JPWO2004075202A1 - Voltage detection circuit, semiconductor device, and voltage detection circuit control method - Google Patents

Voltage detection circuit, semiconductor device, and voltage detection circuit control method Download PDF

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Abstract

トランジスタのオフリーク電流による電圧変動を抑制し、電圧検出を的確に行う電圧検出回路。電圧検出回路(17)は、第1及び第2容量(C1,C2)と、第1及び第2トランジスタ(Tn1,Tn2)と、比較器(21)と、制御回路(22)とを含む。各容量(C1,C2)は直列接続され、各容量(C1,C2)により高電圧(VPP)に応じた分圧電圧(div)が生成される。各トランジスタ(Tn1,Tn2)がオンされることにより第1容量と第2容量との間の接続部(N1)の電位が接地電位にリセットされる。接続部(N1)の電位が所定電位に達したとき、第2トランジスタ(Tn2)がオフされた後、第1トランジスタ(Tn1)がオフされる。A voltage detection circuit that suppresses voltage fluctuations due to off-leakage current of transistors and accurately detects voltage. The voltage detection circuit (17) includes first and second capacitors (C1, C2), first and second transistors (Tn1, Tn2), a comparator (21), and a control circuit (22). The capacitors (C1, C2) are connected in series, and a divided voltage (div) corresponding to the high voltage (VPP) is generated by the capacitors (C1, C2). When each transistor (Tn1, Tn2) is turned on, the potential of the connection portion (N1) between the first capacitor and the second capacitor is reset to the ground potential. When the potential of the connection portion (N1) reaches a predetermined potential, the second transistor (Tn2) is turned off and then the first transistor (Tn1) is turned off.

Description

本発明は、半導体装置に搭載される電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路、半導体装置、及び電圧検出回路の制御方法に関する。
半導体装置には、外部から供給される電源電圧とは異なる内部電圧を生成して内部回路に供給する電圧発生回路を搭載したものがある。その半導体装置には、電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が設けられている。具体的には、電圧検出回路において、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧が基準電圧と比較され、比較結果に基づいて出力電圧が目標の電圧レベルに達したことが検出される。電圧検出回路において、分圧電圧を生成するための素子として分圧抵抗を用いるものが一般的である。しかし、分圧抵抗には常に電流が流れるため、低消費電力化が必要となる半導体装置(例えば、不揮発性メモリ)では、分圧抵抗に代えて容量を用いる電圧検出回路が実用化されている。電圧検出回路において、容量比による電圧検出を的確に行う技術が必要となっている。
The present invention relates to a voltage detection circuit that detects an output voltage of a voltage generation circuit mounted on a semiconductor device, a semiconductor device, and a control method for the voltage detection circuit.
Some semiconductor devices include a voltage generation circuit that generates an internal voltage different from a power supply voltage supplied from the outside and supplies the internal voltage to the internal circuit. The semiconductor device is provided with a voltage detection circuit that detects the output voltage of the voltage generation circuit. Specifically, in the voltage detection circuit, the divided voltage corresponding to the output voltage of the voltage generation circuit is compared with the reference voltage, and it is detected that the output voltage has reached the target voltage level based on the comparison result. In a voltage detection circuit, a voltage detection resistor is generally used as an element for generating a divided voltage. However, since a current always flows through the voltage dividing resistor, a voltage detection circuit using a capacitor instead of the voltage dividing resistor has been put into practical use in a semiconductor device (for example, a nonvolatile memory) that requires low power consumption. . In the voltage detection circuit, a technique for accurately detecting the voltage based on the capacitance ratio is required.

図13には、従来の電圧検出回路31を示し、図14には、その動作波形図を示している。
電圧検出回路31は、電圧発生回路32の出力電圧VPPを検出して、電圧VPPが目標の電圧値になるように制御するための回路である。電圧検出回路31には、直列接続された2つの容量(キャパシタ)C1,C2と、比較器21と、NMOSトランジスタTn1とを備える。
各容量C1,C2は、電圧発生回路32の出力電圧VPPを分圧するために設けられている。各容量C1,C2による分圧電圧(各容量C1,C2の接続部N1での電圧)divが比較器21の非反転入力端子に供給されるとともに、基準電圧Vref(例えば、1.3V)が比較器21の反転入力端子に供給される。
各容量C1,C2の接続部N1にNMOSトランジスタTn1のドレインが接続され、トランジスタTn1のソースはグランドGNDに接続されている。また、NMOSトランジスタTn1のゲートにはリセット信号RSTが供給される。
図14に示すように、電圧検出回路31による電圧検出の開始時には、Hレベルのリセット信号RSTによりNMOSトランジスタTn1がオンされ、各容量C1,C2による分圧電圧divが接地電位(0V)に初期化される。時刻t1において、リセット信号RSTがLレベルに反転されてトランジスタTn1がオフされることにより、各容量C1,C2の接続部N1がフローティング状態となる。時刻t1以降では、各容量C1,C2による分圧電圧divが出力電圧VPPに応じて変化する。すなわち、電圧発生回路32における昇圧動作に伴い出力電圧VPPが上昇すると、各容量C1,C2の容量比に応じた変化度合で分圧電圧divも上昇する。
比較器21は、分圧電圧divと基準電圧Vrefとを比較し、比較結果に応じた電圧レベルの出力信号COMを出力する。つまり、比較器21は、分圧電圧divが基準電圧Vrefよりも低いときには、Lレベルの出力信号COMを出力し、分圧電圧divが基準電圧Vref以上になると、Hレベルの出力信号COMを出力する。出力信号COMに基づいて、電圧発生回路32の出力電圧が目標の電圧値になるよう制御される。
上記のように、容量比により電圧検出を行う電圧検出回路は、例えば、特開2002−51538号公報等に開示されている。
特開2002−51538号公報
FIG. 13 shows a conventional voltage detection circuit 31, and FIG. 14 shows an operation waveform diagram thereof.
The voltage detection circuit 31 is a circuit for detecting the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32 and controlling the voltage VPP to be a target voltage value. The voltage detection circuit 31 includes two capacitors (capacitors) C1 and C2, which are connected in series, a comparator 21, and an NMOS transistor Tn1.
The capacitors C1 and C2 are provided to divide the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32. A divided voltage (voltage at the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2) div by the capacitors C1 and C2 is supplied to the non-inverting input terminal of the comparator 21, and a reference voltage Vref (for example, 1.3 V) is supplied. It is supplied to the inverting input terminal of the comparator 21.
The drain of the NMOS transistor Tn1 is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the source of the transistor Tn1 is connected to the ground GND. The reset signal RST is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn1.
As shown in FIG. 14, at the start of voltage detection by the voltage detection circuit 31, the NMOS transistor Tn1 is turned on by the H level reset signal RST, and the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is initially set to the ground potential (0 V). It becomes. At time t1, the reset signal RST is inverted to L level and the transistor Tn1 is turned off, so that the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 enters a floating state. After time t1, the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 changes according to the output voltage VPP. That is, when the output voltage VPP increases with the boosting operation in the voltage generation circuit 32, the divided voltage div also increases with the degree of change corresponding to the capacitance ratio of the capacitors C1 and C2.
The comparator 21 compares the divided voltage div with the reference voltage Vref and outputs an output signal COM having a voltage level corresponding to the comparison result. That is, the comparator 21 outputs the L level output signal COM when the divided voltage div is lower than the reference voltage Vref, and outputs the H level output signal COM when the divided voltage div becomes equal to or higher than the reference voltage Vref. To do. Based on the output signal COM, the output voltage of the voltage generation circuit 32 is controlled to become a target voltage value.
As described above, a voltage detection circuit that performs voltage detection based on a capacitance ratio is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-51538.
JP 2002-51538 A

ところで、不揮発性の半導体記憶装置において、データの書き込みや消去は、ブレークダウン特性やトンネリング特性の半導体物性を利用して行われる。具体的に、不揮発性メモリでは、電源電圧(例えば、3V)よりも高い高電圧(例えば、10V)や負電圧(例えば、−10V)を電圧発生回路で生成し、高電圧や負電圧をワード線等に印加することにより、データの書き込みや消去が行われる。
不揮発性メモリでは、電圧発生回路の出力電圧を所定電圧(高電圧=10V、負電圧=−10V)に制御するために、図13に示す回路構成の電圧検出回路31を利用している。電圧検出回路31は、容量比により電圧検出をする構成であるため、抵抗比で電圧検出をする電圧検出回路と比較して、消費電力が低減される。
しかしながら、電圧検出回路31では、分圧電圧divを初期化するためのNMOSトランジスタTn1にテーリング電流(サブスレッショルド電流、又はオフリーク電流と呼ぶ)が流れることにより、出力電圧VPPが変動してしまうといった問題が生じる。
詳しくは、電圧発生回路32の出力電圧VPPが目標の電圧値に達すると、電圧検出回路31における分圧電圧divは、基準電圧Vref(1.3V)と等しくなる。このとき、トランジスタTn1は、Lレベルのリセット信号RSTによりオフされているが、そのソース・ドレイン間には、基準電圧Vrefと等しい分圧電圧divが加わるため、微小なリーク電流が流れてしまう。このように、トランジスタTn1にオフリーク電流が流れることで、分圧電圧divが基準電圧Vrefよりも低くなる。この場合、電圧発生回路32は、出力電圧VPPが目標の電圧値に達したにもかかわらず昇圧動作を継続するため、出力電圧VPPが必要以上に高くなってしまう。
このような現象は、電圧検出回路31における電圧検出の動作時間がオフリーク電流による出力電圧VPPの低下に対して相対的に短ければ問題となることはない。しかし、不揮発性メモリにおけるデータの書き込み動作や消去動作は、読み出し動作時間(数10ns)よりも数千倍長い時間(数10ms)を要する。そのため、不揮発性メモリのように、電圧検出動作に長い時間が必要となる半導体装置では、トランジスタTn1のオフリーク電流によって、電圧発生回路32の出力電圧VPPが必要以上に高くなるといった問題が生じてしまう。
本発明の目的は、トランジスタのオフリーク電流による電圧変動を抑制し、電圧検出を的確に行うことができる電圧検出回路、半導体装置、及び電圧検出回路の制御方法を提供することにある。
By the way, in a nonvolatile semiconductor memory device, data writing and erasing are performed using semiconductor properties of breakdown characteristics and tunneling characteristics. Specifically, in a nonvolatile memory, a high voltage (for example, 10 V) or a negative voltage (for example, −10 V) higher than a power supply voltage (for example, 3 V) is generated by a voltage generation circuit, and the high voltage or the negative voltage is generated as a word. Data is written or erased by applying the voltage to a line or the like.
In the nonvolatile memory, the voltage detection circuit 31 having the circuit configuration shown in FIG. 13 is used to control the output voltage of the voltage generation circuit to a predetermined voltage (high voltage = 10 V, negative voltage = −10 V). Since the voltage detection circuit 31 is configured to detect voltage based on the capacitance ratio, power consumption is reduced compared to a voltage detection circuit that detects voltage based on the resistance ratio.
However, in the voltage detection circuit 31, the output voltage VPP fluctuates due to the tailing current (referred to as subthreshold current or off-leakage current) flowing through the NMOS transistor Tn1 for initializing the divided voltage div. Occurs.
Specifically, when the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32 reaches a target voltage value, the divided voltage div in the voltage detection circuit 31 becomes equal to the reference voltage Vref (1.3 V). At this time, the transistor Tn1 is turned off by the L level reset signal RST, but since a divided voltage div equal to the reference voltage Vref is applied between the source and the drain, a minute leak current flows. As described above, the off-leakage current flows through the transistor Tn1, so that the divided voltage div becomes lower than the reference voltage Vref. In this case, since the voltage generation circuit 32 continues the boosting operation even when the output voltage VPP reaches the target voltage value, the output voltage VPP becomes higher than necessary.
Such a phenomenon does not pose a problem if the voltage detection operation time in the voltage detection circuit 31 is relatively short with respect to the decrease in the output voltage VPP due to the off-leakage current. However, a data write operation and an erase operation in the nonvolatile memory require a time (several tens of ms) that is several thousand times longer than a read operation time (several tens of ns). Therefore, in a semiconductor device that requires a long time for the voltage detection operation, such as a nonvolatile memory, there arises a problem that the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32 becomes higher than necessary due to the off-leak current of the transistor Tn1. .
An object of the present invention is to provide a voltage detection circuit, a semiconductor device, and a voltage detection circuit control method capable of suppressing voltage fluctuation due to an off-leak current of a transistor and accurately performing voltage detection.

本発明の第1の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタと、制御回路とを備える。前記第1トランジスタ及び第2トランジスタが活性化されることにより、前記第1接続部の電位が初期電位に初期化される。前記制御回路は、前記第1トランジスタに接続され、前記第1接続部の電位の初期化の後、前記第2トランジスタよりも遅れて前記第1トランジスタを非活性化させるための第1制御信号を生成する。
本発明の第2の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、前記接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと、前記トランジスタに接続され、前記接続部の電位が初期化される時に、前記初期電位よりも低い負電位を有する制御信号を生成し、前記制御信号により前記トランジスタを活性化させる制御回路とを備える。
本発明の第3の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の発生した負電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記負電圧を受け取り、前記負電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタとを備える。前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記初期電位を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される。
本発明の第4の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタとを備える。前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記制御信号の反転信号を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される。
上記第1から4の態様に示される電圧検出回路及び電圧発生回路は、半導体装置に設けられることが好ましい。
本発明の第5の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタとを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記第1トランジスタと第2トランジスタとを活性化させて、前記第1接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記第1接続部の電位の初期化の後に、前記第2トランジスタのみを非活性化させて、前記第1トランジスタと第2トランジスタとの間の第2接続部の電位を前記第1接続部の電位と等しくするステップと、前記電圧発生回路の出力電圧に応じて前記第1接続部の電位が所定電位に達したときに、前記第1トランジスタを非活性化させるステップとを備える。
本発明の第6の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップとを備える。前記初期化するステップは、前記初期電位よりも低い負電位の制御信号を生成し、該制御信号を前記トランジスタのゲートに供給する。
本発明の第7の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記接続部の電位の初期化の後に、前記初期電位よりも高い電位を前記トランジスタのゲートに供給して該トランジスタを非活性化するステップとを備える。
本発明の第8の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記接続部の電位の初期化の後であって、前記トランジスタが非活性化された時、前記トランジスタのソースに前記接続部と同電位もしくはそれよりも高い電位を供給するステップとを備える。
In a first aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting an output voltage of the voltage generation circuit is provided. The voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage corresponding to the output voltage, and a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a first between the first capacitor and the second capacitor. A first transistor connected to the connecting portion; a second transistor connected in series to the first transistor; and a control circuit. When the first transistor and the second transistor are activated, the potential of the first connection portion is initialized to the initial potential. The control circuit is connected to the first transistor and outputs a first control signal for deactivating the first transistor after initialization of the potential of the first connection portion after the second transistor. Generate.
In a second aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting an output voltage of the voltage generation circuit is provided. A voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage corresponding to the output voltage, and a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a connection between the first capacitor and the second capacitor A transistor that initializes the potential of the connection portion to an initial potential, and a control signal that is connected to the transistor and has a negative potential lower than the initial potential when the potential of the connection portion is initialized. And a control circuit that activates the transistor by the control signal.
In a third aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting a negative voltage generated by the voltage generation circuit is provided. The voltage detection circuit receives the negative voltage and generates a divided voltage corresponding to the negative voltage, and a connection between the first capacitor and the second capacitor connected in series, and the first capacitor and the second capacitor And a transistor that initializes the potential of the connection portion to an initial potential. The gate of the transistor receives a control signal, its source receives the initial potential, and its drain connected to the connection.
In a fourth aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting an output voltage of the voltage generation circuit is provided. A voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage according to the output voltage, and a connection between the first capacitor and the second capacitor connected in series, and the first capacitor and the second capacitor And a transistor that initializes the potential of the connection portion to an initial potential. The gate of the transistor receives a control signal, its source receives an inverted signal of the control signal, and its drain is connected to the connection.
The voltage detection circuit and the voltage generation circuit shown in the first to fourth aspects are preferably provided in a semiconductor device.
In a fifth aspect of the present invention, a method for controlling a voltage detection circuit is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, a first transistor connected to a first connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and a series connection to the first transistor. And a connected second transistor. The control method uses the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit, activates the first transistor and the second transistor, and After initializing the potential of the first connection portion to an initial potential, and after initializing the potential of the first connection portion, only the second transistor is deactivated, and the first transistor and the second transistor are When the potential of the first connection portion reaches a predetermined potential according to the output voltage of the voltage generation circuit, Deactivating the first transistor.
In a sixth aspect of the present invention, a method for controlling a voltage detection circuit is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor. The control method uses the first and second capacitors to generate a divided voltage corresponding to the output voltage of the voltage generation circuit, activates the transistor, and sets the potential of the connection portion to an initial potential. Initializing. The initializing step generates a control signal having a negative potential lower than the initial potential and supplies the control signal to the gate of the transistor.
In a seventh aspect of the present invention, a method for controlling a voltage detection circuit is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor. The control method includes a step of generating a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit using the first and second capacitors, activating the transistor, and setting the potential of the connection portion to an initial potential. And a step of supplying a potential higher than the initial potential to the gate of the transistor to inactivate the transistor after the initialization of the potential of the connection portion.
In an eighth aspect of the present invention, a voltage detection circuit control method is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor. The control method uses the first and second capacitors to generate a divided voltage corresponding to the output voltage of the voltage generation circuit, activates the transistor, and sets the potential of the connection portion to an initial potential. After the initializing step and initialization of the potential of the connection portion, when the transistor is deactivated, the same potential as or higher than that of the connection portion is supplied to the source of the transistor Steps.

図1は、本発明の第1実施形態における半導体装置を示す概略的なブロック図である。
図2は、図1の半導体装置における電圧検出回路の概略的な回路図である。
図3は、図2の制御回路の概略的な回路図である。
図4は、図2の電圧検出回路の動作波形図である。
図5は、本発明の第2実施形態における電圧検出回路の概略的な回路図である。
図6は、本発明の第2実施形態における制御回路の概略的な回路図である。
図7は、図5の電圧検出回路の動作波形図である。
図8は、本発明の第3実施形態における電圧検出回路の回路図である。
図9は、図8の電圧検出回路の動作波形図である。
図10は、本発明の第4実施形態における電圧検出回路の回路図である。
図11は、図10の電圧検出回路の動作波形図である。
図12は、本発明の第5実施形態における電圧検出回路の回路図である。
図13は、従来の電圧検出回路の概略的な回路図である。
図14は、図13の電圧検出回路の動作波形図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram showing a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic circuit diagram of a voltage detection circuit in the semiconductor device of FIG.
FIG. 3 is a schematic circuit diagram of the control circuit of FIG.
FIG. 4 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG.
FIG. 5 is a schematic circuit diagram of a voltage detection circuit according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a schematic circuit diagram of a control circuit in the second embodiment of the present invention.
FIG. 7 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG.
FIG. 8 is a circuit diagram of a voltage detection circuit according to the third embodiment of the present invention.
FIG. 9 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG.
FIG. 10 is a circuit diagram of a voltage detection circuit according to the fourth embodiment of the present invention.
FIG. 11 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG.
FIG. 12 is a circuit diagram of a voltage detection circuit according to the fifth embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a schematic circuit diagram of a conventional voltage detection circuit.
FIG. 14 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG.

