JPWO2015045045A1 - Plant cultivation equipment - Google Patents

Plant cultivation equipment Download PDF

Info

Publication number
JPWO2015045045A1
JPWO2015045045A1 JP2014555009A JP2014555009A JPWO2015045045A1 JP WO2015045045 A1 JPWO2015045045 A1 JP WO2015045045A1 JP 2014555009 A JP2014555009 A JP 2014555009A JP 2014555009 A JP2014555009 A JP 2014555009A JP WO2015045045 A1 JPWO2015045045 A1 JP WO2015045045A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cultivation
cultivation bed
culture solution
plant
heat insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014555009A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5937231B2 (en
Inventor
茂治 嶋村
茂治 嶋村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MIRAI CO., LTD.
Original Assignee
MIRAI CO., LTD.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MIRAI CO., LTD. filed Critical MIRAI CO., LTD.
Application granted granted Critical
Publication of JP5937231B2 publication Critical patent/JP5937231B2/en
Publication of JPWO2015045045A1 publication Critical patent/JPWO2015045045A1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01G—HORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
    • A01G9/00—Cultivation in receptacles, forcing-frames or greenhouses; Edging for beds, lawn or the like
    • A01G9/24—Devices or systems for heating, ventilating, regulating temperature, illuminating, or watering, in greenhouses, forcing-frames, or the like
    • A01G9/249—Lighting means
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01G—HORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
    • A01G31/00—Soilless cultivation, e.g. hydroponics
    • A01G31/02—Special apparatus therefor
    • A01G31/06—Hydroponic culture on racks or in stacked containers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P60/00—Technologies relating to agriculture, livestock or agroalimentary industries
    • Y02P60/20—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions in agriculture, e.g. CO2
    • Y02P60/21—Dinitrogen oxide [N2O], e.g. using aquaponics, hydroponics or efficiency measures

Abstract

植物栽培装置は、鉛直方向に多段に並ぶ複数の支持フレームを備えた栽培用ラックと、複数の支持フレームの各々に支持され、培養液を溜めるための貯留槽を形成する栽培ベッド本体と、栽培ベッド本体の外側に塗布された断熱層と、複数の支持フレームの各々に支持され、下側の段の栽培ベッドの方向に照明を当てる照明部とを備える。照明の発熱が、栽培ベッド本体に塗布された断熱層によって遮られる。この断熱層は、発泡スチロール等の断熱材に比べてサイズが小さい。そのため栽培用ラックのサイズを大きくすることなく、栽培ベッドに対する熱の影響を低減し、栽培条件を均一化することが可能となる。The plant cultivation apparatus includes a cultivation rack having a plurality of support frames arranged in multiple stages in the vertical direction, a cultivation bed main body that is supported by each of the plurality of support frames and forms a storage tank for storing a culture solution, and cultivation A heat insulating layer applied to the outside of the bed main body, and an illumination unit that is supported by each of the plurality of support frames and illuminates in the direction of the cultivation bed on the lower stage. The heat generated by the lighting is blocked by the heat insulating layer applied to the cultivation bed body. This heat insulating layer is smaller in size than a heat insulating material such as polystyrene foam. Therefore, without increasing the size of the cultivation rack, it is possible to reduce the influence of heat on the cultivation bed and make the cultivation conditions uniform.

Description

本発明は、人工光によって植物を栽培する技術に関する。   The present invention relates to a technique for cultivating a plant with artificial light.

屋内で植物に照明光を当てて栽培する植物工場に関する技術が知られている。特許文献１には、植物工場に関する技術の一例が記載されている。   A technique related to a plant factory that cultivates plants by illuminating them with illumination light is known. Patent Document 1 describes an example of a technique related to a plant factory.

特開２０１２−３９９９６号公報JP 2012-39996 A

植物工場においては、植物が育つために必要な光が人工の照明装置によって供給される。照明装置は、光と共に熱も発生する。その発生熱は、植物の生育に影響を及ぼす可能性がある。例えば、照明の発熱によって場所による温度差が生じる場合、植物の育成環境が場所によって不均一になり、好ましくない。従って、照明による発熱が植物の生育にもたらす好ましく無い影響を抑制する技術が望まれる。   In a plant factory, light necessary for plant growth is supplied by an artificial lighting device. The lighting device generates heat as well as light. The generated heat can affect plant growth. For example, when a temperature difference occurs depending on the location due to the heat generated by illumination, the plant growing environment becomes uneven depending on the location, which is not preferable. Therefore, there is a demand for a technique that suppresses the undesirable effects of heat generated by lighting on plant growth.

本発明の一実施形態において、植物栽培装置は、鉛直方向に多段に並ぶ複数の支持フレームを備えた栽培用ラックと、複数の支持フレームの各々に支持され、培養液を溜めるための貯留槽を形成する栽培ベッド本体と、栽培ベッド本体の外側に塗布された断熱層と、複数の支持フレームの各々に支持され、下側の段の栽培ベッドの方向に照明を当てる照明部とを備える。照明の発熱が、栽培ベッド本体に塗布された断熱層によって遮られる。この断熱層は、発泡スチロール等の断熱材に比べてサイズが小さい。そのため栽培用ラックのサイズを大きくすることなく、栽培ベッドに対する熱の影響を低減し、栽培条件を均一化することが可能となる。   In one embodiment of the present invention, a plant cultivation apparatus includes a cultivation rack provided with a plurality of support frames arranged in multiple stages in a vertical direction, and a storage tank that is supported by each of the plurality of support frames and stores a culture solution. A cultivation bed main body to be formed, a heat insulating layer applied to the outside of the cultivation bed main body, and an illumination unit that is supported by each of the plurality of support frames and illuminates in the direction of the lower cultivation bed. The heat generated by the lighting is blocked by the heat insulating layer applied to the cultivation bed body. This heat insulating layer is smaller in size than a heat insulating material such as polystyrene foam. Therefore, without increasing the size of the cultivation rack, it is possible to reduce the influence of heat on the cultivation bed and make the cultivation conditions uniform.

本発明により、照明による発熱が植物の生育にもたらす好ましく無い影響を抑制する技術が提供される。   According to the present invention, there is provided a technique for suppressing an unfavorable influence of heat generated by illumination on plant growth.

