JPWO2015033800A1 - Glass substrate - Google Patents

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Abstract

本発明のガラス基板は、特定の構成成分の含有範囲を満たし、かつmol%表示で、SiO2+Al2O3+B2O3:67〜76%となる条件を満たし、かつ0.6≦Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)≦0.96、および0.78≦MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)≦0.98という比を満たす、ガラス組成からなることを特徴とする。The glass substrate of the present invention satisfies the content range of specific constituent components and satisfies the condition of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3: 67 to 76% in terms of mol%, and 0.6 ≦ Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ≦ 0.96, And 0.78 ≦ MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) ≦ 0.98.

Description

本発明は、ガラス基板に関する。   The present invention relates to a glass substrate.

近年、ハードディスクドライブ用メディアの記録密度は600Gbit/inch2程度が要求されている。このような高記録密度を達成する場合、ヘッドの位置決め精度の問題からハードディスクドライブ用メディアの基板として使用されるガラス基板は、そのフラッタリングをより抑制する必要があり、そのため高いヤング率(高弾性)が必要となる。In recent years, the recording density of hard disk drive media is required to be about 600 Gbit / inch 2 . In order to achieve such a high recording density, glass substrates used as substrates for hard disk drive media need to suppress fluttering more due to the problem of head positioning accuracy. Therefore, high Young's modulus (high elasticity) )Is required.

また、記録密度向上の観点からは熱アシスト方式への対応が必要となり、熱アシスト方式に適応する記録層(磁性層)の形成には高温の成膜処理が必要となるため、その記録層を形成するガラス基板に対しても高い耐熱性が要求される。このため、たとえば特開2005−314159号公報(特許文献1)は、耐熱性を有したガラス基板を提案している。   In addition, from the viewpoint of improving the recording density, it is necessary to cope with the heat assist method, and the formation of a recording layer (magnetic layer) adapted to the heat assist method requires a high-temperature film forming process. High heat resistance is also required for the glass substrate to be formed. For this reason, for example, Japanese Patent Laying-Open No. 2005-314159 (Patent Document 1) proposes a glass substrate having heat resistance.

特開2005−314159号公報JP 2005-314159 A

上記提案のガラス基板は、ある程度の耐熱性は有するものの、高いヤング率を示すものではなかった。このため、フラッタリングを十分に抑制することはできなかった。一方、ハードディスクドライブの発熱の観点からは、モーターに負荷のかからない低比重のガラス基板が好適であるが、低比重と、高弾性/耐熱性とを両立させたガラス基板を得ることは更に困難であった。   The proposed glass substrate has a certain degree of heat resistance, but does not exhibit a high Young's modulus. For this reason, fluttering cannot be sufficiently suppressed. On the other hand, from the viewpoint of heat generation of the hard disk drive, a glass substrate having a low specific gravity that does not put a load on the motor is suitable. there were.

本発明は、このような状況を鑑みなされたものであって、その目的とするところは、優れた耐熱性を有するとともに高いヤング率を示し、かつ低密度であるガラス基板を提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a glass substrate having excellent heat resistance, high Young's modulus, and low density. .

本発明のガラス基板は、
mol%表示で、
SiO2:58〜67%
Al23:6.5〜13%
23:0〜3%
Li2O:2.3〜6.5%
Na2O:0.2〜2.5%
2O:0〜2%
MgO:14〜23%
CaO:0.6〜4.6%
SrO:0〜3%
BaO:0〜3%
ZnO:0〜3%
ZrO2:0〜3%
CeO2:0〜2%
SnO2:0〜2%
TiO2:0〜4%
Nb25:0〜3%
となる含有範囲を満たし、かつ
mol%表示で、
SiO2+Al23+B23:67〜76%
となる条件を満たし、かつ
0.6≦Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)≦0.96、および
0.78≦MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)≦0.98
という比(「モル比率」を示す)を満たす、ガラス組成からなることを特徴とする。
The glass substrate of the present invention is
In mol% display
SiO 2 : 58 to 67%
Al 2 O 3 : 6.5 to 13%
B 2 O 3 : 0 to 3%
Li 2 O: 2.3 to 6.5%
Na 2 O: 0.2 to 2.5%
K 2 O: 0 to 2%
MgO: 14-23%
CaO: 0.6 to 4.6%
SrO: 0 to 3%
BaO: 0 to 3%
ZnO: 0 to 3%
ZrO 2 : 0 to 3%
CeO 2 : 0 to 2%
SnO 2 : 0 to 2%
TiO 2: 0~4%
Nb 2 O 5 : 0 to 3%
Satisfies the content range and in mol% display,
SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 : 67 to 76%
And 0.6 ≦ Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ≦ 0.96 and 0.78 ≦ MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) ≦ 0.98
It is characterized by comprising a glass composition satisfying the ratio (indicating "molar ratio").

ここで、該ガラス基板は、ヤング率が90GPa以上101GPa以下であり、かつ密度が2.49g/cm3以上2.61g/cm3以下であることが好ましく、またガラス転移温度が635℃以上725℃以下であることが好ましく、その厚みt(単位:mm)と外径d(単位:mm)の間にt/d≦0.011の関係があることが好ましい。Here, the glass substrate preferably has a Young's modulus of 90 GPa or more and 101 GPa or less, a density of 2.49 g / cm 3 or more and 2.61 g / cm 3 or less, and a glass transition temperature of 635 ° C. or more and 725 ° C. It is preferable that the temperature be equal to or lower than 0 ° C., and it is preferable that there is a relationship of t / d ≦ 0.011 between the thickness t (unit: mm) and the outer diameter d (unit: mm).

また、該ガラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板であることが好ましく、その表面が化学強化処理されていることが好ましい。   The glass substrate is preferably a glass substrate for a magnetic recording medium, and its surface is preferably chemically strengthened.

本発明のガラス基板は、上記の構成を有することにより、優れた耐熱性を有するとともに高いヤング率を示し、かつ低密度であるという優れた効果を有する。   Since the glass substrate of the present invention has the above-described configuration, it has excellent heat resistance, high Young's modulus, and low density.

