JPS637883A - Method for modifying film - Google Patents

Method for modifying film

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Publication number
JPS637883A
JPS637883A JP61151527A JP15152786A JPS637883A JP S637883 A JPS637883 A JP S637883A JP 61151527 A JP61151527 A JP 61151527A JP 15152786 A JP15152786 A JP 15152786A JP S637883 A JPS637883 A JP S637883A
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JP
Japan
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film
color filter
liquid crystal
composition
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP61151527A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Matsuki
安生 松木
Kinji Yamada
欣司 山田
Masaki Nagata
正樹 永田
Tomoko Takai
高井 智子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority to JP61151527A priority Critical patent/JPS637883A/en
Publication of JPS637883A publication Critical patent/JPS637883A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To enhance the adhesiveness of an adhesive or paint, by irradiating a vitreous film obtained by applying a specific composition with ultraviolet rays in the presence of ozone. CONSTITUTION:A composition obtained by mixing components (a)-(d) is applied in order to form the protective film of a color filter to make it possible to form a thin vitreous film. That is, organosilane represented by a generals formula RSi(OR')3 (wherein R and R' are a same or different org. group) and/or a partial condensate thereof (a), fine particulate silica (b), a hydrophilic org. solvent (c) being alcohols and an alcohol derivative and water (d) are mixed to prepare the composition which is, in turn, applied and further irradiated with ultraviolet rays in the presence of ozone. Whereupon, the org. substance present on the surface of the film is removed to modify the film so as to enhance the adhesiveness thereof with a sealant.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、塗膜の改質方法に関し、さらに詳細には液晶
表示素子などに使用される基板に形成される保護膜など
の用途に利用される塗膜の改質方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for modifying a coating film, and more specifically, it is applicable to applications such as a protective film formed on a substrate used in a liquid crystal display element, etc. The present invention relates to a method for modifying a coating film.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、液晶素子に色分解用カラーフィルターを組み合わ
せたカラー液晶表示素子が、多々堤案されている。
In recent years, many color liquid crystal display elements have been proposed, each of which is a combination of a liquid crystal element and a color filter for color separation.

カラーフィルターを液晶素子と組み合わせてカラー液晶
表示素子として使用する場合には、該カラーフィルター
は光路に対して直列に配置されるので、カラー液晶表示
素子の正面からディスプレーを見る場合には該ディスプ
レーをきれいに見ることができる。しかしながら、例え
ばカラーフィルターを液晶素子の外側に配置した場合に
は、液晶素子に使用されるガラスの厚みにより、表示画
素が微細な場合には該ガラスの厚みに起因して斜め方向
から見る際にディスプレーの“視差ずれ”を生ずる。か
かる視差ずれを防止するために、液晶素子の内側にカラ
ーフィルターを配置したカラー液晶表示素子が提案され
ている(例えば、「日経エレクトロニクス」、#9〜1
0,1984年9月10日発行、日経マグロウヒル社刊
、第211〜240頁参照)。
When a color filter is used in combination with a liquid crystal element as a color liquid crystal display element, the color filter is arranged in series with the optical path, so when viewing the display from the front of the color liquid crystal display element, the display must be You can see it clearly. However, for example, if a color filter is placed outside the liquid crystal element, due to the thickness of the glass used for the liquid crystal element, if the display pixels are minute, the thickness of the glass may cause problems when viewed from an oblique direction. This causes "parallax shift" in the display. In order to prevent such parallax shift, a color liquid crystal display element in which a color filter is arranged inside the liquid crystal element has been proposed (for example, "Nikkei Electronics", #9 to 1).
0, September 10, 1984, published by Nikkei McGraw-Hill, pp. 211-240).

このように、液晶素子の内側にカラーフィルターを配置
する方法としては、次の二通りの方法が知られている。
The following two methods are known for arranging a color filter inside a liquid crystal element in this way.

■カラーフィルターをインジウムチンオキシド(ITO
)などからなる透明電極と液晶との間に配置する方法(
例えば、ガラス基板上にまずITOを蒸着し、ホトリソ
グラフィーにより透明電極を形成した後、この上にカラ
ーフィルターを設け、さらにこの上に液晶を配置する方
法).■カラー7イルターをITOなどからなる透明電
極とカラーフィルターの基板との間に配置する方法(例
えば、ガラス基板上にまずカラーフィルターを設け、こ
の上にITOを蒸着し、ホトリソグラフィーにより透明
電極を形成した後、さらにこの上に液晶を配置する方法
)。
■The color filter is made of indium tin oxide (ITO).
), etc., between the transparent electrode and the liquid crystal (
For example, a method in which ITO is first vapor-deposited on a glass substrate, a transparent electrode is formed by photolithography, a color filter is provided on this, and a liquid crystal is further placed on this). ■A method of placing Color 7 Ilter between a transparent electrode made of ITO or the like and a color filter substrate (for example, first a color filter is provided on a glass substrate, ITO is vapor-deposited on this, and a transparent electrode is formed by photolithography. After forming the liquid crystal, how to place the liquid crystal on top of it).

前記■の方法では、ガラス基板上に透明電極を形成した
後に、さらにこの上にカラーフィルターを形成すること
ができるので、カラーフィルターに要求される耐薬品性
、耐熱性などはそれほど過酷なものではないが、液晶の
駆動電圧がカラーフィルターが厚くなるに従い増加する
ため、該カラーフィルターを薄くする必要がある。
In method (2) above, after forming a transparent electrode on a glass substrate, a color filter can be further formed on this, so the chemical resistance, heat resistance, etc. required for a color filter are not so severe. However, since the driving voltage of the liquid crystal increases as the color filter becomes thicker, it is necessary to make the color filter thinner.

しかしながら、カラーフィルターを薄くすると、充分な
色濃度が発揮できないという問題を生じる.また、この
方法では、カラーフィルターが透明電極と液晶との間に
位置しているため、該カラーフィルター中の成分が液晶
に滲み出し、液晶の性能が低下するという問題をも有し
ている。
However, if the color filter is made thinner, a problem arises in that sufficient color density cannot be achieved. Further, in this method, since the color filter is located between the transparent electrode and the liquid crystal, there is also a problem that components in the color filter leak into the liquid crystal, degrading the performance of the liquid crystal.

一方、前記■の方法では、ガラス基板上にカラーフィル
ターを形成した後に、該カラーフィルター上にITOを
蒸着し、ホトリソグラフィーにより遇明電極を形成させ
るので、カラーフィルターには充分な耐熱性、耐薬品性
などが要求され、■Toを蒸着させる前に該カラーフィ
ルターに保護膜を形成させておく必要がある。
On the other hand, in the method (2) above, after a color filter is formed on a glass substrate, ITO is vapor-deposited on the color filter and a light electrode is formed by photolithography, so the color filter has sufficient heat resistance and resistance. Chemical properties are required, and it is necessary to form a protective film on the color filter before vapor depositing To.

最近、かかるカラーフィルターの保護膜として、カラー
フィルター上に500μm程度のガラス板を配置し、該
ガラス板上に透明電極を形成したカラー液晶表示素子が
提案されるに至った(テレビジョン学会技術報告、昭和
59年2月25日発表).しかし、ガラス板をカラーフ
ィルターの保護膜として使用する場合には、やはり液晶
とカラーフィルターが離れるために、前記したような視
差ずれを充分に防止することができず、特に表示画素が
微細な場合には、視差ずれのため鮮彩な画像を得ること
ができないという問題を有する。
Recently, a color liquid crystal display device has been proposed in which a glass plate of about 500 μm is placed on the color filter as a protective film for such a color filter, and a transparent electrode is formed on the glass plate (Television Society Technical Report , published on February 25, 1982). However, when a glass plate is used as a protective film for a color filter, the liquid crystal and color filter are separated, so it is not possible to sufficiently prevent the parallax shift described above, especially when the display pixels are minute. However, there is a problem that a vivid image cannot be obtained due to parallax shift.

