JPS638915A - Thin film cooling element and its control method - Google Patents

Thin film cooling element and its control method

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JPS638915A
JPS638915A JP15298386A JP15298386A JPS638915A JP S638915 A JPS638915 A JP S638915A JP 15298386 A JP15298386 A JP 15298386A JP 15298386 A JP15298386 A JP 15298386A JP S638915 A JPS638915 A JP S638915A
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JP
Japan
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temperature
peltier element
substrate
thin film
peltier
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JP15298386A
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Japanese (ja)
Inventor
Ikuo Nishimoto
育夫 西本
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Azbil Corp
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Abstract

PURPOSE:To make the power consumption of the whole element constant by stacking a Peltier element and a heating resistance body on a substrate and constituting a thin film cooling element, and computing the power consumption of the Peltier element which varies with humidity and controlling electric power supplied to the heating resistance body. CONSTITUTION:The Peltier element 2 and heating resistance body 50 are stacked on the substrate and the heating resistance body 50 is so controlled that the sum of the power consumption of the Peltier element 2 and the power consumption of the heat resistance body 50 is always constant. The temperature rise value of the substrate of the thin film cooling element, therefore, becomes constant. Further, when a thermocouple is used to detect the water drop temperature of the cooling part for the Peltier element 2 and obtain an output corresponding to the temperature difference between the substrate temperature and water drop temperature, the water drop temperature is accurately obtained from the room temperature. Further, when a resistance bulb is stacked on the substrate, the temperature rise value to the room temperature of the substrate is constant, so the room temperature is accurately found to obtain the absolute humidity from the water drop temperature and the relative humidity from the water drop temperature and room temperature.

Description

【発明の詳細な説明】 「対象技術分野」 この発明は基板上にペルチェエレメントおよび発熱抵抗
体を薄膜状に集積し、ペルチェエレメントの吸熱接合部
に水滴が発生する時点の基板温度と室温とから湿度を求
めるための薄膜冷却素子およびその制御方法に関するも
のである。
Detailed Description of the Invention "Target Technical Field" This invention integrates a Peltier element and a heating resistor in a thin film on a substrate, and calculates the temperature of the substrate and the room temperature at the time when water droplets are generated at the endothermic junction of the Peltier element. The present invention relates to a thin film cooling element for determining humidity and a method for controlling the same.

「発明の背景」 基板上にペルチェエレメントと室温検出用の測温抵抗体
を集積して湿度検出素子を構成し、ペルチェエレメント
の吸熱接合部に水滴が生じるようにペルチェエレメント
への供給電流を制御し、その際ペルチェエレメントの吸
熱接合部付近の水滴生成温度と室温とを計測し、これら
2つの温度から湿度を求める薄膜冷却素子において、ペ
ルチェエレメントへの供給電流は空気中の湿度に応じて
変化する。すなわち第10図に示すようにペルチェエレ
メントの消費電力Aは湿度に応じて変化する。さらに湿
度検出素子全体の消費電力Bはペルチェエレメントの消
費電力により変動する。また湿度検出素子の基板の温度
上昇値は一定でなく相対湿度に応じて変動する。このた
め基板上に集積された室温を検出する測温抵抗体から得
られる室温および水滴生成温度は基板の温度上昇値を含
み、この温度上昇値は一定でな(・ため演算補正が容易
でない。と(に湿度変化により消費電力が変動した際の
過渡状態における温度挙動を演算するのは大変難かしく
、よって湿度検出精度の上から問題がある。
"Background of the Invention" A humidity detection element is constructed by integrating a Peltier element and a temperature sensing resistor for detecting room temperature on a substrate, and the current supplied to the Peltier element is controlled so that water droplets are generated at the heat-absorbing joint of the Peltier element. At that time, the water droplet generation temperature near the heat-absorbing junction of the Peltier element and the room temperature are measured, and the humidity is determined from these two temperatures.In the thin film cooling element, the current supplied to the Peltier element changes depending on the humidity in the air. do. That is, as shown in FIG. 10, the power consumption A of the Peltier element changes depending on the humidity. Furthermore, the power consumption B of the entire humidity detection element varies depending on the power consumption of the Peltier element. Further, the temperature rise value of the substrate of the humidity detection element is not constant but varies depending on the relative humidity. For this reason, the room temperature and water droplet generation temperature obtained from the temperature sensing resistor integrated on the substrate that detects the room temperature include the temperature rise value of the substrate, and this temperature rise value is not constant (and therefore calculation correction is not easy. It is very difficult to calculate the temperature behavior in a transient state when the power consumption fluctuates due to a change in humidity, which poses a problem in terms of humidity detection accuracy.

「目的」 この発明はこのような問題点に鑑み、薄膜冷却素子にお
ける基板の室温に対する上昇値を一定とし、室温から水
滴温度を精度よく検出しようとするものである。
"Objective" In view of the above-mentioned problems, the present invention aims to maintain a constant rise value of a substrate in a thin film cooling element with respect to room temperature, and to accurately detect water droplet temperature from room temperature.

「概要」 この発明はその目的を達成するために基板上にペルチェ
エレメントおよび発熱抵抗体を集積−jることにより薄
膜冷却素子を構成し、湿度に応じて変化するペルチェエ
レメントの消費電力をそのペルチェエレメントへの供給
電圧および供給を流により演算し、発熱抵抗体への供給
電力を制御し、素子全体の消費電力をつねに一定とする
ものである。
``Summary'' In order to achieve the object, this invention configures a thin film cooling element by integrating a Peltier element and a heating resistor on a substrate, and reduces the power consumption of the Peltier element, which changes depending on humidity. The voltage and supply to the element are calculated based on the flow, the power supplied to the heating resistor is controlled, and the power consumption of the entire element is always kept constant.

「実施例」 まず、この発明における薄膜冷却素子を湿度検出用素子
に適用した実施例について、その製造工程にしたがって
説明する。
"Example" First, an example in which the thin film cooling element of the present invention is applied to a humidity detection element will be described according to its manufacturing process.

第1図は本実施例の製造途中におけろ斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of this embodiment during manufacture.

