JPWO2009050808A1 - Clean room dummy grating - Google Patents

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Abstract

【課題】クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも安全及び品質上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行える装置を提供する。【解決手段】クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、ダミーグレーチングは、上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞する。ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、当該ホールを開閉するホール蓋体をさらに有している。The present invention provides an apparatus capable of continuously performing work while preventing problems in safety and quality even when the grating at the bottom of an upper working space area of a clean room is opened. A dummy grating for attaching to the bottom of an upper layer work space area of a clean room, and the dummy grating closes an opening formed by opening the grating that forms the bottom of the upper layer work space area. The dummy grating has a hole formed in a side surface thereof, and further includes a hole lid for opening and closing the hole.

Description

本発明は、クリーンルームのダミーグレーチングに係り、より詳しくは、クリーンルームにおける上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングに関する。   The present invention relates to a dummy grating in a clean room, and more particularly to a dummy grating for attaching to the bottom of an upper working space in a clean room.

クリーンルームは、汚染物質が所定値以下に抑えられた空間であって、この空間内において作業を進めることで作業対象体が汚染物質に露出しないようにし、または汚染物質に露出してもその被害を最小化できるようにする設備である。一方、例えば半導体は、多くの工程を経て製造され、工程中に周辺環境に存在する浮遊粉塵、有害ガス、パーティクル、微生物などの汚染物質によって半導体素子の品質及び歩留まりが低下することがあるため、一般に、半導体の製造工程はクリーンルーム内で行われる。   A clean room is a space in which contaminants are kept below a specified value, and work in this space prevents the work subject from being exposed to contaminants, or even if exposed to contaminants, damage is caused. It is a facility that can be minimized. On the other hand, for example, semiconductors are manufactured through many processes, and the quality and yield of semiconductor elements may be reduced by contaminants such as suspended dust, harmful gases, particles, and microorganisms that exist in the surrounding environment during the process. Generally, a semiconductor manufacturing process is performed in a clean room.

半導体の高集積化及び歩留まりの向上のために、クリーンルームの清浄度を高める必要があることはもとより、クリーンルーム内で行われる装備の修理などの作業にも多くの制限が求められてきている。一方、クリーンルームは、上記の半導体製造工程のほかにも、医薬、精密機械、バイオ産業、新素材産業などの多くの分野で汚染物質による問題を解決することができる必須施設となりつつある。   In order to increase the integration density of semiconductors and improve the yield, it is necessary not only to increase the cleanliness of the clean room, but also to restrict the work performed in the clean room such as equipment repair. On the other hand, in addition to the semiconductor manufacturing process described above, the clean room is becoming an indispensable facility that can solve problems caused by pollutants in many fields such as medicine, precision machinery, bio industry, and new material industry.

従来より利用される半導体製造用クリーンルームの構成について、図1を参照して説明する。図1は、半導体製造用クリーンルームの概路図であって、同図における図面符号10は、クリーンルームを示す。   The structure of a clean room for semiconductor manufacturing conventionally used will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram of a clean room for manufacturing a semiconductor, and a reference numeral 10 in the figure indicates the clean room.

クリーンルーム10は、上層の作業空間域20と、下層のユーティリティー部30、及び循環ダクト40とで構成される。一般に、クリーンルーム10内の気流はダウンストリームをなし、したがって、作業空間域の天井に配設された空調部70から供給される空気は、作業空間域20とユーティリティー部30を流れてから、循環ダクト40を通って再び空調部70に流れ込む。   The clean room 10 includes an upper working space area 20, a lower utility section 30, and a circulation duct 40. In general, the airflow in the clean room 10 is downstream, and therefore air supplied from the air conditioning unit 70 disposed on the ceiling of the work space area flows through the work space area 20 and the utility section 30 and then the circulation duct. The air flows into the air conditioning unit 70 again through 40.

空調部70は、一般に循環ファン及びフィルターで構成され、この空調部70により空気が強制循環される。作業空間域20内には、成膜装備、エッチング装備、プラズマ処理装備などの半導体製造用主装備21が配設され、ユーティリティー部30には、電源装置、ポンプ、ガス供給装置、チラー(chiller)などの補助装備31が配設される。   The air conditioning unit 70 is generally composed of a circulation fan and a filter, and air is forcibly circulated by the air conditioning unit 70. In the work space 20, main equipment 21 for semiconductor manufacturing such as film forming equipment, etching equipment, plasma processing equipment, etc. is arranged, and a utility unit 30 includes a power supply device, a pump, a gas supply device, and a chiller. Auxiliary equipment 31 such as is provided.