以下、本発明に係わる実施の形態について、さらに詳細に説明する。
<ガラス基板>
本実施の形態のガラス基板は、各種の情報記録装置における情報記録媒体用の基板、特にハードディスクドライブ装置等の磁気記録装置における磁気記録媒体用ガラス基板として有用に用いることができ、mol%表示で、
SiO2:58〜67%
Al23:6.5〜13%
23:0〜3%
Li2O:2.3〜6.5%
Na2O:0.2〜2.5%
2O:0〜2%
MgO:14〜23%
CaO:0.6〜4.6%
SrO:0〜3%
BaO:0〜3%
ZnO:0〜3%
ZrO2:0〜3%
CeO2:0〜2%
SnO2:0〜2%
TiO2:0〜4%
Nb25:0〜3%
となる含有範囲を満たし、かつ
mol%表示で、
SiO2+Al23+B23:67〜76%
となる条件を満たし、かつ
0.6≦Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)≦0.96、および
0.78≦MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)≦0.98
という比を満たす、ガラス組成からなることを特徴とする。
Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in more detail.
<Glass substrate>
The glass substrate of the present embodiment can be usefully used as a substrate for an information recording medium in various information recording devices, particularly as a glass substrate for a magnetic recording medium in a magnetic recording device such as a hard disk drive device, in mol% display. ,
SiO 2 : 58 to 67%
Al 2 O 3 : 6.5 to 13%
B 2 O 3 : 0 to 3%
Li 2 O: 2.3 to 6.5%
Na 2 O: 0.2 to 2.5%
K 2 O: 0 to 2%
MgO: 14-23%
CaO: 0.6 to 4.6%
SrO: 0 to 3%
BaO: 0 to 3%
ZnO: 0 to 3%
ZrO 2 : 0 to 3%
CeO 2 : 0 to 2%
SnO 2 : 0 to 2%
TiO 2: 0~4%
Nb 2 O 5 : 0 to 3%
Satisfies the content range and in mol% display,
SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 : 67 to 76%
And 0.6 ≦ Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ≦ 0.96 and 0.78 ≦ MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) ≦ 0.98
It is characterized by comprising a glass composition that satisfies the ratio.

ここで、本実施の形態においては、ガラス組成に関し特に断らない限り「%」表示は「mol%」(「モル%」)を示すものとする。また、「SiO2+Al23+B23」のような化学式の加算表記は、そのような化学式で示される成分の合計量を示すものとする。したがって、「SiO2+Al23+B23」とは、SiO2とAl23とB23との合計量を示し、上記の場合その合計量がガラス組成全体に対して67〜76mol%となることを示す。Here, in the present embodiment, “%” display indicates “mol%” (“mol%”) unless otherwise specified regarding the glass composition. An addition notation of a chemical formula such as “SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ” indicates the total amount of components represented by such chemical formula. Therefore, “SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ” indicates the total amount of SiO 2 , Al 2 O 3 and B 2 O 3, and in the above case, the total amount is 67% of the total glass composition. It shows -76 mol%.

また、「Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)」という表記は、Li2OとNa2OとK2Oとの合計量に占めるLi2Oの割合(比)を示し、上記の場合その比が0.6以上0.96以下であることを示す。同じく、「MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)」という表記は、MgOとCaOとSrOとBaOとZnOとの合計量に占めるMgOの割合(比)を示し、上記の場合その比が0.78以上0.98以下であることを示す。The notation “Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O)” indicates the ratio (ratio) of Li 2 O in the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O, and In this case, the ratio is 0.6 or more and 0.96 or less. Similarly, the notation “MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO)” indicates the ratio (ratio) of MgO in the total amount of MgO, CaO, SrO, BaO and ZnO, and in the above case, the ratio is 0.78 or more and 0.98. Indicates that:

本実施の形態のガラス基板は、上記のようなガラス組成を有することにより、十分な弾性(高いヤング率)を確保することが可能となり、これによりフラッタリング特性が向上し、また、高いヤング率と耐熱性を確保したまま、低比重(低密度)を達成できるという優れた効果を示す。このような優れた効果は、当該ガラス組成を構成する各成分の以下に説明する作用が相乗的に奏されることにより達成されるものである。   Since the glass substrate of the present embodiment has the above glass composition, it becomes possible to ensure sufficient elasticity (high Young's modulus), thereby improving fluttering characteristics and high Young's modulus. And exhibiting an excellent effect of being able to achieve a low specific gravity (low density) while maintaining heat resistance. Such an excellent effect is achieved by the synergistic effects of the components constituting the glass composition described below.

なお、本実施の形態のガラス基板は、円盤状の形状(情報記録装置に取り付けるための孔が中心部分にあけられていてもよい)を有することが好ましく、これにより例えばハードディスクドライブ装置等の情報記録装置に組み付けられる情報記録媒体用(磁気記録媒体用)のガラス基板として適したものとなる。円盤状の形状とする場合、その大きさは特に限定されず、例えば、外径が3.5インチ、2.5インチ、1.8インチ、あるいはそれ以下の小径ディスクとすることもでき、またその厚みは1mm、0.8mm、0.7mm、0.635mm、0.5mmあるいはそれ以下といった薄型とすることもできる。   The glass substrate of the present embodiment preferably has a disk shape (a hole for attaching to the information recording device may be formed in the central portion). It is suitable as a glass substrate for an information recording medium (for magnetic recording medium) assembled in a recording apparatus. In the case of a disk-like shape, the size is not particularly limited. For example, a small-diameter disk having an outer diameter of 3.5 inches, 2.5 inches, 1.8 inches, or less can be used. The thickness can be as thin as 1 mm, 0.8 mm, 0.7 mm, 0.635 mm, 0.5 mm or less.

特に本実施の形態のガラス基板は、その厚みt(単位:mm)と外径d(単位:mm)の間にt/d≦0.011の関係があることが好ましい。これにより、ハードディスクドライブにおける単位記憶容量当たりの基板重量が低減でき、消費電力の観点から好適である。なお、フラッタリング特性という観点から、t/dの下限は0.006以上とすることが好ましい。   In particular, the glass substrate of the present embodiment preferably has a relationship of t / d ≦ 0.011 between the thickness t (unit: mm) and the outer diameter d (unit: mm). Thereby, the substrate weight per unit storage capacity in the hard disk drive can be reduced, which is preferable from the viewpoint of power consumption. From the viewpoint of fluttering characteristics, the lower limit of t / d is preferably 0.006 or more.

なお、本実施の形態において、ガラス基板の厚みとは、記録面(最も大きな面積を有する表面)に垂直な方向の長さとし、その長さの記録面の面内方向の平均値とする。   In the present embodiment, the thickness of the glass substrate is the length in the direction perpendicular to the recording surface (the surface having the largest area), and is the average value in the in-plane direction of the recording surface.

<ガラス組成>
本実施の形態のガラス基板のガラス組成を構成する各構成成分について以下説明する。
<Glass composition>
Each component which comprises the glass composition of the glass substrate of this Embodiment is demonstrated below.

