JP3471718B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、特に昇圧電源回路、あるいは負昇圧電源回路の電
圧レギュレートを行う半導体集積回路に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit that regulates the voltage of a booster power supply circuit or a negative booster power supply circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、不揮発性半導体記憶装置であるフ
ラッシュメモリにおいては、低電圧・単一電源化が要求
されるため、オンチップで昇圧、あるいは負昇圧を行
い、書込み、消去等に必要な電圧を供給する半導体集積
回路が必要となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, a flash memory, which is a non-volatile semiconductor memory device, is required to have a low voltage and a single power source. There is a need for a semiconductor integrated circuit that supplies a voltage.

【0003】図26は、従来の半導体集積回路の構成を
示すブロック図である。図26において、従来の半導体
集積回路は、この半導体集積回路に供給される電源電圧
DDを所定の電圧VPPまで昇圧させる昇圧回路201
と、その昇圧電圧VPPを入力として、これを調整した出
力電圧Voを出力するレギュレータ回路202とから構
成される。レギュレータ回路202は、さらに、参照電
圧生成回路203と、差動増幅回路204と、出力回路
205と、分圧回路206とを備える。
FIG. 26 is a block diagram showing the structure of a conventional semiconductor integrated circuit. In FIG. 26, the conventional semiconductor integrated circuit has a booster circuit 201 that boosts the power supply voltage V DD supplied to the semiconductor integrated circuit to a predetermined voltage V PP.
And a regulator circuit 202 which receives the boosted voltage V PP as an input and outputs an adjusted output voltage Vo. The regulator circuit 202 further includes a reference voltage generation circuit 203, a differential amplifier circuit 204, an output circuit 205, and a voltage dividing circuit 206.

【0004】参照電圧生成回路203は、昇圧回路20
1の昇圧電圧VPPを入力として参照電圧Vrefを生成す
る。また、参照電圧生成回路203は、参照電圧Vref
を複数の電圧に切替可能なものである。差動増幅回路2
04は、昇圧回路201の出力電圧VPPが電源入力端に
入力され、参照電圧生成回路203の生成した参照電圧
Vrefと、分圧回路206からの分圧電圧Vdとを2入力
とし、電圧VPPにより差動増幅を行う。出力回路205
は、ゲートが差動増幅回路204の出力端に接続され、
ソースとドレインとが、それぞれ昇圧回路201の出力
端と分圧回路206の入力端とに接続されたP型MOS
トランジスタM10を備え、差動増幅回路204の出力
電圧Vaに基づいて昇圧回路201の出力電圧VPPを調
整したものを、レギュレータ回路202の出力電圧Vo
として出力する。分圧回路206は、出力回路205の
出力電圧Voを入力として、出力電圧Voを分圧した分圧
電圧Vdを出力する。
The reference voltage generation circuit 203 is a booster circuit 20.
The reference voltage Vref is generated by using the boosted voltage V PP of 1 as an input. Further, the reference voltage generation circuit 203 uses the reference voltage Vref.
Can be switched to a plurality of voltages. Differential amplifier circuit 2
The output voltage V PP of the booster circuit 201 is input to the power supply input terminal of the power supply circuit 04, and the reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 203 and the divided voltage Vd from the voltage dividing circuit 206 are input to the voltage 04. Differential amplification is performed by PP . Output circuit 205
Has a gate connected to the output terminal of the differential amplifier circuit 204,
A P-type MOS whose source and drain are respectively connected to the output end of the booster circuit 201 and the input end of the voltage divider circuit 206.
The output voltage Vo of the regulator circuit 202 is provided with the transistor M10 and the output voltage V PP of the booster circuit 201 is adjusted based on the output voltage Va of the differential amplifier circuit 204.
Output as. The voltage dividing circuit 206 receives the output voltage Vo of the output circuit 205 and outputs a divided voltage Vd obtained by dividing the output voltage Vo.

【0005】以上のように構成された従来の半導体集積
回路について、以下その動作を説明する。昇圧回路20
1は、半導体集積回路に供給される電源電圧VDDから、
電源電圧VDDより高い昇圧電圧VPPを生成し、レギュレ
ータ回路202へ供給する。レギュレータ回路202
は、昇圧電圧VPPを降圧した所定の一定電圧Voを出力
端より出力する。
The operation of the conventional semiconductor integrated circuit configured as described above will be described below. Boost circuit 20
1 is from the power supply voltage V DD supplied to the semiconductor integrated circuit,
A boosted voltage V PP higher than the power supply voltage V DD is generated and supplied to the regulator circuit 202. Regulator circuit 202
Outputs a predetermined constant voltage Vo obtained by stepping down the boosted voltage V PP from the output terminal.

【0006】レギュレータ回路202において、参照電
圧生成回路203は、昇圧電圧VPPを入力として所定の
参照電圧Vrefを生成し,出力する。従って、参照電圧
Vrefは、昇圧電圧VPPと接地電位VSSの間のいずれか
の値となる。分圧回路206は、レギュレータ回路20
2の出力電圧Voを所定の分圧比r(r≧1)に従い、Vo/V
d=rの関係となるように分圧した分圧電圧Vdを出力す
る。この分圧回路206の出力電圧Vdと参照電圧Vref
とが差動増幅回路204により比較され、差動増幅回路
204の出力電圧Vaにより出力回路205のP型MO
SトランジスタM10が制御されて、最終的にVd=Vr
efとなる。このようにして、レギュレータ回路202
は、必ずしも電圧が安定していない昇圧電圧VPPから、
Vo=r・Vrefなる一定電圧に保持された出力電圧Voを
生成することができる。
In the regulator circuit 202, the reference voltage generating circuit 203 receives the boosted voltage V PP as an input, and generates and outputs a predetermined reference voltage Vref. Therefore, the reference voltage Vref has any value between the boosted voltage V PP and the ground potential V SS . The voltage dividing circuit 206 is the regulator circuit 20.
The output voltage Vo of 2 is Vo / V according to a predetermined voltage division ratio r (r ≧ 1).
The divided voltage Vd divided so that the relation of d = r is obtained is output. The output voltage Vd of the voltage dividing circuit 206 and the reference voltage Vref
Are compared by the differential amplifier circuit 204, and the P-type MO of the output circuit 205 is determined by the output voltage Va of the differential amplifier circuit 204.
The S-transistor M10 is controlled and finally Vd = Vr
Become ef. In this way, the regulator circuit 202
Is the boosted voltage V PP whose voltage is not always stable,
It is possible to generate the output voltage Vo held at a constant voltage Vo = r · Vref.

【0007】また、レギュレータ回路202は、不揮発
性半導体記憶装置の書込み、消去等の異なるモードにお
いては、異なる出力電圧Voを供給する必要がある。こ
のような場合、各モードによって参照電圧Vrefを変え
ることによって、異なるモードに合わせた電圧供給を実
現できる。
Further, the regulator circuit 202 needs to supply different output voltages Vo in different modes such as writing and erasing of the nonvolatile semiconductor memory device. In such a case, by changing the reference voltage Vref depending on each mode, it is possible to realize voltage supply adapted to different modes.

【0008】また、上記従来の技術においては昇圧を行
う電源電圧回路ついて説明しているが、従来の負電圧を
生成する半導体集積回路についても同様であり、上記従
来の半導体集積回路において、昇圧回路201を負昇圧
回路に、また、出力回路205のP型MOSトランジス
タM10をN型MOSトランジスタに置き換えた構成と
したものが、負の参照電圧を基準に一定の負電圧を出力
することができる半導体集積回路となる。
Further, although the above-mentioned conventional technique describes the power supply voltage circuit for boosting, the same applies to a conventional semiconductor integrated circuit for generating a negative voltage. A semiconductor in which 201 is a negative booster circuit and P-type MOS transistor M10 of the output circuit 205 is replaced with an N-type MOS transistor is capable of outputting a constant negative voltage based on a negative reference voltage. It becomes an integrated circuit.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体集積回路におけるレギュレータ回路202は、昇
圧回路201の出力電圧VPPで動作するため、昇圧回路
201に対し多大な負荷を与えていた。通常、昇圧回路
201はチャージポンプ回路であり、その出力電流と出
力電圧との特性は図27のようになる。
However, since the regulator circuit 202 in the conventional semiconductor integrated circuit operates at the output voltage V PP of the booster circuit 201, a large load is applied to the booster circuit 201. Normally, the booster circuit 201 is a charge pump circuit, and the characteristics of its output current and output voltage are as shown in FIG.

【0010】図27は、チャージポンプ回路の出力電流
IPPと出力電圧VPPとの特性を示す図であり、横軸は出
力電流IPP、縦軸は出力電圧VPPを示している。図27
のグラフが示すように、昇圧回路201の出力電圧VPP
は、出力電流IPPの増加に従って減少する特性を持って
いる。したがって、昇圧回路201に対する負荷が増え
ると、出力電流IPPが増えて、所定の出力電圧VPPを得
ることが困難になる。特に、低電源電圧化を図るうえ
で、一定値以上の昇圧電圧VPPを確保するためには、チ
ャージポンプ回路の段数を増やす必要があるが、これに
より出力電流IPPに対する出力電圧VPPの低下率はさら
に増大する。このため、昇圧回路201の出力電圧VPP
を所定の値に保つようにするためには昇圧回路201中
の容量を大きくする必要があり、この結果、昇圧回路2
01の面積が増大するという問題点があった。
FIG. 27 shows the output current of the charge pump circuit.
It is a figure which shows the characteristic of I PP and output voltage V PP , and a horizontal axis shows output current I PP and a vertical axis shows output voltage V PP . FIG. 27
As the graph, the output voltage V PP of the booster circuit 201
Has a characteristic that it decreases as the output current I PP increases. Therefore, if the load on the booster circuit 201 increases, the output current I PP increases, and it becomes difficult to obtain a predetermined output voltage V PP . In particular, in achieving a low power supply voltage, in order to ensure the boosted voltage V PP over a certain value, it is necessary to increase the number of stages of the charge pump circuit, thereby the output voltage V PP with respect to the output current I PP The rate of decrease is further increased. Therefore, the output voltage V PP of the booster circuit 201
In order to keep the voltage at a predetermined value, it is necessary to increase the capacitance in the booster circuit 201. As a result, the booster circuit 2
There is a problem that the area of 01 increases.

【0011】また、同様に、従来の負電圧生成を行う半
導体集積回路においても、レギュレータ回路は負昇圧回
路の出力電圧で動作するため、負昇圧回路に対し負荷を
与えている。このため、上述した昇圧回路の場合と同様
に、負昇圧回路の出力電流が増えて、負昇圧回路が所定
の出力電圧を確保することが困難となり、出力電圧確保
のために、負昇圧回路の面積を増大させて、負昇圧回路
中の容量を増大させる必要があるという問題点があっ
た。
Similarly, also in the conventional semiconductor integrated circuit for generating a negative voltage, the regulator circuit operates with the output voltage of the negative booster circuit, so that a load is applied to the negative booster circuit. Therefore, as in the case of the booster circuit described above, the output current of the negative booster circuit increases, and it becomes difficult for the negative booster circuit to secure a predetermined output voltage. There is a problem that it is necessary to increase the area to increase the capacitance in the negative booster circuit.

【0012】本発明は上記の問題点を解決するためにな
されたものであり、昇圧回路、あるいは負昇圧回路の規
模を減少させることにより、半導体集積回路の面積を削
減することができる半導体集積回路を提供することを目
的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and a semiconductor integrated circuit capable of reducing the area of the semiconductor integrated circuit by reducing the scale of the boosting circuit or the negative boosting circuit. The purpose is to provide.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による半導体集積回路は、電源電圧から負電
圧を生成し、該負電圧を出力する負昇圧回路と、該負電
圧を入力とし、該負電圧から出力電圧を生成し、該出力
電圧を出力端から出力する出力回路と、上記電源電圧か
ら正の参照電圧を生成する参照電圧生成回路と、上記出
力回路の出力電圧と上記参照電圧とを入力とし、上記出
力電圧と上記参照電圧との電位差を所定の分圧比により
分圧した分圧電圧を出力する分圧回路と、上記分圧電圧
と接地電位とを2入力とし、差動増幅した電圧を上記出
力回路に出力する差動増幅回路とを備え、上記差動増幅
回路による上記分圧電圧と接地電位との比較結果によ
り、上記出力回路が制御され、上記出力回路の出力電圧
を所定の負電圧に保持することを特徴とするものであ
る。
In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit according to the present invention is provided with a negative voltage from a power supply voltage.
A negative booster circuit that generates a pressure and outputs the negative voltage;
Pressure as an input, generate an output voltage from the negative voltage,
The output circuit that outputs the voltage from the output terminal and the power supply voltage
Reference voltage generation circuit that generates a positive reference voltage from
The output voltage of the input circuit and the reference voltage above as input
The potential difference between the input voltage and the reference voltage is
A voltage divider circuit that outputs a divided voltage that has been divided, and the above divided voltage
And the ground potential as two inputs, with a voltage obtained by differential amplification a differential amplifier circuit that be output to the output circuit, the differential amplifier
According to the comparison result of the divided voltage and the ground potential by the circuit.
The output circuit is controlled and the output voltage of the output circuit is
Is held at a predetermined negative voltage .

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【0019】[0019]

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【0025】[0025]

【0026】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路は、直列接続
された複数の抵抗を有する抵抗分圧回路であることを特
徴とするものである。
The semiconductor integrated circuit according to the present invention is characterized in that, in the semiconductor integrated circuit, the voltage dividing circuit is a resistance voltage dividing circuit having a plurality of resistors connected in series.

【0027】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路は、ゲートと
ドレインとが接続され、ソースと基板とが接続されたダ
イオード接続の複数のトランジスタを直列に接続し、上
記分圧電圧を、一端が参照電圧に接続された上記ダイオ
ード接続のトランジスタの他端より出力する構造を備
え、上記参照電圧は、上記ダイオード接続のトランジス
タの閾値電圧を、上記分圧回路に最低限の電流を流すに
必要なだけ、上回る電圧である、ことを特徴とするもの
である。
In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, the voltage dividing circuit has a plurality of diode-connected transistors in which a gate and a drain are connected and a source and a substrate are connected in series. Connect and on
The divided voltage is the above-mentioned diode with one end connected to the reference voltage.
Built-in structure to output from the other end of the diode-connected transistor
Well, the above reference voltage is the diode connected transistor.
The threshold voltage of the
It is characterized in that the voltage is higher than necessary .

【0028】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路を、直列接続
された複数の容量と、該複数の容量の両端を短絡して初
期化を行う初期化回路とから構成したことを特徴とする
ものである。
In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, the voltage dividing circuit is initialized by short-circuiting a plurality of capacitors connected in series and both ends of the plurality of capacitors. It is characterized by comprising a circuit.

【0029】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路は、入力され
る制御信号に応じて、上記分圧比を異なる値に設定する
ものであることを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to the present invention is characterized in that, in the semiconductor integrated circuit, the voltage dividing circuit sets the voltage dividing ratio to a different value according to an input control signal. Integrated semiconductor circuit.

【0030】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路を、上記出力
回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端との間に
直列に接続された複数の抵抗と、一端が上記複数の抵抗
間のノードのいずれかに接続され、他端が上記出力回路
の出力端に接続された一つ以上のトランジスタと、上記
制御信号を入力とし、上記トランジスタの制御端に上記
制御信号に基づいた制御電圧を与える制御回路と、上記
複数の抵抗間のノードのいずれかに接続された、分圧電
圧を取り出す出力端とから構成したことを特徴とするも
のである。
Also, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, a plurality of the voltage dividing circuits are connected in series between the output terminal of the output circuit and the output terminal of the reference voltage generating circuit. And one or more transistors, one end of which is connected to one of the nodes between the plurality of resistors and the other end of which is connected to the output end of the output circuit, and which receives the control signal as input, A control circuit for applying a control voltage based on the control signal to a control terminal, and an output terminal for extracting a divided voltage, which is connected to any one of the nodes between the plurality of resistors. is there.

【0031】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路を、上記出力
回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端との間に
直列に接続された複数の、ゲートとドレインとが続さ
れ、ソースと基板とが接続されたダイオード接続のトラ
ンジスタと、一端が上記複数のトランジスタ間のノード
のいずれかに接続され、他端が上記出力回路の出力端に
接続された一つ以上の分圧制御用トランジスタと、上記
制御信号を入力とし、上記分圧制御用トランジスタの制
御端に上記制御信号に基づいた制御電圧を与える制御回
路と、一端を参照電圧に接続した上記ダイオード接続の
トランジスタの他端に接続された、分圧電圧を取り出す
出力端とから構成したことを特徴とするものである。
Also, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, a plurality of the voltage dividing circuits are connected in series between the output terminal of the output circuit and the output terminal of the reference voltage generating circuit. of, the gate and drain are connected, a transistor connected to the source and the substrate and are connected diode, one end connected to one of the nodes between the plurality of transistors, the other end an output terminal of the output circuit One or more voltage dividing control transistors connected to the control circuit, and a control circuit that receives the control signal as an input and applies a control voltage based on the control signal to the control terminal of the voltage dividing control transistor. Of the diode connection above connected to
Connected to the other end of the transistor, it is characterized in that consisted the output terminal to take out the divided voltage.

