JPWO2004108845A1 - Coating liquid for forming transparent film, base material with film and liquid crystal display cell - Google Patents

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Abstract

本発明は、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、絶縁性に優れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂からなる膜(配向膜)などとの密着性にも優れ、さらに靭性、可撓性等にも優れた透明被膜を形成可能な透明被膜形成用塗布液を提供する。 本発明の透明被膜形成用塗布液は、 水と有機溶媒とからなる混合溶媒にマトリックス形成成分が分散されてなる透明被膜形成用塗布液であって、 該マトリックス形成成分が加水分解性基を2個以上有する有機ケイ素化合物あるいはその加水分解物を含むことを特徴とする。The present invention is excellent in scratch resistance, acid resistance, alkali resistance, water resistance, insulation, excellent adhesion to an electrode film or a film (alignment film) made of a highly hydrophobic resin such as polyimide resin, Furthermore, a coating liquid for forming a transparent film capable of forming a transparent film having excellent toughness and flexibility is provided. The coating liquid for forming a transparent film according to the present invention is a coating liquid for forming a transparent film in which a matrix-forming component is dispersed in a mixed solvent composed of water and an organic solvent, and the matrix-forming component has 2 hydrolyzable groups. It contains an organosilicon compound having at least one or a hydrolyzate thereof.

Description

本発明は、新規な透明被膜形成用塗布液、およびこのような被膜形成用塗布液から形成された被膜を有する被膜付基材ならびに該被膜付基材を有する液晶表示セルに関する。さらに具体的には、従来の透明被膜形成用塗布液では得ることが困難であった、可撓性、靭性に優れ、さらには耐擦傷性に優れた透明被膜を形成可能な透明被膜形成用塗布液に関する。  The present invention relates to a novel transparent film-forming coating solution, a coated substrate having a coating formed from such a coating-forming coating solution, and a liquid crystal display cell having the coated substrate. More specifically, the coating for forming a transparent film, which is difficult to obtain with the conventional coating liquid for forming a transparent film, has excellent flexibility and toughness, and further can form a transparent film with excellent scratch resistance. Regarding liquids.

従来より、ガラス基板の表面にITOなどの透明電極膜、ポリイミドなどの高分子からなる配向膜が順次積層された一対の透明電極付基板を、それぞれの透明電極膜同士が対向するようにスペーサを介して対向させ、このスペーサによって所定の間隔に開けられた隙間に液晶を封入した液晶表示セルが知られている。  Conventionally, a transparent electrode film such as ITO and an alignment film made of a polymer such as polyimide are sequentially laminated on the surface of a glass substrate, and a spacer is provided so that the transparent electrode films face each other. There is known a liquid crystal display cell in which liquid crystal is sealed in a gap opened at a predetermined interval by this spacer.

このタイプの液晶表示セルでは、製造工程で液晶セル内部に混入した異物やスペーサによって配向膜が傷つけられ、これによって、上下の電極間に導通が生じ、この導通に起因する表示不良が発生することがあった。  In this type of liquid crystal display cell, the alignment film is damaged by foreign substances or spacers mixed in the liquid crystal cell during the manufacturing process, which causes conduction between the upper and lower electrodes, and display defects due to this conduction occur. was there.

このため、上記のような液晶表示セルでは、透明電極付基板の透明電極膜と配向膜との間に透明な絶縁膜が形成されている(特開昭60−260021号公報、特開平1−150116号公報、特開平2−221923号公報など参照)。  For this reason, in the liquid crystal display cell as described above, a transparent insulating film is formed between the transparent electrode film of the substrate with a transparent electrode and the alignment film (JP-A-60-260021, JP-A-1- 150116, JP-A-2-221923, etc.).

ところで、上記配向膜としてはポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂が多く用いられている。このような疎水性の強い樹脂からなる配向膜を絶縁膜上に形成すると、絶縁膜と配向膜との密着性が不充分となり、液晶表示セルにラビング傷などによる表示むらが生じることがあった。このため、本願出願人は特許文献1(特開平4−247427号公報)において、配向膜との密着性に優れた絶縁膜を形成可能な塗布液として特定の粒子径を有する無機化合物を含むものを提案している。  By the way, as the alignment film, a highly hydrophobic resin such as a polyimide resin is often used. When such an alignment film made of a highly hydrophobic resin is formed on an insulating film, the adhesion between the insulating film and the alignment film becomes insufficient, and display unevenness due to rubbing scratches or the like may occur in the liquid crystal display cell. . For this reason, the applicant of the present application includes an inorganic compound having a specific particle size as a coating liquid capable of forming an insulating film excellent in adhesion to the alignment film in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 4-247427). Has proposed.

また、透明電極と配向膜との間にこのような絶縁膜を形成すると、配向膜のラビング時に発生する静電気などによって配向膜に傷や配向不良などが生じることもあった。このため本出願人は、特許文献2(特開平5−232459号公報)において、導電性微粒子とマトリックスからなり、かつ表面抵抗が10〜1013Ω/□である保護膜を透明電極表面に形成することを提案している。In addition, when such an insulating film is formed between the transparent electrode and the alignment film, the alignment film may be damaged or defective due to static electricity generated when the alignment film is rubbed. For this reason, the present applicant, in Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. H5-232459), has a protective film composed of conductive fine particles and a matrix and having a surface resistance of 10 9 to 10 13 Ω / □ on the surface of the transparent electrode. Propose to form.

しかしながら、昨今の液晶表示装置の薄型化、高繊細化、大画面化などの要望から、配向膜との密着がより高く、また耐擦傷性が高いものが望まれるようになっている。さらに、プラスチックなどの基板では絶縁膜自体に、優れた可撓性や靭性が望まれている。  However, due to the recent demands for thinning, high-definition, and large screens of liquid crystal display devices, those having higher adhesion to the alignment film and higher scratch resistance have been desired. Further, in a substrate such as plastic, excellent flexibility and toughness are desired for the insulating film itself.

また、近年では、TFT型液晶表示装置が広く使用されるようなっている。
TFT型液晶表示装置は、透明基板上にTFT(薄膜トランジスタ)素子、データ電極などのTFTアレイが設けられた液晶表示セルが使用されている。このTFTアレイによる凹凸を、平坦化膜を設けることで平坦化し、その上にITOなどの表示電極を設けることで、TFT型液晶表示装置の開口率を向上させ、かつTFTアレイの凹凸による液晶の配向乱れをなくすようにしている。
In recent years, TFT type liquid crystal display devices have been widely used.
The TFT type liquid crystal display device uses a liquid crystal display cell in which TFT arrays such as TFT (thin film transistor) elements and data electrodes are provided on a transparent substrate. The unevenness due to the TFT array is flattened by providing a flattening film, and a display electrode such as ITO is provided thereon, thereby improving the aperture ratio of the TFT type liquid crystal display device, and the liquid crystal due to the unevenness of the TFT array. The alignment disorder is eliminated.

さらにカラーフィルターを有する液晶表示装置においても、カラーフィルターを平坦化したり、液晶表示装置の信頼性を向上させたりするために絶縁性保護被膜が設けられている。  Further, in a liquid crystal display device having a color filter, an insulating protective film is provided in order to flatten the color filter and improve the reliability of the liquid crystal display device.

このような液晶表示装置で使用される平坦化被膜・絶縁性保護被膜としては、たとえば、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂などからなる有機樹脂被膜、SiO、Siなどの無機系被膜、アルキルトリヒドロキシシランの重合物からなる有機無機複合被膜などが用いられている。Examples of the flattening film / insulating protective film used in such a liquid crystal display device include organic resin films made of acrylic resin, polyester resin, etc., inorganic films such as SiO 2 and Si 3 N 4 , alkyls, etc. An organic-inorganic composite coating made of a polymer of trihydroxysilane has been used.

しかしながら有機樹脂被膜では、耐熱性が不充分であり、このためクラックが発生することがあり、さらには高温に晒されるとガス成分を放出したり、被膜の強度が低下したりすることがある。さらに、この有機樹脂被膜では、被膜上へのレジスト膜を形成しようとしても、形成が困難であるなどの問題点が多かった。  However, the organic resin film has insufficient heat resistance, which may cause cracks. Further, when exposed to high temperatures, the gas component may be released or the film strength may be reduced. Further, with this organic resin coating, there are many problems such as difficulty in forming a resist film on the coating.

また、無機系被膜では、被膜自体に吸湿性の問題があり、また被膜上へのレジスト膜を形成しにくく、さらには被膜自体の厚さが厚くなってしまうなどの多くの問題があった。
さらに有機無機複合被膜では、被膜がもろく、また表面に引っかき傷がつきやすいなどの問題点がある上、該被膜上へのレジスト膜の形成性などに問題があった。
特開平4−247427号公報 特開平5−232459号公報
In addition, the inorganic coating film has many problems such as a hygroscopic problem in the coating film itself, a difficulty in forming a resist film on the coating film, and an increase in the thickness of the coating film itself.
Furthermore, the organic / inorganic composite coating has problems such as a fragile coating and easy scratching on the surface, and a problem in the formability of a resist film on the coating.
JP-A-4-247427 JP-A-5-232459

本発明者等は、このような情況のもと、上記問題点を解消すべく鋭意検討した結果、特定の構造式を有する有機ケイ素化合物またはその加水分解物を用いることによって、耐水性、撥水性、靭性、可撓性等に優れた透明被膜が得られることを見出して本発明を完成するに至った。  Under these circumstances, the present inventors have intensively studied to solve the above problems, and as a result, by using an organosilicon compound having a specific structural formula or a hydrolyzate thereof, the water resistance and water repellency are improved. The inventors have found that a transparent film excellent in toughness and flexibility can be obtained, and have completed the present invention.

本発明は、前記のような従来技術における問題点を解決すべくなされたものであり、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、絶縁性に優れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂からなる膜(配向膜)などとの密着性にも優れ、さらに靭性、可撓性等にも優れた透明被膜を形成可能な透明被膜形成用塗布液、このような被膜を有する被膜付基材および液晶表示セルを提供することを目的としている。  The present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the prior art, and is excellent in scratch resistance, acid resistance, alkali resistance, water resistance, insulation, and hydrophobicity such as an electrode film or a polyimide resin. A coating solution for forming a transparent film capable of forming a transparent film having excellent adhesion to a film (alignment film) made of a strong resin, and having excellent toughness and flexibility, and a film having such a film It aims at providing a base material and a liquid crystal display cell.

本発明の要旨は以下の事項を含む。
[1]水と有機溶媒とからなる混合溶媒にマトリックス形成成分が分散されてなる透明被膜形成用塗布液であって、該マトリックス形成成分がa)下記式(I)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物、b)下記式(II)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物あるいはc)それらの混合物から選ばれる1種以上を含むことを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
The gist of the present invention includes the following matters.
[1] A coating solution for forming a transparent film in which a matrix-forming component is dispersed in a mixed solvent comprising water and an organic solvent, wherein the matrix-forming component is a) an organosilicon compound represented by the following formula (I) Or a hydrolyzate thereof, b) an organic silicon compound represented by the following formula (II), or a hydrolyzate thereof, or c) one or more selected from a mixture thereof. .

−SiR (3−m) (I)
〔式中、R−はR(CR −またはR10X−で表される。
は加水分解性基、水酸基、水素原子またはハロゲン原子を表す。
R 1 —SiR 2 m R 3 (3-m) (I)
Wherein, R 1 - is R 8 (CR 9 2) n - or represented by R 10 X-.
R 8 represents a hydrolyzable group, a hydroxyl group, a hydrogen atom or a halogen atom.

はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。
10はメチル基、水素原子または加水分解性基を表す。
nは3〜30の整数。
R 9 each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom.
R 10 represents a methyl group, a hydrogen atom or a hydrolyzable group.
n is an integer of 3 to 30.

Xは、−(CH)q−、−(Ph)−[ここで、Phはベンゼン環を表す]、
−(CH)q−(Ph)−、−(CH)q−(Ph)−(CH)y−、
−[(CH)q(CF)y(CH)r]−および
−(CH)q−(S)−(CH)r−から選ばれる二価の基[ここで、q、rおよびyは1〜30の整数を表す]。
X is — (CH 2 ) q—, — (Ph) — [wherein Ph represents a benzene ring],
- (CH 2) q- (Ph ) -, - (CH 2) q- (Ph) - (CH 2) y-,
- [(CH 2) q ( CF 2) y (CH 2) r] - and - (CH 2) q- (S ) - (CH 2) r- from divalent group [where selected, q, r and y represent an integer of 1 to 30].

は加水分解性基を表す。
はハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の有機基を表す。
mは1〜3の数を示す。
R 2 represents a hydrolyzable group.
R 3 represents an organic group having 1 to 30 carbon atoms which may contain a halogen atom.
m shows the number of 1-3.

但し、式(I)は1分子中に2〜3個の加水分解性基を有する。〕
3−nSi−(X)−SiR (3−p) (II)
〔式中、RおよびRは、独立に加水分解性基を表す。
However, Formula (I) has 2 to 3 hydrolyzable groups in one molecule. ]
R 4 n R 5 3-n Si- (X) -SiR 6 p R 7 (3-p) (II)
[Wherein R 4 and R 6 independently represent a hydrolyzable group.

