JPS6386200A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPS6386200A
JPS6386200A JP61229872A JP22987286A JPS6386200A JP S6386200 A JPS6386200 A JP S6386200A JP 61229872 A JP61229872 A JP 61229872A JP 22987286 A JP22987286 A JP 22987286A JP S6386200 A JPS6386200 A JP S6386200A
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JP
Japan
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high voltage
memory cell
cell array
signal
row
Prior art date
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Application number
JP61229872A
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Japanese (ja)
Inventor
Kaoru Tokushige
徳重 芳
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To shorten the screening time of an initial failure by separating a memory cell array and peripheral circuits by controlling signals, selecting and driving all row lines simultaneously and enabling the peripheral circuits to be in workable state. CONSTITUTION:During screening process, chip enable signal inversion CE is set to high voltage synchronously with the supply of address signals Ad0-Adn. During the signal inversion CE is high voltage, a memory cell array 10 is separated from a row decoder 15 by the output signal HV of a high voltage detecting circuit 22, and all row lines 12 are driven and voltage stress is applied to a memory cell 11. Peripheral circuits such as an address buffer 14, a row decoder 15, a column recorder/output circuit 16, etc., are enabled to be in workable state by chip selection signal inversion CE*, and voltage stress is applied. Accordingly, the time required for screening process can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) この発明は半導体記憶装置、特にデータの読み出しを専
用に行なう読出し専用記憶装置係り、初期不良のスクリ
ーニング時間が短縮できようにした半導体記憶装置に関
する。
[Detailed Description of the Invention] [Purpose of the Invention (Industrial Application Field) This invention relates to a semiconductor memory device, particularly a read-only memory device that is used exclusively for reading data, and to reduce the screening time for initial defects. The present invention relates to a semiconductor memory device.

(従来の技術) 製造工程の段階で記憶データのプログラムをマスクを用
いて行なういわゆるマスクROMでは、製造直後の試験
工程の始めに初期不良が発生しているものを排除するた
め、実際に回路を動作させて電圧ストレスを各素子に与
えるようにしている。
(Prior Art) In so-called mask ROMs, in which stored data is programmed using a mask during the manufacturing process, the circuit is actually tested at the beginning of the test process immediately after manufacturing to eliminate initial failures. It is operated to apply voltage stress to each element.

電圧ストレスを与えることにより初期不良が発生してい
るトランジスタが破壊され、この後の機能試験の際に取
り除かれる。このような初期不良発見の工程はスクリー
ニング工程と称され、半導体装置の製造後では必ず行わ
れている。
By applying voltage stress, transistors with initial failures are destroyed and removed during subsequent functional tests. Such an initial defect discovery process is called a screening process, and is always performed after manufacturing a semiconductor device.

ところで、」1記マスクROMのスクリーニング工程は
、従来では外部からアドレス信号を入力してメモリセル
を行毎に順次選択して行なっている。
By the way, the mask ROM screening step (1) has conventionally been carried out by inputting an address signal from the outside and sequentially selecting memory cells row by row.

しかしながら、ROMの大容量化伴い、行線の数も増大
しており、メモリセルに電圧ストレスが加えられる時間
は行線の数をN本とすると、記憶装置に電圧が印加され
ている時間の1/N以下となる。このため、各メモリセ
ルに対しである一定の時間だけ電圧ストレスを印加しよ
うとすると記憶装置に電圧を印加する時間が長く必要に
なり、この結果、従来の記憶装置では試験に要する時間
が長くなるという欠点がある。
However, as the capacity of ROM increases, the number of row lines also increases, and the time during which voltage stress is applied to memory cells is equivalent to the time during which voltage is applied to the memory device, assuming that the number of row lines is N. It becomes 1/N or less. Therefore, if you try to apply voltage stress to each memory cell for a certain period of time, it will take a long time to apply voltage to the memory device, and as a result, the time required for testing conventional memory devices increases. There is a drawback.

(発明が解決しようとする問題点) このように従来の記憶装置ではスクリーニング工程に要
する時間が長くなるという問題点がある。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, the conventional storage device has a problem in that the screening process takes a long time.