【0032】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路を、上記出力
回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端との間に
直列に接続された複数の容量と、一端が上記複数の容量
間のノードのいずれかに接続され、他端が上記出力回路
の出力端に接続された一つ以上のトランジスタと、上記
制御信号を入力とし、上記トランジスタの制御端に上記
制御信号に基づいた制御電圧を与える制御回路と、上記
複数の容量の両端を短絡して初期化を行う初期化回路
と、上記複数の容量間のノードのいずれかに接続され
た、分圧電圧を取り出す出力端とから構成したことを特
徴とするものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, a plurality of the voltage dividing circuits are connected in series between the output terminal of the output circuit and the output terminal of the reference voltage generating circuit. And one or more transistors whose one end is connected to any one of the nodes between the plurality of capacitors and whose other end is connected to the output end of the output circuit, and the control signal being input, A control circuit that applies a control voltage based on the control signal to the control terminal, an initialization circuit that short-circuits both ends of the plurality of capacitors to perform initialization, and is connected to one of the nodes between the plurality of capacitors. , And an output terminal for extracting the divided voltage.

【0033】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記分圧回路を、上記出力
回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端との間に
直列に接続された2つの第1の容量と、一端が上記第1の
容量間のノードに接続された一つ以上のトランジスタ
と、一端が上記トランジスタに接続され、他端が上記参
照電圧生成回路の出力端に接続された、上記トランジス
タと同数設けられた第2の容量と、上記制御信号を入力
とし、上記トランジスタの制御端に上記制御信号に基づ
いた制御電圧を与える制御回路と、上記第1の容量間の
ノードを初期化する初期化回路と、上記第1の容量間の
ノードに接続された、分圧電圧を取り出す出力端とから
構成したことを特徴とするものである。
In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, the voltage dividing circuit is connected in series between the output terminal of the output circuit and the output terminal of the reference voltage generating circuit. One first capacitor and one or more transistors having one end connected to the node between the first capacitors, one end connected to the transistor, and the other end connected to the output terminal of the reference voltage generation circuit. Also, a node between the first capacitor and a control circuit that receives the same number of second capacitors as the number of the transistors and the control signal and applies a control voltage based on the control signal to the control terminal of the transistor. And an output terminal connected to the node between the first capacitors for extracting the divided voltage.

【0034】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記出力回路を、ソースが
上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレインが該出力
回路の出力端とされた第1のN型MOSトランジスタ
と、ソースが上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレ
インが上記第1のN型MOSトランジスタのゲートに接
続された第2のN型MOSトランジスタと、ソースが上
記電源電圧に接続され、ドレインが上記第2のN型MO
Sトランジスタのドレインに接続され、ゲートが上記差
動増幅回路の出力端に接続されたP型MOSトランジス
タと、上記第2のN型MOSトランジスタのゲートにバ
イアス電圧を与えるバイアス回路とから構成したことを
特徴とするものである。
Also, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the above semiconductor integrated circuit, the output circuit is configured such that the source is connected to the output end of the negative booster circuit, and the drain is the output end of the output circuit. N-type MOS transistor, a source is connected to the output terminal of the negative booster circuit, a drain is connected to the gate of the first N-type MOS transistor, and a source is the power supply voltage. And a drain connected to the second N-type MO.
A P-type MOS transistor connected to the drain of the S-transistor and having a gate connected to the output terminal of the differential amplifier circuit, and a bias circuit for applying a bias voltage to the gate of the second N-type MOS transistor. It is characterized by.

【0035】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記出力回路を、ソースが
上記負昇圧回路の出力に接続され、ドレインが該出力回
路の出力端とされた第1のN型MOSトランジスタと、
ソースが上記負昇圧回路の出力に接続され、ゲートとド
レインとが上記第1のN型MOSトランジスタのゲート
に接続された第2のN型MOSトランジスタと、ソース
が電源電圧に接続され、ドレインが上記第2のN型MO
Sトランジスタのドレインに接続され、ゲートが上記差
動増幅回路の出力端に接続されたP型MOSトランジス
タとから構成したことを特徴とするものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the above semiconductor integrated circuit, the output circuit has a first source connected to an output of the negative booster circuit and a drain serving as an output terminal of the output circuit. An N-type MOS transistor,
A second N-type MOS transistor having a source connected to the output of the negative booster circuit, a gate and a drain connected to the gate of the first N-type MOS transistor, and a source connected to a power supply voltage and a drain connected to The second N-type MO
It is characterized in that it is composed of a P-type MOS transistor connected to the drain of the S transistor and having a gate connected to the output terminal of the differential amplifier circuit.

【0036】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記出力回路を、ソースが
上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレインが該出力
回路の出力端とされた第1のN型MOSトランジスタ
と、ソースが上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレ
インが上記第1のN型MOSトランジスタのゲートに接
続され、ゲートが接地電位とされた第2のN型MOSト
ランジスタと、ソースが電源電圧に接続され、ドレイン
が上記第2のN型MOSトランジスタのドレインに接続
され、ゲートが上記差動増幅回路の出力端に接続された
P型MOSトランジスタとから構成したことを特徴とす
るものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, the output circuit has a source connected to an output terminal of the negative booster circuit and a drain serving as an output terminal of the output circuit. Second N-type MOS transistor whose source is connected to the output terminal of the negative booster circuit, whose drain is connected to the gate of the first N-type MOS transistor, and whose gate is grounded. And a P-type MOS transistor having a source connected to the power supply voltage, a drain connected to the drain of the second N-type MOS transistor, and a gate connected to the output terminal of the differential amplifier circuit. It is a feature.

【0037】また、本発明による半導体集積回路は、電
源電圧を昇圧した昇圧電圧を出力する昇圧回路と、該昇
圧電圧を入力とし、該昇圧電圧から出力電圧を生成し、
該出力電圧を出力端から出力する第1の出力回路と、上
記電源電圧を入力とし、該電源電圧から参照電圧を生成
して出力する参照電圧生成回路と、上記第1の出力回路
の出力電圧を入力とし、該出力電圧を所定の分圧比によ
り分圧した分圧電圧を出力する第1の分圧回路と、上記
参照電圧と上記第1の分圧回路からの分圧電圧とを2入
力とし、上記参照電圧と上記第1の分圧回路からの分圧
電圧とを上記電源電圧により差動増幅した電圧を上記第
1の出力回路に出力することにより、上記第1の出力回
路を制御して、上記第1の出力回路の出力電圧を所定の
電圧に保持する第1の差動増幅回路と、電源電圧から
負電圧を生成し、該負電圧を出力する負昇圧回路と、該
負電圧を入力とし、該負電圧から負の出力電圧を生成
し、該負の出力電圧を出力端から出力する第2の出力回
路と、上記第2の出力回路の負の出力電圧と上記参照電
圧とを入力とし、上記第2の出力回路の負の出力電圧と
上記参照電圧との電位差を所定の分圧比により分圧した
分圧電圧を出力する第2の分圧回路と、上記第2の分圧
回路からの分圧電圧と接地電位とを2入力とし、上記第
2の分圧回路からの分圧電圧と接地電位とを上記電源電
圧により差動増幅した電圧を上記第2の出力回路に出力
することにより、上記第2の出力回路を制御して、上記
第2の出力回路の負の出力電圧を所定の電圧に保持す
る第2の差動増幅回路とを備えたことを特徴とするもの
である。
Further, the semiconductor integrated circuit according to the present invention has a booster circuit which outputs a boosted voltage obtained by boosting a power supply voltage, and the boosted voltage as an input, which generates an output voltage from the boosted voltage,
A first output circuit that outputs the output voltage from an output terminal, a reference voltage generation circuit that receives the power supply voltage as an input, generates a reference voltage from the power supply voltage, and outputs the reference voltage, and an output voltage of the first output circuit A first voltage divider circuit that outputs a divided voltage obtained by dividing the output voltage by a predetermined voltage dividing ratio, the reference voltage and the divided voltage from the first voltage divider circuit as two inputs. The reference voltage and the divided voltage from the first voltage dividing circuit are differentially amplified by the power supply voltage and output to the first output circuit to control the first output circuit. The output voltage of the first output circuit
A first differential amplifier circuit that holds a positive voltage, a negative booster circuit that generates a negative voltage from a power supply voltage and outputs the negative voltage, and a negative output voltage that receives the negative voltage and that outputs a negative output voltage from the negative voltage. produced, and a second output circuit for outputting the negative output voltage from the output terminal as input and negative output voltage and the reference voltage of the second output circuit, the negative of the second output circuit A second voltage dividing circuit that outputs a divided voltage obtained by dividing the potential difference between the output voltage and the reference voltage by a predetermined dividing ratio, and the divided voltage from the second voltage dividing circuit and the ground potential are 2 The second output circuit is controlled by inputting to the second output circuit a voltage obtained by differentially amplifying the divided voltage from the second voltage dividing circuit and the ground potential with the power supply voltage. to the second differential amplification times for holding the negative output voltage of the second output circuit to a predetermined negative voltage It is characterized in that it comprises and.

【0038】[0038]

【0039】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記第2の分圧回路、上
記第2の出力回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出
力端との間に直列に接続された複数の、ゲートとドレイ
ンとが続され、ソースと基板とが接続されたダイオー
ド接続のトランジスタと、一端が上記複数のトランジス
タ間のノードのいずれかに接続され、他端が上記第2の
出力回路の出力端に接続された一つ以上の分圧制御用ト
ランジスタと、上記制御信号を入力とし、上記分圧制御
用トランジスタの制御端に上記制御信号に基づいた制御
電圧を与える制御回路と、一端を参照電圧に接続した上
記ダイオード接続のトランジスタの他端に接続された、
分圧電圧を取り出す出力端とから構成され、上記参照
電圧は、上記ダイオード接続のトランジスタの閾値電圧
を、上記分圧回路に最低限の電流を流すに必要なだけ、
上回る電圧である、ことを特徴とするものである。
Also, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the semiconductor integrated circuit, the second voltage dividing circuit is provided between the output terminal of the second output circuit and the output terminal of the reference voltage generating circuit. a plurality of serially connected, the gate and drain connections, a transistor connected to the source and the substrate and are connected diode, one end connected to one of the nodes between the plurality of transistors, the other end One or more voltage dividing control transistors connected to the output terminal of the second output circuit and the control signal are input, and a control voltage based on the control signal is applied to the control terminal of the voltage dividing control transistor. Connect the control circuit and the one end to the reference voltage.
Connected to the other end of the diode-connected transistor ,
An output terminal for taking out the divided voltage, is composed of, the reference
The voltage is the threshold voltage of the diode-connected transistor
Is necessary to pass the minimum current to the voltage dividing circuit,
It is characterized in that the voltage is higher .

【0040】また、本発明による半導体集積回路は、上
記半導体集積回路において、上記参照電圧生成回路の出
力を入力とするボルテージフォロア回路をさらに備え、
上記第2の分圧回路は、上記参照電圧として、上記参照
電圧生成回路の出力に代えて、当該ボルテージフォロア
回路の出力電圧を入力とすることを特徴とするものであ
る。
The semiconductor integrated circuit according to the present invention further comprises a voltage follower circuit which receives the output of the reference voltage generation circuit as an input in the semiconductor integrated circuit.
The second voltage dividing circuit is characterized in that the output voltage of the voltage follower circuit is input as the reference voltage instead of the output of the reference voltage generating circuit.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、本発明の実
施の形態1による半導体集積回路について、図面を参照
しながら説明する。図1は、本実施の形態1による半導
体集積回路の構成を示すブロック図である。図1におい
て、半導体集積回路は、この半導体集積回路に供給され
る電源電圧VDDを所定の電圧VPPまで昇圧して出力する
昇圧回路1と、その昇圧電圧VPPの供給を受け、出力電
圧Voを出力するレギュレータ回路2とから構成され
る。ここで、昇圧回路1としては、例えば、チャージポ
ンプ回路がある。レギュレータ回路2は、さらに、参照
電圧生成回路3と、差動増幅回路4と、出力回路5と、
分圧回路6とを備える。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiment 1. Hereinafter, a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment. In FIG. 1, the semiconductor integrated circuit includes a booster circuit 1 for boosting a power supply voltage V DD supplied to the semiconductor integrated circuit to a predetermined voltage V PP and outputting the boosted voltage V PP. The regulator circuit 2 outputs Vo. Here, as the booster circuit 1, for example, there is a charge pump circuit. The regulator circuit 2 further includes a reference voltage generation circuit 3, a differential amplifier circuit 4, an output circuit 5,
And a voltage dividing circuit 6.

【0042】参照電圧生成回路3は、半導体集積回路の
電源電圧VDDを入力として、予め設定された参照電圧V
refを生成し、出力する。差動増幅回路4は、参照電圧
生成回路3の生成した参照電圧Vrefと分圧回路6から
の分圧電圧Vdとを2入力とし、電源電圧VDDにより差
動増幅を行う。なお、参照電圧生成回路3は、電源入力
端(図示せず)に入力された、半導体集積回路に供給さ
れる電源電圧VDDにより動作する。出力回路5は、差動
増幅回路4の出力電圧Vaを制御電圧として昇圧電圧V
PPを調整した、レギュレータ回路2の出力電圧Voを生
成し、これをレギュレータ回路2の外部に出力する。分
圧回路6は、出力回路5の出力電圧Voを所定の分圧比
により分圧した分圧電圧Vdを出力する。
The reference voltage generation circuit 3 receives the power supply voltage V DD of the semiconductor integrated circuit as an input and sets a preset reference voltage V DD.
Generate and output ref. The differential amplifier circuit 4 receives the reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 3 and the divided voltage Vd from the voltage dividing circuit 6 as two inputs, and performs differential amplification with the power supply voltage VDD . The reference voltage generation circuit 3 operates by the power supply voltage V DD supplied to the semiconductor integrated circuit, which is input to the power supply input terminal (not shown). The output circuit 5 uses the output voltage Va of the differential amplifier circuit 4 as a control voltage to increase the boosted voltage V
An output voltage Vo of the regulator circuit 2 in which PP is adjusted is generated, and this is output to the outside of the regulator circuit 2. The voltage dividing circuit 6 outputs the divided voltage Vd obtained by dividing the output voltage Vo of the output circuit 5 by a predetermined voltage dividing ratio.

【0043】次に、本実施の形態1による半導体集積回
路の動作について説明する。昇圧回路1は、電源電圧V
DDから電源電圧VDDより高い昇圧電圧VPPを生成し、こ
れをレギュレータ回路2へ供給する。レギュレータ回路
2は、昇圧電圧VPPを降圧した所定の一定電圧Voを出
力端より外部に出力する。
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment will be described. The booster circuit 1 has a power supply voltage V
A boosted voltage V PP higher than the power supply voltage V DD is generated from DD and is supplied to the regulator circuit 2. The regulator circuit 2 outputs a predetermined constant voltage Vo obtained by stepping down the boosted voltage V PP from the output end to the outside.

【0044】レギュレータ回路2において、参照電圧生
成回路3は、電源電圧VDDから予め設定された参照電圧
Vrefを生成する。従って、参照電圧Vrefは、電源電圧
DDと接地電位VSSとの間のいずれかの値となる。分圧
回路6は、レギュレータ回路2の出力電圧,即ち出力回
路5の出力電圧Voを入力とし、これを所定の分圧比r(r
≧1)に従い、Vo/Vd=rの関係となるように分圧した分
圧電圧Vdを出力する。
In the regulator circuit 2, the reference voltage generation circuit 3 generates a preset reference voltage Vref from the power supply voltage V DD . Therefore, the reference voltage Vref becomes any value between the power supply voltage V DD and the ground potential V SS . The voltage dividing circuit 6 receives the output voltage of the regulator circuit 2, that is, the output voltage Vo of the output circuit 5, as an input, and uses this as a predetermined voltage dividing ratio r (r
According to ≧ 1), the divided voltage Vd divided so as to have a relationship of Vo / Vd = r is output.

【0045】図2は、分圧回路6の構成の一例を示す回
路図である。図2で示されるように、出力回路5の出力
端と接地電位との間に直列に接続された抵抗16a,1
6bと、この抵抗16a,16b間のノードに接続され
た,分圧電圧Vdを取り出す出力端とにより構成される
抵抗分圧回路が、分圧回路6の一例として挙げられる。
なお、この直列接続する抵抗の数は二つ以上であればよ
い。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the configuration of the voltage dividing circuit 6. As shown in FIG. 2, resistors 16a, 1 connected in series between the output terminal of the output circuit 5 and the ground potential.
An example of the voltage dividing circuit 6 is a resistance voltage dividing circuit configured by 6b and an output terminal for extracting the divided voltage Vd, which is connected to the node between the resistors 16a and 16b.
The number of resistors connected in series may be two or more.