およびRは、独立にハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の一価の有機基を表す。
Xは、−(CH)q−、−(Ph)−(ここで、Phはベンゼン環を表す)、
−(CH)q−(Ph)−、−(CH)q−(Ph)−(CH)y−、
−[(CH)q(CF)y(CH)r]−
−(CH)q−(S)−(CH)r−および−(S)q−から選ばれる二価の基[ここで、q、rおよびyは1〜30の整数を表す]。
R 5 and R 7 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms which may contain a halogen atom.
X is, - (CH 2) q - , - (Ph) - ( wherein, Ph represents a benzene ring),
- (CH 2) q- (Ph ) -, - (CH 2) q- (Ph) - (CH 2) y-,
- [(CH 2) q ( CF 2) y (CH 2) r] -
- (CH 2) q- (S ) - (CH 2) r- and - (S) divalent group selected from q- [wherein, q, r and y is an integer of 1 to 30].

nは0から3の数を示す。
pは0から3の数を示す。
但し、式(II)は1分子中に2個以上の加水分解性基を有する。〕
[2]前記式(I)の有機ケイ素化合物が1分子中に2個を超える加水分解性基を有するものであり、前記式(II)の有機ケイ素化合物が1分子中に2個を超える加水分解性基を有するものである[1]記載の透明被膜形成用塗布液。
[3]前記マトリックス形成成分が、さらに、a)下記式(III)で表される有機ケイ素化合物
Si(OR’)4−t (III)
〔ここで、Rはメチル基、エチル基、ビニル基またはエポキシ基から選ばれる。R’は炭素数1〜6のアルキル基。tは0〜4の数。〕、b)アセチルアセトナトキレート化合物、c)金属アルコキシドおよびd)ポリシラザンから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする[1]または[2]に記載の透明被膜形成用塗布液。
[4]前記マトリックス形成成分が、さらに、無機化合物粒子を含むことを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。
[5]上記[1]〜[4]のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を基材表面に塗布してなる透明被膜が形成されていることを特徴とする透明被膜付基材。
[6]少なくとも一方の基板の表面に透明電極膜、透明被膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルにおいて、
透明被膜が、[1]〜[4]のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を塗布して形成された被膜であることを特徴とする液晶表示セル。
[7]少なくとも一方の基板の表面にカラーフィルター、透明被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルにおいて、
透明被膜が、[1]〜[4]のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を塗布して形成された被膜であることを特徴とする液晶表示セル。
[8]少なくとも一方の基板の表面にTFTアレイ、透明被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルにおいて、
透明被膜が、[1]〜[4]のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を塗布して形成された被膜であることを特徴とする液晶表示セル。
n represents a number from 0 to 3.
p represents a number from 0 to 3.
However, Formula (II) has two or more hydrolyzable groups in one molecule. ]
[2] The organosilicon compound of formula (I) has more than two hydrolyzable groups in one molecule, and the organosilicon compound of formula (II) has more than two hydrolysates in one molecule. The coating liquid for forming a transparent film according to [1], which has a decomposable group.
[3] The matrix-forming component is further a) an organosilicon compound represented by the following formula (III) R t Si (OR ′) 4-t (III)
[Wherein R is selected from a methyl group, an ethyl group, a vinyl group or an epoxy group. R ′ is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. t is a number from 0 to 4. ] The coating liquid for forming a transparent film according to [1] or [2], comprising at least one selected from b) acetylacetonato chelate compound, c) metal alkoxide and d) polysilazane.
[4] The coating liquid for forming a transparent film according to any one of [1] to [3], wherein the matrix-forming component further contains inorganic compound particles.
[5] A substrate with a transparent coating, wherein a transparent coating is formed by applying the coating liquid for forming a transparent coating according to any one of [1] to [4] to the surface of the substrate.
[6] A pair of substrates with a transparent electrode, in which a transparent electrode film, a transparent film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate, are arranged at predetermined intervals so that the transparent electrodes face each other. In a liquid crystal display cell in which liquid crystal is sealed in a gap opened between the pair of substrates with transparent electrodes,
A liquid crystal display cell, wherein the transparent film is a film formed by applying the transparent film forming coating solution according to any one of [1] to [4].
[7] A pair of substrates with a transparent electrode, in which a color filter, a transparent coating, a transparent electrode film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate, have a predetermined interval so that the transparent electrodes face each other. In a liquid crystal display cell that is arranged in a gap and liquid crystal is sealed in a gap opened between the pair of substrates with transparent electrodes,
A liquid crystal display cell, wherein the transparent film is a film formed by applying the transparent film forming coating solution according to any one of [1] to [4].
[8] A pair of substrates with a transparent electrode in which a TFT array, a transparent coating, a transparent electrode film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate are spaced apart from each other so that the transparent electrodes face each other. In a liquid crystal display cell that is arranged in a gap and liquid crystal is sealed in a gap opened between the pair of substrates with transparent electrodes,
A liquid crystal display cell, wherein the transparent film is a film formed by applying the transparent film forming coating solution according to any one of [1] to [4].

以上に説明したように、本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、特定の有機ケイ素化合物からなるマトリックス形成成分を含んでいる。
このため、得られる透明被膜は撥水性、靭性、可撓性等に優れている。
As described above, the coating liquid for forming a transparent film according to the present invention contains a matrix forming component made of a specific organosilicon compound.
For this reason, the obtained transparent film is excellent in water repellency, toughness, flexibility and the like.

さらに、このような透明被膜を、凹凸を有する基板、例えばTFTアレイ付基板あるいはカラーフィルター付基板上に形成すれば、表面を極めて平坦化することが可能となる。さらにこの透明被膜表面に平坦な配向膜を形成することも可能となるので、表面形状に起因する液晶の表示乱れの抑制、表示ドメインの発生防止、パネル表示時の光抜けの低減およびコントラストの向上などに有効である。  Furthermore, if such a transparent film is formed on a substrate having irregularities, for example, a substrate with a TFT array or a substrate with a color filter, the surface can be extremely flattened. In addition, since it is possible to form a flat alignment film on the surface of this transparent film, it suppresses liquid crystal display disturbance due to the surface shape, prevents the generation of display domains, reduces light leakage during panel display, and improves contrast. This is effective.

以下本発明に係る透明被膜形成用塗布液、該膜付基材および液晶表示セルについて具体的に説明する。
[透明被膜形成用塗布液]
まず本発明に係る透明被膜形成用塗布液について説明する。
Hereinafter, the coating liquid for forming a transparent film, the substrate with a film, and the liquid crystal display cell according to the present invention will be specifically described.
[Transparent coating solution]
First, the coating liquid for forming a transparent film according to the present invention will be described.

本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、マトリックス形成成分が、水と有機溶媒とからなる混合溶媒に分散されてなる。
マトリックス形成成分
マトリックス形成成分は、a)下記式(I)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物、b)下記式(II)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物あるいはc)それらの混合物から選ばれる1種以上を含む。
In the coating liquid for forming a transparent film according to the present invention, the matrix forming component is dispersed in a mixed solvent composed of water and an organic solvent.
Matrix-forming component The matrix-forming component is a) an organosilicon compound represented by the following formula (I) or a hydrolyzate thereof, b) an organosilicon compound represented by the following formula (II) or a hydrolyzate thereof, or c) 1 type or more chosen from those mixtures is included.

−SiR −R (3−m) (I)
〔式中、R−はR(CR −またはR10X−である。
は加水分解性基、水酸基、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が例示される。
R 1 -SiR 2 m -R 3 ( 3-m) (I)
[Wherein R 1 -represents R 8 (CR 9 2 ) n -or R 10 X-.
R 8 represents a hydrolyzable group, a hydroxyl group, a hydrogen atom or a halogen atom. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

ここで、加水分解性基とは、水との化学反応により、水酸基に置換される原子または原子団を意味する。加水分解性基としては、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアルケニルオキシ基、炭素数1〜9のアリールアルコキシ基および炭素数1〜9のアルキルアリーロキシ基が例示され、好適にはメトキシ基、エトキシ基が選択される。  Here, the hydrolyzable group means an atom or an atomic group substituted with a hydroxyl group by a chemical reaction with water. Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, an arylalkoxy group having 1 to 9 carbon atoms, and an alkyl aryloxy group having 1 to 9 carbon atoms, A methoxy group or an ethoxy group is preferably selected.

はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。Rは全て水素原子であってもよく、その一部がハロゲン原子であってもよく、全てがハロゲン原子であっても構わない。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が例示される。R 9 each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom. R 9 may be all hydrogen atoms, a part thereof may be a halogen atom, or all may be a halogen atom. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

nは3〜30、好ましくは3〜20、さらに好ましくは3〜12の整数である。
従って、R(CR −の典型的な例として、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、特にパーフロロアルキル基が挙げられる。
n is an integer of 3 to 30, preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 12.
Therefore, typical examples of R 8 (CR 9 2 ) n — include an alkyl group, a halogenated alkyl group, particularly a perfluoroalkyl group.

10はメチル基、水素原子または加水分解性基から選ばれる。加水分解性基としては前記と同様のものが例示され、好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれる。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。R 10 is selected from a methyl group, a hydrogen atom, or a hydrolyzable group. Examples of the hydrolyzable group are the same as those described above, and preferably selected from alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms. As the alkoxy group, a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable.

Xは、−(CH)q−、−(Ph)−[ここで、Phはベンゼン環を表す]、
−(CH)q−(Ph)−、−(CH)q−(Ph)−(CH)y−、
−[(CH)q(CF)y(CH)r]−および
−(CH)q−(S)−(CH)r−から選ばれる二価の基である。
X is — (CH 2 ) q—, — (Ph) — [wherein Ph represents a benzene ring],
- (CH 2) q- (Ph ) -, - (CH 2) q- (Ph) - (CH 2) y-,
- [(CH 2) q ( CF 2) y (CH 2) r] - and - (CH 2) q- (S ) - (CH 2) a bivalent group selected from r-.

ここで、q、rおよびyはそれぞれ独立に1〜30、好ましくは1〜20、さらに好ましくは2〜12の整数である。
Xとしては、上記二価の基の中でも、特に−(CH)q−、−(Ph)−が好ましい。
Here, q, r, and y are each independently an integer of 1-30, preferably 1-20, and more preferably 2-12.
X is particularly preferably — (CH 2 ) q— or — (Ph) — among the divalent groups.

従って、R10X−の典型的な例として、CHO−(CH)q−、CO−(CH)q−、CHO−(Ph)−、CO−(Ph)−があげられる。
は加水分解性基を表す。加水分解性基としては前記と同様のものが例示され、好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれる。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。
Accordingly, as typical examples of R 10 X—, CH 3 O— (CH 2 ) q—, C 2 H 5 O— (CH 2 ) q—, CH 3 O— (Ph) —, C 2 H 5 O- (Ph)-.
R 2 represents a hydrolyzable group. Examples of the hydrolyzable group are the same as those described above, and preferably selected from alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms. As the alkoxy group, a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable.

はハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜30、好ましくは1〜20、さらに好ましくは1〜12の有機基を表す。該有機基としては、炭素数1〜20アルキル基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素、炭素数7〜27のアルキルアリール基、炭素数7〜27のアリールアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基および炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基が例示される。なお、該ハロゲン化アルキル基のハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が例示される。ハロゲン化アルキル基は、全ての水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、また、一部の水素原子がハロゲン原子で置換されたものであってもよい。R 3 represents an organic group having 1 to 30, preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 12 carbon atoms which may contain a halogen atom. Examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, an alkylaryl group having 7 to 27 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 27 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms. And an alkyl halide group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the halogen atom of the halogenated alkyl group include fluorine, chlorine, bromine and iodine. In the halogenated alkyl group, all hydrogen atoms may be substituted with halogen atoms, or some hydrogen atoms may be substituted with halogen atoms.

mは1〜3、好ましくは3の数を示す。
なお、式(I)の有機ケイ素化合物は1分子中に2〜3個の加水分解性基を有する。
式(I)で表される有機ケイ素化合物としては、1分子中に少なくとも1個のハロゲン化アルキル基を有するものが好ましい。
m represents a number of 1 to 3, preferably 3.
In addition, the organosilicon compound of the formula (I) has 2 to 3 hydrolyzable groups in one molecule.
As the organosilicon compound represented by the formula (I), those having at least one halogenated alkyl group in one molecule are preferable.

このような式(I)で表される有機ケイ素化合物としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルメチルジメトキシシラン、n−パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン等が挙げられる。〕
3−nSi−(X)−SiR (3−p) (II)
〔式中、RおよびRは、独立に加水分解性基を表す。
Examples of the organosilicon compound represented by the formula (I) include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, and heptadecatrifluorodecylmethyl. Examples include dimethoxysilane, n-perfluorooctylethyltriethoxysilane, and heptadecatrifluorodecyltrimethoxysilane. ]
R 4 n R 5 3-n Si- (X) -SiR 6 p R 7 (3-p) (II)
[Wherein R 4 and R 6 independently represent a hydrolyzable group.

およびRは、独立にハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の一価の有機基を表す。
加水分解性基および有機基の具体例、好適例は、前記式(I)に関して説明したものと同様である。
R 5 and R 7 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms which may contain a halogen atom.
Specific examples and preferred examples of the hydrolyzable group and the organic group are the same as those described for the formula (I).

Xも前記式(I)に関して説明したものと同様であり、さらに−(S)q−であってもよい。ここで、qは前記同様に1〜30、好ましくは1〜20、さらに好ましくは2〜12の整数である。  X is the same as that described in relation to the formula (I), and may be-(S) q-. Here, q is an integer of 1 to 30, preferably 1 to 20, and more preferably 2 to 12 as described above.

nは0から3、好ましくは2または3の数を示す。
pは0から3、好ましくは2または3の数を示す。
但し、式(II)の有機ケイ素化合物は1分子中に2個以上、好ましくは3〜6個の加水分解性基を有する。〕
式(II)で表される有機ケイ素化合物としては、ビス(トリフルオロプロピルジメトキシシリル)ヘキサン、ビス(トリメトキシシリル)エタン、ビス(トリメトキシシリル)プロパン、ビス(トリメトキシシリル)ブタン、(トリメトキシシリル)ペンタン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、ビス(トリメトキシシリル)オクタン、ビス(トリメトキシシリル)ノナン、ビス(トリメトキシシリル)デカン、ビス(トリメトキシシリル)ドデカン、ビス(トリメトキシシリル)ヘプタデカン、ビス(トリメトキシシリル)オクタデカン、ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、ビス(トリプロポキシシリル)ヘキサン、ビス(トリn−ブトキシシリル)ヘキサン、ビス(トリi−ブトキシシリル)ヘキサン、ビス(アリルジメトキシシリル)ヘキサン、ビス(ビニルジメトキシシリル)ヘキサン、ビス(アクリルジメトキシシリル)ヘキサン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、1,4ビス(トリメトキシシリルエチル)ベンゼンなどが挙げられる。
n represents a number from 0 to 3, preferably 2 or 3.
p represents a number from 0 to 3, preferably 2 or 3.
However, the organosilicon compound of the formula (II) has 2 or more, preferably 3 to 6, hydrolyzable groups in one molecule. ]
Examples of the organosilicon compound represented by the formula (II) include bis (trifluoropropyldimethoxysilyl) hexane, bis (trimethoxysilyl) ethane, bis (trimethoxysilyl) propane, bis (trimethoxysilyl) butane, (tri Methoxysilyl) pentane, bis (trimethoxysilyl) hexane, bis (trimethoxysilyl) heptane, bis (trimethoxysilyl) octane, bis (trimethoxysilyl) nonane, bis (trimethoxysilyl) decane, bis (trimethoxysilyl) ) Dodecane, bis (trimethoxysilyl) heptadecane, bis (trimethoxysilyl) octadecane, bis (triethoxysilyl) hexane, bis (tripropoxysilyl) hexane, bis (tri-n-butoxysilyl) hexane, bis (tri-i-) Butoxy L) hexane, bis (allyldimethoxysilyl) hexane, bis (vinyldimethoxysilyl) hexane, bis (acryldimethoxysilyl) hexane, bis (3-triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, 1,4bis (trimethoxysilylethyl) Examples include benzene.

