JPS6412115B2 - - Google Patents

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JPS6412115B2
JPS6412115B2 JP58218671A JP21867183A JPS6412115B2 JP S6412115 B2 JPS6412115 B2 JP S6412115B2 JP 58218671 A JP58218671 A JP 58218671A JP 21867183 A JP21867183 A JP 21867183A JP S6412115 B2 JPS6412115 B2 JP S6412115B2
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JP
Japan
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diffraction grating
laser
wavelength
oscillation
laser beam
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JP58218671A
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Japanese (ja)
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JPS60111488A (en
Inventor
Hideto Furuyama
Hajime Okuda
Juzo Hirayama
Yutaka Uematsu
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、単一縦モードで安定なレーザ発振特
性を示す半導体レーザに係わり、特に外部反射光
による発振状態の変動を抑制した波長制御型半導
体レーザの発振方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor laser that exhibits stable laser oscillation characteristics in a single longitudinal mode, and in particular to a wavelength-controlled semiconductor laser that suppresses fluctuations in oscillation state due to externally reflected light. Related to laser oscillation method.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

DBR(分布ブラツグ反射)レーザやDFB(分布
帰還)レーザ等の波長制御型半導体レーザは、単
一縦モードで安定なレーザ発振が実現できるの
で、波長多重光伝送及び光応用計測等の光源とし
て注目されている。
Wavelength-controlled semiconductor lasers such as DBR (distributed blur reflection) lasers and DFB (distributed feedback) lasers can achieve stable laser oscillation in a single longitudinal mode, so they are attracting attention as light sources for wavelength multiplexed optical transmission and optical applied measurement. has been done.

波長制御型半導体レーザは、原理的には周期的
な屈折率変化によるブラツグ反射鏡の単一波長選
択性を利用して、一つの波長だけをレーザ発振の
ための帰還光とするものであり、非常に鋭い発振
スペクトルを得ることができる。しかも、この発
振波長がブラツグ反射鏡の反射波長によつて固定
されているため、温度や変調等による波長変動が
非常に小さいと言う特徴を有している。
In principle, a wavelength-controlled semiconductor laser uses the single wavelength selectivity of a Bragg reflector due to periodic changes in refractive index to use only one wavelength as feedback light for laser oscillation. A very sharp oscillation spectrum can be obtained. Furthermore, since this oscillation wavelength is fixed by the reflection wavelength of the Bragg reflector, it has the characteristic that wavelength fluctuations due to temperature, modulation, etc. are extremely small.

しかしながら、この種のレーザにあつては次の
ような問題があつた。すなわち、余りにも鋭い波
長選択性を有するために、反射光によるレーザ発
振状態の変動が大きいと云うことである。これ
は、光フアイバ等の結合部でおこる反射光が外部
の変動として帰還現象を起きさせるために生じる
もので、発振スペクトルが狭いほど影響が大きく
なる。
However, this type of laser has the following problems. In other words, because the wavelength selectivity is too sharp, the fluctuation of the laser oscillation state due to reflected light is large. This occurs because reflected light that occurs at a coupling part such as an optical fiber causes a feedback phenomenon as an external fluctuation, and the narrower the oscillation spectrum, the greater the effect.

従来、この対策としてビームスプリツタ、無反
射被覆による反射光抑止或いは高周波重畳による
スペクトル幅の拡大等の方法が用いられてきた。
しかし、これらの方法では集積化及び小型化が難
しいことや変調装置が複雑になる等の問題を有し
ている。また、反射光を抑止する方法だけでは十
分な対策効果が得られず、更に出力光強度を低下
させる等の欠点もあつた。
Conventionally, methods such as suppressing reflected light using a beam splitter or non-reflective coating, or expanding the spectral width using high frequency superposition have been used as countermeasures against this problem.
However, these methods have problems such as difficulty in integration and miniaturization and the complexity of the modulation device. Further, the method of suppressing reflected light alone does not provide a sufficient countermeasure effect, and also has drawbacks such as lowering the output light intensity.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、集積化や小型化等を妨げるこ
となく、外部反射光によるレーザ発振状態の変動
を抑制し得る波長制御型半導体レーザの発振方法
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for oscillating a wavelength-controlled semiconductor laser that can suppress fluctuations in the laser oscillation state due to externally reflected light without hindering integration, miniaturization, etc.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