一方、液晶表示素子の基板としては、一般にナトリウム
などの無機イオンを含むガラスが多く用いられており、
このガラスを用いて通常の液晶表示素子を形成すると、
ガラス中の無機イオンが液晶中に溶出するため、液晶素
子に悪影響を及ぼすことが知られている〔“液晶の最新
技術” (1983−年)工業調査会刊、第141頁〕
On the other hand, glass containing inorganic ions such as sodium is generally used as a substrate for liquid crystal display elements.
When a normal liquid crystal display element is formed using this glass,
It is known that inorganic ions in the glass elute into the liquid crystal, which has a negative effect on liquid crystal elements ["Latest Technology in Liquid Crystals" (1983-) Published by Kogyo Kenkyukai, p. 141]
.

このようなカラーフィルターあるいはガラス基板の保護
膜として、二酸化珪素のような無機質の薄い保護膜を設
ける、いわゆるアンダーコート処理が提案されているが
、このアンダーコート処理は、処理温度が400〜50
0℃と高温であり、カラーフィルターを有する基板では
熱分解を起こすため使用できず、またITOなどの透明
電極の酸化を防止するためには不活性雰囲気下で行う必
要があった。
As a protective film for such color filters or glass substrates, a so-called undercoat treatment has been proposed in which a thin inorganic protective film such as silicon dioxide is provided.
The temperature is as high as 0° C., and it cannot be used with a substrate having a color filter because it causes thermal decomposition, and it is necessary to conduct the process under an inert atmosphere in order to prevent oxidation of transparent electrodes such as ITO.

このような技術的課題を解決すべ《、カラーフィルター
の保護膜として特定の組成物を塗布して得られるガラス
質膜を用いることにより、カラーフィルター中の成分が
液晶に滲みだすことを防止するとともに、カラーフィル
ター上に微細な透明電極を配置することを可能とし、か
つカラー液晶表示素子の視差ずれをも解決することが可
能な保護膜が形成されたカラーフィルターが提案されて
いる。しかしながら、この特定の組成物を塗布してなる
塗膜は、シール剤との接着性が充分でない場合があり、
これを保護膜として用いた液晶表示素子用基板は、シー
ル剤との接着性の点で未だ不充分な場合があるという問
題を有する。
In order to solve these technical problems, we can prevent the components in the color filter from seeping into the liquid crystal by using a glassy film obtained by applying a specific composition as a protective film for the color filter. A color filter has been proposed in which a protective film is formed, which allows fine transparent electrodes to be disposed on the color filter, and which can also solve the parallax shift of color liquid crystal display elements. However, the coating film formed by applying this particular composition may not have sufficient adhesion with the sealant.
A substrate for a liquid crystal display element using this as a protective film has a problem in that its adhesion to the sealant may still be insufficient.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は、前記従来の技術的課題を背景になされたもの
であり、特定の組成物を塗布して得られるガラス質膜に
オゾンの存在下で紫外線を照射することによって接着剤
、塗料などの接着性を著しく向上させることを目的とす
る。
The present invention was made against the background of the above-mentioned conventional technical problems, and it is possible to apply adhesives, paints, etc. by irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone to a glassy film obtained by applying a specific composition. The purpose is to significantly improve adhesion.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち、本発明は、基板上の一部または全部に下記T
a)〜!d)を混合して得られる組成物を塗布して、得
られる塗膜に;オゾンの存在下で紫外線を照射すること
を特徴とする塗膜の改質方法を提供するものである。
That is, the present invention provides the following T on part or all of the substrate.
a) ~! The present invention provides a method for modifying a coating film, which comprises applying a composition obtained by mixing d) and irradiating the resulting coating film with ultraviolet rays in the presence of ozone.

(al  一般式RSi  (OR’)3  (式中、
RおよびR′は同一または異なる有機基を示す。)で表
されるオルガノシランおよび/または該オルガノシラン
の部分的縮合物、 (bl徽粒子シリカ、 (c)親水性有機溶媒、 (d)水。
(al General formula RSi (OR')3 (wherein,
R and R' represent the same or different organic groups. ) and/or a partial condensate of the organosilane, (bl particle silica, (c) hydrophilic organic solvent, (d) water.

一般に、カラーフィルターを製造する方法としては、大
別すると次の二つの方法が広く知られている。
Generally speaking, the following two methods are widely known as methods for manufacturing color filters.

(イ)ガラスなどの透明基板上の被染色層上にパターニ
ングしたレジスト層を設け、露出している被b色層の部
分を染色して染色部を形成したのちレジスト層を剥離し
、その後同様にして次の染色部を形成する方法(単一の
被染色層を複数の染色部に染め分ける方法) (口)ガラスなどの透明基板上の感光性を有する被染色
層をパターンマスクを介して露光し現像することにより
パターン状の被染色層を形成した後、染色して染色層を
形成し、次いで透明な防染膜で被覆した後、その上に同
様にして次の染色層を形成する方法(被染色層と防染層
を交互に積層していく方法). 本発明の塗膜の改質方法は、前記(イ)単一の被染色層
を複数の染色部に染め分ける方法によって得られるカラ
ーフィルターの保護膜、もし《は《口》被染色層と防染
層を交互に積層していく方法によって得られるカラーフ
ィルターの保護膜、またはガラス基板もしくはその他の
材質からなる基板の保護膜へも適用される。
(b) A patterned resist layer is provided on the layer to be dyed on a transparent substrate such as glass, the exposed part of the layer to be dyed is dyed to form a dyed area, and then the resist layer is peeled off, and then the same process is performed. method to form the next dyed area (method of dyeing a single layer to be dyed into multiple dyed areas) After forming a patterned layer to be dyed by exposure and development, dyeing to form a dyed layer, then covering with a transparent resisting film, and then forming the next dyed layer on top of it in the same way. Method (method of laminating layers to be dyed and resisting layers alternately). The method for modifying a coating film of the present invention is a protective film of a color filter obtained by the method of (a) dividing a single dyed layer into a plurality of dyed parts, It is also applicable to a protective film of a color filter obtained by a method of laminating dyed layers alternately, or a protective film of a glass substrate or a substrate made of other materials.

その他の材質からなる基板としては、例えばポリエチレ
ンテレフタレート、バラボリフェニレン、ポリカーボネ
ートなどのプラスッチク類、その他金属類、セラミック
類などを挙げることができる。
Examples of the substrate made of other materials include plastics such as polyethylene terephthalate, polyphenylene, and polycarbonate, other metals, and ceramics.

なお、カラーフィルターの製造に使用される被染色層を
形成する材料としては特に限定されず、例えばゼラチン
、カゼイン、グリュー、アルブミンなどの天然蛋白質、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリア
クリルアミドなどの合成高分子などを挙げることができ
る。
The material forming the dyed layer used in the production of color filters is not particularly limited, and may include natural proteins such as gelatin, casein, glue, albumin, etc.
Examples include synthetic polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and polyacrylamide.

