JPWO2015098815A1 - Sheet-like electronic device manufacturing method, manufacturing apparatus, and laminate - Google Patents
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Abstract
粘着剤を使用することなく、基材フィルム(11)とサポートフィルム(12)とが静電的に密着して積層した状態で、シート状電子デバイスを製造する方法とそのための製造装置およびその積層体を提供する。基材フィルム(11)とサポートフィルム(12)とを積層して積層フィルム(15)を形成する積層工程と、真空下で、積層フィルム(15)を構成する両フィルム間に電位差を設けて、帯電させる帯電工程と、積層フィルム(15)の基材フィルム(11)上に電子デバイスを形成する電子デバイス形成工程とを有することを特徴とするシート状電子デバイスの製造方法とそのための製造装置である。また、基材フィルム(11)とサポートフィルム(12)とが静電的に密着して積層され、両フィルムの剥離強度が0.03〜0.5N/25mmであり、基材フィルム上にシート状電子デバイスが形成された積層体である。A method for manufacturing a sheet-like electronic device in a state where the base film (11) and the support film (12) are electrostatically adhered and stacked without using an adhesive, a manufacturing apparatus therefor, and a stack therefor Provide the body. Laminating step of laminating the base film (11) and the support film (12) to form the laminated film (15), and providing a potential difference between the two films constituting the laminated film (15) under vacuum, A sheet-like electronic device manufacturing method and a manufacturing apparatus therefor, comprising: a charging step of charging; and an electronic device forming step of forming an electronic device on the base film (11) of the laminated film (15). is there. The base film (11) and the support film (12) are electrostatically adhered and laminated, and the peel strength of both films is 0.03 to 0.5 N / 25 mm. It is the laminated body in which the electronic device was formed.
Description
本発明は、シート状電子デバイスの製造方法、シート状電子デバイスの製造装置およびシート状電子デバイスが表面に形成された積層体に関する。 The present invention relates to a sheet-like electronic device manufacturing method, a sheet-like electronic device manufacturing apparatus, and a laminate on which a sheet-like electronic device is formed.
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子、液晶ディスプレイ素子、タッチパネル、電子ペーパ、太陽電池等の電子デバイスが種々開発されている。
これらの電子デバイスは、薄板状とすることによって、軽量化され、携帯時や設置する際に取り扱いが容易となり、省スペース化され、輸送時や保管時の取り扱いもし易くなる。そのため、電子デバイスの薄板化に対する要請はますます強いものとなってきている。In recent years, various electronic devices such as organic electroluminescence elements, liquid crystal display elements, touch panels, electronic paper, and solar cells have been developed.
These electronic devices are reduced in weight by being made into a thin plate shape, and are easy to handle when carrying or installing, saving space, and easy to handle during transportation and storage. For this reason, there is an increasing demand for thinner electronic devices.
薄板状の電子デバイス、即ちシート状電子デバイスの薄肉化を図るため、電子デバイスを構成する各基材や各機能性材の厚さを薄くすることが求められる。特に、種々の機能性の層を積層させていく際のベースとなる基材シートは、従来、電子デバイスとしての機械的強度、寸法安定性、取扱性等の観点から、比較的厚さの大きいガラス板や樹脂板が採用されてきた。しかし、この基材シートに対しても、薄肉化のための開発が進められている。 In order to reduce the thickness of a thin plate-like electronic device, that is, a sheet-like electronic device, it is required to reduce the thickness of each base material and each functional material constituting the electronic device. In particular, the base sheet used as a base when laminating various functional layers is conventionally relatively thick from the viewpoint of mechanical strength, dimensional stability, handleability, etc. as an electronic device. Glass plates and resin plates have been adopted. However, development for thinning the base sheet is also underway.
基材シートとして、数十μmオーダーの厚さの薄手の基材フィルムを使用することを考えた場合に、シート状電子デバイスを製造する際に、問題点が存在する。即ち、薄手の基材フィルム上に、種々の機能性層を積層していく加工の際に、基材フィルムの取り扱いが難しいことである。基材フィルム上に層形成する際には、所定位置にフラットに保つため、基材フィルムの両側からテンションを掛けることが必要となる。しかし、基材フィルムの厚さが薄く、剛性が不十分であることから、位置ずれやしわが発生し、正確で均一な層形成が困難となる。 Considering the use of a thin base film having a thickness on the order of several tens of μm as the base sheet, there is a problem in manufacturing a sheet-like electronic device. That is, it is difficult to handle the base film during the process of laminating various functional layers on the thin base film. When forming a layer on the base film, it is necessary to apply tension from both sides of the base film in order to keep it flat at a predetermined position. However, since the thickness of the base film is thin and the rigidity is insufficient, misalignment and wrinkles are generated, and it is difficult to form an accurate and uniform layer.
そこで、基材フィルムの製造工程における取り扱い性の向上を図るため、基材フィルムに対して厚手のサポート材を粘着剤で積層させるという試みが開示されている。 Then, in order to improve the handleability in the manufacturing process of the base film, an attempt to laminate a thick support material with an adhesive on the base film has been disclosed.
例えば、特許文献1には、薄膜基板の裏側に硬質基板を粘接着剤層を用いて仮固定した後に、薄膜基板上にパターンを形成する方法が開示されている。特許文献2には、薄膜基材の支持体として、粘着剤層を有するポリエステル系樹脂のキャリア材が開示されている。
For example,
特許文献1および特許文献2に開示された方法は、いずれも薄手の基材フィルムと支持体となるサポートフィルムとを粘着剤層を介して一時的に接着させておき、機能性層等の形成後に剥離させるという方法である。
In both methods disclosed in
ところが、機能性層等の形成時には、種々の条件に曝されるため、粘着剤層が経時的に変質する場合がある。そのため、機能性層等の形成後にサポートフィルムを剥離するときに、粘着剤の一部が基材フィルム上に局部的に残存したり、粘着剤層が凝集破壊して、基材フィルム上に粘着剤が層状に残存したり、さらには、剥離が困難となったりすることがある。 However, since the functional layer or the like is exposed to various conditions, the pressure-sensitive adhesive layer may change over time. Therefore, when the support film is peeled off after the formation of the functional layer, etc., part of the adhesive remains locally on the base film, or the adhesive layer cohesively breaks down and adheres to the base film. The agent may remain in a layered state, and furthermore, peeling may be difficult.
