形成される。この間、チャンバ111において、2番目のキャリア10に対して2枚の未処理の基板1が取り付けられる。
次いで、先頭のキャリア10が軟磁性層を形成するためのチャンバ118、119及び120に順に移動しながら基板1に軟磁性層が形成される。この間、2番目のキャリア10が密着層を形成するためのチャンバ117に移動し、基板1に密着層が形成され、更に、チャンバ111において、3番目のキャリア10に対して基板1が取り付けられる。このように、先頭のキャリア10及びそれに続くキャリア10が移動するたびに、チャンバ111において後続のキャリア10に対して基板1が取り付けられる。
次に、軟磁性層が形成された基板1を保持する先頭のキャリア10は、シード層を形成するためのチャンバ121に移動し、基板1にシード層が形成される。そして、先頭のキャリア10は、中間層を形成するためのチャンバ123及び124、磁性膜を形成するためのチャンバ126及び127、及び、保護膜を形成するためのチャンバ129に順に移動し、基板1に中間層、磁性膜及び保護膜が形成される。
図2は、スパッタリング(成膜)装置200の構成の一例を示す概略図である。図2は、スパッタリング装置200をキャリア10の搬送方向に直交する面の断面図を示している。スパッタリング装置200は、図1に示す処理装置100の一部を構成するチャンバ117乃至130(チャンバ112乃至114を除く)のうちの任意の1つのチャンバに対応する。
スパッタリング装置200は、真空容器201と、排気系451と、ガス導入系452と、カソード454と、カソードマグネット455とを有する。また、スパッタリング装置200は、電源210と、整合器212a及び212bと、位相調整器214a及び214bと、検出部216と、制御部218とを有する。
真空容器201は、ゲートバルブ(不図示)で仕切られている。真空容器201には、その内部の空間(プロセス空間)にプロセスガスを導入するガス導入系452と、内部の空間の圧力をコントロールするバルブ21と、内部の空間に被スパッタ面を露出させて配置されたターゲット453が設けられている。また、真空容器201には、ターゲット453を保持する裏板としてのカソード(電極)454と、ターゲット453の裏面に配置されたカソードマグネット455と、放電用の電力をカソード454に印加する(与える)電源210が設けられている。
真空容器201は、キャリア10(基板1)を基準として、左右が対称形状となるように構成されている。ガス導入系452からプロセスガスを導入するとともに、排気系451によって真空容器201の内部を所定の圧力に維持し、かかる状態において、電源210からカソード454に電力を印加する。これにより、放電が生じてターゲット453がスパッタされ、スパッタされたターゲット453が基板1に到達して基板1に所定の膜が形成される。
搬送装置22は、基板1を保持して移動可能なキャリア10を搬送路に沿って搬送する。搬送装置22は、主な構成要素として、それぞれのチャンバ側に設けられた磁気ネジ駆動機構411と、案内ガイド23とを有する。磁気ネジ駆動機構411は、螺旋状磁石軸24と、螺旋状磁石軸24に回転力を伝える駆動軸25と、駆動軸25に動力を供給するモータ26とを含む。
カソード454は、真空容器内に配置された電極であって、本実施形態では、真空容器内に搬送される基板1(キャリア10)を挟んで(即ち、対向して)配置された一対のカソード454a及び454b(複数の電極)を含む。カソード454a及び454bのそれぞれには、ターゲット453として絶縁性の物質が配置されている。また、カソード(第1電極)454aには、整合器212aを介して電源(第1電源)210aが接続され、カソード(第2電極)454bには、整合器212bを介して電源(第2電源)210bが接続されている。電源210a及び電源210bは、カソード454a及び454bのそれぞれに高周波電力を印加する電源210である。更に、電源210aには、位相調整器214aが接続され、電源210bには、位相調整器214bが接続されている。
検出部216は、真空容器内に搬送される基板1(キャリア10)とカソード454a及び454bのそれぞれとの間のプロセス空間における電位を検出する。ここで、プロセス空間における電位とは、カソード454a及び454bのそれぞれから出力される電位であって、例えば、プロセス空間内の電位やプロセス空間内に配置された部材の電位などを含む。検出部216は、本実施形態では、ホルダーに接続され、カソード454a及び454bに供給された高周波電力によって生じる、プロセス空間内に配置されたホルダーの電位Vppを検出する。