以下、本発明を半導体記憶装置に具体化した第1実施形態を図面に従って説明する。
図1は、半導体記憶装置11の概略的なブロック図である。半導体記憶装置11は、不揮発性メモリであり、メモリアクセス用の論理回路12と、メモリセルアレイ13と、動作モード制御回路14と、電源回路15とを備える。また、電源回路15は、リセット発生回路16と、電圧検出回路17と、電圧発生回路18とを備える。
半導体記憶装置11において、外部装置からの制御信号CNTLとアドレス信号Addとがメモリアクセス用の論理回路12に供給され、制御信号CNTLが動作モード制御回路14に供給される。
メモリアクセス用の論理回路12は、アドレス信号Addをラッチするラッチ回路や、アドレス信号Addをデコードするデコーダ等を含む。論理回路12にて生成されたデコード信号により、メモリセルアレイ13に設けられた複数のメモリセルのいずれかがアクセスされる。なお、本実施形態において、メモリセルアレイ13に設けられるメモリセルは、不揮発性のメモリセルである。
動作モード制御回路14は、制御信号CNTLに基づいて電源回路15を制御する。制御信号CNTLの種類としては、読み出しコマンド、書き込みコマンド、消去コマンド等の信号がある。
供給された制御信号CNTLが書き込みコマンドである場合、動作モード制御回路14は、書き込みコマンドに応答して、電圧発生回路18における高電圧発生部19を活性化させる。このとき、電圧発生回路18の高電圧発生部19において、高電圧VPPが生成され高電圧VPPがメモリセルアレイ13に供給される。
また、制御信号CNTLが消去コマンドである場合、動作モード制御回路14は、消去コマンドに応答して、電圧発生回路18における負電圧発生部20を活性化させる。このとき、電圧発生回路18の負電圧発生部20において、負電圧VBBが生成され負電圧VBBがメモリセルアレイ13に供給される。
メモリセルアレイ13において、電圧発生回路18から供給される高電圧VPPや負電圧VBBは、メモリセルに接続するワード線、ビット線、或いはMOSトランジスタを構成するウェル層等に供給される。高電圧VPPや負電圧VBBが供給されることで、メモリセルのデータの書き込みや消去が行われる。
また、半導体記憶装置11では、データの書き込み動作時や消去動作を開始するとき、電圧発生回路18における高電圧発生部19や負電圧発生部20の回路を活性化させるのに先立って、リセット発生回路16からリセット信号RSTが電圧検出回路17に供給される。リセット信号RSTに従って電圧検出回路17における電圧検出動作が初期化される。
図2には、電圧検出回路17を示している。なお、同図には、高電圧VPPを検出するための回路を示し、負電圧VBBを検出するための回路の図示は省略している。
電圧検出回路17は、第1及び第2容量としての容量C1,C2と、判定回路としての比較器21と、制御回路22と、第1及び第2トランジスタとしてのNMOSトランジスタTn1,Tn2とを備え、高電圧発生部19で生成される高電圧VPPを検出する。高電圧発生部19は、昇圧回路19aと、NMOSトランジスタTn10とを含む。
電圧検出回路17において、容量C1,C2と比較器21の構成は、図13に示す従来の電圧検出回路31と同じ構成である。すなわち、各容量C1,C2は直列に接続されており、各容量C1,C2により高電圧発生部19の出力電圧である高電圧VPPが分圧される。比較器21は、各容量C1,C2による分圧電圧(各容量C1,C2の接続部N1での電圧)divと基準電圧Vref(例えば、1.3V)とを比較し、比較結果に応じた電位レベルの出力信号COMを生成する。
比較器21の出力信号COMは、高電圧発生部19におけるNMOSトランジスタTn10のゲートに供給される。NMOSトランジスタTn10のドレインは昇圧回路19aの出力端子に接続され、NMOSトランジスタTn10のソースはグランドGNDに接続されている。高電圧発生部19から供給される高電圧VPPが目標の電圧値になるように、比較器21の出力信号COMにより、NMOSトランジスタTn10がオン・オフされる。
具体的に、昇圧回路19aの昇圧動作による高電圧VPPが目標の電圧値(例えば、10V)以上になると、容量C1,C2による分圧電圧divが基準電圧Vref(例えば、1.3V)以上になり、比較器21の出力信号COMの電圧レベルが高くなる。高電圧VPPが目標の電圧値になるように、比較器21の出力信号COMによりNMOSトランジスタTn10がオンされる。
本実施形態の電圧検出回路17には、電圧検出の開始時に分圧電圧divを初期化するための素子として、2つのNMOSトランジスタTn1,Tn2が設けられている。NMOSトランジスタTn1,Tn2は、容量C1,C2の接続部(第1接続部)N1とグランドGNDとの間において直列に接続されている。
NMOSトランジスタTn2のゲートには、リセット発生回路16からのリセット信号(第1制御信号)RSTが供給され、NMOSトランジスタTn1のゲートには、制御回路22のリセット信号(第2制御信号)RSTAが供給される。制御回路22では、リセット信号RSTと比較器21の出力信号COMとに基づいてリセット信号RSTAが生成される。
図3には、制御回路22の回路図を示す。
制御回路22は、PMOSトランジスタTp11,Tp12、NMOSトランジスタTn11、インバータ回路23,24,25とにより構成されている。リセット発生回路16からのリセット信号RSTは、インバータ回路23を介してPMOSトランジスタTp11のゲートに供給され、比較器21の出力信号COMは、NMOSトランジスタTn11のゲートに供給される。
PMOSトランジスタTp11とNMOSトランジスタTn11は直列に接続され、PMOSトランジスタTp11のソースが電源VCCに接続され、NMOSトランジスタTn11のソースがグランドGNDに接続されている。また、各トランジスタTp11,Tn11の接続部には、PMOSトランジスタTp12のドレインが接続され、トランジスタTp12のソースは電源VCCに接続されている。
各トランジスタTp11,Tp12,Tn11の接続部は、インバータ回路24を介してPMOSトランジスタTp12のゲートに接続されており、各トランジスタTp11,Tp12,Tn11の接続部の電位レベルがインバータ回路24で反転され、PMOSトランジスタTp12のゲートに供給される。また、各トランジスタTp11,Tp12,Tn11の接続部の電位レベルが、2つのインバータ回路24,25を介してリセット信号RSTAとして出力される。
次に、本実施形態における電圧検出回路17の動作について説明する。
図4に示すように、高電圧VPPの検出開始時には、Hレベルのリセット信号RSTがリセット発生回路16から出力される。またこのとき、比較器21の出力信号COMはLレベルになっているので、制御回路22において、PMOSトランジスタTp11がオン、NMOSトランジスタTn11がオフする。そのため、制御回路22からHレベルのリセット信号RSTAが出力される。
従って、電圧検出回路17において、Hレベルのリセット信号RST,RSTAにより各NMOSトランジスタTn1,Tn2がオンされるため、各容量C1,C2による分圧電圧divが初期電位としての接地電位(0V)に初期化される。
時刻t1において、リセット信号RSTがLレベルに変化すると、制御回路22におけるPMOSトランジスタTp11がオフされる。このとき、PMOSトランジスタTp12はオン、NMOSトランジスタTn11はオフであるため、制御回路22からHレベルのリセット信号RSTAが出力される。
従って、電圧検出回路17において、Hレベルのリセット信号RSTAによりトランジスタTn1がオンされ、Lレベルのリセット信号RSTによりトランジスタTn2がオフされる。トランジスタTn2がオフされることにより、各容量C1,C2の接続部N1がフローティング状態となり、各容量C1,C2による分圧電圧divは高電圧VPPに応じて変化する。
また、時刻t1において、高電圧発生部19の昇圧回路19aが活性化され、昇圧回路19aによる昇圧動作が開始される。そのため、時刻t1以降では、昇圧回路19aの出力電圧である高電圧VPPが徐々に上昇される。各容量C1,C2による分圧電圧divも、容量比に応じた変化度合で上昇される。
時刻t1〜t2(分圧電圧divが上昇している期間)では、トランジスタTn1がオンされているため、各トランジスタTn1,Tn2の接続部(第2接続部)N2の電位レベルは、分圧電圧divと等しい。
時刻t2において、高電圧VPPが目標の電圧値に達して分圧電圧divが基準電圧Vrefになると、比較器21の出力信号COMがLレベルからHレベルに変化する。このとき、制御回路22では、Hレベルの出力信号COMにより、NMOSトランジスタTn11がオンされる。そのため、制御回路22から出力されるリセット信号RSTAは、HレベルからLレベルに変化する。
Lレベルのリセット信号RSTAによりトランジスタTn1がオフされる。時刻t2の直後では、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2と分圧電圧divとがほぼ等しいため、NMOSトランジスタTn1を介したオフリーク電流は殆ど流れない。一方、NMOSトランジスタTn2では、ソース・ドレイン間に分圧電圧divとほぼ等しい電圧が印加されるため、その電圧に応じたオフリーク電流が流れる。このため、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位レベルが徐々に低下していく。
本実施形態の電圧検出回路17では、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位レベルが低下するまでは、NMOSトランジスタTn1を介したオフリーク電流は流れない。よって、オフリーク電流により分圧電圧divが低下する(高電圧VPPが目標の電圧値からずれる)までの時間が十分に確保される。具体的には、データの書き込み動作のために高電圧VPPを印加する必要がある電圧印加期間にて、オフリーク電流による分圧電圧divの低下を防止することが可能となり、半導体記憶装置11におけるデータの書き込み特性の信頼性が向上される。
次に、本発明の第1実施形態における電圧検出回路17の特徴を以下に記載する。
(1)各容量C1,C2の接続部N1には、2つのNMOSトランジスタTn1,Tn2が直列接続され、各トランジスタTn1,Tn2がオン(活性化)されることで、分圧電圧(接続部N1の電圧)divが接地電位にリセットされる。その後、グランド側のトランジスタTn2がオフ(非活性化)され、高電圧VPPに応じて分圧電圧divが上昇され、分圧電圧divが基準電圧Vrefに達したときに、トランジスタTn1がオフ(非活性化)される。このようにすれば、トランジスタTn2のオフリーク電流により各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位レベルが低下するまでは、NMOSトランジスタTn1を介したオフリーク電流は流れない。そのため、分圧電圧divが低下し高電圧VPPが目標の電圧値からずれるまでの時間を十分に確保することができる。従って、半導体記憶装置11における高電圧印加期間にて、電圧検出回路17による電圧検出を的確に行うことができる。
(2)制御回路22において、トランジスタTn2を制御するためのリセット信号RSTと比較器21の出力信号COMに基づいて、トランジスタTn1を制御するためのリセット信号RSTAが生成される。具体的に、制御回路22では、高電圧VPPが目標の電圧値に達して出力信号COMがHレベルになるタイミング(図4の時刻t2)で、リセット信号RSTAがHレベルからLレベルに反転される。このようにすれば、トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位を基準電圧Vrefと等しくすることができるので、トランジスタTn1のオフリーク電流が流れるタイミング(分圧電圧divの低下が始まる時刻)を遅らせる上で好ましいものとなる。
(3)半導体記憶装置11において、データの書き込み時に適切な高電圧VPPが生成されることにより、データの書き込み特性の信頼性を向上することができる。
以下、本発明を具体化した第2実施形態を図5〜図7に従って説明する。なお、本実施形態において、上述した第1実施形態の構成と同等であるものについては図面に同一の記号を付すと共にその説明を簡略化する。以下には第1実施形態との相違点を中心に説明する。
図5に示すように、本実施形態の電圧検出回路17aでは、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2が第3容量としての容量C3を介してグランドGNDに接続されている。また、各容量C1,C2の接続部N1には、第3トランジスタとしてのNMOSトランジスタTn3のドレインが接続され、NMOSトランジスタTn3のソースは第4容量としての容量C4を介してグランドに接続されている。NMOSトランジスタTn3のゲートにはリセット信号RSTABが供給される。
電圧検出回路17aでは、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2に容量C3を付加することにより、オフリーク電流による分圧電圧divの低下が防止される。ここで、容量C3と容量C4とは同じ容量値であり、トランジスタTn1をオフするときにトランジスタTn3をオンすることで、容量C3の代わりに容量C4が接続部N1に接続され、接続部N1における分圧電圧divの変動が防止される。
図6には、本実施形態の制御回路22aを示している。制御回路22aは、図3の制御回路22に対してインバータ回路26とオア回路27とを追加したものである。
詳しくは、インバータ回路25から出力されるリセット信号RSTAがインバータ回路26を介してオア回路27の第1入力端子に供給され、オア回路27の第2入力端子にはリセット信号RSTが供給される。オア回路27の出力端子からリセット信号RSTABが出力される。
従って、図7に示すように、時刻t1以前でリセット信号RST,RSTAがHレベルであるときには、リセット信号RSTABもHレベルになる。この場合、電圧検出回路17aにおいて、各トランジスタTn1,Tn2,Tn3は全てオンして分圧電圧divの初期化が行われる。
時刻t1〜t2では、リセット信号RSTがLレベル、リセット信号RSTAがHレベルであるため、リセット信号RSTABがLレベルである。また、時刻t2にて、リセット信号RSTAがLレベルに変化することにより、リセット信号RSTABがHレベルに変化する。
時刻t1以降(電圧検出の開始後)において、リセット信号RSTABは、リセット信号RSTAに対して論理レベルを反転した信号(反転制御信号)である。リセット信号RSTAとリセット信号RSTABとに基づいて、トランジスタTn1とトランジスタTn3がオン・オフされることで、容量C3と容量C4とが交互に接続部N1に接続されることになる。
因みに、分圧電圧divが基準電圧Vrefと等しくなる時刻t2では下記の関係式が成り立つ。
C1×(VPP−Vref)=(C2+C3)×Vref
また、時刻t2以降で容量C3の代わりに容量C4が接続される場合、下記の関係式が成り立つ。
C1×(VPP−Vref)=(C2+C4)×Vref
上記の各関係式から高電圧VPPを求めると、
VPP=(C2+C3)×Vref/C1+Vref
VPP=(C2+C4)×Vref/C1+Vref
となる。
次に、本発明の第2実施形態の特徴を以下に記載する。
(1)トランジスタTn1とトランジスタTn2との接続部N2に容量C3を付加したので、トランジスタTn2のオフリーク電流による接続部N2の電位レベルの低下が遅くなり、トランジスタTn1のオフリーク電流が流れ分圧電圧divの低下が始まる時刻を遅らせることが可能となる。
(2)トランジスタTn1をオフして容量C1,C2の接続部N1から容量C3を切り離すとき(時刻t2)、トランジスタTn3をオンして接続部N1に容量C4を接続するようにしたので、接続部N1の分圧電圧divの変動を防止することができる。
以下、本発明を具体化した第3実施形態を図8及び図9に従って説明する。なお、本実施形態においても、上述した第1実施形態の構成と同等であるものについては図面に同一の記号を付している。
図8に示すように、本実施形態の電圧検出回路17bでは、各容量C1,C2の分圧電圧divを初期化するための素子として、PMOSトランジスタTp1が設けられている。PMOSトランジスタTp1のソースには分圧電圧divが供給され、そのドレインはグランドGNDに接続されている。また、PMOSトランジスタTp1のゲートには制御回路22bからのリセット信号(制御信号)RSTB1が供給される。
制御回路22bは、PMOSトランジスタTp2,Tp3と容量C5とインバータ回路28とを備える。制御回路22bにおいて、インバータ回路28にはリセット信号RSTが供給されている。該インバータ回路28の出力信号は容量C5を介してPMOSトランジスタTp1のゲートに供給される。インバータ回路28の電源端子には高電圧VPPが供給されている。従って、インバータ回路28の出力信号は、リセット信号RSTよりも振幅が大きい。
PMOSトランジスタTp1のゲートと容量C5との間に、PMOSトランジスタTp2のソースが接続され、該PMOSトランジスタTp2のドレインは低電位側電源VSSに接続されている。PMOSトランジスタTp2のゲートには、リセット信号RSTの論理レベルを反転した信号RSTBが供給される。
また、PMOSトランジスタTp1のゲートと容量C5との間に、PMOSトランジスタTp3のドレインが接続され、該PMOSトランジスタTp3のソースは高電位側電源VCCに接続されている。PMOSトランジスタTp3のゲートには、リセット信号RSTが供給される。
PMOSトランジスタTp2は、PMOSトランジスタTp1のゲートを低電位レベルにディスチャージするディスチャージ素子であり、PMOSトランジスタTp3は、PMOSトランジスタTp1のゲートを高電位レベルにチャージするチャージ素子である。
図9に示すように、高電圧VPPの検出開始の直前(時刻t0)には、リセット信号RSTがLレベルからHレベルに変化する。このとき、PMOSトランジスタTp2はオンし、PMOSトランジスタTp3がオフする。そのため、PMOSトランジスタTp1のゲート(リセット信号RSTB1)の電位レベルは、高電位側電源VCCから低電位側電源VSSの電位レベルにディスチャージされるとともに、容量C5のカップリングにより負電位レベルに変化する。負電位レベルのリセット信号RSTB1により、トランジスタTp1をオンさせることで、容量C1,C2による分圧電圧divの電位レベルが接地電位(0V)に初期化される。
時刻t1にてリセット信号RSTがHレベルからLレベルに反転すると、PMOSトランジスタTp2はオフし、PMOSトランジスタTp3がオンするため、PMOSトランジスタTp1のゲート(リセット信号RSTB1)は、負電位から高電位側電源VCCの電位レベルにチャージされる。リセット信号RSTB1により、PMOSトランジスタTp1が完全にカットオフされる。このとき、リセット信号RSTB1は分圧電圧divよりも高い電圧となり、信号RSTB1によりPMOSトランジスタTp1をオフに制御しているので、オフリーク電流も無視できるほど小さくなる。
次に、本発明の第3実施形態における電圧検出回路17bの特徴を以下に記載する。
(1)各容量C1,C2の分圧電圧divを初期化するための素子として、PMOSトランジスタTp1を用いたので、NMOSトランジスタを用いる場合と比較してオフリーク電流を1/10程度に低減することができる。よって、分圧電圧divの変動が抑制され、電圧検出回路17bによる電圧検出を的確に行うことができる。
(2)PMOSトランジスタTp1により各容量C1,C2の分圧電圧divを接地電位(0V)にリセットする場合、トランジスタTp1のゲートを接地電位としたとしても、トランジスタTp1におけるしきい値特性の影響で、分圧電圧divを接地電位(0V)に完全にリセットすることができない。これに対し、本実施形態では、制御回路22bにおいて、セルフブーストにより接地電位よりも低い負電圧を生成するよう構成し、制御回路22bから出力される負電圧のリセット信号RSRB1により、トランジスタTp1をオン(活性化)させるようにした。このようにすれば、分圧電圧divを理想的な初期電位である接地電位(0V)にリセットすることができる。
以下、本発明を具体化した第4実施形態を説明する。
図10は、本実施形態の電圧検出回路17cを示し、図11は、電圧検出回路17cの動作波形図を示している。
電圧検出回路17cは、負電圧発生部20で生成される負電圧VBBを検出するための回路であり、容量C1,C2と比較器21とPMOSトランジスタTp1とを備える。負電圧VBBは容量C1,C2により分圧され、分圧電圧divが比較器21に供給される。比較器21は、分圧電圧divと第1基準電圧Vref1とを比較し、比較結果に応じた出力信号COMを生成する。
PMOSトランジスタTp1のドレインが各容量C1,C2の接続部N1に接続され、該PMOSトランジスタTp1のソースには第2基準電圧Vref2が供給される。PMOSトランジスタTp1のゲートにはリセット信号RSTが供給される。
第4実施形態において、比較器21に供給される第1基準電圧Vref1は、例えば0Vであり、PMOSトランジスタTp1のソースに供給される第2基準電圧Vref2は、例えば1.3Vである。つまり、電圧検出回路17cは、接続部N1での分圧電圧divが接地電位(0V)よりも高い電位(1.3V)から電圧検出動作を開始する回路である。
具体的には、図11に示すように、負電圧VBBの検出開始時において、Lレベルのリセット信号RSTがPMOSトランジスタTp1のゲートに供給される。リセット信号RSTによりPMOSトランジスタTp1がオンされ、各容量C1,C2による分圧電圧divが第2基準電圧Vref2(1.3V)に初期化される。
時刻t1において、リセット信号RSTがHレベルに変化し、リセット信号RSTによってPMOSトランジスタTp1がオフされることで、各容量C1,C2の接続部N1がフローティング状態となる。このとき、電圧発生回路18の負電圧発生部20が活性化されて、負電圧VBBの電圧値がマイナス側に徐々に変化するため、各容量C1,C2による分圧電圧divも負電圧VBBに応じて変化する。
時刻t2において、負電圧VBBが目標の電圧値(例えば、−10V)に達して分圧電圧divが第1基準電圧Vref1(0V)まで減少すると、比較器21の出力信号COMがLレベルからHレベルに変化する。出力信号COMに従って、負電圧発生部20の負電圧VBBが所望の電圧値(例えば、−10V)となるように負電圧発生部20が制御される。
次に、本発明の第4実施形態における電圧検出回路17cの特徴を以下に記載する。
(1)各容量C1,C2の分圧電圧divを初期化するための素子として、PMOSトランジスタTp1を用いたので、NMOSトランジスタを用いる場合と比較してオフリーク電流を1/10程度に低減することができる。よって、分圧電圧divの変動が抑制され、電圧検出回路17cによる電圧検出を的確に行うことができる。
以下、本発明を具体化した第5実施形態を図面に従って説明する。
図12は、第5実施形態の電圧検出回路17dを示す。
電圧検出回路17dは、高電圧発生部19で生成される高電圧VPPを検出するための回路であり、容量C1,C2と比較器21とNMOSトランジスタTn1とCMOSのインバータ回路29とを備える。
高電圧VPPは容量C1,C2により分圧され、分圧電圧divが比較器21に供給される。比較器21は、分圧電圧divと基準電圧Vref(1.3V)とを比較し、比較結果に応じた電位レベルの出力信号COMを生成する。
NMOSトランジスタTn1のドレインが各容量C1,C2の接続部N1に接続され、そのゲートは、インバータ回路29を介してNMOSトランジスタTn1のソースに電気的に接続されている。
NMOSトランジスタTn1のゲートにはリセット信号RSTが供給され、そのソースには、リセット信号RSTがインバータ回路29を介して反転されて供給される。インバータ回路29の出力信号の振幅は、例えば、1.8V(Hレベル=1.8V、Lレベル=0V)である。
高電圧VPPの検出開始時において、Hレベルのリセット信号RSTによりNMOSトランジスタTn1がオンされる。このとき、インバータ回路29の出力信号はLレベル(接地電位=0V)であるため、分圧電圧divが接地電位に初期化される。
その後、Lレベルのリセット信号RSTによりNMOSトランジスタTn1がオフされ、分圧電圧divが高電圧VPPに応じて変化される。このとき、インバータ回路29の出力信号はHレベル(1.8V)に変化し、Hレベルの信号がNMOSトランジスタTn1のソースに供給される。そのため、NMOSトランジスタTn1のソース・ドレイン間に加わる電圧が低減され、該トランジスタTn1におけるオフリーク電流が低減される。
次に、本発明の第5実施形態の電圧検出回路17dの特徴を以下に記載する。
(1)分圧電圧divのリセット後にNMOSトランジスタTn1をオフ(非活性化)させているときには、トランジスタTn1のソースに分圧電圧divよりも高い電圧が供給される。このようにすれば、該トランジスタTn1におけるオフリーク電流が低減されるので、電圧検出回路17dによる電圧検出を的確に行うことができる。
上記各実施形態は以下のように変更してもよい。
・第1及び第2実施形態の電圧検出回路17,17aでは、容量C1,C2の接続部N1に2つのトランジスタTn1,Tn2を直列接続した構成(2段構成)を採用したが、それ以上のトランジスタを直列接続した複数段構成としてもよい。なお、電圧検出回路では、グランドGND側のトランジスタから順次オフさせるように制御する。また、トランジスタを複数段にする場合、リーク電流は減少するが、分圧電圧divを接地電位にリセットするスピードが遅くなるため、それを考慮してトランジスタの数を設定する。
・上記第2実施形態の電圧検出回路17aにおいて、NMOSトランジスタTn3をPMOSトランジスタに代えてもよい。この場合、PMOSトランジスタのゲートに供給する制御信号としてリセット信号RSTAを用いる。
・第5実施形態において、NMOSトランジスタTn1をオフさせるとき、そのソースに、分圧電圧divよりも高い電圧に代えて、分圧電圧divと等しい電圧を供給するようにしてもよい。
・上記各実施形態では、記憶部としてメモリセルアレイ13を備えた半導体記憶装置(不揮発性メモリ)11に具体化したが、これに限定されるものではなく、メモリセルアレイ13を備えない半導体装置に適用してもよい。勿論、不揮発性メモリ以外の半導体記憶装置、例えばDRAM等に適用してもよい。
Hereinafter, a first embodiment in which the present invention is embodied in a semiconductor memory device will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram of the semiconductor memory device 11. The semiconductor memory device 11 is a nonvolatile memory, and includes a memory access logic circuit 12, a memory cell array 13, an operation mode control circuit 14, and a power supply circuit 15. The power supply circuit 15 includes a reset generation circuit 16, a voltage detection circuit 17, and a voltage generation circuit 18.