基板20はステンレス鋼等の金属あるいは単結晶シリコ
ンウェファ等の材料から成る。この基板20の上に、ま
ず絶縁層22として耐湿性の良好な窒化シリコン(Si
、N4)膜をプラズマCVD装置により6000 A程
度の厚さに生成する。
The substrate 20 is made of a metal such as stainless steel or a material such as a single crystal silicon wafer. On this substrate 20, silicon nitride (Si), which has good moisture resistance, is first formed as an insulating layer 22.
, N4) film to a thickness of about 6000 A using a plasma CVD apparatus.

次に、第1のペルチェ金属24.第1の熱電対金属28
.および測温抵抗体32となる厚さ2μのP型のテルル
鉛(PbTe )の薄膜を上記絶縁層22の上に蒸着に
より生成する。
Next, the first Peltier metal 24. First thermocouple metal 28
.. Then, a P-type lead tellurium (PbTe) thin film having a thickness of 2 μm, which will become the temperature sensing resistor 32, is formed on the insulating layer 22 by vapor deposition.

そして、耳側技術により、このP型のテルル鉛の薄膜を
第1図に示す第1のペルチェ金属24゜第1の熱電対金
属28および測温抵抗体32のノくターンと成るように
選択的にエツチングする。
Then, using the ear side technique, this P-type tellurium lead thin film was selected to form the notch of the first Peltier metal 24°, the first thermocouple metal 28, and the resistance temperature detector 32 as shown in FIG. Etching.

すなわち、第1のペルチェ金属24は絶縁層22表面の
周辺部から中心部罠延びる帯状のノくターンを所定の間
隔で複数配列したものであり、また、第1の熱電対金属
28は第1のペルチェ金属24と同じく周辺部から中心
部に延びる帯状のノくターンである。
That is, the first Peltier metal 24 has a plurality of strip-shaped knots extending from the periphery of the surface of the insulating layer 22 to the center arranged at predetermined intervals, and the first thermocouple metal 28 has Like the Peltier metal 24, it is a band-shaped knot extending from the periphery to the center.

さらに、測温抵抗体32は第1のペルチェ金属24およ
び第1の熱電対金属28を囲うように絶縁層22表面の
周辺部にバターニングされている。なお、この測温抵抗
体32は室温検出手段として機能するものである。
Further, the temperature sensing resistor 32 is patterned around the surface of the insulating layer 22 so as to surround the first Peltier metal 24 and the first thermocouple metal 28 . Note that this resistance temperature detector 32 functions as a room temperature detection means.

さらに、絶縁層22表面の周辺部には測温抵抗体32を
囲うように発熱抵抗体50がノくターニングされ、かつ
この発熱抵抗体は発熱手段としての機能を有する。
Furthermore, a heating resistor 50 is turned around the surface of the insulating layer 22 so as to surround the temperature measuring resistor 32, and this heating resistor has a function as a heating means.

次に、上記のように第1のペルチェ金属24等がパター
ニングされた表面上に絶縁層22としての窒化シリコン
膜をプラズマCVD装置により3000八程度の厚さに
生成する。
Next, on the surface where the first Peltier metal 24 and the like have been patterned as described above, a silicon nitride film as the insulating layer 22 is formed to a thickness of about 3,000 mm using a plasma CVD apparatus.

しかる後、耳側技術によりこの窒化シリコン膜を選択的
にエツチングすることで、第1のベルチェ金属24と後
に形成される第2のペルチェ金属25との接合部のため
のコンタクトホール、および第1の熱電対金属28と後
に形成される第2の熱電対金属29との接合部のための
フンタクトホールを生成する。これらのコンタクトホー
ルは、第1のペルチェ金属24および第1の熱電対金属
28の端部に形成される。
Thereafter, by selectively etching this silicon nitride film using a side-side technique, a contact hole for a joint between the first Vertier metal 24 and the second Peltier metal 25 to be formed later, and a first A hole is created for a junction between the second thermocouple metal 28 and the second thermocouple metal 29 that will be formed later. These contact holes are formed at the ends of first Peltier metal 24 and first thermocouple metal 28.

ついで、第2のペルチェ金属25および第20熱電対金
属29となる厚さ2μ程度のn型のテルル鉛の薄膜をコ
ンタクトホールを含む絶縁層22上全面に蒸着により生
成する。
Next, a thin film of n-type tellurium lead having a thickness of approximately 2 μm, which will become the second Peltier metal 25 and the twentieth thermocouple metal 29, is formed by vapor deposition over the entire surface of the insulating layer 22 including the contact hole.

その後、4刻技術により第1図に示す第2のペルチェ金
属25および第2の熱電対金属29のパターンとなるよ
うに選択的にエツチングする。
Thereafter, selective etching is performed using a four-cut technique to form the pattern of the second Peltier metal 25 and second thermocouple metal 29 shown in FIG.

すなわち、第2のペルチェ金属25は第1のペルチェ金
属24の中央部側端部(この上部には上記コンタクトホ
ールが形成されている)と、この第1のペルチェ金属2
4と隣接する別の第1のペルチェ金属24の周辺部側端
部(この上部にもコンタクトホールが形成されている)
とを接続するように帯状にパターニングされろ。
That is, the second Peltier metal 25 connects the central end of the first Peltier metal 24 (the contact hole is formed in the upper part) and the first Peltier metal 24.
The peripheral side end of another first Peltier metal 24 adjacent to 4 (a contact hole is also formed in this upper part)
It is patterned into a strip to connect the two.

ただし、複数ある第2のペルチェ金pA25のうちの一
つは、一端のみが第1のペルチェ金属24と接合される
もので、その他端は後述するベルチェ冷却手段の一方の
電極部となる。また、複数ある第1のペルチェ金属24
のうちの一つも、一端のみが第2のペルチェ金属25と
接合されてi6つ、その他端がペルチェ冷却手段の他方
の電極部となる。
However, only one end of one of the plurality of second Peltier gold pAs 25 is joined to the first Peltier metal 24, and the other end becomes one electrode part of the Vertier cooling means described later. In addition, a plurality of first Peltier metals 24
Only one end of one of them is joined to the second Peltier metal 25, and the other end becomes the other electrode part of the Peltier cooling means.