制御部218は、CPUやメモリなどを含み、スパッタリング装置200の全体(動作)を制御する。本実施形態では、制御部218は、検出部216で検出された電位Vppに基づいて、位相調整器214a及び214bのそれぞれを介して、電源210a及び210bによってカソード454a及び454bのそれぞれに与えられる電位の位相を制御する。以下では、位相調整器214a及び214bと制御部218とをまとめて「位相制御部」と称する。なお、位相調整器214a及び214b、及び、制御部218のいずれか一方に他方の機能を備えさせて一体型の位相制御部を構成してもよい。
検出部216は、ホルダー(に保持された基板1)の電位を少なくとも検出し、基板1に流入する高周波電圧変化の振幅を出力する。具体的には、検出部216は、ホルダーに接続された電圧計(電極)や、かかる電圧計の測定値を一定時間以上記憶する記憶部などを含み、オシロスコープを備えて構成されている。電圧計はホルダーと電気的に接続されており、ホルダーは基板を保持してプロセス位置(成膜位置)に配置されている。従って、検出部216は、プロセス中にプロセス空間における電位(の変化)を検出することができる。また、検出部216で検出されたホルダーの電位の波形の振幅をピーク間電位(Peak to Peak:Vpp)とする。但し、検出部216は、プロセス空間における電位を検出することができればよく、ホルダーに電圧計を設ける形態に限定されるものに限定されない。
図3Aは、カソード454a及び454bのそれぞれから出力される電位の位相が同相(位相差が0度)である場合に検出部216によって検出されるホルダーの電位の波形の一例を示す図である。図3Bは、カソード454a及び454bのそれぞれから出力される電位の位相が逆相(位相差が180度)である場合に検出部216によって検出されるホルダーの電位の波形の一例を示す図である。
図3Aに示すように、カソード454a及び454bのそれぞれから出力される電位(高周波放電)の位相が同相である場合、2つの同じ位相がプロセス位置で重なり合うため、ホルダーの電位の波形は大きくなる。換言すれば、高周波放電が同相のときに、検出部216で検出されるホルダーの電位の波形の振幅のピーク間電位Vpp1が最大となる。
一方、図3Bに示すように、カソード454a及び454bのそれぞれから出力される電位の位相が逆相である場合、それぞれの電位の波形がプロセス位置で打ち消し合うため、ホルダーの電位の波形は平坦となる。換言すれば、高周波放電が逆相のときに、検出部216で検出されるホルダーの電位の波形の振幅のピーク間電位Vpp2が最小となる。
なお、上述したように、高周波放電が「同相」又は「逆相」であることは、ホルダーの位置で、2つのカソード454a及び454bから出力される高周波電位の位相が同相又は逆相であることを意味する。
図4は、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差に対するホルダーの電位Vppの変化の一例を示す図である。図4では、ホルダーの電位Vppを縦軸に採用し、位相差を横軸に採用している。図4を参照するに、位相差に対して、ホルダーの電位Vppは、同相で最大となり、逆相で最小となり、それ以外では各位相差に対応した値となっている。
ここで、位相差について説明する。電源210aからカソード454aに印加される電位の位相と電源210bからカソード454bに印加される電位の位相との位相差(即ち、2つの高周波電源から出力された高周波電力の位相差)を設定位相差とする。また、ホルダーの位置において、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差を実質位相差とする。本実施形態のように、ターゲット453として絶縁性の物質を用いると、ターゲット453がコンデンサとして作用する。従って、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相差(設定位相差)と、ホルダーの位置での電位の位相差(実質位相差)とが一致しなくなる。
ホルダーは、上述したように、保持部材を介して基板1と電気的に接続されており、検出部216は、実質的に、基板1の処理面上の電位(の位相差)を検出することが可能となっている。従って、本実施形態では、ホルダーの位置での電位(ホルダーの電位)の位相差に相当する、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差を実質位相差としている。
また、ホルダーの電位は、ピーク間電位Vppに限定されるものではなく、例えば、ホルダーの位置での電位の最大値や最小値としてもよい。検出部216によって検出される電位としては、電圧が好適である。なお、図8を参照して後述するように、プロセス空間に配置された電極で検出される電圧から位相差を求めてもよい。