波長制御型半導体レーザが反射光に影響され易
い理由は、前述したようにスペクトル幅が狭いこ
とによるものであるが、本発明は波長制御型半導
体レーザのスペクトル幅を広げることにより反射
光の影響を改善するものである。すなわち本発明
の骨子は、部分的に伝搬する光の結合定数を変化
させ広いスペクトル幅を得ることにある。
The reason why wavelength-controlled semiconductor lasers are easily affected by reflected light is that their spectral widths are narrow, as described above.However, the present invention reduces the influence of reflected light by widening the spectral width of wavelength-controlled semiconductor lasers. It is something to improve. That is, the gist of the present invention is to obtain a wide spectrum width by partially changing the coupling constant of propagating light.

以下、本発明の概要を図面を参照して説明す
る。なお、ここではDFBレーザを例にとり説明
を行う。
Hereinafter, an overview of the present invention will be explained with reference to the drawings. Note that the explanation will be given here using a DFB laser as an example.

第1図aは、従来のDFBレーザの概略構造を
示す斜視図、同図bはこのレーザの回折格子部分
を示す斜視図、同図cは光取り出し面を示す側面
図であり、図中1は基板、2は導波路層、3は活
性層、4はクラツド層、5は回折格子である。
DFBレーザは基板1上に設けられた回折格子5
により分布的な光帰還が行われる。これによつて
光増幅が可能となりレーザ発振が行われる。ここ
で、帰還される光は前述したように回折格子5の
ブラツグ反射条件を満たす波長に限られるため、
第2図aに示すようにとびとびの値でだけ発振可
能となる。しかも、それはブラツグ反射波長λb
を中心とする禁止帯幅Wbを挾んで発振可能とな
り、λbから離れたモード程発振しにくくなる。
第2図a中のnはとびとびのモード番号を示す値
である。通常、発振しきい値付近では、n=1及
びn=−1の2つのモードがレーザー発振しよう
とするが、少しでも利得量の大きい方のモードが
先に発振を起こし、そのまま単一縦モードのレー
ザ発振が起きる。これがDFBレーザの発振原理
であるが、レーザ発振する波長は前述のごとくブ
ラツグ反射波長λb及び禁止帯幅Wbによつて決定
されている。一方、禁止帯幅WbはDFBレーザの
光導波路(クラツド層2及び活性層3)の等価屈
折率、進行波と反射波の結合係数K等によつて決
まる量であり、K及び禁止帯幅(以下Wbと記
す)の関係は第2図bのようになつている。つま
りKが大きいほどWbは広くなる。
Figure 1a is a perspective view showing the schematic structure of a conventional DFB laser, Figure 1b is a perspective view showing the diffraction grating portion of this laser, and Figure 1c is a side view showing the light extraction surface. 2 is a substrate, 2 is a waveguide layer, 3 is an active layer, 4 is a cladding layer, and 5 is a diffraction grating.
The DFB laser has a diffraction grating 5 provided on a substrate 1.
distributed optical feedback is performed. This enables optical amplification and laser oscillation. Here, since the light to be fed back is limited to a wavelength that satisfies the Bragg reflection condition of the diffraction grating 5 as described above,
As shown in FIG. 2a, oscillation is possible only at discrete values. Moreover, it is the Bragg reflection wavelength λb
Oscillation is possible across a forbidden band width Wb centered around λb, and the farther a mode is from λb, the more difficult it is to oscillate.
n in FIG. 2a is a value indicating discrete mode numbers. Normally, near the oscillation threshold, two modes, n = 1 and n = -1, try to oscillate, but the mode with even a slightly larger gain oscillates first, and remains as a single longitudinal mode. Laser oscillation occurs. This is the oscillation principle of the DFB laser, and the wavelength at which the laser oscillates is determined by the Bragg reflection wavelength λb and the forbidden band width Wb, as described above. On the other hand, the forbidden band width Wb is determined by the equivalent refractive index of the optical waveguide (cladding layer 2 and active layer 3) of the DFB laser, the coupling coefficient K between the traveling wave and the reflected wave, etc. (hereinafter referred to as Wb) is as shown in Figure 2b. In other words, the larger K is, the wider Wb becomes.