この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は、スクリーニング工程に要する時間を
短縮でき、もって試験時間の短縮を図ることができる半
導体記憶装置を提供することにある。
This invention has been made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to provide a semiconductor memory device that can shorten the time required for the screening process, thereby shortening the test time. .

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) この発明の半導体記憶装置は、複数の行線と、上記複数
の各行線にそれぞれ接続されたデータ読み出し専用の複
数のメモリセルが設けられたメモリセルアレイと、アド
レス信号に基づき上記メモリセルアレイ内めメモリセル
を選択してデータの読み出しを行なう周辺回路と、制御
信号に基づき上記メモリセルアレイと周辺回路とを分離
し、上記全ての行線をアドレス信号にかかわらずに同時
に選択駆動するとともに周辺回路を動作可能状態に設定
する制御手段とから構成されている。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) A semiconductor memory device of the present invention is provided with a plurality of row lines and a plurality of memory cells dedicated to reading data, each connected to each of the plurality of row lines. A peripheral circuit that selects a memory cell in the memory cell array and reads data based on an address signal, and a peripheral circuit that separates the memory cell array and peripheral circuit based on a control signal, and connects all the row lines. It is comprised of a control means for simultaneously selectively driving and setting peripheral circuits in an operable state regardless of the address signal.

(作用) この発明の半導体記憶装置では、制御信号に基づいてメ
モリセルアレイと周辺回路とを分離し、かつこの制御信
号に基づきアドレス信号にかかわらずに全ての行線を同
時に選択駆動する。かつこの制御信号に基づき周辺回路
を動作可能状態に設定するようにしている。
(Function) In the semiconductor memory device of the present invention, the memory cell array and the peripheral circuit are separated based on the control signal, and all row lines are simultaneously selectively driven based on the control signal regardless of the address signal. Based on this control signal, the peripheral circuits are set to an operable state.

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。(Example) Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図はこの発明に係る半導体記憶装置の(j4成を示
すブロック図である。図において、10はそれぞれ例え
ば閾値電圧の高低によりデータがプログラムされたMO
Sトランジスタからなる′tflhのメモリセル11が
行方向及び列方向に配列されたメモリセルアレイである
。このメモリセルアレイ10内の1行分のメモリセル1
1のゲートは複数の行線12のうちの一つに並列に接続
されている。メモリセルアレイ10内の1列分のメモリ
セル11のドレインは複数の列線13(データ線)のう
ちの一つに並列に接続されている。そして、メモリセル
アレイ10内の全てのメモリセル11のソースは基準電
位、例えばアースに共通に接続されている。ここで、上
記各メモリセル11は、それぞれが接続されている行線
12が選択駆動されると、それぞれに予めプログラムさ
れたデータを読み出し、対応する列線13に出力する。
FIG. 1 is a block diagram showing the (j4 configuration) of the semiconductor memory device according to the present invention.
This is a memory cell array in which 'tflh memory cells 11 each made of an S transistor are arranged in row and column directions. Memory cells 1 for one row in this memory cell array 10
1 gate is connected to one of the plurality of row lines 12 in parallel. The drains of one column of memory cells 11 in the memory cell array 10 are connected in parallel to one of a plurality of column lines 13 (data lines). The sources of all the memory cells 11 in the memory cell array 10 are commonly connected to a reference potential, for example, ground. Here, when the row lines 12 connected to each of the memory cells 11 are selectively driven, each of the memory cells 11 reads data programmed in advance and outputs it to the corresponding column line 13.

14は外部から入力されるアドレス信号AdOないしA
dnからそれぞれの相補なアドレス信号を発生するアド
レスバッファであり、このアドレスバッファ14で発生
された相補な行アドレス信号は行デコーダ15に、アド
レスバッファ14で発生された相補な列アドレス信号は
列デコーダ/出力回路16にそれぞれ供給される。
14 is an address signal AdO or A input from the outside.
The complementary row address signals generated by the address buffer 14 are sent to the row decoder 15, and the complementary column address signals generated by the address buffer 14 are sent to the column decoder. /output circuit 16, respectively.

