JPS6374117A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPS6374117A
JPS6374117A JP22052286A JP22052286A JPS6374117A JP S6374117 A JPS6374117 A JP S6374117A JP 22052286 A JP22052286 A JP 22052286A JP 22052286 A JP22052286 A JP 22052286A JP S6374117 A JPS6374117 A JP S6374117A
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acid
magnetic
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正俊 中山
Koji Kobayashi
康二 小林
Kunihiro Ueda
国博 上田
Mitsuru Takai
充 高井
Shigeo Kurose
茂夫 黒瀬
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Abstract

PURPOSE:To improve film strength of a magnetic layer and to enhance running stability by providing multi-layered structure consisting of >=2 layers on a thin ferromagnetic metallic film layer and incorporating carbon into at least one layer of the thin ferromagnetic metallic film layers. CONSTITUTION:The thin ferromagnetic metallic film layer as the magnetic layer has the multi-layered structure consisting of >=2 layers which contain Co as the essential component. Such magnetic layer is preferably the aggregate of the particles having the columnar crystalline structure inclined with the normal of the main plain of the substrate. The carbon is incorporated in the form of the polymer of an org. material into at least one layer of the multi- layered magnetic layer and said polymer exists in the magnetic layer, more particularly so as to fill the spacings between the columnar particles and columnar particles forming the magnetic layer. Such org. material polymer is as dense as to prevent the contact of the columnar particles of the magnetic layer with O2 molecules in the air and the atomic ratio of the carbon/metal in the layer contg. such carbon is 10<-8>-10<-2>. Output and coercive force decrease when said atomic ratio deviates from the above-mentioned range.

Description

【発明の詳細な説明】 工 発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒
体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium, particularly a metal thin film type magnetic recording medium.

先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、金属薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
Prior art and its problems As magnetic recording media for video, audio, etc., media having a metal thin film type magnetic layer are being actively developed because of their compactness when wound into tapes.

このような金属薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したCo系、Co−Ni系等
からなる蒸着膜が好適である。
Due to its characteristics, the magnetic layer of such a metal thin film type medium is made of a Co-based, Co-Ni-based, etc. material formed by a so-called oblique evaporation method, in which the evaporation is performed at a predetermined angle to the normal to the substrate. Membranes are preferred.

このような、磁性層が強磁性金属薄膜層からなる磁気記
録媒体は、塗布型の磁気記録媒体に比べて、バインダー
を含まないため薄型化が容易でかつ飽和磁化も大きいこ
とがら有利である。 しかし、反面、非バインダー型磁
気記録媒体は、磁性層が電気メッキ、無電解メッキ、ス
パッタリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方
法によって形成され、バインダーを含まないため、磁気
ヘッドとの接触摺動時、例えば磁気信号の記録、再生、
消去を行う際に、磁気ヘッドとの高速相対運動に起因す
る摩擦によって磁性層は削りとられるか、あるいは破壊
され易いものである。 また、非バインダー型磁気記録
媒体は、磁性層の表面が腐食し易く、腐食が進行すると
ヘッドタッチ、耐摩耗性等の実用特性が低下し、電磁変
換特性にも悪影汗を及ぼす傾向にある。 さらに、媒体
のカールないしカッピングによりヘッドタッチが悪く、
出力変動が生じる。
Such a magnetic recording medium in which the magnetic layer is composed of a ferromagnetic metal thin film layer is advantageous over a coating-type magnetic recording medium because it does not contain a binder, can be easily made thin, and has a large saturation magnetization. However, on the other hand, in non-binder type magnetic recording media, the magnetic layer is formed by methods such as electroplating, electroless plating, sputtering, vacuum evaporation, and ion blating, and does not contain a binder. time, e.g. recording and reproducing magnetic signals,
During erasing, the magnetic layer is likely to be scraped off or destroyed by friction caused by high-speed relative motion with the magnetic head. In addition, the surface of the magnetic layer of non-binder type magnetic recording media is prone to corrosion, and as corrosion progresses, practical properties such as head touch and wear resistance tend to deteriorate, and the electromagnetic conversion properties also tend to suffer. . Furthermore, head contact is poor due to curling or cupping of the medium.
Output fluctuations occur.

磁気記録媒体の受ける衝%や摩擦を低減させる手段とし
て、磁性層の表面に潤滑剤を塗布する方法(特公昭39
−25246号)がある。
A method of applying a lubricant to the surface of the magnetic layer as a means of reducing the impact and friction experienced by magnetic recording media (Japanese Patent Publication No. 39 Sho.
-25246).

また、潤滑剤を継続的に磁性層表面に供給する手段とし
て磁気記録媒体の磁性層と反対側の面に液状ないし半固
体状の潤滑剤と有機バインダーを主成分とする潤滑層(
バックコート層)を形成する方法(特公昭57−297
69号)が提案されている。 この方法では、磁気記録
媒体がロール状に巻かれた際に、裏面のバックコート層
からにじみ出た潤滑剤が磁性層の表面に移ることにより
、磁性層の表面に潤滑剤を供給することができ、それに
よって磁性層の耐久性(スリキズやハガレ程度)を増大
し、かつ動fly係数の変化に対しても容易に対応する
ことができるとしている。
In addition, as a means to continuously supply lubricant to the surface of the magnetic layer, a lubricant layer (mainly composed of a liquid or semi-solid lubricant and an organic binder) is provided on the surface of the magnetic recording medium opposite to the magnetic layer.
Method for forming back coat layer (Special Publication No. 57-297
No. 69) has been proposed. In this method, when the magnetic recording medium is wound into a roll, the lubricant that oozes from the back coat layer on the back side transfers to the surface of the magnetic layer, making it possible to supply lubricant to the surface of the magnetic layer. , it is said that this increases the durability of the magnetic layer (to the extent of scratches and peeling), and also makes it possible to easily respond to changes in the dynamic fly coefficient.

しかし、特公昭39−25246号公報に記載されてい
る方法では、潤滑剤は磁気ヘッド等によって取り去られ
るため潤滑剤作用が永続せず、また防錆、耐久性等の効
果は期待すべくもなかった。
However, in the method described in Japanese Patent Publication No. 39-25246, the lubricant is removed by a magnetic head, etc., so the lubricant action does not last long, and the effects of rust prevention and durability cannot be expected. .

また、特公昭57−29769号公報に記載されている
方法のように、磁性層の表面にトップコート層を形成し
ないでバックコート層に潤滑剤を含有させただけでは、
磁性層表面と磁気ヘッドとの摩擦は依然として大きく、
走行不良にいたりやすく、耐食性、防錆効果においても
満足すべき結果が得られない。 さらに、バックコート
層の潤滑剤がトップコートされていない磁性層に裏型転
写されると、例えば蒸着膜において酸素を導入しない場
合(酸素を含有しない金属膜:特公昭57−29769
号)では顕著ではないが、現在通常行われている酸素を
導入した場合(酸素含有金属膜)では膜が不安定な状態
となり、出力ダウンして目づまりしたり、画像が出なく
なフたり、あるいは摩擦抵抗が十分に低下せずに未だ大
きく、時には膜が削りとられるかあるいは破壊されてし
まうという現象が見られた。
Furthermore, as in the method described in Japanese Patent Publication No. 57-29769, simply adding a lubricant to the back coat layer without forming a top coat layer on the surface of the magnetic layer,
The friction between the magnetic layer surface and the magnetic head is still large;
It is easy to cause poor running, and satisfactory results cannot be obtained in terms of corrosion resistance and rust prevention effect. Furthermore, when the lubricant of the back coat layer is back-transferred to the magnetic layer that is not top-coated, for example, when oxygen is not introduced in the vapor-deposited film (metallic film that does not contain oxygen: Japanese Patent Publication No. 57-29769
Although it is not noticeable in the case of the current standard method of introducing oxygen (oxygen-containing metal film), the film becomes unstable, resulting in a decrease in output and clogging, or a loss of images. , or the frictional resistance did not decrease sufficiently and remained large, and sometimes the film was scraped off or destroyed.

さらに、バックコート層に潤滑剤を含有させる方法に対
して、トップコート層に潤滑剤を塗布する方法が容易に
考えられる。  しかし、この方法では、摩擦は低下す
るが一時的なもので継続せず、かつ防錆性、耐食性、耐
久性等か著しく劣った磁気記録媒体しか得られない。
Furthermore, in contrast to the method of containing a lubricant in the back coat layer, a method of applying a lubricant to the top coat layer can be easily considered. However, with this method, although the friction is reduced, it is only temporary and does not continue, and only magnetic recording media with significantly inferior rust prevention, corrosion resistance, durability, etc. can be obtained.

また、耐久性や電磁変換特性を向上させるために、強磁
性金属薄膜層を2層以−ヒの多層構成とする旨の提案も
柿々行われている(特開昭54−141608号、特公
昭56−26892号、特開昭57−130228号等
)。
Furthermore, in order to improve durability and electromagnetic conversion characteristics, proposals have been made to make the ferromagnetic metal thin film layer have a multilayer structure of two or more layers (Japanese Unexamined Patent Publication No. 54-141608, Publication No. 56-26892, JP-A No. 57-130228, etc.).

しかし、この場合も、前述したように媒体のカールない
しカッピングによりヘッドタッチが悪化し、出力変動が
生じてしまう。
However, in this case as well, as described above, head touch deteriorates due to curling or cupping of the medium, resulting in output fluctuations.

以上述べてきたように現状では、走行性、耐久性、強磁
性薄膜強度が良好でかつ電磁変換特性の面でも不都合が
なく、かつ、媒体のカールないしカッピングの生じない
技術は未だ実現していない。
As mentioned above, at present, a technology that has good runnability, durability, and ferromagnetic thin film strength, has no disadvantages in terms of electromagnetic conversion characteristics, and does not cause curling or cupping of the medium has not yet been realized. .

■ 発明の目的 本発明の目的は、媒体の走行性が良好で、走行による磁
性層のクラックやケズレが少なく、また、ヘッド摩耗量
およびドロップアウトが少なく、さらに、媒体のカール
ないしカッピングが改とされた電磁変換特性の良好な金
属薄膜型の磁気記録媒体を提供することにある。
■ Purpose of the Invention The purpose of the present invention is to provide a medium with good running properties, less cracking or chipping of the magnetic layer due to running, less head wear and dropouts, and improved curling or cupping of the medium. An object of the present invention is to provide a metal thin film type magnetic recording medium with good electromagnetic conversion characteristics.

■ 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。■Disclosure of invention Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち、本発明は、プラスチックフィルム基体上にC
oを主成分とする強磁性金属薄膜層を存し、この強磁性
金属薄膜層か2層以上の層からなる多層構造を有し、強
磁性金属薄膜層のうち少なくとも一層が炭素を含有する
ことを特徴とする磁気記録媒体である。
That is, the present invention provides C on a plastic film substrate.
The ferromagnetic metal thin film layer has a multilayer structure consisting of two or more layers, and at least one of the ferromagnetic metal thin film layers contains carbon. This is a magnetic recording medium characterized by:

■ 発明の具体的構成 以下5本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, five specific configurations of the present invention will be explained in detail.

本発明における磁性層としての強磁性金属薄膜層はCo
を主成分とし少なくとも2層からなる多層構造を有する
ものである。
The ferromagnetic metal thin film layer as the magnetic layer in the present invention is Co
It has a multilayer structure consisting of at least two layers, including as a main component.

このような磁性層は、通常、基体主面の法線に対して傾
斜した柱状結晶構造の粒子の集合体であることが好まし
い。 これにより、電磁変換特性が向上する。
Such a magnetic layer is usually preferably an aggregate of particles having a columnar crystal structure tilted with respect to the normal to the main surface of the substrate. This improves electromagnetic conversion characteristics.

本発明においては、このような多層からなる磁性層のう
ち少なくとも一層中に炭素が有機物の重合体の形で含有
されている。 このような有機物の重合体は、磁性層の
中、特に磁性層を形成する柱状粒子と柱状粒子の間を埋
めるように存在するものである。 このような有機物重
合体は、磁性層の柱状粒子と空気中の02分子とが直接
触れ得ない程度のち密なものである。
In the present invention, at least one of the multilayer magnetic layers contains carbon in the form of an organic polymer. Such an organic polymer exists in the magnetic layer, particularly in the space between the columnar particles forming the magnetic layer. Such an organic polymer is so dense that the columnar particles of the magnetic layer and the 02 molecules in the air cannot come into direct contact with each other.

このような炭素を含有する層中の炭素/金属の原子比は
10−8〜10−2である。
The carbon/metal atomic ratio in such a carbon-containing layer is between 10-8 and 10-2.

炭素/金属比が上記の範囲をはずれると出力および保磁
力が低下する。
If the carbon/metal ratio is out of the above range, the output and coercive force will decrease.

また、耐食性の改善効果もあられれない。Further, the effect of improving corrosion resistance cannot be obtained.

磁性層中の炭素/金属の原子比は、磁性層の組成をオー
ジェ分光分析、SIMSで同定すれば容易に得られる。
The carbon/metal atomic ratio in the magnetic layer can be easily obtained by identifying the composition of the magnetic layer by Auger spectroscopy or SIMS.

tp  +:     +  n  RE  ’n  
+、+  l’M  4%  j+  /J、%  P
I  イ  )−#、  −1:f4 1.=  +有
されればよく、炭素が含有される層は、いずれの層であ
ってもよいが、通常は最上層であることが好ましく、さ
らにはすべての層に炭素が含有され、層全体として、炭
素/金属の原子比が10−8〜10−2であることが好
ましい。
tp +: +n RE 'n
+, + l'M 4% j+ /J,% P
I I) -#, -1:f4 1. The layer containing carbon may be any layer, but it is usually preferable to be the top layer, and furthermore, all the layers contain carbon, and the layer as a whole , the carbon/metal atomic ratio is preferably 10-8 to 10-2.

また、有機物の重合体としては種々のものが可能である
が、特にCとHとを含有するものが好ましい。
Various organic polymers are possible, but those containing C and H are particularly preferred.

この場合、C/Hの原子比は1層6程度であることが好
ましい。
In this case, the C/H atomic ratio is preferably about 6 per layer.

以上述べてきたような、有機物の重合体を磁性層中へ含
有させる方法は、以下に示す方法に従えばよい。
The method for incorporating the organic polymer into the magnetic layer as described above may be carried out according to the method shown below.

第3図および第4図には、本発明の媒体の製造装置が例
示されている。 第3図には、41機物をとりこませな
がら磁性層を形成させる蒸着装置11が示されており、
また第4図にはイを機物重合処理装置20(第4図には
その1例としてプラズマ処理装置)が示されている。
3 and 4 illustrate an example of the media manufacturing apparatus of the present invention. FIG. 3 shows a vapor deposition apparatus 11 that forms a magnetic layer while incorporating 41 components.
FIG. 4 also shows an organic polymerization processing apparatus 20 (a plasma processing apparatus is shown in FIG. 4 as an example).

蒸着装置11において、蒸発源16から蒸発した物質は
高入射角θmax(bの位置)から遮へい板17で規制
される低入射角θm1n(Cの位置)へとill減的に
基体上に被着し、磁性層が形成される。
In the vapor deposition apparatus 11, the substance evaporated from the evaporation source 16 is deposited on the substrate in an ill-reduced manner from a high incidence angle θmax (position b) to a low incidence angle θm1n (position C) regulated by the shielding plate 17. Then, a magnetic layer is formed.

本発明においては、この磁性層形成時に5〜0間に存在
するノズル15から有機物ガスが導入され、磁性層中に
有機物がとりこまれる。
In the present invention, when forming the magnetic layer, an organic gas is introduced from the nozzle 15 located between 5 and 0, and the organic substance is incorporated into the magnetic layer.

有機物としては、1O−5Torr程度の減圧下で気体
となるもの、例えば、 (A)メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、
エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジェン、アセチレ
ン、メチルアセチレン、ベンゼン、スチレンその他の飽
和ないし不飽和の炭化水素や、 (B)フロロメタン、ジフロロメタン、トリフロロメタ
ン、ジフロロエタン、テトラフロロエタン、その他の飽
和ないし不飽和のフッ化炭化水素や、 (C)テトラフロロメタン、ヘキサフロロエタン、オク
タフロロプロパン、オクタフロロシクロブタン、テトラ
フロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、その他の飽
和ないし不飽和のフッ化炭素や、 (D)その他、メチルメタアクリレート、アクリル酸、
塩化ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。
Examples of organic substances include those that become gas under reduced pressure of about 10-5 Torr, such as (A) methane, ethane, propane, butane, pentane,
Ethylene, propylene, butene, butadiene, acetylene, methylacetylene, benzene, styrene, and other saturated or unsaturated hydrocarbons; (B) Fluoromethane, difluoromethane, trifluoromethane, difluoroethane, tetrafluoroethane, and other saturated or unsaturated hydrocarbons; (C) Tetrafluoromethane, hexafluoroethane, octafluoropropane, octafluorocyclobutane, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, and other saturated or unsaturated fluorinated carbons, (D) Others , methyl methacrylate, acrylic acid,
Examples include vinyl chloride and vinylidene chloride.

通常は、これら(A)〜(D)の中の1種類を単独で原
料ガスとして用いるが、2種以上混合して用いてもよい
Usually, one of these (A) to (D) is used alone as the raw material gas, but two or more types may be used in combination.