このような特定の構造式を有する有機ケイ素化合物またはその加水分解物は、疎水性が高く、このため耐水性、撥水性に優れるとともに、靭性、可撓性等に優れた透明被膜が得られる。また耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、絶縁性に優れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂からなる膜(配向膜)などとの密着性にも優れた被膜を形成できる。  An organosilicon compound having such a specific structural formula or a hydrolyzate thereof has high hydrophobicity, so that a transparent film excellent in water resistance and water repellency, as well as in toughness and flexibility can be obtained. In addition, it has excellent scratch resistance, acid resistance, alkali resistance, water resistance, insulation, and forms a film with excellent adhesion to electrode films or films made of highly hydrophobic resins such as polyimide resins (alignment films). it can.

本発明では、式(II)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物が好適に使用される。
式(II)で表される有機ケイ素化合物は、−(X)−を有し、Xが疎水性であり、Xの鎖長が大きくなると屈曲することもできるので、被膜の撥水性、可撓性、靭性を向上することができる。また、式(II)で表される有機ケイ素化合物では、両端が加水分解性基なので、反応性が高い。
In the present invention, an organosilicon compound represented by the formula (II) or a hydrolyzate thereof is preferably used.
The organosilicon compound represented by the formula (II) has-(X)-, X is hydrophobic, and can be bent when the chain length of X is increased. And toughness can be improved. Further, the organosilicon compound represented by the formula (II) has high reactivity since both ends are hydrolyzable groups.

本発明では、上記有機ケイ素化合物は、そのまま(すなわち加水分解されることなく)使用することは可能であるが、加水分解物にして使用することも可能である。加水分解物にしておくと、保存中に反応してしまうことがなく長期安定性に優れた塗布液を得ることが可能であるとともに、また均一な被膜を形成することも可能である。  In the present invention, the organosilicon compound can be used as it is (that is, without being hydrolyzed), but it can also be used as a hydrolyzate. When the hydrolyzate is used, it is possible to obtain a coating solution that does not react during storage and has excellent long-term stability, and it is also possible to form a uniform film.

加水分解物は、例えば有機ケイ素化合物の水−アルコール混合溶媒中で酸触媒の存在下加水分解することによって得ることができる。このような加水分解物は部分加水分解物であっても、加水分解物の縮重合物であってもよい。  The hydrolyzate can be obtained, for example, by hydrolysis in the presence of an acid catalyst in a water-alcohol mixed solvent of an organosilicon compound. Such a hydrolyzate may be a partial hydrolyzate or a condensation polymer of the hydrolyzate.

上記加水分解物は、ポリスチレン換算の数平均分子量が500〜20,000、特に好ましくは700〜10,000の範囲にあるものが望ましい。このような範囲にあると、膜強度、基材の密着性がともに高く、塗布液中で安定であり、均一な被膜を形成することが可能となる。  The hydrolyzate preferably has a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 500 to 20,000, particularly preferably 700 to 10,000. Within such a range, both film strength and substrate adhesion are high, stable in the coating solution, and a uniform film can be formed.

加水分解物のポリスチレン換算の数平均分子量が小さいと、加水分解していなものと実質的に変わるところがない。加水分解物のポリスチレン換算の数平均分子量が大きすぎると、塗布液の安定性が短くなり、均一な膜厚の透明被膜が得られないことがある。  When the number average molecular weight in terms of polystyrene of the hydrolyzate is small, there is no substantial change from that which has not been hydrolyzed. If the number average molecular weight in terms of polystyrene of the hydrolyzate is too large, the stability of the coating solution is shortened, and a transparent film having a uniform film thickness may not be obtained.

前記マトリックス形成成分は、上記式(I)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物、上記式(II)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物あるいはそれらの混合物から選ばれる1種以上に加えて、さらに下記成分から選ばれる1種以上を含むことがさらに好ましい。
a)有機ケイ素化合物[前記式(I)および前記式(II)の有機ケイ素化合物に相当するものを除く]、
b)アセチルアセトナトキレート化合物、
c)金属アルコキシドおよび
d)ポリシラザン。
The matrix-forming component is one selected from an organosilicon compound represented by the above formula (I) or a hydrolyzate thereof, an organosilicon compound represented by the above formula (II), a hydrolyzate thereof, or a mixture thereof. In addition to the above, it is more preferable to further include one or more selected from the following components.
a) an organosilicon compound [except for those corresponding to the organosilicon compounds of formula (I) and formula (II)],
b) an acetylacetonato chelate compound,
c) metal alkoxides and d) polysilazanes.

以下、これらの成分について具体的に説明する。
(a)有機ケイ素化合物
マトリックス形成成分としては、上記(I)、(II)の有機ケイ素化合物に加えて、これら以外の他の有機ケイ素化合物(以下、有機ケイ素化合物(a)と記載することがある)が含まれていても良い。このような他の有機ケイ素化合物としては、たとえば下記式(III)にて示される有機ケイ素化合物が使用できる。
Hereinafter, these components will be specifically described.
(A) In addition to the organosilicon compounds (I) and (II) above, the organosilicon compound matrix-forming component may be described as other organosilicon compounds (hereinafter referred to as organosilicon compounds (a)). May be included). As such another organosilicon compound, for example, an organosilicon compound represented by the following formula (III) can be used.

(RSi(OR’)4−t (III)
〔ここで、Rはメチル基、エチル基、ビニル基またはエポキシ基から選ばれる。
R’は炭素数1〜6のアルキル基。tは0から4の整数。〕
このような有機ケイ素化合物(a)としては、具体的には、たとえばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、モノメチルトリメトキシシラン、モノエチルトリエトキシシラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノメチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、エポキシトリエトキシシシランなどが好ましく用いられる。
(R t Si (OR ′) 4-t (III)
[Wherein R is selected from a methyl group, an ethyl group, a vinyl group or an epoxy group.
R ′ is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. t is an integer from 0 to 4. ]
Specific examples of such an organosilicon compound (a) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, monomethyltrimethoxysilane, monoethyltriethoxysilane, monoethyltrimethoxysilane, monomethyltriethoxysilane, vinyltrimethyl. Ethoxysilane, epoxytriethoxysilane and the like are preferably used.

これらの有機ケイ素化合物(a)は、そのままの状態でも、あるいは加水分解して用いてもよい。このような加水分解物は、従来から行われている通常の方法、たとえばメタノールまたはエタノールなどのアルコールに有機ケイ素化合物(a)を混合し、水と酸とを加えて加水分解する方法によって得ることができる。  These organosilicon compounds (a) may be used as they are or after hydrolysis. Such a hydrolyzate is obtained by a conventional method, for example, a method in which an organosilicon compound (a) is mixed with an alcohol such as methanol or ethanol, and water and an acid are added to perform hydrolysis. Can do.

上記有機ケイ素化合物(a)が添加された本発明に係る透明被膜形成用塗布液を基材上に塗布し、得られた被膜を乾燥・焼成すると、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性および絶縁性に優れた被膜が形成される。  When the coating liquid for forming a transparent film according to the present invention to which the organosilicon compound (a) is added is applied onto a substrate, and the resulting film is dried and fired, scratch resistance, acid resistance, alkali resistance, water resistance A film having excellent properties and insulating properties is formed.

(b)アセチルアセトナトキレート化合物
アセチルアセトナトキレート化合物(b)はアセチルアセトンを配位子とするキレート化合物で、下記式(IV)で表される化合物またはその縮合体である。
(B) Acetylacetonate chelate compound The acetylacetonate chelate compound (b) is a chelate compound having acetylacetone as a ligand, and is a compound represented by the following formula (IV) or a condensate thereof.

Figure 2004108845
Figure 2004108845

〔ただし、式中、a+bは2〜4であり、aは0〜3であり、bは1〜4であり、Rは−C2n+1(n=3または4)であり、Xは−CH、−OCH、−Cまたは−OCである。Mは周期律表2〜15族から選ばれる元素またはバナジル(VO)である。このうち、これらの元素などとa、bの好ましい組み合わせは、次表の通りである。〕[Wherein, a + b is 2 to 4, a is 0 to 3, b is 1 to 4, R is —C n H 2n + 1 (n = 3 or 4), and X is − CH 3, -OCH, is -C 2 H 5 or -OC 2 H 5. M is an element selected from Groups 2 to 15 of the periodic table or vanadyl (VO). Among these, preferred combinations of these elements and a and b are as shown in the following table. ]

Figure 2004108845
Figure 2004108845

このような化合物の具体例としては、たとえばジブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウム、トリブトキシ−モノアセチルアセトナトジルコニウム、ビスアセチルアセトナト鉛、トリスアセチルアセトナト鉄、ジブトキシ−ビスアセチルアセトナトハフニウム、モノアセチルアセトナト−トリブトキシハフニウムなどが挙げられる。  Specific examples of such compounds include, for example, dibutoxy-bisacetylacetonatozirconium, tributoxy-monoacetylacetonatozirconium, bisacetylacetonatolead, trisacetylacetonatoiron, dibutoxy-bisacetylacetonatohafnium, monoacetylacetate. And nato-tributoxy hafnium.

このようなアセチルアセトナトキレート化合物が添加された透明被膜形成用塗布液は耐アルカリ性、耐酸性、耐塩水性、耐水性、耐溶剤性に優れた被膜を得ることができる。
(c)金属アルコキシド
また、金属アルコキシド(c)としては、
(OR)(V)
(式中、Mは金属原子であり、Rはアルキル基または−C2m(m=3〜10)であり、nはMの原子価と同じ整数である。)で表される化合物またはそれらの縮合体が好ましく、これらの化合物またはその縮合体から選ばれる1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。上記式中のMは、金属であれば特に限定されることはないが、好ましいMは、Be、Al、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni,Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、Bi、CeまたはCuである。
A coating solution for forming a transparent film to which such an acetylacetonato chelate compound is added can obtain a film excellent in alkali resistance, acid resistance, salt water resistance, water resistance and solvent resistance.
(C) Metal alkoxide As metal alkoxide (c),
M 2 (OR) n (V)
(Wherein M 2 is a metal atom, R is an alkyl group or —C m H 2m O 2 (m = 3 to 10), and n is the same integer as the valence of M 2 ). Or a condensate thereof, and one or two or more selected from these compounds or the condensates thereof can be used in combination. M 2 in the above formula is not particularly limited as long as it is a metal, but preferred M 2 is Be, Al, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Se, Y, Zr, Nb, In, Sn, Sb, Te, Hf, Ta, W, Pb, Bi, Ce, or Cu.

このような金属アルコキシドとしては、具体的には、テトラブトキシジルコニウム、ジイソプロポキシ−ジオクチルオキシチタニウム、ジエトキシ鉛などが好ましく用いられる。  As such a metal alkoxide, specifically, tetrabutoxyzirconium, diisopropoxy-dioctyloxytitanium, diethoxylead and the like are preferably used.

上記金属アルコキシドを添加した本発明に係る透明被膜形成用塗布液を塗布・乾燥・焼成すると、この金属アルコキシドの重合硬化により、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性および絶縁性に優れた被膜が形成される。  When the coating solution for forming a transparent film according to the present invention to which the above metal alkoxide is added is applied, dried, and fired, the metal alkoxide is polymerized and cured, so that it has excellent scratch resistance, acid resistance, alkali resistance, water resistance and insulation. A film is formed.

(d)ポリシラザン
また、ポリシラザン(d)としては下記式(VI)で表される繰り返し単位を有するポリシラザンが用いられる。
(D) Polysilazane Polysilazane having a repeating unit represented by the following formula (VI) is used as polysilazane (d).

Figure 2004108845
Figure 2004108845

〔ただし、式中、R、RおよびRは、それぞれ水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基である。〕
マトリックス形成成分として、前記式(VI)で表されるポリシラザンを用いる場合、アルキル基がメチル基、エチル基、またはプロピル基であるポリシラザンが望ましい。この場合には、加熱時に分解するアルキル基がなく、加熱時に膜の収縮が少なく、このため収縮ストレス時にクラックが生じることが少なくなり、クラックのほとんどない透明被膜が得られる。
[Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are each a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]
When the polysilazane represented by the formula (VI) is used as the matrix forming component, polysilazane whose alkyl group is a methyl group, an ethyl group, or a propyl group is desirable. In this case, there is no alkyl group that decomposes during heating, and there is little shrinkage of the film during heating. Therefore, cracks are less likely to occur during shrinkage stress, and a transparent film with almost no cracks can be obtained.

また、上記式(VI)で表わされる繰り返し単位を有するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状であってもよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシラザンとが混合して含まれていてもよい。  The polysilazane having a repeating unit represented by the above formula (VI) may be linear or cyclic, and contains a mixture of linear polysilazane and cyclic polysilazane. Also good.

さらに、このようなポリシラザンのポリスチレン換算の数平均分子量は、500〜10,000、好ましくは1,000〜4,000の範囲にあることが望ましい。数平均分子量が500未満では、加熱硬化時に低分子量のポリシラザンが揮発し、得られた透明被膜が多孔質になりやすく、また、数平均分子量が10,000を越えると、塗布液の流動性が低下する傾向がある。  Furthermore, the polystyrene-reduced number average molecular weight of such polysilazane is desirably in the range of 500 to 10,000, preferably 1,000 to 4,000. When the number average molecular weight is less than 500, the low molecular weight polysilazane volatilizes at the time of heat curing, and the resulting transparent film tends to be porous. When the number average molecular weight exceeds 10,000, the fluidity of the coating solution is low. There is a tendency to decrease.