上記行デコーダ15は上記行アドレス信号に基づき複数
本のデコード出力線17のいずれか1本を選択駆動する
。これら行デコーダ15の各デコード出力線17と上記
各行線12との間には2人力のオアゲート回路18がそ
れぞれ挿入されており、オアゲート回路18の信号反転
機能を持たない各一方入力端子にはデコード出力線17
の信号が供給される。
The row decoder 15 selectively drives any one of the plurality of decode output lines 17 based on the row address signal. A two-man powered OR gate circuit 18 is inserted between each decode output line 17 of these row decoders 15 and each row line 12, and each one input terminal of the OR gate circuit 18 that does not have a signal inversion function is decoded. Output line 17
signal is supplied.

上記列デコーダ/出力回路16は上記列アドレス信号に
基づき複数本の列線13のいずれか1本を選択する。そ
して、外部から出力イネーブル制御信号OEが供給され
ているときにのみ、選択された列線13に読み出されて
いるデータをD outとして外部に出力する。
The column decoder/output circuit 16 selects one of the plurality of column lines 13 based on the column address signal. Then, only when the output enable control signal OE is supplied from the outside, the data read out to the selected column line 13 is outputted to the outside as D out.

CEは外部から供給されるチップイネーブル制御信号で
あり、この信号CEは記憶装置内部において、上記メモ
リセルアレイ10以外のアドレスバッファ14、行デコ
ーダ15、列デコーダ/出力回路16などからなる周辺
回路の動作を制御するために使用される。この信号CE
は通常の使用状態では通常の読み出し用電源電圧に相当
する論理“H”レベルもしくはアース電圧に相当する論
理“L”レベルのいずれかに設定され、製造直後におけ
る試験の際のスクリーニング工程の際には通常の読み出
し用電源電圧よりも高い高電圧に設定される。
CE is a chip enable control signal supplied from the outside, and this signal CE controls the operation of peripheral circuits other than the memory cell array 10, including the address buffer 14, row decoder 15, column decoder/output circuit 16, etc., inside the memory device. used to control. This signal CE
In normal use, it is set to either the logic "H" level, which corresponds to the normal readout power supply voltage, or the logic "L" level, which corresponds to the ground voltage. is set to a high voltage higher than the normal read power supply voltage.

上記外部からのチップイネーブル制御信号CEは、直列
接続された2個のインバータ19.20を介してナント
ゲート回路21の一方入力端子に供給されているととも
に、高電圧検出回路22にも供給されている。この高電
圧検出回路22は上記チップイネーブル制御信号CEの
高電圧状態に相当する電圧をスライスレベルとして信号
CEの検出を行ない、信号CEが論理′H“レベルもし
くは論理′L”レベルの場合には論理“H”レベルとな
り、高電圧状態のときに論理“L”レベルとなるような
信号HVを発生する。そして、この信号HVは、上記オ
アゲート回路18の信号反転機能を持つ各他方入力端子
に並列に供給されているとともに、上記ナントゲート回
路21の他方入力端子にも供給されている。そして、こ
のナントゲート回路21の信号を反転するインバータ2
3の出力が内部チップ選択信号CE*とじてメモリセル
アレイ10以外の周辺回路、例えばアドレスバッファ1
4、行デコーダ15、列デコーダ/出力回路16などに
並列に供給されている。そして、周辺回路はこの内部チ
ップ選択信号CE*がアクティブ、すなわち“L°レベ
ルにされている期間にのみ動作可能状態に設定される。
The chip enable control signal CE from the outside is supplied to one input terminal of the Nant gate circuit 21 via two series-connected inverters 19 and 20, and is also supplied to the high voltage detection circuit 22. There is. This high voltage detection circuit 22 detects the signal CE by using the voltage corresponding to the high voltage state of the chip enable control signal CE as a slice level, and when the signal CE is at the logic 'H' level or the logic 'L' level, A signal HV is generated which has a logic "H" level and becomes a logic "L" level when in a high voltage state. This signal HV is supplied in parallel to each other input terminal having a signal inversion function of the OR gate circuit 18, and is also supplied to the other input terminal of the Nandt gate circuit 21. Then, an inverter 2 inverts the signal of this Nant gate circuit 21.
The output of 3 is used as an internal chip selection signal CE* to be sent to peripheral circuits other than the memory cell array 10, such as address buffer 1.
4, the row decoder 15, column decoder/output circuit 16, etc. are supplied in parallel. The peripheral circuit is set to an operable state only while this internal chip selection signal CE* is active, that is, at "L° level."