In the semiconductor memory device 11, the control signal CNTL and the address signal Add from the external device are supplied to the logic circuit 12 for memory access, and the control signal CNTL is supplied to the operation mode control circuit 14.
The logic circuit 12 for memory access includes a latch circuit that latches the address signal Add, a decoder that decodes the address signal Add, and the like. One of a plurality of memory cells provided in the memory cell array 13 is accessed by the decode signal generated by the logic circuit 12. In the present embodiment, the memory cells provided in the memory cell array 13 are nonvolatile memory cells.
The operation mode control circuit 14 controls the power supply circuit 15 based on the control signal CNTL. Examples of the control signal CNTL include signals such as a read command, a write command, and an erase command.
When the supplied control signal CNTL is a write command, the operation mode control circuit 14 activates the high voltage generation unit 19 in the voltage generation circuit 18 in response to the write command. At this time, the high voltage generation unit 19 of the voltage generation circuit 18 generates the high voltage VPP and supplies the high voltage VPP to the memory cell array 13.
When the control signal CNTL is an erase command, the operation mode control circuit 14 activates the negative voltage generator 20 in the voltage generator 18 in response to the erase command. At this time, the negative voltage generation unit 20 of the voltage generation circuit 18 generates the negative voltage VBB and supplies the negative voltage VBB to the memory cell array 13.
In the memory cell array 13, the high voltage VPP and the negative voltage VBB supplied from the voltage generation circuit 18 are supplied to a word line connected to the memory cell, a bit line, a well layer constituting a MOS transistor, or the like. By supplying the high voltage VPP and the negative voltage VBB, data is written into and erased from the memory cell.
In the semiconductor memory device 11, when a data write operation or an erase operation is started, a reset is generated prior to activating the high voltage generator 19 and the negative voltage generator 20 in the voltage generator 18. A reset signal RST is supplied from the circuit 16 to the voltage detection circuit 17. In accordance with the reset signal RST, the voltage detection operation in the voltage detection circuit 17 is initialized.
FIG. 2 shows the voltage detection circuit 17. In the figure, a circuit for detecting the high voltage VPP is shown, and a circuit for detecting the negative voltage VBB is not shown.
The voltage detection circuit 17 includes capacitors C1 and C2 as first and second capacitors, a comparator 21 as a determination circuit, a control circuit 22, and NMOS transistors Tn1 and Tn2 as first and second transistors. The high voltage VPP generated by the high voltage generator 19 is detected. The high voltage generator 19 includes a booster circuit 19a and an NMOS transistor Tn10.
In the voltage detection circuit 17, the configurations of the capacitors C1 and C2 and the comparator 21 are the same as those of the conventional voltage detection circuit 31 shown in FIG. That is, the capacitors C1 and C2 are connected in series, and the high voltage VPP that is the output voltage of the high voltage generator 19 is divided by the capacitors C1 and C2. The comparator 21 compares the divided voltage (voltage at the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2) div with the reference voltage Vref (for example, 1.3 V) by the capacitors C1 and C2, and according to the comparison result. An output signal COM having a potential level is generated.
The output signal COM of the comparator 21 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn10 in the high voltage generator 19. The drain of the NMOS transistor Tn10 is connected to the output terminal of the booster circuit 19a, and the source of the NMOS transistor Tn10 is connected to the ground GND. The NMOS transistor Tn10 is turned on / off by the output signal COM of the comparator 21 so that the high voltage VPP supplied from the high voltage generator 19 becomes a target voltage value.
Specifically, when the high voltage VPP by the boosting operation of the booster circuit 19a becomes equal to or higher than a target voltage value (for example, 10V), the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 becomes equal to or higher than the reference voltage Vref (for example, 1.3V). Thus, the voltage level of the output signal COM of the comparator 21 is increased. The NMOS transistor Tn10 is turned on by the output signal COM of the comparator 21 so that the high voltage VPP becomes a target voltage value.
In the voltage detection circuit 17 of this embodiment, two NMOS transistors Tn1 and Tn2 are provided as elements for initializing the divided voltage div at the start of voltage detection. The NMOS transistors Tn1 and Tn2 are connected in series between the connection portion (first connection portion) N1 of the capacitors C1 and C2 and the ground GND.
The reset signal (first control signal) RST from the reset generation circuit 16 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn2, and the reset signal (second control signal) RSTA of the control circuit 22 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn1. Is done. In the control circuit 22, the reset signal RSTA is generated based on the reset signal RST and the output signal COM of the comparator 21.
FIG. 3 shows a circuit diagram of the control circuit 22.
The control circuit 22 includes PMOS transistors Tp11 and Tp12, an NMOS transistor Tn11, and inverter circuits 23, 24, and 25. The reset signal RST from the reset generation circuit 16 is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp11 via the inverter circuit 23, and the output signal COM of the comparator 21 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn11.
The PMOS transistor Tp11 and the NMOS transistor Tn11 are connected in series, the source of the PMOS transistor Tp11 is connected to the power supply VCC, and the source of the NMOS transistor Tn11 is connected to the ground GND. Further, the drain of the PMOS transistor Tp12 is connected to the connection portion between the transistors Tp11 and Tn11, and the source of the transistor Tp12 is connected to the power supply VCC.
The connection portion of each transistor Tp11, Tp12, Tn11 is connected to the gate of the PMOS transistor Tp12 via the inverter circuit 24, and the potential level of the connection portion of each transistor Tp11, Tp12, Tn11 is inverted by the inverter circuit 24. It is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp12. Further, the potential level at the connection portion of each transistor Tp11, Tp12, Tn11 is output as the reset signal RSTA via the two inverter circuits 24, 25.
Next, the operation of the voltage detection circuit 17 in this embodiment will be described.
As shown in FIG. 4, at the start of detection of the high voltage VPP, an H level reset signal RST is output from the reset generation circuit 16. At this time, since the output signal COM of the comparator 21 is at the L level, the PMOS transistor Tp11 is turned on and the NMOS transistor Tn11 is turned off in the control circuit 22. Therefore, an H level reset signal RSTA is output from the control circuit 22.
Accordingly, since the NMOS transistors Tn1 and Tn2 are turned on by the H level reset signals RST and RSTA in the voltage detection circuit 17, the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is set to the ground potential (0 V) as the initial potential. It is initialized.
When the reset signal RST changes to L level at time t1, the PMOS transistor Tp11 in the control circuit 22 is turned off. At this time, since the PMOS transistor Tp12 is on and the NMOS transistor Tn11 is off, the control circuit 22 outputs an H level reset signal RSTA.
Accordingly, in the voltage detection circuit 17, the transistor Tn1 is turned on by the H level reset signal RSTA, and the transistor Tn2 is turned off by the L level reset signal RST. When the transistor Tn2 is turned off, the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 enters a floating state, and the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 changes according to the high voltage VPP.
At time t1, the booster circuit 19a of the high voltage generator 19 is activated, and the boosting operation by the booster circuit 19a is started. Therefore, after time t1, the high voltage VPP that is the output voltage of the booster circuit 19a is gradually increased. The divided voltage div generated by the capacitors C1 and C2 is also raised with a degree of change corresponding to the capacity ratio.
Since the transistor Tn1 is turned on from time t1 to time t2 (period in which the divided voltage div is increasing), the potential level of the connection portion (second connection portion) N2 between the transistors Tn1 and Tn2 is the divided voltage. Equal to div.
At time t2, when the high voltage VPP reaches the target voltage value and the divided voltage div becomes the reference voltage Vref, the output signal COM of the comparator 21 changes from L level to H level. At this time, in the control circuit 22, the NMOS transistor Tn11 is turned on by the H level output signal COM. Therefore, the reset signal RSTA output from the control circuit 22 changes from H level to L level.
The transistor Tn1 is turned off by the L level reset signal RSTA. Immediately after time t2, the connection N2 of the transistors Tn1 and Tn2 and the divided voltage div are substantially equal, so that an off-leakage current through the NMOS transistor Tn1 hardly flows. On the other hand, in the NMOS transistor Tn2, since a voltage substantially equal to the divided voltage div is applied between the source and the drain, an off-leak current corresponding to the voltage flows. For this reason, the potential level of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 gradually decreases.
In the voltage detection circuit 17 of the present embodiment, no off-leakage current flows through the NMOS transistor Tn1 until the potential level of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 is lowered. Therefore, a sufficient time is secured until the divided voltage div is reduced by the off-leakage current (the high voltage VPP deviates from the target voltage value). Specifically, in the voltage application period in which the high voltage VPP needs to be applied for the data write operation, it is possible to prevent the divided voltage div from decreasing due to the off-leak current, and the data in the semiconductor memory device 11 can be prevented. The reliability of the write characteristics is improved.
Next, features of the voltage detection circuit 17 in the first embodiment of the present invention will be described below.
(1) Two NMOS transistors Tn1 and Tn2 are connected in series to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and each transistor Tn1 and Tn2 is turned on (activated), whereby a divided voltage (connection portion N1 Voltage div) is reset to the ground potential. Thereafter, the ground-side transistor Tn2 is turned off (inactivated), and the divided voltage div is increased according to the high voltage VPP. When the divided voltage div reaches the reference voltage Vref, the transistor Tn1 is turned off (non-activated). Activated). In this way, no off-leakage current flows through the NMOS transistor Tn1 until the potential level of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 is lowered due to the off-leakage current of the transistor Tn2. Therefore, a sufficient time can be secured until the divided voltage div decreases and the high voltage VPP deviates from the target voltage value. Therefore, the voltage detection by the voltage detection circuit 17 can be accurately performed during the high voltage application period in the semiconductor memory device 11.
(2) The control circuit 22 generates a reset signal RSTA for controlling the transistor Tn1 based on the reset signal RST for controlling the transistor Tn2 and the output signal COM of the comparator 21. Specifically, in the control circuit 22, the reset signal RSTA is inverted from the H level to the L level at the timing (time t2 in FIG. 4) when the high voltage VPP reaches the target voltage value and the output signal COM becomes the H level. The In this way, the potential of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 can be made equal to the reference voltage Vref, so that the timing at which the off-leak current of the transistor Tn1 flows (the time when the divided voltage div starts to decrease) is delayed. Is preferable.
(3) In the semiconductor memory device 11, by generating an appropriate high voltage VPP at the time of data writing, the reliability of data writing characteristics can be improved.
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In addition, in this embodiment, about the thing equivalent to the structure of 1st Embodiment mentioned above, the same symbol is attached | subjected to drawing and the description is simplified. Below, it demonstrates centering on difference with 1st Embodiment.
As shown in FIG. 5, in the voltage detection circuit 17a of the present embodiment, the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 is connected to the ground GND via a capacitor C3 as a third capacitor. Further, the drain of the NMOS transistor Tn3 as the third transistor is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the source of the NMOS transistor Tn3 is connected to the ground via the capacitor C4 as the fourth capacitor. . A reset signal RSTAB is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn3.
In the voltage detection circuit 17a, the capacitance C3 is added to the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2, thereby preventing the divided voltage div from being lowered due to the off-leakage current. Here, the capacitor C3 and the capacitor C4 have the same capacitance value. When the transistor Tn1 is turned off, the capacitor T4 is connected to the connection portion N1 instead of the capacitor C3. Variations in the divided voltage div are prevented.
FIG. 6 shows the control circuit 22a of this embodiment. The control circuit 22a is obtained by adding an inverter circuit 26 and an OR circuit 27 to the control circuit 22 of FIG.
Specifically, the reset signal RSTA output from the inverter circuit 25 is supplied to the first input terminal of the OR circuit 27 via the inverter circuit 26, and the reset signal RST is supplied to the second input terminal of the OR circuit 27. A reset signal RSTAB is output from the output terminal of the OR circuit 27.
Therefore, as shown in FIG. 7, when the reset signals RST and RSTA are at the H level before time t1, the reset signal RSTAB is also at the H level. In this case, in the voltage detection circuit 17a, all the transistors Tn1, Tn2, and Tn3 are turned on, and the divided voltage div is initialized.
From time t1 to t2, since the reset signal RST is at the L level and the reset signal RSTA is at the H level, the reset signal RSTAB is at the L level. Further, at time t2, the reset signal RSTA changes to the L level, so that the reset signal RSTAB changes to the H level.
After time t1 (after the start of voltage detection), the reset signal RSTAB is a signal (inverted control signal) obtained by inverting the logic level with respect to the reset signal RSTA. Based on the reset signal RSTA and the reset signal RSTAB, the transistor Tn1 and the transistor Tn3 are turned on / off, whereby the capacitor C3 and the capacitor C4 are alternately connected to the connection portion N1.
Incidentally, the following relational expression holds at time t2 when the divided voltage div becomes equal to the reference voltage Vref.
C1 × (VPP−Vref) = (C2 + C3) × Vref
Further, when the capacitor C4 is connected instead of the capacitor C3 after time t2, the following relational expression is established.
C1 × (VPP−Vref) = (C2 + C4) × Vref
When the high voltage VPP is obtained from the above relational expressions,
VPP = (C2 + C3) × Vref / C1 + Vref
VPP = (C2 + C4) × Vref / C1 + Vref
It becomes.
Next, features of the second embodiment of the present invention will be described below.
(1) Since the capacitor C3 is added to the connection portion N2 between the transistor Tn1 and the transistor Tn2, the decrease in the potential level of the connection portion N2 due to the off-leakage current of the transistor Tn2 is delayed, the off-leakage current of the transistor Tn1 flows, and the divided voltage div It becomes possible to delay the time when the decrease starts.
(2) When the transistor Tn1 is turned off and the capacitor C3 is disconnected from the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 (time t2), the transistor Tn3 is turned on and the capacitor C4 is connected to the connection portion N1. The fluctuation of the divided voltage div of N1 can be prevented.
Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment as well, the same symbols are attached to the drawings for those equivalent to the configuration of the first embodiment described above.
As shown in FIG. 8, in the voltage detection circuit 17b of the present embodiment, a PMOS transistor Tp1 is provided as an element for initializing the divided voltage div of the capacitors C1 and C2. A divided voltage div is supplied to the source of the PMOS transistor Tp1, and its drain is connected to the ground GND. The reset signal (control signal) RSTB1 from the control circuit 22b is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1.
The control circuit 22b includes PMOS transistors Tp2 and Tp3, a capacitor C5, and an inverter circuit 28. In the control circuit 22b, the inverter circuit 28 is supplied with a reset signal RST. The output signal of the inverter circuit 28 is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1 through the capacitor C5. A high voltage VPP is supplied to the power supply terminal of the inverter circuit 28. Therefore, the output signal of the inverter circuit 28 has a larger amplitude than the reset signal RST.
The source of the PMOS transistor Tp2 is connected between the gate of the PMOS transistor Tp1 and the capacitor C5, and the drain of the PMOS transistor Tp2 is connected to the low potential side power source VSS. A signal RSTB obtained by inverting the logic level of the reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp2.
The drain of the PMOS transistor Tp3 is connected between the gate of the PMOS transistor Tp1 and the capacitor C5, and the source of the PMOS transistor Tp3 is connected to the high potential side power supply VCC. A reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp3.
The PMOS transistor Tp2 is a discharge element that discharges the gate of the PMOS transistor Tp1 to a low potential level, and the PMOS transistor Tp3 is a charge element that charges the gate of the PMOS transistor Tp1 to a high potential level.
As shown in FIG. 9, immediately before the start of detection of the high voltage VPP (time t0), the reset signal RST changes from the L level to the H level. At this time, the PMOS transistor Tp2 is turned on and the PMOS transistor Tp3 is turned off. Therefore, the potential level of the gate (reset signal RSTB1) of the PMOS transistor Tp1 is discharged from the high potential side power supply VCC to the potential level of the low potential side power supply VSS, and changes to the negative potential level due to the coupling of the capacitor C5. By turning on the transistor Tp1 with the reset signal RSTB1 at the negative potential level, the potential level of the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is initialized to the ground potential (0 V).
When the reset signal RST is inverted from the H level to the L level at time t1, the PMOS transistor Tp2 is turned off and the PMOS transistor Tp3 is turned on, so that the gate of the PMOS transistor Tp1 (reset signal RSTB1) changes from the negative potential to the high potential side. Charged to the potential level of the power supply VCC. The PMOS transistor Tp1 is completely cut off by the reset signal RSTB1. At this time, the reset signal RSTB1 becomes a voltage higher than the divided voltage div, and the PMOS transistor Tp1 is controlled to be turned off by the signal RSTB1, so that the off-leak current becomes small enough to be ignored.
Next, features of the voltage detection circuit 17b according to the third embodiment of the present invention will be described below.
(1) Since the PMOS transistor Tp1 is used as an element for initializing the divided voltage div of the capacitors C1 and C2, the off-leakage current is reduced to about 1/10 as compared with the case where an NMOS transistor is used. Can do. Therefore, fluctuations in the divided voltage div are suppressed, and voltage detection by the voltage detection circuit 17b can be performed accurately.
(2) When the divided voltage div of each of the capacitors C1 and C2 is reset to the ground potential (0 V) by the PMOS transistor Tp1, even if the gate of the transistor Tp1 is set to the ground potential, it is affected by the threshold characteristics of the transistor Tp1. The divided voltage div cannot be completely reset to the ground potential (0 V). In contrast, in the present embodiment, the control circuit 22b is configured to generate a negative voltage lower than the ground potential by self-boost, and the transistor Tp1 is turned on by the negative voltage reset signal RSRB1 output from the control circuit 22b. (Activated). In this way, the divided voltage div can be reset to the ground potential (0 V) which is an ideal initial potential.
A fourth embodiment embodying the present invention will be described below.
FIG. 10 shows the voltage detection circuit 17c of this embodiment, and FIG. 11 shows an operation waveform diagram of the voltage detection circuit 17c.
The voltage detection circuit 17c is a circuit for detecting the negative voltage VBB generated by the negative voltage generator 20, and includes capacitors C1 and C2, a comparator 21, and a PMOS transistor Tp1. The negative voltage VBB is divided by the capacitors C1 and C2, and the divided voltage div is supplied to the comparator 21. The comparator 21 compares the divided voltage div and the first reference voltage Vref1, and generates an output signal COM corresponding to the comparison result.
The drain of the PMOS transistor Tp1 is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the second reference voltage Vref2 is supplied to the source of the PMOS transistor Tp1. A reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1.
In the fourth embodiment, the first reference voltage Vref1 supplied to the comparator 21 is, for example, 0V, and the second reference voltage Vref2 supplied to the source of the PMOS transistor Tp1 is, for example, 1.3V. That is, the voltage detection circuit 17c is a circuit that starts the voltage detection operation from the potential (1.3V) where the divided voltage div at the connection portion N1 is higher than the ground potential (0V).
Specifically, as shown in FIG. 11, at the start of detection of the negative voltage VBB, an L level reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1. The PMOS transistor Tp1 is turned on by the reset signal RST, and the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is initialized to the second reference voltage Vref2 (1.3 V).
At time t1, the reset signal RST changes to H level, and the PMOS transistor Tp1 is turned off by the reset signal RST, so that the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 enters a floating state. At this time, the negative voltage generation unit 20 of the voltage generation circuit 18 is activated and the voltage value of the negative voltage VBB gradually changes to the negative side. Therefore, the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is also changed to the negative voltage VBB. Will change accordingly.
At time t2, when the negative voltage VBB reaches a target voltage value (for example, −10V) and the divided voltage div decreases to the first reference voltage Vref1 (0V), the output signal COM of the comparator 21 changes from the L level to the H level. Change to level. According to the output signal COM, the negative voltage generator 20 is controlled so that the negative voltage VBB of the negative voltage generator 20 becomes a desired voltage value (for example, −10 V).
Next, features of the voltage detection circuit 17c in the fourth embodiment of the present invention will be described below.
