JPS6418158U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6418158U JPS6418158U JP11095287U JP11095287U JPS6418158U JP S6418158 U JPS6418158 U JP S6418158U JP 11095287 U JP11095287 U JP 11095287U JP 11095287 U JP11095287 U JP 11095287U JP S6418158 U JPS6418158 U JP S6418158U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melt
- crucible
- immersed
- defect
- substrate holder
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
第１図は本考案の実施例を示す断面図、第２図
は従来例を示す断面図である。 ４…るつぼ、５…融液、８…基板ホルダ、９…
欠損部、１０…中空部。
は従来例を示す断面図である。 ４…るつぼ、５…融液、８…基板ホルダ、９…
欠損部、１０…中空部。
Claims (1)
- 融液が収納されたるつぼ、該るつぼ中の融液に
浸漬される一端側に楔形状の欠損部が形成される
と共に上記るつぼ中の融液に浸漬されない他端側
から上記欠損部に連通する中空部が形成された基
板ホルダを備えたことを特徴とする液相エピタキ
シヤル装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11095287U JPS6418158U (ja) | 1987-07-20 | 1987-07-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11095287U JPS6418158U (ja) | 1987-07-20 | 1987-07-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6418158U true JPS6418158U (ja) | 1989-01-30 |
Family
ID=31348577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11095287U Pending JPS6418158U (ja) | 1987-07-20 | 1987-07-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6418158U (ja) |
-
1987
- 1987-07-20 JP JP11095287U patent/JPS6418158U/ja active Pending
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