JPS641200Y2 - - Google Patents

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JPS641200Y2
JPS641200Y2 JP1983087028U JP8702883U JPS641200Y2 JP S641200 Y2 JPS641200 Y2 JP S641200Y2 JP 1983087028 U JP1983087028 U JP 1983087028U JP 8702883 U JP8702883 U JP 8702883U JP S641200 Y2 JPS641200 Y2 JP S641200Y2
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JP
Japan
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reflecting plate
cover
ambient temperature
controlled object
temperature
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JP1983087028U
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  • Control Of Temperature (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の目的〕 (産業上の技術分野) 本考案は、人工衛星の搭載機器などからの放熱
量を制御するサーマルルーバの改良に関する。
[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial technical field) The present invention relates to an improvement of a thermal louver that controls the amount of heat radiated from equipment mounted on an artificial satellite.

(従来の技術) 一般に、人工衛星の骨格を構成する構体の周囲
には断熱ブランケツトにより被覆されており太陽
光などからの熱放射から保護されているが、地球
周回中の位置によつては構体内が異常低温度にな
つたりあるいは逆に太陽光の熱放射のほか搭載機
器類の放熱により異常高温度になつたり温度変化
があることから通常太陽光の面する位置にサーマ
ルルーバを設け、ここから放熱したり、太陽光な
どによる放射熱を吸収したり反射したりして構体
内温度を制御するようにしたものがある。この種
のものとして既に実願昭57−94232号として出願
されている。
(Prior art) Generally, the structure that makes up the skeleton of an artificial satellite is covered with a heat insulating blanket to protect it from heat radiation from sunlight, etc. Because the temperature inside the body becomes abnormally low or, conversely, abnormally high due to heat radiation from sunlight or heat dissipation from onboard equipment, or temperature changes occur, a thermal louver is usually installed in a position facing the sunlight. Some devices are designed to control the temperature within the structure by radiating heat from the air, absorbing or reflecting radiant heat from sunlight, etc. An application of this kind has already been filed as Utility Model Application No. 1983-94232.

すなわち、この出願のものの一実施例を、第3
図及び第4図より説明すると、人工衛星の構体
(図示せず)の所定位置に設けられている被制御
体1に対応してサーマルルーバが設けられ、この
カバー内には、それぞれ複数の透孔2…を有する
2枚の円盤体3,4を同一中心軸5に枢着し、一
方の円盤体4をバイメタルスプリング6の伸張・
収縮できるように構成されている。
That is, one embodiment of this application is
To explain with reference to the figures and FIG. Two disk bodies 3 and 4 having holes 2 are pivotally attached to the same central shaft 5, and one disk body 4 is connected to the expansion of the bimetal spring 6.
It is configured to be deflated.

前記バイメタルスプリング6は被制御体1に設
けられたサーモスタツト7を介して電源8に接続
されている。
The bimetal spring 6 is connected to a power source 8 via a thermostat 7 provided on the controlled body 1.

ここで、被制御体の周囲温度が所定の温度より
高い場合には、サーモスタツト7が働くことによ
りその作用により円盤体4が回動し円盤体3の透
孔2を開放する。また被制御体の周囲温度より低
い場合には円盤体4により逆に前記透孔2を閉塞
する。
Here, if the ambient temperature of the controlled object is higher than a predetermined temperature, the thermostat 7 is activated, causing the disc body 4 to rotate and open the through hole 2 of the disc body 3. Further, when the temperature is lower than the ambient temperature of the controlled object, the disc body 4 conversely closes the through hole 2.

しかして、上記透孔2を開放しているときに
は、被制御体からの放熱が前記透孔2を通して外
部に放射され、所望の温度まで低下されることが
できる。また上記透孔2を閉塞しているときに
は、被制御体からの放熱は円盤体3により外部へ
の放射を阻止するようにして極力所望の温度を維
持することができるようにしているものである。
Therefore, when the through hole 2 is open, heat from the controlled object is radiated to the outside through the through hole 2, and the temperature can be lowered to a desired temperature. Further, when the through hole 2 is closed, the heat radiation from the controlled object is prevented from being radiated to the outside by the disk body 3, so that the desired temperature can be maintained as much as possible. .