図5A及び図5Bは、スパッタリング装置200におけるカソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相の制御(調整)を説明するためのフローチャートである。
図5Aは、図4に示すような関係、即ち、ホルダーの電位(プロセス空間における電位を表す情報)と、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差との関係を求めるための処理を示している。まず、S502では、真空容器内に基板1が搬送されていない状態において、カソード454a及び454bのそれぞれとホルダーとの間で放電させる。S504では、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差に対するホルダーの電位の変化を取得する。具体的には、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差(カソード454a及び454bのそれぞれに印加する電位の位相)を変更しながら検出部216によってホルダーの電位を検出する。S506では、S504で取得されたカソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差に対するホルダーの電位の変化を制御部218のメモリなどの記憶部に記憶する。
図5Aに示す処理によって、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差と、ホルダーの電位との関係(図4に示す関係)が得られる。本実施形態では、ホルダーの電位として波形の振幅の値であるピーク間電位(Vpp)を用いた。従って、検出部216によって検出されるピーク間電位が最大となる位相差が、実質位相差が0度(同相)であることに対応している。また、検出部216によって検出されるピーク間電位が最小となる位相差が、実質位相差が180度(逆相)であることに対応している。
図5Bは、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相を制御するための処理を示している。S512では、カソード454a及び454bのそれぞれとホルダーとの間で放電させる。この際、カソード454a及び454bのそれぞれには、電源210a及び210bから予め設定されている初期電位が印加される。S514では、検出部216によってホルダーの電位(即ち、放電時におけるホルダーの電位)を検出する。S514で検出されたホルダーの電位は、制御部218に送られる。S516では、S514で検出されたホルダーの電位に基づいて、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差(実質位相差)を求める。S518では、S516で求めた実質位相差に基づいて、電源210aからカソード454aに印加される電位の位相、及び、電源210bからカソード454bに印加される電位の位相を制御(調整)する。例えば、S516で求めた実質位相差と、記憶部に記憶されたカソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差に対するホルダーの電位の変化(図4に示す関係)とを照らし合わせる。そして、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差が予め定められた位相差となるように、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相を制御する。
ここで、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相の制御について具体例を説明する。例えば、高周波放電条件を同相、設定位相差を0度とし、検出部216によって検出された放電時におけるホルダーの電位が100Vである場合について考える。この場合、カソード454aとカソード454bとの間の初期の設定位相差は0度である。但し、放電時におけるホルダーの電位として100Vが検出された場合、図4に示す関係において100VであるA点又はB点に対応する位相差が、実際の位相差(実質位相差)である。従って、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との実際の位相差は、−100度又は50度である。図4を参照するに、カソード454aとカソード454bとの間の位相差が同相である場合、ホルダーの電位が最大(C点)となる。そこで、実質位相差を同相にするために、制御部218は、位相調整器214a及び214bを介して、ホルダーの電位が大きくなる方向に設定位相差をシフトさせる。そして、ホルダーの電位が最大になったときに、実質位相差が同相となる。