(1) Since the PMOS transistor Tp1 is used as an element for initializing the divided voltage div of the capacitors C1 and C2, the off-leakage current is reduced to about 1/10 as compared with the case where an NMOS transistor is used. Can do. Therefore, the fluctuation of the divided voltage div is suppressed, and the voltage detection by the voltage detection circuit 17c can be accurately performed.
Hereinafter, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 12 shows a voltage detection circuit 17d of the fifth embodiment.
The voltage detection circuit 17d is a circuit for detecting the high voltage VPP generated by the high voltage generator 19, and includes capacitors C1 and C2, a comparator 21, an NMOS transistor Tn1, and a CMOS inverter circuit 29.
The high voltage VPP is divided by the capacitors C1 and C2, and the divided voltage div is supplied to the comparator 21. The comparator 21 compares the divided voltage div with the reference voltage Vref (1.3 V), and generates an output signal COM having a potential level according to the comparison result.
The drain of the NMOS transistor Tn1 is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the gate thereof is electrically connected to the source of the NMOS transistor Tn1 via the inverter circuit 29.
The reset signal RST is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn1, and the reset signal RST is inverted and supplied to the source of the NMOS transistor Tn1 through the inverter circuit 29. The amplitude of the output signal of the inverter circuit 29 is, for example, 1.8V (H level = 1.8V, L level = 0V).
At the start of detection of the high voltage VPP, the NMOS transistor Tn1 is turned on by the H level reset signal RST. At this time, since the output signal of the inverter circuit 29 is at the L level (ground potential = 0 V), the divided voltage div is initialized to the ground potential.
Thereafter, the NMOS transistor Tn1 is turned off by the L level reset signal RST, and the divided voltage div is changed according to the high voltage VPP. At this time, the output signal of the inverter circuit 29 changes to H level (1.8 V), and the H level signal is supplied to the source of the NMOS transistor Tn1. Therefore, the voltage applied between the source and drain of the NMOS transistor Tn1 is reduced, and the off-leak current in the transistor Tn1 is reduced.
Next, features of the voltage detection circuit 17d according to the fifth embodiment of the present invention will be described below.
(1) When the NMOS transistor Tn1 is turned off (inactivated) after resetting the divided voltage div, a voltage higher than the divided voltage div is supplied to the source of the transistor Tn1. In this way, the off-leakage current in the transistor Tn1 is reduced, so that the voltage detection by the voltage detection circuit 17d can be accurately performed.
Each of the above embodiments may be modified as follows.
In the voltage detection circuits 17 and 17a of the first and second embodiments, a configuration (two-stage configuration) in which two transistors Tn1 and Tn2 are connected in series to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 is employed. A multistage structure in which transistors are connected in series may be employed. Note that the voltage detection circuit is controlled so that the transistors on the ground GND side are sequentially turned off. Further, when the number of transistors is set to a plurality of stages, the leakage current is reduced, but the speed of resetting the divided voltage div to the ground potential is reduced. Therefore, the number of transistors is set in consideration thereof.
In the voltage detection circuit 17a of the second embodiment, the NMOS transistor Tn3 may be replaced with a PMOS transistor. In this case, the reset signal RSTA is used as a control signal supplied to the gate of the PMOS transistor.
In the fifth embodiment, when the NMOS transistor Tn1 is turned off, a voltage equal to the divided voltage div may be supplied to the source instead of the voltage higher than the divided voltage div.
In each of the embodiments described above, the semiconductor memory device (nonvolatile memory) 11 including the memory cell array 13 as the storage unit is embodied. However, the present invention is not limited to this and is applicable to a semiconductor device not including the memory cell array 13. May be. Of course, the present invention may be applied to a semiconductor memory device other than the nonvolatile memory, such as a DRAM.

【書類名】明細書
【特許請求の範囲】
【請求項1】 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、
前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタと、
前記第1トランジスタ及び第2トランジスタが活性化されることにより、前記第1接続部の電位が初期電位に初期化されるものであり、
前記第1トランジスタに接続され、前記第1接続部の電位の初期化の後、前記第2トランジスタよりも遅れて前記第1トランジスタを非活性化させるための第1制御信号を生成する制御回路と
を備える電圧検出回路。
【請求項2】 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、前記接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと、
前記トランジスタに接続され、前記接続部の電位が初期化される時に、前記初期電位よりも低い負電位を有する制御信号を生成し、前記制御信号により前記トランジスタを活性化させる制御回路と
を備える電圧検出回路。
【請求項3】 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の発生した負電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記負電圧を受け取り、前記負電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと
を備え、
前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記初期電位を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される電圧検出回路。
【請求項4】 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと
を備え、
前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記制御信号の反転信号を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される電圧検出回路。
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の電圧検出回路と、前記電圧発生回路とを備える半導体装置。
【請求項6】 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタとを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記第1トランジスタと第2トランジスタとを活性化させて、前記第1接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、
前記第1接続部の電位の初期化の後に、前記第2トランジスタのみを非活性化させて、前記第1トランジスタと第2トランジスタとの間の第2接続部の電位を前記第1接続部の電位と等しくするステップと、
前記電圧発生回路の出力電圧に応じて前記第1接続部の電位が所定電位に達したときに、前記第1トランジスタを非活性化させるステップと
を備える電圧検出回路の制御方法。
【請求項7】 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップとを備え、
前記初期化するステップは、前記初期電位よりも低い負電位の制御信号を生成し、該制御信号を前記トランジスタのゲートに供給する電圧検出回路の制御方法。
【請求項8】 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、
前記接続部の電位の初期化の後に、前記初期電位よりも高い電位を前記トランジスタのゲートに供給して該トランジスタを非活性化するステップと
を備える電圧検出回路の制御方法。
【請求項9】 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、
前記接続部の電位の初期化の後であって、前記トランジスタが非活性化された時、前記トランジスタのソースに前記接続部と同電位もしくはそれよりも高い電位を供給するステップと
を備える電圧検出回路の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【0001】
(技術分野)
本発明は、半導体装置に搭載される電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路、半導体装置、及び電圧検出回路の制御方法に関する。
半導体装置には、外部から供給される電源電圧とは異なる内部電圧を生成して内部回路に供給する電圧発生回路を搭載したものがある。その半導体装置には、電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が設けられている。具体的には、電圧検出回路において、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧が基準電圧と比較され、比較結果に基づいて出力電圧が目標の電圧レベルに達したことが検出される。電圧検出回路において、分圧電圧を生成するための素子として分圧抵抗を用いるものが一般的である。しかし、分圧抵抗には常に電流が流れるため、低消費電力化が必要となる半導体装置(例えば、不揮発性メモリ)では、分圧抵抗に代えて容量を用いる電圧検出回路が実用化されている。電圧検出回路において、容量比による電圧検出を的確に行う技術が必要となっている。
【0002】
(背景技術)
図13には、従来の電圧検出回路31を示し、図14には、その動作波形図を示している。
【0003】
電圧検出回路31は、電圧発生回路32の出力電圧VPPを検出して、電圧VPPが目標の電圧値になるように制御するための回路である。電圧検出回路31には、直列接続された2つの容量(キャパシタ)C1,C2と、比較器21と、NMOSトランジスタTn1とを備える。
【0004】
各容量C1,C2は、電圧発生回路32の出力電圧VPPを分圧するために設けられている。各容量C1,C2による分圧電圧(各容量C1,C2の接続部N1での電圧)divが比較器21の非反転入力端子に供給されるとともに、基準電圧Vref(例えば、1.3V)が比較器21の反転入力端子に供給される。
【0005】
各容量C1,C2の接続部N1にNMOSトランジスタTn1のドレインが接続され、トランジスタTn1のソースはグランドGNDに接続されている。また、NMOSトランジスタTn1のゲートにはリセット信号RSTが供給される。
【0006】
図14に示すように、電圧検出回路31による電圧検出の開始時には、Hレベルのリセット信号RSTによりNMOSトランジスタTn1がオンされ、各容量C1,C2による分圧電圧divが接地電位(0V)に初期化される。時刻t1において、リセット信号RSTがLレベルに反転されてトランジスタTn1がオフされることにより、各容量C1,C2の接続部N1がフローティング状態となる。時刻t1以降では、各容量C1,C2による分圧電圧divが出力電圧VPPに応じて変化する。すなわち、電圧発生回路32における昇圧動作に伴い出力電圧VPPが上昇すると、各容量C1,C2の容量比に応じた変化度合で分圧電圧divも上昇する。
【0007】
比較器21は、分圧電圧divと基準電圧Vrefとを比較し、比較結果に応じた電圧レベルの出力信号COMを出力する。つまり、比較器21は、分圧電圧divが基準電圧Vrefよりも低いときには、Lレベルの出力信号COMを出力し、分圧電圧divが基準電圧Vref以上になると、Hレベルの出力信号COMを出力する。出力信号COMに基づいて、電圧発生回路32の出力電圧が目標の電圧値になるよう制御される。
【0008】
上記のように、容量比により電圧検出を行う電圧検出回路は、例えば、特開2002−51538号公報等に開示されている。
【特許文献1】 特開2002−51538号公報
【0009】
ところで、不揮発性の半導体記憶装置において、データの書き込みや消去は、ブレークダウン特性やトンネリング特性の半導体物性を利用して行われる。具体的に、不揮発性メモリでは、電源電圧(例えば、3V)よりも高い高電圧(例えば、10V)や負電圧(例えば、−10V)を電圧発生回路で生成し、高電圧や負電圧をワード線等に印加することにより、データの書き込みや消去が行われる。
【0010】
不揮発性メモリでは、電圧発生回路の出力電圧を所定電圧(高電圧=10V、負電圧=−10V)に制御するために、図13に示す回路構成の電圧検出回路31を利用している。電圧検出回路31は、容量比により電圧検出をする構成であるため、抵抗比で電圧検出をする電圧検出回路と比較して、消費電力が低減される。
【0011】
しかしながら、電圧検出回路31では、分圧電圧divを初期化するためのNMOSトランジスタTn1にテーリング電流(サブスレッショルド電流、又はオフリーク電流と呼ぶ)が流れることにより、出力電圧VPPが変動してしまうといった問題が生じる。
【0012】
詳しくは、電圧発生回路32の出力電圧VPPが目標の電圧値に達すると、電圧検出回路31における分圧電圧divは、基準電圧Vref(1.3V)と等しくなる。このとき、トランジスタTn1は、Lレベルのリセット信号RSTによりオフされているが、そのソース・ドレイン間には、基準電圧Vrefと等しい分圧電圧divが加わるため、微小なリーク電流が流れてしまう。このように、トランジスタTn1にオフリーク電流が流れることで、分圧電圧divが基準電圧Vrefよりも低くなる。この場合、電圧発生回路32は、出力電圧VPPが目標の電圧値に達したにもかかわらず昇圧動作を継続するため、出力電圧VPPが必要以上に高くなってしまう。
【0013】
このような現象は、電圧検出回路31における電圧検出の動作時間がオフリーク電流による出力電圧VPPの低下に対して相対的に短ければ問題となることはない。しかし、不揮発性メモリにおけるデータの書き込み動作や消去動作は、読み出し動作時間(数10ns)よりも数千倍長い時間(数10ms)を要する。そのため、不揮発性メモリのように、電圧検出動作に長い時間が必要となる半導体装置では、トランジスタTn1のオフリーク電流によって、電圧発生回路32の出力電圧VPPが必要以上に高くなるといった問題が生じてしまう。
【0014】
本発明の目的は、トランジスタのオフリーク電流による電圧変動を抑制し、電圧検出を的確に行うことができる電圧検出回路、半導体装置、及び電圧検出回路の制御方法を提供することにある。
【0015】
(発明の開示)
本発明の第1の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタと、制御回路とを備える。前記第1トランジスタ及び第2トランジスタが活性化されることにより、前記第1接続部の電位が初期電位に初期化される。前記制御回路は、前記第1トランジスタに接続され、前記第1接続部の電位の初期化の後、前記第2トランジスタよりも遅れて前記第1トランジスタを非活性化させるための第1制御信号を生成する。
【0016】
本発明の第2の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、前記接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと、前記トランジスタに接続され、前記接続部の電位が初期化される時に、前記初期電位よりも低い負電位を有する制御信号を生成し、前記制御信号により前記トランジスタを活性化させる制御回路とを備える。
【0017】
本発明の第3の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の発生した負電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記負電圧を受け取り、前記負電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタとを備える。前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記初期電位を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される。
【0018】
本発明の第4の態様において、電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路が提供される。電圧検出回路は、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタとを備える。前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記制御信号の反転信号を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される。
上記第1から4の態様に示される電圧検出回路及び電圧発生回路は、半導体装置に設けられることが好ましい。
【0019】
本発明の第5の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタとを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記第1トランジスタと第2トランジスタとを活性化させて、前記第1接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記第1接続部の電位の初期化の後に、前記第2トランジスタのみを非活性化させて、前記第1トランジスタと第2トランジスタとの間の第2接続部の電位を前記第1接続部の電位と等しくするステップと、前記電圧発生回路の出力電圧に応じて前記第1接続部の電位が所定電位に達したときに、前記第1トランジスタを非活性化させるステップとを備える。
【0020】
本発明の第6の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップとを備える。前記初期化するステップは、前記初期電位よりも低い負電位の制御信号を生成し、該制御信号を前記トランジスタのゲートに供給する。
【0021】
本発明の第7の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記接続部の電位の初期化の後に、前記初期電位よりも高い電位を前記トランジスタのゲートに供給して該トランジスタを非活性化するステップとを備える。
【0022】
本発明の第8の態様において、電圧検出回路の制御方法が提供される。電圧検出回路は、電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する。前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含む。制御方法は、前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記接続部の電位の初期化の後であって、前記トランジスタが非活性化された時、前記トランジスタのソースに前記接続部と同電位もしくはそれよりも高い電位を供給するステップとを備える。
【0023】
(発明を実施するための最良の形態)
以下、本発明を半導体記憶装置に具体化した第1実施形態を図面に従って説明する。
【0024】
図1は、半導体記憶装置11の概略的なブロック図である。半導体記憶装置11は、不揮発性メモリであり、メモリアクセス用の論理回路12と、メモリセルアレイ13と、動作モード制御回路14と、電源回路15とを備える。また、電源回路15は、リセット発生回路16と、電圧検出回路17と、電圧発生回路18とを備える。
半導体記憶装置11において、外部装置からの制御信号CNTLとアドレス信号Addとがメモリアクセス用の論理回路12に供給され、制御信号CNTLが動作モード制御回路14に供給される。
【0025】
メモリアクセス用の論理回路12は、アドレス信号Addをラッチするラッチ回路や、アドレス信号Addをデコードするデコーダ等を含む。論理回路12にて生成されたデコード信号により、メモリセルアレイ13に設けられた複数のメモリセルのいずれかがアクセスされる。なお、本実施形態において、メモリセルアレイ13に設けられるメモリセルは、不揮発性のメモリセルである。
【0026】
動作モード制御回路14は、制御信号CNTLに基づいて電源回路15を制御する。制御信号CNTLの種類としては、読み出しコマンド、書き込みコマンド、消去コマンド等の信号がある。
【0027】
供給された制御信号CNTLが書き込みコマンドである場合、動作モード制御回路14は、書き込みコマンドに応答して、電圧発生回路18における高電圧発生部19を活性化させる。このとき、電圧発生回路18の高電圧発生部19において、高電圧VPPが生成され高電圧VPPがメモリセルアレイ13に供給される。
【0028】
また、制御信号CNTLが消去コマンドである場合、動作モード制御回路14は、消去コマンドに応答して、電圧発生回路18における負電圧発生部20を活性化させる。このとき、電圧発生回路18の負電圧発生部20において、負電圧VBBが生成され負電圧VBBがメモリセルアレイ13に供給される。
【0029】
メモリセルアレイ13において、電圧発生回路18から供給される高電圧VPPや負電圧VBBは、メモリセルに接続するワード線、ビット線、或いはMOSトランジスタを構成するウェル層等に供給される。高電圧VPPや負電圧VBBが供給されることで、メモリセルのデータの書き込みや消去が行われる。
【0030】
また、半導体記憶装置11では、データの書き込み動作時や消去動作を開始するとき、電圧発生回路18における高電圧発生部19や負電圧発生部20の回路を活性化させるのに先立って、リセット発生回路16からリセット信号RSTが電圧検出回路17に供給される。リセット信号RSTに従って電圧検出回路17における電圧検出動作が初期化される。
【0031】
図2には、電圧検出回路17を示している。なお、同図には、高電圧VPPを検出するための回路を示し、負電圧VBBを検出するための回路の図示は省略している。
【0032】
電圧検出回路17は、第1及び第2容量としての容量C1,C2と、判定回路としての比較器21と、制御回路22と、第1及び第2トランジスタとしてのNMOSトランジスタTn1,Tn2とを備え、高電圧発生部19で生成される高電圧VPPを検出する。高電圧発生部19は、昇圧回路19aと、NMOSトランジスタTn10とを含む。
【0033】
電圧検出回路17において、容量C1,C2と比較器21の構成は、図13に示す従来の電圧検出回路31と同じ構成である。すなわち、各容量C1,C2は直列に接続されており、各容量C1,C2により高電圧発生部19の出力電圧である高電圧VPPが分圧される。比較器21は、各容量C1,C2による分圧電圧(各容量C1,C2の接続部N1での電圧)divと基準電圧Vref(例えば、1.3V)とを比較し、比較結果に応じた電位レベルの出力信号COMを生成する。
【0034】
比較器21の出力信号COMは、高電圧発生部19におけるNMOSトランジスタTn10のゲートに供給される。NMOSトランジスタTn10のドレインは昇圧回路19aの出力端子に接続され、NMOSトランジスタTn10のソースはグランドGNDに接続されている。高電圧発生部19から供給される高電圧VPPが目標の電圧値になるように、比較器21の出力信号COMにより、NMOSトランジスタTn10がオン・オフされる。
【0035】
具体的に、昇圧回路19aの昇圧動作による高電圧VPPが目標の電圧値(例えば、10V)以上になると、容量C1,C2による分圧電圧divが基準電圧Vref(例えば、1.3V)以上になり、比較器21の出力信号COMの電圧レベルが高くなる。高電圧VPPが目標の電圧値になるように、比較器21の出力信号COMによりNMOSトランジスタTn10がオンされる。
【0036】
本実施形態の電圧検出回路17には、電圧検出の開始時に分圧電圧divを初期化するための素子として、2つのNMOSトランジスタTn1,Tn2が設けられている。NMOSトランジスタTn1,Tn2は、容量C1,C2の接続部(第1接続部)N1とグランドGNDとの間において直列に接続されている。
【0037】
NMOSトランジスタTn2のゲートには、リセット発生回路16からのリセット信号(第1制御信号)RSTが供給され、NMOSトランジスタTn1のゲートには、制御回路22のリセット信号(第2制御信号)RSTAが供給される。制御回路22では、リセット信号RSTと比較器21の出力信号COMとに基づいてリセット信号RSTAが生成される。
【0038】
図3には、制御回路22の回路図を示す。
制御回路22は、PMOSトランジスタTp11,Tp12、NMOSトランジスタTn11、インバータ回路23,24,25とにより構成されている。リセット発生回路16からのリセット信号RSTは、インバータ回路23を介してPMOSトランジスタTp11のゲートに供給され、比較器21の出力信号COMは、NMOSトランジスタTn11のゲートに供給される。
【0039】
PMOSトランジスタTp11とNMOSトランジスタTn11は直列に接続され、PMOSトランジスタTp11のソースが電源VCCに接続され、NMOSトランジスタTn11のソースがグランドGNDに接続されている。また、各トランジスタTp11,Tn11の接続部には、PMOSトランジスタTp12のドレインが接続され、トランジスタTp12のソースは電源VCCに接続されている。
【0040】
各トランジスタTp11,Tp12,Tn11の接続部は、インバータ回路24を介してPMOSトランジスタTp12のゲートに接続されており、各トランジスタTp11,Tp12,Tn11の接続部の電位レベルがインバータ回路24で反転され、PMOSトランジスタTp12のゲートに供給される。また、各トランジスタTp11,Tp12,Tn11の接続部の電位レベルが、2つのインバータ回路24,25を介してリセット信号RSTAとして出力される。