このパターニングにより、第1のペルチェ金属24と第
2のペルチェ金属25とが交互に連続的に接続され、電
気的に一体化されて、ベルチェエレメントすなわちペル
チェ冷却手段を構成する。
By this patterning, the first Peltier metal 24 and the second Peltier metal 25 are alternately and continuously connected and electrically integrated to form a Vertier element, that is, a Peltier cooling means.

すなわち、第1のペルチェ金属24と第2のペルチェ金
属25との接合部のうち、基板20の中心部にあるもの
を第1の接合部群26とし、周辺部にあるものを第2の
接合部群27とすると、所定の方向に電流を流すことに
より第1の接合部群26に吸熱作用が生じ、第2の接合
部群27に発熱作用が生じる。この吸熱作用を利用して
、第1の接合部群26が集中している素子中央部を冷却
することができるのである。
That is, among the joints between the first Peltier metal 24 and the second Peltier metal 25, those located at the center of the substrate 20 are referred to as the first joint group 26, and those located at the periphery are referred to as the second joint group. In the case of the joint group 27, passing a current in a predetermined direction causes the first joint group 26 to absorb heat and the second joint group 27 to generate heat. Utilizing this heat absorption effect, it is possible to cool the central part of the element where the first joint group 26 is concentrated.

第20熱電対金属29はコンタクトホールが形成された
第1の熱電対金属28の中央部側端部から第1の熱電対
金属28と平行に周辺部まで延びる帯状のパターンとす
る。第1の熱電対金属28と第2の熱電対金属29との
接合部が感温部30となり、両金属の他端部が冷却温度
検出手段としての熱電対の電極部となる。
The 20th thermocouple metal 29 has a band-like pattern extending from the central end of the first thermocouple metal 28 in which the contact hole is formed to the peripheral portion in parallel with the first thermocouple metal 28. The junction between the first thermocouple metal 28 and the second thermocouple metal 29 becomes the temperature sensing part 30, and the other ends of both metals become the electrode parts of the thermocouple as cooling temperature detection means.

続いて、ペルチェ冷却手段、室温検出手段および冷却測
度検出手段を覆うように、再び絶縁層22となる窒化シ
リコン膜をプラズマCVD装置により6000 A程度
の厚さに生成し、4刻技術により窒化シリコン膜を選択
的にエツチングすることで、ペルチェ冷却手段、冷却温
度検出手段および室温検出手段の各電極部にコンタクト
ホールを形成する。
Next, a silicon nitride film, which will become the insulating layer 22, is again formed to a thickness of about 6000 A using a plasma CVD apparatus so as to cover the Peltier cooling means, the room temperature detection means, and the cooling measurement detection means. By selectively etching the film, contact holes are formed in each electrode portion of the Peltier cooling means, the cooling temperature detecting means, and the room temperature detecting means.

その後、アルミニウム等の厚さ1μ程度の金属薄膜を、
絶縁層22上にコンタクトホールを含む全面にわたって
蒸着により生成し、4刻技術によりこの金属の薄膜を選
択的にエツチングして第2図の斜視図に示すようなペル
チェ冷却手段のパッド34a、34b、冷却温度検出手
段のパッド35a、35b、室温検出手段のパッド36
a、36b、発熱手段のパッド55a、55bおよび水
滴検出手段33をパターニングする。
After that, a thin metal film of aluminum or the like with a thickness of about 1μ is applied.
Pads 34a, 34b of the Peltier cooling means as shown in the perspective view of FIG. Pads 35a, 35b of cooling temperature detection means, pad 36 of room temperature detection means
a, 36b, the pads 55a, 55b of the heating means and the water droplet detection means 33 are patterned.

水滴検出手段33は、第2図の斜視図から判るように、
素子中央部において2つの櫛型の電極33a 、33b
を互いにかみ合うように対向させた平板状のコンデンサ
を構成している。
As can be seen from the perspective view of FIG. 2, the water droplet detection means 33 is
Two comb-shaped electrodes 33a and 33b in the center of the element
A flat capacitor is formed by facing each other so as to interlock with each other.

次に、素子の表裏両面に窒化シリコン膜をプラズマCV
D装置により6000 A程度の厚さに生成する。これ
は、窒化シリコンが極めて安定した材料であるために保
護膜として使うためである。
Next, a silicon nitride film is deposited on both the front and back sides of the device using plasma CVD.
It is produced to a thickness of about 6000 Å using D equipment. This is because silicon nitride is an extremely stable material and is therefore used as a protective film.

そして、4刻技術を使い、基板20の裏側の中央部の窒
化シリコン膜をプラズマエツチングにより選択的に除去
して開口を形成し、さらに、この開口を通して基板20
を絶縁層22までエツチング除去する。第3図はこのと
きの状態を示す断面図であり、基板20の裏面からのエ
ツチングにより凹部21が基板20の中央部に形成され
ていることが判る。
Then, using the four-cut technique, the silicon nitride film at the center of the back side of the substrate 20 is selectively removed by plasma etching to form an opening, and the substrate 20 is etched through this opening.
is removed by etching down to the insulating layer 22. FIG. 3 is a sectional view showing the state at this time, and it can be seen that a recess 21 is formed in the center of the substrate 20 by etching from the back surface of the substrate 20.

最終工程として、第4図の概略斜視図に示すように、素
子表面の窒化シリコン膜のうちの凹部21の周辺部の一
部を4刻技術により選択的にエツチングすることで、素
子表面と凹部21とを連通ずる貫通孔23を形成すると
共に、電極33a。
As a final step, as shown in the schematic perspective view of FIG. 4, by selectively etching a portion of the silicon nitride film on the element surface around the recess 21 using a four-cut technique, the element surface and the recess are etched. A through hole 23 is formed to communicate with the electrode 33a.

33b、・・・・・・、36a 、36bにおける外部
回路との接続のためのポンディングパッド開口部を形成
する。hお、この貫通孔23は、凹部21内の空気と絶
縁層22の上面に接する大気との圧力差を無くすために
形成されるものである。その後は基板をダイシングし、
各々のチップに切り出し、所定のパッケージを行なう。
33b, . . . , 36a, 36b, bonding pad openings for connection with external circuits are formed. The through hole 23 is formed to eliminate the pressure difference between the air inside the recess 21 and the atmosphere in contact with the upper surface of the insulating layer 22. After that, the board is diced,
Each chip is cut out and packaged in a predetermined manner.

