JPWO2009050808A1 - Clean room dummy grating - Google Patents
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Abstract
【課題】クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも安全及び品質上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行える装置を提供する。【解決手段】クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、ダミーグレーチングは、上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞する。ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、当該ホールを開閉するホール蓋体をさらに有している。The present invention provides an apparatus capable of continuously performing work while preventing problems in safety and quality even when the grating at the bottom of an upper working space area of a clean room is opened. A dummy grating for attaching to the bottom of an upper layer work space area of a clean room, and the dummy grating closes an opening formed by opening the grating that forms the bottom of the upper layer work space area. The dummy grating has a hole formed in a side surface thereof, and further includes a hole lid for opening and closing the hole.
Description
本発明は、クリーンルームのダミーグレーチングに係り、より詳しくは、クリーンルームにおける上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングに関する。 The present invention relates to a dummy grating in a clean room, and more particularly to a dummy grating for attaching to the bottom of an upper working space in a clean room.
クリーンルームは、汚染物質が所定値以下に抑えられた空間であって、この空間内において作業を進めることで作業対象体が汚染物質に露出しないようにし、または汚染物質に露出してもその被害を最小化できるようにする設備である。一方、例えば半導体は、多くの工程を経て製造され、工程中に周辺環境に存在する浮遊粉塵、有害ガス、パーティクル、微生物などの汚染物質によって半導体素子の品質及び歩留まりが低下することがあるため、一般に、半導体の製造工程はクリーンルーム内で行われる。 A clean room is a space in which contaminants are kept below a specified value, and work in this space prevents the work subject from being exposed to contaminants, or even if exposed to contaminants, damage is caused. It is a facility that can be minimized. On the other hand, for example, semiconductors are manufactured through many processes, and the quality and yield of semiconductor elements may be reduced by contaminants such as suspended dust, harmful gases, particles, and microorganisms that exist in the surrounding environment during the process. Generally, a semiconductor manufacturing process is performed in a clean room.
半導体の高集積化及び歩留まりの向上のために、クリーンルームの清浄度を高める必要があることはもとより、クリーンルーム内で行われる装備の修理などの作業にも多くの制限が求められてきている。一方、クリーンルームは、上記の半導体製造工程のほかにも、医薬、精密機械、バイオ産業、新素材産業などの多くの分野で汚染物質による問題を解決することができる必須施設となりつつある。 In order to increase the integration density of semiconductors and improve the yield, it is necessary not only to increase the cleanliness of the clean room, but also to restrict the work performed in the clean room such as equipment repair. On the other hand, in addition to the semiconductor manufacturing process described above, the clean room is becoming an indispensable facility that can solve problems caused by pollutants in many fields such as medicine, precision machinery, bio industry, and new material industry.
従来より利用される半導体製造用クリーンルームの構成について、図1を参照して説明する。図1は、半導体製造用クリーンルームの概路図であって、同図における図面符号10は、クリーンルームを示す。
The structure of a clean room for semiconductor manufacturing conventionally used will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram of a clean room for manufacturing a semiconductor, and a
クリーンルーム10は、上層の作業空間域20と、下層のユーティリティー部30、及び循環ダクト40とで構成される。一般に、クリーンルーム10内の気流はダウンストリームをなし、したがって、作業空間域の天井に配設された空調部70から供給される空気は、作業空間域20とユーティリティー部30を流れてから、循環ダクト40を通って再び空調部70に流れ込む。
The
空調部70は、一般に循環ファン及びフィルターで構成され、この空調部70により空気が強制循環される。作業空間域20内には、成膜装備、エッチング装備、プラズマ処理装備などの半導体製造用主装備21が配設され、ユーティリティー部30には、電源装置、ポンプ、ガス供給装置、チラー(chiller)などの補助装備31が配設される。