また必要に応じて、原料に窒素、酸素、ホウ素、リン等
の微量成分を添加することもできる。
Further, if necessary, trace components such as nitrogen, oxygen, boron, and phosphorus can be added to the raw materials.

これらの中では、特に炭素数3以下のメタン、エタン、
エチレン、アセチレン、プロパン、プロピレン、メチル
アセチレン、テトラフロロメタン、テトラフロロエチレ
ン等を用いるのが好ましい。
Among these, methane, ethane with carbon number of 3 or less,
Preferably, ethylene, acetylene, propane, propylene, methylacetylene, tetrafluoromethane, tetrafluoroethylene, etc. are used.

これらの原料ガスは、磁性層を形成する蒸着粒子と接触
させるため第3図に示されるb−c間のいずれの位置か
ら導入してもよい。
These raw material gases may be introduced from any position between b and c shown in FIG. 3 in order to bring them into contact with the deposited particles forming the magnetic layer.

原料ガスの流量は、真空槽の容積等に応じて適宜決定す
ればよいが、通常は10〜110003CC程度とされ
る。
The flow rate of the raw material gas may be appropriately determined depending on the volume of the vacuum chamber, etc., but is usually about 10 to 110003 CC.

なお、磁性層を蒸着以外の真空成膜法、例えば、イオン
ブレーティングやスパッタにて形成する場合にも、上記
有機物の導入は同様に応用できるものである。
Note that the above-mentioned introduction of the organic substance can be similarly applied to the case where the magnetic layer is formed by a vacuum film-forming method other than vapor deposition, such as ion blasting or sputtering.

このようにして磁性層の形成時に、磁性層中にとりこま
れた有機物は、その後、第4図に示されるような有機物
重合処理装置20によって重合される。 重合処理装置
20内に設置される重合手段は特に制限されるものでは
ないが、通常、下記の方法などが用いられる。
The organic substances incorporated into the magnetic layer during the formation of the magnetic layer in this way are then polymerized by an organic substance polymerization treatment apparatus 20 as shown in FIG. Although the polymerization means installed in the polymerization processing apparatus 20 is not particularly limited, the following method is usually used.

(1)プラズマを利用し、プラズマ雰囲気中で重合させ
る方法。
(1) A method of polymerizing in a plasma atmosphere using plasma.

(2)電子線・紫外線等の放射線照射により重合させる
方法。
(2) A method of polymerizing by irradiation with radiation such as electron beams and ultraviolet rays.

ただし上記(2)の放射線を用いる場合には、面記磁性
層中にとりこませる有機物としては、エチレン、アセチ
レン、プロピレン、ブタジェン、スチレン、ベンゼン等
の多重結合を有するものに限定される。
However, when using the radiation described in (2) above, the organic substances incorporated into the planar magnetic layer are limited to those having multiple bonds such as ethylene, acetylene, propylene, butadiene, styrene, and benzene.

第4図には、上記(1)の方法を用いてプラズマ雰囲気
中で、磁性層中にとりこまれた有機物を重合させる装置
が示されている。
FIG. 4 shows an apparatus for polymerizing organic matter incorporated into a magnetic layer in a plasma atmosphere using the method (1) above.

プラズマ雰囲気は例えば、N2.02、N2 、A r
、He、Ne等のガスを用い、これらのガスの放電プラ
ズマによってつくられる。
The plasma atmosphere is, for example, N2.02, N2, Ar
, He, Ne, etc., and is created by discharge plasma of these gases.

原理について概説すると、気体を低圧に保ち電場を作用
させると、気体中に少量存在する自由電子は、常圧に比
べ分子間距離が非常に大きいため、電界加速を受け5〜
10eVの運動エネルギー(電子温度)を獲得する。
To outline the principle, when a gas is kept at a low pressure and an electric field is applied, the free electrons present in a small amount in the gas are accelerated by the electric field because the intermolecular distance is much larger than at normal pressure.
Obtain a kinetic energy (electron temperature) of 10 eV.

この加速電子が原子や分子に衝突すると、原子軌道や分
子軌道を分断し、これらを電子、イオン、中性ラジカル
など、通常の状態では不安定の化学種に解離させる。
When these accelerated electrons collide with atoms and molecules, they disrupt atomic and molecular orbits and dissociate them into chemical species that are unstable under normal conditions, such as electrons, ions, and neutral radicals.

解畠した電子は再び電界加速を受けて、別の原子や分子
を解閣させるが、この連鎖作用で気体はたちまち高度の
電離状態となる。 そしてこねはプラズマガスと呼ばれ
ている。
The disintegrated electrons are again accelerated by the electric field, causing other atoms and molecules to disintegrate, and this chain reaction quickly turns the gas into a highly ionized state. And the dough is called plasma gas.

気体分子は電子との衝突の機会が少ないのでエネルギー
をあまり吸収せず、常温に近い温度に保たれている。
Gas molecules have fewer chances of collision with electrons, so they do not absorb much energy and are kept at a temperature close to room temperature.

このように、電子の運動エネルギー(電子温度)と、分
子の熱運動が分離した系は低温プラズマと呼ばれ、ここ
では化学種が比較的原型を保ったまま重合等の加酸的化
学反応を進めつる状況を創出しており、本発明の磁気記
録媒体の製造に際しては、この状況を利用して磁性層中
にとり込まれた有機物をプラズマ雰囲気にさらすことに
よって重合させようとするものである。 なお低温プラ
ズマを利用するため、基体や磁性層などへの熱Hpは全
くない。
A system in which the kinetic energy of electrons (electron temperature) and the thermal motion of molecules are separated is called a low-temperature plasma, in which chemical species undergo acidic chemical reactions such as polymerization while remaining relatively intact. In manufacturing the magnetic recording medium of the present invention, this situation is used to polymerize the organic matter incorporated into the magnetic layer by exposing it to a plasma atmosphere. Note that since low-temperature plasma is used, there is no heat Hp applied to the substrate, magnetic layer, etc.

第4図において、反応容器Rには、処理ガス源21また
は22から処理ガスがそれぞれマスフローコントローラ
23および24を経て供給される。 カス源21または
22から別々のガスを供給する場合は、混合器25にお
いて混合して供給する。
In FIG. 4, a processing gas is supplied to the reaction vessel R from a processing gas source 21 or 22 via mass flow controllers 23 and 24, respectively. When separate gases are supplied from the waste sources 21 or 22, they are mixed in the mixer 25 and then supplied.

処理ガスは、各々1〜250mIL/分の流量範囲をと
りつる。
The process gases each have a flow rate range of 1-250 mIL/min.

反応容器R内においては、基体上に有機物をとりこんだ
磁性層を有する例えばフィルム状の被処理体がくり出し
ロール31からくり出され、巻き取りロール30によっ
て巻きとられる。 この間に磁性層中にとりこまれた有
機物の重合が行なわれる。
Inside the reaction vessel R, a film-shaped object, for example, having a magnetic layer incorporating an organic substance on a substrate is let out from a take-out roll 31 and wound up by a take-up roll 30 . During this time, the organic matter incorporated into the magnetic layer is polymerized.

さらに重合処理装置20について詳細に説明すると、被
処理体を間に挟んで対向する電極27.57が設けられ
ており、一方の電極27は周波数可変型の電源26に接
続さね、他方の電極57は28にて接地されている。
Further, to explain the polymerization treatment apparatus 20 in detail, electrodes 27 and 57 are provided which face each other with the object to be treated in between.One electrode 27 is connected to a frequency variable power source 26, and the other electrode 57 is grounded at 28.

さらに、反応容器R内には、容器内を排気するための真
空系統が配備され、そしてこれは液体窒素トラップ11
1、油回転ポンプ112および真空コントローラ113
を含む。 こ れら真空系統は反応容器内を0.01〜
10Torrの真空度の範囲に維持する。
Furthermore, a vacuum system for evacuating the inside of the reaction vessel R is provided, and this is connected to the liquid nitrogen trap 11.
1. Oil rotary pump 112 and vacuum controller 113
including. These vacuum systems operate at a pressure of 0.01~
Maintain a vacuum level of 10 Torr.

操作においては、反応容eR内がまず、10 ’ T 
o r r以下になるまで油回転ポンプにより容器内を
排気し、その後、処理ガスが所定の流量において容器内
に混合状態で供給される。
In the operation, the inside of the reaction volume eR is first heated to 10' T.
The inside of the container is evacuated by an oil rotary pump until the temperature is below o r r, and then the processing gas is supplied in a mixed state into the container at a predetermined flow rate.

このとき、反応容器内の真空は0.01〜10To r
 rの範囲に管理される。
At this time, the vacuum inside the reaction vessel is 0.01 to 10 Torr.
It is managed within the range of r.

被処理体の移行速度ならびに処理ガスの流量が安定する
と、周波数可変型電源がオンにされる。 こうして、移
行中の被処理体がプラズマ処理される。
When the transfer speed of the object to be processed and the flow rate of the processing gas are stabilized, the variable frequency power source is turned on. In this way, the object being transferred is subjected to plasma treatment.

このようなプラズマ処理において、本発明ではプラズマ
ガスとして、前述したようなN2.02 、N2 、A
r、Ne、He等のガスを用いる。
In such plasma processing, in the present invention, N2.02, N2, A as described above is used as the plasma gas.
A gas such as r, Ne, or He is used.

これらのカスは、通常、1種類を単独で用いるが、必要
に応じて2種類以上混合して用いてもよい。
Usually, one type of these dregs is used alone, but two or more types may be mixed and used as necessary.

プラズマ処理条件は、室内圧力0.01〜10To r
 r、周波数10にN2〜2GH2、′、圧力0.5〜
5KW程度とされ、こわらの条件は、磁性層の膜質に影
響するために、製造装置ごとに実験的に求められるもの
である。
The plasma processing conditions are an indoor pressure of 0.01 to 10 Torr.
r, frequency 10, N2~2GH2,', pressure 0.5~
The stiffness condition is estimated to be about 5 KW, and is determined experimentally for each manufacturing device because it affects the film quality of the magnetic layer.

ところで、磁性層中にとりこまれた有機物を重合させる
に際して、このようなプラズマを用いる方法のかわりに
放射線を照射する方法を用いる場合には、第4図に示さ
れる装置にかえて公知の種々の放射線照射装置が用いら
れる。
By the way, when a method of irradiating radiation is used instead of such a method using plasma when polymerizing the organic substance incorporated into the magnetic layer, various known apparatuses may be used instead of the apparatus shown in FIG. A radiation irradiation device is used.

その場合、例えば重合に使用する活性エネルギー線とし
ては、放射線加速器を線源とした電子線、Co60を線
源としたγ−線、5r90を線源としたβ−線、X線発
生器lIi!源としたX線あるいは紫外線等が使用され
る。
In that case, active energy rays used for polymerization include, for example, electron beams using a radiation accelerator as a source, γ-rays using a Co60 source, β-rays using a 5r90 source, and X-ray generators IIi! X-rays or ultraviolet rays are used as a source.

特に照射線源としては吸収線量のル制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加速
器により放射線を使用する方法が有利である。
In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation accelerator from the viewpoints of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, and shielding ionizing radiation.

使用する放射線特性としては、透過力の面から加速電圧
100〜750KV、好ましくは150〜300にVの
放射線加速;5を用い吸収lit量を0.5〜20メガ
ラツドになるように照射するのが好都合である。
As for the radiation characteristics used, from the perspective of penetrating power, it is recommended to use an acceleration voltage of 100 to 750 KV, preferably 150 to 300 V, and irradiate the radiation so that the absorbed LIT amount is 0.5 to 20 megarads. It's convenient.

重合に際しては、米国エナージーサイエンス社にて製造
されている低線量タイプの放射線加速器(エレクトロカ
ーテンシステム)等がテープ加工ラインへの導入、加速
器内部の2次X、1!の遮蔽等に極めて有利である。
During polymerization, a low-dose type radiation accelerator (Electro Curtain System) manufactured by Energy Sciences, Inc. in the United States was introduced into the tape processing line, and the secondary X, 1! This is extremely advantageous for shielding, etc.

勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。
Of course, a van de Graaf type accelerator, which has been widely used as a radiation accelerating material, may also be used.

また放射線架橋に際しては、N2ガス、Heガス等の不
活性ガス気流中で放射線を照射することが重要であり、
空気中て放射線を照射することは、重合に際し放射線照
射により生じた03等の2雷で有機物中に生じたラジカ
ルが打利に重合反応に働くことを阻害するので極めて不
利である。 従フて、活“性エネルギー線を照射する部
分の雰囲気は、特に酸素濃度が最大で5%である、N2
 、He、Co2等の不活性ガス雰囲気に保つことが重
要となる。
In addition, during radiation crosslinking, it is important to irradiate radiation in an inert gas flow such as N2 gas or He gas.
Irradiating radiation in the air is extremely disadvantageous because it inhibits the radicals generated in the organic matter due to 03 etc. generated by radiation irradiation during polymerization from working effectively on the polymerization reaction. Therefore, the atmosphere in the area where the active energy rays are irradiated is particularly N2 with a maximum oxygen concentration of 5%.
It is important to maintain an atmosphere of an inert gas such as , He, or Co2.

このようにして、磁性層中にとりこまれた有機物を重合
させることによフて、得られた媒体のカールおよびカッ
ピングの発生はきわめて少ないものとなる。
By polymerizing the organic substance incorporated into the magnetic layer in this way, the resulting medium is extremely less prone to curling and cupping.

そのため出力が安定し、しかも耐食性、走行耐久性にす
ぐれた効果を発揮する。
This results in stable output and excellent corrosion resistance and running durability.

さらに、本発明に用いる強磁性金属薄膜層は、Coを主
成分とし、これにOを含み、さらに必要に応じNiおよ
び/またはCrが含有される組成を有する。
Further, the ferromagnetic metal thin film layer used in the present invention has a composition mainly composed of Co, containing O, and further containing Ni and/or Cr as necessary.

すなわち、好ましい態様においては、Cof…独からな
ってもよく、CoとNiからなフてもよい。 Niが含
まれる場合、Co / N sの重量比は、1,5以上
であることが好ましい。
That is, in a preferred embodiment, it may be made of Cof... or may be made of Co and Ni. When Ni is included, the weight ratio of Co/Ns is preferably 1.5 or more.

さらに、強磁性金属薄膜層中には、Crが含有されてい
てもよい。
Furthermore, Cr may be contained in the ferromagnetic metal thin film layer.

このような場合、Cr / CoあるいはCr/(Co
+N i )の重量比は0.1以下、特に0.001〜
0.1、より好ましくは、0.005〜0.05である
ことが好ましい。
In such cases, Cr/Co or Cr/(Co
+N i ) weight ratio is 0.1 or less, especially 0.001 to
It is preferably 0.1, more preferably 0.005 to 0.05.

さらに、上記強磁性金属薄膜中には0が含有されること
が好ましい。
Furthermore, it is preferable that the ferromagnetic metal thin film contains zero.

強磁性金属薄膜中の層全体の平均酸素量は、原子比、特
にO/(CoまたはCo+N i )の原子比で、最上
層における平均酸素量CIは0.1〜0.5程度、好ま
しくは0.1〜0.4程度である。
The average amount of oxygen in the entire layer in the ferromagnetic metal thin film is an atomic ratio, particularly the atomic ratio of O/(Co or Co+N i ), and the average oxygen amount CI in the top layer is about 0.1 to 0.5, preferably It is about 0.1 to 0.4.

平均酸素量CI′が、0.1未満では耐食性、走行性、
磁性層のクラック、ケズレ、等の点で不充分であり、0
.5をこえると、表面酸化物層が増大し、ヘッドとのス
ペーシングによる出力の低下等の問題を生じる。
When the average oxygen content CI' is less than 0.1, corrosion resistance, runnability,
Insufficient in terms of cracks, scratches, etc. in the magnetic layer, 0
.. If it exceeds 5, the surface oxide layer increases, causing problems such as a decrease in output due to spacing with the head.

そして、最下層のプラスチックフィルムとの界面近傍の
酸素濃度C2、特に0/(CoまたはCo+N i )
原子比を、最上層のプラスチックフィルムと反対側の表
面近傍での酸素濃度C1特にO/(CoまたはCo十N
 i )原子比で除した値C2/ C1は0.3以下、
より好ましくは0.15以下であることが好ましい。
Then, the oxygen concentration C2 near the interface with the bottom plastic film, especially 0/(Co or Co+N i )
The atomic ratio is determined by the oxygen concentration C1 near the surface opposite to the top layer plastic film, especially O/(Co or Co+N
i) The value C2/C1 divided by the atomic ratio is 0.3 or less,
More preferably, it is 0.15 or less.

この場合、これら酸素濃度は、強磁性金属薄膜をAr等
がイオンミリングないしイオンエツチングしながら、オ
ージェ分光分析、SIMS(2次イオン質量分析)等を
行い、測定することができる。
In this case, these oxygen concentrations can be measured by performing Auger spectroscopy, SIMS (secondary ion mass spectrometry), etc. while ion milling or ion etching the ferromagnetic metal thin film with Ar or the like.

すなわち、イオンエツチングを行ないながら0、Co、
Ni等をカウントし、その膜厚方向のプロファイルを比
較する。
That is, while performing ion etching, 0, Co,
Ni, etc. are counted and their profiles in the film thickness direction are compared.