しかしながら、上述既出願のものによれば、サ
ーマルルーバのカバーの透孔を閉塞する円盤体自
体が若干の熱放射作用を有すること及び前記透孔
を開放した場合においてもサーマルルーバ自体に
より熱放射損失が生じ、結局このサーマルルーバ
による実効放射率は通常約0.1(サーマルルーバ閉
時)〜0.7(サーマルルーバ開時)程度となつてい
る。このため、特に低温時においては機器類から
の発熱があるものの、この機器類の周囲温度管理
上必要な温度が得られず、このためヒータ等の加
熱源を別個に設け、これを必要に応じて作用させ
るなどの手段をとらざるを得なかつた。
However, according to the above-mentioned previously filed application, the disk body itself that closes the through hole of the cover of the thermal louver has a slight heat radiation effect, and even when the through hole is opened, there is a loss of heat radiation due to the thermal louver itself. occurs, and the effective emissivity of this thermal louver is usually about 0.1 (when the thermal louver is closed) to 0.7 (when the thermal louver is open). For this reason, although the equipment generates heat especially at low temperatures, it is not possible to obtain the temperature necessary for controlling the ambient temperature of the equipment, so a separate heating source such as a heater is installed and We had no choice but to take measures such as making it work.

(考案が解決しようとする課題) 第1及び第2の反射板により透孔を適宜に閉塞
することができるようにして放熱及び保温機能を
付加させることによつて、上記従来の欠点を除去
したものである。
(Problem to be solved by the invention) The above-mentioned drawbacks of the conventional method have been eliminated by adding heat dissipation and heat retention functions by making it possible to appropriately close the through holes with the first and second reflecting plates. It is something.

〔考案の構成〕[Structure of the idea]

(課題を解決するための手段) 従来形のサーマルルーバにおける1枚の反射板
により放熱制御する方式のものに対し、この反射
板(第1の反射板)に平行に少許離間して枢支さ
れる第2の反射板を設け、被制御体の周囲温度が
所定温度より高くなるにつれこれらの反射板を一
方向に回動して放熱率を高め、前記周囲温度が所
定温度まで下がると、前記第1の反射板を他方向
に回動して放熱を制御し、更に被制御体の周囲温
度が前記所定温度より低くなるにつれ、前記第2
の反射板のみが他方向へ回動することができるよ
うにしたものである。
(Means for solving the problem) In contrast to conventional thermal louvers that control heat dissipation using a single reflective plate, a thermal louver that is pivoted parallel to this reflective plate (first reflective plate) and spaced a little apart is used. and as the ambient temperature of the controlled object becomes higher than a predetermined temperature, these reflectors are rotated in one direction to increase the heat dissipation rate, and when the ambient temperature falls to a predetermined temperature, the The first reflector is rotated in the other direction to control heat radiation, and as the ambient temperature of the controlled object becomes lower than the predetermined temperature, the second reflector is rotated in the other direction.
Only the reflector plate can be rotated in the other direction.

(作用) しかして、制御機器の周囲温度が例えば30℃以
上の場合には、第1及び第2の反射板が開放して
制御機器からの放熱が効率よく行われ、例えば10
℃程度近辺では第1の反射板のみが閉塞して制御
機器からの放熱を抑制するようにして前記周囲温
度を所望に維持させ、更に±0゜前後では前記第1
及び第2の反射板が閉塞して、むしろ保温させる
ように働くようになるものである。制御機器の周
囲温度が種々の原因で多様に変化した場合にでも
この機器からの外部に対する実効放射率の幅を大
きくとることができるものであるから、より幅広
い制御が可能となる。
(Function) Therefore, when the ambient temperature of the control device is, for example, 30°C or higher, the first and second reflectors are opened and heat is efficiently radiated from the control device.
When the ambient temperature is around ±0°, only the first reflecting plate closes to suppress heat radiation from the control equipment, thereby maintaining the desired ambient temperature.
And the second reflecting plate is closed, and rather works to keep warm. Even if the ambient temperature of the control device changes in various ways due to various causes, the range of effective emissivity from the device to the outside can be widened, so a wider range of control is possible.