基材フィルム上に粘着剤が残存していると、外観が低下し、発光輝度等の電子デバイスとしての性能低下につながる。また、付着している粘着剤を除去するために、新たに洗浄・乾燥工程を設けることが必要となる。 If the pressure-sensitive adhesive remains on the base film, the appearance deteriorates, leading to a decrease in performance as an electronic device such as light emission luminance. Moreover, in order to remove the adhesive which has adhered, it is necessary to provide a washing | cleaning and drying process newly.
本発明は、かかる状況に鑑みてなされたものである。本発明の課題は、粘着剤を使用することなく、基材フィルムとサポートフィルムとが静電的に密着して積層した状態で、シート状電子デバイスを製造する方法とそのための製造装置を提供することである。また、粘着剤を使用することなく、基材フィルムとサポートフィルムとが静電的に密着して積層され、基材フィルム上にシート状電子デバイスが形成された積層体を提供することである。 The present invention has been made in view of such a situation. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a sheet-like electronic device and a manufacturing apparatus therefor in a state where a base film and a support film are electrostatically adhered and laminated without using an adhesive. That is. Another object of the present invention is to provide a laminate in which a base film and a support film are electrostatically adhered and laminated without using an adhesive, and a sheet-like electronic device is formed on the base film.
本発明者らは、上記課題の解決策について検討を重ねたところ、真空下で電圧印加電極を用いて、基材フィルムとサポートフィルムとを静電的に密着させると、その後、基材フィルム上に機能性層等を形成する際に、加工上支障がないことを見出した。また、真空下であれば、大気圧下よりも低い電圧によって、所定の静電的な密着強度を達成し得ることも見出した。本発明は、係る知見を得ることによって、到達することができたものである。
本発明は下記の構成を有している。As a result of repeated investigations on the solution to the above problems, the inventors of the present invention applied a voltage application electrode under vacuum and electrostatically brought the base film and the support film into close contact with each other. It was found that there is no problem in processing when forming a functional layer or the like. It has also been found that a predetermined electrostatic adhesion strength can be achieved under a vacuum by a voltage lower than that under atmospheric pressure. The present invention has been achieved by obtaining such knowledge.
The present invention has the following configuration.
1.基材フィルムとサポートフィルムとを積層した状態で、シート状電子デバイスを製造する方法であって、前記基材フィルムと前記サポートフィルムとを積層して積層フィルムを形成する積層工程と、真空下で、前記積層フィルムを構成する両フィルム間に電位差を設けて、帯電させる帯電工程と、前記積層フィルムの基材フィルム上に電子デバイスを形成する電子デバイス形成工程とを有することを特徴とするシート状電子デバイスの製造方法。 1. A method for producing a sheet-like electronic device in a state in which a base film and a support film are laminated, wherein a lamination step of laminating the base film and the support film to form a laminated film, and under vacuum A sheet-like process comprising: a charging step for charging by providing a potential difference between the two films constituting the laminated film; and an electronic device forming step for forming an electronic device on the base film of the laminated film. Electronic device manufacturing method.
2.前記帯電工程と、前記電子デバイス形成工程との間に、前記積層フィルムの表面を除電する除電工程をさらに有することを特徴とする前記1に記載のシート状電子デバイスの製造方法。 2. 2. The method for producing a sheet-like electronic device according to 1 above, further comprising a charge removing step of removing the surface of the laminated film between the charging step and the electronic device forming step.
3.前記基材フィルムと前記サポートフィルムとがそれぞれ長尺のフィルムである前記1または前記2に記載のシート状電子デバイスの製造方法。 3. 3. The method for producing a sheet-like electronic device according to 1 or 2, wherein the base film and the support film are each a long film.
4.基材フィルムとサポートフィルムとを積層して積層フィルムを形成する装置と、前記積層フィルムを帯電させる電圧印加電極とアース電極を内部に備える真空チャンバと、前記電圧印加電極に電圧を印加する電源と、前記積層フィルムの基材フィルム上に電子デバイスを形成する装置とを備えるシート状電子デバイスの製造装置。 4). An apparatus for forming a laminated film by laminating a base film and a support film, a vacuum chamber having a voltage applying electrode and a ground electrode for charging the laminated film, and a power source for applying a voltage to the voltage applying electrode And an apparatus for forming an electronic device on the base film of the laminated film.
5.前記真空チャンバ内にさらに、前記積層フィルムの表面を除電する装置を備えることを特徴とする前記4に記載のシート状電子デバイスの製造装置。 5. 5. The apparatus for producing a sheet-like electronic device according to 4 above, further comprising an apparatus for removing the surface of the laminated film in the vacuum chamber.
6.前記真空チャンバ内にさらに、ロール状に巻かれた基材フィルムを繰り出す装置と、ロール状に巻かれたサポートフィルムを繰り出す装置と、繰り出された基材フィルムとサポートフィルムとを積層して積層フィルムを形成する装置とを備えることを特徴とする前記4または前記5に記載のシート状電子デバイスの製造装置。 6). Furthermore, a laminated film is formed by laminating a roll-out base film, a roll-out support film, a roll-out support film, and a roll-out base film and support film in the vacuum chamber. The apparatus for manufacturing a sheet-like electronic device according to 4 or 5, wherein the apparatus for forming a sheet is provided.
7.基材フィルムとサポートフィルムとが静電的に密着して積層され、前記基材フィルムと前記サポートフィルムの剥離強度が0.03〜0.5N/25mmであり、前記基材フィルム上にシート状電子デバイスが形成された積層体。 7). A base film and a support film are electrostatically adhered and laminated, and a peel strength of the base film and the support film is 0.03 to 0.5 N / 25 mm, and a sheet shape is formed on the base film. A laminate in which electronic devices are formed.
8.前記積層体の表面が除電されていることを特徴とする前記7に記載の積層体。 8). 8. The laminate according to 7 above, wherein the surface of the laminate is neutralized.
9.前記シート状電子デバイスが、有機エレクトロルミネッセンス素子、液晶ディスプレイ素子、タッチパネル、電子ペーパ、太陽電池のいずれか、またはそれらを構成するための部品である前記7または前記8に記載の積層体。 9. 9. The laminate according to 7 or 8, wherein the sheet-like electronic device is one of an organic electroluminescence element, a liquid crystal display element, a touch panel, electronic paper, a solar cell, or a component for constituting them.