【0046】差動増幅回路4には、分圧回路6からの出
力電圧Vdと参照電圧生成回路3から出力される参照電
圧Vrefとが入力される。そして、差動増幅回路4は、
分圧回路6の出力電圧Vdと参照電圧Vrefとを比較し、
電源電圧VDDを用いて差動増幅した出力電圧Vaを出力
回路5に出力する。この出力電圧Vaにより出力回路5
が制御され、分圧回路6の出力電圧VdがVd=Vrefと
なる。そして、出力回路5は、昇圧電圧VPPを降圧した
出力電圧Vo=r・Vref を出力する。このようにして、
レギュレータ回路2の出力電圧Voは、Vo=r・Vrefな
る一定電圧に保持される。なお、参照電圧生成回路3
は、所望の出力電圧Voが得られる参照電圧Vrefを生成
するように、予め設定される。
The output voltage Vd from the voltage dividing circuit 6 and the reference voltage Vref output from the reference voltage generating circuit 3 are input to the differential amplifier circuit 4. Then, the differential amplifier circuit 4
The output voltage Vd of the voltage dividing circuit 6 is compared with the reference voltage Vref,
The output voltage Va differentially amplified using the power supply voltage V DD is output to the output circuit 5. The output circuit 5 uses the output voltage Va.
Is controlled, and the output voltage Vd of the voltage dividing circuit 6 becomes Vd = Vref. Then, the output circuit 5 outputs the output voltage Vo = r · Vref obtained by stepping down the boosted voltage V PP . In this way
The output voltage Vo of the regulator circuit 2 is held at a constant voltage Vo = r · Vref. The reference voltage generation circuit 3
Is preset so as to generate the reference voltage Vref with which the desired output voltage Vo is obtained.

【0047】図3は、本実施の形態1による半導体集積
回路の出力回路5の構成の一例を示す回路図である。図
3において、P型MOSトランジスタM2は、ソースが
昇圧回路1の出力端と接続され、昇圧電圧VPPが入力さ
れるようになっており、バイアス回路41から出力され
るバイアス電圧Vbがゲートに入力される。N型MOS
トランジスタM3は、ソースが接地され、ドレインがP
型MOSトランジスタM2のドレインと接続され、差動
増幅回路4の出力電圧Vaがゲートに入力されている。
P型MOSトランジスタM1は、ソースに昇圧電圧VPP
が入力され、ゲートがP型MOSトランジスタM2のド
レインと接続され、ドレインが出力電圧Voを出力する
出力端となっている。出力回路5は、このような回路構
成により、差動増幅回路5の出力電圧Vaの変化に応じ
てP型MOSトランジスタM1のゲート電圧を変化させ
て、P型MOSトランジスタM1がソースから入力され
る昇圧電圧VPPをゲート電圧に応じて制御したものを出
力電圧Voとして出力する。この結果、出力端からの出
力電圧Voを差動増幅回路4の出力電圧Vaによって制御
することができ、必ずしも一定でない昇圧電圧VPPをレ
ギュレータ回路2により降圧して、安定した所定の一定
電圧Voを出力端より外部に出力することができる。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of the configuration of the output circuit 5 of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment. In FIG. 3, the P-type MOS transistor M2 has a source connected to the output terminal of the booster circuit 1 to receive the boosted voltage V PP , and the bias voltage Vb output from the bias circuit 41 to the gate. Is entered. N-type MOS
The transistor M3 has a source grounded and a drain P
It is connected to the drain of the MOS transistor M2 and the output voltage Va of the differential amplifier circuit 4 is input to the gate.
The P-type MOS transistor M1 has a source with a boosted voltage V PP.
Is input, the gate is connected to the drain of the P-type MOS transistor M2, and the drain serves as an output terminal for outputting the output voltage Vo. With such a circuit configuration, the output circuit 5 changes the gate voltage of the P-type MOS transistor M1 according to the change of the output voltage Va of the differential amplifier circuit 5, and the P-type MOS transistor M1 is input from the source. The boosted voltage V PP controlled according to the gate voltage is output as the output voltage Vo. As a result, the output voltage Vo from the output terminal can be controlled by the output voltage Va of the differential amplifier circuit 4, and the boosted voltage V PP which is not always constant is stepped down by the regulator circuit 2 to obtain a stable predetermined constant voltage Vo. Can be output from the output end to the outside.

【0048】このように、本実施の形態1による半導体
集積回路によれば、電源電圧VDDにより動作する参照電
圧生成回路3と差動増幅回路4とを備えたことで、参照
電圧生成回路3と差動増幅回路4とに昇圧電圧VPPを供
給する必要がなく、昇圧回路1の出力電流を低減できる
ため、昇圧回路1の出力電流の増加に伴う昇圧電圧V PP
の低下を抑えることができる。このため、昇圧回路1に
用いられる容量を削減することが可能となり、半導体集
積回路の面積を削減できる効果が得られる。
As described above, the semiconductor according to the first embodiment
According to the integrated circuit, the power supply voltage VDDThe reference voltage operated by
By including the pressure generation circuit 3 and the differential amplifier circuit 4,
The boosted voltage V is applied to the voltage generation circuit 3 and the differential amplifier circuit 4.PPTogether with
It is not necessary to supply the voltage, and the output current of the booster circuit 1 can be reduced.
Therefore, the boosted voltage V increases with the increase of the output current of the booster circuit 1. PP
Can be suppressed. Therefore, the booster circuit 1
It is possible to reduce the capacity used,
The effect of reducing the area of the product circuit is obtained.

【0049】なお、本実施の形態1においては、出力回
路として、図3で示される出力回路5について説明した
が、これは一例であって、他の出力回路を用いてもよ
い。
Although the output circuit 5 shown in FIG. 3 has been described as the output circuit in the first embodiment, this is an example, and other output circuits may be used.

【0050】図4、及び図5は、出力回路の構成の他の
一例を示す回路図である。例えば、図4に示すように、
図3で示された出力回路5からバイアス回路41を除
き、P型MOSトランジスタM2のゲートをドレインに
接続した構成の出力回路5aを用いても、図3で示した
出力回路5と同様の動作が得られる。
4 and 5 are circuit diagrams showing another example of the configuration of the output circuit. For example, as shown in FIG.
Even when the bias circuit 41 is removed from the output circuit 5 shown in FIG. 3 and the output circuit 5a in which the gate of the P-type MOS transistor M2 is connected to the drain is used, the same operation as that of the output circuit 5 shown in FIG. Is obtained.

【0051】また、図5に示すように、図3で示された
出力回路5からバイアス回路41を除き、P型MOSト
ランジスタM2のゲートを接地した構成の出力回路5b
を用いても、図3で示した出力回路5と同様の動作が得
られる。このように、出力回路の一例として、図3〜図
5で示される出力回路5,5a,5bを用いて説明した
が、本発明の出力回路は、出力回路5,5a,5bと同
様の動作が得られるものであれば、これらに限定されな
い。
Further, as shown in FIG. 5, the output circuit 5b shown in FIG. 3 is formed by removing the bias circuit 41 and grounding the gate of the P-type MOS transistor M2.
Even if is used, the same operation as that of the output circuit 5 shown in FIG. 3 can be obtained. Thus, the output circuits 5, 5a and 5b shown in FIGS. 3 to 5 have been described as an example of the output circuit, but the output circuit of the present invention operates in the same manner as the output circuits 5, 5a and 5b. The present invention is not limited to these as long as the above can be obtained.

【0052】また、本実施の形態1においては、分圧回
路として、図2で示される分圧回路6について説明した
が、これは一例であって、他の分圧回路を用いてもよ
い。
Further, in the first embodiment, the voltage dividing circuit 6 shown in FIG. 2 has been described as the voltage dividing circuit, but this is an example, and another voltage dividing circuit may be used.

【0053】図6、及び図7は、分圧回路の構成の他の
一例を示す回路図である。例えば、図6に示すように、
出力回路5の出力端と接地電位との間に、ゲートとドレ
インとを接続し、ソースと基板とを接続してなる,いわ
ゆるダイオード接続のN型MOSトランジスタ26a〜
26dを直列に接続した構造を有する分圧回路6aを用
いてもよい。分圧回路6aの分圧電圧Vdは、N型MO
Sトランジスタ26a〜26d間のノードのいずれかに
接続された出力端から出力される。なお、N型MOSト
ランジスタ26a〜26dの代りに、ダイオード接続の
P型MOSトランジスタを用いてもよい。
6 and 7 are circuit diagrams showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit. For example, as shown in FIG.
Between the output terminal of the output circuit 5 and the ground potential, the gate and the drain are connected, and the source and the substrate are connected, so-called diode-connected N-type MOS transistor 26a to
The voltage dividing circuit 6a having a structure in which 26d are connected in series may be used. The divided voltage Vd of the voltage dividing circuit 6a is the N-type MO.
The signal is output from the output terminal connected to one of the nodes between the S transistors 26a to 26d. It should be noted that diode-connected P-type MOS transistors may be used instead of the N-type MOS transistors 26a to 26d.

【0054】また、図7に示すように、出力回路5の出
力端と接地電位との間に、直列に接続された容量36
a,36bと、これらの両端を短絡して初期化を行う初
期化回路61と、容量36a、36b間のノードに接続
された,分圧電圧Vdを取り出す出力端とから構成され
る分圧回路6bを用いても、図2で示した分圧回路5と
同様の動作が得られる。このように、分圧回路の一例と
して、図2、図6、及び図7で示される分圧回路6,6
a,6bを用いて説明したが、本発明の分圧回路は、分
圧回路6,6a,6bと同様の動作が得られるものであ
れば、これらに限定されない。
Further, as shown in FIG. 7, a capacitor 36 connected in series between the output terminal of the output circuit 5 and the ground potential.
a and 36b, an initialization circuit 61 that short-circuits both ends of the initialization circuit 61 to perform initialization, and an output terminal that is connected to a node between the capacitors 36a and 36b and that outputs a divided voltage Vd. Even if 6b is used, the same operation as that of the voltage dividing circuit 5 shown in FIG. 2 can be obtained. Thus, as an example of the voltage dividing circuit, the voltage dividing circuits 6 and 6 shown in FIGS. 2, 6 and 7 are used.
Although description has been made using a and 6b, the voltage dividing circuit of the present invention is not limited to these as long as the same operation as that of the voltage dividing circuits 6, 6a and 6b can be obtained.

【0055】実施の形態2.以下、本発明の実施の形態
2による半導体集積回路について、図面を参照しながら
説明する。図8は、本実施の形態2による半導体集積回
路の構成を示すブロック図である。図8において、図1
と同一符号は同一または相当する部分を示している。本
実施の形態2による半導体集積回路は、上記実施の形態
1による半導体集積回路において、制御信号VC1、VC2
により分圧比を変えられる分圧回路7を用いたレギュレ
ータ回路2aを備えたものである。
Embodiment 2. Hereinafter, a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a block diagram showing the configuration of the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment. In FIG. 8, FIG.
The same reference numerals denote the same or corresponding parts. The semiconductor integrated circuit according to the second embodiment is the same as the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment, except for the control signals V C1 and V C2.
The regulator circuit 2a is provided with a voltage dividing circuit 7 whose voltage dividing ratio can be changed by.

【0056】図9は、本実施の形態2による分圧回路7
の構成の一例を示す回路図である。図9において、分圧
回路7は、出力回路5の出力端と接地電位VSSとの間に
直列に接続された複数の抵抗17a〜17dと、レベル
シフト回路71a,71bと、分圧制御用のP型MOS
トランジスタ17e,17fと、分圧電圧Vdを出力す
る出力端とを備える。レベルシフト回路71a,71b
には、それぞれレギュレータ回路2aの出力電圧Vo
と、外部からの制御信号VC1、VC2が入力される。分圧
制御用のP型MOSトランジスタ17eは、ソースが出
力回路5の出力端と接続され、ドレインが抵抗17aと
抵抗17bとの間のノードに接続されており、制御端で
あるゲートにレベルシフト回路71aの出力が入力され
る。分圧制御用のP型MOSトランジスタ17fは、ソ
ースが出力回路5の出力端と接続され、ドレインが抵抗
17bと抵抗17cとの間のノードに接続されており、
制御端であるゲートにレベルシフト回路71bの出力が
入力される。抵抗17cと抵抗17dとの間のノードに
は、分圧した分圧電圧Vdを出力する出力端が接続され
ている。レベルシフト回路71a,71bは、Hレベル
がVDDで、LレベルがVSSである制御信号VC1、V
C2を、HレベルがVo、LレベルがVSSとなるようにレ
ベル変換する。このように、レベルシフト回路71a,
71bは、それぞれ、制御信号VC1、VC2に基づいた制
御電圧を出力する制御回路として用いられる。そして、
分圧回路7においては、制御信号VC1、VC2をレベルシ
フト回路71a,71bに入力することにより、P型M
OSトランジスタ17e,17fがオン、あるいはオフ
され、抵抗比が変わることによって分圧電圧Vdの分圧
比rを変えることができる。
FIG. 9 shows a voltage dividing circuit 7 according to the second embodiment.
3 is a circuit diagram showing an example of the configuration of FIG. In FIG. 9, the voltage dividing circuit 7 includes a plurality of resistors 17a to 17d connected in series between the output end of the output circuit 5 and the ground potential V SS , level shift circuits 71a and 71b, and voltage dividing control. P-type MOS
It has transistors 17e and 17f and an output terminal for outputting the divided voltage Vd. Level shift circuits 71a and 71b
Is the output voltage Vo of the regulator circuit 2a.
And the control signals V C1 and V C2 from the outside are input. In the P-type MOS transistor 17e for voltage division control, the source is connected to the output terminal of the output circuit 5, the drain is connected to the node between the resistors 17a and 17b, and the gate that is the control terminal is level-shifted. The output of the circuit 71a is input. In the P-type MOS transistor 17f for voltage division control, the source is connected to the output terminal of the output circuit 5, and the drain is connected to the node between the resistors 17b and 17c.
The output of the level shift circuit 71b is input to the gate that is the control end. An output terminal for outputting the divided voltage Vd obtained by dividing is connected to a node between the resistors 17c and 17d. The level shift circuits 71a and 71b have control signals V C1 and V C whose H level is V DD and L level is V SS.
The level of C2 is converted so that the H level becomes Vo and the L level becomes V SS . In this way, the level shift circuit 71a,
71b is used as a control circuit that outputs a control voltage based on the control signals V C1 and V C2 , respectively. And
In the voltage dividing circuit 7, by inputting the control signals V C1 and V C2 to the level shift circuits 71a and 71b, the P type M
When the OS transistors 17e and 17f are turned on or off and the resistance ratio changes, the voltage division ratio r of the divided voltage Vd can be changed.

【0057】次に、本実施の形態2による半導体集積回
路の動作について説明する。なお、分圧回路7以外の構
成にかかる動作は、分圧回路6が分圧回路7となった以
外は、実施の形態1と同様であり、説明を省略する。
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment will be described. The operation related to the configuration other than the voltage dividing circuit 7 is the same as that of the first embodiment except that the voltage dividing circuit 6 is the voltage dividing circuit 7, and the description thereof is omitted.

【0058】分圧回路7は、制御信号VC1、VC2によっ
て定まる分圧比r(r≧1)に従い、Vo/Vd=rの関係でレ
ギュレータ回路2aの出力電圧Voを分圧した分圧電圧
Vdを出力する。そして、制御信号VC1、VC2を変化さ
せ、分圧比rを変更することにより、分圧電圧Vdを制御
する。
The voltage dividing circuit 7 divides the output voltage Vo of the regulator circuit 2a according to the voltage dividing ratio r (r ≧ 1) determined by the control signals V C1 and V C2 in the relationship of Vo / Vd = r. Output Vd. Then, the control signals V C1 and V C2 are changed to change the voltage division ratio r to control the divided voltage Vd.

【0059】このように、本実施の形態2による半導体
集積回路によれば、上記実施の形態1と同様の効果を奏
するとともに、制御信号VC1、VC2により分圧比rを変
更できる分圧回路7を備えたことで、制御信号VC1、V
C2を変更することにより、従来例のように参照電圧Vre
fを変更することなく、レギュレータ回路2aの出力電
圧Voを変えることができ、不揮発性半導体記憶装置の
消去、書込み等の動作モードで使用される異なる出力電
圧Voを一つの参照電圧Vrefより生成することが可能と
なる。これにより、参照電圧生成回路3が複数の参照電
圧Vrefを作成する必要がなくなり、参照電圧生成回路
3を簡素化でき、回路規模を縮小することができ、半導
体集積回路の面積をさらに削減できる効果がある。
As described above, the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment has the same effects as those of the first embodiment, and the voltage dividing ratio r can be changed by the control signals V C1 and V C2. 7 is provided, the control signals V C1 , V
By changing C2 , the reference voltage Vre
The output voltage Vo of the regulator circuit 2a can be changed without changing f, and different output voltages Vo used in operation modes such as erasing and writing of the nonvolatile semiconductor memory device are generated from one reference voltage Vref. It becomes possible. As a result, the reference voltage generation circuit 3 does not need to create a plurality of reference voltages Vref, the reference voltage generation circuit 3 can be simplified, the circuit scale can be reduced, and the area of the semiconductor integrated circuit can be further reduced. There is.