本発明に関する上述の及びその他の目的、利点、特徴は、いくつかの実施形態に関して、添付図面と併せて以下の記載から更に明らかとなるであろう。その添付図面には下記のものが含まれる。
図１は、植物栽培装置を示す正面図である。 図２は、栽培用ラックの側面図である。 図３は、栽培ベッドの付近を拡大した側面図である。 図４は、栽培ベッドの上面図である。 図５は、栽培ベッドの上面図である。 図６は、栽培ベッドの正面図である。 図７は、栽培ベッドの正面図である。 The foregoing and other objects, advantages, and features of the present invention will become more apparent from the following description, taken in conjunction with the accompanying drawings, for several embodiments. The accompanying drawings include the following.
FIG. 1 is a front view showing a plant cultivation apparatus. FIG. 2 is a side view of the cultivation rack. FIG. 3 is an enlarged side view of the vicinity of the cultivation bed. FIG. 4 is a top view of the cultivation bed. FIG. 5 is a top view of the cultivation bed. FIG. 6 is a front view of the cultivation bed. FIG. 7 is a front view of the cultivation bed.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る植物栽培装置を示す。図１に示された座標系のｘ軸正方向から見た植物栽培装置の正面図が示されている。建造物の内部に、植物栽培室１が用意される。植物栽培室１には通常、外部から日光が入射する窓が設けられず、植物は人工光のみを光源として育てられる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a plant cultivation apparatus according to an embodiment of the present invention. The front view of the plant cultivation apparatus seen from the x-axis positive direction of the coordinate system shown by FIG. 1 is shown. A plant cultivation room 1 is prepared inside the building. The plant cultivation room 1 is usually not provided with a window through which sunlight enters from the outside, and plants are grown using only artificial light as a light source.

植物栽培室１に、植物栽培装置が設置される。植物栽培装置は、床面３に載置される栽培用ラック２を備える。栽培用ラック２は、多数の柱４と、それらの柱によって支持された多数の支持フレーム５を備える。これらの柱４や支持フレーム５は、水や肥料塩に腐食しにくく熱伝導率が高い材料（アルミニウム、金属メッキを施した合成樹脂、ステンレス）の骨材によって形成される。   A plant cultivation apparatus is installed in the plant cultivation room 1. The plant cultivation apparatus includes a cultivation rack 2 placed on the floor surface 3. The cultivation rack 2 includes a large number of pillars 4 and a large number of support frames 5 supported by the pillars. These pillars 4 and the support frame 5 are formed of an aggregate made of a material (aluminum, synthetic resin plated with metal, stainless steel) that hardly corrodes water or fertilizer salt and has high thermal conductivity.

各支持フレーム５は、栽培ベッド６を支持する棚板又は棚枠として機能する。栽培ベッド６は支持フレーム５と同様の材料によって形成される。支持フレーム５は、鉛直方向（図１のｚ軸方向）に多段に配置される。支持フレーム５は更に、水平方向（図１のｙ方向）に複数並んで配置される。各支持フレーム５の下側に、照明７が取り付けられる。照明７は、その下段側の栽培ベッド６に植えられた植物に光を当てる。照明７としては、蛍光灯などを用いることも可能だが、植物の生育に必要な波長帯の光を選択的に出力するＬＥＤ（発光ダイオード）を用いることが望ましい。   Each support frame 5 functions as a shelf board or a shelf frame that supports the cultivation bed 6. The cultivation bed 6 is formed of the same material as the support frame 5. The support frames 5 are arranged in multiple stages in the vertical direction (z-axis direction in FIG. 1). Further, a plurality of support frames 5 are arranged side by side in the horizontal direction (y direction in FIG. 1). An illumination 7 is attached to the lower side of each support frame 5. The illumination 7 shines light on the plant planted on the cultivation bed 6 on the lower side. As the illumination 7, a fluorescent lamp or the like can be used, but it is desirable to use an LED (light emitting diode) that selectively outputs light in a wavelength band necessary for plant growth.

図２は、栽培用ラック２をｙ軸正方向から見た側面図である。図３は、植物２５を栽培している状態における一つの栽培ベッド６の付近を描いた断面図である。栽培ベッド６は、ｙ軸方向を長手方向とする細長い平面形状を有する。栽培ベッド６は、液体（培養液）を溜めることが可能な容器の形状を有する栽培ベッド本体２１と、栽培ベッド本体２１に断熱塗料２２を塗布することによって形成される断熱層からなる。   FIG. 2 is a side view of the cultivation rack 2 as seen from the positive y-axis direction. FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating the vicinity of one cultivation bed 6 in a state where the plant 25 is grown. The cultivation bed 6 has an elongated planar shape whose longitudinal direction is the y-axis direction. The cultivation bed 6 includes a cultivation bed main body 21 having a container shape capable of storing a liquid (culture solution), and a heat insulating layer formed by applying a heat insulating paint 22 to the cultivation bed main body 21.

断熱塗料２２は、余計な熱が栽培ベッド６に伝達することを妨げる。特に、ある段の支持フレーム５に支持された栽培ベッド６には、下側の照明７、すなわち、その支持フレーム５に支持されて下段側の栽培ベッド６に照明を当てるための照明７が発生する熱が伝達されやすい。断熱塗料２２により、下側の照明７からの熱を効果的に断熱することができる。断熱塗料２２は膜厚が小さい（数ｍｍ以下のオーダー）ため、例えば発泡スチロールなどの断熱材を用いた場合に比べて、栽培用ラック２のサイズが大きくなることを防ぐことができる。従って、断熱塗料２２は、多段に重なった多数の栽培ベッド６を有する栽培用ラック２に用いるのに適している。   The heat insulating paint 22 prevents excess heat from being transmitted to the cultivation bed 6. In particular, in the cultivation bed 6 supported by the support frame 5 at a certain stage, the lower illumination 7, that is, the illumination 7 that is supported by the support frame 5 and illuminates the cultivation bed 6 at the lower stage is generated. Heat is easily transmitted. The heat from the lower illumination 7 can be effectively insulated by the heat insulating paint 22. Since the heat insulating paint 22 has a small film thickness (in the order of several mm or less), for example, the size of the cultivation rack 2 can be prevented from becoming larger than when a heat insulating material such as polystyrene foam is used. Therefore, the heat insulating paint 22 is suitable for use in the cultivation rack 2 having a large number of cultivation beds 6 stacked in multiple stages.