また、これらの材料に感光性を付与する光架橋剤として
は、重クロム酸アンモニウム、重クロム酸カリウムなど
の重クロム酸塩のほかに、ビスアジド化合物を挙げるこ
とができる。かかるビスアジド化合物の具体例としては
、例えば特公昭51−48946号公報に記載されてい
るような4.4′−ジアジドスチルベン−2.2′−ジ
スルホン酸、4.4′−ジアジドベンザルアセトフエノ
ン−2−スルホン酸、4.4’−ジアジドスチルベンー
α一カルボン酸およびこれらのアルカリ金属、アンモニ
ウムなどの塩の水溶性ビスアジド化合物のほかに、p−
フエニレンビスアジド、4.4′−ジアジドベンゾフェ
ノン、4,4′−ジアジドスチルベン、4.4′−ジア
ジドフエニルメタン、4、4′−ジアジドベンザルアセ
トフエノン、2.6−ジ(4′−アジドベンザル)シク
ロヘキサノン、2,6−ジ(4′−アジドベンザル)一
4−メチルシクロヘキサノンなどを挙げることができる
In addition, examples of photocrosslinking agents that impart photosensitivity to these materials include dichromates such as ammonium dichromate and potassium dichromate, as well as bisazide compounds. Specific examples of such bisazide compounds include 4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonic acid and 4,4'-diazidobenzal as described in Japanese Patent Publication No. 51-48946. In addition to water-soluble bisazide compounds of acetophenone-2-sulfonic acid, 4,4'-diazidostilbene-α-monocarboxylic acid, and their alkali metal, ammonium, etc. salts, p-
Phenylene bisazide, 4,4'-diazidobenzophenone, 4,4'-diazidostilbene, 4,4'-diazidophenylmethane, 4,4'-diazidobenzalacetophenone, 2.6 -di(4'-azidobenzal)cyclohexanone, 2,6-di(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanone, and the like.

さらに、カラーフィルターを形成するために使用する染
料としては、酸性または塩基性の水溶性染料を挙げるこ
とができ、例えばカヤノールミリングターコイズブルー
8G,カヤノールミリングイエロー○、カヤノールサイ
アニンG1カヤノールミリングレソドRS125、カヤ
クアシドオレンジII(以上、日本化薬■製)、ミツイ
ナイロンファーストイエロー5G,  ミツイブリリア
ントミリンググリーンB1ミツイアシドミリングスカイ
ブルーPSE (以上、三井東圧化学■製)、スミノー
ルミリングブリリアントグリーン5G,アシドブリリア
ントミリンググリーンB1スミノールミリングレッドP
C(以上、住友化学工業■製)、ダイアシドファースト
ルビノール3G200、ダイアシドファーストオレンジ
NP200 (以上、三菱化成工業■製)、ギニアグリ
ーン(東京化成■製)などを挙げることができる。
Further, dyes used to form the color filter include acidic or basic water-soluble dyes, such as Kayanol Milling Turquoise Blue 8G, Kayanol Milling Yellow ○, Kayanol Cyanine G1 Kayanol Milling Resodo RS125, Kayaku Acid Orange II (manufactured by Nippon Kayaku), Mitsui Nylon Fast Yellow 5G, Mitsui Brilliant Milling Green B1 Mitsui Acid Milling Sky Blue PSE (manufactured by Mitsui Toatsu Chemical), Suminol Milling Brilliant Green 5G, Acid Brilliant Milling Green B1 Suminol Milling Red P
C (manufactured by Sumitomo Chemical Corporation), Diacid Fast Rubinol 3G200, Diacid Fast Orange NP200 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Guinea Green (manufactured by Tokyo Kasei Corporation), and the like.

また、カラーフィルターを前記(口)の方法で製造する
際に、防染層を形成する材料としては、防染性を有する
透明な材料であれば特に限定するものではないが、(メ
タ)アクリル酸グリシジルなどの重合体と無水フタル酸
、無水イタコン酸、無水コハク酸などの多価カルボン酸
またはこれらの無水物とを含有する熱硬化性組成物を挙
げることができる。
In addition, when manufacturing color filters by the method described above, the material for forming the resist dye layer is not particularly limited as long as it is a transparent material that has resist dye properties, but (meth)acrylic Examples include thermosetting compositions containing a polymer such as glycidyl acid and a polyhydric carboxylic acid such as phthalic anhydride, itaconic anhydride, succinic anhydride, or anhydride thereof.

なお、カラーフィルターを前記(イ)の方法で製造する
に際しては、被染色層を染色する前に、被染色層上に保
護層としてポリビニルアルコールの架橋体を形成してお
《ことにより、鮮明な色パターンを有するカラーフィル
ターを得ることができる。
In addition, when manufacturing a color filter using the method (a) above, a cross-linked product of polyvinyl alcohol is formed as a protective layer on the layer to be dyed before dyeing the layer to be dyed. A color filter with a color pattern can be obtained.

さて、本発明の塗膜の改質方法は、基板の上に、まず前
記(al〜(d)成分を混合して得られる組成物を塗布
することにより、保護膜となる薄層のガラス質膜を形成
させるものである。
Now, in the coating film modification method of the present invention, by first applying a composition obtained by mixing the components (al to (d)) above on a substrate, a thin layer of vitreous material that will become a protective film is formed. It forms a film.

以下、かかる組成物の(a)〜(d)成分を構成要件別
に詳述する。
Components (a) to (d) of this composition will be explained in detail below by component.

(a)一般式RSi  (OR’)3で表されるオルガ
ノシランおよび/または該オルガノシランの部分的縮合
物 本発明に使用されるオルガノシランは、水の存在により
加水分解反応および重縮合反応を生起して高分子量化す
るもので、本発明で使用される組成物中においては結合
剤としての働きをするものである。
(a) An organosilane represented by the general formula RSi (OR')3 and/or a partial condensate of the organosilane The organosilane used in the present invention undergoes hydrolysis and polycondensation reactions due to the presence of water. It is a compound that increases in molecular weight and acts as a binder in the composition used in the present invention.

かかるオルガノシラン中のRは、有機基、好ましくは炭
素数1〜8の有機基であり、例えばメチル基、エチル基
、n−プロビル基、i−プロピル基などのアルキル基、
その他T−クロロプロビル基、ビニル基、3,3.3−
}リフロ口プロピル基、γ−グリシドキシプロビル基、
γ−メタクリルオキシプ口ビル基、γ−メルカプトプロ
ビル基、フェニル基、3,4−エボキシシク口ヘキシル
エチル基、γ−アミノプロピル基などを挙げることがで
きる。
R in such an organosilane is an organic group, preferably an organic group having 1 to 8 carbon atoms, such as an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group,
Others T-chloroprobyl group, vinyl group, 3,3.3-
}Reflopropyl group, γ-glycidoxypropyl group,
Examples include a γ-methacryloxypyl group, a γ-mercaptopropyl group, a phenyl group, a 3,4-epoxyhexylethyl group, and a γ-aminopropyl group.

また、オルガノシラン中のR′は、有機基、好ましくは
炭素数1〜5の有機基、特に好ましくは炭素数1〜5の
アルキル基または炭素数1〜4のアシル基であり、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロビル基、i−プロビル
基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、アセチル基、プロパノイル基、i−プロパノイル
基、n一プタノイル基、i−ブタノイル基などを挙げる
ことができる。
Furthermore, R' in the organosilane is an organic group, preferably an organic group having 1 to 5 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group. , ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, acetyl group, propanoyl group, i-propanoyl group, n-butanoyl group, i-butanoyl group, etc. can be mentioned.

これらのオルガノシランの具体例としては、例えばメチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エ
チルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、
n−プロビルトリメトキシシラン、n−プロビルトリエ
トキシシラン、iープロビルトリメトキシシラン、i−
プロビルトリエトキシシラン、γ−クロロプロビルトリ
メトキシシラン、T−クロロプ口ピルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、3.3.3−}リフロロプ口ピルトリメトキシシ
ラン、3.3.3−トリフロロプ口ビルトリエトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプ口ピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプ口ピルトリエトキシシラン、γ−メ
タクリルオキシプ口ピルトリメトキシシラン、T−メタ
クリルオキシプ口ピルトリエトキシシラン、γ−メルカ
プトプ口ビルトリメトキシシラン、T−メルカプトプ口
ピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン
、フェニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、3.4−エポキシシク口ヘキシルエ
チルトリメトキシシラン、3.4−エポキシシク口ヘキ
シルエチルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシ
シラン、エチルドリアセトキシシラン、T−グリシドキ
シプロビルトリアセトキシシラン、メチルトリプロバノ
イロキシシラン、エチルトリイソブパノイロキシシラン
、メチルトリイソブタノイ口キシシラン、n−プロビル
トリプロバノイロキシシラン、i−プロピルトリn−ブ
タノイロキシシランなどを挙げることができる。
Specific examples of these organosilanes include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane,
n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i-propyltrimethoxysilane, i-
Propyltriethoxysilane, γ-chloropropylltrimethoxysilane, T-chloropropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3.3.3-}lifluoropylltrimethoxysilane, 3. 3.3-trifluoropyrtriethoxysilane, γ-glycidoxypiltrimethoxysilane,
γ-glycidoxypyltriethoxysilane, γ-methacryloxypyltrimethoxysilane, T-methacryloxypyltriethoxysilane, γ-mercaptopyltrimethoxysilane, T-mercaptopyltriethoxysilane, phenyl Trimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, 3.4-epoxyhexylethyltrimethoxysilane, 3.4-epoxyhexylethyltriethoxysilane, methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane , T-glycidoxyprobyltriacetoxysilane, methyltriprobanoyloxysilane, ethyltriisobutanoyloxysilane, methyltriisobutanoyloxysilane, n-propyltriprovanoyloxysilane, i-propyltrin -Butanoyloxysilane and the like can be mentioned.