【0060】なお、本実施の形態2においては、分圧回
路として、図9で示される分圧回路7について説明した
が、これは一例であって、他の分圧回路を用いてもよ
い。例えば、分圧回路7において、直列接続した抵抗の
数を4つ以外の複数とし、分圧制御用トランジスタ17
e,17fのそれぞれのドレインを異なる抵抗間のノー
ドのいずれかに接続し、抵抗間のノードのいずれかに分
圧電圧Vdを取り出す出力端を設けてもよい。また、分
圧回路7において、分圧制御用のトランジスタを1つ、
あるいは3つ以上の複数としてもよい。
Although the voltage dividing circuit 7 shown in FIG. 9 has been described as the voltage dividing circuit in the second embodiment, this is an example, and another voltage dividing circuit may be used. For example, in the voltage dividing circuit 7, the number of resistors connected in series is plural other than four, and the voltage dividing control transistor 17 is used.
The drains of e and 17f may be connected to any of the nodes between different resistors, and an output terminal for taking out the divided voltage Vd may be provided at any of the nodes between the resistors. Also, in the voltage dividing circuit 7, one transistor for controlling the voltage division,
Alternatively, the number may be three or more.

【0061】図10〜図12は、分圧回路の構成の他の
一例を示す回路図である。例えば、図10に示すよう
に、出力回路5の出力端と接地電位VSSとの間に直列に
接続された複数のN型MOSトランジスタ27a〜27
dと、レベルシフト回路71a,71bと、分圧制御用
のP型MOSトランジスタ17e,17fと、分圧電圧
Vdを出力する出力端とを備えた分圧回路7aを用いて
もよい。
10 to 12 are circuit diagrams showing other examples of the configuration of the voltage dividing circuit. For example, as shown in FIG. 10, a plurality of N-type MOS transistors 27a to 27 connected in series between the output terminal of the output circuit 5 and the ground potential V SS.
It is also possible to use the voltage dividing circuit 7a provided with d, the level shift circuits 71a and 71b, the P-type MOS transistors 17e and 17f for voltage dividing control, and the output terminal for outputting the divided voltage Vd.

【0062】N型MOSトランジスタ27a〜27d
は、ゲートとドレインとが接続され、ソースと基板とが
接続されたダイオード接続のMOSトランジスタであ
る。レベルシフト回路71a,71b、及び分圧制御用
のP型MOSトランジスタ17e,17fは、図9で示
される分圧回路7と同様のものであり、説明を省略す
る。トランジスタ27dのゲート及びソースに、分圧電
圧Vdを出力する出力端が接続されている。
N-type MOS transistors 27a to 27d
Is a diode-connected MOS transistor whose gate and drain are connected and whose source and substrate are connected. The level shift circuits 71a and 71b and the P-type MOS transistors 17e and 17f for voltage division control are the same as those of the voltage division circuit 7 shown in FIG. An output terminal for outputting the divided voltage Vd is connected to the gate and the source of the transistor 27d.

【0063】分圧回路7aにおいては、分圧回路7と同
様に、制御信号VC1、VC2により分圧制御用のP型MO
Sトランジスタ17e,17fをオン、あるいはオフす
ることで分圧電圧Vdの分圧比rを変えることができ
る。ところで、分圧回路7では、レギュレータ回路2a
の出力端から抵抗を介して流れる電流を低減するために
は高抵抗が必要であり、これは面積の面で不利である。
一方、分圧回路7aにおいて、同じ特性のN型MOSト
ランジスタ27a〜27dを用いると、各N型MOSト
ランジスタ27a〜27dのゲート−ソース間には、そ
れぞれ、分圧電圧Vdに等しい電圧がかかることにな
る。また、レギュレータ回路2aの動作時には、分圧電
圧Vdが参照電圧Vrefに等しい値となる。これらより、
参照電圧VrefをN型MOSトランジスタ27a〜27
dの閾値電圧より少し高い電圧に予め設定することで、
レギュレータ回路2aの動作時にN型MOSトランジス
タ27a〜27dのゲート−ソース間電圧が閾値電圧よ
り少し高い電圧となり、分圧回路7aを流れる電流を最
小限に抑えながら、分圧回路7aを動作させることがで
きる。したがって、レギュレータ回路2aの出力からの
電流を最小限にできるため、昇圧回路1の規模を最小限
に抑えることができ、抵抗を有する分圧回路7を用いた
場合と比較して半導体集積回路全体としての回路規模を
さらに削減することができる。なお、N型MOSトラン
ジスタ27a〜27dの代りに、ダイオード接続のP型
MOSトランジスタを用いてもよい。
In the voltage dividing circuit 7a, similar to the voltage dividing circuit 7, the P-type MO for voltage dividing control is controlled by the control signals V C1 and V C2.
The voltage division ratio r of the divided voltage Vd can be changed by turning on or off the S transistors 17e and 17f. By the way, in the voltage dividing circuit 7, the regulator circuit 2a
A high resistance is required to reduce the current flowing from the output end of the resistor through the resistor, which is disadvantageous in terms of area.
On the other hand, if the N-type MOS transistors 27a to 27d having the same characteristics are used in the voltage dividing circuit 7a, a voltage equal to the divided voltage Vd is applied between the gate and the source of each of the N-type MOS transistors 27a to 27d. become. Further, when the regulator circuit 2a operates, the divided voltage Vd becomes a value equal to the reference voltage Vref. From these,
The reference voltage Vref is applied to the N-type MOS transistors 27a to 27.
By presetting to a voltage slightly higher than the threshold voltage of d,
When the regulator circuit 2a operates, the gate-source voltage of the N-type MOS transistors 27a to 27d becomes a voltage slightly higher than the threshold voltage, and the voltage dividing circuit 7a is operated while the current flowing through the voltage dividing circuit 7a is minimized. You can Therefore, the current from the output of the regulator circuit 2a can be minimized, the scale of the booster circuit 1 can be minimized, and the entire semiconductor integrated circuit can be compared with the case where the voltage divider circuit 7 having a resistor is used. The circuit scale can be further reduced. Note that diode-connected P-type MOS transistors may be used instead of the N-type MOS transistors 27a to 27d.

【0064】また、図11に示すように、出力回路5の
出力端と接地電位VSSとの間に直列に接続された複数の
容量37a〜37dと、初期化回路72と、レベルシフ
ト回路71a,71bと、分圧制御用のP型MOSトラ
ンジスタ17e,17fと、分圧電圧Vdを出力する出
力端とを備えた分圧回路7bを用いてもよい。
Further, as shown in FIG. 11, a plurality of capacitors 37a to 37d connected in series between the output terminal of the output circuit 5 and the ground potential V SS , the initialization circuit 72, and the level shift circuit 71a. , 71b, P-type MOS transistors 17e and 17f for voltage division control, and an output terminal for outputting the divided voltage Vd may be used.

【0065】初期化回路72は、各容量37a〜37d
の両端を短絡して初期化を行う。レベルシフト回路71
a,71b、及び分圧制御用のP型MOSトランジスタ
17e,17fは、図9で示される分圧回路7と同様の
ものであり、説明を省略する。容量37cと容量37d
との間のノードに、分圧電圧Vdを出力する出力端が接
続されている。
The initialization circuit 72 includes capacitors 37a to 37d.
Initialize by shorting both ends of. Level shift circuit 71
Since a and 71b and P-type MOS transistors 17e and 17f for voltage division control are the same as those of the voltage division circuit 7 shown in FIG. 9, description thereof will be omitted. Capacity 37c and capacity 37d
An output terminal for outputting the divided voltage Vd is connected to a node between the input terminal and the output terminal.

【0066】分圧回路7bにおいては、分圧回路7と同
様に、レベルシフト回路71a,71bが制御信号
C1、VC2に従って分圧制御用のP型MOSトランジス
タ17e,17fのオン、あるいはオフを決定し、その
後、初期化回路72により容量を初期化することで、分
圧電圧Vdの分圧比rを制御信号VC1、VC2により変える
ことができる。分圧回路7bは、分圧回路7,7aと比
較して、回路を初期化する必要はあるが、レギュレータ
回路2aの出力からの電流が直流成分を持たないため、
分圧回路7bを流れる電流を大幅に削減できる効果を奏
する。
In the voltage dividing circuit 7b, similarly to the voltage dividing circuit 7, the level shift circuits 71a and 71b turn on or off the P-type MOS transistors 17e and 17f for voltage dividing control according to the control signals V C1 and V C2. Is determined, and thereafter the capacity is initialized by the initialization circuit 72, whereby the voltage division ratio r of the divided voltage Vd can be changed by the control signals V C1 and V C2 . The voltage dividing circuit 7b needs to be initialized as compared with the voltage dividing circuits 7 and 7a, but since the current from the output of the regulator circuit 2a does not have a DC component,
This has the effect of significantly reducing the current flowing through the voltage dividing circuit 7b.

【0067】また、図12に示すように、出力回路5の
出力端と接地電位VSSとの間に直列に接続した容量47
a,47bと、一端を接地した容量47c、47dと、
レベルシフト回路71a,71bと、分圧制御用のN型
MOSトランジスタ17g,17hと、初期化回路72
と、分圧電圧Vdを出力する出力端とを備えた分圧回路
7cを用いてもよい。
Further, as shown in FIG. 12, a capacitor 47 connected in series between the output terminal of the output circuit 5 and the ground potential V SS.
a and 47b, and capacitors 47c and 47d whose one ends are grounded,
Level shift circuits 71a and 71b, N-type MOS transistors 17g and 17h for voltage division control, and initialization circuit 72
It is also possible to use a voltage dividing circuit 7c provided with an output terminal for outputting the divided voltage Vd.

【0068】N型MOSトランジスタ17gは、ゲート
にレベルシフト回路71aの出力が接続され、ドレイン
が容量47a,47bの間のノードに接続され、ソース
が容量47cの接地されていない側に接続されている。
N型MOSトランジスタ17hは、ゲートがレベルシフ
ト回路71bの出力に接続され、ドレインが容量47
a,47bの間のノードに接続され、ソースが容量47
dの接地されていない側に接続されている。初期化回路
72は、各容量47a〜47dの両端を短絡して初期化
を行う。レベルシフト回路71a,71bは、図9で示
される分圧回路7と同様のものであり、説明を省略す
る。容量47aと容量47bとの間のノードに、分圧電
圧Vdを出力する出力端が接続されている。
The N-type MOS transistor 17g has its gate connected to the output of the level shift circuit 71a, its drain connected to the node between the capacitors 47a and 47b, and its source connected to the non-grounded side of the capacitor 47c. There is.
In the N-type MOS transistor 17h, the gate is connected to the output of the level shift circuit 71b, and the drain is the capacitor 47.
connected to the node between a and 47b, and the source is the capacitor 47
It is connected to the non-grounded side of d. The initialization circuit 72 performs initialization by short-circuiting both ends of each of the capacitors 47a to 47d. The level shift circuits 71a and 71b are similar to the voltage dividing circuit 7 shown in FIG. An output terminal for outputting the divided voltage Vd is connected to a node between the capacitors 47a and 47b.

【0069】分圧回路7cにおいては、分圧回路7と同
様に、レベルシフト回路71a,71bが制御信号
C1、VC2に従って分圧制御用のN型MOSトランジス
タ17g、17hのオン、あるいはオフを決定し、その
後、初期化回路72により容量47a〜47dを初期化
することで、分圧電圧Vdの分圧比rを制御信号VC1、V
C2により変えることができる。分圧回路7cにおいて
も、分圧回路7bと同様に、レギュレータ回路2aの出
力からの電流を大幅に削減できる効果を奏する。
In the voltage dividing circuit 7c, similarly to the voltage dividing circuit 7, the level shift circuits 71a and 71b turn on or off the N-type MOS transistors 17g and 17h for voltage dividing control according to the control signals V C1 and V C2. Is determined, and thereafter, the capacitors 47a to 47d are initialized by the initialization circuit 72, whereby the voltage division ratio r of the divided voltage Vd is controlled by the control signals V C1 and V C1 .
It can be changed by C2 . Similarly to the voltage dividing circuit 7b, the voltage dividing circuit 7c also has the effect of significantly reducing the current from the output of the regulator circuit 2a.

【0070】このように、分圧回路の一例として、図9
〜図12で示される分圧回路7,7a,7b,7cを用
いて説明したが、本発明の分圧回路は、分圧回路7,7
a,7b,7cと同様の動作が得られるものであれば、
これらに限定されない。
As described above, as an example of the voltage dividing circuit, FIG.
Although the voltage divider circuits 7, 7a, 7b, 7c shown in FIG. 12 have been used for explanation, the voltage divider circuit of the present invention is not limited to the voltage divider circuits 7, 7c.
If the same operation as a, 7b, 7c can be obtained,
It is not limited to these.

【0071】実施の形態3.以下、本発明の実施の形態
3による半導体集積回路について、図面を参照しながら
説明する。図13は、本実施の形態3による半導体集積
回路の構成を示すブロック図である。
Third Embodiment Hereinafter, a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 13 is a block diagram showing the configuration of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment.

【0072】図13において、図1と同一符号は同一ま
たは相当する部分を示している。本実施の形態3による
半導体集積回路は、この半導体集積回路に供給される電
源電圧VDDから所定の負電圧VBBを生成する負昇圧回路
8と、負昇圧回路8の生成した負電圧VBBを入力とし
て、出力電圧Voを生成し,出力するレギュレータ回路
12とから構成される。ここで、負昇圧回路8として
は、例えば、負昇圧を行うチャージポンプ回路がある。
レギュレータ回路12は、さらに、参照電圧生成回路3
と、差動増幅回路4と、出力回路9と、分圧回路10と
を備える。
In FIG. 13, the same symbols as in FIG. 1 indicate the same or corresponding portions. The semiconductor integrated circuit according to the third embodiment, a negative booster circuit 8 for generating a predetermined negative voltage V BB from the power supply voltage V DD supplied to the semiconductor integrated circuit, the negative voltage V BB generated negative booster circuit 8 Is input, and the regulator circuit 12 which produces | generates and outputs the output voltage Vo is comprised. Here, as the negative booster circuit 8, for example, there is a charge pump circuit that performs negative boosting.
The regulator circuit 12 further includes a reference voltage generation circuit 3
A differential amplifier circuit 4, an output circuit 9, and a voltage dividing circuit 10.

【0073】差動増幅回路4は、分圧回路10からの分
圧電圧Vdと接地電位VSSとを2入力とし、電源電圧V
DDにより差動増幅を行う。なお、参照電圧生成回路3
は、電源入力端に入力された半導体集積回路に供給され
る電源電圧VDDにより動作する。出力回路9は、差動増
幅回路4の出力電圧Vaを制御電圧として、負昇圧回路
8の生成した負電圧VBBを調整した出力電圧Voを生成
し、これをレギュレータ回路12の外部に出力する。分
圧回路10は、参照電圧Vrefとレギュレータ回路12
の出力電圧Voとを入力とし、両者の電位差を所定の分
圧比により分圧した分圧電圧Vdを出力する。なお、参
照電圧生成回路3は、上記実施の形態1の参照電圧生成
回路3と同様のものであるが、本実施の形態3による参
照電圧生成回路3において、出力インピーダンスが高い
場合には、参照電圧Vrefをボルテージフォロアを介し
て低インピーダンス化して分圧回路10に供給してもよ
い。
The differential amplifier circuit 4 receives the divided voltage Vd from the voltage dividing circuit 10 and the ground potential V SS as two inputs, and supplies the power source voltage V
Differential amplification is performed by DD . The reference voltage generation circuit 3
Operates with the power supply voltage V DD supplied to the semiconductor integrated circuit, which is input to the power input terminal. The output circuit 9 uses the output voltage Va of the differential amplifier circuit 4 as a control voltage to generate an output voltage Vo in which the negative voltage V BB generated by the negative booster circuit 8 is adjusted, and outputs this to the outside of the regulator circuit 12. . The voltage dividing circuit 10 includes a reference voltage Vref and a regulator circuit 12
Of the output voltage Vo is input, and a divided voltage Vd obtained by dividing the potential difference between the two with a predetermined dividing ratio is output. The reference voltage generation circuit 3 is similar to the reference voltage generation circuit 3 of the first embodiment, but in the reference voltage generation circuit 3 of the third embodiment, when the output impedance is high, The voltage Vref may be supplied to the voltage dividing circuit 10 with a low impedance via a voltage follower.