本発明のシート状電子デバイスの製造方法は、粘着剤を使用しないため、粘着剤が残存することによって生じる外観の低下や、発光輝度等の電子デバイスとしての性能の低下がない。また、本発明のシート状電子デバイスの製造装置および本発明の積層体は、同様に、粘着剤を使用しないため、粘着剤が残存することによって生じる外観の低下や、発光輝度等の電子デバイスとしての性能の低下がない。また、付着している粘着剤を除去するために、新たに洗浄・乾燥工程を設ける必要がない。 Since the manufacturing method of the sheet-like electronic device of the present invention does not use an adhesive, there is no deterioration in appearance as a result of the adhesive remaining, and no deterioration in performance as an electronic device such as light emission luminance. Similarly, the sheet-like electronic device manufacturing apparatus of the present invention and the laminate of the present invention do not use a pressure-sensitive adhesive. There is no performance degradation. In addition, it is not necessary to provide a new washing / drying step in order to remove the adhering adhesive.
本発明において、シート状電子デバイスとは、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」と記載することもある。)、液晶ディスプレイ素子、タッチパネル、電子ペーパ、太陽電池等の機能性の層を積層することによって機能を発揮する電子デバイスのことをいう。 In the present invention, the sheet-like electronic device refers to a functional layer such as an organic electroluminescence element (hereinafter sometimes referred to as “organic EL element”), a liquid crystal display element, a touch panel, electronic paper, a solar cell, and the like. It refers to an electronic device that performs its function by being laminated.
以下、本発明を実施するための形態を説明するが、本発明は、以下に説明する実施形態に何ら制限されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で実施形態を任意に変更して実施することが可能である。 DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Modes for carrying out the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the embodiments described below, and the embodiments are arbitrarily changed within the scope of the present invention. Is possible.
本実施形態のシート状電子デバイスは、通常、基材シートの上に、種々の機能を発揮する機能性の層を順次積層していくことによって製造される。本実施形態では、基材シートとして、基材フィルムを使用する。基材フィルムは、枚葉フィルムであっても、長尺フィルムであっても、特に制限はない。しかし、ロールツーロール方式による連続生産が可能であり、生産性に優れていることから、基材フィルムおよび後記するサポートフィルムは、長尺フィルムであることが好ましい。 The sheet-like electronic device of the present embodiment is usually manufactured by sequentially laminating functional layers that exhibit various functions on a base sheet. In this embodiment, a base film is used as the base sheet. The substrate film is not particularly limited, whether it is a single wafer film or a long film. However, since continuous production by a roll-to-roll system is possible and productivity is excellent, the base film and the support film described later are preferably long films.
本実施形態においては、代表的なシート状電子デバイスとして、有機EL素子を取り上げ、基材フィルムとして長尺フィルムを使用する場合を例に挙げて説明する。 In this embodiment, an organic EL element is taken up as a representative sheet-like electronic device, and a case where a long film is used as a base film will be described as an example.
本実施形態において、基材フィルムは、有機EL素子を形成するときのベースとなる基材シートである。基材フィルムは、可撓性であり、機械的強度、基材フィルム上に有機EL素子を製造する際の耐熱性、水蒸気や酸素に対するガスバリヤ性等を有していることが好ましい。また、基材フィルムは、発光した光を透過させるときには、透明樹脂によって構成されることが好ましい。 In this embodiment, a base film is a base sheet used as a base when forming an organic EL element. The base film is flexible and preferably has mechanical strength, heat resistance when an organic EL element is produced on the base film, gas barrier properties against water vapor and oxygen, and the like. The base film is preferably made of a transparent resin when transmitting the emitted light.
本実施形態において、基材フィルムを構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロハン(登録商標)、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸エステル、ポリアリレート、アートン(登録商標、JSR社製)あるいはアペル(登録商標、三井化学社製)等のシクロオレフィン系樹脂、等が挙げられる。 In the present embodiment, examples of the material constituting the base film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane (registered trademark), cellulose diacetate, and cellulose triacetate ( TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), cellulose acetate phthalate, cellulose esters such as cellulose nitrate, or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, Polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyetherketone, polyimide, polyethersulfone (PES) Polyphenylene sulfide, polysulfone, polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, polymethyl methacrylate, polyacrylic ester, polyarylate, Arton (registered trademark, manufactured by JSR) or Appel (registered trademark, manufactured by Mitsui Chemicals) And the like, and the like.
基材フィルムの厚さは、特に制限されないものの、薄肉化、機械的強度、取扱性等を考慮すると、20〜100μmが好ましい。なお、基材フィルムの厚さは、マイクロメータを使用して測定することが可能である。 The thickness of the base film is not particularly limited, but is preferably 20 to 100 μm in consideration of thinning, mechanical strength, handleability, and the like. In addition, the thickness of a base film can be measured using a micrometer.
基材フィルムは、厚さが小さいために、腰が弱いものである。そのため、長尺の基材フィルムをロールからロールを通しつつ、種々の機能性の層を積層していく際に、ロール間でたるんだり、しわやねじれが発生したりして、製造上のトラブルを発生し易い。基材フィルムが製造時に変形すると、機能性の層を基材フィルム上に均一に形成することが困難となり、発光輝度等の性能の低下やばらつきを生じて、製品の歩留まりの低下を招くこととなる。 The base film is weak because it has a small thickness. Therefore, when laminating various functional layers while passing a long base film from roll to roll, sagging between rolls, wrinkles and twisting occur, and manufacturing problems It is easy to generate. When the base film is deformed at the time of manufacture, it becomes difficult to form a functional layer uniformly on the base film, resulting in a decrease in performance such as emission luminance and variations, resulting in a decrease in product yield. Become.
そこで、基材フィルムに、サポートフィルムを積層させて一体化させることによって、上記の製造上のトラブルを未然に防止することが可能となる。サポートフィルムは、シート状電子デバイスの製造時にのみ一時的に使用するものであり、基材フィルム上に所定の機能性の層が積層されたのちは、基材フィルムから剥離させるものである。 Therefore, the above-mentioned manufacturing trouble can be prevented beforehand by laminating and integrating the support film on the base film. The support film is temporarily used only at the time of manufacturing the sheet-like electronic device, and is peeled off from the base film after a predetermined functional layer is laminated on the base film.
本実施形態において、サポートフィルムを構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロハン(登録商標)、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸エステル等が挙げられる。 In this embodiment, examples of the material constituting the support film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane (registered trademark), cellulose diacetate, and cellulose triacetate (TAC). ), Cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), cellulose acetates such as cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate , Norbornene resin, polymethylpentene, polyetherketone, polyimide, polyethersulfone (PE ), Polyphenylene sulfide, polysulfone, polyetherimide, polyether ketone imide, polyamide, fluororesin, polymethyl methacrylate, polyacrylic acid esters, and the like.