そして、プラスチックフィルムと反対側の強磁性金属薄
膜表面の0/(CoまたはCo+Ni)をCIとする。
Then, 0/(Co or Co+Ni) on the surface of the ferromagnetic metal thin film on the opposite side to the plastic film is defined as CI.

 また、最下層については、プラスチックフィルムまで
エツチングが行なわれ、Cがカウントされる直前のO/
(C。
In addition, for the bottom layer, etching is performed down to the plastic film, and the O/
(C.

またはCo+N i )をC2とする。or Co+N i) as C2.

イオンエツチングおよびオージェ分光分析ないしSIM
Sの測定法は、常法に従えばよい。
Ion etching and Auger spectroscopy or SIM
S may be measured by a conventional method.

このように最上層表面の酸素濃度を相対的に高くするこ
とにより、保磁力Hcが高くなり、また最下層の酸素濃
度を相対的に低くすることにより、最大残留磁束φ、お
よび角形比S0がt’% <なり、電磁変換特性がきわ
めて良好な磁性層となる。
In this way, by relatively increasing the oxygen concentration on the surface of the top layer, the coercive force Hc increases, and by decreasing the oxygen concentration in the bottom layer, the maximum residual magnetic flux φ and the squareness ratio S0 increase. t'%<, resulting in a magnetic layer with extremely good electromagnetic conversion characteristics.

また、さらに、F記の強磁性金属薄膜層では、最上層と
隣接する層の最上層との界面近傍の酸素濃度C3、特に
O/(CoまたはCo+Ni)原子比を最上層のプラス
チックフィルムと反対側の表面近傍での酸素濃度CI、
特に0/(CoまたはCo+N i )原子比で除した
値C3/ Crはo、1〜3.0、より好ましくは0.
2〜2.0であることが好ましい。
Furthermore, in the ferromagnetic metal thin film layer described in F, the oxygen concentration C3 near the interface between the uppermost layer and the uppermost layer of the adjacent layer, especially the O/(Co or Co+Ni) atomic ratio, is opposite to that of the uppermost plastic film. Oxygen concentration CI near the side surface,
In particular, the value C3/Cr divided by the atomic ratio of 0/(Co or Co+N i ) is o, 1 to 3.0, more preferably 0.
It is preferable that it is 2-2.0.

この場合、プラスチックフィルムと反対側の強磁性金属
薄膜表面のO/(CoまたはCo+Ni)原子比CIは
前述と同様に測定することができる。 また、最上層に
隣接する層の最上層との界面近傍での酸素濃度C8につ
いては、最上層の膜厚に対応するエツチング時のカウン
トからO/(CoまたはCo+Ni)を算出し、これを
C3とすればよい。 ただ、各層においては、通常の成
膜条件下ではそのフィルム基体反対面で酸素濃度が最大
となる。 このため、通常は、イオンエツチングを行な
いながら0をカウントしたとき、膜内での極大値をC3
とすればよい。
In this case, the O/(Co or Co+Ni) atomic ratio CI on the surface of the ferromagnetic metal thin film on the side opposite to the plastic film can be measured in the same manner as described above. Regarding the oxygen concentration C8 near the interface with the top layer of the layer adjacent to the top layer, O/(Co or Co+Ni) is calculated from the count during etching corresponding to the film thickness of the top layer, and this is calculated as C3. And it is sufficient. However, in each layer, under normal film forming conditions, the oxygen concentration is highest on the opposite side of the film substrate. For this reason, when counting 0 while performing ion etching, the maximum value within the film is usually set to C3.
And it is sufficient.

このように最上層表面の酸素濃度C8を相対的に高くす
ることにより、保磁力Hcが高くなり、また最上層の表
面より下の、最上層に隣接する層との近傍までの部分の
酸素濃度を上記C1より相対的に低くすることにより、
最大残留磁束φrおよび角形比S0が高くなり、電磁変
換特性がきわめて良好な磁性層となる。 したがって、
中心周波数5MHz程度の比較的磁界の浅い信号は、最
上層で有効に保持されるものとなる。
By relatively increasing the oxygen concentration C8 on the surface of the top layer in this way, the coercive force Hc becomes high, and the oxygen concentration in the area below the surface of the top layer to the vicinity of the layer adjacent to the top layer increases. By making C1 relatively lower than the above C1,
The maximum residual magnetic flux φr and the squareness ratio S0 are increased, resulting in a magnetic layer with extremely good electromagnetic conversion characteristics. therefore,
A signal with a relatively shallow magnetic field having a center frequency of about 5 MHz is effectively held in the uppermost layer.

また、最上層に隣接する層の最上層との界面近傍での酸
素濃度C3を、上記C,との関係が前述のようにC3/
C1がo、i〜3.0となる範囲において相対的に高く
することにより、この部分での保磁力Hcが高くなり、
また、最上層に隣接する層の最上層との界面近傍から下
の部分の酸素濃度を上記C3より相対的に低くすること
により、最大残留磁束φ「および角形比SQが高くなり
、電磁変換特性がきわめて良好な磁性層となる。 した
がって、中心周波数0.75MHz程度の比較的磁界の
深い信号は、最上層に隣接する層以下で有効に保持され
るものとなる。
In addition, the relationship between the oxygen concentration C3 near the interface with the top layer of the layer adjacent to the top layer and the above C is as described above.
By making C1 relatively high in the range of o, i to 3.0, the coercive force Hc in this part increases,
In addition, by making the oxygen concentration of the layer adjacent to the top layer below the interface with the top layer relatively lower than that of C3 above, the maximum residual magnetic flux φ and the squareness ratio SQ are increased, and the electromagnetic conversion characteristics This results in an extremely good magnetic layer. Therefore, a signal with a relatively deep magnetic field with a center frequency of about 0.75 MHz is effectively retained in the layers adjacent to the top layer and below.

そして、上記CIとC3との関係として前述のようにC
3/ C+が0.1〜3.0となるときに、磁性層の電
磁変換特性、耐食性等が最もバランスの良い優れた磁性
層となる。
As for the relationship between CI and C3, as mentioned above, C
When 3/C+ is 0.1 to 3.0, the magnetic layer has an excellent magnetic layer with the best balance in electromagnetic conversion characteristics, corrosion resistance, etc.

なお、表面近傍の0/(CoまたはCo+Ni)原子比
C2は、一般に0.2〜0.7、好ましくは0.3〜0
.6である。
The atomic ratio C2 of 0/(Co or Co+Ni) near the surface is generally 0.2 to 0.7, preferably 0.3 to 0.
.. It is 6.

したがって1、フィルム界面近傍の0/(CoまたはC
o+N i )原子比C2は0.06〜0.21.好ま
しくは0.09〜0.18である。
Therefore, 1, 0/(Co or C near the film interface)
o+N i ) Atomic ratio C2 is 0.06 to 0.21. Preferably it is 0.09 to 0.18.

また、最上層に隣接する層の最上層近傍の0/(Coま
たはCo+N i )原子比C3は0.07〜0.6、
好ましくは0.1〜0.5である。
Further, the 0/(Co or Co+N i ) atomic ratio C3 in the vicinity of the top layer of the layer adjacent to the top layer is 0.07 to 0.6,
Preferably it is 0.1 to 0.5.

さらに、最上層の層全体でのO/(CoまたはCo+N
 i )平均原子比C,11は0.1〜0.5、より好
ましくは0.1〜0,4であることが好ましい。 また
、最下層の層全体での0/(CoまたはCo+Ni)平
均原子比C211は、0.5以下、より好ましくは0.
3以−Fであることが好ましい。 また、最上層に隣接
する層全体での0/(CoまたはCo+N i )は0
.5以下、より好ましくは0.3以Fであることが好ま
しい。
Furthermore, O/(Co or Co+N
i) The average atomic ratio C,11 is preferably 0.1 to 0.5, more preferably 0.1 to 0.4. Further, the average atomic ratio C211 of 0/(Co or Co+Ni) in the entire bottom layer is 0.5 or less, more preferably 0.
It is preferably 3 or more -F. Also, 0/(Co or Co+N i ) for the entire layer adjacent to the top layer is 0
.. It is preferably 5 or less, more preferably 0.3 or more.

このとき、電磁変換特性、耐食性、走行耐久性、磁性膜
強度等はきわめて良好となる。
At this time, electromagnetic conversion characteristics, corrosion resistance, running durability, magnetic film strength, etc. become extremely good.

この場合、3層以上の多層構造の場合、それらの各層の
層全体でのO/(CoまたはCo+Ni)は、一般に、
0.5以下、好ましくは0.3以下とする。
In this case, in the case of a multilayer structure with three or more layers, O/(Co or Co+Ni) in each layer as a whole is generally
It is 0.5 or less, preferably 0.3 or less.

強磁性金属薄膜の膜厚方向の酸素濃度プロファイルにつ
いては、通常、少なくとも最−に層と最下層に隣接する
層との界面に酸素分4rのピークが存在するものである
Regarding the oxygen concentration profile in the thickness direction of a ferromagnetic metal thin film, there is usually a peak of oxygen content 4r at least at the interface between the uppermost layer and the layer adjacent to the lowermost layer.

なお、通常、強磁性金属薄11Qは2層とすわばよいが
、必要に応じ3層以上、特に3〜5層とすることもでき
る。
Note that the ferromagnetic metal thin layer 11Q usually has only two layers, but it can also have three or more layers, especially 3 to 5 layers, if necessary.

なお、このような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素、例えばFe、Mn、V、Zr、
Nb、Ta、Ti。
In addition, such a ferromagnetic metal thin film may further contain other trace components, especially transition elements such as Fe, Mn, V, Zr,
Nb, Ta, Ti.

Zn、Mo、W、Cu等が含まれていてもよい。Zn, Mo, W, Cu, etc. may be included.

このような強磁性金属薄膜層は、好ましい態様において
5上記したCoを主成分とする柱状結晶粒の集合体から
なる。
In a preferred embodiment, such a ferromagnetic metal thin film layer is composed of an aggregate of columnar crystal grains mainly composed of Co as described above.

この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、総計で0.05
〜0.5μm1好ましくは、0.07〜0.3μmとさ
れる。
In this case, the total thickness of the ferromagnetic metal thin film layer is 0.05
~0.5 μm, preferably 0.07 to 0.3 μm.

そして、このような強磁性金属薄11Q層の各層の厚さ
の比は特に制限はないが、例えば2層構成の場合、上層
と下層の厚さの比は好ましくは0.1〜10程度、より
好ましくは0.2〜0.9、さらに好ましくは0.4〜
0.9が好ましい。
There is no particular restriction on the ratio of the thickness of each layer of such a thin ferromagnetic metal 11Q layer, but for example, in the case of a two-layer structure, the ratio of the thickness of the upper layer and the lower layer is preferably about 0.1 to 10, More preferably 0.2 to 0.9, still more preferably 0.4 to
0.9 is preferred.

そして、柱状の結晶粒は、各層の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対する最小角度が、最上層では20〜90°、より好ま
しくは20〜50°の範囲、最下層では50°以下、よ
り好ましくは0〜40“の範囲にて傾斜していることが
好ましい。
The columnar crystal grains have a length spanning almost the entire thickness direction of each layer, and the minimum angle in the longitudinal direction with respect to the normal to the principal surface of the substrate is preferably 20 to 90 degrees in the uppermost layer. is preferably in the range of 20 to 50 degrees, and preferably 50 degrees or less in the bottom layer, more preferably in the range of 0 to 40''.

この場合、3層以上の構成における中間に位置する各層
では、柱状結晶粒の基体主面法線に対する傾斜角度は、
通常、最上層と最下層における傾斜角度域内にあればよ
く、特に制限はない。
In this case, in each intermediate layer in a structure of three or more layers, the inclination angle of the columnar crystal grains with respect to the normal to the main surface of the substrate is
Usually, it is sufficient that the angle is within the range of inclination angle between the top layer and the bottom layer, and there is no particular restriction.

そして、この場合、相隣接する各磁性層の結晶粒の基体
主面法線に対する傾斜の向きは、媒体の長さ方向で同方
向であってよいが、好ましくは相対向する向きであるこ
とが好ましい。
In this case, the directions of inclination of the crystal grains of each adjacent magnetic layer with respect to the normal to the main surface of the substrate may be the same direction in the length direction of the medium, but preferably they are in opposite directions. preferable.

このような、結晶粒の傾斜の向きを2層構成を例として
模式的に例示すると第1図および第2図のようになる。
The direction of the inclination of the crystal grains is schematically illustrated using a two-layer structure as shown in FIGS. 1 and 2.

第1図および第2図において、磁気記録媒体1は、基体
2上に強磁性金属薄膜下層部3および強磁性金属薄膜上
層部4とを有する。 そして、強磁性金属薄膜下層部3
内の下層結晶粒5の傾斜の向き、強磁性金属薄膜上層部
4内の上層結晶粒6の傾斜の向きは、第1図では媒体の
長さ方向aで相対向する向きであり、第2図では媒体の
長さ方向aで同方向である。
In FIGS. 1 and 2, a magnetic recording medium 1 has a ferromagnetic metal thin film lower layer 3 and a ferromagnetic metal thin film upper layer 4 on a base 2. As shown in FIGS. Then, the ferromagnetic metal thin film lower layer part 3
The direction of inclination of the lower layer crystal grains 5 in the ferromagnetic metal thin film upper layer section 4 and the direction of inclination of the upper layer crystal grains 6 in the ferromagnetic metal thin film upper layer section 4 are opposite directions in the longitudinal direction a of the medium in FIG. In the figure, the length direction a of the medium is the same direction.

また、強磁性金属薄膜上層部4の基体2と反対側表面に
トップコート層7を有し、基体2の磁性層が設層されて
いない面上には、バックコート層8を有してもよい。
Further, a top coat layer 7 may be provided on the surface of the ferromagnetic metal thin film upper layer portion 4 opposite to the substrate 2, and a back coat layer 8 may be provided on the surface of the substrate 2 on which the magnetic layer is not provided. good.

本発明では、第1図あるいは第2図のいずれの結晶粒傾
斜を有するものであってよいが、好ましくは、第1図に
示される結晶粒傾斜を有するものが好ましい。
In the present invention, the crystal grains may have either the crystal grain inclination shown in FIG. 1 or FIG. 2, but those having the crystal grain inclination shown in FIG. 1 are preferable.

なお、酸素は、表面部の柱状の結晶粒の表面に化合物の
形で存在するものである。
Note that oxygen exists in the form of a compound on the surface of the columnar crystal grains in the surface portion.

また、結晶粒の短径は、50〜500人程度の長さをも
つことが好ましい。
Moreover, it is preferable that the short axis of the crystal grain has a length of about 50 to 500 grains.

このように、強磁性金属薄膜層が多層構成をなすことに
より、柱状結晶粒の長さが小さいものとなるため強磁性
金属薄膜層の膜強度が向上する。
In this way, by forming the ferromagnetic metal thin film layer into a multilayer structure, the length of the columnar crystal grains becomes small, so that the film strength of the ferromagnetic metal thin film layer is improved.

また、最上層の柱状結晶粒が基体主面法線に対し20〜
90°の傾きを有し、特に50°以上の傾きを有するも
のとすると、例えば、比較的浅い磁界を有する中心周波
数5MHz程度の信号は最上層にて有効に保持され得る
ものとなる。
In addition, the columnar crystal grains in the top layer are
If the magnetic field has an inclination of 90 degrees, and particularly an inclination of 50 degrees or more, for example, a signal having a center frequency of about 5 MHz and having a relatively shallow magnetic field can be effectively retained in the uppermost layer.

また、最下層の柱状結晶粒が基体主面法線に対し50°
以下の傾きを有し、基体に対し立っている状態を呈する
と、例えば比較的深い磁界を有する中心周波数0.75
MHz程度の信号は最下層等の下層域にて有効に保持さ
れ得るものとなる。
In addition, the columnar crystal grains in the bottom layer are at an angle of 50° to the normal to the main surface of the substrate.
If it has the following inclination and stands up against the base, for example, the center frequency is 0.75 with a relatively deep magnetic field.
Signals on the order of MHz can be effectively held in a lower layer region such as the lowest layer.

また、さらに、前述のように最上層の酸素濃度を高くす
ることにより、耐摩耗性に優れたCo、Ni等の酸化物
が最上層に形成されるため、多層構造および炭素含有と
の相乗効果によリ、強磁性金属薄膜層の膜強度がより高
いものとなる。
Furthermore, as mentioned above, by increasing the oxygen concentration in the top layer, oxides such as Co and Ni, which have excellent wear resistance, are formed in the top layer, which has a synergistic effect with the multilayer structure and carbon content. Accordingly, the film strength of the ferromagnetic metal thin film layer becomes higher.

本発明の磁気記録媒体に用いられる基体の材質としては
、非磁性プラスチックであれば特に制限はないが、通常
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン2.6
−ナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリサルフオン、
全芳香族ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリエーテルサルフオン、ポリエーテルイミド等を用い
る。
The material of the substrate used in the magnetic recording medium of the present invention is not particularly limited as long as it is a non-magnetic plastic, but usually polyethylene terephthalate, polyethylene 2.6
- Polyester such as naphthalate, polyamide, polyimide, polyphenylene sulfide, polysulfone,
Fully aromatic polyester, polyetheretherketone,
Polyether sulfone, polyetherimide, etc. are used.

基体の厚さは特に制限はなく、5〜20−程度であって
よい、特に8μm以下、特に5〜7μm程度のものが好
ましい。
The thickness of the substrate is not particularly limited and may be about 5 to 20 μm, preferably about 8 μm or less, particularly about 5 to 7 μm.