The
作業空間域20の底部50は鉄骨構造からなり、その上に複数枚のグレーチングが取り付けられて底部50全体を覆っている。グレーチングは、半導体製造用主装備21を支持できる強度を有する金属からなる。一方、底部50の下方には補助底部60を設けることにより、底部50と補助底部60との間に電気、ガスなどの配管ラインが通り得る空間部を形成し、必要に応じて作業者がこの空間部内で配管作業または修理作業を行う。
The
しかしながら、このように構成された従来のクリーンルームにおいて配管及び修理作業を行う際、次のような問題があった。すなわち、配管作業及び修理作業の際、作業者は一部のグレーチングを治具などを利用して開放した後、底部50と補助底部60との間で作業を行うが、このとき、グレーチングを開放することで形成される開口部から他の作業者が墜落したり、または作業道具などを落としたりするなどの事故が生じることがあり、また、これは、安全事故や設備の破損にもつながることがある。このような事故を予防するために作業が行われる開口部の周辺に安全柵を設置するなどの対策が講じられたが、根本的な解決策にはなりえなかった。また、グレーチングを開放することによって作業空間域20とユーティリティー部30との間の空気流に変化が生じ、この結果、作業空間域20内の清浄度が低下したり、または高精度を要する半導体工程に悪影響を及ぼすという問題を生じさせたりした。
However, when performing piping and repair work in the conventional clean room configured as described above, there are the following problems. That is, at the time of piping work and repair work, the operator opens a part of the grating using a jig or the like, and then performs work between the
また、例えば電線あるいはガス配管等を上層の作業空間域20に接続して作業を行う場合、連続して作業を行うためには、底部50の開口部を閉塞するグレーチングが障害となる。その結果、底部50の一部を開口せざるをえないという問題が生じた。
For example, when an operation is performed by connecting an electric wire or a gas pipe or the like to the upper
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも安全及び品質上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行える装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above points, and can continuously work while preventing the safety and quality problems from occurring even when the grating at the bottom of the upper working space area of the clean room is opened. The object is to provide a device.
前記目的を達成するため、本発明は、クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、前記ダミーグレーチングは、前記上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞し、前記ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、前記ホールを開閉するホール蓋体を有することを特徴としている。 In order to achieve the above object, the present invention provides a dummy grating for attaching to the bottom of an upper working space area of a clean room, wherein the dummy grating opens the grating forming the bottom of the upper working space area. The opening formed is closed, and the dummy grating is characterized in that a hole is formed in a side surface thereof and a hole lid for opening and closing the hole.
本発明によれば、クリーンルームの上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを一時的な理由から開放する際、底部に形成される開口部を本発明によるダミーグレーチングで閉塞することにより、安全事故や作業道具の落下などを未然に抑え、かつ空気流の乱れを防止することができる。また、ダミーグレーチングの側面部にホールが形成されているので、電線、ガス配管などをダミーグレーチングのホールを通じて接続することができ、グレーチングを開放することなく必要な作業を連続して行うことができる。さらに、ダミーグレーチングはホールを開閉するホール蓋体を有しているので、ホールの開放が不要である場合は、ホール蓋体でホールを閉塞することにより、ホールから作業道具などがユーティリティー部に落ちるなどの事故を防止することができる。 According to the present invention, when opening the grating forming the bottom of the upper working space area of the clean room for a temporary reason, the opening formed in the bottom is closed with the dummy grating according to the present invention, It is possible to prevent the work tool from falling and prevent the air flow from being disturbed. Also, since holes are formed in the side surfaces of the dummy grating, electric wires, gas pipes, etc. can be connected through the holes of the dummy grating, and necessary operations can be continuously performed without opening the grating. . Furthermore, since the dummy grating has a hole lid that opens and closes the hole, if it is not necessary to open the hole, the hole is closed with the hole lid, so that work tools fall from the hole to the utility section. Accidents such as can be prevented.