作業空間域20の底部50は鉄骨構造からなり、その上に複数枚のグレーチングが取り付けられて底部50全体を覆っている。グレーチングは、半導体製造用主装備21を支持できる強度を有する金属からなる。一方、底部50の下方には補助底部60を設けることにより、底部50と補助底部60との間に電気、ガスなどの配管ラインが通り得る空間部を形成し、必要に応じて作業者がこの空間部内で配管作業または修理作業を行う。   The bottom portion 50 of the work space area 20 has a steel structure, and a plurality of gratings are attached on the bottom portion 50 to cover the entire bottom portion 50. The grating is made of a metal having a strength capable of supporting the semiconductor manufacturing main equipment 21. On the other hand, by providing an auxiliary bottom 60 below the bottom 50, a space is formed between the bottom 50 and the auxiliary bottom 60 through which piping lines such as electricity and gas can pass. Perform piping work or repair work in the space.

しかしながら、このように構成された従来のクリーンルームにおいて配管及び修理作業を行う際、次のような問題があった。すなわち、配管作業及び修理作業の際、作業者は一部のグレーチングを治具などを利用して開放した後、底部50と補助底部60との間で作業を行うが、このとき、グレーチングを開放することで形成される開口部から他の作業者が墜落したり、または作業道具などを落としたりするなどの事故が生じることがあり、また、これは、安全事故や設備の破損にもつながることがある。このような事故を予防するために作業が行われる開口部の周辺に安全柵を設置するなどの対策が講じられたが、根本的な解決策にはなりえなかった。また、グレーチングを開放することによって作業空間域20とユーティリティー部30との間の空気流に変化が生じ、この結果、作業空間域20内の清浄度が低下したり、または高精度を要する半導体工程に悪影響を及ぼすという問題を生じさせたりした。   However, when performing piping and repair work in the conventional clean room configured as described above, there are the following problems. That is, at the time of piping work and repair work, the operator opens a part of the grating using a jig or the like, and then performs work between the bottom 50 and the auxiliary bottom 60. At this time, the grating is released. Accidents such as other workers falling or dropping work tools etc. from the opening formed by doing this may also lead to safety accidents and damage to equipment There is. Although measures such as installing a safety fence around the opening where work is done to prevent such an accident were taken, it could not be the fundamental solution. Further, the opening of the grating causes a change in the air flow between the work space area 20 and the utility unit 30. As a result, the cleanliness in the work space area 20 is reduced, or a semiconductor process requiring high accuracy. Cause a problem of adversely affecting

また、例えば電線あるいはガス配管等を上層の作業空間域20に接続して作業を行う場合、連続して作業を行うためには、底部50の開口部を閉塞するグレーチングが障害となる。その結果、底部50の一部を開口せざるをえないという問題が生じた。   For example, when an operation is performed by connecting an electric wire or a gas pipe or the like to the upper work space area 20, the grating that closes the opening of the bottom 50 becomes an obstacle in order to perform the operation continuously. As a result, there arises a problem that a part of the bottom 50 has to be opened.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも安全及び品質上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行える装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above points, and can continuously work while preventing the safety and quality problems from occurring even when the grating at the bottom of the upper working space area of the clean room is opened. The object is to provide a device.

前記目的を達成するため、本発明は、クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、前記ダミーグレーチングは、前記上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞し、前記ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、前記ホールを開閉するホール蓋体を有することを特徴としている。   In order to achieve the above object, the present invention provides a dummy grating for attaching to the bottom of an upper working space area of a clean room, wherein the dummy grating opens the grating forming the bottom of the upper working space area. The opening formed is closed, and the dummy grating is characterized in that a hole is formed in a side surface thereof and a hole lid for opening and closing the hole.