まず、本実施の形態のガラス組成を構成するSiO2は、ガラスの網目構造を形成する重要な成分である。SiO2の含有量が58%より少ないとガラス形成が困難となり、化学的耐久性が悪化する恐れがある。逆に67%を超えると溶融性が悪化してしまう。そのためSiO2の含有量は58〜67%の含有範囲とすることが必要である。SiO2のより好ましい含有範囲は59〜65%である。なお、本実施の形態において、mol%表示を、たとえば「58〜67%」というように範囲で示す場合、この範囲は上限および下限の数値を含むものとし、上記の場合「58%以上67%以下」であることを示すものとする。First, SiO 2 constituting the glass composition of the present embodiment is an important component for forming a glass network structure. If the content of SiO 2 is less than 58%, glass formation becomes difficult and chemical durability may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 67%, the meltability deteriorates. Therefore, the content of SiO 2 needs to be in the content range of 58 to 67%. A more preferable content range of SiO 2 is 59 to 65%. In the present embodiment, when the mol% display is indicated by a range such as “58 to 67%”, the range includes upper and lower limit numerical values. In the above case, “58% or more and 67% or less” ".

Al23は、SiO2と共に網目構造を形成する重要な成分であり、耐熱性を向上させるだけではなく、イオン交換性能を向上させる働きを有している。Al23の含有量が6.5%より少ないと、化学的耐久性やイオン交換性能が低下する恐れがある。逆に13%を超えると、イオン交換性能が低下し、更に溶融性が悪化してしてしまう。このためAl23の含有量は6.5〜13%の含有範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは6.6〜9.6%の範囲である。Al 2 O 3 is an important component for forming a network structure together with SiO 2 and has a function of improving not only heat resistance but also ion exchange performance. If the Al 2 O 3 content is less than 6.5%, chemical durability and ion exchange performance may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 13%, the ion exchange performance is lowered and the meltability is further deteriorated. For this reason, the content of Al 2 O 3 needs to be in the range of 6.5 to 13%. Among these, Preferably it is 6.6 to 9.6% of range.

23は、SiO2と共に網目構造を形成する成分であり、溶融温度を低下させる働きを有しているので必要に応じて含有させる。3%を超えると、耐熱性の指標となるガラス転移温度(Tg)が低下してしまう。このためB23の含有量は0〜3%の含有範囲とすることが必要である。より好ましい含有範囲は、0〜2%である。なお、上記において、B23の含有量0〜3%における0%とは、B23を含まない態様を含み得ることを意味する。なお、本実施の形態のガラス組成における「0%」の表記は、これと同意であり、その成分を含まない態様を含み得ることを意味する。B 2 O 3 is a component that forms a network structure with SiO 2 , and has a function of lowering the melting temperature, so is contained as necessary. If it exceeds 3%, the glass transition temperature (Tg), which serves as an index of heat resistance, is lowered. For this reason, the content of B 2 O 3 needs to be 0 to 3%. A more preferable content range is 0 to 2%. In the above, the 0% in content of 0 to 3% B 2 O 3, which means that may include aspects that do not contain B 2 O 3. In addition, the notation of “0%” in the glass composition of the present embodiment is in agreement with this, and means that an aspect not including the component may be included.

Li2Oは、化学的耐久性を向上させ、更に溶融性を向上させるのに必要な成分である。Li2Oの含有量が2.3%より少ないと、Li溶出の抑制効果と溶融性を向上させる効果が十分に得られない。逆に6.5%を超えると、ガラス転移温度(Tg)が低下し、Li溶出が悪化してしまう。そのため、Li2Oの含有量は2.3〜6.5%の含有範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは4.5〜6%の含有範囲である。Li 2 O is a component necessary for improving chemical durability and further improving meltability. If the content of Li 2 O is less than 2.3%, the effect of suppressing Li elution and improving the meltability cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if it exceeds 6.5%, the glass transition temperature (Tg) decreases, and Li elution deteriorates. Therefore, the content of Li 2 O needs to be in the content range of 2.3 to 6.5%. Among them, the content is preferably 4.5 to 6%.

Na2Oは、溶融性を向上させる役割を持っている。Na2Oの含有量が0.2%より少ないと、Na溶出の抑制効果と溶融性を向上させる効果が十分に得られない。逆にNa2Oの含有量が2.5%を超えると、化学的耐久性が低下してしまう。そのためNa2Oの含有量は0.2〜2.5%の含有範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは0.5〜2.5%の含有範囲である。Na 2 O has a role of improving meltability. When the content of Na 2 O is less than 0.2%, the effect of suppressing Na elution and improving the meltability cannot be obtained sufficiently. Conversely, when the content of Na 2 O exceeds 2.5%, the chemical durability is lowered. Therefore, the content of Na 2 O needs to be in the content range of 0.2 to 2.5%. Among these, Preferably it is a content range of 0.5 to 2.5%.

2Oは、溶融性を改善する効果を持っているので、必要に応じて含有させて良い。K2Oの含有量が2%を超えるとガラス転移温度(Tg)が低下し、化学的耐久性も悪化してしまう。そのためK2Oの含有量は0〜2%の含有範囲とした。より好ましい含有範囲は、0〜1%である。K 2 O has an effect of improving the meltability, and may be contained as necessary. If the content of K 2 O exceeds 2%, the glass transition temperature (Tg) is lowered and the chemical durability is also deteriorated. Therefore, the content of K 2 O is set to a content range of 0 to 2%. A more preferable content range is 0 to 1%.

MgOは、耐熱性を向上すると共に溶融性を改善する効果を持っている。また、密度を低く抑えたまま、弾性(ヤング率)を高める効果を持っている。MgOの含有量が14%未満では、耐熱性を向上する効果と溶融性を改善する効果が得られず、また、弾性が低く、フラッタリング特性が低下する。逆に含有量が23%を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまい成形困難となる。そのためMgOの含有量は14〜23%の含有範囲とした。このMgOの含有範囲は、本実施の形態の特徴点の一つとなるものである。このようなMgOのより好ましい含有範囲は、16〜21%である。   MgO has the effect of improving heat resistance and improving meltability. Moreover, it has the effect of increasing elasticity (Young's modulus) while keeping the density low. If the content of MgO is less than 14%, the effect of improving the heat resistance and the effect of improving the meltability cannot be obtained, the elasticity is low, and the fluttering characteristics are lowered. On the other hand, if the content exceeds 23%, the glass structure becomes unstable, devitrification resistance deteriorates, and molding becomes difficult. Therefore, the content of MgO is set to a content range of 14 to 23%. This MgO-containing range is one of the characteristic points of the present embodiment. A more preferable content range of MgO is 16 to 21%.