また、該オルガノシランの部分的縮合物は、オルガノシ
ランを加水分解することによって得られ、親水性有機溶
媒に可溶なボリシロキサンである。
Further, the partial condensate of organosilane is a polysiloxane obtained by hydrolyzing organosilane and soluble in a hydrophilic organic solvent.

これらのオルガノシランまたは該オルガノシランの部分
的縮合物は、1種単独で、または2種以上を混合して使
用することができる. また、これらのオノレガノシランまたは8亥オノレガノ
シランの部分的縮合物のうち、特にメチルトリメトキシ
シランまたはメチルトリメトキシシランの部分的縮合物
が好ましい。
These organosilanes or partial condensates of organosilanes can be used alone or in combination of two or more. Among these honoreganosilane or partial condensates of 8-honoreganosilane, methyltrimethoxysilane or a partial condensate of methyltrimethoxysilane is particularly preferred.

かかるオルガノシランまたは該オルガノシランの部分的
縮合物の組成物中での割合は、好ましくは10〜40重
量部、特に好ましくは20〜30重量部であり、10重
量部未満では組成物自体の保存安定性は良好ではあるが
得られる保護膜の密着力が弱くなり、また硬度が不充分
であり、一方40重量部を越えると組成物の保存安定性
が悪化するほか、後記する微粒子シリカの量が相対的に
少なくなり目的とする機能が低下する傾向がある。
The proportion of the organosilane or the partial condensate of the organosilane in the composition is preferably 10 to 40 parts by weight, particularly preferably 20 to 30 parts by weight, and if it is less than 10 parts by weight, the composition itself may not be preserved. Although the stability is good, the adhesion of the obtained protective film is weak and the hardness is insufficient.On the other hand, if it exceeds 40 parts by weight, the storage stability of the composition deteriorates, and the amount of fine particle silica described later There is a tendency for the target function to decrease as the number of targets decreases relatively.

(b)微粒子シリカ 微粒子シリカは、得られる保護膜の透明性を保持しなが
ら固形分を増すために使用されるものであり、該成分の
量によって得られる保護膜の厚さが左右されるものであ
る。
(b) Particulate silica Particulate silica is used to increase the solid content of the resulting protective film while maintaining its transparency, and the thickness of the resulting protective film is determined by the amount of this component. It is.

かかる微粒子シリカとは、高純度の無水珪酸であり、通
常、平均粒径が5〜50mμ、好ましくは10〜20m
μであり、一般には固形分濃度が18〜30重量%程度
の水性分散液として入手される.そして、この微粒子シ
リカの水性分散液は、pHが2〜5、特に2〜4の範囲
にあることが好ましく、このような微粒子シリカの水性
分散液は、一般的にナトリウム含量が少なく、酸性領域
にあるため組成物を塗布した後、硬化させるのに好適で
ある. このpH2〜5の微粒子シリカの水性分散液としては、
例えば日産化学工業■製、スノーテフクス0:米国デュ
ポン社製、Ludox;米国モンサント社製、Syn 
t on ;米国ナルコケミカル社製、Nalcoag
などを挙げることができる.また、以上のような微粒子
シリカの水性分散液の代わりにSi  (OR’)4 
 (式中、R′は前記に同じ)で表されるシラン化合物
を加水分解することによって得られる加水分解物もしく
はその重縮合物(以下、単に「加水分解物」という)か
らなる微粒子シリカを使用することも可能である.ここ
で、前記シラン化合物としては、例えばテトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトラーn−プロボキ
シシラン、テトラーi−プロポキシシラン、テトラーn
−ブトキシシラン、テトラーsec−ブトキシシラン、
テトラーtert−ブトキシシランなどを挙げることが
でき、これらのシラン化合物は、1種単独で、または2
種以上を混合して使用することができる。
Such fine particle silica is high purity silicic anhydride, and usually has an average particle diameter of 5 to 50 mμ, preferably 10 to 20 mμ.
μ, and is generally available as an aqueous dispersion with a solid content concentration of about 18 to 30% by weight. The pH of this aqueous dispersion of particulate silica is preferably in the range of 2 to 5, particularly 2 to 4. Such an aqueous dispersion of particulate silica generally has a low sodium content and is suitable for acidic regions. Therefore, it is suitable for curing the composition after applying it. This aqueous dispersion of fine particle silica with a pH of 2 to 5 is as follows:
For example, manufactured by Nissan Chemical Industries ■, Snowtefx 0: manufactured by DuPont, USA, Ludox; manufactured by Monsanto, USA, Syn
ton; manufactured by Nalco Chemical Company, USA, Nalcoag
etc. can be mentioned. Also, instead of the aqueous dispersion of fine particle silica as described above, Si (OR')4
Uses fine particle silica made of a hydrolyzate obtained by hydrolyzing a silane compound represented by (wherein R' is the same as above) or a polycondensate thereof (hereinafter simply referred to as "hydrolyzate"). It is also possible to do so. Here, examples of the silane compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-proboxysilane, tetra-i-propoxysilane, and tetra-n-propoxysilane.
-butoxysilane, tetrasec-butoxysilane,
Examples include tetra-tert-butoxysilane, and these silane compounds may be used alone or in combination of two
A mixture of two or more species can be used.

かかる加水分解物からなる微粒子シリカを使用する場合
は、好ましくはpH2〜5の水性分散液として、通常、
固形分濃度が10〜30重量%とじて使用される. 微粒子シリカの組成物中での割合は、好まし《は3〜3
0重量部、特に好ましくは5〜20重量部゛であり、3
重量部未満では得られる保護膜が薄膜すぎる場合があり
、一方30重量部を越えると保護膜が厚膜化し過ぎたり
、亀裂が生起する場合がある。
When using particulate silica made of such a hydrolyzate, it is usually prepared as an aqueous dispersion, preferably with a pH of 2 to 5.
It is used when the solid content concentration is 10 to 30% by weight. The proportion of fine particle silica in the composition is preferably 3 to 3.
0 parts by weight, particularly preferably 5 to 20 parts by weight, and 3
If it is less than 30 parts by weight, the resulting protective film may be too thin, while if it exceeds 30 parts by weight, the protective film may become too thick or cracks may occur.

(c)親水性有機溶媒 親水性有機溶媒は、伽》微粒子シリカの分敗媒であると
ともに、(alオルガノシランまたは該オルガノシラン
の部分的縮合物を均一に混合させ、前記オルガノシラン
または該オルガノシランの部分的縮合物が水によって加
水分解される際にゲル化することを前記微粒子シリカと
の相乗効果によって防止するためのものである。
(c) Hydrophilic organic solvent The hydrophilic organic solvent is a decomposition medium for fine particle silica, and is used to homogeneously mix (al organosilane or a partial condensate of the organosilane). This is to prevent the partial condensate of silane from gelling when it is hydrolyzed by water due to the synergistic effect with the fine particle silica.