以上の工程を経て、本実施例の湿度検出用素子が造られ
る。
Through the above steps, the humidity detection element of this example is manufactured.

なお、凹部21を基板20の裏面からのエツチングによ
り形成したが、第5図および第6図の斜視図に示すよう
にシリコン基板の異方性エツチングにより実現されるマ
イクロブリッヂ構造を適用することも可能である。
Note that although the recesses 21 are formed by etching from the back surface of the substrate 20, a microbridge structure realized by anisotropic etching of a silicon substrate may also be applied, as shown in the perspective views of FIGS. 5 and 6. It is possible.

また、第1のペルチェ金属24.第2のペルチェ金属2
5のパターンは、冷却部である第1の接合部群26が所
定の場所に集中できるものであれば、実施例のパターン
に限られろものではないことは言うまでもない。
Also, the first Peltier metal 24. Second Peltier metal 2
It goes without saying that the pattern No. 5 is not limited to the pattern of the embodiment, as long as the first joint group 26, which is the cooling part, can be concentrated at a predetermined location.

また、本実施例ではペルチェ冷却手段2は第1のペルチ
ェ金属24と第2のペルチェ金属25とを交互に接続し
て1組の直列回路を構成しているが、少なくとも1組の
直列回路が形成されていればよく、2組以上の直列回路
を並列接続したものでも構わない。
Further, in this embodiment, the Peltier cooling means 2 constitutes one series circuit by alternately connecting the first Peltier metal 24 and the second Peltier metal 25, but at least one series circuit It is sufficient that the circuits are formed, and two or more sets of series circuits may be connected in parallel.

さらに、第1のペルチェ金属24と第2のペルチェ金属
25との接合部が、使用する金属によってはオーミック
接合とならずに半導体接合(例えばショットキ接合等)
となる場合があるが、そのような場合には、ニッケル等
温3の金属を介して電気的接合をとれば冷却部における
ジュール熱の発生を抑えることができ、冷却能力の低下
を防止できる。
Furthermore, depending on the metal used, the junction between the first Peltier metal 24 and the second Peltier metal 25 may not be an ohmic junction but a semiconductor junction (for example, a Schottky junction).
However, in such a case, by making an electrical connection through a metal of nickel isothermal 3, it is possible to suppress the generation of Joule heat in the cooling part and prevent a decrease in cooling capacity.

さらに、第1のペルチェ金属24と第2のペルチェ金属
25との接合部が、使用する金属によってはオーミック
接合とならずに半導体接合(例えばショットキ接合等)
となる場合があるが、そのような場合には、ニッケル等
温3の金属を介して電気的接合をとれば冷却部におけろ
ジュール熱の発生を抑えることができ、冷却能力の低下
を防止できる。
Furthermore, depending on the metal used, the junction between the first Peltier metal 24 and the second Peltier metal 25 may not be an ohmic junction but a semiconductor junction (for example, a Schottky junction).
However, in such cases, by making electrical connections through nickel isothermal 3 metal, it is possible to suppress the generation of Joule heat in the cooling section and prevent a decrease in cooling capacity. .

つぎに、本実施例の湿度検出用素子を実際に露点湿度計
として用いる場合の回路構成を第7図のブロック図に基
づいて説明する。
Next, a circuit configuration when the humidity detection element of this embodiment is actually used as a dew point hygrometer will be explained based on the block diagram of FIG.

一点鎖線で囲まれた部分が湿度検出用素子1であり、ペ
ルチェ冷却手段2.水滴検出手段3.冷却温度検出手段
4.室温検出手段52発熱手段13を含む。
The part surrounded by the dashed line is the humidity detection element 1, and the Peltier cooling means 2. Water drop detection means 3. Cooling temperature detection means 4. Room temperature detection means 52 includes heat generation means 13.

電流発生回路6はペルチェ冷却手段2に必要な電流を供
給する回路であり、ペルチェ冷却手段2の冷却能力を決
定する回路である。
The current generating circuit 6 is a circuit that supplies a necessary current to the Peltier cooling means 2, and is a circuit that determines the cooling capacity of the Peltier cooling means 2.

水滴検出回路7は、直接的には水滴検出手段3のインピ
ーダス変化を検出する回路であり、この変化を検出して
水滴の有無を判断する。すなわち、水滴検出手段3を構
成するコンデンサの容量が水滴の付着により太き(変化
することを利用して水滴の有無を検出するものである。
The water droplet detection circuit 7 is a circuit that directly detects a change in impedance of the water droplet detection means 3, and detects this change to determine the presence or absence of water droplets. That is, the presence or absence of water droplets is detected by utilizing the fact that the capacitance of the capacitor constituting the water droplet detection means 3 increases (changes) due to adhesion of water droplets.

温度差検出回路8は、冷却温度検出手段4としての熱電
対がペルチェ冷却手段2における冷却部と室温との差に
基づいて発生する起電力を検出し、この起電力から冷却
部と室温との温度差を検出する回路である。
In the temperature difference detection circuit 8, a thermocouple serving as the cooling temperature detection means 4 detects an electromotive force generated based on the difference between the cooling part and the room temperature in the Peltier cooling means 2, and detects the difference between the cooling part and the room temperature from this electromotive force. This is a circuit that detects temperature differences.

室温検出回路9は、室温検出手段5としての測温抵抗体
32に接続され、測温抵抗体32の抵抗変化から室内温
度Taを検出する機能を有する。
The room temperature detection circuit 9 is connected to the temperature-measuring resistor 32 as the room-temperature detecting means 5, and has a function of detecting the room temperature Ta from the resistance change of the temperature-measuring resistor 32.

電流発生回路15は発熱手段13に必要な1!流を供給
する回路である。
The current generating circuit 15 is 1! necessary for the heat generating means 13! This is a circuit that supplies current.