次に、上記のような構成の記憶装置の動作を説明する。Next, the operation of the storage device configured as described above will be explained.

第2図は上記実施例装置の製造後のスクリーニング工程
を行なう場合の動作を説明するためのタイミングチャー
トである。このスクリーニング工程の際には外部からア
ドレス信号AdOないしAdnを供給するとともに、こ
のアドレス信号の供給に同期してチップイネーブル制御
信号CEを電源電圧以上の高電圧に設定する。上記信号
CEが高電圧にされている期間では高電圧検出回路22
の出力信号HVが”Lルーベルとなる。この“Lルーベ
ルの信号HVが各オアゲート回路18の信号反転機能を
持つ各他方入力端子に入力することにより全てのオアゲ
ート回路18の出力が”H”レベルとなる。この結果、
メモリセルアレイ10が周辺回路の一部である行デコー
ダ15から切り離され、行デコーダ15のデコード出力
にかかわらず、全ての行線12が駆動され、これら各行
線12に接続されているメモリセルアレイ10内の全て
のメモリセル11が駆動される。これにより全てのメモ
リセル11に対して電圧ストレスが並列に印加される。
FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation when performing a screening process after manufacturing the above-mentioned embodiment device. During this screening process, address signals AdO to Adn are supplied from the outside, and the chip enable control signal CE is set to a high voltage higher than the power supply voltage in synchronization with the supply of the address signals. During the period when the signal CE is at a high voltage, the high voltage detection circuit 22
The output signal HV of "L level" becomes "L level". By inputting this "L level level signal HV to each other input terminal having a signal inversion function of each OR gate circuit 18, the outputs of all OR gate circuits 18 become "H" level. becomes. As a result,
The memory cell array 10 is separated from the row decoder 15 which is a part of the peripheral circuit, and all row lines 12 are driven regardless of the decoding output of the row decoder 15, and the memory cell array 10 connected to each row line 12 is driven. All memory cells 11 are driven. As a result, voltage stress is applied to all memory cells 11 in parallel.

一方、上記信号HVが“L″レベルされているとき、ナ
ントゲート回路21の出力は“H”レベルになり、イン
バータ23の出力として得られる内部チップ選択信号C
E*は“Lルーベル、すなわちアクティブにされる。従
って、この内部チップ選択信号CE*によりアドレスバ
ッファ14、行デコーダ15、列デコーダ/出力回路1
6などの周辺回路が動作可能状態となり、これら周辺回
路を構成する素子に対しても電圧ストレスが印加される
On the other hand, when the signal HV is at the "L" level, the output of the Nant gate circuit 21 is at the "H" level, and the internal chip selection signal C obtained as the output of the inverter 23
E* is "L level", that is, it is activated. Therefore, this internal chip selection signal CE* causes the address buffer 14, row decoder 15, column decoder/output circuit 1
Peripheral circuits such as 6 become operational, and voltage stress is also applied to the elements constituting these peripheral circuits.

そして、上記と同様の動作を繰り返し行なうことにより
スクリーニング工程が実行される。
Then, the screening process is executed by repeating the same operation as above.