本発明によれば、クリーンルームの上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを一時的な理由から開放する際、底部に形成される開口部を本発明によるダミーグレーチングで閉塞することにより、安全事故や作業道具の落下などを未然に抑え、かつ空気流の乱れを防止することができる。また、ダミーグレーチングの側面部にホールが形成されているので、電線、ガス配管などをダミーグレーチングのホールを通じて接続することができ、グレーチングを開放することなく必要な作業を連続して行うことができる。さらに、ダミーグレーチングはホールを開閉するホール蓋体を有しているので、ホールの開放が不要である場合は、ホール蓋体でホールを閉塞することにより、ホールから作業道具などがユーティリティー部に落ちるなどの事故を防止することができる。   According to the present invention, when opening the grating forming the bottom of the upper working space area of the clean room for a temporary reason, the opening formed in the bottom is closed with the dummy grating according to the present invention, It is possible to prevent the work tool from falling and prevent the air flow from being disturbed. Also, since holes are formed in the side surfaces of the dummy grating, electric wires, gas pipes, etc. can be connected through the holes of the dummy grating, and necessary operations can be continuously performed without opening the grating. . Furthermore, since the dummy grating has a hole lid that opens and closes the hole, if it is not necessary to open the hole, the hole is closed with the hole lid, so that work tools fall from the hole to the utility section. Accidents such as can be prevented.

前記ダミーグレーチングは、上面部を含む上部と、この上部の下端に一体で形成される下部とからなり、前記上面部は正四角形状であり、前記上部と下部との境界部位には段差が設けられていてもよい。これによって、ダミーグレーチングは、作業空間域の底部を構成する鉄骨構造上に容易に取り付けることができる。   The dummy grating includes an upper portion including an upper surface portion and a lower portion formed integrally with a lower end of the upper portion, the upper surface portion is a regular square shape, and a step is provided at a boundary portion between the upper portion and the lower portion. It may be done. Thereby, the dummy grating can be easily mounted on the steel structure constituting the bottom of the work space area.

前記ホールは、前記ダミーグレーチングの側面部の中心に位置する半円形の形状を有していてもよい。   The hole may have a semicircular shape positioned at the center of the side surface of the dummy grating.

前記ダミーグレーチングの上面部には、前記ホール蓋体を収納することができる収納部が形成されていてもよい。また、前記収納部は、ホール蓋体と同じ形状と深さを有するくぼみ部(recess)であってもよい。これによって、ホール蓋体を容易に収納することができる。   A storage portion that can store the hole lid may be formed on the upper surface of the dummy grating. The storage part may be a recess having the same shape and depth as the hole lid. Thereby, the hole lid can be easily accommodated.

前記ダミーグレーチングの上面部には、取っ手が設けられていてもよい。これによって、ダミーグレーチングの取り外しがより容易になる。   A handle may be provided on the upper surface of the dummy grating. This makes it easier to remove the dummy grating.

前記ダミーグレーチングは、ポリカーボネートを含む合成樹脂からなっていてもよい。これによって、十分な強度を有する軽量のダミーグレーチングを得ることができる。   The dummy grating may be made of a synthetic resin including polycarbonate. Thereby, a lightweight dummy grating having a sufficient strength can be obtained.

前記ダミーグレーチングの上面部は、隣接するグレーチングの上面部と同一高さであってもよい。これによって、作業者の通行がダミーグレーチングの取付けにより邪魔されることがない。   The upper surface portion of the dummy grating may be the same height as the upper surface portion of the adjacent grating. As a result, the passage of the worker is not disturbed by the attachment of the dummy grating.

本発明によれば、クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも、ダミーグレーチングで開口部を閉塞して安全上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行うことができる。   According to the present invention, when opening the grating at the bottom of the upper working space area of the clean room, it is possible to continuously work while closing the opening with dummy grating so as not to cause a safety problem. Can do.

クリーンルームの構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of a clean room. 本実施の形態にかかるダミーグレーチングの斜視図である。It is a perspective view of the dummy grating concerning this Embodiment. ダミーグレーチングが上層作業空間域の底部に設置された様子を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows a mode that the dummy grating was installed in the bottom part of the upper layer work space area. ダミーグレーチングが上層作業空間域の底部に設置された様子を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows a mode that the dummy grating was installed in the bottom part of the upper layer work space area. ホール蓋体がホールを閉塞した際のダミーグレーチングの様子を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the mode of the dummy grating when a hole cover obstruct | occludes a hole.