(実施例) 以下第1図及び第2図に示される本考案の一実
施例について説明すると、11は人工衛星の構体
(図示せず)の所定位置に装着されるサーマルル
ーバで、構体内に設けられる各種機器からなる被
制御体に対して、対向配置され、前記各種機器の
周囲温度が高くなるとこのサーマルルーバ11を
開放して前記各種機器からの発熱を構体外部へ放
散するようになるものである。このサーマルルー
バ11は、前面部4ケ所に扇形の透孔12a…を
中心点Xより放射状に設けたカバー12と、前記
透孔12a…の裏面に前記軸Xを中心にして回動
することのできるように設けられる第1及び第2
の反射板13及び14と、これらの第1及び第2
の反射板を前記中心点Xを枢軸として回動するこ
とができるように駆動力を起生するうず巻状に形
成された第1及び第2のバイメタル15及び16
とにより構成されているものである。17は、前
記第1及び第2の反射板13及び14の枢軸で、
その一端が前記第1の反射板13の軸部13aと
連結した状態で軸受け12bに保持され、他端が
前記カバー12、第1及び第2の反射板13及び
14、第1及び第2のバイメタル15及び16を
支持する台座18に保持されるようになつてい
る。19は、前記台座18に基部を固定した支持
棒で、前記第1及び第2のバイメタルの固定部を
それぞれ支持している。
(Embodiment) An embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 will be described below. Reference numeral 11 denotes a thermal louver installed at a predetermined position in the structure (not shown) of an artificial satellite. The thermal louver 11 is disposed opposite to a controlled body consisting of various equipment installed, and when the ambient temperature of the various equipment rises, the thermal louver 11 is opened to dissipate heat generated from the various equipment to the outside of the structure. It is. This thermal louver 11 includes a cover 12 with fan-shaped through holes 12a provided in four places on the front surface radially from a center point The first and second
reflectors 13 and 14, and these first and second reflectors 13 and 14.
first and second bimetals 15 and 16 formed in a spiral shape to generate a driving force so that the reflecting plate can be rotated about the center point X;
It is composed of: 17 is a pivot of the first and second reflecting plates 13 and 14;
One end thereof is connected to the shaft portion 13a of the first reflecting plate 13 and held by a bearing 12b, and the other end is connected to the cover 12, the first and second reflecting plates 13 and 14, and the first and second reflecting plate 13. It is designed to be held on a pedestal 18 that supports bimetals 15 and 16. Reference numeral 19 denotes a support rod whose base portion is fixed to the pedestal 18, and supports the fixed portions of the first and second bimetals, respectively.

