JPWO2012108164A1 - Laminating apparatus and laminating system using the same - Google Patents

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Abstract

本発明は、ワークのラミネート処理や搬出入が短時間で効率がよく、よりコンパクトで安価なラミネート装置及びこれを用いたラミネート処理システムを提供することを目的としている。本発明のラミネート装置は、上部チャンバ部材40と、当該上部チャンバ部材40の下方に設置された熱板20とを備え、熱板20は、熱板20上に搬入された薄板状のワークWを加熱するものであり、上部チャンバ部材40は、熱板20から離間した上昇位置と、熱板20に当接してチャンバ空間Sを形成する下降位置との間で近接離間移動可能であり、上部チャンバ部材40の下面側に、熱板20上に搬入出されるワークWを保持する複数のアーム44が設置されており、当該アーム44が格納される凹部が熱板20の上面に形成されている。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a laminating apparatus and a laminating system using the laminating apparatus that are more compact and inexpensive in that the laminating process and loading / unloading of a work are efficient in a short time. The laminating apparatus of the present invention includes an upper chamber member 40 and a hot plate 20 installed below the upper chamber member 40, and the hot plate 20 includes a thin plate-like workpiece W carried on the hot plate 20. The upper chamber member 40 is heated, and can move close to and away from an ascending position separated from the hot plate 20 and a lowered position where the upper chamber member 40 contacts the hot plate 20 to form the chamber space S. On the lower surface side of the member 40, a plurality of arms 44 for holding the workpiece W carried in and out of the hot plate 20 are installed, and a recess for storing the arm 44 is formed on the upper surface of the hot plate 20.

Description

本発明は、積層された薄板材に対してラミネート処理を施すラミネート装置及びこれを用いたラミネート処理システムに関する。   The present invention relates to a laminating apparatus for laminating laminated thin plate materials and a laminating system using the laminating apparatus.

従来、太陽電池ラミネート処理装置としては、処理装置の前後にコンベアを設け、このコンベアによって装置へのワークの搬出入を行うものもある。一般的にラミネートの処理時間には1回に十数分程度の時間がかかることから、生産性を上げるために3枚同時に処理するものなどがある(特許文献1参照)。
また、枚葉式のラミネート処理装置としては、下チャンバに加熱板を収容し、上チャンバにダイヤフラムを取り付け、前記加熱板に載置した基板を上下チャンバで密閉し処理を行うものもある。(特許文献2参照)
枚葉式ラミネータを含め従来の真空加熱処理を施す装置の多くは、上下チャンバを備え、基板の出し入れは加熱板から出没するリフトピンによって基板の出し入れを行っていた。(特許文献3参照)
コンベア搬送式の装置は、平面に広く占有スペースが必要であり、他方、上下チャンバからなる枚葉式装置は、上下方向に大きな占有スペースが必要であるため、従来のラミネータ装置は大型なものであった。
枚葉式のラミネータとしてコンパクトな構造になったものとして例えば、ヒータを含む第1のユニットと、第1のユニット上に載置された積層対象物に上から圧力を付与するダイヤフラムを含む第2のユニットとを備えたラミネート装置がある。この装置は、下チャンバを無くして、ヒータと上チャンバからなるコンパクトな構造である(特許文献4参照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a solar cell laminating apparatus, there is a solar cell laminating apparatus in which a conveyor is provided before and after the processing apparatus, and workpieces are carried into and out of the apparatus by this conveyor. In general, since the processing time of the laminate takes about ten and several minutes at a time, there are some that simultaneously process three sheets in order to increase productivity (see Patent Document 1).
Further, as a single-wafer type laminating apparatus, there is an apparatus in which a heating plate is accommodated in a lower chamber, a diaphragm is attached to the upper chamber, and a substrate placed on the heating plate is sealed in an upper and lower chamber for processing. (See Patent Document 2)
Many conventional apparatuses that perform vacuum heat treatment including a single-wafer laminator are provided with upper and lower chambers, and the substrate is taken in and out by lift pins that are raised and lowered from the heating plate. (See Patent Document 3)
Conveyor-conveying devices require a large space on the plane, while single-wafer devices consisting of upper and lower chambers require a large occupied space in the vertical direction, so conventional laminator devices are large. there were.
As a single-wafer type laminator having a compact structure, for example, a first unit including a heater and a second including a diaphragm for applying pressure from above to the stacked object placed on the first unit There is a laminating apparatus equipped with a unit. This apparatus has a compact structure including a heater and an upper chamber without the lower chamber (see Patent Document 4).

特開2008−126407号公報JP 2008-126407 A 特許3890206号公報Japanese Patent No. 3890206 特開2009−68037号公報JP 2009-68037 A 特開2007−112031号公報JP 2007-112031 A

ところが、特許文献1の装置では、基板を搬出入する際、ヒータから治具を一旦取り外し、取り外した治具に基板を載せたり外したりする必要がある。装置自体はコンパクトになったものの、基板の出し入れは極めて煩わしい構成であり、量産向きの装置では無い。
また、特許文献2の装置では、一度に複数枚の処理を行うことができるが、最初に搬入された基板を、最後に搬入される基板の搬入が完了するまでの間、待機させなければならず、効率的に搬出入することができない。
また、特許文献3、4の装置のように上下チャンバ等で構成したチャンバ空間で真空処理を行う装置では、真空引きのための空間が広いため、処理時間が長くなってしまう。
However, in the apparatus of Patent Document 1, when a substrate is carried in and out, it is necessary to once remove the jig from the heater and place or remove the substrate on the removed jig. Although the apparatus itself has become compact, it is very troublesome to put in and out the substrate, and is not suitable for mass production.
In the apparatus of Patent Document 2, a plurality of processes can be performed at one time, but the first loaded substrate must be kept waiting until the loading of the last loaded substrate is completed. Therefore, it cannot be carried in and out efficiently.
In addition, in an apparatus that performs vacuum processing in a chamber space constituted by upper and lower chambers and the like, as in the apparatuses of Patent Documents 3 and 4, the processing time becomes long because the space for vacuuming is wide.

本願発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、基板のラミネート処理や搬出入を短時間で効率よく行い、よりコンパクトで安価な構造のラミネート装置及びこれを用いたラミネート処理システムを提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of such problems, and performs a laminating process and a loading / unloading of a substrate efficiently in a short time, and a laminating apparatus having a more compact and inexpensive structure and a laminating system using the laminating apparatus. The purpose is to provide.

本願に係る発明は、薄板状のワークに対してラミネート処理を施すラミネート装置において、ダイヤフラムが、その下面側に装着された上部チャンバ部材と、前記上部チャンバ部材の下方に設置され、その上面に前記ワークが載置されるワーク載置部材と、を備え、前記上部チャンバ部材及び前記ワーク載置部材のうち少なくとも一方は、前記上部チャンバ部材と前記ワーク載置部材とが離間した離間位置と、当該ワーク載置部材と上部チャンバ部材とが当接され、その内部にチャンバ空間を形成する当接位置と、の間で相対的に近接離間移動可能であり、前記上部チャンバ部材の下面側に、前記ワーク載置部材上に搬入出される前記ワークを保持するためのアームが設けられたことを特徴とするラミネート装置である。
このように、上部チャンバ部材の下面側にワーク保持用の複数のアームを設置したので、上部チャンバ部材がワーク載置部材に対して離間されると、アームに保持されたワークもワーク載置部材に対して離間した状態になる。つまり、ワーク保持用のアームの駆動手段を別途設けることなく、コンパクトで簡単な構成を維持しつつも、アームに保持されたワークを熱板に対して近接離間移動させることができる。
The invention according to the present application is a laminating apparatus that performs laminating processing on a thin plate-like workpiece, wherein a diaphragm is installed on the lower surface side of the laminating device, and is installed below the upper chamber member, A workpiece placement member on which a workpiece is placed, and at least one of the upper chamber member and the workpiece placement member is a separated position where the upper chamber member and the workpiece placement member are separated from each other, and The workpiece placement member and the upper chamber member are brought into contact with each other, and can be moved relatively close to and away from the contact position that forms a chamber space therein. The laminating apparatus is provided with an arm for holding the work carried in and out on a work placing member.
As described above, since the plurality of arms for holding the work are installed on the lower surface side of the upper chamber member, when the upper chamber member is separated from the work placing member, the work held by the arm is also moved to the work placing member. It will be in the state separated from. That is, it is possible to move the work held by the arm close to and away from the hot plate while maintaining a compact and simple configuration without separately providing a driving means for the work holding arm.