混合溶媒
上記マトリックス形成成分は、水と有機溶媒とからなる混合溶媒に分散されてなる。
有機溶媒としては、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類などから選ばれる公知の有機溶媒が使用される。このような有機溶媒は単独で、または2種以上を混合して使用してもよい。
Mixed solvent The matrix-forming component is dispersed in a mixed solvent composed of water and an organic solvent.
As the organic solvent, a known organic solvent selected from alcohols, ethers, glycols, ketones and the like is used. Such organic solvents may be used alone or in admixture of two or more.

混合溶媒中における水の割合は格別限定されるものではないが、好ましくは混合溶媒中の0.1〜10重量%、さらに好ましくは0.1〜5重量%の範囲にある。
無機化合物粒子
本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、さらに無機化合物粒子(イオン吸着性粒子)を含んでいてもよい。
The ratio of water in the mixed solvent is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight in the mixed solvent.
Inorganic Compound Particles The coating liquid for forming a transparent film according to the present invention may further contain inorganic compound particles (ion adsorbing particles).

無機化合物粒子としてはSiO、Al、ZrO、TiO、SnO、In、Sb等の金属酸化物、SiO・Al、SiO・TiO、In・SnO、Sb・SnO、SnO・In・Sb等の複合金属酸化物あるいは固溶体、ゼオライト(結晶性アルミノシリケート)等が挙げられる。さらに、これらの2種以上の混合物も好ましく用いられる。Examples of inorganic compound particles include metal oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , and Sb 2 O 5 , SiO 2 · Al 2 O 3 , SiO 2 · TiO 2. , In 2 O 3 .SnO 2 , Sb 2 O 5 .SnO 2 , SnO 2 .In 2 O 3 .Sb 2 O 5, or other mixed metal oxides or solid solutions, zeolite (crystalline aluminosilicate), and the like. Furthermore, a mixture of two or more of these is also preferably used.

これら無機化合物粒子を含んでいると、例えば液晶中に存在する無機陽イオン、無機陰イオン、有機カチオン、有機アニオン等のいずれかに属する可動イオンを吸着することができる。このため液晶中の可動イオン濃度を低減することができるので、得られる液晶表示装置は高電圧保持率特性に優れ、消費電力が少なくて済むため電力効率が高く、表示不良を起こすことがなく、長期信頼性に優れている。  When these inorganic compound particles are included, for example, mobile ions belonging to any one of inorganic cations, inorganic anions, organic cations, organic anions, etc. present in the liquid crystal can be adsorbed. For this reason, since the concentration of mobile ions in the liquid crystal can be reduced, the obtained liquid crystal display device is excellent in high voltage holding ratio characteristics, consumes less power, has high power efficiency, and does not cause display defects. Excellent long-term reliability.

本発明で使用される無機化合物粒子の平均粒子径は1nm〜10μmの範囲にあることが好ましく、さらに好ましい範囲は10nm〜2μm、特に好ましい範囲は10nm〜0.5μmの範囲である。無機化合物粒子の平均粒径が1nm未満になると、透明被膜の表面にポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂からなる別の膜を密着性よく形成することができない場合がある。  The average particle diameter of the inorganic compound particles used in the present invention is preferably in the range of 1 nm to 10 μm, more preferably in the range of 10 nm to 2 μm, and particularly preferably in the range of 10 nm to 0.5 μm. If the average particle size of the inorganic compound particles is less than 1 nm, another film made of a highly hydrophobic resin such as a polyimide resin may not be formed with good adhesion on the surface of the transparent coating.

また、平均粒子径が10μmを超えるとイオン吸着容量およびイオン吸着速度が低下するとともに透明被膜の透明性が低下することがある。
無機化合物粒子の平均粒子径が上記範囲にあると、凹凸を有する基板、例えばTFTアレイ付基板あるいはカラーフィルター付基板上に形成された透明被膜の表面は平坦化されており、このため液晶層と接触する配向膜表面も平坦化されているので、表面形状に起因する液晶の表示乱れの抑制、表示ドメインの発生防止、パネル表示時の光抜けの低減およびコントラストの向上などに有効である。
On the other hand, when the average particle diameter exceeds 10 μm, the ion adsorption capacity and the ion adsorption speed may be lowered and the transparency of the transparent film may be lowered.
When the average particle size of the inorganic compound particles is in the above range, the surface of the transparent film formed on the substrate having unevenness, for example, the substrate with TFT array or the substrate with color filter is flattened. Since the surface of the contacted alignment film is also flattened, it is effective in suppressing liquid crystal display disturbance due to the surface shape, preventing the occurrence of display domains, reducing light leakage during panel display, and improving contrast.

なお、可動イオンの低減のみを目的とする場合は従来公知のイオン交換樹脂粒子を用いることができる。具体的には陽イオン交換樹脂として、ダイヤイオンSKシリーズ(三菱化学(株)製)、カルボキシメチルセルロース、SEセルロース、Pセルロース、セファデックス(以上ファルマシア社製)等が挙げられる。陰イオン交換樹脂としてダイヤイオンSAシリーズ(三菱化学(株)製)、DEAEセルロース、トリエチルアンモニウムエチルセルロース、ECTEOLAセルロース、セファデックス(以上ファルマシア社製)等が挙げられる。また、ダイヤイオン(三菱化学(株)製)等の両イオン交換樹脂が挙げられる。  Note that conventionally known ion exchange resin particles can be used for the purpose of reducing mobile ions only. Specific examples of the cation exchange resin include Diaion SK series (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), carboxymethyl cellulose, SE cellulose, P cellulose, Sephadex (manufactured by Pharmacia) and the like. Examples of the anion exchange resin include Diaion SA series (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), DEAE cellulose, triethylammonium ethylcellulose, ECTEOLA cellulose, Sephadex (manufactured by Pharmacia) and the like. Further, amphoteric ion exchange resins such as Diaion (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) can be mentioned.

このような無機化合物粒子またはイオン交換樹脂粒子を含む透明被膜は、液晶表示セルなどに使用すると、液晶中のイオンを除去できるので透明イオンゲッター膜として機能する。  When such a transparent coating containing inorganic compound particles or ion exchange resin particles is used in a liquid crystal display cell or the like, it can remove ions in the liquid crystal and functions as a transparent ion getter film.

このような無機化合物粒子あるいはイオン交換樹脂粒子のイオン吸着容量は0.1〜6.0mmol/gの範囲にあることが好ましい。
イオン吸着容量が0.1mmol/gより少ないと、イオンを充分吸着することができないので、可動イオンによる表示不良を起こしたり、長期信頼性に欠けることがあり、6.0mmol/gを超えるイオン吸着体は得ることが困難である。
The ion adsorption capacity of such inorganic compound particles or ion exchange resin particles is preferably in the range of 0.1 to 6.0 mmol / g.
If the ion adsorption capacity is less than 0.1 mmol / g, ions cannot be adsorbed sufficiently, which may cause poor display due to mobile ions and lack long-term reliability. Ion adsorption exceeding 6.0 mmol / g The body is difficult to obtain.

本発明におけるイオン吸着容量は以下のような方法で測定される。
(1)無機陽イオン吸着容量の測定
濃度1重量%のNaCl水溶液100gに、120℃で乾燥して恒量化した無機イオン吸着体1.5gを加え、室温(25℃)で15時間撹拌した後、濾過して濾液を採取し、濾液中のNaイオン濃度を原子吸光法により分析し、元のNaCl水溶液のNaイオン濃度との濃度差から、無機イオン吸着体のNaイオン吸着量(mmol/g)を求める。
(2)無機陰イオン吸着容量の測定
濃度1重量%のNaCl水溶液100gに、120℃で乾燥して恒量化したイオン吸着性微粒子1.5gを加え、室温(25℃)で15時間撹拌した後、濾過して濾液を採取し、濾液中のClイオン濃度を原子吸光法により分析し、元のNaCl水溶液のClイオン濃度との濃度差から、イオン吸着性微粒子のClイオン吸着量(mmol/g)を求める。
(3)有機陽イオン吸着容量の測定
濃度1重量%のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液100gに、120℃で乾燥して恒量化したイオン吸着性微粒子1.5gを加え、室温(25℃)で15時間撹拌した後、濾渦して濾液を採取し、濾液中のテトラメチルアンモニウムイオン濃度をイオンクロマト法により分析し、元の水溶液との濃度差から、イオン吸着性微粒子の有機陽イオン吸着量(mmol/g)を求める。
(4)有機陰イオン吸着容量の測定
濃度1重量%の酢酸水溶液100gに、120℃で乾燥して恒量化したイオン吸着性微粒子1.5gを加え、室温(25℃)で15時間撹拌した後、濾過して濾液を採取し、濾液中の酢酸イオン濃度をイオンクロマト法により分析し、元の水溶液との濃度差から、イオン吸着性微粒子の有機陰イオン吸着量(mmol/g)を求める。
The ion adsorption capacity in the present invention is measured by the following method.
(1) Measurement of inorganic cation adsorption capacity To 100 g of NaCl aqueous solution having a concentration of 1% by weight, 1.5 g of inorganic ion adsorbent dried and constant at 120 ° C. was added and stirred at room temperature (25 ° C.) for 15 hours. The filtrate was collected by filtration, and the Na ion concentration in the filtrate was analyzed by atomic absorption spectrometry. From the concentration difference with the Na ion concentration of the original NaCl aqueous solution, the amount of Na ion adsorption of the inorganic ion adsorbent (mmol / g) )
(2) Measurement of inorganic anion adsorption capacity To 100 g of 1% by weight NaCl aqueous solution, 1.5 g of ion-adsorbing fine particles dried at 120 ° C. and made constant are added and stirred at room temperature (25 ° C.) for 15 hours. The filtrate was collected by filtration, and the Cl ion concentration in the filtrate was analyzed by atomic absorption spectrometry. From the concentration difference from the Cl ion concentration of the original NaCl aqueous solution, the amount of Cl ion adsorption of the ion-adsorbing fine particles (mmol / g )
(3) Measurement of organic cation adsorption capacity To 100 g of an aqueous tetramethylammonium hydroxide solution having a concentration of 1% by weight, 1.5 g of ion-adsorbing fine particles dried and constant at 120 ° C. are added, and 15 at room temperature (25 ° C.). After stirring for a period of time, the filtrate was vortexed to collect the filtrate, and the tetramethylammonium ion concentration in the filtrate was analyzed by ion chromatography. From the difference in concentration from the original aqueous solution, the amount of organic cation adsorbed on the ion-adsorbing fine particles ( mmol / g).
(4) Measurement of organic anion adsorption capacity To 100 g of acetic acid aqueous solution with a concentration of 1% by weight, 1.5 g of ion-adsorbing fine particles dried at 120 ° C. and made constant are added and stirred at room temperature (25 ° C.) for 15 hours. The filtrate is collected by filtration, the acetate ion concentration in the filtrate is analyzed by ion chromatography, and the organic anion adsorption amount (mmol / g) of the ion-adsorbing fine particles is determined from the concentration difference from the original aqueous solution.

イオン吸着性微粒子としての無機化合物粒子は、液晶中のイオンの種類、液晶中に溶出するイオンの種類、これらの量比に応じて、種々混合して用いることができる。
さらに、必要に応じてこれらの無機化合物粒子以外の絶縁性または導電性の無機化合物微粒子あるいは樹脂微粒子を用いてもよい。
The inorganic compound particles as the ion-adsorptive fine particles can be used in various mixtures depending on the kind of ions in the liquid crystal, the kind of ions eluted in the liquid crystal, and the ratio of these.
Further, if necessary, insulating or conductive inorganic compound fine particles or resin fine particles other than these inorganic compound particles may be used.

このような無機化合物粒子は、水または有機溶媒に分散したゾルの状態で用いることが好ましいが、無機化合物粒子を透明被膜形成用塗布液中に単分散または単分散に近い状態で分散できればゾル以外の状態にある無機化合物粒子を用いてもよい。
塗布液
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分は、固形分濃度として15重量%以下であることが好ましい。この値が15重量%を越えると、塗布液の保存安定性が低下する傾向が生じ、一方、この固形分濃度が極端に低いと、目的の膜厚を得るのに多数回の塗布操作を繰り返すことが必要となるので固形分濃度は0.1重量%以上が実用的である。
Such inorganic compound particles are preferably used in the form of a sol dispersed in water or an organic solvent, but if the inorganic compound particles can be dispersed in a monodisperse or nearly monodisperse state in a coating solution for forming a transparent film, other than the sol You may use the inorganic compound particle | grains in this state.
Matrix-forming component of the coating liquid transparent film-forming coating solution is preferably 15 wt% or less as solids concentration. If this value exceeds 15% by weight, the storage stability of the coating solution tends to decrease. On the other hand, if this solid content concentration is extremely low, a large number of coating operations are repeated to obtain the desired film thickness. Therefore, the solid content concentration is practically 0.1% by weight or more.

透明被膜形成用塗布液中の全固形分(マトリックス成分、無機化合物粒子・イオン交換粒子などの合計量)に対する式(I)または(II)で表される有機ケイ素化合物(加水分解物も含む)の量は、18重量%以上、好適には40重量%以上であることが好ましい。このような範囲であれば、本発明の効果、すなわち、撥水性、靭性、可撓性に優れた透明被膜を形成することができる。  Organosilicon compound (including hydrolyzate) represented by formula (I) or (II) with respect to the total solid content (total amount of matrix components, inorganic compound particles / ion exchange particles, etc.) in the coating liquid for forming a transparent film The amount of is preferably 18% by weight or more, and more preferably 40% by weight or more. If it is such a range, the transparent film excellent in the effect of this invention, ie, water repellency, toughness, and flexibility, can be formed.