CaOは、溶融性を改善する効果を持つと共に、ガラス転移温度(Tg)を維持する効果を持っている。CaOの含有量が0.6%未満では溶融性を改善する効果とガラス転移温度(Tg)を維持する効果が十分に得られず、逆に含有量が4.6%を超えるとガラス構造が不安定となり、化学的耐久性が悪化してしまう。そのためCaOの含有量は0.6〜4.6%の含有範囲とした。より好ましい含有範囲は、0.6〜2.6%である。   CaO has the effect of improving the meltability and the effect of maintaining the glass transition temperature (Tg). If the CaO content is less than 0.6%, the effect of improving the meltability and the effect of maintaining the glass transition temperature (Tg) cannot be sufficiently obtained. Conversely, if the content exceeds 4.6%, the glass structure is It becomes unstable and chemical durability deteriorates. Therefore, the content of CaO is set to a content range of 0.6 to 4.6%. A more preferable content range is 0.6 to 2.6%.

SrOは、溶融性を改善する効果を持つと共に、ガラス転移温度(Tg)を維持する効果を持っているので必要に応じて含有させる。SrOの含有量が3%を超えると耐失透性が悪化してしまい成形困難となる。そのためSrOの含有量は0〜3%の含有範囲とした。より好ましい含有範囲は、0〜2%である。   SrO has the effect of improving the meltability and also has the effect of maintaining the glass transition temperature (Tg), so it is contained as necessary. When the content of SrO exceeds 3%, the devitrification resistance is deteriorated and molding becomes difficult. Therefore, the SrO content is set to a content range of 0 to 3%. A more preferable content range is 0 to 2%.

BaOは、溶融性を改善する効果を持つと共に、ガラス転移温度(Tg)を維持する効果を持っているので必要に応じて含有させる。BaOの含有量が3%を超えると耐失透性が悪化してしまい成形困難となる。そのためBaOの含有量は0〜3%の含有範囲とした。より好ましい含有範囲は、0〜2%である。   BaO has the effect of improving the meltability and also has the effect of maintaining the glass transition temperature (Tg), so is contained as necessary. When the content of BaO exceeds 3%, devitrification resistance deteriorates and molding becomes difficult. Therefore, the content of BaO is set to a content range of 0 to 3%. A more preferable content range is 0 to 2%.

ZnOは、化学的耐久性を向上させると共に溶融性を改善する効果を持つので必要に応じて含有させる。ZnOの含有量が3%を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまう。そのためZnOの含有量は0〜3%の含有範囲とした。より好ましい含有範囲は、0〜2%である。   ZnO has an effect of improving the chemical durability and improving the meltability, and is therefore contained as necessary. When the content of ZnO exceeds 3%, the glass structure becomes unstable, and the devitrification resistance deteriorates. Therefore, the content of ZnO is set to a content range of 0 to 3%. A more preferable content range is 0 to 2%.

ZrO2は、ガラスの耐熱性を向上する効果があるので、必要に応じて含有させても良い。但し、その含有量が3%を超えると耐失透性が悪化してしまい、ガラス化が困難となる。そのため含有量は0〜3%の含有範囲とした。その中でも好ましくは0〜2%の含有範囲である。ZrO 2 has an effect of improving the heat resistance of the glass, and may be contained as necessary. However, if the content exceeds 3%, the devitrification resistance deteriorates, and vitrification becomes difficult. Therefore, the content is set to a content range of 0 to 3%. Among these, Preferably it is 0 to 2% of content range.

CeO2およびSnO2は、清澄剤としての役割を果たすので、必要に応じて含有させて良い。其々の含有量が2%を超えると耐失透性が悪化してしまい、ガラス化が困難となる。そのため含有量はそれぞれ0〜2%の範囲とした。より好ましい含有範囲は、それぞれ0〜1%である。CeO 2 and SnO 2 play a role as a clarifying agent, and may be contained as necessary. When each content exceeds 2%, devitrification resistance will deteriorate and vitrification will become difficult. Therefore, the content is in the range of 0 to 2%. A more preferable content range is 0 to 1%, respectively.

TiO2は、高温粘性を軟化させると共に化学的耐久性を向上する効果を持つので必要に応じて含有させる。TiO2の含有量が4%を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまい成形困難となる。そのためTiO2の含有量は0〜4%の含有範囲とした。より好ましい含有範囲は、0〜3%である。TiO 2 has an effect of softening the high temperature viscosity and improving the chemical durability, so it is contained as necessary. If the content of TiO 2 exceeds 4%, the glass structure becomes unstable, devitrification resistance deteriorates, and molding becomes difficult. Therefore, the content of TiO 2 is set to a content range of 0 to 4%. A more preferable content range is 0 to 3%.

Nb25は、溶融性を向上させると共に、化学的耐久性を向上する効果を持っているので、必要に応じて含有させても良い。Nb25の含有量が3%を超えると、液相温度が上昇し耐失透性が悪化してしまう。また、比重が上昇する。そのためNb25の含有量は0〜3%の範囲とした。より好ましい含有範囲は、0〜1%である。Nb 2 O 5 has the effect of improving the meltability and the chemical durability, so it may be contained if necessary. If the content of Nb 2 O 5 exceeds 3%, the liquidus temperature rises and devitrification resistance deteriorates. Also, the specific gravity increases. Therefore, the content of Nb 2 O 5 is in the range of 0 to 3%. A more preferable content range is 0 to 1%.

本実施の形態のガラス組成は、上述の各成分以外に、他の成分を含むこともできる。たとえば、Sb23等の清澄剤としての役割を果たす成分は特に限定することなく含有することができ、0〜2%の含有範囲として含有させることができる。The glass composition of this Embodiment can also contain another component other than each above-mentioned component. For example, a component that plays a role as a fining agent such as Sb 2 O 3 can be contained without any particular limitation, and can be contained in a content range of 0 to 2%.