前記ワーク載置部材は、その上面に、複数の前記アームをそれぞれ格納するための凹部を有する。
このような凹部を形成すれば、上部チャンバ部材とワーク載置部材とでチャンバ空間を形成する際、この凹部にアームをスムーズに格納して迅速且つ確実に気密性に優れたチャンバ空間を形成することができる。なお、アームを格納するための構造としては、上述したワーク載置部材の凹部を形成する構造の他、例えば、上部チャンバ部材に退避部を形成する構造でもよい。上部チャンバ部材をワーク載置部材に当接させる際に、アームが上部チャンバ部材側に退避移動して当該退避部に格納されれば、迅速且つ確実に気密性に優れたチャンバ空間を形成することができる。
The workpiece mounting member has a recess for storing the plurality of arms on the upper surface thereof.
If such a concave portion is formed, when the chamber space is formed by the upper chamber member and the workpiece mounting member, the arm is smoothly stored in the concave portion to form a chamber space excellent in airtightness quickly and reliably. be able to. The structure for storing the arm may be, for example, a structure in which a retracting portion is formed in the upper chamber member in addition to the structure in which the concave portion of the workpiece placement member is formed. When the upper chamber member is brought into contact with the workpiece mounting member, if the arm is retracted to the upper chamber member side and stored in the retracting portion, a chamber space having excellent airtightness can be formed quickly and reliably. Can do.

また、前記ワーク載置部材は、その上面に載置された前記ワークを加熱するためのヒータを有する。
このように、従来の装置では、チャンバ空間内に設置された加熱手段にヒータを設置していたのでヒータ設置やメンテナンス時の作業性は必ずしも良くなかった。この点、ワーク載置部材に直接ヒータを設置する構造であれば、配線の取り回しが容易であるなどヒータを簡単に設置することができ、しかもメンテナンス性にも優れる。
Moreover, the said workpiece | work mounting member has a heater for heating the said workpiece | work mounted in the upper surface.
As described above, in the conventional apparatus, since the heater is installed in the heating means installed in the chamber space, the workability at the time of heater installation and maintenance is not always good. In this respect, if the structure is such that the heater is directly installed on the workpiece mounting member, the heater can be easily installed, such as easy wiring, and excellent maintainability.

ダイヤフラムが、その下面側に装着された上部チャンバ部材と、当該上部チャンバ部材の下方に設置された熱板とを備えており、当該熱板は、当該熱板上に搬入された薄板状のワークを加熱するものであり、前記上部チャンバ部材及び前記熱板のうち少なくとも一方は、前記上部チャンバ部材と前記熱板とが離間した離間位置と、前記上部チャンバ部材が前記熱板に当接して当該熱板と上部チャンバ部材との間にチャンバ空間を形成する当接位置との間で相対的に近接離間移動可能であり、前記上部チャンバ部材の下面側に、前記熱板上に搬入出される前記ワークを保持するための複数のアームを設置し、前記熱板の上面に、当該熱板に当接した前記上部チャンバ部材の前記アームが格納される凹部を形成したことを特徴とするラミネート装置である。
このように、本願発明に係るラミネート装置では、熱板と上部チャンバ部材とでチャンバ空間を形成しているので、チャンバ空間を非常に狭くでき、真空引きの時間が短縮される。これにより、基板の処理時間が短縮される。
また、上部チャンバ部材の下面側にワーク保持用の複数のアームを設置したので、上部チャンバ部材が熱板に対して離間されると、アームに保持されたワークも熱板に対して離間した状態になる。つまり、ワーク保持用のアームの駆動手段を別途設けることなく、コンパクトで簡単な構成を維持しつつも、アームに保持されたワークを熱板に対して近接離間移動させることができる。
The diaphragm includes an upper chamber member mounted on the lower surface side of the diaphragm, and a hot plate installed below the upper chamber member, and the hot plate is a thin plate-like work carried on the hot plate. At least one of the upper chamber member and the hot plate is a spaced position where the upper chamber member and the hot plate are separated from each other, and the upper chamber member abuts on the hot plate and The heat plate and the upper chamber member are relatively close to and away from a contact position that forms a chamber space, and are carried into and out of the heat plate on the lower surface side of the upper chamber member. A laminating apparatus characterized in that a plurality of arms for holding a work are installed, and a concave portion for storing the arms of the upper chamber member in contact with the hot plate is formed on the upper surface of the hot plate. It is.
Thus, in the laminating apparatus according to the present invention, since the chamber space is formed by the hot plate and the upper chamber member, the chamber space can be made very narrow and the time for evacuation is shortened. Thereby, the processing time of a board | substrate is shortened.
In addition, since a plurality of arms for holding the work are installed on the lower surface side of the upper chamber member, when the upper chamber member is separated from the hot plate, the work held by the arm is also separated from the hot plate. become. That is, it is possible to move the work held by the arm close to and away from the hot plate while maintaining a compact and simple configuration without separately providing a driving means for the work holding arm.

前記熱板から上方に離間した位置で前記ワークを保持する複数のプランジャピンを更に備えてもよい。この場合、各プランジャピンを、前記熱板の上面に形成された複数の穴内に、上方に突出させ且つ出没可能に設置すると共に、弾性部材によって上方に付勢する。
このようなプランジャピンがあれば、ワークを熱板から離した状態で加熱(予熱)することができ、ワークを熱板に接触させた状態で加熱(予熱及び本加熱)する場合に比べて、ワークの温度上昇勾配を緩やかにすることができ、ワークの反りの発生が抑制される。ワークの反りを抑制することができれば、その後の加熱における加熱ムラの発生をより容易に防止することができ、ワークを効率的に加熱することができる。また、ワークの温度上昇が急激だと、この後のラミネート処理時の加圧でワークに割れが発生するが、緩やかな温度上昇によりワークの割れを防止できる。このような効果を有するプランジャピンを、ピンとバネなどの弾性部材で簡単且つコンパクトに構成したので、故障しにくく且つメンテナンス性に優れる。
You may further provide several plunger pins which hold | maintain the said workpiece | work in the position spaced apart from the said hot platen. In this case, each plunger pin is installed in a plurality of holes formed on the upper surface of the hot plate so as to protrude upward and retractably, and is urged upward by an elastic member.
With such a plunger pin, the workpiece can be heated (preheated) in a state separated from the hot plate, compared with the case where the workpiece is heated (preheated and main heated) in contact with the hot plate, The temperature rise gradient of the workpiece can be made gentle, and the occurrence of workpiece warpage is suppressed. If the warpage of the workpiece can be suppressed, the occurrence of uneven heating during subsequent heating can be more easily prevented, and the workpiece can be efficiently heated. In addition, when the temperature rise of the workpiece is rapid, the workpiece is cracked by the pressurization during the subsequent laminating process, but the workpiece can be prevented from cracking by the moderate temperature rise. Since the plunger pin having such an effect is simply and compactly configured by an elastic member such as a pin and a spring, it is difficult to break down and is excellent in maintainability.

前記熱板は、その上面中央部に配置されたワーク加熱部と、その下面に設置された加熱用のヒータとを備えているものである。この場合に、前記熱板の上面であって前記ワーク加熱部の外周部に、当該ワーク加熱部に載置されたワークの外周縁部に沿うように溝を形成してもよい。
本願発明に係るラミネート装置でラミネート処理するワークとしては、例えば、接着剤を挟む状態で積層されたガラス基板を挙げることができる。このようなワークのラミネート処理では、ガラス基板の外周縁から接着剤が流出するおそれがある。この点に関して、上述したような溝があれば、接着剤が流出したとしてもこの溝内に接着剤が溜まるため、接着剤がガラス基板に付着するのが防止される。ワーク加熱部表面の汚れが防止されれば、ワーク加熱部の清掃やメンテナンスに要する時間を短縮でき、延いてはワークの処理時間を短縮できる。また、溝構造は、簡単な構造であり、メンテナンス性に優れる。
The said hot plate is provided with the workpiece | work heating part arrange | positioned in the upper surface center part, and the heater for a heating installed in the lower surface. In this case, a groove may be formed on the upper surface of the hot plate and on the outer periphery of the work heating unit so as to follow the outer peripheral edge of the work placed on the work heating unit.
As a workpiece to be laminated by the laminating apparatus according to the present invention, for example, a glass substrate laminated with an adhesive interposed therebetween can be exemplified. In such a workpiece laminating process, the adhesive may flow out from the outer peripheral edge of the glass substrate. In this regard, if there is a groove as described above, the adhesive is prevented from adhering to the glass substrate because the adhesive remains in the groove even if the adhesive flows out. If contamination of the surface of the workpiece heating unit is prevented, the time required for cleaning and maintenance of the workpiece heating unit can be shortened, and the processing time of the workpiece can be shortened. Further, the groove structure is a simple structure and excellent in maintainability.

前記ダイヤフラムは、前記ワーク加熱部全面及び前記溝全体を覆う大きさのワーク押し付け用の膜体を備えるものである。この場合に、前記溝の外側の前記熱板上に、前記膜体の外周部が押し当るスペーサを設置してもよい。
このようなスペーサが設置されていれば、ダイヤフラムでワークをプレスする際、圧力ムラの発生がより確実に防止される。これにより接着剤の広がりムラの発生が防止される。
The diaphragm includes a film body for pressing a workpiece having a size covering the entire surface of the workpiece heating unit and the entire groove. In this case, a spacer against which the outer peripheral portion of the film body presses may be installed on the hot plate outside the groove.
If such a spacer is installed, the occurrence of pressure unevenness can be more reliably prevented when a workpiece is pressed with a diaphragm. This prevents the occurrence of uneven spreading of the adhesive.