断熱塗料２２は、図３に断熱塗料２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄとして示されるように、栽培ベッド本体２１の各面を覆うように塗布される。栽培ベッド本体２１の下面に断熱塗料２２ａが塗布される。栽培ベッド本体２２の底面、すなわち培養液を溜める貯留部の底面に断熱塗料２２ｂが塗布される。栽培ベッド本体２２の外側の長手方向の側面、すなわちｘ軸方向に概ね垂直な外側の側面に断熱塗料２２ｃが塗布される。栽培ベッド本体２２の内側の長手方向の側面、すなわちｘ軸方向に概ね垂直な内側の側面に断熱塗料２２ｄが塗布される。更に、栽培ベッド６の長手方向の両端部の外面及び内面に断熱塗料２２ｅ、２２ｆを塗布することも好ましい。   The heat insulating paint 22 is applied so as to cover each surface of the cultivation bed main body 21, as shown as heat insulating paints 22a, 22b, 22c, and 22d in FIG. A heat insulating paint 22 a is applied to the lower surface of the cultivation bed main body 21. The heat insulating paint 22b is applied to the bottom surface of the cultivation bed main body 22, that is, the bottom surface of the storage part for storing the culture solution. The heat insulating coating 22c is applied to the outer side surface of the cultivation bed main body 22 in the longitudinal direction, that is, the outer side surface substantially perpendicular to the x-axis direction. The heat insulating paint 22d is applied to the side surface in the longitudinal direction inside the cultivation bed main body 22, that is, the inner side surface substantially perpendicular to the x-axis direction. Furthermore, it is also preferable to apply the heat insulating paints 22e and 22f to the outer surface and the inner surface of both ends of the cultivation bed 6 in the longitudinal direction.

断熱塗料２２としては、塗布され乾燥した状態で高い断熱性を発揮する材料を用いることが望ましい。そのような塗料の一例として、セラミック断熱塗料が知られている。セラミック断熱塗料においては、溶剤にセラミックの微粒子（例示：直径１０〜１００μｍ）の粉末が混入されている。個々の微粒子は中空の内部空間を有し、その内部空間は真空（減圧雰囲気）であることが望ましい。このような断熱塗料は、塗布され乾燥した状態で、セラミックの微粒子が密集した層を塗膜中に形成する。この層は、外部からの熱を反射する反射性能と、熱が膜厚方向に伝導することを妨げる断熱性能が高い。このようなセラミック断熱塗料の一例として、株式会社エクセラの商品名「ＰＥＮＴＡ ＧＵＡＲＤ（ペンタガード）」が挙げられる。   As the heat insulating paint 22, it is desirable to use a material that exhibits high heat insulating properties when applied and dried. As an example of such a paint, a ceramic heat insulating paint is known. In a ceramic heat insulating paint, ceramic fine particles (eg, diameter: 10 to 100 μm) are mixed in a solvent. Each fine particle has a hollow internal space, and the internal space is preferably a vacuum (reduced pressure atmosphere). Such a heat insulating paint forms a dense layer of ceramic fine particles in the coating film when it is applied and dried. This layer has high reflection performance for reflecting heat from the outside and heat insulation performance for preventing heat from being conducted in the film thickness direction. As an example of such a ceramic heat insulating paint, there is a trade name “PENTA GUARD (Penta Guard)” of EXCELLA CORPORATION.

断熱塗料２２としては、面内方向、すなわち栽培ベッド６の底面に沿った方向（ｘｙ面内の方向）に比較的高い熱伝導率を有する材料を用いることが望ましい。このような材料を用いると、栽培ベッド６の長手方向の熱勾配を断熱塗料２２による熱伝導で均一化し、栽培ベッド６内での植物２５の生育条件を均一化することができる。セラミック断熱塗料の中には、塗布され乾燥した状態において、セラミックの微粒子が面内方向に並んで薄膜を形成し、面直方向にセラミック薄膜とセラミック微粒子を含まない層からなる層状を形成する塗料がある。このようなセラミック断熱塗料は、面内方向において熱伝導がセラミック微粒子によって妨げられる程度が小さいため、比較的熱伝導率が高く、断熱塗料２２として用いるのに適している。より好ましくは、断熱塗料２２は面内方向の熱伝導率が栽培ベッド本体２１よりも大きい材料である。   As the heat insulating paint 22, it is desirable to use a material having a relatively high thermal conductivity in the in-plane direction, that is, the direction along the bottom surface of the cultivation bed 6 (direction in the xy plane). When such a material is used, the thermal gradient in the longitudinal direction of the cultivation bed 6 can be made uniform by heat conduction by the heat insulating paint 22, and the growth conditions of the plant 25 in the cultivation bed 6 can be made uniform. Among the ceramic thermal insulation paints, in the applied and dried state, the ceramic fine particles are arranged in the in-plane direction to form a thin film, and in the perpendicular direction, the paint is formed into a layer composed of a layer containing no ceramic thin film and ceramic fine particles. There is. Such a ceramic heat insulating paint has a relatively high thermal conductivity because the degree to which heat conduction is hindered by the ceramic fine particles in the in-plane direction is relatively high, and is suitable for use as the heat insulating paint 22. More preferably, the heat insulating paint 22 is a material having a larger thermal conductivity in the in-plane direction than the cultivation bed main body 21.

栽培ベッド６の内部に、植物２５の成長に有用な肥料塩などを混ぜた水溶液である培養液２４が供給される。栽培ベッド６の貯留部の上部に、パネル２３が設置される。パネル２３には、植物２５を茎などの部分によって支持するための穴が設けられる。植物２５をパネル２３の穴に植えることにより、植物２５がパネル２３に支持される。その状態で、植物２５の根が培養液２４に浸かり、葉（土壌により栽培した場合に地表面から上に出る部分）がパネル２３の上部に出る。植物２５は、根から培養液２４の水分と肥料塩の養分とを吸収し、且つ上段の照明７からの光を利用することにより成長する。   A culture solution 24 which is an aqueous solution in which fertilizer salts useful for the growth of the plant 25 are mixed is supplied into the cultivation bed 6. The panel 23 is installed on the upper part of the storage part of the cultivation bed 6. The panel 23 is provided with a hole for supporting the plant 25 by a part such as a stem. The plant 25 is supported by the panel 23 by planting the plant 25 in the hole of the panel 23. In this state, the roots of the plant 25 are soaked in the culture solution 24, and leaves (portions that rise upward from the ground surface when cultivated with soil) appear at the top of the panel 23. The plant 25 grows by absorbing the moisture of the culture solution 24 and nutrients of the fertilizer salt from the roots and utilizing the light from the upper illumination 7.