本実施形態では、検出部216によって検出されたホルダーの電位から得られる位相差が2点(図4に示すA点及びB点)ある。従って、ホルダーの電位が最大になる設定位相差にする(換言すれば、実質位相差を同相にする)ためには、設定位相差を増大する方向又は減少する方向にシフトさせる必要がある。そこで、設定位相差を所定角度、例えば、5度程度シフトさせてホルダーの電位を検出し、かかる電位が低下しているようならば、逆方向にシフトさせることで、設定位相差を正しい方向にシフトさせることができる。
本実施形態では、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差と、ホルダーの電位との関係(図4に示す関係)を予め取得している。そして、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相を制御する際に、予め取得した関係を参照している。但し、本実施形態のように、実質位相差が同相であるときにホルダーの電位が最大となり、実質位相差が逆相であるときにホルダーの電位が最小となる場合には、図4に示すような関係は必ずしも必要ない。例えば、実質位相差を同相にする場合には、ホルダーの電位が最大となる設定位相差にすればよいため、図4に示すような関係を予め取得していなくても、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相を制御することが可能である。同様に、実質位相差を逆相にする場合には、ホルダーの電位が最小となる設定位相差にすればよい。
一方、実質位相差を所定の位相差にする場合には、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差と、ホルダーの電位との関係(図4に示す関係)を予め取得する必要がある。例えば、カソード454aとカソード454bとの間の位相差(実質位相差)を90度とする場合を考える。この場合には、カソード454aから出力される電位の位相とカソード454bから出力される電位の位相との位相差と、ホルダーの電位との関係を参照して、設定位相差を制御(調整)する必要がある。
なお、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相の制御は、一般的には、ターゲット453を交換したタイミングなどで実施され、放電の条件出しに用いられるが、プロセス中に(即ち、常時)実施してもよい。
本実施形態によれば、ターゲットに絶縁性の物質を用いた場合であっても、各カソードから出力される電位の位相差が予め定められた位相差となるように、複数の電源によって複数のカソードのそれぞれに与えられる電位の位相を最適に制御することができる。従って、複数のカソードのそれぞれからプラズマに印加される電位の位相を揃えることが可能となるため、プラズマの生じる位置を安定化させ、基板に形成される膜の均一性などの膜質を向上させることができる。
<第2の実施形態>
図6は、スパッタリング装置600の構成の一例を示す概略平面図である。スパッタリング装置600は、ロードロック室として機能するチャンバ610と、アンロードロック室として機能するチャンバ620と、複数の真空容器630乃至670と、搬送チャンバ680とを有する。真空容器630、640、650及び660は、スパッタリング(成膜)用の真空容器である。例えば、真空容器630乃至660のそれぞれにおいて、密着層、軟磁性層、シード層、中間層、磁性膜、保護膜などが基板に形成される。また、真空容器670は、酸化処理用の真空容器である。例えば、真空容器670において、基板に形成された金属層などが酸化される。ここで、チャンバ610、チャンバ620、及び、真空容器630乃至670は、搬送チャンバ680によって繋がれている。搬送チャンバ680には、チャンバ610と、チャンバ620と、真空容器630乃至670との間で基板を搬送するための搬送装置が配置されている。