サポートフィルムの厚さは、特に制限されないものの、機械的強度、取扱性等を考慮すると、50〜300μmが好ましい。なお、サポートフィルムの厚さは、マイクロメータを使用して測定することが可能である。 Although the thickness of the support film is not particularly limited, it is preferably 50 to 300 μm in view of mechanical strength, handleability, and the like. The thickness of the support film can be measured using a micrometer.
上記の基材フィルムおよびサポートフィルムは、後記するように、両フィルム間に電位差を設けて帯電させるものである。そのため、電気的に絶縁性であることが必要となる。導電性のフィラーを含有させて導電性を高めたフィルムや導電性の層を有するフィルムを使用することはできない。 As described later, the base film and the support film are charged by providing a potential difference between the two films. Therefore, it is necessary to be electrically insulating. It is not possible to use a film containing a conductive filler to increase conductivity or a film having a conductive layer.
以下、図面を参照しつつ、本実施形態のシート状電子デバイスの製造方法および製造装置について説明する。図2は、本実施形態のシート状電子デバイスの製造装置を示す断面模式図である。 Hereinafter, the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the sheet-like electronic device of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the sheet-like electronic device manufacturing apparatus of the present embodiment.
本実施形態のシート状電子デバイスの製造装置100は、外部環境から異物が侵入することを防ぎ、基材フィルムおよびサポートフィルムを定常的な温度・湿度・圧力・ガス環境下に置くために、密閉されている。図2では、シート状電子デバイスの製造装置100は、各製造工程に対応する101から105の5つのチャンバで区切られている。
The sheet-like electronic
但し、図2では、本実施形態のシート状電子デバイスの製造装置100のうち、積層フィルムの基材フィルム上に電子デバイスを形成する電子デバイス形成工程に相当する装置は、図示されていない。この工程は、図2のチャンバ105の後に存在する工程である。シート状電子デバイスの種類に応じて、種々の工程、装置となり得るものであるため、図示されていない。
However, in FIG. 2, the apparatus corresponding to the electronic device formation process which forms an electronic device on the base film of a laminated film among the manufacturing
シート状電子デバイスの製造装置100のうちの、チャンバ101〜105の5つのチャンバ内の温度・湿度・圧力・ガス環境は、同一であってもよいし、チャンバ間で異なっていてもよい。チャンバ101〜105内を同一の温度・湿度・圧力・ガス環境とするときは、各チャンバ間の仕切りを取り除くことができる。
The temperature, humidity, pressure, and gas environment in the five
(繰り出し工程)
繰り出し工程は、長尺の基材フィルムが巻かれたロールから基材フィルムを繰り出す工程である。同様に、長尺のサポートフィルムが巻かれたロールからサポートフィルムを繰り出す工程を含んでいる。(Feeding process)
The feeding process is a process of feeding the base film from a roll wound with a long base film. Similarly, it includes a step of feeding the support film from a roll on which a long support film is wound.
図2のチャンバ101は、長尺の基材フィルム11がロール状に巻かれたロール13から、基材フィルム11を繰り出す装置を備えている。同様に、長尺のサポートフィルム12がロール状に巻かれたロール14から、サポートフィルム12を繰り出す装置を備えている。チャンバ101内の圧力は、大気圧であってもよいし、大気圧以下の圧力であってもよい。
The
(積層工程)
積層工程は、基材フィルムとサポートフィルムとを積層して積層フィルムを形成する工程である。基材フィルムの両面のうち、機能性の層を積層しない側の面と、サポートフィルムの両面のうち、基材フィルムと密着させる側の面とを積層する。この積層工程においては、基材フィルムとサポートフィルムとが物理的に仮貼合される。後記する帯電工程において、正規の密着が行われるため、それまでの仮の密着をさせるものである。(Lamination process)
A lamination process is a process of laminating a substrate film and a support film to form a laminated film. Of the both surfaces of the substrate film, the surface on which the functional layer is not laminated and the surface of the support film on the side to be in close contact with the substrate film are laminated. In this lamination process, a base film and a support film are physically temporarily bonded. Since regular adhesion is performed in the charging process described later, the temporary adhesion up to that point is performed.
積層する方法は、ロールによる圧着方式が一般的であるが、積層する手段は、特に限定されるわけではない。ロールラミネート、平板貼り合せ、ダイヤフラム貼り合せ、等種々の手段を用いることができる。本実施形態においては、代表的な積層手段として、ロールによる圧着方式を用いている。 The method of laminating is generally a pressure bonding method using a roll, but the means for laminating is not particularly limited. Various means such as roll lamination, flat plate bonding, and diaphragm bonding can be used. In this embodiment, a pressure bonding method using a roll is used as a typical stacking means.
図2のチャンバ102は、基材フィルム11とサポートフィルム12とを積層して積層フィルム15を形成する装置であるロール16を備えている。ロール16は、上下対のロールから構成される、いわゆるニップロールである。ロール16を通過することによって、基材フィルム11とサポートフィルム12とが積層され、仮貼合されて、積層フィルム15が形成される。積層ロールの数は1対の2本であってもよいし、必要に応じてさらに2対の4本等と増やしても構わない。またニップ圧やロールの回転速度は、基材フィルム11とサポートフィルム12とを積層できる条件に適宜設定する。チャンバ102内の圧力は、大気圧であってもよいし、大気圧以下の圧力であってもよい。
The
(帯電工程)
帯電工程は、真空下で、積層フィルムを構成する両フィルム間に電位差を設けて、帯電させる工程である。積層フィルムを挟んで、両側からフィルム幅の対の電極を用いて電位差を掛けると、両フィルムはそれぞれ、逆の電荷を帯びて帯電する。この逆の電荷を帯びていることによって、両フィルムは静電的に互いに密着することとなる。(Charging process)
The charging step is a step of charging by providing a potential difference between the two films constituting the laminated film under vacuum. When a laminated film is sandwiched and a potential difference is applied from both sides using a pair of electrodes having a film width, both films are charged with opposite charges. By having the opposite charge, both films are in close contact with each other electrostatically.