【0074】次に、本実施の形態3による半導体集積回
路の動作について説明する。負昇圧回路8は、正の電源
電圧VDDから負電圧VBBを生成し、これをレギュレータ
回路12へ供給する。レギュレータ回路12は、負電圧
BBを入力として、所定の負の一定電圧Voを出力端よ
り外部に出力する。レギュレータ回路12において、参
照電圧生成回路3は、電源電圧VDDから予め設定された
参照電圧Vrefを生成する。従って、参照電圧Vrefは、
電源電圧V DDと接地電位VSSとの間のいずれかの値とな
る。分圧回路10は、レギュレータ回路12の出力電
圧、即ち出力回路9の出力電圧Voと参照電圧Vrefとの
電位差を所定の分圧比rに従い、(Vd−Vo)/(Vref−V
d)=rの関係となるように分圧した分圧電圧Vdを出力す
る。
Next, the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment will be described.
The operation of the road will be described. The negative booster circuit 8 is a positive power source.
Voltage VDDTo negative voltage VBBGenerate this regulator
Supply to the circuit 12. The regulator circuit 12 has a negative voltage
VBBIs input and a predetermined negative constant voltage Vo is output from
Output to the outside. In the regulator circuit 12, see
The illumination voltage generation circuit 3 has a power supply voltage VDDPreset from
The reference voltage Vref is generated. Therefore, the reference voltage Vref is
Power supply voltage V DDAnd ground potential VSSAny value between and
It The voltage dividing circuit 10 outputs the output voltage of the regulator circuit 12.
Of the output voltage Vo of the output circuit 9 and the reference voltage Vref
The potential difference is (Vd-Vo) / (Vref-V) according to the predetermined voltage division ratio r.
d) Output the divided voltage Vd divided so that the relation of r
It

【0075】図14は、分圧回路10の構成の一例を示
す回路図である。図14で示されるように、出力回路9
の出力端と参照電圧生成回路3の出力端との間に直列に
接続された抵抗110a,110bと、この抵抗110
a,110b間のノードに接続された,分圧電圧Vdを
取り出す出力端とにより構成される抵抗分圧回路が、分
圧回路10の一例として挙げられる。なお、この直列接
続する抵抗の数は二つ以上であればよい。
FIG. 14 is a circuit diagram showing an example of the configuration of the voltage dividing circuit 10. As shown in FIG. 14, the output circuit 9
Of the resistors 110a and 110b connected in series between the output terminal of the resistor 110 and the output terminal of the reference voltage generation circuit 3, and the resistor 110a and 110b.
An example of the voltage dividing circuit 10 is a resistance voltage dividing circuit which is connected to the node between a and 110b and is configured with an output terminal for extracting the divided voltage Vd. The number of resistors connected in series may be two or more.

【0076】差動増幅回路4には、分圧回路10からの
分圧電圧Vdと接地電位VSSとが入力される。そして、
差動増幅回路4は、分圧電圧Vdと接地電位VSSとを比
較し、電源電圧VDDを用いて差動増幅した出力電圧Va
を出力回路9に出力する。この出力電圧Vaにより出力
回路9が制御され、分圧回路10の分圧電圧VdがVd=
SSとなる。そして、出力回路9は、負電圧VBBを調整
した出力電圧Vo=−r・Vrefを出力する。このように
して、レギュレータ回路12の出力電圧Voは、Vo=−
r・Vrefとなる一定の負電圧に保持される。なお、参照
電圧生成回路3は、所望の出力電圧Voが得られる参照
電圧Vrefを生成するように、予め設定される。
The divided voltage Vd from the voltage dividing circuit 10 and the ground potential V SS are input to the differential amplifier circuit 4. And
The differential amplifier circuit 4 compares the divided voltage Vd with the ground potential V SS and differentially amplifies the output voltage Va using the power supply voltage V DD.
Is output to the output circuit 9. The output circuit 9 is controlled by this output voltage Va, and the divided voltage Vd of the voltage dividing circuit 10 is Vd =
It becomes V SS . Then, the output circuit 9 outputs the output voltage Vo = −r · Vref obtained by adjusting the negative voltage V BB . In this way, the output voltage Vo of the regulator circuit 12 is Vo = −
It is held at a constant negative voltage of r · Vref. The reference voltage generation circuit 3 is preset so as to generate the reference voltage Vref with which the desired output voltage Vo is obtained.

【0077】図15は、本実施の形態3による半導体集
積回路の出力回路9の構成の一例を示す回路図である。
図15において、P型MOSトランジスタM5は、ソー
スが電源電圧VDDと接続され、ゲートに差動増幅回路4
の出力電圧Vaが入力される。N型MOSトランジスタ
M6は、ドレインがP型MOSトランジスタM5のドレ
インと接続され、ゲートにバイアス回路91のバイアス
電圧Vbが入力され、ソースが負昇圧回路8の出力端と
接続されて負電圧VBBが入力される。N型MOSトラン
ジスタM4は、ソースが負昇圧回路8の出力端と接続さ
れて負電圧VBBが入力され、ゲートがP型MOSトラン
ジスタM5のドレインと接続され、ドレインが出力電圧
Voを出力する出力端となっている。この出力回路9
は、バイアス回路91によってバイアス電圧Vbをゲー
トに与えたN型MOSトランジスタM6と、差動増幅回
路4の出力電圧Vaをゲートに与えたP型MOSトラン
ジスタM5とからなる回路の出力により、N型MOSト
ランジスタM4を制御することで、出力端の電圧Voを
差動増幅回路4の出力電圧Vaによって制御することが
できる。
FIG. 15 is a circuit diagram showing an example of the structure of the output circuit 9 of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment.
In FIG. 15, the P-type MOS transistor M5 has its source connected to the power supply voltage V DD and its gate connected to the differential amplifier circuit 4
Output voltage Va is input. The N-type MOS transistor M6 has a drain connected to the drain of the P-type MOS transistor M5, a gate to which the bias voltage Vb of the bias circuit 91 is input, and a source connected to the output terminal of the negative booster circuit 8 to form a negative voltage V BB. Is entered. In the N-type MOS transistor M4, the source is connected to the output end of the negative booster circuit 8 to receive the negative voltage V BB , the gate is connected to the drain of the P-type MOS transistor M5, and the drain outputs the output voltage Vo. It is the end. This output circuit 9
Is an N-type by the output of a circuit including an N-type MOS transistor M6 whose gate is supplied with the bias voltage Vb by the bias circuit 91 and a P-type MOS transistor M5 whose gate is supplied with the output voltage Va of the differential amplifier circuit 4. By controlling the MOS transistor M4, the voltage Vo at the output end can be controlled by the output voltage Va of the differential amplifier circuit 4.

【0078】このように、本実施の形態3による半導体
集積回路によれば、電源電圧VDDにより動作する参照電
圧生成回路3と差動増幅回路4とを備えたことで、参照
電圧生成回路3と差動増幅回路4とに負電圧VBBを供給
する必要がなく、負昇圧回路8の出力電流を低減できる
ため、負昇圧回路8の出力電流の増加に伴う負電圧V BB
の上昇を抑えることができる。このため、負昇圧回路8
に用いられる容量を削減することが可能となり、半導体
集積回路の面積を削減できる効果が得られる。なお、本
実施の形態3においては、出力回路として、図15で示
される出力回路9について説明したが、これは一例であ
って、他の出力回路を用いてもよい。
As described above, the semiconductor according to the third embodiment
According to the integrated circuit, the power supply voltage VDDThe reference voltage operated by
By including the pressure generation circuit 3 and the differential amplifier circuit 4,
A negative voltage V is applied to the voltage generation circuit 3 and the differential amplifier circuit 4.BBSupply
Output current of the negative booster circuit 8 can be reduced.
Therefore, as the output current of the negative booster circuit 8 increases, the negative voltage V BB
Can suppress the rise of. Therefore, the negative booster circuit 8
It is possible to reduce the capacity used for
The effect of reducing the area of the integrated circuit is obtained. The book
In the third embodiment, the output circuit is shown in FIG.
The output circuit 9 to be output is described above, but this is an example.
Therefore, other output circuits may be used.

【0079】図16、及び図17は、出力回路の構成の
他の一例を示す回路図である。例えば、図16に示すよ
うに、図15で示された出力回路9からバイアス回路9
1を除き、N型MOSトランジスタM6のゲートをドレ
インに接続した構成の出力回路9aを用いても、図15
で示した出力回路9と同様の動作が得られる。また、図
17に示すように、図15で示された出力回路9からバ
イアス回路91を除き、N型MOSトランジスタM6の
ゲートを接地した構成の出力回路9bを用いても、図1
5で示した出力回路9と同様の動作が得られる。
16 and 17 are circuit diagrams showing another example of the configuration of the output circuit. For example, as shown in FIG. 16, the output circuit 9 shown in FIG.
Even if the output circuit 9a having a configuration in which the gate of the N-type MOS transistor M6 is connected to the drain is used except for the configuration shown in FIG.
An operation similar to that of the output circuit 9 shown by is obtained. Further, as shown in FIG. 17, even if the bias circuit 91 is removed from the output circuit 9 shown in FIG. 15 and the output circuit 9b in which the gate of the N-type MOS transistor M6 is grounded is used,
An operation similar to that of the output circuit 9 shown by 5 is obtained.

【0080】このように、出力回路の一例として、図1
5〜図17で示される出力回路9,9a,9bを用いて
説明したが、本発明の出力回路は、出力回路9,9a,
9bと同様の動作が得られるものであれば、これらに限
定されない。また、本実施の形態3においては、分圧回
路10として、図14で示される分圧回路10について
説明したが、これは一例であって、他の分圧回路を用い
てもよい。
Thus, as an example of the output circuit, FIG.
Although the output circuits 9, 9a and 9b shown in FIGS. 5 to 17 are used for explanation, the output circuit of the present invention is
It is not limited to these as long as the same operation as 9b can be obtained. Further, in the third embodiment, the voltage dividing circuit 10 shown in FIG. 14 has been described as the voltage dividing circuit 10, but this is an example, and another voltage dividing circuit may be used.

【0081】図18、及び図19は、分圧回路の構成の
他の一例を示す回路図である。例えば、図18に示すよ
うに、参照電圧生成回路3の出力端と出力回路9の出力
端との間に、ゲートとドレインとを接続し、ソースと基
板とを接続してなる,いわゆるダイオード接続のN型M
OSトランジスタ120a〜120dを直列に接続した
構造を有する分圧回路10aを用いてもよい。分圧回路
10aの分圧電圧Vdは、N型MOSトランジスタ12
0a〜120d間のノードのいずれかに接続された出力
端から出力される。なお、N型MOSトランジスタ12
0a〜120dの代りに、ダイオード接続のP型MOS
トランジスタを用いてもよい。
18 and 19 are circuit diagrams showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit. For example, as shown in FIG. 18, a so-called diode connection in which a gate and a drain are connected between an output end of the reference voltage generation circuit 3 and an output end of the output circuit 9 and a source and a substrate are connected to each other N type M
The voltage dividing circuit 10a having a structure in which the OS transistors 120a to 120d are connected in series may be used. The divided voltage Vd of the voltage dividing circuit 10a is equal to the N-type MOS transistor 12
It is output from the output terminal connected to any of the nodes 0a to 120d. The N-type MOS transistor 12
Instead of 0a-120d, diode-connected P-type MOS
A transistor may be used.

【0082】また、図19に示すように、参照電圧生成
回路3の出力端と出力回路9の出力端との間に、直列に
接続された容量130a,130bと、これらの両端を
短絡して初期化を行う初期化回路191と、容量130
a,130b間のノードに接続された,分圧電圧Vdを
取り出す出力端とから構成される分圧回路10bを用い
ても、図14で示した分圧回路10と同様の動作が得ら
れる。このように、分圧回路の一例として、図14、図
18、及び図19で示される分圧回路10,10a,1
0bを用いて説明したが、本発明の分圧回路は、分圧回
路10,10a,10bと同様の動作が得られるもので
あれば、これらに限定されない。
Further, as shown in FIG. 19, capacitors 130a and 130b connected in series between the output terminal of the reference voltage generating circuit 3 and the output terminal of the output circuit 9 are short-circuited at both ends thereof. An initialization circuit 191 for performing initialization and a capacitor 130
The same operation as that of the voltage dividing circuit 10 shown in FIG. 14 can be obtained by using the voltage dividing circuit 10b including the output terminal for extracting the divided voltage Vd, which is connected to the node between a and 130b. Thus, as an example of the voltage dividing circuit, the voltage dividing circuits 10, 10a, 1 shown in FIGS. 14, 18, and 19 are used.
However, the voltage dividing circuit of the present invention is not limited to these as long as the same operation as that of the voltage dividing circuits 10, 10a and 10b can be obtained.

【0083】実施の形態4.以下、本発明の実施の形態
4による半導体集積回路について、図面を参照しながら
説明する。図20は、本実施の形態4による半導体集積
回路の構成を示すブロック図である。図20において、
図13と同一符号は同一または相当する回路図である。
本実施の形態4による半導体集積回路は、上記実施の形
態3による半導体集積回路において、制御信号VC1、V
C2により、その分圧比を変えられる分圧回路11を分圧
回路として用いたレギュレータ回路12aを備えたもの
である。
Fourth Embodiment Hereinafter, a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 20 is a block diagram showing the configuration of the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment. In FIG. 20,
13 are the same or corresponding circuit diagrams.
The semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment differs from the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment in that the control signals V C1 and V C1
A regulator circuit 12a using a voltage dividing circuit 11 whose voltage dividing ratio can be changed by C2 as a voltage dividing circuit is provided.

【0084】図21は、本実施の形態4による分圧回路
11の構成の一例を示す回路図である。図21におい
て、分圧回路11は、参照電圧生成回路3の出力端と出
力回路9の出力端との間に直列に接続された複数の抵抗
111a〜111dと、レベルシフト回路112a、1
12bと、分圧制御用のN型MOSトランジスタ111
e,111fと、分圧電圧Vdを出力する出力端とを備
える。レベルシフト回路112a、112bには、それ
ぞれレギュレータ回路12aの出力電圧Voと、外部か
らの制御信号VC1、VC2が入力される。分圧制御用のN
型MOSトランジスタ111eは、ソースに出力回路9
の出力電圧Voが入力され、ドレインが抵抗111bと
111cとの間のノードに接続され、制御端であるゲー
トにレベルシフト回路112aの出力が入力される。分
圧制御用のN型MOSトランジスタ111fは、ソース
に出力回路9の出力電圧Voが入力され、ドレインが抵
抗111cと111dとの間のノードに接続され、制御
端であるゲートにレベルシフト回路112bの出力が入
力される。抵抗111aと抵抗111bとの間のノード
には、分圧電圧Vdを出力する出力端が接続されてい
る。レベルシフト回路112a,112bは、Hレベル
がVDDで、LレベルがVSSである制御信号VC1、V
C2を、HレベルがVDD、LレベルがVoとなるようにレ
ベル変換する。このように、レベルシフト回路112
a,112bは、それぞれ、制御信号VC1、VC2に基づ
いた制御電圧を出力する制御回路として用いられてい
る。そして、分圧回路11においては、制御信号VC1
C2をレベルシフト回路112a,112bに入力する
ことにより、N型MOSトランジスタ111e,111
fがオン、あるいはオフされ、抵抗比が変わることによ
って分圧電圧Vdの分圧比rを変えることができる。
FIG. 21 is a voltage divider circuit according to the fourth embodiment.
11 is a circuit diagram showing an example of the configuration of FIG. Figure 21 Smell
The voltage dividing circuit 11 is connected to the output terminal of the reference voltage generating circuit 3 and outputs.
A plurality of resistors connected in series with the output terminal of the force circuit 9.
111a-111d and level shift circuits 112a, 1
12b and an N-type MOS transistor 111 for voltage division control
e, 111f and an output end for outputting the divided voltage Vd
Get The level shift circuits 112a and 112b have
The output voltage Vo of each regulator circuit 12a and the external
Control signal VC1, VC2Is entered. N for partial pressure control
Type MOS transistor 111e has an output circuit 9 at the source.
Output voltage Vo is input and the drain is connected to the resistor 111b.
111c, which is connected to a node between
The output of the level shift circuit 112a is input to the input terminal. Minute
The N-type MOS transistor 111f for voltage control has a source
The output voltage Vo of the output circuit 9 is input to the
Connected to the node between anti-111c and 111d, and control
The output of the level shift circuit 112b is input to the gate at the end.
I will be forced. A node between the resistors 111a and 111b
An output end for outputting the divided voltage Vd is connected to
It The level shift circuits 112a and 112b are at the H level
Is VDDAnd L level is VSSControl signal V which isC1, V
C2H level is VDD, So that the L level becomes Vo
Bell transform. In this way, the level shift circuit 112
a and 112b are control signals V, respectively.C1, VC2Based on
Used as a control circuit that outputs the control voltage
It Then, in the voltage dividing circuit 11, the control signal VC1,
VC2Is input to the level shift circuits 112a and 112b.
As a result, the N-type MOS transistors 111e and 111
If f is turned on or off and the resistance ratio changes,
Thus, the division ratio r of the divided voltage Vd can be changed.