本発明者等はこのような点に着目し、上記禁止
帯幅Wbを1つのレーザで2つの値(若しくはそ
れ以上)を持たせ、各値を十分近接させておくこ
とにより、波長の僅かに異なる2つのモードで発
振が生じることを見出だした。さらに、これらの
波長が十分近いことから光的に結合し1つのモー
ドで発振しているような発振スペクトルとなり、
これより発振スペクトルの幅が広がることが判明
した。また、本発明者等の更なる鋭意研究によれ
ば、上記禁止帯幅Wbに2つ以上の値を持たせる
手段として、活性層から回折格子までの距離を可
変する等して前記結合係数Kの値を制御するのが
有効であることを見出だした。
The present inventors focused on this point, and by making one laser have two values (or more) for the forbidden band width Wb and keeping each value sufficiently close, the wavelength can be slightly reduced. We found that oscillation occurs in two different modes. Furthermore, since these wavelengths are close enough, the oscillation spectrum becomes such that they are optically coupled and oscillate in one mode.
It was found that the width of the oscillation spectrum was widened. Further, according to further intensive research by the present inventors, as a means for making the forbidden band width Wb have two or more values, the coupling coefficient K We found that it is effective to control the value of .

すなわち本発明は、光導波路に所定周期の回折
格子を設けた波長制御型半導体レーザにおいて、
上記回折格子が設けられている平面内におけるレ
ーザ行進方向と直角な方向で、レーザ光の進行波
と反射波との結合係数Kに少なくとも近似した2
つの値を持たせるようにしたものである。
That is, the present invention provides a wavelength-controlled semiconductor laser in which an optical waveguide is provided with a diffraction grating of a predetermined period.
2, which is at least approximate to the coupling coefficient K between the traveling wave and the reflected wave of the laser beam in a direction perpendicular to the laser traveling direction in the plane in which the above-mentioned diffraction grating is provided.
It is designed to have two values.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第3図は本発明の一実施例に係わるDFBレー
ザの概略構造を示す側面図である。図中11はN
―InP基板で、この基板11上には第4図に斜視
図を示す如くストライプ状の溝部12が形成さ
れ、さらにこの溝部を含み基板11上には回折格
子13が形成されている。このような溝部12及
び回折格子13が形成された基板11上にはN―
InGaAsP導波層14(λ=1、2μm)、InGaAsP
活性層15(λ=1、3μm)及びP―InPクラツ
ド層16が順次積層されている。そして、クラツ
ド層16上にコンタクト層を介してP側電極を被
着し、基板11の下面にN側電極を被着して
DFBレーザが構成されるものとなつている。
FIG. 3 is a side view showing a schematic structure of a DFB laser according to an embodiment of the present invention. 11 in the figure is N
- An InP substrate, on which a striped groove 12 is formed as shown in a perspective view in FIG. 4, and furthermore, a diffraction grating 13 is formed on the substrate 11 including this groove. On the substrate 11 on which such grooves 12 and diffraction gratings 13 are formed, N
InGaAsP waveguide layer 14 (λ=1, 2 μm), InGaAsP
An active layer 15 (λ=1, 3 μm) and a P—InP cladding layer 16 are laminated in sequence. Then, a P-side electrode is deposited on the cladding layer 16 via a contact layer, and an N-side electrode is deposited on the lower surface of the substrate 11.
A DFB laser is configured.

次に、上記構成された実施例レーザの作用につ
いて説明する。
Next, the operation of the embodiment laser configured as described above will be explained.

前記基板11上に溝部12が形成されているの
で、活性層15から回折格子13までの距離は、
共振器方向と直向する方向において中央部と両端
部とで異なつたものとなる。これを分割して考え
ると上記両端部では活性層15と回折格子13ま
での距離、つまり光導波路14の厚さが薄いので
第5図aに示すくなり、このときの結合係数を
K1とする。一方、上記中央部では、光導波路層
14の厚さが厚いので第5図bに示す如くなり、
このときの結合係数をK2とする。K1とK2とは近
似しているが、K1>K2となり、K1の方がK2の
方より僅かに広い禁制帯幅を持つ。つまり、K1
の方がK2より発振周波数λbから僅かに離れるこ
とになる。
Since the groove portion 12 is formed on the substrate 11, the distance from the active layer 15 to the diffraction grating 13 is
In the direction perpendicular to the resonator direction, the central portion and both ends are different. If we consider this separately, the distance between the active layer 15 and the diffraction grating 13, that is, the thickness of the optical waveguide 14, is thin at both ends, as shown in Figure 5a, and the coupling coefficient at this time is
Let's call it K1. On the other hand, since the thickness of the optical waveguide layer 14 is thick in the central part, as shown in FIG. 5b,
The coupling coefficient at this time is K2. Although K1 and K2 are similar, K1>K2, and K1 has a slightly wider forbidden band width than K2. In other words, K1
is slightly further away from the oscillation frequency λb than K2.