図2のチャンバ103において、積層フィルム15は、フィルム幅の電圧印加電極17とフィルム幅のロール状のアース電極18との間を通過する。電圧印加電極17は、直流電圧を印加する電源19に接続されている。一方、アース電極18は、アースに接続されている。電圧印加電極17とアース電極18との間には、放電部(放電空間)が形成されている。この放電部を積層フィルム15が通過するときに、積層フィルム15を構成する両フィルムはそれぞれ、逆の電荷に帯電されることとなる。その結果、両フィルムは静電的に密着して、その後機能性層等を形成する加工が可能となる。
In the
電圧印加電極17とアース電極18はそれぞれ、積層フィルム15の片側表面全体を帯電させるため、積層フィルム15の幅と同等か、それよりも広い幅を有していうことが好ましい。電圧印加電極17は、積層フィルム15の表面に直接接触できる電極であってもよいし、非接触タイプの電極であってもよい。同様に、アース電極18は、積層フィルム15の表面に直接接触できる電極であってもよいし、非接触式の電極であってもよい。また、接触式の電極は、ロール式で回転するタイプのものであってもよいし、ブラシ状の電極を幅方向に多数配列させたタイプのものであってもよい。公知の電極のタイプから適宜選択して用いることができる。本実施形態では、電圧印加電極17は非接触式であり、アース電極18は接触式の回転ロールタイプである。
また、直流電圧を印加する際に、電圧印加電極17とアース電極18とは、いずれがプラス側で、いずれがマイナス側であってもよい。Since the
Further, when applying a DC voltage, either the
チャンバ103内の圧力は、真空にして、真空チャンバとすることが必要である。ここで、本発明における真空とは、10〜200Paである。好ましくは50〜150Paである。
The pressure in the
本発明者らは、真空下で、積層フィルムに電位差を設けて帯電させる場合と、大気圧下で、積層フィルムに電位差を設けて帯電させる場合において、静電的に密着した積層フィルムを得るための電位差について検討を加えた。その結果、基材フィルムとサポートフィルムとの剥離強度が一定の数値となるような電位差を比較したところ、真空下で帯電させた場合の方が、大気圧下で帯電させた場合よりもはるかに少ない電位差で所定の剥離強度を得ることができることを見出した。具体的には、機能性層等を形成する加工が可能となる剥離強度を得るために、100Paの真空下においては電位差が100V以下でよいのに対して、大気圧下においては電位差が5,000〜15,000V必要であった。 In order to obtain an electrostatically adhered laminated film in a case where the laminated film is charged with a potential difference under vacuum and in a case where the laminated film is charged with a potential difference under atmospheric pressure. The potential difference was examined. As a result, when comparing the potential difference so that the peel strength between the base film and the support film becomes a constant value, the case of charging under vacuum is far more than the case of charging under atmospheric pressure. It has been found that a predetermined peel strength can be obtained with a small potential difference. Specifically, in order to obtain peel strength that enables processing to form a functional layer or the like, the potential difference may be 100 V or less under a vacuum of 100 Pa, whereas the potential difference is 5 under atmospheric pressure. 000-15,000V was necessary.
真空下においては、低い電位差でよいため、製造上低コストとなり、作業環境においても危険性が少ないものである。逆に大気圧下では、電位差が高く、電荷の量も増大するため、ロール状に巻いたときに電荷が蓄積して、アーク放電を引き起こし、積層フィルムに傷が付き、積層フィルム上に形成される電子デバイスに影響が出る懸念がある。また、積層フィルム自体だけでなく、作業者や周辺装置に危害を与える懸念がある。 Since a low potential difference is sufficient under vacuum, the manufacturing cost is low, and there is little danger in the work environment. On the other hand, under atmospheric pressure, the potential difference is high and the amount of charge increases, so that when it is rolled up, the charge accumulates, causing arc discharge, scratching the laminated film, and forming on the laminated film. There is a concern that this will affect electronic devices. Moreover, there is a concern of causing harm to workers and peripheral devices as well as the laminated film itself.
また、粘着剤を使用せずに、基材フィルムとサポートフィルムとを積層することが可能であるため、粘着剤が残存することによって生じていた外観の低下や、発光輝度等の電子デバイスとしての性能の低下や、粘着剤からのガスの発生が起こらない。また、付着している粘着剤を除去するために必要であった洗浄・乾燥工程を設ける必要もない。 In addition, since it is possible to laminate the base film and the support film without using an adhesive, the deterioration of the appearance caused by the remaining adhesive, as an electronic device such as light emission luminance, etc. Performance degradation and gas generation from the adhesive do not occur. In addition, there is no need to provide a cleaning / drying step that was necessary to remove the attached adhesive.
静電的に密着している基材フィルムとサポートフィルムの剥離強度は、0.03〜0.5N/25mmである。好ましくは、0.05〜0.3N/25mmである。このような剥離強度であると、基材フィルムとサポートフィルムを剥離する際に、基材フィルム上に電子デバイスが形成されている場合には、電子デバイスに対する悪影響が少ない。また、基材フィルム上に電子デバイスが形成されていない場合には、基材フィルムが容易に剥がれるので、基材フィルムに対する悪影響が少ない。ここで、剥離強度は、25mm幅の積層フィルムを用いて、180度剥離試験によって測定することができる。 The peel strength between the base film and the support film that are electrostatically adhered is 0.03 to 0.5 N / 25 mm. Preferably, it is 0.05 to 0.3 N / 25 mm. With such a peel strength, when the base film and the support film are peeled off, if the electronic device is formed on the base film, there is little adverse effect on the electronic device. Moreover, when the electronic device is not formed on the base film, the base film is easily peeled off, so that there is little adverse effect on the base film. Here, the peel strength can be measured by a 180 degree peel test using a 25 mm wide laminated film.
(除電工程)
除電工程は、帯電工程と後記する電子デバイス形成工程との間に設けて、積層フィルムの表面を除電する工程である。帯電工程を通過後の積層フィルムは、全体が帯電している。両フィルムを静電的に密着させるのに有効な両フィルムの接触界面に存在している電荷以外の外部表面に存在している電荷は、後の積層フィルムの加工を行う際に、放電等の問題を引き起こす懸念がある。そのため、積層フィルムの外部表面に存在している電荷を除去するために、除電を行うことが好ましい。除電することによって、積層フィルムは見かけ上は電荷が中和された状態となる。(Static elimination process)
The charge removal step is a step of removing the charge on the surface of the laminated film, provided between the charging step and the electronic device formation step described later. The laminated film after passing through the charging step is charged as a whole. Electric charges existing on the external surface other than the electric charge existing at the contact interface between the two films effective for electrostatically adhering the two films can cause discharges and the like when the laminated film is processed later. There are concerns that cause problems. Therefore, it is preferable to perform static elimination in order to remove the electric charge existing on the outer surface of the laminated film. By removing the charge, the laminated film is apparently neutralized in charge.