ところで、このスクリーニング工程の際に、1回のメモ
リサイクル(アドレス信号が変化してから次に変化する
までの時間)毎に全ての行線12が駆動されるため、行
線12の本数N本とすると、メモリセル11に電圧スト
レスが加えら鶴る時間は従来装置のN倍にすることがで
きる。このため、このスクリーニング工程の際に各メモ
リセル11に対しである一定の時間だけ電圧ストレスを
印加る場合に、記憶装置に電圧を印加しておく時間は従
来よりも大幅に短縮することができる。この結果、試験
全体に要する時間は従来装置の場合によりも十分に短く
することができる。
By the way, during this screening process, all the row lines 12 are driven every memory cycle (the time from one address signal change to the next change), so the number of row lines 12 is N. In this case, the time required for voltage stress to be applied to the memory cell 11 can be increased by N times that of the conventional device. Therefore, when voltage stress is applied to each memory cell 11 for a certain period of time during this screening process, the time for which voltage is applied to the memory device can be significantly shortened compared to the conventional method. . As a result, the time required for the entire test can be made much shorter than in the case of conventional equipment.

スクリーニング工程を含む試験が完了し、実際にシステ
ムに組込んで使用する場合には第3図のタイミングチャ
ートに示すように、外部からアドレス信号AdOないし
Adnを供給するとともに、このアドレス信号の供給に
同期してチップイネーブル制御信号CEを所定期間だけ
“L″レベル設定する。この信号で1が“H”レベルも
しくは゛Lルベルのいずれかに設定されている期間では
、高電圧検出回路22の出力信号HVは“H”レベルの
ままとなる。他方、インバータ20の出力信号は信号C
Eに応じて変化する。このため、内部チップ選択信号C
E*は外部から入力されるチップ選択信号σ1°と同様
に変化する。
When the test including the screening process is completed and it is actually incorporated into the system for use, as shown in the timing chart in Figure 3, address signals AdO to Adn are supplied from the outside, and the supply of this address signal is In synchronization, the chip enable control signal CE is set to the "L" level for a predetermined period. During the period in which this signal 1 is set to either the "H" level or the "L" level, the output signal HV of the high voltage detection circuit 22 remains at the "H" level. On the other hand, the output signal of the inverter 20 is the signal C
It changes depending on E. Therefore, internal chip selection signal C
E* changes in the same way as the chip selection signal σ1° input from the outside.

他方、信号HVが“H”レベルのときには、各オアゲー
ト回路18の信号が行デコーダ15の各デコード出力線
17の信号に応じて変化する。このため、その時の行デ
コーダ15のデコード出力に対応して1本の行線12の
みが選択的に駆動される。そして、この選択された行線
12に接続されているメモリセル11が駆動され、これ
らのメモリセル11の記憶データが列線13に読み出さ
れる。列線13に読み出された複数セルからのデータは
列デコーダ/出力回路16によってその中から一つが選
択され、かっこの選択されたデータが出力イネーブル制
御信号OEに基づいて外部に出力される。
On the other hand, when the signal HV is at the "H" level, the signal of each OR gate circuit 18 changes according to the signal of each decode output line 17 of the row decoder 15. Therefore, only one row line 12 is selectively driven in accordance with the decoded output of the row decoder 15 at that time. Then, the memory cells 11 connected to the selected row line 12 are driven, and the data stored in these memory cells 11 is read out to the column line 13. The column decoder/output circuit 16 selects one of the data from a plurality of cells read onto the column line 13, and the selected data in parentheses is output to the outside based on the output enable control signal OE.

このように上記実施例の記憶装置によれば、1回のメモ
リサイクル毎に全ての行線12が駆動されるので、スク
リーニング工程の際に記憶装置に電圧を印加しておく時
間は従来よりも大幅に短縮することができ、試験全体に
要する時間は従来よりも十分に短くすることができる。
In this way, according to the memory device of the above embodiment, all the row lines 12 are driven in each memory cycle, so the time for applying voltage to the memory device during the screening process is longer than in the past. This can be significantly shortened, and the time required for the entire test can be made much shorter than in the past.

なお、この発明は上記実施例に限定されるものではなく
種々の変形が可能であることはいうまでもない。例えば
、上記実施例ではメモリセル11に対するデータのプロ
グラムが閾値電圧の高低で行われる場合について説明し
たが、これはその他に、セルトランジスタの付熱、セル
トランジスタのドレインと列線13との接続を図るコン
タクトの形成の選択、などの手段によりプログラムを行
なう方式のメモリセルアレイを用いるようにしてもよい
It goes without saying that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and that various modifications can be made. For example, in the above embodiment, a case has been described in which data is programmed into the memory cell 11 by changing the threshold voltage. It is also possible to use a memory cell array in which programming is performed by selecting the desired contact formation or the like.