前記第1のバイメタル15は、その可動部が前
記枢軸17に連結されており、この第1のバイメ
タル15の伸縮作用により前記第1の反射板13
がほぼ45゜の範囲で回動するようになつている。
前記第2のバイメタル16は、その可動部が前記
第2の反射板14の軸部14aに連結されてお
り、この第2のバイメタル16の伸縮作用により
前記第2の反射板14が前記第1の反射板13と
同様にほぼ45゜の範囲で回動するようになつてい
る。前記第1の反射板13は、前記カバー12の
透孔12a…をほぼ覆う程度に4枚の羽根部13
b…を有するものであつて、これをほぼ45゜回動
することにより前記羽根部13b…が移動して前
記透孔12a…を開放あるいは閉塞することがで
きるようになつている。前記第2の反射板14
は、前記第1の反射板13と同様に4枚の羽根部
14b…を有するものであつて、これをほぼ45゜
回動することによりこの羽根部14bにより前記
透孔12a…を開放あるいは閉塞することができ
るようになつている。前記第1及び第2のバイメ
タル15及び16はそれぞれ異なつた動作特性を
有し、+10℃程度で第1の反射板13が動作して
カバー12の透孔12aを完全に閉じるように作
用し、更に温度が低下した場合にもこの状態を維
持する。次に±0℃程度になると第2の反射板1
4が動作して前記透孔12aを二重に閉じるよう
に作用するものである。前記カバー12と第1の
反射板13との〓t及び第1の反射板13と第2
の反射板14との〓t′は、前記透孔12aから入
射する光を前記第1あるいは第2の反射板13あ
るいは14によりどの程度遮蔽されるかというい
わゆるビユーフアクターとの関連により極力小に
している。
The movable portion of the first bimetal 15 is connected to the pivot shaft 17, and the expansion and contraction action of the first bimetal 15 causes the first reflecting plate 13 to move.
can rotate within a range of approximately 45°.
The movable part of the second bimetal 16 is connected to the shaft part 14a of the second reflection plate 14, and the expansion and contraction action of the second bimetal 16 causes the second reflection plate 14 to move toward the first reflection plate 14. Like the reflector 13, it is designed to rotate within a range of approximately 45 degrees. The first reflector 13 has four blades 13 so as to substantially cover the through holes 12a of the cover 12.
b... By rotating this by approximately 45 degrees, the blade portions 13b... can be moved to open or close the through holes 12a... Said second reflecting plate 14
Like the first reflecting plate 13, the plate has four blades 14b, and by rotating it approximately 45 degrees, the blades 14b open or close the through holes 12a. It is becoming possible to do so. The first and second bimetals 15 and 16 have different operating characteristics, and the first reflecting plate 13 operates at about +10° C. to completely close the through hole 12a of the cover 12, This state is maintained even if the temperature further decreases. Next, when the temperature reaches about ±0℃, the second reflector 1
4 operates to double close the through hole 12a. t between the cover 12 and the first reflecting plate 13, and the distance between the first reflecting plate 13 and the second reflecting plate 13.
t' with respect to the reflecting plate 14 is kept as small as possible in relation to the so-called view factor, which is the degree to which the light incident from the through hole 12a is blocked by the first or second reflecting plate 13 or 14. I have to.

なお、20…は、カバー12に設けた人工衛星
の構体に形成したサーマルルーバ取付窓a(第4
図想像線図示)に対して取付けるリベツト挿通用
の孔である。
In addition, 20... is a thermal louver mounting window a (fourth
This is a hole for inserting a rivet to be attached to the hole (illustrated in phantom line).

しかして、このように構成されたサーマルルー
バを人工衛星の構体に装着して使用した場合にお
いて、搭載機器b(第4図想像線図示)周囲温度
が太陽光の吸収あるいは搭載機器b自体の発熱に
より周囲温度が30℃以上になると、第1及び第2
のバイメタル15及び16が動作して第1及び第
2の反射板13及び14を回動させ、カバー12
の透孔12aが前記搭載機器bに面して全開する
ようになる。このようになることにより搭載機器
からの放射熱が第4図矢印のように外部に放散さ
れる。
However, when a thermal louver configured in this way is attached to the structure of an artificial satellite and used, the ambient temperature of onboard equipment b (shown by the imaginary line in Figure 4) may increase due to absorption of sunlight or heat generation of onboard equipment b itself. If the ambient temperature exceeds 30℃, the first and second
The bimetals 15 and 16 operate to rotate the first and second reflecting plates 13 and 14, and the cover 12
The through hole 12a is fully opened facing the mounted equipment b. In this way, the radiant heat from the mounted equipment is radiated to the outside as indicated by the arrow in FIG.