図6は、スパッタリング装置600の構成の一例を示す概略平面図である。スパッタリング装置600は、ロードロック室として機能するチャンバ610と、アンロードロック室として機能するチャンバ620と、複数の真空容器630乃至670と、搬送チャンバ680とを有する。真空容器630、640、650及び660は、スパッタリング(成膜)用の真空容器である。例えば、真空容器630乃至660のそれぞれにおいて、密着層、軟磁性層、シード層、中間層、磁性膜、保護膜などが基板に形成される。また、真空容器670は、酸化処理用の真空容器である。例えば、真空容器670において、基板に形成された金属層などが酸化される。ここで、チャンバ610、チャンバ620、及び、真空容器630乃至670は、搬送チャンバ680によって繋がれている。搬送チャンバ680には、チャンバ610と、チャンバ620と、真空容器630乃至670との間で基板を搬送するための搬送装置が配置されている。
図7は、スパッタリング用の真空容器630、640、650及び660のうちの任意の1つの真空容器、例えば、真空容器630の概略断面図である。真空容器630には、基板1を保持したホルダーが搬送され、かかる基板1(ホルダー)に対向するように3つ以上のカソード454が設けられている。また、真空容器630には、プロセス空間における電位を検出する検出部216として、プロセス空間内に電位測定電極216aが配置されている。なお、本実施形態では、プロセス空間の1つの位置に1つの電位測定電極216aを配置しているが、プロセス空間の複数の位置に複数の電位測定電極216aを配置してもよい。また、第1の実施形態と同様に、プロセス空間における電位として、基板1を保持するホルダーの電位を検出してもよい。また、プロセス空間及びホルダーのそれぞれに電位測定電極を配置し、成膜条件に応じて、プロセス空間に配置された電位測定電極で電位を検出するのか、ホルダーに配置された電位測定電極で電位を検出するのかを切り替えてもよい。
本実施形態では、3つ以上のカソード454を有するスパッタリング装置600において、3つ以上のカソード454のそれぞれに印加される電位の位相を制御(調整)する場合について説明する。まず、3つ以上のカソード454のうち、第1カソードに印加される電位の位相と第2カソードに印加される電位の位相とを第1の実施形態と同様な処理で制御する。次いで、3つ以上のカソード454のうち、第1カソードに印加される電位の位相と第3カソードに印加される電位の位相とを第1の実施形態と同様な処理で制御する。次に、3つ以上のカソード454のうち、第1カソードに印加される電位の位相と第4カソードに印加される電位の位相とを第1の実施形態と同様な処理で制御する。このように、複数のカソードから選択される2つのカソードの全ての組み合わせについて、2つのカソードのそれぞれから出力される電位の位相差が予め定められた位相差となるように、2つのカソードのそれぞれに与えられる電位の位相を制御する。
本実施形態によれば、各カソードから出力される電位の位相差が予め定められた位相差となるように、3つ以上のカソードのそれぞれに与えられる電位の位相を最適に制御することができる。従って、3つ以上のカソードのそれぞれからプラズマに印加される電位の位相を揃えることが可能となるため、プラズマの生じる位置を安定化させ、基板に形成される膜の均一性などの膜質を向上させることができる。
また、本実施形態のように、3つ以上のカソード454を有するスパッタリング装置600では、少なくとも1つのカソードにターゲットとして絶縁性の物質を配置すると、設定位相差と実質位相差とが一致しない現象が生じやすい。従って、少なくとも1つのカソードにターゲットとして絶縁性の物質を配置する場合には、各カソードに印加される電位の位相を第1の実施形態と同様な処理で制御するとよい。
<第3の実施形態>
図8は、スパッタリング装置200Aの構成の一例を示す概略図である。本実施形態のスパッタリング装置200Aは、図2に示すスパッタリング装置200と同様であるが、プロセス空間における電位を検出する検出部216の構成が異なる。また、スパッタリング装置200Aは、位相調整器214a及び214bの機能と制御部218の機能とを備えた位相調整部810を有する。
図8は、スパッタリング装置200Aの構成の一例を示す概略図である。本実施形態のスパッタリング装置200Aは、図2に示すスパッタリング装置200と同様であるが、プロセス空間における電位を検出する検出部216の構成が異なる。また、スパッタリング装置200Aは、位相調整器214a及び214bの機能と制御部218の機能とを備えた位相調整部810を有する。
検出部216は、本実施形態では、電位を測定するための電位測定電極216bを、ホルダーではなく、真空容器内に搬送されたホルダーとターゲット453との間に配置することで構成している。但し、電位測定電極216bは、カソード454(ターゲット453)から見て、ホルダーに保持された基板1の処理面(成膜面)に重ならないように配置する必要がある。また、本実施形態では、ホルダーを挟んで対向するように2つの線形状の電位測定電極216bを配置しているが、一方のカソード側、或いは、カソード間の中心付近に1つの電位測定電極216bを配置してもよい。また、ホルダーを取り囲むようにリング状の電位測定電極216bを配置してもよい。