したがつて、第5図a,bを組合せた回折格子
13を用いた実施例レーザはK1,K2の混在した
DFBレーザとなる。そして、このときのモード
特性は第6図aに示すようにK1,K2の差によつ
て決まる波長分だけずれてモードが発生すること
になる。ここで、第3図に示したDFBレーザが
第6図中のn=1のモードでレーザー発振すると
仮定すると、第6図a中に示したλ1,λ2の2つ
の波長がレーザー発振を起こすことになる。そし
て、第6図bに示すようにλ1,λ2の波長差が僅
か数[Å]であり、しかも発振スペクトルの強度
がほぼ同一であると、2つの発振周波数λ1,λ2
はそれぞれの僅かな波長広がりによつて光学的に
結合し、実線に示すようなあたかも1つの波長で
発振しているような発振スペクトルとなる。これ
により、回折格子のブラツグ反射条件によつて固
定された発振波長を有しながら、発振スペクトル
幅の広がつたDFBレーザを得ることが可能にな
る。
Therefore, the example laser using the diffraction grating 13 that combines FIG. 5 a and b is a mixture of K1 and K2.
It becomes a DFB laser. As shown in FIG. 6a, the mode characteristics at this time are such that a mode is generated that is shifted by the wavelength determined by the difference between K1 and K2. Here, assuming that the DFB laser shown in Figure 3 oscillates in the n=1 mode in Figure 6, the two wavelengths λ1 and λ2 shown in Figure 6a will cause laser oscillation. become. As shown in Figure 6b, if the wavelength difference between λ1 and λ2 is only a few [Å] and the intensity of the oscillation spectra is almost the same, then the two oscillation frequencies λ1 and λ2
are optically coupled by their slight wavelength spread, resulting in an oscillation spectrum as if they were oscillating at one wavelength, as shown by the solid line. This makes it possible to obtain a DFB laser with a broadened oscillation spectrum width while having an oscillation wavelength fixed by the Bragg reflection conditions of the diffraction grating.

かくして、本実施例によれば、DFBレーザで
ありながら、その発振スペクトル幅を広げること
ができる。このため、外部反射光によるレーザ発
振状態の変動を抑制することができ、DADその
他各種の応用が可能である。また、ビームスプリ
ツタや反射防止膜等を設ける必要がないので、集
積化及び小型化等にも極めて有効である。
Thus, according to this embodiment, although it is a DFB laser, its oscillation spectrum width can be widened. Therefore, fluctuations in the laser oscillation state due to externally reflected light can be suppressed, and various applications such as DAD are possible. Furthermore, since there is no need to provide a beam splitter, antireflection film, etc., it is extremely effective for integration and miniaturization.