図４は、栽培ベッド６の上面図である。図３におけるパネル２３と植物２５を取り除いた状態が示されている。栽培ベッド６の底面に、培養液導入口２７と、培養液排出口２９が設けられる。これらが設けられる位置は、栽培ベッド６の長手方向（ｙ軸方向）の両端付近である。図４の例では、栽培ベッド６のｙ軸負方向の端部付近に培養液導入口２７が設けられ、ｙ軸正方向の端部付近に培養液排出口２９が設けられる。図４では培養液導入口２７と培養液排出口２９はそれぞれ２個ずつ描かれているが、これらの個数は設計によって適切に決められる。培養液導入口２７は給水配管２６に接続され、培養液排出口２９は排水配管２８に接続される。   FIG. 4 is a top view of the cultivation bed 6. The state which removed the panel 23 and the plant 25 in FIG. 3 is shown. On the bottom surface of the cultivation bed 6, a culture solution introduction port 27 and a culture solution discharge port 29 are provided. The positions where these are provided are near both ends of the cultivation bed 6 in the longitudinal direction (y-axis direction). In the example of FIG. 4, the culture medium inlet 27 is provided near the end of the cultivation bed 6 in the negative y-axis direction, and the culture medium outlet 29 is provided near the end in the positive y-axis direction. In FIG. 4, two culture medium inlets 27 and two culture medium outlets 29 are drawn, but the number of these is appropriately determined by design. The culture medium inlet 27 is connected to the water supply pipe 26, and the culture liquid outlet 29 is connected to the drain pipe 28.

給水配管２６には、所定の値に制御された流量で培養液２４が流れる。その培養液２４は、培養液導入口２７から栽培ベッド６の内部に供給される。培養液排出口２９から、それと同じ流量で培養液２４が排水配管２８に排出される。その結果、培養液２４が一定の流量の水流３０−１、３０−２を形成して栽培ベッド６の内部を長手方向に流れ、常に新鮮な培養液２４が栽培ベッド６に供給される。培養液２４の流れを円滑にするために、培養液導入口２７に対して培養液排出口２９の側がわずかに下がるように栽培ベッド６を配置してもよい。   The culture solution 24 flows through the water supply pipe 26 at a flow rate controlled to a predetermined value. The culture solution 24 is supplied into the cultivation bed 6 from the culture solution introduction port 27. The culture solution 24 is discharged from the culture solution discharge port 29 to the drain pipe 28 at the same flow rate. As a result, the culture solution 24 forms water flows 30-1 and 30-2 having a constant flow rate and flows in the longitudinal direction inside the cultivation bed 6, so that the fresh culture solution 24 is always supplied to the cultivation bed 6. In order to make the flow of the culture solution 24 smooth, the cultivation bed 6 may be arranged so that the culture solution discharge port 29 side is slightly lowered with respect to the culture solution introduction port 27.

以上の構成を備えた植物栽培装置は、以下のように動作する。植物栽培室１の内部に培養液タンク８が設置される。培養液タンク８の中に、培養液２４が貯蔵される。培養液タンク８の内部の培養液２４の水位は、水位センサ１４によって監視される。培養液タンク８の内部の水位が所定の基準よりも低下すると、水位センサ１４が発信する水位を示す検出信号に応答して電磁弁１１が開かれ、水供給系統１０から培養液タンク８に所定量の水位に達するまで水又は培養液２４が供給される。この水位センサ１４の検出信号に基づく電磁弁１１の制御は、コンピュータによって実現される制御装置により自動的に実行される。水が供給される場合には、培養液２４の肥料塩等の濃度が低下しすぎないように、培養成分が別途、培養液タンク８に供給される。   The plant cultivation apparatus provided with the above configuration operates as follows. A culture medium tank 8 is installed inside the plant cultivation room 1. The culture solution 24 is stored in the culture solution tank 8. The water level of the culture solution 24 inside the culture solution tank 8 is monitored by the water level sensor 14. When the water level in the culture medium tank 8 falls below a predetermined standard, the electromagnetic valve 11 is opened in response to a detection signal indicating the water level transmitted from the water level sensor 14, and the water supply system 10 is placed in the culture medium tank 8. Water or culture solution 24 is supplied until a fixed water level is reached. The control of the electromagnetic valve 11 based on the detection signal of the water level sensor 14 is automatically executed by a control device realized by a computer. When water is supplied, the culture components are separately supplied to the culture solution tank 8 so that the concentration of fertilizer salts and the like in the culture solution 24 does not decrease too much.

培養液タンク８には更に、温度調節部１５が設けられる。温度調節部１５は、温度センサによって培養液タンク８の内部の水温を監視し、その水温が一定範囲内となるように、ペルチェ素子などの温度制御手段によって培養液２４の温度を自動的に制御する。   The culture medium tank 8 is further provided with a temperature control unit 15. The temperature adjusting unit 15 monitors the water temperature inside the culture medium tank 8 using a temperature sensor, and automatically controls the temperature of the culture medium 24 using temperature control means such as a Peltier element so that the water temperature falls within a certain range. To do.

培養液タンク８の内部の培養液２４が、循環ポンプ９によって栽培用ラック２の各栽培ベッド６に供給される。具体的には、循環ポンプ９によって培養液２４が培養液タンク８から給水配管１２にポンプアップされる。給水配管１２の先端は、各栽培ベッド６の給水配管２６（図４）に接続されており、培養液２４が培養液導入口２７から栽培ベッド６の内部に供給される。培養液２４は栽培ベッド６の内部を流れ、培養液排出口２９から排水配管２８に排出される。排出された培養液２４は、排水配管１３を通って培養液タンク８に戻される。以上のように、培養液タンク８と各栽培ベッド６との間で培養液２４の循環系統が形成される。この循環系統には更に、培養液２４中の不純物を取り除くフィルターが設けられる。   The culture solution 24 inside the culture solution tank 8 is supplied to each cultivation bed 6 of the cultivation rack 2 by the circulation pump 9. Specifically, the culture solution 24 is pumped up from the culture solution tank 8 to the water supply pipe 12 by the circulation pump 9. The tip of the water supply pipe 12 is connected to the water supply pipe 26 (FIG. 4) of each cultivation bed 6, and the culture solution 24 is supplied into the cultivation bed 6 from the culture solution introduction port 27. The culture solution 24 flows through the cultivation bed 6 and is discharged from the culture solution discharge port 29 to the drain pipe 28. The discharged culture solution 24 is returned to the culture solution tank 8 through the drain pipe 13. As described above, a circulation system of the culture solution 24 is formed between the culture solution tank 8 and each cultivation bed 6. The circulation system is further provided with a filter for removing impurities in the culture solution 24.