前記上部チャンバ部材は壁部と蓋部を有する蓋箱状を呈し、該壁部における前記熱板との当接部には気密用のシール部材が配置されており、前記熱板は、前記上部チャンバ部材の壁部下方に前記チャンバ空間内の気体を排出するための排気孔を備えており、前記壁部における前記排気孔に対向する部分に、前記チャンバ空間に臨む窪み部を設けてもよい。
このような構造にすれば、チャンバ空間から排気を行う際、チャンバ空間内の気体をダイヤフラムにより塞がれることなく迅速に排出することができ、ワークの処理時間を短縮できる。
The upper chamber member has a lid box shape having a wall portion and a lid portion, and an airtight seal member is disposed at a contact portion of the wall portion with the hot plate, and the hot plate has the upper portion. An exhaust hole for exhausting the gas in the chamber space may be provided below the wall portion of the chamber member, and a recess facing the chamber space may be provided in a portion of the wall portion facing the exhaust hole. .
With such a structure, when exhausting from the chamber space, the gas in the chamber space can be quickly exhausted without being blocked by the diaphragm, and the work processing time can be shortened.

前記ダイヤフラムは、前記上部チャンバ部材の本体の下面側に配置されており、当該上部チャンバ部材の本体は、前記ダイヤフラムに押し付け力を付与するための外気の給排気口を備えている。この場合に、前記上部チャンバ部材の本体と前記ダイヤフラムとの間に網状体を配置することが好ましい。
このように、上部チャンバ部材の本体とダイヤフラムとの間に網状体を配置すれば、ダイヤフラムの膜体によって吸排気口が塞がれることが防止される。これにより、上部チャンバ部材の本体とダイヤフラムの間の空間と外界との間の吸排気を常に迅速に行うことができ、ワークの処理時間を短縮できる。
The diaphragm is disposed on the lower surface side of the main body of the upper chamber member, and the main body of the upper chamber member includes an outside air supply / exhaust port for applying a pressing force to the diaphragm. In this case, it is preferable to arrange a mesh body between the main body of the upper chamber member and the diaphragm.
Thus, if the mesh body is disposed between the main body of the upper chamber member and the diaphragm, the intake and exhaust ports are prevented from being blocked by the diaphragm film body. Thereby, the intake / exhaust between the space between the main body of the upper chamber member and the diaphragm and the outside can always be performed quickly, and the processing time of the workpiece can be shortened.

本願に係る別の発明は、上述した発明に係るラミネート装置で構成されるラミネートユニットと、そのラミネートユニットに前記ワークを搬入、搬出するワーク搬入出ユニットとを備えており、前記ワーク搬入出ユニットは、前記上部チャンバ部材が前記熱板から離間した際に前記アーム上に前記ワークを移載可能であると共に、当該アーム上の前記ワークを取り出し可能なロボットアームを備えるものであり、前記ワーク搬入出ユニットと前記ラミネートユニットとの間で前記ワークが枚葉搬送されることを特徴とするラミネート処理システムである。
このラミネート処理システムでは、上部チャンバ部材が熱板に対して離間されると、上部チャンバ部材のアームの位置も熱板に対して離間した状態(非接触状態)になる。そして、この状態で、ワーク搬入出ユニットを利用して、熱板から離間したアーム上へのワークの移載や、アーム上のワークの取り出しが行われる。
ここで、例えば、ラミネートユニット内に搬入されたワークが搬入と同時に一部分だけでも熱板側の部材と接触するようであれば、それが原因でワークに加熱ムラが生じる可能性がある。この点に関して、本発明に係るラミネート処理システムでは、ラミネートユニットに搬入されたワークは、アームで保持され、熱板から離間した状態(非接触状態)であり、熱ムラの発生が防止されている。
また、上部チャンバ部材と熱板との間の離間動作が完了すると同時に、ワークの熱板に対する離間動作も完了するので、その後、迅速に、ワークの移載や取出し動作を実行することができる。これにより、ラミネート処理時間の短縮を図ることができる。
Another invention according to the present application includes a laminating unit configured by the laminating apparatus according to the above-described invention, and a work loading / unloading unit for loading and unloading the work into and from the laminating unit. And a robot arm capable of transferring the workpiece onto the arm when the upper chamber member is separated from the hot plate, and capable of taking out the workpiece on the arm. The laminating system is characterized in that the workpiece is conveyed sheet by piece between a unit and the laminating unit.
In this laminating system, when the upper chamber member is separated from the hot plate, the position of the arm of the upper chamber member is also separated from the hot plate (non-contact state). In this state, the workpiece is transferred onto the arm separated from the hot plate and the workpiece on the arm is taken out using the workpiece loading / unloading unit.
Here, for example, if the work carried into the laminating unit comes into contact with a member on the hot plate side even at the same time as the carry-in, there is a possibility that heating unevenness occurs in the work. In this regard, in the laminating system according to the present invention, the work carried into the laminating unit is held by the arm and is in a state separated from the hot plate (non-contact state), and the occurrence of heat unevenness is prevented. .
In addition, since the separating operation between the upper chamber member and the hot plate is completed, and the separating operation of the work with respect to the hot plate is also completed, it is possible to quickly perform the transfer and take-out operations of the work thereafter. Thereby, the lamination processing time can be shortened.

本願発明に係るラミネート装置では、ワークを載置するためのワーク載置部材をチャンバ空間形成用の部材としても用いているので、装置構造の簡素化が図られ、メンテナンス性が向上する。また、故障の発生が抑制されると共に装置の軽量化が図られる。
また、上部チャンバ部材の下面側にワーク保持用の複数のアームを設置し、アームにワークを保持した上部チャンバ部材をワーク載置部材に対して当接させると、アームからワーク載置部材上にワークが移載され、また、上部チャンバ部材をワーク載置部材から離間させると、アームがワーク載置部材上からワークを掬い上げ、ワークがワーク載置部材から離間した状態になる。つまり、ワーク保持用のアームの駆動手段を別途設けることなく、簡単な構成を維持しつつも、アームとワーク載置部材との間でワークの移載を行うことができる。
In the laminating apparatus according to the present invention, since the work placing member for placing the work is also used as a member for forming the chamber space, the structure of the apparatus is simplified and the maintainability is improved. In addition, the occurrence of failure is suppressed and the weight of the device is reduced.
In addition, when a plurality of workpiece holding arms are installed on the lower surface side of the upper chamber member and the upper chamber member holding the workpiece is brought into contact with the workpiece mounting member, the arm is placed on the workpiece mounting member. When the workpiece is transferred and the upper chamber member is separated from the workpiece placement member, the arm scoops up the workpiece from the workpiece placement member, and the workpiece is separated from the workpiece placement member. That is, it is possible to transfer the workpiece between the arm and the workpiece mounting member while maintaining a simple configuration without separately providing a driving means for the workpiece holding arm.

本発明に係るラミネート処理システムを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the lamination processing system which concerns on this invention. 図2(A)は、熱板を示す平面図であり、図2(B)は、図2(A)に示す3B-3B線における断面図であり、図2(C)は、図2(B)の要部3C(スペーサの構造)を示す拡大断面図であり、図2(D)は、図2(A)の要部3Ds(熱板のプランジャピン構造)の3D-3D線における断面を示す断面図である。2A is a plan view showing the hot plate, FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line 3B-3B shown in FIG. 2A, and FIG. FIG. 2D is an enlarged cross-sectional view showing a main part 3C (spacer structure) of FIG. 2B, and FIG. 2D is a cross-sectional view of the main part 3Ds (plunger pin structure of the hot plate) of FIG. FIG. 図2(A)の要部4As(熱板の排気孔や凹部構造)の4A−4A線における断面を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the cross section in the 4A-4A line | wire of the principal part 4As (exhaust hole and recessed part structure of a hot plate) of FIG. 2 (A). 各図は本発明のラミネート装置を図1の矢印E方向から見た状態の模式図であり、図4(A)は、上部チャンバ部材が上昇位置である状態を示し、図4(B)は、上部チャンバ部材が当接位置である状態を示し、図4(C)は、プランジャピン上にワークが載置された状態を示している。Each figure is a schematic view of the laminating apparatus of the present invention as seen from the direction of arrow E in FIG. 1. FIG. 4 (A) shows a state where the upper chamber member is in the raised position, and FIG. FIG. 4C shows a state in which the workpiece is placed on the plunger pin. 図5(A)は、従来の装置の上部チャンバ部材が上昇位置である状態を示す模式図であり、図5(B)は、従来の装置の上部チャンバ部材が当接位置である状態を示す模式図である。FIG. 5A is a schematic diagram showing a state in which the upper chamber member of the conventional apparatus is in the raised position, and FIG. 5B shows a state in which the upper chamber member of the conventional apparatus is in the contact position. It is a schematic diagram.