マイクロコンピュータlOは、電流発生回路6.15.
水滴検出回路7.温度差検出回路8.室温検出回路9と
バス12を介して接続され、水滴検出回路7により検出
される水滴の有無に応じて電流発生回路6,15を制御
するとともに、温度差検出回路8によって検出される温
度差ΔTと室温検出回路9によって検出される室内温度
Taを使って演算により絶対湿度と相対湿度を求める機
能を有する。
The microcomputer IO has a current generating circuit 6.15.
Water drop detection circuit 7. Temperature difference detection circuit 8. It is connected to the room temperature detection circuit 9 via a bus 12, and controls the current generation circuits 6 and 15 according to the presence or absence of water droplets detected by the water droplet detection circuit 7, and also controls the temperature difference ΔT detected by the temperature difference detection circuit 8. It has a function of calculating absolute humidity and relative humidity using the indoor temperature Ta detected by the room temperature detection circuit 9.

インターフェース11はマイクロコンピュータ10に接
続され、マイクロコンピュータ10かもの露点温度、絶
対湿度、相対湿度等に関する情報を図示しない外部機器
に送る機能を有する。
The interface 11 is connected to the microcomputer 10 and has a function of sending information regarding the dew point temperature, absolute humidity, relative humidity, etc. of the microcomputer 10 to an external device (not shown).

次に、このように構成された露点湿度計の動作について
、第8図に示すマイクロコンピュータ10が実行するフ
ローチャートにしたがって説明する。
Next, the operation of the dew point hygrometer configured as described above will be explained according to a flowchart executed by the microcomputer 10 shown in FIG.

まず、マイクロコンピュータ10は電流発生回路6に最
大電流をペルチェ冷却手段2に流すように指示する(ス
テップ101)。
First, the microcomputer 10 instructs the current generation circuit 6 to cause the maximum current to flow through the Peltier cooling means 2 (step 101).

ペルチェ冷却手段2に電流が流れると接合部群26.2
7においてベルチェ効果が生じる。すなわち、第1の接
合部群26では吸熱作用、第2の接合部群27では発熱
作用が生じる。
When a current flows through the Peltier cooling means 2, the joint group 26.2
7, the Beltier effect occurs. That is, an endothermic action occurs in the first joint group 26, and an exothermic action occurs in the second joint group 27.

第1の接合部群26は湿度検出用素子1の中央部に集中
しており、表裏両面が空気中に露出する薄膜層内に形成
されているため、熱的に絶縁された状態となっている。
The first joint group 26 is concentrated in the center of the humidity detection element 1, and is formed in a thin film layer with both the front and back surfaces exposed to the air, so it is thermally insulated. There is.

したがって、第1の接合部群26の近傍すなわち冷却部
の冷却は極めて微少の電流にて実現できることになる。
Therefore, cooling of the vicinity of the first joint group 26, that is, the cooling portion, can be achieved with an extremely small amount of current.

一方、第2の接合部群27は湿度検出用素子1の周辺部
に分散しており、基板20に密着した薄膜層内に形成さ
れているため、その発熱は直ちに基板20内に伝達され
る。したがって、第2の接合部群27の近傍での温度上
昇は殆どなく、第1の接合部群26の冷却作用に対して
全(その影響を与えることはない。
On the other hand, the second joint group 27 is distributed around the humidity detection element 1 and is formed in a thin film layer that is in close contact with the substrate 20, so that the heat generated therefrom is immediately transmitted into the substrate 20. . Therefore, there is almost no temperature rise in the vicinity of the second joint group 27, and there is no effect on the cooling effect of the first joint group 26.

したがって、湿度検出用素子1の中央部に位置する冷却
部は露点温度以下に速やかに冷却されることになり、こ
の冷却部の上に形成されている水滴検出手段3のさらに
その上の絶縁層22上に結露現象が現れ、水滴が付着す
る。
Therefore, the cooling part located in the center of the humidity detection element 1 is quickly cooled to below the dew point temperature, and the insulating layer further above the water droplet detection means 3 formed on this cooling part A dew condensation phenomenon appears on 22, and water droplets adhere to it.

水滴検出手段3は前述したように、対向する互いに分離
した2本の電極33a、33bからなることから、絶縁
層22上に水滴が□付着すると、誘電率が増加し、電極
33a、33b間のインピーダンスが急激に低下するこ
とになる。
As mentioned above, the water droplet detection means 3 consists of two opposing electrodes 33a and 33b separated from each other, so when a water droplet adheres to the insulating layer 22, the dielectric constant increases and the gap between the electrodes 33a and 33b increases. The impedance will drop rapidly.

水滴検出回路7はこの水滴検出手段3のインピーダンス
の変化を検出し、マイクロコンピュータ10は水滴検出
回路7の出力から水滴の有無を知る(ステップ102)
The water droplet detection circuit 7 detects a change in the impedance of the water droplet detection means 3, and the microcomputer 10 knows the presence or absence of water droplets from the output of the water droplet detection circuit 7 (step 102).
.

水滴検出回路7としては、例えば、一定周期の発振パル
スで水滴検出手段3を励起し、この水滴検出手段3のイ
ンピーダンス値を積分回路で対応する電圧値に変換し、
この電圧値を所定のレベルト比較スるコンパレータをも
って水滴付着の有無を検出するといった構成が考えられ
る。
The water droplet detection circuit 7, for example, excites the water droplet detection means 3 with an oscillation pulse of a constant period, converts the impedance value of the water droplet detection means 3 into a corresponding voltage value using an integrating circuit,
A conceivable configuration is to use a comparator that compares this voltage value with a predetermined level to detect the presence or absence of water droplets.

最大電流をもってペルチェ冷却手段2の冷却部を冷却す
ることで所定時間内に水滴が付着し、水滴検出回路7が
これを検出するとマイクロコンピュータ10は冷却電流
を8%減少させる(ステップ105)。なお、このとき
、所定時間経過しても水滴が付着しない場合には、雰囲
気の状態が測定レンジ範囲外にあるので、その旨の表示
信号を出力する(ステップ103,104)。
By cooling the cooling part of the Peltier cooling means 2 with the maximum current, water droplets adhere within a predetermined time, and when the water droplet detection circuit 7 detects this, the microcomputer 10 reduces the cooling current by 8% (step 105). At this time, if water droplets do not adhere even after a predetermined period of time has elapsed, since the atmospheric condition is outside the measurement range, a display signal to that effect is output (steps 103, 104).