8μm以下のものでは、媒体の小型化、長時間記録等の
目的が達成されるからである。 ただし、この厚さがあ
まり薄くなりすぎると、磁性層を上述のように多層構造
として膜強度を向上させた効果が相殺され、走行性、出
力低下、ヘッド摩耗等の問題が生じる。
This is because with a diameter of 8 μm or less, the objectives such as miniaturization of the medium and long-time recording can be achieved. However, if this thickness becomes too thin, the effect of increasing the film strength by making the magnetic layer have a multilayer structure as described above is canceled out, and problems such as running performance, decreased output, and head wear occur.

そして、本発明の強磁性金属薄膜層の多層構造化による
電磁変換特性向上の効果は、基体の厚さを薄いものにし
た場合に、より顕著に現われるものである。
Further, the effect of improving electromagnetic conversion characteristics by forming a multilayer structure of ferromagnetic metal thin film layers according to the present invention becomes more noticeable when the thickness of the substrate is made thinner.

例えば、2層構造を例にとれば、基体の厚さ10μmに
おいて、強磁性金属薄yA層を従来の単層構造から本発
明の2層構造にすることによる電磁変換特性の向上中は
、0.75MHzの低周波領域の信号で+6(dB)程
度、5MHzの高周波領域の信号で+6(dB)程度で
あるが、基体の厚さを7μmとした場合の向上中は、0
.75MHzの低周波領域の信号で+6 (dB)程度
で基体J510μmの場合と同等であるが、5MHzの
高周波領域の信号では+7.5 (dB)程度まで増大
する。
For example, taking a two-layer structure as an example, when the thickness of the substrate is 10 μm, the electromagnetic conversion characteristics are improved by changing the ferromagnetic metal thin YA layer from the conventional single-layer structure to the two-layer structure of the present invention. The signal in the low frequency range of .75 MHz is about +6 (dB), and the signal in the high frequency range of 5 MHz is about +6 (dB), but when the thickness of the base is 7 μm, the improvement is 0.
.. For a signal in a low frequency region of 75 MHz, it is about +6 (dB), which is equivalent to the case of a base J of 510 μm, but for a signal in a high frequency region of 5 MHz, it increases to about +7.5 (dB).

このように、10μm厚の基体に比べ、7μm厚の基体
における電磁変換特性の向上が著しいのは、基体厚みを
10μmから7μmにすることにより、基体剛度不足に
よるヘッドタッチが急激に悪化し、5MHz等の高周波
領域において、この影響がより大きく、このような場合
に本発明の効果が発現されるものである。
In this way, the reason why the electromagnetic conversion characteristics of a 7 μm thick base are significantly improved compared to that of a 10 μm thick base is that by increasing the base thickness from 10 μm to 7 μm, the head touch due to insufficient base rigidity deteriorates rapidly, and the 5 MHz This effect is more significant in high frequency ranges such as, and it is in such cases that the effects of the present invention are manifested.

本発明において、磁性層はいわゆる斜め蒸着法によフて
形成することが好ましい。
In the present invention, the magnetic layer is preferably formed by a so-called oblique vapor deposition method.

この場合、基体法線に対する蒸着物質の最小入射角は、
最下層設層時においては50°以下、最上層設層時にお
いては20〜90°、また、3層以上の構造の場合にお
ける中間に位置する層の設層時においては20〜50°
とすることが好ましい。
In this case, the minimum angle of incidence of the deposited material with respect to the substrate normal is:
50° or less when the bottom layer is installed, 20 to 90° when the top layer is installed, and 20 to 50° when the middle layer is installed in a structure with three or more layers.
It is preferable that

最小入射角がそれぞれ前記の入射角からはずれたものと
なると、電磁変換特性が低下する。
When the minimum incident angle deviates from the above-mentioned incident angles, the electromagnetic conversion characteristics deteriorate.

また、磁性層は一工程で2層以上を、連続して設層して
もよいが、通常は、各層毎に蒸着工程に流して設層する
ことが好ましい。
Further, although two or more magnetic layers may be successively formed in one step, it is usually preferable to perform each layer in a vapor deposition step.

このように、磁性層の設層を各層毎に分けることにより
、前述のように基体法線に対する磁性柱状結晶粒の傾斜
の向きが相隣接する各層間で、媒体の長さ方向で相対向
する向きとなる。
In this way, by dividing the magnetic layer into each layer, the direction of inclination of the magnetic columnar crystal grains with respect to the normal to the substrate can be made to face each other in the length direction of the medium between adjacent layers, as described above. direction.

このような磁性層構成とすることにより、電磁変換特性
は極めて良好となる。
With such a magnetic layer configuration, the electromagnetic conversion characteristics are extremely good.

なお、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、10
−5〜10’Pa程度の圧力とし、また、蒸着距離、基
体搬送方向、キャンやマスクの構造、配置等は公知の条
件と同様にすればよい。
The vapor deposition atmosphere is usually an inert atmosphere such as argon, helium, or vacuum, and an atmosphere containing oxygen gas.
The pressure may be approximately -5 to 10'Pa, and the deposition distance, substrate conveyance direction, structure and arrangement of cans and masks, etc. may be the same as known conditions.

そして、酸素霊囲気での蒸着により、表面に金属酸化物
の被膜が形成される。 なお、金属酸化物が形成される
酸素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。
Then, a metal oxide film is formed on the surface by vapor deposition in an oxygen atmosphere. Note that the oxygen gas partial pressure at which metal oxides are formed can be easily determined through experiments.

なお、表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種酸
化処理が可能である。
Note that various oxidation treatments can be performed to form a metal oxide film on the surface.

適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。Applicable oxidation treatments include the following.

1)乾式処理 a、エネルギー粒子処理 特願昭58−76640号に記載したように、蒸着の後
期に、イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒
子として磁性層にさしむけるもの。
1) Dry process a, energetic particle process As described in Japanese Patent Application No. 76,640/1982, oxygen is applied to the magnetic layer as energetic particles using an ion gun or a neutral gun in the latter stage of vapor deposition.

b、グロー処理 Q2.N20,02+H20等とAr。b. Glow treatment Q2. N20,02+H20 etc. and Ar.

N2等の不活性ガスとを用し1、これをグロー放電して
プラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性膜表面をさ
らすもの。
This method uses an inert gas such as N2, generates plasma by glow discharge, and exposes the surface of the magnetic film to this plasma.

C1酸化性ガス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹き付けるもの。C1 oxidizing gas Items that spray oxidizing gas such as ozone or heated steam.

d、加熱処理 加熱によって酸化を行なうもの。 加熱温度は60〜1
50℃程度。
d. Heat treatment: Oxidation is performed by heating. Heating temperature is 60-1
About 50℃.

2)湿式処理 a、陽極酸化 す、アルカリ処理、 C1酸処理 クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酸塩処理等
を用いる。
2) Wet treatment a, anodization, alkali treatment, C1 acid treatment, chromate treatment, permanganate treatment, phosphate treatment, etc. are used.

d、酸化剤処理 N20□等を用いる。d. Oxidizing agent treatment Use N20□ or the like.

このようなプラスチックフィルムの磁性層が設けられて
いない他方の面上には、裏地層を介して、あるいは直接
バックコート層が設層されることが好ましい。
It is preferable that a back coat layer be provided directly or via a backing layer on the other surface of the plastic film on which the magnetic layer is not provided.

裏地層はAfL%Cu%W、Mo、Cr、Ti等の単一
金属薄膜またはこれらの金属の合金、さらにはこれらの
酸化物等の薄膜であることが好ましい。
The backing layer is preferably a thin film of a single metal such as AfL%Cu%W, Mo, Cr, Ti, an alloy of these metals, or an oxide of these metals.

このような必要に応じ形成される裏地層の膜厚は0.0
5〜1.5μmとされる。
The film thickness of the lining layer formed as necessary is 0.0
It is set to 5 to 1.5 μm.

さらにこのような必要に応じ設けられる裏地層の上には
、バックコート層が設層される。
Further, a back coat layer is provided on the lining layer, which is provided as necessary.

バックコート層には顔料および放射線硬化型化合物のバ
インダーが含有される。
The backcoat layer contains a pigment and a binder of a radiation-curable compound.

顔料としては、 1)導電性のあるカーボンブラック、グラファイト、ま
た、 2)無機充填剤として5i02.TiO2、AIl、2
03 、Cr203 、S iC,CaO1CaCo3
,酸化亜鉛、ゲーサイト、 αFe2O3、タルク、カオリン、 CaSO4,窒化ホウ素、フッ化黒鉛、二値酸モリブデ
ン、ZnS等があり、中でも CaCo3、カオリン、ZnO、ゲーサイト、ZnSや
カーボンが使用される。
Pigments include 1) electrically conductive carbon black and graphite, and 2) 5i02. as an inorganic filler. TiO2, AIl, 2
03, Cr203, SiC, CaO1CaCo3
, zinc oxide, goethite, αFe2O3, talc, kaolin, CaSO4, boron nitride, graphite fluoride, binary acid molybdenum, ZnS, etc. Among them, CaCo3, kaolin, ZnO, goethite, ZnS and carbon are used.

このような無機顔料の使用量は、 1)に関してはバインダー100重量部に対して20〜
200重量部、また 2)に関しては10〜300重量部が適当であり、無機
顔料があまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえって
ドロップアウトが多くなるという欠点がある。
Regarding 1), the amount of such inorganic pigment used is 20 to 100 parts by weight of the binder.
200 parts by weight, and for 2) 10 to 300 parts by weight are suitable; if the amount of inorganic pigment is too large, the coating film will become brittle and dropouts will increase.

なお顔料の平均粒径は、0.01〜 0.3μm程度より好ましくは0.02〜0.1μmと
される。
The average particle size of the pigment is about 0.01 to 0.3 μm, more preferably 0.02 to 0.1 μm.

バックコート層で用いられる放射線硬化系樹脂のバイン
ダーは、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体(カルボン酸導入のものも含む)、またはアクリ
ル変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重
合体(カルボン酸導入のものも含む)およびウレタンア
クリレート等からなるものが好ましい。
The binder of the radiation-curable resin used in the back coat layer is vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer (including those with carboxylic acid introduced) or acrylic modified vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer ( (including those into which carboxylic acid has been introduced) and urethane acrylates are preferred.

放射線硬化系樹脂については、前記の好ましい組み合わ
せのほかに、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を
示すアクリル酸、メタクリル酸あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合、 ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、 マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の、放
射線照射による架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂
の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることがで
きる。
In addition to the above-mentioned preferred combinations, radiation-curable resins include acrylic double bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, or their ester compounds, which exhibit radically polymerizable unsaturated double bonds, and diallylphthalate. It is possible to use resins containing or introducing into the molecule of a thermoplastic resin a group that can be crosslinked or polymerized by radiation irradiation, such as an allyl double bond or an unsaturated bond such as maleic acid or a maleic acid derivative.

その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等があ
る。
Other usable binder components include monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, and acrylamide.

二重結合のあるバインダーとしては、種々のポリエステ
ル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を
有する化合物で変性することもできる。 さらに必要に
応じて、多価アルコールと多価カルボン酸を配合するこ
とによりて、種々の分子量のものもできる。
As binders having double bonds, various polyesters, polyols, polyurethanes, etc. can be modified with compounds having acrylic double bonds. Furthermore, by blending a polyhydric alcohol and a polyhydric carboxylic acid as necessary, products of various molecular weights can be produced.

放射線感応樹脂として上記のものはその一部であり、こ
れらは混合して用いることもできる。
The above-mentioned radiation-sensitive resins are some of them, and these can also be used in combination.

さらに好ましいのは、 (A)放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を2個
以上有する、分子量5000〜t oooooのプラス
チック状化合物、(B)放射線により硬化性をもつ不飽
和二重結合を1個以上有するか、または放射線硬化性を
有しない、分子量3000〜1oooooのゴム状化合
物、および (C)放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を1個
以上有する、分子量200〜3000の化合物を、 (A)20〜70重量%、 (B)20〜80重量%、 (C)10〜40重量%の割合で用いた組み合わせであ
る。
More preferred are: (A) a plastic-like compound with a molecular weight of 5,000 to 0000, which has two or more unsaturated double bonds that are curable by radiation, and (B) a plastic-like compound that has two or more unsaturated double bonds that are curable by radiation. A rubbery compound with a molecular weight of 3,000 to 1 ooooo that has one or more or does not have radiation curability, and (C) a compound with a molecular weight of 200 to 3,000 that has one or more unsaturated double bonds that are curable by radiation. This is a combination in which (A) 20 to 70% by weight, (B) 20 to 80% by weight, and (C) 10 to 40% by weight are used.

これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化がなさ
れ、バックコート削れが少なく、バックコート層から磁
性層への無機充填剤粉末の移転がないためドロップアウ
トの少ない、かつロール状に巻き取りだ形での硬化の際
の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性を有する磁
気記録媒体が得られる。
As a result, the breaking strength of the coating film is increased, the coating film is strengthened, there is less backcoat abrasion, there is no transfer of inorganic filler powder from the backcoat layer to the magnetic layer, so there is less dropout, and it can be rolled. A magnetic recording medium is obtained which has uniform characteristics in the length direction and is free from curling during curing in a rolled-up form.

本発明の磁気記録媒体の製造において、有機バインダー
が熱硬化型では、製造過程において、バックコート層の
潤滑剤が磁性薄膜に裏型転写し、前述のような不安定な
走行による出力ダウンが発生し、画像が出なくなるとか
、あるいは、摩擦レベルが未だ大きく不十分であり、裏
型転写により強磁性薄膜が取れたり、あるいは破壊され
るという現象が生じ、好ましくない。
In manufacturing the magnetic recording medium of the present invention, if the organic binder is a thermosetting type, the lubricant in the back coat layer is transferred to the magnetic thin film during the manufacturing process, resulting in an output drop due to unstable running as described above. However, this is undesirable because the image no longer appears, or the friction level is still largely insufficient, and the ferromagnetic thin film is removed or destroyed by back-type transfer.

そのため、例えば、磁性層上に設層されるトップコート
を最初に行うことが考えられるが、操作上、傷つきやす
く不都合なことが多い。
Therefore, for example, it is conceivable to apply a top coat on the magnetic layer first, but this is often inconvenient because it is easily damaged during operation.

さらに、熱硬化型の場合、硬化時の巻きしまりによるバ
ックコート面の裏型転移のため、熱硬化中のジャンボロ
ールの内側、外側での電磁変換特性の差が問題となる。
Furthermore, in the case of a thermosetting type, the difference in electromagnetic conversion characteristics between the inside and outside of the jumbo roll during thermosetting becomes a problem because of the back-type transition of the backcoat surface due to curling during curing.

これに対して、放射線硬化型樹脂の場合、製造上、連続
硬化が可能であり、硬化時間も短く、上記の裏型転写が
ないので、ドロップアウトが防止でき、その上放射線硬
化およびトップコート処理がオンライン上で処理できる
ので、省エネルギ一対策、製造時の人員の減少にも役立
ち、コストの低減にもつながる。
On the other hand, in the case of radiation-curable resins, continuous curing is possible due to manufacturing reasons, the curing time is short, there is no back mold transfer as mentioned above, so dropouts can be prevented, and furthermore, radiation curing and top coat treatment can be processed online, which helps to save energy and reduce the number of people involved in manufacturing, leading to cost reductions.

特性面では熱硬化時の巻きしまりによるドロップアウト
の外に、ロール状に巻かれたときの内外径の個所の圧力
のちがいにより、磁気テープの長さ方向の距離による出
力差が生じることもなくなる。
In terms of characteristics, in addition to dropouts caused by the tightness of the magnetic tape during thermosetting, there is no difference in output due to the lengthwise distance of the magnetic tape due to differences in pressure at the inner and outer diameters when it is wound into a roll. .

上記(A)、(B)、(C)の化合物における不飽和二
重結合は、1分子当り(A)は2以上、好ましくは5以
上、(B)は1以上、好ましくは5以上、(C)は1以
上、好ましくは3以上である。
The unsaturated double bonds in the compounds (A), (B), and (C) are 2 or more, preferably 5 or more for (A), 1 or more for (B), preferably 5 or more for each molecule, ( C) is 1 or more, preferably 3 or more.

本発明で用いる(A)のプラスチック状化合物は、放射
線によりラジカルを発生し、架橋構造を生じるような、
不飽和二重結合を分子鎖中に2個以上含むものなのであ
り、これはまた熱可塑性樹脂を放射線感応変性すること
によフても得ることができる。
The plastic-like compound (A) used in the present invention is one that generates radicals by radiation and produces a crosslinked structure.
It contains two or more unsaturated double bonds in its molecular chain, which can also be obtained by radiation-sensitizing a thermoplastic resin.

放射線硬化性樹脂の具体例としては ラジカル重合性を
有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアクリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を、熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂であり、
その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物で、分子量が5000〜100000のも
の、好ましくは10000〜80000のものであれば
用いることができる。
Specific examples of radiation-curable resins include acrylic double bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, or their ester compounds, which exhibit radically polymerizable unsaturated double bonds, and allylic double bonds such as diacrylphthalate. A resin that contains or introduces into the molecule of a thermoplastic resin a group that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as a double bond, an unsaturated bond such as maleic acid, or a maleic acid derivative,
Other compounds having unsaturated double bonds that undergo cross-linking polymerization upon radiation irradiation and have a molecular weight of 5,000 to 100,000, preferably 10,000 to 80,000 can be used.