かかる親水性有機溶媒としては、アルコール類およびア
ルコール誘導体を挙げることができ、1価アルコール、
2価アルコールであるエチレングリコールもしくはこの
誘導体、または3価以上のアルコールであるグリセリン
、ジグリセリン、ペンタエリスリトールもしくはこれら
の誘導体などを例示することができる。このうち1価ア
ルコールとしては炭素数1〜8の脂肪族アルコールが好
ましく、具体的にはメタノール、エタノール、n−プロ
ビルアルコール、i−プロビルアルコール、sec−ブ
チルアルコール、tart−プチルアルコール、i−ブ
チルアルコール、n−アミルアルコール、i−アミルア
ルコール,sec−アミルアルコール、n−ヘキシルア
ルコール、4−メチル−2−ペンチルアルコールなどを
挙げることができ、またアルコールの誘導体としては、
エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレン
グリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができ
る. さらに、3価以上のアルコール誘導体としては、例えば
グリセリン七ノメチルエーテル、グリセリンモノエチル
エーテル、グリセリンジメチルエーテル、グリセリンジ
エチルエーテル、ジグリセリンモノメチルエーテル、ジ
グリセリンモノエチルエーテル、ジグリセリンジメチル
エーテル、ジグリセリンジエチルエーテル、ジグリセリ
ントリメチルエーテル、ジグリセリントリエチルエーテ
ル、ペンタエリスリトールジメチルエーテル、ペンタエ
リスリトールトリメチルエーテルなどを挙げることがで
きる。
Examples of such hydrophilic organic solvents include alcohols and alcohol derivatives, including monohydric alcohols,
Examples include ethylene glycol or its derivatives, which are dihydric alcohols, and glycerin, diglycerin, pentaerythritol, and derivatives thereof, which are trihydric or higher alcohols. Among these, the monohydric alcohol is preferably an aliphatic alcohol having 1 to 8 carbon atoms, and specifically, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, sec-butyl alcohol, tart-butyl alcohol, i -Butyl alcohol, n-amyl alcohol, i-amyl alcohol, sec-amyl alcohol, n-hexyl alcohol, 4-methyl-2-pentyl alcohol, etc., and alcohol derivatives include:
Examples include ethylene glycol monobutyl ether and acetic acid ethylene glycol monoethyl ether. Further, examples of trivalent or higher alcohol derivatives include glycerin heptamethyl ether, glycerin monoethyl ether, glycerin dimethyl ether, glycerin diethyl ether, diglycerin monomethyl ether, diglycerin monoethyl ether, diglycerin dimethyl ether, diglycerin diethyl ether, Examples include diglycerol trimethyl ether, diglycerol triethyl ether, pentaerythritol dimethyl ether, and pentaerythritol trimethyl ether.

これらの親水性有機溶媒としては、特に好ましくはi−
プロビルアルコール、sec −7’チルアルコール、
エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレン
グリコールモノエチルエーテルである。
These hydrophilic organic solvents are particularly preferably i-
proyl alcohol, sec-7′ methyl alcohol,
Ethylene glycol monobutyl ether and acetic acid ethylene glycol monoethyl ether.

これらの親水性有機溶媒は、1種単独で、または2種以
上を混合して使用することができる。
These hydrophilic organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

親水性有機溶媒の組成物中での割合は、好ましくは10
〜60重量部、特に好ましくは20〜40重量部であり
、10重景部未満では(a)オルガノシランまたは該オ
ルガノシランの部分的縮合物の重縮合が進みすぎてゲル
化が生起し易く、また山》微粒子シリカの分敗が不充分
になり易く、一方60重量部を越えると相対的に他の成
分が少なくなり、得られる保護膜の密着力が弱くなった
り、薄膜すぎる場合がある。
The proportion of hydrophilic organic solvent in the composition is preferably 10
-60 parts by weight, particularly preferably 20 to 40 parts by weight; if it is less than 10 parts by weight, (a) polycondensation of the organosilane or the partial condensate of the organosilane will proceed too much and gelation will easily occur; Also, particulate silica tends to be insufficiently separated, and on the other hand, if it exceeds 60 parts by weight, the amount of other components becomes relatively small, and the resulting protective film may have weak adhesion or be too thin.

なお、親水性有機溶媒中には、必要に応じてアセトン、
テトラヒド口フラン、ジメチルホルムアミドなどの極性
溶剤を混合使用することも可能である. fd)水 水は、オルガノシランまたは該オルガノシランの部分的
縮合物加水分解に必須の成分であるとともに、微粒子シ
リカの分散媒としての役目を果たす。
The hydrophilic organic solvent may contain acetone,
It is also possible to use a mixture of polar solvents such as tetrahydrofuran and dimethylformamide. fd) Water Water is an essential component for the hydrolysis of organosilane or a partial condensate of the organosilane, and also serves as a dispersion medium for particulate silica.

かかる水としては、蒸留水あるいはイオン交換水が好ま
しいが、微粒子シリカが水性分散液として使用される場
合には、該分散液の水をそのまま用いることができる。
Such water is preferably distilled water or ion-exchanged water, but when fine particle silica is used as an aqueous dispersion, the water in the dispersion can be used as is.

水の組成物中における割合は、好ましくは10〜70重
量部、特に好まし《は25〜50重量部であり、10重
量部未満ではオルガノシランまたは該オルガノシランの
部分的縮合物の加水分解が充分に生起し難く、一方70
重量部を越えると組成物がゲル化し易《なる。
The proportion of water in the composition is preferably 10 to 70 parts by weight, particularly preferably 25 to 50 parts by weight, and if it is less than 10 parts by weight, hydrolysis of the organosilane or a partial condensate of the organosilane may occur. sufficiently difficult to occur, while 70
If the amount exceeds 1 part by weight, the composition tends to gel.

なお、前記(a)〜Td)の各成分の組成物中における
割合は、合計が100重量部としたときの割合である. 前記(al〜(d)成分を混合して得られる組成物には
、オルガノシランまたは該オルガノシランの部分的縮合
物の加水分解を促進するとともに保護膜の硬化を促進す
るために、組成物全体のpHが3〜6になる範囲でさら
に酸を添加することができる。
The proportions of each component (a) to Td) in the composition are based on a total of 100 parts by weight. In the composition obtained by mixing the components (al to (d)), in order to promote the hydrolysis of the organosilane or a partial condensate of the organosilane and to promote the curing of the protective film, the entire composition is added. An acid can be further added to the range of pH 3 to 6.

かかる酸としては、例えば硝酸、塩酸などの無機酸、酢
酸、蟻酸、プロビオン酸、マレイン酸、クロロ酢酸、ク
エン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、クルタル酸、グ
リコール酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、蓚酸など
の有機酸を挙げることができる 本発明に使用される組成物は、前記(a)〜(d)成分
を混合してなるが、組成物のゲル化防止、増粘ならびに
得られる保護膜の耐熱性、耐薬品性、硬度および密着性
の向上、さらに静電防止などを目的として、さらにコロ
イド状アルミナ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム
、酸化チタンなどの金属酸化物を適宜配合することが可
能である.(なお、この場合には塗膜が不透明になる。
Examples of such acids include inorganic acids such as nitric acid and hydrochloric acid, acetic acid, formic acid, probionic acid, maleic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, curtaric acid, glycolic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, The composition used in the present invention, which can include organic acids such as oxalic acid, is formed by mixing the components (a) to (d) above, and is effective in preventing gelation of the composition, thickening it, and obtaining a protective film. Metal oxides such as colloidal alumina, aluminum oxide, zirconium oxide, and titanium oxide can be added as appropriate to improve heat resistance, chemical resistance, hardness, and adhesion, as well as to prevent static electricity. be. (In this case, the coating film becomes opaque.