なお、本発明は上述した実施例に限定されるも
のではない。例えば、前記溝部の代わりに第7図
に示す如く回折格子を形成すべき部分にストライ
プ状凸部を設けたDFBレーザによつても同様な
効果を得ることができる。さらに、前記結合係数
は必ずしも2つの値を有するものである必要はな
く、それ以上の値を有するものであつてもよい。
つまり、ストライプ状の溝部や凸部以外に、第8
図に示す如く回折格子を形成すべき部分の平面度
を連続的に可変し弓状に結合係数Kを変化させる
ものであつてもよい。また、DFBレーザに限ら
ず、DBRレーザであつても同様な現象効果が得
られ、その他各種の波長制御型レーザに適用する
ことが可能である。その他、本発明の要旨を逸脱
しない範囲で、種々変形して実施することができ
る。
Note that the present invention is not limited to the embodiments described above. For example, a similar effect can be obtained by using a DFB laser in which a striped convex portion is provided in the portion where the diffraction grating is to be formed, as shown in FIG. 7, instead of the groove portion. Furthermore, the coupling coefficient does not necessarily have to have two values, and may have more than two values.
In other words, in addition to the striped grooves and protrusions, the eighth
As shown in the figure, the flatness of the portion where the diffraction grating is to be formed may be varied continuously to vary the coupling coefficient K in an arcuate manner. Furthermore, the same phenomenon effect can be obtained not only with DFB lasers but also with DBR lasers, and it is possible to apply the present invention to various other wavelength-controlled lasers. In addition, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図a〜cは従来のDFBレーザの構造を示
すための斜視図及び側面図、第2図a,bは上記
DFBレーザの動作特性を説明するための模式図、
第3図は本発明の一実施例に係わるDFBレーザ
の概略構造を示す側面図、第4図は上記実施例レ
ーザに用いた回折格子の形状を示す斜視図、第5
図a,b及び第6図a,bはそれぞれ上記実施例
レーザ作用を説明するための模式図、第7図及び
第8図はそれぞれ変形例の構造を示す側面図であ
る。 11…N―InP基板、12…ストライプ状溝
部、13…回折格子、14…N―InGaAsP光導
波路層、15…InGaAsP活性層、16…P―InP
クラツド層、17…ストライプ状凸部。
Figures 1 a to c are perspective views and side views showing the structure of a conventional DFB laser, and Figures 2 a and b are the above.
A schematic diagram to explain the operating characteristics of a DFB laser,
FIG. 3 is a side view showing a schematic structure of a DFB laser according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a perspective view showing the shape of a diffraction grating used in the laser of the above embodiment, and FIG.
Figures a and b and Figures 6a and 6b are schematic diagrams for explaining the laser action of the above embodiment, respectively, and Figures 7 and 8 are side views respectively showing the structure of a modified example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... N-InP substrate, 12... Striped groove part, 13... Diffraction grating, 14... N-InGaAsP optical waveguide layer, 15... InGaAsP active layer, 16... P-InP
Cladding layer, 17...Striped convex portions.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 光導波路に所定周期の回折格子が設けられ、
該回折格子が設けられている平面内におけるレー
ザ光進行方向と直角な方向で、レーザ光の進行波
と反射波との結合係数が少なくとも2種の近似し
た値を持つ波長制御型半導体レーザを用い、光学
的に結合して1つのモードで発振するような強度
がほぼ同一で、かつ波長が僅かに異なる2つのレ
ーザ発振を起こさせるようにしたことを特徴とす
る波長制御型半導体レーザの発振方法。 2 前記回折格子が設けられている平面内には、
レーザ光の進行方向に沿つてストライプ状の溝部
が形成され、かつこの溝部を含んで上記回折格子
が形成されていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の方法。 3 前記回折格子が設けられている平面内には、
レーザ光の進行方向に沿つてストライプ状の凸部
が設けられ、かつこのストライプ状の凸部を含ん
で上記回折格子が形成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の方法。
[Claims] 1. A diffraction grating with a predetermined period is provided in the optical waveguide,
Using a wavelength-controlled semiconductor laser in which the coupling coefficient between the traveling wave of the laser beam and the reflected wave has at least two similar values in a direction perpendicular to the traveling direction of the laser beam in the plane in which the diffraction grating is provided. A method for oscillating a wavelength-controlled semiconductor laser, characterized by causing two laser oscillations that are optically coupled and oscillate in one mode, with substantially the same intensity and slightly different wavelengths. . 2 In the plane in which the diffraction grating is provided,
2. The method according to claim 1, wherein stripe-shaped grooves are formed along the traveling direction of the laser beam, and the diffraction grating is formed including the grooves. 3 In the plane in which the diffraction grating is provided,
The method according to claim 1, wherein striped convex portions are provided along the traveling direction of the laser beam, and the diffraction grating is formed including the striped convex portions. .
JP58218671A 1983-11-22 1983-11-22 Wavelength control type semiconductor laser Granted JPS60111488A (en)

Priority Applications (1)

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JPS60111488A JPS60111488A (en) 1985-06-17
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52143787A (en) * 1976-05-26 1977-11-30 Hitachi Ltd Semiconductor laser
JPS55125691A (en) * 1979-03-22 1980-09-27 Nec Corp Distributed feedback type semiconductor laser

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JPS60111488A (en) 1985-06-17

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