放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては、次のような不
飽和ポリエステル樹脂がある。
The following unsaturated polyester resins are examples of thermoplastic resins containing groups in their molecules that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation.

分子Sn中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポ
リエステル化合物、例えば下記(2)の多塩基酸と多価
アルコールのエステル結合からなる飽和ポリエステル樹
脂で、多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性
不飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙
げることができる。
A polyester compound containing a radiation-curable unsaturated double bond in the molecule Sn, for example, a saturated polyester resin consisting of an ester bond of a polybasic acid and a polyhydric alcohol as shown in (2) below, in which part of the polybasic acid is maleic acid. Examples include unsaturated polyester resins containing radiation-curable unsaturated double bonds.

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は、多塩基酸成分
1種以上と、多価アルコール成分1種以上に、マレイン
酸、フマル酸等を加え、常法すなわち触媒の存在下で、
180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アル
コール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5
〜1 oonll、、の減圧下、縮合反応により得るこ
とができる。
The radiation-curable unsaturated polyester resin is prepared by adding maleic acid, fumaric acid, etc. to one or more polybasic acid components and one or more polyhydric alcohol components, in a conventional manner, that is, in the presence of a catalyst.
After dehydration or dealcoholization reaction at 180-200°C under nitrogen atmosphere, the temperature is raised to 240-280°C, and 0.5
It can be obtained by a condensation reaction under reduced pressure of ~1 oonll.

マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放
射線硬化性等から酸成分中1〜40モル%、好ましくは
10〜30モル%である。
The content of maleic acid, fumaric acid, etc. in the acid component is 1 to 40 mol%, preferably 10 to 30 mol%, in view of crosslinking and radiation curability during production.

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。
Examples of thermoplastic resins that can be modified into radiation-curable resins include the following.

(1)塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末端OH側鎖
アルキル基共重合体、たとえばUCC社製VROH,V
YNC,VYBGX、VERR。
(1) Vinyl chloride copolymer Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinyl alcohol-vinyl propionate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-malein Acid copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-terminal OH side chain alkyl group copolymer, such as VROH, V manufactured by UCC Co.
YNC, VYBGX, VERR.

VYES、VMCA、VAGH等が挙げられ、このもの
に後述の手法により、アクリル系二重結合、マレイン酸
系二重結合、アリル系二重結合を導入して、放射線感応
変性を行う。
Examples include VYES, VMCA, VAGH, etc., and acrylic double bonds, maleic acid double bonds, and allylic double bonds are introduced into these by the method described later to perform radiation sensitivity modification.

(2)飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、のような飽和多塩基酸と、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、1.2プロピレングリコール
、1.3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1
.4ブタンジオール、1.6ヘキサンジオール、ペンタ
エリスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチ
ルグリコール、1,4シクロヘキサンジメタツールのよ
うな多価アルコールとのエステル結合により得られる飽
和ポリエステル樹脂、またはこれらのポリエステル樹脂
をS O−)−N a等で変性した樹脂(例えばバイロ
ン53S)が例として挙げられ、これらも同様にして放
射線感応変性を行う。
(2) Saturated polyester resin Saturated polybasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin,
Trimethylolpropane, 1.2 propylene glycol, 1.3 butanediol, dipropylene glycol, 1
.. Saturated polyester resins obtained by ester bonding with polyhydric alcohols such as 4-butanediol, 1.6-hexanediol, pentaerythritol, sorbitol, glycerin, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexane dimetatool, or polyesters thereof An example is a resin modified with SO-)-N a or the like (for example, Vylon 53S), which is also subjected to radiation sensitivity modification in the same manner.

(3)ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し、後述の手法によ
り放射線感応変性を行う。
(3) Polyvinyl alcohol-based resin Polyvinyl alcohol, butyral resin, acetal resin, formal resin and copolymers of these components,
The hydroxyl groups contained in these resins are subjected to radiation sensitivity modification by the method described below.

(4)エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルAとニブクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート152゜154.828,1001,1004.
1007)、ダウケミカル類(DEN431.DER7
32、DER511,DER331)、大日本インキ社
製(エピクロン400,800)、さらに上記エポキシ
の高重合度樹脂であるUCCfl製フェノキシ樹脂(P
KHA、PKHC。
(4) Epoxy resin, phenoxy resin Epoxy resin produced by the reaction of bisphenol A, nibchlorohydrin, and methyl epichlorohydrin, such as Shell Chemical Co., Ltd. (Epicoat 152° 154.828, 1001, 1004.
1007), Dow Chemicals (DEN431.DER7)
32, DER511, DER331), manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. (Epiclon 400, 800), and phenoxy resin manufactured by UCCfl (P
KHA, PKHC.

PにHH)、臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒド
リンの共重合体、大日本インキ化学工業製(エビクロン
145,152,153.1120)等がある。
P to HH), a copolymer of brominated bisphenol A and epichlorohydrin, and a product manufactured by Dainippon Ink and Chemicals (Evicron 145, 152, 153.1120).

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行う。
Radiation sensitivity modification is performed using the epoxy groups contained in these resins.

(5)ja維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは、硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
(5) Various types of ja fibril derivatives are used, but the particularly effective ones are nitrified cotton, cellulose acetobutyrate, ethyl cellulose,
Butyl cellulose, acetyl cellulose, etc. are suitable.

樹脂中の水酸基を利用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。
Radiation sensitivity modification is performed using the hydroxyl groups in the resin by the method described below.

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルボロリドン樹脂および誘導体(pvp
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステル、およびメタクリエステルを
重合成分として、少なくとも1種含むアクリル系樹脂等
も有効である。
Other resins that can be used for radiation sensitivity modification include polyfunctional polyester resins, polyether ester resins, polyvinylborolidone resins, and derivatives (pvp
Also effective are acrylic resins containing at least one of olefin copolymers), polyamide resins, polyimide resins, phenol resins, spiroacetal resins, hydroxyl group-containing acrylic esters, and methacrylic esters as polymerization components.

本発明で用いる(B)の高分子化合物は、熱可塑性エラ
ストマーもしくはプレポリマー、またはこれらを放射線
感応変性したものであり、後者の場合は、より効果的で
ある。
The polymer compound (B) used in the present invention is a thermoplastic elastomer, a prepolymer, or a radiation-sensitive modified version of these, and the latter is more effective.

以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
Examples of elastomers or prepolymers are listed below.

(1)ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ウレタン化合物の例としては、インシアネートとして、
2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−トルエン
ジイソシアネート、1゜3−キシレンジイソシアネート
、1,4−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタ
レンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネー
ト、3,3−ジメチル−4,4−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、4.4−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、3.3−ジメチルビフェニレンジイソシアネート
、4.4−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート
、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジ
ュールし、デスモジュールN等の各種多価イソシアネー
トと、 線状飽和ポリエステル(エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
1.4−ブタンジオール、1.6−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、1,4−シクロヘキサンジメチノールのような
多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸のような飽和
多塩基酸との縮重合によるもの)、 線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エス
テル、ヒドロキシ含有メタクリル酸エステル等の各種ポ
リエステル類の縮合物よりなるポリウレタンエラストマ
ー、プレポリマーが有効である。
(1) Examples of polyurethane elastomer or prepolymer urethane compounds include incyanate,
2.4-toluene diisocyanate, 2.6-toluene diisocyanate, 1゜3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, 3,3-dimethyl-4,4- Various polyvalent isocyanates such as diphenylmethane diisocyanate, 4.4-diphenylmethane diisocyanate, 3.3-dimethylbiphenylene diisocyanate, 4.4-biphenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, desmodur, and desmodur N. and linear saturated polyesters (ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane,
1.4-butanediol, 1.6-hexanediol,
Polyhydric alcohols such as pentaerythritol, sorbitol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexane dimethinol, and saturated polybasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, and sebacic acid. polyurethane elastomers made of condensates of various polyesters such as linear saturated polyethers (polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol), caprolactam, hydroxyl-containing acrylic esters, and hydroxyl-containing methacrylic esters. , prepolymers are effective.

これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合を有する単量体とを反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。
It is very effective to modify these urethane elastomers to make them radiation sensitive by reacting their terminal isocyanate groups or hydroxyl groups with monomers having acrylic double bonds or allylic double bonds. .

(2)アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼ
オン社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
、架橋および重合させるニラストアー成分として適する
(2) Acrylonitrile-butadiene copolymer elastomer An acrylonitrile-butadiene copolymer prepolymer with a terminal hydroxyl group, commercially available as PolyBD Retired Resin manufactured by Sinclair Vetro Chemical Co., Ltd., or an elastomer such as Hiker 1432J manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., is particularly suitable for butadiene. The double bonds therein generate radicals by radiation, making it suitable as a nylon tor component for crosslinking and polymerization.

(3)ポリブタジエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが、特に熱可塑性との相溶性の点で好適である。
(3) Polybutadiene elastomer A prepolymer having a low molecular weight terminal hydroxyl group such as PolyBD Retired Resin R-15 manufactured by Sinclair Vetrochemical Co., Ltd. is particularly suitable in terms of compatibility with thermoplasticity.

R−15プレポリマーにおいては、分子末端が水酸基と
なフているため、分子末端にアクリル系不飽和二重結合
を付加することにより放射線感応を高めることが可能で
あり、バインダーとしてさらに有利となる。
Since R-15 prepolymer has a hydroxyl group at the end of the molecule, it is possible to increase radiation sensitivity by adding an acrylic unsaturated double bond to the end of the molecule, making it even more advantageous as a binder. .

また、ポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製CBR
−M901も熱可塑性樹脂との組合わせにより、すぐれ
た性質を有している。
In addition, polybutadiene cyclized product, CBR manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.
-M901 also has excellent properties due to its combination with thermoplastic resin.

その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、およびそ
の環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポ
キシ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋
紡バイロン#300)等のエラストマーも下記に述べる
放射線感応変性処理を施すことにより有効に利用できる
Other suitable thermoplastic elastomer and prepolymer systems include styrene-butadiene rubber, chlorinated rubber, acrylic rubber, isoprene rubber, and its cyclized product (ClR701 manufactured by Nippon Gosei Rubber Co., Ltd.); Elastomers such as plasticized saturated linear polyester (Toyobo Vylon #300) can also be effectively used by subjecting them to the radiation-sensitizing treatment described below.

本発明で用いられる(C)放射線硬化性不飽和二重結合
を有する化合物としては、 スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールアクリレート、ジエチレングクコ
ールジメタクリレート、1.6−ヘキサングリコールジ
アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、多
官能オリゴエステルアクリレート(アロエックスM−7
100、東亜合成)、ウレタンエラストマーにツボラン
4040)のアクリル変性体、あるいはこれらのものに
C0OH等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。
(C) Compounds having a radiation-curable unsaturated double bond used in the present invention include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate,
Diethylene glycol acrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, polyfunctional oligoester acrylate (Aloex M-7
100, Toagosei), acrylic modified products of Tuborane 4040) in urethane elastomers, and products in which functional groups such as C0OH are introduced into these products.

高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。
It is known that some polymers disintegrate when irradiated with radiation, while others cause crosslinking between molecules.

分子間に架橋を起すものとしては、とりエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リスチレンがある。
Examples of substances that cause crosslinking between molecules include triethylene, polypropylene, polystyrene, polyacrylic ester,
polyacrylamide, polyvinyl chloride, polyester,
There are polyvinylpyrrolidone rubber, polyvinyl alcohol, and polystyrene.

このような架橋型ポリマーであれば、上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起こるので、前記変性
体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用バック
コート樹脂として使用可能である。
With such crosslinked polymers, the crosslinking reaction occurs even without the above-mentioned modification, so in addition to the modified products mentioned above, these resins can be used as they are as backcoat resins for radiation crosslinking. be.

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂をバックコート用として用いること
ができる。
Furthermore, according to this method, even a solvent-free resin that does not use a solvent can be cured in a short time, so such a resin can be used for a back coat.

本発明に用いる放射線硬化性樹脂組成物の、特に好まし
い組合わせとしては、 (A)の化合物が一部ケン化した塩化ビニール−酢酸ビ
ニール共重合体、カルボン酸が導入された塩化ビニール
−酢酸ビニール共重合体、フェノキシ樹脂にポリイソシ
アネート化合物を反応させて得られたイソシアネート基
を有する化合物に、イソシアネート基との反応性を有す
る官能基をもつアクリル化合物、あるいはメタクリル化
合物を反応させてなる化合物であり、(B)の化合物が
ポリオールにイソシアネート化合物を反応させて得られ
た、イソシアネート化合物またはポリオール(ポリウレ
タンエラストマー)に、反応性を有する官能基をもつア
クリル化合物あるいはメタクリル化合物を反応させてな
る化合物であり、 (C)が多官能(メタ)クリレートモノマー、オリゴエ
ステルアクリレート、または(B)の低分子量化合物と
いうものである。
Particularly preferable combinations of the radiation-curable resin composition used in the present invention include a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer in which the compound (A) is partially saponified, and a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer in which a carboxylic acid is introduced. It is a compound obtained by reacting a compound having an isocyanate group obtained by reacting a copolymer or phenoxy resin with a polyisocyanate compound, and an acrylic compound or a methacrylic compound having a functional group that is reactive with the isocyanate group. The compound (B) is a compound obtained by reacting an isocyanate compound or polyol (polyurethane elastomer) with an acrylic compound or methacrylic compound having a reactive functional group, which is obtained by reacting a polyol with an isocyanate compound. , (C) is a polyfunctional (meth)acrylate monomer, oligoester acrylate, or (B) is a low molecular weight compound.

このようなバックコート層の膜厚は0.2〜2.5μm
であり、より好ましくは0.3〜1.5μm程度とされ
る。 膜厚が0.2μm未満であると充分な走行安定性
が得られなくなり、また2、5μmをこえるとバックコ
ート層のケズレが発生するからである。
The thickness of such a back coat layer is 0.2 to 2.5 μm.
The thickness is more preferably about 0.3 to 1.5 μm. If the film thickness is less than 0.2 μm, sufficient running stability cannot be obtained, and if it exceeds 2.5 μm, the back coat layer may become scratched.

なお、バックコート層には、上述したような顔料、有機
バインダーの他に、必要に応じで憫滑剤等の種々の公知
の添加剤を含有させてもよい。
In addition to the pigments and organic binders described above, the back coat layer may contain various known additives such as lubricants, if necessary.

塗布溶剤としては、MEに、シクロヘキサノン、MIB
K等のケトン系、IPA等のアルコール系、トルエン等
の芳香族系、ジクロロエタン等のハロゲン系などが用い
られる。
As a coating solvent, ME, cyclohexanone, MIB
Ketones such as K, alcohols such as IPA, aromatics such as toluene, and halogens such as dichloroethane are used.

使用に際しては、これらの1種類を単独で用いたり、2
種類以上を混合して用いたり、いずれでもよい。
When using, one of these types may be used alone, or two types may be used together.
More than one type may be used in combination, or any one of them may be used.

潤滑剤としては(分散剤をも含めて)、従来この種のバ
ックコート層に用いられる種類のものはいずれも用いる
ことができるが、 カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、
バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、
エライジン酸、リノール酸、リルン酸、ステアロール酸
等の炭素数12以上の脂肪酸(RCoO)I、Rは炭素
数11以上のアルキル基): 前記の脂肪酸のアルカリ金属(Li、Na。
As lubricants (including dispersants), any of the types conventionally used for this type of back coat layer can be used, including caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid,
Valmitic acid, stearic acid, behenic acid, oleic acid,
Fatty acids with 12 or more carbon atoms such as elaidic acid, linoleic acid, lylunic acid, stearolic acid (RCoO) (I, R is an alkyl group with 11 or more carbon atoms): Alkali metals (Li, Na) of the above fatty acids.

K等)またはアルカリ土類金属(Mg、Ca。K, etc.) or alkaline earth metals (Mg, Ca.

Ba等)からなる金属石鹸; レシチン 等が使用される。Metal soap consisting of Ba, etc.); lecithin etc. are used.

この他に、炭素数12以上の高級アルコール、およびこ
れらの硫酸エステル、界面活性剤、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤等も使用可能である。
In addition, higher alcohols having 12 or more carbon atoms, sulfuric esters thereof, surfactants, titanium coupling agents, silane coupling agents, etc. can also be used.

これらの潤滑剤(分散剤)はバインダー100重量部に
対して1〜20重量部の範囲で添加される。
These lubricants (dispersants) are added in an amount of 1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the binder.

潤滑剤としては、上記の他にシリコンオイル、グラファ
イト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭素数
12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個のm
個のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数17
個以上の一塩基性脂肪酸とこの脂肪酸の炭素数と合計し
て、炭素数が21〜23個よりなるm個のアルコールと
からなる脂肪酸エステル等が使用される。
In addition to the above, examples of lubricants include silicone oil, graphite, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, monobasic fatty acids with 12 to 16 carbon atoms, and monobasic fatty acids with 3 to 12 carbon atoms.
Fatty acid esters consisting of alcohols, carbon number 17
A fatty acid ester or the like is used, which is composed of m or more monobasic fatty acids and m alcohols having 21 to 23 carbon atoms in total, including the total number of carbon atoms in the fatty acid.