前記の有機ケイ素化合物(a)、アセチルアセトナトキレート化合物(b)、金属アルコキシド(c)およびポリシラザン(d)の含有量は、全固形分中の75重量%以下、さらには1〜40重量%の範囲にあることが好ましい。また無機化合物粒子の量は、全固形分中の70重量%以下、さらには4.5〜50重量%の範囲にあることが好ましい。  The content of the organosilicon compound (a), acetylacetonato chelate compound (b), metal alkoxide (c) and polysilazane (d) is 75% by weight or less, further 1 to 40% by weight in the total solid content. It is preferable that it exists in the range. The amount of the inorganic compound particles is preferably 70% by weight or less, more preferably 4.5 to 50% by weight in the total solid content.

前記の有機ケイ素化合物(a)、アセチルアセトナトキレート化合物(b)、金属アルコキシド(c)およびポリシラザン(d)の量、および無機化合物粒子の量が多くなると、前記式(I)または(II)で表される有機ケイ素化合物が少なくなり、該有機ケイ素化合物を用いる効果、すなわち得られる透明被膜の靭性、可撓性、耐擦傷性、撥水性等が不充分となることがある。  When the amount of the organosilicon compound (a), the acetylacetonato chelate compound (b), the metal alkoxide (c) and the polysilazane (d) and the amount of the inorganic compound particles are increased, the formula (I) or (II) In some cases, the effect of using the organosilicon compound, that is, the toughness, flexibility, scratch resistance, water repellency and the like of the obtained transparent film may be insufficient.

[被膜付基材]
次に、本発明に係る被膜付基材について具体的に説明する。
本発明に係る被膜付基材は、基材表面に上記透明被膜形成用塗布液を塗布してなる透明被膜が形成されていることを特徴としている。
[Substrate with coating]
Next, the coated substrate according to the present invention will be specifically described.
The substrate with a coating according to the present invention is characterized in that a transparent coating formed by applying the coating liquid for forming a transparent coating on the surface of the substrate is formed.

本発明に係る透明被膜付基材は、ガラス、プラスチックなどの基材表面に上記のような透明被膜形成用塗布液をディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷などの方法で塗布し、次いでこのようにして基材表面に形成された被膜を常温〜80℃で乾燥し、必要に応じてさらに120℃以上、場合によっては300℃以上に加熱して硬化するなどの方法により形成される。  The substrate with a transparent coating according to the present invention is a method such as a dipping method, a spinner method, a spray method, a roll coater method, a flexographic printing, etc., on the surface of a substrate such as glass or plastic. Then, the coating formed on the surface of the substrate in this manner is dried at room temperature to 80 ° C., and further, if necessary, further heated to 120 ° C. or higher, and in some cases, heated to 300 ° C. or higher to be cured. It is formed.

さらにこの基材に形成されている被膜は、次のような方法で硬化促進処理が施されていてもよい。
硬化促進処理として具体的には、上記塗布工程または乾燥工程の後に、あるいは乾燥工程中に、未硬化段階の被膜に可視光線よりも波長の短い電磁波を照射したり、未硬化段階の被膜を、硬化反応を促進するガス雰囲気中に晒したりする処理が挙げられる。
Furthermore, the coating film formed on the base material may be subjected to curing acceleration treatment by the following method.
Specifically, as the curing acceleration treatment, after the coating step or the drying step, or during the drying step, the coating at the uncured stage is irradiated with an electromagnetic wave having a wavelength shorter than visible light, or the coating at the uncured stage, For example, it may be exposed to a gas atmosphere that promotes the curing reaction.

このような加熱前の未硬化段階の被膜に照射する電磁波としては、具体的には紫外線、電子線、X線、γ線などが例示され、特に紫外線が好ましい。
紫外線照射処理を行う際には、例えば、発光強度が約250nmと360nmとにおいて極大となり、光強度が10mW/cm以上である高圧水銀ランプを紫外線源として使用し、100mJ/cm以上、好ましくは1000mJ/cm以上のエネルギー量の紫外線を照射することが好ましい。
Specific examples of the electromagnetic wave applied to the uncured coating film before heating include ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and γ rays, and ultraviolet rays are particularly preferable.
When performing the ultraviolet irradiation treatment, for example, a high-pressure mercury lamp having a maximum light emission intensity of about 250 nm and 360 nm and a light intensity of 10 mW / cm 2 or more is used as an ultraviolet light source, preferably 100 mJ / cm 2 or more. Is preferably irradiated with ultraviolet rays having an energy amount of 1000 mJ / cm 2 or more.

また、硬化反応を促進するガスとしては、たとえばアンモニア、オゾンなどが例示される。またこのようなガス処理を行う場合は、未硬化段階の被膜を、ガス濃度が100〜100,000ppm、好ましくは1000〜10,000ppmである上記活性ガス雰囲気下に、1〜60分曝すことが望ましい。  Examples of the gas that accelerates the curing reaction include ammonia and ozone. When such gas treatment is performed, the uncured coating film may be exposed to the above active gas atmosphere having a gas concentration of 100 to 100,000 ppm, preferably 1000 to 10,000 ppm for 1 to 60 minutes. desirable.

なお、このガス処理は、加熱硬化後に行っても同様の効果が得られる。
上述したような硬化促進処理を行うと、透明被膜中に含まれるマトリックス形成成分の縮重合、複合化が促進されると同時に、被膜中に残存する水および溶媒の蒸発も促進される。このため、次の加熱工程において必要とされる加熱温度、加熱時間などの加熱硬化条件が緩和され、本発明に係る透明被膜付基材の製造を効率よく進めることができる。
The same effect can be obtained even if this gas treatment is performed after heat curing.
When the curing acceleration treatment as described above is performed, condensation polymerization and complexation of the matrix forming component contained in the transparent film are promoted, and at the same time, evaporation of water and solvent remaining in the film is promoted. For this reason, the heating and curing conditions such as the heating temperature and the heating time required in the next heating step are relaxed, and the production of the substrate with a transparent coating according to the present invention can be advanced efficiently.

以上のような工程によって本発明に係る透明被膜付基材が得られるが、この基材上に形成された被膜は靭性、可撓性を有し、密着性、透明性に優れるとともに、耐擦傷性、耐水性、耐アルカリ性などの耐久性にも優れている上、イオン吸着性無機化合物粒子を含む場合は液晶パネル中の可動イオンを効果的に低減でき、絶縁抵抗が高く、絶縁性の膜としても好適である。  The substrate with a transparent coating according to the present invention can be obtained by the steps as described above. The coating formed on the substrate has toughness and flexibility, excellent adhesion and transparency, and scratch resistance. In addition, it has excellent durability such as water resistance and alkali resistance, and when it contains ion-adsorbing inorganic compound particles, it can effectively reduce the mobile ions in the liquid crystal panel, has high insulation resistance, and has an insulating film It is also suitable.

[液晶表示セル]
次に、本発明に係る液晶表示セルについて具体的に説明する。
本発明に係る液晶表示セルは、いずれも上記透明被膜形成用塗布液を使用して形成された透明被膜を有する透明電極付基板を用いたものである。
[Liquid crystal display cell]
Next, the liquid crystal display cell according to the present invention will be specifically described.
All the liquid crystal display cells according to the present invention use a substrate with a transparent electrode having a transparent coating formed using the coating liquid for forming a transparent coating.

本発明に係る第1の液晶表示セルは、少なくとも一方の基板の表面に透明電極膜、透明被膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルである。  In the first liquid crystal display cell according to the present invention, a transparent electrode film, a transparent film, and an alignment film are sequentially laminated on a surface of at least one substrate, and a pair of substrates with a transparent electrode are opposed to each other. Thus, the liquid crystal display cell is arranged with a predetermined interval therebetween, and liquid crystal is sealed in a gap provided between the pair of substrates with transparent electrodes.

透明被膜が前記塗布液を用いた以外は、基板、透明電極膜、配向膜、液晶等は公知のものを特に制限なく使用することが可能である。
図1は、本発明に係る第1の液晶表示セルの1態様例を模式的に表す断面図である。
A substrate, a transparent electrode film, an alignment film, a liquid crystal, etc. can use a well-known thing without a restriction | limiting especially except a transparent film using the said coating liquid.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of the first liquid crystal display cell according to the present invention.

この液晶表示セル1は、基板11の表面に透明電極膜12、透明被膜13および配向膜14が順次積層されてなる一対の透明電極付基板2が、それぞれの透明電極膜12、12同士が対向するように複数のスペーサー粒子5により所定の間隔dを開けて配置され、この所定間隔dに開けられた透明電極膜12、12間の隙間に液晶6が封入されて形成されている。  In the liquid crystal display cell 1, a pair of substrates 2 with a transparent electrode in which a transparent electrode film 12, a transparent film 13, and an alignment film 14 are sequentially laminated on the surface of a substrate 11 are opposed to each other. Thus, the liquid crystal 6 is formed in a gap between the transparent electrode films 12 and 12 arranged at a predetermined interval d by a plurality of spacer particles 5 and having a predetermined interval d.

基板はガラス基板であっても、さらには、プラスチック基板であってもよい。プラスチック基板は透明樹脂からなるものであれば特に制限されない。さらに、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリカーボネートなどの樹脂フィルムも基板として使用することが可能であり、とくに可撓性樹脂であれば、フィルムを任意の形状に曲げて使用することも可能となる。  The substrate may be a glass substrate or a plastic substrate. The plastic substrate is not particularly limited as long as it is made of a transparent resin. Furthermore, a resin film such as polyethylene terephthalate, polyethylene, or polycarbonate can be used as the substrate. In particular, if the resin is a flexible resin, the film can be bent into an arbitrary shape.

透明被膜13は、上記透明被膜形成用塗布液を透明電極膜12上に塗布することにより形成した膜であり、この膜は靭性、可撓性、撥水性等に優れ、透明性および耐擦傷性に優れ、絶縁抵抗が高く、透明被膜13と配向膜14との密着性が良好である。  The transparent film 13 is a film formed by applying the above-described coating liquid for forming a transparent film on the transparent electrode film 12, and this film is excellent in toughness, flexibility, water repellency, etc., and has transparency and scratch resistance. In addition, the insulation resistance is high, and the adhesion between the transparent coating 13 and the alignment film 14 is good.

なお、本発明に係る第1の液晶表示セルでは、基板11と透明電極膜12との間にさらにSiO膜などのアルカリパッシベーション膜を形成した透明電極付基板を用いてもよいなど、様々な変形が可能である。In the first liquid crystal display cell according to the present invention, a substrate with a transparent electrode in which an alkali passivation film such as a SiO 2 film is further formed between the substrate 11 and the transparent electrode film 12 may be used. Deformation is possible.

本発明に係る第2の液晶表示セルは、少なくとも一方の基板の表面にカラーフィルター、透明被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルである。  In the second liquid crystal display cell according to the present invention, a pair of substrates with a transparent electrode, in which a color filter, a transparent coating, a transparent electrode film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate, Is a liquid crystal display cell in which liquid crystal is sealed in a gap provided between the pair of substrates with a transparent electrode.

図2は、本発明に係る第2の液晶表示セルの一態様例を模式的に表す断面図である。
この図2にその特徴的部分が示されているカラー液晶表示装置1’は、ガラス基板21a上にアルカリパッシベーション膜21b、複数の画素電極21c、透明被膜21dおよび配向膜21eが順次積層された電極板21と、ガラス基板22a上にアルカリパッシベーション膜22b、カラーフィルター22c、透明被膜22d、透明電極22eおよび配向膜22fが順次積層された対向電極板22を有する液晶表示セル2’と、この液晶表示セルの両側に一対の偏光板3、4とを備えている。このうち、透明被膜21dおよび22dは、前記透明被膜形成用塗布液を塗布して形成された膜である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of an embodiment of the second liquid crystal display cell according to the present invention.
The color liquid crystal display device 1 ′, whose characteristic part is shown in FIG. 2, is an electrode in which an alkali passivation film 21b, a plurality of pixel electrodes 21c, a transparent film 21d, and an alignment film 21e are sequentially laminated on a glass substrate 21a. A liquid crystal display cell 2 ′ having a plate 21, a counter electrode plate 22 in which an alkali passivation film 22b, a color filter 22c, a transparent coating 22d, a transparent electrode 22e, and an alignment film 22f are sequentially laminated on the glass substrate 22a; A pair of polarizing plates 3 and 4 are provided on both sides of the cell. Among these, the transparent films 21d and 22d are films formed by applying the coating liquid for forming a transparent film.

前記液晶表示セル2の電極板21と対向電極板22とは、それぞれのガラス基板21aおよび22aを外側にして、複数の画素電極21cのそれぞれと複数のカラーフィルターR、G、Bのそれぞれとが対向するように配置されている。また、この電極21と対向電極板22との間の間隙には液晶23が封入されている。  The electrode plate 21 and the counter electrode plate 22 of the liquid crystal display cell 2 are arranged such that each of the plurality of pixel electrodes 21c and each of the plurality of color filters R, G, and B has the glass substrates 21a and 22a outside. It arrange | positions so that it may oppose. A liquid crystal 23 is sealed in a gap between the electrode 21 and the counter electrode plate 22.

さらに複数の画素電極21cのそれぞれと透明電極22eとの間には不図示の回路が形成され、この回路はカラー液晶表示装置1’本体に接続されている。また、対向電極板22のアルカリパッシベーション膜22b上に形成されたカラーフィルター22cは、R(レッドフィルター)、G(グリーンフィルター)、B(ブルーフィルター)の複数のカラー要素からなり、各カラー要素が互いに隣接するように規則正しく配列され、これにより液晶表示装置1’本体から送られてくる表示信号により特定の画素電極21cと透明電極22eとの間に形成された回路が作動し、表示信号に対応したカラー画像が対向電極板22の外側に配置された偏光板4を通して観察できるようになっている。  Further, a circuit (not shown) is formed between each of the plurality of pixel electrodes 21c and the transparent electrode 22e, and this circuit is connected to the main body of the color liquid crystal display device 1 '. The color filter 22c formed on the alkali passivation film 22b of the counter electrode plate 22 includes a plurality of color elements of R (red filter), G (green filter), and B (blue filter). A circuit formed between the specific pixel electrode 21c and the transparent electrode 22e is activated by the display signal sent from the liquid crystal display device 1 ′ main body so as to be regularly arranged so as to be adjacent to each other. The color image thus obtained can be observed through the polarizing plate 4 disposed outside the counter electrode plate 22.