前記ダミーグレーチングは、上面部を含む上部と、この上部の下端に一体で形成される下部とからなり、前記上面部は正四角形状であり、前記上部と下部との境界部位には段差が設けられていてもよい。これによって、ダミーグレーチングは、作業空間域の底部を構成する鉄骨構造上に容易に取り付けることができる。 The dummy grating includes an upper portion including an upper surface portion and a lower portion formed integrally with a lower end of the upper portion, the upper surface portion is a regular square shape, and a step is provided at a boundary portion between the upper portion and the lower portion. It may be done. Thereby, the dummy grating can be easily mounted on the steel structure constituting the bottom of the work space area.
前記ホールは、前記ダミーグレーチングの側面部の中心に位置する半円形の形状を有していてもよい。 The hole may have a semicircular shape positioned at the center of the side surface of the dummy grating.
前記ダミーグレーチングの上面部には、前記ホール蓋体を収納することができる収納部が形成されていてもよい。また、前記収納部は、ホール蓋体と同じ形状と深さを有するくぼみ部(recess)であってもよい。これによって、ホール蓋体を容易に収納することができる。 A storage portion that can store the hole lid may be formed on the upper surface of the dummy grating. The storage part may be a recess having the same shape and depth as the hole lid. Thereby, the hole lid can be easily accommodated.
前記ダミーグレーチングの上面部には、取っ手が設けられていてもよい。これによって、ダミーグレーチングの取り外しがより容易になる。 A handle may be provided on the upper surface of the dummy grating. This makes it easier to remove the dummy grating.
前記ダミーグレーチングは、ポリカーボネートを含む合成樹脂からなっていてもよい。これによって、十分な強度を有する軽量のダミーグレーチングを得ることができる。 The dummy grating may be made of a synthetic resin including polycarbonate. Thereby, a lightweight dummy grating having a sufficient strength can be obtained.
前記ダミーグレーチングの上面部は、隣接するグレーチングの上面部と同一高さであってもよい。これによって、作業者の通行がダミーグレーチングの取付けにより邪魔されることがない。 The upper surface portion of the dummy grating may be the same height as the upper surface portion of the adjacent grating. As a result, the passage of the worker is not disturbed by the attachment of the dummy grating.
本発明によれば、クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも、ダミーグレーチングで開口部を閉塞して安全上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行うことができる。 According to the present invention, when opening the grating at the bottom of the upper working space area of the clean room, it is possible to continuously work while closing the opening with dummy grating so as not to cause a safety problem. Can do.
10 クリーンルーム
20 作業空間域
30 ユーティリティー部
50 底部
100 ダミーグレーチング
101 上面部
103 側面部
107 収納部
110 上部
120 下部
121 段差
130 ホール
132 ホール蓋体
G グレーチング
S 鉄骨構造DESCRIPTION OF
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図2は、本実施の形態にかかるダミーグレーチング100の斜視図を示している。なお、本実施の形態にかかるダミーグレーチング100は、図1に示したクリーンルーム10における上層の作業空間20の底部50の一部を開口する場合に、図3に示すように当該底部50の開口部に臨時的に設置するものである。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 2 is a perspective view of the dummy grating 100 according to the present embodiment. Note that the dummy grating 100 according to the present embodiment has an opening in the
ダミーグレーチング100は、図2に示すように正四角形状の上面部101を含む上部110と、この上部110の下端に一体で形成される下部120とから構成されている。上部110の上面部101は、作業空間20の底部50の開口前に設けられていたグレーチングの上面部とほぼ同一の面積かつ同一の形状である。上面部101は、図4に示すように底部50のグレーチングGを係止するために格子状に設けられた鉄骨構造S、S間の長さよりも長い幅を有している。ダミーグレーチング100の上部110の厚みは、上面部101が隣接するグレーチングGの上面部と同じ高さになる厚みとなっている。