一方、本実施の形態のガラス組成は、SiO2とAl23とB23との合計量(SiO2+Al23+B23)を67〜76%とすることが重要である。すなわちは、全ガラス組成に占めるSiO2とAl23とB23との合計量を67〜76mol%とすることが必要である。これらは、上述の通りいずれもガラスの網目構造を形成する重要な成分であり、67%より少ないとガラス形成が困難となる。逆に76%を超えると粘度が高すぎて溶融性が悪化してしまう。その中でも好ましくは68〜75%の範囲である。On the other hand, in the glass composition of the present embodiment, it is important that the total amount of SiO 2 , Al 2 O 3 and B 2 O 3 (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is 67 to 76%. is there. That is, it is necessary that the total amount of SiO 2 , Al 2 O 3 and B 2 O 3 in the total glass composition is 67 to 76 mol%. These are all important components for forming a glass network structure as described above, and if the content is less than 67%, glass formation becomes difficult. Conversely, if it exceeds 76%, the viscosity is too high and the meltability is deteriorated. Among these, it is preferably in the range of 68 to 75%.

さらに、本実施の形態のガラス組成では、Li2OとNa2OとK2Oとの合計量に占めるLi2Oの比が0.6〜0.96であること、すなわち0.6≦Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)≦0.96であることを要する。その比が0.6未満である場合、密度(比重)が上昇し、0.96を超えるとLi溶出量が増大するためである。より好ましくは、0.8≦Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)≦0.96である。Furthermore, in the glass composition of the present embodiment, the ratio of Li 2 O to the total amount of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O is 0.6 to 0.96, that is, 0.6 ≦ It is required that Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ≦ 0.96. This is because when the ratio is less than 0.6, the density (specific gravity) increases, and when it exceeds 0.96, the Li elution amount increases. More preferably, 0.8 ≦ Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ≦ 0.96.

また、本実施の形態のガラス組成では、MgOとCaOとSrOとBaOとZnOとの合計量に占めるMgOの比が0.78〜0.98であること、すなわち0.78≦MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)≦0.98であることを要する。その比が0.78未満である場合、密度(比重)が上昇し、0.98を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまい成形困難となる。より好ましくは、0.86≦MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)≦0.98である。   In the glass composition of the present embodiment, the ratio of MgO to the total amount of MgO, CaO, SrO, BaO, and ZnO is 0.78 to 0.98, that is, 0.78 ≦ MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO). ) ≦ 0.98. When the ratio is less than 0.78, the density (specific gravity) increases, and when it exceeds 0.98, the glass structure becomes unstable, devitrification resistance deteriorates, and molding becomes difficult. More preferably, 0.86 ≦ MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) ≦ 0.98.

<諸特性>
本実施の形態のガラス基板は、以下のような諸特性を有していることが好ましい。
<Characteristics>
The glass substrate of the present embodiment preferably has the following characteristics.

<ヤング率および密度>
本実施の形態のガラス基板は、上記のようなガラス組成を有することにより、ヤング率が90GPa以上101GPa以下であり、かつ密度が2.49g/cm3以上2.61g/cm3以下とすることができる。ヤング率が90GPa未満の場合、フラッタリング特性の低下が生じる場合がある。また、ヤング率が101GPaを超える場合、加工性に課題が生じる場合がある。また、密度が2.49g/cm3未満である場合、剛性の低下が生じやすくなる場合がある。また、密度が2.61g/cm3を超える場合、モーターへの負荷が増大しハードディスクドライブの発熱が過大となる場合がある。
<Young's modulus and density>
The glass substrate of the present embodiment has a glass composition as described above, so that the Young's modulus is 90 GPa or more and 101 GPa or less, and the density is 2.49 g / cm 3 or more and 2.61 g / cm 3 or less. Can do. When the Young's modulus is less than 90 GPa, fluttering characteristics may be deteriorated. Moreover, when Young's modulus exceeds 101 GPa, a problem may arise in workability. Moreover, when the density is less than 2.49 g / cm 3 , the rigidity may be easily reduced. If the density exceeds 2.61 g / cm 3 , the load on the motor increases and the heat generation of the hard disk drive may become excessive.

より好ましいヤング率は、95GPa以上98GPa以下であり、より好ましい密度は2.52g/cm3以上2.57g/cm3以下である。More preferred Young's modulus is less than 95 GPa 98GPa, more preferably the density is less than 2.52 g / cm 3 or more 2.57 g / cm 3.

<ガラス転移温度>
本実施の形態のガラス基板は、ガラス転移温度(Tg)が635℃以上725℃以下であることが好ましい。Tgが635℃未満の場合、熱アシスト方式用途向けのメディア(情報記録媒体)製造工程において、成膜工程の加熱で変形が生じる場合がある。また、Tgが725℃を超える場合、ガラスブランクスの成形工程において良好なブランクス形状が得られず、最終的なガラス基板形状、ひいてはメディアの動的特性に悪影響を及ぼす。より好ましいガラス転移温度(Tg)は、650℃以上710℃以下である。
<Glass transition temperature>
The glass substrate of this embodiment preferably has a glass transition temperature (Tg) of 635 ° C. or higher and 725 ° C. or lower. When Tg is less than 635 ° C., the medium may be deformed by heating in the film forming process in the medium (information recording medium) manufacturing process for the heat assist type application. Moreover, when Tg exceeds 725 degreeC, a favorable blanks shape is not obtained in the shaping | molding process of a glass blank, and it has a bad influence on the final glass substrate shape and by extension, the dynamic characteristic of media. A more preferable glass transition temperature (Tg) is 650 ° C. or higher and 710 ° C. or lower.

<化学強化処理>
本実施の形態のガラス基板は、その表面が化学強化処理されていることが好ましい。このような化学強化処理は、通常、ガラス基板の製造工程において、ガラス基板をアルカリを含む溶液に浸漬することにより実行することができる。より具体的には、化学強化処理とは、ガラス基板に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンに置換するイオン交換処理である。
<Chemical strengthening treatment>
As for the glass substrate of this Embodiment, it is preferable that the surface is chemically strengthened. Such a chemical strengthening process can be normally performed by immersing a glass substrate in the solution containing an alkali in the manufacturing process of a glass substrate. More specifically, the chemical strengthening treatment is an ion exchange treatment in which alkali metal ions such as lithium ions and sodium ions contained in the glass substrate are replaced with alkali metal ions such as potassium ions having a larger ion radius.

このようにガラス基板の表面が化学強化処理されると、イオン半径の違いによって生じる歪みにより、イオン交換された領域を中心に圧縮応力が発生し、その領域においてガラス基板表面の硬度が増加するため好ましい。   When the surface of the glass substrate is thus chemically strengthened, compressive stress is generated around the ion-exchanged region due to distortion caused by the difference in ion radius, and the hardness of the glass substrate surface increases in that region. preferable.