図2のチャンバ104において、積層フィルム15は、2本のフィルム幅の除電用電極20の間を通過する。積層フィルム15の両側に存在する2本の除電用電極20は、それぞれ除電装置21とつながっている。積層フィルム15は、2本のフィルム幅の除電用電極20の間に存在する除電部(除電空間)を通過することによって、表裏の表面上に存在する余分な電荷が除去される。除電用電極20および除電装置21は、公知の除電用電極および除電装置から適宜選択して用いることができる。
In the
チャンバ104内の圧力は、大気圧であってもよいし、大気圧以下の圧力であってもよい。しかし、チャンバ103の帯電工程を経た積層フィルム15を連続して除電することが好ましいので、チャンバ104とチャンバ103は同等の温度・湿度・圧力・ガス環境下とすることが好ましい。すなわち、チャンバ103とチャンバ104を一体化して、同一の真空チャンバとすることが好ましい。さらに、チャンバ101の繰り出し工程とチャンバ102の積層工程も合わせて、チャンバ101からチャンバ104までを一体化して、同一の真空チャンバとすることが好ましい。
The pressure in the
(巻き取り工程)
除電工程において除電された積層フィルムは、後記する電子デバイス形成工程に入る前に、一旦ロール状に巻き取ることができる。そうすることで、ロール状の積層フィルムとして、所定の期間保管しておくことができる。(Winding process)
The laminated film that has been neutralized in the static elimination step can be temporarily wound into a roll before entering the electronic device formation step described later. By doing so, it can be stored as a roll-shaped laminated film for a predetermined period.
図2のチャンバ105において、積層フィルム15は、ガイドロール22を経て、ロール23に巻き取られる。チャンバ105内の圧力は、大気圧であってもよいし、大気圧以下の圧力であってもよい。
In the
チャンバ101の繰り出し工程から、チャンバ105の巻き取り工程までは、連続して流すことが可能である。そうすることで、ロールツーロール方式で生産性よく、積層フィルムを製造することができる。そこで、チャンバ101からチャンバ105に至るまでの各チャンバを同一の温度・湿度・圧力・ガス環境下とすることが好ましい。すなわち、チャンバ101からチャンバ105までを一体化して、同一の真空チャンバとすることが好ましい。
From the feeding process of the
(電子デバイス形成工程)
電子デバイス形成工程は、積層フィルムの基材フィルム上に電子デバイスを形成する工程である。静電的に密着している積層フィルムは、その後、積層フィルムの基材フィルム上に電子デバイスが形成される。その結果、基材フィルムとサポートフィルムとが静電的に密着して積層され、基材フィルム上にシート状電子デバイスが形成された積層体が形成される。(Electronic device formation process)
An electronic device formation process is a process of forming an electronic device on the base film of a laminated film. In the laminated film that is electrostatically adhered, an electronic device is then formed on the base film of the laminated film. As a result, the base film and the support film are electrostatically adhered and stacked, and a laminate in which a sheet-like electronic device is formed on the base film is formed.
電子デバイス形成工程は、有機EL素子の場合であれば、第1電極、発光層を含む有機機能層、第2電極を逐次形成する工程である。発光層を含む有機機能層は、より具体的には、発光層のほかに、例えば、キャリア(正孔及び電子)の注入層、阻止層及び輸送層等の各種機能を有する有機機能層を備えていてもよい。 In the case of an organic EL element, the electronic device forming step is a step of sequentially forming a first electrode, an organic functional layer including a light emitting layer, and a second electrode. More specifically, the organic functional layer including the light emitting layer includes, in addition to the light emitting layer, an organic functional layer having various functions such as a carrier (hole and electron) injection layer, a blocking layer, and a transport layer. It may be.
図2において、積層フィルム15の基材フィルム上に電子デバイスを形成する装置は、図示されていない。有機EL素子の場合であれば、電子デバイスを形成する装置は、蒸着装置、スパッタリング装置、塗布装置、洗浄装置、乾燥装置、ラミネート装置等である。
In FIG. 2, the apparatus which forms an electronic device on the base film of the laminated |
(剥離工程)
電子デバイス形成工程において、積層フィルム上に電子デバイスが形成された後、積層フィルムのサポートフィルムは、もはや役割を果たしたので、剥離して除かれる。本実施形態においては、基材フィルムとサポートフィルムは、粘着剤を用いることなく、静電的に密着しているだけである。そのため、積層フィルムの端から剥がしていくことによって、比較的容易にサポートフィルムを剥離することができる。(Peeling process)
In the electronic device forming process, after the electronic device is formed on the laminated film, the support film of the laminated film has already played a role, and is peeled off. In the present embodiment, the base film and the support film are merely in close contact with each other without using an adhesive. Therefore, the support film can be peeled relatively easily by peeling from the end of the laminated film.
両フィルムの界面に存在していた電荷は、絶対量としては、大きいものではないので、放電等による危害が発生することは少ない。また、剥離工程を大気圧下で行うのであれば、大気中に含まれる水分によって、放電し、電荷は消失する。さらに、機能性の層として、導電層が形成されていれば、導電層を通じて、電荷は消失する。 The absolute amount of the electric charge existing at the interface between the two films is not large, so that there is little risk of harm caused by discharge or the like. Moreover, if the peeling process is performed under atmospheric pressure, it is discharged by the moisture contained in the atmosphere, and the charge disappears. Furthermore, if a conductive layer is formed as a functional layer, the charge disappears through the conductive layer.
基材フィルムとサポートフィルムとが静電的に密着して積層され、基材フィルム上にシート状電子デバイスが形成された積層体は、サポートフィルムを剥離した後は、本来のシート状電子デバイスとして、機能することとなる。 The laminate in which the base film and the support film are electrostatically adhered and laminated, and the sheet-like electronic device is formed on the base film is the original sheet-like electronic device after the support film is peeled off. Will function.