1…ラミネート処理システム、10…ラミネート装置(ラミネートユニット)、
10a…台座、20…熱板(ワーク載置部材)、21…ワーク加熱部、22…溝、
23…スペーサ、24…排気孔、24a…上端開口、
25…プランジャピン、25a…ピン部、25b…座部、25c…蓋体、25d…穴、
26…バネ(弾性部材)、27…凹部、40…上部チャンバ部材、
41…本体(蓋部)、42…ダイヤフラム、42a…押圧用の膜部、
43…枠体(壁部)、43a…当接する部分、43b…対向する部分、
44…アーム、44a…アーム基部、44b…アーム先部、
45…吸排気口、46…メッシュ部材(網状体)、47…シール部材、48…窪み部、
50…昇降部材、50a…リニアアクチュエータ、
80…ワーク搬入出ロボット(ワーク搬入出ユニット)、
81…ロボット基部、82…旋回部、83…ロボットアーム支持部、
84…ロボットアーム、84a…ロボットアーム基部、84b…ロボットハンド、
100…従来のラミネート装置、120…熱板、125…ピン、
130d…熱板からピンセンタまでの距離、140…上部チャンバ部材、
Fa…本発明の装置の上部チャンバ部材40の昇降ストローク、
Fb…本発明の装置の下真空室の高さ、
Ga…従来の上部チャンバ部材140の昇降ストローク、
Gb…従来装置の下真空室Sbの高さ、
S…チャンバ空間、Sa…上真空室、Sb…下真空室、W…ワーク。
1 ... Laminating system, 10 ... Laminating equipment (laminating unit),
10a ... pedestal, 20 ... hot plate (work placement member), 21 ... work heating unit, 22 ... groove,
23 ... Spacer, 24 ... Exhaust hole, 24a ... Upper end opening,
25 ... Plunger pin, 25a ... Pin part, 25b ... Seat part, 25c ... Lid, 25d ... Hole,
26 ... spring (elastic member), 27 ... concave, 40 ... upper chamber member,
41 ... Main body (lid part), 42 ... Diaphragm, 42a ... Pressing film part,
43 ... frame (wall), 43a ... contact part, 43b ... opposite part,
44 ... arm, 44a ... arm base, 44b ... arm tip,
45 ... Intake / exhaust port, 46 ... Mesh member (net-like body), 47 ... Seal member, 48 ... Recessed part,
50 ... Lifting member, 50a ... Linear actuator,
80 ... Work loading / unloading robot (work loading / unloading unit)
81 ... Robot base, 82 ... Swivel part, 83 ... Robot arm support part,
84 ... Robot arm, 84a ... Robot arm base, 84b ... Robot hand,
100 ... Conventional laminating equipment, 120 ... Hot plate, 125 ... Pin,
130d: distance from hot plate to pin center, 140: upper chamber member,
Fa: Elevating stroke of the upper chamber member 40 of the apparatus of the present invention,
Fb: the height of the lower vacuum chamber of the apparatus of the present invention,
Ga: Up and down stroke of the conventional upper chamber member 140,
Gb: Height of the lower vacuum chamber Sb of the conventional device,
S: Chamber space, Sa: Upper vacuum chamber, Sb: Lower vacuum chamber, W: Workpiece.

以下、本発明に係るラミネート処理システムについて、図面を参照しつつ説明する。
図1に示すように、ラミネート処理システム1は、ラミネート装置(ラミネートユニット)10と、ワーク搬入出ロボット(ワーク搬入出ユニット)80とを備えている。
なお、本実施形態のラミネート装置10で処理するワークW(熱板で加熱されるワーク)とは、例えば、複数枚のガラス基板の積層体であってガラス基板の間に接着剤が挟まれたものである。
Hereinafter, a laminating system according to the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the laminating system 1 includes a laminating apparatus (laminating unit) 10 and a work loading / unloading robot (work loading / unloading unit) 80.
The work W (work heated by a hot plate) to be processed by the laminating apparatus 10 of the present embodiment is, for example, a laminate of a plurality of glass substrates, and an adhesive is sandwiched between the glass substrates. Is.

ラミネート装置10は、図1に示すように、台座10a上に設置された熱板(ワーク載置部材)20と、熱板20の上方に配置された上部チャンバ部材40と、上部チャンバ部材40を熱板20に対して昇降可能に支持する昇降機構50とを備えている。なお、熱板20は、その本体部である後述のワーク加熱部21の裏側(下面)にヒータ(不図示)を設けることで構成されている。
このラミネート装置10では、後述するように、ワークWをラミネート処理する際に用いられるチャンバ空間S(図3参照)を、熱板20と上部チャンバ部材40とで形成している。また、昇降機構50は、垂直方向に向く状態で設置された4体の周知のリニアアクチュエータ50a(図1参照:例えば、エアシリンダなど)を用いたものであるので、ここでは、その詳細な説明を省略する。
As shown in FIG. 1, the laminating apparatus 10 includes a hot plate (work placing member) 20 installed on a pedestal 10a, an upper chamber member 40 disposed above the hot plate 20, and an upper chamber member 40. An elevating mechanism 50 that supports the hot plate 20 so as to be movable up and down is provided. The hot plate 20 is configured by providing a heater (not shown) on the back side (lower surface) of a work heating unit 21 to be described later, which is the main body.
In the laminating apparatus 10, as will be described later, a chamber space S (see FIG. 3) used when laminating the workpiece W is formed by the hot plate 20 and the upper chamber member 40. Further, the lifting mechanism 50 uses four well-known linear actuators 50a (see FIG. 1, for example, an air cylinder) installed in a vertically oriented state. Is omitted.

熱板20は、ラミネート対象である薄板状のワークWを加熱するためのものであり、その上面中央部に位置するワーク加熱部21(図2参照)と、ワーク加熱部21の裏側(下面側)に設置された加熱用のヒータ(不図示)とを備えている。ラミネート処理時、処理対象のワークWは、このワーク加熱部21に載置された状態で熱板20にて加熱される。   The hot plate 20 is for heating a thin plate-like workpiece W to be laminated, and a work heating unit 21 (see FIG. 2) located at the center of the upper surface thereof, and a back side (lower surface side) of the work heating unit 21 And a heater (not shown) for heating. During the laminating process, the workpiece W to be processed is heated by the hot plate 20 while being placed on the workpiece heating unit 21.

また、熱板20は、その上面であってワーク加熱部21の外周部に形成された溝22を備えている。別言すると、この溝22は、ワーク加熱部21に載置されたワークWの外周縁に沿う配置で形成されている。つまり、図2(B)及び図2(C)に示すように、本実施形態のラミネート装置10では、ワークWは、その外周縁が溝22の上端開口に位置するように、熱板20上に搬入される。   Further, the hot plate 20 is provided with a groove 22 formed on the outer surface of the work heating unit 21 on the upper surface thereof. In other words, the groove 22 is formed in an arrangement along the outer peripheral edge of the workpiece W placed on the workpiece heating unit 21. That is, as shown in FIGS. 2B and 2C, in the laminating apparatus 10 of this embodiment, the workpiece W is placed on the hot plate 20 so that the outer peripheral edge thereof is positioned at the upper end opening of the groove 22. It is carried in.

さらに、熱板20は、溝22の外側の熱板上であって、後述のダイヤフラム42の外周領域が押し当る位置に設置されたスペーサ23を備えている(図2(A)参照)。
スペーサ23は、図2(A)に示すように、平面視矩形の薄板状の枠部材であり、溝22の外側を取り囲むように熱板20上に設置されている。このスペーサ23は、熱板20と別体に設けられており着脱可能であるが、熱板20と一体であってもよい。
そして、図2(C)に示すように、スペーサ23の上面の高さ位置は、例えば、熱板20上に載置されたワークWの上面高さ位置と同等としてもよい。または、長辺、短辺の高さを変えても良い。スペーサ23高さは最適な高さを設定してもよい。
Further, the hot plate 20 is provided with a spacer 23 on the hot plate outside the groove 22 and installed at a position where an outer peripheral region of a diaphragm 42 to be described later comes into contact (see FIG. 2A).
As shown in FIG. 2A, the spacer 23 is a thin plate-like frame member having a rectangular shape in plan view, and is installed on the hot plate 20 so as to surround the outside of the groove 22. The spacer 23 is provided separately from the hot plate 20 and is detachable, but may be integrated with the hot plate 20.
Then, as shown in FIG. 2C, the height position of the upper surface of the spacer 23 may be equivalent to the height position of the upper surface of the workpiece W placed on the hot plate 20, for example. Or you may change the height of a long side and a short side. The height of the spacer 23 may be set to an optimum height.

また、熱板20には、気体排出に用いられる排気孔24が形成されている(図3参照)。
具体的には、この排気孔24は、上部チャンバ部材40が下降したときに上部チャンバ部材40と熱板20との間に形成されるチャンバ空間Sの下真空室Sb(ダイヤフラム42と熱板20とで囲まれた空間;図4(C)参照)内の気体をポンプ(不図示)によって排出する際に用いられる。
そして、熱板20の上面に開口する排気孔24の上端開口24aは、図3に示すように、熱板20のスペーサ23の外縁部であって、上部チャンバ部材40の後述する枠体43と熱板20とが対向する位置に設けられ、枠体43の排気孔24の上端開口24aに対向する部分には、チャンバ空間Sに臨む窪み部48が設けられる。従って、排気孔24及び窪み部48aを介して、ダイヤフラム42に塞がれることなく確実にチャンバ空間Sの下真空室Sb内の気体を排気することができる。
The hot plate 20 is formed with exhaust holes 24 used for gas discharge (see FIG. 3).
Specifically, the exhaust hole 24 is formed in the lower vacuum chamber Sb (the diaphragm 42 and the hot plate 20) of the chamber space S formed between the upper chamber member 40 and the hot plate 20 when the upper chamber member 40 is lowered. And is used when the gas in the space surrounded by (see FIG. 4C) is discharged by a pump (not shown).
An upper end opening 24a of the exhaust hole 24 opened on the upper surface of the hot plate 20 is an outer edge portion of the spacer 23 of the hot plate 20, as shown in FIG. A recess 48 facing the chamber space S is provided at a portion facing the hot plate 20 and facing the upper end opening 24a of the exhaust hole 24 of the frame 43. Therefore, the gas in the lower vacuum chamber Sb of the chamber space S can be reliably exhausted without being blocked by the diaphragm 42 via the exhaust hole 24 and the recess 48a.