冷却電流を8%減少させた後、所定時間経過し。After reducing the cooling current by 8%, a predetermined period of time has elapsed.

た時点で、再び水滴の有無を判断する(ステップ106
)。冷却電流の減少によっても水滴検出回路7が水滴有
りの信号を出し続けているときは、マイクロコンピュー
タ10はさらに冷却電流全8%減少させ(ステップ10
5)、このような循環を経ることでペルチェ冷却手段2
の冷却能力を徐々に減少させる。
At this point, the presence or absence of water droplets is determined again (step 106).
). If the water droplet detection circuit 7 continues to output a water droplet presence signal even after the cooling current decreases, the microcomputer 10 further reduces the total cooling current by 8% (step 10).
5) Through such circulation, the Peltier cooling means 2
Gradually reduce the cooling capacity of.

ペルチェ冷却手段2の冷却能力の減少により水滴が付着
しな(なり、さらに蒸発により水滴が消失し始める。
Due to the decrease in the cooling capacity of the Peltier cooling means 2, water droplets no longer adhere to the water, and furthermore, the water droplets begin to disappear due to evaporation.

水滴検出回路7が水滴の消失を検出すると、今度は逆に
冷却電流をM(<N)%増加し冷却能力を増すことで水
滴の付着し始める露点温度に戻すことになる(ステップ
107)。
When the water droplet detection circuit 7 detects the disappearance of water droplets, the cooling current is increased by M (<N)% to increase the cooling capacity and return to the dew point temperature at which water droplets begin to adhere (step 107).

水滴検出回路7が水滴の付着を検出すると(ステップ1
08)、マイクロコンピュータ10は冷却温度検出手段
4が検出する冷却部と室温との温度差ΔTおよび室温検
出手段5が検出する室内温度Taを、それぞれ温度差検
出回路8および室温検出回路9を介して読み取る(ステ
ップ110゜111)。
When the water droplet detection circuit 7 detects adhesion of water droplets (step 1
08), the microcomputer 10 detects the temperature difference ΔT between the cooling unit and the room temperature detected by the cooling temperature detection means 4 and the room temperature Ta detected by the room temperature detection means 5 through the temperature difference detection circuit 8 and the room temperature detection circuit 9, respectively. and read it (steps 110 and 111).

なお、冷却電流をM%増加させていく循環(ステップ1
07.108.109)で、冷却電流が最大となってし
まった場合には、雰囲気の状態が測定レンジ範囲外にあ
ることを意味し、その旨の表示信号を出力する(ステッ
プ104)。
Note that the cycle of increasing the cooling current by M% (step 1)
07, 108, and 109), if the cooling current reaches the maximum, it means that the atmospheric condition is outside the measurement range, and a display signal to that effect is output (step 104).

冷却温度検出手段4は前述したように感温部30を素子
lのほぼ中央に配置する熱電対28,29かもなり、こ
の熱電対28.29の他端は素子10周辺部すなわち凹
部21でない基板20上に配置されることから、この温
度差ΔTは室温状態に近い基板20の温度値とベルチェ
冷却手段の冷却部の温度値との差分値である。
As described above, the cooling temperature detecting means 4 also includes thermocouples 28 and 29, which have a temperature sensing portion 30 located approximately in the center of the element 1, and the other ends of the thermocouples 28 and 29 are connected to the periphery of the element 10, that is, the substrate that is not in the recess 21. 20, this temperature difference ΔT is the difference between the temperature value of the substrate 20, which is close to room temperature, and the temperature value of the cooling section of the Beltier cooling means.

室温検出手段5は前述したように測温抵抗体32からな
り、室温変化に伴う抵抗値の変化を微少電流を流して電
圧値に変換することで室温値を検出する。
As described above, the room temperature detection means 5 includes the temperature measuring resistor 32, and detects the room temperature value by converting a change in resistance value due to a change in room temperature into a voltage value by flowing a minute current.

マイクロコンピュータ10は温度差ΔTと室内温度Ta
を読み込むと、 T  d = T  a −Δ T を求める(ステップ112)。このTdがベルチェ冷却
手段2の冷却部の露点温度である。
The microcomputer 10 calculates the temperature difference ΔT and the indoor temperature Ta.
is read, T d = Ta - Δ T is determined (step 112). This Td is the dew point temperature of the cooling section of the Beltier cooling means 2.

マイクロコンピュータ10内の図示しないROMには、
第9図に示す公知の雰囲気温度と飽和水蒸気圧力との関
係のグラフが関数近似によりテーブル化されている。し
たがって、室内温度Taと露点温度Tdが求まるとマイ
クロコンピュータ10はこのテーブルを使って室内温度
Taと露点温度Tdにおける飽和水蒸気圧力Pa、Pd
を求めろことができる。
A ROM (not shown) in the microcomputer 10 includes:
The well-known graph of the relationship between ambient temperature and saturated steam pressure shown in FIG. 9 is tabulated by function approximation. Therefore, when the indoor temperature Ta and the dew point temperature Td are determined, the microcomputer 10 uses this table to calculate the saturated water vapor pressures Pa and Pd at the indoor temperature Ta and the dew point temperature Td.
You can find it.

絶対湿度はこの飽和水蒸気圧力Pdで定義され、相対湿
度はP d / P aで定義されることから演算によ
り湿度値がすべて求まることになる(ステップ113)
Since absolute humidity is defined by this saturated water vapor pressure Pd, and relative humidity is defined by Pd/Pa, all humidity values can be found by calculation (step 113).
.

マイクロコンピュータ10は使用者の要不に応じ、イン
ターフェース11を介して露点温度Td、絶対湿度Pd
、相対湿度P d / P aを外部機器に出力する(
ステップ114)。
The microcomputer 10 inputs dew point temperature Td and absolute humidity Pd via an interface 11 according to the user's needs.
, output relative humidity P d / Pa to external device (
Step 114).