<製造方法>
本実施の形態のガラス基板の製造方法は、特に限定はなく従来公知の製造方法を用いることができる。たとえば、ガラス基板を構成する各成分の原料として各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等が使用され、所望の割合に秤量され、粉末で充分に混合して調合原料とされる。
<Manufacturing method>
The manufacturing method of the glass substrate of this Embodiment does not have limitation in particular, A conventionally well-known manufacturing method can be used. For example, the corresponding oxides, carbonates, nitrates, hydroxides, etc. are used as raw materials for the respective components constituting the glass substrate, weighed to a desired ratio, and mixed well with powder to obtain a raw material for preparation. .

そして、この調合原料が、たとえば1300〜1550℃に加熱された電気炉中の白金坩堝等に投入され、溶融清澄後、撹拌均質化して予め加熱された鋳型に鋳込まれ、徐冷してガラスブロックとされる。次に、ガラス転移温度付近の温度で1〜3時間保持された後に、徐冷して歪み取りが行われる。   Then, this blended raw material is put into, for example, a platinum crucible in an electric furnace heated to 1300 to 1550 ° C., melted and refined, stirred and homogenized, cast into a preheated mold, and gradually cooled to glass. It is considered as a block. Next, after being held at a temperature near the glass transition temperature for 1 to 3 hours, it is gradually cooled to remove strain.

続いて、この得られたガラスブロックは、円盤形状にスライスされて、内周および外周を同心円としてコアドリルを用いて切り出される。あるいは、溶融ガラスをプレス成形して円盤状に成形される。そして、このようにして得られた円盤状のガラス基板は、さらにその両面を粗研磨および研磨された後、水、酸、アルカリの少なくとも1つの液で洗浄されて最終的なガラス基板とされる。   Subsequently, the obtained glass block is sliced into a disk shape, and is cut out using a core drill with the inner and outer circumferences being concentric. Alternatively, the molten glass is press-molded and formed into a disk shape. The disk-shaped glass substrate thus obtained is further subjected to rough polishing and polishing on both surfaces, and then washed with at least one of water, acid, and alkali to form a final glass substrate. .

なお、本実施の形態のガラス基板は、上記の製造工程において、両面を粗研磨および研磨を行なった後に、硝酸カリウム(50wt%)と硝酸ナトリウム(50wt%)の混合溶液に浸漬させることにより化学強化処理を行なってもよい。また、その後、必要に応じて一部の化学強化層を除去してもよい。   The glass substrate of the present embodiment is chemically strengthened by immersing it in a mixed solution of potassium nitrate (50 wt%) and sodium nitrate (50 wt%) after rough polishing and polishing both surfaces in the above manufacturing process. Processing may be performed. Thereafter, a part of the chemical strengthening layer may be removed as necessary.

このようにして製造された本実施の形態のガラス基板は、その後記録層としての磁性層(磁性膜)が形成され、情報記録媒体(磁気記録媒体)とされる。この情報記録媒体は、ハードディスクドライブ装置等の情報記録装置に組み込んで使用することができる。   The glass substrate of the present embodiment manufactured in this way is then formed with a magnetic layer (magnetic film) as a recording layer, and is used as an information recording medium (magnetic recording medium). This information recording medium can be used by being incorporated in an information recording device such as a hard disk drive device.

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.

<実施例1〜30および比較例1〜8>
表1〜表4に示したガラス組成(構成成分および比)となるように、所定量の原料粉末を白金るつぼに秤量して入れ、混合した後、電気炉中で1500℃で溶解した。原料が充分に溶解した後、白金製の撹拌羽をガラス融液に挿入し、1時間撹拌した。その後、撹拌羽を取り出し、3時間静置した後、治具に融液を流しこむことによってガラスブロックを得た。その後、各ガラスのガラス転移温度付近でガラスブロックを2時間保持した後、徐冷して歪取りを行なった。
<Examples 1-30 and Comparative Examples 1-8>
A predetermined amount of raw material powder was weighed into a platinum crucible and mixed so as to have the glass compositions (components and ratios) shown in Tables 1 to 4, and then melted at 1500 ° C. in an electric furnace. After the raw materials were sufficiently dissolved, a platinum stirring blade was inserted into the glass melt and stirred for 1 hour. Thereafter, the stirring blade was taken out and allowed to stand for 3 hours, and then the melt was poured into a jig to obtain a glass block. Thereafter, the glass block was held for 2 hours near the glass transition temperature of each glass, and then slowly cooled to remove strain.

得られたガラスブロックを厚み約1mmの2.5インチの円盤形状にスライスし、内周、外周を同心円としてカッターを用いて切り出した。そして、両面を粗研磨および研磨を行ない、その後洗浄を行なうことにより、表1〜表4に示したガラス組成を有する実施例および比較例の厚みが0.635mmであるガラス基板を作製した。このようにして作製したガラス基板について下記物性評価を行なった。その結果を表1〜4に示す。   The obtained glass block was sliced into a 2.5-inch disk shape having a thickness of about 1 mm, and the inner and outer circumferences were concentrically cut out using a cutter. Then, both surfaces were subjected to rough polishing and polishing, and then washed, thereby producing glass substrates in which the thicknesses of Examples and Comparative Examples having the glass compositions shown in Tables 1 to 4 were 0.635 mm. The following physical property evaluation was performed on the glass substrate thus prepared. The results are shown in Tables 1-4.

なお、表1〜表4中、「FM」とは「SiO2+Al23+B23」を示し、「Li2O/R2O」とは「Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)」を示し、「MgO/RO」とは「MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)」を示す。In Tables 1 to 4, “FM” represents “SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ”, and “Li 2 O / R 2 O” represents “Li 2 O / (Li 2 O + Na 2). “O + K 2 O)”, and “MgO / RO” means “MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO)”.

<ガラス転移温度(Tg)>
示差熱測定装置(商品名:「EXSTAR6000」、セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、室温〜900℃の温度範囲を10℃/minの昇温速度で、粉末状に調整したガラス試料(上記で作製した各ガラス基板を粉砕して作製)を加熱し測定することにより、ガラス転移温度を測定した。その結果を表5〜8の「Tg」の項に示す。
<Glass transition temperature (Tg)>
Using a differential heat measuring device (trade name: “EXSTAR6000”, manufactured by Seiko Instruments Inc.), a glass sample (prepared above) adjusted to a powder form at a temperature rising rate of 10 ° C./min. The glass transition temperature was measured by heating and measuring each glass substrate. The results are shown in the “Tg” section of Tables 5-8.