また、熱板20は、その上面から上方に突出する状態で設置された複数のプランジャピン25を備えている(図2(D)参照)。これらのプランジャピン25は、主に、ラミネート装置10内に搬入されたワークWを熱板20から上方に離間させた(浮かせた)状態で保持するために用いられる。
各プランジャピン25は、ピン部25aと下端側の座部25bとを備えると共に熱板20に形成された穴25d内に設置(着座)されており、プランジャ先端(上端)が穴25dの上側開口から上方に突き出た突出位置(図2(D)参照)と、プランジャ先端が穴25dの中に入り込んだ後退位置(図4(C)参照)との間で出没可能な状態で設置されている。
各穴25dの上端開口部には、図2(D)に示すように、ピン部25aが貫通する孔が形成された蓋体25cが取り付けられており、各プランジャピン25は、バネ(弾性部材)26によって上方の蓋体25cに向けて常時付勢され、突出位置(図2(D)参照)の状態に保持されている。このバネ26としては、プランジャピン25上に載置されたワークWを熱板20から離間した状態で保持できるバネ強さのものが用いられている。
従って、各プランジャピン25は、無負荷状態のときは突出位置(図2(D)参照)に位置し、ワークWが載置されたときでも、プランジャピン先端が熱板20上面から突出したワーク支持位置に位置する。そして、後述するダイヤフラム42によってワークWが下方に押されることで、これに伴いプランジャピン25が後退位置(図4(C)参照)まで移動されるようになっている。つまり、ダイヤフラム42によって押されたワークWは、熱板20のワーク加熱部21に当接され、この状態で加熱されてラミネート処理される。
Further, the hot plate 20 includes a plurality of plunger pins 25 installed so as to protrude upward from the upper surface thereof (see FIG. 2D). These plunger pins 25 are mainly used to hold the workpiece W carried into the laminating apparatus 10 in a state where it is separated upward (floated) from the hot plate 20.
Each plunger pin 25 includes a pin portion 25a and a lower end seat portion 25b, and is installed (sitting) in a hole 25d formed in the hot plate 20, and the plunger tip (upper end) is an upper opening of the hole 25d. It is installed in a state where it can be projected and retracted between a protruding position protruding upward (see FIG. 2D) and a retracted position where the plunger tip enters the hole 25d (see FIG. 4C). .
As shown in FIG. 2D, a lid body 25c having a hole through which the pin portion 25a is formed is attached to the upper end opening of each hole 25d. Each plunger pin 25 is a spring (elastic member). ) 26 is always urged toward the upper lid body 25c by 26, and is held in the protruding position (see FIG. 2D). As the spring 26, a spring having a spring strength capable of holding the workpiece W placed on the plunger pin 25 in a state of being separated from the hot plate 20 is used.
Accordingly, each plunger pin 25 is located at the protruding position (see FIG. 2D) when there is no load, and even when the workpiece W is placed, the plunger pin tip protrudes from the upper surface of the hot plate 20. Located in the support position. Then, when the workpiece W is pushed downward by a diaphragm 42 described later, the plunger pin 25 is moved to the retracted position (see FIG. 4C). That is, the workpiece W pushed by the diaphragm 42 is brought into contact with the workpiece heating portion 21 of the hot plate 20, and is heated and laminated in this state.

また、熱板20の上面には、上部チャンバ部材40に取り付けられた後述のアーム44が格納される複数の凹部27が形成されている(図2(a),図3参照)。
図2(a)に示すように、熱板20の上面に開口を有する凹部27は、熱板20の上面の6か所に形成されている。各凹部27は、後述のアーム44の位置に対応する位置に形成されている。従って、上部チャンバ部材40が下降位置(当接位置、図4(C)参照)まで下降したとき、各アーム44が対応する凹部27内に格納されるため、上部チャンバ部材40の枠体43の下端部が熱板20の上面に当接できるようになっている。
In addition, a plurality of recesses 27 are formed on the upper surface of the hot plate 20 to store arms 44 described later attached to the upper chamber member 40 (see FIGS. 2A and 3).
As shown in FIG. 2A, recesses 27 having openings on the upper surface of the hot plate 20 are formed at six locations on the upper surface of the hot plate 20. Each recess 27 is formed at a position corresponding to a position of an arm 44 described later. Therefore, when the upper chamber member 40 is lowered to the lowered position (contact position, see FIG. 4C), each arm 44 is stored in the corresponding concave portion 27, so that the frame 43 of the upper chamber member 40 is The lower end portion can come into contact with the upper surface of the hot plate 20.

図3に示すように、上部チャンバ部材40は、四角形の板状部材である上部チャンバの本体(蓋部)41と、本体41の下面側に取り付けられたダイヤフラム42と、本体41の下面の外周部に全周に亘って設置された枠体(壁部)43とを備えている。
そして、上部チャンバ部材40の下面側における枠体43の内側部(又は下端部)に、基板保持用の複数のアーム44(図4参照)が設けられる。
As shown in FIG. 3, the upper chamber member 40 includes a main body (lid portion) 41 of an upper chamber that is a rectangular plate-shaped member, a diaphragm 42 attached to the lower surface side of the main body 41, and an outer periphery of the lower surface of the main body 41. And a frame body (wall portion) 43 installed over the entire circumference.
A plurality of arms 44 (see FIG. 4) for holding the substrate are provided on the inner side (or lower end) of the frame 43 on the lower surface side of the upper chamber member 40.

ダイヤフラム42は、ワークWを熱板20に押し付けるための膜体であり、押圧用の膜部42aを備えている(図3参照)。この膜部42aは、ワーク加熱部21の全面及び溝22の全体を完全に覆う大きさであり、且つ膜部42aの外周部分が溝22の外側に設置されたスペーサ23上面に押し当る大きさである。   The diaphragm 42 is a film body for pressing the workpiece W against the hot plate 20, and includes a pressing film portion 42a (see FIG. 3). The film part 42a is sized to completely cover the entire surface of the workpiece heating part 21 and the entire groove 22, and the outer peripheral part of the film part 42a is pressed against the upper surface of the spacer 23 installed outside the groove 22. It is.

上部チャンバ部材40の本体41は、図4(A)〜(C)に示すように、昇降機構50によって支持された四角形の板状の部材であり、その中央部に吸排気口45を備えている。この吸排気口45は、本体41とダイヤフラム42の間の上部真空室Sa(図4(A)〜(C)参照)内にポンプ(不図示)によって外気を導入し、当該ダイヤフラム42を熱板20、すなわちワークWに押し付ける押し付け力を付与するためのものである。
そして、本体41とダイヤフラム42との間の上部真空室Sa内には、メッシュ部材(網状体)46が配置されている。この部分にメッシュ部材46を配置すると、吸排気口45から上部チャンバ部材40の本体41とダイヤフラム42との間の気体を排気する際、本体41とダイヤフラム42との間に常時隙間が形成されるため、ダイヤフラム42が本体41に密着し、吸排気口45を塞いでしまうことを確実に防止することができる。なお、メッシュ部材46の大きさは、吸排気口45の全面に面していれば良いが、ダイヤフラム42の押圧用の膜部42aの全面に面する大きさの方がより好ましい。
4A to 4C, the main body 41 of the upper chamber member 40 is a rectangular plate-like member supported by an elevating mechanism 50, and has an intake / exhaust port 45 at the center thereof. Yes. The intake / exhaust port 45 introduces outside air into the upper vacuum chamber Sa (see FIGS. 4A to 4C) between the main body 41 and the diaphragm 42 by a pump (not shown), and the diaphragm 42 is heated to a hot plate. 20, that is, for applying a pressing force to be pressed against the workpiece W.
A mesh member (net-like body) 46 is disposed in the upper vacuum chamber Sa between the main body 41 and the diaphragm 42. When the mesh member 46 is disposed in this portion, a gap is always formed between the main body 41 and the diaphragm 42 when the gas between the main body 41 and the diaphragm 42 of the upper chamber member 40 is exhausted from the intake / exhaust port 45. Therefore, it is possible to reliably prevent the diaphragm 42 from being in close contact with the main body 41 and closing the intake / exhaust port 45. The size of the mesh member 46 only needs to face the entire surface of the intake / exhaust port 45, but the size facing the entire surface of the pressing film portion 42a of the diaphragm 42 is more preferable.