栽培用ラック２の各照明７が点灯され、各照明７の下側の段の栽培ベッド６に配置された植物２５に光が当てられる。各栽培ベッド６の植物２５は、その根から培養液２４の水分及び養分を吸収し、葉に照明７の光を受けることにより成長する。   Each illumination 7 of the cultivation rack 2 is turned on, and light is applied to the plant 25 arranged on the cultivation bed 6 on the lower stage of each illumination 7. The plant 25 in each cultivation bed 6 grows by absorbing the moisture and nutrients of the culture solution 24 from its roots and receiving light from the lighting 7 on the leaves.

図４に示すように、栽培ベッド６には、長手方向の一端（培養液導入口２７）から培養液２４が供給され、他端（培養液排出口２９）から培養液が排出される。この栽培ベッド６に対して、同じ支持フレーム５の下側に取り付けられた照明７の熱が加えられる。そのため、仮に何らかの熱対策を施さない場合を考えると、栽培ベッド６内の水流に温度差が生じる。すなわち、上流側の水流３０−１に対して、下流側の水流３０−２の方が、照明７の熱が長時間加えられるため、温度が高くなる。その結果、植物２５が栽培ベッド６の長手方向に不均一に成長する可能性がある。植物工場においては植物の品質が一定であることが利点として求められているため、このような不均一性は望ましくない。   As shown in FIG. 4, the culture medium 24 is supplied to the cultivation bed 6 from one end (the culture medium introduction port 27) in the longitudinal direction, and the culture medium is discharged from the other end (the culture medium discharge port 29). The heat of the lighting 7 attached to the lower side of the same support frame 5 is applied to the cultivation bed 6. Therefore, if a case where no heat countermeasure is taken is considered, a temperature difference occurs in the water flow in the cultivation bed 6. That is, the temperature of the downstream water stream 30-2 is higher than that of the upstream water stream 30-1, because the heat of the illumination 7 is applied for a long time. As a result, the plant 25 may grow unevenly in the longitudinal direction of the cultivation bed 6. Such a non-uniformity is undesirable because plant factories require the plant quality to be constant.

本実施形態においては、栽培ベッド６の下面に断熱塗料２２ａが塗布され、底面に断熱塗料２２ｂが塗布される。これらの断熱塗料２２ａ、２２ｂにより、栽培ベッド６の直下の照明７から受ける熱の影響を低減することができる。その結果、栽培ベッド６の長手方向の温度差が低減し、植物２５の生育を均一化することができる。   In this embodiment, the heat insulating paint 22a is applied to the lower surface of the cultivation bed 6, and the heat insulating paint 22b is applied to the bottom surface. By these heat insulation paints 22a and 22b, the influence of the heat received from the illumination 7 directly under the cultivation bed 6 can be reduced. As a result, the temperature difference in the longitudinal direction of the cultivation bed 6 is reduced, and the growth of the plant 25 can be made uniform.

本実施形態においては更に、栽培ベッド６の長手方向の側面の外面と内面に断熱塗料２２ｃ、２２ｄが塗布される。これらの面に塗布する場合には特に、面内方向（栽培ベッド６の断熱塗料２２ｃ、２２ｄが塗布される側面に平行な方向、図３、図４の例ではｙｚ面内の方向）の熱伝導率が比較的高い断熱塗料２２ｃ、２２ｄを採用することが望ましい。このような断熱塗料２２ｃ、２２ｄによって熱が水流方向に移動することにより、栽培ベッド６の長手方向の熱勾配をより小さくし、植物２５の生育条件を更に均一化することができる。   In the present embodiment, heat insulating paints 22c and 22d are further applied to the outer surface and the inner surface of the side surface in the longitudinal direction of the cultivation bed 6. When applying to these surfaces, in particular, heat in the in-plane direction (direction parallel to the side surface to which the heat insulating coatings 22c and 22d of the cultivation bed 6 are applied, in the example of FIGS. 3 and 4 yz plane) It is desirable to employ heat insulating paints 22c and 22d having relatively high conductivity. By such heat insulating coatings 22c and 22d moving the heat in the water flow direction, the thermal gradient in the longitudinal direction of the cultivation bed 6 can be further reduced, and the growth conditions of the plant 25 can be made more uniform.

このような効果は、図４に示されるように培養液２４が供給される栽培ベッド６に限らず得ることができる。図５は、栽培ベッド６ａの他の構成例を示す。この例においては、栽培ベッド６ａの内部に、栽培ベッド６ａの長手方向に延長した管状の形状を有し、延長方向に並んだ多数の穴３１を有するピッコロチューブなどの給水配管３０が配置される。図５の例では、給水配管３０はｙ軸負方向から栽培ベッド６ａの内部に導入され、その先端は、栽培ベッド６ａのｙ軸正方向の端部の近くに配置される。給水配管３０の根元は、図１の給水配管１２に接続される。このような場合、給水配管３０の根元（ｙ軸負方向）付近の栽培ベッド６ａの端部に、培養液排出口２９ａが設けられる。栽培ベッド６ａは、培養液排出口２９ａの側（ｙ軸負方向側）に向かってわずかに下がるように傾斜を持って配置されてもよい。   Such an effect can be obtained not only in the cultivation bed 6 to which the culture solution 24 is supplied as shown in FIG. FIG. 5 shows another configuration example of the cultivation bed 6a. In this example, water supply piping 30 such as a piccolo tube having a tubular shape extending in the longitudinal direction of the cultivation bed 6a and having a large number of holes 31 arranged in the extending direction is disposed inside the cultivation bed 6a. . In the example of FIG. 5, the water supply pipe 30 is introduced into the cultivation bed 6a from the y-axis negative direction, and the tip thereof is disposed near the end of the cultivation bed 6a in the y-axis positive direction. The root of the water supply pipe 30 is connected to the water supply pipe 12 of FIG. In such a case, the culture solution discharge port 29a is provided at the end of the cultivation bed 6a near the base (y-axis negative direction) of the water supply pipe 30. The cultivation bed 6a may be disposed with an inclination so as to be slightly lowered toward the culture medium discharge port 29a side (y-axis negative direction side).