以上のフローチャートのステップにおいて、冷却電流を
最大値から徐々にN%毎減少させ、結露現象が消失して
から逆に冷却電流を徐々にM%増加させて露点を実現す
る方法を示した。そして、Nの値をMの値より犬さく設
定することで大兄の露点温度を見つけ、それから細か(
正確な露点温度を見つけ出すことで応答性?高めようと
したものであるが、初めから冷却電流を最大値からゆっ
くりと減少させ、結露現象の生じた時点での温度データ
をもって露点温度としてもよい。さらに、冷却電流を最
小値から増加させたり、デユーティ比で実効的に変える
ものでも構わない。
In the steps of the above flowchart, a method has been shown in which the cooling current is gradually decreased by N% from the maximum value, and after the dew condensation phenomenon disappears, the cooling current is gradually increased by M% to achieve the dew point. Then, find the large dew point temperature by setting the value of N to be smaller than the value of M, and then fine-tune (
Responsiveness by finding accurate dew point temperature? However, the cooling current may be slowly decreased from the maximum value from the beginning, and the temperature data at the time when dew condensation occurs may be used as the dew point temperature. Furthermore, the cooling current may be increased from the minimum value or it may be effectively changed by changing the duty ratio.

第9図はタイマ割込みのフローチャートで、その割込み
同期は湿度変化より短い時間たとえば5秒に設定されて
いる。そして割込み時点において、マイクロコンピュー
タ10は第8図のメインルーチンから第13図の割込み
ルーチンへ飛び、ベルチェ冷却手段2に供給される電流
IPLおよび電圧Vpt、からその消費電力PPLを算
出する(ステップ121)。次にこの消費電力と総合目
標電力PTすなわちベルチェ冷却手段2の消費電力PP
Lと室温検出回路9の消費電力との和(一定値)との差
すなわち発熱手段13に供給すべき電力PHを算出する
(ステップ122)。そしてこの電力から発熱手段13
への電流IHを算出する(ステップ123)。これによ
って発熱手段13に電流供給回路工5から電流IIが供
給され、その値が更新される(ステップ124)。そし
て割込みタイマが再びセットされ、これによってスター
ト(ステップ125)L、メインルーチンに戻るが、所
定時間経過後タイマ割込みルーチンに入る。
FIG. 9 is a flowchart of a timer interrupt, and the interrupt synchronization is set to a time shorter than the humidity change, for example, 5 seconds. At the time of the interrupt, the microcomputer 10 jumps from the main routine of FIG. 8 to the interrupt routine of FIG. 13, and calculates the power consumption PPL from the current IPL and voltage Vpt supplied to the Beltier cooling means 2 (step 121). ). Next, this power consumption and the total target power PT, that is, the power consumption PP of the Beltier cooling means 2
The difference between L and the sum (constant value) of the power consumption of the room temperature detection circuit 9, that is, the power PH to be supplied to the heat generating means 13 is calculated (step 122). And from this electric power, the heating means 13
Calculate the current IH to (step 123). As a result, the current II is supplied from the current supply circuit 5 to the heating means 13, and its value is updated (step 124). Then, the interrupt timer is set again, which causes the program to start (step 125) L and return to the main routine, but after a predetermined period of time has elapsed, the timer interrupt routine is entered.

また、上記実施例では、水滴検出手段として互いに対向
する二つの電極33を用いたが、水滴の付着によってそ
の特性が急激に変化する感湿素子たとえばZn3 (P
O4)2やZns (PO4)2とLiPO4を用いて
もよい。
Further, in the above embodiment, two electrodes 33 facing each other were used as water droplet detection means, but a moisture sensing element, for example, Zn3 (P
O4)2, Zns (PO4)2 and LiPO4 may also be used.

また、いわゆるIC技術により製造することが可能なた
め、電子回路を集積したシリコンウェファを基板に使用
することで信号前置処理機能等を一体化でき、インテリ
ジェント化した素子とすることができる。
Furthermore, since it can be manufactured using so-called IC technology, by using a silicon wafer with integrated electronic circuits as the substrate, signal pre-processing functions and the like can be integrated, making it possible to create an intelligent device.

「効果」 この発明は上述のように基板上にペルチェエレメントお
よび発熱抵抗体を集積し、ペルチェエレメントの消費電
力と発熱抵抗体の消費電力との和がつねに一定値となる
ように発熱抵抗体を制御しているので、薄膜冷却素子の
基板の温度上昇値が一定となる。
"Effect" As described above, this invention integrates a Peltier element and a heating resistor on a substrate, and arranges the heating resistor so that the sum of the power consumption of the Peltier element and the power consumption of the heating resistor is always a constant value. Since it is controlled, the temperature rise value of the substrate of the thin film cooling element is constant.

マタペルチェエレメントの冷却部における水滴温度の検
出に熱電対を用い、基板温度と水滴温度の温度差に応じ
た出力を得るばあい基板の室温に対する温度上昇値が一
定となるので、室温から水滴温度を精度よ(得ることが
できる。
If a thermocouple is used to detect the temperature of water droplets in the cooling section of the mata-peltier element, and an output is obtained according to the temperature difference between the substrate temperature and the water droplet temperature, the temperature increase value relative to the room temperature of the board will be constant, so the temperature rise from room temperature to the water droplet temperature will be can be obtained with precision.

さらに測温抵抗体を基板に集積したばあいには基板の室
温に対する温度上昇値が一定となるので、精度よく室温
を求めることができ、したがって水滴温度から絶対湿度
が、また水滴温度と室温とから相対湿度を精度よく得ろ
ことができる。
Furthermore, if a resistance temperature detector is integrated on a substrate, the temperature rise value of the substrate relative to room temperature will be constant, so room temperature can be determined with high accuracy. Relative humidity can be obtained with high accuracy from