本発明に係る第3の液晶表示セルは、少なくとも一方の基板の表面にTFTアレイ、透明被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルである。
アルカリパッシベーション膜、画素電極、配向膜、ガラス基板、カラーフィルター、透明電極、偏光板、液晶としては公知のものを特に制限なく使用することが可能である。
In the third liquid crystal display cell according to the present invention, a pair of substrates with a transparent electrode, in which a TFT array, a transparent coating, a transparent electrode film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate, Is a liquid crystal display cell in which liquid crystal is sealed in a gap provided between the pair of substrates with a transparent electrode.
Known alkali passivation films, pixel electrodes, alignment films, glass substrates, color filters, transparent electrodes, polarizing plates, and liquid crystals can be used without particular limitation.

図3は、本発明に係る第3の液晶表示セルの一態様例を模式的に表す断面図である。
この液晶表示セル1″は、表面にTFTアレイ32が形成され、このTFTアレイ32表面に、透明被膜33、画素電極34および配向膜35が順次積層された透明絶縁性基板31と、
表面にブラックマトリクス(遮蔽膜)42、カラーフィルター43、透明被膜44、対向電極45および配向膜46が順次積層された対向基板41とが、液晶層51とを挟んで配向膜35および46が対峙するように構成されている。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of an aspect of the third liquid crystal display cell according to the present invention.
The liquid crystal display cell 1 ″ has a TFT array 32 formed on the surface thereof, and a transparent insulating substrate 31 in which a transparent coating 33, a pixel electrode 34, and an alignment film 35 are sequentially stacked on the surface of the TFT array 32;
The alignment films 35 and 46 are opposed to the liquid crystal layer 51 with the counter substrate 41 having a black matrix (shielding film) 42, a color filter 43, a transparent film 44, a counter electrode 45 and an alignment film 46 sequentially laminated on the surface. Is configured to do.

なお、図1のように配向膜35および46の間にはスペーサ粒子が介在していてもよい。
TFTアレイ32は、TFT(薄膜トランジスタ)素子、データ電極、補助容量などとからなるものである。
As shown in FIG. 1, spacer particles may be interposed between the alignment films 35 and 46.
The TFT array 32 includes TFT (thin film transistor) elements, data electrodes, auxiliary capacitors, and the like.

画素電極、配向膜、ブラックマトリクス、カラーフィルター、対向電極、基板としては公知のものを特に制限なく使用することが可能である。
以上のような本発明に係る液晶表示セルは、前記透明被膜が特定の有機ケイ素化合物からなるマトリックス形成成分を含んで構成され、耐水性、撥水性、靭性、可撓性等に優れている。
As the pixel electrode, the alignment film, the black matrix, the color filter, the counter electrode, and the substrate, known ones can be used without particular limitation.
In the liquid crystal display cell according to the present invention as described above, the transparent film includes a matrix-forming component made of a specific organosilicon compound, and is excellent in water resistance, water repellency, toughness, flexibility and the like.

さらに、透明被膜がイオン吸着性の無機化合物粒子を含んでいる場合は液晶中の可動イオン(イオン性不純分)が低減されている。このため本発明に係る液晶表示セルは、高電圧保持率特性に優れ、表示不良が生じることがなく、長期信頼性に優れ、しかも消費電力が少なくて済むため電力効率を高めることができる。  Furthermore, when the transparent coating contains ion-adsorbing inorganic compound particles, mobile ions (ionic impurities) in the liquid crystal are reduced. For this reason, the liquid crystal display cell according to the present invention has excellent high voltage retention characteristics, does not cause display defects, has excellent long-term reliability, and requires less power consumption, thereby improving power efficiency.

以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。  EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

透明被膜形成用塗布液(A)の調製
マトリックス形成成分として、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)25.6gを、純水47.0gおよびエチルアルコール526.4gとの混合溶媒に添加し、これに濃度61重量%の硝酸1.0gを加え、攪拌を行いながら60℃で24時間保持し、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサンの部分加水分解物溶液(A−1)とした。室温に冷却後、部分加水分解物溶液(A−1)に両イオン交換樹脂(ダイヤイオン)18gを添加し、16時間室温で攪拌してイオン除去した後、イオン交換樹脂を濾別した。さらに、この溶液にヘキシレングリコール85gを添加し減圧蒸留により、ヘキシレングリコールを主溶媒成分とした固形分濃度16重量%の加水分解物溶液(A−2)を得た。
Preparation of Transparent Film Forming Coating Liquid (A) As a matrix forming component, 25.6 g of bis (trimethoxysilyl) hexane (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), 47.0 g of pure water and 526. 4 g of nitric acid having a concentration of 61% by weight was added thereto, and the mixture was kept at 60 ° C. for 24 hours with stirring, and a partially hydrolyzed solution of bis (trimethoxysilyl) hexane (A -1). After cooling to room temperature, 18 g of both ion exchange resins (Diaion) was added to the partially hydrolyzed solution (A-1), and the ions were removed by stirring at room temperature for 16 hours, and then the ion exchange resin was filtered off. Further, 85 g of hexylene glycol was added to this solution and distilled under reduced pressure to obtain a hydrolyzate solution (A-2) having a solid content concentration of 16% by weight using hexylene glycol as a main solvent component.

この加水分解物溶液(A−2)94.2gにイオン吸着性微粒子として、平均粒子径20nm、Naイオン吸着容量2.4mmol/gのSb・2.7HO微粒子をヘキシレングリコール中に均一分散させた固形分濃度10重量%のイオン吸着性微粒子ゾル42.2gを加えて1時間攪拌し、ついでテトラエトキシシラン(SiOとして28.8重量%)7.3gとヘキシレングリコール206.1gと水2.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(A)を調製した。94.2 g of the hydrolyzate solution (A-2) was charged with hexylene glycol as Sb 2 O 5 · 2.7H 2 O fine particles having an average particle diameter of 20 nm and an Na ion adsorption capacity of 2.4 mmol / g as ion-adsorbing fine particles. 42.2 g of ion-adsorptive fine particle sol having a solid content concentration of 10% by weight uniformly dispersed therein was added and stirred for 1 hour, and then 7.3 g of tetraethoxysilane (28.8% by weight as SiO 2 ) and hexylene glycol. 206.1 g and 2.0 g of water were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 24 hours to prepare a coating solution (A) for forming a transparent film having a solid content concentration of 6% by weight.

透明被膜(A)の形成
パターニングされたITO表示電極つきガラス基板(旭硝子(株)製:30Ω/□以下品)上にフレキソ印刷にて透明被膜形成用塗布液(A)を塗布し、得られた塗膜を90℃で5分間乾燥させた後、高圧水銀ランプで積算光量6,000mJ/cm(365nm用センサにて測定)の条件で紫外線を照射し、次いで200℃で30分間焼成を行い透明被膜(A)を形成した。得られた透明被膜(A)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ80nmであった。
Formation of transparent coating (A) A transparent coating-forming coating solution (A) is applied by flexographic printing onto a patterned glass substrate with an ITO display electrode (Asahi Glass Co., Ltd .: 30Ω / □ or less). The coated film was dried at 90 ° C. for 5 minutes, then irradiated with ultraviolet light under a condition of an integrated light amount of 6,000 mJ / cm 2 (measured with a 365 nm sensor) with a high-pressure mercury lamp, and then baked at 200 ° C. for 30 minutes. A transparent coating (A) was formed. It was 80 nm when the film thickness of the obtained transparent film (A) was measured with the stylus type surface roughness meter.

また、以下のように垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行い、結果を表2および表3に示した。
垂直荷重テスト
ITO電極面と透明被膜上面との間に直流電圧12Vの電圧を印加した曲率半径1mmの先端を持つ針を透明被膜面に押し付け、電圧が3Vになった時点での荷重値を電気的短絡とみなして膜の垂直方向の荷重耐性を評価した。透明被膜上の10カ所について荷重耐性を測定した。平均値を表2および表3に示す。
Further, the vertical load test and the scratch strength measurement were performed as follows, and the results are shown in Tables 2 and 3.
Vertical load test A needle with a 1 mm radius of curvature with a DC voltage of 12V applied between the ITO electrode surface and the transparent film upper surface is pressed against the transparent film surface, and the load value when the voltage reaches 3V is The load resistance in the vertical direction of the film was evaluated as a mechanical short circuit. Load resistance was measured at 10 locations on the transparent coating. The average values are shown in Tables 2 and 3.

スクラッチ強度測定
スクラッチ強度をスクラッチテスター(レスカ(株)製:CSR−02)を用いて透明被膜(A)のスクラッチ強度を測定した。平均値を表2および表3に示す。
Scratch strength measurement The scratch strength of the transparent coating (A) was measured using a scratch tester (Reska Co., Ltd .: CSR-02). The average values are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(A)の作成
次に、透明被膜(A)上にポリイミド膜形成用塗料(日産化学(株)製:サンエバー)をフレキソ印刷で塗布し、100℃で5分間乾燥した後、200℃で30分間加熱処理してポリイミド膜(配向膜)を形成し、ついでラビング処理を行った。
Preparation of liquid crystal display cell (A) Next, a polyimide film-forming paint (Nissan Chemical Co., Ltd .: Sunever) was applied on the transparent film (A) by flexographic printing, dried at 100 ° C. for 5 minutes, A polyimide film (alignment film) was formed by heat treatment at 30 ° C. for 30 minutes, and then a rubbing treatment was performed.

このようにして、ガラス基板上に透明電極、透明被膜(A)およびラビング処理した配向膜が順次積層した一対の透明電極付基板を得た。得られた一対の透明電極付き基板のうち一方の基板には(2枚の基板間距離に相当する粒子径)のスペーサを散布し、もう一方の基板にはシール材を印刷し、これらの基板を透明電極同士が互いに対向するように貼り合わせ、STN液晶を封入し、ついで封入口を封止材で封止して液晶表示セル(A)を作成した。  In this way, a pair of substrates with a transparent electrode was obtained in which a transparent electrode, a transparent coating (A), and a rubbing-treated alignment film were sequentially laminated on a glass substrate. Spacers (particle diameter corresponding to the distance between the two substrates) are sprayed on one of the obtained substrates with transparent electrodes, and a sealing material is printed on the other substrate. Were bonded so that the transparent electrodes were opposed to each other, STN liquid crystal was sealed, and then the sealing port was sealed with a sealing material to prepare a liquid crystal display cell (A).

可動イオン量の測定
得られた液晶表示セル(A)中の可動イオン量をイオン密度測定機(東陽テクニカ(株)製:MTR−1)を用いて、印加電圧10V、三角波周波数0.1Hzの条件で測定した。印加電圧が0.8Vの付近に可動イオンによるピークが検出され、可動イオン量は0.8nC/cmであった。
Measurement of mobile ion amount The amount of mobile ions in the obtained liquid crystal display cell (A) was measured using an ion density measuring machine (manufactured by Toyo Technica Co., Ltd .: MTR-1) with an applied voltage of 10 V and a triangular wave frequency of 0.1 Hz. Measured under conditions. A peak due to mobile ions was detected in the vicinity of an applied voltage of 0.8 V, and the amount of mobile ions was 0.8 nC / cm 2 .

液晶表示セルの表示ムラの観察
また、上記方法にて30枚の液晶表示セルを作成し、点灯表示テストを実施し、表示ムラの有無について目視観察を行った。このとき、表示ムラの発生したパネルの枚数を調べた。平均値を表2および表3に示す。
Observation of display unevenness of liquid crystal display cell In addition, 30 liquid crystal display cells were prepared by the above method, a lighting display test was performed, and visual observation was performed for the presence or absence of display unevenness. At this time, the number of panels in which display unevenness occurred was examined. The average values are shown in Tables 2 and 3.

長期信頼性の評価
上記方法で表示ムラが発生しなかった液晶表示セル(A)を用いて、10枚について高温環境下(相対湿度20%、温度80℃)で、他の10枚については高温高湿の環境下(相対湿度95%、温度80℃)で500時間曝した後に、液晶表示セルの点灯表示テストを実施し、表示ムラの有無について目視観察を行った。このとき、表示ムラの発生しなかったパネルの枚数を調べた。平均値を表2および表3に示す。
Evaluation of long-term reliability Using the liquid crystal display cell (A) in which display unevenness did not occur by the above method, 10 sheets were in a high temperature environment (relative humidity 20%, temperature 80 ° C.), and the other 10 sheets were high temperature. After exposure for 500 hours in a high humidity environment (relative humidity 95%, temperature 80 ° C.), a liquid crystal display cell lighting display test was performed, and visual observation was performed for the presence or absence of display unevenness. At this time, the number of panels in which display unevenness did not occur was examined. The average values are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(B)の調製
マトリックス形成成分として、実施例1と同様にして調製した加水分解物溶液(A−2)94.2gにイオン吸着性微粒子として、平均粒子径25nm、Naイオン吸着容量0.5mmol/gのSiO・Al微粒子をヘキシレングリコール中に均一分散させた固形分濃度10重量%のイオン吸着性微粒子ゾル42.2gを加えて1時間攪拌し、ついでテトライソプロポキシチタニウム(TiOとして28重量%)7.5gとヘキシレングリコール205.9gと水2.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(B)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (B) As a matrix forming component, 94.2 g of hydrolyzate solution (A-2) prepared in the same manner as in Example 1 was used as ion-adsorbing fine particles, with an average particle diameter of 25 nm, Na 42.2 g of an ion-adsorbing fine particle sol having a solid content concentration of 10% by weight, in which SiO 2 .Al 2 O 3 fine particles having an ion adsorption capacity of 0.5 mmol / g were uniformly dispersed in hexylene glycol, was added and stirred for 1 hour. Next, 7.5 g of tetraisopropoxytitanium (28 wt% as TiO 2 ), 205.9 g of hexylene glycol and 2.0 g of water were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 24 hours to obtain a transparent film having a solid content concentration of 6 wt%. A forming coating solution (B) was prepared.

