JPS6427171U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の第１実施例を示す溶接トー
チの断面図、第２図は第１図の底面図、第３図は
第１図の右側面図、第４図はスリツト外部ガスレ
ンズを取外した状態を示す第２図相当図、第５図
は溶接トーチの要部分解斜視図、第６図は上記溶
接トーチを用いた溶接の際のシールドガスの流れ
を示す説明図、第７図はこの考案の第２実施例を
示す第１図相当図、第８図は第７図の底面図、第
９図は第７図の右側面図、第１０図は第７図に示
す溶接トーチの要部分解斜視図、第１１図はこの
考案の第３実施例を示す第１図相当図、第１２図
は第１１図に示す溶接トーチの底面図、第１３図
は二重シールド構造の従来の溶接トーチを示す第
１図相当図、第１４図は第１３図の底面図、第１
５図は第１３図の右側面図、第１６図は外部ガス
レンズを取外した状態を示す第１４図相当図、第
１７図は従来の溶接トーチを用いて開先溝の深い
被溶接物を溶接する場合のシールドガスの流れを
示す部分断面図、第１８図は同様の斜視図である
。 １，２２……トーチボデイ、４……電極、８…
…ホース、１１……内部ガスレンズ、１３，２０
……インサイドノズル、１３ａ，１３ｂ……孔、
１４……アウトサイドノズル、１６……ニツプル
、１９……スリツト外部ガスレンズ、２３……ス
リツトガスレンズ、Ｗ……被溶接物。なお、各図
中、同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 溶接時に被溶接物との間でアークを発生さ
   せる電極と、この電極の外周位置にリング状に設
   けられガス源からのシールドガスを噴射して溶融
   プールを外気から保護するシールドガス噴射口と
   、このシールドガス噴射口に設けられガス源から
   のシールドガスの流速を弱める整流機構とを具備
   する溶接トーチにおいて、上記整流機構は、被溶
   接物の開先長手方向に対応する二箇所の開先対応
   部が、他の部位よりも高流速のシールドガスを噴
   射する構造になつていることを特徴とする溶接ト
   ーチ。 (2) 整流機構は、シールドガス噴射口の開先対
   応部以外の部位にガスレンズを装着して構成され
   ていることを特徴とする実用新案登録請求の範囲
   第１項記載の溶接トーチ。