また、上部チャンバ部材40の枠体43の下端部には、その全周に亘って設置されたシール部材47が設けられる。
枠体43の下端部は、上部チャンバ部材40が下降したときに熱板20の上面に当接する当接する部分43aと、その内側に配置された熱板20と対向する部分43bとを備えている。当接する部分43aと対向する部分43bは段差を介して隣接している。当接する部分43aにはシール部材47を設置しているので、上部チャンバ部材40が下降位置(図4(C)参照)に下降して上部チャンバ部材40と熱板20とが当接し、チャンバ空間S(図3参照)が形成されたとき、チャンバ空間S内の気密性が確保される。また、熱板20の、対向する部分43bと対向する位置に排気孔24が配置されている。つまり、排気孔24に対向する枠体43の位置には窪み部48が形成されている。従って、排気孔24からチャンバ空間S内の気体を排出する際、迅速且つ確実に気体を排出することができる。
Further, a seal member 47 is provided at the lower end portion of the frame body 43 of the upper chamber member 40 so as to be installed over the entire circumference thereof.
The lower end portion of the frame 43 includes a contact portion 43a that contacts the upper surface of the hot plate 20 when the upper chamber member 40 is lowered, and a portion 43b that faces the hot plate 20 disposed on the inner side thereof. . The abutting portion 43a and the facing portion 43b are adjacent to each other through a step. Since the seal member 47 is installed in the abutting portion 43a, the upper chamber member 40 is lowered to the lowered position (see FIG. 4C), and the upper chamber member 40 and the hot plate 20 are brought into contact with each other. When S (see FIG. 3) is formed, airtightness in the chamber space S is secured. Further, an exhaust hole 24 is disposed at a position facing the facing portion 43b of the hot plate 20. That is, the recessed portion 48 is formed at the position of the frame 43 facing the exhaust hole 24. Therefore, when the gas in the chamber space S is discharged from the exhaust hole 24, the gas can be discharged quickly and reliably.

各アーム44(本実施例の装置では6個)は、上部チャンバ部材40の下面側に取り付けられている(図1、図4参照)。
図4に示すように、各アーム44は、枠体43に取り付け、固定されるアーム基部44aと、アーム基部44aの下端からラミネート装置10の内側に向けて水平に伸びるアーム先部44bとを備えている。これのアーム先部44bの上面にワークWが載置、保持される。
Each arm 44 (six in the apparatus of the present embodiment) is attached to the lower surface side of the upper chamber member 40 (see FIGS. 1 and 4).
As shown in FIG. 4, each arm 44 includes an arm base 44 a that is attached and fixed to the frame body 43, and an arm tip 44 b that extends horizontally from the lower end of the arm base 44 a toward the inside of the laminating apparatus 10. ing. The workpiece W is placed and held on the upper surface of the arm tip 44b.

このような構成の上部チャンバ部材40は、上述したように昇降部材50に支持されており、熱板20から上方に離間した上昇位置(離間位置、図4(A)参照)と、枠体43の下端部が熱板20に当接した下降位置(当接位置、図4(C)参照)との間で昇降可能になっている。そして、上部チャンバ部材40が下降位置に下降したとき、上部チャンバ部材40(本体41及び枠体43)と熱板20とで囲まれるチャンバ空間Sが形成される(図3参照)。なお、チャンバ空間Sのうち、上部チャンバ部材40の本体41とダイヤフラム42とで囲まれた空間が上部真空室Saであり、ダイヤフラム42と熱板20とで囲まれた空間が下部真空室Sbである。   The upper chamber member 40 having such a configuration is supported by the elevating member 50 as described above, and is moved upward from the hot plate 20 (separated position, see FIG. 4A), and the frame body 43. It is possible to move up and down between a lowered position (abutting position, see FIG. 4C) in which the lower end of the abutting part abuts against the hot plate 20. When the upper chamber member 40 is lowered to the lowered position, a chamber space S surrounded by the upper chamber member 40 (the main body 41 and the frame body 43) and the hot plate 20 is formed (see FIG. 3). Of the chamber space S, the space surrounded by the main body 41 of the upper chamber member 40 and the diaphragm 42 is the upper vacuum chamber Sa, and the space surrounded by the diaphragm 42 and the hot plate 20 is the lower vacuum chamber Sb. is there.

ワーク搬入出ロボット(ワーク搬入出ユニット)80は、図1に示すように、ラミネート装置10内にワークWを搬入出するものであり、ロボット基部81と、ロボット基部81に垂直軸周りに旋回可能に設置された旋回部82と、旋回部82の上部に固定されたU字形状のロボットアーム支持部83と、ロボットアーム支持部83に設置されたロボットアーム84とを備えている。   As shown in FIG. 1, a workpiece loading / unloading robot (work loading / unloading unit) 80 loads and unloads the workpiece W into and from the laminating apparatus 10, and can be turned around the vertical axis of the robot base 81 and the robot base 81. , A U-shaped robot arm support portion 83 fixed to the upper portion of the swing portion 82, and a robot arm 84 installed on the robot arm support portion 83.

ロボットアーム84は、ロボットアーム支持部83に昇降可能に設置されたロボットアーム基部84aと、ロボットアーム基部84aに対して水平方向に進退移動可能に設置されたロボットハンド84b(図1、図4(A)参照)を備えている。このロボットハンド84bによって、ワークWをラミネート装置10内に対して枚葉式に(一枚ずつ)搬入出するようになっている。   The robot arm 84 includes a robot arm base 84a that can be moved up and down on the robot arm support 83, and a robot hand 84b that can be moved back and forth in the horizontal direction with respect to the robot arm base 84a (see FIGS. 1 and 4). A)). With the robot hand 84b, the workpiece W is carried into and out of the laminating apparatus 10 in a single wafer manner (one by one).

なお、ロボットアーム84の昇降動作やロボットハンド84bの進退動作は、周知のロボットによって行われる動作であるので、ここではその構成や動作についての詳細な説明を省略する。また、本実施の形態においては、ワーク搬入出ロボット80として、ダブルコラム(ダブルマスト)型のスライドアームロボットを用いた場合を例に挙げて説明を行ったが、これに限定するものではなく、シングルコラム型のスライドアームロボット、垂直多関節ロボット、又は水平多関節ロボットなどであってもよい。   In addition, since the raising / lowering operation of the robot arm 84 and the advancing / retreating operation of the robot hand 84b are operations performed by a well-known robot, detailed description of the configuration and operation thereof is omitted here. Further, in the present embodiment, a case where a double column (double mast) type slide arm robot is used as the workpiece loading / unloading robot 80 has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. A single column type slide arm robot, a vertical articulated robot, or a horizontal articulated robot may be used.

このようなラミネート処理システムの動作を図1及び図4を参照しつつ説明する。
ここでは、ワーク搬入出ロボット(以下、単にロボットと称する)80によって、ラミネート装置10内にワークWを搬入するワーク搬入工程を起点として、動作を説明する。
The operation of such a laminating system will be described with reference to FIGS.
Here, the operation will be described starting from a workpiece loading step of loading a workpiece W into the laminating apparatus 10 by a workpiece loading / unloading robot (hereinafter simply referred to as a robot) 80.

ワーク搬入工程では、まず、ロボット80のロボットハンド84bによって、マガジン(不図示)に収容されたラミネート対象のワークWを取り出してラミネート装置10に搬入する(図1参照)。ワークWを搬入する位置は、上部チャンバ部材40の本体41とアーム44のアーム先部44bとの間である(図4(A)参照)。
その後、ロボットアーム84を下降移動させると、搬入したワークWが上部チャンバ部材40に取り付けられたアーム44のアーム先部44b上に載置される(図4(A)参照)。そして、ワークWのアーム44ヘの載置が完了すると、ロボットハンド84bを後退させて、ラミネート装置10の外部に移動させ、ワークWの搬入を完了する。
In the workpiece loading process, first, the workpiece W to be laminated accommodated in a magazine (not shown) is taken out by the robot hand 84b of the robot 80 and loaded into the laminating apparatus 10 (see FIG. 1). The position where the workpiece W is carried in is between the main body 41 of the upper chamber member 40 and the arm tip portion 44b of the arm 44 (see FIG. 4A).
Thereafter, when the robot arm 84 is moved downward, the loaded work W is placed on the arm tip portion 44b of the arm 44 attached to the upper chamber member 40 (see FIG. 4A). When the placement of the workpiece W on the arm 44 is completed, the robot hand 84b is retracted and moved to the outside of the laminating apparatus 10, and the loading of the workpiece W is completed.

ワーク搬入工程が完了すると、次に、ラミネート処理を実行する。
ラミネート処理は、概略的には、上部チャンバ下降工程(チャンバ形成工程)、プレヒート工程、プレス工程(加熱工程)、プレス解除工程、上部チャンバ上昇工程(ワーク取出し工程)を順に実行することにより行われる。
When the work carry-in process is completed, a laminating process is then performed.
The laminating process is generally performed by sequentially executing an upper chamber lowering process (chamber forming process), a preheating process, a pressing process (heating process), a press releasing process, and an upper chamber rising process (work removal process) in this order. .