図５の構成を備えた栽培ベッド６ａの場合、循環ポンプ９によって圧力を掛けられた培養液２４が給水配管３０の内部に供給されると、培養液２４が各穴３１から栽培ベッド６ａの内部に供給され、概ね栽培ベッド６ａの幅方向（ｘ軸方向）の水流３２が形成される。この水流３２は、栽培ベッド６ａの幅方向の両端において、培養液排出口２９ａに向かう長手方向の水流３３となり、培養液排出口２９ａから排水配管１３に排出される。このような構成によっても、各栽培ベッド６ａの内部の培養液を一定の流量で循環することが可能となる。   In the case of the cultivation bed 6 a having the configuration of FIG. 5, when the culture solution 24 pressurized by the circulation pump 9 is supplied to the inside of the water supply pipe 30, the culture solution 24 passes through the holes 31 to the inside of the cultivation bed 6 a. The water flow 32 in the width direction (x-axis direction) of the cultivation bed 6a is formed. The water flow 32 becomes a water flow 33 in the longitudinal direction toward the culture medium discharge port 29a at both ends in the width direction of the cultivation bed 6a, and is discharged from the culture solution discharge port 29a to the drain pipe 13. Even with such a configuration, it is possible to circulate the culture solution inside each cultivation bed 6a at a constant flow rate.

図５の構成の場合でも、何らかの熱対策を施さなかった場合、下からの照明７の熱により、水流３３の下流側の温度が高くなる温度勾配が発生する。従って、図４の場合と同様に、断熱塗料２２ａ〜２２ｆを塗布することにより、照明７からの熱の影響を低減することができる。更に、断熱塗料２２ａ〜２２ｆの熱伝導により、栽培ベッド６ａの長手方向の温度を均一化することができる。   Even in the case of the configuration of FIG. 5, if any heat countermeasure is not taken, the temperature of the downstream side of the water stream 33 increases due to the heat of the illumination 7 from below. Therefore, similarly to the case of FIG. 4, the influence of heat from the illumination 7 can be reduced by applying the heat insulating paints 22 a to 22 f. Furthermore, the temperature in the longitudinal direction of the cultivation bed 6a can be made uniform by the heat conduction of the heat insulating paints 22a to 22f.

植物栽培装置は更に、図１に示された上部配管２０を備えることが望ましい。植物栽培室１の温度及び湿度調節を行うための空調機１６は、植物栽培室１の天井１９に近い天井空間に冷気などを供給する。上部配管２０を設けることにより、空調機１６の冷気によって培養液２４を冷却することができる。   It is desirable that the plant cultivation apparatus further includes an upper pipe 20 shown in FIG. An air conditioner 16 for adjusting the temperature and humidity of the plant cultivation room 1 supplies cold air to a ceiling space near the ceiling 19 of the plant cultivation room 1. By providing the upper pipe 20, the culture solution 24 can be cooled by the cold air of the air conditioner 16.

既に説明したように、培養液タンク８の内部の培養液２４は、循環ポンプ９によって給水配管１２にポンプアップされ、栽培ベッド６に供給された後、栽培ベッド６から排水配管１３に回収され、培養液タンク８に戻される。給水配管１２は更に、栽培用ラック２の最上段と天井１９との間の位置に設置される上部配管２０の一端に接続される。上部配管２０の他端は、排水配管１３に接続される。   As already described, the culture solution 24 inside the culture solution tank 8 is pumped up to the water supply pipe 12 by the circulation pump 9 and supplied to the cultivation bed 6, and then collected from the cultivation bed 6 to the drainage pipe 13. It is returned to the culture medium tank 8. The water supply pipe 12 is further connected to one end of an upper pipe 20 installed at a position between the uppermost stage of the cultivation rack 2 and the ceiling 19. The other end of the upper pipe 20 is connected to the drain pipe 13.

培養液２４は、給水配管１２から上部配管２０に供給される。空調機１６が出力する冷気は、一般的に、植物栽培室１の天井空間の付近に供給されることが多い。従って、天井空間には冷気が比較的大きい流量で供給される。上部配管２０を流れる培養液２４は、その冷気によって効率的に冷却されて、培養液タンク８に戻される。   The culture solution 24 is supplied from the water supply pipe 12 to the upper pipe 20. In general, the cold air output from the air conditioner 16 is often supplied near the ceiling space of the plant cultivation room 1. Accordingly, cool air is supplied to the ceiling space at a relatively large flow rate. The culture solution 24 flowing through the upper pipe 20 is efficiently cooled by the cold air and returned to the culture solution tank 8.

栽培ベッド６を循環する培養液２４の温度は、照明７の熱によって上昇する。そのため培養液タンク８の内部の培養液２４の温度は上昇する傾向にある。温度調節部１５は、その培養液２４を冷却して、温度を一定範囲内に保つ。このような植物栽培装置において、上部配管２０を設けることにより、培養液２４の温度上昇が抑制され、温度調節部１５の動作に必要な電力を抑制することができる。   The temperature of the culture solution 24 circulating through the cultivation bed 6 is increased by the heat of the lighting 7. Therefore, the temperature of the culture solution 24 inside the culture solution tank 8 tends to increase. The temperature adjusting unit 15 cools the culture solution 24 and keeps the temperature within a certain range. In such a plant cultivation apparatus, by providing the upper pipe 20, the temperature rise of the culture solution 24 is suppressed, and the electric power necessary for the operation of the temperature adjustment unit 15 can be suppressed.

更に、培養液２４の温度上昇を抑制するために、空調機１６のドレンを用いることも可能である。空調機１６を冷房運転しているとき、冷媒の気化等によって冷却される冷却配管の表面において空気中の水蒸気が凝結することにより、液相の水が発生する。その水がドレンとして排出される。ドレンは、冷却配管の表面で凝結した水であるため、室温よりも低温である。従って、ドレンを冷却水として使用することができる。   Furthermore, in order to suppress the temperature rise of the culture solution 24, it is also possible to use the drain of the air conditioner 16. When the air conditioner 16 is in a cooling operation, liquid water is generated by condensation of water vapor in the air on the surface of the cooling pipe cooled by vaporization of the refrigerant. The water is discharged as drain. Since the drain is water condensed on the surface of the cooling pipe, the temperature is lower than room temperature. Therefore, the drain can be used as cooling water.

空調機１６が発生するドレンは、ドレン配管１７に供給される。ドレン配管１７は、電磁弁１８を介して培養液タンク８に接続される。このような構成において、電磁弁１８は以下のように制御される。   The drain generated by the air conditioner 16 is supplied to the drain pipe 17. The drain pipe 17 is connected to the culture solution tank 8 through an electromagnetic valve 18. In such a configuration, the solenoid valve 18 is controlled as follows.