本実施形態では、2つの線形状の電位測定電極216bは、カソード454a及び454bのそれぞれからの距離が等しくなるように左右対称に配置されている。但し、本実施形態では、カソード454a及び454bのそれぞれに印加される電位の位相を、カソード454a及び454bからの高周波放電波形の重なりによる電位の変化に基づいて制御している。従って、電位測定電極216bは、各カソードから出力される電位を検出できる位置であれば、真空容器内のどこに配置されていてもよい。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明は、ターゲットとして絶縁性の物質を用いた場合に限らず、カソード(ターゲット電極)から出力される電位の位相が、電源側で設定された電位の位相からシフトする場合にも適用することができる(有効である)。例えば、高周波導入経路長の違いに起因する位相のシフトが発生した場合にも、本発明を用いればカソードから出力される電位の位相を最適に制御することができる。
本願は、2014年2月21日提出の日本国特許出願特願2014−32104を基礎として優先権を主張するものであり、その記載内容の全てを、ここに援用する。
Claims (10)
- 真空容器と、
前記真空容器内に配置された複数の電極と、
前記複数の電極のそれぞれに電位を与える複数の電源と、
前記真空容器内に搬送される基板と前記複数の電極のそれぞれとの間のプロセス空間における電位を検出する検出部と、
前記検出部によって検出された電位に基づいて、前記複数の電源によって前記複数の電極のそれぞれに与えられる電位の位相を制御する制御部と、
を有することを特徴とする処理装置。 - 前記複数の電極は、第1電極と、第2電極とを含み、
前記複数の電源は、前記第1電極に電位を与える第1電源と、前記第2電極に電位を与える第2電源とを含み、
前記制御部は、前記検出部によって検出された電位から得られる、前記第1電極から出力される電位の位相と前記第2電極から出力される電位の位相との位相差が予め定められた位相差となるように、前記第1電源から前記第1電極に与えられる電位の位相と前記第2電源から前記第2電極に与えられる電位の位相との位相差を制御することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。 - 前記予め定められた位相差は、0度又は180度であることを特徴とする請求項2に記載の処理装置。
- 前記プロセス空間における電位を表す情報と、前記第1電極から出力される電位の位相と前記第2電極から出力される電位の位相との位相差との関係を記憶する記憶部を更に有し、
前記制御部は、前記記憶部に記憶された前記関係を参照して、前記第1電源から前記第1電極に与えられる電位の位相と前記第2電源から前記第2電極に与えられる電位の位相との位相差を制御する請求項2又は3に記載の処理装置。 - 前記情報は、前記プロセス空間における電位の波形の振幅の値を含むことを特徴とする請求項4に記載の処理装置。
- 前記情報は、前記真空容器内に基板が搬送されていない状態において前記検出部によって検出された電位であることを特徴とする請求項4又は5に記載の処理装置。
- 前記制御部は、前記複数の電極から選択される2つの電極の全ての組み合わせについて、前記2つの電極のそれぞれから出力される電位の位相差が予め定められた位相差となるように、前記2つの電極のそれぞれに与えられる電位の位相を制御することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
- 前記基板を保持して前記真空容器内に搬送されるホルダを更に有し、
前記検出部は、前記真空容器内に搬送された前記ホルダにおける電位を検出することを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の処理装置。 - 前記検出部は、前記プロセス空間の複数の位置に配置されていることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記複数の電極のそれぞれは、ターゲットを保持し、
前記複数の電極のうち少なくとも1つの電極は、前記ターゲットとして絶縁性の物質を保持することを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の処理装置。
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