これらの潤滑剤はバインダー100重量部に対して0.
2〜20重量部の範囲で添加される。
These lubricants contain 0.00 parts by weight per 100 parts by weight of binder.
It is added in an amount of 2 to 20 parts by weight.

また、その他の添加剤としては、この種のバックコート
に用いるものは何にでも用いることができるが、例えば
、帯電防止剤として、サポニンなどの天然界面活性剤: アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール
系などのノニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、
第4級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、
ホスホニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面
活性剤; カルボン酸、スルホン酸、リン酸、硫酸エステル基、リ
ン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤ニ アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの
硫酸またはリン酸エステル類等の両性活性剤などが使用
される。
In addition, as other additives, anything used in this type of back coat can be used, but for example, as an antistatic agent, natural surfactants such as saponin, alkylene oxide type, glycerin type, glycidol. Nonionic surfactants such as
Quaternary ammonium salts, pyridine and other heterocycles,
Cationic surfactants such as phosphonium or sulfoniums; Anionic surfactants containing acidic groups such as carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid, sulfate ester groups, phosphoric ester groups; sulfuric acid of amino acids, aminosulfonic acids, amino alcohols; Amphoteric activators such as phosphoric acid esters are used.

また、上記バックコート層あるいは後述するトップコー
ト層に含まれる潤滑剤、酸化防止剤等としては放射線硬
化型のものが好ましい。
Further, as the lubricant, antioxidant, etc. contained in the back coat layer or the top coat layer described below, radiation-curable ones are preferable.

このような場合、その架橋に使用する活性エネルギー線
としては、放射線加速器を線源とした電子線、C060
を線源としたγ−線、5r90を線源としたβ−線、X
線発生機を線源としたxi、あるいは紫外線が使用され
る。
In such cases, the active energy rays used for crosslinking include electron beams using a radiation accelerator as a source, C060
γ-rays using 5r90 as a radiation source, β-rays using 5r90 as a radiation source,
xi or ultraviolet light using a radiation source as a radiation source is used.

特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮断等の見地から、放射線加
速器により放射線を使用する方法が有利である。
In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation accelerator from the viewpoint of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, blocking ionizing radiation, etc.

上記のバックコート層、および下記のトップコート層を
硬化する際に使用する放射線特性としては、透過力の面
から加速電圧100〜750にV、好ましくは150〜
300Kvの放射線加速器を用い、吸収ramを0.5
〜20メガラツドになるように照射するのが好都合であ
る。
The radiation characteristics used when curing the above-mentioned back coat layer and the below-mentioned top coat layer include an acceleration voltage of 100 to 750 V, preferably 150 to
Using a 300Kv radiation accelerator, the absorption ram is 0.5
It is convenient to irradiate to ~20 megarads.

上記の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエン
ス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器(
エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティング
加エラインへの導入、加速器内部の2次X線の遮断等に
極めて有利である。
For the radiation curing mentioned above, a low-dose type radiation accelerator (manufactured by Energy Sciences, Inc. in the United States)
Electrocurtain system) etc. are extremely advantageous for introducing into the tape coating processing line, blocking secondary X-rays inside the accelerator, etc.

また、従来より放射線加速材として広く活用されている
ことろのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。
Alternatively, a van de Graaf type accelerator, which has been widely used as a radiation accelerating material, may be used.

また、放射線架橋に際しては、N2ガス、Heガス等の
不活性ガス気流中で放射線をバックコート層、トップコ
ート層に照射することが重要であり、空気中で放射線を
照射することは、バインダー成分の架橋に際し、放射線
照射による生じた03等の影Mでポリマー中に生じたラ
ジカルが有利に架橋反応に働くことを阻害するので、極
めて不利である。
In addition, during radiation crosslinking, it is important to irradiate the back coat layer and top coat layer with radiation in an inert gas stream such as N2 gas or He gas, and irradiation in air is not suitable for binder components. When crosslinking, the shadow M such as 03 caused by radiation irradiation prevents radicals generated in the polymer from working advantageously in the crosslinking reaction, which is extremely disadvantageous.

したがって、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気
は、特に酸素濃度が最大で5%であるN2.He、Co
□等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。
Therefore, the atmosphere in the area where the active energy rays are irradiated is N2. He, Co
It is important to maintain an inert gas atmosphere such as □.

また、バックコート層が設けられる基体ないし裏地層の
表面には、接着強度を向上させる目的でプラズマ処理を
施すことが好ましい。 このようなプラズマ処理は通常
、無機ガスを処理ガスとして行われ、これらの処理ガス
の中では特に0、N、Hとを含む処理ガスを用いるのが
好ましい。
Further, it is preferable that the surface of the base or backing layer on which the back coat layer is provided be subjected to plasma treatment for the purpose of improving adhesive strength. Such plasma processing is usually performed using an inorganic gas as a processing gas, and among these processing gases, it is particularly preferable to use a processing gas containing O, N, and H.

プラズマ処理の周波数については特に制限はない。There is no particular restriction on the frequency of plasma treatment.

このようなプラズマ処理によって裏地層とバックコート
層の接着強度は向上する。
Such plasma treatment improves the adhesive strength between the backing layer and the backcoat layer.

以上、述べてきたような磁気記録媒体の磁性層の上には
、さらにトップコート層を設けることが好ましい。
It is preferable to further provide a top coat layer on the magnetic layer of the magnetic recording medium as described above.

トップコート層には、脂肪酸エステルおよび放射線感応
不飽和二重結合を有する基とフッ素置換のアルキル基と
を有する化合物を含有させる。
The top coat layer contains a compound having a fatty acid ester, a group having a radiation-sensitive unsaturated double bond, and a fluorine-substituted alkyl group.

トップコート層に含有される脂肪酸エステルは、その物
性として融点−20〜30℃、より好ましくは一10〜
25℃のものを用いるのが好適である。
The physical properties of the fatty acid ester contained in the top coat layer include a melting point of -20 to 30°C, more preferably -10 to 30°C.
It is preferable to use one at 25°C.

そのため、このような物性を有する脂肪酸エステルとし
ては、例えば1、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、バルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸などの炭
素数4〜24の一塩基性脂肪酸と炭素数1〜12の一価
の飽和アルコールとからなるものであり、この中でも特
に、炭素数6〜20の一塩基性脂肪酸と一価の飽和アル
コールとからなる合計の炭素数7〜26の脂肪酸エステ
ル等が好ましい。
Therefore, fatty acid esters having such physical properties include, for example, monobasic fatty acids with 4 to 24 carbon atoms such as 1, capric acid, lauric acid, myristic acid, valmitic acid, stearic acid, and arachidic acid, and monobasic fatty acids with 1 to 24 carbon atoms. Among these, fatty acid esters having a total of 7 to 26 carbon atoms consisting of a monobasic fatty acid with 6 to 20 carbon atoms and a monovalent saturated alcohol are particularly preferable. .

トップコート層中に含有されるこのような脂肪酸エステ
ルは、通常1種のものを用いるが、必要に応じて2種以
上を混合して用いてもよい。
Generally, one type of fatty acid ester is used as the fatty acid ester contained in the top coat layer, but two or more types may be mixed and used as necessary.

さらにトップコート層中には、放射線感応不飽和二重結
合を有する基と、フッ素置換のアルキル基とを有する化
合物を含有させる。
Further, the top coat layer contains a compound having a group having a radiation-sensitive unsaturated double bond and a fluorine-substituted alkyl group.

この場合、放射線感応不飽和二重結合を有する基として
は、CH2=CR2−Co−で示される基(R2は水素
原子またはアルキル基を表わす)が好ましい。
In this case, the group having a radiation-sensitive unsaturated double bond is preferably a group represented by CH2=CR2-Co- (R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group).

また、フッ素置換のアルキル基としては、炭素原子数2
〜20のアルキル基であって、その複数の水素原子がフ
ッ素原子によって置換されたものである。 そして、こ
れらのうち、特にCnF 2 n + +−で示される
もの(nは2〜20の整数である)が好ましい。
In addition, the fluorine-substituted alkyl group has 2 carbon atoms.
~20 alkyl groups, in which a plurality of hydrogen atoms are replaced with fluorine atoms. Among these, those represented by CnF 2 n + +- (n is an integer from 2 to 20) are particularly preferred.

このような化合物としては、特に下記の式(I)または
(II)で示される化合物が好ましい。
As such a compound, a compound represented by the following formula (I) or (II) is particularly preferable.

式(I) 1(一 式(■) (上記式(I)および(Il)において、R1はフッ素
置換のアルキル基、LlおよびL2はそれぞれ2僅の連
結基、R2は水素原子またはアルキル基を表わし、mは
1または2である。) 上記式(I)および(n)において、R3は、好ましく
は炭素数2〜2oのフッ素置換のアルキル基を表わし、
特に、Cn F 2n+1−で示される基(nは2〜2
oの整数)が好ましく、例えば、C4F9 、Cs F
z、C6F13、C?F15、C6F14、C9F+9
、CIOF 21等が好適である。
Formula (I) 1 (Formula (■)) (In the above formulas (I) and (Il), R1 is a fluorine-substituted alkyl group, Ll and L2 each represent two linking groups, and R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group. , m is 1 or 2.) In the above formulas (I) and (n), R3 preferably represents a fluorine-substituted alkyl group having 2 to 2 o carbon atoms,
In particular, a group represented by Cn F 2n+1- (n is 2 to 2
o integer) is preferable, for example, C4F9, CsF
z, C6F13, C? F15, C6F14, C9F+9
, CIOF 21, etc. are suitable.

LIおよびL2は、それぞれ置換または非置換のアルキ
レン基、またはアリーレン基、あるいはこれらと結合し
た基、あるいはこれらと、−〇−1−S−1−SO□−
1−Co−1−CoO−1−OCo−1それぞれ置換ま
たは非置換の−NH−1−S 02 N H−1−NH
SO2−1−CoNH−1−NHCo−等が結合した基
が好ましい。 これらのうちでは、特に炭素原子数1〜
4の非置換のアルキレン基等が好適である。
LI and L2 are each substituted or unsubstituted alkylene group or arylene group, or a group bonded thereto, or -〇-1-S-1-SO□-
1-Co-1-CoO-1-OCo-1 each substituted or unsubstituted -NH-1-S 02 NH-1-NH
A group to which SO2-1-CoNH-1-NHCo- or the like is bonded is preferable. Among these, in particular, the number of carbon atoms is 1 to
4, an unsubstituted alkylene group, etc. are preferred.

なお、これらのLlとL2は同一でも異なっていてもよ
い。
Note that these Ll and L2 may be the same or different.

またL I 、 t、 2は、さらに他の置換基、例え
ばアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、さらにはC
H2=CR2Coo−L’−基等で置換されていてもよ
い。
In addition, L I , t, 2 may further include other substituents, such as an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, and furthermore, C
It may be substituted with H2=CR2Coo-L'- group, etc.

R2は水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表わ
し、特に、水素一原子、メチル基が好適である。
R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and a single hydrogen atom or a methyl group is particularly preferred.

また、mは1または2である。Further, m is 1 or 2.

以Fに式(I)および式(11)て表わされる化合物の
具体例を挙げる。
Specific examples of the compounds represented by formula (I) and formula (11) are listed below.

FI         O F2        0 鳳 Cs、 F17C2H4−0−C−CHギCH2F3 
              0習 このような化合物は公知の方法を用いて容易に製造する
ことができる。
FI O F2 0 Otori Cs, F17C2H4-0-C-CHgiCH2F3
Such compounds can be easily produced using known methods.

一例を挙げるならば、式(1)および式(n)中のR1
としてCn F 2n+1基を有するハロゲン化化合物
、例えばca FI7−c2H41を水と反応させて対
応するアルコール、例えばc、、F17−C2H4−O
Hを作る。 強酸を触媒として用いこのアルコールを不
飽和酸、例えばアクリル酸を縮合反応させて所望の化合
物、例えば 葺 ca FI7−C2H4−0−C−CH=CH2を得る
ことができる。
To give an example, R1 in formula (1) and formula (n)
A halogenated compound having Cn F 2n+1 groups, e.g. ca FI7-c2H41, is reacted with water to form the corresponding alcohol, e.g. c, F17-C2H4-O
Make H. This alcohol can be subjected to a condensation reaction with an unsaturated acid, such as acrylic acid, using a strong acid as a catalyst to obtain a desired compound, such as ca FI7-C2H4-0-C-CH=CH2.

このような式(I)および式(■)で表わされる化合物
は、式(I)もしくは式(11)の化合物のIMAのみ
用いてもよく、その2種以上を適当に混合して用いても
よく、その総合有量は脂肪酸エステル100重量部に対
して、200重量部以下、より好ましくは10〜100
瓜量部とされる。 このような範囲をはずれると目づま
り、ハリツキ、ジッターの増加等の不都合がある。
As for the compounds represented by the formula (I) and the formula (■), the IMA of the compound of the formula (I) or the formula (11) may be used alone, or two or more thereof may be used in an appropriate mixture. Often, the total amount is 200 parts by weight or less, more preferably 10 to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of fatty acid ester.
It is considered to be a melon. Outside this range, problems such as clogging, sharpness, and increased jitter occur.

このようなトップコート層は、放射線感応不飽和二重結
合を有する化合物を使用することによって磁性層との接
着力が向上し、このため耐久性が向上する。 好ましく
は活性化エネルギー線を照射して架橋反応を行わせるこ
とによって、トップコート層は磁性層と迅速に結合し、
耐久性がさらに向上する。 また、上記トップコート層
は例えば、CnF2nや+(nは2〜20の間の整数で
ある)等で表わされるフッ素置換のアルキル基を有する
化合物を用いることによって特に優れた走行安定性を有
する。
By using a compound having a radiation-sensitive unsaturated double bond in such a top coat layer, the adhesive strength with the magnetic layer is improved, and therefore the durability is improved. The top coat layer is rapidly bonded to the magnetic layer, preferably by irradiating with activation energy rays to cause a crosslinking reaction.
Durability is further improved. Further, the top coat layer has particularly excellent running stability by using, for example, a compound having a fluorine-substituted alkyl group represented by CnF2n or + (n is an integer between 2 and 20).

放射線感応性化合物におけるC n F 2n+Iのn
が20をこえるとトップコート層の磁性層への総合力が
弱くなり、またnが2未満になると潤滑性が著しく低下
するため好ましくない。
n of C n F 2n + I in radiation sensitive compound
If n exceeds 20, the overall strength of the top coat layer to the magnetic layer will be weakened, and if n is less than 2, the lubricity will drop significantly, which is not preferred.

さらに、上記のトップコート層は、放射線感応不飽和二
重結合と例えばC1F 2n+I等で表わされるフッ素
置換のアルキル基の両方を有する化合物を使用すること
により、走行性はきわめて向上し、ケズレやヘッドの目
づまりが生じない。
Furthermore, by using a compound having both a radiation-sensitive unsaturated double bond and a fluorine-substituted alkyl group represented by, for example, C1F 2n+I, in the above-mentioned top coat layer, the runnability is greatly improved, and it is possible to prevent scratches and head. No clogging occurs.

このような組成成分を含有するトップコート層は通常グ
ラビアコート、リバースロールコート、エアーナイフコ
ート、エアードクターコート等を用いて設層され、上述
したように放射線加速器を線源とした電子線、C060
を線源としたγ−線、5r90を線源としたβ−線、X
線発生器を線源としたX線あるいは紫外線等の活性化エ
ネルギー線を照射して硬化させられる。 照射量は、0
.5〜20Mradの範囲が好ましい。
A top coat layer containing such compositional components is usually formed using gravure coating, reverse roll coating, air knife coating, air doctor coating, etc.
γ-rays using 5r90 as a radiation source, β-rays using 5r90 as a radiation source,
It is cured by irradiation with activation energy rays such as X-rays or ultraviolet rays using a ray generator as a ray source. The irradiation amount is 0
.. A range of 5 to 20 Mrad is preferred.

塗布溶剤としては、前述したバックコート層の場合と同
様にMEK、シクロヘキサノン、MIBK等のケトン系
、夏PA等のアルコール系、トルエン等の芳香族系、ジ
クロロエタン等のハロゲン系などが用いられる。
As the coating solvent, as in the case of the back coat layer described above, a ketone type such as MEK, cyclohexanone, or MIBK, an alcohol type such as Natsu PA, an aromatic type such as toluene, a halogen type such as dichloroethane, etc. are used.

使用に際しては、これらの1種類を単独で用いたり、あ
るいは2種類以上を混合して用いたり、いずれでもよい
When used, one of these types may be used alone, or two or more types may be used in combination.

上記のトップコート層には、必要に応じてさらに公知の
種々の潤滑剤、酸化防止剤、硬化剤等を含有してもよい
The above-mentioned top coat layer may further contain various known lubricants, antioxidants, curing agents, etc., if necessary.

潤滑剤としては従来この袖の磁気記録媒体に用いられて
いる潤滑剤、例えばシリコーンオイル、フッ素オイル、
アルコール、脂肪酸、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、特に脂肪酸が好ま
しい。
As the lubricant, lubricants conventionally used for magnetic recording media such as silicone oil, fluorine oil,
Alcohols, fatty acids, paraffin, liquid paraffin, surfactants, etc. can be used, but fatty acids are particularly preferred.