ワーク搬入工程が完了すると、まず、上部チャンバ下降工程を実行する。
この工程では、昇降機構50を作動させて、上部チャンバ部材40を熱板20に向けて下降させる。この動作により、まず、アーム44のアーム先部44b上に載置されたワークWが熱板20のプランジャピン25上に移載される(図4(B)参照)。
そして、さらに上部チャンバ部材40を下降させると、アーム44が熱板20の凹部27内に入り込み、最終的には、上部チャンバ部材40のシール部材47が熱板20の上面に当接する(図4(C)参照)。これにより、上部チャンバ下降工程が完了する。
ところで、図5(A)に示されるように、従来のラミネート装置100における上部チャンバ下降工程では、ロボットハンドによってピン125上にワークWを載置するので、熱板120からのピン125の突出高さを高くして、熱板120とピン125の先端高さとの間130dにロボットハンドが入るようにしなければならない。また、この場合、ワークWはピン125よりも高い位置からピン125上に移載されるため、ワークWがピン125に干渉(ぶつかったり、擦ったり)しないよう、ロボットハンドのワーク保持高さにはある程度の余裕をもたせている。このため、上部チャンバ部材140の上昇位置については、ロボットハンドのワーク保持高さよりもさらに高い位置に設置しなければならず、上部チャンバ部材140の昇降ストロークGaが長くなりがちであった。
この点に関して、本発明の実施形態に係るラミネート装置10では、上部チャンバ部材40に取り付けたアーム44上にワークWを載置するので、上部チャンバ部材40の昇降ストロークFa(図4(A)参照)は、アーム44が熱板20から完全に露出するだけのストロークで十分である。よって、従来のラミネート装置100と比較して、上部チャンバ部材40の昇降ストロークFaが短くなり、昇降時間を短縮することができる。これにより、ラミネート処理時間を短縮できる。
When the work carry-in process is completed, first, an upper chamber lowering process is executed.
In this step, the elevating mechanism 50 is operated to lower the upper chamber member 40 toward the hot plate 20. By this operation, first, the workpiece W placed on the arm tip portion 44b of the arm 44 is transferred onto the plunger pin 25 of the hot plate 20 (see FIG. 4B).
When the upper chamber member 40 is further lowered, the arm 44 enters the recess 27 of the hot plate 20, and finally the seal member 47 of the upper chamber member 40 contacts the upper surface of the hot plate 20 (FIG. 4). (See (C)). Thereby, the upper chamber lowering step is completed.
By the way, as shown in FIG. 5A, in the upper chamber lowering process in the conventional laminating apparatus 100, the workpiece W is placed on the pin 125 by the robot hand. It is necessary to increase the height so that the robot hand can enter 130d between the hot plate 120 and the tip height of the pin 125. In this case, since the workpiece W is transferred onto the pin 125 from a position higher than the pin 125, the workpiece holding height of the robot hand is set so that the workpiece W does not interfere (collision or rubbing) with the pin 125. Has a certain margin. For this reason, the rising position of the upper chamber member 140 has to be installed at a position higher than the workpiece holding height of the robot hand, and the up / down stroke Ga of the upper chamber member 140 tends to be long.
In this regard, since the workpiece W is placed on the arm 44 attached to the upper chamber member 40 in the laminating apparatus 10 according to the embodiment of the present invention, the up / down stroke Fa of the upper chamber member 40 (see FIG. 4A). ) Is sufficient with a stroke that allows the arm 44 to be completely exposed from the hot plate 20. Therefore, compared with the conventional laminating apparatus 100, the raising / lowering stroke Fa of the upper chamber member 40 becomes short, and the raising / lowering time can be shortened. Thereby, the lamination processing time can be shortened.

次のプレヒート工程では、上真空室Sa及び下真空室Sbの両方に対して真空引きを行う。具体的には、図示しないポンプを作動させて吸排気口45から上真空室Sa内の空気を排出すると共に、排気孔24から下真空室Sb内の空気を排出する。本工程中、ワークWは、まだプランジャピン25の上に載置されている。そして、熱板20がヒータ(不図示)によって所定の温度に予熱され、予熱された状態の熱板20からの輻射熱によってワークWが加熱(予熱)される。これにより、ワークWが急に加熱されることを防止でき、ワークWの反りの発生を防止することができる。   In the next preheating step, evacuation is performed on both the upper vacuum chamber Sa and the lower vacuum chamber Sb. Specifically, a pump (not shown) is operated to discharge air in the upper vacuum chamber Sa from the intake / exhaust port 45, and air in the lower vacuum chamber Sb is discharged from the exhaust hole 24. During this process, the workpiece W is still placed on the plunger pin 25. The hot plate 20 is preheated to a predetermined temperature by a heater (not shown), and the work W is heated (preheated) by the radiant heat from the preheated hot plate 20. Thereby, it can prevent that the workpiece | work W is heated suddenly, and generation | occurrence | production of the curvature of the workpiece | work W can be prevented.

続くプレス工程では、上真空室Saを大気開放する。これにより、ダイヤフラム42の膜体部42aに下向きの大気圧が加わり、この圧力によってワークWが熱板20に押し付けられる。これに伴いプランジャピン25が後退位置(図4(C)参照)まで移動され、膜体部42aによって押されたワークWは、熱板20のワーク加熱部21に当接される。この状態でワークWが加熱されてラミネート処理がなされる。   In the subsequent pressing step, the upper vacuum chamber Sa is opened to the atmosphere. As a result, downward atmospheric pressure is applied to the film body portion 42a of the diaphragm 42, and the workpiece W is pressed against the hot plate 20 by this pressure. Accordingly, the plunger pin 25 is moved to the retracted position (see FIG. 4C), and the workpiece W pushed by the film body portion 42a comes into contact with the workpiece heating portion 21 of the hot plate 20. In this state, the workpiece W is heated and laminating is performed.

所定時間のプレス工程が終了すると、次に、プレス解除工程を実行する。
この工程では、下真空室Sbを大気開放する。これにより、上真空室Sa内及び下真空室Sb内が共に大気圧になり、ワークWを熱板20に押し付ける力が解除される。押し付け力が解除されると、上方に付勢されているプランジャピン25によって、ワークWが上方に押し上げられ、ワークWが熱板20から上方に離間した状態になる。
ところで、従来のラミネート装置100は、図5(B)に示されるように、チャンバ空間S内に熱板120を設置していると共に熱板120の下側にピン125が退避するスペースを確保する必要があったため、その分、チャンバ空間Sの下真空室Sbの容積(特に、下真空室Sbの高さGb)が大きくなっていた。下真空室Sbの容積が大きくなると、その分、チャンバ空間S内を所定の真空度にするまでに時間がかかる。
この点に関して、本発明の実施形態に係るラミネート装置10では、熱板20を下部チャンバ部材として用いていると共に上部チャンバ部材40にアーム44を設けたので、熱板20の下側に空間を確保する必要がなく、その分、下真空室Sbの容積(特に、下真空室Sbの高さFb)を小さくすることができる。これにより、下真空室Sbを所定の真空度にするまでの時間を短縮することができ、ラミネート処理時間を短縮できる。
When the press process for a predetermined time is completed, a press release process is executed next.
In this step, the lower vacuum chamber Sb is opened to the atmosphere. As a result, both the inside of the upper vacuum chamber Sa and the inside of the lower vacuum chamber Sb become atmospheric pressure, and the force for pressing the workpiece W against the hot plate 20 is released. When the pressing force is released, the workpiece W is pushed upward by the plunger pin 25 biased upward, and the workpiece W is separated from the hot plate 20 upward.
Incidentally, as shown in FIG. 5B, the conventional laminating apparatus 100 has a hot plate 120 installed in the chamber space S and secures a space for the pins 125 to retreat under the hot plate 120. Since it was necessary, the volume of the lower vacuum chamber Sb of the chamber space S (particularly, the height Gb of the lower vacuum chamber Sb) was increased accordingly. When the volume of the lower vacuum chamber Sb is increased, it takes time until the interior of the chamber space S has a predetermined degree of vacuum.
In this regard, in the laminating apparatus 10 according to the embodiment of the present invention, the hot plate 20 is used as the lower chamber member and the arm 44 is provided on the upper chamber member 40, so that a space is secured below the hot plate 20. Therefore, the volume of the lower vacuum chamber Sb (particularly, the height Fb of the lower vacuum chamber Sb) can be reduced accordingly. Thereby, time until lower vacuum chamber Sb is made into predetermined vacuum degree can be shortened, and lamination processing time can be shortened.

続く上部チャンバ上昇工程では、昇降機構50を作動させて、上部チャンバ部材40を熱板20から離間させるように上昇させる。この動作により、プランジャピン25上に載置された状態のワークWがアーム44のアーム先部44bによって掬い上げられる。つまり、ワークWがアーム先部44b上に載置された状態になり、ラミネート処理が終了する。   In the subsequent upper chamber ascent process, the elevating mechanism 50 is operated to raise the upper chamber member 40 away from the hot plate 20. By this operation, the workpiece W placed on the plunger pin 25 is scooped up by the arm tip portion 44b of the arm 44. That is, the workpiece W is placed on the arm tip 44b, and the laminating process ends.