<ヤング率および密度>
JIS R 1602ファインセラミックスの弾性試験方法の動的弾性率試験方法に準じて、自由共振式弾性率測定装置(商品名:「JE-RT」、日本テクノプラス社製)を用いて、上記で作製した各ガラス基板についてヤング率を測定するとともに、アルキメデス法により密度を測定した。その結果を表5〜8に示す。
<Young's modulus and density>
According to the dynamic elastic modulus test method of the elastic test method of JIS R 1602 fine ceramics, it is produced as described above using a free resonance elastic modulus measuring device (trade name: “JE-RT”, manufactured by Nippon Techno-Plus). The Young's modulus was measured for each of the glass substrates, and the density was measured by the Archimedes method. The results are shown in Tables 5-8.

<表面粗さ>
各ガラス基板の表面粗さを、原子間力顕微鏡(AFM)(商品名:「NanoscopeV」、Veeco社製)を用いて計測した。計測範囲を10nmとし、四方の表面粗さが1.2nm以下の場合を「A」、1.2nmを超える場合を「B」と評価した。その結果を表5〜8に示す。
<Surface roughness>
The surface roughness of each glass substrate was measured using an atomic force microscope (AFM) (trade name: “Nanoscope V”, manufactured by Veeco). The case where the measurement range was 10 nm and the surface roughness in all directions was 1.2 nm or less was evaluated as “A”, and the case where the surface roughness exceeded 1.2 nm was evaluated as “B”. The results are shown in Tables 5-8.

<フラッタリング>
レーザードップラー変位計(商品名:「OFV-151」、ポリテックジャパン社製)を用いて、各ガラス基板のフラッタリング量を計測した。該計測は大気圧下の開放空間中で行ない、単独のガラス基板を内径端部から2mmの位置で同心円状に上下面からクランプし、回転数5400rpmで回転させ、記録面に垂直な方向の振幅を計測した。計測周波数帯域は10kHzとし、得られた振幅の周波数スペクトルをとることにより、500Hz以上での最大値が1.1nm未満の場合を「S」、1.1nm以上1.2nm未満の場合を「A」、1.2nm以上1.6nm未満の場合を「B」、1.6nm以上1.8nm未満の場合を「C」、1.8nm以上の場合を「D」とした。その結果を表5〜8の「フラッタリング」の項に示す。表5〜8より明らかなように、ヤング率が高いものは、フラッタリング量が少なくなること(すなわちフラッタリング特性が良好であること)が確認できる。
<Fluttering>
The fluttering amount of each glass substrate was measured using a laser Doppler displacement meter (trade name: “OFV-151”, manufactured by Polytech Japan). The measurement is performed in an open space under atmospheric pressure. A single glass substrate is concentrically clamped from the upper and lower surfaces at a position 2 mm from the inner diameter end, rotated at a rotational speed of 5400 rpm, and the amplitude in the direction perpendicular to the recording surface. Was measured. The measurement frequency band is 10 kHz, and by taking the frequency spectrum of the obtained amplitude, the case where the maximum value at 500 Hz or more is less than 1.1 nm is “S”, and the case where the maximum value is 1.1 nm or more and less than 1.2 nm is “A”. “B” when 1.2 nm or more and less than 1.6 nm, “C” when 1.6 nm or more and less than 1.8 nm, and “D” when 1.8 nm or more. The results are shown in the “Fluttering” section of Tables 5-8. As is clear from Tables 5 to 8, it can be confirmed that the amount of fluttering is small (that is, the fluttering characteristics are good) when the Young's modulus is high.

<HDDテスト>
各実施例および各比較例のガラス基板に対して、Fe−Pt合金をスパッタリング法により成膜し、その後、熱処理(600℃、1時間)を行なうことにより、ガラス基板の表面に磁性膜を形成した磁気記録媒体を作製した。そして、この磁気記録媒体を、磁気記録ドライブであるハードディスクドライブ(HDD)に組み込み、リードライトアナライザ(商品名:「RWA1632」、GUZIK社製)およびスピンスタンド(商品名:「S1701MP」、GUZIK社製)を用いてSNR(シグナルノイズ比)を確認し、SNRが20dB以上のものを「A」、16dB以上20dB未満のものを「B」、16dB未満のものを「C」とした。その結果を表5〜8の「SNR」の項に示す。「A」、「B」、「C」の順に従ってガラス基板の耐熱性が悪化することを示している。磁気記録媒体の製造時の熱処理とSNRとは相関関係にあるためである。
<HDD test>
A magnetic film is formed on the surface of the glass substrate by forming an Fe—Pt alloy film on the glass substrate of each example and each comparative example by sputtering, and then performing heat treatment (600 ° C., 1 hour). A magnetic recording medium was prepared. Then, this magnetic recording medium is incorporated into a hard disk drive (HDD) that is a magnetic recording drive, and a read / write analyzer (trade name: “RWA1632”, manufactured by GUZIK) and a spin stand (trade name: “S1701MP”, manufactured by GUZIK) ) Was used to confirm the SNR (signal-to-noise ratio), and those with an SNR of 20 dB or more were designated as “A”, those with 16 dB or more but less than 20 dB as “B”, and those with less than 16 dB as “C”. The results are shown in the “SNR” section of Tables 5-8. It shows that the heat resistance of the glass substrate deteriorates in the order of “A”, “B”, and “C”. This is because the heat treatment at the time of manufacturing the magnetic recording medium and the SNR have a correlation.

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表5〜表8より明らかなように、実施例のガラス基板は比較例のガラス基板に比し、優れた耐熱性を有するとともに高いヤング率を示し、かつ低密度であるという優れた効果を有することが確認できた。   As is clear from Tables 5 to 8, the glass substrates of the examples have excellent heat resistance, high Young's modulus, and low density as compared with the glass substrates of the comparative examples. I was able to confirm.

比較例1のガラス基板は、ヤング率が低く、フラッタリングの影響で記録特性が良好ではなかった。比較例2および比較例7のガラス基板は、材料のガラス化に困難が生じたため、基板の評価ができなかった。比較例5のガラス基板も、プレス成形できなかったため、基板の評価ができなかった。比較例3および比較例4のガラス基板は、密度が大きいことから、ディスクの回転に伴う消費電力の上昇が見られた。比較例6のガラス基板は、基板の化学的な耐久性が劣っていた。比較例8のガラス基板は、ヤング率が低く、フラッタリングの影響で記録特性が良好ではなかった。   The glass substrate of Comparative Example 1 had a low Young's modulus, and the recording characteristics were not good due to the influence of fluttering. Since the glass substrates of Comparative Example 2 and Comparative Example 7 were difficult to vitrify the material, the substrates could not be evaluated. Since the glass substrate of Comparative Example 5 could not be press molded, the substrate could not be evaluated. Since the glass substrates of Comparative Example 3 and Comparative Example 4 have a high density, an increase in power consumption accompanying the rotation of the disk was observed. The glass substrate of Comparative Example 6 was inferior in chemical durability of the substrate. The glass substrate of Comparative Example 8 had a low Young's modulus, and the recording characteristics were not good due to the influence of fluttering.