【0041】
次に、本実施形態における電圧検出回路17の動作について説明する。
図4に示すように、高電圧VPPの検出開始時には、Hレベルのリセット信号RSTがリセット発生回路16から出力される。またこのとき、比較器21の出力信号COMはLレベルになっているので、制御回路22において、PMOSトランジスタTp11がオン、NMOSトランジスタTn11がオフする。そのため、制御回路22からHレベルのリセット信号RSTAが出力される。
【0042】
従って、電圧検出回路17において、Hレベルのリセット信号RST,RSTAにより各NMOSトランジスタTn1,Tn2がオンされるため、各容量C1,C2による分圧電圧divが初期電位としての接地電位(0V)に初期化される。
【0043】
時刻t1において、リセット信号RSTがLレベルに変化すると、制御回路22におけるPMOSトランジスタTp11がオフされる。このとき、PMOSトランジスタTp12はオン、NMOSトランジスタTn11はオフであるため、制御回路22からHレベルのリセット信号RSTAが出力される。
【0044】
従って、電圧検出回路17において、Hレベルのリセット信号RSTAによりトランジスタTn1がオンされ、Lレベルのリセット信号RSTによりトランジスタTn2がオフされる。トランジスタTn2がオフされることにより、各容量C1,C2の接続部N1がフローティング状態となり、各容量C1,C2による分圧電圧divは高電圧VPPに応じて変化する。
【0045】
また、時刻t1において、高電圧発生部19の昇圧回路19aが活性化され、昇圧回路19aによる昇圧動作が開始される。そのため、時刻t1以降では、昇圧回路19aの出力電圧である高電圧VPPが徐々に上昇される。各容量C1,C2による分圧電圧divも、容量比に応じた変化度合で上昇される。
【0046】
時刻t1〜t2(分圧電圧divが上昇している期間)では、トランジスタTn1がオンされているため、各トランジスタTn1,Tn2の接続部(第2接続部)N2の電位レベルは、分圧電圧divと等しい。
【0047】
時刻t2において、高電圧VPPが目標の電圧値に達して分圧電圧divが基準電圧Vrefになると、比較器21の出力信号COMがLレベルからHレベルに変化する。このとき、制御回路22では、Hレベルの出力信号COMにより、NMOSトランジスタTn11がオンされる。そのため、制御回路22から出力されるリセット信号RSTAは、HレベルからLレベルに変化する。
【0048】
Lレベルのリセット信号RSTAによりトランジスタTn1がオフされる。時刻t2の直後では、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2と分圧電圧divとがほぼ等しいため、NMOSトランジスタTn1を介したオフリーク電流は殆ど流れない。一方、NMOSトランジスタTn2では、ソース・ドレイン間に分圧電圧divとほぼ等しい電圧が印加されるため、その電圧に応じたオフリーク電流が流れる。このため、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位レベルが徐々に低下していく。
【0049】
本実施形態の電圧検出回路17では、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位レベルが低下するまでは、NMOSトランジスタTn1を介したオフリーク電流は流れない。よって、オフリーク電流により分圧電圧divが低下する(高電圧VPPが目標の電圧値からずれる)までの時間が十分に確保される。具体的には、データの書き込み動作のために高電圧VPPを印加する必要がある電圧印加期間にて、オフリーク電流による分圧電圧divの低下を防止することが可能となり、半導体記憶装置11におけるデータの書き込み特性の信頼性が向上される。
次に、本発明の第1実施形態における電圧検出回路17の特徴を以下に記載する。
(1)各容量C1,C2の接続部N1には、2つのNMOSトランジスタTn1,Tn2が直列接続され、各トランジスタTn1,Tn2がオン(活性化)されることで、分圧電圧(接続部N1の電圧)divが接地電位にリセットされる。その後、グランド側のトランジスタTn2がオフ(非活性化)され、高電圧VPPに応じて分圧電圧divが上昇され、分圧電圧divが基準電圧Vrefに達したときに、トランジスタTn1がオフ(非活性化)される。このようにすれば、トランジスタTn2のオフリーク電流により各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位レベルが低下するまでは、NMOSトランジスタTn1を介したオフリーク電流は流れない。そのため、分圧電圧divが低下し高電圧VPPが目標の電圧値からずれるまでの時間を十分に確保することができる。従って、半導体記憶装置11における高電圧印加期間にて、電圧検出回路17による電圧検出を的確に行うことができる。
【0050】
(2)制御回路22において、トランジスタTn2を制御するためのリセット信号RSTと比較器21の出力信号COMに基づいて、トランジスタTn1を制御するためのリセット信号RSTAが生成される。具体的に、制御回路22では、高電圧VPPが目標の電圧値に達して出力信号COMがHレベルになるタイミング(図4の時刻t2)で、リセット信号RSTAがHレベルからLレベルに反転される。このようにすれば、トランジスタTn1,Tn2の接続部N2の電位を基準電圧Vrefと等しくすることができるので、トランジスタTn1のオフリーク電流が流れるタイミング(分圧電圧divの低下が始まる時刻)を遅らせる上で好ましいものとなる。
【0051】
(3)半導体記憶装置11において、データの書き込み時に適切な高電圧VPPが生成されることにより、データの書き込み特性の信頼性を向上することができる。
【0052】
以下、本発明を具体化した第2実施形態を図5〜図7に従って説明する。なお、本実施形態において、上述した第1実施形態の構成と同等であるものについては図面に同一の記号を付すと共にその説明を簡略化する。以下には第1実施形態との相違点を中心に説明する。
【0053】
図5に示すように、本実施形態の電圧検出回路17aでは、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2が第3容量としての容量C3を介してグランドGNDに接続されている。また、各容量C1,C2の接続部N1には、第3トランジスタとしてのNMOSトランジスタTn3のドレインが接続され、NMOSトランジスタTn3のソースは第4容量としての容量C4を介してグランドに接続されている。NMOSトランジスタTn3のゲートにはリセット信号RSTABが供給される。
【0054】
電圧検出回路17aでは、各トランジスタTn1,Tn2の接続部N2に容量C3を付加することにより、オフリーク電流による分圧電圧divの低下が防止される。ここで、容量C3と容量C4とは同じ容量値であり、トランジスタTn1をオフするときにトランジスタTn3をオンすることで、容量C3の代わりに容量C4が接続部N1に接続され、接続部N1における分圧電圧divの変動が防止される。
【0055】
図6には、本実施形態の制御回路22aを示している。制御回路22aは、図3の制御回路22に対してインバータ回路26とオア回路27とを追加したものである。
【0056】
詳しくは、インバータ回路25から出力されるリセット信号RSTAがインバータ回路26を介してオア回路27の第1入力端子に供給され、オア回路27の第2入力端子にはリセット信号RSTが供給される。オア回路27の出力端子からリセット信号RSTABが出力される。
【0057】
従って、図7に示すように、時刻t1以前でリセット信号RST,RSTAがHレベルであるときには、リセット信号RSTABもHレベルになる。この場合、電圧検出回路17aにおいて、各トランジスタTn1,Tn2,Tn3は全てオンして分圧電圧divの初期化が行われる。
【0058】
時刻t1〜t2では、リセット信号RSTがLレベル、リセット信号RSTAがHレベルであるため、リセット信号RSTABがLレベルである。また、時刻t2にて、リセット信号RSTAがLレベルに変化することにより、リセット信号RSTABがHレベルに変化する。
【0059】
時刻t1以降(電圧検出の開始後)において、リセット信号RSTABは、リセット信号RSTAに対して論理レベルを反転した信号(反転制御信号)である。リセット信号RSTAとリセット信号RSTABとに基づいて、トランジスタTn1とトランジスタTn3がオン・オフされることで、容量C3と容量C4とが交互に接続部N1に接続されることになる。
【0060】
因みに、分圧電圧divが基準電圧Vrefと等しくなる時刻t2では下記の関係式が成り立つ。
C1×(VPP−Vref)=(C2+C3)×Vref
【0061】
また、時刻t2以降で容量C3の代わりに容量C4が接続される場合、下記の関係式が成り立つ。
C1×(VPP−Vref)=(C2+C4)×Vref
【0062】
上記の各関係式から高電圧VPPを求めると、
VPP=(C2+C3)×Vref/C1+Vref
VPP=(C2+C4)×Vref/C1+Vref
となる。
【0063】
次に、本発明の第2実施形態の特徴を以下に記載する。
(1)トランジスタTn1とトランジスタTn2との接続部N2に容量C3を付加したので、トランジスタTn2のオフリーク電流による接続部N2の電位レベルの低下が遅くなり、トランジスタTn1のオフリーク電流が流れ分圧電圧divの低下が始まる時刻を遅らせることが可能となる。
【0064】
(2)トランジスタTn1をオフして容量C1,C2の接続部N1から容量C3を切り離すとき(時刻t2)、トランジスタTn3をオンして接続部N1に容量C4を接続するようにしたので、接続部N1の分圧電圧divの変動を防止することができる。
【0065】
以下、本発明を具体化した第3実施形態を図8及び図9に従って説明する。なお、本実施形態においても、上述した第1実施形態の構成と同等であるものについては図面に同一の記号を付している。
図8に示すように、本実施形態の電圧検出回路17bでは、各容量C1,C2の分圧電圧divを初期化するための素子として、PMOSトランジスタTp1が設けられている。PMOSトランジスタTp1のソースには分圧電圧divが供給され、そのドレインはグランドGNDに接続されている。また、PMOSトランジスタTp1のゲートには制御回路22bからのリセット信号(制御信号)RSTB1が供給される。
【0066】
制御回路22bは、PMOSトランジスタTp2,Tp3と容量C5とインバータ回路28とを備える。制御回路22bにおいて、インバータ回路28にはリセット信号RSTが供給されている。該インバータ回路28の出力信号は容量C5を介してPMOSトランジスタTp1のゲートに供給される。インバータ回路28の電源端子には高電圧VPPが供給されている。従って、インバータ回路28の出力信号は、リセット信号RSTよりも振幅が大きい。
【0067】
PMOSトランジスタTp1のゲートと容量C5との間に、PMOSトランジスタTp2のソースが接続され、該PMOSトランジスタTp2のドレインは低電位側電源VSSに接続されている。PMOSトランジスタTp2のゲートには、リセット信号RSTの論理レベルを反転した信号RSTBが供給される。
【0068】
また、PMOSトランジスタTp1のゲートと容量C5との間に、PMOSトランジスタTp3のドレインが接続され、該PMOSトランジスタTp3のソースは高電位側電源VCCに接続されている。PMOSトランジスタTp3のゲートには、リセット信号RSTが供給される。
【0069】
PMOSトランジスタTp2は、PMOSトランジスタTp1のゲートを低電位レベルにディスチャージするディスチャージ素子であり、PMOSトランジスタTp3は、PMOSトランジスタTp1のゲートを高電位レベルにチャージするチャージ素子である。
【0070】
図9に示すように、高電圧VPPの検出開始の直前(時刻t0)には、リセット信号RSTがLレベルからHレベルに変化する。このとき、PMOSトランジスタTp2はオンし、PMOSトランジスタTp3がオフする。そのため、PMOSトランジスタTp1のゲート(リセット信号RSTB1)の電位レベルは、高電位側電源VCCから低電位側電源VSSの電位レベルにディスチャージされるとともに、容量C5のカップリングにより負電位レベルに変化する。負電位レベルのリセット信号RSTB1により、トランジスタTp1をオンさせることで、容量C1,C2による分圧電圧divの電位レベルが接地電位(0V)に初期化される。
【0071】
時刻t1にてリセット信号RSTがHレベルからLレベルに反転すると、PMOSトランジスタTp2はオフし、PMOSトランジスタTp3がオンするため、PMOSトランジスタTp1のゲート(リセット信号RSTB1)は、負電位から高電位側電源VCCの電位レベルにチャージされる。リセット信号RSTB1により、PMOSトランジスタTp1が完全にカットオフされる。このとき、リセット信号RSTB1は分圧電圧divよりも高い電圧となり、信号RSTB1によりPMOSトランジスタTp1をオフに制御しているので、オフリーク電流も無視できるほど小さくなる。
【0072】
次に、本発明の第3実施形態における電圧検出回路17bの特徴を以下に記載する。
(1)各容量C1,C2の分圧電圧divを初期化するための素子として、PMOSトランジスタTp1を用いたので、NMOSトランジスタを用いる場合と比較してオフリーク電流を1/10程度に低減することができる。よって、分圧電圧divの変動が抑制され、電圧検出回路17bによる電圧検出を的確に行うことができる。
【0073】
(2)PMOSトランジスタTp1により各容量C1,C2の分圧電圧divを接地電位(0V)にリセットする場合、トランジスタTp1のゲートを接地電位としたとしても、トランジスタTp1におけるしきい値特性の影響で、分圧電圧divを接地電位(0V)に完全にリセットすることができない。これに対し、本実施形態では、制御回路22bにおいて、セルフブーストにより接地電位よりも低い負電圧を生成するよう構成し、制御回路22bから出力される負電圧のリセット信号RSRB1により、トランジスタTp1をオン(活性化)させるようにした。このようにすれば、分圧電圧divを理想的な初期電位である接地電位(0V)にリセットすることができる。
【0074】
以下、本発明を具体化した第4実施形態を説明する。
図10は、本実施形態の電圧検出回路17cを示し、図11は、電圧検出回路17cの動作波形図を示している。
【0075】
電圧検出回路17cは、負電圧発生部20で生成される負電圧VBBを検出するための回路であり、容量C1,C2と比較器21とPMOSトランジスタTp1とを備える。負電圧VBBは容量C1,C2により分圧され、分圧電圧divが比較器21に供給される。比較器21は、分圧電圧divと第1基準電圧Vref1とを比較し、比較結果に応じた出力信号COMを生成する。
【0076】
PMOSトランジスタTp1のドレインが各容量C1,C2の接続部N1に接続され、該PMOSトランジスタTp1のソースには第2基準電圧Vref2が供給される。PMOSトランジスタTp1のゲートにはリセット信号RSTが供給される。
【0077】
第4実施形態において、比較器21に供給される第1基準電圧Vref1は、例えば0Vであり、PMOSトランジスタTp1のソースに供給される第2基準電圧Vref2は、例えば1.3Vである。つまり、電圧検出回路17cは、接続部N1での分圧電圧divが接地電位(0V)よりも高い電位(1.3V)から電圧検出動作を開始する回路である。
【0078】
具体的には、図11に示すように、負電圧VBBの検出開始時において、Lレベルのリセット信号RSTがPMOSトランジスタTp1のゲートに供給される。リセット信号RSTによりPMOSトランジスタTp1がオンされ、各容量C1,C2による分圧電圧divが第2基準電圧Vref2(1.3V)に初期化される。
【0079】
時刻t1において、リセット信号RSTがHレベルに変化し、リセット信号RSTによってPMOSトランジスタTp1がオフされることで、各容量C1,C2の接続部N1がフローティング状態となる。このとき、電圧発生回路18の負電圧発生部20が活性化されて、負電圧VBBの電圧値がマイナス側に徐々に変化するため、各容量C1,C2による分圧電圧divも負電圧VBBに応じて変化する。
【0080】
時刻t2において、負電圧VBBが目標の電圧値(例えば、−10V)に達して分圧電圧divが第1基準電圧Vref1(0V)まで減少すると、比較器21の出力信号COMがLレベルからHレベルに変化する。出力信号COMに従って、負電圧発生部20の負電圧VBBが所望の電圧値(例えば、−10V)となるように負電圧発生部20が制御される。
【0081】
次に、本発明の第4実施形態における電圧検出回路17cの特徴を以下に記載する。
(1)各容量C1,C2の分圧電圧divを初期化するための素子として、PMOSトランジスタTp1を用いたので、NMOSトランジスタを用いる場合と比較してオフリーク電流を1/10程度に低減することができる。よって、分圧電圧divの変動が抑制され、電圧検出回路17cによる電圧検出を的確に行うことができる。
【0082】
以下、本発明を具体化した第5実施形態を図面に従って説明する。
図12は、第5実施形態の電圧検出回路17dを示す。
電圧検出回路17dは、高電圧発生部19で生成される高電圧VPPを検出するための回路であり、容量C1,C2と比較器21とNMOSトランジスタTn1とCMOSのインバータ回路29とを備える。
【0083】
高電圧VPPは容量C1,C2により分圧され、分圧電圧divが比較器21に供給される。比較器21は、分圧電圧divと基準電圧Vref(1.3V)とを比較し、比較結果に応じた電位レベルの出力信号COMを生成する。
【0084】
NMOSトランジスタTn1のドレインが各容量C1,C2の接続部N1に接続され、そのゲートは、インバータ回路29を介してNMOSトランジスタTn1のソースに電気的に接続されている。
【0085】
NMOSトランジスタTn1のゲートにはリセット信号RSTが供給され、そのソースには、リセット信号RSTがインバータ回路29を介して反転されて供給される。インバータ回路29の出力信号の振幅は、例えば、1.8V(Hレベル=1.8V、Lレベル=0V)である。
【0086】
高電圧VPPの検出開始時において、Hレベルのリセット信号RSTによりNMOSトランジスタTn1がオンされる。このとき、インバータ回路29の出力信号はLレベル(接地電位=0V)であるため、分圧電圧divが接地電位に初期化される。
【0087】
その後、Lレベルのリセット信号RSTによりNMOSトランジスタTn1がオフされ、分圧電圧divが高電圧VPPに応じて変化される。このとき、インバータ回路29の出力信号はHレベル(1.8V)に変化し、Hレベルの信号がNMOSトランジスタTn1のソースに供給される。そのため、NMOSトランジスタTn1のソース・ドレイン間に加わる電圧が低減され、該トランジスタTn1におけるオフリーク電流が低減される。
【0088】
次に、本発明の第5実施形態の電圧検出回路17dの特徴を以下に記載する。
(1)分圧電圧divのリセット後にNMOSトランジスタTn1をオフ(非活性化)させているときには、トランジスタTn1のソースに分圧電圧divよりも高い電圧が供給される。このようにすれば、該トランジスタTn1におけるオフリーク電流が低減されるので、電圧検出回路17dによる電圧検出を的確に行うことができる。
【0089】
上記各実施形態は以下のように変更してもよい。
・第1及び第2実施形態の電圧検出回路17,17aでは、容量C1,C2の接続部N1に2つのトランジスタTn1,Tn2を直列接続した構成(2段構成)を採用したが、それ以上のトランジスタを直列接続した複数段構成としてもよい。なお、電圧検出回路では、グランドGND側のトランジスタから順次オフさせるように制御する。また、トランジスタを複数段にする場合、リーク電流は減少するが、分圧電圧divを接地電位にリセットするスピードが遅くなるため、それを考慮してトランジスタの数を設定する。
【0090】
・上記第2実施形態の電圧検出回路17aにおいて、NMOSトランジスタTn3をPMOSトランジスタに代えてもよい。この場合、PMOSトランジスタのゲートに供給する制御信号としてリセット信号RSTAを用いる。
・第5実施形態において、NMOSトランジスタTn1をオフさせるとき、そのソースに、分圧電圧divよりも高い電圧に代えて、分圧電圧divと等しい電圧を供給するようにしてもよい。
【0091】
・上記各実施形態では、記憶部としてメモリセルアレイ13を備えた半導体記憶装置(不揮発性メモリ)11に具体化したが、これに限定されるものではなく、メモリセルアレイ13を備えない半導体装置に適用してもよい。勿論、不揮発性メモリ以外の半導体記憶装置、例えばDRAM等に適用してもよい。
【0092】
上記各実施の形態から把握できる技術的思想を以下に記載する。
(付記1) 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタと、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタが活性化されることにより、前記第1接続部の電位が初期電位に初期化されるものであり、前記第1トランジスタに接続され、前記第1接続部の電位の初期化の後、前記第2トランジスタよりも遅れて前記第1トランジスタを非活性化させるための第1制御信号を生成する制御回路とを備える電圧検出回路。
(付記2) 前記制御回路は、前記第2トランジスタが非活性化された後であって、前記出力電圧に応じて前記第1接続部の電位が所定電位に達したときに、前記第1制御信号を生成する付記1に記載の電圧検出回路。
(付記3) 前記分圧電圧を基準電圧と比較することにより、前記出力電圧が前記所定電圧に達したことを判定する判定回路をさらに備え、前記制御回路は、前記第2トランジスタを制御するための第2制御信号と前記判定回路の出力信号とに従って、前記第1制御信号を生成する付記1に記載の電圧検出回路。
(付記4) 前記第1トランジスタと第2トランジスタとの間の第2接続部とグランドとの間に接続された第3容量と、前記第1接続部に接続された第3トランジスタと、前記第3トランジスタとグランドとの間に接続された第4容量とをさらに備える付記1に記載の電圧検出回路。
(付記5) 前記制御回路は、前記第1制御信号の反転信号を生成し、前記反転信号を前記第3トランジスタに供給する付記4に記載の電圧検出回路。
(付記6) 前記第3容量と第4容量とは、同一の容量値を有する付記4に記載の電圧検出回路。
(付記7) 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、前記接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと、前記トランジスタに接続され、前記接続部の電位が初期化される時に、前記初期電位よりも低い負電位を有する制御信号を生成し、前記制御信号により前記トランジスタを活性化させる制御回路とを備える電圧検出回路。
(付記8) 前記制御回路は、前記トランジスタのゲートを高電位レベルにチャージするチャージ素子と、前記ゲートを低電位レベルにディスチャージするディスチャージ素子とを含む付記7に記載の電圧検出回路。
(付記9) 前記チャージ素子とディスチャージ素子は、互いに逆相の信号を受け取る付記8に記載の電圧検出回路。
(付記10) 前記制御回路は、前記トランジスタのゲートに負電圧を供給するための容量を含む付記7に記載の電圧検出回路。
(付記11) 前記容量には、前記接続部の電位を初期化するための制御信号が供給される付記10に記載の電圧検出回路。
(付記12) 前記トランジスタが非活性化される時、該トランジスタのゲート電位を前記接続部の電位よりも高くする付記7に記載の電圧検出回路。
(付記13) 前記トランジスタは、PMOSトランジスタである付記7〜12のいずれかに記載の電圧検出回路。
(付記14) 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の発生した負電圧を検出する電圧検出回路であって、前記負電圧を受け取り、前記負電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタとを備え、前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記初期電位を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される電圧検出回路。
(付記15) 前記トランジスタが非活性化される時、前記制御信号の電位を前記初期電位よりも高くする付記14に記載の電圧検出回路。
(付記16) 前記トランジスタは、PMOSトランジスタである付記14又は15に記載の電圧検出回路。
(付記17) 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタとを備え、前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記制御信号の反転信号を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される電圧検出回路。
(付記18) 前記トランジスタのゲートとソースの間に接続され、前記反転信号を生成し、前記反転信号を前記ソースに供給するインバータ回路を、さらに備える付記17に記載の電圧検出回路。
(付記19) 付記1〜18のいずれかに記載の電圧検出回路と、前記電圧発生回路とを備える半導体装置。
(付記20) データを格納するための記憶回路をさらに備え、前記記憶回路は、前記電圧発生回路で発生された電圧を用いて、データの書き込み、あるいは消去を行う付記19に記載の半導体装置。
(付記21) 前記記憶回路は、不揮発性のメモリセルを含む付記20に記載の半導体装置。
(付記22) 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタとを含み、該方法は、前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記第1トランジスタと第2トランジスタとを活性化させて、前記第1接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記第1接続部の電位の初期化の後に、前記第2トランジスタのみを非活性化させて、前記第1トランジスタと第2トランジスタとの間の第2接続部の電位を前記第1接続部の電位と等しくするステップと、前記電圧発生回路の出力電圧に応じて前記第1接続部の電位が所定電位に達したときに、前記第1トランジスタを非活性化させるステップとを備える電圧検出回路の制御方法。
(付記23) 前記第1容量及び第2容量による分圧電圧を基準電圧と比較することで、前記電圧発生回路の出力電圧が目標の電圧値に達したかどうかを判定するステップを、さらに備え、前記第1トランジスタを非活性化させるステップは、前記判定に従って前記第1トランジスタを非活性化させる付記22に記載の電圧検出回路の制御方法。
(付記24) 前記電圧検出回路は、さらに、前記第2接続部に接続された第3容量と、前記第1接続部に接続された第3トランジスタと、前記第3トランジスタ接続された第4容量とを含み、該方法はさらに、前記第1トランジスタを非活性化させることで、前記第3容量を前記第1接続部から電気的に切り離すステップと、前記第3トランジスタを活性化させることで、前記切り離された第3容量の代わりに前記第4容量を前記第1接続部に電気的に接続するステップとを備える付記22に記載の電圧検出回路の制御方法。
(付記25) 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップとを備え、前記初期化するステップは、前記初期電位よりも低い負電位の制御信号を生成し、該制御信号を前記トランジスタのゲートに供給する電圧検出回路の制御方法。
(付記26) 前記トランジスタのゲートを高電位レベルにチャージするチャージ素子と、前記ゲートを低電位レベルにディスチャージするディスチャージ素子とを互いに逆相の信号により制御するステップを、さらに備える付記25に記載の電圧検出回路の制御方法。
(付記27) 前記トランジスタが非活性化される時、該トランジスタのゲート電位を前記接続部の電位よりも高くするステップを、さらに備える付記26に記載の電圧検出回路の制御方法。
(付記28) 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記接続部の電位の初期化の後に、前記初期電位よりも高い電位を前記トランジスタのゲートに供給して該トランジスタを非活性化するステップとを備える電圧検出回路の制御方法。
(付記29) 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、前記接続部の電位の初期化の後であって、前記トランジスタが非活性化された時、前記トランジスタのソースに前記接続部と同電位もしくはそれよりも高い電位を供給するステップとを備える電圧検出回路の制御方法。
(付記30) 前記トランジスタのソース電位を、該トランジスタのゲートに供給される制御信号の反転信号によって制御するステップを、さらに備える付記29に記載の電圧検出回路の制御方法。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態における半導体装置を示す概略的なブロック図である。
【図2】図1の半導体装置における電圧検出回路の概略的な回路図である。
【図3】図2の制御回路の概略的な回路図である。
【図4】図2の電圧検出回路の動作波形図である。
【図5】本発明の第2実施形態における電圧検出回路の概略的な回路図である。
【図6】本発明の第2実施形態における制御回路の概略的な回路図である。
【図7】図5の電圧検出回路の動作波形図である。
【図8】本発明の第3実施形態における電圧検出回路の回路図である。
【図9】図8の電圧検出回路の動作波形図である。
【図10】本発明の第4実施形態における電圧検出回路の回路図である。
【図11】図10の電圧検出回路の動作波形図である。
【図12】本発明の第5実施形態における電圧検出回路の回路図である。
【図13】従来の電圧検出回路の概略的な回路図である。
【図14】図13の電圧検出回路の動作波形図である。
[Document Name] Description
[Claims]
1. A voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit for detecting an output voltage of the voltage generation circuit, comprising:
  A first capacitor and a second capacitor connected in series to receive the output voltage and generate a divided voltage according to the output voltage;
  A first transistor connected to a first connection between the first capacitor and the second capacitor;
  A second transistor connected in series to the first transistor;
  When the first transistor and the second transistor are activated, the potential of the first connection portion is initialized to an initial potential.