【0085】次に、本実施の形態4による半導体集積回
路の動作について説明する。なお、分圧回路11以外の
構成にかかる動作は、分圧回路10が分圧回路11とな
った以外は、実施の形態3と同様であり、説明を省略す
る。
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment will be described. The operation related to the configuration other than the voltage dividing circuit 11 is the same as that of the third embodiment except that the voltage dividing circuit 10 is the voltage dividing circuit 11, and the description thereof is omitted.

【0086】分圧回路11は、制御信号VC1、VC2によ
り定まる分圧比rに従い、(Vd−Vo)/(Vref−Vd)=r
の関係で、レギュレータ回路12aの出力電圧Voと参
照電圧Vrefとの電位差を分圧した分圧電圧Vdを出力す
る。そして、制御信号VC1、V C2を変化させ、分圧比r
を変更することにより、分圧電圧Vdを制御する。
The voltage dividing circuit 11 controls the control signal VC1, VC2By
According to the determined voltage division ratio r, (Vd-Vo) / (Vref-Vd) = r
Therefore, refer to the output voltage Vo of the regulator circuit 12a.
It outputs the divided voltage Vd which is the potential difference from the reference voltage Vref.
It And the control signal VC1, V C2By changing the partial pressure ratio r
The divided voltage Vd is controlled by changing.

【0087】このように、本実施の形態4による半導体
集積回路によれば、上記実施の形態3と同様の効果を奏
するとともに、制御信号VC1、VC2により分圧比rを変
更できる分圧回路11を備えたことで、制御信号VC1
C2を変更することにより、従来例のように参照電圧V
refを変更することなく、レギュレータ回路12aの出
力電圧Voを変えることができ、不揮発性半導体記憶装
置の消去、書込み等の動作モードで使用される異なる負
の出力電圧Voを、一つの正の参照電圧Vrefより生成す
ることが可能となる。これにより、参照電圧生成回路3
が複数の参照電圧Vrefを作成する必要がなくなり、参
照電圧生成回路3を簡素化でき、回路規模を縮小するこ
とができ、半導体集積回路の面積をさらに削減できる効
果がある。
As described above, the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment has the same effects as those of the third embodiment, and the voltage dividing ratio r can be changed by the control signals V C1 and V C2. With the provision of 11, the control signal V C1 ,
By changing V C2 , the reference voltage V
The output voltage Vo of the regulator circuit 12a can be changed without changing ref, and different negative output voltages Vo used in operation modes such as erasing and writing of the nonvolatile semiconductor memory device can be referred to as one positive reference. It can be generated from the voltage Vref. As a result, the reference voltage generation circuit 3
However, there is no need to create a plurality of reference voltages Vref, the reference voltage generation circuit 3 can be simplified, the circuit scale can be reduced, and the area of the semiconductor integrated circuit can be further reduced.

【0088】なお、本実施の形態4においては、分圧回
路として、図21で示される分圧回路11について説明
したが、これは一例であって、他の分圧回路を用いても
よい。例えば、分圧回路11において、直列接続した抵
抗の数を4つ以外の複数とし、分圧制御用トランジスタ
111e,111fのそれぞれのドレインを異なる抵抗
間のノードのいずれかに接続し、抵抗間のノードのいず
れかに分圧電圧Vdを取り出す出力端を設けてもよい。
また、分圧回路11において、分圧制御用のトランジス
タを1つあるいは3つ以上の複数としてもよい。
Although the voltage dividing circuit 11 shown in FIG. 21 has been described as the voltage dividing circuit in the fourth embodiment, this is an example, and another voltage dividing circuit may be used. For example, in the voltage dividing circuit 11, the number of resistors connected in series is plural other than four, and the drains of the voltage dividing control transistors 111e and 111f are connected to any of the nodes between the different resistors, and An output terminal for extracting the divided voltage Vd may be provided at any of the nodes.
Further, the voltage dividing circuit 11 may have one or three or more transistors for voltage dividing control.

【0089】図22〜図24は、分圧回路の構成の他の
一例を示す回路図である。例えば、図22に示すよう
に、参照電圧生成回路3の出力端と出力回路9の出力端
との間に直列に接続された複数のN型MOSトランジス
タ121a〜121dと、レベルシフト回路112a,
112bと、分圧制御用のN型MOSトランジスタ11
1e,111fと、分圧電圧Vdを出力する出力端とを
備えた分圧回路11aを用いてもよい。
22 to 24 are circuit diagrams showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit. For example, as shown in FIG. 22, a plurality of N-type MOS transistors 121a to 121d connected in series between the output terminal of the reference voltage generating circuit 3 and the output terminal of the output circuit 9 and the level shift circuit 112a,
112b and N-type MOS transistor 11 for voltage division control
You may use the voltage dividing circuit 11a provided with 1e, 111f and the output terminal which outputs the divided voltage Vd.

【0090】N型MOSトランジスタ121a〜121
dは、ゲートとドレインとが接続され、ソースと基板と
が接続されたダイオード接続のMOSトランジスタであ
る。レベルシフト回路112a,112b、及び分圧制
御用のN型MOSトランジスタ111e,111fは、
図21で示される分圧回路11と同様のものであり、説
明を省略する。トランジスタ121aとトランジスタ1
21bとの間のノードに、分圧電圧Vdを出力する出力
端が接続されている。
N-type MOS transistors 121a to 121
Reference numeral d is a diode-connected MOS transistor in which the gate and the drain are connected and the source and the substrate are connected. The level shift circuits 112a and 112b and the N-type MOS transistors 111e and 111f for voltage division control are
Since it is the same as the voltage dividing circuit 11 shown in FIG. 21, description thereof will be omitted. Transistor 121a and transistor 1
An output terminal for outputting the divided voltage Vd is connected to a node between the terminal 21b and 21b.

【0091】分圧回路11aにおいては、分圧回路11
と同様に、制御信号VC1、VC2によりN型MOSトラン
ジスタ117e,117fをオン、あるいはオフするこ
とで分圧電圧Vdの分圧比rを変えることができる。と
ころで、分圧回路11では、レギュレータ回路12aの
出力端から抵抗を介して流れる電流を低減するためには
高抵抗が必要であり、これは面積の面で不利である。一
方、分圧回路11aにおいては、同じ特性のN型MOS
トランジスタ121a〜121dを用い、参照電圧Vre
fをN型MOSトランジスタ121a〜121dの閾値
電圧より少し高い電圧に設定することで、上記実施の形
態2の分圧回路7aの場合と同様に、分圧回路11aを
流れる電流を最小限にできるため、負昇圧回路8の規模
を最小限に抑えることができ、抵抗を有する分圧回路1
1を用いた場合と比較して半導体集積回路全体としての
回路規模をさらに削減することができる。なお、N型M
OSトランジスタ121a〜121dの代りに、ダイオ
ード接続のP型MOSトランジスタを用いてもよい。
In the voltage dividing circuit 11a, the voltage dividing circuit 11
Similarly, the voltage dividing ratio r of the divided voltage Vd can be changed by turning on or off the N-type MOS transistors 117e and 117f by the control signals V C1 and V C2 . By the way, in the voltage dividing circuit 11, a high resistance is required in order to reduce the current flowing from the output end of the regulator circuit 12a through the resistance, which is disadvantageous in terms of area. On the other hand, in the voltage dividing circuit 11a, the N-type MOS having the same characteristics is used.
Using the transistors 121a to 121d, the reference voltage Vre
By setting f to a voltage slightly higher than the threshold voltage of the N-type MOS transistors 121a to 121d, the current flowing through the voltage dividing circuit 11a can be minimized as in the case of the voltage dividing circuit 7a according to the second embodiment. Therefore, the scale of the negative booster circuit 8 can be minimized, and the voltage divider circuit 1 having a resistor is provided.
The circuit scale of the entire semiconductor integrated circuit can be further reduced as compared with the case where 1 is used. In addition, N type M
A diode-connected P-type MOS transistor may be used instead of the OS transistors 121a to 121d.

【0092】また、図23に示すように、参照電圧生成
回路3の出力端と出力回路9の出力端との間に直列に接
続された複数の容量131a〜131dと、初期化回路
113と、レベルシフト回路112a,112bと、分
圧制御用のN型MOSトランジスタ111e,111f
と、分圧電圧Vdを出力する出力端とを備えた分圧回路
11bを用いてもよい。
Further, as shown in FIG. 23, a plurality of capacitors 131a to 131d connected in series between the output terminal of the reference voltage generating circuit 3 and the output terminal of the output circuit 9, an initialization circuit 113, Level shift circuits 112a and 112b and N-type MOS transistors 111e and 111f for voltage division control
It is also possible to use a voltage dividing circuit 11b provided with an output terminal for outputting the divided voltage Vd.

【0093】初期化回路113は、容量131a〜13
1dの両端を短絡して初期化を行う。レベルシフト回路
112a,112b、及び分圧制御用のN型MOSトラ
ンジスタ111e,111fは、図21で示される分圧
回路11と同様のものであり、説明を省略する。容量1
31aと容量131bとの間のノードに、分圧電圧Vd
を出力するための出力端が接続されている。
The initialization circuit 113 includes capacitors 131a to 13a.
Initialization is performed by short-circuiting both ends of 1d. The level shift circuits 112a and 112b and the N-type MOS transistors 111e and 111f for voltage division control are the same as those of the voltage division circuit 11 shown in FIG. Capacity 1
The divided voltage Vd is applied to the node between 31a and the capacitor 131b.
The output terminal for outputting is connected.

【0094】分圧回路11bにおいては、分圧回路11
と同様に、レベルシフト回路112a,112bが制御
信号VC1、VC2に従ってN型MOSトランジスタ111
e,111fのオン、あるいはオフを決定し、その後、
初期化回路113により容量131a〜131dの両端
を短絡して容量131a〜131dを初期化すること
で、分圧電圧Vdの分圧比rを制御信号VC1、VC2により
変えることができる。分圧回路11bは、分圧回路1
1,11aと比較して回路を初期化する必要はあるが、
レギュレータ回路12aの出力からの電流が直流成分を
持たないため、分圧回路11bを流れる電流を大幅に削
減できる効果を奏する。
In the voltage dividing circuit 11b, the voltage dividing circuit 11
Similarly, the level shift circuits 112a and 112b change the N-type MOS transistor 111 according to the control signals V C1 and V C2.
e, 111f to be turned on or off, and then
By initializing the capacitors 131a to 131d by shorting both ends of the capacitors 131a to 131d by the initialization circuit 113, the voltage division ratio r of the divided voltage Vd can be changed by the control signals V C1 and V C2 . The voltage dividing circuit 11b is the voltage dividing circuit 1
Although it is necessary to initialize the circuit as compared with 1, 11a,
Since the current from the output of the regulator circuit 12a has no DC component, the current flowing through the voltage dividing circuit 11b can be significantly reduced.

【0095】また、図24に示すように、参照電圧生成
回路3の出力端と出力回路9の出力端との間に直列に接
続された容量141a,141bと、一端に参照電圧V
refがそれぞれ入力される容量141c、141dと、
レベルシフト回路112a,112bと、分圧制御用の
P型MOSトランジスタ111g,111hと、初期化
回路113と、分圧電圧Vdを出力する出力端とを備え
た分圧回路11cを用いてもよい。
Further, as shown in FIG. 24, capacitors 141a and 141b connected in series between the output terminal of the reference voltage generating circuit 3 and the output terminal of the output circuit 9, and the reference voltage V at one end.
capacitors 141c and 141d to which ref is input respectively,
A voltage dividing circuit 11c including level shift circuits 112a and 112b, P-type MOS transistors 111g and 111h for voltage dividing control, an initialization circuit 113, and an output terminal for outputting the divided voltage Vd may be used. .

【0096】P型MOSトランジスタ111gは、ゲー
トがレベルシフト回路112aの出力に接続され、ドレ
インが容量141a,141b間のノードに接続され、
ソースが容量141dに接続されている。P型MOSト
ランジスタ111hは、ゲートがレベルシフト回路11
2bの出力に接続され、ドレインが容量141a,14
1b間のノードに接続され、ソースが容量141cに接
続されている。初期化回路113は、容量141a〜1
41dの両端を短絡して初期化を行う。レベルシフト回
路112a,112bは、図21で示される分圧回路1
1と同様のものであり、説明を省略する。容量141
a,141bの間のノードに、分圧電圧Vdを出力する
出力端が接続されている。
In the P-type MOS transistor 111g, the gate is connected to the output of the level shift circuit 112a, the drain is connected to the node between the capacitors 141a and 141b,
The source is connected to the capacitor 141d. The gate of the P-type MOS transistor 111h has the level shift circuit 11
2b is connected to the output, and the drains have capacitances 141a, 14a.
It is connected to the node between 1b and the source is connected to the capacitor 141c. The initialization circuit 113 includes capacitors 141 a to 1
Both ends of 41d are short-circuited for initialization. The level shift circuits 112a and 112b correspond to the voltage dividing circuit 1 shown in FIG.
Since it is the same as that of 1, the description is omitted. Capacity 141
An output terminal for outputting the divided voltage Vd is connected to the node between a and 141b.

【0097】分圧回路11cにおいては、分圧回路11
と同様に、レベルシフト回路112a,112bが制御
信号VC1、VC2に従って分圧制御用のN型MOSトラン
ジスタ111g、111hのオン、あるいはオフを決定
し、その後、初期化回路113により容量141a〜1
41dを初期化することで、分圧電圧Vdの分圧比rを制
御信号VC1、VC2により変えることができる。分圧回路
11cにおいても、分圧回路11bと同様に、レギュレ
ータ回路12aの出力からの電流を大幅に削減できる効
果を奏する。
In the voltage dividing circuit 11c, the voltage dividing circuit 11c
Similarly, the level shift circuits 112a and 112b determine whether to turn on or off the N-type MOS transistors 111g and 111h for voltage division control according to the control signals V C1 and V C2 , and then the initialization circuit 113 causes the capacitors 141a to 1
By initializing 41d, the voltage division ratio r of the divided voltage Vd can be changed by the control signals V C1 and V C2 . Similarly to the voltage dividing circuit 11b, the voltage dividing circuit 11c also has the effect of significantly reducing the current from the output of the regulator circuit 12a.

【0098】このように、分圧回路の一例として、図2
1〜図24で示される分圧回路11,11a,11b,
11cを用いて説明したが、本発明の分圧回路は、分圧
回路11,11a,11b,11cと同様の動作が得ら
れるものであれば、これらに限定されない。
As described above, as an example of the voltage dividing circuit, FIG.
1 to 24, the voltage dividing circuits 11, 11a, 11b,
Although 11c is used for the description, the voltage dividing circuit of the present invention is not limited to these as long as the same operation as that of the voltage dividing circuits 11, 11a, 11b, 11c can be obtained.

【0099】実施の形態5.以下、本発明の実施の形態
5による半導体集積回路について、図面を参照しながら
説明する。図25は、本実施の形態5による半導体集積
回路の構成を示すブロック図である。図25において、
半導体集積回路は、この半導体集積回路に供給される電
源電圧VDDを所定の電圧VPPまで昇圧して出力する昇圧
回路1と、電源電圧VDDを入力として、予め設定された
参照電圧Vrefを生成し、出力する参照電圧生成回路3
と、電源電圧VDDから所定の負電圧VBBを生成する負昇
圧回路8と、昇圧電圧VPPの供給を受け、出力電圧VPO
を出力する正レギュレータ回路22aと、負電圧VBB
入力として、出力電圧VNOを生成する負レギュレータ回
路22bとを備える。正レギュレータ回路22aは、さ
らに、差動増幅回路4aと、出力回路5と、分圧回路7
とを備える。また、負レギュレータ回路22bは、さら
に、差動増幅回路4bと、出力回路9と、分圧回路11
と、ボルテージフォロア回路13とを備える。なお、図
8、及び図20と同一符号は同一または相当する部分を
示しており、説明を省略する。
Embodiment 5. Hereinafter, a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 25 is a block diagram showing the structure of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. In FIG. 25,
The semiconductor integrated circuit receives a power supply voltage V DD supplied to the semiconductor integrated circuit to a predetermined voltage V PP and outputs the booster circuit 1, and a power supply voltage V DD as an input and a preset reference voltage Vref. Reference voltage generation circuit 3 for generating and outputting
And a negative booster circuit 8 for generating a predetermined negative voltage V BB from the power supply voltage V DD, and a boosted voltage V PP supplied to the output voltage V PO.
And a negative regulator circuit 22b that receives the negative voltage V BB as an input and generates an output voltage V NO . The positive regulator circuit 22a further includes a differential amplifier circuit 4a, an output circuit 5, and a voltage dividing circuit 7
With. The negative regulator circuit 22b further includes a differential amplifier circuit 4b, an output circuit 9, and a voltage dividing circuit 11b.
And a voltage follower circuit 13. Note that the same reference numerals as those in FIGS. 8 and 20 denote the same or corresponding portions, and the description thereof will be omitted.