[本実施形態の変形例]
シート状電子デバイスとしては、有機EL素子以外に、液晶ディスプレイ素子、タッチパネル、電子ペーパ、太陽電池のいずれか、またはそれらを構成するための部品とすることができる。そのため、電子デバイス形成工程では、各シート状電子デバイスの種類に応じた種々の機能性の層が形成されることとなる。積層フィルム上に電子デバイスを形成する装置についても、各シート状電子デバイスの種類に応じた種々の装置とすることができる。
有機EL素子、液晶ディスプレイ素子、タッチパネル、電子ペーパ、太陽電池のいずれか、またはそれらを構成するための部品を形成するための、具体的な電子デバイス形成工程および電子デバイス形成装置については、公知の技術を適宜適用することができる。[Modification of this embodiment]
In addition to the organic EL element, the sheet-like electronic device can be a liquid crystal display element, a touch panel, electronic paper, a solar cell, or a component for constituting them. Therefore, in an electronic device formation process, various functional layers according to the kind of each sheet-like electronic device will be formed. Also about the apparatus which forms an electronic device on a laminated | multilayer film, it can be set as the various apparatus according to the kind of each sheet-like electronic device.
About a specific electronic device forming process and an electronic device forming apparatus for forming any one of an organic EL element, a liquid crystal display element, a touch panel, electronic paper, a solar cell, or a component for constituting them, publicly known Technology can be applied as appropriate.
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図2に記載のシート状電子デバイスの製造装置と同等の装置を用いた。装置は、チャンバ101からチャンバ105までが一体となった1つの真空チャンバ内に設置されている。シート状電子デバイスの製造装置を構成する各装置は以下のとおりである。
電源;春日電気(株)製、品番PST−2005N
電圧印加電極;春日電気(株)製、電圧印加電極と積層フィルム間のギャップは、5mmとした。
アース電極;春日電気(株)製、回転ロール式電極であり、アースされている。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
The apparatus equivalent to the manufacturing apparatus of the sheet-like electronic device shown in FIG. 2 was used. The apparatus is installed in one vacuum chamber in which the
Power supply: Product number PST-2005N manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.
Voltage application electrode; manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd. The gap between the voltage application electrode and the laminated film was 5 mm.
Earth electrode: Kasuga Electric Co., Ltd., a rotating roll electrode, which is grounded.
基材フィルムとして、50μm厚さ、250mm幅のPETの長尺フィルム、サポートフィルムとして、100μm厚さ、250mm幅のPETの長尺フィルムを準備した。シート状電子デバイスの製造装置に基材フィルムとサポートフィルムとを設置した。 A PET long film having a thickness of 50 μm and a width of 250 mm was prepared as a base film, and a long film of PET having a thickness of 100 μm and a width of 250 mm was prepared as a support film. A base film and a support film were installed in a sheet-like electronic device manufacturing apparatus.
(実施例1、比較例1)
基材フィルムおよびサポートフィルムの搬送スピードを、1m/minにして、図1に記載の圧力下、電位差において積層フィルムの製造を行った。(Example 1, Comparative Example 1)
A laminated film was produced at a potential difference under the pressure shown in FIG. 1 with the conveyance speed of the base film and the support film being 1 m / min.
(比較例2、比較例3)
積層フィルムを製造するに際して、粘着剤を使用して、基材フィルムとサポートフィルムとを接着した。サポートフィルムとして、次の2種類の粘着層を有するフィルムを用いた。
比較例2;きもと社製耐熱粘着フィルム。基材;125μm厚さのPETフィルム。粘着層は耐熱性アクリル系樹脂からなる。
比較例3;サンエー化研社製粘着フィルム。基材;50μm厚さのLDPEフィルム。粘着層は非耐熱性ポリオレフィン系樹脂からなる。(Comparative Example 2, Comparative Example 3)
In manufacturing the laminated film, the base film and the support film were bonded using an adhesive. As the support film, a film having the following two types of adhesive layers was used.
Comparative example 2: heat-resistant adhesive film manufactured by Kimoto Co. Substrate: 125 μm thick PET film. The adhesive layer is made of a heat resistant acrylic resin.
Comparative Example 3: An adhesive film manufactured by Sanei Kaken. Base material: LDPE film having a thickness of 50 μm. The adhesive layer is made of a non-heat resistant polyolefin resin.
比較例2と比較例3の積層フィルムを製造するに際しては、図2に記載のシート状電子デバイスの製造装置のうち、チャンバ103の帯電装置とチャンバ104の除電装置は使用せず、チャンバ102のロールによって基材フィルムとサポートフィルムとを粘着層を介して接着させた。基材フィルムには実施例と同じものを用いた。
When the laminated films of Comparative Example 2 and Comparative Example 3 are manufactured, the charging device of the
(評価条件)
積層フィルムの評価条件は以下のとおりである。(Evaluation conditions)
The evaluation conditions for the laminated film are as follows.
(剥離強度)
25mm幅の積層フィルムを用いて、180度剥離試験機によって測定した。剥離する際の引張速度は300mm/minとした。図3は、積層フィルムの剥離強度の測定方法を示す断面模式図である。サポートフィルム1と基材フィルム2とを剥がして、サポートフィルム1を固定具に固定して、180度剥離試験機によって反対方向に引っ張った。(Peel strength)
Using a laminated film having a width of 25 mm, measurement was performed with a 180 degree peel tester. The tensile speed at the time of peeling was 300 mm / min. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a method for measuring the peel strength of a laminated film. The
(表面観察)
光学顕微鏡および走査型電子顕微鏡を使用して、30〜3000倍の倍率にて、サポートフィルム剥離後の基材フィルムの密着側表面を観察し、異物の有無を判定した。(Surface observation)
Using an optical microscope and a scanning electron microscope, the close-contact surface of the base film after peeling the support film was observed at a magnification of 30 to 3000 times to determine the presence or absence of foreign matter.
(表面粗さRa)
光干渉式表面粗度計として、Veeco社製wykoNT9300を使用した。サポートフィルム剥離後の基材フィルムの密着側表面を観察して、算術平均表面粗さRaを求めた。(Surface roughness Ra)
As an optical interference type surface roughness meter, wykoNT9300 manufactured by Veeco was used. The adhesion side surface of the base film after peeling the support film was observed to determine the arithmetic average surface roughness Ra.
(加熱処理)
電子デバイス形成工程を模した処理として、積層フィルムをホットプレート上で150℃、2時間加熱した。加熱処理前後の積層フィルムのサポートフィルム剥離後の基材フィルムの密着側表面について、上記の各評価を行った。(Heat treatment)
As a process simulating an electronic device formation step, the laminated film was heated on a hot plate at 150 ° C. for 2 hours. Each said evaluation was performed about the contact | adherence side surface of the base film after the support film peeling of the laminated | multilayer film before and behind heat processing.