以上のように本発明の実施の形態および実施例について説明を行なったが、上述の各実施の形態および実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。   Although the embodiments and examples of the present invention have been described as described above, it is also planned from the beginning to appropriately combine the configurations of the above-described embodiments and examples.

今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   It should be understood that the embodiments and examples disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

Claims (6)

mol%表示で、
SiO2:58〜67%
Al23:6.5〜13%
23:0〜3%
Li2O:2.3〜6.5%
Na2O:0.2〜2.5%
2O:0〜2%
MgO:14〜23%
CaO:0.6〜4.6%
SrO:0〜3%
BaO:0〜3%
ZnO:0〜3%
ZrO2:0〜3%
CeO2:0〜2%
SnO2:0〜2%
TiO2:0〜4%
Nb25:0〜3%
となる含有範囲を満たし、かつ
mol%表示で、
SiO2+Al23+B23:67〜76%
となる条件を満たし、かつ
0.6≦Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)≦0.96、および
0.78≦MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)≦0.98
という比を満たす、ガラス組成からなるガラス基板。
In mol% display
SiO 2 : 58 to 67%
Al 2 O 3 : 6.5 to 13%
B 2 O 3 : 0 to 3%
Li 2 O: 2.3 to 6.5%
Na 2 O: 0.2 to 2.5%
K 2 O: 0 to 2%
MgO: 14-23%
CaO: 0.6 to 4.6%
SrO: 0 to 3%
BaO: 0 to 3%
ZnO: 0 to 3%
ZrO 2 : 0 to 3%
CeO 2 : 0 to 2%
SnO 2 : 0 to 2%
TiO 2: 0~4%
Nb 2 O 5 : 0 to 3%
Satisfying the content range and in terms of mol%,
SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 : 67 to 76%
And 0.6 ≦ Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ≦ 0.96 and 0.78 ≦ MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) ≦ 0.98
A glass substrate made of a glass composition that satisfies the above ratio.
前記ガラス基板は、ヤング率が90GPa以上101GPa以下であり、かつ密度が2.49g/cm3以上2.61g/cm3以下である、請求項1に記載のガラス基板。The glass substrate according to claim 1, wherein the glass substrate has a Young's modulus of 90 GPa to 101 GPa and a density of 2.49 g / cm 3 to 2.61 g / cm 3 . 前記ガラス基板は、ガラス転移温度が635℃以上725℃以下である、請求項1または2に記載のガラス基板。   The glass substrate according to claim 1, wherein the glass substrate has a glass transition temperature of 635 ° C. or more and 725 ° C. or less. 前記ガラス基板は、その厚みt(単位:mm)と外径d(単位:mm)の間にt/d≦0.011の関係がある、請求項1〜3のいずれかに記載のガラス基板。   The glass substrate according to claim 1, wherein the glass substrate has a relationship of t / d ≦ 0.011 between a thickness t (unit: mm) and an outer diameter d (unit: mm). . 前記ガラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板である、請求項1〜4のいずれかに記載のガラス基板。   The glass substrate according to claim 1, wherein the glass substrate is a glass substrate for a magnetic recording medium. 前記ガラス基板は、その表面が化学強化処理されている、請求項1〜5のいずれかに記載のガラス基板。   The glass substrate according to claim 1, wherein the surface of the glass substrate is chemically strengthened.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9139469B2 (en) 2012-07-17 2015-09-22 Corning Incorporated Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming
WO2018088563A1 (en) * 2016-11-14 2018-05-17 Hoya株式会社 Glass for magnetic recording medium substrates, magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, and glass spacer for magnetic recording/reproducing apparatuses
CN107117814B (en) * 2017-03-23 2020-02-21 彩虹集团(邵阳)特种玻璃有限公司 Alkali-containing high-strain-point glass and preparation method thereof
JP7165655B2 (en) * 2017-06-09 2022-11-04 Hoya株式会社 Glass for information recording medium substrate, information recording medium substrate, information recording medium and glass spacer for recording/reproducing device
CN108298811B (en) * 2018-04-25 2021-09-07 成都光明光电股份有限公司 Glass composition
JP6999806B2 (en) 2018-05-16 2022-01-19 Hoya株式会社 Magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, glass spacer for magnetic recording / playback device, and magnetic recording / playback device
US11524918B2 (en) 2018-11-26 2022-12-13 Owens Corning Intellectual Capital, Llc High performance fiberglass composition with improved specific modulus
US11306021B2 (en) 2018-11-26 2022-04-19 Owens Coming Intellectual Capital, LLC High performance fiberglass composition with improved elastic modulus
JP7229357B2 (en) * 2019-07-22 2023-02-27 Hoya株式会社 Glass for magnetic recording medium substrate or glass spacer for magnetic recording/reproducing device, magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, glass spacer for magnetic recording/reproducing device, and magnetic recording/reproducing device
CN111138080B (en) * 2020-02-13 2022-04-12 崇州市蜀玻科学仪器有限责任公司 High borosilicate glass and preparation method thereof

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0953548B1 (en) * 1997-07-30 2006-05-03 Hoya Corporation Method of producing glass substrate for information recording medium
JP4086210B2 (en) * 1998-04-17 2008-05-14 Hoya株式会社 Substrate for information recording medium
JP4043171B2 (en) * 1999-07-07 2008-02-06 Hoya株式会社 Method for producing crystallized glass for information recording disk
JP2001076336A (en) * 1999-09-08 2001-03-23 Hoya Corp Glass substrate for information recording medium and information recording medium using the same
JP4213077B2 (en) * 2004-04-28 2009-01-21 Hoya株式会社 GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM AND ITS MANUFACTURING METHOD
JP5133964B2 (en) * 2009-11-06 2013-01-30 湖州大享玻璃制品有限公司 MgO—Al 2 O 3 —SiO 2 crystalline glass and crystallized glass, and method for producing the crystalline glass and crystallized glass
WO2012001914A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 コニカミノルタオプト株式会社 Glass substrate for information recording medium
US8394516B2 (en) * 2010-10-29 2013-03-12 Hoya Corporation Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium

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