As shown in FIG. 2, the
下部120の断面は、図4に示すように正四角形状で上部110の断面よりも小さい断面積を有し、この断面積の差により上部110と下部120との境界部位には段差121が形成されている。この段差121を底部50の開口部に露出した鉄骨構造S、Sに掛止することにより、ダミーグレーチング100を底部50に取り付けることができる。なお、ダミーグレーチング100の上部110と下部120は、例えばポリカーボネート、あるいはそれと同種の合成樹脂からなる。
The cross section of the
ダミーグレーチング100の上面部101には、図2に示すように複数個の通気孔105が設けられている。通気孔105は、底部50の開口前に設けられていたグレーチングに形成されていた通気孔と同じ径であって、かつ同じパターンを有することが好ましく、例えば中空の円筒形状である。この通気孔105によって、ダミーグレーチング100の上下方向に空気が流れる。なお、通気孔105は、空気の流れに特に問題を生じさせない範囲で、任意の個数、形状、径、及び分布を有することができる。
A plurality of vent holes 105 are provided in the
ダミーグレーチング100の側面部103には、図2に示すように上部110と下部120を貫通するホール130が形成されている。ホール130は、ダミーグレーチング100の側面部103の中心又はほぼ中心に位置し、その横断面形状は半円形状である。ホール130には、後述するホール130を開閉するためのホール蓋体が収められるように、ホール130の内周に沿って突出した段差131がホール130の内周に形成されている。段差131は、ダミーグレーチング100の上部110と下部120との境界部位に形成される。なお、ホール130は、一の側面部103に複数形成されていてもよく、また複数の側面部103に形成されていてもよい。
As shown in FIG. 2, a
ダミーグレーチング100は、図5に示すようにホール130を開閉するためのホール蓋体132をさらに有している。ホール蓋体132は板状であり、その上面部はホール130と実質的に同じ面積であって、かつ同じ形状である。ホール蓋体132の上面部には、当該ホール蓋体132を貫通する通気孔133が形成されていてもよい。ホール蓋体132は、ホール130の開放を要しない場合に、段差131に係止されてホール130を閉塞する。なお、ホール蓋体132は、ダミーグレーチング100と同じ材料、例えばポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂からなることが好ましい。
As shown in FIG. 5, the dummy grating 100 further includes a
ダミーグレーチング100の上面部101には、図2に示すようにホール蓋体132を一時的に収納することができる収納部107が形成されている。この収納部107は、ホール蓋体132と同じ面積であって、かつ同じ形状である。ホール蓋体132は、収納部107に収められる際に、当該収められたホール蓋体132とダミーグレーチング100の上面部101とが同一の高さになるようにする厚みを有している。すなわち、収納部107は、ホール蓋体132と同じ形状を有する浅いくぼみ部として形成される。収納部107は、ホール130が設けられた側面部103に接して上面部101の一方側に設けられる(図2では左側)。
On the
また、ダミーグレーチング100の上面部101には、取っ手部(図示せず)が設けられているのが好ましい。
In addition, a handle portion (not shown) is preferably provided on the
本実施の形態にかかるダミーグレーチング100は以上のように構成されており、例えば作業のために上層作業空間域20の底部50のグレーチングGの一部を開放する際に、その底部50の開口部にダミーグレーチング100が臨時的に設置される。そして、この作業が例えば上層作業空間域20に電線やガス配管を接続して作業をする必要がある場合、図3に示すようにホール蓋体132を収納部107に収納し、当該電線やガス配管Pをホール130から延出させる。また、作業がこのような電線やガス配管Pを設けることを必要としない場合、図5に示すようにホール蓋体132でホール132を閉塞して作業を行う。
The dummy grating 100 according to the present embodiment is configured as described above. For example, when a part of the grating G of the bottom 50 of the
以上の実施の形態によれば、クリーンルーム10の上層作業空間20の底部50を構成するグレーチングGを開放する際、底部50に形成される開口部をダミーグレーチング100で閉塞することにより、安全事故や作業道具の落下などを未然に抑え、かつ開口に伴う空気流の乱れを防止することができる。
According to the above embodiment, when opening the grating G constituting the bottom 50 of the upper working
ダミーグレーチング100の側面部103にホール130が形成されているので、電線やガス配管Pをダミーグレーチング100のホール130を介して上層作業空間域20に接続することができる。これによって、グレーチングGを開放することなく必要な作業を連続して行うことができる。
Since the
ダミーグレーチング100はホール130を開閉するホール蓋体132を有しているので、ホール130の開放が不要である場合は、ホール蓋体132でホール130を閉鎖することにより、ホール130から作業道具などが下層ユーティリティー部30側に落ちるなどの事故を防止することができる。さらに、ホール130の開放による空気流の乱れも防止することができる。
Since the dummy grating 100 has a
ダミーグレーチング100の上面部110には、収納部107が形成されているので、ダミーグレーチング100が取り付けられ、ホール130を開放する場合には、不要になったホール蓋体132を収納部107に収納することができる。
Since the
ダミーグレーチング100には、複数の通気孔105が形成されているので、ダミーグレーチング100を介して上層作業空間域20と下層ユーティリティー部30間の上下方向の空気流の循環をより円滑に行おこなうことができる。