)また、本発明に使用される組成物には、界面活性剤、
カップリング剤などの添加剤を添加することもできる. 本発明に使用する組成物を調製するに際しては、例えば
(a)〜(d)成分を一度に混合してもよいし、また(
b)〜(d)成分の混合液に(al成分を添加してもよ
く、さらに(al〜tc+成分の混合液にTd)成分を
添加してもよく、通常、固形分濃度はlO〜50重量%
に調製される。
) The composition used in the present invention also includes a surfactant,
Additives such as coupling agents can also be added. When preparing the composition used in the present invention, for example, components (a) to (d) may be mixed at once, or (
(Al component may be added to the mixed solution of components b) to (d), and (Td) component may be further added to the mixed solution of (al to tc+components), and the solid content concentration is usually 1O to 50 weight%
It is prepared in

この組成物は、高速撹拌などの方法により均一な分散液
とすることが可能である。
This composition can be made into a uniform dispersion by methods such as high-speed stirring.

本発明に使用される組成物は、カラーフィルターのガラ
スなどの透明基板側の面とは逆の面に、例えばスプレー
法、ロールコート法、カーテンコート法、スピンコート
法、ディソピング法などの塗布方法のほか、スクリーン
印刷、オフセット印刷などの印刷による塗布方法により
、乾燥後の膜厚が好ましくは0.01〜50μm程度、
特に好ましくは0.1〜10μm程度となるように塗布
される. 通常、これをホットプレート、ギヤオープンなどの加熱
手段を用いて50〜300℃程度、好ましくは100〜
200℃程度の温度で例えば10〜120分程度加熱す
ることにより、あるいは1〜7日程度の常温乾燥により
、硬化させ、耐熱性、耐薬品性などを有する保護膜とな
す。
The composition used in the present invention can be applied to the surface of a color filter opposite to the transparent substrate side such as glass by a coating method such as a spray method, a roll coating method, a curtain coating method, a spin coating method, or a dispersion method. In addition, by coating methods such as screen printing and offset printing, the film thickness after drying is preferably about 0.01 to 50 μm,
Particularly preferably, it is applied to a thickness of about 0.1 to 10 μm. This is usually heated to about 50-300°C, preferably 100-300°C using a heating means such as a hot plate or gear open.
It is cured by heating at a temperature of about 200° C. for, for example, about 10 to 120 minutes or by drying at room temperature for about 1 to 7 days to form a protective film having heat resistance, chemical resistance, etc.

なお、本発明に使用される組成物は、ガラス基板上にお
いて、JIS  K5400の鉛筆引っ掻き試験に従い
鉛筆硬度を測定すると、通常、2H以上の硬質塗膜を形
成するものである。
The composition used in the present invention usually forms a hard coating film of 2H or more when the pencil hardness is measured on a glass substrate according to the JIS K5400 pencil scratch test.

次いで、本発明では、このようにして前記fal〜(d
)を混合して得られる組成物を塗布したのち、さらにオ
ゾンの存在下で紫外線を照射する。
Then, in the present invention, the above fal~(d
) is applied, and then irradiated with ultraviolet rays in the presence of ozone.

一般に、空気中で低圧水銀灯を点灯すると、波長が16
0〜4 0 0 nmの紫外線が外部に放出され、さら
には他の波長のものが僅かに放出される。
Generally, when a low-pressure mercury lamp is lit in air, the wavelength is 16
Ultraviolet rays of 0 to 400 nm are emitted to the outside, and a small amount of other wavelengths are also emitted.

かくて、波長が160〜4 0 0 nmの紫外線によ
って空気中の酸素はオゾンに変換され、分解されて、反
応活性は酸素原子を生成し、この酸素芸が塗膜中の有機
成分を分解し、ガス状態で飛散することが知られている
. 従って、本発明においては、上記のように紫外線を照射
すると同時に該紫外線によってオゾンを発生させる方法
が実用的であり、紫外線を発生させるランプとしては、
低圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、
カーボンアーク灯などの波長が160〜400nmの紫
外線を発生させるランプが好適に使用される。
In this way, oxygen in the air is converted into ozone and decomposed by ultraviolet light with a wavelength of 160 to 400 nm, and the reaction activity produces oxygen atoms, which decomposes the organic components in the paint film. , is known to be dispersed in a gaseous state. Therefore, in the present invention, it is practical to irradiate ultraviolet rays as described above and simultaneously generate ozone using the ultraviolet rays, and as a lamp that generates ultraviolet rays,
Low-pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps,
A lamp that generates ultraviolet light having a wavelength of 160 to 400 nm, such as a carbon arc lamp, is preferably used.

特に、本発明においては、165〜2 0 5 nmお
よび235〜275nmの2種の波長の紫外線を発生さ
せるランプが好ましい。
In particular, in the present invention, a lamp that generates ultraviolet rays of two wavelengths, 165 to 205 nm and 235 to 275 nm, is preferable.

なお、これらのランプより照射する紫外線の照射量は、
0.01J/aJ以上が好ましく、また紫外線照射時の
オゾン濃度は、0.001容量%以上が好ましく、紫外
線の照射量およびオゾン濃度が低いと本発明の効果を充
分に発揮することが困難である.なお、紫外線の照射量
は、紫外線強度測定装置により測定することができ、オ
ゾン濃度は検知管法により測定することができる.本発
明によって塗膜が改質される理由の詳細は不明であるが
、塗膜表面に存在する有機物質がオゾ゜ンと紫外線によ
って除去されるためと推察される。
The amount of ultraviolet rays emitted from these lamps is
The ozone concentration during ultraviolet irradiation is preferably 0.01 J/aJ or more, and the ozone concentration at the time of ultraviolet irradiation is preferably 0.001 volume % or more. If the ultraviolet irradiation amount and ozone concentration are low, it will be difficult to fully exhibit the effects of the present invention. be. The amount of ultraviolet irradiation can be measured using an ultraviolet intensity measuring device, and the ozone concentration can be measured using a detection tube method. Although the details of the reason why the coating film is modified by the present invention are unknown, it is presumed that the organic substances present on the coating film surface are removed by ozone and ultraviolet rays.

前記オゾン存在下で紫外線を照射する時間は、通常、1
〜120分、好ましくは3〜60分であり、その際の温
度は、通常、15〜100℃、好ましくは20〜50℃
程度である。
The time for irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone is usually 1
-120 minutes, preferably 3-60 minutes, and the temperature at that time is usually 15-100°C, preferably 20-50°C.
That's about it.

このようにして得られる薄層のガラス質膜である保護膜
を有するカラーフィルターあるいはガラス基板を、カラ
ー液晶表示素子あるいは通常の液晶表示素子として使用
するに際しては、例えば該カラーフィルター上、あるい
はガラス基板上に形成された保護膜上に、ITOを蒸着
し、ホトリソグラフィーにより透明電極を形成させると
ともに、該I T O上にさらにポリイミドなどからな
る液晶配向膜を配置し、これに内側に液晶配向膜を配置
されたガラス基板を対向させ、周囲をシール剤で接着し
たのち、この間に液晶を封入してカラー液晶表示素子、
あるいは液晶表示素子として使用される. また、この際、カラー液晶表示素子あるいは液晶表示素
子用基板のシール削(または接着剤)としては、特に限
定されるものではないが、例えばエポキシ樹脂を基本樹
脂としたものを使用することができ、ストラクトボンド
XN−10(三井東圧化学■製)、アラルダイト(チバ
ガイギー社製)、SR一ポンドB−70(サンライズ明
星■製)などを挙げることができる。
When using a color filter or a glass substrate having a protective film, which is a thin layer of glassy film, obtained in this way as a color liquid crystal display element or a normal liquid crystal display element, for example, on the color filter or on the glass substrate, On the protective film formed above, ITO is vapor-deposited and a transparent electrode is formed by photolithography, and a liquid crystal alignment film made of polyimide or the like is further placed on the ITO, and a liquid crystal alignment film is placed inside this. After placing the glass substrates facing each other and gluing the periphery with a sealant, a liquid crystal is sealed between them to form a color liquid crystal display element.
Alternatively, it is used as a liquid crystal display element. In addition, at this time, the sealant (or adhesive) for the color liquid crystal display element or the substrate for the liquid crystal display element is not particularly limited, but for example, a material based on epoxy resin can be used. , Structbond XN-10 (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals), Araldite (manufactured by Ciba Geigy), and SR Ipond B-70 (manufactured by Sunrise Myojo).