【0100】ボルテージフォロア回路13は、参照電圧
Vrefをボルテージフォロアを介して分圧回路11に供
給する差動増幅回路から構成される。通常、負レギュレ
ータ回路22bでは、参照電圧生成回路3の出力インピ
ーダンスが高いが、このボルテージフォロア回路13に
より、参照電圧生成回路3の出力インピーダンスを低イ
ンピーダンス化して分圧回路11に参照電圧Vrefを供
給することができる。
The voltage follower circuit 13 is composed of a differential amplifier circuit for supplying the reference voltage Vref to the voltage dividing circuit 11 via the voltage follower. Normally, in the negative regulator circuit 22b, the output impedance of the reference voltage generation circuit 3 is high, but the voltage follower circuit 13 lowers the output impedance of the reference voltage generation circuit 3 to supply the reference voltage Vref to the voltage dividing circuit 11. can do.

【0101】次に、本実施の形態5による半導体集積回
路の動作について説明する。参照電圧生成回路3は、電
源電圧VDDから予め設定された参照電圧Vrefを生成
し、正レギュレータ回路22aと、負レギュレータ回路
22bとに出力する。負レギュレータ回路22bに入力
された参照電圧Vrefは、ボルテージフォロア回路13
を介して、分圧回路11に入力される。上述以外の、半
導体集積回路の動作は、上記実施の形態2、及び4と同
様であり、説明を省略する。
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment will be described. The reference voltage generation circuit 3 generates a preset reference voltage Vref from the power supply voltage VDD and outputs it to the positive regulator circuit 22a and the negative regulator circuit 22b. The reference voltage Vref input to the negative regulator circuit 22b is the voltage follower circuit 13
Is input to the voltage dividing circuit 11 via. The operation of the semiconductor integrated circuit other than the above is the same as in the second and fourth embodiments, and the description thereof is omitted.

【0102】このように、本実施の形態5による半導体
集積回路によれば、上記実施の形態2、及び4と同様の
効果を奏するとともに、一つの基板上に正レギュレータ
回路22aと負レギュレータ回路22bとを備え、正レ
ギュレータ回路22aと負レギュレータ回路22bとが
同一の正の参照電圧Vrefで動作するように構成したこ
とで、参照電圧生成回路3を両者で共有することがで
き、正レギュレータ回路と、負レギュレータ回路とに対
して、参照電圧発生回路3を別々に備えた場合に比べ
て、回路規模を縮小し、半導体集積回路の面積を減少さ
せることができる。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit of the fifth embodiment, the same effects as those of the second and fourth embodiments can be obtained, and the positive regulator circuit 22a and the negative regulator circuit 22b can be formed on one substrate. Since the positive regulator circuit 22a and the negative regulator circuit 22b are configured to operate with the same positive reference voltage Vref, the reference voltage generation circuit 3 can be shared by both, and In comparison with the case where the reference voltage generating circuit 3 is separately provided for the negative regulator circuit, the circuit scale can be reduced and the area of the semiconductor integrated circuit can be reduced.

【0103】なお、本実施の形態5による出力回路5と
しては、図3〜図5で示される出力回路5,5a,5b
を用いることができるが、これらに限定されるものでは
ない。また、分圧回路7としては、図9〜図12で示さ
れる分圧回路7,7a,7b,7cを用いることができ
るが、これらに限定されるものではない。
The output circuit 5 according to the fifth embodiment includes the output circuits 5, 5a and 5b shown in FIGS.
Can be used, but is not limited thereto. Further, as the voltage dividing circuit 7, the voltage dividing circuits 7, 7a, 7b, 7c shown in FIGS. 9 to 12 can be used, but the voltage dividing circuit 7 is not limited to these.

【0104】また、本実施の形態5による出力回路9と
しては、図15〜図17で示される出力回路9,9a,
9bを用いることができるが、これらに限定されるもの
ではない。また、分圧回路11としては、図21〜図2
4で示される分圧回路11,11a,11b,11cを
用いることができるが、これらに限定されるものではな
い。
Further, as the output circuit 9 according to the fifth embodiment, the output circuits 9, 9a shown in FIGS.
9b can be used, but is not limited thereto. In addition, as the voltage dividing circuit 11, as shown in FIGS.
It is possible to use the voltage dividing circuits 11, 11a, 11b, 11c indicated by 4, but not limited to these.

【0105】[0105]

【0106】[0106]

【発明の効果】 以上の説明より明らかなように、 本発明
による半導体集積回路によれば、電源電圧から負電圧を
生成し、該負電圧を出力する負昇圧回路と、該負電圧を
入力とし、該負電圧から出力電圧を生成し、該出力電圧
を出力端から出力する出力回路と、上記電源電圧から
参照電圧を生成する参照電圧生成回路と、上記出力回
路の出力電圧と上記参照電圧とを入力とし、上記出力電
圧と上記参照電圧との電位差を所定の分圧比により分圧
した分圧電圧を出力する分圧回路と、上記分圧電圧と接
地電位とを2入力とし、差動増幅した電圧を上記出力回
路に出力する差動増幅回路とを備え、上記差動増幅回路
による上記分圧電圧と接地電位との比較結果により、上
記出力回路が制御され、上記出力回路の出力電圧を所定
の負電圧に保持するようにしたことで、参照電圧生成回
路と差動増幅回路とに負電圧を供給する必要がなく、負
昇圧回路の出力電流を低減できるため、負昇圧回路の出
力電流の増加に伴う負電圧の上昇を抑えることができ
る。このため、負昇圧回路に用いられる容量を削減する
ことが可能となり、半導体集積回路の面積を削減できる
効果が得られる。
As is apparent from the above description , according to the semiconductor integrated circuit of the present invention , a negative booster circuit that generates a negative voltage from a power supply voltage and outputs the negative voltage, and the negative voltage as an input. An output circuit that generates an output voltage from the negative voltage and outputs the output voltage from an output terminal, and a positive voltage from the power supply voltage.
Of a reference voltage generation circuit that constitutes the raw reference voltage, as input and output voltage and the reference voltage of the output circuit, the output voltage and the reference voltage and the divided voltage potential difference of dividing by a predetermined division ratio of the a voltage dividing circuit for outputting said divided voltage and a ground potential as a second input, a voltage obtained by differential amplification a differential amplifier circuit that be output to the output circuit, the differential amplifier circuit
According to the comparison result of the divided voltage above and the ground potential,
The output circuit is controlled and the output voltage of the output circuit is set to a predetermined value.
By holding the negative voltage of the negative booster circuit, it is not necessary to supply the negative voltage to the reference voltage generation circuit and the differential amplifier circuit, and the output current of the negative booster circuit can be reduced. It is possible to suppress an increase in the negative voltage due to the increase. Therefore, it is possible to reduce the capacitance used in the negative booster circuit, and it is possible to obtain the effect of reducing the area of the semiconductor integrated circuit.

【0107】また、本発明による半導体集積回路によれ
ば、入力される制御信号に応じて、上記分圧比を異なる
値に設定する分圧回路を備えることで、制御信号を変更
することにより、従来例のように参照電圧を変更するこ
となく、レギュレータ回路の出力電圧を変えることがで
き、不揮発性半導体記憶装置の消去、書込み等の動作モ
ードで使用される異なる出力電圧を単一の参照電圧より
生成することが可能となる。これにより、参照電圧生成
回路が複数の参照電圧を生成する必要がなくなり、参照
電圧生成回路を簡素化でき、半導体集積回路の面積をさ
らに削減できる効果が得られる。
Further, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, by providing the voltage dividing circuit for setting the above voltage dividing ratio to different values according to the input control signal, the control signal can be changed to the conventional one. The output voltage of the regulator circuit can be changed without changing the reference voltage as in the example, and different output voltages used in operation modes such as erase and write of the nonvolatile semiconductor memory device can be changed from the single reference voltage. It becomes possible to generate. Accordingly, the reference voltage generating circuit eliminates the need to generate a plurality of reference voltages, simplifies the reference voltage generating circuit can be further reduced effects the area of semi-conductor integrated circuit can be obtained.

【0108】また、本発明による半導体集積回路によれ
ば、直列に接続された複数のダイオード接続のトランジ
スタを備えた分圧回路を用いることで、分圧回路を流れ
る電流を最小限に抑えることができ、負昇圧回路の規模
を減少させることができるため、半導体集積回路の回路
規模をさらに削減することができる効果が得られる。
Further, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, by using the voltage dividing circuit provided with a plurality of diode-connected transistors connected in series, the current flowing through the voltage dividing circuit can be minimized. Therefore, the scale of the negative booster circuit can be reduced, so that the circuit scale of the semiconductor integrated circuit can be further reduced.

【0109】また、本発明による半導体集積回路によれ
ば、直列に接続された複数の容量と、それらの複数の容
量の両端を短絡させることにより初期化を行う初期化回
路とを備えた分圧回路を用いることで、分圧回路を流れ
る電流を低減でき、半導体集積回路の面積をさらに削減
することができる効果が得られる。
Further, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, a voltage divider having a plurality of capacitors connected in series and an initialization circuit for performing initialization by short-circuiting both ends of the plurality of capacitors is provided. By using the circuit, the current flowing through the voltage dividing circuit can be reduced, and the area of the semiconductor integrated circuit can be further reduced.

【0110】また、本発明による半導体集積回路によれ
ば、一つの基板上に正レギュレータ回路と負レギュレー
タ回路とを備え、正レギュレータ回路と負レギュレータ
回路とが同一の正の参照電圧で動作するように構成した
ことで、参照電圧生成回路を両者で共有することがで
き、正レギュレータ回路と、負レギュレータ回路とに対
して、参照電圧発生回路を別々に備えた場合に比べて、
回路規模を縮小し、半導体集積回路の面積を減少させる
ことができる。
Further, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, the positive regulator circuit and the negative regulator circuit are provided on one substrate so that the positive regulator circuit and the negative regulator circuit operate with the same positive reference voltage. With this configuration, the reference voltage generation circuit can be shared by both, and compared to the case where the reference voltage generation circuit is separately provided for the positive regulator circuit and the negative regulator circuit,
The circuit scale can be reduced and the area of the semiconductor integrated circuit can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1による半導体集積回路の
構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1による分圧回路の構成の
一例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a configuration of a voltage dividing circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1による出力回路の構成の
一例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a configuration of an output circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1による出力回路の構成の
他の一例を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the output circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態1による出力回路の構成の
他の一例を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the output circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態1による分圧回路の構成の
他の一例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態1による分圧回路の構成の
他の一例を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態2による半導体集積回路の
構成を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態2による分圧回路の構成の
一例を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of a configuration of a voltage dividing circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態2による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態2による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施の形態2による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の実施の形態3による半導体集積回路
の構成を示すブロック図である。
FIG. 13 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施の形態3による分圧回路の構成
の一例を示す回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing an example of a configuration of a voltage dividing circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図15】本発明の実施の形態3による出力回路の構成
の一例を示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing an example of a configuration of an output circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図16】本発明の実施の形態3による出力回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the output circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図17】本発明の実施の形態3による出力回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the output circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図18】本発明の実施の形態3による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図19】本発明の実施の形態3による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 19 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図20】本発明の実施の形態4による半導体集積回路
の構成を示すブロック図である。
FIG. 20 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図21】本発明の実施の形態4による分圧回路の構成
の一例を示す回路図である。
FIG. 21 is a circuit diagram showing an example of a configuration of a voltage dividing circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図22】本発明の実施の形態4による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 22 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the fourth embodiment of the present invention.

【図23】本発明の実施の形態4による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 23 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the fourth embodiment of the present invention.

【図24】本発明の実施の形態4による分圧回路の構成
の他の一例を示す回路図である。
FIG. 24 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the voltage dividing circuit according to the fourth embodiment of the present invention.

【図25】本発明の実施の形態5による半導体集積回路
の構成を示すブロック図である。
FIG. 25 is a block diagram showing a structure of a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention.

【図26】従来の半導体集積回路の構成を示すブロック
図である。
FIG. 26 is a block diagram showing a configuration of a conventional semiconductor integrated circuit.

【図27】昇圧回路の出力電流と出力電圧との関係を示
す図である。
FIG. 27 is a diagram showing the relationship between the output current and the output voltage of the booster circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 昇圧回路 2,2a,12,12a レギュレータ回路 3 参照電圧生成回路 4,4a,4b 差動増幅回路 5,5a,5b,9,9a,9b 出力回路 6,6a,6b,7,7a〜7c,10,10a,10
b,11,11a〜11c 分圧回路 8 負昇圧回路 13 ボルテージフォロア回路 16a,16b,17a〜17d,110a,110
b,111a〜111d抵抗 22a 正レギュレータ回路 22b 負レギュレータ回路 26a〜26d,27a〜27d,17g,17h,1
11e,111f,120a〜120d,121a〜1
21d,M3,M4,M6 N型MOSトランジスタ 17e,17f,111g,111h,M1,M2,M
5 P型MOSトランジスタ 36a,36b, 37a〜37d,47a〜47d,1
30a,130b,131a〜131d,141a〜1
41d 容量 41,91 バイアス回路 61,72,113,191 初期化回路 71a,71b,112a,112b レベルシフト回
1 Booster circuit 2, 2a, 12, 12a Regulator circuit 3 Reference voltage generation circuit 4, 4a, 4b Differential amplifier circuit 5, 5a, 5b, 9, 9a, 9b Output circuit 6, 6a, 6b, 7, 7a to 7c , 10, 10a, 10
b, 11, 11a to 11c Voltage dividing circuit 8 Negative boosting circuit 13 Voltage follower circuits 16a, 16b, 17a to 17d, 110a, 110
b, 111a to 111d resistor 22a positive regulator circuit 22b negative regulator circuits 26a to 26d, 27a to 27d, 17g, 17h, 1
11e, 111f, 120a to 120d, 121a to 1
21d, M3, M4, M6 N-type MOS transistors 17e, 17f, 111g, 111h, M1, M2, M
5 P-type MOS transistors 36a, 36b, 37a to 37d, 47a to 47d, 1
30a, 130b, 131a to 131d, 141a to 1
41d Capacitance 41, 91 Bias circuit 61, 72, 113, 191 Initialization circuit 71a, 71b, 112a, 112b Level shift circuit

フロントページの続き (72)発明者 木村 智生 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−325580(JP,A) 特開 平8−17190(JP,A) 特開 平10−133754(JP,A) 特開 平7−231647(JP,A) 特開 昭64−23499(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 16/30 G11C 11/4074 Front page continuation (72) Inventor Tomio Kimura 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-5-325580 (JP, A) JP-A-8-17190 (JP , A) JP 10-133754 (JP, A) JP 7-231647 (JP, A) JP 64-23499 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB) Name) G11C 16/30 G11C 11/4074