符号の説明Explanation of symbols

10 クリーンルーム
20 作業空間域
30 ユーティリティー部
50 底部
100 ダミーグレーチング
101 上面部
103 側面部
107 収納部
110 上部
120 下部
121 段差
130 ホール
132 ホール蓋体
G グレーチング
S 鉄骨構造
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Clean room 20 Work space area 30 Utility part 50 Bottom part 100 Dummy grating 101 Upper surface part 103 Side part 107 Storage part 110 Upper part 120 Lower part 121 Step 130 Hole 132 Hole cover body G Grating S Steel structure

以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図2は、本実施の形態にかかるダミーグレーチング100の斜視図を示している。なお、本実施の形態にかかるダミーグレーチング100は、図1に示したクリーンルーム10における上層の作業空間20の底部50の一部を開口する場合に、図3に示すように当該底部50の開口部に臨時的に設置するものである。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 2 is a perspective view of the dummy grating 100 according to the present embodiment. Note that the dummy grating 100 according to the present embodiment has an opening in the bottom 50 as shown in FIG. 3 when a part of the bottom 50 of the upper working space 20 in the clean room 10 shown in FIG. 1 is opened. It is intended to be installed temporarily.

ダミーグレーチング100は、図2に示すように正四角形状の上面部101を含む上部110と、この上部110の下端に一体で形成される下部120とから構成されている。上部110の上面部101は、作業空間20の底部50の開口前に設けられていたグレーチングの上面部とほぼ同一の面積かつ同一の形状である。上面部101は、図4に示すように底部50のグレーチングGを係止するために格子状に設けられた鉄骨構造S、S間の長さよりも長い幅を有している。ダミーグレーチング100の上部110の厚みは、上面部101が隣接するグレーチングGの上面部と同じ高さになる厚みとなっている。   As shown in FIG. 2, the dummy grating 100 includes an upper part 110 including an upper surface part 101 having a regular square shape and a lower part 120 formed integrally with a lower end of the upper part 110. The upper surface portion 101 of the upper portion 110 has substantially the same area and the same shape as the upper surface portion of the grating provided before opening the bottom portion 50 of the work space 20. As shown in FIG. 4, the upper surface portion 101 has a width that is longer than the length between the steel structures S, S provided in a lattice shape to lock the grating G of the bottom portion 50. The thickness of the upper portion 110 of the dummy grating 100 is such that the upper surface portion 101 has the same height as the upper surface portion of the adjacent grating G.

下部120の断面は、図4に示すように正四角形状で上部110の断面よりも小さい断面積を有し、この断面積の差により上部110と下部120との境界部位には段差121が形成されている。この段差121を底部50の開口部に露出した鉄骨構造S、Sに掛止することにより、ダミーグレーチング100を底部50に取り付けることができる。なお、ダミーグレーチング100の上部110と下部120は、例えばポリカーボネート、あるいはそれと同種の合成樹脂からなる。   The cross section of the lower portion 120 is a regular square shape and has a smaller cross sectional area than the cross section of the upper portion 110 as shown in FIG. 4, and a step 121 is formed at the boundary portion between the upper portion 110 and the lower portion 120 due to the difference in cross sectional area. Has been. The dummy grating 100 can be attached to the bottom 50 by hooking the step 121 to the steel structures S and S exposed at the opening of the bottom 50. The upper part 110 and the lower part 120 of the dummy grating 100 are made of, for example, polycarbonate or a synthetic resin of the same kind.

ダミーグレーチング100の上面部101には、図2に示すように複数個の通気孔105が設けられている。通気孔105は、底部50の開口前に設けられていたグレーチングに形成されていた通気孔と同じ径であって、かつ同じパターンを有することが好ましく、例えば中空の円筒形状である。この通気孔105によって、ダミーグレーチング100の上下方向に空気が流れる。なお、通気孔105は、空気の流れに特に問題を生じさせない範囲で、任意の個数、形状、径、及び分布を有することができる。   A plurality of vent holes 105 are provided in the upper surface portion 101 of the dummy grating 100 as shown in FIG. The vent hole 105 preferably has the same diameter and the same pattern as the vent hole formed in the grating provided before the opening of the bottom portion 50, and has, for example, a hollow cylindrical shape. Air flows through the vent 105 in the vertical direction of the dummy grating 100. Note that the air holes 105 can have any number, shape, diameter, and distribution within a range that does not particularly cause a problem in the air flow.