脂肪酸としては炭素数12以上の脂肪酸(RCoOH,
Rは炭素数11以上のアルキル基)、例えばカプリル酸
、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミチン
酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノール酸、リルン酸、ステアロール酸等が好まし
い。
Fatty acids include fatty acids with 12 or more carbon atoms (RCoOH,
R is an alkyl group having 11 or more carbon atoms), for example, caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, valmitic acid, stearic acid, behenic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, lilunic acid, stearolic acid, etc. preferable.

シリコーンオイルとしては脂肪酸変性よりなるもの、一
部フッ素変性されているものが使用される。 アルコー
ルとしては高級アルコールよりなるもの、フッ素オイル
としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼ
ーション等によって得られるものが使用される。
The silicone oil used is one made of fatty acid denatured or partially fluorine denatured. The alcohol used is one made of higher alcohol, and the fluorine oil used is one obtained by electrolytic substitution, telomerization, oligomerization, etc.

さらに、潤滑剤として放射線硬化型のものを好適に用い
ることができる。 放射線硬化型潤滑剤を使用した場合
、潤滑剤の裏型転写が抑えられ、これにより、ドロップ
アウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の個所
による出力の差の現象の他、オンライン上での製造が可
能である等の利点が生ずる。
Furthermore, a radiation curing type lubricant can be suitably used. When a radiation-curing lubricant is used, the transfer of the lubricant to the back mold is suppressed, which prevents dropouts, differences in output depending on the inner and outer diameters when wound into a roll, as well as online Advantages such as the possibility of manufacturing on top of the product arise.

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖ζアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物1例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、クリセライト等があり、これらの1
lVI滑剤を構造式で表すと、CH2=CH−CH2C
0OR。
As radiation-curable lubricants, compounds having a molecular chain ζ acrylic double bond exhibiting lubricity in their molecules, such as acrylic esters, methacrylic esters, vinyl acetate esters, acrylic amide compounds, and vinyl alcohol esters are used. , methyl vinyl alcohol ester, allyl alcohol ester, chrycerite, etc.
The structural formula of lVI lubricant is CH2=CH-CH2C
0OR.

CH2=CHC0NHCH20CoR1CH20CoR RCoOCH=CH2、 等(ここで、Rは直2nまたは分校状の飽和もしくは不
飽和炭化水素基で、炭素数は7以上、好ましくは12以
上23以下であり、これらはフッ素置換体とすることも
できる)である。
CH2=CHC0NHCH20CoR1CH20CoR RCoOCH=CH2, etc. (wherein, R is a straight 2n or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group, and the number of carbon atoms is 7 or more, preferably 12 or more and 23 or less, and these are fluorine-substituted and ).

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレート)、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等を挙げることができる
Preferred specific examples of these radiation-curing lubricants include:
Examples include stearic acid methacrylate (acrylate), stearyl alcohol methacrylate (acrylate), glycerin methacrylate (acrylate), glycol methacrylate (acrylate), and silicone methacrylate (acrylate).

上記のトップコート層に用いる放射線硬化型添加剤の架
橋に使用する活性エネルギー線としては、放射線加速器
を線源とした電子線、C。
As the active energy ray used for crosslinking the radiation-curable additive used in the above-mentioned top coat layer, an electron beam using a radiation accelerator as a radiation source, C.

60を!!i!源としたγ−線、5r90f!0−線源
としたβ−線、X線発生器を線源としたX線あるいは紫
外線等を挙げることができる。 特に照射線源としては
吸収線■の制御、製造工程ラインへの導入、電離放射線
の遮蔽等の見地から放射線加速器により発生される放射
線を使用する方法が有利である。
60! ! i! The γ-ray source, 5r90f! Examples include β-rays using a zero-ray source, X-rays using an X-ray generator as a source, or ultraviolet rays. In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation generated by a radiation accelerator from the viewpoint of controlling absorption radiation (1), introducing it into a manufacturing process line, and shielding ionizing radiation.

上記トップコート層の厚さは5〜200人が好ましい。The thickness of the top coat layer is preferably 5 to 200 layers.

 あまり厚すぎると型持が低下したり、ケズラしたりす
る。 また、あまり薄すぎると目づまりが発生する。 
 トップコートなしの磁性層の表面粗度は100Å以下
が好ましいため、この上にトップコート層を形成する場
合、あまり厚すぎるとケズレを生ずることがわかった。
If it is too thick, it will not hold its shape well or it will scratch. Also, if it is too thin, clogging will occur.
Since the surface roughness of the magnetic layer without a top coat is preferably 100 Å or less, it has been found that when a top coat layer is formed thereon, if it is too thick, scratches may occur.

 あまり少なすぎるとトップコート層の吸着が弱すぎ、
目づまりを発生することが予想される。 特に好ましい
範囲としては10〜100人である。
If it is too small, the adsorption of the top coat layer will be too weak.
It is expected that clogging will occur. A particularly preferable range is 10 to 100 people.

なお、トップコートは、プラズマ重合によって形成して
もよい。
Note that the top coat may be formed by plasma polymerization.

上記のトップコートを形成する際に、上述したようにさ
らに通常用いられる酸化防止剤、硬化剤等を通常用いら
れる量で加えることができる。
When forming the above-mentioned top coat, as mentioned above, commonly used antioxidants, curing agents, etc. can be further added in commonly used amounts.

本発明において硬化剤を用いる場合、硬化剤としては放
射線硬化型子ツマ−およびオリゴマーが適している。 
放射線硬化型モノマーとしては分子j12,000未満
の化合物が、オリゴマーとしては分子量500〜10,
000のものが用いられる。 これらはスチレン、エチ
ルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、l。
When a curing agent is used in the present invention, radiation-curable polymers and oligomers are suitable as the curing agent.
Compounds with a molecular weight of less than 12,000 are used as radiation-curable monomers, and compounds with molecular weights of 500 to 10, as oligomers are used.
000 is used. These are styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate,
Ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, l.

6−ヘキサングリコールジアクリレート、1゜6−ヘキ
サングリコールジアクリレート等を包含し、特に好まし
くは以下を包含する=N−ビニルピロリドン、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート(メタクリレート)、
ペンタエリスリトールトリアクリレート(メタクリレー
ト)、トリメチロールプロパントリアクリレート(メタ
クリレート)、トリメチロールプロパンジアクリレート
(メタクリレート)、多官能オリゴエステルアクリレー
ト(東亜合成(株)製アロニックスM−7100、M−
5400,5500,5700等)ウレタンエラストマ
ーにツボラン4040)のアクリル変性体、あるいはこ
れらのものにC0OH等の官能基が導入されたもの、フ
ェノールエチレンオキシド付加物アクリレート(メタク
リレ−トン、下記一般式で示されるペンタエリスリトー
ル縮合環にアクリル基(メタクリル基)またはε−カプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物:および下記一
般式で示される 特殊アクリレート類: (CH2=CHC0OH2)3−CCH20H:(CH
2=CHC0OH2)3−CCH2CH3。
Includes 6-hexane glycol diacrylate, 1゜6-hexane glycol diacrylate, etc., and particularly preferably includes the following = N-vinylpyrrolidone, pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate),
Pentaerythritol triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), polyfunctional oligoester acrylate (Toagosei Co., Ltd. Aronix M-7100, M-
5400, 5500, 5700, etc.) Urethane elastomers, acrylic modified products of Tuboran 4040), or functional groups such as C0OH introduced into these urethane elastomers, phenol ethylene oxide adduct acrylates (methacrylatenes, represented by the general formula below) Compounds with an acrylic group (methacrylic group) or ε-caprolactone-acrylic group attached to a pentaerythritol condensed ring: and special acrylates represented by the following general formula: (CH2=CHC0OH2)3-CCH20H: (CH
2=CHC0OH2)3-CCH2CH3.

(n=1〜6) CH2=CHCoO−(CH2CH20)4−CoCH
=CH2;A Aニアクリル酸、   X:多価アルコールY:多塩基
酸 放射線硬化型オリゴマーの例としては、下記一般式で示
される多官能オリゴエステルアクリレートやウレタンエ
ラストマーのアクリル変性体あるいはこれらのものにC
0OH等の官能基が導入されたもの等を挙げることがで
きる。
(n=1-6) CH2=CHCoO-(CH2CH20)4-CoCH
=CH2; A Niacrylic acid; C
Examples include those into which a functional group such as 0OH is introduced.

(式中R,、R2:アルキル基、n:整数)本発明にお
いてトップコート層に潤滑剤、酸化防止剤、硬化剤等を
添加する場合、これらの合計重量は、式(I)および式
(n)で表わされるように放射線感応不飽和二重結合を
1個以上有し、かつフッ素置換のアルキル基を有する化
合物の総重量の10倍以内になるようにするのが好まし
い。 また、酸化防止剤の重量は、iη滑滑剤砂硬化剤
重量をこえないことが好ましい。
(In the formula, R,, R2: alkyl group, n: integer) When adding a lubricant, an antioxidant, a curing agent, etc. to the top coat layer in the present invention, the total weight of these is determined by the formula (I) and the formula ( It is preferable that the amount is within 10 times the total weight of the compound having one or more radiation-sensitive unsaturated double bonds as represented by n) and having a fluorine-substituted alkyl group. Further, it is preferable that the weight of the antioxidant does not exceed the weight of the lubricant sand hardener.

なお、プラスチックフィルム上には各種下地処理を施し
たり、プラスチックフィルムと磁性層ないし裏地層間に
はさらに下地層を形成することもできる。
Note that various undercoat treatments may be applied to the plastic film, and an underlayer may be further formed between the plastic film and the magnetic layer or backing layer.

また、本発明の磁気記録媒体の表面には、微細な突起が
所定の密度で設けられてもよい。
Further, fine protrusions may be provided at a predetermined density on the surface of the magnetic recording medium of the present invention.

微細な突起は、30〜300人、より好ましくは50〜
250人の高さを有するものである。
The fine protrusions are 30 to 300 people, more preferably 50 to 300 people.
It has a height of 250 people.

すなわち、上記の突起は、光学顕微鏡で観察でき、かつ
触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、走査型電
子顕微鏡にて観察できる程度のものである。
That is, the above protrusions cannot be observed with an optical microscope and measured with a stylus type surface roughness meter, but can be observed with a scanning electron microscope.

突起高さが300人をこえ、光学顕微鏡にて観察できる
ものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低
下をもたらす。
If the height of the protrusions exceeds 300 and becomes observable with an optical microscope, the electromagnetic conversion characteristics deteriorate and the running stability deteriorates.

また、30人未満となると、物性の向上の実効がない。Furthermore, if the number of participants is less than 30, there is no effective improvement in physical properties.

そして、その密度は1mm2あたり平均105個以上、
より好ましくは10’″〜109個、特に106〜10
8個である。
And the density is more than 105 pieces per 1 mm2 on average.
More preferably 10'' to 109 pieces, especially 106 to 10 pieces
There are 8 pieces.

突起密度が105個/ m m 2未満となると、ノイ
ズが増大し、スチル特性が低下する等物性の低下をきた
し、実用に耐えない。
When the protrusion density is less than 10 5 /mm 2 , noise increases, still characteristics deteriorate, and other physical properties deteriorate, making it unsuitable for practical use.

また、109個/ m m 2をこえると、物性上の効
果が少なくなってしまう。
Moreover, if the number exceeds 109 pieces/m2, the effect on physical properties will decrease.

なお、突起径は、一般に200〜1000人程度とする
Note that the diameter of the projection is generally about 200 to 1000 people.

このような突起を設けるには、通常、基体上に微粒子を
配設すればよい。 微粒子径は。
In order to provide such protrusions, it is usually sufficient to arrange fine particles on the substrate. What is the particle size?

30〜1000人にすればよく、これにより微粒子径に
対応した微細突起が形成される。
The number may be 30 to 1,000, and thereby fine protrusions corresponding to the particle size are formed.

用いる微粒子としては、通常、コロイド粒子として知ら
れているものであって、例えばSio2 (コロイダル
シリカ)、八!203(アルミナゾル)、Mgo%Ti
e、、ZnO1Fe203、ジルコニア、CdolNi
o%CaWO4,CaC0,、 BaCo3、Coco、、、BaTiO3、Ti(チタ
ンブラック)、Au、Ag、Cu、Ni、Fe、各種ヒ
ドロシルや、樹脂粒子等が使用可能である。 この場合
、特に無機物質を用いるのが好ましい。
The fine particles used are usually those known as colloidal particles, such as Sio2 (colloidal silica), 8! 203 (alumina sol), Mgo%Ti
e,, ZnO1Fe203, zirconia, CdolNi
o%CaWO4, CaC0, BaCo3, Coco, BaTiO3, Ti (titanium black), Au, Ag, Cu, Ni, Fe, various hydrosils, resin particles, etc. can be used. In this case, it is particularly preferable to use inorganic substances.

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基体上に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。
Such fine particles may be prepared by forming a coating solution using various solvents, applying this onto a substrate, and drying it, or by applying a coating solution containing a resin component such as various aqueous emulsions and drying it. Good too.

なお、場合によっては、これら塗布液を基体上に配設す
るのではなく、磁性薄膜層上にトップコート層として配
設することもできる。
Note that, in some cases, these coating liquids may be provided as a top coat layer on the magnetic thin film layer instead of being provided on the substrate.

また、樹脂分を用いる場合、これら微粒子にもとず〈微
細突起に重畳してゆるやかな突起を設けることもできる
が、通常はこのようにする必要はない。
Furthermore, when a resin component is used, it is also possible to provide gentle protrusions based on these fine particles, superimposing them on the fine protrusions, but it is usually not necessary to do so.

もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層の最上層と最
下層との間に非磁性金属薄膜層を介在させてもよい。
If necessary, a non-magnetic metal thin film layer may be interposed between the top and bottom ferromagnetic metal thin film layers.

■ 発明の具体的作用効果 本発明によれば、磁性層が2層以上の届構成をなすこと
により、磁性柱状結晶粒の長さが小さいものとなるため
磁性層の膜強度が向上する。 このため、走行安定性が
きわめて高く、また、走行による磁性層のクラックや磁
性面のケズレの発生がきわめて少なく、ヘッドPJ耳量
、ドロップアウトの発生もきわめて少ないものとなる。
(2) Specific Effects of the Invention According to the present invention, since the magnetic layer has a structure of two or more layers, the length of the magnetic columnar crystal grains becomes small, so that the film strength of the magnetic layer is improved. Therefore, the running stability is extremely high, and the occurrence of cracks in the magnetic layer and scratching of the magnetic surface due to running is extremely small, and the amount of head PJ edges and dropouts are also extremely small.

また、磁性層中に、炭素を有機物の重合体の形で含有す
るため、媒体のカールないしカッピング等がほとんどな
く、出力が安定し、しかも耐食性、走行耐久性が向上す
る。
Furthermore, since the magnetic layer contains carbon in the form of an organic polymer, there is almost no curling or cupping of the medium, resulting in stable output and improved corrosion resistance and running durability.

■ 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.

(実施例1) 下記表1に示す厚さのポリエステル(PET)フィルム
を円筒状、冷却キャンの周面に沿わせて移動させ、02
+Ar(容積比1:1〉を毎分800ccの速さで流し
真空度を1、  ox l O−’Torrとしたチャ
ンバー内で、Co80、Ni20(重量比)の合金を溶
融 ′し、斜め蒸着により第1図に示されるCo−Ni
 −0の2層薄膜を形成した。 なお、蒸着に先立ち、
フィルム面をプラズマ処理した。
(Example 1) A polyester (PET) film having the thickness shown in Table 1 below was moved along the circumferential surface of a cylindrical cooling can.
An alloy of Co80 and Ni20 (weight ratio) was melted and deposited obliquely in a chamber in which +Ar (volume ratio 1:1) was flowed at a rate of 800 cc per minute and the vacuum was set to 1 ox l O-' Torr. Co-Ni shown in Figure 1 by
A two-layer thin film of -0 was formed. In addition, prior to vapor deposition,
The film surface was plasma treated.

処理条件は、処理ガスAr、ガス流量100r117分
、真空度0.05Torr、電f150kHz、200
Wとした。
The processing conditions were: processing gas Ar, gas flow rate 100 r for 117 minutes, degree of vacuum 0.05 Torr, electric current f 150 kHz, 200
It was set as W.

蒸着物質の最小入射角および磁性層の厚さを表1に示す
Table 1 shows the minimum incident angle of the deposited material and the thickness of the magnetic layer.

また、比較として、入射角30〜90°の部分のみ斜め
蒸若し膜厚0.15μmのCo−Ni−0の単層薄膜を
形成した。
For comparison, a single-layer Co--Ni-0 thin film having a thickness of 0.15 μm was formed by diagonal evaporation only at the portion at the incident angle of 30° to 90°.

なお、蒸着に際しては、導入有機物としてC,H4ガス
を所定量真空槽に導入しながら行った。
Incidentally, the vapor deposition was carried out while introducing a predetermined amount of C and H4 gases as introduced organic substances into the vacuum chamber.

このように磁性層中に有機物をとりこませた後、次工程
のプラズマ処理真空槽を通過させることによって、磁性
層中の有機物を重合させた。
After the organic matter was incorporated into the magnetic layer in this manner, the organic matter in the magnetic layer was polymerized by passing through a plasma treatment vacuum chamber in the next step.