培養液タンク８の制御装置は、通常は電磁弁１８を開き、ドレンを培養液タンク８に供給する。そのドレンにより、培養液タンク８の内部の培養液２４の温度を下げることができる。水位センサ１４の検出信号により培養液タンク８の水位が予め設定された上限値以上の場合、又は温度センサの検出値により培養液タンク８の内部の培養液２４の温度が予め設定された下限値以下の場合、制御装置は電磁弁１８を閉じ、ドレンの供給を停止する。このような動作により、温度調節部１５が冷却のためにペルチェ素子などを動作させるための電力を抑制することができる。更に、水供給系統１０による水の供給量を抑制することができる。   The control device for the culture medium tank 8 normally opens the electromagnetic valve 18 and supplies drain to the culture medium tank 8. The drain can reduce the temperature of the culture solution 24 inside the culture solution tank 8. When the water level of the culture medium tank 8 is equal to or higher than a preset upper limit value based on the detection signal of the water level sensor 14, or the lower limit value where the temperature of the culture medium 24 inside the culture medium tank 8 is preset based on the detection value of the temperature sensor In the following case, the control device closes the electromagnetic valve 18 and stops the supply of drain. By such an operation, it is possible to suppress the electric power required for the temperature adjusting unit 15 to operate the Peltier element or the like for cooling. Furthermore, the amount of water supplied by the water supply system 10 can be suppressed.

栽培ベッド６の構成としては、以上に説明したものと異なる構成を採用することも可能である。以上の説明では、図６に示したように、自立した構造を有する水槽が栽培ベッド６として用いられていた。このような栽培ベッド６は、支持フレーム５に置き、固定金具３５などによって支持フレーム５に対して固定することによって使用される。   As a structure of the cultivation bed 6, it is also possible to employ | adopt a different structure from what was demonstrated above. In the above description, as shown in FIG. 6, a water tank having a self-supporting structure has been used as the cultivation bed 6. Such a cultivation bed 6 is used by being placed on the support frame 5 and being fixed to the support frame 5 with a fixing bracket 35 or the like.

これに対して、図７の栽培ベッド６ｂでは、支持フレーム５から自立した構造を有する水槽を用いない。表面に断熱塗料３７が塗布された複数の支持体３６によって、栽培ベッド６の底面をなす平面が形成される。これら複数の支持体３６は、相互に結合して一つの構造部材としてもよいし、別個に分離された部品として栽培用ラック２の支持フレーム５によって支持してもよい。   On the other hand, in the cultivation bed 6b of FIG. 7, the water tank which has a structure which became independent from the support frame 5 is not used. A plane that forms the bottom surface of the cultivation bed 6 is formed by the plurality of supports 36 on which the heat insulating paint 37 is applied. The plurality of supports 36 may be combined with each other to form a single structural member, or may be supported by the support frame 5 of the cultivation rack 2 as separately separated parts.

支持体３６の上面に、栽培ベッド枠３８が固定される。栽培ベッド枠３８は、支持体３６から上面に突出する側壁面を形成し、例えば図４の栽培ベッド６と同様にｙ軸方向を長手方向とする矩形の平面形状を形成する。このように形成された支持体３６と栽培ベッド枠３８との上を、合成樹脂などの柔軟なシート状の素材であり液体を通さない不透水性シート３９で覆う。この不透水性シート３９の上から栽培ベッド枠３８によって囲われた領域の内部に培養液２４を供給することにより、栽培ベッド６ｂを形成することができる。図６における栽培ベッド本体２１が不要であるため、軽量化が可能である。このような場合、図４における培養液導入口２７と培養液排出口２９に相当する構成要素は、不透水性シート３９のｙ軸両端付近に穴を空けて、それぞれ水密性を維持するように給水配管２６と排水配管２８に接続することによって形成される。又は、培養液導入口２７と培養液排出口２９として、給水配管２６と排水配管２８の先端部を栽培ベッド６ｂの上側に配置し、上側から培養液を供給してもよい。また、図６に示したような構成の栽培ベッド６においても、図７に示した不透水性シート３９と同様のシートを用いることができる。その場合、栽培ベッド本体２１や断熱塗料２２として高度な遮水性が要求されないため、材料の選択の幅を広くすることができる。   A cultivation bed frame 38 is fixed to the upper surface of the support 36. The cultivation bed frame 38 forms a side wall surface protruding from the support 36 to the upper surface, and forms, for example, a rectangular planar shape having the y-axis direction as a longitudinal direction in the same manner as the cultivation bed 6 of FIG. The support 36 and the cultivation bed frame 38 thus formed are covered with a water-impermeable sheet 39 that is a flexible sheet-like material such as synthetic resin and does not allow liquid to pass through. The cultivation bed 6b can be formed by supplying the culture solution 24 from above the water-impermeable sheet 39 into the region surrounded by the cultivation bed frame 38. Since the cultivation bed main body 21 in FIG. 6 is unnecessary, weight reduction is possible. In such a case, the components corresponding to the culture solution introduction port 27 and the culture solution discharge port 29 in FIG. 4 are formed so as to maintain holes in the vicinity of both ends of the y-axis of the water-impermeable sheet 39, respectively. It is formed by connecting to a water supply pipe 26 and a drain pipe 28. Alternatively, as the culture solution introduction port 27 and the culture solution discharge port 29, the tip ends of the water supply pipe 26 and the drainage pipe 28 may be arranged on the upper side of the cultivation bed 6b, and the culture solution may be supplied from the upper side. Moreover, also in the cultivation bed 6 of a structure as shown in FIG. 6, the sheet | seat similar to the impermeable sheet 39 shown in FIG. 7 can be used. In that case, since the high water-impervious property is not requested | required as the cultivation bed main body 21 or the heat insulation coating material 22, the breadth of selection of a material can be widened.

以上、いくつかの実施形態によって本発明を説明したが、これらの実施の諸形態は単に発明を説明するために挙げられたものであり、請求の範囲の内容を限定するために参照されるべきでない。以上に説明した実施形態は、本発明の範囲内で様々に変更することができる。例えば、以上の実施形態を矛盾の無い範囲で任意に組み合わせたものも、本発明の実施形態に含まれる。   Although the present invention has been described with reference to several embodiments, these embodiments are merely described for explaining the present invention and should be referred to in order to limit the content of the claims. Not. The embodiment described above can be variously modified within the scope of the present invention. For example, any combination of the above embodiments within a consistent range is also included in the embodiments of the present invention.