ダミーグレーチング100の側面部103には、図2に示すように上部110と下部120を貫通するホール130が形成されている。ホール130は、ダミーグレーチング100の側面部103の中心又はほぼ中心に位置し、その横断面形状は半円形状である。ホール130には、後述するホール130を開閉するためのホール蓋体が収められるように、ホール130の内周に沿って突出した段差131がホール130の内周に形成されている。段差131は、ダミーグレーチング100の上部110と下部120との境界部位に形成される。なお、ホール130は、一の側面部103に複数形成されていてもよく、また複数の側面部103に形成されていてもよい。   As shown in FIG. 2, a hole 130 that penetrates the upper portion 110 and the lower portion 120 is formed in the side surface portion 103 of the dummy grating 100. The hole 130 is located at the center or substantially the center of the side surface portion 103 of the dummy grating 100, and the cross-sectional shape thereof is a semicircular shape. In the hole 130, a step 131 protruding along the inner periphery of the hole 130 is formed on the inner periphery of the hole 130 so that a hole lid for opening and closing the hole 130 described later is accommodated. The step 131 is formed at a boundary portion between the upper part 110 and the lower part 120 of the dummy grating 100. Note that a plurality of holes 130 may be formed in one side surface portion 103, or may be formed in a plurality of side surface portions 103.

ダミーグレーチング100は、図5に示すようにホール130を開閉するためのホール蓋体132をさらに有している。ホール蓋体132は板状であり、その上面部はホール130と実質的に同じ面積であって、かつ同じ形状である。ホール蓋体132の上面部には、当該ホール蓋体132を貫通する通気孔133が形成されていてもよい。ホール蓋体132は、ホール130の開放を要しない場合に、段差131に係止されてホール130を閉塞する。なお、ホール蓋体132は、ダミーグレーチング100と同じ材料、例えばポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂からなることが好ましい。   As shown in FIG. 5, the dummy grating 100 further includes a hole lid 132 for opening and closing the hole 130. The hole lid 132 has a plate shape, and the upper surface thereof has substantially the same area as the hole 130 and has the same shape. A vent hole 133 that penetrates the hole lid 132 may be formed on the upper surface of the hole lid 132. When the hole 130 does not need to be opened, the hole lid 132 is locked by the step 131 to close the hole 130. The hole lid 132 is preferably made of the same material as the dummy grating 100, for example, polycarbonate or the same type of synthetic resin.

ダミーグレーチング100の上面部101には、図2に示すようにホール蓋体132を一時的に収納することができる収納部107が形成されている。この収納部107は、ホール蓋体132と同じ面積であって、かつ同じ形状である。ホール蓋体132は、収納部107に収められる際に、当該収められたホール蓋体132とダミーグレーチング100の上面部101とが同一の高さになるようにする厚みを有している。すなわち、収納部107は、ホール蓋体132と同じ形状を有する浅いくぼみ部として形成される。収納部107は、ホール130が設けられた側面部103に接して上面部101の一方側に設けられる(図2では左側)。   On the upper surface portion 101 of the dummy grating 100, a storage portion 107 capable of temporarily storing the hole lid 132 is formed as shown in FIG. The storage portion 107 has the same area as the hole lid 132 and has the same shape. When the hole lid 132 is housed in the housing portion 107, the hole lid body 132 has a thickness such that the housed hole lid body 132 and the upper surface portion 101 of the dummy grating 100 have the same height. That is, the storage portion 107 is formed as a shallow hollow portion having the same shape as the hole lid 132. The storage portion 107 is provided on one side of the upper surface portion 101 in contact with the side surface portion 103 provided with the hole 130 (left side in FIG. 2).

また、ダミーグレーチング100の上面部101には、取っ手部(図示せず)が設けられているのが好ましい。   In addition, a handle portion (not shown) is preferably provided on the upper surface portion 101 of the dummy grating 100.