透明被膜(B)の形成
透明被膜形成用塗布液(B)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(B)を形成した。得られた透明被膜(B)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ70nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (B) A transparent film (B) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (B) for forming a transparent film was used. It was 70 nm when the film thickness of the obtained transparent film (B) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(B)の作成
ついで、透明被膜(B)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(B)を作成した。得られた液晶表示セル(B)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
Preparation of liquid crystal display cell (B) Next, a liquid crystal display cell (B) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent film (B). The obtained liquid crystal display cell (B) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(C)の調製
マトリックス形成成分として、実施例1と同様にして調製した加水分解物溶液(A−2)94.2gにイオン吸着性微粒子として、平均粒子径45nm、Clイオン吸着容量0.3mmol/gのMgO微粒子をヘキシレングリコール中に均一分散させた固形分濃度10重量%のイオン吸着性微粒子ゾル42.2gを加えて1時間攪拌し、ついでジブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウム(ZrOとして14重量%)15.1gとヘキシレングリコール198.3gと水2.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(C)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (C) As matrix forming component, 94.2 g of hydrolyzate solution (A-2) prepared in the same manner as in Example 1 as ion-adsorbing fine particles, average particle size 45 nm, Cl 42.2 g of an ion-adsorbing fine particle sol having a solid concentration of 10% by weight in which MgO fine particles having an ion adsorption capacity of 0.3 mmol / g are uniformly dispersed in hexylene glycol are added and stirred for 1 hour, and then dibutoxy-bisacetylacetate. 15.1 g of natozirconium (14% by weight as ZrO 2 ), 198.3 g of hexylene glycol and 2.0 g of water are added, and the mixture is stirred at 40 ° C. for 24 hours to form a transparent film having a solid content of 6% by weight. Liquid (C) was prepared.

透明被膜(C)の形成
透明被膜形成用塗布液(C)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(C)を形成した。得られた透明被膜(C)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ90nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (C) A transparent film (C) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (C) for forming a transparent film was used. It was 90 nm when the film thickness of the obtained transparent film (C) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(C)の作成
ついで、透明被膜(C)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(C)を作成した。得られた液晶表示セル(C)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
Preparation of liquid crystal display cell (C) Next, a liquid crystal display cell (C) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent film (C). The obtained liquid crystal display cell (C) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(D)の調製
マトリックス形成成分として、実施例1と同様にして調製した加水分解物溶液(A−2)53.8gに、テトラメトキシシラン(SiOとして39.5重量%)32.1gとヘキシレングリコール264.3gと水2.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(D)を調製した。
Preparation matrix-forming component of the transparent film-forming coating liquid (D), 39.5 weight hydrolyzate solution (A-2) 53.8g, prepared in the same manner as in Example 1, as tetramethoxysilane (SiO 2 %) 32.1 g, hexylene glycol 264.3 g, and water 2.0 g were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 24 hours to prepare a coating solution (D) for forming a transparent film having a solid content concentration of 6% by weight.

透明被膜(D)の形成
透明被膜形成用塗布液(D)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(D)を形成した。得られた透明被膜(D)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ80nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (D) A transparent film (D) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (D) for forming a transparent film was used. It was 80 nm when the film thickness of the obtained transparent film (D) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(D)の作成
ついで、透明被膜(D)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(D)を作成した。得られた液晶表示セル(D)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
Preparation of liquid crystal display cell (D) Next, a liquid crystal display cell (D) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent film (D). The obtained liquid crystal display cell (D) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(E)の調製
マトリックス形成成分として、実施例1と同様にして調製した加水分解物溶液(A−2)121.1gにイオン吸着性微粒子として、平均粒子径20nm、Naイオン吸着容量2.4mmol/gのSb・2.7HO微粒子をプロピレングリコール中に均一分散させた固形分濃度20重量%のイオン吸着性微粒子ゾル5.3gを加えて1時間攪拌し、ついでトリブトキシ−モノアセチルアセトナトジルコニウムのブタノール溶液(ZrOとして10重量%)10.6gと水0.5gを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度15.6重量%の透明被膜形成用塗布液(E)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (E) As a matrix forming component, 121.1 g of the hydrolyzate solution (A-2) prepared in the same manner as in Example 1 was used as ion-adsorbing fine particles with an average particle diameter of 20 nm, Na Add 5.3 g of ion-adsorbing fine particle sol having a solid content concentration of 20 wt% in which Sb 2 O 5 · 2.7H 2 O fine particles having an ion adsorption capacity of 2.4 mmol / g are uniformly dispersed in propylene glycol, and stir for 1 hour. Then, 10.6 g of a butanol solution of tributoxy-monoacetylacetonatozirconium (10 wt% as ZrO 2 ) and 0.5 g of water were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 24 hours to obtain a solid content concentration of 15.6 wt%. A coating solution (E) for forming a transparent film was prepared.

透明被膜(E)の形成
カラーフィルターが形成されたガラス基板上に、透明被膜形成用塗布液(E)をスピンコーティング法により1500rpm、10秒間の条件で塗布し、ついで50℃で120分間乾燥した後120℃で60分間加熱処理を行い、透明被膜(E)を形成することによってカラーフィルター画素のオーバーコートを行った。得られた透明被膜(E)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ2μmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of transparent film (E) On a glass substrate on which a color filter is formed, a coating liquid (E) for forming a transparent film is applied by spin coating at 1500 rpm for 10 seconds, and then dried at 50 ° C. for 120 minutes. Thereafter, a heat treatment was performed at 120 ° C. for 60 minutes to form a transparent film (E), thereby overcoating the color filter pixels. It was 2 micrometers when the film thickness of the obtained transparent film (E) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

さらに、透明被膜(E)上にスパッタリング法によりITO電極膜を形成した。
液晶表示セル(E)の作成
このITO電極膜を常法によりパターニングして表示電極を形成し、その上に実施例1と同様にしてポリイミド配向膜を形成し、ついでラビング処理を行った。このようにして、ガラス基板上にカラーフィルター、透明被膜(E)、透明電極およびラビング処理した配向膜が順次積層した一対の透明電極付基板を得た。
Furthermore, an ITO electrode film was formed on the transparent coating (E) by a sputtering method.
Preparation of liquid crystal display cell (E) This ITO electrode film was patterned by a conventional method to form a display electrode, and a polyimide alignment film was formed thereon in the same manner as in Example 1, followed by rubbing treatment. In this manner, a pair of substrates with a transparent electrode was obtained in which a color filter, a transparent coating (E), a transparent electrode, and a rubbing-treated alignment film were sequentially laminated on a glass substrate.

つぎに、対向する共通電極付基板を、スペーサを介してシール材で貼りあわせ、基板間のギャップにSTN液晶を注入し、注入口を封止材で封止して液晶表示セル(E)を作成した。得られた液晶表示セル(E)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。  Next, the opposing substrate with common electrode is bonded with a sealing material through a spacer, STN liquid crystal is injected into the gap between the substrates, and the injection port is sealed with the sealing material to form the liquid crystal display cell (E). Created. The obtained liquid crystal display cell (E) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(F)の調製
マトリックス形成成分として、CF(CF(CHSi(OCH(信越化学(株)製、KBM7803)17gを、純水47.0gおよびエチルアルコール526.4gとの混合溶媒に添加し、これに濃度61重量%の硝酸1.0gを加え、攪拌を行いながら60℃で24時間保持し、ヘプタデカトリフルオロトリメトキシシランの部分加水分解溶液(F−1)とした。
Preparation of coating liquid for transparent film formation (F) As a matrix-forming component, 17 g of CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM7803) 0.06 g of ethyl alcohol and 526.4 g of ethyl alcohol, 1.0 g of nitric acid having a concentration of 61% by weight was added thereto, and the mixture was kept at 60 ° C. for 24 hours while stirring, and a portion of heptadecatrifluorotrimethoxysilane was added. It was set as the hydrolysis solution (F-1).

これを室温に冷却後、部分加水分解溶液(F−1)に両イオン交換樹脂(ダイヤイオン)18gを添加し、16時間室温で攪拌した後、イオン交換樹脂を濾別してイオンを除去した。さらに、この溶液にヘキシレングリコール85gを添加し、ついで減圧蒸留してヘキシレングリコールを主溶媒成分とした固形分濃度16重量%の加水分解溶液(F−2)を得た。  After cooling this to room temperature, 18 g of both ion exchange resins (Diaion) was added to the partially hydrolyzed solution (F-1) and stirred for 16 hours at room temperature, and then the ion exchange resin was filtered off to remove ions. Further, 85 g of hexylene glycol was added to this solution, followed by distillation under reduced pressure to obtain a hydrolysis solution (F-2) having a solid content concentration of 16% by weight using hexylene glycol as a main solvent component.

この加水分解溶液(F−2)94.2gにイオン吸着性微粒子として平均粒子径20nm、Naイオン吸着容量2.4mmol/gのSb・2.7HO微粒子をヘキシレングリコール中に均一分散させた固形分濃度10重量%のイオン吸着性微粒子ゾル21.1gを加えて1時間攪拌し、ついでテトラエトキシシラン(SiOとして28.8重量%)14.6gとヘキシレングリコール221.6gと水4.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(F)を調製した。Sb 2 O 5 · 2.7H 2 O fine particles having an average particle diameter of 20 nm and Na ion adsorption capacity of 2.4 mmol / g as ion-adsorbing fine particles were added to 94.2 g of this hydrolyzed solution (F-2) in hexylene glycol. 21.1 g of ion-adsorptive fine particle sol having a solid concentration of 10% by weight dispersed uniformly was added and stirred for 1 hour, and then 14.6 g of tetraethoxysilane (28.8% by weight as SiO 2 ) and hexylene glycol 221. 6 g and 4.0 g of water were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 24 hours to prepare a coating solution (F) for forming a transparent film having a solid content concentration of 6% by weight.

透明被膜(F)の形成
透明被膜形成用塗布液(F)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(F)を形成した。得られた透明被膜(F)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ75nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (F) A transparent film (F) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (F) for forming a transparent film was used. It was 75 nm when the film thickness of the obtained transparent film (F) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(F)の作成
ついで、透明被膜(F)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(F)を作成した。得られた液晶表示セル(F)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
(比較例1)
透明被膜形成用塗布液(G)の調製
マトリックス形成成分として、テトラエトキシシラン(SiOとして28.8重量%)51.3gを、純水9.0gおよびエチルアルコール432.2gとの混合溶媒に添加し、これに濃度61重量%の硝酸0.2gを加え、攪拌を行いながら60℃で24時間保持し、テトラエトキシシランの部分加水分解溶液(G−1)とした。
Preparation of liquid crystal display cell (F) Next, a liquid crystal display cell (F) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent film (F). The obtained liquid crystal display cell (F) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.
(Comparative Example 1)
Preparation of coating liquid for forming transparent film (G) As a matrix forming component, 51.3 g of tetraethoxysilane (28.8 wt% as SiO 2 ) was mixed in a mixed solvent of 9.0 g of pure water and 432.2 g of ethyl alcohol. Then, 0.2 g of nitric acid having a concentration of 61% by weight was added thereto, and the mixture was kept at 60 ° C. for 24 hours while stirring to obtain a partially hydrolyzed solution of tetraethoxysilane (G-1).

室温に冷却後、部分加水分解溶液(G−1)に両イオン交換樹(ダイヤイオン)18gを添加し、16時間室温で攪拌した後、イオン交換樹脂を濾別してイオンを除去した。さらに、この溶液にヘキシレングリコール85gを添加し、減圧蒸留によりヘキシレングリコールを主溶媒成分とした固形分濃度16重量%のテトラエトキシシラン加水分解溶液(G−2)を得た。  After cooling to room temperature, 18 g of both ion exchange trees (Diaion) was added to the partially hydrolyzed solution (G-1) and stirred for 16 hours at room temperature, and then the ion exchange resin was filtered off to remove ions. Furthermore, 85 g of hexylene glycol was added to this solution, and a tetraethoxysilane hydrolysis solution (G-2) having a solid content concentration of 16% by weight using hexylene glycol as a main solvent component was obtained by distillation under reduced pressure.

この加水分解溶液(G−2)94.2gに、イオン吸着性粒子として平均粒子径20nm、Naイオン吸着容量2.4mmol/gのSb・2.7HO微粒子をヘキシレングリコール中に均一分散させた固形分濃度10重量%のイオン吸着性微粒子ゾル16.4g、ヘキシレングリコール161.1gと水2.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(G)を調製した。In 94.2 g of this hydrolyzed solution (G-2), Sb 2 O 5 · 2.7H 2 O fine particles having an average particle diameter of 20 nm and an Na ion adsorption capacity of 2.4 mmol / g as ion-adsorbing particles were added in hexylene glycol. 16.4 g of ion-adsorptive fine particle sol having a solid content concentration of 10% by weight, 161.1 g of hexylene glycol and 2.0 g of water were added and stirred at 40 ° C. for 24 hours to obtain a solid content concentration of 6 wt. % Transparent film-forming coating solution (G) was prepared.

透明被膜(G)の形成
透明被膜形成用塗布液(G)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(G)を形成した。得られた透明被膜(G)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ80nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (G) A transparent film (G) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (G) for forming a transparent film was used. It was 80 nm when the film thickness of the obtained transparent film (G) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(G)の作成
ついで、透明被膜(G)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(G)を作成した。得られた液晶表示セル(G)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
Preparation of liquid crystal display cell (G) Next, a liquid crystal display cell (G) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent film (G). The obtained liquid crystal display cell (G) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(H)の調製
マトリックス形成成分として、実施例6と同様にして調製した加水分解溶液(F−2)26.9gに、イオン吸着性微粒子として平均粒子径25nm、Naイオン吸着容量0.5mmol/gのSiO−Al微粒子をヘキシレングリコール中に均一分散させた固形分濃度10重量%のイオン吸着性微粒子ゾル21.1gを加えて1時間攪拌し、ついでテトライソプロポキシチタニウム(TiOとして28重量%)52.8gとヘキシレングリコール251.0gと水3.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(H)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (H) As a matrix-forming component, 26.9 g of the hydrolysis solution (F-2) prepared in the same manner as in Example 6, an average particle size of 25 nm, Na ions as ion-adsorbing fine particles 21.1 g of an ion-adsorbing fine particle sol having a solid content concentration of 10% by weight, in which SiO 2 —Al 2 O 3 fine particles having an adsorption capacity of 0.5 mmol / g were uniformly dispersed in hexylene glycol, was added and stirred for 1 hour. Add 52.8 g of tetraisopropoxytitanium (28 wt% as TiO 2 ), 251.0 g of hexylene glycol and 3.0 g of water, and stir at 40 ° C. for 24 hours to form a transparent film with a solid content concentration of 6 wt% Coating solution (H) was prepared.