(デバイス性能、デバイス外観)
積層フィルムを製造後、その積層フィルム上に、有機EL素子を製造した。有機EL素子の製造条件は、特開2012−48934号公報の実施例に記載されている条件を用いた。得られた有機EL素子のデバイス性能として、発光輝度を測定した。作製した各有機EL素子を10個、ランダムに選択し、直流電圧10V印加した時の発光輝度を、CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)で測定し、それらの平均値をもって、発光輝度とした。従来のガラス基材を用いて製造した有機EL素子の発光輝度に対して、発光輝度の変化率を評価・判定した。発光輝度の変化率が10%未満で同等のときは○を、発光輝度の変化率が10%以上で低下したときは×と判定した。また、有機EL素子の表面外観を観察して、粘着剤等の残存の有無を観察して、残存していないときは○、残存が認められるときは×として判定した。(Device performance, device appearance)
After producing the laminated film, an organic EL element was produced on the laminated film. The conditions described in the examples of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-48934 were used for the manufacturing conditions of the organic EL element. As device performance of the obtained organic EL element, light emission luminance was measured. Each of the produced organic EL elements was randomly selected, and the light emission luminance when a DC voltage of 10 V was applied was measured with CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.), and the average value thereof was taken as the light emission luminance. . The change rate of the light emission luminance was evaluated and determined with respect to the light emission luminance of the organic EL element manufactured using the conventional glass substrate. When the change rate of the light emission luminance was less than 10% and were equal, “good” was judged, and when the change rate of the light emission luminance was reduced by 10% or more, “good” was judged. Further, the surface appearance of the organic EL element was observed, and the presence or absence of the pressure-sensitive adhesive or the like was observed.
実施例1は、基材フィルムとサポートフィルムの密着・積層に際して、100Paの真空下で帯電工程を行ったものである。比較例1は、大気圧下で帯電工程を行ったものである。一方、比較例2と比較例3は、静電的な密着ではなく、従来の粘着剤によって大気圧下で積層させたものである。 In Example 1, the charging process was performed under a vacuum of 100 Pa when the base film and the support film were adhered and laminated. In Comparative Example 1, the charging process was performed under atmospheric pressure. On the other hand, the comparative example 2 and the comparative example 3 are laminated | stacked under atmospheric pressure by the conventional adhesive instead of electrostatic adhesion.
評価結果を図1に示した。図1の結果から分かるように、実施例1と比較例1はいずれも、加熱前後の剥離強度として、0.05N/25mmを有しており、その後の有機EL素子の製造工程を問題なく行うことができた。サポートフィルムを剥離後の基材フィルムの表面は、加熱前後であっても、表面粗さは変わらず、清浄なものであった。有機EL素子としての性能(発光輝度)、外観も問題ないものであった。但し、比較例1は、帯電工程が大気圧下であり、実施例1に比較して、100倍の高い電位差を掛けることが必要であるため、電荷が蓄積するとアーク放電を引き起こし、積層フィルムを破壊したり、作業者や周辺装置に危害を与える懸念があるものであった。 The evaluation results are shown in FIG. As can be seen from the results of FIG. 1, both Example 1 and Comparative Example 1 have a peel strength before and after heating of 0.05 N / 25 mm, and the subsequent manufacturing process of the organic EL element is performed without any problem. I was able to. The surface of the base film after peeling off the support film was clean without changing the surface roughness even before and after heating. The performance (light emission luminance) and appearance as an organic EL element were satisfactory. However, in Comparative Example 1, the charging process is under atmospheric pressure, and it is necessary to apply a potential difference that is 100 times higher than that in Example 1. Therefore, when electric charge is accumulated, arc discharge is caused, and the laminated film is There were concerns about destruction and harm to workers and peripheral equipment.
一方、比較例2と比較例3はいずれも、サポートフィルムを剥離後の基材フィルムの表面は、加熱前後で粘着剤の残渣である異物の存在が認められた。有機EL素子としての性能(発光輝度)や外観上も問題があるものであった。 On the other hand, in both Comparative Example 2 and Comparative Example 3, the surface of the base film after the support film was peeled was observed to have foreign matters as adhesive residues before and after heating. There was also a problem in performance (light emission luminance) and appearance as an organic EL element.
1 サポートフィルム
2 基材フィルム
3 固定具
11 基材フィルム
12 サポートフィルム
13、14、23 ロール
15 積層フィルム
17 電圧印加電極
18 アース電極
19 電源
20 除電用電極
21 除電装置
100 シート状電子デバイスの製造装置
101、102、103、104、105 チャンバDESCRIPTION OF
Claims (9)
前記基材フィルムと前記サポートフィルムとを積層して積層フィルムを形成する積層工程と、
真空下で、前記積層フィルムを構成する両フィルム間に電位差を設けて、帯電させる帯電工程と、
前記積層フィルムの基材フィルム上に電子デバイスを形成する電子デバイス形成工程とを有することを特徴とするシート状電子デバイスの製造方法。In a state in which a base film and a support film are laminated, a method for producing a sheet-like electronic device,
A laminating step of laminating the base film and the support film to form a laminated film;
A charging step of charging by providing a potential difference between the two films constituting the laminated film under vacuum; and
The manufacturing method of the sheet-like electronic device characterized by having an electronic device formation process which forms an electronic device on the base film of the said laminated | multilayer film.
前記積層フィルムを帯電させる電圧印加電極とアース電極を内部に備える真空チャンバと、
前記電圧印加電極に電圧を印加する電源と、
前記積層フィルムの基材フィルム上に電子デバイスを形成する装置とを備えるシート状電子デバイスの製造装置。An apparatus for laminating a base film and a support film to form a laminated film;
A vacuum chamber internally provided with a voltage applying electrode and a ground electrode for charging the laminated film;
A power source for applying a voltage to the voltage application electrode;
An apparatus for manufacturing a sheet-like electronic device, comprising: an apparatus for forming an electronic device on a base film of the laminated film.
前記基材フィルムと前記サポートフィルムの剥離強度が0.03〜0.5N/25mmであり、
前記基材フィルム上にシート状電子デバイスが形成された積層体。The base film and the support film are electrostatically adhered and laminated,
The peel strength of the base film and the support film is 0.03 to 0.5 N / 25 mm,
A laminate in which a sheet-like electronic device is formed on the base film.
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