本実施の形態にかかるダミーグレーチング100は以上のように構成されており、例えば作業のために上層作業空間域20の底部50のグレーチングGの一部を開放する際に、その底部50の開口部にダミーグレーチング100が臨時的に設置される。そして、この作業が例えば上層作業空間域20に電線やガス配管を接続して作業をする必要がある場合、図3に示すようにホール蓋体132を収納部107に収納し、当該電線やガス配管Pをホール130から延出させる。また、作業がこのような電線やガス配管Pを設けることを必要としない場合、図5に示すようにホール蓋体132でホール132を閉塞して作業を行う。   The dummy grating 100 according to the present embodiment is configured as described above. For example, when a part of the grating G of the bottom 50 of the upper work space 20 is opened for work, the opening of the bottom 50 is opened. A dummy grating 100 is temporarily installed. When this work needs to be performed by connecting an electric wire or a gas pipe to the upper working space 20, for example, the hole lid 132 is housed in the housing portion 107 as shown in FIG. The pipe P is extended from the hole 130. Further, when the work does not require the provision of such an electric wire or gas pipe P, the work is performed by closing the hole 132 with the hole lid 132 as shown in FIG.

以上の実施の形態によれば、クリーンルーム10の上層作業空間20の底部50を構成するグレーチングGを開放する際、底部50に形成される開口部をダミーグレーチング100で閉塞することにより、安全事故や作業道具の落下などを未然に抑え、かつ開口に伴う空気流の乱れを防止することができる。   According to the above embodiment, when opening the grating G constituting the bottom 50 of the upper working space 20 of the clean room 10, the opening formed in the bottom 50 is closed with the dummy grating 100, It is possible to prevent the work tool from dropping and prevent the air flow from being disturbed due to the opening.

ダミーグレーチング100の側面部103にホール130が形成されているので、電線やガス配管Pをダミーグレーチング100のホール130を介して上層作業空間域20に接続することができる。これによって、グレーチングGを開放することなく必要な作業を連続して行うことができる。   Since the hole 130 is formed in the side surface portion 103 of the dummy grating 100, the electric wire or the gas pipe P can be connected to the upper working space 20 through the hole 130 of the dummy grating 100. Thus, necessary work can be continuously performed without opening the grating G.

ダミーグレーチング100はホール130を開閉するホール蓋体132を有しているので、ホール130の開放が不要である場合は、ホール蓋体132でホール130を閉鎖することにより、ホール130から作業道具などが下層ユーティリティー部30側に落ちるなどの事故を防止することができる。さらに、ホール130の開放による空気流の乱れも防止することができる。   Since the dummy grating 100 has a hole lid 132 that opens and closes the hole 130, when it is not necessary to open the hole 130, the hole 130 is closed by the hole lid 132, so that a work tool or the like is removed from the hole 130. Can be prevented from falling to the lower utility section 30 side. Furthermore, the disturbance of the air flow due to the opening of the hole 130 can be prevented.

ダミーグレーチング100の上面部110には、収納部107が形成されているので、ダミーグレーチング100が取り付けられ、ホール130を開放する場合には、不要になったホール蓋体132を収納部107に収納することができる。   Since the storage portion 107 is formed on the upper surface portion 110 of the dummy grating 100, when the dummy grating 100 is attached and the hole 130 is opened, the hole cover 132 that is no longer needed is stored in the storage portion 107. can do.

ダミーグレーチング100には、複数の通気孔105が形成されているので、ダミーグレーチング100を介して上層作業空間域20と下層ユーティリティー部30間の上下方向の空気流の循環をより円滑に行おこなうことができる。   Since the dummy grating 100 is formed with a plurality of vent holes 105, the air flow in the vertical direction between the upper working space 20 and the lower utility section 30 can be more smoothly circulated through the dummy grating 100. Can do.

ダミーグレーチング100の上面部110は、隣接するグレーチングGの上面部と同一高さでるので、作業者の通行がダミーグレーチングの取付けにより邪魔されることがない。   Since the upper surface portion 110 of the dummy grating 100 has the same height as the upper surface portion of the adjacent grating G, the passage of the worker is not obstructed by the attachment of the dummy grating.

ダミーグレーチング100の上部110と下部120との境界部位には段差121が形成されているので、底部50の開口部に露出した鉄骨構造S上にダミーグレーチング100を容易に取り付けることができる。   Since the step 121 is formed at the boundary portion between the upper part 110 and the lower part 120 of the dummy grating 100, the dummy grating 100 can be easily mounted on the steel structure S exposed at the opening of the bottom part 50.