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図はいずれもこの発明の薄膜冷却素子
の一実施例である湿度検出用素子の製造途中における斜
視図、第3図はこの発明の一実施例の製造途中におけろ
断面図、第4図はこの発明の一実施例を示す概略断面図
、第5図および第6図は基板の凹部の他の形成方法を示
す斜視図、第7図はこの発明の実施例にどける湿度検出
用素子を実際に露点湿度計として用いたばあいのブロッ
ク図、第8図はマイクロコンピュータの動作を示すフロ
ーチャート、第9図はタイマ割込みのフロト・・湿度検
出用素子、2・・・ペルチェ冷却手段、3.33・・・
水滴検出手段、4・・・冷却温度検出手段、5・・・室
温検出手段、6・・・電流発生回路、7・・・水滴検出
回路、8・・・温度差検出回路、9・・・室温検出回路
、10・・・マイクロコンピュータ、11・・・インコ
ーフエース、12・・・バス、13・・・発熱手段、1
5・・・電流発生回路、20・・・基板、21・・・凹
部、22・・・絶縁層、23・・・貫通孔、24・・・
第1のペルチェ金属、25・・・第2のペルチェ金属、
26・・・第1の接合部群、27・・・第2の接合部群
、28・・・第1の熱電対金属、29・・・第20熱電
対金属、30・・・感温部、32・・・測温抵抗体、3
4・・・)くラド、35・・・パッド、36・・・パッ
ド、50・・・発熱抵抗体、55・・・パッド。 特 許 出 願 人   山武ノ・ネウエル株式会社第
5図    第6図 第7図 第10図 第11図 ’     −3X JI
1 and 2 are both perspective views of a humidity detection element which is an embodiment of the thin film cooling element of the present invention during manufacture, and FIG. 3 is a cross-sectional view of an embodiment of the invention during manufacture. 4 is a schematic sectional view showing an embodiment of the present invention, FIGS. 5 and 6 are perspective views showing another method of forming a recessed portion of a substrate, and FIG. 7 is a schematic sectional view showing an embodiment of the invention. A block diagram when the humidity detection element is actually used as a dew point hygrometer, Fig. 8 is a flowchart showing the operation of the microcomputer, Fig. 9 is a timer interrupt float...humidity detection element, 2... Peltier Cooling means, 3.33...
Water drop detection means, 4... Cooling temperature detection means, 5... Room temperature detection means, 6... Current generation circuit, 7... Water drop detection circuit, 8... Temperature difference detection circuit, 9... Room temperature detection circuit, 10... Microcomputer, 11... Incoface, 12... Bus, 13... Heat generating means, 1
5... Current generating circuit, 20... Substrate, 21... Recess, 22... Insulating layer, 23... Through hole, 24...
first Peltier metal, 25... second Peltier metal,
26... First joint group, 27... Second bond group, 28... First thermocouple metal, 29... 20th thermocouple metal, 30... Temperature sensing part , 32... resistance temperature sensor, 3
4...) Kurad, 35... Pad, 36... Pad, 50... Heating resistor, 55... Pad. Patent applicant: Yamatake Newell Co., Ltd. Figure 5 Figure 6 Figure 7 Figure 10 Figure 11' -3X JI

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ペルチエエレメントと発熱抵抗体とを薄膜状に集
積し、上記ペルチエエレメントの吸熱接合部に水滴を生
じさせるように上記ペルチエエレメントへの供給電流を
制御し、かつその水滴生成時点における上記吸熱接合部
近傍の温度と室温とを計測し、両温度から湿度を求める
とともに、上記ペルチエエレメントの消費電力と、上記
発熱抵抗体の消費電力との和がつねに一定となるように
上記発熱抵抗体に対する印加電圧または供給電流を制御
するようにしたことを特徴とする薄膜冷却素子の制御方
法。
(1) A Peltier element and a heating resistor are integrated into a thin film, and the current supplied to the Peltier element is controlled so as to generate water droplets at the heat-absorbing junction of the Peltier element, and the heat-absorbing element is heated at the time when the water droplets are generated. The temperature near the joint and the room temperature are measured, and the humidity is determined from both temperatures.The temperature of the heat generating resistor is measured so that the sum of the power consumption of the Peltier element and the power consumption of the heat generating resistor is always constant. 1. A method for controlling a thin film cooling element, comprising controlling an applied voltage or a supplied current.
(2)ペルチエエレメントと発熱抵抗体を薄膜状に集積
し、上記ペルチエエレメントの吸熱接合部に水滴が生じ
るように、このペルチエエレメントへの供給電流を制御
し、かつその水滴生成時点における上記吸熱接合部近傍
の温度と室温とを計測し、両温度から湿度を求めるとと
もに、上記ペルチエエレメントの消費電力と上記発熱抵
抗体の消費電力との和の所定時間の積分値がつねに一定
値となるように上記発熱抵抗体を制御することを特徴と
する薄膜冷却素子の制御方法。
(2) A Peltier element and a heating resistor are integrated into a thin film, and the current supplied to the Peltier element is controlled so that water droplets are generated at the endothermic junction of the Peltier element, and the endothermic junction is made at the time when the water droplets are generated. Measure the temperature near the part and the room temperature, calculate the humidity from both temperatures, and make sure that the integral value of the sum of the power consumption of the Peltier element and the power consumption of the heating resistor over a predetermined time always remains a constant value. A method for controlling a thin film cooling element, comprising controlling the heating resistor.
(3)基板上にペルチエエレメントと発熱抵抗体とを薄
膜状に集積するとともに、上記ペルチエエレメントの接
合部の中、吸熱作用を有する接合部を上記基板の中央部
に配設し、かつ上記基板の、上記ペルチエエレメントの
吸熱作用を有する接合部に対応する部分を除去した薄膜
冷却素子。
(3) A Peltier element and a heating resistor are integrated in a thin film form on a substrate, and a bonding portion having an endothermic effect is arranged in the center of the substrate among the bonding portions of the Peltier element, and the substrate A thin film cooling element in which a portion corresponding to a joint portion having an endothermic action of the Peltier element is removed.
(4)基板上にペルチエエレメントと室温を検出する測
温抵抗体および発熱抵抗体を薄膜状に集積するとともに
、上記ペルチエエレメントの接合部の中、吸熱作用を有
する接合部を上記基板の中央部に配設し、かつ上記基板
の、上記ペルチエエレメントの吸熱作用を有する接合部
に対応する部分を除去した薄膜冷却素子。
(4) A Peltier element, a temperature sensing resistor for detecting room temperature, and a heat generating resistor are integrated in a thin film on a substrate, and among the joints of the Peltier element, a joint having an endothermic action is placed in the center of the substrate. A thin film cooling element disposed in the substrate, wherein a portion of the substrate corresponding to a joint portion having an endothermic action of the Peltier element is removed.
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