Since the dummy grating 100 is formed with a plurality of vent holes 105, the air flow in the vertical direction between the upper working
ダミーグレーチング100の上面部110は、隣接するグレーチングGの上面部と同一高さでるので、作業者の通行がダミーグレーチングの取付けにより邪魔されることがない。
Since the
ダミーグレーチング100の上部110と下部120との境界部位には段差121が形成されているので、底部50の開口部に露出した鉄骨構造S上にダミーグレーチング100を容易に取り付けることができる。
Since the
ダミーグレーチング100は、ポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂からなるので、十分な強度を有し、作業者がダミーグレーチング100上を往来し続けても破損しない。また、ポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂は軽量であるので、ダミーグレーチング100による底部50の開口部の開閉を容易に行うことができる。 Since the dummy grating 100 is made of polycarbonate or a synthetic resin of the same type, the dummy grating 100 has sufficient strength and will not be damaged even if an operator continues to travel on the dummy grating 100. Further, since the polycarbonate and the same type of synthetic resin are lightweight, the opening of the bottom 50 can be easily opened and closed by the dummy grating 100.
ダミーグレーチング100の上面部101に取っ手が設けられているので、ダミーグレーチング100の取り外しがより容易になる。
Since the handle is provided on the
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば本実施の形態のクリーンルームは、半導体製造用クリーンルームであったが、医薬、精密機械、バイオ産業、新素材産業などの多くの分野で用いられるクリーンルームにも用いることができる。 The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be made within the scope of the ideas described in the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. It is understood that it belongs. For example, the clean room of this embodiment is a clean room for semiconductor manufacturing, but it can also be used in clean rooms used in many fields such as medicine, precision machinery, bio industry, new material industry and the like.
本発明は、クリーンルームにおける上層作業空間域の底部を構成するグレーチングの一部を開放した際に、当該グレーチングの開放による安全事故、例えば作業者の墜落や作業道具の落下事故を防止するのに特に有用である。 The present invention is particularly useful for preventing a safety accident caused by the opening of the grating, for example, a crash of an operator or a fall of a work tool when a part of the grating constituting the bottom of the upper working space area in the clean room is opened. Useful.
Claims (8)
前記ダミーグレーチングは、前記上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞し、
前記ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、前記ホールを開閉するホール蓋体を有することを特徴とするダミーグレーチング。A dummy grating for attaching to the bottom of the upper working space area of a clean room,
The dummy grating closes the opening formed by opening the grating that forms the bottom of the upper working space area,
The dummy grating has a hole formed in a side surface portion thereof, and has a hole lid for opening and closing the hole.
前記上面部は正四角形状であり、
前記上部と下部との境界部位には段差が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のダミーグレーチング。The dummy grating is composed of an upper part including an upper surface part and a lower part formed integrally with a lower end of the upper part,
The upper surface portion is a regular square shape,
The dummy grating according to claim 1, wherein a step is provided at a boundary portion between the upper part and the lower part.
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