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電源電圧から負電圧を生成し、該負電圧
を出力する負昇圧回路と、 該負電圧を入力とし、該負電圧から出力電圧を生成し、
該出力電圧を出力端から出力する出力回路と、 上記電源電圧から正の参照電圧を生成する参照電圧生成
回路と、 上記出力回路の出力電圧と上記参照電圧とを入力とし、
上記出力電圧と上記参照電圧との電位差を所定の分圧比
により分圧した分圧電圧を出力する分圧回路と、 上記分圧電圧と接地電位とを2入力とし、差動増幅した
電圧を上記出力回路に出力する差動増幅回路と、 を備え、 上記差動増幅回路による上記分圧電圧と接地電位との比
較結果により、上記出力回路が制御され、上記出力回路
の出力電圧を所定の負電圧に保持する ことを特徴とする
半導体集積回路。
1. A negative voltage is generated from a power supply voltage, and the negative voltage is generated.
And a negative booster circuit for outputting the negative voltage, and generating an output voltage from the negative voltage,
An output circuit that outputs the output voltage from an output terminal, and a reference voltage generator that generates a positive reference voltage from the power supply voltage
Circuit, with the output voltage of the output circuit and the reference voltage as input,
The potential difference between the output voltage and the reference voltage is determined by a predetermined voltage division ratio.
A voltage divider circuit that outputs a divided voltage divided by, and the divided voltage and the ground potential are input as two inputs and differentially amplified.
Comprising a differential amplifier circuit which outputs a voltage to the output circuit, the ratio between the divided voltage and the ground potential by the differential amplifier circuit
The output circuit is controlled by the comparison result, and the output circuit is controlled.
A semiconductor integrated circuit characterized in that the output voltage of the device is maintained at a predetermined negative voltage .
【請求項2】 請求項1に記載の半導体集積回路におい
て、 上記分圧回路は、直列接続された複数の抵抗を有する抵
抗分圧回路である、 ことを特徴とする半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the voltage dividing circuit has a resistor having a plurality of resistors connected in series.
A semiconductor integrated circuit , which is an anti-voltage divider circuit.
【請求項3】 請求項に記載の半導体集積回路におい
て、 上記分圧回路は、ゲートとドレインとが接続され、ソー
スと基板とが接続されたダイオード接続の複数のトラン
ジスタを、直列に接続し、上記分圧電圧を、一端を参照
電圧に接続した上記ダイオード接続のトランジスタの他
端より出力する構造を備え、 上記参照電圧は、上記ダイオード接続のトランジスタの
閾値電圧を、上記分圧回路に最低限の電流を流すに必要
なだけ、上回る電圧である、 ことを特徴とする半導体集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 , wherein the voltage dividing circuit has a gate and a drain connected to each other, and
Diode-connected multiple transformers that connect the
Connect the resistors in series and refer to the divided voltage above at one end
In addition to the above diode-connected transistors connected to voltage
It has a structure to output from the end, the reference voltage of the diode-connected transistor
Threshold voltage required to flow the minimum current in the voltage divider circuit
A semiconductor integrated circuit characterized by having a voltage higher than that.
【請求項4】 請求項1に記載の半導体集積回路におい
て、 上記分圧回路を、 直列接続された複数の容量と、 該複数の容量の両端を短絡して初期化を行う初期化回路
と、 から構成した ことを特徴とする半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
And an initialization circuit for performing initialization by dividing the voltage dividing circuit into a plurality of capacitors connected in series and both ends of the plurality of capacitors.
The semiconductor integrated circuit, characterized in that constructed from the.
【請求項5】 請求項に記載の半導体集積回路におい
て、 上記分圧回路は、入力される制御信号に応じて、上記分
圧比を異なる値に設定するものである、ことを特徴とす
る半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 , wherein the voltage dividing circuit is configured to divide the voltage dividing circuit according to an input control signal.
A semiconductor integrated circuit, wherein the pressure ratio is set to different values .
【請求項6】 請求項2または請求項5に記載の半導体
集積回路において、 上記分圧回路を、 上記出力回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端
との間に直列に接続された複数の抵抗と、 一端が上記複数の抵抗間のノードのいずれかに接続さ
れ、他端が上記出力回路の出力端に接続された一つ以上
のトランジスタと、 上記制御信号を入力とし、上記トランジスタの制御端に
上記制御信号に基づいた制御電圧を与える制御回路と、 上記複数の抵抗間のノードのいずれかに接続された、分
圧電圧を取り出す出力端と、 から構成した ことを特徴とする半導体集積回路。
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 2 or claim 5, the dividing circuit, the output end of the output end and a reference voltage generating circuit of the output circuit
And a resistor connected in series between and, and one end of which is connected to one of the nodes between the resistors.
One or more of which the other end is connected to the output end of the above output circuit
, And the control signal as an input to the control end of the transistor.
A control circuit for providing a control voltage based on the control signal and a node connected to one of the nodes between the plurality of resistors.
A semiconductor integrated circuit characterized by comprising an output terminal for extracting a piezoelectric voltage .
【請求項7】 請求項3または請求項5に記載の半導体
集積回路において、 上記分圧回路を、上記出力回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端
との間に直列に接続された複数の、ゲートとドレインと
が接続され、ソースと基板とが接続されたダイオード接
続のトランジスタと、 一端が上記複数のトランジスタ間のノードのいずれかに
接続され、他端が上記出力回路の出力端に接続された一
つ以上の分圧制御用トランジスタと、 上記制御信号を入力とし、上記分圧制御用トランジスタ
の制御端に上記制御信号に基づいた制御電圧を与える制
御回路と、 一端を参照電圧に接続した上記ダイオード接続のトラン
ジスタの他端に接続された、分圧電圧を取り出す出力端
と、 から構成したことを特徴とする半導体集積回路。
7. The semiconductor integrated circuit according to claim 3 , wherein the voltage dividing circuit includes an output terminal of the output circuit and an output terminal of the reference voltage generating circuit.
A plurality of gates and drains connected in series between
Is connected, and the diode connection between the source and the substrate is connected.
One of the following transistors and one of the nodes between the above transistors.
Connected to the other end of the output circuit
One or more voltage-dividing control transistors and the above-mentioned control signal as input, and the above-mentioned voltage-dividing control transistors
A control voltage based on the above control signal is applied to the control end of the
Control circuit and the diode-connected transformer with one end connected to the reference voltage.
Output terminal for extracting divided voltage, which is connected to the other end of the transistor
And a semiconductor integrated circuit comprising:
【請求項8】 請求項4または請求項5に記載の半導体
集積回路において、 上記分圧回路を、 上記出力回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端
との間に直列に接続された複数の容量と、 一端が上記複数の容量間のノードのいずれかに接続さ
れ、他端が上記出力回路の出力端に接続された一つ以上
のトランジスタと、 上記制御信号を入力とし、上記トランジスタの制御端に
上記制御信号に基づいた制御電圧を与える制御回路と、 上記複数の容量の両端を短絡して初期化を行う初期化回
路と、 上記複数の容量間のノードのいずれかに接続された、分
圧電圧を取り出す出力端と、 から構成した ことを特徴とする半導体集積回路。
8. The semiconductor integrated circuit according to claim 4 or claim 5, the dividing circuit, the output end of the output end and a reference voltage generating circuit of the output circuit
And a capacitor connected in series between and, and one end of which is connected to one of the nodes between the capacitors.
One or more of which the other end is connected to the output end of the above output circuit
, And the control signal as an input to the control end of the transistor.
A control circuit that gives a control voltage based on the control signal and an initialization circuit that short-circuits both ends of the plurality of capacitors to perform initialization.
Path and a node connected to one of the
A semiconductor integrated circuit characterized by comprising an output terminal for extracting a piezoelectric voltage .
【請求項9】 請求項4または請求項5に記載の半導体
集積回路において、 上記分圧回路を、 上記出力回路の出力端と上記参照電圧生成回路の出力端
との間に直列に接続された2つの第1の容量と、 一端が上記第1の容量間のノード接続された一つ以上
のトランジスタと、一端が上記トランジスタに接続され、他端が上記参照電
圧生成回路の出力端に接続された、上記トランジスタと
同数設けられた第2の容量と、 記制御信号を入力とし、上記トランジスタの制御端に
上記制御信号に基づいた制御電圧を与える制御回路と、上記第1の容量間のノードを初期化する初期化回路と、 上記第1の容量間のノード に接続された、分圧電圧を取
り出す出力端と、 から構成したことを特徴とする半導体集積回路。
9. The semiconductor integrated circuit according to claim 4 or 5 , wherein the voltage dividing circuit is connected in series between an output end of the output circuit and an output end of the reference voltage generating circuit. and two of the first capacitor, and one or more transistors having one end connected to a node between said first capacitor, one end is connected to the transistor, the reference photoelectric other end
The transistor connected to the output of the pressure generation circuit
A second capacitor which is the same number provided as input on SL control signal initializes the control circuit, the node between the first capacitor to provide a control voltage based on the control signal to the control terminal of the transistor A semiconductor integrated circuit comprising: an initialization circuit; and an output terminal connected to a node between the first capacitors for extracting a divided voltage.
【請求項10】 請求項1ないし9のいずれかに記載の
半導体集積回路において、上記出力回路を、 ソースが上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレイン
が該出力回路の出力端とされた第1のN型MOSトラン
ジスタと、 ソースが上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレイン
が上記第1のN型MO Sトランジスタのゲートに接続さ
れた第2のN型MOSトランジスタと、 ソースが上記電源電圧に接続され、ドレインが上記第2
のN型MOSトランジスタのドレインに接続され、ゲー
トが上記差動増幅回路の出力端に接続されたP型MOS
トランジスタと、 上記第2のN型MOSトランジスタのゲートにバイアス
電圧を与えるバイアス回路と、 から構成したことを特徴とする半導体集積回路。
10. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 , wherein the output circuit has a source connected to an output terminal of the negative booster circuit and a drain.
Is a first N-type MOS transistor which is an output terminal of the output circuit.
Transistor and source are connected to the output terminal of the negative booster circuit, and the drain
Is connected to the gate of the first N-type MOS transistor.
A second N-type MOS transistor, a source connected to the power supply voltage, and a drain connected to the second
Connected to the drain of the N-type MOS transistor of
P-type MOS transistor connected to the output terminal of the differential amplifier circuit
And a transistor, the bias to the gate of the second N-type MOS transistor
A semiconductor integrated circuit comprising a bias circuit for applying a voltage .
【請求項11】 請求項1ないし9のいずれかに記載の
半導体集積回路において、上記出力回路を、 ソースが上記負昇圧回路の出力に接続され、ドレインが
該出力回路の出力端とされた第1のN型MOSトランジ
スタと、 ソースが上記負昇圧回路の出力に接続され、ゲートとド
レインとが上記第1のN型MOSトランジスタのゲート
に接続された第2のN型MOSトランジスタと、 ソースが電源電圧に接続され、ドレインが上記第2のN
型MOSトランジスタのドレインに接続され、ゲートが
上記差動増幅回路の出力端に接続されたP型MOSトラ
ンジスタと、 から構成したことを特徴とする半導体集積回路。
11. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 , wherein in the output circuit, the source is connected to the output of the negative booster circuit, and the drain is
A first N-type MOS transistor used as an output terminal of the output circuit
And the source is connected to the output of the negative booster circuit, and the gate and
Rain is the gate of the first N-type MOS transistor
A second N-type MOS transistor connected to the source , a source connected to the power supply voltage, and a drain connected to the second N-type MOS transistor.
Type MOS transistor is connected to the drain and the gate is
P-type MOS transistor connected to the output terminal of the differential amplifier circuit
The semiconductor integrated circuit, characterized in that consisted with Njisuta.
【請求項12】 請求項1ないし9のいずれかに記載の
半導体集積回路において、上記出力回路を、 ソースが上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレイン
が該出力回路の出力端とされた第1のN型MOSトラン
ジスタと、 ソースが上記負昇圧回路の出力端に接続され、ドレイン
が上記第1のN型MOSトランジスタのゲートに接続さ
れ、ゲートが接地電位とされた第2のN型MOSトラン
ジスタと、 ソースが電源電圧に接続され、ドレインが上記第2のN
型MOSトランジスタのドレインに接続され、ゲートが
上記差動増幅回路の出力端に接続されたP型M OSトラ
ンジスタと、 から構成したことを特徴とする半導体集積回路。
12. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 , wherein the output circuit has a source connected to an output terminal of the negative booster circuit and a drain.
Is a first N-type MOS transistor which is an output terminal of the output circuit.
Transistor and source are connected to the output terminal of the negative booster circuit, and the drain
Connected to the gate of the first N-type MOS transistor
And a second N-type MOS transistor whose gate is at ground potential
Transistor and source are connected to the power supply voltage, and the drain is the second N
Type MOS transistor is connected to the drain and the gate is
P-type M OS tiger connected to the output terminal of the differential amplifier
The semiconductor integrated circuit, characterized in that consisted with Njisuta.
【請求項13】 電源電圧を昇圧した昇圧電圧を出力す
る昇圧回路と、 該昇圧電圧を入力とし、該昇圧電圧から出力電圧を生成
し、該出力電圧を出力 端から出力する第1の出力回路と、 上記電源電圧から正
の参照電圧を生成する参照電圧生成回路と、 上記第1の出力回路の出力電圧を入力とし、該出力電圧
を所定の分圧比により分圧した分圧電圧を出力する第1
の分圧回路と、 上記参照電圧と上記第1の分圧回路からの分圧電圧とを
2入力とし、上記参照電圧と上記第1の分圧回路からの
分圧電圧とを上記電源電圧により差動増幅した電圧を、
上記第1の出力回路に出力することにより、上記第1の
出力回路を制御して、上記第1の出力回路の出力電圧を
所定の正電圧に保持する第1の差動増幅回路と、 電源電圧から負電圧を生成し、該負電圧を出力する負昇
圧回路と、 該負電圧を入力とし、該負電圧から負の出力電圧を生成
し、該負の出力電圧を出力端から出力する第2の出力回
路と、 上記第2の出力回路の負の出力電圧と上記参照電圧とを
入力とし、上記第2の出力回路の負の出力電圧と上記参
照電圧との電位差を所定の分圧比により分圧した分圧電
圧を出力する第2の分圧回路と、 上記第2の分圧回路からの分圧電圧と接地電位とを2入
力とし、上記第2の分圧回路からの分圧電圧と接地電位
とを上記電源電圧により差動増幅した電圧を、上記第2
の出力回路に出力することにより、上記第2の出力回路
を制御して、上記第2の出力回路の負の出力電圧を所定
の負電圧に保持する第2の差動増幅回路と、 を備えた ことを特徴とする半導体集積回路。
13. A boosted voltage obtained by boosting a power supply voltage is output.
And a booster circuit that receives the boosted voltage as an input and generates an output voltage from the boosted voltage
The first output circuit that outputs the output voltage from the output terminal and the positive voltage from the power supply voltage.
And a reference voltage generating circuit for generating a reference voltage of the first output circuit,
1st which outputs the divided voltage which is divided by a predetermined dividing ratio
Of the voltage dividing circuit, the reference voltage, and the divided voltage from the first voltage dividing circuit.
2 inputs, from the reference voltage and the first voltage divider circuit
The voltage obtained by differentially amplifying the divided voltage with the power supply voltage,
By outputting to the first output circuit,
The output voltage of the first output circuit is controlled by controlling the output circuit.
A first differential amplifier circuit that holds a predetermined positive voltage, and a negative rising circuit that generates a negative voltage from a power supply voltage and outputs the negative voltage.
And a pressure circuit, and inputs the negative voltage, generating a negative output voltage from negative voltage
The second output circuit that outputs the negative output voltage from the output end.
And a negative output voltage of the second output circuit and the reference voltage.
The negative output voltage of the second output circuit and the reference
A voltage-divided piezoelectric that divides the potential difference from the applied voltage by a predetermined voltage division ratio.
A second voltage dividing circuit for outputting a pressure, and a divided voltage from the second voltage dividing circuit and a ground potential
Voltage, the divided voltage from the second voltage divider circuit and the ground potential
And a voltage obtained by differentially amplifying
The second output circuit by outputting to the output circuit of
To control the negative output voltage of the second output circuit to a predetermined value.
The semiconductor integrated circuit characterized by comprising a second differential amplifier circuit, a for holding the negative voltage.
【請求項14】 請求項13に記載の半導体集積回路に
おいて、上記第2の分圧回路は、 上記第2の出力回路の出力端と上記参照電圧生成回路の
出力端との間に直列に接続された複数の、ゲートとドレ
インとが接続され、ソースと基板とが接続され たダイオ
ード接続のトランジスタと、 一端が上記複数のトランジスタ間のノードのいずれかに
接続され、他端が上記第2の出力回路の出力端に接続さ
れた一つ以上の分圧制御用トランジスタと、 上記制御信号を入力とし、上記分圧制御用トランジスタ
の制御端に上記制御信号に基づいた制御電圧を与える制
御回路と、 一端を参照電圧に接続した上記ダイオード接続のトラン
ジスタの他端に接続された、分圧電圧を取り出す出力端
と、 から構成され、 上記参照電圧は、上記ダイオード接続のトランジスタの
閾値電圧を、上記分圧回路に最低限の電流を流すに必要
なだけ、上回る電圧である、 ことを特徴とする半導体集積回路。
14. The semiconductor integrated circuit according to claim 13 , wherein the second voltage dividing circuit includes an output terminal of the second output circuit and the reference voltage generating circuit.
Multiple gates and drains connected in series with the output
A diode connected to the IN and connected to the source and the substrate.
Connected to a transistor or one of the nodes between the above transistors.
And the other end is connected to the output end of the second output circuit.
One or more voltage dividing control transistors and the voltage dividing control transistor that receives the control signal as an input.
A control voltage based on the above control signal is applied to the control end of the
Control circuit and the diode-connected transformer with one end connected to the reference voltage.
Output terminal for extracting divided voltage, which is connected to the other end of the transistor
If, consists, the reference voltage, the transistor of the diode connection
Threshold voltage required to flow the minimum current in the voltage divider circuit
A semiconductor integrated circuit characterized by having a voltage higher than that.
【請求項15】 請求項13または14に記載の半導体
集積回路において、上記参照電圧生成回路の出力を入力とするボルテージフ
ォロア回路をさらに備え、 上記第2の分圧回路は、上記参照電圧として、上記参照
電圧生成回路の出力に代えて、当該ボルテージフォロア
回路の出力電圧を入力とする、 ことを特徴とする半導体集積回路。
15. The semiconductor integrated circuit according to claim 13 or 14 , wherein the output voltage of the reference voltage generating circuit is input.
A follower circuit, wherein the second voltage dividing circuit uses the reference voltage as the reference voltage.
Instead of the output of the voltage generation circuit, the voltage follower
A semiconductor integrated circuit , wherein an output voltage of the circuit is input .
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