また、上記実施例では通常の読み出し動作・の際には列
デコーダ/出力回路1Bがらは1ビット分のデータを出
力する場合について説明したが、これは複数ビットを選
択して出力するような構成にしてもよい。
Furthermore, in the above embodiment, the case where the column decoder/output circuit 1B outputs one bit of data during normal read operation was explained, but this is a configuration in which multiple bits are selected and output. You may also do so.

[発明の効果コ 以上説明したようにこの発明によれば、スクリーニング
工程に要する時間を短縮でき、もって試験時間の短縮を
図ることができる半導体記憶装置を提供することができ
る。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory device in which the time required for the screening process can be shortened, and thereby the test time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例の構成を示すブロック図、
第2図及び第3図はそれぞれ上記実施例装置の動作を説
明するためのタイミングチャートである。 10・・・メモリセルアレイ、11・・・メモリセル、
12・・・行線、13・・・列線、14・・・アドレス
バッファ、15・・・行デコーダ、IB・・・列デコー
ダ/出力回路、17・・・デコード出力線、18・・・
オアゲート回路、19.20・・・インバータ、21・
・・ナントゲート回路、22・・・高電圧検出回路。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 飛1又
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention.
FIGS. 2 and 3 are timing charts for explaining the operation of the apparatus of the above embodiment, respectively. 10... memory cell array, 11... memory cell,
12... Row line, 13... Column line, 14... Address buffer, 15... Row decoder, IB... Column decoder/output circuit, 17... Decode output line, 18...
OR gate circuit, 19.20...inverter, 21.
...Nant gate circuit, 22...High voltage detection circuit. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue 1mata

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 複数の行線と、上記複数の各行線にそれぞれ接続さ
れたデータ読み出し専用の複数のメモリセルが設けられ
たメモリセルアレイと、アドレス信号に基づき上記メモ
リセルアレイ内のメモリセルを選択してデータの読み出
しを行なう周辺回路と、制御信号に基づき上記メモリセ
ルアレイと周辺回路とを分離し、上記全ての行線をアド
レス信号にかかわらずに同時に選択駆動するとともに周
辺回路を動作可能状態に設定する制御手段とを具備した
ことを特徴する半導体記憶装置。 2 前記制御手段はチップ選択信号入力端子に供給され
る高電圧を検出する高電圧検出回路と、前記周辺回路と
行線との間に設けられ上記高電圧検出回路で高電圧が検
出された際に全ての行線を駆動する第1の論理回路と、
上記高電圧検出回路で高電圧が検出された際に内部チッ
プ選択信号を発生する第2の論理回路とから構成されて
いる特許請求の範囲第1項に記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A memory cell array including a plurality of row lines and a plurality of memory cells dedicated to reading data connected to each of the plurality of row lines, and a memory cell array in the memory cell array based on an address signal. The peripheral circuit that selects and reads data is separated from the memory cell array and the peripheral circuit based on the control signal, and all of the row lines mentioned above can be selectively driven simultaneously regardless of the address signal, and the peripheral circuit can be operated. 1. A semiconductor memory device, comprising: control means for setting a state. 2. The control means is provided between a high voltage detection circuit that detects a high voltage supplied to the chip selection signal input terminal, and the peripheral circuit and the row line, and is configured to detect a high voltage when the high voltage detection circuit detects the high voltage. a first logic circuit that drives all row lines;
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a second logic circuit that generates an internal chip selection signal when a high voltage is detected by the high voltage detection circuit.
JP61229872A 1986-09-30 1986-09-30 Semiconductor memory device Pending JPS6386200A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0628893A (en) * 1992-04-16 1994-02-04 Toshiba Corp Semiconductor memory

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0628893A (en) * 1992-04-16 1994-02-04 Toshiba Corp Semiconductor memory

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