従つて、搭載機器b自体の温度は低下し、これ
により周囲温度も低下して30℃以下となる。太陽
光の入射が中断されたときなど周囲温度が10℃前
後まで低下すると、第1の反射板13がほぼ45゜
回動し、この羽根部13b…がカバー12の透孔
12a…を閉塞する。これにより機器からの放射
熱は一応前記羽根部13b…により外部に対して
大部分遮断される。従つて、放熱は抑制されるも
ののこの機器からの発熱により周囲温度は徐々に
上昇傾向となる。ただし、この状態においては、
羽根部13b1枚により外部と遮断されているこ
とからいわば上述既出願のものと同様にサーマル
ルーバとしての実効放射率はこのとき約0.1程度
は存していることとなり、この放射率により熱放
射しつつ周囲温度が変化することになる。次に太
陽光の入射が長時間なく且つ機器の休止などが原
因で発熱がないときなどにおいて、周囲温度が±
0℃程度にまで低下した場合には、更に第2の反
射板14の羽根部14bが、第1の反射板13の
羽根部13bと合致するようにほぼ45゜回動する。
従つて、カバー12の透孔12a…は前記第1及
び第2の反射板13及び14の羽根部13b及び
14bにより遮断される。この状態によれば機器
からの放熱は、先ず前記羽根部14bより大部分
反射されるが実効放射率0.1程度の分はこの羽根
部14bより羽根部13bに対して放射され、こ
こで更に大部分が反射される。すなわちこの2枚
の羽根部14b及び13bの重合により実効放射
率は更に低減し一実験例によれば、従来の1枚の
反射板の場合に比べて0.05と半減した。従つて、
これにより、機器からの発熱を両反射板13及び
14を介して外部へほとんど放熱させない(即ち
保温される)ので、この発熱分により周囲温度が
保たれる状態となる。
Therefore, the temperature of the mounted device b itself decreases, and the ambient temperature also decreases to 30° C. or less. When the ambient temperature drops to around 10 degrees Celsius, such as when the incidence of sunlight is interrupted, the first reflecting plate 13 rotates approximately 45 degrees, and the blade portions 13b close the through holes 12a of the cover 12. . As a result, most of the radiant heat from the equipment is blocked from the outside by the blade portions 13b. Therefore, although heat radiation is suppressed, the ambient temperature tends to gradually rise due to the heat generated from this device. However, in this state,
Since it is isolated from the outside by one blade part 13b, the effective emissivity as a thermal louver is approximately 0.1 at this time, so to speak, as in the case of the above-mentioned existing application, and this emissivity allows heat to be radiated. At the same time, the ambient temperature will change. Next, when there is no sunlight for a long time and there is no heat generation due to equipment being stopped, etc., the ambient temperature may be within ±
When the temperature drops to about 0° C., the blade portion 14b of the second reflecting plate 14 further rotates approximately 45° so as to match the blade portion 13b of the first reflecting plate 13.
Therefore, the through holes 12a of the cover 12 are blocked by the blade portions 13b and 14b of the first and second reflecting plates 13 and 14. In this state, most of the heat radiated from the equipment is first reflected from the blade portion 14b, but the portion with an effective emissivity of about 0.1 is radiated from the blade portion 14b to the blade portion 13b, where the majority of the heat is further reflected. is reflected. That is, due to the superposition of these two blade portions 14b and 13b, the effective emissivity was further reduced, and according to one experimental example, it was halved to 0.05 compared to the case of a conventional single reflecting plate. Therefore,
As a result, almost no heat generated from the equipment is radiated to the outside through the reflecting plates 13 and 14 (that is, heat is retained), so that the ambient temperature is maintained by the heat generated.

〔考案の効果〕[Effect of idea]