  A control circuit that is connected to the first transistor and generates a first control signal for deactivating the first transistor after the initialization of the potential of the first connection portion after the second transistor;
  A voltage detection circuit comprising:
[Claim 2] A voltage detection circuit connected to the voltage generation circuit for detecting an output voltage of the voltage generation circuit;
A first capacitor and a second capacitor connected in series to receive the output voltage and generate a divided voltage according to the output voltage;
A transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and initializing a potential of the connection portion to an initial potential;
A control circuit connected to the transistor and generating a control signal having a negative potential lower than the initial potential when the potential of the connection portion is initialized, and activating the transistor by the control signal;
A voltage detection circuit comprising:
[Claim 3] A voltage detection circuit connected to the voltage generation circuit for detecting a negative voltage generated by the voltage generation circuit;
A first capacitor and a second capacitor connected in series for receiving the negative voltage and generating a divided voltage according to the negative voltage;
A transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and initializing a potential of the connection portion to an initial potential;
With
A voltage detection circuit in which a gate of the transistor receives a control signal, a source thereof receives the initial potential, and a drain thereof connected to the connection portion.
[Claim 4] A voltage detection circuit connected to the voltage generation circuit for detecting an output voltage of the voltage generation circuit;
A first capacitor and a second capacitor connected in series to receive the output voltage and generate a divided voltage according to the output voltage;
A transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and initializing a potential of the connection portion to an initial potential;
With
A voltage detection circuit in which a gate of the transistor receives a control signal, a source thereof receives an inverted signal of the control signal, and a drain connected to the connection portion.
[Claim 5] A semiconductor device comprising the voltage detection circuit according to claim 1 and the voltage generation circuit.
[Claim 6] A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a first transistor connected to a first connection between the first capacitor and the second capacitor, and a second transistor connected in series to the first transistor, the method comprising:
Using the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit;
Activating the first transistor and the second transistor to initialize the potential of the first connection portion to an initial potential;
After the initialization of the potential of the first connection portion, only the second transistor is deactivated, and the potential of the second connection portion between the first transistor and the second transistor is set to the first connection portion. Making the potential equal;
Deactivating the first transistor when the potential of the first connection portion reaches a predetermined potential according to the output voltage of the voltage generation circuit;
A method for controlling a voltage detection circuit comprising:
[Claim 7] A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, the method comprising:
Using the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit;
Activating the transistor and initializing the potential of the connection portion to an initial potential,
The initialization step is a method for controlling a voltage detection circuit that generates a control signal having a negative potential lower than the initial potential and supplies the control signal to the gate of the transistor.
[Claim 8] A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, the method comprising:
Using the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit;
Activating the transistor to initialize the potential of the connection portion to an initial potential;
Supplying a potential higher than the initial potential to the gate of the transistor after the potential of the connection portion is initialized, and deactivating the transistor;
A method for controlling a voltage detection circuit comprising:
[Claim 9] A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, the method comprising:
Using the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit;
Activating the transistor to initialize the potential of the connection portion to an initial potential;
After initialization of the potential of the connection portion, when the transistor is deactivated, supplying a potential equal to or higher than that of the connection portion to the source of the transistor;
A method for controlling a voltage detection circuit comprising:
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
[0001]
  (Technical field)
  The present invention relates to a voltage detection circuit that detects an output voltage of a voltage generation circuit mounted on a semiconductor device, a semiconductor device, and a control method for the voltage detection circuit.
  Some semiconductor devices include a voltage generation circuit that generates an internal voltage different from a power supply voltage supplied from the outside and supplies the internal voltage to the internal circuit. The semiconductor device is provided with a voltage detection circuit that detects the output voltage of the voltage generation circuit. Specifically, the voltage detection circuit compares the divided voltage corresponding to the output voltage of the voltage generation circuit with the reference voltage, and detects that the output voltage has reached the target voltage level based on the comparison result. In a voltage detection circuit, a voltage detection resistor is generally used as an element for generating a divided voltage. However, since a current always flows through the voltage dividing resistor, a voltage detection circuit using a capacitor instead of the voltage dividing resistor has been put into practical use in a semiconductor device (for example, a nonvolatile memory) that requires low power consumption. . In the voltage detection circuit, a technique for accurately detecting the voltage based on the capacitance ratio is required.
[0002]
  (Background technology)
  FIG. 13 shows a conventional voltage detection circuit 31, and FIG. 14 shows an operation waveform diagram thereof.
[0003]
  The voltage detection circuit 31 is a circuit for detecting the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32 and controlling the voltage VPP to be a target voltage value. The voltage detection circuit 31 includes two capacitors (capacitors) C1 and C2, which are connected in series, a comparator 21, and an NMOS transistor Tn1.
[0004]
  The capacitors C1 and C2 are provided to divide the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32. A divided voltage (voltage at the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2) div by the capacitors C1 and C2 is supplied to the non-inverting input terminal of the comparator 21, and a reference voltage Vref (for example, 1.3 V) is supplied. It is supplied to the inverting input terminal of the comparator 21.
[0005]
  The drain of the NMOS transistor Tn1 is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the source of the transistor Tn1 is connected to the ground GND. The reset signal RST is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn1.
[0006]
  As shown in FIG. 14, at the start of voltage detection by the voltage detection circuit 31, the NMOS transistor Tn1 is turned on by the H level reset signal RST, and the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is initially set to the ground potential (0 V). It becomes. At time t1, the reset signal RST is inverted to L level and the transistor Tn1 is turned off, so that the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 enters a floating state. After time t1, the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 changes according to the output voltage VPP. That is, when the output voltage VPP increases with the boosting operation in the voltage generation circuit 32, the divided voltage div also increases with the degree of change corresponding to the capacitance ratio of the capacitors C1 and C2.
[0007]
  The comparator 21 compares the divided voltage div with the reference voltage Vref and outputs an output signal COM having a voltage level corresponding to the comparison result. That is, the comparator 21 outputs an L level output signal COM when the divided voltage div is lower than the reference voltage Vref, and outputs an H level output signal COM when the divided voltage div becomes equal to or higher than the reference voltage Vref. To do. Based on the output signal COM, the output voltage of the voltage generation circuit 32 is controlled to become a target voltage value.
[0008]
  As described above, a voltage detection circuit that performs voltage detection based on a capacitance ratio is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-51538.
    [Patent Document 1] Japanese Patent Laid-Open No. 2002-51538
[0009]
  By the way, in a nonvolatile semiconductor memory device, data writing and erasing are performed using semiconductor properties of breakdown characteristics and tunneling characteristics. Specifically, in a nonvolatile memory, a high voltage (for example, 10V) or a negative voltage (for example, −10V) higher than a power supply voltage (for example, 3V) is generated by a voltage generation circuit, and the high voltage or the negative voltage is Data is written or erased by applying the voltage to a line or the like.
[0010]
  In the nonvolatile memory, the voltage detection circuit 31 having the circuit configuration shown in FIG. 13 is used to control the output voltage of the voltage generation circuit to a predetermined voltage (high voltage = 10 V, negative voltage = −10 V). Since the voltage detection circuit 31 is configured to detect voltage based on the capacitance ratio, power consumption is reduced compared to a voltage detection circuit that detects voltage based on the resistance ratio.
[0011]
  However, in the voltage detection circuit 31, the output voltage VPP fluctuates due to the tailing current (referred to as subthreshold current or off-leakage current) flowing through the NMOS transistor Tn1 for initializing the divided voltage div. Occurs.
[0012]
  Specifically, when the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32 reaches a target voltage value, the divided voltage div in the voltage detection circuit 31 becomes equal to the reference voltage Vref (1.3 V). At this time, the transistor Tn1 is turned off by the L level reset signal RST, but since a divided voltage div equal to the reference voltage Vref is applied between the source and the drain, a minute leak current flows. As described above, the off-leakage current flows through the transistor Tn1, so that the divided voltage div becomes lower than the reference voltage Vref. In this case, since the voltage generation circuit 32 continues the boosting operation even when the output voltage VPP reaches the target voltage value, the output voltage VPP becomes higher than necessary.
[0013]
  Such a phenomenon does not pose a problem if the voltage detection operation time in the voltage detection circuit 31 is relatively short with respect to the decrease in the output voltage VPP due to the off-leakage current. However, a data write operation and an erase operation in the nonvolatile memory require a time (several tens of ms) that is several thousand times longer than a read operation time (several tens of ns). Therefore, in a semiconductor device that requires a long time for the voltage detection operation, such as a nonvolatile memory, there arises a problem that the output voltage VPP of the voltage generation circuit 32 becomes higher than necessary due to the off-leak current of the transistor Tn1. .
[0014]
  An object of the present invention is to provide a voltage detection circuit, a semiconductor device, and a voltage detection circuit control method capable of suppressing voltage fluctuation due to an off-leak current of a transistor and accurately performing voltage detection.
[0015]
  (Disclosure of the Invention)
  In a first aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting an output voltage of the voltage generation circuit is provided. The voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage corresponding to the output voltage, and a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a first between the first capacitor and the second capacitor. A first transistor connected to the connecting portion; a second transistor connected in series to the first transistor; and a control circuit. When the first transistor and the second transistor are activated, the potential of the first connection portion is initialized to the initial potential. The control circuit is connected to the first transistor and outputs a first control signal for deactivating the first transistor after initialization of the potential of the first connection portion after the second transistor. Generate.
[0016]
  In a second aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting an output voltage of the voltage generation circuit is provided. A voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage corresponding to the output voltage, and a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a connection between the first capacitor and the second capacitor A transistor that initializes the potential of the connection portion to an initial potential, and a control signal that is connected to the transistor and has a negative potential lower than the initial potential when the potential of the connection portion is initialized. And a control circuit that activates the transistor by the control signal.
[0017]
  In a third aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting a negative voltage generated by the voltage generation circuit is provided. The voltage detection circuit receives the negative voltage and generates a divided voltage corresponding to the negative voltage, and a connection between the first capacitor and the second capacitor connected in series, and the first capacitor and the second capacitor And a transistor that initializes the potential of the connection portion to an initial potential. The gate of the transistor receives a control signal, its source receives the initial potential, and its drain connected to the connection.
[0018]
  In a fourth aspect of the present invention, a voltage detection circuit connected to a voltage generation circuit and detecting an output voltage of the voltage generation circuit is provided. A voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage according to the output voltage, and a connection between the first capacitor and the second capacitor connected in series, and the first capacitor and the second capacitor And a transistor that initializes the potential of the connection portion to an initial potential. The gate of the transistor receives a control signal, its source receives an inverted signal of the control signal, and its drain is connected to the connection.
  The voltage detection circuit and the voltage generation circuit shown in the first to fourth aspects are preferably provided in a semiconductor device.
[0019]
  In a fifth aspect of the present invention, a method for controlling a voltage detection circuit is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, a first transistor connected to a first connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and a series connection to the first transistor. And a connected second transistor. The control method uses the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit, activates the first transistor and the second transistor, and After initializing the potential of the first connection portion to an initial potential, and after initializing the potential of the first connection portion, only the second transistor is deactivated, and the first transistor and the second transistor are When the potential of the first connection portion reaches a predetermined potential according to the output voltage of the voltage generation circuit, Deactivating the first transistor.
[0020]
  In a sixth aspect of the present invention, a method for controlling a voltage detection circuit is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor. The control method uses the first and second capacitors to generate a divided voltage corresponding to the output voltage of the voltage generation circuit, activates the transistor, and sets the potential of the connection portion to an initial potential. Initializing. The initializing step generates a control signal having a negative potential lower than the initial potential and supplies the control signal to the gate of the transistor.
[0021]
  In a seventh aspect of the present invention, a method for controlling a voltage detection circuit is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor. The control method includes a step of generating a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit using the first and second capacitors, activating the transistor, and setting the potential of the connection portion to an initial potential. And a step of supplying a potential higher than the initial potential to the gate of the transistor to inactivate the transistor after the initialization of the potential of the connection portion.
[0022]
  In an eighth aspect of the present invention, a voltage detection circuit control method is provided. The voltage detection circuit is provided inside the semiconductor device including the voltage generation circuit, and detects a voltage generated by the voltage generation circuit. The voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series, and a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor. The control method uses the first and second capacitors to generate a divided voltage corresponding to the output voltage of the voltage generation circuit, activates the transistor, and sets the potential of the connection portion to an initial potential. After the initializing step and initialization of the potential of the connection portion, when the transistor is deactivated, a potential equal to or higher than that of the connection portion is supplied to the source of the transistor. Steps.
[0023]
  (Best Mode for Carrying Out the Invention)
  Hereinafter, a first embodiment in which the present invention is embodied in a semiconductor memory device will be described with reference to the drawings.
[0024]
  FIG. 1 is a schematic block diagram of the semiconductor memory device 11. The semiconductor memory device 11 is a nonvolatile memory, and includes a memory access logic circuit 12, a memory cell array 13, an operation mode control circuit 14, and a power supply circuit 15. The power supply circuit 15 includes a reset generation circuit 16, a voltage detection circuit 17, and a voltage generation circuit 18.
  In the semiconductor memory device 11, the control signal CNTL and the address signal Add from the external device are supplied to the logic circuit 12 for memory access, and the control signal CNTL is supplied to the operation mode control circuit 14.
[0025]
  The logic circuit 12 for memory access includes a latch circuit that latches the address signal Add, a decoder that decodes the address signal Add, and the like. One of a plurality of memory cells provided in the memory cell array 13 is accessed by the decode signal generated by the logic circuit 12. In the present embodiment, the memory cells provided in the memory cell array 13 are nonvolatile memory cells.
[0026]
  The operation mode control circuit 14 controls the power supply circuit 15 based on the control signal CNTL. Examples of the control signal CNTL include signals such as a read command, a write command, and an erase command.
[0027]
  When the supplied control signal CNTL is a write command, the operation mode control circuit 14 activates the high voltage generation unit 19 in the voltage generation circuit 18 in response to the write command. At this time, the high voltage generator 19 of the voltage generator circuit 18 generates the high voltage VPP and supplies the high voltage VPP to the memory cell array 13.
[0028]
  When the control signal CNTL is an erase command, the operation mode control circuit 14 activates the negative voltage generator 20 in the voltage generator 18 in response to the erase command. At this time, the negative voltage generation unit 20 of the voltage generation circuit 18 generates a negative voltage VBB and supplies the negative voltage VBB to the memory cell array 13.
[0029]
  In the memory cell array 13, the high voltage VPP and the negative voltage VBB supplied from the voltage generation circuit 18 are supplied to a word line connected to the memory cell, a bit line, or a well layer constituting a MOS transistor. When the high voltage VPP and the negative voltage VBB are supplied, the data in the memory cell is written and erased.
[0030]
  In the semiconductor memory device 11, when a data write operation or an erase operation is started, a reset is generated prior to activating the high voltage generator 19 and the negative voltage generator 20 in the voltage generator 18. A reset signal RST is supplied from the circuit 16 to the voltage detection circuit 17. In accordance with the reset signal RST, the voltage detection operation in the voltage detection circuit 17 is initialized.
[0031]
  FIG. 2 shows the voltage detection circuit 17. In the figure, a circuit for detecting the high voltage VPP is shown, and a circuit for detecting the negative voltage VBB is not shown.
[0032]
  The voltage detection circuit 17 includes capacitors C1 and C2 as first and second capacitors, a comparator 21 as a determination circuit, a control circuit 22, and NMOS transistors Tn1 and Tn2 as first and second transistors. The high voltage VPP generated by the high voltage generator 19 is detected. The high voltage generator 19 includes a booster circuit 19a and an NMOS transistor Tn10.
[0033]
  In the voltage detection circuit 17, the configurations of the capacitors C1 and C2 and the comparator 21 are the same as those of the conventional voltage detection circuit 31 shown in FIG. That is, the capacitors C1 and C2 are connected in series, and the high voltage VPP that is the output voltage of the high voltage generator 19 is divided by the capacitors C1 and C2. The comparator 21 compares the divided voltage (voltage at the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2) div with the reference voltage Vref (for example, 1.3 V) by the capacitors C1 and C2, and according to the comparison result. An output signal COM having a potential level is generated.
[0034]
  The output signal COM of the comparator 21 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn10 in the high voltage generator 19. The drain of the NMOS transistor Tn10 is connected to the output terminal of the booster circuit 19a, and the source of the NMOS transistor Tn10 is connected to the ground GND. The NMOS transistor Tn10 is turned on / off by the output signal COM of the comparator 21 so that the high voltage VPP supplied from the high voltage generator 19 becomes a target voltage value.
[0035]
  Specifically, when the high voltage VPP by the boosting operation of the booster circuit 19a becomes equal to or higher than a target voltage value (for example, 10V), the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 becomes equal to or higher than the reference voltage Vref (for example, 1.3V). Thus, the voltage level of the output signal COM of the comparator 21 is increased. The NMOS transistor Tn10 is turned on by the output signal COM of the comparator 21 so that the high voltage VPP becomes the target voltage value.
[0036]
  In the voltage detection circuit 17 of this embodiment, two NMOS transistors Tn1 and Tn2 are provided as elements for initializing the divided voltage div at the start of voltage detection. The NMOS transistors Tn1 and Tn2 are connected in series between the connection portion (first connection portion) N1 of the capacitors C1 and C2 and the ground GND.