Claims (6)

鉛直方向に多段に並ぶ複数の支持フレームを備えた栽培用ラックと、
前記複数の支持フレームの各々に支持され、培養液を溜めるための貯留槽を形成する栽培ベッド本体と、
前記栽培ベッド本体の外側に塗布された断熱層と、
前記複数の支持フレームの各々に支持され、下側の段の前記栽培ベッドの方向に照明を当てる照明部と
を具備する
植物栽培装置。A cultivation rack having a plurality of support frames arranged in multiple stages in the vertical direction;
A cultivation bed main body that is supported by each of the plurality of support frames and forms a storage tank for storing a culture solution,
A heat insulating layer applied to the outside of the cultivation bed body,
A plant cultivation apparatus comprising: an illumination unit that is supported by each of the plurality of support frames and that illuminates the direction of the cultivation bed on the lower stage. 請求項１に記載された植物栽培装置であって、
前記断熱層は、前記栽培ベッド本体よりも熱伝導率が大きい材料で形成される
植物栽培装置。A plant cultivation apparatus according to claim 1,
The said heat insulation layer is a plant cultivation apparatus formed with the material whose heat conductivity is larger than the said cultivation bed main body. 請求項１又は２に記載された植物栽培装置であって、
前記断熱層は、前記栽培ベッドの底面と側面とを覆う
植物栽培装置。A plant cultivation device according to claim 1 or 2,
The heat insulation layer covers a bottom surface and a side surface of the cultivation bed. 請求項１から３のいずれかに記載された植物栽培装置であって、
更に、培養液タンクと、
前記培養液タンクと前記栽培ベッドとの間で前記培養液を循環させる培養液循環系統と、
前記培養液タンクの内部の前記培養液の温度を制御する温度制御部と
を具備する植物栽培装置。A plant cultivation apparatus according to any one of claims 1 to 3,
And a culture tank
A culture fluid circulation system for circulating the culture fluid between the culture fluid tank and the cultivation bed;
A plant cultivation apparatus comprising: a temperature control unit that controls a temperature of the culture solution inside the culture solution tank. 請求項４に記載された植物栽培装置であって、
更に、前記栽培用ラックと前記栽培用ラックが配置される部屋の天井との間の空間である天井空間に冷気を供給する空調機を具備し、
前記培養液循環系統は、前記天井空間に配置される上部配管を具備し、
前記培養液は、前記上部配管を経由した後に前記栽培ベッドに供給される
植物栽培装置。A plant cultivation device according to claim 4,
Furthermore, it comprises an air conditioner that supplies cold air to a ceiling space that is a space between the cultivation rack and the ceiling of the room where the cultivation rack is disposed,
The culture fluid circulation system includes an upper pipe disposed in the ceiling space,
The culture solution is supplied to the cultivation bed after passing through the upper pipe. 請求項４に記載された植物栽培装置であって、
更に、前記栽培用ラックが配置された部屋に冷気を供給する空調機と、
前記空調機が排出するドレンを前記培養液タンクに供給するドレン配管と
を具備する植物栽培装置。A plant cultivation device according to claim 4,
Furthermore, an air conditioner for supplying cold air to the room in which the cultivation rack is arranged,
A plant cultivation apparatus comprising: a drain pipe for supplying drain discharged from the air conditioner to the culture solution tank.
JP2014555009A 2013-09-25 2013-09-25 Plant cultivation equipment Active JP5937231B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2013/075956 WO2015045045A1 (en) 2013-09-25 2013-09-25 Plant cultivation apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP5937231B2 JP5937231B2 (en) 2016-06-22
JPWO2015045045A1 true JPWO2015045045A1 (en) 2017-03-02

Family

ID=52742252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014555009A Active JP5937231B2 (en) 2013-09-25 2013-09-25 Plant cultivation equipment

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5937231B2 (en)
TW (1) TW201528936A (en)
WO (1) WO2015045045A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6047749B1 (en) 2016-02-09 2016-12-21 ホリマサシティファーム株式会社 Aquaponics system, seafood breeding method and plant cultivation method using the same
WO2017185064A1 (en) 2016-04-21 2017-10-26 Eden Works, Inc. (Dba Edenworks) Stacked shallow water culture (sswc) growing systems, apparatus and methods
WO2018107176A1 (en) 2016-12-09 2018-06-14 Eden Works, Inc. (Dba Edenworks) Methods systems and apparatus for cultivating densely seeded crops
KR102566650B1 (en) 2017-01-20 2023-08-14 그린파이토 피티이 리미티드 farming management system

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008245554A (en) * 2007-03-29 2008-10-16 Espec Mic Kk Three-dimensional multistage type plant-cultivating device
JP5378662B2 (en) * 2007-08-03 2013-12-25 徳寿工業株式会社 Hydroponics equipment
JP5133661B2 (en) * 2007-11-28 2013-01-30 株式会社プラネット Wall planting planting equipment

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015045045A1 (en) 2015-04-02
TW201528936A (en) 2015-08-01
JP5937231B2 (en) 2016-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5937231B2 (en) Plant cultivation equipment
US7278237B2 (en) Transplant production system
CN104368404B (en) Laboratory Incubator Having Improved Moisture Distribution
WO2017041757A1 (en) Soilless plant culture system
US20150313104A1 (en) Vertical Planter
JP6123495B2 (en) Multistage shelf type plant growing device and plant growing system
US20140033609A1 (en) Expandable plant growth system
JP6279362B2 (en) Plant cultivation unit and plant cultivation facility
JP2011055738A (en) Plant cultivation rack
JP2013051942A (en) Shelf device for plant cultivation
KR102650746B1 (en) Plant cultivating apparatus
Guo et al. Development of an improved ground-based prototype of space plant-growing facility
KR101510463B1 (en) Multi layer flowerpot
JP5839171B2 (en) Plant cultivation equipment
US20090077875A1 (en) System for conditioning crops
JP6220217B2 (en) Plant cultivation equipment
CN102032634A (en) Wet-curtain cooling device
JP2013021938A (en) Mist sprinkling apparatus in plant factory
CN114727582A (en) Air-ploughing system and method
JP6497805B2 (en) Crop cultivation system
KR20130101865A (en) Hydroponics cultivation device
TW201534210A (en) Plant cultivation device
JP2016041016A (en) Plant cultivation unit and plant cultivation facility
JP6875157B2 (en) Plant growing device
US11457577B1 (en) System and method for maintaining temperature stability of plant roots in an aeroponics grow unit

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160412

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160511

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5937231

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250