また、これらのシール剤の硬化方法も熱による方法、光
による方法などが適用でき、特に限定されるものではな
い. 〔実施例〕 以下、実施例を挙げ本発明をさらに具体的に説明するが
、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
Furthermore, the method of curing these sealants is not particularly limited, and may be a method using heat, a method using light, or the like. [Examples] Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

なお、実施例中、部および%は、特に断らない限り重量
部および重量%である。
In the examples, parts and % are by weight unless otherwise specified.

また、剥離強度は、以下の接着試験により求めた. すなわち、接着試験は、第1図に示すように、被着基仮
(寸法;76龍X26mX1.lfl)1゛、1′計2
枚の各端面を重ね合わせてシール剤2(接着剤)を用い
て接着することにより、接着片を作製し、これを天秤3
上に設置した治具A上に載せ、B点にかかる力で接着力
を評価する.実施例1 平均粒径が約15mμの微粒子シリカを、固形分換算で
20%含有し、pH3の微粒子シリカの水性分散液(日
産化学工業■製、スノーテフクス0)200gに、イソ
プロビルアルコール100gおよびメチルトリメトキシ
シラン110gを添加し、混合し、酢酸でpHを5に調
整した後、約1時間放置し、組成物を調製した。
In addition, the peel strength was determined by the following adhesion test. That is, in the adhesion test, as shown in FIG.
By overlapping each end face of the sheets and gluing them using sealant 2 (adhesive), an adhesive piece is produced, and this is placed on the balance 3.
Place it on jig A set above, and evaluate the adhesive strength by the force applied to point B. Example 1 To 200 g of an aqueous dispersion of fine particle silica having an average particle diameter of about 15 mμ, containing 20% in terms of solid content and having a pH of 3 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Snotefx 0), 100 g of isopropyl alcohol and methyl After adding 110 g of trimethoxysilane, mixing and adjusting the pH to 5 with acetic acid, the mixture was left to stand for about 1 hour to prepare a composition.

次いで、基板としてソーダガラス(日本板ガラス■製)
を用い、該基板に、前記組成物を回転数2.00Orp
mでスピンコートし、次いで150℃で30分間熱処理
を行い、乾燥後の膜厚が0.  9μmの保護膜を形成
させた。
Next, soda glass (made by Japanese sheet glass) was used as the substrate.
The composition was applied to the substrate using a rotation speed of 2.00 Orp.
Spin coating was performed at 150°C, followed by heat treatment at 150°C for 30 minutes until the film thickness after drying was 0. A protective film of 9 μm was formed.

このようにして作製された保護膜付きの基板に低圧水銀
灯を用い、波長が185nmおよび254nmを主とす
る紫外線を室温下で10分間照射した。このときの紫外
線の照射量は5J/c!lI1オゾン濃度は2容量%で
あった。
The thus prepared substrate with a protective film was irradiated with ultraviolet rays mainly having wavelengths of 185 nm and 254 nm for 10 minutes at room temperature using a low-pressure mercury lamp. The amount of UV irradiation at this time was 5J/c! The lI1 ozone concentration was 2% by volume.

かくして得られた基板上に、ITOを常法にしたがって
蒸着し、その上にポジ型レジスト(日本合成ゴム■製、
PFR−3 0 0 3)を塗布し、所望のパターンを
形成したのち、露出部のITOを濃塩酸中に室温下で5
分間浸漬することにより、エッチングを行い、水洗した
後ポジ型レジストを剥離した.かくして得られた所望の
ITOパターンを有する基板の配線取り出し部以外の部
分にポリイミド系の液晶配向膜(日本合成ゴム■製、J
IB)を塗布し、乾燥後、接着部に粒径8μmのアルミ
ナよりなるスペーサ−1%を含むシール剤(三井東圧化
学@製、ストラクトボルドXN−10)を用いて接着し
たところ、結合は極めて良好であった.また、接着試験
をガラス基板について行ったところ、B点に5.OOO
gの力をかけた時点でガラスが材破した。
ITO was deposited on the thus obtained substrate according to a conventional method, and a positive resist (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.,
After applying PFR-3003) and forming the desired pattern, the exposed ITO was soaked in concentrated hydrochloric acid at room temperature for 55 minutes.
Etching was performed by dipping for a minute, and after washing with water, the positive resist was peeled off. A polyimide-based liquid crystal alignment film (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., J
IB) was applied, dried, and then bonded using a sealant containing 1% spacer made of alumina with a particle size of 8 μm (Structvold XN-10, manufactured by Mitsui Toatsu Kagaku@). It was extremely good. In addition, when an adhesion test was conducted on a glass substrate, point B was found to be 5. OOO
The glass broke when a force of g was applied.

実施例2 ビニルピロリドン(68部)と2−メタクリ口イロキシ
エチルトリメチルアンモニウムクロリド(14部)とメ
タクリル酸メチル(18部)との共重合体(0.1%の
塩化ナトリウム水溶液中での極限粘度;1.1d!/g
)lOgを、メチルセロソルブ90gに溶解した。
Example 2 Copolymer of vinylpyrrolidone (68 parts), 2-methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride (14 parts), and methyl methacrylate (18 parts) (limited in 0.1% aqueous sodium chloride solution) Viscosity: 1.1d!/g
)1Og was dissolved in 90g of methyl cellosolve.

得られた溶液に4.4′−ジアジドスチルベン−2.2
’−ジスルホン酸ナトリウム0.4gを加えて撹拌し均
一に混合したのち、この溶液を孔径0.2μmのフィル
ターで濾過し、被染色層を形成するための惑光性組成物
を調製した。
4.4′-Diazidostilbene-2.2 was added to the resulting solution.
After adding 0.4 g of sodium '-disulfonate and stirring to mix uniformly, this solution was filtered through a filter with a pore size of 0.2 μm to prepare a photolactic composition for forming a layer to be dyed.

次に、ガラス基板上にグリシジルメタクリレート重合体
(ゲルパーミエーションク口マトグラフィー法によるボ
リスチレン換算重量平均分子景;65,000)を主成
分とする溶液を塗布したのち、前記感光製組成物を回転
数3.00Orpmでスピンコートした. 塗布膜の乾燥後の膜厚は、0.9μmであったかくして
得られた塗布膜の全面に紫外線を照射して被染色層を形
成する塗布膜を架橋させた。
Next, a solution containing a glycidyl methacrylate polymer as a main component (weight-average molecular size calculated by gel permeation chromatography as calculated by weight average molecular weight of polystyrene: 65,000) was applied onto the glass substrate, and then the photosensitive composition was rotated. Spin coating was performed at several 3.00 rpm. The thickness of the coated film after drying was 0.9 μm.The entire surface of the thus obtained warm coated film was irradiated with ultraviolet rays to crosslink the coated film forming the layer to be dyed.