[0037]
  The reset signal (first control signal) RST from the reset generation circuit 16 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn2, and the reset signal (second control signal) RSTA of the control circuit 22 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn1. Is done. In the control circuit 22, the reset signal RSTA is generated based on the reset signal RST and the output signal COM of the comparator 21.
[0038]
  FIG. 3 shows a circuit diagram of the control circuit 22.
  The control circuit 22 includes PMOS transistors Tp11 and Tp12, an NMOS transistor Tn11, and inverter circuits 23, 24, and 25. The reset signal RST from the reset generation circuit 16 is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp11 via the inverter circuit 23, and the output signal COM of the comparator 21 is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn11.
[0039]
  The PMOS transistor Tp11 and the NMOS transistor Tn11 are connected in series, the source of the PMOS transistor Tp11 is connected to the power supply VCC, and the source of the NMOS transistor Tn11 is connected to the ground GND. Further, the drain of the PMOS transistor Tp12 is connected to the connection portion between the transistors Tp11 and Tn11, and the source of the transistor Tp12 is connected to the power source VCC.
[0040]
  The connection portion of each transistor Tp11, Tp12, Tn11 is connected to the gate of the PMOS transistor Tp12 via the inverter circuit 24, and the potential level of the connection portion of each transistor Tp11, Tp12, Tn11 is inverted by the inverter circuit 24. It is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp12. Further, the potential level at the connection portion of each transistor Tp11, Tp12, Tn11 is output as the reset signal RSTA via the two inverter circuits 24, 25.
[0041]
  Next, the operation of the voltage detection circuit 17 in this embodiment will be described.
  As shown in FIG. 4, at the start of detection of the high voltage VPP, an H level reset signal RST is output from the reset generation circuit 16. At this time, since the output signal COM of the comparator 21 is at the L level, the PMOS transistor Tp11 is turned on and the NMOS transistor Tn11 is turned off in the control circuit 22. Therefore, an H level reset signal RSTA is output from the control circuit 22.
[0042]
  Accordingly, since the NMOS transistors Tn1 and Tn2 are turned on by the H level reset signals RST and RSTA in the voltage detection circuit 17, the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is set to the ground potential (0 V) as the initial potential. It is initialized.
[0043]
  When the reset signal RST changes to L level at time t1, the PMOS transistor Tp11 in the control circuit 22 is turned off. At this time, since the PMOS transistor Tp12 is on and the NMOS transistor Tn11 is off, the control circuit 22 outputs an H level reset signal RSTA.
[0044]
  Accordingly, in the voltage detection circuit 17, the transistor Tn1 is turned on by the H level reset signal RSTA, and the transistor Tn2 is turned off by the L level reset signal RST. When the transistor Tn2 is turned off, the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 enters a floating state, and the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 changes according to the high voltage VPP.
[0045]
  At time t1, the booster circuit 19a of the high voltage generator 19 is activated, and the boosting operation by the booster circuit 19a is started. Therefore, after time t1, the high voltage VPP that is the output voltage of the booster circuit 19a is gradually increased. The divided voltage div generated by the capacitors C1 and C2 is also raised with a degree of change corresponding to the capacity ratio.
[0046]
  Since the transistor Tn1 is turned on from time t1 to time t2 (period in which the divided voltage div is increasing), the potential level of the connection portion (second connection portion) N2 between the transistors Tn1 and Tn2 is the divided voltage. Equal to div.
[0047]
  At time t2, when the high voltage VPP reaches the target voltage value and the divided voltage div becomes the reference voltage Vref, the output signal COM of the comparator 21 changes from L level to H level. At this time, in the control circuit 22, the NMOS transistor Tn11 is turned on by the H level output signal COM. Therefore, the reset signal RSTA output from the control circuit 22 changes from H level to L level.
[0048]
  The transistor Tn1 is turned off by the L level reset signal RSTA. Immediately after time t2, the connection N2 of the transistors Tn1 and Tn2 and the divided voltage div are substantially equal, so that an off-leakage current through the NMOS transistor Tn1 hardly flows. On the other hand, in the NMOS transistor Tn2, since a voltage substantially equal to the divided voltage div is applied between the source and the drain, an off-leak current corresponding to the voltage flows. For this reason, the potential level of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 gradually decreases.
[0049]
  In the voltage detection circuit 17 of the present embodiment, no off-leakage current flows through the NMOS transistor Tn1 until the potential level of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 is lowered. Therefore, a sufficient time is ensured until the divided voltage div decreases due to the off-leakage current (the high voltage VPP deviates from the target voltage value). Specifically, in the voltage application period in which the high voltage VPP needs to be applied for the data write operation, it is possible to prevent the divided voltage div from being lowered due to the off-leakage current. The reliability of the write characteristics is improved.
  Next, features of the voltage detection circuit 17 in the first embodiment of the present invention will be described below.
  (1) Two NMOS transistors Tn1 and Tn2 are connected in series to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and each transistor Tn1 and Tn2 is turned on (activated), whereby a divided voltage (connection portion N1 Voltage div) is reset to the ground potential. Thereafter, the ground-side transistor Tn2 is turned off (inactivated), the divided voltage div is increased according to the high voltage VPP, and when the divided voltage div reaches the reference voltage Vref, the transistor Tn1 is turned off (not activated). Activated). In this way, no off-leakage current flows through the NMOS transistor Tn1 until the potential level of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 is lowered due to the off-leakage current of the transistor Tn2. Therefore, a sufficient time can be secured until the divided voltage div decreases and the high voltage VPP deviates from the target voltage value. Therefore, the voltage detection by the voltage detection circuit 17 can be accurately performed during the high voltage application period in the semiconductor memory device 11.
[0050]
  (2) The control circuit 22 generates a reset signal RSTA for controlling the transistor Tn1 based on the reset signal RST for controlling the transistor Tn2 and the output signal COM of the comparator 21. Specifically, in the control circuit 22, the reset signal RSTA is inverted from the H level to the L level at a timing (time t2 in FIG. 4) when the high voltage VPP reaches the target voltage value and the output signal COM becomes the H level. The In this way, the potential of the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 can be made equal to the reference voltage Vref, so that the timing at which the off-leak current of the transistor Tn1 flows (the time when the divided voltage div starts to decrease) is delayed. Is preferable.
[0051]
  (3) In the semiconductor memory device 11, by generating an appropriate high voltage VPP at the time of data writing, the reliability of data writing characteristics can be improved.
[0052]
  Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In addition, in this embodiment, about the thing equivalent to the structure of 1st Embodiment mentioned above, the same symbol is attached | subjected to drawing and the description is simplified. Below, it demonstrates centering on difference with 1st Embodiment.
[0053]
  As shown in FIG. 5, in the voltage detection circuit 17a of the present embodiment, the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2 is connected to the ground GND via a capacitor C3 as a third capacitor. Further, the drain of the NMOS transistor Tn3 as the third transistor is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the source of the NMOS transistor Tn3 is connected to the ground via the capacitor C4 as the fourth capacitor. . A reset signal RSTAB is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn3.
[0054]
  In the voltage detection circuit 17a, the capacitance C3 is added to the connection portion N2 of the transistors Tn1 and Tn2, thereby preventing the divided voltage div from being lowered due to the off-leak current. Here, the capacitor C3 and the capacitor C4 have the same capacitance value. When the transistor Tn1 is turned off, the capacitor T4 is connected to the connection portion N1 instead of the capacitor C3. Variations in the divided voltage div are prevented.
[0055]
  FIG. 6 shows the control circuit 22a of this embodiment. The control circuit 22a is obtained by adding an inverter circuit 26 and an OR circuit 27 to the control circuit 22 of FIG.
[0056]
  Specifically, the reset signal RSTA output from the inverter circuit 25 is supplied to the first input terminal of the OR circuit 27 via the inverter circuit 26, and the reset signal RST is supplied to the second input terminal of the OR circuit 27. A reset signal RSTAB is output from the output terminal of the OR circuit 27.
[0057]
  Therefore, as shown in FIG. 7, when the reset signals RST and RSTA are at the H level before time t1, the reset signal RSTAB is also at the H level. In this case, in the voltage detection circuit 17a, all the transistors Tn1, Tn2, and Tn3 are turned on, and the divided voltage div is initialized.
[0058]
  From time t1 to t2, since the reset signal RST is at the L level and the reset signal RSTA is at the H level, the reset signal RSTAB is at the L level. Further, at time t2, the reset signal RSTA changes to the L level, so that the reset signal RSTAB changes to the H level.
[0059]
  After time t1 (after the start of voltage detection), the reset signal RSTAB is a signal (inversion control signal) obtained by inverting the logic level with respect to the reset signal RSTA. Based on the reset signal RSTA and the reset signal RSTAB, the transistor Tn1 and the transistor Tn3 are turned on / off, whereby the capacitor C3 and the capacitor C4 are alternately connected to the connection portion N1.
[0060]
  Incidentally, the following relational expression holds at time t2 when the divided voltage div becomes equal to the reference voltage Vref.
  C1 × (VPP−Vref) = (C2 + C3) × Vref
[0061]
  Further, when the capacitor C4 is connected instead of the capacitor C3 after time t2, the following relational expression is established.
  C1 × (VPP−Vref) = (C2 + C4) × Vref
[0062]
  When the high voltage VPP is obtained from the above relational expressions,
  VPP = (C2 + C3) × Vref / C1 + Vref
  VPP = (C2 + C4) × Vref / C1 + Vref
It becomes.
[0063]
  Next, features of the second embodiment of the present invention will be described below.
  (1) Since the capacitor C3 is added to the connection portion N2 between the transistor Tn1 and the transistor Tn2, the decrease in the potential level of the connection portion N2 due to the off-leakage current of the transistor Tn2 is delayed, and the off-leakage current of the transistor Tn1 flows. It becomes possible to delay the time when the decrease starts.
[0064]
  (2) When the transistor Tn1 is turned off and the capacitor C3 is disconnected from the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 (time t2), the transistor Tn3 is turned on and the capacitor C4 is connected to the connection portion N1. The fluctuation of the divided voltage div of N1 can be prevented.
[0065]
  Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment as well, the same symbols are attached to the drawings for those equivalent to the configuration of the first embodiment described above.
  As shown in FIG. 8, in the voltage detection circuit 17b of the present embodiment, a PMOS transistor Tp1 is provided as an element for initializing the divided voltage div of the capacitors C1 and C2. A divided voltage div is supplied to the source of the PMOS transistor Tp1, and its drain is connected to the ground GND. The reset signal (control signal) RSTB1 from the control circuit 22b is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1.
[0066]
  The control circuit 22b includes PMOS transistors Tp2 and Tp3, a capacitor C5, and an inverter circuit 28. In the control circuit 22b, the inverter circuit 28 is supplied with a reset signal RST. The output signal of the inverter circuit 28 is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1 through the capacitor C5. A high voltage VPP is supplied to the power supply terminal of the inverter circuit 28. Therefore, the output signal of the inverter circuit 28 has a larger amplitude than the reset signal RST.
[0067]
  The source of the PMOS transistor Tp2 is connected between the gate of the PMOS transistor Tp1 and the capacitor C5, and the drain of the PMOS transistor Tp2 is connected to the low potential side power source VSS. A signal RSTB obtained by inverting the logic level of the reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp2.
[0068]
  The drain of the PMOS transistor Tp3 is connected between the gate of the PMOS transistor Tp1 and the capacitor C5, and the source of the PMOS transistor Tp3 is connected to the high potential side power supply VCC. A reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp3.
[0069]
  The PMOS transistor Tp2 is a discharge element that discharges the gate of the PMOS transistor Tp1 to a low potential level, and the PMOS transistor Tp3 is a charge element that charges the gate of the PMOS transistor Tp1 to a high potential level.
[0070]
  As shown in FIG. 9, immediately before the start of detection of the high voltage VPP (time t0), the reset signal RST changes from the L level to the H level. At this time, the PMOS transistor Tp2 is turned on and the PMOS transistor Tp3 is turned off. Therefore, the potential level of the gate (reset signal RSTB1) of the PMOS transistor Tp1 is discharged from the high potential side power supply VCC to the potential level of the low potential side power supply VSS, and changes to a negative potential level due to the coupling of the capacitor C5. By turning on the transistor Tp1 with the reset signal RSTB1 at the negative potential level, the potential level of the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is initialized to the ground potential (0 V).
[0071]
  When the reset signal RST is inverted from the H level to the L level at time t1, the PMOS transistor Tp2 is turned off and the PMOS transistor Tp3 is turned on, so that the gate of the PMOS transistor Tp1 (reset signal RSTB1) changes from the negative potential to the high potential side. Charged to the potential level of the power supply VCC. The PMOS transistor Tp1 is completely cut off by the reset signal RSTB1. At this time, the reset signal RSTB1 becomes a voltage higher than the divided voltage div, and the PMOS transistor Tp1 is controlled to be turned off by the signal RSTB1, so that the off-leak current becomes small enough to be ignored.
[0072]
  Next, features of the voltage detection circuit 17b according to the third embodiment of the present invention will be described below.
  (1) Since the PMOS transistor Tp1 is used as an element for initializing the divided voltage div of the capacitors C1 and C2, the off-leakage current is reduced to about 1/10 as compared with the case where an NMOS transistor is used. Can do. Therefore, fluctuations in the divided voltage div are suppressed, and voltage detection by the voltage detection circuit 17b can be performed accurately.
[0073]
  (2) When the divided voltage div of each of the capacitors C1 and C2 is reset to the ground potential (0 V) by the PMOS transistor Tp1, even if the gate of the transistor Tp1 is set to the ground potential, it is affected by the threshold characteristics of the transistor Tp1. The divided voltage div cannot be completely reset to the ground potential (0 V). In contrast, in the present embodiment, the control circuit 22b is configured to generate a negative voltage lower than the ground potential by self-boost, and the transistor Tp1 is turned on by the negative voltage reset signal RSRB1 output from the control circuit 22b. (Activated). In this way, the divided voltage div can be reset to the ground potential (0 V) which is an ideal initial potential.
[0074]
  A fourth embodiment embodying the present invention will be described below.
  FIG. 10 shows the voltage detection circuit 17c of this embodiment, and FIG. 11 shows an operation waveform diagram of the voltage detection circuit 17c.
[0075]
  The voltage detection circuit 17c is a circuit for detecting the negative voltage VBB generated by the negative voltage generator 20, and includes capacitors C1 and C2, a comparator 21, and a PMOS transistor Tp1. The negative voltage VBB is divided by the capacitors C1 and C2, and the divided voltage div is supplied to the comparator 21. The comparator 21 compares the divided voltage div and the first reference voltage Vref1, and generates an output signal COM corresponding to the comparison result.
[0076]
  The drain of the PMOS transistor Tp1 is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the second reference voltage Vref2 is supplied to the source of the PMOS transistor Tp1. A reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1.
[0077]
  In the fourth embodiment, the first reference voltage Vref1 supplied to the comparator 21 is, for example, 0V, and the second reference voltage Vref2 supplied to the source of the PMOS transistor Tp1 is, for example, 1.3V. That is, the voltage detection circuit 17c is a circuit that starts the voltage detection operation from the potential (1.3V) where the divided voltage div at the connection portion N1 is higher than the ground potential (0V).
[0078]
  Specifically, as shown in FIG. 11, at the start of detection of the negative voltage VBB, an L level reset signal RST is supplied to the gate of the PMOS transistor Tp1. The PMOS transistor Tp1 is turned on by the reset signal RST, and the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 is initialized to the second reference voltage Vref2 (1.3 V).
[0079]
  At time t1, the reset signal RST changes to H level, and the PMOS transistor Tp1 is turned off by the reset signal RST, so that the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 enters a floating state. At this time, the negative voltage generation unit 20 of the voltage generation circuit 18 is activated, and the voltage value of the negative voltage VBB gradually changes to the negative side. Therefore, the divided voltage div by the capacitors C1 and C2 also becomes the negative voltage VBB. Will change accordingly.
[0080]
  At time t2, when the negative voltage VBB reaches a target voltage value (for example, −10V) and the divided voltage div decreases to the first reference voltage Vref1 (0V), the output signal COM of the comparator 21 changes from L level to H level. Change to level. According to the output signal COM, the negative voltage generator 20 is controlled so that the negative voltage VBB of the negative voltage generator 20 becomes a desired voltage value (for example, −10 V).
[0081]
  Next, features of the voltage detection circuit 17c in the fourth embodiment of the present invention will be described below.
  (1) Since the PMOS transistor Tp1 is used as an element for initializing the divided voltage div of the capacitors C1 and C2, the off-leakage current is reduced to about 1/10 as compared with the case where an NMOS transistor is used. Can do. Therefore, the fluctuation of the divided voltage div is suppressed, and the voltage detection by the voltage detection circuit 17c can be accurately performed.
[0082]
  Hereinafter, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
  FIG. 12 shows a voltage detection circuit 17d of the fifth embodiment.
  The voltage detection circuit 17d is a circuit for detecting the high voltage VPP generated by the high voltage generator 19, and includes capacitors C1 and C2, a comparator 21, an NMOS transistor Tn1, and a CMOS inverter circuit 29.
[0083]
  The high voltage VPP is divided by the capacitors C1 and C2, and the divided voltage div is supplied to the comparator 21. The comparator 21 compares the divided voltage div with the reference voltage Vref (1.3 V), and generates an output signal COM having a potential level according to the comparison result.
[0084]
  The drain of the NMOS transistor Tn1 is connected to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2, and the gate thereof is electrically connected to the source of the NMOS transistor Tn1 via the inverter circuit 29.
[0085]
  The reset signal RST is supplied to the gate of the NMOS transistor Tn1, and the reset signal RST is inverted and supplied to the source of the NMOS transistor Tn1 through the inverter circuit 29. The amplitude of the output signal of the inverter circuit 29 is, for example, 1.8V (H level = 1.8V, L level = 0V).
[0086]
  At the start of detection of the high voltage VPP, the NMOS transistor Tn1 is turned on by the H level reset signal RST. At this time, since the output signal of the inverter circuit 29 is at the L level (ground potential = 0 V), the divided voltage div is initialized to the ground potential.
[0087]
  Thereafter, the NMOS transistor Tn1 is turned off by the L level reset signal RST, and the divided voltage div is changed according to the high voltage VPP. At this time, the output signal of the inverter circuit 29 changes to H level (1.8 V), and the H level signal is supplied to the source of the NMOS transistor Tn1. Therefore, the voltage applied between the source and drain of the NMOS transistor Tn1 is reduced, and the off-leak current in the transistor Tn1 is reduced.
[0088]
  Next, features of the voltage detection circuit 17d according to the fifth embodiment of the present invention will be described below.
  (1) When the NMOS transistor Tn1 is turned off (inactivated) after resetting the divided voltage div, a voltage higher than the divided voltage div is supplied to the source of the transistor Tn1. In this way, the off-leakage current in the transistor Tn1 is reduced, so that the voltage detection by the voltage detection circuit 17d can be accurately performed.
[0089]
  Each of the above embodiments may be modified as follows.
  In the voltage detection circuits 17 and 17a of the first and second embodiments, a configuration (two-stage configuration) in which two transistors Tn1 and Tn2 are connected in series to the connection portion N1 of the capacitors C1 and C2 is employed. A multistage structure in which transistors are connected in series may be employed. Note that the voltage detection circuit is controlled so that the transistors on the ground GND side are sequentially turned off. Further, when the number of transistors is set to a plurality of stages, the leakage current is reduced, but the speed of resetting the divided voltage div to the ground potential is reduced. Therefore, the number of transistors is set in consideration thereof.
[0090]
  In the voltage detection circuit 17a of the second embodiment, the NMOS transistor Tn3 may be replaced with a PMOS transistor. In this case, the reset signal RSTA is used as a control signal supplied to the gate of the PMOS transistor.
  In the fifth embodiment, when the NMOS transistor Tn1 is turned off, a voltage equal to the divided voltage div may be supplied to the source instead of the voltage higher than the divided voltage div.
[0091]
  In each of the embodiments described above, the semiconductor memory device (nonvolatile memory) 11 including the memory cell array 13 as the storage unit is embodied. However, the present invention is not limited to this and is applicable to a semiconductor device not including the memory cell array 13. May be. Of course, the present invention may be applied to a semiconductor memory device other than the nonvolatile memory, such as a DRAM.
[0092]
The technical ideas that can be grasped from the above embodiments are described below.
(Supplementary note 1) A voltage detection circuit that is connected to a voltage generation circuit and detects an output voltage of the voltage generation circuit. The voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage corresponding to the output voltage. A first transistor connected to a first connection between the first capacitor and the second capacitor; a second transistor connected in series to the first transistor; When the one transistor and the second transistor are activated, the potential of the first connection portion is initialized to an initial potential. The potential of the first connection portion is initialized by being connected to the first transistor. And a control circuit for generating a first control signal for deactivating the first transistor after the second transistor.
(Additional remark 2) The said control circuit is after the said 2nd transistor is deactivated, Comprising: When the electric potential of the said 1st connection part reaches a predetermined electric potential according to the said output voltage, the said 1st control The voltage detection circuit according to appendix 1, which generates a signal.
(Additional remark 3) It further has a determination circuit which determines that the output voltage has reached the predetermined voltage by comparing the divided voltage with a reference voltage, and the control circuit controls the second transistor. The voltage detection circuit according to appendix 1, wherein the first control signal is generated according to the second control signal and the output signal of the determination circuit.
(Supplementary Note 4) A third capacitor connected between the second connection portion between the first transistor and the second transistor and the ground, a third transistor connected to the first connection portion, and the first transistor The voltage detection circuit according to appendix 1, further comprising a fourth capacitor connected between the three transistors and the ground.