本考案によれば以上のように、放熱用透孔に対
し第1の反射板及び第2の反射板を設け、これを
機器の周囲温度の状態に応じてそれぞれが共同し
て作用しこれにより機器からの外部に対する実効
放射率を更に広くすることができる構成としたか
ら、機器の周囲温度が種々の原因で多様に変化し
た場合にでも放熱・保温を効率よく且つ無段可変
的に行うことができるのみならず、特に周囲温度
がかなり低温域になつた場合にでも極力所望の周
囲温度を維持することができるようにしたからこ
の周囲温度の異常温度によつて人工衛星の機器の
故障の原因になつたり、誤動作、誤作用を起した
りすることを未然に防止することができる効果を
奏するものである。
According to the present invention, as described above, the first reflector plate and the second reflector plate are provided for the heat dissipation hole, and each acts jointly depending on the state of the ambient temperature of the device. Since the configuration allows for a wider effective emissivity from the equipment to the outside, heat radiation and heat retention can be performed efficiently and steplessly even when the ambient temperature of the equipment changes variously due to various causes. Not only is it possible to maintain the desired ambient temperature as much as possible even when the ambient temperature drops to a fairly low temperature range, so it is possible to prevent satellite equipment from malfunctioning due to abnormal ambient temperatures. This has the effect of preventing malfunctions or malfunctions from occurring.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本考案のサーマルルーバを示す平面
図、第2図は第1図の−線に沿う断面図、第
3図及び第4図は従来例を示す図で、第3図はサ
ーマルルーバ本体の斜視図、第4図aはサーマル
ルーバ本体の上面図で第4図bは第4図aのB−
B′線に沿う断面図である。 11……サーマルルーバ、12……カバー、1
2a……透孔、13……第1の反射板、14……
第2の反射板、14b……羽根部、15……第1
のバイメタル、16……第2のバイメタル、17
……枢軸、18……台座、19……支持棒。
FIG. 1 is a plan view showing the thermal louver of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line - in FIG. 1, FIGS. 3 and 4 are views showing conventional examples, and FIG. A perspective view of the main body, Fig. 4a is a top view of the thermal louver main body, and Fig. 4b is a B--B of Fig. 4a.
FIG. 3 is a sectional view taken along line B'. 11...Thermal louver, 12...Cover, 1
2a...Through hole, 13...First reflecting plate, 14...
Second reflector, 14b...Blade portion, 15...First
bimetal, 16...second bimetal, 17
...Axis, 18...Pedestal, 19...Support rod.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 被制御体を覆うように設けられる熱放射用透口
を有するカバーと、このカバーの透口に小距離間
して対向し、これを回動することにより前記透口
を閉塞及び開放することができるような形状を有
した第1の反射板と、この第1の反射板の形状に
ほぼ合致し、この第1の反射板と平行に少許離間
して回動自在に枢支される第2の反射板と、前記
第1及び第2の反射板を駆動するように前記第1
及び第2の反射板の各軸部にそれぞれ取付けられ
た被制御体の周囲温度により動作する第1及び第
2のバイメタルを具備し、この被制御体の周囲温
度が所定温度より高くなるにつれ前記第1及び第
2のバイメタルの作用により前記第1及び第2の
反射板を一方向に回動し、これによつて前記カバ
ーの透口を開放し、被制御体の周囲温度が前記所
定温度まで下がると前記第1の反射板を他方向に
最大まで回動して前記カバーの透口を閉塞して停
止し、更に、前記被制御体の周囲温度が前記所定
温度より低くなるにつれ前記第2の反射板のみが
他方向へ回動するようにしたことを特徴とするサ
ーマルルーバ。
A cover having a heat radiation aperture provided to cover the controlled object, and a cover that faces the aperture of the cover at a short distance and can be rotated to close and open the aperture. a first reflecting plate having a shape that allows the first reflecting plate to be formed; and a second reflecting plate that substantially matches the shape of the first reflecting plate and is rotatably supported parallel to the first reflecting plate and spaced apart from the first reflecting plate. a reflector, and the first reflector to drive the first and second reflectors.
and a second bimetal that operates according to the ambient temperature of the controlled object attached to each shaft portion of the second reflecting plate, and as the ambient temperature of the controlled object becomes higher than a predetermined temperature, the The first and second reflecting plates are rotated in one direction by the action of the first and second bimetals, thereby opening the through hole of the cover, and the ambient temperature of the controlled object is brought to the predetermined temperature. When the ambient temperature of the controlled object becomes lower than the predetermined temperature, the first reflecting plate is rotated to the maximum in the other direction to close the opening of the cover and stopped. A thermal louver characterized in that only the second reflecting plate rotates in the other direction.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57147999A (en) * 1981-03-11 1982-09-13 Nippon Electric Co Pin wheel type thermal louver

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57147999A (en) * 1981-03-11 1982-09-13 Nippon Electric Co Pin wheel type thermal louver

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