ラミネート処理が完了すると、次に、ワーク搬出工程を実行する。
この工程では、ロボット80のロボットハンド84bをラミネート装置10に進入させる。ロボットハンド84bの進入位置は、ワークWと熱板20との間である。
その後、ロボットアーム84を上昇させて、アーム先部44b上に載置されていたワークWをロボットハンド84bによって掬い上げる。これにより、ワークWがロボットハンド84bに移載、保持される。
その後、ロボットハンド84bを後退させて、ワークWをラミネート装置10の外部に移動(アンロード)させる。その後、ワークWを処理済みワーク収納先のマガジンに収納し、一連のラミネート処理を終了する。ここで、ロボット80として、ロボットハンド84bを2つ備えるダブルハンドロボットを用いても良い。この場合、処理済みのワークWを一方のロボットハンドでラミネート装置10の外部にアンロードさせると共に、未処理のワークWを他方のロボットハンドでラミネート装置10の内部に供給(ロード)させることができる。
連続してラミネート処理を実行する場合は、このような一連の工程を繰り返し実行する。
When the laminating process is completed, a workpiece unloading process is executed next.
In this step, the robot hand 84b of the robot 80 enters the laminating apparatus 10. The approach position of the robot hand 84b is between the workpiece W and the hot platen 20.
Thereafter, the robot arm 84 is raised, and the work W placed on the arm tip 44b is scooped up by the robot hand 84b. As a result, the workpiece W is transferred and held on the robot hand 84b.
Thereafter, the robot hand 84b is moved backward to move (unload) the workpiece W to the outside of the laminating apparatus 10. Thereafter, the workpiece W is stored in the magazine of the processed workpiece storage destination, and a series of laminating processes is completed. Here, as the robot 80, a double hand robot including two robot hands 84b may be used. In this case, the processed work W can be unloaded to the outside of the laminating apparatus 10 with one robot hand, and the unprocessed work W can be supplied (loaded) to the inside of the laminating apparatus 10 with the other robot hand. .
In the case where the laminating process is continuously performed, such a series of steps is repeatedly performed.

なお、本発明に係るラミネート装置及びラミネート処理システムは、上記実施形態に限られるものではなく、本発明には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で改変された種々の態様のラミネート装置及びラミネート処理システムが含まれる。 Note that the laminating apparatus and the laminating system according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and the present invention includes laminating apparatuses and laminating processes in various modes modified without departing from the gist of the present invention. System included.

Claims (10)

薄板状のワークに対してラミネート処理を施すラミネート装置において、
ダイヤフラムが、その下面側に装着された上部チャンバ部材と、
前記上部チャンバ部材の下方に設置され、その上面に前記ワークが載置されるワーク載置部材と、を備え、
前記上部チャンバ部材及び前記ワーク載置部材のうち少なくとも一方は、前記上部チャンバ部材と前記ワーク載置部材とが離間した離間位置と、当該ワーク載置部材と上部チャンバ部材とが当接され、その内部にチャンバ空間を形成する当接位置と、の間で相対的に近接離間移動可能であり、
前記上部チャンバ部材の下面側に、前記ワーク載置部材上に搬入出される前記ワークを保持するためのアームが設けられたことを特徴とするラミネート装置。
In laminating equipment that performs laminating on thin plate workpieces,
An upper chamber member having a diaphragm mounted on a lower surface thereof;
A workpiece placement member installed below the upper chamber member, on which the workpiece is placed;
At least one of the upper chamber member and the workpiece mounting member is in contact with a separation position where the upper chamber member and the workpiece mounting member are separated from each other, and the workpiece mounting member and the upper chamber member are in contact with each other. It is relatively close to and away from the abutting position that forms the chamber space inside,
A laminating apparatus, wherein an arm for holding the work carried in and out on the work placing member is provided on a lower surface side of the upper chamber member.
前記ワーク載置部材は、その上面に、複数の前記アームをそれぞれ格納するための凹部を有する請求項1に記載のラミネート装置。   The laminating apparatus according to claim 1, wherein the work placing member has a concave portion for storing the plurality of arms on the upper surface thereof. 前記ワーク載置部材は、その上面に載置された前記ワークを加熱するためのヒータを有する請求項1又は請求項2に記載のラミネート装置。   The laminating apparatus according to claim 1 or 2, wherein the work placing member has a heater for heating the work placed on the upper surface thereof. 前記上部チャンバ部材の下方に、前記ワーク載置部材として熱板が設置されており、
当該熱板は、当該熱板上に搬入された薄板状のワークを加熱するものである、請求項3に記載のラミネート装置。
Below the upper chamber member, a hot plate is installed as the workpiece mounting member,
The laminating apparatus according to claim 3, wherein the hot plate heats a thin plate-like work carried on the hot plate.
前記熱板から上方に離間した位置で前記ワークを保持する複数のプランジャピンを更に備え、各プランジャピンは、前記熱板の上面に形成された複数の穴内に、上方に突出され、且つ出没可能に設置されていると共に、弾性部材によって上方に付勢されている請求項4に記載のラミネート装置。   It further includes a plurality of plunger pins for holding the workpiece at a position spaced upward from the hot plate, and each plunger pin protrudes upward and can protrude into and out of a plurality of holes formed in the upper surface of the hot plate. The laminating apparatus according to claim 4, wherein the laminating apparatus is urged upward by an elastic member. 前記熱板は、その上面中央部に配置されたワーク加熱部と、その下面に設置された加熱用のヒータとを備えているものであり、
前記熱板の上面であって前記ワーク加熱部の外周部に、当該ワーク加熱部に載置されたワークの外周縁部に沿うように溝を形成した請求項4又は請求項5に記載のラミネート装置。
The hot plate is provided with a work heating unit disposed at the center of the upper surface, and a heater for heating installed on the lower surface thereof,
The laminate according to claim 4 or 5, wherein a groove is formed on the outer surface of the work heating unit along the outer peripheral edge of the work placed on the work heating unit. apparatus.
前記ダイヤフラムは、前記ワーク加熱部全面及び前記溝全体を覆う大きさのワーク押し付け用の膜体を備えるものであり、前記溝の外側の前記熱板上に、前記膜体の外周部が押し当るスペーサを設置した請求項4から請求項6のいずれか一項に記載のラミネート装置。   The diaphragm includes a film body for pressing a workpiece having a size covering the entire surface of the workpiece heating unit and the entire groove, and the outer peripheral portion of the film body is pressed onto the heat plate outside the groove. The laminating apparatus as described in any one of Claims 4-6 which installed the spacer. 前記上部チャンバ部材は壁部と蓋部を有する蓋箱状を呈し、該壁部における前記熱板との当接部には気密用のシール部材が配置されており、
前記熱板は、前記上部チャンバ部材の壁部下方に前記チャンバ空間内の気体を排出するための排気孔を備えており、前記壁部における前記排気孔に対向する部分に、前記チャンバ空間に臨む窪み部を設けた請求項4から請求項7のいずれか一項に記載のラミネート装置。
The upper chamber member has a lid box shape having a wall portion and a lid portion, and an airtight seal member is disposed at a contact portion of the wall portion with the heat plate,
The hot plate is provided with an exhaust hole for exhausting gas in the chamber space below the wall portion of the upper chamber member, and faces the chamber space at a portion facing the exhaust hole in the wall portion. The laminating apparatus as described in any one of Claims 4-7 which provided the hollow part.
前記ダイヤフラムは、前記上部チャンバ部材の本体の下面側に配置されており、
当該上部チャンバ部材の本体は、前記ダイヤフラムに押し付け力を付与するための外気の給排気口を備えており、前記上部チャンバ部材の本体と前記ダイヤフラムとの間に網状体を配置した請求項8に記載のラミネート装置。
The diaphragm is disposed on the lower surface side of the main body of the upper chamber member,
The main body of the upper chamber member includes an air supply / exhaust port for applying a pressing force to the diaphragm, and a mesh body is disposed between the main body of the upper chamber member and the diaphragm. The laminating apparatus described.
請求項1から請求項9のいずれか一項に記載のラミネート装置で構成されるラミネートユニットと、そのラミネートユニットに前記ワークを搬入、搬出するワーク搬入出ユニットとを備えており、前記ワーク搬入出ユニットは、前記上部チャンバ部材が前記ワーク載置部材から離間した際に前記アーム上に前記ワークを移載可能であると共に、当該アーム上の前記ワークを取り出し可能なロボットアームを備えるものであり、前記ワーク搬入出ユニットと前記ラミネートユニットとの間で前記ワークが枚葉搬送されることを特徴とするラミネート処理システム。   A laminating unit comprising the laminating apparatus according to any one of claims 1 to 9, and a work loading / unloading unit for loading and unloading the work into and from the laminating unit. The unit includes a robot arm that can transfer the workpiece onto the arm when the upper chamber member is separated from the workpiece mounting member, and can take out the workpiece on the arm. A laminating system, wherein the work is conveyed sheet by piece between the work loading / unloading unit and the laminating unit.
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