次いで、被染色層の上にポリビニルアルコール(重合度
;500、鹸化率,100%)10gと重クロム酸アン
モニウム0.5gを水90gに溶解した溶液を、孔径Q
.2μmのフィルターで濾過して調製した組成物を、回
転数3.00Orpmでスピンコートした.これを11
0℃で10分間乾燥したのち、塗膜の全面に紫外線を照
射して光硬化させ、膜厚0.5μmの被染色層の保護層
を形成した.  一 このようにして得られた被染色層とこれの保護層の2層
からなる積層体上に、ボジ型レジストrPFR−300
3J  (日本合成ゴム■製)を回転数3,OOOrp
mでスピンコートした。
Next, a solution of 10 g of polyvinyl alcohol (degree of polymerization: 500, saponification rate, 100%) and 0.5 g of ammonium dichromate dissolved in 90 g of water was placed on the layer to be dyed, and the pore size was
.. The composition prepared by filtration through a 2 μm filter was spin coated at a rotational speed of 3.00 rpm. This is 11
After drying at 0°C for 10 minutes, the entire surface of the coating was irradiated with ultraviolet rays to photocure, forming a 0.5 μm thick protective layer for the layer to be dyed. - On the thus obtained laminate consisting of two layers, the layer to be dyed and its protective layer, a positive resist rPFR-300 is applied.
3J (manufactured by Japan Synthetic Rubber) at rotation speed 3, OOOrp
Spin coated with m.

その後、80℃で10分間乾燥処理し、所望のパターン
を有するホトマスクを介して紫外線を照射し、これを現
像液rPD524J  (日本合成ゴム■製)によって
現像処理することにより、レジストのパターニングを行
ってレジストパターン層を形成し、染色用基板を調製し
た。得られた染色用基板をカヤノールミリングレッドR
S125(1g)と酢酸(Ig)と水(9 8 g)と
よりなる゜染色浴に25℃で5分間浸漬することにより
、被染色層の染色を行った。その後、基板全体に紫外線
を照射し、前記現像液でレジストパターン層を除いたの
ち水洗、乾燥を行い、被染色層に第1の色パダーンを形
成した。
Thereafter, the resist was patterned by drying it at 80°C for 10 minutes, irradiating it with ultraviolet rays through a photomask with the desired pattern, and developing it with a developer rPD524J (manufactured by Japan Synthetic Rubber ■). A resist pattern layer was formed and a dyeing substrate was prepared. The obtained dyeing substrate was dyed with Kayanol Milling Red R.
The layer to be dyed was dyed by immersing it in a ° dyeing bath consisting of S125 (1 g), acetic acid (Ig), and water (98 g) at 25 °C for 5 minutes. Thereafter, the entire substrate was irradiated with ultraviolet rays, the resist pattern layer was removed with the developer, washed with water, and dried to form a first color pattern on the layer to be dyed.

次いで、前記の手順と同様にしてレジストパターン層の
形成一染色−レジストパターン層の除去の操作を繰り返
して行い、第2の染色部および第3の染色部を形成し、
染色層を形成した。
Next, the operations of forming a resist pattern layer, dyeing, and removing the resist pattern layer are repeated in the same manner as the above procedure to form a second dyed part and a third dyed part,
A dyed layer was formed.

さらに、被染色層の保護層上にグリシジルメタクリレー
ト重合体(ボリスチレン換算重量平均分子量;65.0
00)を主成分とする溶液を塗布し、乾燥し、膜厚2μ
mの表面保護膜を形成し、カラーフィルターを得た. このようにして作製されたカラーフィルター基板上に、
実施例l調製された組成物を実施例lと同様に塗布し、
硬化させ、次いで実施例1と同様にして紫外線を照射し
、カラー液晶表示素子を形成し、接着試験を行ったとこ
ろ、B点にs,ooogの力をかけた時点で基板が材破
した.実施例3 実施例1で使用したシール剤(三井東圧化学側製、スト
ラクトボンドXN−10)の代わりに、エボキシアクリ
レート(大阪有機化学01製、ビスコート#540)5
g,ビスフェノールAジアクリレート(大阪有機化学側
製、ビスコート#700)5g,ベンゾインエチルエー
テル0.15g、シランカップリング剤(信越シリコー
ン側製、KBM5 0 3)0.1 gおよびタルク(
日本タルク■製、ミクロエース)4gの混合物からなる
シール剤を用い、塗布し圧着後、高圧水銀灯を照射し、
シール剤を効果さらに以外は、実施例1と同様に液晶表
示素子用基仮を作製し、接着試験を行ったところ、B点
に5,000gの力をかけた時点で基板が材破した。
Furthermore, a glycidyl methacrylate polymer (weight average molecular weight in terms of boristyrene; 65.0
00) was applied as the main component and dried to a film thickness of 2 μm.
A color filter was obtained by forming a surface protective film of m. On the color filter substrate prepared in this way,
Example 1 The prepared composition was applied as in Example 1,
After curing, the substrate was irradiated with ultraviolet rays in the same manner as in Example 1 to form a color liquid crystal display element, and an adhesion test was conducted. When a force of s,ooog was applied to point B, the substrate broke. Example 3 Instead of the sealant (manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd., Structbond
g, bisphenol A diacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd., Viscoat #700) 5 g, benzoin ethyl ether 0.15 g, silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., KBM503) 0.1 g, and talc (
Using a sealant consisting of 4g of a mixture of Nippon Talc (Micro Ace), apply and press, then irradiate with a high pressure mercury lamp.
A substrate for a liquid crystal display element was prepared in the same manner as in Example 1, except that the sealant was not effective. When an adhesion test was conducted, the substrate broke when a force of 5,000 g was applied to point B.

比較例l 紫外線照射を施さない以外は、実施例1と同様にして液
晶表示素子用基板を作製し、接着試験を行ったところ、
B点に800gの力をかけた時点で基板が材破すること
なく、接着部分で剥離した。
Comparative Example 1 A substrate for a liquid crystal display element was prepared in the same manner as in Example 1 except that no ultraviolet irradiation was performed, and an adhesion test was conducted.
When a force of 800 g was applied to point B, the board was peeled off at the adhesive portion without breaking.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように本発明は、特定の組成物を塗布して得られ
るガラス質膜にオゾンの存在下で紫外線を照射すること
によって接着剤、塗料などの接着性を著しく向上させる
ことを特徴とし、液晶表示素子の保護膜の改質方法とし
て掻めて有用である。
As described above, the present invention is characterized in that the adhesion of adhesives, paints, etc. is significantly improved by irradiating a glassy film obtained by applying a specific composition with ultraviolet rays in the presence of ozone. This method is extremely useful as a method for modifying the protective film of a liquid crystal display element.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、接着試験を実施するための装置の概略図であ
る。 第1図において、1.1’は被着基板、2は接着剤、3
は天秤、Aは治具である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an apparatus for carrying out an adhesion test. In Figure 1, 1.1' is the substrate to be adhered to, 2 is the adhesive, and 3 is the adhesive.
is a balance and A is a jig.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板上の一部または全部に下記(a)〜(d)を
混合して得られる組成物を塗布して、得られる塗膜に、
オゾンの存在下で紫外線を照射することを特徴とする塗
膜の改質方法。 (a)一般式RSi(OR′)_3(式中、RおよびR
′は同一または異なる有機基を示す。)で表されるオル
ガノシランおよび/または該オルガノシランの部分的縮
合物、 (b)微粒子シリカ、 (c)親水性有機溶媒、 (d)水。
(1) Apply a composition obtained by mixing the following (a) to (d) on part or all of the substrate, and on the resulting coating film,
A method for modifying a coating film characterized by irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone. (a) General formula RSi(OR')_3 (where R and R
′ represents the same or different organic group. ) and/or a partial condensate of the organosilane; (b) fine particle silica; (c) a hydrophilic organic solvent; (d) water.
(2)オゾンの濃度が0.001容量%以上である特許
請求の範囲第1項記載の塗膜の改質方法。
(2) The method for modifying a coating film according to claim 1, wherein the ozone concentration is 0.001% by volume or more.
(3)紫外線照射量が0.01J/cm^2以上である
特許請求の範囲第1項または第2項記載の塗膜の改質方
法。
(3) The method for modifying a coating film according to claim 1 or 2, wherein the amount of ultraviolet irradiation is 0.01 J/cm^2 or more.
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