ダミーグレーチング100は、ポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂からなるので、十分な強度を有し、作業者がダミーグレーチング100上を往来し続けても破損しない。また、ポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂は軽量であるので、ダミーグレーチング100による底部50の開口部の開閉を容易に行うことができる。   Since the dummy grating 100 is made of polycarbonate or a synthetic resin of the same type, the dummy grating 100 has sufficient strength and will not be damaged even if an operator continues to travel on the dummy grating 100. Further, since the polycarbonate and the same type of synthetic resin are lightweight, the opening of the bottom 50 can be easily opened and closed by the dummy grating 100.

ダミーグレーチング100の上面部101に取っ手が設けられているので、ダミーグレーチング100の取り外しがより容易になる。   Since the handle is provided on the upper surface portion 101 of the dummy grating 100, the dummy grating 100 can be removed more easily.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば本実施の形態のクリーンルームは、半導体製造用クリーンルームであったが、医薬、精密機械、バイオ産業、新素材産業などの多くの分野で用いられるクリーンルームにも用いることができる。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be made within the scope of the ideas described in the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. It is understood that it belongs. For example, the clean room of this embodiment is a clean room for semiconductor manufacturing, but it can also be used in clean rooms used in many fields such as medicine, precision machinery, bio industry, new material industry and the like.

本発明は、クリーンルームにおける上層作業空間域の底部を構成するグレーチングの一部を開放した際に、当該グレーチングの開放による安全事故、例えば作業者の墜落や作業道具の落下事故を防止するのに特に有用である。   The present invention is particularly useful for preventing a safety accident caused by the opening of the grating, for example, a crash of an operator or a fall of a work tool when a part of the grating constituting the bottom of the upper working space area in the clean room is opened. Useful.

Claims (8)

クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、
前記ダミーグレーチングは、前記上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞し、
前記ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、前記ホールを開閉するホール蓋体を有することを特徴とするダミーグレーチング。
A dummy grating for attaching to the bottom of the upper working space area of a clean room,
The dummy grating closes the opening formed by opening the grating that forms the bottom of the upper working space area,
The dummy grating has a hole formed in a side surface portion thereof, and has a hole lid for opening and closing the hole.
前記ダミーグレーチングは、上面部を含む上部と、この上部の下端に一体で形成される下部とからなり、
前記上面部は正四角形状であり、
前記上部と下部との境界部位には段差が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のダミーグレーチング。
The dummy grating is composed of an upper part including an upper surface part and a lower part formed integrally with a lower end of the upper part,
The upper surface portion is a regular square shape,
The dummy grating according to claim 1, wherein a step is provided at a boundary portion between the upper part and the lower part.
前記ホールは、前記ダミーグレーチングの側面部の中心に位置する半円形の形状を有していることを特徴とする請求項2に記載のダミーグレーチング。 The dummy grating according to claim 2, wherein the hole has a semicircular shape located at a center of a side surface portion of the dummy grating. 前記ダミーグレーチングの上面部には、前記ホール蓋体を収納することができる収納部が形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のダミーグレーチング。 2. The dummy grating according to claim 1, wherein a storage portion that can store the hole lid is formed on an upper surface portion of the dummy grating. 3. 前記収納部は、ホール蓋体と同じ形状と深さを有するくぼみ部からなることを特徴とする請求項4に記載のダミーグレーチング。 5. The dummy grating according to claim 4, wherein the storage portion includes a hollow portion having the same shape and depth as the hole lid. 前記ダミーグレーチングの上面部には、取っ手が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のダミーグレーチング。 The dummy grating according to claim 1, wherein a handle is provided on an upper surface portion of the dummy grating. 前記ダミーグレーチングは、ポリカーボネートを含む合成樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載のダミーグレーチング。 The dummy grating according to claim 1, wherein the dummy grating is made of a synthetic resin including polycarbonate. 前記ダミーグレーチングの上面部は、隣接するグレーチングの上面部と同一高さであることを特徴とする請求項1に記載のダミーグレーチング。 2. The dummy grating according to claim 1, wherein an upper surface portion of the dummy grating is flush with an upper surface portion of an adjacent grating.
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