プラズマ処理真空槽中のプラズマ処理条件は、槽内圧力
0.0ITorr、RF13.56MHzを用い500
Wとし、Arでプラズマ処理した。
Plasma treatment The plasma treatment conditions in the vacuum chamber were as follows: chamber pressure 0.0 I Torr, RF 13.56 MHz, 500
W and plasma treated with Ar.

磁性層中の平均の炭素/金属比は、イオンエツチングを
行いながらオーシュ分光分析またはSIMs分析で、各
組成の厚さ方向のプロファイルを測定し磁性層中の平均
の炭素/金属比を算出した。 本測定においては、まず
標準サンプル炭化コバルトC02Cを測定し、その測定
感度を求め、 C/ C。
The average carbon/metal ratio in the magnetic layer was determined by measuring the profile of each composition in the thickness direction by Ausch spectroscopy or SIMS analysis while performing ion etching, and calculating the average carbon/metal ratio in the magnetic layer. In this measurement, we first measured the standard sample cobalt carbide C02C, determined its measurement sensitivity, and calculated C/C.

(Coのカウント数)X(Coの測定感度)で求めた。It was determined by (count number of Co) x (measurement sensitivity of Co).

 また、Ni等については、Coとの感度比をコレクシ
ョンファクターとして算出した。
Further, for Ni etc., the sensitivity ratio with Co was calculated as a correction factor.

なお酸素は下層と上層との界面およびベースと反対側の
表面に多く偏在していた。 また、ベースと反対側の表
面はほぼ酸化物のみで覆われていた。
Note that a large amount of oxygen was unevenly distributed at the interface between the lower layer and the upper layer and on the surface opposite to the base. Furthermore, the surface opposite to the base was covered almost exclusively with oxide.

Hc=1000 0e、  膜中の平均酸素量はCoと
Niに対する原子比 (−一π−−x100) oN t で40%であった・ 表1に示される各個では、Arにてイオンエツチングを
行ないながら、オージェ分光分析を行なって得たO/(
CoまたはCo+N i )原子比のうち、C+(表面
)、c+”(上層平均)、C2(下層の基体との界面)
、C2”(下層平均)、C3(下層の上層との界面近傍
)が併記される。
Hc = 1000 0e, and the average amount of oxygen in the film was 40% at the atomic ratio of Co to Ni (-1π--x100) oN t For each piece shown in Table 1, ion etching was performed with Ar. However, O/(
Co or Co+N i ) atomic ratio, C+ (surface), c+'' (upper layer average), C2 (interface with lower layer substrate)
, C2'' (lower layer average), and C3 (near the interface between the lower layer and the upper layer) are also written.

このフィルム裏面をプラズマ処理した後、下記に示すよ
うなバックコート層を設層した。
After the back surface of this film was subjected to plasma treatment, a back coat layer as shown below was formed.

なお、プラズマ処理条件は、処理ガスを02ガスとし、
ガス流量100mn/分、真空度0.5Torr、電源
50にHz、200W、フィルム走行速度30m/分と
した。
Note that the plasma processing conditions include 02 gas as the processing gas,
The gas flow rate was 100 m/min, the degree of vacuum was 0.5 Torr, the power source was 50 Hz, 200 W, and the film running speed was 30 m/min.

またさらに必要に応じて、磁性層上に下記に示すような
トップコート層を設層した。 なお、これらの設層厚さ
は表1に示すとおりとした。
Further, if necessary, a top coat layer as shown below was provided on the magnetic layer. The thickness of these layers was as shown in Table 1.

(1)バックコート層の形成 氏工久ユニ上1           重量部カーボン
ブラック            7Si02    
            2アクリル変性塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体     30
アクリル変性ポリウレタン エラストマー            10アクリルエ
ステルオリゴマー      4分散助剤      
       0.4上記混合物をボールミル中5時間
分散させ、プラズマ処理が施された裏地層上に乾燥厚1
−になるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電子
線加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極電流1
0mA、吸収線量5Mrad、N2ガス中で電子線をバ
ックコート層に照射した。
(1) Formation of back coat layer Mr. Kokyu Uni 1 Part by weight Carbon black 7Si02
2 Acrylic modified vinyl chloride
Vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer 30
Acrylic modified polyurethane elastomer 10 Acrylic ester oligomer 4 Dispersion aid
0.4 The above mixture was dispersed in a ball mill for 5 hours to form a dry thickness of 1 on the plasma treated backing layer.
-, using an electrocurtain type electron beam accelerator at an acceleration voltage of 150 KeV and an electrode current of 1.
The back coat layer was irradiated with an electron beam in N2 gas at 0 mA and an absorbed dose of 5 Mrad.

(2)トップコート層の形成 以下に示すような組成物を磁性層上に設層した。(2) Formation of top coat layer A composition as shown below was formed on the magnetic layer.

ツブコートy           重量部ミリスチン
酸ブチルm、p、= 1.0℃  0.5F−2(上記
の具体例中の化合物)0.3ME  に       
                    30シクロ
ヘキサノン        70を常温で1時間攪拌混
合し、生成した混合物を上記の磁性居表面に均一な厚さ
になるようにグラビア塗布を行い、100℃で1分間乾
燥した。
Tubucoat y Part by weight Butyl myristate m, p, = 1.0°C 0.5F-2 (compound in the above specific example) 0.3ME
30 and cyclohexanone and 70 were stirred and mixed at room temperature for 1 hour, and the resulting mixture was gravure coated onto the above magnetic coating surface to a uniform thickness, and dried at 100° C. for 1 minute.

このようにして形成した下記表1に示す各サンプルにつ
き下記の測定を行った。 なお、媒体走行方向と下層の
基体法線に対する磁性結晶粒の傾きの方向を同一方向と
した。
The following measurements were performed on each of the samples shown in Table 1 below formed in this manner. Note that the medium traveling direction and the direction of inclination of the magnetic crystal grains with respect to the normal to the underlying substrate were made to be the same direction.

(1)カッピング 1/2″巾にスリットしカッピングの高さを測定した。(1) Cupping A 1/2" wide slit was made and the height of the cupping was measured.

(2)電磁変換特性 中心周波数0.75MHzおよび5MHzの出力を測定
し、サンプルNO68の出力なOdBとした時の値を求
めた。
(2) Electromagnetic conversion characteristics Outputs at center frequencies of 0.75 MHz and 5 MHz were measured, and values were determined in OdB, which is the output of sample NO68.

使用デツキ:5ONY  A−300 ヘッド:スパッタ センダスト モード:SPモード (3)スチル耐久性 温度0℃の条件下で出力が5dB低下するまでの時間を
求めた。
Deck used: 5ONY A-300 Head: Sputter Sendust mode: SP mode (3) Still durability The time required for the output to decrease by 5 dB under the condition of a temperature of 0° C. was determined.

使用デツキ:5ONY  A−300 (スチル解除機構をはずして使用した)ヘッドニスバッ
タ センダスト (4)耐食性 各サンプルを60℃、相対湿度90%にて7日間放置し
、1 cm2あたりの−△φm/φm(%)を測定した
Deck used: 5ONY A-300 (Used with still release mechanism removed) Head varnish grasshopper Sendust (4) Corrosion resistance Each sample was left at 60℃ and 90% relative humidity for 7 days, and -△φm/cm2 φm (%) was measured.

これらの結果を表2に示す。These results are shown in Table 2.

(実施例2) 蒸着物質の最小入射角および磁性層中の0/(Coある
いはCo+N i )原子比を表3に示すものとした他
は、実施例1と同様の方法により磁性層を形成し、実施
例1と同様のバックコート層、トラブート層を用いて表
3に示されるサンプルを作製した。(サンプルNo。
(Example 2) A magnetic layer was formed by the same method as in Example 1, except that the minimum incident angle of the vapor deposited substance and the 0/(Co or Co+N i ) atomic ratio in the magnetic layer were as shown in Table 3. The samples shown in Table 3 were prepared using the same back coat layer and traboot layer as in Example 1. (Sample No.

11〜22)。11-22).

このように形成した各サンプルについて、実施例1と同
様の測定を行なフた。 なお、電磁変換特性は、サンプ
ルNo、22の出力をOdBとした時の値を求めた。
The same measurements as in Example 1 were carried out for each sample thus formed. In addition, the electromagnetic conversion characteristics were calculated using the output of sample No. 22 as OdB.

結果を表4に示す。The results are shown in Table 4.

(実施例3) ベース厚みおよび磁性層の上層厚みと下層厚みを表5に
示すものとした他は、実施例1と同様の方法により磁性
層を形成し、実施例1と同様のバックコート層、トラプ
ート層を用いて表5に示されるサンプルを作製した。(
サンプルNo、31〜38)。
(Example 3) A magnetic layer was formed by the same method as in Example 1, except that the base thickness and the upper and lower layer thicknesses of the magnetic layer were as shown in Table 5, and the same back coat layer as in Example 1 was used. The samples shown in Table 5 were prepared using the Traputo layer. (
Sample No. 31-38).

このように形成した各サンプルについて、実施例1と同
様の測定を行なった。 なお、電磁変換特性は、サンプ
ルNo、38の出力をOdBとした時の値を求めた。
The same measurements as in Example 1 were performed for each sample formed in this way. Note that the electromagnetic conversion characteristics were determined by taking the output of sample No. 38 as OdB.

結果を表6に示す。The results are shown in Table 6.

なお、サンプルNo、37(ベース厚7戸、磁性層構成
:単層)の出力に対するサンプルNo、31.32,3
3.36 (ベース厚7戸、磁性層構成:2層)の出力
の向上中を表6のく )内に記載した。
In addition, sample No. 31, 32, 3 for the output of sample No. 37 (base thickness 7, magnetic layer configuration: single layer)
The improvement in output of 3.36 (base thickness: 7 layers, magnetic layer configuration: 2 layers) is shown in Table 6.

表1〜表6に示される結果より、本発明の効果は明らか
である。
From the results shown in Tables 1 to 6, the effects of the present invention are clear.

すなわち、各測定項目のすべてにおいて良好な値が得ら
れるのは、本発明の磁性層構成を有するサンプルである
ことが明らかである。
That is, it is clear that the sample having the magnetic layer structure of the present invention provides good values in all of the measurement items.

また、ベース厚8μm以下では、上層厚/下層厚の比が
0.2〜0.9であると、特に5MHzの出力および耐
久性のきわめて高い向上がみられ、5MHz出力の点で
実用に耐えないベース厚のうすいものでも、十分実用可
能な電磁変換特性、耐久性を示すことがわかる。
In addition, when the base thickness is 8 μm or less, when the ratio of the upper layer thickness to the lower layer thickness is 0.2 to 0.9, extremely high improvements in 5 MHz output and durability can be seen, and the 5 MHz output can withstand practical use. It can be seen that even with a thin base thickness, it exhibits sufficient electromagnetic conversion characteristics and durability for practical use.

また、プラズマ処理を施したポリエステルフィルム上に
コロイダルシリカを塗布し、微小突起を有する基体を得
、その他は前述の実施例と同様にしてサンプルを作製し
た。
Further, colloidal silica was coated on a polyester film subjected to plasma treatment to obtain a substrate having microprotrusions, and a sample was prepared in the same manner as in the above-mentioned example.

このサンプルの磁性層表面における微小突起の突起径は
250人、突起密度は5X10’個/lllI2であっ
た。
The diameter of the microprotrusions on the surface of the magnetic layer of this sample was 250, and the density of microprotrusions was 5×10′/llI2.

このサンプルでは、高温走行時のヘッド付着量が減少し
た。
In this sample, the amount of head adhesion during high-temperature running decreased.

【図面の簡単な説明】 第1図は、本発明の磁気記録媒体の1実施例の媒体方向
に平行な断面の模式図である。 第2図は、本発明の磁気記録媒体の他の実施例の媒体方
向に平行な断面の模式図である。 第3図は蒸着装置の概略図である。 第4図はプラズマ処理装置の概略図である。 符号の説明 !・・・・磁気記録媒体、 2・・・・基体、 3・・・・強磁性金属薄膜下層部、 4・・・・強磁性金属薄膜上層部、 5・・・・下層結晶粒、 6・・・・上層結晶粒、 矢印a・・・・媒体長さ方向、 7・・・・トップコート層、 8・・・・バックコート層、 11・・・・蒸着装置、 12・・・・巻き出しロール、 13・・・・基体、 14・・・・冷却ドラム、 15・・・・ノズル、 16・・・・蒸発源、 17・・・・遮蔽板、 20・・・・重合処理装置、 21.22・・・・処理ガス源、 23.24・・・・マスフローコントローラ、25・・
・・混合器、 26・・・・直流、交流および周波数可変型電源、27
.57・・・・電極、 30・・・・巻取りロール、 31・・・・くり出しロール、 111・・・・液体窒素トラップ、 112・・・・油回転ポンプ 出願人  ティーディーケイ株式会社 □−τ ;−f7: 代理人  弁理士  石 井 陽 −(“・−fFIG
、1 FIG、3 】1
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram of a cross section parallel to the medium direction of one embodiment of the magnetic recording medium of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram of a cross section parallel to the medium direction of another embodiment of the magnetic recording medium of the present invention. FIG. 3 is a schematic diagram of the vapor deposition apparatus. FIG. 4 is a schematic diagram of the plasma processing apparatus. Explanation of symbols! ...magnetic recording medium, 2..substrate, 3.. lower layer of ferromagnetic metal thin film, 4.. upper layer of ferromagnetic metal thin film, 5.. lower layer crystal grain, 6. ...upper layer crystal grain, arrow a...medium length direction, 7...top coat layer, 8...back coat layer, 11...evaporation device, 12...winding Output roll, 13... Base, 14... Cooling drum, 15... Nozzle, 16... Evaporation source, 17... Shielding plate, 20... Polymerization processing device, 21.22...processing gas source, 23.24...mass flow controller, 25...
...Mixer, 26...DC, AC and variable frequency power supply, 27
.. 57...Electrode, 30...Take-up roll, 31...Take-out roll, 111...Liquid nitrogen trap, 112...Oil rotary pump applicant TDC Co., Ltd. - τ ;-f7: Agent Patent attorney Yo Ishii -(“・-fFIG
,1 FIG,3 ]1

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プラスチックフィルム基体上にCoを主成分とす
る強磁性金属薄膜層を有し、この強磁性金属薄膜層が2
層以上の層からなる多層構造を有し、強磁性金属薄膜層
のうち少なくとも一層が炭素を含有することを特徴とす
る磁気記録媒体。
(1) A ferromagnetic metal thin film layer mainly composed of Co is provided on a plastic film substrate, and this ferromagnetic metal thin film layer has two
1. A magnetic recording medium having a multilayer structure consisting of more than one layer, wherein at least one of the ferromagnetic metal thin film layers contains carbon.
(2)炭素を含む層の炭素/金属の原子比が10^−^
8〜10^−^2である特許請求の範囲第1項に記載の
磁気記録媒体。
(2) The carbon/metal atomic ratio of the layer containing carbon is 10^-^
8 to 10^-^2. The magnetic recording medium according to claim 1.
(3)強磁性金属薄膜層の全体の炭素/金属の原子比が
10^−^8〜10^−^2である特許請求の範囲第1
項または第2項に記載の磁気記録媒体。
(3) Claim 1, wherein the ferromagnetic metal thin film layer has an overall carbon/metal atomic ratio of 10^-^8 to 10^-^2.
The magnetic recording medium according to item 1 or 2.
(4)前記強磁性金属薄膜層被着時の基体法線に対する
被着物質の最小入射角が基体側の最下層設層時は50°
以下、基体と反対側の最上層設層時は20°〜90°で
ある特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記
載の磁気記録媒体。
(4) When the ferromagnetic metal thin film layer is deposited, the minimum incident angle of the deposited substance with respect to the normal to the substrate is 50° when the lowest layer is placed on the substrate side.
The magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the angle is 20° to 90° when the uppermost layer is formed on the side opposite to the substrate.
(5)強磁性金属薄膜層の最下層の基体側界面近傍の酸
素濃度C_2を最上層の基体と反対側表面近傍の酸素濃
度C_1で除した値C_2/C_1が0.3以下である
特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の
磁気記録媒体。
(5) A patent claim in which the value C_2/C_1 obtained by dividing the oxygen concentration C_2 near the interface on the substrate side of the bottom layer of the ferromagnetic metal thin film layer by the oxygen concentration C_1 near the surface of the top layer opposite to the substrate is 0.3 or less The magnetic recording medium according to any one of items 1 to 4.
(6)最上層に隣接する層の最上層との界面近傍での酸
素濃度C_3を最上層の基体と反対側表面近傍での酸素
濃度C_1で除した値C_3/C_1が0.1〜3.0
である特許請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに
記載の磁気記録媒体。
(6) The value C_3/C_1 obtained by dividing the oxygen concentration C_3 near the interface with the top layer of the layer adjacent to the top layer by the oxygen concentration C_1 near the surface of the top layer opposite to the substrate is 0.1 to 3. 0
A magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 5.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS595420A (en) * 1982-07-02 1984-01-12 Hitachi Condenser Co Ltd Manufacture of magnetic recording medium
JPS61145722A (en) * 1984-12-20 1986-07-03 Hitachi Maxell Ltd Magnetic recording medium

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS595420A (en) * 1982-07-02 1984-01-12 Hitachi Condenser Co Ltd Manufacture of magnetic recording medium
JPS61145722A (en) * 1984-12-20 1986-07-03 Hitachi Maxell Ltd Magnetic recording medium

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