透明被膜(H)の形成
透明被膜形成用塗布液(H)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(H)を形成した。得られた透明被膜(H)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ75nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (H) A transparent film (H) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (H) for forming a transparent film was used. It was 75 nm when the film thickness of the obtained transparent film (H) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(H)の作成
ついで、透明被膜(H)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(H)を作成した。得られた液晶表示セル(H)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
Preparation of liquid crystal display cell (H) Next, a liquid crystal display cell (H) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent film (H). The obtained liquid crystal display cell (H) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(I)の調製
マトリックス形成成分として、実施例1と同様にして調製した加水分解物溶液(A−2)94.2gにヘキシレングリコール155.0gと水2.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(I)を調製した。
Preparation of coating liquid (I) for forming transparent film As a matrix-forming component, 95.0 g of hydrolyzate solution (A-2) prepared in the same manner as in Example 1, 155.0 g of hexylene glycol and 2.0 g of water And stirred at 40 ° C. for 24 hours to prepare a coating solution (I) for forming a transparent film having a solid content concentration of 6% by weight.

透明被膜(I)の形成
透明被膜形成用塗布液(I)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(I)を形成した。得られた透明被膜(I)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ80nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (I) A transparent film (I) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (I) for forming a transparent film was used. It was 80 nm when the film thickness of the obtained transparent film (I) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(I)の作成
ついで、透明被膜(I)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(I)を作成した。得られた液晶表示セル(I)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
Preparation of liquid crystal display cell (I) Next, a liquid crystal display cell (I) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent film (I). The obtained liquid crystal display cell (I) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

透明被膜形成用塗布液(J)の調製
マトリックス形成成分として、実施例1と同様にして調製した加水分解物溶液(A−2)47.1gに実施例6と同様にして調製した加水分解物溶液(F−2)47.1gを加えて1時間攪拌し、ついでヘキシレングリコール155.0gと水2.0gとを加え、40℃で24時間攪拌を行い、固形分濃度6重量%の透明被膜形成用塗布液(J)を調製した。
Preparation of coating liquid for forming transparent film (J) Hydrolyzate prepared in the same manner as in Example 6 in 47.1 g of hydrolyzate solution (A-2) prepared in the same manner as in Example 1 as a matrix forming component 47.1 g of the solution (F-2) was added and stirred for 1 hour, and then 155.0 g of hexylene glycol and 2.0 g of water were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 24 hours. A coating solution (J) for film formation was prepared.

透明被膜(J)の形成
透明被膜形成用塗布液(J)を用いた以外は実施例1と同様にして透明被膜(J)を形成した。得られた透明被膜(J)の膜厚を触針式表面粗さ計で測定したところ80nmであった。また、垂直荷重テスト、スクラッチ強度測定を行った。結果を表2および表3に示した。
Formation of Transparent Film (J) A transparent film (J) was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (J) was used. It was 80 nm when the film thickness of the obtained transparent film (J) was measured with the stylus type surface roughness meter. In addition, a vertical load test and a scratch strength measurement were performed. The results are shown in Tables 2 and 3.

液晶表示セル(J)の作成
ついで、透明被膜(J)上にポリイミド膜の形成等を行った以外は実施例1と同様にして液晶表示セル(J)を作成した。得られた液晶表示セル(J)について可動イオン量の測定、表示ムラの観察、長期信頼性の評価を行った。結果を表2および表3に示した。
Preparation of liquid crystal display cell (J) Next, a liquid crystal display cell (J) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film was formed on the transparent coating (J). The obtained liquid crystal display cell (J) was measured for the amount of mobile ions, observed for display unevenness, and evaluated for long-term reliability. The results are shown in Tables 2 and 3.

Figure 2004108845
Figure 2004108845

Figure 2004108845
Figure 2004108845

[図1]図1は、本発明に係る第1の液晶表示セルの一態様例の概略断面図を示す。
[図2]図2は、本発明に係る第2の液晶表示セルの一態様例の概略断面図を示す。
[図3]図3は、本発明に係る第3の液晶表示セルの一態様例の概略断面図を示す。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of a first liquid crystal display cell according to the present invention.
[FIG. 2] FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of an embodiment of a second liquid crystal display cell according to the present invention.
[FIG. 3] FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of one embodiment of a third liquid crystal display cell according to the present invention.

図中の参照数字は下記のとおり。
1、1’、1″…液晶表示セル、2、2’…液晶表示セル、3、4…偏光板、5…スペーサ粒子、6…液晶、11…ガラス基板、12…透明電極膜、13…透明イオンゲッター膜、14…配向膜、21…電極板、21a…ガラス基板、21b…アルカリパッシベーション膜、21c…複数の画素電極、21d…透明被膜、21e…配向膜、22…対向電極板、22a…ガラス基板、22b…アルカリパッシベーション膜、22c…カラーフィルター、22d…透明被膜、22e…透明電極、22f…配向膜、23…液晶、31…透明絶縁性基板、32…TFTアレイ、33…透明被膜、34…画素電極、35…配向膜、36…絶縁膜、41…対向基板、42…ブラックマトリクス(遮蔽膜)、43…カラーフィルター、44…透明被膜、45…対向電極、46…配向膜、51…液晶層
The reference numbers in the figure are as follows.
1, 1 ', 1 "... liquid crystal display cell, 2, 2' ... liquid crystal display cell, 3, 4 ... polarizing plate, 5 ... spacer particle, 6 ... liquid crystal, 11 ... glass substrate, 12 ... transparent electrode film, 13 ... Transparent ion getter film, 14 ... alignment film, 21 ... electrode plate, 21a ... glass substrate, 21b ... alkali passivation film, 21c ... multiple pixel electrodes, 21d ... transparent coating, 21e ... alignment film, 22 ... counter electrode plate, 22a ... glass substrate, 22b ... alkali passivation film, 22c ... color filter, 22d ... transparent coating, 22e ... transparent electrode, 22f ... alignment film, 23 ... liquid crystal, 31 ... transparent insulating substrate, 32 ... TFT array, 33 ... transparent coating 34 ... Pixel electrode, 35 ... Alignment film, 36 ... Insulating film, 41 ... Counter substrate, 42 ... Black matrix (shielding film), 43 ... Color filter, 44 ... Transparent coating, 45 ... Counter electrode, 46 ... orientation film 51 ... liquid crystal layer

Claims (8)

水と有機溶媒とからなる混合溶媒にマトリックス形成成分が分散されてなる透明被膜形成用塗布液であって、該マトリックス形成成分がa)下記式(I)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物、b)下記式(II)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物あるいはc)それらの混合物から選ばれる1種以上を含むことを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
−SiR (3−m) (I)
〔式中、R−はR(CR −またはR10X−で表される。
は加水分解性基、水酸基、水素原子またはハロゲン原子を表す。
はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。
10はメチル基、水素原子または加水分解性基を表す。
nは3〜30の整数。
Xは、−(CH)q−、−(Ph)−[ここで、Phはベンゼン環を表す]、
−(CH)q−(Ph)−、−(CH)q−(Ph)−(CH)y−、
−[(CH)q(CF)y(CH)r]−および
−(CH)q−(S)−(CH)r−から選ばれる二価の基[ここで、q、rおよびyは1〜30の整数を表す]。
は加水分解性基を表す。
はハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の有機基を表す。
mは1〜3の数を示す。
但し、式(I)は1分子中に2〜3個の加水分解性基を有する。〕
3−nSi−(X)−SiR (3−p) (II)
〔式中、RおよびRは、独立に加水分解性基を表す。
およびRは、独立にハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の一価の有機基を表す。
Xは、−(CH)q−、−(Ph)−(ここで、Phはベンゼン環を表す)、
−(CH)q−(Ph)−、−(CH)q−(Ph)−(CH)y−、
−[(CH)q(CF)y(CH)r]−
−(CH)q−(S)−(CH)r−および−(S)q−から選ばれる二価の基[ここで、q、rおよびyは1〜30の整数を表す]。
nは0から3の数を示す。
pは0から3の数を示す。
但し、式(II)は1分子中に2個以上の加水分解性基を有する。〕
A coating liquid for forming a transparent film in which a matrix-forming component is dispersed in a mixed solvent comprising water and an organic solvent, wherein the matrix-forming component is a) an organosilicon compound represented by the following formula (I) or a hydrate thereof A coating solution for forming a transparent film, comprising one or more selected from a decomposed product, b) an organosilicon compound represented by the following formula (II) or a hydrolyzate thereof, or c) a mixture thereof.
R 1 —SiR 2 m R 3 (3-m) (I)
Wherein, R 1 - is R 8 (CR 9 2) n - or represented by R 10 X-.
R 8 represents a hydrolyzable group, a hydroxyl group, a hydrogen atom or a halogen atom.
R 9 each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom.
R 10 represents a methyl group, a hydrogen atom or a hydrolyzable group.
n is an integer of 3 to 30.
X is — (CH 2 ) q—, — (Ph) — [wherein Ph represents a benzene ring],
- (CH 2) q- (Ph ) -, - (CH 2) q- (Ph) - (CH 2) y-,
- [(CH 2) q ( CF 2) y (CH 2) r] - and - (CH 2) q- (S ) - (CH 2) r- from divalent group [where selected, q, r and y represent an integer of 1 to 30].
R 2 represents a hydrolyzable group.
R 3 represents an organic group having 1 to 30 carbon atoms which may contain a halogen atom.
m shows the number of 1-3.
However, Formula (I) has 2 to 3 hydrolyzable groups in one molecule. ]
R 4 n R 5 3-n Si- (X) -SiR 6 p R 7 (3-p) (II)
[Wherein, R 4 and R 6 independently represent a hydrolyzable group.
R 5 and R 7 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms which may contain a halogen atom.
X is, - (CH 2) q - , - (Ph) - ( wherein, Ph represents a benzene ring),
- (CH 2) q- (Ph ) -, - (CH 2) q- (Ph) - (CH 2) y-,
- [(CH 2) q ( CF 2) y (CH 2) r] -
- (CH 2) q- (S ) - (CH 2) r- and - (S) divalent group selected from q- [wherein, q, r and y is an integer of 1 to 30].
n represents a number from 0 to 3.
p represents a number from 0 to 3.
However, Formula (II) has two or more hydrolyzable groups in one molecule. ]
前記式(I)の有機ケイ素化合物が1分子中に2個を超える加水分解性基を有するものであり、前記式(II)の有機ケイ素化合物が1分子中に2個を超える加水分解性基を有するものである請求項1記載の透明被膜形成用塗布液。The organosilicon compound of the formula (I) has more than two hydrolyzable groups in one molecule, and the organosilicon compound of the formula (II) has more than two hydrolyzable groups in one molecule. The coating liquid for forming a transparent film according to claim 1, wherein 前記マトリックス形成成分が、さらに、a)下記式(III)で表される有機ケイ素化合物
Si(OR’)4t (III)
〔ここで、Rはメチル基、エチル基、ビニル基またはエポキシ基から選ばれる。R’は炭素数1〜6のアルキル基。tは0〜4の数。〕、b)アセチルアセトナトキレート化合物、c)金属アルコキシドおよびd)ポリシラザンから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の透明被膜形成用塗布液。
The matrix-forming component is further a) an organosilicon compound represented by the following formula (III) R t Si (OR ′) 4t (III)
[Wherein R is selected from a methyl group, an ethyl group, a vinyl group or an epoxy group. R ′ is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. t is a number from 0 to 4. And b) an acetylacetonate chelate compound, c) a metal alkoxide, and d) a polysilazane.
前記マトリックス形成成分が、さらに、無機化合物粒子を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。The coating liquid for forming a transparent film according to claim 1, wherein the matrix forming component further contains inorganic compound particles. 請求項1〜4のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を基材表面に塗布してなる透明被膜が形成されていることを特徴とする透明被膜付基材。A substrate with a transparent coating, wherein a transparent coating formed by applying the coating solution for forming a transparent coating according to any one of claims 1 to 4 onto the surface of the substrate is formed. 少なくとも一方の基板の表面に透明電極膜、透明被膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルにおいて、
透明被膜が、請求項1〜4のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を塗布して形成された被膜であることを特徴とする液晶表示セル。
A pair of substrates with a transparent electrode, in which a transparent electrode film, a transparent film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate, are arranged at predetermined intervals so that the transparent electrodes face each other. In a liquid crystal display cell in which liquid crystal is sealed in a gap opened between a pair of substrates with transparent electrodes,
A liquid crystal display cell, wherein the transparent film is a film formed by applying the coating liquid for forming a transparent film according to claim 1.
少なくとも一方の基板の表面にカラーフィルター、透明被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルにおいて、
透明被膜が、請求項1〜4のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を塗布して形成された被膜であることを特徴とする液晶表示セル。
A pair of substrates with a transparent electrode, in which a color filter, a transparent coating, a transparent electrode film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate, are arranged at predetermined intervals so that the transparent electrodes face each other. In a liquid crystal display cell in which liquid crystal is sealed in a gap opened between the pair of substrates with transparent electrodes,
A liquid crystal display cell, wherein the transparent film is a film formed by applying the coating liquid for forming a transparent film according to claim 1.
少なくとも一方の基板の表面にTFTアレイ、透明被膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルにおいて、
透明被膜が、請求項1〜4のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液を塗布して形成された被膜であることを特徴とする液晶表示セル。
A pair of substrates with a transparent electrode, in which a TFT array, a transparent coating, a transparent electrode film, and an alignment film are sequentially laminated on the surface of at least one substrate, are arranged at predetermined intervals so that the transparent electrodes face each other. In a liquid crystal display cell in which liquid crystal is sealed in a gap opened between the pair of substrates with transparent electrodes,
A liquid crystal display cell, wherein the transparent film is a film formed by applying the coating liquid for forming a transparent film according to claim 1.
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