(Supplementary note 5) The voltage detection circuit according to supplementary note 4, wherein the control circuit generates an inverted signal of the first control signal and supplies the inverted signal to the third transistor.
(Supplementary note 6) The voltage detection circuit according to supplementary note 4, wherein the third capacitor and the fourth capacitor have the same capacitance value.
(Supplementary note 7) A voltage detection circuit that is connected to a voltage generation circuit and detects an output voltage of the voltage generation circuit. The voltage detection circuit receives the output voltage and generates a divided voltage according to the output voltage. A first capacitor and a second capacitor; a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor; and a transistor for initializing a potential of the connection to an initial potential; the transistor connected to the transistor; and the connection A voltage detection circuit comprising: a control circuit that generates a control signal having a negative potential lower than the initial potential and activates the transistor by the control signal when the potential of the unit is initialized.
(Supplementary note 8) The voltage detection circuit according to supplementary note 7, wherein the control circuit includes a charge element that charges a gate of the transistor to a high potential level and a discharge element that discharges the gate to a low potential level.
(Supplementary note 9) The voltage detection circuit according to supplementary note 8, wherein the charge element and the discharge element receive signals of opposite phases.
(Supplementary note 10) The voltage detection circuit according to supplementary note 7, wherein the control circuit includes a capacitor for supplying a negative voltage to the gate of the transistor.
(Additional remark 11) The voltage detection circuit of Additional remark 10 to which the control signal for initializing the electric potential of the said connection part is supplied to the said capacity | capacitance.
(Supplementary note 12) The voltage detection circuit according to supplementary note 7, wherein when the transistor is inactivated, the gate potential of the transistor is made higher than the potential of the connection portion.
(Supplementary note 13) The voltage detection circuit according to any one of supplementary notes 7 to 12, wherein the transistor is a PMOS transistor.
(Supplementary note 14) A voltage detection circuit that is connected to a voltage generation circuit and detects a negative voltage generated by the voltage generation circuit, receives the negative voltage, and generates a divided voltage corresponding to the negative voltage. A first capacitor and a second capacitor connected to each other; a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and initializing a potential of the connection portion to an initial potential; A voltage detection circuit in which a gate receives a control signal, a source receives the initial potential, and a drain connected to the connection portion.
(Supplementary note 15) The voltage detection circuit according to supplementary note 14, wherein when the transistor is deactivated, the potential of the control signal is set higher than the initial potential.
(Supplementary note 16) The voltage detection circuit according to supplementary note 14 or 15, wherein the transistor is a PMOS transistor.
(Supplementary Note 17) A voltage detection circuit that is connected to a voltage generation circuit and detects an output voltage of the voltage generation circuit, receives the output voltage, and generates a divided voltage corresponding to the output voltage. A first capacitor and a second capacitor, and a transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and initializing a potential of the connection portion to an initial potential. A voltage detection circuit that receives a control signal, a source that receives an inverted signal of the control signal, and a drain that is connected to the connection portion.
(Supplementary note 18) The voltage detection circuit according to supplementary note 17, further comprising an inverter circuit connected between a gate and a source of the transistor, generating the inverted signal, and supplying the inverted signal to the source.
(Supplementary note 19) A semiconductor device comprising the voltage detection circuit according to any one of supplementary notes 1 to 18 and the voltage generation circuit.
(Supplementary note 20) The semiconductor device according to supplementary note 19, further comprising a storage circuit for storing data, wherein the storage circuit writes or erases data using a voltage generated by the voltage generation circuit.
(Additional remark 21) The said memory circuit is a semiconductor device of Additional remark 20 containing a non-volatile memory cell.
(Supplementary note 22) A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor connected in series And a second capacitor, a first transistor connected to a first connection between the first capacitor and the second capacitor, and a second transistor connected in series to the first transistor, the method comprising: Generating a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit using the first and second capacitors, activating the first transistor and the second transistor, and After the step of initializing the potential of the part to the initial potential and the initialization of the potential of the first connection part, only the second transistor is deactivated, and between the first transistor and the second transistor, Second connection Equalizing the potential of the first connection portion with the potential of the first connection portion, and deactivating the first transistor when the potential of the first connection portion reaches a predetermined potential according to the output voltage of the voltage generating circuit And a step of controlling the voltage detection circuit.
(Supplementary Note 23) The method further includes the step of determining whether the output voltage of the voltage generation circuit has reached a target voltage value by comparing a divided voltage by the first capacitor and the second capacitor with a reference voltage. The method for controlling a voltage detection circuit according to appendix 22, wherein the step of deactivating the first transistor comprises deactivating the first transistor according to the determination.
(Supplementary Note 24) The voltage detection circuit further includes a third capacitor connected to the second connection unit, a third transistor connected to the first connection unit, and a fourth capacitor connected to the third transistor. The method further comprising: deactivating the first transistor to electrically disconnect the third capacitor from the first connection; and activating the third transistor, The method for controlling a voltage detection circuit according to appendix 22, further comprising a step of electrically connecting the fourth capacitor to the first connection portion instead of the separated third capacitor.
(Supplementary Note 25) A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor connected in series And a second capacitor, and a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, and the method uses the first and second capacitors to increase the output voltage of the voltage generating circuit. And a step of generating a corresponding divided voltage and activating the transistor to initialize the potential of the connection portion to an initial potential. The initializing step includes a negative voltage lower than the initial potential. A control method of a voltage detection circuit that generates a potential control signal and supplies the control signal to the gate of the transistor.
(Supplementary note 26) The supplementary note 25, further comprising a step of controlling a charge element that charges the gate of the transistor to a high potential level and a discharge element that discharges the gate to a low potential level by signals having opposite phases to each other. Control method of voltage detection circuit.
(Supplementary note 27) The method for controlling a voltage detection circuit according to supplementary note 26, further comprising a step of making the gate potential of the transistor higher than the potential of the connection portion when the transistor is deactivated.
(Supplementary Note 28) A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor connected in series And a second capacitor, and a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, and the method uses the first and second capacitors to output voltage of the voltage generating circuit. A step of generating a divided voltage in accordance with the step of activating the transistor to initialize the potential of the connection portion to an initial potential, and after initializing the potential of the connection portion, Supplying a higher potential to the gate of the transistor to inactivate the transistor.
(Supplementary note 29) A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor connected in series And a second capacitor, and a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, and the method uses the first and second capacitors to increase the output voltage of the voltage generating circuit. A step of generating a corresponding divided voltage, activating the transistor to initialize the potential of the connection portion to an initial potential, and initializing the potential of the connection portion; Supplying a potential equal to or higher than that of the connection to the source of the transistor when the transistor is deactivated.
(Supplementary note 30) The method for controlling a voltage detection circuit according to supplementary note 29, further comprising the step of controlling the source potential of the transistor by an inverted signal of a control signal supplied to a gate of the transistor.
[Brief description of the drawings]
    FIG. 1 is a schematic block diagram showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
    2 is a schematic circuit diagram of a voltage detection circuit in the semiconductor device of FIG. 1;
    FIG. 3 is a schematic circuit diagram of the control circuit of FIG. 2;
    4 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG. 2;
    FIG. 5 is a schematic circuit diagram of a voltage detection circuit according to a second embodiment of the present invention.
    FIG. 6 is a schematic circuit diagram of a control circuit in a second embodiment of the present invention.
    7 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG. 5. FIG.
    FIG. 8 is a circuit diagram of a voltage detection circuit according to a third embodiment of the present invention.
    9 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG. 8. FIG.
    FIG. 10 is a circuit diagram of a voltage detection circuit according to a fourth embodiment of the present invention.
    11 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG. 10;
    FIG. 12 is a circuit diagram of a voltage detection circuit according to a fifth embodiment of the present invention.
    FIG. 13 is a schematic circuit diagram of a conventional voltage detection circuit.
    14 is an operation waveform diagram of the voltage detection circuit of FIG. 13;

Claims (30)

電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、
前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタと、
前記第1トランジスタ及び第2トランジスタが活性化されることにより、前記第1接続部の電位が初期電位に初期化されるものであり、
前記第1トランジスタに接続され、前記第1接続部の電位の初期化の後、前記第2トランジスタよりも遅れて前記第1トランジスタを非活性化させるための第1制御信号を生成する制御回路と
を備える電圧検出回路。
A voltage detection circuit connected to the voltage generation circuit for detecting an output voltage of the voltage generation circuit;
A first capacitor and a second capacitor connected in series to receive the output voltage and generate a divided voltage according to the output voltage;
A first transistor connected to a first connection between the first capacitor and the second capacitor;
A second transistor connected in series to the first transistor;
When the first transistor and the second transistor are activated, the potential of the first connection portion is initialized to an initial potential.
A control circuit which is connected to the first transistor and generates a first control signal for deactivating the first transistor after the initialization of the potential of the first connection portion after the second transistor; A voltage detection circuit comprising:
前記制御回路は、前記第2トランジスタが非活性化された後であって、前記出力電圧に応じて前記第1接続部の電位が所定電位に達したときに、前記第1制御信号を生成する請求項1に記載の電圧検出回路。The control circuit generates the first control signal after the second transistor is deactivated and when the potential of the first connection portion reaches a predetermined potential according to the output voltage. The voltage detection circuit according to claim 1. 前記分圧電圧を基準電圧と比較することにより、前記出力電圧が前記所定電圧に達したことを判定する判定回路をさらに備え、
前記制御回路は、前記第2トランジスタを制御するための第2制御信号と前記判定回路の出力信号とに従って、前記第1制御信号を生成する請求項1に記載の電圧検出回路。
A determination circuit for determining that the output voltage has reached the predetermined voltage by comparing the divided voltage with a reference voltage;
The voltage detection circuit according to claim 1, wherein the control circuit generates the first control signal in accordance with a second control signal for controlling the second transistor and an output signal of the determination circuit.
前記第1トランジスタと第2トランジスタとの間の第2接続部とグランドとの間に接続された第3容量と、
前記第1接続部に接続された第3トランジスタと、
前記第3トランジスタとグランドとの間に接続された第4容量と
をさらに備える請求項1に記載の電圧検出回路。
A third capacitor connected between a second connection between the first transistor and the second transistor and the ground;
A third transistor connected to the first connection portion;
The voltage detection circuit according to claim 1, further comprising: a fourth capacitor connected between the third transistor and the ground.
前記制御回路は、前記第1制御信号の反転信号を生成し、前記反転信号を前記第3トランジスタに供給する請求項4に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 4, wherein the control circuit generates an inverted signal of the first control signal and supplies the inverted signal to the third transistor. 前記第3容量と第4容量とは、同一の容量値を有する請求項4に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 4, wherein the third capacitor and the fourth capacitor have the same capacitance value. 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、前記接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと、
前記トランジスタに接続され、前記接続部の電位が初期化される時に、前記初期電位よりも低い負電位を有する制御信号を生成し、前記制御信号により前記トランジスタを活性化させる制御回路と
を備える電圧検出回路。
A voltage detection circuit connected to the voltage generation circuit for detecting an output voltage of the voltage generation circuit;
A first capacitor and a second capacitor connected in series to receive the output voltage and generate a divided voltage according to the output voltage;
A transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor and initializing a potential of the connection portion to an initial potential;
A voltage that is connected to the transistor and generates a control signal having a negative potential lower than the initial potential when the potential of the connection portion is initialized, and activates the transistor by the control signal. Detection circuit.
前記制御回路は、前記トランジスタのゲートを高電位レベルにチャージするチャージ素子と、前記ゲートを低電位レベルにディスチャージするディスチャージ素子とを含む請求項7に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 7, wherein the control circuit includes a charge element that charges a gate of the transistor to a high potential level and a discharge element that discharges the gate to a low potential level. 前記チャージ素子とディスチャージ素子は、互いに逆相の信号を受け取る請求項8に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 8, wherein the charge element and the discharge element receive signals having opposite phases to each other. 前記制御回路は、前記トランジスタのゲートに負電圧を供給するための容量を含む請求項7に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 7, wherein the control circuit includes a capacitor for supplying a negative voltage to the gate of the transistor. 前記容量には、前記接続部の電位を初期化するための制御信号が供給される請求項10に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 10, wherein a control signal for initializing a potential of the connection portion is supplied to the capacitor. 前記トランジスタが非活性化される時、該トランジスタのゲート電位を前記接続部の電位よりも高くする請求項7に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 7, wherein when the transistor is deactivated, a gate potential of the transistor is set higher than a potential of the connection portion. 前記トランジスタは、PMOSトランジスタである請求項7〜12のいずれかに記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 7, wherein the transistor is a PMOS transistor. 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の発生した負電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記負電圧を受け取り、前記負電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと
を備え、
前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記初期電位を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される電圧検出回路。
A voltage detection circuit connected to the voltage generation circuit for detecting a negative voltage generated by the voltage generation circuit;
A first capacitor and a second capacitor connected in series for receiving the negative voltage and generating a divided voltage according to the negative voltage;
A transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and initializing a potential of the connection portion to an initial potential;
A voltage detection circuit in which a gate of the transistor receives a control signal, a source thereof receives the initial potential, and a drain thereof connected to the connection portion.
前記トランジスタが非活性化される時、前記制御信号の電位を前記初期電位よりも高くする請求項14に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 14, wherein when the transistor is deactivated, the potential of the control signal is set higher than the initial potential. 前記トランジスタは、PMOSトランジスタである請求項14又は15に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 14, wherein the transistor is a PMOS transistor. 電圧発生回路に接続され、前記電圧発生回路の出力電圧を検出する電圧検出回路であって、
前記出力電圧を受け取り、前記出力電圧に応じた分圧電圧を生成する、直列接続された第1容量及び第2容量と、
前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続され、該接続部の電位を初期電位に初期化するトランジスタと
を備え、
前記トランジスタのゲートは制御信号を受け取り、そのソースは前記制御信号の反転信号を受け取り、そのドレインは前記接続部に接続される電圧検出回路。
A voltage detection circuit connected to the voltage generation circuit for detecting an output voltage of the voltage generation circuit;
A first capacitor and a second capacitor connected in series to receive the output voltage and generate a divided voltage according to the output voltage;
A transistor connected to a connection portion between the first capacitor and the second capacitor, and initializing a potential of the connection portion to an initial potential;
A voltage detection circuit in which a gate of the transistor receives a control signal, a source thereof receives an inverted signal of the control signal, and a drain connected to the connection portion.
前記トランジスタのゲートとソースの間に接続され、前記反転信号を生成し、前記反転信号を前記ソースに供給するインバータ回路を、さらに備える請求項17に記載の電圧検出回路。The voltage detection circuit according to claim 17, further comprising: an inverter circuit connected between a gate and a source of the transistor, generating the inverted signal, and supplying the inverted signal to the source. 請求項1〜18のいずれかに記載の電圧検出回路と、前記電圧発生回路とを備える半導体装置。A semiconductor device comprising the voltage detection circuit according to claim 1 and the voltage generation circuit. データを格納するための記憶回路をさらに備え、
前記記憶回路は、前記電圧発生回路で発生された電圧を用いて、データの書き込み、あるいは消去を行う請求項19に記載の半導体装置。
A storage circuit for storing data;
The semiconductor device according to claim 19, wherein the memory circuit performs data writing or erasing using a voltage generated by the voltage generation circuit.
前記記憶回路は、不揮発性のメモリセルを含む請求項20に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 20, wherein the memory circuit includes a nonvolatile memory cell. 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の第1接続部に接続された第1トランジスタと、前記第1トランジスタに直列接続された第2トランジスタとを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記第1トランジスタと第2トランジスタとを活性化させて、前記第1接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、
前記第1接続部の電位の初期化の後に、前記第2トランジスタのみを非活性化させて、前記第1トランジスタと第2トランジスタとの間の第2接続部の電位を前記第1接続部の電位と等しくするステップと、
前記電圧発生回路の出力電圧に応じて前記第1接続部の電位が所定電位に達したときに、前記第1トランジスタを非活性化させるステップと
を備える電圧検出回路の制御方法。
A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a first transistor connected to a first connection between the first capacitor and the second capacitor, and a second transistor connected in series to the first transistor, the method comprising:
Generating a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit using the first and second capacitors;
Activating the first transistor and the second transistor to initialize the potential of the first connection portion to an initial potential;
After the initialization of the potential of the first connection portion, only the second transistor is deactivated, and the potential of the second connection portion between the first transistor and the second transistor is set to the first connection portion. Making the potential equal;
And a step of deactivating the first transistor when a potential of the first connection portion reaches a predetermined potential in accordance with an output voltage of the voltage generation circuit.
前記第1容量及び第2容量による分圧電圧を基準電圧と比較することで、前記電圧発生回路の出力電圧が目標の電圧値に達したかどうかを判定するステップを、さらに備え、
前記第1トランジスタを非活性化させるステップは、前記判定に従って前記第1トランジスタを非活性化させる請求項22に記載の電圧検出回路の制御方法。
Determining whether the output voltage of the voltage generation circuit has reached a target voltage value by comparing the divided voltage of the first capacitor and the second capacitor with a reference voltage;
23. The voltage detection circuit control method according to claim 22, wherein inactivating the first transistor comprises inactivating the first transistor according to the determination.
前記電圧検出回路は、さらに、前記第2接続部に接続された第3容量と、前記第1接続部に接続された第3トランジスタと、前記第3トランジスタ接続された第4容量とを含み、該方法は、さらに
前記第1トランジスタを非活性化させることで、前記第3容量を前記第1接続部から電気的に切り離すステップと、
前記第3トランジスタを活性化させることで、前記切り離された第3容量の代わりに前記第4容量を前記第1接続部に電気的に接続するステップと
を備える請求項22に記載の電圧検出回路の制御方法。
The voltage detection circuit further includes a third capacitor connected to the second connection unit, a third transistor connected to the first connection unit, and a fourth capacitor connected to the third transistor, The method further comprises electrically deactivating the first transistor to electrically disconnect the third capacitor from the first connection portion;
The voltage detection circuit according to claim 22, further comprising: activating the third transistor to electrically connect the fourth capacitor to the first connection unit instead of the disconnected third capacitor. Control method.
電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップとを備え、
前記初期化するステップは、前記初期電位よりも低い負電位の制御信号を生成し、該制御信号を前記トランジスタのゲートに供給する電圧検出回路の制御方法。
A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, the method comprising:
Using the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit;
Activating the transistor and initializing the potential of the connection portion to an initial potential,
The initializing step generates a control signal having a negative potential lower than the initial potential, and supplies the control signal to the gate of the transistor.
前記トランジスタのゲートを高電位レベルにチャージするチャージ素子と、前記ゲートを低電位レベルにディスチャージするディスチャージ素子とを互いに逆相の信号により制御するステップを、さらに備える請求項25に記載の電圧検出回路の制御方法。26. The voltage detection circuit according to claim 25, further comprising a step of controlling a charge element that charges the gate of the transistor to a high potential level and a discharge element that discharges the gate to a low potential level by signals having opposite phases. Control method. 前記トランジスタが非活性化される時、該トランジスタのゲート電位を前記接続部の電位よりも高くするステップを、さらに備える請求項26に記載の電圧検出回路の制御方法。27. The method of controlling a voltage detection circuit according to claim 26, further comprising a step of making the gate potential of the transistor higher than the potential of the connection portion when the transistor is deactivated. 電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、前記電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、
前記接続部の電位の初期化の後に、前記初期電位よりも高い電位を前記トランジスタのゲートに供給して該トランジスタを非活性化するステップと
を備える電圧検出回路の制御方法。
A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, the method comprising:
Generating a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit using the first and second capacitors;
Activating the transistor to initialize the potential of the connection to an initial potential;
A method of controlling the voltage detection circuit, comprising: after initialization of the potential of the connection portion, supplying a potential higher than the initial potential to the gate of the transistor to deactivate the transistor.
電圧発生回路を含む半導体装置内部に設けられ、前記電圧発生回路が発生した電圧を検出する電圧検出回路の制御方法であって、前記電圧検出回路は、直列接続された第1容量と第2容量と、前記第1容量と第2容量との間の接続部に接続されたトランジスタを含み、該方法は、
前記第1及び第2容量を用いて、電圧発生回路の出力電圧に応じた分圧電圧を生成するステップと、
前記トランジスタを活性化させて、前記接続部の電位を初期電位に初期化するステップと、
前記接続部の電位の初期化の後であって、前記トランジスタが非活性化された時、前記トランジスタのソースに前記接続部と同電位もしくはそれよりも高い電位を供給するステップと
を備える電圧検出回路の制御方法。
A method for controlling a voltage detection circuit provided in a semiconductor device including a voltage generation circuit and detecting a voltage generated by the voltage generation circuit, wherein the voltage detection circuit includes a first capacitor and a second capacitor connected in series. And a transistor connected to a connection between the first capacitor and the second capacitor, the method comprising:
Using the first and second capacitors to generate a divided voltage according to the output voltage of the voltage generation circuit;
Activating the transistor to initialize the potential of the connection to an initial potential;
After the initialization of the potential of the connection portion, when the transistor is deactivated, a voltage detection comprising: supplying the same potential as or higher than the connection portion to the source of the transistor Circuit control method.
前記トランジスタのソース電位を、該トランジスタのゲートに供給される制御信号の反転信号によって制御するステップを、さらに備える請求項29に記載の電圧検出回路の制御方法。30. The method of controlling a voltage detection circuit according to claim 29, further comprising the step of controlling the source potential of the transistor by an inverted signal of a control signal supplied to the gate of the transistor.
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